JP2003262954A - 平版印刷版原版 - Google Patents
平版印刷版原版Info
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- JP2003262954A JP2003262954A JP2002067056A JP2002067056A JP2003262954A JP 2003262954 A JP2003262954 A JP 2003262954A JP 2002067056 A JP2002067056 A JP 2002067056A JP 2002067056 A JP2002067056 A JP 2002067056A JP 2003262954 A JP2003262954 A JP 2003262954A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 赤外線レーザでデジタルデータから直接記録
可能であり、感度及び画像部強度の優れた記録層を有
し、耐刷性に優れたネガ型平版印刷版原版を提供する。 【解決手段】 支持体上に、下記一般式（Ｉ）又は一般
式（ＩＩ）で表される化合物と、熱によりラジカル或い
は酸を発生する化合物と、重合性化合物或いは架橋性化
合物と、を含有するネガ型記録層を設けてなることを特
徴とする赤外線レーザ対応平版印刷版原版（一般式
（Ｉ）、（ＩＩ）中、Ｑ1は複素環又は複素環を含む縮
合環を形成する原子群を、Ｒoは脂肪族基を、Ｒo1は水
素原子又はアルキル基を、Ｚは酸素原子やイオウ原子な
どを、Ｑ2はピリリウムイオン構造を形成する原子群
を、Ｙ1及びＹ2は水素原子や脂肪族基などを、Ｌはポリ
メチン基を、ｐ及びｑは０又は１を表す。Ａ-、Ｂ+は、
それぞれ、電荷の中和が必要な場合に存在する対アニオ
ン、オニウムカチオンを表す）。 【化１】 【化２】
可能であり、感度及び画像部強度の優れた記録層を有
し、耐刷性に優れたネガ型平版印刷版原版を提供する。 【解決手段】 支持体上に、下記一般式（Ｉ）又は一般
式（ＩＩ）で表される化合物と、熱によりラジカル或い
は酸を発生する化合物と、重合性化合物或いは架橋性化
合物と、を含有するネガ型記録層を設けてなることを特
徴とする赤外線レーザ対応平版印刷版原版（一般式
（Ｉ）、（ＩＩ）中、Ｑ1は複素環又は複素環を含む縮
合環を形成する原子群を、Ｒoは脂肪族基を、Ｒo1は水
素原子又はアルキル基を、Ｚは酸素原子やイオウ原子な
どを、Ｑ2はピリリウムイオン構造を形成する原子群
を、Ｙ1及びＹ2は水素原子や脂肪族基などを、Ｌはポリ
メチン基を、ｐ及びｑは０又は１を表す。Ａ-、Ｂ+は、
それぞれ、電荷の中和が必要な場合に存在する対アニオ
ン、オニウムカチオンを表す）。 【化１】 【化２】
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ等の
デジタル信号に基づいて赤外線レーザを走査することに
より直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネ
ガ型平版印刷版原版に関する。 【０００２】 【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個
体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進
んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版する際の露光光源として、これらのレ
ーザーは非常に有用である。前述の赤外線領域に発光領
域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤
外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版は、熱により発生し
た酸を開始剤として、酸による架橋反応を生起させて露
光部の記録層を硬化させて画像部を形成するか、或い
は、熱により発生したラジカルを開始剤として重合反応
を生起させて露光部の記録層を硬化させて画像部を形成
する記録方式を利用している。 【０００３】このようなネガ型の画像形成材料は、赤外
線レーザ照射のエネルギーにより記録層の可溶化を起こ
させるポジ型に比較して画像形成性が低く、架橋或いは
重合などの硬化反応を促進させて強固な画像部を形成す
るため、現像工程後にバーニング処理或いはベーキング
処理と呼ばれる加熱処理を行うのが一般的である。特
に、上述の記録層を備える平版印刷版原版に、アルミニ
ウム支持体を用いる場合には、赤外線レーザ照射による
エネルギーが熱伝導性の高い支持体に拡散して、画像形
成のための架橋又は重合反応の開始、促進に利用され
ず、充分な感度及び画像部強度が得られないという問題
があった。また、記録層中には、通常、赤外線レーザの
照射光を熱に変換する赤外線吸収剤が含まれるが、かか
る赤外線吸収剤として用いられる色素の安定性が悪い
と、記録層中において、色素が分解し、その光熱変換能
が低下してしまい、架橋又は重合反応が充分に促進され
ず、感度及び画像部強度に対し大きな影響を及ぼす懸念
があった。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
考慮してなされたものであり、本発明の目的は、赤外線
を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用いて記録す
ることにより、コンピューター等のデジタルデータから
直接記録可能であると共に、感度及び画像部強度の優れ
た記録層を有し、良好な印刷物が多数枚得られる耐刷性
に優れた平版印刷版を製版しうるネガ型平版印刷版原版
を提供することにある。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明者は、赤外線レー
ザによる照射光を効率よく熱に変換するために用いられ
る赤外線吸収剤に着目し、鋭意検討の結果、経時安定性
を有する特定構造の色素を赤外線吸収剤として使用する
ことにより上記目的が達成できることを見出し、本発明
を完成するに至った。即ち、本発明の赤外線レーザ対応
平版印刷版原版は、支持体上に、少なくとも、下記一般
式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表される化合物と、熱に
よりラジカル或いは酸を発生する化合物と、重合性化合
物或いは架橋性化合物と、を含有するネガ型記録層を設
けてなることを特徴とする。 【０００６】 【化３】 【０００７】上記一般式（Ｉ）中、Ｑ1は、５員もしく
は６員の複素環又は５員もしくは６員の複素環を含む縮
合環を形成するのに必要な原子群を表す。Ｒoは、脂肪
族基を表す。Ｒo1は、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｚは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、又はテルル
原子を表す。Ｑ2は、ピリリウム構造を形成するのに必
要な原子群を表す。Ｙ1及びＹ2は、各々、同じでも異な
っていてもよく、水素原子、脂肪族基、芳香族基、シア
ノ基、ニトロ基、−ＯＲ、又は−ＳＲを表す。但し、Ｒ
は脂肪族基又は芳香族基を表す。Ｌは、ポリメチン基を
表す。ｐ及びｑは、０又は１を表す。Ａ-は、電荷の中
和が必要な場合に存在する対アニオンを表す。但し、ｎ
は１〜５の整数である。 【０００８】 【化４】 【０００９】上記一般式（ＩＩ）中、Ｑ1、Ｒo、Ｒo1、
Ｚ、Ｑ2、Ｙ1、Ｙ2、Ｌ、ｐ、及びｑは、前記一般式
（Ｉ）と同様である。Ｂ+は、電荷の中和が必要な場合
に存在するオニウムカチオンを表す。但し、ｍは１〜３
の整数である。 【００１０】前記一般式（Ｉ）で表される化合物におい
て、Ａ-による電荷の中和が必要でない場合には、Ａ-を
除く部分の分子内に存在するアニオンとピリリウムイオ
ンとで分子内塩が形成されている構造を有する。なお、
Ａ-を除く部分の分子内に存在するアニオンとしては、
ＳＯ3Ｈ、ＣＯＯＨ、ＰＯ3Ｈ2、ＰＯ2（ＯＲ）ＯＨ、Ｓ
Ｏ2Ｈから選ばれる少なくとも一種の酸性基が解離する
ことで発生するアニオンであることが好ましい。なお、
Ｒは、炭素数１〜１２の置換されてもよい脂肪族基を表
す。一方、前記一般式（Ｉ）で表される化合物におい
て、Ａ-による電荷の中和が必要である場合には、Ａ-と
ピリリウムイオンとで分子内塩が形成されている構造を
有する。 【００１１】前記一般式（ＩＩ）で表される化合物にお
いて、Ｂ+による電荷の中和が必要でない場合には、Ｂ+
を除く部分の分子内に存在するアニオンとピリリウムイ
オンとで分子内塩が形成され、更に、Ｂ+を除く部分の
分子内に存在するアニオンとカチオンとで分子内塩が形
成されている構造を有する。一方、前記一般式（ＩＩ）
で表される化合物において、Ｂ+による電荷の中和が必
要である場合には、Ｂ+を除く部分の分子内に存在する
アニオンとピリリウムイオンとで分子内塩が形成され、
更に、Ｂ+を除く部分の分子内に存在するアニオンとＢ+
とで分子内塩が形成されている構造を有する。なお、Ｂ
+を除く部分の分子内に存在するアニオンとしては、Ｓ
Ｏ3Ｈ、ＣＯＯＨ、ＰＯ3Ｈ2、ＰＯ2（ＯＲ）ＯＨ、ＳＯ
2Ｈから選ばれる少なくとも一種の酸性基が解離するこ
とで発生するアニオンであることが好ましい。なお、Ｒ
は、炭素数１〜１２の置換されてもよい脂肪族基を表
す。ここで、Ｂ+で表されるオニウムカチオンとして
は、ヨードニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホ
ニウムイオン、ジアゾニウムイオン、カルボニウムイオ
ン、トリハロゲンメチル基置換のオキザゾリウムイオン
又はＳ−トリアジニウムイオンが好ましい。 【００１２】本発明の作用は明確ではないが、一般式
（Ｉ）で表される化合物は、経時安定性がよいため記録
層中における安定性もよく、更に、赤外線レーザの照射
光をより効率よく熱に変換することが可能であるため、
記録層の感度が上昇すると共に、重合や架橋反応が促進
され、強固な画像部を形成することが可能であると推測
される。また、一般式（Ｉ）で表される化合物を記録層
中に含有させることで、記録層中で共存する成分との間
で、かかる化合物の構造に起因する何らかの相互作用が
形成され、耐アルカリ現像性が向上し、これが耐刷性の
向上に寄与していると考えられる。従って、このような
記録層を備えるネガ型の平版印刷版原版は良好な印刷物
が多数枚得られ、耐刷性に優れる。また、上述のよう
に、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｂ
+で表されるオニウムカチオンと、Ｂ+を除く部分の分子
内に存在するアニオンと、で分子内塩が形成されている
場合、Ｂ+で表されるオニウムカチオンが、熱又は光に
より酸或いはラジカルを発生する機能を有するため、感
度の上昇という効果をより向上させることできると考え
られる。より詳細には、Ｂ+で表されるオニウムカチオ
ンの有するラジカル発生機能により、赤外線レーザ露光
により光熱変換剤が発生した熱が分子内、即ち極めて近
傍に存在する前記官能基に作用して架橋反応や酸分解反
応の生起に必要な酸やラジカルの発生を効率よく行うこ
とができるため、このような化合物を含有するネガ型記
録層において、感度向上が可能になったと推測される。 【００１３】 【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の赤外線レーザ対応平版印刷版原版は、支持体上
に、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物
と、熱によりラジカル或いは酸を発生する化合物と、重
合性化合物或いは架橋性化合物と、を含有するネガ型記
録層を設けてなることを特徴とする。以下、本発明の平
版印刷版原版の各構成の詳細を説明する。 【００１４】＜ネガ型記録層＞ネガ型記録層は、その画
像部形成機構によって、光重合層と、酸架橋層と、に大
別される。光重合層には、（Ａ）赤外線吸収剤と（Ｂ）
ラジカルを発生する化合物（ラジカル発生剤又はラジカ
ル重合開始剤と称する場合がある）と発生したラジカル
により重合反応を起こして硬化する（Ｃ）ラジカル重合
性化合物とを含有し、好ましくは、更に、（Ｄ）バイン
ダーポリマーを含有する。赤外線吸収剤が吸収した赤外
線を熱に変換し、この際発生した熱により、オニウム塩
等のラジカル重合開始剤が分解し、ラジカルを発生す
る。ラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレ
ン性不飽和二重結合を有し、末端エチレン性不飽和結合
を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物か
ら選ばれ、発生したラジカルにより連鎖的に重合反応が
生起し、硬化する。 【００１５】また、酸架橋層には、（Ｅ）光又は熱によ
り酸を発生する化合物（以下、酸発生剤と称する）と、
（Ｆ）発生した酸により架橋する化合物（以下、架橋剤
と称する）とを含有し、更に、これらを含有する層を形
成するための、酸の存在下で架橋剤と反応しうる（Ｇ）
アルカリ可溶性ポリマーを含む。この酸架橋層において
は、光照射又は加熱により、酸発生剤が分解して発生し
た酸が、架橋剤の働きを促進し、架橋剤同士或いは架橋
剤とバインダーポリマーとの間で強固な架橋構造が形成
され、これにより、アルカリ可溶性が低下して、現像剤
に不溶となる。このとき、赤外線レーザのエネルギーを
効率よく使用するため、記録層中には（Ａ）赤外線吸収
剤が配合される。ネガ型記録層に用いられる各成分につ
いて以下に述べる。 【００１６】［（Ａ）赤外線吸収剤］本発明に係る平版
印刷版原版の記録層は、赤外線を発するレーザで画像記
録可能な構成を有する。このような記録層には、吸収し
た赤外線を熱に変換する機能を有する赤外線吸収剤を用
いることが好ましい。この際、発生した熱により、ラジ
カル発生剤や酸発生剤が分解し、ラジカルや酸を発生す
る。本発明の平版印刷版原版において、（Ａ）赤外線吸
収剤として前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化
合物を用いることを要する。かかる一般式（Ｉ）又は
（ＩＩ）で表される化合物は、特定の波長領域（赤色光
乃至赤外線領域）に吸収を有する色素であり、以下、適
宜、特定色素と称する。 【００１７】まず、前記一般式（Ｉ）において、各置換
基として好ましくは、以下のものを挙げることができ
る。前記一般式（Ｉ）において、Ｑ1は、置換されても
よい、５員もしくは６員の複素環又は５員もしくは６員
の複素環を含む縮合環を形成するのに必要な原子群を表
す。Ｑ1において、形成される複素環としては、例え
ば、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾ
ール環（例えば、ナフト〔２，１−ｄ〕チアゾール環、
ナフト〔１，２−ｄ〕チアゾール環等）、チオナフテン
〔７，６−ｄ〕環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキ
サゾール環（例えば、ナフト〔２，１−ｄ〕オキサゾー
ル環等）、セレナゾール環、べンゾセレナゾール環、ナ
フトセレナゾール環（例えば、ナフト〔２，１−ｄ〕セ
レナゾール環、ナフト〔１，２−ｄ〕セレナゾール環
等）、オキサゾリン環、セレナゾリン環、チアゾリン
環、ピリジン環、キノリン環（例えば、２−キノリン
環、４−キノリン環、ベンゾ〔ｔ〕キノリン環等）、イ
ソキノリン環（例えば、１−イソキノリン環、３−イソ
キノリン環、ベンゾイソキノリン環、）アクリジン環、
３，３−ジアルキルインドレニン環、３，３−ジアルキ
ルベンゾインドレニン環、３，３−ジアルキル〔１，
７〕ジアゾ−２−インデン環、ペンゾイミダゾール環、
ナフトラクタム環等が挙げられる。 【００１８】それらの置換基としては、例えば、ハロゲ
ン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ
基、スルホ基、ホスホ基、炭素数１〜２２の置換されて
もよいアルキル基、炭素数２〜２２の置換されてもよい
アルケニル基、炭素数２〜２２の置換されてもよいアル
キニル基、炭素数７〜２２の置換されてもよいアラルキ
ル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、γーフェニ
ルプロピル基等）、炭素数５〜２２の置換されてもよい
脂環式炭化水素基、炭素数６〜２２の置換されてもよい
アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メト
キシカルボニル基等）、炭素数４以上の置換されてもよ
い複素環基（例えば、チエニル基、ピリジル基、フリル
基等）、炭素数１〜２２の置換されてもよいアルコキシ
基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−シアノエト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、スルホプロピルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、シクロヘキシルオキシ
等）、炭素数６〜２２のアリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ基、トリルオキシ基、クロロフェノキシ基、メ
トキシフェノキシ基、ジクロロフェノキシ基、ナフチル
オキシ基等）、カルボキシレート基（エステル残基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、シクロへキシル基、ベンジル基、フェニル基、ト
リル基、フリル基、チエニル基等）、 【００１９】アミノ基、置換されたモノ或いはジ置換ア
ミノ基（置換基としては、例えば、メチル基、エチル
基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
シクロへキシル基、ベンジル基、フェネチル基、フェニ
ル基、クロロフェニル基、メチルフェニル基、メトキシ
フェニル基、ブチルフェニル基等）、炭素数１〜２２の
置換されてもよいアルキルスルホニル基（アルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、エトキシエチル基等）、炭素数６
〜２２の置換されてもよいアリールスルホニル基（アリ
ール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ニトロフェニル基等）、炭素数２〜２
２の置換されてもよいアシル基（例えば、アセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、パレリル基、ピパリル
基、ラウロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、ナフ
トイル基、フロイル基、テノイル基等）、脂肪族カルボ
ン酸或いは芳香族カルボン酸から誘導される炭素数１〜
２２の置換されてもよいカルボアミド基（例えば、アセ
トアミド基、クロロアセトアミド基、プロピオアミド
基、ベンズアミド基等）又は脂肪族スルホン酸或いは芳
香族スルホン酸から誘導される炭素数１〜２２の置換さ
れてもよいスルホンアミド基（例えば、メタンスルホン
アミド基、トリフロロメタンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基、トルエンスルホンアミド基等）等
が挙げられる。 【００２０】前記アルキル基としては、具体的には、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコ
サニル基、ヘネイコサニル基、ドコサニル基が挙げられ
る。前記アルケニル基としては、二重結合が２つ以上含
有されていてもよく、具体的には、ビニル基、プロペニ
ル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オク
テニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル
基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセ
ニル基、エイコセニル基、ドコセニル基、ブタジエニル
基、ペタジエニル基、ヘキサジエニル基、オクタジエニ
ル基等が挙げられる。前記アルキニル基としては、具体
的には、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ヘキ
シニル基、オクタニル基、デカニル基、ドデカニル基等
が挙げられる。 【００２１】脂環式炭化水素基としては、単環式、多環
式、架橋環式の脂肪族環状炭化水素基が挙げられる。脂
環式炭化水素基としての具体例としては、シクロペンタ
ン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキ
サン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘ
プタン、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、シクロ
オクタン、シクロオタテン、シクロオクタジエン、シク
ロオクタトリエン、シクロソナン、シクロソネン、シク
ロデカン、シクロデセン、シクロデカンジエン、シクロ
デカトリエン、シクロウンデカン、シクロドデカン、ビ
シクロヘプタン、ビシクロヘキサン、ビシクロヘキセ
ン、トリシクロヘキサン、ノルカラン、ノルピナン、ノ
ルボルナン、ノルボルネン、ノルボルナジエン、トリシ
クロヘプタン、トリシクロヘプテン、デカリン、アダマ
ンタン等の環構造炭化水素が挙げられる。 【００２２】これらの中で、炭素原子数１から１２まで
の直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならび
に炭素原子数５から１０までの環状の脂肪族基がより好
ましい。 【００２３】かかる脂肪族基が置換基を有する場合、そ
の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用
いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、
−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ
基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、
アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル
カルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，
Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキ
シ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルア
ミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールア
シルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド
基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリー
ルウレイド基、Ｎ’Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’
−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ’Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’
−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−
ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル
−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−ア
ルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニル
アミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミ
ノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミ
ノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、及びそ
の共役塩基基（以下、「カルボキシラート」とい
う。）、 【００２４】アルコキシカルボニル基、アリーロキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイ
ル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリー
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アル
キルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−
ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基（以下、「スルホナト基」
という。）アルコキシスホニル基、アリーロキシスルホ
ニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ
−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールス
ルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフ
ィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ァモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ
−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスル
ファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモ
イル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基
基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ
2ＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役
塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−
ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及び
その共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル
基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及
びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイ
ル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表
す。）及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓ
ｉ（ＯＲ）3、Ｒはアルキル基を表す。）、アリーロキ
シシリル基（−Ｓｉ（ＯＡｒ）3、Ａｒはアリール基を
表す。）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）及
びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその
共役塩基基（以下、「ホスホナト基」という。）、 【００２５】ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｒ2、Ｒは
アルキル基を表す。）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ
3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリー
ルホスホノ基（−ＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル
基、Ａｒはアリール基を表す。）モノアルキルホスホノ
基（−ＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及び
その共役塩基基（以下、「アルキルホスホナト基」とい
う。）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ａ
ｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基
（以下、「アリールホスホナト基」という。）、ホスホ
ノオキシ基（−ＯＰＯ 3Ｈ2）及びその共役塩基基（以
下、「ホスホナトオキシ基」という。）、ジアルキルホ
スホノオキシ基（−ＯＰＯ3（Ｒ）2、Ｒはアルキル基を
表す。）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ
3（Ａｒ）2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルア
リールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、
Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノア
ルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはア
ルキル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アル
キルホスホナトオキシ基」という。）、モノアリールホ
スホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリー
ル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アリール
ホスホナトオキシ基」という。）、シアノ基、ニトロ
基、アリール基、複素環基、アルケニル基、アルキニル
基が挙げられる。 【００２６】一般式（Ｉ）のＱ1で表される縮合環に置
換される脂肪族基において、該脂肪族環基に更に導入さ
れるこれらの置換基中のアルキル基の具体例としては、
前述のアルキル基の具体例が同様に挙げられる。また、
置換基中のアリール基の具体例としては、フェニル基、
ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エト
キシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフ
ェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルオフェニ
ル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル
基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカ
ルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニ
ル基、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル
基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホ
ノフェニル基、ホスホナトフェニル基等を挙げることが
できる。また、アルキル基に置換する置換基としてのア
リール基としては、前記に例示されたアリール基が同様
に挙げられる。 【００２７】置換基中の複素環基としては、酸素原子、
イオウ原子、窒素原子のいずれかを少なくとも１個含有
する単環式もしくは多環式の環構造を有するものであれ
ばいずれでもよい。例えば、フラニル基、テトラヒドロ
フラニル基、ピラニル基、ピロイル基、クロメニル基、
フェノキサチイニル基、イミダゾイル基、ピラゾイル
基、ピリジイル基、ピラジニル基、ピリミデイニル基、
インドイル基、イソインドイル基、キノニイル基、ピロ
リジニル基、ピロリニル基、イミダゾリニル基、ピラゾ
リジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホ
リニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基等が挙げられ
る。これらの複素環構造は更に置換されもよく、置換基
としては、前記に例示されたものと同様の置換基類が挙
げられる。また、置換基中のアルケニル基の例として
は、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シ
ンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基等が挙げら
れ、更にアルキニル基の例としては、エチニル基、１−
プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチ
ニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。 【００２８】これら置換基のうち、更に好ましいものと
しては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−
Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ機、アルキルチオ
機、アリールチオ機、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ
基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリール
ホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホ
ナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト
基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール
基、複素環基、アルケニル基等を挙げることができる。 【００２９】一方、置換アルキル基において、置換基と
組み合わせて置換アルキル基を構成するアルキレン基と
しては、前述の炭素数１から１８までのアルキル基上の
水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とした
ものを挙げることができ、好ましくは、炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状アルキレン
基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基を組
み合わせることにより得られる置換アルキル基の好まし
い具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、
２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ
メチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメ
チル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、ト
リルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルア
ミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキ
シメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘ
キシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカル
バモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ
−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチ
ル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、
メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニルメチ
ル基、メトキシカルボニルブチル基、アリルオキシカル
ボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル
基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエ
チル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルガルバモイルメチル基、Ｎ
−（メトキシフェニル）ガルバモイルエチル基、Ｎ−メ
チル−Ｎ−（スルホフェニル）ガルバモイルメチル基、
スルホプロピル基、スルホブチル基、スルホナトブチル
基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイ
ルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピ
ル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファイルオクチル
基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチ
ルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、
メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、
トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル
基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチ
ル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル
基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベ
ンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメ
チル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メ
チルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチ
ニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。 【００３０】前記一般式（Ｉ）において、Ｒoは、置換
されてもよい脂肪族基を表す。かかる脂肪族基として
は、炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状の置換されても
よいアルキル基、炭素数２〜２２の置換されてもよいア
ルケニル基、炭素数５〜２２の置換されてもよい脂環式
炭化水素基が好ましい。これらの脂肪族基、及びこれら
に導入される置換基の具体例としては、前記一般式
（Ｉ）におけるＱ1に導入可能な置換基として挙げた脂
肪族基と同義である。前記一般式（Ｉ）において、Ｒo1
は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒo1がアルキル基
の場合、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の
ように炭素数は１〜４のものが好ましい。 【００３１】前記一般式（Ｉ）において、Ｚは、酸素原
子、イオウ原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。 【００３２】前記一般式（Ｉ）において、Ｑ2はピリリ
ウムイオン構造を形成するのに必要な原子群を表す。こ
こで、ピリリウムイオン構造とは、置換されてもよい、
ピリリウム、ベンゾピリリウム、ナフトピリリウム、チ
オピリリウム、ベンゾチオピリリウム、ナフトチオピリ
リウム、セレナピリリウム、ベンゾセレナピリリウム、
ナフトセレナピリリウム、テルナピリリウム、ベンゾテ
ルナピリリウム、又はナフトテルナピリリウムを示す。 【００３３】それらの置換基としては、ハロゲン原子
（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、
ヒドロキシル基、シアノ基、メルカプト基、炭素数１〜
２２の置換されてもよい脂肪族基（脂肪族基は、アルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、単環式もしくは多
環式脂肪族炭化水素基を示す。）、炭素数の６〜２２の
置換されてもよいアリール基、−ＯＲ11基、−ＣＯＯＲ
11基、−ＳＯ2Ｒ11基、−ＳＯ2Ｎ（Ｒ12）（Ｒ13）基、
−ＣＯＮ（Ｒ12）（Ｒ13）基、−Ｎ（Ｒ12）（Ｒ13）基
等が挙げられる。上記Ｒ11は、水素原子、炭素数１〜２
２の置換されてもよい脂肪族基、又は、炭素数６〜２２
の置換されてもよいアリール基を表す。Ｒ12及びＲ13は
同じでも異なってもよく、各々、Ｒ11と同一の内容を表
す。これらの脂肪族基、及びこれらに導入される置換基
の具体例としては、前記一般式（Ｉ）におけるＱ1に導
入可能な置換基として挙げた脂肪族基と同義である。ま
た、アリール基の具体例としては、前記一般式（Ｉ）に
おけるＱ1に置換可能な脂肪族基に更に導入されるアリ
ール基として挙げたもののと同義である。 【００３４】前記一般式（Ｉ）において、Ｙ1及びＹ
2は、各々、同じでも異なっていてもよく、水素原子、
脂肪族基、芳香族基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ、又
は−ＳＲを表す。但し、Ｒは脂肪族基又は芳香族基を表
す。この中でも、Ｙ1及びＹ2としては、水素原子、炭素
数１〜２２の置換されてもよい脂肪族基、又は、炭素数
６〜２２の置換されてもよいアリール基であることが好
ましい。これらの脂肪族基、及びこれらに導入される置
換基の具体例としては、前記一般式（Ｉ）におけるＱ1
に導入可能な置換基として挙げた脂肪族基と同義であ
る。また、アリール基の具体例としては、前記一般式
（Ｉ）におけるＱ1に置換可能な脂肪族基に更に導入さ
れるアリール基として挙げたもののと同義である。 【００３５】前記一般式（Ｉ）において、Ｌは、置換さ
れてもよいポリメチン基を表す。より詳細には、Ｌは、
置換されてもよいポリメチン基を表し、炭素鎖長３〜１
１のポリメチン基が好ましく、ペンタメチン基、ヘプタ
メチン基又はノナメチン基がより好ましいが、赤外線に
対する波長適性と安定性の点からヘプタメチン基が特に
好ましい。Ｌは、置換もしくは無置換のアルキル基、置
換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換
のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチ
オ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もし
くは無置換のアミノ基、ハロゲン原子、置換もしくは無
置換のアリール基、置換もしくは無置換のイミニウムイ
オン基、下記一般式（１）で表される置換基より選択さ
れる基で置換されていてもよく、これら置換基上の置換
基としては、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アルコキシスルホニル基、カル
ボン酸基、スルホン酸基等が好ましい置換基として挙げ
られる。これらの中でも、Ｌ上の置換基としては、メチ
ル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリー
ル基、塩素原子等のハロゲン原子、ジフェニルアミノ基
等のジアリールアミノ基、フェニルチオ基等のアリール
チオ基が挙げられ、ハロゲン原子、ジフェニルアミノ基
等のジアリールアミノ基、及びフェニルチオ基等のアリ
ールチオ基が特に好ましい。 【００３６】 【化５】 【００３７】式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、水
素原子、炭素数１〜８の置換されてもよいアルキル基、
又は炭素数６〜１０の置換されてもよいアリール基を表
す。Ｙ1は、酸素原子又は硫黄原子を表す。置換基とし
ては、前記Ｒoに導入可能な置換基における同一の内容
のものが挙げられる。 【００３８】Ｌは、更に、１組又は２組以上の連続した
３つのメチン鎖を含むシクロアルケン環を形成してもよ
くシクロヘキセン環、シクロペンテン環又はシクロブテ
ン環を有することが安定性の点で好ましく、シクロペン
テン環又はシクロヘキセン環が特に好ましい。シクロヘ
キセン環、シクロペンテン環又はシクロブテン環を有す
る場合は、環を形成するのに必要なプロピレン基、エチ
レン基又はメチレン基上に置換基を有してもよく、好ま
しい置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ジアル
キルアミノ基、ジアリールアミノ基、ハロゲン原子、ア
リール基、水酸基、アルコキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシスルホニル基、カルボン酸基、スルホ
ン酸基、ホスホン酸基、スルフィン酸基等が挙げられ、
これら複数の置換基が互いに結合してビシクロ環、トリ
シクロ環を形成してもよい。また、これらの環形成に必
要なアルキレン基（例えば、メチレン基など）は、−Ｏ
−、−Ｓ−、−Ｓｅ−、−ＮＲ21−、−ＣＯ−、−ＣＯ
Ｏ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＳＯ3−、−ＣＯＮＨ
−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＳＮ
Ｈ−より選択される２価の原子又は原子団により置換さ
れてもよい。ここで、Ｒ21は、炭素数１〜２２の置換さ
れてもよい炭化水素基を表す。具体的には、前記一般式
（Ｉ）におけるＱ1に導入可能な置換基として挙げた各
炭化水素基と同義である。また、下記式（２）又は
（３）で表されるスクアリリウム環又はクロコニウム環
を、置換基を有するシクロブテン環又はシクロペンテン
環として有することも好ましい。 【００３９】 【化６】 【００４０】更に、１組又は２組以上の連続した２つの
メチン鎖（−ＣＨ＝ＣＨ−又は＝ＣＨ−ＣＨ＝）は下記
式（４）、（５）又は（６）で示される構造により置換
されてもよい。 【００４１】 【化７】【００４２】式（４）中、Ｒ3及びＲ4は、各々独立に、
水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表す。ここで、脂肪
族基及び芳香族基は、具体的には、前記一般式（Ｉ）に
おけるＱ1に導入可能な置換基として挙げた脂肪族基及
び芳香族基と同義である。Ｙ2は、酸素原子、硫黄原子
又はセレン原子を表す。 【００４３】 【化８】 【００４４】式（５）中、Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、
置換もしくは未置換のアミノ基、又はハロゲン原子を表
し、Ｒ5とＲ6は互いに結合し、縮合６員環を形成してい
てもよい。Ｙ3は、酸素原子又は硫黄原子を表す。 【００４５】 【化９】 【００４６】式（６）中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、各々独
立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基、置換もしくは未置換のアミノ基、
アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ
−モノ置換もしくはジ置換のカルバモイル基（Ｎ置換基
としては、アルキル基又はアリール基）、アルキルスル
ホニル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカル
ボニル基、カルボキシ基、スルホ基、又はホスホノ基を
表し、Ｒ7とＲ8、Ｒ7とＲ9、及びＲ8とＲ9の少なくとも
一つで、縮合６員環を形成していてもよい。Ｙ3は、酸
素原子又は硫黄原子を表す。 【００４７】前記式（５）で示される構造の好ましい例
としては、下記に示す（５−１）〜（５−７）等が挙げ
られる。 【００４８】 【化１０】 【００４９】前記一般式（Ｉ）において、Ａ-は電荷の
中和が必要な場合に存在する対アニオンを表す。かかる
対アニオンとしては、無機或いは有機のアニオンであ
る。ここで、ｎは１〜５の整数であり、１又は２である
ことが好ましい。対アニオンとして、具体的には以下の
ものが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。例えば、Ｃｌ-、Ｆ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣｌＯ4 -、Ｂｒ
Ｏ4 -、ＳｂＦ6 -、ＰＦ6 -、ボレートアニオン（例えば、
ＢＦ4 -、テトラフェニルボレートアニオン、ブチル−ト
リフェニルボレートアニオン、ブチル−トリス（２，
４，６−トリメチルフェニル）ボレートアニオン、ブチ
ル−メチル−ジフェニルボレートアニオン、ブチル−ト
リス（フルオロフェニル）ボレートアニオン、ブチル−
トリス（メトキシフェニル）ボレートアニオン、テトラ
（クロロフェニル）ボレートアニオン等）スルホン酸ア
ニオン（例えば、アルカンスルホン酸アニオン（アルカ
ンスルホン酸としては、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、アリ
ルスルホン酸、フェニルメタンスルホン酸、ヒドロキシ
プロパン酸、２−クロロエタンスルホン酸、１０−カン
ファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペ
ンタフルオロエタンスルホン酸等）芳香族スルホン酸ア
ニオン（芳香族スルホン酸としては、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、メトキシベンゼンスルホン
酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、クロロベンゼンス
ルホン酸、ニトロベンゼンスルホン酸、アセチルベンゼ
ンスルホン酸、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸、ｏ
−スルホベンゼンカルボン酸、メシチレンスルホン酸、
ナフタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸、ナフ
トールスルホン酸、アントラキノンスルホン酸、キノリ
ンスルホン酸等）、ホスホン酸アニオン（具体的には、
上記スルホン酸アニオンで例示した脂肪族化合物、芳香
族化合物にスルホン酸基の代わりにホスホン酸が各々少
なくとも１種置換された化合物が例示される）等が挙げ
られる。 【００５０】前記一般式（Ｉ）で表される化合物におい
て、Ａ-による電荷の中和が必要でない場合には、Ａ-を
除く部分の分子内に存在するアニオンとピリリウムイオ
ンとで分子内塩が形成されている構造を有する。なお、
Ａ-を除く部分の分子内に存在するアニオンとしては、
ＳＯ3Ｈ、ＣＯＯＨ、ＰＯ3Ｈ2、ＰＯ2（ＯＲ）ＯＨ、Ｓ
Ｏ2Ｈから選ばれる少なくとも一種の酸性基が解離する
ことで発生するアニオンであることが好ましい。前記酸
性基の中でも、−ＳＯ3Ｈ、−ＣＯＯＨ、−ＰＯ3Ｈ2の
いずれか１種を有することがより好ましい。なお、Ｒ
は、炭素数１〜１２の置換されてもよい脂肪族基を表
す。これらの脂肪族基、及びこれらに導入される置換基
の具体例としては、前記一般式（Ｉ）におけるＱ1に導
入可能な置換基として挙げた脂肪族基と同義である。一
方、前記一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ａ-
による電荷の中和が必要である場合には、上記Ａ-で表
される対アニオンとピリリウムイオンとで分子内塩が形
成されている構造を有する。 【００５１】次に、前記一般式（ＩＩ）において、各置
換基として好ましくは、以下のものを挙げることができ
る。前記一般式（ＩＩ）中、Ｑ1、Ｒo、Ｒo1、Ｚ、
Ｑ2、Ｙ1、Ｙ2、Ｌ、ｐ、及びｑは、前記一般式（Ｉ）
と同義である。Ｂ+は、電荷の中和が必要な場合に存在
するオニウムカチオンを表す。但し、ｍは１〜３の整数
である。 【００５２】前記一般式（ＩＩ）で表される化合物にお
いて、Ｂ+による電荷の中和が必要でない場合には、Ｂ+
を除く部分の分子内に存在するアニオンとピリリウムイ
オンとで分子内塩が形成され、更に、Ｂ+を除く部分の
分子内に存在するアニオンとカチオンとで分子内塩が形
成されている構造を有する。一方、前記一般式（ＩＩ）
で表される化合物において、Ｂ+による電荷の中和が必
要である場合には、Ｂ+を除く部分の分子内に存在する
アニオンとピリリウムイオンとで分子内塩が形成され、
更に、Ｂ+を除く部分の分子内に存在するアニオンとＢ+
とで分子内塩が形成されている構造を有する。なお、Ｂ
+を除く部分の分子内に存在するアニオンとしては、Ｓ
Ｏ3Ｈ、ＣＯＯＨ、ＰＯ3Ｈ2、ＰＯ2（ＯＲ）ＯＨ、ＳＯ
2Ｈから選ばれる少なくとも一種の酸性基が解離するこ
とで発生するアニオンであることが好ましい。前記酸性
基の中でも、−ＳＯ3Ｈ、−ＣＯＯＨ、−ＰＯ3Ｈ2のい
ずれか１種を有することがより好ましい。なお、Ｒは、
炭素数１〜１２の置換されてもよい脂肪族基を表す。こ
れらの脂肪族基、及びこれらに導入される置換基の具体
例としては、前記一般式（Ｉ）におけるＱ1に導入可能
な置換基として挙げた脂肪族基と同義である。ここで、
Ｂ+で表されるオニウムカチオンとしては、ヨードニウ
ムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン、
ジアゾニウムイオン、カルボニウムイオン、トリハロゲ
ンメチル基置換のオキザゾリウムイオン又はＳ−トリア
ジニウムイオン等のオニウム塩カチオンが挙げられる。
これらのオニウム塩カチオンの具体例な態様は、後述の
ラジカルを発生する化合物において例示するオニウム塩
中のオニウムカチオンと同様のものが挙げられる。 【００５３】本発明に用いられる前記一般式（Ｉ）又は
（ＩＩ）で表される化合物の具体例を以下の表１〜１２
に示すが、これらに限定されるものではない。なお、表
中の「−Ｃ6Ｈ5」はフェニル基を示す。 【００５４】 【表１】【００５５】 【表２】 【００５６】 【表３】【００５７】 【表４】 【００５８】 【表５】【００５９】 【表６】 【００６０】 【表７】 【００６１】 【表８】【００６２】 【表９】 【００６３】 【表１０】【００６４】 【表１１】 【００６５】 【表１２】 【００６６】本発明に用いられる上記特定色素は、１種
のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。ま
た、本発明に用いられる上記特定色素は、従来公知の方
法と用いて合成することができる。合成法に関する詳細
は、例えば、特開昭６３−１２４０５４号公報に記載の
ものを挙げることができる。 【００６７】また、本発明の効果を損なわない範囲にお
いて、上記特定色素以外の汎用の赤外線吸収剤を併用す
ることができる。このように、上記特定色素と、汎用の
赤外線吸収剤を併用する場合、汎用の赤外線吸収剤の含
有量は赤外線吸収剤全固形分中、４０重量％以下である
ことが好ましい。本発明において併用される赤外線吸収
剤として、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大
を有する染料又は顔料である。例えば、以下に示す染料
及び顔料が挙げられる。 【００６８】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、例えば、特開平１０−３９５０９号公報の段落番
号［００５０］〜［００５１］に記載のものを挙げるこ
とができる。これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、有機金属錯体（例えば、ジチオレート系錯体など）
が挙げられる。 【００６９】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、
「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年
刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）
に記載されている顔料が利用できる。 【００７０】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。これらの顔料の詳細
は、特開平１０−３９５０９号公報の段落番号［００５
２］〜［００５４］に詳細に記載されており、これらを
本発明にも適用することができる。これらの顔料のうち
好ましいものはカーボンブラック、アニリンブラック、
ニグロシンブラック、シアニンブラック、チタンブラッ
ク等が挙げられる。 【００７１】本発明において、赤外線吸収剤として、上
記特定色素とそれ以外の汎用の赤外線吸収剤とを併用す
る場合には、全赤外線吸収剤の含有量としては、記録層
の全固形分重量に対し、０．０１〜５０重量％が好まし
く、０．１〜１０重量％がより好ましく、０．５〜１０
重量％が最も好ましい。前記含有量が、０．０１重量％
未満であると、感度が低くなると共に、光熱変換能が現
われにくい場合があり、５０重量％を超えると、平版印
刷用原版とした場合の非画像部に汚れが発生することが
ある。 【００７２】［（Ｂ）ラジカルを発生する化合物］本発
明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物
は、熱エネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不
飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合
物を指す。本発明に係る熱ラジカル発生剤としては、公
知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有
する化合物などを、適宜、選択して用いることとができ
る。また、ラジカルを発生する化合物は、単独又は２種
以上を併用して用いることができる。ラジカルを発生す
る化合物としては、例えば、オニウム塩化合物、有機ハ
ロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合
物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合
物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸
化合物、ジスルホン酸化合物が挙げられる。 【００７３】上記オニウム塩化合物としては、例えば、
Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓ
ｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．
Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３
（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，
０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号等
に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５
５号、同４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホス
ホニウム塩、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第
３３９，０４９号、同第４１０，２０１号の各明細書、
特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号
に記載のヨードニウム塩、欧州特許第３７０，６９３
号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７号、同２９
７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９
３３，３７７号、同１６１，８１１号、同４１０，２０
１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３号、
同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独
国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０
号、同３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホ
ニウム塩、 【００７４】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７
（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載
のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅ
ｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。 【００７５】上記有機ハロゲン化化合物としては、具体
的には、若林等、「Ｂｕｌｌ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ Ｊａ
ｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，
９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特
開昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、
特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３
５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８
２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−
７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号、Ｍ．Ｐ．
Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ
ｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７
０）」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメ
チル基が置換したオキサゾール化合物：Ｓ−トリアジン
化合物が挙げられる。 【００７６】より好適には、すくなくとも一つのモノ、
ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環
に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例え
ば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェ
ニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４
−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジ
エニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス
（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−ト
リス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチ
ル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）
−ｓ−トリアジン等が挙げられる。 【００７７】上記カルボニル化合物としては、ベンゾフ
ェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、
３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノ
ン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェ
ノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノ
ン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ
−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１
−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケト
ン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケ
トン、２−メチルー（４’−（メチルチオ）フェニル）
−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリ
クロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセ
トフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキ
サントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロ
ロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、
２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロ
ピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジ
メチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息
香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げること
ができる。 【００７８】上記有機過酸化化合物としては、例えば、
トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブ
チルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シ
クロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオ
キシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベ
ンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキ
サン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，
３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、
ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパー
オキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイル
パーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、
２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキ
シルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチ
ルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピル
パーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキ
シブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチ
ルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ
ピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエ
ート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔ
ｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボ
ネート、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，
４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）
ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｐ−
イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フ
タレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二
水素二フタレート）等が挙げられる。 【００７９】上記メタロセン化合物としては、特開昭５
９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号
公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４
９号公報、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３
５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、
ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフル
オロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−ト
リフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェ
ニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス
−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフル
オロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェ
ニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−
１−イル、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−
１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げら
れる。 【００８０】上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物
としては、例えば、特公平６−２９２８５号、米国特許
第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、
同第４，６２２，２８６号等の各公報記載の種々の化合
物、具体的には、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−
ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，
２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフ
ルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニ
ルビイミダゾール等が挙げられる。 【００８１】上記有機ホウ酸塩化合物としては、例え
ば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０
２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８
８６８６号、特開平９−１８８７１０号、特許第２７６
４７６９号、特願２０００−３１０８０８号、等の各公
報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ Ｔｅｃ
ｈ'９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ Ａｐｒｉｌ １９−
２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機
ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−
１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に
記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オ
キソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公
報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素
ヨードニウム錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記
載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０
１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７
−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公
報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移
金属配位錯体等が具体例として挙げられる。 【００８２】上記ジスルホン化合物としては、特開昭６
１−１６６５４４号、特願昭２００１−１３２３１８号
公報等記載される化合物が挙げられる。 【００８３】本発明において好適に用いられるラジカル
を発生する化合物としては、下記一般式（ＩＩＩ）〜
（Ｖ）で表されるオニウム塩が挙げられる。 【００８４】 【化１１】 【００８５】式（ＩＩＩ）中、Ａｒ11とＡｒ12は、それ
ぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数２０
個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を
有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、
ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原
子数１２個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個
以下のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ11-は無機ア
ニオン又は有機アニオンを表す。 【００８６】式（ＩＶ）中、Ａｒ21は、置換基を有して
いてもよい炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。
好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭
素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以
下のアルコキシ基、炭素原子数１２個以下のアリールオ
キシ基、炭素原子数１２個以下のアルキルアミノ基、炭
素原子数１２個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数
１２個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数１２個
以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Ｚ21 -はＺ11-
と同義の対イオンを表す。 【００８７】式（Ｖ）中、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、それ
ぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していて
もよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下の
アルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下のアリールオ
キシ基が挙げられる。Ｚ31-はＺ11-と同義の対イオンを
表す。 【００８８】式（ＩＩＩ）〜式（Ｖ）中のＺ11-、
Ｚ21-、Ｚ31-は、無機アニオンもしくは有機アニオンを
表す。無機アニオンとしては、ハロゲンイオン（Ｆ-、
Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｊ-）、ＣｌＯ 4 -、ＢｒＯ4 -、Ｓｂ
Ｆ6 -、ＰＦ6 -、ＢＦ4 -等が挙げられる。有機アニオンと
しては、有機ボレートアニオン、スルホン酸イオン、ホ
スホン酸イオン、カルボン酸イオン、Ｒ40−ＳＯ3Ｈ-イ
オン、Ｒ40−ＳＯ2 -イオン、Ｒ 40−ＳＯ2−Ｓ-イオン、
Ｒ40−ＳＯ2−Ｎ-−Ｙ−Ｒ40イオン（但し、Ｙは単結
合、−ＣＯ−又は−ＳＯ2−を表す）、下記一般式（Ｖ
Ｉ）で示される５配位シラン化合物イオンなどが挙げら
れる。 【００８９】 【化１２】 【００９０】有機ボレートアニオン、スルホン酸イオン
及びホスホン酸イオンの各具体的態様は、前記一般式
（Ｉ）で示されるＡ-と同義である。カルボン酸イオン
は、脂肪族カルボン酸或いは芳香族カルボン酸であり、
モノカルボン酸或いはポリカルボン酸のいずれでもよ
い。具体的には、特開２００１−３４３７４号明細書の
段落番号［００４８］〜［００５７］、特願２０００−
２６６７９７号明細書の段落番号［００６３］〜［００
６８］に記載の化合物例が挙げられる。 【００９１】ここで、前記Ｒ40は、好ましくは炭素原子
数１〜２０のアルキル基又は炭素原子数１〜２０のアリ
ール基を表す。Ｒ40は環構造を有してもよい。また、こ
れらアルキル基又はアリール基は置換基を有していても
よく、導入可能な置換基としては、具体的には、例え
ば、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アミノ基、シアノ基、水酸基、ハロゲン原子、
アミド基、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基
等が挙げられ、これらは更に上記のような置換基を有す
るものであってもよい。更に、２以上の置換基が互いに
結合して環を形成していてもよく、また、環構造は窒素
原子や硫黄原子などを含むヘテロ構造であってもよい。
中でも、安定性、合成適正の観点からは、Ｒ40がアリー
ル基であることが好ましい。 【００９２】Ｒ40ＳＯ2 -イオンの好ましい態様は、特願
２００１−１４７４２９号明細書の段落番号［００１
５］〜［００１６］に記載のもの、ＲＳＯ2−Ｓ-の好ま
しい態様は、特願２００１−３２９１２９号明細書の段
落番号［００２２］〜［００３２］に記載のアニオン化
合物が挙げられる。 【００９３】前記一般式（ＶＩ）で示される５配位シラ
ン化合物イオンにおいて、式中、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅは
互いに独立した一価の非金属原子（団）を表す。Ａ、
Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅは、好ましくは、それぞれ独立に、水素
原子、炭素数１〜１０のアルキル基或いはアリール基、
アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェノキ
シ基、アミノ基、ビニル基、アリル基、シアノ基、又は
ハロゲン原子を表す。なお、これらの基は更に１つ或い
は２つ以上の置換基を有していてもよく、好ましい置換
基の例としては、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８の直
鎖状或いは分岐のアルキル基、アリール基、アルケニル
基、カルボニル基、カルボキシル基、アミド基、アセチ
ル基、エーテル基、チオエーテル基、エステル基、アミ
ノ基、又はこれらを２種以上組み合わせたものが挙げら
れる。Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅのうち隣り合う２以上の非金
属原子（団）は互いに連結して環を形成してもよい。ま
た、対カチオンとは、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅのいずれの基
により連結されていてもよく、更に、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、
Ｅのうちいずれか２以上の基が互いに連結することによ
り形成された環により連結されていてもよい。これらの
シラン化合物イオンのうち、好ましいものとしては、
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅのいずれかがハロゲン原子、アリー
ル基、又はアルコキシ基であるものが挙げられ、更に好
ましいものとして、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅのうちいずれか
１以上がフッ素原子であるものが挙げられる。具体的に
は、特願２０００−３５３１５１号明細書の段落番号
［００１９］〜［００２１］に記載の化合物のアニオン
部分等が例示される。 【００９４】また、２価以上のアニオンとしては、例え
ば、特願２００１−６９１６８号明細書の段落番号［０
０１８］〜［００１９］に記載の化合物等が挙げられ
る。 【００９５】本発明において、好適に用いることのでき
るオニウム塩の具体例としては、特開平１３−１３３９
６９号公報の段落番号［００３０］〜［００３３］に記
載されたものを挙げることができる。 【００９６】本発明において用いられるオニウム塩は、
極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、
更に、３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版
原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。 【００９７】これらのオニウム塩は、記録層塗布液の全
固形分に対し０．１〜５０重量％、好ましくは０．５〜
３０重量％、特に好ましくは１〜２０重量％の割合で記
録層塗布液中に添加することができる。添加量が０．１
重量％未満であると感度が低くなり、また５０重量％を
越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これらのオ
ニウム塩は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併
用してもよい。また、これらのオニウム塩は他の成分と
同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加
してもよい。 【００９８】［（Ｃ）ラジカル重合性化合物］本発明に
係る記録層に使用されるラジカル重合性化合物は、少な
くとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカ
ル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少
なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選
ばれる。この様な化合物群は当該産業分野において広く
知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限
定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマ
ー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴ
マー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体な
どの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例
としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メ
タクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン
酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が
あげられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価
アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。ま
た、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求
核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド
類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ
類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン
酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イ
ソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有す
る不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能も
しくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類
と、の付加反応物、更に、ハロゲン基やトシルオキシ基
等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又
はアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、
アミン類及びチオール類と、の置換反応物も好適であ
る。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代
わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化
合物群を使用することも可能である。 【００９９】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物である
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン
酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エス
テル、マレイン酸エステルの具体例は、特願平１１−３
１０６２３号明細書の段落番号［００３７］〜［００４
２］に記載されており、これらを本発明にも適用するこ
とができる。 【０１００】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開
昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４
１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。 【０１０１】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。 【０１０２】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものを挙げることができる。 【０１０３】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（ＶＩＩ）で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。 【０１０４】一般式（ＶＩＩ） ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ41）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ42）ＯＨ （ただし、Ｒ41及びＲ42は、Ｈ又はＣＨ3を示す。） 【０１０５】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。 【０１０６】更に、特開昭６３−２７７６５３，特開昭
６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記
載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有す
るラジカル重合性化合物類を用いてもよい。 【０１０７】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会
誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１
９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹
介されているものも使用することができる。 【０１０８】これらのラジカル重合性化合物について、
どのような構造を用いるか、単独で使用するか併用する
か、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終
的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定でき
る。例えば、次のような観点から選択される。感度の点
では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好まし
く、多くの場合、２官能以上がこのましい。また、画像
部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以
上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基
を有する化合物（例えば、アクリル酸エステル系化合
物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物
等）を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方
を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物
や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、
現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく
ない場合がある。また、記録層中の他の成分（例えば、
バインダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、
分散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使用法
は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、
２種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させ得る
ことがある。また、支持体、オーバーコート層等の密着
性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあ
り得る。ネガ型記録層中のラジカル重合性化合物の配合
比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎ
る場合には、好ましく無い相分離が生じたり、ネガ型記
録層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、記録層
成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液から
の析出が生じる等の問題を生じることがある。これらの
観点から、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、
多くの場合、組成物全成分に対して５〜８０重量％、好
ましくは２０〜７５重量％である。また、これらは単独
で用いても２種以上併用してもよい。そのほか、ラジカ
ル重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大
小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観
点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更
に、場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗
布方法も実施することができる。 【０１０９】［（Ｄ）バインダーポリマー］本発明にお
いては、更に、バインダーポリマーを使用する。バイン
ダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好まし
い。このような「線状有機ポリマー」としては、どのよ
うなものを使用しても構わない。好ましくは、水現像或
いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水或いは弱
アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが
選択される。線状有機ポリマーは、記録層を形成するた
めの皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或
いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用され
る。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が
可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側
鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば、特
開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、
特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７
号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３
６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セ
ルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体
に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。 【０１１０】特にこれらの中で、ベンジル基又はアリル
基と、カルボキシル基を側鎖に有する（メタ）アクリル
樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。 【０１１１】また、特公平７−１２００４号、特公平７
−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平
８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開
昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、
特願平１０−１１６２３２号等に記載される酸基を含有
するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に
優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。 【０１１２】更に、この他に水溶性線状有機ポリマーと
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。 【０１１３】本発明で使用されるポリマーの重量平均分
子量については好ましくは５０００以上であり、更に好
ましくは１万〜３０万の範囲であり、数平均分子量につ
いては好ましくは１０００以上であり、更に好ましくは
２０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平均分
子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好まし
くは１．１〜１０の範囲である。これらのポリマーは、
ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマ
ー等いずれでもよいが、ランダムポリマーであることが
好ましい。 【０１１４】本発明で使用されるポリマーは従来公知の
方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロ
リド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、２−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノー
ル、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶
媒は単独で又は２種以上混合して用いられる。なお、本
発明で使用されるポリマーを合成する際に用いられるラ
ジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開
始剤等公知の化合物が使用できる。 【０１１５】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、記録層塗布液の全固形分に対し２０〜９５重量％、
好ましくは３０〜９０重量％の割合で記録層中に添加さ
れる。添加量が２０重量％未満の場合は、画像形成した
際、画像部の強度が不足する。一方、添加量が９５重量
％を越える場合は、画像形成されない。また、ラジカル
重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と
線状有機ポリマーとは、重量比で１／９〜７／３の範囲
とするのが好ましい。 【０１１６】次に、酸架橋層の構成成分について説明す
る。ここで用いられる赤外線吸収剤は、前記光重合層に
おいて説明した（Ａ）赤外線吸収剤と同様のものを用い
ることができる。酸架橋層（記録層）に、赤外線吸収剤
として上記特定色素のみを含有させるならば、上記特定
色素の含有量としては、記録層の全固形分重量に対し、
０．０１〜５０重量％が好ましく、０．１〜１０重量％
がより好ましく、０．５〜１０重量％が最も好ましい。
前記含有量が、０．０１重量％未満であると、感度が低
くなると共に、光熱変換能が現われにくい場合があり、
５０重量％を超えると、平版印刷用原版とした場合の非
画像部に汚れが発生することがある。 【０１１７】また、本発明において、赤外線吸収剤とし
て、上記特定色素とそれ以外の汎用の赤外線吸収剤とを
併用する場合には、全赤外線吸収剤の含有量としては、
記録層の全固形分重量に対し、０．０１〜５０重量％が
好ましく、０．１〜１０重量％がより好ましく、０．５
〜１０重量％が最も好ましい。この場合も、前記含有量
が、０．０１重量％未満であると、感度が低くなると共
に、光熱変換能が現われにくい場合があり、５０重量％
を超えると、平版印刷用原版とした場合の非画像部に汚
れが発生することがある。また、併用する汎用の赤外線
吸収剤の含有量は赤外線吸収剤全固形分中、５０重量％
以下であることが好ましい。 【０１１８】［（Ｅ）酸発生剤］本実施の形態におい
て、熱により分解して酸を発生する酸発生剤は、２００
〜５００ｎｍの波長領域の光を照射する又は１００℃以
上に加熱することにより、酸を発生する化合物をいう。
前記酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光
ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色
剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知
の酸発生剤等、熱分解して酸を発生しうる、公知の化合
物及びそれらの混合物等が挙げられる。酸発生剤として
は、例えば、オニウム塩化合物、有機ハロゲン化化合
物、ジスルホン酸化合物が挙げられる。これらの具体例
は、前記（Ｂ）ラジカルを発生する化合物の記載と同様
のものが挙げられる。酸発生剤の他の例としては、特開
平２−１６１４４５号公報に記載の有機金属／有機ハロ
ゲン化物、欧州特許第０２９０，７５０号、同０４６，
０８３号、同１５６，５３５号、同２７１，８５１号、
同０，３８８，３４３号、米国特許第３，９０１，７１
０号、同４，１８１，５３１号の各明細書、特開昭６０
−１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号に記載
のｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、欧
州特許第０１９９，６７２号、同８４５１５号、同１９
９，６７２号、同０４４，１１５号、同０１０１，１２
２号、米国特許第４，６１８，５６４号、同４，３７
１，６０５号、同４，４３１，７７４号の各明細書、特
開昭６４−１８１４３号、特開平２−２４５７５６号、
特願平３−１４０１０９号に記載のイミノスルフォネー
ト等に代表される、光分解してスルホン酸を発生する化
合物、特開昭６１−１６６５４４号に記載のジスルホン
化合物、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・シス
テムズ」Ｐ３３９〜３５２（Ｊｏｈｎ．Ｗｉｌｅｙ ＆
Ｓｏｎｓ．Ｉｎｃ刊）、特公昭４３−２８４０３号、
米国特許第３，０４６，１２０号、同３，１８８，２１
０号、特開昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０
２号、特開昭４８−６３８０３号、特開昭４８−９６５
７５号、特開昭４９−３８７０１号、特開昭４８−１３
３５４号、特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９
６１０号、特公昭４９−１７４８１号、米国特許第２，
７９７，２１３号、同３，４５４，４００号、同３，５
４４，３２３号、同３，５７３，９１７号、同３，６７
４，４９５号、同３，７８５，８２５号、英国特許第
１，２２７，６０２同号、同１，２５１，３４５号、同
１，２６７，００５号、同１，３２９，８８８号、同
１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４，８９０
号、の各文献（明細書）に記載されているｏ−キノンジ
アジド化合物等が挙げられる。 【０１１９】また、酸を発生する基又は化合物を、ポリ
マーの主鎖若しくは側鎖に導入した化合物も好適に挙げ
ることができ、例えば、米国特許第３，８４９，１３７
号、独国特許第３，９１４，４０７号の各明細書、特開
昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、
特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３７
号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３
８５３号、特開昭６３−１４６０２９号に記載の化合物
が挙げられる。更に、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙ
ｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａ
ｄ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂ
ａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ，Ｓｏｃ，．
（Ｂ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，
７７８号、欧州特許第１２６，７１２号の各明細書等に
記載の、光により酸を発生する化合物も使用可能であ
る。 【０１２０】上述の酸発生剤のうち、下記一般式（Ｉ）
〜（Ｖ）で表される化合物が好ましい。 【０１２１】 【化１３】【０１２２】前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）中、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ4及びＲ5は、同一でも異なっていてもよく、置換基を
有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。
中でも、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ5は、炭素数１〜１４の炭
化水素基が好ましい。Ｒ3は、ハロゲン原子、置換基を
有していてもよい炭素数１０以下の炭化水素基又は炭素
数１０以下のアルコキシ基を表す。Ａｒ1、Ａｒ2は、同
一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい
炭素数２０以下のアリール基を表す。Ｒ6は、置換基を
有していてもよい炭素数２０以下の２価の炭化水素基を
表す。ｎは、０〜４の整数を表す。 【０１２３】前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される酸発
生剤の好ましい態様は、本発明者らが先に提案した特願
平１１−３２０９９７号明細書段落番号［０１９７］〜
［０２２２］に詳細に記載されている。これらの化合物
は、例えば、特開平２−１０００５４号、特開平２−１
０００５５号に記載の方法により合成することができ
る。 【０１２４】また、（Ｅ）酸発生剤として、ハロゲン化
物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げる
ことができ、中でも、ヨードニウム塩、スルホニウム
塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造式を有するものを
好適に挙げることができる。具体的には、前記の（Ｂ）
ラジカルを発生する化合物で示した一般式（ＩＩＩ）〜
（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。このようなオ
ニウム塩は、特開平１０−３９５０９号公報段落番号
［００１０］〜［００３５］に一般式（Ｉ）〜（ＩＩ
Ｉ）の化合物として記載されている。 【０１２５】これらの酸発生剤は単独で使用してもよい
し、２種以上を組合わせて使用してもよい。酸発生剤の
添加量としては、記録層の全固形分重量に対し０．０１
〜５０重量％が好ましく、０．１〜２５重量％がより好
ましく、０．５〜２０重量％が最も好ましい。前記添加
量が、０．０１重量％未満であると、画像が得られない
ことがあり、５０重量％を超えると、平版印刷用原版と
した時の印刷時において非画像部に汚れが発生すること
がある。 【０１２６】［（Ｆ）架橋剤］次に、架橋剤について説
明する。架橋剤としては、以下のものが挙げられる。 （ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基
で置換された芳香族化合物 （ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチ
ル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 （ｉｉｉ）エポキシ化合物 【０１２７】以下、前記（ｉ）〜（ｉｉｉ）の化合物に
ついて詳述する。前記（ｉ）ヒドロキシメチル基若しく
はアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物として
は、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基
若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香
族化合物又は複素環化合物が挙げられる。但し、レゾー
ル樹脂として知られるフェノール類とアルデヒド類とを
塩基性条件下で縮重合させた樹脂状の化合物も含まれ
る。ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基でポリ
置換された芳香族化合物又は複素環化合物のうち、中で
も、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基
又はアルコキシメチル基を有する化合物が好ましい。ま
た、アルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物
又は複素環化合物では、中でも、アルコキシメチル基が
炭素数１８以下の化合物が好ましく、下記一般式（１）
〜（４）で表される化合物がより好ましい。 【０１２８】 【化１４】【０１２９】 【化１５】 【０１３０】前記一般式（１）〜（４）中、Ｌ1〜Ｌ
8は、それぞれ独立に、メトキシメチル、エトキシメチ
ル等の、炭素数１８以下のアルコキシ基で置換されたヒ
ドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。これ
らの架橋剤は、架橋効率が高く、耐刷性を向上できる点
で好ましい。 【０１３１】前記（ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ
−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル
基を有する化合物としては、欧州特許公開（以下、「Ｅ
Ｐ−Ａ」と示す。）第０，１３３，２１６号、***特許
第３，６３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に
記載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアル
デヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、Ｅ
Ｐ−Ａ第０，２１２，４８２号明細書に記載のアルコキ
シ置換化合物等が挙げられる。中でも、例えば、少なく
とも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキ
シメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する
メラミン−ホルムアルデヒド誘導体が好ましく、Ｎ−ア
ルコキシメチル誘導体が最も好ましい。 【０１３２】前記（ｉｉｉ）エポキシ化合物としては、
１以上のエポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オ
リゴマー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例
えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応
生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂と
エピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。そ
の他、米国特許第４，０２６，７０５号、英国特許第
１，５３９，１９２号の各明細書に記載され、使用され
ているエポキシ樹脂を挙げることができる。 【０１３３】架橋剤として、前記（ｉ）〜（ｉｉｉ）の
化合物を用いる場合の添加量としては、記録層の全固形
分重量に対し５〜８０重量％が好ましく、１０〜７５重
量％がより好ましく、２０〜７０重量％が最も好まし
い。前記添加量が、５重量％未満であると、得られる画
像記録材料の記録層の耐久性が低下することがあり、８
０重量％を超えると、保存時の安定性が低下することが
ある。 【０１３４】本発明においては、架橋剤として、（ｉ
ｖ）下記一般式（５）で表されるフェノール誘導体も好
適に使用することができる。 【０１３５】 【化１６】 【０１３６】前記一般式（５）中、Ａｒ1は、置換基を
有していてもよい芳香族炭化水素環を表す。原料の入手
性の点で、前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン
環、ナフタレン環又はアントラセン環が好ましい。ま
た、その置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１２以
下の炭化水素基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素
数１２以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、ト
リフルオロメチル基等が好ましい。上記のうち、高感度
化が可能である点で、Ａｒ1としては、置換基を有して
いないベンゼン環、ナフタレン環、ハロゲン原子、炭素
数６以下の炭化水素基、炭素数６以下のアルコキシ基、
炭素数６以下のアルキルチオ基、又はニトロ基等を置換
基として有するベンゼン環又はナフタレン環がより好ま
しい。 【０１３７】［（Ｇ）アルカリ水可溶性高分子化合物］
本発明に係る架橋層に使用可能なアルカリ水可溶性高分
子化合物としては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシ
アリール基を有するポリマー等が挙げられる。前記ノボ
ラック樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類を酸
性条件下で縮合させた樹脂が挙げられる。 【０１３８】中でも、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−クレゾールと
ホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｐ−ク
レゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノ
ボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒド
から得られるノボラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾー
ルとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フ
ェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，ｏ−又はｍ−／ｐ
−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）の
混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂
や、フェノールとパラホルムアルデヒドとを原料とし、
触媒を使用せず密閉状態で高圧下、反応させて得られる
オルソ結合率の高い高分子量ノボラック樹脂等が好まし
い。前記ノボラック樹脂は、重量平均分子量が８００〜
３００，０００で、数平均分子量が４００〜６０，００
０のものの中から、目的に応じて好適なものを選択して
用いればよい。 【０１３９】また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を
有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシ
アリール基としては、ＯＨ基が１以上結合したアリール
基が挙げられる。前記アリール基としては、例えば、フ
ェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナント
レニル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性
の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。本
発明において使用可能な、側鎖にヒドロキシアリール基
を有するポリマーとしては、例えば、下記一般式（Ｉ
Ｘ）〜（ＸＩＩ）で表される構成単位のうちのいずれか
１種を含むポリマーを挙げることができる。但し、本発
明においては、これらに限定されるものではない。 【０１４０】 【化１７】【０１４１】一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）中、Ｒ11は、
水素原子又はメチル基を表す。Ｒ12及びＲ13は、同じで
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素
数１０以下の炭化水素基、炭素数１０以下のアルコキシ
基又は炭素数１０以下のアリールオキシ基を表す。ま
た、Ｒ12とＲ13が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘ
キサン環を形成していてもよい。Ｒ14は、単結合又は炭
素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ15は、単結
合又は炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ16
は、単結合又は炭素数１０以下の２価の炭化水素基を表
す。Ｘ1は、単結合、エーテル結合、チオエーテル結
合、エステル結合又はアミド結合を表す。ｐは、１〜４
の整数を表す。ｑ及びｒは、それぞれ独立に０〜３の整
数を表す。 【０１４２】これらのアルカリ可溶性高分子としては、
本発明者らが先に提案した特願平１１−３２０９９７号
明細書段落番号［０１３０］〜［０１６３］に詳細に記
載されている。本実施の形態に使用可能なアルカリ水可
溶性高分子化合物は、１種類のみで使用してもよいし、
２種類以上を組合わせて使用してもよい。 【０１４３】アルカリ水可溶性高分子化合物の添加量と
しては、記録層の全固形分に対し５〜９５重量％が好ま
しく、１０〜９５重量％がより好ましく、２０〜９０重
量％が最も好ましい。アルカリ水可溶性樹脂の添加量
が、５重量％未満であると、記録層の耐久性が劣化する
ことがあり、９５重量％を超えると、画像形が成されな
いことがある。 【０１４４】また、本発明に適用可能な公知の記録材料
としては、特開平８−２７６５５８号公報に記載のフェ
ノール誘導体を含有するネガ型画像記録材料、特開平７
−３０６５２８号公報に記載のジアゾニウム化合物を含
有するネガ型記録材料、特開平１０−２０３０３７号公
報に記載されている環内に不飽和結合を有する複素環基
を有するポリマーを用いた、酸触媒による架橋反応を利
用したネガ型画像形成材料などが挙げられ、これらに記
載の記録層を本発明に係るネガ型記録層としての酸架橋
層に適用することができる。 【０１４５】［その他の成分］本発明では、更に、必要
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。また、フタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンな
どの顔料も好適に用いることができる。これらの着色剤
は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすい
ので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、記録層
塗布液全固形分に対し、０．０１〜１０重量％の割合で
ある。 【０１４６】また、本発明においては、記録層は光重合
層である場合、塗布液の調製中或いは保存中においてラ
ジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化
合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止
剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤とし
てはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチル
カテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−
メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミ
ニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全
組成物の重量に対して約０．０１重量％〜約５重量％が
好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防
止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂
肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で記録層
の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量
は、全組成物の約０．１重量％〜約１０重量％が好まし
い。 【０１４７】また、本発明における記録層塗布液中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭６２−２５１７４０号や特開平３−２０８５１４号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９
−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。 【０１４８】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。 【０１４９】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、
商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。 【０１５０】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の記録層塗布液中に占める割合は、０．０５〜１５重
量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％であ
る。 【０１５１】更に、本発明に係る記録層塗布液中には、
必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が
加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン
酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリ
クレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オ
レイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。 【０１５２】［平版印刷版原版の製造］本発明の平版印
刷版原版を製造するには、通常、記録層塗布液に必要な
上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布す
ればよい。ここで使用する溶媒としては、エチレンジク
ロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メ
タノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノ
ール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−
２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げること
ができるがこれに限定されるものではない。これらの溶
媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分
（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５
０重量％である。 【０１５３】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の記
録層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、平版
印刷版原版についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ／
ｍ2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を
用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけ
の感度は大になるが、画像記録の機能を果たす記録層の
皮膜特性は低下する。 【０１５４】［支持体］本発明の平版印刷版原版におい
て前記記録層を塗布可能な支持体としては、寸度的に安
定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック（例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）
がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウ
ム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二
酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セ
ルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラミ
ネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィルム
等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステ
ルフィルム又はアルミニウム板が挙げられる。 【０１５５】本発明の平版印刷版原版に使用する支持体
としては、軽量で表面処理性、加工性、耐食性に優れた
アルミニウム板を使用することが好ましい。この目的に
供されるアルミニウム材質としては、ＪＩＳ １０５０
材、ＪＩＳ １１００材、ＪＩＳ １０７０材、Ａｌ−
Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｍｎ系合金、Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合
金、Ａｌ−Ｚｒ系合金。Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金などが
挙げられる。 【０１５６】アルミニウム板は表面に粗面化処理等の表
面処理を行い、記録層を塗布して平版印刷版原版とする
ことができる。粗面化処理には、機械的粗面化、化学的
粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組み合わせて行わ
れる。また、表面のキズ付き難さを確保するための陽極
酸化処理を行ったり、親水性を増すための処理を行うこ
とも好ましい。 【０１５７】以下に支持体の表面処理について説明す
る。アルミニウム板を粗面化するに先立ち、必要に応
じ、表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性
剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理
が行われてもよい。アルカリの場合、次いで酸性溶液で
中和、スマット除去などの処理を行ってもよい。 【０１５８】次いで支持体と記録層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト等の機械的砂目立て方法があり、またアルカリ
又は酸或いはそれらの混合物からなるエッチング剤で表
面を粗面化処理する化学的砂目立て方法がある。また、
電気化学的砂目立て方法、支持体材料に、粒状体を接着
剤又はその効果を有する方法で接着させて表面を粗面化
する方法や、微細な凹凸を有する連続帯やロールを支持
体材料に圧着させて凹凸を転写する粗面化方法等公知の
方法を適用できる。 【０１５９】これらのような粗面化方法は複数を組み合
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。前述のような粗面化処理すな
わち砂目立て処理して得られた支持体の表面には、スマ
ットが生成しているので、このスマットを除去するため
に適宜水洗或いはアルカリエッチング等の処理を行うこ
とが一般的に好ましい。 【０１６０】本発明に用いられるアルミニウム支持体の
場合には、前述のような前処理を施した後、通常、耐摩
耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化
によって支持体に酸化皮膜を形成させる。 【０１６１】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸或いはこれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が１〜８０％溶液、液温は５〜７０℃、電流密
度５〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１
０秒〜５分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜の
量は１．０ｇ／ｍ2以上が好適であるが、より好ましく
は２．０〜６．０ｇ／ｍ2の範囲である。陽極酸化皮膜
が１．０ｇ／ｍ2未満であると耐刷性が不十分であった
り、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷
時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。 【０１６２】このようなアルミニウム支持体は、陽極酸
化処理後に、有機酸又はその塩による処理、又は記録層
塗布の下塗りを適用して用いることができる。 【０１６３】なお、支持体と記録層との密着性を高める
ための中間層を設けてもよい。密着性の向上のために
は、一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えば、アルミニ
ウムに吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層
の厚さは任意であり、露光した時に、上層の記録層と均
一な結合形成反応を行い得る厚みでなければならない。
通常、乾燥固体で約１〜１００ｍｇ／ｍ2の塗布割合が
よく、５〜４０ｍｇ／ｍ2が特に良好である。中間層中
におけるジアゾ樹脂の使用割合は、３０〜１００％、好
ましくは６０〜１００％である。 【０１６４】支持体表面に以上のような処理或いは、下
塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じ
てバックコートが設けられる。かかるバックコートとし
ては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合
物及び特開平６−３５１７４号記載の有機又は無機金属
化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物
からなる被覆層が好ましく用いられる。 【０１６５】平版印刷版原版の支持体として好ましい特
性としては、中心線平均粗さで０．１０〜１．２μｍで
ある。この範囲において、記録層との密着性及び印刷時
の汚れ性が良好となるためである。更には、支持体の表
面形状を微細に制御する、例えば、特願２０００−３９
５００７号に記載の特性を有することが好ましい。詳細
には、支持体表面に、大中小の３重凹凸構造を有し、大
凹凸構造の波長が３〜１０μｍであり、中凹凸構造が前
記大凹凸構造のピットであり、小凹凸構造が前記大凹凸
構造のピットの前記微細凹凸構造を有するものが好まし
い。また、特願２００１−３０９３０４号に記載のよう
に、支持体表面が、平均開口径０．５〜５μｍの中波構
造と平均開口径０．０１〜０．２μｍの小波構造とを重
畳した構造の砂目形状を有するものが好ましい。これら
の支持体を用いることにより、記録層との密着性が向上
し、記録層の強度保持と、印刷時の耐汚れ性が優れたも
のとなる。また、支持体の色濃度が、反射濃度値として
０．１５〜０．６５の範囲であることが好ましい。この
範囲において、画像露光時のハレーションによる画像形
成への障害がなく、かつ、現像後の検版作業を問題なく
行うことができるためである。 【０１６６】以上のようにして、本発明の平版印刷版原
版を作成することができる。この平版印刷版原版は、赤
外線レーザで記録できる。また、紫外線ランプやサーマ
ルヘッドによる熱的な記録も可能である。本発明におい
ては、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放射
する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光される
ことが好ましい。レーザの出力は１００ｍＷ以上が好ま
しく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデ
バイスを用いることが好ましい。また、１画素あたりの
露光時間は２０μ秒以内であることが好ましい。記録材
料に照射されるエネルギーは１０〜３００ｍＪ／ｃｍ2
であることが好ましい。 【０１６７】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
平版印刷版原版は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶
液にて現像される。現像液として、アルカリ性水溶液を
用いる場合、本発明の平版印刷版原版の現像液及び補充
液としては、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。
例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同ア
ンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカ
リ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチル
アミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、
ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノー
ルアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も
用いられる。これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を
組み合わせて用いられる。 【０１６８】更に、自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液と同じもの又は、現像液よりもアルカリ強度
の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによっ
て、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、
多量の平版印刷版原版を処理できることが知られてい
る。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用され
る。 【０１６９】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。更に、現像液及び補充液には必要に応じて、ハイ
ドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水素酸のナ
トリウム塩及びカリウム塩等の無機塩系還元剤、更に
は、有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えること
もできる。 【０１７０】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。 【０１７１】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。 【０１７２】以上のようにして得られた平版印刷版は、
所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供
することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版
としたい場合にはバーニング処理が施される。このよう
な所定の工程を経て得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。 【０１７３】 【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例１） ［支持体の作成］９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆ
ｅ０．３０％、Ｓｉ０．１０％、Ｔｉ０．０２％、Ｃｕ
０．０１３％を含むＪＩＳ Ａ１０５０合金の溶湯に清
浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の
水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、
セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法
はＤＣ鋳造法で行った。凝固した板厚５００ｍｍの鋳塊
を表面から１０ｍｍ面削し、金属間化合物が粗大化して
しまわないように５５０℃で１０時間均質化処理を行っ
た。次いで、４００℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で５
００℃６０秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板厚
０．３０ｍｍのアルミニウム圧延板とした。圧延ロール
の粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線表面
粗さ（Ｒａ）を０．２μｍに制御した。その後、平面性
を向上させるためにテンションレベラーにかけた。 【０１７４】次に、平版印刷版原版用の支持体とするた
めの表面処理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧
延油を除去するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５
０℃３０秒間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０
℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。次いで、
支持体と記録層の密着性を良好にし、かつ非画像部に保
水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆ
る、砂目立て処理を行った。１％の硝酸と０．５％の硝
酸アルミを含有する水溶液を４５℃に保ち、アルミウェ
ブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密
度２０Ａ／ｄｍ2、デューティー比１：１の交番波形で
アノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ2を与えることで電解
砂目立てを行った。その後１０％アルミン酸ソーダ水溶
液で５０℃３０秒間エッチング処理を行い、３０％硫酸
水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行っ
た。 【０１７５】更に、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより１４Ａ／ｄｍ2の直流で電解処理を行うこと
で２．５ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を作成した。この後、
印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケ
ート処理を行った。処理は３号珪酸ソーダ１．５％水溶
液を７０℃に保ちアルミウェブの接触時間が１５秒とな
るよう通搬し、更に水洗した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ
／ｍ2であった。以上により作成した支持体の中心線表
面粗さ（Ｒａ）は０．２５μｍであった。 【０１７６】［下塗り］次に、このアルミニウム支持体
に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥
装置を用いて９０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被服
量は１０ｍｇ／ｍ2であった。 ＜下塗り液＞ ・エチルメタクリレートと２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスル ホン酸ナトリウム塩のモル比７５：１５の共重合体 ・・・０．１ｇ ・２−アミノエチルホスホン酸 ・・・０．１ｇ ・メタノール ・・・５０ｇ ・イオン交換水 ・・・５０ｇ 【０１７７】［記録層の形成］次に、下記溶液［Ｐ−
１］を調整し、上記の下塗り済みのアルミニウム支持体
にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１
１５℃で４５秒間乾燥してネガ型平版印刷版原版［Ｐ−
１］を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ2
の範囲内であった。 【０１７８】 ＜溶液［Ｐ−１］＞ ・赤外線吸収剤［特定色素：例示化合物（Ａ−２）］ ・・・０．０８ｇ ・重合開始剤［Ｏ−１（下記構造）］ ・・・０．３０ｇ ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・１．００ｇ ・アリルメタクリレートとメタクリル酸のモル比８０：２０の共重合体 （重量平均分子量１２万） ・・・１．００ｇ ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 ・・・０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ・・・０．０１ｇ （メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ・・・９．０ｇ ・メタノール ・・・１０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・８．０ｇ 【０１７９】 【化１８】 【０１８０】［露光］得られたネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−１］を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載
したＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦ
Ｓにて、出力１３．５Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐ
ｍ、版面エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ2、解像度２４０
０ｄｐｉの条件で露光した。 【０１８１】［現像処理］露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００Ｎを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイ
ルム（株）製ＤＮ−３Ｃの１：１水希釈液を用いた。現
像浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、
富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を
用いた。 【０１８２】［印刷］次に、平版印刷版［Ｐ−１］を、
小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて
印刷した。 【０１８３】［評価］ １．感度評価 上記露光工程において、出力を２〜２０Ｗまで約４０％
毎に変化させて、感度を求めた。ここで、感度とは、露
光部が現像により濃度低下を起こし始める最小エネルギ
ー量と定義し、そのエネルギー量（Ｅ）は以下の式で表
される。Ｅ＝Ｗ×２３５０／ｒｐｍ（Ｗ：出力、ｒｐ
ｍ：回転数）結果は表１に示す。 【０１８４】２．耐刷性評価 上記印刷工程において、どれだけの枚数が十分なインキ
濃度を保って印刷できるかを目視にて評価した。結果は
表１に示す。 【０１８５】３．経時安定性評価 未露光のネガ型平版印刷版原版［Ｐ−１］を、室温環境
下で３ヶ月間放置した。放置後のネガ型平版印刷版原版
を上記と同様にして、１．感度評価、及び、２．耐刷性
評価を行った。結果は表１に併記する。 【０１８６】 【表１３】 【０１８７】（比較例１）実施例１において、溶液［Ｐ
−１］中の赤外線吸収剤を、特定色素：例示化合物（Ａ
−２）から下記に示す構造を有する色素に変更した他は
同様にして、比較例１のネガ型平版印刷版原版［ＰＲ−
１］を作製した。その後、実施例１と同様にして露光、
現像及び印刷を行い、耐刷性を評価した。結果は表１に
併記する。 【０１８８】 【化１９】 【０１８９】（実施例２） ［支持体の作成］厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板
（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストン−
水懸濁液を用い、その表面を砂目立てし、よく水で洗浄
した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液
に９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更に、２％
ＨＮＯ3に２０秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立
て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ2であった。次に、
この板を７％Ｈ2ＳＯ4を電解液として電流密度１５Ａ／
ｄｍ2で３ｇ／ｍ2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗
乾燥した。 【０１９０】［下塗り］次に、このアルミニウム支持体
に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥
装置を用いて８０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被覆
量は１０ｍｇ／ｍ2であった。 ＜下塗り液＞ ・β−アラニン ・・・０．１ｇ ・フェニルホスホン酸 ・・・０．０５ｇ ・メタノール ・・・４０ｇ ・純水 ・・・６０ｇ 【０１９１】［記録層の形成］次に、下記溶液［Ｐ−
２］を調整し、上記の下塗り済みのアルミニウム支持体
にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１
００℃で１分間乾燥してネガ型平版印刷版原版［Ｐ−
２］を得た。乾燥後の被覆量は１．５ｇ／ｍ2であっ
た。 【０１９２】 ＜溶液［Ｐ−２］＞ ・ノニルフェノール（異性体混合物、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）・・・０．０５ｇ ・酸発生剤［ＳＨ−１（下記構造）］ ・・・０．３ｇ ・架橋剤［ＫＺ−１（下記構造）］ ・・・０．５ｇ ・バインダーポリマー：ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン） ・・・１．５ｇ （マルカ リンカーＭ Ｓ−４Ｐ、丸善石油化学社製） ・赤外線吸収剤［特定色素：例示化合物（Ｂ−７）］ ・・・０．０７ｇ ・ＡＩＺＥＮ ＳＰＩＬＯＮ ＢＬＵＥ Ｃ−ＲＨ ・・・０．０３５ｇ （保土ヶ谷化学（株）製） ・フッ素系界面活性剤 ・・・０．０１ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ・・・１２ｇ ・メチルアルコール ・・・１０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・８ｇ 【０１９３】溶液［Ｐ−２］に用いた酸発生剤［ＳＨ−
１］の構造を以下に示す。 【化２０】 【０１９４】溶液［Ｐ−２］に用いた架橋剤［ＫＺ−
１］の合成法及び構造を以下に示す。 ＜架橋剤［ＫＺ−１］の合成＞１−［α−メチル−α−
（４−ヒドロキシフェニル）エチル］―４―［α、α−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼンを、
水酸化カリウム水溶液中で、ホルマリンと反応させた。
反応溶液を硫酸で酸性とし晶析させ、更に、メタノール
から再結晶することにより、下記構造の架橋剤［ＫＺ−
１］を得た。逆相ＨＰＬＣにより純度を測定したとこ
ろ、９２％であった。 【０１９５】 【化２１】 【０１９６】［露光］得られたネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−２］を、実施例１と同様の条件で露光した。 【０１９７】［現像処理］露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処
理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フ
イルム（株）製ＤＰ−４の１：８水希釈液を用いた。現
像浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、
富士写真フイルム（株）製ＦＰ−２Ｗの１：１水希釈液
を用いた。 【０１９８】［印刷］次に、露光、現像により得られた
平版印刷版［Ｐ−２］を、実施例１と同様にして印刷し
た。 【０１９９】［評価］実施例１と同様にして、１．感度
評価、２．耐刷性評価、及び、３．経時安定性評価を行
った。結果は表１に併記する。 【０２００】（比較例２）実施例２において、溶液［Ｐ
−２］中の赤外線吸収剤を、特定色素：例示化合物（Ｂ
−７）から下記に示す構造を有する色素に変更した他は
同様にして、比較例２のネガ型平版印刷版原版［ＰＲ−
２］を作製した。その後、実施例２と同様にして露光、
現像及び印刷を行い、耐刷性を評価した。結果は表１に
併記する。 【０２０１】 【化２２】 【０２０２】表１３に明らかなように、本発明の平版印
刷版原版（実施例１及び２の平版印刷版原版Ｐ−１及び
Ｐ−２）は、製版において良好な感度を示し、地汚れの
ない鮮明な印刷画質の印刷物が５万枚以上得られた。更
に、それら平版印刷版原版は、製版直後と、経時後と、
に耐刷性の変化は見られず、経時安定性が高いことがわ
かった。一方、比較例の平版印刷版原版ＰＲ−１及びＰ
Ｒ−２は、製版における感度及び耐刷性が低く、更に、
製版直後と、経時後と、では耐刷性が大きく低下し、著
しく性能が劣化していることが判明した。 【０２０３】（実施例３〜１６）実施例１において、溶
液［Ｐ−１］中の赤外線吸収剤を、特定色素：例示化合
物（Ａ−２）から下記表１４に示す例示化合物にそれぞ
れ代えた他は、実施例１と同様にして、実施例３〜１６
のネガ型平版印刷版原版［Ｐ−３］〜［Ｐ−１６］を作
製した。その後、実施例１と同様にして露光、現像及び
印刷を行い、耐刷性を評価した。 【０２０４】 【表１４】 【０２０５】実施例３〜１６の平版印刷版原版［Ｐ−
３］〜［Ｐ−１６］は、それぞれ、実施例１の平版印刷
版原版［Ｐ−１］と同等の性能を示し、感度、耐刷性、
経時安定性のいずれも良好であった。 【０２０６】（実施例１７〜２５）実施例１において、
溶液［Ｐ−１］中の赤外線吸収剤及び重合開始剤が、特
定色素：例示化合物Ａ−２；０．０８ｇ、重合開始剤
［Ｏ−１］；０．３０ｇであったものを、下記表１５に
示す例示化合物；０．０９ｇ及び重合開始剤；０．３０
ｇにそれぞれ代えた他は、実施例１と同様にして、実施
例１７〜２５のネガ型平版印刷版原版［Ｐ−１７］〜
［Ｐ−２５］を作製した。その後、実施例１と同様にし
て露光、現像及び印刷を行い、耐刷性を評価した。 【０２０７】 【表１５】 【０２０８】実施例１７〜２５のネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−１７］〜［Ｐ−２５］は、それぞれ、実施例１の
平版印刷版原版［Ｐ−１］と同等の性能を示し、感度、
耐刷性、経時安定性のいずれも良好であった。 【０２０９】（実施例２６〜４１） ［記録層の形成］下記溶液［Ｐ−３］を調整し、上記実
施例２において用いられたものと同じ下塗り済みのアル
ミニウム支持体に、ワイヤーバーを用いて塗布し、温風
式乾燥装置にて１００℃で１分間乾燥してネガ型平版印
刷版原版［Ｐ−２６］〜［Ｐ−４１］を得た。乾燥後の
被覆量は１．６ｇ／ｍ2であった。 【０２１０】 ＜溶液［Ｐ−３］＞ ・赤外線吸収剤［特定色素：下記表１６に表示の例示化合物］・・０．１０ｇ ・酸発生剤［ＳＨ−２（下記構造）］ ・・・０．１５ｇ ・架橋剤［ＫＺ−２（下記構造）］ ・・・０．５０ｇ ・クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 （メタ：パラ＝８：２、重量平均分子量５８００） ・・・１．１ｇ ・ビスフェノールＡとホルムアルデヒドから得られるレゾール樹脂 （重量平均分子量１６００） ・・・１．０ｇ ・フッ素系界面活性剤 ・・・０．０６ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ・・・２０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・７ｇ 【０２１１】 【表１６】 【０２１２】溶液［Ｐ−３］に用いた酸発生剤［ＳＨ−
２］の構造を以下に示す。 【化２３】 【０２１３】溶液［Ｐ−３］に用いた架橋剤［ＫＺ−
２］の構造を以下に示す。 【化２４】 【０２１４】［露光、現像処理、及び印刷］得られたネ
ガ型平版印刷版原版［Ｐ−２６］〜［Ｐ−４１］を、実
施例２と同様の方法で、露光、現像処理、及び印刷し
た。 【０２１５】［評価］実施例２と同様にして、１．感度
評価、２．耐刷性評価、及び、３．経時安定性評価を行
った。 【０２１６】実施例２６〜４１のネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−２６］〜［Ｐ−４１］は、それぞれ、実施例２の
平版印刷版原版［Ｐ−２］と同等の性能を示し、感度、
耐刷性、経時安定性のいずれも良好であった。 【０２１７】（実施例４２〜４９）実施例１において、
溶液［Ｐ−１］中の赤外線吸収剤及び重合開始剤が、特
定色素：例示化合物Ａ−２；０．０８ｇ、重合開始剤
［Ｏ−１］；０．３０ｇであったものを、下記表１７に
示す例示化合物；０．４０ｇにそれぞれ代えた他は、実
施例１と同様にして、実施例４２〜４９のネガ型平版印
刷版原版［Ｐ−４２］〜［Ｐ−４９］を作製した。その
後、実施例１と同様にして露光、現像及び印刷を行い、
耐刷性を評価した。 【０２１８】 【表１７】 【０２１９】実施例４２〜４９のネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−４２］〜［Ｐ−４９］は、それぞれ、実施例１の
平版印刷版原版［Ｐ−１］と同等以上の性能を示し、感
度、耐刷性、経時安定性のいずれも良好であった。 【０２２０】 【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザ及び半導体レーザを用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接記録可能で
あると共に、感度及び画像部強度の優れた記録層を有
し、良好な印刷物が多数枚得られる耐刷性に優れた平版
印刷版を製版しうるネガ型平版印刷版原版を提供するこ
とができる。
デジタル信号に基づいて赤外線レーザを走査することに
より直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネ
ガ型平版印刷版原版に関する。 【０００２】 【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個
体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進
んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版する際の露光光源として、これらのレ
ーザーは非常に有用である。前述の赤外線領域に発光領
域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤
外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版は、熱により発生し
た酸を開始剤として、酸による架橋反応を生起させて露
光部の記録層を硬化させて画像部を形成するか、或い
は、熱により発生したラジカルを開始剤として重合反応
を生起させて露光部の記録層を硬化させて画像部を形成
する記録方式を利用している。 【０００３】このようなネガ型の画像形成材料は、赤外
線レーザ照射のエネルギーにより記録層の可溶化を起こ
させるポジ型に比較して画像形成性が低く、架橋或いは
重合などの硬化反応を促進させて強固な画像部を形成す
るため、現像工程後にバーニング処理或いはベーキング
処理と呼ばれる加熱処理を行うのが一般的である。特
に、上述の記録層を備える平版印刷版原版に、アルミニ
ウム支持体を用いる場合には、赤外線レーザ照射による
エネルギーが熱伝導性の高い支持体に拡散して、画像形
成のための架橋又は重合反応の開始、促進に利用され
ず、充分な感度及び画像部強度が得られないという問題
があった。また、記録層中には、通常、赤外線レーザの
照射光を熱に変換する赤外線吸収剤が含まれるが、かか
る赤外線吸収剤として用いられる色素の安定性が悪い
と、記録層中において、色素が分解し、その光熱変換能
が低下してしまい、架橋又は重合反応が充分に促進され
ず、感度及び画像部強度に対し大きな影響を及ぼす懸念
があった。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
考慮してなされたものであり、本発明の目的は、赤外線
を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用いて記録す
ることにより、コンピューター等のデジタルデータから
直接記録可能であると共に、感度及び画像部強度の優れ
た記録層を有し、良好な印刷物が多数枚得られる耐刷性
に優れた平版印刷版を製版しうるネガ型平版印刷版原版
を提供することにある。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明者は、赤外線レー
ザによる照射光を効率よく熱に変換するために用いられ
る赤外線吸収剤に着目し、鋭意検討の結果、経時安定性
を有する特定構造の色素を赤外線吸収剤として使用する
ことにより上記目的が達成できることを見出し、本発明
を完成するに至った。即ち、本発明の赤外線レーザ対応
平版印刷版原版は、支持体上に、少なくとも、下記一般
式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表される化合物と、熱に
よりラジカル或いは酸を発生する化合物と、重合性化合
物或いは架橋性化合物と、を含有するネガ型記録層を設
けてなることを特徴とする。 【０００６】 【化３】 【０００７】上記一般式（Ｉ）中、Ｑ1は、５員もしく
は６員の複素環又は５員もしくは６員の複素環を含む縮
合環を形成するのに必要な原子群を表す。Ｒoは、脂肪
族基を表す。Ｒo1は、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｚは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、又はテルル
原子を表す。Ｑ2は、ピリリウム構造を形成するのに必
要な原子群を表す。Ｙ1及びＹ2は、各々、同じでも異な
っていてもよく、水素原子、脂肪族基、芳香族基、シア
ノ基、ニトロ基、−ＯＲ、又は−ＳＲを表す。但し、Ｒ
は脂肪族基又は芳香族基を表す。Ｌは、ポリメチン基を
表す。ｐ及びｑは、０又は１を表す。Ａ-は、電荷の中
和が必要な場合に存在する対アニオンを表す。但し、ｎ
は１〜５の整数である。 【０００８】 【化４】 【０００９】上記一般式（ＩＩ）中、Ｑ1、Ｒo、Ｒo1、
Ｚ、Ｑ2、Ｙ1、Ｙ2、Ｌ、ｐ、及びｑは、前記一般式
（Ｉ）と同様である。Ｂ+は、電荷の中和が必要な場合
に存在するオニウムカチオンを表す。但し、ｍは１〜３
の整数である。 【００１０】前記一般式（Ｉ）で表される化合物におい
て、Ａ-による電荷の中和が必要でない場合には、Ａ-を
除く部分の分子内に存在するアニオンとピリリウムイオ
ンとで分子内塩が形成されている構造を有する。なお、
Ａ-を除く部分の分子内に存在するアニオンとしては、
ＳＯ3Ｈ、ＣＯＯＨ、ＰＯ3Ｈ2、ＰＯ2（ＯＲ）ＯＨ、Ｓ
Ｏ2Ｈから選ばれる少なくとも一種の酸性基が解離する
ことで発生するアニオンであることが好ましい。なお、
Ｒは、炭素数１〜１２の置換されてもよい脂肪族基を表
す。一方、前記一般式（Ｉ）で表される化合物におい
て、Ａ-による電荷の中和が必要である場合には、Ａ-と
ピリリウムイオンとで分子内塩が形成されている構造を
有する。 【００１１】前記一般式（ＩＩ）で表される化合物にお
いて、Ｂ+による電荷の中和が必要でない場合には、Ｂ+
を除く部分の分子内に存在するアニオンとピリリウムイ
オンとで分子内塩が形成され、更に、Ｂ+を除く部分の
分子内に存在するアニオンとカチオンとで分子内塩が形
成されている構造を有する。一方、前記一般式（ＩＩ）
で表される化合物において、Ｂ+による電荷の中和が必
要である場合には、Ｂ+を除く部分の分子内に存在する
アニオンとピリリウムイオンとで分子内塩が形成され、
更に、Ｂ+を除く部分の分子内に存在するアニオンとＢ+
とで分子内塩が形成されている構造を有する。なお、Ｂ
+を除く部分の分子内に存在するアニオンとしては、Ｓ
Ｏ3Ｈ、ＣＯＯＨ、ＰＯ3Ｈ2、ＰＯ2（ＯＲ）ＯＨ、ＳＯ
2Ｈから選ばれる少なくとも一種の酸性基が解離するこ
とで発生するアニオンであることが好ましい。なお、Ｒ
は、炭素数１〜１２の置換されてもよい脂肪族基を表
す。ここで、Ｂ+で表されるオニウムカチオンとして
は、ヨードニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホ
ニウムイオン、ジアゾニウムイオン、カルボニウムイオ
ン、トリハロゲンメチル基置換のオキザゾリウムイオン
又はＳ−トリアジニウムイオンが好ましい。 【００１２】本発明の作用は明確ではないが、一般式
（Ｉ）で表される化合物は、経時安定性がよいため記録
層中における安定性もよく、更に、赤外線レーザの照射
光をより効率よく熱に変換することが可能であるため、
記録層の感度が上昇すると共に、重合や架橋反応が促進
され、強固な画像部を形成することが可能であると推測
される。また、一般式（Ｉ）で表される化合物を記録層
中に含有させることで、記録層中で共存する成分との間
で、かかる化合物の構造に起因する何らかの相互作用が
形成され、耐アルカリ現像性が向上し、これが耐刷性の
向上に寄与していると考えられる。従って、このような
記録層を備えるネガ型の平版印刷版原版は良好な印刷物
が多数枚得られ、耐刷性に優れる。また、上述のよう
に、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｂ
+で表されるオニウムカチオンと、Ｂ+を除く部分の分子
内に存在するアニオンと、で分子内塩が形成されている
場合、Ｂ+で表されるオニウムカチオンが、熱又は光に
より酸或いはラジカルを発生する機能を有するため、感
度の上昇という効果をより向上させることできると考え
られる。より詳細には、Ｂ+で表されるオニウムカチオ
ンの有するラジカル発生機能により、赤外線レーザ露光
により光熱変換剤が発生した熱が分子内、即ち極めて近
傍に存在する前記官能基に作用して架橋反応や酸分解反
応の生起に必要な酸やラジカルの発生を効率よく行うこ
とができるため、このような化合物を含有するネガ型記
録層において、感度向上が可能になったと推測される。 【００１３】 【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の赤外線レーザ対応平版印刷版原版は、支持体上
に、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物
と、熱によりラジカル或いは酸を発生する化合物と、重
合性化合物或いは架橋性化合物と、を含有するネガ型記
録層を設けてなることを特徴とする。以下、本発明の平
版印刷版原版の各構成の詳細を説明する。 【００１４】＜ネガ型記録層＞ネガ型記録層は、その画
像部形成機構によって、光重合層と、酸架橋層と、に大
別される。光重合層には、（Ａ）赤外線吸収剤と（Ｂ）
ラジカルを発生する化合物（ラジカル発生剤又はラジカ
ル重合開始剤と称する場合がある）と発生したラジカル
により重合反応を起こして硬化する（Ｃ）ラジカル重合
性化合物とを含有し、好ましくは、更に、（Ｄ）バイン
ダーポリマーを含有する。赤外線吸収剤が吸収した赤外
線を熱に変換し、この際発生した熱により、オニウム塩
等のラジカル重合開始剤が分解し、ラジカルを発生す
る。ラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレ
ン性不飽和二重結合を有し、末端エチレン性不飽和結合
を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物か
ら選ばれ、発生したラジカルにより連鎖的に重合反応が
生起し、硬化する。 【００１５】また、酸架橋層には、（Ｅ）光又は熱によ
り酸を発生する化合物（以下、酸発生剤と称する）と、
（Ｆ）発生した酸により架橋する化合物（以下、架橋剤
と称する）とを含有し、更に、これらを含有する層を形
成するための、酸の存在下で架橋剤と反応しうる（Ｇ）
アルカリ可溶性ポリマーを含む。この酸架橋層において
は、光照射又は加熱により、酸発生剤が分解して発生し
た酸が、架橋剤の働きを促進し、架橋剤同士或いは架橋
剤とバインダーポリマーとの間で強固な架橋構造が形成
され、これにより、アルカリ可溶性が低下して、現像剤
に不溶となる。このとき、赤外線レーザのエネルギーを
効率よく使用するため、記録層中には（Ａ）赤外線吸収
剤が配合される。ネガ型記録層に用いられる各成分につ
いて以下に述べる。 【００１６】［（Ａ）赤外線吸収剤］本発明に係る平版
印刷版原版の記録層は、赤外線を発するレーザで画像記
録可能な構成を有する。このような記録層には、吸収し
た赤外線を熱に変換する機能を有する赤外線吸収剤を用
いることが好ましい。この際、発生した熱により、ラジ
カル発生剤や酸発生剤が分解し、ラジカルや酸を発生す
る。本発明の平版印刷版原版において、（Ａ）赤外線吸
収剤として前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化
合物を用いることを要する。かかる一般式（Ｉ）又は
（ＩＩ）で表される化合物は、特定の波長領域（赤色光
乃至赤外線領域）に吸収を有する色素であり、以下、適
宜、特定色素と称する。 【００１７】まず、前記一般式（Ｉ）において、各置換
基として好ましくは、以下のものを挙げることができ
る。前記一般式（Ｉ）において、Ｑ1は、置換されても
よい、５員もしくは６員の複素環又は５員もしくは６員
の複素環を含む縮合環を形成するのに必要な原子群を表
す。Ｑ1において、形成される複素環としては、例え
ば、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾ
ール環（例えば、ナフト〔２，１−ｄ〕チアゾール環、
ナフト〔１，２−ｄ〕チアゾール環等）、チオナフテン
〔７，６−ｄ〕環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキ
サゾール環（例えば、ナフト〔２，１−ｄ〕オキサゾー
ル環等）、セレナゾール環、べンゾセレナゾール環、ナ
フトセレナゾール環（例えば、ナフト〔２，１−ｄ〕セ
レナゾール環、ナフト〔１，２−ｄ〕セレナゾール環
等）、オキサゾリン環、セレナゾリン環、チアゾリン
環、ピリジン環、キノリン環（例えば、２−キノリン
環、４−キノリン環、ベンゾ〔ｔ〕キノリン環等）、イ
ソキノリン環（例えば、１−イソキノリン環、３−イソ
キノリン環、ベンゾイソキノリン環、）アクリジン環、
３，３−ジアルキルインドレニン環、３，３−ジアルキ
ルベンゾインドレニン環、３，３−ジアルキル〔１，
７〕ジアゾ−２−インデン環、ペンゾイミダゾール環、
ナフトラクタム環等が挙げられる。 【００１８】それらの置換基としては、例えば、ハロゲ
ン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ
基、スルホ基、ホスホ基、炭素数１〜２２の置換されて
もよいアルキル基、炭素数２〜２２の置換されてもよい
アルケニル基、炭素数２〜２２の置換されてもよいアル
キニル基、炭素数７〜２２の置換されてもよいアラルキ
ル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、γーフェニ
ルプロピル基等）、炭素数５〜２２の置換されてもよい
脂環式炭化水素基、炭素数６〜２２の置換されてもよい
アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メト
キシカルボニル基等）、炭素数４以上の置換されてもよ
い複素環基（例えば、チエニル基、ピリジル基、フリル
基等）、炭素数１〜２２の置換されてもよいアルコキシ
基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−シアノエト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、スルホプロピルオ
キシ基、ベンジルオキシ基、シクロヘキシルオキシ
等）、炭素数６〜２２のアリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ基、トリルオキシ基、クロロフェノキシ基、メ
トキシフェノキシ基、ジクロロフェノキシ基、ナフチル
オキシ基等）、カルボキシレート基（エステル残基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、シクロへキシル基、ベンジル基、フェニル基、ト
リル基、フリル基、チエニル基等）、 【００１９】アミノ基、置換されたモノ或いはジ置換ア
ミノ基（置換基としては、例えば、メチル基、エチル
基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
シクロへキシル基、ベンジル基、フェネチル基、フェニ
ル基、クロロフェニル基、メチルフェニル基、メトキシ
フェニル基、ブチルフェニル基等）、炭素数１〜２２の
置換されてもよいアルキルスルホニル基（アルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、エトキシエチル基等）、炭素数６
〜２２の置換されてもよいアリールスルホニル基（アリ
ール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ニトロフェニル基等）、炭素数２〜２
２の置換されてもよいアシル基（例えば、アセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、パレリル基、ピパリル
基、ラウロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、ナフ
トイル基、フロイル基、テノイル基等）、脂肪族カルボ
ン酸或いは芳香族カルボン酸から誘導される炭素数１〜
２２の置換されてもよいカルボアミド基（例えば、アセ
トアミド基、クロロアセトアミド基、プロピオアミド
基、ベンズアミド基等）又は脂肪族スルホン酸或いは芳
香族スルホン酸から誘導される炭素数１〜２２の置換さ
れてもよいスルホンアミド基（例えば、メタンスルホン
アミド基、トリフロロメタンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基、トルエンスルホンアミド基等）等
が挙げられる。 【００２０】前記アルキル基としては、具体的には、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコ
サニル基、ヘネイコサニル基、ドコサニル基が挙げられ
る。前記アルケニル基としては、二重結合が２つ以上含
有されていてもよく、具体的には、ビニル基、プロペニ
ル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オク
テニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル
基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセ
ニル基、エイコセニル基、ドコセニル基、ブタジエニル
基、ペタジエニル基、ヘキサジエニル基、オクタジエニ
ル基等が挙げられる。前記アルキニル基としては、具体
的には、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ヘキ
シニル基、オクタニル基、デカニル基、ドデカニル基等
が挙げられる。 【００２１】脂環式炭化水素基としては、単環式、多環
式、架橋環式の脂肪族環状炭化水素基が挙げられる。脂
環式炭化水素基としての具体例としては、シクロペンタ
ン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキ
サン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘ
プタン、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、シクロ
オクタン、シクロオタテン、シクロオクタジエン、シク
ロオクタトリエン、シクロソナン、シクロソネン、シク
ロデカン、シクロデセン、シクロデカンジエン、シクロ
デカトリエン、シクロウンデカン、シクロドデカン、ビ
シクロヘプタン、ビシクロヘキサン、ビシクロヘキセ
ン、トリシクロヘキサン、ノルカラン、ノルピナン、ノ
ルボルナン、ノルボルネン、ノルボルナジエン、トリシ
クロヘプタン、トリシクロヘプテン、デカリン、アダマ
ンタン等の環構造炭化水素が挙げられる。 【００２２】これらの中で、炭素原子数１から１２まで
の直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならび
に炭素原子数５から１０までの環状の脂肪族基がより好
ましい。 【００２３】かかる脂肪族基が置換基を有する場合、そ
の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用
いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、
−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ
基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、
アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル
カルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，
Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキ
シ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルア
ミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールア
シルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド
基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリー
ルウレイド基、Ｎ’Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’
−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ’Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’
−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−
ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル
−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−ア
ルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニル
アミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミ
ノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミ
ノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、及びそ
の共役塩基基（以下、「カルボキシラート」とい
う。）、 【００２４】アルコキシカルボニル基、アリーロキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイ
ル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリー
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アル
キルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−
ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基（以下、「スルホナト基」
という。）アルコキシスホニル基、アリーロキシスルホ
ニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ
−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールス
ルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフ
ィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ァモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ
−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスル
ファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモ
イル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基
基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ
2ＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役
塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−
ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及び
その共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル
基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及
びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイ
ル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表
す。）及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓ
ｉ（ＯＲ）3、Ｒはアルキル基を表す。）、アリーロキ
シシリル基（−Ｓｉ（ＯＡｒ）3、Ａｒはアリール基を
表す。）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）及
びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその
共役塩基基（以下、「ホスホナト基」という。）、 【００２５】ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｒ2、Ｒは
アルキル基を表す。）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ
3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリー
ルホスホノ基（−ＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル
基、Ａｒはアリール基を表す。）モノアルキルホスホノ
基（−ＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及び
その共役塩基基（以下、「アルキルホスホナト基」とい
う。）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ａ
ｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基
（以下、「アリールホスホナト基」という。）、ホスホ
ノオキシ基（−ＯＰＯ 3Ｈ2）及びその共役塩基基（以
下、「ホスホナトオキシ基」という。）、ジアルキルホ
スホノオキシ基（−ＯＰＯ3（Ｒ）2、Ｒはアルキル基を
表す。）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ
3（Ａｒ）2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルア
リールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、
Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノア
ルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはア
ルキル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アル
キルホスホナトオキシ基」という。）、モノアリールホ
スホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリー
ル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アリール
ホスホナトオキシ基」という。）、シアノ基、ニトロ
基、アリール基、複素環基、アルケニル基、アルキニル
基が挙げられる。 【００２６】一般式（Ｉ）のＱ1で表される縮合環に置
換される脂肪族基において、該脂肪族環基に更に導入さ
れるこれらの置換基中のアルキル基の具体例としては、
前述のアルキル基の具体例が同様に挙げられる。また、
置換基中のアリール基の具体例としては、フェニル基、
ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エト
キシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフ
ェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルオフェニ
ル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル
基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカ
ルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニ
ル基、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル
基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホ
ノフェニル基、ホスホナトフェニル基等を挙げることが
できる。また、アルキル基に置換する置換基としてのア
リール基としては、前記に例示されたアリール基が同様
に挙げられる。 【００２７】置換基中の複素環基としては、酸素原子、
イオウ原子、窒素原子のいずれかを少なくとも１個含有
する単環式もしくは多環式の環構造を有するものであれ
ばいずれでもよい。例えば、フラニル基、テトラヒドロ
フラニル基、ピラニル基、ピロイル基、クロメニル基、
フェノキサチイニル基、イミダゾイル基、ピラゾイル
基、ピリジイル基、ピラジニル基、ピリミデイニル基、
インドイル基、イソインドイル基、キノニイル基、ピロ
リジニル基、ピロリニル基、イミダゾリニル基、ピラゾ
リジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホ
リニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基等が挙げられ
る。これらの複素環構造は更に置換されもよく、置換基
としては、前記に例示されたものと同様の置換基類が挙
げられる。また、置換基中のアルケニル基の例として
は、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シ
ンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基等が挙げら
れ、更にアルキニル基の例としては、エチニル基、１−
プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチ
ニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。 【００２８】これら置換基のうち、更に好ましいものと
しては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−
Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ機、アルキルチオ
機、アリールチオ機、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ
基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリール
ホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホ
ナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト
基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール
基、複素環基、アルケニル基等を挙げることができる。 【００２９】一方、置換アルキル基において、置換基と
組み合わせて置換アルキル基を構成するアルキレン基と
しては、前述の炭素数１から１８までのアルキル基上の
水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とした
ものを挙げることができ、好ましくは、炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状アルキレン
基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基を組
み合わせることにより得られる置換アルキル基の好まし
い具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、
２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ
メチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメ
チル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、ト
リルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルア
ミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキ
シメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘ
キシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカル
バモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ
−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチ
ル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、
メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニルメチ
ル基、メトキシカルボニルブチル基、アリルオキシカル
ボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル
基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエ
チル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルガルバモイルメチル基、Ｎ
−（メトキシフェニル）ガルバモイルエチル基、Ｎ−メ
チル−Ｎ−（スルホフェニル）ガルバモイルメチル基、
スルホプロピル基、スルホブチル基、スルホナトブチル
基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイ
ルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピ
ル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファイルオクチル
基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチ
ルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、
メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、
トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル
基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチ
ル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル
基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベ
ンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメ
チル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メ
チルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチ
ニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。 【００３０】前記一般式（Ｉ）において、Ｒoは、置換
されてもよい脂肪族基を表す。かかる脂肪族基として
は、炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状の置換されても
よいアルキル基、炭素数２〜２２の置換されてもよいア
ルケニル基、炭素数５〜２２の置換されてもよい脂環式
炭化水素基が好ましい。これらの脂肪族基、及びこれら
に導入される置換基の具体例としては、前記一般式
（Ｉ）におけるＱ1に導入可能な置換基として挙げた脂
肪族基と同義である。前記一般式（Ｉ）において、Ｒo1
は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒo1がアルキル基
の場合、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の
ように炭素数は１〜４のものが好ましい。 【００３１】前記一般式（Ｉ）において、Ｚは、酸素原
子、イオウ原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。 【００３２】前記一般式（Ｉ）において、Ｑ2はピリリ
ウムイオン構造を形成するのに必要な原子群を表す。こ
こで、ピリリウムイオン構造とは、置換されてもよい、
ピリリウム、ベンゾピリリウム、ナフトピリリウム、チ
オピリリウム、ベンゾチオピリリウム、ナフトチオピリ
リウム、セレナピリリウム、ベンゾセレナピリリウム、
ナフトセレナピリリウム、テルナピリリウム、ベンゾテ
ルナピリリウム、又はナフトテルナピリリウムを示す。 【００３３】それらの置換基としては、ハロゲン原子
（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、
ヒドロキシル基、シアノ基、メルカプト基、炭素数１〜
２２の置換されてもよい脂肪族基（脂肪族基は、アルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、単環式もしくは多
環式脂肪族炭化水素基を示す。）、炭素数の６〜２２の
置換されてもよいアリール基、−ＯＲ11基、−ＣＯＯＲ
11基、−ＳＯ2Ｒ11基、−ＳＯ2Ｎ（Ｒ12）（Ｒ13）基、
−ＣＯＮ（Ｒ12）（Ｒ13）基、−Ｎ（Ｒ12）（Ｒ13）基
等が挙げられる。上記Ｒ11は、水素原子、炭素数１〜２
２の置換されてもよい脂肪族基、又は、炭素数６〜２２
の置換されてもよいアリール基を表す。Ｒ12及びＲ13は
同じでも異なってもよく、各々、Ｒ11と同一の内容を表
す。これらの脂肪族基、及びこれらに導入される置換基
の具体例としては、前記一般式（Ｉ）におけるＱ1に導
入可能な置換基として挙げた脂肪族基と同義である。ま
た、アリール基の具体例としては、前記一般式（Ｉ）に
おけるＱ1に置換可能な脂肪族基に更に導入されるアリ
ール基として挙げたもののと同義である。 【００３４】前記一般式（Ｉ）において、Ｙ1及びＹ
2は、各々、同じでも異なっていてもよく、水素原子、
脂肪族基、芳香族基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ、又
は−ＳＲを表す。但し、Ｒは脂肪族基又は芳香族基を表
す。この中でも、Ｙ1及びＹ2としては、水素原子、炭素
数１〜２２の置換されてもよい脂肪族基、又は、炭素数
６〜２２の置換されてもよいアリール基であることが好
ましい。これらの脂肪族基、及びこれらに導入される置
換基の具体例としては、前記一般式（Ｉ）におけるＱ1
に導入可能な置換基として挙げた脂肪族基と同義であ
る。また、アリール基の具体例としては、前記一般式
（Ｉ）におけるＱ1に置換可能な脂肪族基に更に導入さ
れるアリール基として挙げたもののと同義である。 【００３５】前記一般式（Ｉ）において、Ｌは、置換さ
れてもよいポリメチン基を表す。より詳細には、Ｌは、
置換されてもよいポリメチン基を表し、炭素鎖長３〜１
１のポリメチン基が好ましく、ペンタメチン基、ヘプタ
メチン基又はノナメチン基がより好ましいが、赤外線に
対する波長適性と安定性の点からヘプタメチン基が特に
好ましい。Ｌは、置換もしくは無置換のアルキル基、置
換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換
のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチ
オ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もし
くは無置換のアミノ基、ハロゲン原子、置換もしくは無
置換のアリール基、置換もしくは無置換のイミニウムイ
オン基、下記一般式（１）で表される置換基より選択さ
れる基で置換されていてもよく、これら置換基上の置換
基としては、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アルコキシスルホニル基、カル
ボン酸基、スルホン酸基等が好ましい置換基として挙げ
られる。これらの中でも、Ｌ上の置換基としては、メチ
ル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリー
ル基、塩素原子等のハロゲン原子、ジフェニルアミノ基
等のジアリールアミノ基、フェニルチオ基等のアリール
チオ基が挙げられ、ハロゲン原子、ジフェニルアミノ基
等のジアリールアミノ基、及びフェニルチオ基等のアリ
ールチオ基が特に好ましい。 【００３６】 【化５】 【００３７】式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、水
素原子、炭素数１〜８の置換されてもよいアルキル基、
又は炭素数６〜１０の置換されてもよいアリール基を表
す。Ｙ1は、酸素原子又は硫黄原子を表す。置換基とし
ては、前記Ｒoに導入可能な置換基における同一の内容
のものが挙げられる。 【００３８】Ｌは、更に、１組又は２組以上の連続した
３つのメチン鎖を含むシクロアルケン環を形成してもよ
くシクロヘキセン環、シクロペンテン環又はシクロブテ
ン環を有することが安定性の点で好ましく、シクロペン
テン環又はシクロヘキセン環が特に好ましい。シクロヘ
キセン環、シクロペンテン環又はシクロブテン環を有す
る場合は、環を形成するのに必要なプロピレン基、エチ
レン基又はメチレン基上に置換基を有してもよく、好ま
しい置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ジアル
キルアミノ基、ジアリールアミノ基、ハロゲン原子、ア
リール基、水酸基、アルコキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシスルホニル基、カルボン酸基、スルホ
ン酸基、ホスホン酸基、スルフィン酸基等が挙げられ、
これら複数の置換基が互いに結合してビシクロ環、トリ
シクロ環を形成してもよい。また、これらの環形成に必
要なアルキレン基（例えば、メチレン基など）は、−Ｏ
−、−Ｓ−、−Ｓｅ−、−ＮＲ21−、−ＣＯ−、−ＣＯ
Ｏ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＳＯ3−、−ＣＯＮＨ
−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＳＮ
Ｈ−より選択される２価の原子又は原子団により置換さ
れてもよい。ここで、Ｒ21は、炭素数１〜２２の置換さ
れてもよい炭化水素基を表す。具体的には、前記一般式
（Ｉ）におけるＱ1に導入可能な置換基として挙げた各
炭化水素基と同義である。また、下記式（２）又は
（３）で表されるスクアリリウム環又はクロコニウム環
を、置換基を有するシクロブテン環又はシクロペンテン
環として有することも好ましい。 【００３９】 【化６】 【００４０】更に、１組又は２組以上の連続した２つの
メチン鎖（−ＣＨ＝ＣＨ−又は＝ＣＨ−ＣＨ＝）は下記
式（４）、（５）又は（６）で示される構造により置換
されてもよい。 【００４１】 【化７】【００４２】式（４）中、Ｒ3及びＲ4は、各々独立に、
水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表す。ここで、脂肪
族基及び芳香族基は、具体的には、前記一般式（Ｉ）に
おけるＱ1に導入可能な置換基として挙げた脂肪族基及
び芳香族基と同義である。Ｙ2は、酸素原子、硫黄原子
又はセレン原子を表す。 【００４３】 【化８】 【００４４】式（５）中、Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、
置換もしくは未置換のアミノ基、又はハロゲン原子を表
し、Ｒ5とＲ6は互いに結合し、縮合６員環を形成してい
てもよい。Ｙ3は、酸素原子又は硫黄原子を表す。 【００４５】 【化９】 【００４６】式（６）中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、各々独
立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基、置換もしくは未置換のアミノ基、
アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ
−モノ置換もしくはジ置換のカルバモイル基（Ｎ置換基
としては、アルキル基又はアリール基）、アルキルスル
ホニル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカル
ボニル基、カルボキシ基、スルホ基、又はホスホノ基を
表し、Ｒ7とＲ8、Ｒ7とＲ9、及びＲ8とＲ9の少なくとも
一つで、縮合６員環を形成していてもよい。Ｙ3は、酸
素原子又は硫黄原子を表す。 【００４７】前記式（５）で示される構造の好ましい例
としては、下記に示す（５−１）〜（５−７）等が挙げ
られる。 【００４８】 【化１０】 【００４９】前記一般式（Ｉ）において、Ａ-は電荷の
中和が必要な場合に存在する対アニオンを表す。かかる
対アニオンとしては、無機或いは有機のアニオンであ
る。ここで、ｎは１〜５の整数であり、１又は２である
ことが好ましい。対アニオンとして、具体的には以下の
ものが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。例えば、Ｃｌ-、Ｆ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣｌＯ4 -、Ｂｒ
Ｏ4 -、ＳｂＦ6 -、ＰＦ6 -、ボレートアニオン（例えば、
ＢＦ4 -、テトラフェニルボレートアニオン、ブチル−ト
リフェニルボレートアニオン、ブチル−トリス（２，
４，６−トリメチルフェニル）ボレートアニオン、ブチ
ル−メチル−ジフェニルボレートアニオン、ブチル−ト
リス（フルオロフェニル）ボレートアニオン、ブチル−
トリス（メトキシフェニル）ボレートアニオン、テトラ
（クロロフェニル）ボレートアニオン等）スルホン酸ア
ニオン（例えば、アルカンスルホン酸アニオン（アルカ
ンスルホン酸としては、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、アリ
ルスルホン酸、フェニルメタンスルホン酸、ヒドロキシ
プロパン酸、２−クロロエタンスルホン酸、１０−カン
ファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペ
ンタフルオロエタンスルホン酸等）芳香族スルホン酸ア
ニオン（芳香族スルホン酸としては、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、メトキシベンゼンスルホン
酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、クロロベンゼンス
ルホン酸、ニトロベンゼンスルホン酸、アセチルベンゼ
ンスルホン酸、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸、ｏ
−スルホベンゼンカルボン酸、メシチレンスルホン酸、
ナフタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸、ナフ
トールスルホン酸、アントラキノンスルホン酸、キノリ
ンスルホン酸等）、ホスホン酸アニオン（具体的には、
上記スルホン酸アニオンで例示した脂肪族化合物、芳香
族化合物にスルホン酸基の代わりにホスホン酸が各々少
なくとも１種置換された化合物が例示される）等が挙げ
られる。 【００５０】前記一般式（Ｉ）で表される化合物におい
て、Ａ-による電荷の中和が必要でない場合には、Ａ-を
除く部分の分子内に存在するアニオンとピリリウムイオ
ンとで分子内塩が形成されている構造を有する。なお、
Ａ-を除く部分の分子内に存在するアニオンとしては、
ＳＯ3Ｈ、ＣＯＯＨ、ＰＯ3Ｈ2、ＰＯ2（ＯＲ）ＯＨ、Ｓ
Ｏ2Ｈから選ばれる少なくとも一種の酸性基が解離する
ことで発生するアニオンであることが好ましい。前記酸
性基の中でも、−ＳＯ3Ｈ、−ＣＯＯＨ、−ＰＯ3Ｈ2の
いずれか１種を有することがより好ましい。なお、Ｒ
は、炭素数１〜１２の置換されてもよい脂肪族基を表
す。これらの脂肪族基、及びこれらに導入される置換基
の具体例としては、前記一般式（Ｉ）におけるＱ1に導
入可能な置換基として挙げた脂肪族基と同義である。一
方、前記一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ａ-
による電荷の中和が必要である場合には、上記Ａ-で表
される対アニオンとピリリウムイオンとで分子内塩が形
成されている構造を有する。 【００５１】次に、前記一般式（ＩＩ）において、各置
換基として好ましくは、以下のものを挙げることができ
る。前記一般式（ＩＩ）中、Ｑ1、Ｒo、Ｒo1、Ｚ、
Ｑ2、Ｙ1、Ｙ2、Ｌ、ｐ、及びｑは、前記一般式（Ｉ）
と同義である。Ｂ+は、電荷の中和が必要な場合に存在
するオニウムカチオンを表す。但し、ｍは１〜３の整数
である。 【００５２】前記一般式（ＩＩ）で表される化合物にお
いて、Ｂ+による電荷の中和が必要でない場合には、Ｂ+
を除く部分の分子内に存在するアニオンとピリリウムイ
オンとで分子内塩が形成され、更に、Ｂ+を除く部分の
分子内に存在するアニオンとカチオンとで分子内塩が形
成されている構造を有する。一方、前記一般式（ＩＩ）
で表される化合物において、Ｂ+による電荷の中和が必
要である場合には、Ｂ+を除く部分の分子内に存在する
アニオンとピリリウムイオンとで分子内塩が形成され、
更に、Ｂ+を除く部分の分子内に存在するアニオンとＢ+
とで分子内塩が形成されている構造を有する。なお、Ｂ
+を除く部分の分子内に存在するアニオンとしては、Ｓ
Ｏ3Ｈ、ＣＯＯＨ、ＰＯ3Ｈ2、ＰＯ2（ＯＲ）ＯＨ、ＳＯ
2Ｈから選ばれる少なくとも一種の酸性基が解離するこ
とで発生するアニオンであることが好ましい。前記酸性
基の中でも、−ＳＯ3Ｈ、−ＣＯＯＨ、−ＰＯ3Ｈ2のい
ずれか１種を有することがより好ましい。なお、Ｒは、
炭素数１〜１２の置換されてもよい脂肪族基を表す。こ
れらの脂肪族基、及びこれらに導入される置換基の具体
例としては、前記一般式（Ｉ）におけるＱ1に導入可能
な置換基として挙げた脂肪族基と同義である。ここで、
Ｂ+で表されるオニウムカチオンとしては、ヨードニウ
ムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン、
ジアゾニウムイオン、カルボニウムイオン、トリハロゲ
ンメチル基置換のオキザゾリウムイオン又はＳ−トリア
ジニウムイオン等のオニウム塩カチオンが挙げられる。
これらのオニウム塩カチオンの具体例な態様は、後述の
ラジカルを発生する化合物において例示するオニウム塩
中のオニウムカチオンと同様のものが挙げられる。 【００５３】本発明に用いられる前記一般式（Ｉ）又は
（ＩＩ）で表される化合物の具体例を以下の表１〜１２
に示すが、これらに限定されるものではない。なお、表
中の「−Ｃ6Ｈ5」はフェニル基を示す。 【００５４】 【表１】【００５５】 【表２】 【００５６】 【表３】【００５７】 【表４】 【００５８】 【表５】【００５９】 【表６】 【００６０】 【表７】 【００６１】 【表８】【００６２】 【表９】 【００６３】 【表１０】【００６４】 【表１１】 【００６５】 【表１２】 【００６６】本発明に用いられる上記特定色素は、１種
のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。ま
た、本発明に用いられる上記特定色素は、従来公知の方
法と用いて合成することができる。合成法に関する詳細
は、例えば、特開昭６３−１２４０５４号公報に記載の
ものを挙げることができる。 【００６７】また、本発明の効果を損なわない範囲にお
いて、上記特定色素以外の汎用の赤外線吸収剤を併用す
ることができる。このように、上記特定色素と、汎用の
赤外線吸収剤を併用する場合、汎用の赤外線吸収剤の含
有量は赤外線吸収剤全固形分中、４０重量％以下である
ことが好ましい。本発明において併用される赤外線吸収
剤として、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大
を有する染料又は顔料である。例えば、以下に示す染料
及び顔料が挙げられる。 【００６８】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、例えば、特開平１０−３９５０９号公報の段落番
号［００５０］〜［００５１］に記載のものを挙げるこ
とができる。これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、有機金属錯体（例えば、ジチオレート系錯体など）
が挙げられる。 【００６９】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、
「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年
刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）
に記載されている顔料が利用できる。 【００７０】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。これらの顔料の詳細
は、特開平１０−３９５０９号公報の段落番号［００５
２］〜［００５４］に詳細に記載されており、これらを
本発明にも適用することができる。これらの顔料のうち
好ましいものはカーボンブラック、アニリンブラック、
ニグロシンブラック、シアニンブラック、チタンブラッ
ク等が挙げられる。 【００７１】本発明において、赤外線吸収剤として、上
記特定色素とそれ以外の汎用の赤外線吸収剤とを併用す
る場合には、全赤外線吸収剤の含有量としては、記録層
の全固形分重量に対し、０．０１〜５０重量％が好まし
く、０．１〜１０重量％がより好ましく、０．５〜１０
重量％が最も好ましい。前記含有量が、０．０１重量％
未満であると、感度が低くなると共に、光熱変換能が現
われにくい場合があり、５０重量％を超えると、平版印
刷用原版とした場合の非画像部に汚れが発生することが
ある。 【００７２】［（Ｂ）ラジカルを発生する化合物］本発
明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物
は、熱エネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不
飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合
物を指す。本発明に係る熱ラジカル発生剤としては、公
知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有
する化合物などを、適宜、選択して用いることとができ
る。また、ラジカルを発生する化合物は、単独又は２種
以上を併用して用いることができる。ラジカルを発生す
る化合物としては、例えば、オニウム塩化合物、有機ハ
ロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合
物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合
物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸
化合物、ジスルホン酸化合物が挙げられる。 【００７３】上記オニウム塩化合物としては、例えば、
Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓ
ｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．
Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３
（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，
０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号等
に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５
５号、同４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホス
ホニウム塩、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第
３３９，０４９号、同第４１０，２０１号の各明細書、
特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号
に記載のヨードニウム塩、欧州特許第３７０，６９３
号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７号、同２９
７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９
３３，３７７号、同１６１，８１１号、同４１０，２０
１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３号、
同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独
国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０
号、同３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホ
ニウム塩、 【００７４】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７
（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載
のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅ
ｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。 【００７５】上記有機ハロゲン化化合物としては、具体
的には、若林等、「Ｂｕｌｌ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ Ｊａ
ｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，
９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特
開昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、
特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３
５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８
２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−
７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号、Ｍ．Ｐ．
Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ
ｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７
０）」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメ
チル基が置換したオキサゾール化合物：Ｓ−トリアジン
化合物が挙げられる。 【００７６】より好適には、すくなくとも一つのモノ、
ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環
に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例え
ば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェ
ニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４
−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジ
エニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス
（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−ト
リス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチ
ル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）
−ｓ−トリアジン等が挙げられる。 【００７７】上記カルボニル化合物としては、ベンゾフ
ェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、
３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノ
ン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェ
ノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノ
ン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ
−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１
−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケト
ン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケ
トン、２−メチルー（４’−（メチルチオ）フェニル）
−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリ
クロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセ
トフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキ
サントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロ
ロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、
２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロ
ピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジ
メチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息
香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げること
ができる。 【００７８】上記有機過酸化化合物としては、例えば、
トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブ
チルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シ
クロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオ
キシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベ
ンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキ
サン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，
３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、
ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパー
オキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイル
パーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、
２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキ
シルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチ
ルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピル
パーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキ
シブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチ
ルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ
ピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエ
ート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔ
ｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボ
ネート、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，
４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）
ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｐ−
イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フ
タレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二
水素二フタレート）等が挙げられる。 【００７９】上記メタロセン化合物としては、特開昭５
９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号
公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４
９号公報、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３
５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、
ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフル
オロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−ト
リフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェ
ニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス
−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフル
オロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェ
ニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−
１−イル、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−
１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げら
れる。 【００８０】上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物
としては、例えば、特公平６−２９２８５号、米国特許
第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、
同第４，６２２，２８６号等の各公報記載の種々の化合
物、具体的には、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−
ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，
２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフ
ルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニ
ルビイミダゾール等が挙げられる。 【００８１】上記有機ホウ酸塩化合物としては、例え
ば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０
２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８
８６８６号、特開平９−１８８７１０号、特許第２７６
４７６９号、特願２０００−３１０８０８号、等の各公
報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ Ｔｅｃ
ｈ'９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ Ａｐｒｉｌ １９−
２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機
ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−
１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に
記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オ
キソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公
報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素
ヨードニウム錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記
載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０
１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７
−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公
報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移
金属配位錯体等が具体例として挙げられる。 【００８２】上記ジスルホン化合物としては、特開昭６
１−１６６５４４号、特願昭２００１−１３２３１８号
公報等記載される化合物が挙げられる。 【００８３】本発明において好適に用いられるラジカル
を発生する化合物としては、下記一般式（ＩＩＩ）〜
（Ｖ）で表されるオニウム塩が挙げられる。 【００８４】 【化１１】 【００８５】式（ＩＩＩ）中、Ａｒ11とＡｒ12は、それ
ぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数２０
個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を
有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、
ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原
子数１２個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個
以下のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ11-は無機ア
ニオン又は有機アニオンを表す。 【００８６】式（ＩＶ）中、Ａｒ21は、置換基を有して
いてもよい炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。
好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭
素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以
下のアルコキシ基、炭素原子数１２個以下のアリールオ
キシ基、炭素原子数１２個以下のアルキルアミノ基、炭
素原子数１２個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数
１２個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数１２個
以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Ｚ21 -はＺ11-
と同義の対イオンを表す。 【００８７】式（Ｖ）中、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、それ
ぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していて
もよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下の
アルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下のアリールオ
キシ基が挙げられる。Ｚ31-はＺ11-と同義の対イオンを
表す。 【００８８】式（ＩＩＩ）〜式（Ｖ）中のＺ11-、
Ｚ21-、Ｚ31-は、無機アニオンもしくは有機アニオンを
表す。無機アニオンとしては、ハロゲンイオン（Ｆ-、
Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｊ-）、ＣｌＯ 4 -、ＢｒＯ4 -、Ｓｂ
Ｆ6 -、ＰＦ6 -、ＢＦ4 -等が挙げられる。有機アニオンと
しては、有機ボレートアニオン、スルホン酸イオン、ホ
スホン酸イオン、カルボン酸イオン、Ｒ40−ＳＯ3Ｈ-イ
オン、Ｒ40−ＳＯ2 -イオン、Ｒ 40−ＳＯ2−Ｓ-イオン、
Ｒ40−ＳＯ2−Ｎ-−Ｙ−Ｒ40イオン（但し、Ｙは単結
合、−ＣＯ−又は−ＳＯ2−を表す）、下記一般式（Ｖ
Ｉ）で示される５配位シラン化合物イオンなどが挙げら
れる。 【００８９】 【化１２】 【００９０】有機ボレートアニオン、スルホン酸イオン
及びホスホン酸イオンの各具体的態様は、前記一般式
（Ｉ）で示されるＡ-と同義である。カルボン酸イオン
は、脂肪族カルボン酸或いは芳香族カルボン酸であり、
モノカルボン酸或いはポリカルボン酸のいずれでもよ
い。具体的には、特開２００１−３４３７４号明細書の
段落番号［００４８］〜［００５７］、特願２０００−
２６６７９７号明細書の段落番号［００６３］〜［００
６８］に記載の化合物例が挙げられる。 【００９１】ここで、前記Ｒ40は、好ましくは炭素原子
数１〜２０のアルキル基又は炭素原子数１〜２０のアリ
ール基を表す。Ｒ40は環構造を有してもよい。また、こ
れらアルキル基又はアリール基は置換基を有していても
よく、導入可能な置換基としては、具体的には、例え
ば、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アミノ基、シアノ基、水酸基、ハロゲン原子、
アミド基、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基
等が挙げられ、これらは更に上記のような置換基を有す
るものであってもよい。更に、２以上の置換基が互いに
結合して環を形成していてもよく、また、環構造は窒素
原子や硫黄原子などを含むヘテロ構造であってもよい。
中でも、安定性、合成適正の観点からは、Ｒ40がアリー
ル基であることが好ましい。 【００９２】Ｒ40ＳＯ2 -イオンの好ましい態様は、特願
２００１−１４７４２９号明細書の段落番号［００１
５］〜［００１６］に記載のもの、ＲＳＯ2−Ｓ-の好ま
しい態様は、特願２００１−３２９１２９号明細書の段
落番号［００２２］〜［００３２］に記載のアニオン化
合物が挙げられる。 【００９３】前記一般式（ＶＩ）で示される５配位シラ
ン化合物イオンにおいて、式中、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅは
互いに独立した一価の非金属原子（団）を表す。Ａ、
Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅは、好ましくは、それぞれ独立に、水素
原子、炭素数１〜１０のアルキル基或いはアリール基、
アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェノキ
シ基、アミノ基、ビニル基、アリル基、シアノ基、又は
ハロゲン原子を表す。なお、これらの基は更に１つ或い
は２つ以上の置換基を有していてもよく、好ましい置換
基の例としては、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８の直
鎖状或いは分岐のアルキル基、アリール基、アルケニル
基、カルボニル基、カルボキシル基、アミド基、アセチ
ル基、エーテル基、チオエーテル基、エステル基、アミ
ノ基、又はこれらを２種以上組み合わせたものが挙げら
れる。Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅのうち隣り合う２以上の非金
属原子（団）は互いに連結して環を形成してもよい。ま
た、対カチオンとは、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅのいずれの基
により連結されていてもよく、更に、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、
Ｅのうちいずれか２以上の基が互いに連結することによ
り形成された環により連結されていてもよい。これらの
シラン化合物イオンのうち、好ましいものとしては、
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅのいずれかがハロゲン原子、アリー
ル基、又はアルコキシ基であるものが挙げられ、更に好
ましいものとして、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅのうちいずれか
１以上がフッ素原子であるものが挙げられる。具体的に
は、特願２０００−３５３１５１号明細書の段落番号
［００１９］〜［００２１］に記載の化合物のアニオン
部分等が例示される。 【００９４】また、２価以上のアニオンとしては、例え
ば、特願２００１−６９１６８号明細書の段落番号［０
０１８］〜［００１９］に記載の化合物等が挙げられ
る。 【００９５】本発明において、好適に用いることのでき
るオニウム塩の具体例としては、特開平１３−１３３９
６９号公報の段落番号［００３０］〜［００３３］に記
載されたものを挙げることができる。 【００９６】本発明において用いられるオニウム塩は、
極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、
更に、３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版
原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。 【００９７】これらのオニウム塩は、記録層塗布液の全
固形分に対し０．１〜５０重量％、好ましくは０．５〜
３０重量％、特に好ましくは１〜２０重量％の割合で記
録層塗布液中に添加することができる。添加量が０．１
重量％未満であると感度が低くなり、また５０重量％を
越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これらのオ
ニウム塩は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併
用してもよい。また、これらのオニウム塩は他の成分と
同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加
してもよい。 【００９８】［（Ｃ）ラジカル重合性化合物］本発明に
係る記録層に使用されるラジカル重合性化合物は、少な
くとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカ
ル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少
なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選
ばれる。この様な化合物群は当該産業分野において広く
知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限
定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマ
ー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴ
マー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体な
どの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例
としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メ
タクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン
酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が
あげられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価
アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。ま
た、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求
核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド
類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ
類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン
酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イ
ソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有す
る不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能も
しくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類
と、の付加反応物、更に、ハロゲン基やトシルオキシ基
等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又
はアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、
アミン類及びチオール類と、の置換反応物も好適であ
る。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代
わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化
合物群を使用することも可能である。 【００９９】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物である
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン
酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エス
テル、マレイン酸エステルの具体例は、特願平１１−３
１０６２３号明細書の段落番号［００３７］〜［００４
２］に記載されており、これらを本発明にも適用するこ
とができる。 【０１００】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開
昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４
１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。 【０１０１】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。 【０１０２】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものを挙げることができる。 【０１０３】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（ＶＩＩ）で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。 【０１０４】一般式（ＶＩＩ） ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ41）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ42）ＯＨ （ただし、Ｒ41及びＲ42は、Ｈ又はＣＨ3を示す。） 【０１０５】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。 【０１０６】更に、特開昭６３−２７７６５３，特開昭
６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記
載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有す
るラジカル重合性化合物類を用いてもよい。 【０１０７】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会
誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１
９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹
介されているものも使用することができる。 【０１０８】これらのラジカル重合性化合物について、
どのような構造を用いるか、単独で使用するか併用する
か、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終
的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定でき
る。例えば、次のような観点から選択される。感度の点
では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好まし
く、多くの場合、２官能以上がこのましい。また、画像
部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以
上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基
を有する化合物（例えば、アクリル酸エステル系化合
物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物
等）を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方
を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物
や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、
現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく
ない場合がある。また、記録層中の他の成分（例えば、
バインダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、
分散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使用法
は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、
２種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させ得る
ことがある。また、支持体、オーバーコート層等の密着
性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあ
り得る。ネガ型記録層中のラジカル重合性化合物の配合
比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎ
る場合には、好ましく無い相分離が生じたり、ネガ型記
録層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、記録層
成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液から
の析出が生じる等の問題を生じることがある。これらの
観点から、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、
多くの場合、組成物全成分に対して５〜８０重量％、好
ましくは２０〜７５重量％である。また、これらは単独
で用いても２種以上併用してもよい。そのほか、ラジカ
ル重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大
小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観
点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更
に、場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗
布方法も実施することができる。 【０１０９】［（Ｄ）バインダーポリマー］本発明にお
いては、更に、バインダーポリマーを使用する。バイン
ダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好まし
い。このような「線状有機ポリマー」としては、どのよ
うなものを使用しても構わない。好ましくは、水現像或
いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水或いは弱
アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが
選択される。線状有機ポリマーは、記録層を形成するた
めの皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或
いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用され
る。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が
可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側
鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば、特
開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、
特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７
号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３
６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セ
ルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体
に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。 【０１１０】特にこれらの中で、ベンジル基又はアリル
基と、カルボキシル基を側鎖に有する（メタ）アクリル
樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。 【０１１１】また、特公平７−１２００４号、特公平７
−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平
８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開
昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、
特願平１０−１１６２３２号等に記載される酸基を含有
するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に
優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。 【０１１２】更に、この他に水溶性線状有機ポリマーと
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。 【０１１３】本発明で使用されるポリマーの重量平均分
子量については好ましくは５０００以上であり、更に好
ましくは１万〜３０万の範囲であり、数平均分子量につ
いては好ましくは１０００以上であり、更に好ましくは
２０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平均分
子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好まし
くは１．１〜１０の範囲である。これらのポリマーは、
ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマ
ー等いずれでもよいが、ランダムポリマーであることが
好ましい。 【０１１４】本発明で使用されるポリマーは従来公知の
方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロ
リド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、２−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノー
ル、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶
媒は単独で又は２種以上混合して用いられる。なお、本
発明で使用されるポリマーを合成する際に用いられるラ
ジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開
始剤等公知の化合物が使用できる。 【０１１５】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、記録層塗布液の全固形分に対し２０〜９５重量％、
好ましくは３０〜９０重量％の割合で記録層中に添加さ
れる。添加量が２０重量％未満の場合は、画像形成した
際、画像部の強度が不足する。一方、添加量が９５重量
％を越える場合は、画像形成されない。また、ラジカル
重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と
線状有機ポリマーとは、重量比で１／９〜７／３の範囲
とするのが好ましい。 【０１１６】次に、酸架橋層の構成成分について説明す
る。ここで用いられる赤外線吸収剤は、前記光重合層に
おいて説明した（Ａ）赤外線吸収剤と同様のものを用い
ることができる。酸架橋層（記録層）に、赤外線吸収剤
として上記特定色素のみを含有させるならば、上記特定
色素の含有量としては、記録層の全固形分重量に対し、
０．０１〜５０重量％が好ましく、０．１〜１０重量％
がより好ましく、０．５〜１０重量％が最も好ましい。
前記含有量が、０．０１重量％未満であると、感度が低
くなると共に、光熱変換能が現われにくい場合があり、
５０重量％を超えると、平版印刷用原版とした場合の非
画像部に汚れが発生することがある。 【０１１７】また、本発明において、赤外線吸収剤とし
て、上記特定色素とそれ以外の汎用の赤外線吸収剤とを
併用する場合には、全赤外線吸収剤の含有量としては、
記録層の全固形分重量に対し、０．０１〜５０重量％が
好ましく、０．１〜１０重量％がより好ましく、０．５
〜１０重量％が最も好ましい。この場合も、前記含有量
が、０．０１重量％未満であると、感度が低くなると共
に、光熱変換能が現われにくい場合があり、５０重量％
を超えると、平版印刷用原版とした場合の非画像部に汚
れが発生することがある。また、併用する汎用の赤外線
吸収剤の含有量は赤外線吸収剤全固形分中、５０重量％
以下であることが好ましい。 【０１１８】［（Ｅ）酸発生剤］本実施の形態におい
て、熱により分解して酸を発生する酸発生剤は、２００
〜５００ｎｍの波長領域の光を照射する又は１００℃以
上に加熱することにより、酸を発生する化合物をいう。
前記酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光
ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色
剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知
の酸発生剤等、熱分解して酸を発生しうる、公知の化合
物及びそれらの混合物等が挙げられる。酸発生剤として
は、例えば、オニウム塩化合物、有機ハロゲン化化合
物、ジスルホン酸化合物が挙げられる。これらの具体例
は、前記（Ｂ）ラジカルを発生する化合物の記載と同様
のものが挙げられる。酸発生剤の他の例としては、特開
平２−１６１４４５号公報に記載の有機金属／有機ハロ
ゲン化物、欧州特許第０２９０，７５０号、同０４６，
０８３号、同１５６，５３５号、同２７１，８５１号、
同０，３８８，３４３号、米国特許第３，９０１，７１
０号、同４，１８１，５３１号の各明細書、特開昭６０
−１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号に記載
のｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、欧
州特許第０１９９，６７２号、同８４５１５号、同１９
９，６７２号、同０４４，１１５号、同０１０１，１２
２号、米国特許第４，６１８，５６４号、同４，３７
１，６０５号、同４，４３１，７７４号の各明細書、特
開昭６４−１８１４３号、特開平２−２４５７５６号、
特願平３−１４０１０９号に記載のイミノスルフォネー
ト等に代表される、光分解してスルホン酸を発生する化
合物、特開昭６１−１６６５４４号に記載のジスルホン
化合物、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・シス
テムズ」Ｐ３３９〜３５２（Ｊｏｈｎ．Ｗｉｌｅｙ ＆
Ｓｏｎｓ．Ｉｎｃ刊）、特公昭４３−２８４０３号、
米国特許第３，０４６，１２０号、同３，１８８，２１
０号、特開昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０
２号、特開昭４８−６３８０３号、特開昭４８−９６５
７５号、特開昭４９−３８７０１号、特開昭４８−１３
３５４号、特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９
６１０号、特公昭４９−１７４８１号、米国特許第２，
７９７，２１３号、同３，４５４，４００号、同３，５
４４，３２３号、同３，５７３，９１７号、同３，６７
４，４９５号、同３，７８５，８２５号、英国特許第
１，２２７，６０２同号、同１，２５１，３４５号、同
１，２６７，００５号、同１，３２９，８８８号、同
１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４，８９０
号、の各文献（明細書）に記載されているｏ−キノンジ
アジド化合物等が挙げられる。 【０１１９】また、酸を発生する基又は化合物を、ポリ
マーの主鎖若しくは側鎖に導入した化合物も好適に挙げ
ることができ、例えば、米国特許第３，８４９，１３７
号、独国特許第３，９１４，４０７号の各明細書、特開
昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、
特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３７
号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３
８５３号、特開昭６３−１４６０２９号に記載の化合物
が挙げられる。更に、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙ
ｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａ
ｄ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂ
ａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ，Ｓｏｃ，．
（Ｂ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，
７７８号、欧州特許第１２６，７１２号の各明細書等に
記載の、光により酸を発生する化合物も使用可能であ
る。 【０１２０】上述の酸発生剤のうち、下記一般式（Ｉ）
〜（Ｖ）で表される化合物が好ましい。 【０１２１】 【化１３】【０１２２】前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）中、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ4及びＲ5は、同一でも異なっていてもよく、置換基を
有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。
中でも、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ5は、炭素数１〜１４の炭
化水素基が好ましい。Ｒ3は、ハロゲン原子、置換基を
有していてもよい炭素数１０以下の炭化水素基又は炭素
数１０以下のアルコキシ基を表す。Ａｒ1、Ａｒ2は、同
一でも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい
炭素数２０以下のアリール基を表す。Ｒ6は、置換基を
有していてもよい炭素数２０以下の２価の炭化水素基を
表す。ｎは、０〜４の整数を表す。 【０１２３】前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される酸発
生剤の好ましい態様は、本発明者らが先に提案した特願
平１１−３２０９９７号明細書段落番号［０１９７］〜
［０２２２］に詳細に記載されている。これらの化合物
は、例えば、特開平２−１０００５４号、特開平２−１
０００５５号に記載の方法により合成することができ
る。 【０１２４】また、（Ｅ）酸発生剤として、ハロゲン化
物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げる
ことができ、中でも、ヨードニウム塩、スルホニウム
塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造式を有するものを
好適に挙げることができる。具体的には、前記の（Ｂ）
ラジカルを発生する化合物で示した一般式（ＩＩＩ）〜
（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。このようなオ
ニウム塩は、特開平１０−３９５０９号公報段落番号
［００１０］〜［００３５］に一般式（Ｉ）〜（ＩＩ
Ｉ）の化合物として記載されている。 【０１２５】これらの酸発生剤は単独で使用してもよい
し、２種以上を組合わせて使用してもよい。酸発生剤の
添加量としては、記録層の全固形分重量に対し０．０１
〜５０重量％が好ましく、０．１〜２５重量％がより好
ましく、０．５〜２０重量％が最も好ましい。前記添加
量が、０．０１重量％未満であると、画像が得られない
ことがあり、５０重量％を超えると、平版印刷用原版と
した時の印刷時において非画像部に汚れが発生すること
がある。 【０１２６】［（Ｆ）架橋剤］次に、架橋剤について説
明する。架橋剤としては、以下のものが挙げられる。 （ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基
で置換された芳香族化合物 （ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチ
ル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 （ｉｉｉ）エポキシ化合物 【０１２７】以下、前記（ｉ）〜（ｉｉｉ）の化合物に
ついて詳述する。前記（ｉ）ヒドロキシメチル基若しく
はアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物として
は、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基
若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香
族化合物又は複素環化合物が挙げられる。但し、レゾー
ル樹脂として知られるフェノール類とアルデヒド類とを
塩基性条件下で縮重合させた樹脂状の化合物も含まれ
る。ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基でポリ
置換された芳香族化合物又は複素環化合物のうち、中で
も、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基
又はアルコキシメチル基を有する化合物が好ましい。ま
た、アルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物
又は複素環化合物では、中でも、アルコキシメチル基が
炭素数１８以下の化合物が好ましく、下記一般式（１）
〜（４）で表される化合物がより好ましい。 【０１２８】 【化１４】【０１２９】 【化１５】 【０１３０】前記一般式（１）〜（４）中、Ｌ1〜Ｌ
8は、それぞれ独立に、メトキシメチル、エトキシメチ
ル等の、炭素数１８以下のアルコキシ基で置換されたヒ
ドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。これ
らの架橋剤は、架橋効率が高く、耐刷性を向上できる点
で好ましい。 【０１３１】前記（ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ
−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル
基を有する化合物としては、欧州特許公開（以下、「Ｅ
Ｐ−Ａ」と示す。）第０，１３３，２１６号、***特許
第３，６３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に
記載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアル
デヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、Ｅ
Ｐ−Ａ第０，２１２，４８２号明細書に記載のアルコキ
シ置換化合物等が挙げられる。中でも、例えば、少なく
とも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキ
シメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する
メラミン−ホルムアルデヒド誘導体が好ましく、Ｎ−ア
ルコキシメチル誘導体が最も好ましい。 【０１３２】前記（ｉｉｉ）エポキシ化合物としては、
１以上のエポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オ
リゴマー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例
えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応
生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂と
エピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。そ
の他、米国特許第４，０２６，７０５号、英国特許第
１，５３９，１９２号の各明細書に記載され、使用され
ているエポキシ樹脂を挙げることができる。 【０１３３】架橋剤として、前記（ｉ）〜（ｉｉｉ）の
化合物を用いる場合の添加量としては、記録層の全固形
分重量に対し５〜８０重量％が好ましく、１０〜７５重
量％がより好ましく、２０〜７０重量％が最も好まし
い。前記添加量が、５重量％未満であると、得られる画
像記録材料の記録層の耐久性が低下することがあり、８
０重量％を超えると、保存時の安定性が低下することが
ある。 【０１３４】本発明においては、架橋剤として、（ｉ
ｖ）下記一般式（５）で表されるフェノール誘導体も好
適に使用することができる。 【０１３５】 【化１６】 【０１３６】前記一般式（５）中、Ａｒ1は、置換基を
有していてもよい芳香族炭化水素環を表す。原料の入手
性の点で、前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン
環、ナフタレン環又はアントラセン環が好ましい。ま
た、その置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１２以
下の炭化水素基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素
数１２以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、ト
リフルオロメチル基等が好ましい。上記のうち、高感度
化が可能である点で、Ａｒ1としては、置換基を有して
いないベンゼン環、ナフタレン環、ハロゲン原子、炭素
数６以下の炭化水素基、炭素数６以下のアルコキシ基、
炭素数６以下のアルキルチオ基、又はニトロ基等を置換
基として有するベンゼン環又はナフタレン環がより好ま
しい。 【０１３７】［（Ｇ）アルカリ水可溶性高分子化合物］
本発明に係る架橋層に使用可能なアルカリ水可溶性高分
子化合物としては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシ
アリール基を有するポリマー等が挙げられる。前記ノボ
ラック樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類を酸
性条件下で縮合させた樹脂が挙げられる。 【０１３８】中でも、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−クレゾールと
ホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｐ−ク
レゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノ
ボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒド
から得られるノボラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾー
ルとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フ
ェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，ｏ−又はｍ−／ｐ
−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）の
混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂
や、フェノールとパラホルムアルデヒドとを原料とし、
触媒を使用せず密閉状態で高圧下、反応させて得られる
オルソ結合率の高い高分子量ノボラック樹脂等が好まし
い。前記ノボラック樹脂は、重量平均分子量が８００〜
３００，０００で、数平均分子量が４００〜６０，００
０のものの中から、目的に応じて好適なものを選択して
用いればよい。 【０１３９】また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を
有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシ
アリール基としては、ＯＨ基が１以上結合したアリール
基が挙げられる。前記アリール基としては、例えば、フ
ェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナント
レニル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性
の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。本
発明において使用可能な、側鎖にヒドロキシアリール基
を有するポリマーとしては、例えば、下記一般式（Ｉ
Ｘ）〜（ＸＩＩ）で表される構成単位のうちのいずれか
１種を含むポリマーを挙げることができる。但し、本発
明においては、これらに限定されるものではない。 【０１４０】 【化１７】【０１４１】一般式（ＩＸ）〜（ＸＩＩ）中、Ｒ11は、
水素原子又はメチル基を表す。Ｒ12及びＲ13は、同じで
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素
数１０以下の炭化水素基、炭素数１０以下のアルコキシ
基又は炭素数１０以下のアリールオキシ基を表す。ま
た、Ｒ12とＲ13が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘ
キサン環を形成していてもよい。Ｒ14は、単結合又は炭
素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ15は、単結
合又は炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ16
は、単結合又は炭素数１０以下の２価の炭化水素基を表
す。Ｘ1は、単結合、エーテル結合、チオエーテル結
合、エステル結合又はアミド結合を表す。ｐは、１〜４
の整数を表す。ｑ及びｒは、それぞれ独立に０〜３の整
数を表す。 【０１４２】これらのアルカリ可溶性高分子としては、
本発明者らが先に提案した特願平１１−３２０９９７号
明細書段落番号［０１３０］〜［０１６３］に詳細に記
載されている。本実施の形態に使用可能なアルカリ水可
溶性高分子化合物は、１種類のみで使用してもよいし、
２種類以上を組合わせて使用してもよい。 【０１４３】アルカリ水可溶性高分子化合物の添加量と
しては、記録層の全固形分に対し５〜９５重量％が好ま
しく、１０〜９５重量％がより好ましく、２０〜９０重
量％が最も好ましい。アルカリ水可溶性樹脂の添加量
が、５重量％未満であると、記録層の耐久性が劣化する
ことがあり、９５重量％を超えると、画像形が成されな
いことがある。 【０１４４】また、本発明に適用可能な公知の記録材料
としては、特開平８−２７６５５８号公報に記載のフェ
ノール誘導体を含有するネガ型画像記録材料、特開平７
−３０６５２８号公報に記載のジアゾニウム化合物を含
有するネガ型記録材料、特開平１０−２０３０３７号公
報に記載されている環内に不飽和結合を有する複素環基
を有するポリマーを用いた、酸触媒による架橋反応を利
用したネガ型画像形成材料などが挙げられ、これらに記
載の記録層を本発明に係るネガ型記録層としての酸架橋
層に適用することができる。 【０１４５】［その他の成分］本発明では、更に、必要
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。また、フタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンな
どの顔料も好適に用いることができる。これらの着色剤
は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすい
ので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、記録層
塗布液全固形分に対し、０．０１〜１０重量％の割合で
ある。 【０１４６】また、本発明においては、記録層は光重合
層である場合、塗布液の調製中或いは保存中においてラ
ジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化
合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止
剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤とし
てはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチル
カテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−
メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミ
ニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全
組成物の重量に対して約０．０１重量％〜約５重量％が
好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防
止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂
肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で記録層
の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量
は、全組成物の約０．１重量％〜約１０重量％が好まし
い。 【０１４７】また、本発明における記録層塗布液中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭６２−２５１７４０号や特開平３−２０８５１４号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９
−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。 【０１４８】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。 【０１４９】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、
商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。 【０１５０】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の記録層塗布液中に占める割合は、０．０５〜１５重
量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％であ
る。 【０１５１】更に、本発明に係る記録層塗布液中には、
必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が
加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン
酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリ
クレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オ
レイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。 【０１５２】［平版印刷版原版の製造］本発明の平版印
刷版原版を製造するには、通常、記録層塗布液に必要な
上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布す
ればよい。ここで使用する溶媒としては、エチレンジク
ロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メ
タノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノ
ール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−
２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げること
ができるがこれに限定されるものではない。これらの溶
媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分
（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５
０重量％である。 【０１５３】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の記
録層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、平版
印刷版原版についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ／
ｍ2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を
用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけ
の感度は大になるが、画像記録の機能を果たす記録層の
皮膜特性は低下する。 【０１５４】［支持体］本発明の平版印刷版原版におい
て前記記録層を塗布可能な支持体としては、寸度的に安
定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック（例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）
がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウ
ム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二
酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セ
ルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラミ
ネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィルム
等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステ
ルフィルム又はアルミニウム板が挙げられる。 【０１５５】本発明の平版印刷版原版に使用する支持体
としては、軽量で表面処理性、加工性、耐食性に優れた
アルミニウム板を使用することが好ましい。この目的に
供されるアルミニウム材質としては、ＪＩＳ １０５０
材、ＪＩＳ １１００材、ＪＩＳ １０７０材、Ａｌ−
Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｍｎ系合金、Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合
金、Ａｌ−Ｚｒ系合金。Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金などが
挙げられる。 【０１５６】アルミニウム板は表面に粗面化処理等の表
面処理を行い、記録層を塗布して平版印刷版原版とする
ことができる。粗面化処理には、機械的粗面化、化学的
粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組み合わせて行わ
れる。また、表面のキズ付き難さを確保するための陽極
酸化処理を行ったり、親水性を増すための処理を行うこ
とも好ましい。 【０１５７】以下に支持体の表面処理について説明す
る。アルミニウム板を粗面化するに先立ち、必要に応
じ、表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性
剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理
が行われてもよい。アルカリの場合、次いで酸性溶液で
中和、スマット除去などの処理を行ってもよい。 【０１５８】次いで支持体と記録層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト等の機械的砂目立て方法があり、またアルカリ
又は酸或いはそれらの混合物からなるエッチング剤で表
面を粗面化処理する化学的砂目立て方法がある。また、
電気化学的砂目立て方法、支持体材料に、粒状体を接着
剤又はその効果を有する方法で接着させて表面を粗面化
する方法や、微細な凹凸を有する連続帯やロールを支持
体材料に圧着させて凹凸を転写する粗面化方法等公知の
方法を適用できる。 【０１５９】これらのような粗面化方法は複数を組み合
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。前述のような粗面化処理すな
わち砂目立て処理して得られた支持体の表面には、スマ
ットが生成しているので、このスマットを除去するため
に適宜水洗或いはアルカリエッチング等の処理を行うこ
とが一般的に好ましい。 【０１６０】本発明に用いられるアルミニウム支持体の
場合には、前述のような前処理を施した後、通常、耐摩
耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化
によって支持体に酸化皮膜を形成させる。 【０１６１】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸或いはこれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が１〜８０％溶液、液温は５〜７０℃、電流密
度５〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１
０秒〜５分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜の
量は１．０ｇ／ｍ2以上が好適であるが、より好ましく
は２．０〜６．０ｇ／ｍ2の範囲である。陽極酸化皮膜
が１．０ｇ／ｍ2未満であると耐刷性が不十分であった
り、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷
時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。 【０１６２】このようなアルミニウム支持体は、陽極酸
化処理後に、有機酸又はその塩による処理、又は記録層
塗布の下塗りを適用して用いることができる。 【０１６３】なお、支持体と記録層との密着性を高める
ための中間層を設けてもよい。密着性の向上のために
は、一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えば、アルミニ
ウムに吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層
の厚さは任意であり、露光した時に、上層の記録層と均
一な結合形成反応を行い得る厚みでなければならない。
通常、乾燥固体で約１〜１００ｍｇ／ｍ2の塗布割合が
よく、５〜４０ｍｇ／ｍ2が特に良好である。中間層中
におけるジアゾ樹脂の使用割合は、３０〜１００％、好
ましくは６０〜１００％である。 【０１６４】支持体表面に以上のような処理或いは、下
塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じ
てバックコートが設けられる。かかるバックコートとし
ては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合
物及び特開平６−３５１７４号記載の有機又は無機金属
化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物
からなる被覆層が好ましく用いられる。 【０１６５】平版印刷版原版の支持体として好ましい特
性としては、中心線平均粗さで０．１０〜１．２μｍで
ある。この範囲において、記録層との密着性及び印刷時
の汚れ性が良好となるためである。更には、支持体の表
面形状を微細に制御する、例えば、特願２０００−３９
５００７号に記載の特性を有することが好ましい。詳細
には、支持体表面に、大中小の３重凹凸構造を有し、大
凹凸構造の波長が３〜１０μｍであり、中凹凸構造が前
記大凹凸構造のピットであり、小凹凸構造が前記大凹凸
構造のピットの前記微細凹凸構造を有するものが好まし
い。また、特願２００１−３０９３０４号に記載のよう
に、支持体表面が、平均開口径０．５〜５μｍの中波構
造と平均開口径０．０１〜０．２μｍの小波構造とを重
畳した構造の砂目形状を有するものが好ましい。これら
の支持体を用いることにより、記録層との密着性が向上
し、記録層の強度保持と、印刷時の耐汚れ性が優れたも
のとなる。また、支持体の色濃度が、反射濃度値として
０．１５〜０．６５の範囲であることが好ましい。この
範囲において、画像露光時のハレーションによる画像形
成への障害がなく、かつ、現像後の検版作業を問題なく
行うことができるためである。 【０１６６】以上のようにして、本発明の平版印刷版原
版を作成することができる。この平版印刷版原版は、赤
外線レーザで記録できる。また、紫外線ランプやサーマ
ルヘッドによる熱的な記録も可能である。本発明におい
ては、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放射
する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光される
ことが好ましい。レーザの出力は１００ｍＷ以上が好ま
しく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデ
バイスを用いることが好ましい。また、１画素あたりの
露光時間は２０μ秒以内であることが好ましい。記録材
料に照射されるエネルギーは１０〜３００ｍＪ／ｃｍ2
であることが好ましい。 【０１６７】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
平版印刷版原版は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶
液にて現像される。現像液として、アルカリ性水溶液を
用いる場合、本発明の平版印刷版原版の現像液及び補充
液としては、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。
例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同ア
ンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカ
リ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチル
アミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、
ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノー
ルアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も
用いられる。これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を
組み合わせて用いられる。 【０１６８】更に、自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液と同じもの又は、現像液よりもアルカリ強度
の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによっ
て、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、
多量の平版印刷版原版を処理できることが知られてい
る。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用され
る。 【０１６９】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。更に、現像液及び補充液には必要に応じて、ハイ
ドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水素酸のナ
トリウム塩及びカリウム塩等の無機塩系還元剤、更に
は、有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えること
もできる。 【０１７０】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。 【０１７１】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。 【０１７２】以上のようにして得られた平版印刷版は、
所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供
することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版
としたい場合にはバーニング処理が施される。このよう
な所定の工程を経て得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。 【０１７３】 【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例１） ［支持体の作成］９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆ
ｅ０．３０％、Ｓｉ０．１０％、Ｔｉ０．０２％、Ｃｕ
０．０１３％を含むＪＩＳ Ａ１０５０合金の溶湯に清
浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の
水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、
セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法
はＤＣ鋳造法で行った。凝固した板厚５００ｍｍの鋳塊
を表面から１０ｍｍ面削し、金属間化合物が粗大化して
しまわないように５５０℃で１０時間均質化処理を行っ
た。次いで、４００℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で５
００℃６０秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板厚
０．３０ｍｍのアルミニウム圧延板とした。圧延ロール
の粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線表面
粗さ（Ｒａ）を０．２μｍに制御した。その後、平面性
を向上させるためにテンションレベラーにかけた。 【０１７４】次に、平版印刷版原版用の支持体とするた
めの表面処理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧
延油を除去するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５
０℃３０秒間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０
℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。次いで、
支持体と記録層の密着性を良好にし、かつ非画像部に保
水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆ
る、砂目立て処理を行った。１％の硝酸と０．５％の硝
酸アルミを含有する水溶液を４５℃に保ち、アルミウェ
ブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密
度２０Ａ／ｄｍ2、デューティー比１：１の交番波形で
アノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ2を与えることで電解
砂目立てを行った。その後１０％アルミン酸ソーダ水溶
液で５０℃３０秒間エッチング処理を行い、３０％硫酸
水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行っ
た。 【０１７５】更に、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより１４Ａ／ｄｍ2の直流で電解処理を行うこと
で２．５ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を作成した。この後、
印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケ
ート処理を行った。処理は３号珪酸ソーダ１．５％水溶
液を７０℃に保ちアルミウェブの接触時間が１５秒とな
るよう通搬し、更に水洗した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ
／ｍ2であった。以上により作成した支持体の中心線表
面粗さ（Ｒａ）は０．２５μｍであった。 【０１７６】［下塗り］次に、このアルミニウム支持体
に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥
装置を用いて９０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被服
量は１０ｍｇ／ｍ2であった。 ＜下塗り液＞ ・エチルメタクリレートと２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスル ホン酸ナトリウム塩のモル比７５：１５の共重合体 ・・・０．１ｇ ・２−アミノエチルホスホン酸 ・・・０．１ｇ ・メタノール ・・・５０ｇ ・イオン交換水 ・・・５０ｇ 【０１７７】［記録層の形成］次に、下記溶液［Ｐ−
１］を調整し、上記の下塗り済みのアルミニウム支持体
にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１
１５℃で４５秒間乾燥してネガ型平版印刷版原版［Ｐ−
１］を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ2
の範囲内であった。 【０１７８】 ＜溶液［Ｐ−１］＞ ・赤外線吸収剤［特定色素：例示化合物（Ａ−２）］ ・・・０．０８ｇ ・重合開始剤［Ｏ−１（下記構造）］ ・・・０．３０ｇ ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・１．００ｇ ・アリルメタクリレートとメタクリル酸のモル比８０：２０の共重合体 （重量平均分子量１２万） ・・・１．００ｇ ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 ・・・０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ・・・０．０１ｇ （メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ・・・９．０ｇ ・メタノール ・・・１０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・８．０ｇ 【０１７９】 【化１８】 【０１８０】［露光］得られたネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−１］を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載
したＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦ
Ｓにて、出力１３．５Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐ
ｍ、版面エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ2、解像度２４０
０ｄｐｉの条件で露光した。 【０１８１】［現像処理］露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００Ｎを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイ
ルム（株）製ＤＮ−３Ｃの１：１水希釈液を用いた。現
像浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、
富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を
用いた。 【０１８２】［印刷］次に、平版印刷版［Ｐ−１］を、
小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて
印刷した。 【０１８３】［評価］ １．感度評価 上記露光工程において、出力を２〜２０Ｗまで約４０％
毎に変化させて、感度を求めた。ここで、感度とは、露
光部が現像により濃度低下を起こし始める最小エネルギ
ー量と定義し、そのエネルギー量（Ｅ）は以下の式で表
される。Ｅ＝Ｗ×２３５０／ｒｐｍ（Ｗ：出力、ｒｐ
ｍ：回転数）結果は表１に示す。 【０１８４】２．耐刷性評価 上記印刷工程において、どれだけの枚数が十分なインキ
濃度を保って印刷できるかを目視にて評価した。結果は
表１に示す。 【０１８５】３．経時安定性評価 未露光のネガ型平版印刷版原版［Ｐ−１］を、室温環境
下で３ヶ月間放置した。放置後のネガ型平版印刷版原版
を上記と同様にして、１．感度評価、及び、２．耐刷性
評価を行った。結果は表１に併記する。 【０１８６】 【表１３】 【０１８７】（比較例１）実施例１において、溶液［Ｐ
−１］中の赤外線吸収剤を、特定色素：例示化合物（Ａ
−２）から下記に示す構造を有する色素に変更した他は
同様にして、比較例１のネガ型平版印刷版原版［ＰＲ−
１］を作製した。その後、実施例１と同様にして露光、
現像及び印刷を行い、耐刷性を評価した。結果は表１に
併記する。 【０１８８】 【化１９】 【０１８９】（実施例２） ［支持体の作成］厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板
（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストン−
水懸濁液を用い、その表面を砂目立てし、よく水で洗浄
した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液
に９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更に、２％
ＨＮＯ3に２０秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立
て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ2であった。次に、
この板を７％Ｈ2ＳＯ4を電解液として電流密度１５Ａ／
ｄｍ2で３ｇ／ｍ2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗
乾燥した。 【０１９０】［下塗り］次に、このアルミニウム支持体
に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥
装置を用いて８０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被覆
量は１０ｍｇ／ｍ2であった。 ＜下塗り液＞ ・β−アラニン ・・・０．１ｇ ・フェニルホスホン酸 ・・・０．０５ｇ ・メタノール ・・・４０ｇ ・純水 ・・・６０ｇ 【０１９１】［記録層の形成］次に、下記溶液［Ｐ−
２］を調整し、上記の下塗り済みのアルミニウム支持体
にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１
００℃で１分間乾燥してネガ型平版印刷版原版［Ｐ−
２］を得た。乾燥後の被覆量は１．５ｇ／ｍ2であっ
た。 【０１９２】 ＜溶液［Ｐ−２］＞ ・ノニルフェノール（異性体混合物、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）・・・０．０５ｇ ・酸発生剤［ＳＨ−１（下記構造）］ ・・・０．３ｇ ・架橋剤［ＫＺ−１（下記構造）］ ・・・０．５ｇ ・バインダーポリマー：ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン） ・・・１．５ｇ （マルカ リンカーＭ Ｓ−４Ｐ、丸善石油化学社製） ・赤外線吸収剤［特定色素：例示化合物（Ｂ−７）］ ・・・０．０７ｇ ・ＡＩＺＥＮ ＳＰＩＬＯＮ ＢＬＵＥ Ｃ−ＲＨ ・・・０．０３５ｇ （保土ヶ谷化学（株）製） ・フッ素系界面活性剤 ・・・０．０１ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ・・・１２ｇ ・メチルアルコール ・・・１０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・８ｇ 【０１９３】溶液［Ｐ−２］に用いた酸発生剤［ＳＨ−
１］の構造を以下に示す。 【化２０】 【０１９４】溶液［Ｐ−２］に用いた架橋剤［ＫＺ−
１］の合成法及び構造を以下に示す。 ＜架橋剤［ＫＺ−１］の合成＞１−［α−メチル−α−
（４−ヒドロキシフェニル）エチル］―４―［α、α−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼンを、
水酸化カリウム水溶液中で、ホルマリンと反応させた。
反応溶液を硫酸で酸性とし晶析させ、更に、メタノール
から再結晶することにより、下記構造の架橋剤［ＫＺ−
１］を得た。逆相ＨＰＬＣにより純度を測定したとこ
ろ、９２％であった。 【０１９５】 【化２１】 【０１９６】［露光］得られたネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−２］を、実施例１と同様の条件で露光した。 【０１９７】［現像処理］露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処
理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フ
イルム（株）製ＤＰ−４の１：８水希釈液を用いた。現
像浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、
富士写真フイルム（株）製ＦＰ−２Ｗの１：１水希釈液
を用いた。 【０１９８】［印刷］次に、露光、現像により得られた
平版印刷版［Ｐ−２］を、実施例１と同様にして印刷し
た。 【０１９９】［評価］実施例１と同様にして、１．感度
評価、２．耐刷性評価、及び、３．経時安定性評価を行
った。結果は表１に併記する。 【０２００】（比較例２）実施例２において、溶液［Ｐ
−２］中の赤外線吸収剤を、特定色素：例示化合物（Ｂ
−７）から下記に示す構造を有する色素に変更した他は
同様にして、比較例２のネガ型平版印刷版原版［ＰＲ−
２］を作製した。その後、実施例２と同様にして露光、
現像及び印刷を行い、耐刷性を評価した。結果は表１に
併記する。 【０２０１】 【化２２】 【０２０２】表１３に明らかなように、本発明の平版印
刷版原版（実施例１及び２の平版印刷版原版Ｐ−１及び
Ｐ−２）は、製版において良好な感度を示し、地汚れの
ない鮮明な印刷画質の印刷物が５万枚以上得られた。更
に、それら平版印刷版原版は、製版直後と、経時後と、
に耐刷性の変化は見られず、経時安定性が高いことがわ
かった。一方、比較例の平版印刷版原版ＰＲ−１及びＰ
Ｒ−２は、製版における感度及び耐刷性が低く、更に、
製版直後と、経時後と、では耐刷性が大きく低下し、著
しく性能が劣化していることが判明した。 【０２０３】（実施例３〜１６）実施例１において、溶
液［Ｐ−１］中の赤外線吸収剤を、特定色素：例示化合
物（Ａ−２）から下記表１４に示す例示化合物にそれぞ
れ代えた他は、実施例１と同様にして、実施例３〜１６
のネガ型平版印刷版原版［Ｐ−３］〜［Ｐ−１６］を作
製した。その後、実施例１と同様にして露光、現像及び
印刷を行い、耐刷性を評価した。 【０２０４】 【表１４】 【０２０５】実施例３〜１６の平版印刷版原版［Ｐ−
３］〜［Ｐ−１６］は、それぞれ、実施例１の平版印刷
版原版［Ｐ−１］と同等の性能を示し、感度、耐刷性、
経時安定性のいずれも良好であった。 【０２０６】（実施例１７〜２５）実施例１において、
溶液［Ｐ−１］中の赤外線吸収剤及び重合開始剤が、特
定色素：例示化合物Ａ−２；０．０８ｇ、重合開始剤
［Ｏ−１］；０．３０ｇであったものを、下記表１５に
示す例示化合物；０．０９ｇ及び重合開始剤；０．３０
ｇにそれぞれ代えた他は、実施例１と同様にして、実施
例１７〜２５のネガ型平版印刷版原版［Ｐ−１７］〜
［Ｐ−２５］を作製した。その後、実施例１と同様にし
て露光、現像及び印刷を行い、耐刷性を評価した。 【０２０７】 【表１５】 【０２０８】実施例１７〜２５のネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−１７］〜［Ｐ−２５］は、それぞれ、実施例１の
平版印刷版原版［Ｐ−１］と同等の性能を示し、感度、
耐刷性、経時安定性のいずれも良好であった。 【０２０９】（実施例２６〜４１） ［記録層の形成］下記溶液［Ｐ−３］を調整し、上記実
施例２において用いられたものと同じ下塗り済みのアル
ミニウム支持体に、ワイヤーバーを用いて塗布し、温風
式乾燥装置にて１００℃で１分間乾燥してネガ型平版印
刷版原版［Ｐ−２６］〜［Ｐ−４１］を得た。乾燥後の
被覆量は１．６ｇ／ｍ2であった。 【０２１０】 ＜溶液［Ｐ−３］＞ ・赤外線吸収剤［特定色素：下記表１６に表示の例示化合物］・・０．１０ｇ ・酸発生剤［ＳＨ−２（下記構造）］ ・・・０．１５ｇ ・架橋剤［ＫＺ−２（下記構造）］ ・・・０．５０ｇ ・クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 （メタ：パラ＝８：２、重量平均分子量５８００） ・・・１．１ｇ ・ビスフェノールＡとホルムアルデヒドから得られるレゾール樹脂 （重量平均分子量１６００） ・・・１．０ｇ ・フッ素系界面活性剤 ・・・０．０６ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ・・・２０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・７ｇ 【０２１１】 【表１６】 【０２１２】溶液［Ｐ−３］に用いた酸発生剤［ＳＨ−
２］の構造を以下に示す。 【化２３】 【０２１３】溶液［Ｐ−３］に用いた架橋剤［ＫＺ−
２］の構造を以下に示す。 【化２４】 【０２１４】［露光、現像処理、及び印刷］得られたネ
ガ型平版印刷版原版［Ｐ−２６］〜［Ｐ−４１］を、実
施例２と同様の方法で、露光、現像処理、及び印刷し
た。 【０２１５】［評価］実施例２と同様にして、１．感度
評価、２．耐刷性評価、及び、３．経時安定性評価を行
った。 【０２１６】実施例２６〜４１のネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−２６］〜［Ｐ−４１］は、それぞれ、実施例２の
平版印刷版原版［Ｐ−２］と同等の性能を示し、感度、
耐刷性、経時安定性のいずれも良好であった。 【０２１７】（実施例４２〜４９）実施例１において、
溶液［Ｐ−１］中の赤外線吸収剤及び重合開始剤が、特
定色素：例示化合物Ａ−２；０．０８ｇ、重合開始剤
［Ｏ−１］；０．３０ｇであったものを、下記表１７に
示す例示化合物；０．４０ｇにそれぞれ代えた他は、実
施例１と同様にして、実施例４２〜４９のネガ型平版印
刷版原版［Ｐ−４２］〜［Ｐ−４９］を作製した。その
後、実施例１と同様にして露光、現像及び印刷を行い、
耐刷性を評価した。 【０２１８】 【表１７】 【０２１９】実施例４２〜４９のネガ型平版印刷版原版
［Ｐ−４２］〜［Ｐ−４９］は、それぞれ、実施例１の
平版印刷版原版［Ｐ−１］と同等以上の性能を示し、感
度、耐刷性、経時安定性のいずれも良好であった。 【０２２０】 【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザ及び半導体レーザを用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接記録可能で
あると共に、感度及び画像部強度の優れた記録層を有
し、良好な印刷物が多数枚得られる耐刷性に優れた平版
印刷版を製版しうるネガ型平版印刷版原版を提供するこ
とができる。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０９Ｂ 69/02 Ｃ０９Ｂ 69/02
69/04 69/04
Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３
(72)発明者 加藤 栄一
静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写
真フイルム株式会社内
Ｆターム(参考） 2H025 AA11 AA12 AA13 AB03 AC08
AD01 BC13 BC42 BF00 CA00
CC17 FA17
2H096 AA06 BA05 BA06 EA04 GA08
2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 DA41
EA01 EA03 EA04 GA03 GA05
GA06 GA09 GA27 GA34 GA36
GA38
4H056 CA01 CA02 CA05 CB01 CB06
CC02 CC08 CE03 CE06 CE07
DD03 DD04 DD06 DD11 DD16
DD19 DD23 DD30
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 支持体上に、少なくとも、下記一般式
（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表される化合物と、熱によ
りラジカル或いは酸を発生する化合物と、重合性化合物
或いは架橋性化合物と、を含有するネガ型記録層を設け
てなることを特徴とする赤外線レーザ対応平版印刷版原
版。 【化１】 上記一般式（Ｉ）中、Ｑ1は、５員もしくは６員の複素
環又は５員もしくは６員の複素環を含む縮合環を形成す
るのに必要な原子群を表す。Ｒoは、脂肪族基を表す。
Ｒo1は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｚは、酸素原
子、イオウ原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。
Ｑ2は、ピリリウムイオン構造を形成するのに必要な原
子群を表す。Ｙ1及びＹ2は、各々、同じでも異なってい
てもよく、水素原子、脂肪族基、芳香族基、シアノ基、
ニトロ基、−ＯＲ、又は−ＳＲを表す。但し、Ｒは脂肪
族基又は芳香族基を表す。Ｌは、ポリメチン基を表す。
ｐ及びｑは、０又は１を表す。Ａ-は、電荷の中和が必
要な場合に存在する対アニオンを表す。但し、ｎは１〜
５の整数である。 【化２】 上記一般式（ＩＩ）中、Ｑ1、Ｒo、Ｒo1、Ｚ、Ｑ2、
Ｙ1、Ｙ2、Ｌ、ｐ、及びｑは、前記一般式（Ｉ）と同様
である。Ｂ+は、電荷の中和が必要な場合に存在するオ
ニウムカチオンを表す。但し、ｍは１〜３の整数であ
る。
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|---|---|---|---|---|
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