JP2003270571A

JP2003270571A - マルチビーム光源装置

Info

Publication number: JP2003270571A
Application number: JP2002071297A
Authority: JP
Inventors: Akiyoshi Hamada; 明佳濱田
Original assignee: Minolta Co Ltd
Current assignee: Minolta Co Ltd
Priority date: 2002-03-15
Filing date: 2002-03-15
Publication date: 2003-09-25

Abstract

(57)【要約】【課題】簡単な構成で迷光のない高精度のビームが得
られるマルチビーム光源装置と、それを用いて画像位置
ズレや迷光による画質劣化を防止したマルチビーム走査
装置を提供する。【解決手段】４つのＬＤチップ(11)と、各ＬＤチップ
(11)から射出したレーザビーム(L1)を光導波路(Wa)で導
光して射出する光導波路基板(12a)と、各光導波路(Wa)
から射出したレーザビーム(L1)をそれぞれ略平行光にす
るコリメータレンズ(2)とを備える。各光導波路(Wa)に
おける入射端部(P1)での導光方向(m0)と射出端部(P2)で
の導光方向(m1)とが異なっており、光導波路基板(12a)
からm0方向に射出した迷光(L0)をマスク(8)で空間遮断
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はマルチビーム光源装
置とマルチビーム走査装置に関するものであり、例え
ば、カラー画像形成装置(カラーレーザビームプリン
タ，カラーデジタル複写機等)において、複数のレーザ
ビームを偏向走査することにより感光体ドラムに画像を
露光記録するマルチビーム走査装置と、それに用いるマ
ルチビーム光源装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】デジタルＰＰＣ(Plain Paper Copier)や
レーザビームプリンタにおいて、カラー画像出力速度を
高速化するために、複数の感光体ドラムを用いて複数色
を順次現像するタンデムカラー現像方式が知られてい
る。この方式を採用した場合、通常、イエロー(Ｙ)，マ
ゼンタ(Ｍ)，シアン(Ｃ)，ブラック(Ｋ)の４色に対応し
た４本の感光体ドラムのそれぞれに対し、半導体レーザ
又はＬＥＤ(Light Emitting Diode)アレイで各色の画像
に応じた露光及び現像が行われる。したがって、カラー
画像出力において各色画像間の画像位置ズレ(すなわち
色ズレ)をいかに抑えるかが重要になる。

【０００３】独立した複数の単ビーム光源を備え、ミラ
ーやプリズムの位置，光学面の方向等を調整することに
より前記色ズレを抑えるマルチビーム走査装置が、特開
平８−２７１８１７号公報，特開平１１−９５１４０号
公報，特開平１１−１９４２８５号公報，特開平１１−
１１９１３１号公報等で提案されている。しかし、これ
らのマルチビーム走査装置は、各ビーム走査位置の初期
調整(例えば各レーザビームの相対位置・相対角度の調
整，フォーカス調整)が非常に複雑であるため、調整時
間が長くかかりコストも高くなる。

【０００４】また、前記色ズレを抑えることが可能なマ
ルチビーム光源装置が、特開昭６２−２６９９０７号公
報で提案されている。そのマルチビーム光源装置は、モ
ノリシックに形成された複数の光導波路からレーザビー
ムを放射状に射出する構成になっている。そして、１つ
の感光体ドラムに対する露光走査を２本以上のレーザビ
ームで行うマルチビーム走査装置に限らず、ＹＭＣＫの
各色に対応した４つの感光体ドラムに対して露光走査を
行うタンデム型のマルチビーム走査装置にも適用な構成
になっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】特開昭６２−２６９９
０７号公報で提案されているようなマルチビーム光源装
置を用いると、各ビーム走査位置の複雑な初期調整は不
要である。半導体製造工程のフォトリソグラフィーによ
り、各レーザビームの相対位置や相対角度を高精度に設
定することができるからである。しかし、光導波路を構
成しているコア以外の部分(つまりクラッド)を通って射
出する迷光により、書き込み画像の画質が低下するとい
う問題が生じてしまう。

【０００６】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであって、その目的は、簡単な構成でありながら迷
光のない高精度のビームが得られるマルチビーム光源装
置と、それを用いて画像位置ズレや迷光による画質劣化
を防止したマルチビーム走査装置を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１の発明のマルチビーム光源装置は、複数の発光
素子と、各発光素子から射出したビームを複数の光導波
路で導光して射出する光導波路基板と、各光導波路から
射出したビームをそれぞれ略平行光にするコリメータレ
ンズと、を備えたマルチビーム光源装置であって、各光
導波路における入射端部での導光方向と射出端部での導
光方向とが異なっており、前記光導波路基板から各射出
端部での導光方向以外の方向に射出した迷光を空間遮断
するマスクが配置されていることを特徴とする。

【０００８】第２の発明のマルチビーム光源装置は、上
記第１の発明の構成において、各光導波路からのビーム
の射出方向が、前記光導波路基板の射出端面に対して直
交しないことを特徴とする。

【０００９】第３の発明のマルチビーム走査装置は、上
記第１又は第２の発明に係るマルチビーム光源装置と、
そのマルチビーム光源装置から射出した複数のビームを
偏向させる偏向器と、その偏向器で偏向した複数のビー
ムを感光体ドラム上で結像させる走査レンズと、を備え
たマルチビーム走査装置であって、前記走査レンズの光
軸が前記感光体ドラムの中心軸と一致しないことを特徴
とする。

【００１０】第４の発明のマルチビーム光源装置は、複
数の発光素子と、各発光素子から射出したビームを複数
の光導波路で導光して射出する光導波路基板と、各光導
波路から射出したビームをそれぞれ略平行光にするコリ
メータレンズと、を備えたマルチビーム光源装置であっ
て、前記コリメータレンズが鏡筒内に保持されており、
その鏡筒内にはコリメータレンズのビーム射出側焦点が
位置していることを特徴とする。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施したマルチビ
ーム光源装置とマルチビーム走査装置を、図面を参照し
つつ説明する。図１にマルチビーム走査装置の一実施の
形態を副走査断面で示し、それを構成しているマルチビ
ーム光源装置の光源部(1a)を図２に副走査断面で示す。
また、図３にマルチビーム走査装置の標準的な構成を参
考例として副走査断面で示し、それを構成している光源
部(1)を図４に(Ａ)副走査断面と(Ｂ)主走査断面で示
す。

【００１２】図１〜図４中、1,1aは光源部、11はＬＤ(L
aser Diode)チップ(半導体レーザチップ)、12,12aは光
導波路基板、W,Waは光導波路、P1は光導波路(W,Wa)の入
射端部、P2は光導波路(W,Wa)の射出端部、V1は光導波路
基板(12,12a)の射出端面、L0は迷光としてのレーザビー
ム、L1は正規光としてのレーザビーム、2はコリメータ
レンズ、3はシリンダレンズ、4は回転により偏向走査を
行うポリゴンミラー(偏向器)、4Sは偏向反射面(ミラー
面から成る偏向面)、5は走査レンズ、AXは走査レンズ
(5)の光軸、6は折り返しミラー、7は感光体ドラム、ax
は感光体ドラム(7)の中心軸、V2は感光体表面、8は迷光
(L0)を空間遮断するマスクである。なお、主走査方向は
レーザビーム(L1)が偏向反射面(4S)で偏向することによ
り感光体表面(V2)を走査する方向であり、副走査方向は
主走査方向に対して垂直な方向である。

【００１３】まず、図３に示すマルチビーム走査装置の
参考例を説明する。このマルチビーム走査装置は、１つ
のマルチビーム光源装置を備えており、そのマルチビー
ム光源装置は、図４に示す光源部(1)と、図３に示すコ
リメータレンズ(2)及びシリンダレンズ(3)から成る光源
光学系と、で構成されている。光源部(1)は、図４に示
すように、副走査方向に沿って等間隔で配列された４つ
のＬＤチップ(11)と、１つの光導波路基板(12)と、ＬＤ
チップ(11)及び光導波路基板(12)を一体的に固定保持す
るシリコン基板(13)と、で構成されている。光導波路基
板(12)には、コアに相当する各光導波路(W)がＬＤチッ
プ(11)と同数(４本)形成されており、各光導波路(W)の
周囲にはクラッドが隣接するように形成されている。

【００１４】４本の光導波路(W)は、各ＬＤチップ(11)
に対応して入射端部(P1)及び射出端部(P2)が副走査方向
に沿って等間隔かつ平行に配列されており、また、射出
側の間隔が入射側よりも狭くなっている。したがって、
ＬＤチップ(11)から互いに平行に射出した４本のレーザ
ビーム(L1)は、光導波路(W)に入射して導光されること
により、副走査方向に沿ってビーム間隔を狭めながら射
出端面(V1)に到達するまでに互いに平行に戻る。そし
て、光導波路(W)の射出端部(P2)から発散ビームとして
４本平行に射出する。

【００１５】各光導波路(W)から発散ビームとして射出
したレーザビーム(L1)は、図３に示すコリメータレンズ
(2)によりそれぞれ略平行光に変換される。そして、シ
リンダレンズ(3)により副走査方向に収束しながらポリ
ゴンミラー(4)の偏向反射面(4S)近傍で結像し、ポリゴ
ンミラー(4)によって４本同時に偏向反射される。ポリ
ゴンミラー(4)で偏向反射された４本のレーザビーム(L
1)は、走査レンズ(5)を通過し、折り返しミラー(6)で反
射された後、感光体表面(V2)上で結像する。走査レンズ
(5)により感光体ドラム(7)上で結像した４本のレーザビ
ーム(L1)は、感光体表面(V2)に対するビーム走査により
画像の露光書き込みを行うことになる。

【００１６】図３に示すマルチビーム走査装置では、モ
ノリシックに構成された４本の光導波路(W)が光源部(1)
に用いられているため、各ビーム走査位置の複雑な初期
調整{各レーザビーム(L1)の相対位置・相対角度の調
整，フォーカス調整等}は不要である。また、１つの感
光体ドラム(7)に対して複数のレーザビーム(L1)で露光
走査が行われるため、高速・高密度の画像形成が可能で
ある。なお、このマルチビーム光源装置は４本のレーザ
ビーム(L1)を発生させる構成になっているため、これを
ＹＭＣＫの各色に対応した露光用のレーザビームとして
用いれば、１つの感光体ドラムに対する露光走査を１本
のレーザビームで行うタンデム型のマルチビーム走査装
置にも適用可能である。

【００１７】図３に示すマルチビーム走査装置では、図
４に示すように４つのＬＤチップ(11)から射出したレー
ザビームの一部(L0)が、光導波路(W)を構成しているコ
ア以外の部分(つまりクラッド)を通り、迷光(L0)として
光導波路基板(12)から射出することになる。この迷光(L
0)は、ＬＤチップ(11)からのビーム広がり角度が各入射
端部(P1)の入口サイズに比べて大きいために発生する。
そして、各光導波路(W)からの正規光(L1)と同一方向(m
0)に射出するため、感光体表面(V2)に対する書き込み画
像の画質を低下させる原因となる。この迷光(L0)に起因
する問題点を解決したのが、図１に示すマルチビーム光
源装置である。

【００１８】図１に示すマルチビーム走査装置も、上述
した参考例(図３)と同様、１つのマルチビーム光源装置
を備えている。そのマルチビーム光源装置は、図２に示
す光源部(1a)と、図１に示すコリメータレンズ(2)，シ
リンダレンズ(3)及びマスク(8)から成る光源光学系と、
で構成されている。光源部(1a)は、図２に示すように、
副走査方向に沿って等間隔で配列された４つのＬＤチッ
プ(11)と、１つの光導波路基板(12a)と、ＬＤチップ(1
1)及び光導波路基板(12a)を一体的に固定保持するシリ
コン基板(13)と、で構成されている。光導波路基板(12
a)には、コアに相当する各光導波路(Wa)がＬＤチップ(1
1)と同数(４本)形成されており、各光導波路(Wa)の周囲
にはクラッドが隣接するように形成されている。なお、
光導波路(Wa)は複数のＬＤチップ(11)に対して少なくと
も同数あればよい。

【００１９】４本の光導波路(Wa)は、各ＬＤチップ(11)
に対応して入射端部(P1)が副走査方向に沿って等間隔か
つ平行に配列されているが、その導光途中で４本とも光
導波路基板(12a)の基板面{光導波路(Wa)の積層薄膜面}
に沿って一方向に曲がった構成になっている。このた
め、各光導波路(Wa)からの正規光(L1)は、光導波路基板
(12a)の射出端面(V1)に対して直交しない方向(m1)に射
出することになる。つまり、この光源部(1a)では、各光
導波路(Wa)における入射端部(P1)での導光方向(m0)と射
出端部(P2)での導光方向(m1)とが異なった構成になって
いる。ただし、４本の光導波路(Wa)の射出側の間隔が入
射側よりも狭くなっている点は、上述した参考例(図４)
と同様である。したがって、ＬＤチップ(11)から互いに
平行に射出(射出方向:m0)した４本のレーザビーム(L1)
は、光導波路(Wa)に入射して導光されることにより、副
走査方向に沿ってビーム間隔を狭めながら射出端面(V1)
に到達するまでに互いに平行に戻り、光導波路(Wa)の射
出端部(P2)から発散ビームとして４本平行に射出(射出
方向:m1)することになる。

【００２０】上記のように正規光(L1)が射出端面(V1)に
対して斜め方向(m1)に射出する一方で、迷光(L0)は射出
端面(V1)に対して垂直方向(m0)に射出する。つまり、こ
の光源部(1a)の構成によると、迷光(L0)を正規光(L1)か
ら空間的に角度分離することができるのである。迷光(L
0)と正規光(L1)との角度分離が可能であれば、正規光(L
1)のみを走査レンズ(5)に入射させて感光体ドラム(7)に
到達させることが可能である。本実施の形態ではこれを
効果的に達成するために、光導波路基板(12a)から各射
出端部(P2)での導光方向(m1)以外の方向(m0)に射出した
迷光(L0)をマスク(8)で空間遮断している。

【００２１】マスク(8)の位置は、図１に示すコリメー
タレンズ(2)とシリンダレンズ(3)との間に限らず、例え
ば、光源部(1a)とコリメータレンズ(2)との間、シリン
ダレンズ(3)とポリゴンミラー(4)との間でもよい。レー
ザビーム(L1)の偏向反射前であれば、マスク(8)での迷
光(L0)カットを効果的に行うことができる。ただし、光
導波路基板(12a)の射出端面(V1)に近いほど、迷光(L0)
のみを遮断することが困難になる。例えば、光導波路基
板(12a)の射出端面(V1)にマスク(8)を貼り付けようとす
ると、各光導波路(Wa)の射出端部(P2)に対するマスク
(8)の位置決め調整が困難になる。したがって、コリメ
ータレンズ(2)近傍からポリゴンミラー(4)までの間にマ
スク(8)を配置することが望ましい。なお、コリメータ
レンズ(2)とシリンダレンズ(3)との間に配置される絞り
板(不図示)をマスク(8)に兼用してもよい。

【００２２】図１，図２に示す光源部(1a)では、前述し
たように各光導波路(Wa)からの正規光(L1)が、光導波路
基板(12a)の射出端面(V1)に対して直交しない方向(m1)
に射出することになる。この光源部(1a)における正規光
(L1)の射出方向(m1)と光導波路基板(12a)の射出端面(V
1)との位置関係は、図５に示すように参考例(図４)の光
導波路基板(12)の射出端面(V1)を斜めにカットした場合
でも実現される。しかしそれによる光路変化では、正規
光(L1)も迷光(L0)も同様に屈折して同じ方向に射出して
しまい、角度分離は行われない。各光導波路(W)におけ
る入射端部(P1)での導光方向(m0)と射出端部(P2)での導
光方向(m1)とが同じ構成になっていることに変わりはな
いからである。

【００２３】ただし、図２に示す光導波路基板(12a)の
射出端面(V1)を斜めにカットした場合には、迷光(L0)と
正規光(L1)とを角度分離することができる。各光導波路
(Wa)における入射端部(P1)での導光方向(m0)と射出端部
(P2)での導光方向(m1)とが異なった構成になっているこ
とに変わりはないからである。例えば、射出端面(V1)が
各光導波路(Wa)と直交するように光導波路基板(12a)を
斜めにカットした場合、射出端面(V1)に対して正規光(L
1)が垂直に射出し迷光(L0)が斜めに射出することにな
る。したがって、屈折による迷光(L0)の光路変化を除け
ば、射出端面(V1)の角度は正規光(L1)と迷光(L0)との角
度分離に直接影響せず、光導波路基板(12a)は角度分離
のための特別な形状制限を受けることがない。

【００２４】各光導波路(Wa)から発散ビームとして射出
したレーザビーム(L1，正規光)は、図１に示すコリメー
タレンズ(2)によりそれぞれ略平行光に変換される。そ
して、シリンダレンズ(3)により副走査方向に収束しな
がらポリゴンミラー(4)の偏向反射面(4S)近傍で結像
し、ポリゴンミラー(4)によって４本同時に偏向反射さ
れる。ポリゴンミラー(4)で偏向反射された４本のレー
ザビーム(L1)は、走査レンズ(5)を通過し、感光体表面
(V2)上で結像する。走査レンズ(5)により感光体ドラム
(7)上で結像した４本のレーザビーム(L1)は、感光体表
面(V2)に対するビーム走査により画像の露光書き込みを
行うことになる。

【００２５】図１に示すマルチビーム走査装置において
も、モノリシックに構成された４本の光導波路(Wa)が光
源部(1a)に用いられているため、各ビーム走査位置の複
雑な初期調整{各レーザビーム(L1)の相対位置・相対角
度の調整，フォーカス調整等}なしに高い露光間位置精
度を達成することができる。しかも、コンパクトで簡単
な構成でありながら迷光(L0)のない高精度のレーザビー
ム(L1)を得ることができ、画像位置ズレや迷光による画
質劣化のない露光走査を行うことができる。また、１つ
の感光体ドラム(7)に対して複数のレーザビーム(L1)で
露光走査が行われるため、高速・高密度の画像形成が可
能である。

【００２６】なお、このマルチビーム光源装置は４本の
レーザビーム(L1)を発生させる構成になっているため、
これをＹＭＣＫの各色に対応した露光用のレーザビーム
として用いれば、１つの感光体ドラムに対する露光走査
を１本のレーザビームで行うタンデム型のマルチビーム
走査装置にも適用可能である。また、マルチビーム光源
装置から発生するレーザビーム(L1)の本数を増やせば、
１つの感光体ドラムに対する露光走査を複数本のレーザ
ビームで行うタンデム型のマルチビーム走査装置への適
用も可能である。

【００２７】ところで、マルチビーム走査装置に対し通
常必要とされる性能として、図６に示すように、ビーム
間ピッチ(pi)が均等かつ不変であること、各ビーム強度
がコントラストの高いガウシアン分布であること、が挙
げられる。図１，図２に示すように正規光(L1)が射出端
面(V1)に対して斜め方向(m1)に射出する場合、各レーザ
ビーム(L1)の射出位置が光軸(AX)方向にズレてしまうた
め、焦点面も光軸(AX)に対して垂直ではなくなり上記性
能が低下してしまう。したがって、図７に示すように傾
斜した射出端面(V1)に対して共役な焦点面に感光体表面
(V2)を合わせる必要が生じる。このため、図１に示すマ
ルチビーム走査装置では、走査レンズ(5)の光軸(AX)が
感光体ドラム(7)の中心軸(AX)と一致しない構成にして
いる。感光体ドラム(7)の中心軸(ax)を光軸(AX)から相
対的にずらすと、感光体表面(V2)が全レーザビーム(L1)
に対して傾斜することになるため、全レーザビーム(L1)
を感光体表面(V2)上で結像させること(つまり焦点面の
傾き補正)が可能である。

【００２８】上記と同様の焦点面の傾き補正は、自由曲
面から成る光学面(レンズ面，ミラー面等)を光学系内に
用いることによっても行うことができる。また、副走査
方向にパワーを有する光学面を副走査方向にずらすこと
(いわゆる光軸ずらし機能)によっても行うことができ
る。例えば、シリンダレンズ(3)や走査レンズ(5)を構成
している少なくとも１つの光学面(レンズ面，ミラー面
等)を偏心させることによって、焦点面の傾き補正を行
うことができる。

【００２９】図８に、マルチビーム光源装置の他の実施
の形態を(Ａ)副走査断面と(Ｂ)主走査断面で示す。この
マルチビーム光源装置は、参考例(図４)と同様の光源部
(1)を備えており、その光源光学系も同様に構成されて
いる。ただし、コリメータレンズ(2)はその焦点距離よ
りも長い鏡筒(2B)内に保持されており、その鏡筒(2B)内
にはコリメータレンズ(2)のビーム射出側焦点が位置し
ている。鏡筒(2B)は樹脂製又はアルミ製であり、鏡筒(2
B)の内壁は迷光(L0)が拡散・吸収しやすい黒色艶消し面
になっている。したがって、参考例(図４)の場合と同様
に発生した迷光(L0)は、コリメータレンズ(2)を通過し
た後、鏡筒(2B)の内壁で拡散・吸収される。鏡筒(2B)の
内壁で反射されたとしても、鏡筒(2B)の内壁で反射され
ない正規光(L1)からは角度分離されるため、シリンダレ
ンズ(3)やポリゴンミラー(4)に入射することはない。

【００３０】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るマルチ
ビーム光源装置によれば、簡単な構成でありながら迷光
のない高精度のビームが得られ、しかも各ビーム位置の
複雑な初期調整なしに高い露光間位置精度を達成するこ
とができる。そして、これをマルチビーム走査装置に用
いることにより、画像位置ズレや迷光による画質劣化の
ない露光走査を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】マルチビーム走査装置の一実施の形態を示す副
走査断面図。

【図２】図１におけるマルチビーム光源装置の光源部を
示す副走査断面図。

【図３】マルチビーム走査装置の参考例を示す斜視図。

【図４】図３におけるマルチビーム光源装置の光源部を
示す光学構成図。

【図５】図４において光導波路基板の射出端面を斜めに
カットしたときの光路変化を説明するための光学構成
図。

【図６】マルチビーム走査装置に対し通常必要とされる
性能をビーム強度分布変化で示す模式図。

【図７】図１のマルチビーム走査装置におけるビーム強
度分布変化を示す模式図。

【図８】マルチビーム光源装置の他の実施の形態を示す
副走査断面図。

【符号の説明】

1,1a …光源部 11 …ＬＤチップ(発光素子) 12,12a …光導波路基板 13 …シリコン基板 V1 …射出端面 W,Wa …光導波路 P1 …入射端部 P2 …射出端部 2 …コリメータレンズ 2B …鏡筒 3 …シリンダレンズ 4 …ポリゴンミラー(偏向器) 4S …偏向反射面 5 …走査レンズ AX …走査レンズの光軸 6 …折り返しミラー 7 …感光体ドラム ax …感光体ドラムの中心軸 V2 …感光体表面 8 …マスク L0 …レーザビーム，迷光 L1 …レーザビーム，正規光

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４ＡＦターム(参考） 2C362 AA07 BA04 BA47 BA86 DA27 2H045 BA22 BA33 CA63 CB63 DA02 DA04 2H047 KA04 KA12 KA15 MA07 TA26 5C051 AA02 CA07 DA02 DB02 DB22 DB24 DB30 DC04 DC07 EA01 FA01 5C072 AA03 BA02 BA04 DA18 DA30 HA02 HA06 HA09 HA13 QA14 XA01 XA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の発光素子と、各発光素子から射出
したビームを複数の光導波路で導光して射出する光導波
路基板と、各光導波路から射出したビームをそれぞれ略
平行光にするコリメータレンズと、を備えたマルチビー
ム光源装置であって、各光導波路における入射端部での導光方向と射出端部で
の導光方向とが異なっており、前記光導波路基板から各
射出端部での導光方向以外の方向に射出した迷光を空間
遮断するマスクが配置されていることを特徴とするマル
チビーム光源装置。
【請求項２】各光導波路からのビームの射出方向が、
前記光導波路基板の射出端面に対して直交しないことを
特徴とする請求項１記載のマルチビーム光源装置。
【請求項３】請求項１又は２記載のマルチビーム光源
装置と、そのマルチビーム光源装置から射出した複数の
ビームを偏向させる偏向器と、その偏向器で偏向した複
数のビームを感光体ドラム上で結像させる走査レンズ
と、を備えたマルチビーム走査装置であって、前記走査レンズの光軸が前記感光体ドラムの中心軸と一
致しないことを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項４】複数の発光素子と、各発光素子から射出
したビームを複数の光導波路で導光して射出する光導波
路基板と、各光導波路から射出したビームをそれぞれ略
平行光にするコリメータレンズと、を備えたマルチビー
ム光源装置であって、前記コリメータレンズが鏡筒内に保持されており、その
鏡筒内にはコリメータレンズのビーム射出側焦点が位置
していることを特徴とするマルチビーム光源装置。