JP2003259121A - Dot dispersion type mask, image display device, device and method for image processing, image processing program, method and program for forming the dot dispersion type mask, and computer-readable recording medium - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve picture quality by making neither a regular pattern nor a worm pattern appear in a dot pattern by a gradation number converting method using a dot dispersion type mask. <P>SOLUTION: The dot dispersion type mask is for converting gradation values of respective pixels of image data with continuous gradations into binary or multi-valued values and has such an array of thresholds that a dot pattern obtained by the conversion has regularity or irregularity. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、連続階調の画像デ
ータにおける各画素の階調値を２値または多値に変換す
るためのドット分散型マスク、画像表示装置、ドット分
散型マスクの作成方法、ドット分散型マスクの作成プロ
グラムおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dot dispersion type mask, an image display device, and a dot dispersion type mask for converting the gradation value of each pixel in continuous gradation image data into binary or multivalued. The present invention relates to a method, a dot dispersion mask creation program, and a computer-readable recording medium.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来、携帯電話機などの画像表示部に
は、モノクロまたはカラーの液晶表示（ＬＣＤ：Liquid
Crystal Display）パネルが用いられている。このＬＣ
Ｄパネルでは、マトリクス状に配置された液晶セルへの
駆動電圧をＯＮ／ＯＦＦすることにより液晶の透過率を
変化させ、２階調または多階調の画像を表示するように
なっている。最近では、携帯電話機におけるインターネ
ット機能などの多機能化に伴い、ＬＣＤパネルに対し
て、画像を含むより多くの情報を多階調かつ高画質で表
示することが要求されている。2. Description of the Related Art Conventionally, an image display unit of a mobile phone or the like has a monochrome or color liquid crystal display (LCD: Liquid).
Crystal Display) panel is used. This LC
In the D panel, the transmittance of the liquid crystal is changed by turning ON / OFF the driving voltage to the liquid crystal cells arranged in a matrix, and an image with two gradations or multiple gradations is displayed. Recently, as mobile phones have become more multifunctional such as the Internet function, it has been required to display more information including images with higher gradation and higher image quality on the LCD panel.

【０００３】携帯電話機において使用されるＬＣＤパネ
ルでは、携帯電話という用途上低消費電力での表示が必
要になる。このため、多階調かつ高画質で表示する際に
は、従来の液晶セル駆動による階調表現のほかに、画像
データの面積階調表現を併用する場合がある。画像デー
タの面積階調表現は人間の視覚特性を利用した階調表現
方法であり、データ処理によって階調を表すため、液晶
セル駆動部分にかかる消費電力を低減できるという利点
を持つ。An LCD panel used in a mobile phone requires a display with low power consumption for a mobile phone application. Therefore, when displaying with multiple gradations and high image quality, area gradation expression of image data may be used in addition to conventional gradation expression by driving a liquid crystal cell. The area gradation expression of image data is a gradation expression method using human visual characteristics, and since the gradation is expressed by data processing, there is an advantage that the power consumption of the liquid crystal cell driving portion can be reduced.

【０００４】画像データの面積階調表現によって連続的
な色調の画像を表現するためには、元の画像をハーフト
ーン化する必要がある。このようなハーフトーン化を行
う際、ディザの付加用マスクを用いる技術が知られてお
り、例えば、Ｂａｙｅｒによる“Ａｎ ｏｐｔｉｍｕｍ
ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ ｔｗｏ−ｌｅｖｅｌ ｒｅｎ
ｄｉｔｉｏｎｏｆ ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ−ｔｏｎｅ
ｐｉｃｔｕｒｅｓ”（ＩＥＥＥ国際コミュニケーション
会議、１９７３年１月１１〜１５日）の論文に、人間の
視覚系が非常に高い周波数の信号に対して知覚力が低下
することを利用して、大きさ２ｍ×２ｍ、および２（ｍ
＋１）の固定のハーフトーン・マスク（Ｂａｙｅｒマス
ク）の組を用いて低い周波数における低スペクトル成分
を取り込むような閾値による基準を設定することが記載
されている。In order to express an image of continuous color tone by the area gradation expression of image data, it is necessary to halftone the original image. A technique using a dither addition mask when performing such halftoning is known, for example, “An optimum” by Bayer.
method for two-level ren
edition of continuous-tone
The paper entitled "Pictures" (IEEE International Communication Conference, January 11-15, 1973) uses the fact that the human visual system is less perceptive to signals of very high frequency, and is 2 m in size. 2m, and 2 (m
It is described that a fixed halftone mask (Bayer mask) set of +1) is used to set a threshold criterion to capture low spectral components at low frequencies.

【０００５】また、Ｙ．ＹａｏとＫ．Ｊ．Ｐａｒｋｅｒ
による“Ｄｉｇｉｔａｌ Ｈａｌｆｔｏｎｉｎｇ Ｕｓｉ
ｎｇ ａ Ｂｌｕｅ Ｎｏｉｓｅ Ｍａｓｋ”（Ｐｒｏｃ．
ＳＰＩＥ１４５２）には、Ｂａｙｅｒマスクよりもさら
に人間の視覚系に目立ちにくいドットパターンを発生さ
せる「ブルーノイズマスク法」が記載されている。In addition, Y. Yao and K. J. Parker
By "Digital Halftoning Usi
ng a Blue Noise Mask "(Proc.
SPIE1452) describes a "blue noise mask method" that generates a dot pattern that is more inconspicuous to the human visual system than a Bayer mask.

【０００６】また、特開平６−２２１２３号公報には、
例えば、１３×９のサイズを有し、所定の規則に従って
閾値を敷き詰めるＢａｙｅｒマスクの改良技術が開示さ
れている。Further, Japanese Patent Laid-Open No. 6-22123 discloses that
For example, an improved technique of a Bayer mask having a size of 13 × 9 and spreading a threshold according to a predetermined rule is disclosed.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記Ｂ
ａｙｅｒマスクでは、図７に示すような規則的なパター
ンが発生する。これを図２８〜図３１に示すＢａｙｅｒ
マスクの周波数特性を用いて説明する。図２８〜図３１
のそれぞれにおいて、（ａ）は、Ｂａｙｅｒマスクによ
り２値に変換されたドットパターンを示す。ドットパタ
ーンの濃度は、１／８、２／８、３／８、および４／８
の４段階であり、それぞれが図２８〜図３１に示されて
いる。これらのドットパターンをフーリエ変換した２次
元ＦＦＴの振幅を各図（ｂ）に、ＦＦＴの３次元プロッ
トを各図（ｃ）に示す。各図（ｂ）、（ｃ）において、
周波数成分が孤立して現れることは、ドットパターンに
この周波数が多く含まれていることを示し、ドットパタ
ーンの周期性または規則性が、この周波数において強い
ことを表す。このように、Ｂａｙｅｒマスクでは、規則
性を示す周波数成分のみが存在するので、Ｂａｙｅｒマ
スクを用いて２値化した画像には規則的なパターンが生
じる。[Problems to be Solved by the Invention] However, the above B
With the ayer mask, a regular pattern as shown in FIG. 7 is generated. This is shown in FIG. 28 to FIG.
This will be described using the frequency characteristics of the mask. 28 to 31
In each of the above, (a) shows a dot pattern converted into a binary value by the Bayer mask. Dot pattern densities are 1/8, 2/8, 3/8, and 4/8
28-31, each of which is shown in FIGS. The amplitude of a two-dimensional FFT obtained by Fourier transforming these dot patterns is shown in each figure (b), and the three-dimensional plot of the FFT is shown in each figure (c). In each figure (b), (c),
The appearance of the frequency components in isolation indicates that the dot pattern contains a large amount of this frequency, and the periodicity or regularity of the dot pattern is strong at this frequency. As described above, in the Bayer mask, only the frequency component showing the regularity exists, so that a regular pattern is generated in the image binarized using the Bayer mask.

【０００８】一方、上記ブルーノイズマスクでは、図８
に示すように、蛇の皮膚のような模様（ウォーム模様）
が発生する。これを図３２〜図３５に示すブルーノイズ
マスクの周波数特性を用いて説明する。図３２〜図３５
のそれぞれにおいて、（ａ）は、ブルーノイズマスクに
より２値に変換されたドットパターンを示す。ドットパ
ターンの濃度は、１／８、２／８、３／８、および４／
８の４段階であり、それぞれが図３２〜図３５に示され
ている。これらのドットパターンをフーリエ変換した２
次元ＦＦＴの振幅を各図（ｂ）に、ＦＦＴの３次元プロ
ットを各図（ｃ）に示す。各図（ｂ）、（ｃ）におい
て、周波数が０の成分（直流）以外は、目立った周波数
成分が存在しないことは、ドットパターンの周期性また
は規則性がほとんどないことを表す。このように、ブル
ーノイズマスクは、周波数が０の成分（直流）以外は完
全に不規則な成分のみを含む。低濃度（例えばｇ＝１／
８）や高濃度（例えばｇ＝７／８）の領域ではドットの
規則性が現れず、良好な画像が得られるが、中濃度（概
ね１／４〜３／４）の領域では、不規則成分によりドッ
トが不規則に連続してウォーム模様が現れてしまう。On the other hand, the blue noise mask shown in FIG.
A snake-like pattern (warm pattern), as shown in
Occurs. This will be described using the frequency characteristics of the blue noise mask shown in FIGS. 32 to 35
In each of the above, (a) shows a dot pattern converted into binary by a blue noise mask. Dot pattern densities are 1/8, 2/8, 3/8, and 4 /
8 to 4 stages, each of which is shown in FIGS. Fourier transform of these dot patterns 2
The amplitude of the dimensional FFT is shown in each figure (b), and the three-dimensional plot of the FFT is shown in each figure (c). In each of the diagrams (b) and (c), the fact that there is no conspicuous frequency component other than the component (DC) having a frequency of 0 means that the dot pattern has little periodicity or regularity. As described above, the blue noise mask includes only completely irregular components other than the component having zero frequency (DC). Low concentration (eg g = 1 /
8) and high density (for example, g = 7/8) areas do not show dot regularity and a good image can be obtained, but irregularity occurs in medium density (generally 1/4 to 3/4) areas. Depending on the component, dots appear irregularly and continuously, and a warm pattern appears.

【０００９】表示階調数が少ない画像表示装置ではこれ
らのパターンが目立つため、この点を改良し画像の高品
質化が望まれる。Since these patterns are conspicuous in an image display device having a small number of display gradations, improvement of this point and improvement of image quality are desired.

【００１０】また、特開平６−２２１２３号公報に開示
されているマスクは、図３６〜図３９に示すような周波
数特性を有する。図３６〜図３９のそれぞれにおいて、
（ａ）は、同マスクにより２値に変換されたドットパタ
ーンを示す。ドットパターンの濃度は、１／８、２／
８、３／８、および４／８の４段階であり、それぞれが
図３６〜図３９に示されている。これらのドットパター
ンをフーリエ変換した２次元ＦＦＴの振幅を各図（ｂ）
に、ＦＦＴの３次元プロットを各図（ｃ）に示す。この
マスクの特徴は、規則性を示す周波数成分と不規則性を
示す周波数成分とを有することにあるが、例えば、各図
（ｃ）の黒丸で囲った周波数成分に示すように、ピーク
が大きい周波数成分が特定の位置に出現するため、各図
（ａ）に示すようなこの周波数成分に対応する規則性が
現れる。また、各図（ｃ）について見ると、図３９
（ｃ）において白矢印で示した周波数成分のように、不
規則性を示す成分が低い周波数領域に出現するため、低
周波数成分が多いすなわちドットの間隔が近接する傾向
が強くなる。The mask disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-22123 has frequency characteristics as shown in FIGS. 36 to 39. In each of FIGS. 36 to 39,
(A) shows the dot pattern converted into binary by the same mask. Dot pattern density is 1/8, 2 /
There are four stages of 8, 3/8, and 4/8, each of which is shown in FIGS. The amplitude of a two-dimensional FFT obtained by Fourier-transforming these dot patterns is shown in each figure (b).
The three-dimensional plot of FFT is shown in each figure (c). The characteristic of this mask is that it has frequency components showing regularity and frequency components showing irregularity. For example, as shown in the frequency components surrounded by black circles in each figure (c), the peak is large. Since the frequency component appears at a specific position, regularity corresponding to this frequency component as shown in each figure (a) appears. Further, looking at each figure (c), FIG.
Like the frequency component indicated by the white arrow in (c), a component showing irregularity appears in a low frequency region, so that there are many low frequency components, that is, the tendency that dots are close to each other becomes strong.

【００１１】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、ドット分散型であって、ドットパターン
に規則的なパターンやウォーム模様が現れず、画質の向
上を図ることができるドット分散型マスク、画像表示装
置、ドット分散型マスクの作成方法、ドット分散型マス
クの作成プログラムおよびコンピュータ読み取り可能な
記録媒体を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a dot dispersion type, in which a regular pattern or warm pattern does not appear in the dot pattern, and it is possible to improve the image quality. An object of the present invention is to provide a dispersion type mask, an image display device, a dot dispersion type mask making method, a dot dispersion type mask making program, and a computer-readable recording medium.

【００１２】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の１つの観点で
は、ドット分散型マスクは、連続階調の画像データにお
ける各画素の階調値を２値または多値に変換するための
ドット分散型マスクであって、変換により得られるドッ
トパターンに規則性および不規則性が現れるような閾値
の配列を有することを特徴としている。In one aspect of the present invention, a dot dispersion type mask is a dot dispersion type mask for converting the gradation value of each pixel in continuous gradation image data into binary or multivalued. The mask is characterized by having an array of threshold values such that the dot pattern obtained by the conversion shows regularity and irregularity.

【００１３】このように、ドット分散型を採るので、そ
れぞれのドットが空間的に分離したドットパターンを生
じる。このため、ドットの隣接が生じにくい。また、ド
ットパターンに規則性と共に不規則性を有するので、Ｂ
ａｙｅｒの様な規則的パターンやブルーノイズマスクの
ような中濃度でのウォーム模様が生じない。従って、好
ましい中間調表現が可能となり、画質の向上を図ること
ができる。Since the dot dispersion type is adopted in this way, a dot pattern in which each dot is spatially separated is generated. Therefore, it is difficult for dots to be adjacent to each other. In addition, since the dot pattern has regularity and irregularity, B
A regular pattern such as an ayer or a warm pattern with a medium density such as a blue noise mask does not occur. Therefore, a preferable halftone expression is possible, and the image quality can be improved.

【００１４】上記の本発明のドット分散型マスクの一態
様は、ドットパターンの各周波数成分を含む周波数領域
において、不規則性を示す周波数成分は、高い周波数領
域に散在することを特徴としている。One aspect of the dot dispersion type mask of the present invention is characterized in that, in a frequency region including each frequency component of a dot pattern, frequency components exhibiting irregularity are scattered in a high frequency region.

【００１５】このように不規則性を示す周波数成分は、
高い周波数領域に散在しているので、特定の周波数成分
が存在することによるパターンの規則性が生じず、また
低周波成分が存在することによるドット集中での画質劣
化を防止することができる。The frequency component showing the irregularity is
Since they are scattered in the high frequency region, the regularity of the pattern due to the presence of the specific frequency component does not occur, and the image quality deterioration due to the dot concentration due to the presence of the low frequency component can be prevented.

【００１６】上記の本発明のドット分散型マスクの一態
様は、ドットパターンの各周波数成分を含む周波数領域
において、規則性を示す周波数成分の強さは、不規則性
を示す周波数成分の強さよりも大きいことを特徴として
いる。According to one aspect of the dot dispersion type mask of the present invention described above, the strength of the frequency component showing regularity is higher than the strength of the frequency component showing irregularity in the frequency region including each frequency component of the dot pattern. Is also large.

【００１７】これにより、不規則成分のみで構成される
ブルーノイズマスクにおける欠点を解消することが可能
となる。すなわち、規則性を示す周波数成分の強さが、
不規則性を示す周波数成分の強さよりも大きいので、ド
ットパターンに規則性を残しつつ、不規則成分を散りば
めた画像を得ることができる。これにより、ウォーム模
様の発生を防いで画質の向上を図ることが可能となる。This makes it possible to eliminate the drawbacks of the blue noise mask which is composed of only irregular components. That is, the strength of the frequency component showing regularity is
Since the intensity of the frequency component indicating the irregularity is larger than that of the irregularity component, it is possible to obtain an image in which the irregular components are scattered while leaving the regularity in the dot pattern. This makes it possible to prevent the generation of warm patterns and improve the image quality.

【００１８】上記の本発明のドット分散型マスクの一態
様は、ドットパターンの各周波数成分を含む周波数領域
において、規則性を示す周波数成分は、周波数領域に局
所的に存在することを特徴としている。One aspect of the dot dispersion type mask of the present invention is characterized in that, in a frequency region including each frequency component of a dot pattern, frequency components exhibiting regularity are locally present in the frequency region. .

【００１９】これにより、ドットパターンに規則性が現
れるような閾値の配列を有するマスク（例えば、Ｂａｙ
ｅｒマスク）の規則的過ぎるという短所を緩和すること
ができると共に、規則的成分を持つため、不規則成分の
みを含むブルーノイズマスクにおけるウォーム模様の発
生を防止することができる。これにより、画質の向上を
図ることが可能となる。As a result, a mask (for example, Bay) having an array of threshold values that allows the dot pattern to have regularity appears.
(er mask) is too regular, and since it has a regular component, it is possible to prevent the generation of a warm pattern in a blue noise mask containing only an irregular component. This makes it possible to improve the image quality.

【００２０】本発明の他の観点では、ドット分散マスク
は、連続階調の画像データにおける各画素の階調値を２
値または多値に変換するためのドット分散型マスクであ
って、相互に所定の規則性をもって複数の閾値が配列さ
れてなる規則性パターン閾値群と、前記所定の規則性を
有しないように複数の閾値が配列されてなる不規則性パ
ターン閾値群とが組み合わされてなることを特徴とす
る。According to another aspect of the invention, the dot dispersion mask sets the gradation value of each pixel in continuous gradation image data to 2
A dot dispersion type mask for converting into a multi-value or a multi-value, a regular pattern threshold group in which a plurality of thresholds are arranged with a predetermined regularity to each other, and a plurality of so as not to have the predetermined regularity. It is characterized by being combined with a group of irregular pattern thresholds in which the thresholds of are arranged.

【００２１】このドット分散型マスクによれば、所定の
規則性を有して複数の閾値が配列されて規則性パターン
が構成されるとともに、規則性を有しないように複数の
閾値が配列されて不規則性パターンが構成され、両者が
組み合わされてマスクを構成している。このようにドッ
トパターンに規則性と共に不規則性を有するので、Ｂａ
ｙｅｒ型ディザマトリクスの様な規則的パターンやブル
ーノイズマスクのような中濃度でのウォーム模様が生じ
ない。従って、好ましい中間調表現が可能となり、画質
の向上を図ることができる。According to this dot dispersion type mask, a plurality of threshold values having a predetermined regularity are arranged to form a regularity pattern, and a plurality of threshold values are arranged so as not to have the regularity. An irregular pattern is formed, and both are combined to form a mask. Since the dot pattern has regularity and irregularity in this way, Ba
A regular pattern such as a yer-type dither matrix or a warm pattern at a medium density such as a blue noise mask does not occur. Therefore, a preferable halftone expression is possible, and the image quality can be improved.

【００２２】上記のドット分散型マスクの一態様では、
前記ドット分散型マスクは前記所定の規則性に従って閾
値が配列された基礎閾値パターンを用いて作成され、前
記規則性パターン閾値群は前記基礎閾値パターンが保有
する閾値配列の一部が有する規則性と同一の規則性を有
する閾値配列を保有する。このように、所定の規則性を
もって閾値が配列された基礎閾値パターンの一部が有す
る規則性と同一の規則性を有することにより、ドット分
散マスクに規則性を維持することができる。In one aspect of the dot dispersion type mask described above,
The dot dispersion type mask is created by using a basic threshold pattern in which thresholds are arranged according to the predetermined regularity, and the regularity pattern threshold group has regularity that part of the threshold array held by the basic threshold pattern has. It has a threshold array with the same regularity. As described above, the dot dispersion mask can maintain regularity by having the same regularity as a part of the basic threshold pattern in which thresholds are arranged with a predetermined regularity.

【００２３】上記のドット分散マスクの他の一態様で
は、前記不規則性パターン閾値群は前記基礎閾値パター
ンが保有する閾値を、前記所定の規則性を有しないよう
に配列してなることを特徴とする。これにより、予め用
意された規則ドットパターンが有する閾値のみを用いて
所望のドット分散マスクを作成することが可能となる。In another mode of the above-mentioned dot dispersion mask, the irregular pattern threshold group is formed by arranging thresholds held by the basic threshold pattern so as not to have the predetermined regularity. And This makes it possible to create a desired dot dispersion mask using only the threshold value of the regular dot pattern prepared in advance.

【００２４】上記のドット分散マスクの他の一態様で
は、前記規則性パターン閾値群は、前記基礎閾値パター
ンを所定の回転角だけ回転させた場合に、回転後の閾値
が発生させるドットと回転前の閾値が発生させるドット
が一致する閾値により構成されることを特徴とする。こ
の場合、ドット分散マスクは、基礎閾値パターンの回転
処理により、規則性を維持しつつ容易に作成することが
できる。In another aspect of the dot dispersion mask described above, the regular pattern threshold value group includes dots generated by a threshold value after rotation and pre-rotation values when the basic threshold pattern is rotated by a predetermined rotation angle. It is characterized in that the dots generated by the threshold value of 1 are constituted by the matching threshold value. In this case, the dot dispersion mask can be easily created while maintaining regularity by the rotation processing of the basic threshold pattern.

【００２５】上記のドット分散マスクの他の一態様で
は、前記ドット分散型マスクは前記所定の規則性に従っ
て閾値が配列された基礎閾値パターンを用いて作成さ
れ、前記規則性パターン閾値群は前記基礎閾値パターン
を所定の回転角だけ回転した場合に前記所定の規則性を
維持している閾値により構成され、前記不規則性パター
ン閾値群は前記基礎閾値パターンを所定の回転角だけ回
転した場合に前記所定の規則性を維持していない閾値に
より構成されることを特徴とする。よって、基礎閾値パ
ターンの回転処理により、規則性を有する部分と不規則
性を有する部分とを作成することができる。In another aspect of the dot dispersion mask, the dot dispersion mask is created using a basic threshold pattern in which thresholds are arranged according to the predetermined regularity, and the regularity pattern threshold group is the basic pattern. The threshold pattern is constituted by thresholds that maintain the predetermined regularity when rotated by a predetermined rotation angle, and the irregular pattern threshold group includes the basic threshold pattern when the basic threshold pattern is rotated by a predetermined rotation angle. It is characterized by being constituted by a threshold value that does not maintain a predetermined regularity. Therefore, by rotating the basic threshold pattern, it is possible to create a portion having regularity and a portion having irregularity.

【００２６】上記のドット分散マスクの他の一態様で
は、前記ドット分散型マスクは前記所定の規則性に従っ
て閾値が配列された基礎閾値パターンを用いて作成さ
れ、前記規則性パターン閾値群は前記基礎閾値パターン
を当該パターンの平面上で部分的に所定のシフト量だけ
シフトした場合に前記所定の規則性を維持している閾値
により構成され、前記不規則性パターン閾値群は前記基
礎閾値パターンを当該パターンの平面上で部分的に所定
のシフト量だけシフトした場合に前記所定の規則性を維
持していない閾値により構成されることを特徴とする。
よって、基礎閾値パターンのシフト処理により、規則性
を有する部分と不規則性を有する部分とを作成すること
ができる。In another aspect of the dot dispersion mask, the dot dispersion mask is created using a basic threshold pattern in which thresholds are arranged according to the predetermined regularity, and the regularity pattern threshold group includes the basic pattern. The threshold pattern is constituted by thresholds that maintain the predetermined regularity when partially shifted by a predetermined shift amount on the plane of the pattern, and the irregular pattern threshold group is the basic threshold pattern concerned. It is characterized by being constituted by a threshold value that does not maintain the predetermined regularity when the pattern is partially shifted by a predetermined shift amount on the plane.
Therefore, it is possible to create a portion having regularity and a portion having irregularity by shifting the basic threshold pattern.

【００２７】また、本発明の他の観点では、画像表示装
置は、上記のいずれかに記載のドット分散型マスクを記
憶する記憶部と、モノクロまたはカラー表示が可能な表
示部とを備え、ドット分散型マスクによって処理された
画像データに基づく画像を表示部に表示することを特徴
としている。According to another aspect of the present invention, an image display device is provided with a storage unit for storing the dot dispersion type mask described in any one of the above, and a display unit capable of monochrome or color display, An image based on the image data processed by the distributed mask is displayed on the display unit.

【００２８】本画像表示装置のマスクは、ドット分散型
を採るので、それぞれのドットが空間的に分離したドッ
トパターンを生じる。このため、ドットの隣接が生じに
くい。また、ドットパターンに規則性と共に不規則性を
有するので、Ｂａｙｅｒの様な規則的パターンやブルー
ノイズマスクのような中濃度でのウォーム模様が生じな
い。従って、本画像表示装置においては好ましい中間調
表現が可能となり、画質の向上を図ることができる。Since the mask of this image display device is of the dot dispersion type, a dot pattern in which each dot is spatially separated is produced. Therefore, it is difficult for dots to be adjacent to each other. Further, since the dot pattern has regularity and irregularity, a regular pattern such as Bayer and a warm pattern at a medium density such as a blue noise mask do not occur. Therefore, in the present image display device, preferable halftone expression can be performed, and the image quality can be improved.

【００２９】また、本発明の他の観点では、画像処理装
置において、上記のドット分散型マスクを記憶する記憶
部と、入力画像データを受け取る入力手段と、前記ドッ
ト分散型マスクを使用して前記入力画像データに対して
画像処理を行う画像処理手段と、を備える。According to another aspect of the present invention, in an image processing apparatus, a storage unit for storing the dot dispersion type mask, an input unit for receiving input image data, and the dot dispersion type mask are used to store the dot dispersion type mask. Image processing means for performing image processing on the input image data.

【００３０】また、同様の観点では、画像処理方法にお
いて、入力画像データを受け取るステップと、上記のド
ット分散型マスクを使用して、前記入力画像データに対
して画像処理を行うステップと、を含む。From the same point of view, the image processing method includes the steps of receiving input image data and performing image processing on the input image data using the dot dispersion type mask. .

【００３１】上記の画像処理装置又は画像処理方法によ
れば、例えばスキャナや撮像手段その他の外部の画像デ
ータ源から入力画像データを受け取り、上記のドット分
散型マスクを用いて画像処理を行うことにより、上記の
好ましい中間調表現などが可能となる。According to the above-described image processing apparatus or image processing method, for example, the input image data is received from a scanner, an image pickup means, or other external image data source, and the image processing is performed using the dot dispersion type mask. The above-described preferable halftone expression and the like are possible.

【００３２】また、同様の観点では、コンピュータ上で
実行される画像処理プログラムは、入力画像データを受
け取るステップと、上記のドット分散型マスクを使用し
て、前記入力画像データに対して画像処理を行うステッ
プと、を前記コンピュータに実行させる。この画像処理
プログラムをコンピュータ上で実行することにより、上
記の画像処理装置を実現することができる。Further, from a similar viewpoint, an image processing program executed on a computer performs the image processing on the input image data using the step of receiving the input image data and the dot dispersion type mask described above. The steps to be performed are executed by the computer. By executing this image processing program on a computer, the above image processing device can be realized.

【００３３】また、本発明の他の観点では、ドット分散
型マスクの作成方法においては、連続階調の画像データ
における各画素の階調値を２値または多値に変換するた
めのドット分散型マスクの作成方法であって、変換によ
り得られるドットパターンに規則性が現れるような閾値
の配列を有するマスクを作成するステップと、作成した
マスクに対し、変換により得られるドットパターンに不
規則性が現れるように閾値の配列に変更を加えるステッ
プとを含むことを特徴としている。Further, according to another aspect of the present invention, in the method of producing a dot dispersion type mask, the dot dispersion type for converting the gradation value of each pixel in the image data of continuous gradation into a binary value or a multi value. A method of creating a mask, which comprises a step of creating a mask having a threshold value array in which the dot pattern obtained by conversion shows regularity, and the dot pattern obtained by conversion has irregularity with respect to the created mask. Modifying the array of thresholds to appear.

【００３４】このように、ドットパターンに規則性が現
れるような閾値の配列を有するマスクに基づいて、不規
則性が現れるように閾値の配列に変更を加えるので、ド
ットパターンに規則性が現れるような閾値の配列を有す
るマスク（例えば、Ｂａｙｅｒマスク）の長所を残して
短所を緩和することができると共に、不規則成分のみを
含むブルーノイズマスクにおけるウォーム模様の発生を
防止することができる。これにより、画質の向上を図る
ことが可能となる。As described above, since the threshold array is modified so that irregularity appears based on the mask having the threshold array where regularity appears in the dot pattern, regularity appears in the dot pattern. It is possible to alleviate the disadvantages while leaving the advantages of a mask having an array of different thresholds (for example, Bayer mask), and to prevent the generation of warm patterns in a blue noise mask containing only irregular components. This makes it possible to improve the image quality.

【００３５】また、本発明の他の観点では、連続階調の
画像データにおける各画素の階調値を２値または多値に
変換するためのドット分散型マスクの作成方法は、作成
すべきマスクのサイズより大きいサイズの一次マトリク
スの領域に、所定の規則性をもって閾値が配列された基
礎閾値パターンを展開するステップと、前記一次マトリ
クスの領域上で前記一次マトリクスにおける閾値の各座
標を所定の回転角だけ相対的に回転するステップと、前
記回転後の各座標に対応する位置に、前記一次マトリク
スの閾値を重複しないように配置するステップとを含む
ことを特徴とする。According to another aspect of the present invention, a method of forming a dot dispersion type mask for converting the gradation value of each pixel in continuous gradation image data into binary or multi-valued is a mask to be prepared. Developing a basic threshold pattern in which thresholds are arranged with a predetermined regularity in a region of the primary matrix having a size larger than the size, and rotating each coordinate of the thresholds in the primary matrix on the region of the primary matrix by a predetermined rotation. The method is characterized by including a step of relatively rotating an angle and a step of arranging the threshold values of the primary matrix so as not to overlap at the positions corresponding to the respective coordinates after the rotation.

【００３６】上記のドット分散型マスクの作成方法によ
れば、所定の規則性をもって閾値が配列された基礎閾値
パターンを一次マトリクスの領域に展開し、当該一次マ
トリクスの領域上で各座標を所定の回転角だけ回転さ
せ、回転後の各座標に一次マトリクスの閾値を配置す
る。閾値の配置の際には、回転により基礎閾値パターン
の規則性が保持される部分と、保持されない部分とが生
じる結果、作成されるドット分散マスクは規則性を有す
る部分と不規則性を有する部分とが混在することにな
る。According to the above-described dot dispersion type mask making method, the basic threshold pattern in which thresholds are arranged with a predetermined regularity is developed in the area of the primary matrix, and each coordinate is defined in the area of the primary matrix. The threshold value of the primary matrix is arranged at each coordinate after rotation by rotating by the rotation angle. At the time of arranging the threshold values, a portion where the regularity of the basic threshold pattern is retained and a portion where it is not retained are generated by the rotation, and as a result, the dot dispersion mask created has a regular portion and an irregular portion. And will be mixed.

【００３７】上記のドット分散型マスクの作成方法の一
態様では、前記回転による座標が、回転済みの他の座標
と同じ位置にマッピングされ、既に回転済みの他の閾値
が当該位置に配置されていた場合は、当該位置の近傍に
存在する閾値未配置の座標を探索し、当該閾値を配置す
るステップを含むことを特徴とする。上記のような回転
により、複数の点が同じ位置にマッピングされることが
起り得るが、このような場合、一次マスクの閾値がマス
クに既に入力されていた場合は、その位置の近傍に存在
する閾値未配置の座標を探索し、当該閾値を配置する。
これにより、座標の回転による閾値の重複を回避するこ
とが可能となる。In one mode of the above-described method for producing a dot dispersion type mask, the coordinate by the rotation is mapped at the same position as the other coordinate after being rotated, and the other threshold value which is already rotated is arranged at the position. In this case, a step of searching for coordinates in the vicinity of the position where the threshold value is not arranged and arranging the threshold value is included. The rotation as described above may cause multiple points to be mapped to the same position, but in such a case, if the threshold value of the primary mask is already input to the mask, it exists near that position. The coordinates where the threshold is not arranged are searched and the threshold is arranged.
This makes it possible to avoid overlapping of threshold values due to rotation of coordinates.

【００３８】本発明の他の観点では、連続階調の画像デ
ータにおける各画素の階調値を２値または多値に変換す
るためのドット分散型マスクの作成方法は、作成すべき
マスクのサイズより大きいサイズの一次マトリクスの領
域に、所定の規則性をもって閾値が配列された基礎閾値
パターンを展開するステップと、前記一次マトリクス内
の１つの基準線分を所定の回転角だけ回転し、回転後の
基準線分の位置に対応する前記一次マトリクス上の各閾
値を保存するステップと、前記回転後の基準線分に沿っ
て、前記一次マトリクスから閾値を取得して保存するこ
とを繰り返して、前記作成すべきマスクの閾値を決定す
るステップと、を含むことを特徴とする。According to another aspect of the present invention, a method of producing a dot dispersion type mask for converting the tone value of each pixel in continuous tone image data into a binary value or a multi-valued value is a mask size to be created. Developing a basic threshold pattern in which thresholds are arrayed with a predetermined regularity in a region of a primary matrix of a larger size; rotating one reference line segment in the primary matrix by a predetermined rotation angle, and after rotating The step of storing each threshold value on the primary matrix corresponding to the position of the reference line segment, and the step of obtaining and storing the threshold value from the primary matrix along the reference line segment after the rotation are repeated, Determining a threshold value of a mask to be created.

【００３９】上記のドット分散マトリクスの作成方法に
よれば、所定の規則性をもって閾値が配列された基礎閾
値パターンを一次マトリクス上に展開し、その上で基準
線分を所定の回転角だけ回転させ、回転後の基準線分に
沿って閾値を取得して保存することにより、ドット分散
マスクを作成する。よって、回転処理及びそれに沿って
一次マトリクスから閾値を決定する処理により好適なド
ット分散マトリクスを作成することができる。According to the above method of creating the dot dispersion matrix, the basic threshold pattern in which the threshold values are arranged with a predetermined regularity is developed on the primary matrix, and the reference line segment is rotated by a predetermined rotation angle on the primary matrix. A dot dispersion mask is created by acquiring and storing a threshold value along the rotated reference line segment. Therefore, a suitable dot dispersion matrix can be created by the rotation process and the process of determining the threshold value from the primary matrix along with the rotation process.

【００４０】上記のドット分散マトリクスの作成方法の
一態様では、前記基準線分に沿った特定の閾値位置に対
して取得される閾値は、前記回転後の基準線分に垂直な
第１の線分と、当該第１の線分と垂直で前記特定の閾値
位置を通過する第２の直線との交点から前記特定の閾値
位置までの距離に基づいて取得される。これにより、回
転角に応じて正しい位置の閾値を取得してドット分散マ
トリクスを作成することができる。In one aspect of the method of creating the dot dispersion matrix described above, the threshold value acquired at a specific threshold position along the reference line segment is the first line perpendicular to the rotated reference line segment. It is acquired based on the distance from the intersection point of the minute and the second straight line which is perpendicular to the first line segment and passes through the specific threshold position to the specific threshold position. This makes it possible to obtain the threshold value of the correct position according to the rotation angle and create the dot dispersion matrix.

【００４１】上記のドット分散マトリクスの作成方法の
一態様では、前記所定の回転角は、５度から２０度また
は７０度から８５度の範囲内であることを特徴とする。
本発明者は、５度から２０度または７０度から８５度の
範囲内で回転することによって、画質に対する心理表価
値が最も高くなることを見出している。これにより、画
質の向上を図ることができるマスクの作成が可能とな
る。In one mode of the above-mentioned dot dispersion matrix creating method, the predetermined rotation angle is in the range of 5 to 20 degrees or 70 to 85 degrees.
The inventor has found that rotation within a range of 5 to 20 degrees or 70 to 85 degrees maximizes the psychological value of image quality. This makes it possible to create a mask that can improve the image quality.

【００４２】本発明の他の観点では、連続階調の画像デ
ータにおける各画素の階調値を２値または多値に変換す
るためのドット分散型マスクの作成方法は、作成すべき
マスクのサイズ以上のサイズの一次マトリクスの領域
に、所定の規則性をもって閾値が配列された基礎閾値パ
ターンを展開するステップと、前記閾値の配列をシフト
させるシフト量を設定するステップと、前記シフト量に
従って、前記一次マトリクス上の閾値の配列をシフトさ
せるステップと、を含むことを特徴とする。According to another aspect of the present invention, a dot dispersion type mask producing method for converting a tone value of each pixel in continuous tone image data into a binary value or a multi-valued value is a mask size to be produced. In the area of the primary matrix of the above size, a step of developing a basic threshold pattern in which threshold values are arranged with a predetermined regularity, a step of setting a shift amount for shifting the arrangement of the threshold values, and according to the shift amount, Shifting the array of thresholds on the primary matrix.

【００４３】上記のドット分散型マスクの作成方法によ
れば、所定の規則性をもって閾値が配列された基礎閾値
パターンを一次マトリクス上に展開し、それに対してシ
フト量を設定して閾値配列のシフトを行うことにより、
規則性を不規則性を併せもつドット分散マスクを作成す
ることができる。According to the above-described dot dispersion type mask forming method, the basic threshold pattern in which the threshold values are arranged with a predetermined regularity is developed on the primary matrix, and the shift amount is set for it to shift the threshold value arrangement. By doing
It is possible to create a dot dispersion mask having both regularity and irregularity.

【００４４】上記のドット分散マスクの作成方法の一態
様では、前記シフト量は、隣接する所定数の前記閾値を
グループとして設定され、相互に隣接するグループに対
して設定される前記所定数は異なることを特徴とする。
これにより、作成されるドット分散マトリクスに適度の
不規則性が導入される。In one aspect of the method of producing the dot dispersion mask described above, the shift amount is set with a predetermined number of adjacent thresholds as a group, and the predetermined number set for groups adjacent to each other is different. It is characterized by
This introduces an appropriate irregularity in the dot dispersion matrix created.

【００４５】上記のドット分散マスクの作成方法の一態
様では、前記相互に隣接する閾値間のシフト量の差は、
±１以内であることを特徴とする。これにより、ドット
分散型マスク内において基礎閾値パターンに対する急激
な変更がなされることがないので、基礎閾値パターンが
有する規則性を適度に保存した上で、不規則性を導入す
ることができる。In one aspect of the method of producing the dot dispersion mask, the difference in shift amount between the threshold values adjacent to each other is:
It is characterized by being within ± 1. As a result, the basic threshold pattern is not abruptly changed in the dot dispersion type mask, so that the irregularity can be introduced after the regularity of the basic threshold pattern is appropriately preserved.

【００４６】上記のドット分散マスクの製造方法一態様
では、前記シフト量により生じる角度は、５度から２０
度または７０度から８５度の範囲内であることを特徴と
する。これにより、画質の向上を図ることができるマス
クの作成が可能となる。In one aspect of the method of manufacturing the dot dispersion mask, the angle caused by the shift amount is 5 degrees to 20 degrees.
Or 70 to 85 degrees. This makes it possible to create a mask that can improve the image quality.

【００４７】上記のドット分散マスクの作成方法の一態
様では、前記作成すべきマスクの上下端における各閾値
の左右方向のシフト量の差、及び、前記作成すべきマス
クの左右端における各閾値の上下方向のシフト量の差
は、±１以内であることを特徴とする。これにより、当
該ドット分散マスクを複数個連結して使用する場合など
に、境界部分において規則性及び不規則性が急激に変化
することが防止できる。In one aspect of the method of producing the dot dispersion mask, the difference between the left and right shift amounts of the threshold values at the upper and lower ends of the mask to be produced, and the threshold values at the left and right edges of the mask to be produced. The difference between the vertical shift amounts is within ± 1. Thereby, when a plurality of the dot dispersion masks are connected and used, it is possible to prevent the regularity and the irregularity from abruptly changing at the boundary portion.

【００４８】上記のドット分散型マスクの作成方法の一
態様では、前記基礎閾値パターンは、Ｂａｙｅｒ型ディ
ザマトリクスであることを特徴とする。これにより、Ｂ
ａｙｅｒ型ディザマトリクスの長所を残しつつ、簡単な
操作でその短所を解消することが可能となる。In one aspect of the method of producing the dot dispersion type mask, the basic threshold pattern is a Bayer type dither matrix. As a result, B
While maintaining the advantages of the ayer type dither matrix, the disadvantages can be solved by a simple operation.

【００４９】また、本発明の他の観点では、コンピュー
タ上で実行することにより、上記のドット分散マスクの
作成方法の各ステップを前記コンピュータに実行させる
ドット分散マスクの作成プログラムを提供することがで
きる。Further, according to another aspect of the present invention, it is possible to provide a program for creating a dot dispersion mask that causes the computer to execute each step of the method for creating the dot dispersion mask by executing the program on a computer. .

【００５０】さらに、そのドット分散マスクの作成プロ
グラムを記録した記録媒体を提供することができる。当
該記録媒体をコンピュータ内に読み込み、実行すること
により、上記のドット分散マスクの作成方法を実行する
ことができる。Further, it is possible to provide a recording medium on which the program for creating the dot dispersion mask is recorded. By reading the recording medium into a computer and executing it, the above-described dot dispersion mask creating method can be executed.

【００５１】[0051]

【発明の実施の形態】［ディザ法］実施の形態について
説明する前に、カラー画像を対象とした多値組織的ディ
ザ法について説明する。ディザ法は、表示階調数が少な
いデバイスにおいて、表示階調の中間の階調を擬似的に
見せる方法であり、表示階調数が２値のものを２値ディ
ザ、３値以上のものを多値ディザと呼ぶ。多値ディザは
２値ディザの組合せで構成される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [Dither Method] Before describing the embodiments, a multi-valued systematic dither method for color images will be described. The dither method is a method in which a device having a small number of display gradations has a pseudo display of an intermediate gradation between the display gradations. Called multi-valued dither. Multi-valued dither is composed of a combination of binary dithers.

【００５２】２値ディザについて説明する。先ず図１６
（ｃ）に示す閾値の順序を示すディザマトリクスを決定
し、ディザマトリクスから（ｂ）に示す閾値マトリクス
を算出する。次に（ａ）に示す入力画像と（ｂ）に示す
閾値マトリクスとの間で、閾値以上であれば２５５、未
満であれば０を出力する閾値処理を行い、（ｄ）に示す
０，２５５の２値から成る擬似中間調画像（出力画像）
を出力する。（ｄ）に示す擬似中間調画像の各閾値の平
均値は１２８であり、０，２５５の２値のパターンによ
って中間調１２８が表現される。The binary dither will be described. First, FIG.
A dither matrix indicating the order of threshold values shown in (c) is determined, and the threshold matrix shown in (b) is calculated from the dither matrix. Next, between the input image shown in (a) and the threshold matrix shown in (b), threshold processing is performed to output 255 if it is equal to or more than the threshold and 0 if it is less than 0, 255 shown in (d). Pseudo halftone image (output image)
Is output. The average value of the threshold values of the pseudo halftone image shown in (d) is 128, and the halftone 128 is represented by a binary pattern of 0,255.

【００５３】多値ディザは、入力階調の範囲を区切って
それぞれの範囲内で２値ディザを行うことで実行され
る。多値が４値の場合、出力階調は０，８５，１７０，
２５５の４値であり、入力階調は０−８５、８６−
１７０、１７１−２５５の３つの範囲に区切られる。The multi-value dither is executed by dividing the range of the input gradation and performing the binary dither within each range. When the multi-value is 4 levels, the output gradation is 0, 85, 170,
There are four values of 255, and the input gradation is 0-85, 86-
It is divided into three ranges 170 and 171-255.

【００５４】入力画像がどの階調範囲に属するかによっ
て、図１７（ａ）に示すディザマトリクスから（ｂ）〜
（ｄ）に示す閾値マトリクスを生成する。入力画像が図
１６（ａ）に示す画像の場合、階調１２８は範囲に含
まれるので、（ｃ）に示す閾値マトリクスが生成され、
階調８５，１７０を用いた２値ディザを実行し、（ｅ）
のような擬似中間調画像を出力する。Depending on which gradation range the input image belongs to, from the dither matrix shown in FIG.
The threshold matrix shown in (d) is generated. In the case where the input image is the image shown in FIG. 16A, since the gradation 128 is included in the range, the threshold matrix shown in FIG.
Binary dither using gradations 85 and 170 is executed, and (e)
A pseudo-halftone image such as is output.

【００５５】以上は、一画素が一色（グレイ）から成る
画像に対してディザを行う場合であったが、カラー画像
に対してディザを行う場合、カラー画像は１画素がＲ，
Ｇ，Ｂ三色から成るので、１画素をＲ，Ｇ，Ｂ各色成分
へ分けて、それぞれ１色から成る画像として捉えてディ
ザを行う。この時、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色には同じマトリクス
を使っても良いし、別々のマトリクスを使っても良い。
また、各色に別々のディザマトリクスを対応付ける場合
には、図１８に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色のマトリク
スを個別にメモリ１２０１〜１２０３に保持して、ディ
ザ処理手段１２０４〜１２０６でディザ処理すればよ
い。In the above, dithering is performed on an image in which one pixel is one color (gray), but when dithering a color image, one pixel is R,
Since it is composed of three colors of G and B, one pixel is divided into R, G, and B color components, and each image is regarded as an image of one color, and dithering is performed. At this time, the same matrix may be used for each of R, G, and B colors, or different matrices may be used.
When associating different dither matrices with the respective colors, as shown in FIG. 18, the R, G, and B color matrices are individually held in the memories 1201 to 1203, and the dither processing means 1204 to 1206 perform the dither processing. do it.

【００５６】以下、本発明の実施の形態について具体的
に説明する。The embodiments of the present invention will be specifically described below.

【００５７】図１は、本発明の実施の形態に係る画像表
示装置の構成を示すブロック図であり、図２は、ディザ
閾値マスクの機能を示す図である。画像表示装置１００
は、入力手段１０１と、ディザ処理手段１０２と、カラ
ー表示を行うＬＣＤパネル１０３とを備えて構成されて
いる。FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the image display device according to the embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing the function of the dither threshold mask. Image display device 100
Includes an input unit 101, a dither processing unit 102, and an LCD panel 103 for performing color display.

【００５８】入力手段１０１は、スキャナや撮像手段な
どで得られた画像を入力画像データとして取り込む。デ
ィザ処理手段１０２は、入力手段１０１によって取り込
まれた入力画像データを、Ｒ，Ｇ，Ｂ毎の画像を示すプ
レーンに分離し、このＲ，Ｇ，Ｂのプレーン毎に、ディ
ザマトリクスを基に設定された閾値マトリクス（図２に
示すディザ閾値マスク）を対応付けて多値の組織的ディ
ザ法による擬似中間調処理を行う。このディザ閾値マス
クが本実施の形態の特徴である。The input means 101 takes in an image obtained by a scanner or an image pickup means as input image data. The dither processing unit 102 separates the input image data captured by the input unit 101 into planes indicating images of R, G, and B, and sets each of the R, G, and B planes based on a dither matrix. The pseudo halftone processing by the multivalued systematic dither method is performed by associating the generated threshold matrix (the dither threshold mask shown in FIG. 2) with each other. This dither threshold mask is a feature of this embodiment.

【００５９】そして、擬似中間調処理後の画像データを
一纏めにしてＬＣＤパネル１０３へ出力する。ＬＣＤパ
ネル１０３は、各々が長方形のＲ，Ｇ，Ｂ三原色のカラ
ーフィルタがストライプ状に配列された画面を備え、こ
の画面に、各カラーフィルタの混色によってフルカラー
の画像を表示する。すなわち、図２に示すように、ＬＣ
Ｄパネル１０３では、マトリクス状に配置された液晶セ
ルへの駆動電圧をＯＮ／ＯＦＦすることにより液晶の透
過率を変化させ、２値または多値の画像を表示する。Then, the image data after the pseudo halftone processing is collected and output to the LCD panel 103. The LCD panel 103 has a screen in which color filters of three R, G, and B primary colors each having a rectangular shape are arranged in a stripe shape, and a full-color image is displayed on this screen by mixing the color filters. That is, as shown in FIG.
In the D panel 103, by turning ON / OFF the driving voltage to the liquid crystal cells arranged in a matrix, the transmittance of the liquid crystal is changed to display a binary or multi-valued image.

【００６０】本実施の形態のディザ閾値マスクは、図３
〜図６に示す周波数特性を有する。図３〜図６のそれぞ
れにおいて、（ａ）は、本実施の形態のディザ閾値マス
クにより２値に変換されたドットパターンを示す。ドッ
トパターンの濃度は、１／８、２／８、３／８、および
４／８の４段階であり、それそれが図３〜図６に示され
ている。これらのドットパターンをフーリエ変換した２
次元ＦＦＴの振幅を各図（ｂ）に、ＦＦＴの３次元プロ
ットを各図（ｃ）に示す。このように、本実施の形態の
ディザ閾値マスクでは、Ｂａｙｅｒ型マスクに近似した
規則性を示す周波数成分が存在すると共に、不規則性を
示す周波数成分が高周波領域に散在する。さらに、規則
性を示す周波数成分は、不規則性を示す周波数成分より
も振幅値もしくはエネルギーが大きい。このため、規則
性と共に不規則性もドットパターンに現れてくる。The dither threshold mask of this embodiment is shown in FIG.
~ It has the frequency characteristics shown in FIG. In each of FIGS. 3 to 6, (a) shows a dot pattern converted into binary by the dither threshold mask of the present embodiment. The density of the dot pattern has four levels of 1/8, 2/8, 3/8, and 4/8, which are shown in FIGS. 3 to 6. Fourier transform of these dot patterns 2
The amplitude of the dimensional FFT is shown in each figure (b), and the three-dimensional plot of the FFT is shown in each figure (c). As described above, in the dither threshold mask of the present embodiment, frequency components exhibiting regularity similar to that of the Bayer type mask are present, and frequency components exhibiting irregularity are scattered in the high frequency region. Further, the frequency component showing regularity has a larger amplitude value or energy than the frequency component showing irregularity. Therefore, regularity and irregularity also appear in the dot pattern.

【００６１】図９に示すように、本実施の形態のディザ
閾値マスクは、Ｂａｙｅｒ型マスクのような規則的なパ
ターンが発生しない。また、ブルーノイズマスクのよう
に不規則すぎることによるウォーム模様も発生しない。
すなわち、ブルーノイズマスクのように、ドットが不規
則に連結するパターンは、十字、×字が残るパターンに
よって回避している。このため、画質の向上が図られて
いる。As shown in FIG. 9, the dither threshold mask of the present embodiment does not generate a regular pattern unlike the Bayer type mask. Also, a warm pattern due to being too irregular like a blue noise mask does not occur.
That is, a pattern in which dots are irregularly connected like a blue noise mask is avoided by a pattern in which crosses and crosses remain. Therefore, the image quality is improved.

【００６２】本発明者は、Ｂａｙｅｒ型マスクに基づい
て、各閾値の位置を回転させ、回転させた際に閾値の抜
けが無いように閾値を敷き詰めることによって、上記の
ような周波数特性を備えるディザ閾値マスクが作成でき
ることを見出した。すなわち、Ｂａｙｅｒ型マスクに基
づく規則的な周波数成分は、回転した形で規則性を持っ
た状態で残すことができる。そして、回転させた際に閾
値の抜けが生じないように閾値を敷き詰めることによっ
て不規則的な周波数成分を付加することができる。これ
により、Ｂａｙｅｒマスクの長所を残して短所を緩和す
ることができると共に、不規則成分のみを含むブルーノ
イズマスクにおけるウォーム模様の発生を防止すること
ができる。これにより、画質の向上を図ることが可能と
なる。さらに、ブルーノイズマスクは、不規則成分のみ
を持つ、すなわちあらゆる周波数成分をまんべんなく持
つ必要があるため、１２８×１２８や２５６×２５６の
ようにマスクサイズが大きい。一方、本実施の形態に係
るディザ閾値マスクは、４×４、１６×１６のように比
較的小さなマスクであるため、メモリ容量を小さくする
ことが可能となる。その結果、携帯電話などの小型ＬＣ
Ｄに好適である。The present inventor rotates the positions of the respective threshold values based on the Bayer type mask, and spreads the threshold values so that there is no omission of the threshold values when rotated, thereby providing the dither having the above frequency characteristics. It has been found that a threshold mask can be created. That is, the regular frequency component based on the Bayer mask can be left in a rotated state with regularity. Then, it is possible to add irregular frequency components by spreading the threshold values so that the threshold values do not drop out when rotated. As a result, the advantages of the Bayer mask can be retained and the disadvantages thereof can be alleviated, and the generation of warm patterns in the blue noise mask containing only irregular components can be prevented. This makes it possible to improve the image quality. Further, since the blue noise mask needs to have only irregular components, that is, to have all frequency components evenly, it has a large mask size such as 128 × 128 or 256 × 256. On the other hand, since the dither threshold mask according to the present embodiment is a relatively small mask such as 4 × 4 or 16 × 16, it is possible to reduce the memory capacity. As a result, small LC such as mobile phones
Suitable for D.

【００６３】［ディザ閾値マスクの作成方法］ （第１の作成方法）次に、本実施の形態に係るディザ閾
値マスクの第１の作成方法について、図１０に示すフロ
ーチャートを用いて説明する。以降の説明においては、
ディザ閾値マスクをマトリクスと表現する。ここでは、
例えば、入力ディザマトリクスにＢａｙｅｒ型（４×
４）を使用し、ディザマトリクスを作成することとす
る。図１０に示すフローチャートにおいて、ディザマト
リクスを読み込み（ステップＳ１）、出力マトリクスお
よび一次マトリクスの領域を確保する（ステップＳ
２）。次に、一次マトリクスに上記ディザマトリクスの
閾値をタイル状に敷き詰める（ステップＳ３）。さら
に、上記出力マトリクスの座標を回転行列を用いて変換
する（ステップＳ４）。[Method for Creating Dither Threshold Mask] (First Method) Next, the first method for creating the dither threshold mask according to the present embodiment will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In the following explanation,
The dither threshold mask is expressed as a matrix. here,
For example, a Bayer type (4 ×
4) is used to create a dither matrix. In the flowchart shown in FIG. 10, the dither matrix is read (step S1), and the areas of the output matrix and the primary matrix are secured (step S).
2). Next, the threshold value of the dither matrix is tiled on the primary matrix (step S3). Further, the coordinates of the output matrix are converted using the rotation matrix (step S4).

【００６４】次に、該当する一次マトリクスの座標の閾
値は、選択済であるかどうかを判断し（ステップＳ
５）、該当する一次マトリクスの座標の閾値が選択済で
ある場合は、一次マトリクスの座標の周辺から最近傍に
ある未選択の閾値を探索して（ステップＳ６）、ステッ
プＳ７へ移行する。一方、ステップＳ５において、該当
する一次マトリクスの座標の閾値が選択済でない場合
は、そのままステップＳ７へ移行する。Next, it is judged whether the threshold value of the coordinates of the corresponding primary matrix has been selected (step S
5) If the threshold value of the coordinate of the corresponding primary matrix has already been selected, the nearest unselected threshold value is searched from the periphery of the coordinate of the primary matrix (step S6), and the process proceeds to step S7. On the other hand, in step S5, if the threshold value of the coordinates of the corresponding primary matrix has not been selected, the process directly proceeds to step S7.

【００６５】次に、出力マトリクスに閾値を保存し（ス
テップＳ７）、出力マトリクス全体に閾値が保存された
かどうかを判断する（ステップＳ８）。出力マトリクス
全体に閾値が保存されていない場合はステップＳ４へ移
行し、出力マトリクス全体に閾値が保存されている場合
は、終了する。Next, the threshold is stored in the output matrix (step S7), and it is determined whether the threshold is stored in the entire output matrix (step S8). If the threshold is not stored in the entire output matrix, the process proceeds to step S4, and if the threshold is stored in the entire output matrix, the process ends.

【００６６】上記ステップＳ１からＳ８における出力マ
トリクスの回転処理は、次の３つの処理からなる。すな
わち、（１）ディザマトリクス回転の前処理、（２）座
標を回転行列により変換する、（３）変換後の点が同じ
位置にマッピングされた場合は近傍の閾値を探索する、
という処理である。The rotation process of the output matrix in steps S1 to S8 includes the following three processes. That is, (1) preprocessing of dither matrix rotation, (2) transforming coordinates by a rotation matrix, (3) searching for neighboring thresholds when the transformed points are mapped to the same position,
That is the process.

【００６７】（１）ディザマトリクス回転の前処理は、
次のように行われる。すなわち、入力ディザマトリクス
を読み込み、指定したサイズの出力マトリクスの領域を
確保する。次に、出力マトリクスを回転させた際に、は
み出さない程度に十分に大きな面積を有する一次マトリ
クスの領域を確保する。その領域に対して入力されたデ
ィザマトリクスを、図１１に示すようにタイル状に敷き
詰める。(1) The preprocessing of the dither matrix rotation is
This is done as follows. That is, the input dither matrix is read and the area of the output matrix of the designated size is secured. Next, when the output matrix is rotated, a region of the primary matrix having a sufficiently large area so as not to overflow is secured. The dither matrix input to the area is tiled as shown in FIG.

【００６８】（２）座標を回転行列により変換する処理
は、次のように行われる。すなわち、一次マトリクスの
座標を（ｘ，ｙ）、出力マトリクスの座標を（Ｘ，
Ｙ）、回転各をθとすると、ディザマトリクスを回転さ
せる変換式は、次の式（１）のようになる。(2) The process of converting the coordinates by the rotation matrix is performed as follows. That is, the coordinates of the primary matrix are (x, y) and the coordinates of the output matrix are (X, y).
Y) and each rotation θ, the conversion equation for rotating the dither matrix is as shown in the following equation (1).

【００６９】[0069]

【数１】 [Equation 1]

【００７０】しかし、入力側から出力側、すなわち一次
マトリクス側から出力マトリクス側へマッピングを行う
と、回転がすべて終了したときに出力マトリクスの中に
は閾値が入っていない部分が現れてしまう。このため、
出力側を基準として、逆変換によって座標を求める手法
を採る。この逆変換の変換式は、次の式（２）のように
なる。また、逆変換の様子は、図１１に示すようにな
る。However, if mapping is performed from the input side to the output side, that is, from the primary matrix side to the output matrix side, when the rotation is completely completed, a part in which the threshold value is not included appears in the output matrix. For this reason,
With the output side as a reference, a method of obtaining coordinates by inverse transformation is adopted. The conversion formula of this inverse conversion is as in the following formula (2). The state of the inverse conversion is as shown in FIG.

【００７１】[0071]

【数２】 [Equation 2]

【００７２】上記のようにして変換先の座標を求めた
際、出力マトリクス側から一次マトリクス側への変換後
の点が同じ位置にマッピングされることが生じ得る。そ
こで、本実施の形態では、一次マトリクスの閾値は、一
度しか選択できないこととし、既に選択されていた場合
は、その位置の近傍からまだ選択されていない閾値を探
索する。When the coordinates of the conversion destination are obtained as described above, the points after conversion from the output matrix side to the primary matrix side may be mapped to the same position. Therefore, in the present embodiment, the threshold value of the primary matrix can be selected only once, and if it has already been selected, a threshold value that has not been selected is searched for in the vicinity of that position.

【００７３】（３）変換後の点が同じ位置にマッピング
された場合は近傍の閾値を探索する処理は、次のように
行われる。すなわち、変換後の点が同じ位置にマッピン
グされた際に、その位置の近傍からまだ選択されていな
い閾値は、図１２に示すように、最初に８近傍の中から
まだ選択されていない閾値を探索する。次に、該当した
ものの中からユークリッド距離が最小となる閾値を選択
する（ただし、ここでは式（２）で求めた際の浮動小数
点型の座標との距離をいう）。仮に、８近傍で見つから
なかった場合には、１６近傍、２４近傍と範囲を広げて
同様に探索を行う。(3) When the converted points are mapped to the same position, the process of searching for a threshold value in the vicinity is performed as follows. That is, when the converted points are mapped to the same position, the threshold value that is not yet selected from the neighborhood of that position is the threshold value that is not yet selected from the 8 neighborhoods, as shown in FIG. Explore. Next, a threshold value that minimizes the Euclidean distance is selected from the applicable ones (however, here, it means the distance from the floating-point type coordinates obtained by the equation (2)). If it is not found in 8 neighborhoods, the range is expanded to 16 neighborhoods and 24 neighborhoods, and a similar search is performed.

【００７４】上記方法によりマトリクスを作成すれば、
基礎となるディザマトリクスの規則的成分は、回転した
形で規則性を保ったまま残すことができる。また、回転
させた際に閾値の抜け、および重複が生じないように、
探索して閾値を敷き詰めることにより、不規則的な成分
を付加することができる。If a matrix is created by the above method,
The regular components of the underlying dither matrix can remain regular in rotated form. Also, in order to prevent missing of the threshold value and overlapping when rotating,
It is possible to add an irregular component by searching and covering the threshold value.

【００７５】これらの規則的成分と不規則的成分の強度
を比較すれば、基礎となるディザマトリクスが規則的で
あって、その成分の多くが回転した形で保持されるた
め、規則的成分の強度が不規則的成分の強度よりも強く
なる。これら成分の強度の大小は、先に図３〜図６を用
いて説明したように、周波数領域での振幅もしくは振幅
の２乗のエネルギーの大小として表現することができ
る。Comparing the strengths of these regular and irregular components, the underlying dither matrix is regular and many of the components are retained in a rotated form so that the regular component The intensity becomes stronger than the intensity of the irregular component. The magnitude of the intensity of these components can be represented as the magnitude of the amplitude or the squared energy of the amplitude in the frequency domain, as described above with reference to FIGS.

【００７６】次に、回転変換における回転の角度毎に上
記の探索回数を調査した結果について説明する。図１３
に示すように、０度と９０度付近で探索回数が少なく、
同じ位置にマッピングされることが少ないことが確認で
きる。Next, description will be made on the result of examining the number of searches for each rotation angle in the rotation conversion. FIG.
As shown in, the number of searches is small near 0 and 90 degrees,
It can be confirmed that it is rarely mapped to the same position.

【００７７】また、上記のように回転行列を用いた方法
によって、ドットパターンが分散したディザマトリクス
（ドット分散型マスク）が得られる。ここでは、上記の
ように、入力ディザマトリクスにＢａｙｅｒ型（４×
４）を使用し、４×４と１３２×１６２（２インチのＬ
ＣＤパネルの代表的なサイズ）それぞれのサイズでディ
ザマトリクスを作成した。閾値が０のドットだけをＯＮ
にしたドットパターンを図１４に示す。図１４（ｂ）、
（ｃ）は、それぞれ４×４のサイズで回転角が１０度、
３０度のドットパターンを示す。同図（ｄ）、（ｅ）は
１３２×１６２のサイズで回転角が１０度、３０度のド
ットパターンを示す。同図（ａ）は回転角が０°すなわ
ちＢａｙｅｒ型（４×４）をそのまま使用して得られる
ドットパターンを示す。ただし、いずれのパターンにつ
いても閾値が０のドットをタイル状に敷き詰めて１３２
×１６２にしたものを示す。By the method using the rotation matrix as described above, a dither matrix (dot dispersion type mask) in which dot patterns are dispersed can be obtained. Here, as described above, the Bayer type (4 ×
4) and 4x4 and 132x162 (2 inch L
Representative size of CD panel) A dither matrix was created for each size. Only the dots whose threshold is 0 are turned on
FIG. 14 shows the formed dot pattern. FIG. 14 (b),
(C) is a size of 4x4 and has a rotation angle of 10 degrees,
A 30 degree dot pattern is shown. FIGS. 3D and 3E show dot patterns having a size of 132 × 162 and rotation angles of 10 ° and 30 °. FIG. 10A shows a dot pattern obtained by using the Bayer type (4 × 4) as it is, with the rotation angle being 0 °. However, for each pattern, dots with a threshold value of 0 are spread in a tile pattern.
Shown as x162.

【００７８】図１４（ｂ）、（ｃ）からわかるように、
４×４のサイズで回転した場合は、所定の回転角を指定
して回転操作を行っても、ドットパターンはほとんど回
転しない。これは、入力ディザマトリクスにＢａｙｅｒ
型の４×４を使用したときには、回転操作を有効にする
ために、ある程度の広さの敷き詰め範囲が必要であるこ
とを表す。ここで敷き詰め範囲とは、図１０のフローチ
ャートの説明における出力マトリクスのサイズのことを
指す。本発明者は、基礎となる入力ディザマトリクスの
サイズとして４×４のサイズを用いる場合には、出力マ
トリクスのサイズとしておよそ１６×１６以上を用いれ
ば、回転操作が有効にはたらくことを経験的に確認して
いる。また、１６×１６以上であればそれ以上のどのサ
イズに関しても、図１４（ｄ）、（ｅ）に示した１３２
×１６２のパターンとほぼ同様なパターンを発生させる
ことが可能であることも確認している。As can be seen from FIGS. 14 (b) and 14 (c),
When rotated in a size of 4 × 4, the dot pattern is hardly rotated even if the rotation operation is performed by designating a predetermined rotation angle. This is a Bayer for the input dither matrix.
When the mold 4 × 4 is used, it means that a certain wide spread range is necessary in order to make the rotation operation effective. Here, the spread range refers to the size of the output matrix in the description of the flowchart of FIG. The present inventor has empirically found that when a size of 4 × 4 is used as the size of the input dither matrix which is the basis, the rotation operation works effectively if a size of approximately 16 × 16 or more is used as the size of the output matrix. I'm confirming. In addition, if the size is 16 × 16 or more, any size larger than that shown in FIGS.
It has also been confirmed that it is possible to generate a pattern substantially similar to the pattern of × 162.

【００７９】また、回転角の違いによるドットパターン
の特徴をみると、１３２×１６２の結果から、回転角が
３０度の方が１０度のときよりも乱れたドットパターン
を示した。このことは、３０度の方が、点が同じ位置に
マッピングされることが多いからであり、図１３におい
て、３０度において探索回数が多いことから確認するこ
とができる。Further, regarding the characteristics of the dot pattern due to the difference in the rotation angle, from the result of 132 × 162, the dot pattern in which the rotation angle is 30 degrees is more disturbed than when it is 10 degrees. This is because points are often mapped to the same position at 30 degrees, and it can be confirmed from the fact that the number of searches is large at 30 degrees in FIG.

【００８０】次に、最良な回転角を決定するために、官
能評価実験を行った。これは、ドットパターンを観察す
ることにより行う実験である。具体的方法は、０度から
４５度の範囲で回転角の異なるディザマトリクスを作成
し、得られたディザマトリクスによる画質を、一対比較
法により評価を行い、最良な回転角を決定した。評価結
果は、図１５に示すように、回転角が１０度のとき最も
心理評価値が高くなった。図１５における縦軸の心理評
価値は、値が大きいほど他に比べて好ましい画質である
ことを表している。すなわち、回転範囲を０度から９０
度として考えると、１０度または８０度が望ましい角度
である。このため、本実施の形態では、回転角を５度か
ら２０度または７０度から８５度の範囲内で回転するこ
ととしている。さらに好ましくは、１０度または８０度
で回転する。上記のように、本発明者は、５度から２０
度または７０度から８５度の範囲内で回転することによ
って、画質に対する心理表価値が最も高くなることを見
出している。これにより、画質の向上を図ることができ
るマスクの作成が可能となる。Next, a sensory evaluation experiment was conducted to determine the best rotation angle. This is an experiment performed by observing the dot pattern. As a specific method, a dither matrix having different rotation angles in the range of 0 to 45 degrees was created, and the image quality by the obtained dither matrix was evaluated by the paired comparison method to determine the best rotation angle. As the evaluation result, as shown in FIG. 15, the psychological evaluation value was highest when the rotation angle was 10 degrees. The psychological evaluation value on the vertical axis in FIG. 15 indicates that the larger the value, the better the image quality compared to other values. That is, the rotation range is 0 degrees to 90 degrees.
Considering the degree, 10 degrees or 80 degrees is a desirable angle. Therefore, in the present embodiment, the rotation angle is set to be within the range of 5 degrees to 20 degrees or 70 degrees to 85 degrees. More preferably, it rotates by 10 degrees or 80 degrees. As mentioned above, the present inventor
It has been found that the psychological value of the image quality is maximized by rotating the image within the range of 70 degrees or 85 degrees. This makes it possible to create a mask that can improve the image quality.

【００８１】（第２の作成方法）次に、第１の実施形態
に係るディザ閾値マスクの第２の作成方法について説明
する。上記の第１の作成方法では、入力マトリクスとし
てＢａｙｅｒ型のディザマトリクスを使用し、これを回
転処理することにより規則性と不規則性を併せ持つディ
ザ閾値マトリクスを作成した。回転処理は回転行列を用
いて入力マトリクスの閾値を変換することにより行っ
た。(Second Creation Method) Next, a second creation method of the dither threshold mask according to the first embodiment will be described. In the first creation method described above, a Bayer-type dither matrix is used as an input matrix, and by rotating this, a dither threshold matrix having both regularity and irregularity is created. The rotation process was performed by converting the threshold value of the input matrix using the rotation matrix.

【００８２】これに対し、第２の作成方法は、入力マト
リクスとしてＢａｙｅｒ型のディザマトリクスを用いる
こと、及び、回転処理により規則性と不規則性を併せ持
つディザ閾値マトリクスを作成することは第１の作成方
法と同様であるが、回転処理として、回転行列を用いる
のではなく、ディジタル線分及び境界追跡のアルゴリズ
ムを使用する点が第１の作成方法とは異なる。On the other hand, the second creation method uses the Bayer type dither matrix as the input matrix and creates the dither threshold matrix having both regularity and irregularity by the rotation processing. It is similar to the creation method, but differs from the first creation method in that the rotation process does not use a rotation matrix but uses a digital line segment and boundary tracking algorithm.

【００８３】図１９に、ディザ閾値マスクの第２の作成
方法のフローチャートを示す。ここでも、ディザ閾値マ
スクをマトリクスと呼ぶ。まず、入力マトリクスとして
Ｂａｙｅｒ型のディザマトリクスを読み込み（ステップ
Ｓ１１）、所定サイズの一次マトリクス及び出力マトリ
クスの領域を確保する（ステップＳ１２）。一次マトリ
クスは、第１の作成方法と同様に、マスク作成作業のた
めに使用される作業領域と考えることができる。図２０
を参照すると、図２０（ａ）に模式的に示すＢａｙｅｒ
型などのディザマトリクスが用意される。そして、図２
０（ｂ）に示すように、ある座標系（ここではＸＹ座標
系）上に所定サイズの一次マトリクスの領域を確保し、
そこに複数個のディザマトリクスを敷き詰めることによ
り所定サイズの一次マトリクスの領域を形成する。ま
た、出力マトリクスのサイズに相当する記憶領域をメモ
リ上などに確保する。FIG. 19 shows a flowchart of the second method for creating the dither threshold mask. Here again, the dither threshold mask is called a matrix. First, a Bayer type dither matrix is read as an input matrix (step S11), and areas of a primary matrix and an output matrix of a predetermined size are secured (step S12). The primary matrix can be considered as a work area used for a mask making operation as in the first making method. Figure 20
Referring to FIG. 20, the Bayer schematically shown in FIG.
A dither matrix such as a type is prepared. And FIG.
As shown in 0 (b), a primary matrix area of a predetermined size is secured on a certain coordinate system (here, the XY coordinate system),
By laying a plurality of dither matrices therein, a region of a primary matrix of a predetermined size is formed. In addition, a storage area corresponding to the size of the output matrix is secured on the memory or the like.

【００８４】次に、回転処理の回転角をθとすると、図
２０（ｃ）に示すように、一次マトリクスの座標系内に
設定された原点Ｏを通り、当該座標系上の１つの軸（例
えばＸ軸とする）に対して角度θを有する線分（回転後
基準線分７２）を引き、一次マトリクス内でその線分上
に存在する各点の閾値を出力マトリクス内の閾値として
保存する（ステップＳ１３）。これにより、角度θの回
転処理により得られる出力マトリクス内の回転後基準線
分７２上の閾値が得られたことになる。Next, assuming that the rotation angle of the rotation processing is θ, as shown in FIG. 20 (c), one axis (on the axis of the coordinate system, passing through the origin O set in the coordinate system of the primary matrix) A line segment (reference line segment 72 after rotation) having an angle θ with respect to the X axis is drawn, and the threshold value of each point existing on the line segment in the primary matrix is stored as the threshold value in the output matrix. (Step S13). As a result, the threshold value on the rotated reference line segment 72 in the output matrix obtained by the rotation processing of the angle θ is obtained.

【００８５】次に、こうして得られた出力マトリクス内
の回転後基準線分７２を基準として、境界追跡処理によ
り出力マトリクス内の他の閾値を求めていく。具体的に
は、まず、境界追跡のスタート位置を決定してその閾値
を求め（ステップＳ１４）、そのスタート位置を開始点
として、ステップＳ１３で求めた回転後基準線分に沿っ
て閾値を入力マトリクスから取得し、出力マトリクスの
閾値として保存していく（ステップＳ１５）。Next, using the rotated reference line segment 72 in the output matrix thus obtained as a reference, another threshold value in the output matrix is obtained by boundary tracking processing. Specifically, first, the start position of the boundary tracking is determined and the threshold value is calculated (step S14), and the threshold is input matrix along the post-rotation reference line segment calculated in step S13 with the start position as the starting point. From the output matrix and store it as the threshold value of the output matrix (step S15).

【００８６】こうして、最初に得られた回転後基準線分
を基準として、その境界に沿って順に閾値を決定してい
くことにより、所定サイズの出力マトリクスの閾値が順
に決定されていく。そして、出力マトリクスの閾値が全
て決定され、保存された時点で（ステップＳ１６；Ye
s）、処理は終了する。Thus, the threshold value of the output matrix of a predetermined size is sequentially determined by sequentially determining the threshold value along the boundary with the post-rotation reference line segment obtained first as a reference. Then, when all the threshold values of the output matrix are determined and stored (step S16; Ye
s), the process ends.

【００８７】図２１に、ステップＳ１４で行われる境界
追跡処理の例を示す。境界追跡処理とは、既に得られた
線分に沿って、当該線分に隣接する境界点を決定し、そ
の境界点に閾値を決定してゆく処理である。図２１
（ａ）には傾きが異なる２つの線分（線分９０と線分９
１）が示されている。いま、ステップＳ１３において回
転後基準線分７２として線分９０が得られたとする。図
２１（ａ）においては、線分に隣接して既に決定された
境界点と、それら境界点に基づいて決定された境界候補
点とが示されている。右上がりの線分の場合、図２１
（ｂ）に示す境界候補マトリクスを用い、これを１つの
境界点に当てはめることにより、その回りに境界候補点
が得られる。図２１（ｂ）に例示する境界候補マトリク
スは、左下に１つの境界点を有し、その他の３つの隣接
点を境界候補点とするマトリクスである。FIG. 21 shows an example of the boundary tracking process performed in step S14. The boundary tracking process is a process of determining a boundary point adjacent to the line segment along the already obtained line segment and determining a threshold value at the boundary point. Figure 21
In (a), two line segments with different inclinations (line segment 90 and line segment 9
1) is shown. Now, it is assumed that the line segment 90 is obtained as the post-rotation reference line segment 72 in step S13. In FIG. 21A, boundary points that have already been determined adjacent to the line segment and boundary candidate points that have been determined based on these boundary points are shown. In the case of a line segment rising to the right,
By using the boundary candidate matrix shown in (b) and applying this to one boundary point, boundary candidate points are obtained around it. The boundary candidate matrix illustrated in FIG. 21B is a matrix that has one boundary point at the lower left and uses the other three adjacent points as boundary candidate points.

【００８８】境界候補マトリクスを用いて得られた境界
候補点のうち、線分自体を構成する点ではなく、かつ、
線分に隣接する点を境界点と決定し、一次マトリクス上
の当該点に対応する閾値を出力マトリクス内の回転後基
準線分７２に隣接する閾値として保存する。回転後基準
線分７２に沿って境界点が決定され、その閾値を保存す
ることにより、回転後基準線分７２に沿って１行の閾値
が保存されることになる。Of the boundary candidate points obtained by using the boundary candidate matrix, it is not the points constituting the line segment itself, and
A point adjacent to the line segment is determined as a boundary point, and a threshold value corresponding to the point on the primary matrix is stored as a threshold value adjacent to the rotated reference line segment 72 in the output matrix. By determining the boundary points along the post-rotation reference line segment 72 and storing the threshold values, one-line threshold values are stored along the post-rotation reference line segment 72.

【００８９】次に、そうして決定された境界点が構成す
る線分に対してさらに同様の境界追跡処理を行うことに
より、回転後基準線分７２から順に１行ずつ出力マトリ
クス内の閾値が決定されていき、やがて出力マトリクス
内の全ての閾値が保存されて出力マトリクスが完成す
る。図２１（ｃ）は、回転後基準線分７２を基準に、座
標系のＹ方向へ２行分の境界追跡処理を実行し、境界点
を決定した例を示す。Next, the same boundary tracking processing is further performed on the line segment formed by the boundary points thus determined, so that the threshold values in the output matrix are row by row from the rotated reference line segment 72 in order. It is decided and eventually all thresholds in the output matrix are saved to complete the output matrix. FIG. 21C shows an example in which the boundary tracking processing is executed for two lines in the Y direction of the coordinate system with the rotated reference line segment 72 as a reference to determine the boundary points.

【００９０】次に、上述の境界追跡処理において、境界
点に決定された画素の閾値を取得する方法について図２
２を参照して説明する。いま、図２２に示すように回転
角θで回転後基準線分７２が得られ、その回転後基準線
分７２を基準にして境界追跡処理により出力マトリクス
の閾値を決定する場合を想定する。境界追跡処理では、
回転後基準線分７２に平行にＹｒ軸（Ｙ軸を回転角θだ
け回転させて得られる軸）方向に１行ずつ閾値を決定し
ていくことになり、いま回転後基準線分７２に平行な平
行直線７３に沿った点７８の出力マトリクス内における
閾値を決定するものと仮定する。Next, a method of acquiring the threshold value of the pixel determined as the boundary point in the boundary tracking processing described above will be described with reference to FIG.
2 will be described. Now, assume that a post-rotation reference line segment 72 is obtained at a rotation angle θ as shown in FIG. 22, and the threshold value of the output matrix is determined by the boundary tracking process with the post-rotation reference line segment 72 as a reference. In the boundary tracking process,
The threshold value will be determined line by line in the Yr axis direction (the axis obtained by rotating the Y axis by the rotation angle θ) in parallel with the post-rotation reference line segment 72, and is now parallel to the post-rotation reference line segment 72. Suppose that we want to determine the threshold in the output matrix of points 78 along the parallel lines 73.

【００９１】この場合の処理フローチャートを図２３に
示す。まず、回転後基準線分７２に平行な平行直線７３
を求め（ステップＳ２１）、次に、平行直線７３に垂直
な直線（Ｙｒ軸）を求める（ステップＳ２２）。そし
て、それらの交点７４を求め（ステップＳ２３）、その
交点からの閾値決定対象である点７８までの距離を求め
（ステップＳ２４）、その距離を画素の個数に換算する
（ステップＳ２５）。図２２の例では、交点７４から点
７８までの個数はｎ個である。そして、一次マトリクス
上で交点７４からＸ軸方向にｎ個の距離に存在する点７
７の閾値を、点７８の閾値として保存する（ステップＳ
２６）。こうして、回転後の境界追跡処理において、境
界点の閾値を決定していく。このように、交点７４から
の距離を基準として閾値を決定するのは、回転角θに正
しく対応する閾値を取得するためである。例えば、上記
の例において、出力マトリクス内の点７８に対応する位
置に、一次マトリクス内の点７８に対応する閾値を保存
してしまうと、回転角θの回転後の閾値を保存すること
ができない。上記のように回転角θだけ回転したＹｒ軸
上の点７４からの距離（画素の個数）が等しくなるよう
に一次マトリクスから閾値を取得すれば、正しくθだけ
回転した後の閾値を取得することができる。FIG. 23 shows a processing flowchart in this case. First, the parallel straight line 73 parallel to the reference line segment 72 after rotation
Is calculated (step S21), and then a straight line (Yr axis) perpendicular to the parallel straight line 73 is calculated (step S22). Then, the intersections 74 are obtained (step S23), the distance from the intersections to the point 78 which is the threshold determination target is obtained (step S24), and the distance is converted into the number of pixels (step S25). In the example of FIG. 22, the number of intersections 74 to 78 is n. Then, points 7 existing at a distance of n in the X-axis direction from the intersection 74 on the primary matrix.
The threshold value of 7 is stored as the threshold value of the point 78 (step S
26). In this way, the threshold value of the boundary point is determined in the boundary tracking processing after rotation. In this way, the reason why the threshold value is determined based on the distance from the intersection point 74 is to obtain the threshold value that correctly corresponds to the rotation angle θ. For example, in the above example, if the threshold value corresponding to the point 78 in the primary matrix is stored at the position corresponding to the point 78 in the output matrix, the threshold value after the rotation of the rotation angle θ cannot be stored. . If the threshold value is acquired from the primary matrix so that the distance (the number of pixels) from the point 74 on the Yr axis rotated by the rotation angle θ becomes equal as described above, the threshold value after correctly rotating by θ can be acquired. You can

【００９２】なお、上記の例では、基準線分を一次マト
リクスの座標系のＸ軸方向（即ち、一次マトリクスの列
方向）にとり、回転後基準線分７２を基準として行方向
に順に出力マトリクスの閾値を求めている。その代わり
に、基準線分を一次マトリクスの座標系のＹ軸方向（即
ち、一次マトリクスの行方向）にとり、回転後基準線分
を基準として列方向に順に出力マトリクスの閾値を求め
てもよい。In the above example, the reference line segment is taken in the X-axis direction of the coordinate system of the primary matrix (that is, the column direction of the primary matrix), and the rotated reference line segment 72 is used as a reference in the row direction of the output matrix. Seeking a threshold. Alternatively, the reference line segment may be taken in the Y-axis direction of the coordinate system of the primary matrix (that is, the row direction of the primary matrix), and the threshold value of the output matrix may be sequentially obtained in the column direction with the rotated reference line segment as a reference.

【００９３】（第３の作成方法）次に、本発明のディザ
閾値マスクの第３の作成方法について説明する。上記の
第１及び第２の作成方法では、Ｂａｙｅｒ型などの入力
ディザマトリクスに対して回転処理を行うことによりデ
ィザ閾値マスクを作成したが、本実施形態では、入力デ
ィザマトリクスに対してシフト処理を施すことによりデ
ィザ閾値マスクを作成する。このシフト処理によって
も、本発明の特徴である、規則性と不規則性を併せ持つ
ディザ閾値マスクを作成することができる。(Third Creating Method) Next, a third creating method of the dither threshold mask of the present invention will be described. In the first and second creation methods described above, the dither threshold mask is created by performing rotation processing on an input dither matrix of Bayer type or the like, but in the present embodiment, shift processing is performed on the input dither matrix. By applying this, a dither threshold mask is created. Also by this shift processing, a dither threshold mask having both regularity and irregularity, which is a feature of the present invention, can be created.

【００９４】シフト処理によるディザ閾値マスクの作成
方法を、図２４及び図２５を参照して説明する。なお、
この方法においても、入力マトリクスとしては、図２５
（ａ）に示すＢａｙｅｒ型のディザマトリクスを使用す
るものとする。また、入力マトリクスを展開してシフト
処理を行うために、出力マトリクスよりもサイズの大き
な作業領域が使用される。A method of creating a dither threshold mask by shift processing will be described with reference to FIGS. 24 and 25. In addition,
Also in this method, the input matrix is as shown in FIG.
It is assumed that the Bayer type dither matrix shown in (a) is used. Further, in order to expand the input matrix and perform the shift processing, a work area having a size larger than that of the output matrix is used.

【００９５】まず、入力マトリクスを作業領域に展開す
る（ステップＳ３１）。この例では、図２５（ｂ）に示
すように、出力マトリクスを８×８ドットのサイズと仮
定しており、図２５（ａ）に示すＢａｙｅｒ型の入力デ
ィザマトリクスを４個組み合わせて、８×８ドットのマ
トリクスを作業領域に展開している。なお、出力マトリ
クスがこれより大きい場合は、より多数の入力ディザマ
トリクスを展開してシフト処理を行うことになる。First, the input matrix is expanded in the work area (step S31). In this example, as shown in FIG. 25B, it is assumed that the output matrix has a size of 8 × 8 dots, and four Bayer type input dither matrices shown in FIG. An 8-dot matrix is developed in the work area. If the output matrix is larger than this, a larger number of input dither matrices are expanded and the shift processing is performed.

【００９６】次に、シフト処理におけるシフト量を設定
する（ステップＳ３２）。シフト処理においては、ステ
ップＳ３１で作業領域上に展開したマトリクスを列（Ｘ
軸）方向及び行（Ｙ軸）方向に所定量ずつシフトしてマ
トリクスの変形を行う。よって、シフト量は、展開され
たマトリクスの行毎にＸ方向シフト量が設定され、展開
されたマトリクスの列毎にＹ方向シフト量が設定され
る。図２５（ｃ）は第０行から第３行まではＸ方向シフ
ト量０、第４行から第７行まではＸ方向シフト量１でシ
フト処理を行った結果を模式的に示す。また、図２５
（ｄ）は、第０列から第３列まではＹ方向シフト量０、
第４列から第７列まではＹ方向シフト量１でシフト処理
を行った結果を模式的に示す。なお、Ｘ方向シフト量、
Ｙ方向シフト量ともに任意に設定することができ、Ｘ方
向シフト量とＹ方向シフト量が異なっていても構わな
い。Next, the shift amount in the shift process is set (step S32). In the shift processing, the matrix developed on the work area in step S31 is converted into columns (X
The matrix is deformed by shifting by a predetermined amount in the axis direction and the row (Y axis) direction. Therefore, as the shift amount, the X-direction shift amount is set for each row of the expanded matrix, and the Y-direction shift amount is set for each column of the expanded matrix. FIG. 25C schematically shows the result of performing the shift process with an X-direction shift amount of 0 from the 0th row to the 3rd row and with an X-direction shift amount of 1 from the 4th row to the 7th row. In addition, FIG.
(D) shows that the Y-direction shift amount is 0 from the 0th column to the 3rd column,
From the fourth column to the seventh column, the result of performing the shift process with the Y-direction shift amount of 1 is schematically shown. The X-direction shift amount,
Both the Y-direction shift amount can be set arbitrarily, and the X-direction shift amount and the Y-direction shift amount may be different.

【００９７】こうして、シフト量が設定されると、次に
そのシフト量に従ってシフト操作が実行される（ステッ
プＳ３３）。具体的には、図２５（ｅ）に示すように、
まずＸ方向シフト操作が実行され、第４行から第７行の
各ドットがＸ方向に１ずつシフトされる。なお、シフト
によってＸ方向側にはみ出たドット列は図２５（ｅ）中
の矢印に示すように、Ｘ軸の負方向に移動されて、最終
的には８×８ドットの正方形のマトリクスとされる。When the shift amount is set in this way, the shift operation is then executed according to the shift amount (step S33). Specifically, as shown in FIG.
First, the X-direction shift operation is executed, and each dot in the fourth row to the seventh row is shifted by 1 in the X direction. Note that the dot row protruding toward the X direction side by the shift is moved in the negative direction of the X axis as shown by the arrow in FIG. 25 (e), and finally formed into a square matrix of 8 × 8 dots. It

【００９８】次に、Ｘ方向のシフト操作が完了した状態
のマトリクスに対して、Ｙ方向シフト操作が実行され
る。即ち、図２５（ｆ）に示すように、第４列から第７
列の各ドットがＹ方向下方に１ずつシフトされ、同様に
はみ出た部分が矢印に示すようにＹ軸の上方向に移動さ
れて正方形のマトリクスが作成される。こうして、図２
５（ｇ）に示すようにディザ閾値マトリクスが作業領域
上で得られ、各閾値を保存して（ステップＳ３４）、デ
ィザ閾値マトリクスの作成が完了する。Next, the Y-direction shift operation is executed on the matrix in the state where the X-direction shift operation is completed. That is, as shown in FIG.
Each dot in the row is shifted downward by one in the Y direction, and the protruding portion is moved upward in the Y axis as indicated by an arrow to form a square matrix. Thus, FIG.
As shown in FIG. 5G, the dither threshold matrix is obtained on the work area, each threshold is saved (step S34), and the creation of the dither threshold matrix is completed.

【００９９】なお、上記の例では、Ｘ方向シフト操作の
先に行い、次にＹ方向シフト操作を行っているが、逆に
Ｙ方向操作を先に行い、その後でＸ方向シフト操作を行
うこととしてもよい。この順序を入れ替えることによ
り、異なるディザ閾値マトリクスが得られる。図４０か
ら図４３にシフト処理により作成されたディザ閾値マス
クの周波数特性を示す。In the above example, the X-direction shift operation is performed first, and then the Y-direction shift operation is performed. Conversely, the Y-direction operation is performed first, and then the X-direction shift operation is performed. May be By changing this order, different dither threshold matrices can be obtained. 40 to 43 show the frequency characteristics of the dither threshold mask created by the shift processing.

【０１００】次に、好適なシフト量について説明する。
本発明のディザ閾値マトリクスでは、入力マトリクスと
して規則性を有するＢａｙｅｒ型を使用し、これに対し
て回転処理又はシフト処理を施して不規則性を導入して
いる。本実施形態では、シフト処理により不規則性を導
入するので、シフト量の設定が、作成されるディザ閾値
マスクの性能に大きな影響を与える。Next, a suitable shift amount will be described.
In the dither threshold matrix of the present invention, a Bayer type having regularity is used as an input matrix, and a rotation process or a shift process is applied to this to introduce irregularity. In this embodiment, since the irregularity is introduced by the shift process, the setting of the shift amount has a great influence on the performance of the created dither threshold mask.

【０１０１】図２７（ａ）に、入力マトリクスに対して
シフト処理により不規則性を導入した一例を示す。この
例では、Ｂａｙｅｒ型ディザマトリクスを横方向に連結
し、第０行のドットに対して、３つおきに２つのドット
をＹ方向に「−１」シフトした例である。このようにシ
フト処理により、入力マトリクスが有する規則的な閾値
配列パターンがくずれ、不規則な閾値配列パターンが生
まれている。FIG. 27A shows an example of introducing irregularity into the input matrix by shift processing. In this example, the Bayer type dither matrix is connected in the horizontal direction, and two dots every three dots are shifted by “−1” in the Y direction with respect to the dot in the 0th row. As described above, the shift process causes the regular threshold array pattern of the input matrix to collapse, resulting in an irregular threshold array pattern.

【０１０２】図２７（ｂ）乃至（ｅ）は、シフト量を変
えた場合のドットのシフト例を示す。図２７（ｂ）は１
ドット単位でＹ方向に「−１」だけシフトした例であ
り、図２７（ｃ）は２ドット単位でＹ方向に「−１」だ
けシフトした例であり、図２７（ｄ）は３ドット単位で
Ｙ方向に「−１」だけシフトした例であり、図２７
（ｅ）は４ドット単位でＹ方向に「−１」だけシフトし
た例である。このように、シフト量を調整すると、その
シフト操作により閾値列が移動する角度αが決まる。図
２７（ｂ）の例では角度αは４５度であり、図２７
（ｅ）の例では角度αは約１４度である。図２７（ｂ）
〜（ｅ）における幅を変化させた場合の角度αの変化を
図２６に示す。図２６からわかるように、幅の値を大き
くするほど、閾値が移動する角度αの値は小さくなる。FIGS. 27B to 27E show dot shift examples when the shift amount is changed. FIG. 27B shows 1
27 is an example in which the dot unit is shifted by "-1" in the Y direction, FIG. 27 (c) is an example in which the dot is shifted by "-1" in the Y direction, and FIG. 27 (d) is in the 3-dot unit. 27 is an example of shifting in the Y direction by "-1".
(E) is an example of shifting by "-1" in the Y direction in units of 4 dots. As described above, when the shift amount is adjusted, the shift operation determines the angle α at which the threshold sequence moves. In the example of FIG. 27B, the angle α is 45 degrees.
In the example of (e), the angle α is about 14 degrees. FIG. 27 (b)
FIG. 26 shows changes in the angle α when the width in (e) is changed. As can be seen from FIG. 26, the larger the width value, the smaller the value of the angle α at which the threshold moves.

【０１０３】ここで、先に述べた回転処理によるディザ
閾値マトリクスの作成においては、官能評価などの結
果、所望の不規則性を有するディザ閾値マトリクスを作
成するための好ましい回転角は５〜２０度又は７０〜８
５度であり、特に１０度又は８０度付近が好適であるこ
とがわかっている。この観点から、シフト処理によりデ
ィザ閾値マトリクスを作成する際にも、１０度又は８０
度付近の回転角αをとる幅の値が良好であることがわか
る。具体的は、図２６より、幅が３〜５の間となるよう
にシフト量を決定すれば、回転角αが１０度前後にな
り、好ましいことがわかる。なお、実際には、幅３〜５
の間の幅を同じ幅がＸ方向又はＹ方向に連続しないよう
に組み合わせ、ディザ閾値マトリクス全体として約１０
度程度の回転角に相当するような配列を作成することが
さらに好ましい。Here, in the creation of the dither threshold matrix by the rotation processing described above, as a result of sensory evaluation and the like, the preferred rotation angle for creating the dither threshold matrix having a desired irregularity is 5 to 20 degrees. Or 70-8
It has been found that it is 5 degrees, and particularly preferably around 10 degrees or 80 degrees. From this point of view, even when the dither threshold matrix is created by the shift processing, 10 degrees or 80 degrees are used.
It can be seen that the value of the width that takes the rotation angle α in the vicinity of degrees is good. Specifically, it can be seen from FIG. 26 that if the shift amount is determined so that the width is between 3 and 5, the rotation angle α is around 10 degrees, which is preferable. Actually, the width is 3 to 5
The widths are combined so that the same width is not continuous in the X or Y direction, and the total dither threshold matrix is about 10
It is more preferable to create an array that corresponds to a rotation angle of the order of degrees.

【０１０４】前述のように、１つのディザ閾値マスク内
ではＸ方向及びＹ方向のそれぞれにおいて、ドット位置
毎に異なるシフト量を設定することができる。例えば図
２５（ｃ）の例では、第０行から第３行までのＸ方向シ
フト量は０であり、第４行から第７行列までのＸ方向シ
フト量は１であり、それらは異なっている。但し、その
ように異なるシフト量を設定する場合でも、隣接する部
分におけるシフト量は±１の範囲内とすることが好まし
い。これは、隣接する部分におけるシフト量の絶対値が
２以上となると、シフト処理により入力マトリクスが有
する規則性が急激に変化するためである。一方、隣接す
る部分におけるシフト量が±１の範囲内となるようにシ
フト量を設定すれば、もともと規則性を有する入力マト
リクスの所定部分がＸ方向又はＹ方向へ徐々にシフトし
た状態となり、作成されたディザ閾値マトリクス内にお
ける規則性を有する部分と不規則性を有する部分の割合
及び位置関係が適切となるからである。As described above, different shift amounts can be set for each dot position in each of the X and Y directions within one dither threshold mask. For example, in the example of FIG. 25C, the X-direction shift amount from the 0th row to the 3rd row is 0, the X-direction shift amount from the 4th row to the 7th matrix is 1, and they are different. There is. However, even when such different shift amounts are set, it is preferable that the shift amounts in the adjacent portions are within ± 1. This is because the regularity of the input matrix changes abruptly due to the shift process when the absolute value of the shift amount in the adjacent portion becomes 2 or more. On the other hand, if the shift amount is set so that the shift amount in the adjacent portion falls within the range of ± 1, the predetermined portion of the input matrix which originally has regularity gradually shifts in the X direction or the Y direction, and This is because the ratio and the positional relationship between the part having regularity and the part having irregularity in the created dither threshold matrix are appropriate.

【０１０５】また、作成されたディザ閾値マトリクスを
見た場合、その左端と右端のシフト量は±１以内である
ことが好ましく、上端と下端のシフト量も±１以内であ
ることが好ましい。そのようにシフト処理におけるＸ方
向及びＹ方向のシフト量を設定すれば、作成されたディ
ザ閾値マトリクスを複数個隣接配置して使用する場合
に、それらの境界領域において規則性を有する部分と不
規則性を有する部分とが適切に配置されることになる。When the created dither threshold matrix is viewed, it is preferable that the shift amount at the left end and the right end thereof is within ± 1, and the shift amount at the upper end and the lower end is also within ± 1. By setting the shift amounts in the X direction and the Y direction in the shift process as described above, when a plurality of created dither threshold matrices are arranged adjacent to each other and used, a portion having regularity and an irregular portion in their boundary regions are used. The portion having the property is appropriately arranged.

【０１０６】［適用例］本実施の形態のディザ閾値マス
クは、表示階調数が少ない（２５６色、４０９６色）Ｌ
ＣＤパネルでのディザによる面積階調表現に好適であ
る。すなわちＬＣＤにおいて液晶セルを駆動させるだけ
で階調表現を行うとすると、駆動による消費電力が大き
くなると共に、駆動回路が複雑化する。このため、表示
階調数が少ないＬＣＤパネルにおいて、表現可能階調数
を補うために本実施形態のディザマスクを用いると、消
費電力が低く、また駆動回路が複雑化しないＬＣＤパネ
ルを提供することが可能となる。[Application Example] The dither threshold mask of this embodiment has a small number of display gradations (256 colors, 4096 colors) L.
It is suitable for area gradation expression by dither in a CD panel. That is, if the gradation is expressed only by driving the liquid crystal cell in the LCD, the power consumption by the driving increases and the driving circuit becomes complicated. Therefore, in the LCD panel having a small number of display gradations, when the dither mask of this embodiment is used to supplement the number of expressible gradations, it is possible to provide an LCD panel with low power consumption and a complicated drive circuit. Is possible.

【０１０７】また、本実施形態のディザ閾値マスクは、
一個の素子がある程度の画素面積を持つＬＣＤパネルに
おいて用いるのが好適である。すなわち、ＬＣＤパネル
において画素面積を小さくして解像度を高くすると、画
素中における駆動素子および配線の面積の割合が増加
し、画素中の表示部の面積の割合が減少するため、ＬＣ
Ｄの表示する明るさが暗くなる。このため、解像度を例
えば１００〜１５０ｄｐｉ程度としたＬＣＤに対して用
いると、表示部の明るさ確保のために有効である。この
とき、解像度が低いときには、人間の視覚特性は、ドッ
トパターンにおける規則的なパターンやウォーム模様を
認知しやすいが、本実施形態のディザ閾値マスクは、こ
のようなパターンを発生させないため、画質の向上が効
果的にはかれる。Further, the dither threshold mask of this embodiment is
It is suitable for use in an LCD panel in which one element has a certain pixel area. That is, when the pixel area is reduced and the resolution is increased in the LCD panel, the ratio of the area of the driving element and the wiring in the pixel is increased and the ratio of the area of the display portion in the pixel is decreased.
The brightness displayed by D becomes dark. Therefore, when used for an LCD having a resolution of, for example, about 100 to 150 dpi, it is effective for securing the brightness of the display unit. At this time, when the resolution is low, human visual characteristics easily recognize a regular pattern or warm pattern in the dot pattern, but the dither threshold mask of the present embodiment does not generate such a pattern, so The improvement is effective.

【０１０８】なお、本実施の形態に係るディザ閾値マス
クは、ＬＣＤに限らず有機ＥＬディスプレイその他の表
示装置、さらにはプリンタの印画部等にも適用可能であ
ることはいうまでもない。Needless to say, the dither threshold mask according to this embodiment can be applied not only to the LCD but also to other display devices such as an organic EL display and further to a printing section of a printer.

【０１０９】さらに、本発明の本質は、複数の閾値を持
ったディザマスクにおいて、そのディザマスクが持つ特
性に特徴があるものである。したがって、すでに提案さ
れているさまざまな画像処理のなかで、処理の一部とし
てディザ処理を用いるディザ応用処理、あるいはディザ
マスクを用いて不規則性ノイズ成分を付加する場合な
ど、ディザマスクを使った各種処理に対して、本発明の
ディザマスクは適用可能である。Further, the essence of the present invention is that a dither mask having a plurality of threshold values is characterized by the characteristics of the dither mask. Therefore, among the various image processing methods that have already been proposed, the dither mask is used in cases such as dither application processing that uses dither processing as part of the processing, or when adding irregular noise components using a dither mask. The dither mask of the present invention can be applied to various processes.

【０１１０】[0110]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のドット分
散型マスクは、連続階調の画像データにおける各画素の
階調値を２値または多値に変換するためのドット分散型
マスクであって、変換により得られるドットパターンに
規則性および不規則性が現れるような閾値の配列を有す
ることを特徴としている。As described above, the dot dispersion type mask of the present invention is a dot dispersion type mask for converting the gradation value of each pixel in continuous gradation image data into a binary value or a multivalued one. In addition, the dot pattern obtained by the conversion has an array of threshold values that show regularity and irregularity.

【０１１１】このように、ドット分散型を採るので、そ
れぞれのドットが空間的に分離したドットパターンを生
じる。このため、ドットの隣接が生じにくい。また、ド
ットパターンに規則性と共に不規則性を有するので、Ｂ
ａｙｅｒの様な規則的パターンやブルーノイズマスクの
ような中濃度でのウォーム模様が生じない。従って、好
ましい中間調表現が可能となり、画質の向上を図ること
ができる。Since the dot dispersion type is adopted in this way, each dot produces a dot pattern in which each dot is spatially separated. Therefore, it is difficult for dots to be adjacent to each other. In addition, since the dot pattern has regularity and irregularity, B
A regular pattern such as an ayer or a warm pattern with a medium density such as a blue noise mask does not occur. Therefore, a preferable halftone expression is possible, and the image quality can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本実施の形態に係る画像表示装置の概略構成を
示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an image display device according to an embodiment.

【図２】ディザ閾値マスクの機能を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a function of a dither threshold mask.

【図３】本実施の形態に係るディザ閾値マスクの周波数
特性を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing frequency characteristics of the dither threshold mask according to the present embodiment.

【図４】本実施の形態に係るディザ閾値マスクの周波数
特性を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing frequency characteristics of the dither threshold mask according to the present embodiment.

【図５】本実施の形態に係るディザ閾値マスクの周波数
特性を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing frequency characteristics of the dither threshold mask according to the present embodiment.

【図６】本実施の形態に係るディザ閾値マスクの周波数
特性を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing frequency characteristics of the dither threshold mask according to the present embodiment.

【図７】Ｂａｙｅｒ型マスクによるハーフトーン結果を
示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a halftone result using a Bayer mask.

【図８】ブルーノイズマスクによるハーフトーン結果を
示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a halftone result using a blue noise mask.

【図９】本実施の形態に係るディザ閾値マスクによるハ
ーフトーン結果を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a halftone result by the dither threshold mask according to the present embodiment.

【図１０】本実施の形態に係るディザ閾値マトリクスの
第１の作成方法のフローチャートである。FIG. 10 is a flowchart of a first method for creating a dither threshold matrix according to this embodiment.

【図１１】回転変換の様子を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a state of rotation conversion.

【図１２】閾値の探索順序を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a threshold search order.

【図１３】回転角度と探索回数との関係を示す図であ
る。FIG. 13 is a diagram showing a relationship between a rotation angle and the number of searches.

【図１４】（ａ） 回転角が０度の場合のディザ閾値マ
スクによるドットパターンを示す図である。 （ｂ） サイズが４×４で、回転角が１０度の場合のデ
ィザ閾値マスクによるドットパターンを示す図である。 （ｃ） サイズが４×４で、回転角が３０度の場合のデ
ィザ閾値マスクによるドットパターンを示す図である。 （ｄ） サイズが１３２×１６２で、回転角が１０度の
場合のディザ閾値マスクによるドットパターンを示す図
である。 （ｅ） サイズが１３２×１６２で、回転角が３０度の
場合のディザ閾値マスクによるドットパターンを示す図
である。FIG. 14A is a diagram showing a dot pattern by a dither threshold mask when the rotation angle is 0 degree. (B) It is a figure which shows the dot pattern by a dither threshold mask in case a size is 4x4 and a rotation angle is 10 degrees. (C) It is a figure which shows a dot pattern by a dither threshold mask in case a size is 4x4 and a rotation angle is 30 degrees. (D) It is a figure which shows the dot pattern by a dither threshold mask in case a size is 132x162 and a rotation angle is 10 degrees. (E) It is a figure which shows the dot pattern by a dither threshold mask in case a size is 132x162 and a rotation angle is 30 degrees.

【図１５】回転角毎のドットパターンに対する官能評価
実験の結果を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a result of a sensory evaluation experiment for a dot pattern for each rotation angle.

【図１６】２値ディザを説明するためのマトリクス図で
ある。FIG. 16 is a matrix diagram for explaining binary dither.

【図１７】多値ディザを説明するためのマトリクス図で
ある。FIG. 17 is a matrix diagram for explaining multi-valued dither.

【図１８】Ｒ，Ｇ，Ｂ各色に別々のディザマトリクスを
対応付けるための装置のブロック図である。FIG. 18 is a block diagram of an apparatus for associating different dither matrices with R, G, and B colors.

【図１９】ディザ閾値マスクの第２の作成方法のフロー
チャートである。FIG. 19 is a flowchart of a second method for creating a dither threshold mask.

【図２０】ディザ閾値マスクの第２の作成方法における
回転処理及び境界追跡処理を説明する図である。FIG. 20 is a diagram illustrating rotation processing and boundary tracking processing in a second dither threshold mask creation method.

【図２１】境界追跡処理における境界点決定方法を模式
的に示す図である。FIG. 21 is a diagram schematically showing a boundary point determination method in boundary tracking processing.

【図２２】境界追跡処理における閾値の決定・保存方法
を説明する図である。FIG. 22 is a diagram illustrating a method of determining and storing a threshold value in boundary tracking processing.

【図２３】境界追跡処理における閾値の決定・保存方法
のフローチャートである。FIG. 23 is a flowchart of a threshold value determining / storing method in boundary tracking processing.

【図２４】ディザ閾値マスクの第３の作成方法のフロー
チャートである。FIG. 24 is a flowchart of a third method for creating a dither threshold mask.

【図２５】シフト処理の例を説明する図である。FIG. 25 is a diagram illustrating an example of shift processing.

【図２６】シフト処理におけるシフト幅と、対応する回
転角との関係を示す図表である。FIG. 26 is a chart showing a relationship between a shift width in a shift process and a corresponding rotation angle.

【図２７】シフト処理におけるシフト例を示す図であ
る。FIG. 27 is a diagram illustrating a shift example in the shift processing.

【図２８】Ｂａｙｅｒ型マスクの周波数特性を示す図で
ある。FIG. 28 is a diagram showing frequency characteristics of a Bayer type mask.

【図２９】Ｂａｙｅｒ型マスクの周波数特性を示す図で
ある。FIG. 29 is a diagram showing frequency characteristics of a Bayer type mask.

【図３０】Ｂａｙｅｒ型マスクの周波数特性を示す図で
ある。FIG. 30 is a diagram showing frequency characteristics of a Bayer type mask.

【図３１】Ｂａｙｅｒ型マスクの周波数特性を示す図で
ある。FIG. 31 is a diagram showing frequency characteristics of a Bayer type mask.

【図３２】ブルーノイズマスクの周波数特性を示す図で
ある。FIG. 32 is a diagram showing frequency characteristics of a blue noise mask.

【図３３】ブルーノイズマスクの周波数特性を示す図で
ある。FIG. 33 is a diagram showing frequency characteristics of a blue noise mask.

【図３４】ブルーノイズマスクの周波数特性を示す図で
ある。FIG. 34 is a diagram showing frequency characteristics of a blue noise mask.

【図３５】ブルーノイズマスクの周波数特性を示す図で
ある。FIG. 35 is a diagram showing frequency characteristics of a blue noise mask.

【図３６】特開平６−２２１２３号公報に開示されてい
るマスクの周波数特性を示す図である。FIG. 36 is a diagram showing frequency characteristics of a mask disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-22123.

【図３７】特開平６−２２１２３号公報に開示されてい
るマスクの周波数特性を示す図である。FIG. 37 is a diagram showing frequency characteristics of a mask disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-22123.

【図３８】特開平６−２２１２３号公報に開示されてい
るマスクの周波数特性を示す図である。FIG. 38 is a diagram showing frequency characteristics of a mask disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-22123.

【図３９】特開平６−２２１２３号公報に開示されてい
るマスクの周波数特性を示す図である。FIG. 39 is a diagram showing frequency characteristics of a mask disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-22123.

【図４０】シフト処理を利用して作成したディザ閾値マ
スクの周波数特性を示す図である。FIG. 40 is a diagram showing frequency characteristics of a dither threshold mask created by using shift processing.

【図４１】シフト処理を利用して作成したディザ閾値マ
スクの周波数特性を示す図である。FIG. 41 is a diagram showing frequency characteristics of a dither threshold mask created by using shift processing.

【図４２】シフト処理を利用して作成したディザ閾値マ
スクの周波数特性を示す図である。FIG. 42 is a diagram showing frequency characteristics of a dither threshold mask created by using shift processing.

【図４３】シフト処理を利用して作成したディザ閾値マ
スクの周波数特性を示す図である。FIG. 43 is a diagram showing frequency characteristics of a dither threshold mask created by using shift processing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１００ 画像処理装置 １０１ 入力手段 １０２ ディザ処理手段 １０３ ＬＣＤパネル 100 image processing device 101 input means 102 dither processing means 103 LCD panel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村井 清昭 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 5B057 BA30 CA08 CA12 CA16 CB07 CB12 CB16 CC03 CE06 CE13 5C077 LL19 MP01 NN09 RR02 RR09 RR16 SS06 (54)【発明の名称】 ドット分散型マスク、画像表示装置、画像処理装置及び方法、画像処理プログラム、ドット分散 型マスクの作成方法、ドット分散型マスクの作成プログラムおよびコンピュータ読み取り可能な 記録媒体   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Kiyoaki Murai             Seiko, 3-3-3 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture             -In Epson Corporation F-term (reference) 5B057 BA30 CA08 CA12 CA16 CB07                       CB12 CB16 CC03 CE06 CE13                 5C077 LL19 MP01 NN09 RR02 RR09                       RR16 SS06    (54) [Title of Invention] Dot dispersion type mask, image display device, image processing device and method, image processing program, dot dispersion                     Type mask making method, dot dispersion type mask making program and computer readable                     recoding media

Claims (31)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 連続階調の画像データにおける各画素の
階調値を２値または多値に変換するためのドット分散型
マスクであって、 前記変換により得られるドットパターンに規則性および
不規則性が現れるような閾値の配列を有することを特徴
とするドット分散型マスク。1. A dot dispersion type mask for converting a gradation value of each pixel in continuous gradation image data into a binary value or a multi-valued value, wherein a dot pattern obtained by the conversion has regularity and irregularity. A dot-dispersion type mask having an array of threshold values at which the property appears. 【請求項２】 前記ドットパターンの各周波数成分を含
む周波数領域において、 前記不規則性を示す周波数成分は、高い周波数領域に散
在することを特徴とする請求項１記載のドット分散型マ
スク。2. The dot dispersion type mask according to claim 1, wherein, in a frequency region including each frequency component of the dot pattern, the frequency components exhibiting irregularity are scattered in a high frequency region. 【請求項３】 前記ドットパターンの各周波数成分を含
む周波数領域において、 前記規則性を示す周波数成分の強さは、前記不規則性を
示す周波数成分の強さよりも大きいことを特徴とする請
求項１または請求項２記載のドット分散型マスク。3. The frequency domain including each frequency component of the dot pattern, the strength of the frequency component showing the regularity is larger than the strength of the frequency component showing the irregularity. The dot dispersion type mask according to claim 1 or 2. 【請求項４】 前記ドットパターンの各周波数成分を含
む周波数領域において、 前記規則性を示す周波数成分は、周波数領域に局所的に
存在することを特徴とする請求項１から請求項３のいず
れかに記載のドット分散型マスク。4. In a frequency region including each frequency component of the dot pattern, the frequency component exhibiting the regularity locally exists in the frequency region. The dot dispersion type mask described in. 【請求項５】 連続階調の画像データにおける各画素の
階調値を２値または多値に変換するためのドット分散型
マスクであって、 相互に所定の規則性をもって複数の閾値が配列されてな
る規則性パターン閾値群と、前記所定の規則性を有しな
いように複数の閾値が配列されてなる不規則性パターン
閾値群とが組み合わされてなることを特徴とするドット
分散型マスク。5. A dot dispersion type mask for converting a gradation value of each pixel in continuous gradation image data into a binary value or a multivalued value, wherein a plurality of threshold values are arranged with a predetermined regularity. A dot-dispersion-type mask comprising: a group of regular pattern thresholds formed by the above and a group of irregular pattern thresholds in which a plurality of thresholds are arranged so as not to have the predetermined regularity. 【請求項６】 前記ドット分散型マスクは前記所定の規
則性に従って閾値が配列された基礎閾値パターンを用い
て作成され、前記規則性パターン閾値群は前記基礎閾値
パターンが保有する閾値配列の一部が有する規則性と同
一の規則性を有する閾値配列を保有することを特徴とす
る請求項５に記載のドット分散型マスク。6. The dot dispersion type mask is created by using a basic threshold pattern in which thresholds are arranged according to the predetermined regularity, and the regularity pattern threshold group is a part of a threshold array held by the basic threshold pattern. 6. The dot dispersion type mask according to claim 5, wherein the dot dispersion type mask has a threshold array having the same regularity as that of. 【請求項７】 前記不規則性パターン閾値群は前記基礎
閾値パターンが保有する閾値を、前記所定の規則性を有
しないように配列してなることを特徴とする請求項６に
記載のドット分散型マスク。7. The dot dispersion according to claim 6, wherein the irregular pattern threshold group is formed by arranging thresholds held by the basic threshold pattern so as not to have the predetermined regularity. Type mask. 【請求項８】 前記規則性パターン閾値群は、前記基礎
閾値パターンを所定の回転角だけ回転させた場合に、回
転後の閾値が発生させるドットと回転前の閾値が発生さ
せるドットが一致する閾値により構成されることを特徴
とする請求項６に記載のドット分散型マスク。8. The regular pattern threshold value group is a threshold value in which, when the basic threshold value pattern is rotated by a predetermined rotation angle, a dot generated by a threshold value after rotation and a dot generated by a threshold value before rotation match. 7. The dot-dispersion mask according to claim 6, wherein 【請求項９】 前記ドット分散型マスクは前記所定の規
則性に従って閾値が配列された基礎閾値パターンを用い
て作成され、前記規則性パターン閾値群は前記基礎閾値
パターンを所定の回転角だけ回転した場合に前記所定の
規則性を維持している閾値により構成され、前記不規則
性パターン閾値群は前記基礎閾値パターンを所定の回転
角だけ回転した場合に前記所定の規則性を維持していな
い閾値により構成されることを特徴とする請求項６に記
載のドット分散型マスク。9. The dot-dispersion mask is created by using a basic threshold pattern in which thresholds are arranged according to the predetermined regularity, and the regular pattern threshold group rotates the basic threshold pattern by a predetermined rotation angle. In the case where the threshold pattern maintains the predetermined regularity, the irregular pattern threshold group is a threshold that does not maintain the predetermined regularity when the basic threshold pattern is rotated by a predetermined rotation angle. 7. The dot-dispersion mask according to claim 6, wherein 【請求項１０】 前記ドット分散型マスクは前記所定の
規則性に従って閾値が配列された基礎閾値パターンを用
いて作成され、前記規則性パターン閾値群は前記基礎閾
値パターンを当該パターンの平面上で部分的に所定のシ
フト量だけシフトした場合に前記所定の規則性を維持し
ている閾値により構成され、前記不規則性パターン閾値
群は前記基礎閾値パターンを当該パターンの平面上で部
分的に所定のシフト量だけシフトした場合に前記所定の
規則性を維持していない閾値により構成されることを特
徴とする請求項６に記載のドット分散型マスク。10. The dot-dispersion-type mask is created by using a basic threshold pattern in which thresholds are arranged according to the predetermined regularity, and the regularity pattern threshold group includes the basic threshold pattern partially on a plane of the pattern. Is constituted by a threshold value that maintains the predetermined regularity when shifted by a predetermined shift amount, and the irregular pattern threshold value group partially defines the basic threshold value pattern on the plane of the pattern. 7. The dot dispersion type mask according to claim 6, wherein the dot dispersion type mask is configured by a threshold value that does not maintain the predetermined regularity when shifted by a shift amount. 【請求項１１】 請求項１から請求項１０のいずれかに
記載のドット分散型マスクを記憶する記憶部と、 モノクロまたはカラー表示が可能な表示部とを備え、 前記ドット分散型マスクによって処理された画像データ
に基づく画像を前記表示部に表示することを特徴とする
画像表示装置。11. A storage unit for storing the dot-dispersion mask according to claim 1, and a display unit capable of monochrome or color display, which is processed by the dot-dispersion mask. An image display device, wherein an image based on the image data is displayed on the display unit. 【請求項１２】 請求項１から請求項１０のいずれかに
記載のドット分散型マスクを記憶する記憶部と、 入力画像データを受け取る入力手段と、 前記ドット分散型マスクを使用して前記入力画像データ
に対して画像処理を行う画像処理手段と、を備えること
を特徴とする画像処理装置。12. A storage unit for storing the dot-dispersion mask according to claim 1, an input unit for receiving input image data, and the input image using the dot-dispersion mask. An image processing device, comprising: an image processing means for performing image processing on data. 【請求項１３】 入力画像データを受け取るステップ
と、 請求項１から請求項１０のいずれかに記載のドット分散
型マスクを使用して、前記入力画像データに対して画像
処理を行うステップと、を含むことを特徴とする画像処
理方法。13. A step of receiving input image data, and a step of performing image processing on the input image data using the dot dispersion type mask according to any one of claims 1 to 10. An image processing method comprising: 【請求項１４】 コンピュータ上で実行される画像処理
プログラムであって、 入力画像データを受け取るステップと、 請求項１から請求項１０のいずれかに記載のドット分散
型マスクを使用して、前記入力画像データに対して画像
処理を行うステップと、を前記コンピュータに実行させ
ることを特徴とする画像処理プログラム。14. An image processing program executed on a computer, the step of receiving input image data, and the input using the dot dispersion type mask according to any one of claims 1 to 10. An image processing program for causing the computer to execute a step of performing image processing on image data. 【請求項１５】 連続階調の画像データにおける各画素
の階調値を２値または多値に変換するためのドット分散
型マスクの作成方法であって、 前記変換により得られるドットパターンに規則性が現れ
るような閾値の配列を有するマスクを作成するステップ
と、 前記作成したマスクに対し、前記変換により得られるド
ットパターンに不規則性が現れるように閾値の配列に変
更を加えるステップとを含むことを特徴とするドット分
散型マスクの作成方法。15. A method for producing a dot dispersion type mask for converting a gradation value of each pixel in continuous gradation image data into a binary value or a multi-valued value, wherein a dot pattern obtained by the conversion has regularity. Including a step of creating a mask having an array of threshold values so that the created mask has a step of changing the array of threshold values so that irregularities appear in the dot pattern obtained by the conversion. A method of making a dot-dispersion type mask characterized by. 【請求項１６】 連続階調の画像データにおける各画素
の階調値を２値または多値に変換するためのドット分散
型マスクの作成方法であって、 作成すべきマスクのサイズより大きいサイズの一次マト
リクスの領域に、所定の規則性をもって閾値が配列され
た基礎閾値パターンを展開するステップと、 前記一次マトリクスの領域上で前記一次マトリクスにお
ける閾値の各座標を所定の回転角だけ相対的に回転する
ステップと、 前記回転後の各座標に対応する位置に、前記一次マトリ
クスの閾値を重複しないように配置するステップとを含
むことを特徴とするドット分散型マスクの作成方法。16. A method for producing a dot dispersion type mask for converting a tone value of each pixel in continuous tone image data into a binary value or a multivalued value, the method having a size larger than a size of a mask to be created. Developing a basic threshold pattern in which thresholds are arrayed in a predetermined regularity in a region of the primary matrix, and rotating each coordinate of the thresholds in the primary matrix by a predetermined rotation angle on the region of the primary matrix. And a step of arranging the threshold values of the primary matrix so as not to overlap with each other, at a position corresponding to each coordinate after the rotation, a method for producing a dot dispersion type mask. 【請求項１７】 前記回転による座標が、回転済みの他
の座標と同じ位置にマッピングされ、既に回転済みの他
の閾値が当該位置に配置されていた場合は、当該位置の
近傍に存在する閾値未配置の座標を探索し、当該閾値を
配置するステップを含むことを特徴とする請求項１６記
載のドット分散型マスクの作成方法。17. If the rotated coordinate is mapped to the same position as another rotated coordinate and the already rotated other threshold is located at that position, the threshold existing in the vicinity of that position. The method for producing a dot dispersion type mask according to claim 16, further comprising the step of searching for unarranged coordinates and arranging the threshold value. 【請求項１８】 連続階調の画像データにおける各画素
の階調値を２値または多値に変換するためのドット分散
型マスクの作成方法であって、 作成すべきマスクのサイズより大きいサイズの一次マト
リクスの領域に、所定の規則性をもって閾値が配列され
た基礎閾値パターンを展開するステップと、 前記一次マトリクス内の１つの基準線分を所定の回転角
だけ回転し、回転後の基準線分の位置に対応する前記一
次マトリクス上の各閾値を保存するステップと、 前記回転後の基準線分に沿って、前記一次マトリクスか
ら閾値を取得して保存することを繰り返して、前記作成
すべきマスクの閾値を決定するステップと、を含むこと
を特徴とするドット分散マスクの作成方法。18. A method for producing a dot dispersion type mask for converting a tone value of each pixel in continuous tone image data into a binary value or a multivalued value, the method having a size larger than that of a mask to be created. Developing a basic threshold pattern in which thresholds are arranged with a predetermined regularity in a region of the primary matrix; rotating one reference line segment in the primary matrix by a predetermined rotation angle; and rotating the reference line segment. The step of storing each threshold value on the primary matrix corresponding to the position of, and obtaining and storing the threshold value from the primary matrix along the reference line segment after the rotation are repeated, and the mask to be created. And a step of determining a threshold of the dot dispersion mask. 【請求項１９】 前記基準線分に沿った特定の閾値位置
に対して取得される閾値は、前記回転後の基準線分に垂
直な第１の線分と、当該第１の線分と垂直で前記特定の
閾値位置を通過する第２の直線との交点から前記特定の
閾値位置までの距離に基づいて取得されることを特徴と
する請求項１８に記載のドット分散マスクの作成方法。19. The threshold value acquired for a specific threshold position along the reference line segment is a first line segment perpendicular to the rotated reference line segment, and a perpendicular to the first line segment. 19. The method of creating a dot dispersion mask according to claim 18, wherein the dot dispersion mask is obtained based on the distance from the intersection with the second straight line passing through the specific threshold position to the specific threshold position. 【請求項２０】 前記所定の回転角は、５度から２０度
または７０度から８５度の範囲内であることを特徴とす
る請求項１６から請求項１９のいずれかに記載のドット
分散型マスクの作成方法。20. The dot-dispersion mask according to claim 16, wherein the predetermined rotation angle is within a range of 5 degrees to 20 degrees or 70 degrees to 85 degrees. How to create. 【請求項２１】 連続階調の画像データにおける各画素
の階調値を２値または多値に変換するためのドット分散
型マスクの作成方法であって、 作成すべきマスクのサイズ以上のサイズの一次マトリク
スの領域に、所定の規則性をもって閾値が配列された基
礎閾値パターンを展開するステップと、 前記閾値の配列をシフトさせるシフト量を設定するステ
ップと、 前記シフト量に従って、前記一次マトリクス上の閾値の
配列をシフトさせるステップと、を含むことを特徴とす
るドット分散マスクの作成方法。21. A method for producing a dot dispersion type mask for converting a tone value of each pixel in continuous tone image data into a binary value or a multi-valued value, which has a size equal to or larger than a size of a mask to be created. In the area of the primary matrix, a step of developing a basic threshold pattern in which thresholds are arrayed with a predetermined regularity, a step of setting a shift amount for shifting the array of the threshold values, and a step on the primary matrix according to the shift amount. And a step of shifting an array of thresholds. 【請求項２２】 前記シフト量は、隣接する所定数の前
記閾値をグループとして設定され、相互に隣接するグル
ープに対して設定される前記所定数は異なることを特徴
とする請求項２１に記載のドット分散マスクの作成方
法。22. The shift amount according to claim 21, wherein a predetermined number of adjacent threshold values are set as a group, and the predetermined number set for groups adjacent to each other is different. How to create a dot dispersion mask. 【請求項２３】 前記相互に隣接する閾値間のシフト量
の差は、±１以内であることを特徴とする請求項２１又
は２２に記載のドット分散マスクの作成方法。23. The method for producing a dot dispersion mask according to claim 21, wherein a difference in shift amount between the threshold values adjacent to each other is within ± 1. 【請求項２４】 前記シフト量により生じる角度は、５
度から２０度または７０度から８５度の範囲内であるこ
とを特徴とする請求項２１から請求項２３のいずれかに
記載のドット分散マスクの作成方法。24. The angle generated by the shift amount is 5
24. The method for producing a dot dispersion mask according to claim 21, wherein the dot dispersion mask is in the range of 20 degrees to 70 degrees or 70 degrees to 85 degrees. 【請求項２５】 前記作成すべきマスクの上下端におけ
る各閾値の左右方向のシフト量の差、及び、前記作成す
べきマスクの左右端における各閾値の上下方向のシフト
量の差は、±１以内であることを特徴とする請求項２１
から請求項２４のいずれかに記載のドット分散マスクの
作成方法。25. The difference between the horizontal shift amounts of the threshold values at the upper and lower ends of the mask to be created and the vertical shift amount difference of the threshold values at the left and right ends of the mask to be created are ± 1. 22.
25. The method for producing a dot dispersion mask according to claim 24. 【請求項２６】 前記基礎閾値パターンは、Ｂａｙｅｒ
型ディザマトリクスであることを特徴とする請求項１６
から請求項２５のいずれかに記載のドット分散型マスク
の作成方法。26. The basic threshold pattern is Bayer
17. A type dither matrix.
26. The method for producing a dot dispersion type mask according to claim 25. 【請求項２７】 請求項１６から請求項２６のいずれか
に記載のドット分散型マスクの作成方法により作成され
たことを特徴とするドット分散型マスク。27. A dot dispersion type mask produced by the method for producing a dot dispersion type mask according to any one of claims 16 to 26. 【請求項２８】 コンピュータ上で実行され、連続階調
の画像データにおける各画素の階調値を２値または多値
に変換するためのドット分散型マスクの作成プログラム
であって、 作成すべきマスクのサイズより大きいサイズの一次マト
リクスの領域に、所定の規則性をもって閾値が配列され
た基礎閾値パターンを展開するステップと、 前記一次マトリクスの領域上で前記一次マトリクスにお
ける閾値の各座標を所定の回転角だけ相対的に回転する
ステップと、 前記回転後の各座標に対応する位置に、前記一次マトリ
クスの閾値を重複しないように配置するステップと、を
前記コンピュータに実行させることを特徴とするドット
分散マスクの作成プログラム。28. A dot dispersion type mask generation program executed on a computer for converting the tone value of each pixel in continuous tone image data into a binary value or a multi-valued value, which is a mask to be created. Developing a basic threshold pattern in which thresholds are arranged with a predetermined regularity in a region of the primary matrix having a size larger than the size of, and each coordinate of the thresholds in the primary matrix is rotated in a predetermined manner on the region of the primary matrix. Dot dispersion characterized by causing the computer to perform a step of relatively rotating by an angle and a step of arranging the threshold value of the primary matrix at a position corresponding to each coordinate after the rotation so as not to overlap with each other. Mask making program. 【請求項２９】 コンピュータ上で実行され、連続階調
の画像データにおける各画素の階調値を２値または多値
に変換するためのドット分散型マスクの作成方法であっ
て、 作成すべきマスクのサイズより大きいサイズの一次マト
リクスの領域に、所定の規則性をもって閾値が配列され
た基礎閾値パターンを展開するステップと、 前記一次マトリクス内の１つの基準線分を所定の回転角
だけ回転し、回転後の基準線分の位置に対応する前記一
次マトリクス上の各閾値を保存するステップと、 前記回転後の基準線分に沿って、前記一次マトリクスか
ら閾値を取得して保存することを繰り返して、前記作成
すべきマスクの閾値を決定するステップと、 を前記コンピュータに実行させることを特徴とするドッ
ト分散マスクの作成プログラム。29. A method for producing a dot dispersion type mask, which is executed on a computer and is used to convert the tone value of each pixel in continuous tone image data into a binary value or a multi-valued value. Developing a basic threshold pattern in which thresholds are arranged with a predetermined regularity in a region of the primary matrix having a size larger than the size of, rotating one reference line segment in the primary matrix by a predetermined rotation angle, The step of storing each threshold value on the primary matrix corresponding to the position of the reference line segment after the rotation and the step of acquiring and storing the threshold value from the primary matrix along the reference line segment after the rotation are repeated. A program for creating a dot dispersion mask, which causes the computer to execute the step of determining a threshold value of the mask to be created. 【請求項３０】 コンピュータ上で実行され、連続階調
の画像データにおける各画素の階調値を２値または多値
に変換するためのドット分散型マスクの作成方法であっ
て、 作成すべきマスクのサイズ以上のサイズの一次マトリク
スの領域に、所定の規則性をもって閾値が配列された基
礎閾値パターンを展開するステップと、 前記閾値の配列をシフトさせるシフト量を設定するステ
ップと、 前記シフト量に従って、前記一次マトリクス上の閾値の
配列をシフトさせるステップと、を前記コンピュータに
実行させることを特徴とするドット分散マスクの作成プ
ログラム。30. A method for producing a dot dispersion type mask, which is executed on a computer and is used to convert the tone value of each pixel in continuous tone image data into a binary value or a multi-valued value, the mask to be created. In the area of the primary matrix of a size equal to or larger than the size of, a step of developing a basic threshold pattern in which thresholds are arranged with a predetermined regularity, a step of setting a shift amount for shifting the arrangement of the thresholds, and according to the shift amount. And a step of shifting an array of threshold values on the primary matrix, the program causing the computer to execute the step. 【請求項３１】 請求項２８から請求項３０のいずれか
に記載のドット分散型マスクの作成プログラムを記録し
たことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒
体。31. A computer-readable recording medium on which the dot dispersion mask creation program according to any one of claims 28 to 30 is recorded.