JP2003263925A - Transparent conductive film and touch panel using the same - Google Patents
Transparent conductive film and touch panel using the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本願発明は透明導電性フィル
ム及び該透明導電性フィルムを用いたタッチパネルに関
するものであり、特に可視光線透過率を維持しつつ耐久
性及び可撓性に優れた透明導電性フィルム及び該透明導
電性フィルムを用いたタッチパネルに関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent conductive film and a touch panel using the transparent conductive film, and particularly to a transparent conductive film excellent in durability and flexibility while maintaining visible light transmittance. The present invention relates to a film and a touch panel using the transparent conductive film.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、モバイルなどの液晶ディスプレイ
等の画面上で入力ペンを使用して情報入力を行なうこと
が出来るペン入力装置や、現金自動支払機（ＡＴＭ）等
に用いられているタッチパネル等のように、表示画面に
直接触れることにより情報入力を行えるディスプレイが
広く普及している。このような方式で情報入力を可能と
するディスプレイには透明導電膜を備えたフィルムであ
る透明導電性フィルムが広く用いられている。中でも、
大面積での製造が可能である、長時間にわたって成膜が
可能である、などの理由により、高分子フィルム基板上
にスパッタリング法によってインジウム−スズ酸化膜
（以下「ＩＴＯ膜」と呼ぶ。）を形成することにより得
られる透明導電性フィルムがよく用いられている。2. Description of the Related Art In recent years, a pen input device capable of inputting information using an input pen on a screen such as a liquid crystal display of a mobile device, a touch panel used in an automatic teller machine (ATM), etc. As described above, a display in which information can be input by directly touching the display screen is widely used. A transparent conductive film, which is a film provided with a transparent conductive film, is widely used for a display capable of inputting information by such a method. Above all,
An indium-tin oxide film (hereinafter referred to as an “ITO film”) is formed on a polymer film substrate by a sputtering method because it can be manufactured in a large area and can be formed over a long period of time. A transparent conductive film obtained by forming the film is often used.
【０００３】このＩＴＯ膜を備えた透明導電性フィルム
を用いた情報入力装置のディスプレイをペン入力装置と
して用いる場合、ペン入力を行なう時の透明導電性フィ
ルム１００は図３に示すように変形する。When the display of the information input device using the transparent conductive film provided with the ITO film is used as the pen input device, the transparent conductive film 100 at the time of pen input is deformed as shown in FIG.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】このようにペン入力を
する時に、透明導電性フィルム１００のＩＴＯ膜４０の
結晶粒径が大きいと、可視光透過率は良好であってもエ
ッジ部分Ｘでの耐久性が弱くなってしまい、即ち筆記耐
久性及び可撓性に欠け、ひいては透明導電性フィルム１
００の寿命が短くなる、という問題があった。If the crystal grain size of the ITO film 40 of the transparent conductive film 100 is large when the pen input is performed as described above, the visible light transmittance is good, but the edge portion X does not have a large visible light transmittance. The durability is weakened, that is, the writing durability and flexibility are lacking, and by extension, the transparent conductive film 1
There was a problem that the life of 00 becomes short.
【０００５】その一方、ＩＴＯ膜４０の結晶粒径が小さ
いと、エッジ部分Ｘでの耐久性は優れたものとし、即ち
筆記耐久性はそれなりに好適なものとすることが出来る
が、ＩＴＯ膜の比抵抗値が悪くなってしまう。そしてＩ
ＴＯ膜４０の結晶粒径を小さいままで比抵抗値を改善し
ようとすると必然的にＩＴＯ膜４０の膜厚が大きくなっ
てしまい、ひいては可視光透過率が低下してしまい問題
であった。On the other hand, if the crystal grain size of the ITO film 40 is small, the durability at the edge portion X can be made excellent, that is, the writing durability can be reasonably suitable, but the ITO film 40 The specific resistance value becomes worse. And I
If it is attempted to improve the specific resistance value while keeping the crystal grain size of the TO film 40 small, the film thickness of the ITO film 40 inevitably becomes large, and the visible light transmittance is lowered, which is a problem.
【０００６】さらに高分子フィルムの表面にＩＴＯ膜を
積層する構成とすると、高分子フィルムとＩＴＯ膜との
間に生じる応力によって、得られる透明導電性フィルム
１００にカールが生じてしまい問題であった。Further, when the ITO film is laminated on the surface of the polymer film, the stress generated between the polymer film and the ITO film causes a curl in the obtained transparent conductive film 100, which is a problem. .
【０００７】また、上記の問題点を一挙に解決するため
に、例えばＩＴＯ膜を備えた透明基体を２枚張り合わせ
ることが行なわれているが、この場合であると透明導電
性フィルムの製造工程が増えてしまい、また構造も複雑
なものとなり、さらには膜厚を薄くするのにも限界があ
り、そして製造コストもかかってしまうので、必ずしも
好ましい解決方法とはいえなかった。Further, in order to solve the above problems at once, for example, two transparent substrates provided with an ITO film are pasted together. In this case, a transparent conductive film manufacturing process is performed. However, the structure is complicated, the film thickness is limited, and the manufacturing cost is increased.
【０００８】本願発明はこのような問題点に鑑みて為さ
れたものであり、その目的は、簡潔な構造であるにもか
かわらず、可視光透過率を好適な値に維持したままで、
耐久性をも向上させることを可能とした透明導電性フィ
ルム及び該透明導電性フィルムを用いたタッチパネルを
提供することである。The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to maintain a visible light transmittance at a suitable value while maintaining a simple structure.
It is intended to provide a transparent conductive film capable of improving durability and a touch panel using the transparent conductive film.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に発明者が行なった本願発明の請求項１に記載の発明
は、高分子フィルムと、少なくともその片面に積層され
た透明導電膜とからなる透明導電性フィルムであって、
前記透明導電膜は少なくとも、インジウム−スズ酸化物
で構成される第１透明導電層と、前記第１透明導電層の
主成分であるインジウム−スズ酸化物の結晶粒子の半径
よりも大きい半径の結晶粒子よりなるインジウム−スズ
酸化物を主成分とする第２透明導電層と、を備えてなる
ことを特徴とする。The invention according to claim 1 of the present invention made by the inventor to solve the above problems comprises a polymer film and a transparent conductive film laminated on at least one surface thereof. A transparent conductive film consisting of
The transparent conductive film has at least a first transparent conductive layer composed of indium-tin oxide and a crystal having a radius larger than a radius of crystal particles of indium-tin oxide which is a main component of the first transparent conductive layer. A second transparent conductive layer containing particles of indium-tin oxide as a main component.
【００１０】本願発明の請求項２に記載の発明は、請求
項１に記載の透明導電性フィルムにおいて、前記高分子
フィルム上に、前記第１透明導電層、前記第２透明導電
層、がこの順に積層されてなること、を特徴とする。The invention according to claim 2 of the present invention is the transparent conductive film according to claim 1, wherein the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer are formed on the polymer film. It is characterized by being laminated in order.
【００１１】本願発明の請求項３に記載の発明は、請求
項１又は請求項２に記載の透明導電性フィルムを用いた
ことを特徴とする。The invention according to claim 3 of the present invention is characterized in that the transparent conductive film according to claim 1 or 2 is used.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態につ
いて説明する。尚、ここで示す実施の形態はあくまでも
一例であって、必すしもこの実施の形態に限定されるも
のではない。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below. The embodiment shown here is merely an example, and the embodiment is not necessarily limited to this embodiment.
【００１３】（実施の形態１）本願発明に係る透明導電
性フィルムを第１の実施の形態として、説明する。この
透明導電性フィルムは、高分子フィルム１０と、少なく
ともその片面に積層された透明導電膜２０とからなる透
明導電性フィルム１であって、透明導電膜２０は少なく
とも、インジウム−スズ酸化物で構成される第１透明導
電層２１と、第１透明導電層２１の主成分であるインジ
ウム−スズ酸化物の結晶粒子の半径よりも大きい半径の
結晶粒子よりなるインジウム−スズ酸化物を主成分とす
る第２透明導電層２２と、を備えている。尚、透明導電
膜２０は高分子フィルム１０の両面に積層されていても
よいが、以下の説明では片面に積層された場合について
述べる。また第１透明導電層２１と第２透明導電層２２
は、図１に示すように高分子フィルム１０の表面側か
ら、第１透明導電層２１、第２透明導電層２２の順に積
層されているものとして以下に説明するが、この順は逆
になることも考えられる。(Embodiment 1) A transparent conductive film according to the present invention will be described as a first embodiment. This transparent conductive film is a transparent conductive film 1 composed of a polymer film 10 and a transparent conductive film 20 laminated on at least one surface thereof, and the transparent conductive film 20 is composed of at least indium-tin oxide. The first transparent conductive layer 21 and the indium-tin oxide composed of crystal particles having a radius larger than the radius of the crystal particles of indium-tin oxide, which is the main component of the first transparent conductive layer 21, And a second transparent conductive layer 22. Although the transparent conductive film 20 may be laminated on both sides of the polymer film 10, the case where it is laminated on one side will be described below. In addition, the first transparent conductive layer 21 and the second transparent conductive layer 22
Will be described below assuming that the first transparent conductive layer 21 and the second transparent conductive layer 22 are laminated in this order from the front surface side of the polymer film 10 as shown in FIG. 1, but the order is reversed. It is also possible.
【００１４】以下透明導電性フィルム１の各構成部につ
いて順に説明する。まず高分子フィルム１０は、本実施
の形態においては特に制限はしないが、透明導電膜２０
を積層することが出来るものであり、また加工適性や用
途を考慮に入れると、高い透明性と耐熱性を兼備したフ
ィルムであることが望ましく、例えば、三酢酸セルロー
ス、アセテート等のセルロース系樹脂、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエス
テル系樹脂、ポリメチルメタクレート等のアクリル系樹
脂、ポリオレフィン樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリスルフィン樹脂、等の樹脂フ
ィルムを用いることが好ましく、中でもポリエチレンテ
レフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ト
リアセチルセルロースフィルム、等のフィルムを用いる
ことが好ましい。The constituent parts of the transparent conductive film 1 will be described below in order. First, the polymer film 10 is not particularly limited in the present embodiment, but the transparent conductive film 20 is used.
It is possible to laminate, and in consideration of processing suitability and application, it is desirable that the film has both high transparency and heat resistance, for example, cellulose triacetate, cellulose resin such as acetate, It is preferable to use a resin film such as a polyester resin such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, an acrylic resin such as polymethylmethacrylate, a polyolefin resin, a polynorbornene resin, a polycarbonate resin, a polysulfin resin, and the like. Among them, polyethylene terephthalate It is preferable to use a film such as a film, a polycarbonate film or a triacetyl cellulose film.
【００１５】次に透明導電膜２０について説明すると、
これはＩＴＯ、インジウム−スズ−亜鉛系酸化物（ＩＴ
ＺＯ）、酸化亜鉛、酸化カドミウム等から適宜選択され
た原料を用いて形成すればよいが、特にＩＴＯを用いて
形成するのが好ましく、また本実施の形態においてもＩ
ＴＯを用いて透明導電膜を形成する構成となっている。
ここで、本実施の形態におけるＩＴＯは結晶性のものを
想定しているが、これは非結晶性−結晶性の中間性（混
合タイプ）のものであっても構わない。Next, the transparent conductive film 20 will be described.
This is an ITO, indium-tin-zinc oxide (IT
ZO), zinc oxide, cadmium oxide, or the like, but it is preferable to use ITO, and ITO is particularly preferable.
The transparent conductive film is formed using TO.
Here, the ITO in the present embodiment is assumed to be crystalline, but it may be an amorphous-crystalline intermediate (mixed type).
【００１６】そして本実施の形態における透明導電膜２
０は、第１透明導電層２１と第２透明導電層２２との、
異なる２種類の透明導電層を積層することにより構成さ
れている。これら２つの層、即ち第１透明導電層２１と
第２透明導電層２２は、いずれもＩＴＯを用いて形成さ
れているが、それぞれを構成するＩＴＯの結晶粒子の大
きさ、換言すれば結晶粒子の半径が異なっている。Then, the transparent conductive film 2 in the present embodiment
0 is the first transparent conductive layer 21 and the second transparent conductive layer 22,
It is configured by laminating two different types of transparent conductive layers. These two layers, that is, the first transparent conductive layer 21 and the second transparent conductive layer 22, are both formed by using ITO, but the size of the crystal particles of ITO constituting each, in other words, the crystal particles Have different radii.
【００１７】この点につきさらに説明すると、本実施の
形態における第１透明導電層２１を構成するＩＴＯの結
晶粒子の半径ｒ１と、第２透明導電層２２を構成するＩ
ＴＯの結晶粒子の半径ｒ２とは、ｒ１≦ｒ２の関係が成
立するようになっている。そしてこれらの層は高分子フ
ィルム１０の側から順に第１透明導電層２１、第２透明
導電層２２の順に積層されており、これら２つの透明導
電層によって透明導電膜２０が形成されているのであ
る。To further explain this point, the radius r1 of the crystal grains of ITO forming the first transparent conductive layer 21 and the I forming the second transparent conductive layer 22 in the present embodiment.
The radius r2 of the TO crystal grains is r1 ≦ r2. Then, these layers are laminated in order of the first transparent conductive layer 21 and the second transparent conductive layer 22 from the polymer film 10 side, and the transparent conductive film 20 is formed by these two transparent conductive layers. is there.
【００１８】上述のように、高分子フィルム１０に積層
された透明導電層２０を構成する第１透明導電層２１の
ＩＴＯ結晶粒子半径を、第２透明導電層２２のＩＴＯ結
晶粒子半径より小さくすることにより、この高分子フィ
ルム１０を例えばペン入力可能なタッチパネルに利用し
た場合、図２に示すように、第２透明導電層２１の側か
らペン３０による圧力がかけられても、第２透明導電層
２１のＩＴＯ結晶粒子半径ｒ２がｒ１より大きいため
に、エッジ部分Ｘにおける撓みに対しても耐撓性を発揮
することが可能となり、また、ペン３０による圧力がか
けられる部分Ｙを見ても、第１透明導電層２１のＩＴＯ
結晶粒子半径ｒ１がｒ２より小さいために、耐圧性を発
揮することが可能となる。As described above, the ITO crystal grain radius of the first transparent conductive layer 21 constituting the transparent conductive layer 20 laminated on the polymer film 10 is made smaller than the ITO crystal grain radius of the second transparent conductive layer 22. Therefore, when the polymer film 10 is used for a touch panel capable of pen input, for example, as shown in FIG. 2, even if pressure is applied by the pen 30 from the second transparent conductive layer 21 side, the second transparent conductive layer 21 Since the ITO crystal particle radius r2 of the layer 21 is larger than r1, it becomes possible to exhibit flexing resistance against bending at the edge portion X, and also when looking at the portion Y where pressure is applied by the pen 30. , ITO of the first transparent conductive layer 21
Since the crystal grain radius r1 is smaller than r2, pressure resistance can be exhibited.
【００１９】さらに、本実施の形態において、ＩＴＯ結
晶粒子半径の異なる２つの層を積層することにより、従
来単一種類のＩＴＯによる透明導電層を設けていた透明
導電性フィルムで問題になっていたカール性も、本実施
の形態による透明導電性フィルムであれば解消すること
が出来る。これもやはり、異なる半径を有する２種類の
ＩＴＯ結晶粒子をそれぞれに用いた異なる２層の透明導
電層を積層したことによるものであり、即ち、２つの層
において働く応力が作用し合うことによるものであると
言える。Furthermore, in the present embodiment, by laminating two layers having different ITO crystal grain radii, there has been a problem with the transparent conductive film which has conventionally been provided with a transparent conductive layer of a single type of ITO. The curling property can also be eliminated by the transparent conductive film according to the present embodiment. This is also due to the fact that two different transparent conductive layers using two kinds of ITO crystal particles having different radii are laminated, that is, the stresses acting in the two layers act on each other. Can be said to be
【００２０】尚、本実施の形態における、ＩＴＯを用い
て高分子フィルム１０の表面に透明導電膜２０を形成す
る手法は公知の手法であって構わない。即ち、例えば、
高分子フィルム１０の表面に対して予めスパッタリン
グ、コロナ放電、プラズマ処理、酸化、等のエッチング
処理や下塗り処理を施して、その上に設けられる透明導
電膜２０の、高分子フィルム１０に対する密着性を向上
させ、その後に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法等の技術によって透明導電膜２０を
形成すればよい。The method of forming the transparent conductive film 20 on the surface of the polymer film 10 using ITO in the present embodiment may be a known method. That is, for example,
By subjecting the surface of the polymer film 10 to etching or undercoating such as sputtering, corona discharge, plasma treatment, oxidation, etc. in advance, the adhesion of the transparent conductive film 20 provided thereon to the polymer film 10 can be improved. After improvement, the transparent conductive film 20 may be formed by a technique such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method.
【００２１】さらに、高分子フィルム１０の厚みと透明
導電膜２０の厚みについては本実施の形態では特に限定
しないが、高分子フィルム１０の厚みは１２μｍ〜３０
０μｍ、透明導電膜２０の厚みは１０ｎｍ〜２００ｎｍ
であると、本実施の形態において好適に使用可能であ
る。Further, the thickness of the polymer film 10 and the thickness of the transparent conductive film 20 are not particularly limited in this embodiment, but the thickness of the polymer film 10 is 12 μm to 30 μm.
0 μm, the thickness of the transparent conductive film 20 is 10 nm to 200 nm
If so, it can be preferably used in the present embodiment.
【００２２】尚、ここでは詳述しなかったが、本実施の
形態における透明導電性フィルム１において、さらに公
知の理由、目的、効果等に添って、アンカーコート層や
ＳｉＯｘ層、ハードコート層、防汚層、各種金属または
金属酸化物層等を積層したり、各種添加物を利用するこ
とも考えられる。Although not described in detail here, in the transparent conductive film 1 in the present embodiment, an anchor coat layer, a SiOx layer, a hard coat layer, It is also conceivable to stack an antifouling layer, various metals or metal oxide layers, and use various additives.
【００２３】また、本実施の形態における透明導電性フ
ィルム１をタッチパネルに用いることで、従来よりも耐
久性、耐圧性に優れたタッチパネルを得る。Further, by using the transparent conductive film 1 in the present embodiment for a touch panel, a touch panel having more excellent durability and pressure resistance than before can be obtained.
【００２４】[0024]
【発明の効果】以上のように、本願発明の請求項１に記
載の透明導電性フィルムによれば、透明導電膜は少なく
とも、インジウム−スズ酸化物で構成される第１透明導
電層と、第１透明導電層の主成分であるインジウム−ス
ズ酸化物の結晶粒子の半径よりも大きい半径の結晶粒子
よりなるインジウム−スズ酸化物を主成分とする第２透
明導電層と、を備えてなるので、従来品と同等の可視光
線透過率を維持しつつ、さらに耐圧性、耐撓性に優れ、
またより良くカールを抑えることができる透明導電性フ
ィルムを得る。As described above, according to the transparent conductive film of claim 1 of the present invention, the transparent conductive film includes at least the first transparent conductive layer composed of indium-tin oxide, 1 a second transparent conductive layer containing indium-tin oxide as a main component, which is composed of crystal particles having a radius larger than the radius of the crystal particles of indium-tin oxide which is a main component of the transparent conductive layer. , While maintaining the same visible light transmittance as conventional products, it is also excellent in pressure resistance and flexibility,
Further, a transparent conductive film capable of better suppressing curl is obtained.
【００２５】本願発明の請求項２に記載の透明導電性フ
ィルムによれば、高分子フィルム上に、第１透明導電
層、第２透明導電層、がこの順に積層されているため、
従来よりもより良い耐圧性、耐久性を供えた透明導電性
フィルムを得る。According to the transparent conductive film of claim 2 of the present invention, since the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer are laminated in this order on the polymer film,
A transparent conductive film having better pressure resistance and durability than ever before is obtained.
【００２６】本願発明の請求項３に記載のタッチパネル
であれば、本願発明の請求項１又は請求項２のいずれか
に記載された透明導電性フィルムを利用するので、製品
の寿命が従来よりも長いタッチパネルを得る。In the touch panel according to claim 3 of the present invention, since the transparent conductive film according to claim 1 or 2 of the present invention is used, the life of the product is longer than before. Get a long touch panel.
【図１】 本実施の形態に係る透明導電性フィルムの概
略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to this embodiment.
【図２】 本実施の形態に係る透明導電性フィルムをタ
ッチパネルに用いた時におけるペン入力の状態を説明す
る概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a pen input state when the transparent conductive film according to the present embodiment is used for a touch panel.
【図３】 従来の透明導電性フィルムをタッチパネルに
用いた時におけるペン入力の状態を説明する概略断面図
である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a state of pen input when a conventional transparent conductive film is used for a touch panel.
１ 透明導電性フィルム １０ 高分子フィルム ２０ 透明導電膜 ２１ 第１透明導電層 ２２ 第２透明導電層 ３０ ペン ４０ 透明導電膜 １００ ＩＴＯ膜 1 Transparent conductive film 10 polymer film 20 Transparent conductive film 21 First transparent conductive layer 22 Second transparent conductive layer 30 pen 40 Transparent conductive film 100 ITO film
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 HA18 4F100 AA28B AA28C AA33B AA33C AJ04 AK01A AK42 AK45 AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C BA13 BA25 DE01B DE01C GB41 JA11B JA11C JG01B JG01C JK01 JL00 JL04 JN01B JN01C 5B087 CC16 5G307 FA02 FB01 FC02 FC09 FC10Continued front page F term (reference) 2H089 HA18 4F100 AA28B AA28C AA33B AA33C AJ04 AK01A AK42 AK45 AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C BA13 BA25 DE01B DE01C GB41 JA11B JA11C JG01B JG01C JK01 JL00 JL04 JN01B JN01C 5B087 CC16 5G307 FA02 FB01 FC02 FC09 FC10
Claims (3)
に積層された透明導電膜とからなる透明導電性フィルム
であって、 前記透明導電膜は少なくとも、 インジウム−スズ酸化物で構成される第１透明導電層
と、 前記第１透明導電層の主成分であるインジウム−スズ酸
化物の結晶粒子の半径よりも大きい半径の結晶粒子より
なるインジウム−スズ酸化物を主成分とする第２透明導
電層と、 を備えてなることを特徴とする、透明導電性フィルム。1. A transparent conductive film comprising a polymer film and a transparent conductive film laminated on at least one surface thereof, wherein the transparent conductive film is at least a first transparent film made of indium-tin oxide. A conductive layer; and a second transparent conductive layer containing indium-tin oxide as a main component, which is composed of crystal particles having a radius larger than a radius of crystal particles of indium-tin oxide which is a main component of the first transparent conductive layer. A transparent conductive film, comprising:
おいて、 前記高分子フィルム上に、前記第１透明導電層、前記第
２透明導電層、がこの順に積層されてなること、 を特徴とする、透明導電性フィルム。2. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer are laminated in this order on the polymer film. A transparent conductive film.
性フィルムを用いたことを特徴とする、タッチパネル。3. A touch panel comprising the transparent conductive film according to claim 1 or 2.
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