JP2003255143A - 紫外線伝送用光ファイバの使用方法 - Google Patents

紫外線伝送用光ファイバの使用方法

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JP2003255143A
JP2003255143A JP2002051275A JP2002051275A JP2003255143A JP 2003255143 A JP2003255143 A JP 2003255143A JP 2002051275 A JP2002051275 A JP 2002051275A JP 2002051275 A JP2002051275 A JP 2002051275A JP 2003255143 A JP2003255143 A JP 2003255143A
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hydrogen gas
fiber
ultraviolet
transmitting
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JP2002051275A
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English (en)
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Tetsuji Funabashi
徹至 船橋
Tatsuya Nishioki
達也 西沖
Takeshi Satake
武史 佐竹
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Mitsubishi Cable Industries Ltd
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Mitsubishi Cable Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】紫外線を伝送する紫外線伝送用光ファイバ1,
1,…の使用時の水素ガスの取扱上の問題を解消しなが
ら、水素分子が紫外線伝送用光ファイバ1,1,…から
抜け出るのを可及的に抑制して、そのUV劣化を抑止す
る。 【解決手段】内部に水素ガスが封入可能でかつ紫外線伝
送用光ファイバ1,1,…が着脱可能に収容される容器
3を用意し、紫外線伝送用光ファイバ1,1,…の不使
用時には、この容器3内にファイバ1,1,…を収容し
て水素ガスを充填した状態で保管しておき、紫外線伝送
用光ファイバ1,1,…を使用時のみに容器3から取り
出して使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線を伝送する
ための紫外線伝送用光ファイバの使用方法に関する技術
分野に属する。
【0002】
【従来の技術】現在、光ファイバは、高速・大容量の情
報伝送手段として欠かすことのできない技術となってい
るが、それ以外の応用分野での利用価値も高まってきて
いる。使用する光の波長は、その用途によって様々で、
例えば高エネルギーレーザ加工では1060nm(YA
Gレーザ)、可視・赤外の分光測定等では350nm〜
1600nm等であるが、紫外線領域での用途も、近年
の重要な産業・技術分野で利用されている。
【0003】その代表的な例として、半導体チップの高
密度集積回路製造用のマイクロリソグラフィー装置が挙
げられる。本装置の照射系には、高エネルギー紫外線パ
ルスを放出するエキシマレーザが備え付けられている。
このエキシマレーザには波長248nm(KrFレー
ザ)及び波長193nm(ArFレーザ)の2種類があ
り、現在、産業の主流は248nm(KrFレーザ)で
あるが、高密度化が進むに連れて短波長化が進んでい
る。また、この他、医療光学、材料加工、紫外分光等、
産業や研究での紫外線の利用用途は益々拡大されてい
る。
【0004】この紫外線伝送用光ファイバの材料として
は、石英に100〜1000重量ppm程度のOH成分
が含有された石英ガラスが用いられているが、この石英
ガラスからなる紫外線伝送用光ファイバで紫外線の伝送
を続けたとき、石英ガラスの構造的原因に起因する吸収
が生じ、その結果として伝送損失が増大していくという
根本的問題が発生する。この石英ガラスの吸収帯は何種
類かあるが、最も大きくかつ影響の大きい吸収は、E′
(イープライム)センタと呼ばれる215nm付近の吸
収であり、ケイ素原子と3個の酸素原子との欠陥結合で
ある(欠陥がなければ4個の酸素原子と結合してい
る)。本吸収による伝送損失の増大は、勿論、使用する
光エネルギーの種類、大きさ、時間等に依存するが、最
終的には初期透過光量の10分の1以下になることが知
られている。
【0005】その他としては、NBOHセンタと呼ばれ
る非架橋酸素原子が存在する酸素過剰欠陥で、265n
m付近の波長で吸収を生じる。
【0006】これら紫外線の吸収に起因して伝送損失が
増大する現象は、「UV劣化」と呼ばれている。上述し
たように、特に半導体チップの高密度集積回路製造用の
マイクロリソグラフィー装置では、短波長化が進んでい
るため、このUV劣化が光ファイバの供給側にとって極
めて重要な課題となっている。
【0007】そこで、従来、例えば特開平6―3483
0公報等に示されるように、紫外線伝送用光ファイバの
使用中又は使用後に、高圧水素ガスを入れた容器内に紫
外線伝送用光ファイバを収容して、該ファィバ内に表面
から水素分子を入れる水素処理を施すことで、そのUV
劣化を抑止することが知られている。この水素処理で
は、Si分子との結合が切れた酸素分子を水素と結合さ
せてSiO3の生成を抑制することにより、SiO2の構
造を安定保持するようにしたものである。
【0008】また、この他、紫外線伝送用光ファイバに
対し電磁波を照射して、石英に欠陥構造を積極的に形成
し、その後に水素処理をすることにより、欠陥部に水素
分子を結合させて全体としてUV劣化を抑制することも
提案されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記水素処
理により加入された水素分子はファィバを大気中に放置
するだけでも自然に抜け出るものであるので、水素処理
の後はUV劣化を抑止できるものの、それは一時的であ
り、水素処理の後に一定時間が経過すると、やはり水素
分子がファイバから抜け出てしまうため、本質的な解決
策にはなり得ない。
【0010】このため、水素ガスを入れた容器内に紫外
線伝送用光ファイバを収容して該ファイバを常時水素ガ
スに接触保持した状態で使用してもよいが、容器内の水
素ガスの取扱上、その安全対策をしておく必要があり、
その分だけコストアップするのは避けられない。
【0011】本発明は斯かる諸点に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、上記の如き紫外線伝送用光ファイ
バの取扱方法に工夫を凝らすことで、ファイバ使用時の
水素ガスの取扱上の問題を不要としながら、水素分子が
ファイバから抜け出るのを可及的に抑制して、紫外線伝
送用光ファイバのUV劣化を抑止することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成すべ
く、この発明では、紫外線伝送用光ファイバの不使用時
のみに、そのファイバを水素ガスに接触させて保管して
おき、ファイバの使用時にはファイバを上記水素ガス雰
囲気から開放するようにした。
【0013】具体的には、請求項1の発明では、紫外線
を伝送する少なくとも1本の紫外線伝送用光ファイバの
使用方法であって、内部に水素ガスが封入可能でありか
つ上記紫外線伝送用光ファイバが着脱可能に収容される
容器を用意し、紫外線伝送用光ファイバをその不使用時
には上記容器内に収容して水素ガスを充填した状態で保
管しておき、紫外線伝送用光ファイバを使用時のみに上
記容器から取り出して使用することを特徴とする。
【0014】上記の構成によると、紫外線伝送用光ファ
イバがその不使用時には容器内に収容されて水素ガスの
充填状態で保管され、ファイバを使用するときに初め
て、そのファイバが上記容器から取り出されて使用され
る。そして、ファイバの保管状態では、ファイバが水素
処理された状態に保たれるので、このファイバが容器か
ら取り出されて使用されるときには、ファイバに十分な
水素処理が行われた状態となっており、その使用時に水
素分子不足の状態で使用されるのを防止することができ
る。
【0015】また、紫外線伝送用光ファイバは常時は容
器中の水素ガスと接触して保管され、使用時のみに容器
から取り出されて、水素ガスのない状態で使用されるの
で、ファイバの使用時に水素ガスの取扱上の安全対策も
不要となり、コストを下げることができる。
【0016】請求項2の発明では、上記紫外線伝送用光
ファイバの使用時に、該ファイバからの水素分子の抜け
出し状態を判定するために容器からファイバを取り出し
た後の経過時間をカウントし、この取出し後の経過時間
がファイバのUV劣化に至る前の所定時間に達したとき
に、紫外線伝送用光ファイバを再度容器内に収容し水素
を充填して保持する。
【0017】こうすれば、紫外線伝送用光ファイバを容
器から取り出した後の経過時間が所定時間に達すると、
ファイバが強制的に再度容器に収容されて水素ガスの充
填状態で保持されるので、ファイバがUV劣化に陥る前
に容器内の水素ガスによって水素処理されることとな
り、よって紫外線伝送用光ファイバ中の水素分子不足を
長期間に亘り抑止することができる。
【0018】請求項3の発明では、紫外線を伝送する少
なくとも1本の紫外線伝送用光ファイバの使用方法であ
って、上記紫外線伝送用光ファイバに、その周りを気密
状に覆うチューブ部材を一体的に設けるとともに、この
チューブ部材の端末部を、紫外線伝送用光ファイバの端
末部が支持された状態で気密状に閉塞しておき、紫外線
伝送用光ファイバの不使用時には上記チューブ部材内に
水素ガスを封入した状態で保管し、紫外線伝送用光ファ
イバの使用時にはチューブ部材内から水素ガスを排出し
て使用することを特徴とする。
【0019】この発明の構成によれば、紫外線伝送用光
ファイバはそれと一体化されたチューブ部材内に収容さ
れており、その不使用時にはチューブ部材内に水素ガス
が封入されて保管される。そして、ファイバを使用する
ときに初めて、そのチューブ部材内から水素ガスが排出
されて使用される。上記ファイバの不使用状態では、フ
ァイバがチューブ部材内で水素処理された状態に保たれ
るので、このファイバの使用時にチューブ部材から水素
ガスが排出されても、ファイバは十分な水素処理が行わ
れた状態となっており、その使用時に水素分子不足の状
態で使用されるのを防止することができる。
【0020】また、紫外線伝送用光ファイバは常時はチ
ューブ部材内の水素ガスと接触して保管され、使用時の
みに該水素ガスが排出されるので、ファイバの使用時に
水素ガスの取扱上の安全対策も不要となってコストを下
げることができる。
【0021】その場合、請求項4の発明では、上記紫外
線伝送用光ファイバの使用時に、該ファイバからの水素
分子の抜け出し状態を判定するためにチューブ部材内か
らの水素ガスの排出後の経過時間をカウントし、この排
出後の経過時間がファイバのUV劣化に至る前の所定時
間に達したときに、チューブ部材内に再度水素ガスを封
入保持する。
【0022】こうすれば、紫外線伝送用光ファイバの使
用状態でも、チューブ部材からの水素ガスの排出後の経
過時間が所定時間に達すると、再度チューブ部材内に水
素ガスが封入保持されるので、ファイバがUV劣化に陥
る前にチューブ部材に再封入された水素ガスによって水
素処理されることとなり、繰り返し水素を充填すること
により紫外線伝送用光ファイバのUV劣化を長期間に亘
り抑止することができる。
【0023】請求項5の発明では、上記容器又はチュー
ブ部材の内部に封入される水素ガスの圧力は1MPa未
満とする。また、請求項6の発明では、同様に封入され
る水素ガスの圧力は0.25MPa以下とする。これら
発明の構成によれば、本発明の効果が有効に発揮される
のに最適な水素ガス封入圧が得られる。尚、「高圧ガス
保安法」では、1MPa以上の高圧ガスを扱うには、当
該法律で規定された有資格者や特定の設備が必要となっ
てしまうが、本発明のように、取り扱う水素ガスの圧力
を1MPa未満又は0.25MPa以下とすることで、
上記の如き有資格者や特別な設備は必要とせず、低圧に
て水素処理が可能である。
【0024】
【発明の実施の形態】(実施形態1)図1は本発明の実
施形態1に係る紫外線伝送用光ファイバの使用方法を示
し、1は紫外線を伝送する石英ガラスからなる公知構造
の紫外線伝送用光ファイバであって、図2に拡大して示
すように、これら複数本のファイバ1,1,…が所定の
配列及び形状(図示例では円形状)に束ねられて集合体
としてのバンドルファイバ2をなしている。尚、紫外線
伝送用光ファイバ1は1本(シングルファイバ)であっ
てもよい。
【0025】3は上記複数本の紫外線ファイバ1,1,
…からなるバンドルファイバ2を着脱可能に収容できる
例えば金属製の密閉円筒状の容器で、この容器3にはバ
ンドルファイバ2を挿通可能な出入口4が開口され、こ
の出入口4は蓋部5によって気密状に閉塞されている。
この容器3の壁部(尚、蓋部5であってもよい)には、
容器3内外を連通する第1及び第2の2つの連通孔6,
7が貫通形成され、これら連通孔6,7にはそれぞれ常
時閉の第1及び第2開閉弁8,9が容器3と一体化され
て接続され、第2開閉弁9には、容器3内部の圧力を検
出する圧力検出手段としての圧力計10が接続されてい
る。そして、2つの開閉弁8,9の閉弁により、容器3
内は外部から気密状に遮断されて封閉されており、この
容器3内の空間Sに水素ガスが封入可能とされている。
【0026】上記容器3内に封入される水素ガスの圧力
は、1MPa未満であればよいが、水素ガスについての
安全性を考慮して、0.25MPa以下であるのが好ま
しい。
【0027】そして、この実施形態に係る使用方法にお
いては、図1(a)に示すように、上記紫外線伝送用光
ファイバ1,1,…からなるバンドルファイバ2をその
不使用時には上記容器3内に収容して水素ガスを充填し
た状態で所定時間(例えば10時間程度)以上保管して
おく。
【0028】ここで、上記容器3にバンドルファイバ2
(紫外線伝送用光ファイバ1,1,…)を収容して水素
ガスを封入する工程について説明すると、容器3の蓋部
5を開けて出入口4を開放し、この出入口4から容器3
内にバンドルファイバ2を収容配置する。次いで、蓋部
5を閉じて出入口4を気密状に閉塞した後、第1開閉弁
8を真空吸引装置(図示せず)に接続し、第1及び第2
開閉弁8,9を共に開いて容器3内を真空引きにより吸
引する。この容器3内の圧力を圧力計10で監視し、そ
の圧力が略真空状態になるまで下がると、第1開閉弁8
を一旦閉じ、この第1開閉弁8を真空吸引装置に代えて
水素ガス供給源(図示せず)に接続した後、再度第1開
閉弁8を開けて水素ガス供給源からの水素ガスを容器3
内の空間Sに充填する。そして、この水素ガスの圧力を
圧力計10で監視し、その圧力が所定圧力に達すると、
第1及び第2開閉弁8,9を閉じ、その後、第1開閉弁
8の水素ガス供給源との接続を切り離す。以上により、
容器3内にバンドルファイバ2が収容されかつ水素ガス
が封入される。
【0029】このバンドルファイバ2(紫外線伝送用光
ファイバ1)の保管状態では、各ファイバ1が容器3内
の水素ガスに接触した状態で保管されるので、ファイバ
1は水素処理された状態に保たれる。
【0030】次に、このようにして不使用時に容器3内
に収容されている紫外線伝送用光ファイバ1,1,…か
らなるバンドルファイバ2を使用するとき、図1(b)
に示す如く、その使用時のみにバンドルファイバ2を容
器3から取り出して使用する。尚、このバンドルファイ
バ2を取り出すときには、第1開閉弁8を開いて容器3
から水素ガスを抜いた後に容器3の蓋部5を開けてバン
ドルファイバ2を取り出せばよい。
【0031】そのとき、上記バンドルファイバ2の保管
状態では、各紫外線伝送用光ファイバ1が水素処理され
た状態に保たれているので、このファイバ1が容器3か
ら取り出されて使用されるときには、ファイバ1に十分
な水素処理が行われた状態となっており、その使用時に
水素分子不足の状態で使用されるのを防止することがで
きる。
【0032】また、紫外線伝送用光ファイバ1,1,…
は常時は容器3中の水素ガスと接触して保管され、使用
時のみに容器3から取り出されるので、ファイバ1の使
用時に水素ガスの取扱上の安全対策も不要となり、その
分、コストを下げることができる。
【0033】そして、こうしてバンドルファイバ2を使
用している状態では、上記容器3からのバンドルファイ
バ2の取出し後の経過時間を、各紫外線伝送用光ファイ
バ1からの水素分子の抜け出し状態を判定するためにカ
ウントし、この取出し後の経過時間が各ファイバ1のU
V劣化に至る前の所定時間(例えば1〜3ヶ月(数ヶ
月))に達したときに、使用状態であってもバンドルフ
ァイバ2(紫外線伝送用光ファイバ1)を再度上記容器
3内に収容し、その容器3内でファイバ1の水素処理を
行う。尚、この容器3にファイバ1を収容して水素処理
を行うときには、上記保管時と同様にして容器3内にフ
ァイバを収容して一定時間(例えば10時間程度)だけ
保持すればよい。
【0034】このように、バンドルファイバ2の使用状
態でもその容器3からの取出し後の経過時間が所定時間
に達すると、バンドルファイバ2が強制的に再度容器3
に収容されて保持されるので、紫外線伝送用光ファイバ
1がUV劣化に陥る前に容器3内の水素ガスによって水
素処理される。よって紫外線伝送用光ファイバ1中の水
素分子不足を長期間に亘り抑止して、そのUV劣化を抑
止することができる。
【0035】こうしてバンドルファイバ2の各紫外線伝
送用光ファイバ1の再度の水素処理が行われると、その
バンドルファイバ2を容器3から取り出して使用を続け
ればよい。以後は、上記と同様にして、容器3の取出し
からの経過時間をカウントして、所定時間の経過前にバ
ンドルファイバ2を容器3に収容保持することを繰り返
せばよい。
【0036】(実施形態2)図3〜図5は本発明の実施
形態2を示し(尚、以下の各実施形態では、図1及び図
2と同じ部分については同じ符号を付してその詳細な説
明は省略する)、上記実施形態1ではバンドルファイバ
2(紫外線伝送用光ファイバ1,1,…)を容器3内に
保管するのに対し、水素ガスを封入可能なチューブ部材
をバンドルファイバ2と一体化したものである。
【0037】すなわち、図3は本発明の実施形態2に係
る紫外線伝送用光ファイバ構造体Aを示し、このファイ
バ構造体Aは、複数本の紫外線伝送用光ファイバ1,
1,…と、これら紫外線伝送用光ファイバ1,1,…の
周りを空間Sをあけて気密状に覆う可撓性を有するチュ
ーブ部材14とを備えてなり、上記紫外線伝送用光ファ
イバ1,1,…は実施形態1と同様にバンドルファイバ
2を構成している。このバンドルファイバ2の端部には
光ファイバ端末部品2aが一体的に装着固定されてお
り、このバンドルファイバ2の各紫外線伝送用光ファイ
バ1は該端末部品2aと共に端面が研磨されている。
【0038】これに対し、上記チューブ部材14は、気
密耐圧構造を持つ例えば金属製のシームレスフレキシブ
ルチューブ15を備えている。このシームレスフレキシ
ブルチューブ15は曲げ変形可能な可撓構造のもので、
このシームレスフレキシブルチューブ15の可撓構造に
よりチューブ部材14が可撓性を有する。シームレスフ
レキシブルチューブ15は、両方の端末に予め気密状に
接続一体化された円筒状の金属製嵌合部16を備えてい
る。そして、シームレスフレキシブルチューブ15の両
方の端末部には例えば金属からなる端末具17,17が
一体的に気密状に溶接されている。この各端末具17
は、上記バンドルファイバ2の光ファイバ端末部品2a
を密嵌合可能な中心孔18を有する有底円筒状のもの
で、その中心孔18の基端部内にシームレスフレキシブ
ルチューブ15端部の嵌合部16が同心状かつ気密状に
嵌合されてTIG(Tungsten Inert Gas)溶接等の溶接
手段により溶着一体化されている。尚、このような嵌合
部16と端末具17とのTIG溶接等の溶接手段に代
え、図4に示すように、端末具17の中心孔18端部内
にシームレスフレキシブルチューブ15端部の嵌合部1
6を嵌合した状態で隙間部分にエポキシ系接着剤22を
充填することにより、溶着一体化するようにすることも
できる。
【0039】そして、端末具17の中心孔18には、上
記紫外線伝送用光ファイバ1,1,…の集合体たるバン
ドルファイバ2が挿通された状態で例えばエポキシ系樹
脂からなる接着剤19が充填されている。この接着剤1
9はバンドルファイバ2におけるファイバ1,1,…の
間にも充填されており、具体的には、端末具17の中間
部には複数(図示例では2つ)の接着剤充填孔17a,
17aが貫通形成されており、端末具17の中心孔18
にバンドルファイバ2がその端部の光ファイバ端末部品
2aを中心孔18の先端部内に密嵌合状態で位置せしめ
て挿通嵌合され、その状態で接着剤19が接着剤充填孔
17a,17aを経て中心孔18内の上記光ファイバ端
末部品2aと嵌合部16との間の部分に充填されて固着
されている。この端末具17の中心孔18内への接着剤
19の充填により、チューブ部材14の端末部は、紫外
線伝送用光ファイバ1,1,…の集合体たるバンドルフ
ァイバ2の端末部が挿通された状態で気密状に閉塞され
ている。
【0040】また、上記シームレスフレキシブルチュー
ブ15はその長さ方向の途中で2つの分割部16a,1
6bに分断され、各分割部15a,15bの先端部にも
予めそれぞれ上記嵌合部16が気密状に接続一体化され
ている。そして、両分割部16a,16b間には例えば
金属製の連結具20が一体的に気密状に溶接されてい
る。この連結具20は、中心孔21を有する有底円筒状
のもので、その中心孔21の一端部内にシームレスフレ
キシブルチューブ15における一方の分割部15a端部
の嵌合部16が、また他端部内に他方の分割部15b端
部の嵌合部16がそれぞれ同心状かつ気密状に嵌合され
て上記TIG溶接等の溶接手段により溶着一体化されて
おり(この場合も、図4に示すようにエポキシ系接着剤
22の充填を用いてもよい)、連結具20の中心孔21
には、上記端末具17と同様に紫外線伝送用光ファイバ
1,1,…の集合体たるバンドルファイバ2が挿通され
ている。
【0041】さらに、上記連結具20には、内端が中心
孔21に連通しかつ外端が外周面に開口する第1及び第
2の2つの連通孔6,7が形成されており、これら連通
孔6,7によりチューブ部材14の内外が連通されてい
る。上記連通孔6,7にはそれぞれ常時閉の第1及び第
2開閉弁8,9が連結具20と一体化されて接続され、
第2開閉弁9には、チューブ部材14内部の圧力を検出
する圧力計10(図5参照)が接続可能とされており、
2つの開閉弁8,9の閉弁により、チューブ部材14内
は外部から気密状に遮断されて封閉されており、このチ
ューブ部材14内の紫外線伝送用光ファイバ1,1,…
との間の空間Sに水素ガスが封入可能とされている。
【0042】そして、この実施形態では、紫外線伝送用
光ファイバ1,1,…からなるバンドルファイバ2(紫
外線伝送用光ファイバ構造体A)の不使用時には上記チ
ューブ部材14内に水素ガスを封入した状態で保管す
る。
【0043】そのとき、上記実施形態1と同様に、上記
チューブ部材14内に封入される水素ガスの圧力は、1
MPa未満であればよく、好ましくは0.25MPa以
下がよい。
【0044】上記紫外線伝送用光ファイバ構造体Aのチ
ューブ部材14内に水素ガスを封入する工程を図5によ
り説明すると、図5(a)に示す紫外線伝送用光ファイ
バ構造体Aに対し、まず、図5(b)に示す如く、第2
開閉弁9に圧力計10を接続し、第1開閉弁8を真空吸
引装置A1に接続した後、その第1開閉弁8及び第2開
閉弁9を共に開いてチューブ部材14内を真空引きによ
り吸引する。このチューブ部材14内の圧力を圧力計1
0で監視し、その圧力が略真空状態になるまで下がる
と、第1開閉弁8を一旦閉じ、図5(c)に示すよう
に、この第1開閉弁8を真空吸引装置A1に代えて水素
ガス供給源A2に接続した後、再度第1開閉弁8を開け
て水素ガス供給源A2からの水素ガスをチューブ部材1
4内の空間Sに充填する。そして、この水素ガスの圧力
を圧力計10で監視し、その圧力が所定圧力に達する
と、第1開閉弁8及び第2開閉弁9を閉じ、その後、図
5(d)に示すように、第1開閉弁8の水素ガス供給源
A2との接続を切り離すとともに、第2開閉弁9から圧
力計10を取り外す。以上により、チューブ部材14内
に水素ガスが封入され、紫外線伝送用光ファイバ構造体
Aは、バンドルファイバ2(紫外線ファイバ1,1,
…)が保管された状態となる。
【0045】これに対し、バンドルファイバ2(紫外線
伝送用光ファイバ1,1,…)の使用時には、上記チュ
ーブ部材14内から水素ガスを排出して使用する。この
とき、第1開閉弁8を開いてチューブ部材14内から水
素ガスを排出すればよい。
【0046】また、このバンドルファイバ2の使用時
に、各紫外線伝送用光ファイバ1からの水素分子の抜け
出し状態を判定するためにチューブ部材14内からの水
素ガスの排出後の経過時間をカウントし、この排出後の
経過時間がファイバ1のUV劣化に至る前の所定時間に
達したときに、チューブ部材14内に再度水素ガスを封
入保持する。
【0047】したがって、この実施形態では、紫外線伝
送用光ファイバ1,1,…からなるバンドルファイバ2
はそれと一体のチューブ部材14内に収容されており、
その不使用時にはチューブ部材14内に水素ガスが封入
されて保管され、ファイバ1,1,…を使用するときに
初めて、そのチューブ部材14内から水素ガスが排出さ
れて使用されるので、このファイバ1の使用時にチュー
ブ部材14から水素ガスが排出されても、ファイバ1は
十分な水素処理が行われた状態となっており、その使用
時に水素分子不足の状態で使用されるのを防止すること
ができる。
【0048】また、各紫外線伝送用光ファイバ1は常時
はチューブ部材14内の水素ガスと接触して保管され、
使用時のみに該水素ガスが排出されるので、ファイバ1
の使用時に水素ガスの取扱上の安全対策も不要となる。
すなわち、紫外線伝送用光ファイバ構造体Aをチューブ
部材14内に水素ガスのない状態で使用して、チューブ
部材14内に水素ガスを封入保持したままで使用する場
合の問題をなくすことができ、よってコストを下げるこ
とができる。
【0049】さらに、上記紫外線伝送用光ファイバ1,
1,…の使用状態でもチューブ部材14からの水素ガス
の排出後の経過時間が所定時間に達すると、強制的に再
度チューブ部材14内に水素ガスが封入保持されるの
で、ファイバ1がUV劣化に陥る前にチューブ部材14
に再封入された水素ガスによって水素処理されることと
なり、よって紫外線伝送用光ファイバ1,1,…の水素
分子を補うことによりUV劣化を長期間に亘り抑止する
ことができる。
【0050】(実施形態3)図6は本発明の実施形態3
を示し、上記実施形態2では端末具17内に接着剤19
を充填してチューブ部材14の端末部を気密状に閉塞し
ているのに対し、ロウ付け処理によりチューブ部材14
端末部を気密状に閉塞するようにしたものである。
【0051】すなわち、この実施形態では、端末具17
の先端部にはその中心孔18の開口周りの端面を段差状
に凹陥してなる窓部嵌合用の凹部17bが同心状に形成
されている。この凹部17bには、光ファィバ1に対し
紫外線を透過させるサファイア等からなる透明円板状の
窓部23が端末具17の中心孔18先端開口を閉塞する
ように嵌合され、窓部23の周囲はAg−Cu合金のロ
ウ付け処理により気密状に封止されている。尚、凹部1
7bから光ファイバ端末部品2aの略全体が位置する部
分までの中心孔18は、光ファイバ端末部品2aの周囲
に空間を形成するように他の部分によりも大径の大径部
18aとされている。その他の構成は上記実施形態2と
同様である。
【0052】したがって、この実施形態においては、端
末具17の開口に対する窓部23のロウ付け処理によっ
て気密性をさらに高めることができ、水素ガスを長期間
に亘り安定して封入維持することができる。
【0053】
【発明の効果】以上説明のように、請求項1の発明によ
ると、内部に水素ガスが封入可能な容器を用意し、この
容器内に紫外線伝送用光ファイバをその不使用時に収容
して水素ガスの充填状態で保管し、紫外線伝送用光ファ
イバを使用時のみに容器から取り出して使用することに
より、紫外線伝送用光ファイバの使用時に水素ガスの取
扱上の安全対策を不要としてコストダウンを図りつつ、
その使用時に水素分子不足の状態で使用されるのを防止
することができる。
【0054】請求項2の発明によると、紫外線伝送用光
ファイバの使用時に容器から取り出した後の経過時間を
カウントし、この経過時間が所定時間に達したときに、
紫外線伝送用光ファイバを再度容器内に収容保持するこ
とにより、ファイバがUV劣化に陥る前に容器内の水素
ガスによって水素処理でき、紫外線伝送用光ファイバの
UV劣化を長期間に亘り抑止することができる。
【0055】請求項3の発明によると、紫外線伝送用光
ファイバに、その周りを空間をあけて気密状に覆う可撓
性を有するチューブ部材を一体的に設けて、このチュー
ブ部材の端末部を、紫外線伝送用光ファイバの端末部が
挿通された状態で気密状に閉塞しておき、紫外線伝送用
光ファイバの不使用時にはチューブ部材内に水素ガスを
封入した状態で保管し、紫外線伝送用光ファイバの使用
時にはチューブ部材内から水素ガスを排出して使用する
ことにより、ファイバの使用時に水素ガスの取扱上の安
全対策を不要としてコストを下げつつ、その水素分子不
足の状態で使用されるのを防止することができる。
【0056】請求項4の発明によると、上記紫外線伝送
用光ファイバの使用時にチューブ部材内からの水素ガス
の排出後の経過時間をカウントし、この経過時間が所定
時間に達したときに、チューブ部材内に再度水素ガスを
封入保持することにより、紫外線伝送用光ファイバの使
用状態でも、UV劣化に陥る前にチューブ部材に再封入
された水素ガスによってファイバを水素処理でき、よっ
て紫外線伝送用光ファイバのUV劣化を長期間に亘り抑
止することができる。
【0057】請求項5の発明では、容器内又はチューブ
部材内に封入される水素ガスの圧力は1MPa未満とし
た。また、請求項6の発明では、水素ガスの圧力は0.
25MPa以下とした。従って、これら発明の構成によ
れば、本発明の効果が有効に発揮されるのに最適な水素
ガス封入圧が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1に係る紫外線伝送用光ファ
イバの使用方法を示す図である。
【図2】バンドルファイバの拡大断面図である。
【図3】本発明の実施形態2に係る紫外線伝送用光ファ
イバ構造体の全体構成を示す断面図である。
【図4】シームレスフレキシブルチューブにおける嵌合
部の端末具への結合構造の変形例を示す断面図である。
【図5】紫外線伝送用光ファイバ構造体に水素ガスを封
入する工程を示す図である。
【図6】実施形態3に係る紫外線伝送用光ファイバ構造
体の要部を示す断面図である。
【符号の説明】
A1 真空吸引装置 A2 水素ガス供給源 1 紫外線伝送用光ファイバ 2 バンドルファイバ 2a 光ファイバ端末部品 3 容器 A 紫外線伝送用光ファイバ構造体 14 チューブ部材 15 シームレスフレキシブルチューブ 16 嵌合部 17 端末具 19 接着剤 20 連結具 23 窓部 S 空間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐竹 武史 兵庫県伊丹市池尻4丁目3番地 三菱電線 工業株式会社伊丹製作所内 Fターム(参考) 2H038 CA32 CA45

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 紫外線を伝送する少なくとも1本の紫外
    線伝送用光ファイバの使用方法であって、 内部に水素ガスが封入可能でありかつ上記紫外線伝送用
    光ファイバが着脱可能に収容される容器を用意し、 紫外線伝送用光ファイバをその不使用時には上記容器内
    に収容して水素ガスを充填した状態で保管しておき、 紫外線伝送用光ファイバを使用時のみに上記容器から取
    り出して使用することを特徴とする紫外線伝送用光ファ
    イバの使用方法。
  2. 【請求項2】 請求項1の紫外線伝送用光ファイバの使
    用方法において、 紫外線伝送用光ファイバの使用時に、該ファイバからの
    水素分子の抜け出し状態を判定するために容器からファ
    イバを取り出した後の経過時間をカウントし、上記取出
    し後の経過時間がファイバのUV劣化に至る前の所定時
    間に達したときに、紫外線伝送用光ファイバを再度容器
    内に収容し水素ガスを充填して保持することを特徴とす
    る紫外線伝送用光ファイバの使用方法。
  3. 【請求項3】 紫外線を伝送する少なくとも1本の紫外
    線伝送用光ファイバの使用方法であって、 上記紫外線伝送用光ファイバに、その周りを気密状に覆
    うチューブ部材を一体的に設けるとともに、該チューブ
    部材の端末部を、紫外線伝送用光ファイバの端末部が支
    持された状態で気密状に閉塞しておき、 紫外線伝送用光ファイバの不使用時には上記チューブ部
    材内に水素ガスを封入した状態で保管し、 紫外線伝送用光ファイバの使用時にはチューブ部材内か
    ら水素ガスを排出して使用することを特徴とする紫外線
    伝送用光ファイバの使用方法。
  4. 【請求項4】 請求項3の紫外線伝送用光ファイバの使
    用方法において、 紫外線伝送用光ファイバの使用時に、該ファイバからの
    水素分子の抜け出し状態を判定するためにチューブ部材
    内からの水素ガスの排出後の経過時間をカウントし、 上記排出後の経過時間がファイバのUV劣化に至る前の
    所定時間に達したときに、チューブ部材内に再度水素ガ
    スを封入保持することを特徴とする紫外線伝送用光ファ
    イバの使用方法。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1つの紫外線伝
    送用光ファイバの使用方法において、 封入される水素ガスの圧力は1MPa未満であることを
    特徴とする紫外線伝送用光ファイバの使用方法。
  6. 【請求項6】 請求項1〜4のいずれか1つの紫外線伝
    送用光ファイバの使用方法において、 封入される水素ガスの圧力は0.25MPa以下である
    ことを特徴とする紫外線伝送用光ファイバの使用方法。
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