JP2003257322A - 隔壁形成用ペースト - Google Patents
隔壁形成用ペーストInfo
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Abstract
強度が高く、サンドブラストによる隔壁破壊が起こりに
くい、基板やドライフィルムレジストとの密着性が高
い、等の特性を満足するプラズマディスプレイの隔壁形
成用ペーストを提供することである。 【構成】 本発明の隔壁形成用ペーストは、ガラス粉
末、無機フィラー粉末、有機樹脂、溶剤からなり、プラ
ズマディスプレイの隔壁の形成に使用される隔壁形成用
ペーストであって、有機樹脂を1〜6質量%含有し、有
機樹脂がセルロース系樹脂とブチラール系樹脂からな
り、かつ、セルロース系樹脂とブチラール系樹脂の割合
が、質量比で90:10〜50:50であることを特徴
とする。
Description
の隔壁の形成に使用される隔壁形成用ペーストに関する
ものである。
フラットディスプレイであり、軽量薄型、高視野角等の
優れた特性を備えており、大画面化が容易であることか
ら、最も将来性のある表示装置として注目されている。
パネルの構造を示す断面図である。図1に示すように、
プラズマディスプレイパネルにおいては、一般に、前面
ガラス基板1と背面ガラス基板2とが対向して設けられ
ており、これらの基板の間の空間には、多数のガス放電
部に区切るため、隔壁(バリアリブ)3が形成されてい
る。前面ガラス基板1の上には、一対の透明電極4が形
成されており、これらの透明電極4間で電圧が印加さ
れ、プラズマ放電が生じる。
全面を覆うように誘電体層5が形成されている。誘電体
層5の上には、プラズマを安定に形成するためのMgO
からなる保護層6が形成されている。
ータ電極7が形成されている。隔壁3間の、隔壁3の側
壁及び背面ガラス基板2の上には、データ電極7を覆う
ように蛍光体8が塗布されている。
って隔壁3で仕切られたガス放電部内にプラズマ放電が
生じ、プラズマ放電により発生した紫外線が蛍光体8に
照射され、蛍光体8が発光する。
て、隔壁3は、通常、背面ガラス基板2の上に形成され
る。そして、隔壁3を形成した背面ガラス基板2と前面
ガラス基板1とが対向するように組み合わされることに
よりパネルが構成される。図1に示すパネル構造におい
ては、背面ガラス基板2の上に直接隔壁3が形成されて
いるが、背面ガラス基板2の上にデータ電極7を覆う電
極保護用の誘電体層を形成した後、この誘電体層の上に
隔壁を形成するパネル構造のものも知られている。
サンドブラスト法が知られている。サンドブラスト法
は、隔壁形成用ペーストをスクリーン印刷により塗布
し、乾燥させて隔壁材料層を所定の厚みとなるように背
面ガラス基板上に、直接若しくは誘電体層の上に全面に
わたって形成する。さらにこの上にドライフィルムレジ
スト(DFR)を塗布し露光、現像した後に、レジスト
膜が形成されていない箇所をサンドブラストにより除去
し、所定箇所に隔壁を形成する方法である。
は、サンドブラスト性が良好である、乾燥膜強度が
高く、サンドブラストによる隔壁破壊が起こりにくい、
基板やドライフィルムレジストとの密着性が高い、等
の特性が求められる。
形成用ペースト中にセルロース系樹脂が添加されてい
る。セルロース系樹脂は、基板やドライフィルムレジス
トとの密着性、及び乾燥膜強度を高める効果があるが、
同時にサンドブラスト処理の際に時間が掛かり、プラズ
マディスプレイパネルの生産効率が低下する。生産効率
向上のために、セルロース系樹脂の添加量を減少させる
と、乾燥膜強度が劣化してサンドブラスト中に隔壁が破
壊したり、ドライフィルムレジストや基板と隔壁の密着
が弱くなり、隔壁が欠落する等の問題が生じる。
プラズマディスプレイパネルの隔壁形成材料として好適
な隔壁形成用ペーストを提供するものである。
ストは、ガラス粉末、無機フィラー粉末、有機樹脂、溶
剤からなり、プラズマディスプレイの隔壁の形成に使用
される隔壁形成用ペーストであって、有機樹脂を1〜6
質量%含有し、有機樹脂がセルロース系樹脂とブチラー
ル系樹脂からなり、かつ、セルロース系樹脂とブチラー
ル系樹脂の割合が、質量比で90:10〜50:50で
あることを特徴とする。
ルロース系樹脂が、エチルセルロースであることを特徴
とする。
量百分率で、ガラス粉末50〜80%、無機フィラー粉
末3〜30%、有機樹脂1〜6%、溶剤5〜30%の割
合であることを特徴とする。
フィラー粉末、有機樹脂、溶剤を主成分とする。以下、
各成分について説明する。
膨張係数が60〜90×10-7/℃(30〜300℃)
で、480〜630℃の軟化点を有するガラスであれば
制限はないが、特にPbO−B2O3−SiO2系やBa
O−ZnO−B2O3−SiO2系やZnO−Bi2O3−
B2O3−SiO2系のガラスを使用することが望まし
い。
は、質量百分率でPbO 35〜75%、B2O3 0〜
50%、SiO2 8〜30%、Al2O3 0〜10
%、ZnO 0〜10%、CaO+MgO+SrO+B
aO 0〜10%、SnO2+TiO2+ZrO2 0〜
6%の組成を有するガラスを使用することができる。
スとしては、質量百分率でBaO20〜50%、ZnO
25〜50%、B2O3 10〜35%、SiO2 0
〜10%の組成を有するガラスや、BaO 3〜25
%、ZnO 30〜60%、B2O3 15〜35%、S
iO2 3〜20%、Li2O+Na2O+K2O 1〜1
2%の組成を有するガラスを使用することができる。
ガラスとしては、質量百分率でZnO 25〜45%、
Bi2O3 15〜40%、B2O3 10〜30%、Si
O20.5〜10%、CaO+MgO+SrO+BaO
0〜24%の組成を有するガラスを使用することがで
きる。
あることが望ましい。ガラス粉末が50%以上であれ
ば、緻密な焼成層が得ることができる。また80%以下
であれば、ペースト化が可能であり、焼成時の変形が少
なく好ましい。
平均粒子径(D50)が1〜7μm、かつ最大粒子径
(Dmax)が5〜30μmにすることが望ましい。つ
まり、D50が1μm以上及びDmaxが5μm以上で
あると、隔壁の形状維持性が良好になり、またD50が
7μm以下及びDmaxが30μm以下であれば、焼結
性が高くなり、緻密な隔壁が得やすくなる。
は、石英ガラス、α−石英、アルミナ、チタニア(ルチ
ル、アナターゼ型)、ジルコニア、無機顔料、ジルコン
等から選ばれる1種以上からなる。特にα−石英等のシ
リカ系材料を使用すると隔壁を低誘電率化でき、消費電
力の低減が可能になる。また隔壁の機械的強度を向上さ
せるために、フィラーの一部又は全部を球状フィラーに
してもよい。
%であることが望ましい。フィラー粉末が3%以上であ
れば、焼成後の隔壁の十分な強度と形状を保つことがで
きる。また30%以下であれば、ガラスの焼結が可能
で、焼成後十分な強度があり好ましい。
粒子径D50が0.5〜8μm、かつ最大粒子径Dma
xが5〜30μmにすることが望ましい。つまり、D5
0が0.5μm以上及びDmaxが5μm以上である
と、ペーストの粘性、焼結時の強度が良好になり、また
D50が8μm以下及びDmaxが30μm以下であれ
ば、焼成前後の表面粗さがスムーズとなり、前面板と合
わせた時、前面板の破損が起こらなくなり良好である。
することが重要である。より好ましくは1.2〜4.8
質量%である。有機樹脂が1%より低いと、乾燥後の膜
形状を維持することが困難となり、6%より多いと、乾
燥膜の強度が強くなりすぎてサンドブラスト性が低下
し、生産効率が低下する問題が生じるため好ましくな
い。
脂とブチラール系樹脂を含有し、かつその比率が質量比
で90:10〜50:50の範囲にすることが重要であ
り、より好ましくは80:20〜50:50である。セ
ルロース系樹脂が多くなると、サンドブラスト性が低下
し、生産効率が低下する傾向にあり、ブチラール系樹脂
が多くなると、隔壁の乾燥膜強度が低下したり、ドライ
フィルムレジストとの密着性が低下する傾向あるが、両
者がこの範囲内であれば、適度なブラスト性等が得られ
好ましい。
板とドライフィルムレジストとの密着性を向上させる効
果がある。セルロース系樹脂としては、エチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース等が使用可能で、特にエチ
ルセルロースは、隔壁材料層形成時の印刷やコーターに
適したペースト特性となることから好ましい。
フィルムレジストとの密着性の確保に重要な役割を有す
る。その効果はセルロース系樹脂と共存させることによ
り有効に発揮される。適度な乾燥膜の強度と柔軟性を得
るためには、ブチラール系樹脂としては、重合度が20
0〜1000、質量平均分子量(Mw)が30000〜
200000のものを使用することが望ましい。また、
基板とドライフィルムとの密着性を向上させるために
は、ブチラール化度が70〜80mol%のものを使用
することが望ましい。
ースト化するための材料であり、その含有量は5〜30
質量%程度が一般的である。溶剤としては、ターピネオ
ール、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタジオー
ルモノイソブチレート等を単独あるいは混合して使用す
ることができる。
ーストの保管性や印刷性の点から、23℃、ずり速度
5.7/秒の条件で測定したときの値で100〜120
0ポイズの範囲になるように調整することが望ましい。
トを用いて、プラズマディスプレイの隔壁を形成するに
は、まずペーストをスクリーン印刷法や一括コート法等
を用いて背面基板上に直接、或いはアドレス電極保護用
誘電体層を介して塗布し、所定の膜厚の塗布層を形成し
た後、乾燥させる。次いでレジスト膜を形成し、露光、
現像する。続いてサンドブラスト法で不要な部分を除去
した後、焼成する。このようにして所定形状の隔壁を得
ることができる。
1及び表2は本発明の実施例(試料No.1〜6)及び
比較例(試料No.7〜9)を示している。
27%、B2O3 10%の組成となるように各種酸化
物原料を調合し、均一に混合した後、白金坩堝に入れて
1250℃で2時間溶融して均一なガラス体を得た。こ
れをアルミナボールミルで粉砕、分級を行い、平均粒子
径D50が3μm、Dmaxが20μmのガラス粉末を
得た。このガラスの軟化点は550℃、線膨張係数は6
8×10-7/℃であった。なお、上記ガラス粉末の粒度
分布の測定は、島津製作所製のSALD−2000Jに
て行った。尚、最大粒子径Dmaxは、積算値が99.
9%である時の値として求めた。粒度分布の値の算出に
用いる屈折率には、実数部は1.9を、虚数部は0.0
5iを使用した。
粉末、フィラー粉末、有機樹脂、及び溶剤を混合し、3
本ロールミルで均一に混練した。なおフィラー粉末とし
て、α−石英粉末(D50 1.5μm、Dmax 1
0μm)、及びアルミナ粉末(D50 3.5μm、D
max 15μm)を用いた。セルロース系樹脂として
はエチルセルロースを用いた。またブチラール系樹脂と
しては、重合度が約300、液体クロマトグラフィにて
測定される質量平均分子量が約80000万、ブチラー
ル化度が75mol%のものを使用した。溶剤としては
ターピネオールを用いた。
を形成した。まず各ペースト試料を、アプリケーターに
てペースト厚みが400μmとなるようにガラス板に塗
布した。続いて50℃の乾燥機中でペーストのレベリン
グを行い、IR熱風炉で乾燥させることにより、膜厚約
180μmの隔壁材料層を有する基板を3枚作製した。
2枚の基板は、そのままサンドブラスト性、密着性評価
用に用いた。またもう1枚の基板は、東京応化製ドライ
フィルムレジスト(商品名 オーディルBF704)を
ラミネートし、ネガ遮光フィルム(感光ライン60μm
幅、L/S 1/2)にて露光した。その後、0.5%
炭酸ソーダ溶液で現像し、ドライフィルムレジストの不
要部分を除去した。乾燥後、サンドブラスト法により、
レジストで覆われていない部分を除去して隔壁形状に成
形した後に、1%苛性ソーダ溶液に浸漬してドライフィ
ルムレジストを剥離、除去した後にシャワーにて水洗を
行い、基板を乾燥した。最後に、550℃で10分間焼
成して隔壁とした。
態、ドライフィルム及び基板との密着性について評価し
た。結果を各表に示す。
ある試料No.1〜6は、サンドブラスト性を示す研削
深さが85〜115μmと適切であった。また得られた
隔壁は、ブラストによる欠け等が認められず、良好な隔
壁状態を有していた。ドライフィルムとの密着性は20
0g/cm2以上と高く、またドライフィルムレジスト
の剥離し、基板を乾燥、焼成した後の隔壁は基板上に十
分に密着しており基板との密着性も良好であった。
o.8は、サンドブラスト性、隔壁状態及びドライフィ
ルムとの密着性について問題はなかったが、いずれのサ
ンプルもドライフィルムレジストを剥離し、基板を乾
燥、焼成した後の隔壁は基板からの欠落が認められ、基
板との密着性に問題があった。
を示す切削深さも160μmと大きく、かつ得られた隔
壁にもブラスト後に欠けが確認された。また、ドライフ
ィルムジレストとの密着性も100g/cm2と低く、
ドライフィルムレジストを剥離した後に隔壁が基板から
欠落している箇所が多く、基板との密着性に問題があっ
た。
ブラスト機ニューマブラスターを用い、炭酸カルシウム
粉末(S4#600)で90秒サンドブラストして研削
深さを測定した。この値が85〜120μm程度であれ
ば、サンドブラスト性が良好であるといえる。
鏡(20倍)にて観察したものであり、欠けやオーバー
サンド(過度のサンドブラストにより、リブ中央部が削
られすぎて断面形状が鼓形になる状態)の有無を観察し
た。これらが認められなければ○、認められるものを×
として示した。
m、長さ50mmのドライフィルムを密着させ、180
°の方向に引っ張った時の引き剥がし強度を、引き剥が
し速度0.5mm/minで万能試験機で測定した。こ
の値が200g/cm2以上であれば、ドライフィルム
レジストとの密着性が高いといえる。
ィルムレジストの剥離し乾燥、焼成後の基板を目視観察
して、隔壁の脱落の有無を確認し、脱落が認められなけ
れば○、認められるものを×として示した。
用ペーストは、サンドブラスト性が良好である、乾
燥膜強度が高く、サンドブラストによる隔壁破壊が起こ
りにくい、基板やドライフィルムレジスト(DFR)
との密着性が高い、という特徴を有している。このため
プラズマディスプレイの隔壁形成用ペーストとして好適
である。
図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 ガラス粉末、無機フィラー粉末、有機樹
脂、溶剤からなり、プラズマディスプレイの隔壁の形成
に使用される隔壁形成用ペーストであって、有機樹脂を
1〜6質量%含有し、有機樹脂がセルロース系樹脂とブ
チラール系樹脂からなり、かつ、セルロース系樹脂とブ
チラール系樹脂の割合が、質量比で90:10〜50:
50であることを特徴とする隔壁形成用ペースト。 - 【請求項2】 セルロース系樹脂が、エチルセルロース
であることを特徴とする請求項1の隔壁形成用ペース
ト。 - 【請求項3】 質量百分率で、ガラス粉末50〜80
%、無機フィラー粉末3〜30%、有機樹脂1〜6%、
溶剤5〜30%の割合であることを特徴とする請求項1
の隔壁形成用ペースト。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007224275A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-09-06 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 隔壁形成用ガラスペースト |
US7910507B2 (en) | 2006-12-28 | 2011-03-22 | Central Glass Company, Limited | Glass ceramic material for plasma display |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100730042B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2007-06-20 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽용 페이스트 조성물,그린시트, 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널 |
CN101958216B (zh) * | 2009-12-31 | 2013-08-14 | 四川虹欧显示器件有限公司 | 一种无铅化刻蚀障壁浆料及包含其的显示面板 |
CN101962267A (zh) * | 2009-12-31 | 2011-02-02 | 四川虹欧显示器件有限公司 | 无铅刻蚀性障壁浆料及其制备方法和应用 |
CN102044396B (zh) * | 2010-09-30 | 2012-05-30 | 四川虹欧显示器件有限公司 | 用于等离子显示器的障壁浆料及由其制得的障壁 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1190826A (ja) * | 1997-09-12 | 1999-04-06 | Okuno Chem Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの障壁形成用シート組成物及びガラスペースト組成物 |
JPH1192171A (ja) * | 1997-09-12 | 1999-04-06 | Okuno Chem Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物 |
JP3832177B2 (ja) * | 1999-03-17 | 2006-10-11 | 東レ株式会社 | ガラスペーストおよびそれを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法 |
JP4228467B2 (ja) * | 1999-05-11 | 2009-02-25 | 東レ株式会社 | 感光性ペースト、ディスプレイ用部材の製造方法およびプラズマディスプレイ |
KR100301134B1 (ko) * | 1999-07-15 | 2001-09-22 | 박선우 | 저온 소성이 가능한 플라즈마 디스플레이 패널용 인쇄용 페이스트 조성물 |
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Cited By (2)
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JP2007224275A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-09-06 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 隔壁形成用ガラスペースト |
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