JP2003248300A - Method for making planographic printing plate - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for making a planographic printing plate with which production of development scum in the plate making process can be suppressed, adhesion of development scum to a plate and precipitation or deposition of the scum in a developing bath can be prevented, long-term stable development is achieved, a plate on which gum is not repelled is manufactured, and a highly sharp and clear image is obtained. <P>SOLUTION: In the method for making a planographic printing plate, an IR sensitive planographic printing plate having an image forming layer containing an IR absorbing dye is exposed with IR and developed with an alkali developer containing an amphoteric surfactant and a nonionic surfactant. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ等の
デジタル信号に基づき、赤外線レーザー走査により直接
製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版
原版からの、特定のアルカリ現像処理液を用いた平版印
刷版の製版方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】近年、レーザーの発展はめざましく、特
に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザー、半導
体レーザーは、高出力かつ小型のものが容易に入手でき
るようになっており、このデジタルデータから直接製版
するシステムの露光光源として、これらのレーザーは非
常に有用である。レーザー書き込みに適する画像記録材
料として、例えば特開平７−２８５２７５号公報にはク
レゾール樹脂のような結着剤と、光を吸収して熱を発生
する物質と、キノンジアジドのような熱分解性であっ
て、且つ分解前の状態では前記結着剤の溶解性を実質的
に低下させうる化合物とを含有するポジ型の画像記録材
料が提案されている。これは、赤外線照射により露光部
分において前記光を吸収して熱を発生する物質が発熱
し、露光部分をアルカリ可溶性にするもの（ヒートモー
ド型）であるが、支持体であるアルミニウムに吸熱され
てしまうため熱効率が低く、現像工程におけるアルカリ
現像処理液に対する溶解性は満足のいくものではなかっ
た。このため、現像液のアルカリ濃度を上げ、露光部分
の溶解性を確保してきた。 【０００３】ところが、ヒードモード型の平版印刷版原
版は、上記のような高濃度のアルカリ条件下では画像部
のアルカリ現像処理液に対する耐溶解性が低く、画像記
録材料表面に僅かに傷があるだけで溶解され、画像部に
欠陥を生ずるなどの問題があった。特に、アルカリ水溶
液に対して可溶性の高い高分子化合物を使用するポジ型
の平版印刷版原版において、その傾向はより顕著であっ
た。従って、非画像部に残膜が生じないようにアルカリ
現像液のアルカリ濃度を上げるには限度がある。 【０００４】また、近年の赤外線レーザー露光型の画像
記録材料の改良に伴い、従来の赤外線吸収染料と比較し
てアルカリ現像処理液には溶解し難い、例えばシアニン
染料といった赤外線吸収染料が使用される傾向があり、
この画像記録材料をアルカリ現像処理液で現像した場合
に、現像処理液中に赤外線吸収染料の不溶物が排出され
る傾向がある。これがバインダーポリマーの成分や水中
の無機物などとの相互作用により更なる不溶物を形成し
て、現像処理を続けていくうちに、これらの不溶物が蓄
積、凝集沈降し現像カスとなり、現像処理を不安定にす
る要因となる。具体的にはこれらの不溶物はプレート上
に付着して画像に支障をきたしたり、現像処理浴中で沈
殿・析出し、処理浴のメンテナンスに負担を生じるとい
った不都合を起こす。このような状況下、非画像部上に
残膜があるまま、例えばバーニング処理を施すと、残膜
が炭化して印刷時の汚れとなる不都合もある。また、赤
外線レーザー露光型の画像記録材料では感材にフッ素系
化合物などを使うことがあって、版上でガムはじきが起
こりやすい。そして、版上のガムがはじかれた部分は印
刷汚れにつながり、ガムが比較的厚塗りになった部分は
インク着肉不良の原因となる問題がある。よって、上記
のような現像カスによる不都合を回避し、また、ガムは
じきの問題のない版を提供すること、及び、形成した画
像部に欠陥を与えることなく、高鮮鋭で鮮明な画像を形
成すること、特に、ドット部や細線などを含む精細な画
像において、その高鮮鋭化、再現性の向上が要求されて
いる。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、製版
工程において現像カスの発生を抑え、現像カスが版に付
着したり、現像処理浴中で沈殿、析出することを防ぎ、
長期間安定に現像し得、版上でガムはじきのない版を作
製できて、高鮮鋭で鮮明な画像を得ることのできる平版
印刷版の製版方法を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、現像液中に界
面活性剤を組み合わせて用いることによって、現像液に
適した液性条件を維持しながら、現像処理において現像
カスの発生を抑え、また版においてガムはじきの問題を
解消しガム塗布面状が良化した版が提供できることを見
出し、本発明を完成させるに至った。従って本発明は、
赤外線吸収染料を含む画像形成層を有する赤外線感光性
平版印刷版を赤外線露光後、両性界面活性剤及びノニオ
ン界面活性剤を含有するアルカリ現像処理液で現像する
ことを特徴とする平版印刷版の製版方法である。本発明
者らはまた、アルカリ現像処理液にさらにシリコーン系
界面活性剤を含有させることによって、現像ラチチュー
ドが向上することを見出した。よって、本発明の好まし
い実施態様には、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤
及びシリコーン系界面活性剤を含有するアルカリ現像処
理液を用いた上記の平版印刷版の製版方法がある。現像
液中における両性界面活性剤の使用は、現像カスの原因
となる不溶物の分散性を良化する一方、画像部を過度に
疎水性にしてガムをはじいてしまう傾向がある。本発明
は、両性界面活性剤とノニオン界面活性剤を併用するこ
とで現像カス及びガムはじきの問題の双方を良化するこ
とを見出し完成されたものである。 【０００７】 【発明の実施の形態】先ず、本発明の製版方法に用いる
アルカリ現像処理液について説明する。現像処理に用い
るアルカリ現像処理液（以下、単に「現像液」ともい
う。）はアルカリ性の水溶液であって、従来公知のアル
カリ水溶液の中から適宜選択することができる。アルカ
リ水溶液としては、ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖
と、塩基とからなる現像液が挙げられ、特にｐＨ１２．
５〜１４．０のものが好ましい。前記ケイ酸アルカリと
しては、水に溶解したときにアルカリ性を示すものであ
り、例えばケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸
リチウムなどのアルカリ金属ケイ酸塩、ケイ酸アンモニ
ウムなどが挙げられる。ケイ酸アルカリは１種単独で
も、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 【０００８】上記アルカリ水溶液は、ケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素ＳｉＯ₂とアルカリ酸化物Ｍ₂Ｏ（Ｍはア
ルカリ金属又はアンモニウム基を表す。）との混合比
率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節するこ
とができる。前記アルカリ水溶液の中でも、前記酸化ケ
イ素ＳｉＯ₂とアルカリ酸化物Ｍ₂Ｏとの混合比率（Ｓｉ
Ｏ₂／Ｍ₂Ｏ：モル比）が０．５〜３．０のものが好まし
く、０．７５〜１．５のものがより好ましい。前記Ｓｉ
Ｏ₂／Ｍ₂Ｏが0.５未満であると、アルカリ強度が強くな
っていくため、平版印刷版原版の支持体として汎用のア
ルミニウム板などをエッチングしてしまうといった弊害
を生ずることがあり、3.０を超えると、現像性が低下す
ることがある。 【０００９】また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度と
しては、アルカリ水溶液の質量に対して１〜１０質量％
が好ましく、３〜８質量％がより好ましく、４〜７質量
％が最も好ましい。この濃度が１質量％未満であると現
像性、処理能力が低下することがあり、１０質量％を超
えると沈澱や結晶を生成しやすくなり、さらに廃液時の
中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支障をきた
すことがある。 【００１０】非還元糖と塩基とからなる現像液におい
て、非還元糖とは遊離性のアルデヒド基やケトン基を持
たないために還元性を有しない糖類を意味し、還元基同
士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非
糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖
アルコールに分類される。本発明ではこれらのいずれも
好適に用いることができる。トレハロース型少糖類とし
ては、例えばサッカロースやトレハロースが挙げられ、
前記配糖体としては、例えばアルキル配糖体、フェノー
ル配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。糖アルコ
ールとしては、例えばＤ，Ｌ−アラビット、リビット、
キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニッ
ト、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシッ
ト、アロズルシットなどが挙げられる。さらには、二糖
類の水素添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素
添加で得られる還元体（還元水あめ）なども好適に挙げ
ることができる。 【００１１】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、Ｄ−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが適度なｐＨ領域に
緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖は
単独でも、二種以上を組み合わせてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.１〜３０質量％が好ましく、１
〜２０質量％がより好ましい。 【００１２】前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖に
は、塩基としてアルカリ剤を従来公知の物の中から適宜
選択して組み合わせることができる。該アルカリ剤とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、
リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無
機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウ
ム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。 【００１３】さらにモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も好適に
挙げることができる。これらのアルカリ剤は単独で用い
ても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由
は、非還元糖に対する添加量を調整することにより、広
いｐＨ領域においてｐＨ調整が可能となるためである。
また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があ
るので好ましい。 【００１４】本発明で使用する現像液は、上記のような
アルカリ水溶液に両性界面活性剤を含有することを必須
とする。両性界面活性剤としてはアミノカルボン酸型両
性界面活性剤、ベタイン型両性界面活性剤、イミダゾリ
ン型両性界面活性剤などが挙げられる。アミノカルボン
酸型両性界面活性剤として、例えば以下の式で表される
化合物及びその塩類がある。 （式中、Ｒ₁びＲ₂はそれぞれ炭素原子数１〜３０の炭化
水素基を表し、ａ、ｂ及びｃはそれぞれ１〜１０の整数
を表す。） Ｒ₁及びＲ₂は、好ましくは脂肪族炭化水素基であって、
直鎖でも分岐していてもよく、また、飽和でも不飽和で
もよく、具体的にアルキル基、アルケニル基などが挙げ
られる。上記式の化合物の塩類としては、アルカリ金属
塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩、
アンモニウム塩及びアミン塩などが挙げられる。 【００１５】本発明に使用するベタイン型両性界面活性
剤には、例えば以下の構造式のものがある。 【００１６】 【００１７】【００１８】（式中、Ｒ¹は炭素原子数１〜３０の炭化
水素基を表し、直鎖でも分岐鎖でもよく、また飽和でも
不飽和でもよく、Ｒ²及びＲ³は同一でも異なっていても
よく、炭素原子数１〜１０のアルキル基、カルボキシア
ルキル基及びヒドロキシアルキル基から選ばれる。ｐ、
ｑは１〜４０の整数、好ましくは１〜２０で、より好ま
しくは１〜５である。ｎ、ｍは１〜３０の整数、好まし
くは１〜１５で、より好ましくは１〜５である。） 上記式中、Ｒ¹は好ましくは炭素原子数４〜１８のアル
キル基を表し、水素原子が水酸基で置換されていてもよ
く、炭化水素鎖の炭素間にエーテル結合やアミド結合が
存在してもよい。また、Ｒ²及びＲ³におけるアルキル基
は好ましくは炭素原子数１〜５程度である。本発明で使
用する両性界面活性剤の具体例として、以下のものがあ
る 【００１９】【００２０】 【００２１】【００２２】 【００２３】ベタイン型両性界面活性剤として上記のよ
うにＮ−ラウリル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシ
メチルアンモニウム、Ｎ−ステアリル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウム、Ｎ−ラウリル
−Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチル−Ｎ−カルボキシメチル
アンモニウム、Ｎ−ラウリル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（カ
ルボキシメチル）アンモニウムなどが例示され、その他
にＮ−ヤシ油脂肪酸アシル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ
−ヒドロキシエチルエチレンジアミンナトリウムなどが
ある。両性界面活性剤は市場で一般に入手でき、ベタイ
ン型両性界面活性剤の市販品の例としては花王社製「ア
ンヒトール24B」及び「アンヒトール86B」、第一工業社
製「アモーゲンK」などがある。アルカリ現像処理液に
おいて、両性界面活性剤を１種を単独で使用してもよい
し、２種以上を併用してもよい。現像液における両性界
面活性剤の含有量は、０．００１〜１０．０質量％が適
当であり、好ましくは０．０１〜５．０質量％、より好
ましくは０．０５〜１．０質量％である。含有量が０．
００１質量％に満たないと現像カスの分散力が充分でな
く、一方１０．０質量％を超えると泡が立ち易いという
問題が発生する。 【００２４】本発明で使用する現像液にはさらに、ノニ
オン界面活性剤を含ませる。ノニオン界面活性剤として
はポリエチレングリコール型ノニオン界面活性剤が挙げ
られ、例えば以下のような式で表されるものがある。 （式中、Ｒ₄は水素原子、芳香族炭化水素基、又は炭素
原子数１〜３０の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ₅及びＲ₆
は各々水素原子又は−ＣＨ₃を表し、ｅ、ｆは各々０、
又は１〜３００の整数であって、但しeとｆが同時に０
とならない。） 式中、Ｒ₄の芳香族炭化水素基としてアリール基があ
り、具体的にフェニル基、ナフチル基、アントラニル基
などがあり、それらの芳香族環が炭素原子数１〜３０の
アルキル基又はアルケニル基で置換されていてもよい。
また、Ｒ₄の脂肪族炭化水素基は、直鎖でも分岐してい
てもよく、また飽和でも不飽和でもよく、例えばアルキ
ル基、アルケニル基などが挙げられる。ポリオキシエチ
レン部とポリオキシプロピレン部があるとき、ランダム
でもブロックの共重合体でもよい。 【００２５】具体的に、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル類、ポリオキシエチレンアルケニルエーテル類、
ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン
ナフチルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルナフチ
ルエーテル類、ポリエチレングリコールもしくはその誘
導体、又はポリプロピレングリコールもしくはその誘導
体などがある。ここでポリオキシエチレンとあるのは、
ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレンなどのポリオキシアルキレン、又はそれらの
組み合わせにしてもよい。２種以上のポリオキシアルキ
レン部があるとき、ランダムでもブロックの共重合体で
もよい。上記のようなノニオン界面活性剤は市場におい
て一般に入手することができる。それらの市販品の例と
して式中Ｒ₄が脂肪族基のものとして旭電化製、花王石
鹸製、三洋化成製、新日本理化製、第一工業製薬製、竹
本油脂製、東邦化学製、日本油脂製などのものがある。
式中Ｒ₄が芳香族基のものとして花王石鹸製、三洋化成
製、第一工業製薬製、竹本油脂製、東邦化学製などのも
のがある。 【００２６】その他のノニオン界面活性剤としてアミン
のアルキレンオキサイド付加物、糖アルコールのアルキ
レンオキサイド付加物、グリセリンのアルキレンオキサ
イド付加物などが使用できる。該糖アルコールの具体例
としてはD,L-トレイット、D,L-アラビット、リビット、
キシリット、D,L-ソルビット、D,L-マンニット、D,L-イ
ジット、D,L-タリット、ズルシット、アロズルシットな
どが挙げられる。更に、糖アルコールを縮合したジグリ
セリン、トリグリセリン、テトラグリセリン、ペンタグ
リセリン及びヘキサグリセリンなどのアルキレンオキサ
イド付加物も使用できる。アルキレンオキサイド付加と
しては、特にエチレンオキシド（EO）付加、エチレンオ
キシド（EO）／プロピレンオキシド（PO）付加及びプロ
ピレンオキシド（PO）付加が挙げられ、プロピレンオキ
シド（PO）は水溶解性が許容できる範囲で存在するのが
望ましい。 【００２７】ノニオン界面活性剤の別の例として、特開
昭６０−１２９７５０号公報に開示されているようなア
ルキレンジアミンのアルキレンオキサイド付加物が挙げ
られる。例えば以下の式で表される化合物である。 【００２８】（上記式中、Ｒ₇〜Ｒ₁₄は同一でも異なっ
ていてもよく、Ｈ又はＣＨ₃を示し、Ｒ ₁₅〜Ｒ₁₈は同一
でも異なっていてもよく、Ｈ、ＣＨ₃、ＣＯＲ₁₉、ＣＯ
ＮＨＲ₂₀を示し、Ｒ₁₉及びＲ₂₀は、アルキル基、アリー
ル基、アルケニル基又はアルキニル基を示し、ｇは２〜
１２の整数、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ及びｏは同一
でも異なっていてもよく、０又は１〜３００の整数を示
し、（ｈ＋ｌ）（ｉ＋ｍ）（ｊ＋ｎ）（ｋ＋ｏ）≠０で
ある。） これらの化合物は一般的に水溶性である。上記式で表さ
れる化合物のうち特に好ましいものは、Ｒ₇＝Ｒ₈＝Ｒ₉
＝Ｒ₁₀＝ＣＨ₃、Ｒ₁₁＝Ｒ₁₂＝Ｒ₁₃＝Ｒ₁₄＝Ｈ、Ｒ₁₅＝
Ｒ₁₆＝Ｒ₁₇＝Ｒ₁₈＝Ｈ又はＣＯＲ_{1 9}、Ｒ₁₉＝アルキルで
あり、エチレンオキサイドが総分子中４０〜８０質量％
含まれ、プロピレンオキサイドの分子量範囲が２，００
０〜５，０００であり、ｇが２〜６の整数であるような
化合物である。 【００２９】上記式においてＲ₁₉及びＲ₂₀によって表さ
れるアルキル基としては、例えばＣＨ₃−、ＣＨ₃ＣＨ₂
−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₂−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₃−、ＣＨ
₃（ＣＨ₂）₄−、（ＣＨ₃）₂ＣＨ（ＣＨ₂）₂−、ＣＨ₃Ｃ
Ｈ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₂ＣＨ（Ｃ
Ｈ₃）−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₈−、Ｃ
Ｈ ₃（ＣＨ₂）₁₀−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₂−、ＣＨ₃（Ｃ
Ｈ₂）₁₄−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₆−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）
₁₈−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₂₀−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₂₂−、ＣＨ
₃（ＣＨ₂）₂₄−などの炭素原子数１〜２５の直鎖又は分
岐のアルキル基が好ましい。また、Ｒ₁₉及びＲ₂₀によっ
て表されるアリ−ル基としては例えば、フェニル、 【００３０】 【００３１】などの単環又は２環のアリール基及びこれ
らに直鎖又は分岐のアルキル基で置換基を有するものが
含まれる。また、Ｒ₁₉及びＲ₂₀によって表されるアルケ
ニル基又はアルキニル基としては、例えば ＣＨ₂＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ
Ｈ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₅ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ₃（ＣＨ
₂）₇ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃（ＣＨ₂）₅ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₀ＣＨ＝
ＣＨ（ＣＨ₂）₄−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₅ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ
Ｈ₂）₉−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₄ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ
（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ
ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₃（ＣＨ
＝ＣＨ）₃（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₈（ＣＨ＝Ｃ
Ｈ）₃（ＣＨ₂）₄ＣＯ（ＣＨ₂）₂−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₇Ｃ
≡Ｃ（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₉ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ
Ｈ₂）₇−などの炭素原子数９〜２４のものが挙げられ
る。これらの水溶性化合物の例としては、旭電化工業
（株）の商品名テトロニックの商品カタログなどに記載
されている化合物を挙げることができる。 【００３２】これらのノニオン界面活性剤の分子量とし
ては、一般に５０〜１００００程度のものが好ましく使
用される。前記分子量が５０未満であると画像部に対す
る溶解抑止力を得ることができないことがあり、１００
００を超えると非画像部の現像性が低下することがあ
る。現像液にはノニオン界面活性剤を１種単独で、又は
２種以上を組み合わせて用いてもよい。現像液における
ノニオン界面活性剤の含有量は、０．００１〜１０．０
質量％が適当であり、好ましくは０．０１〜５．０質量
％、より好ましくは０．１〜１．０質量％である。０．
００１質量％に満たないとガム塗布面状を良化する効果
が充分でなく、一方１０．０質量％を超えると画像抑制
効果が強くなりすぎる。現像液における両性界面活性剤
とノニオン界面活性剤の質量比は、１：０．００１から
０．００１：１が適当で、好ましくは１：０．０１から
０．０１：１、より好ましくは１：０．１から０．１：
１である。 【００３３】本発明で使用する現像液には、現像ラチチ
ュードの向上の観点から、さらにシリコーン系界面活性
剤を添加してもよい。シリコーン系界面活性剤として
は、ジアルキルポリシロキサン系界面活性剤、特にジメ
チルポリシロキサン系界面活性剤が挙げられる。より具
体的には下記に示すジメチルポリジオキサンをそのま
ま、あるいはO/W型乳濁液としたもの、（上記式中、ｎ＝０〜２０００） 【００３４】下記式で示されるポリ（エチレンオキシ）
シロキサン、アルコキシポリ（エチレンオキシ）シロキ
サンなどがある。 （上記式中、ｎ＝６〜１０及びＲ′は炭素原子数１〜４
のアルキル基である。） （上記式中、ｍ＝２〜４、ｐ＝４〜１２、及びＲ″は炭
素原子数１〜４のアルキル基である。） 【００３５】その他に以下の式で示されるポリ（エチレ
ンオキシ）シロキサン、アルコキシポリ（エチレンオキ
シ）シロキサンがある。 【００３６】（式(1)〜(4)中、ｍ、ｎ、ｓはそれぞれ１
〜４０の整数を表し、ｏは１〜３０の整数、ｐは１〜３
０の整数、ｑは１〜３０の整数、ｒは１〜３０の整数を
表し、Ｒは水素原子又は炭素原子数１〜１５個の直鎖又
は分岐のアルキル基を表す。） 中でも好ましいものは、ポリ（エチレンオキシ）シロキ
サンである。本発明で使用するシリコーン系界面活性剤
は、カルボン酸基又はスルホン酸基を一部導入して変性
したものも包含する。 【００３７】上記のようなシリコーン系界面活性剤は、
市場において一般に入手することができ、市販品の例と
して、ＳＭ−５５１２(東レシリコーン製)、ＳＨ−２０
０（東レシリコーン製）、ＤＢ１１０Ｎ（ダウコーニン
グ製）、シリコーンＸ-20-250、Ｘ-20-308、Ｘ-20-35
2、Ｆ-260、Ｆ-239、Ｘ-22-351、Ｘ-22-945、Ｘ-22-94
4、Ｘ-20-307（信越化学製）などがある。シリコーン系
界面活性剤の分子量としては１００〜１００００が好ま
しく、５００〜５０００がより好ましく、１０００〜３
５００が最も好ましい。前記分子量が１００未満である
と、画像部に対する溶解抑止力を得ることができないこ
とがあり、１００００を超えると非画像部の現像性が低
下することがある。現像液にはシリコーン系界面活性剤
を１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いてもよ
い。現像液におけるシリコーン界面活性剤の含有量は、
０．００１〜１０．０質量％が適当であり、好ましくは
０．０１〜５．０質量％、より好ましくは０．１〜１．
０質量％である。０．００１質量％に満たないと現像ラ
チチュードを改良する効果が充分でなく、一方１０．０
質量％を超えると現像カスを発生する傾向がある。 【００３８】本発明で使用するアルカリ現像処理液は、
上記のとおり、ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩
基を含む現像液を用いるが、そのカチオン成分として従
来よりＬｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺、ＮＨ₄ ⁺が用いられ、中で
も、イオン半径の小さいカチオンを多く含有する系で
は、画像形成層への浸透性が高く現像性に優れる一方、
画像部まで溶解して画像欠陥を生ずる。従って、アルカ
リ濃度を上げるには、ある程度の限度があり、画像部に
欠陥を生ずることなく、且つ非画像部に画像形成層（残
膜）が残存しないように完全に処理するためには、微妙
な液性条件の設定が要求された。しかし、前記カチオン
成分として、そのイオン半径の大きいカチオンを用いる
ことにより、画像形成層中への現像液の浸透性を抑制す
ることができ、アルカリ濃度、即ち、現像性を低下させ
ることなく、画像部の溶解抑止効果をも向上させること
ができる。前記カチオン成分としては、上記アルカリ金
属カチオン及びアンモニウムイオンのほか、他のカチオ
ンも用いることができる。 【００３９】本発明で使用するアルカリ現像処理液中に
は、先に述べた以外の界面活性剤をさらに添加すること
ができる。界面活性剤としてはノニオン界面活性剤、ア
ニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面
活性剤が挙げられる。ノニオン界面活性剤としては、ポ
リオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、グ
リセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル
類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、 【００４０】しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチ
レングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪
酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、
ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、
脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒド
ロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキル
アミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシドなどが好適に挙げられる。 【００４１】アニオン界面活性剤としては、例えば脂肪
酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホ
ン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ
琥珀酸エステル塩類、αオレフィンスルホン酸塩類、直
鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸
塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピル
スルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフ
ェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリ
ンナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド
二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、
脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル硫酸エステル塩類、 【００４２】脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エス
テル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテ
ル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン
酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合
物類などが好適に挙げられる。 【００４３】カチオン性界面活性剤としては、例えばア
ルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド
等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などが
挙げられる。両性界面活性剤としては、例えばスルホベ
タイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類など
が挙げられる。以上の界面活性剤のうち、「ポリオキシ
エチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオ
キシプロピレン、ポリオキシブチレン等のポリオキシア
ルキレンに読み替えることもでき、それらもまた前記界
面活性剤に包含される。現像液中における上記の界面活
性剤濃度としては、０．００１〜１０．０質量％が好ま
しく、０．０１〜５．０質量％がより好ましく、０．１
〜１．０質量％が最も好ましい。 【００４４】アルカリ現像処理液には、さらに現像性能
を高める目的で、以下のような添加剤を加えることがで
きる。例えば特開昭５８−７５１５２号公報に記載のＮ
ａＣｌ、ＫＣｌ、ＫＢｒなどの中性塩、特開昭５８−１
９０９５２号公報に記載のＥＤＴＡ、ＮＴＡなどのキレ
ート剤、特開昭５９−１２１３３６号公報に記載の［Ｃ
ｏ（ＮＨ₃）₆］Ｃｌ₃、ＣｏＣｌ₂・６Ｈ₂Ｏなどの錯
体、特開昭５０−５１３２４号公報に記載のアルキルナ
フタレンスルホン酸ソーダ、ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ
-ジヒドロキシエチルベタインなどのアニオン又は両性
界面活性剤、米国特許第４，３７４，９２０号明細書に
記載のテトラメチルデシンジオールなどの非イオン性界
面活性剤、特開昭５５−９５９４６号公報に記載のｐ−
ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチルクロライド
４級化合物などのカチオニックポリマー、特開昭５６−
１４２５２８号公報に記載のビニルベンジルトリメチル
アンモニウムクロライドとアクリル酸ソーダとの共重合
体などの両性高分子電解質、特開昭５７−１９２９５１
号公報に記載の亜硫酸ソーダなどの還元性無機塩、特開
昭５８−５９４４４号公報に記載の塩化リチウムなどの
無機リチウム化合物、特開昭５９−７５２５５号公報に
記載の有機Ｓｉ、Ｔｉなどを含む有機金属界面活性剤、
特開昭５９−８４２４１号公報に記載の有機ホウ素化合
物、ＥＰ１０１０１０号明細書に記載のテトラアルキル
アンモニウムオキサイドなどの４級アンモニウム塩等が
挙げられる。また、現像液の表面張力としては、６５dy
ne/cm以下が好ましく、特には６０dyne/cm以下がより好
ましい。現像液の表面張力は例えば振動ジェット法にて
測定することができ、測定機器として自動・動的表面張
力計 JET型がある。 【００４５】本発明におけるアルカリ現像処理液の使用
態様は特に限定されるものではない。近年では、特に製
版・印刷業界において、製版作業の合理化及び標準化の
ため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられてい
る。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からな
り、印刷用版材を搬送する装置と各処理液槽とスプレー
装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しなが
ら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから
吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理
液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによ
って印刷用版材を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間などに応じて補充液を補充しながら処理
することができる。 【００４６】この場合、現像液よりもアルカリ強度の高
い水溶液を補充液として現像液中に加えることによっ
て、長時間現像タンク中に現像液を交換することなく多
量の画像形成材料を処理できる。本発明のアルカリ現像
処理液を使用するに際しても、この補充方式を採用する
ことが好ましい態様である。前記補充液としても、上記
に説明したアルカリ現像処理液を、現像用の現像液より
もアルカリ強度の高い水溶液として使用することができ
る。 【００４７】前記現像液及び現像液補充液には、現像性
の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて上記以外の種々の
界面活性剤や有機溶剤などを添加することもできる。界
面活性剤としては、上記のようにアニオン系、ノニオン
系、カチオン系又は両性界面活性剤から選ぶことがで
き、有機溶剤としてはベンジルアルコールなどが好まし
い。また、ポリエチレングリコールもしくはその誘導
体、又はポリプロピレングリコールもしくはその誘導体
などの添加も好ましい。さらに必要に応じて、ハイドロ
キノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水素酸のナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩などの無機塩系還元剤、有機
カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもでき
る。 【００４８】アルカリ現像処理液及び補充液を用いて現
像処理された平版印刷版は、水洗水や界面活性剤などを
含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不
感脂化液（ガム液）で後処理がなされる。この後処理に
は、これらの処理液を種々組み合わせて行うことができ
る。また、実質的に未使用の現像処理液で処理する、い
わゆる使い捨て処理方式とすることも可能である。 【００４９】次に本発明の製版方法に適用し得る平版印
刷版原版について説明する。赤外線感光性平版印刷版
は、支持体上に画像形成層を有し、さらに必要に応じて
他の層を有してなり、画像形成層は（Ａ）赤外線吸収染
料を含み、さらに（Ｂ１）カルボキシル基を有するアル
カリ可溶性高分子化合物、（Ｂ２）アルカリ可溶性樹
脂、（Ｃ）該（Ｂ１）及び（Ｂ２）のアルカリ可溶性高
分子化合物と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物
及び樹脂のアルカリ水溶液への溶解性を低下させるとと
もに、加熱により該溶解性低下作用が減少する化合物、
（Ｄ）環状酸無水物などを含有して構成される。また、
ネガ型の平版印刷版原版の場合には、露光部が硬化して
画像部となるため、画像形成層にさらに（Ｅ）熱により
酸を発生する化合物と、（Ｆ）酸により架橋する架橋剤
とを含有して構成される。以下に、各構成成分について
簡単に説明する。 【００５０】−（Ａ）赤外線吸収染料− 画像形成層に用いられる赤外線吸収染料は、赤外光を吸
収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線
吸収染料として知られる種々の染料を用いることができ
る。赤外線吸収染料としては、市販の染料又は文献（例
えば、「染料便覧」、有機合成化学協会編集、昭和４５
年刊）に記載の公知のものが挙げられ、例えば、アゾ染
料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキ
ノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シ
アニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属
チオレート錯体等の染料が挙げられる。これらの染料の
うち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外
光もしくは近赤外光を発光するレーザの利用に適する点
で特に好ましい。 【００５１】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する染料として、例えば、特開昭５８−１２５２４６
号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８
２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載のシアニン
染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８
１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載のメ
チン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−
２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５
９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭
６０−６３７４４号等に記載のナフトキノン染料、特開
昭５８−１１２７９２号等に記載のスクワリリウム色
素、英国特許４３４，８７５号明細書に記載のシアニン
染料、米国特許５，３８０，６３５号明細書に記載のジ
ヒドロペリミジンスクアリリウム染料等が好適に挙げら
れる。 【００５２】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、
米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換さ
れたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７
−１４２６４５（米国特許第４，３２７，１６９号明細
書）に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８
−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−
４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２
４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６
１号に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６
１４６号に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８
３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリウム
塩等、特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に
記載のピリリウム化合物、市販品としては、Epolight I
II-１７８、Epolight III-１３０、Epolight III-１２
５、Epolight IV−６２Ａ（エポリン社製）等も好まし
い。さらに、米国特許第4,756,993 号明細書に記載の式
（Ｉ）、（II）で表される近赤外線吸収染料も好適なも
のとして挙げることができる。上記のうち、シアニン色
素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオ
レート錯体がより好ましい。 【００５３】さらに具体的に、下記一般式（Ｚ）で表さ
れる化合物を挙げることができる。 【００５４】 【００５５】前記一般式（Ｚ）中、Ｒ²¹〜Ｒ²⁴は、それ
ぞれ独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭
素数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基を表し、Ｒ²¹と
Ｒ²²、Ｒ²³とＲ²⁴はそれぞれ結合して環構造を形成して
いてもよい。Ｒ²¹〜Ｒ²⁴としては、例えば、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよ
い。ここで、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。 【００５６】式中、Ｒ²⁵〜Ｒ³⁰は、それぞれ独立に置換
基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基を表
し、前記Ｒ²⁵〜Ｒ³⁰としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル
基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これら
の基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置
換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、
ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル
基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。 【００５７】式中、Ｒ³¹〜Ｒ³³は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
１〜８のアルキル基を表し、前記Ｒ³²は、前記Ｒ³¹又は
Ｒ³³と結合して環構造を形成していてもよく、ｍ＞２の
場合は、複数のＲ³²同士が結合して環構造を形成してい
てもよい。前記Ｒ³¹〜Ｒ³³としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、Ｒ³²同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。また、ｍは１〜８の整数を表し、中でも１〜３が好
ましい。 【００５８】式中、Ｒ³⁴〜Ｒ³⁵は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
１〜８のアルキル基を表し、前記Ｒ³⁴は、Ｒ³⁵と結合し
て環構造を形成していてもよく、ｍ＞２の場合は、複数
のＲ³⁴同士が結合して環構造を形成していてもよい。前
記Ｒ³⁴〜Ｒ³⁵としては、例えば、塩素原子、シクロヘキ
シル基、Ｒ³⁴同士が結合してなるシクロペンチル環、シ
クロヘキシル環等が挙げられ、これらの基は、さらに置
換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、例
えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリ
ル基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エス
テル、スルホン酸エステル等が挙げられる。また、ｍ
は、１〜８の整数を表し、中でも、１〜３が好ましい。 【００５９】式中、Ｘ^-は、アニオンを表し、例えば、
過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−Ｏ−トル
エンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベン
ゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−
クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スル
ホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイ
ル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等
が挙げられる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、２，５−ジメチルベンゼン
スルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。 【００６０】前記一般式（Ｚ）で表される化合物のなか
でも、具体的には、以下に示す化合物が好適に用いられ
るが、本発明においては、これらに限られるものではな
い。【００６１】上記のような赤外線吸収染料の含有量とし
ては、画像形成層の全固形分質量に対して0.０１〜５０
質量％が好ましく、0.１〜１０質量％がより好ましく、
さらに0.５〜１０質量％が最も好ましい。前記含有量が
0.０１質量％未満であると、感度が低くなることがあ
り、５０質量％を超えると、画像形成層の均一性が低下
し、その耐久性が劣化することがある。 【００６２】−（Ｂ１）カルボキシル基を有するアルカ
リ可溶性高分子化合物（以下「（Ｂ１）成分」というこ
ともある。） （Ｂ１）成分の高分子化合物としては、カルボキシル基
を有するアルカリ可溶性高分子化合物であれば何れでも
よいが、下記で定義される高分子化合物（ｂ１−１）、
（ｂ１−２）が好ましい。 （ｂ１−１）下記一般式（１）で表される重合性モノマ
ー単位を有するアルカリ可溶性高分子化合物（以下、高
分子化合物（ｂ１−１）ともいう） （式中、Ｘｍは単結合又は２価の連結基を、Ｙは水素又
はカルボキシル基を、Ｚは水素、アルキル基又はカルボ
キシル基を表す。） 一般式（１）で表される重合性モノマー単位を構成する
モノマーとして、カルボキシル基と、重合可能な不飽和
基を分子内にそれぞれ１以上有する重合性モノマーがあ
る。そのような重合性モノマーの具体例として、アクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸、無水イタコン酸等のα、β−不飽和カルボン
酸類を挙げることができる。 【００６３】上記カルボキシル基を有する重合性モノマ
ーと共重合させるモノマーとしては、例えば下記(1)〜
(11)が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。 (1)２−ヒドロキエチルアクリレート又は２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアク
リル酸エステル類、メタクリル酸エステル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アク
リル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベン
ジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアク
リレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等の
アルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ア
ミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロ
ロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルア
ミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 【００６４】(4)アクリルアミド、メタクリルアミド、
Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルア
ミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキ
シルアクリるアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルア
ミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニ
ルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリル
アミド等のアクリルアミド又はメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエ
ーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビ
ニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニル
エーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル
類。 (6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニ
ルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、
クロロメチルスチレン等のスチレン類。 【００６５】(8)メチルビニルケトン、エチルビニルケ
トン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等
のビニルケトン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、
４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル等。 (11)マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ
−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタク
リルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリル
アミド等の不飽和イミド。 【００６６】また、下記一般式（２）のモノマーも好ま
しく用いられる。 式中、ＸはＯ、Ｓ、又はＮ−Ｒ¹²を表す。Ｒ¹⁰〜Ｒ
¹²は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
ｍ、ｎ、ｏは、各々独立に、２から５の整数を表し、Ｃ
_mＨ_2m、Ｃ_nＨ_2n、Ｃ_oＨ_2oは、各々、直鎖でも分岐構造
でもよい。ｐ、ｑ、ｒは各々独立に、０から３，０００
の整数を表し、ｐ＋ｑ＋ｒ≧２である。 【００６７】Ｒ¹⁰〜Ｒ¹²におけるアルキル基としては、
炭素原子数１〜１２のものが好ましく、具体的には、メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基な
どが挙げられる。ｐ、ｑ、ｒは好ましくは０から５００
の整数を表し、更に好ましくは０から１００の整数を表
す。上記一般式(２)で表される繰り返し単位に相当する
モノマーの例を以下に挙げるが、この限りではない。 【００６８】 【化１】【００６９】 【化２】 【００７０】上記一般式(２)で表される繰り返し単位
は、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、
例えば商品名プルロニック（Pluronic（旭電化工業
（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）
製）、カルボワックス（Carbowax（グリコ・プロダク
ス））、トリトン（Toriton（ローム・アンド・ハース
（Rohm and Haas製）、およびP.E.G（第一工業製薬
（株）製）として販売されているものを公知の方法でア
クリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリ
ルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによ
って製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オ
キシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもでき
る。 【００７１】市販品のモノマーとしては、日本油脂株式
会社製の水酸基末端ポリアルキレングリコールモノ（メ
タ）アクリレートとしてブレンマーPE-90、ブレンマーP
E-200、ブレンマーPE-350、ブレンマーAE-90、ブレンマ
ーAE-200、ブレンマーAE-400、ブレンマーPP-1000、ブ
レンマーPP-500、ブレンマーPP-800、ブレンマーAP-15
0、ブレンマーAP-400、ブレンマーAP-550、ブレンマーA
P-800、ブレンマー50PEP-300、ブレンマー70PEP-350B、
ブレンマーAEPシリーズ、ブレンマー55PET−400、ブレ
ンマー30PET-800、ブレンマー55PET-800、ブレンマーAE
Tシリーズ、ブレンマー30PPT-800、ブレンマー50PPT-80
0、ブレンマー70PPT-800、ブレンマーAPTシリーズ、ブ
レンマー10PPB-500B、ブレンマー10APB-500Bなどが挙げ
られる。同様に日本油脂株式会社製のアルキル末端ポリ
アルキレングリコールモノ（メタ）アクリレートとして
ブレンマーPME-100、ブレンマーPME-200、ブレンマーPM
E-400、ブレンマーPME-1000、ブレンマーPME-4000、ブ
レンマーAME-400、ブレンマー50POEP-800B、ブレンマー
50AOEP-800B、ブレンマーPLE-200、ブレンマーALE-20
0、ブレンマーALE-800、ブレンマーPSE-400、ブレンマ
ーPSE-1300、ブレンマーASEPシリーズ、ブレンマーPKEP
シリーズ、ブレンマーAKEPシリーズ、ブレンマーANE-30
0、ブレンマーANE-1300、ブレンマーPNEPシリーズ、ブ
レンマーPNPEシリーズ、ブレンマー43ANEP-500、ブレン
マー70ANEP-550など、また共栄社化学株式会社製ライト
エステルMC、ライトエステル130MA、ライトエステル041
MA、ライトアクリレートBO-A、ライトアクリレートEC-
A、ライトアクリレートMTG-A、ライトアクリレート130
A、ライトアクリレートDPM-A、ライトアクリレートP-20
0A、ライトアクリレートNP-4EA、ライトアクリレートNP
-8EAなどが挙げられる。 【００７２】高分子化合物（ｂ１−１）におけるカルボ
キシル基と、重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ
１以上有する重合性モノマー成分を有する最小構成単位
は、特に１種類のみである必要はなく、同一の酸性基を
有する最小構成単位を２種以上、または異なる酸性基を
有する最小構成単位を２種以上共重合させたものを用い
ることもできる。共重合の方法としては、従来知られて
いるグラフト共重合、ブロック共重合、ランダム共重合
法などを用いることができる。 【００７３】（ｂ１−２）カルボキシル基を有する下記
一般式（３）、（４）または（５）で表されるジオール
化合物と下記一般式（８）で表されるジイソシアネート
化合物との反応生成物を基本骨格とするカルボキシル基
を有するアルカリ可溶性高分子化合物（以下、高分子化
合物（ｂ１−２）ともいう。） 【００７４】 上記式中、Ｒ¹³は水素原子、置換基（例えばアルキル、
アリール、アルコキシ、エステル、ウレタン、アミド、
ウレイド、ハロゲノの各基が好ましい。）を有していて
もよいアルキル、アルケニル、アラルキル、アリール、
アルコキシ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原
子、炭素原子数１〜８個のアルキル基もしくは炭素原子
数２〜８のアルケニル基、炭素原子数６〜１５個のアリ
ール基を示す。Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶はそれぞれ同一でも相
異していてもよい、単結合、置換基（例えばアルキル、
アルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ及びハ
ロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい二価の
脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。好ましくは炭素原子
数１〜２０のアルキレン基、炭素原子数６〜１５のアリ
ーレン基、更に好ましくは炭素原子数１〜８個のアルキ
レン基を示す。また、必要に応じ、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶中
にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエ
ステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基、炭素−
炭素不飽和結合を有していてもよい。なお、Ｒ¹³、
Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶のうちの２又は３個で環を構成しても
よい。Ａｒは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭
化水素を示し、好ましくは炭素原子数６〜１５個の芳香
族基を示す。 【００７５】ＯＣＮ−Ｒ¹⁸−ＮＣＯ (８) 式中、Ｒ¹⁸は置換基（例えばアルキル、アルケニル、ア
ラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好
ましい。）を有していてもよい二価の脂肪族又は芳香族
炭化水素を示す。必要に応じ、Ｒ¹⁸中にイソシアネート
基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタ
ン、アミド、ウレイド基、炭素−炭素不飽和結合を有し
ていてもよい。 【００７６】一般式(３)、（４）又は（５）で示される
カルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的
には以下に示すものが含まれる。即ち、３，５−ジヒド
ロキシ安息香酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プ
ロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）プ
ロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）
プロピオン酸、ビス（ヒドロキシメチル）酢酸、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）酢酸、４，４−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、酒石酸、Ｎ，Ｎ−ビ
ス（２−ヒドロキシエチル）−３−カルボキシ−プロピ
オンアミドなどが挙げられる。 【００７７】該（ｂ１−２）のカルボキシル基を有する
アルカリ可溶性高分子化合物は、下記一般式（６）又は
（７）で表されるジオールを組み合わせた反応生成物で
あると好ましい。 式中、Ｒ¹⁷はそれぞれ水素原子又は炭素原子数１〜８の
アルキル基を示し、ｎは２以上の整数を示す。Ｒ¹⁷にお
ける炭素原子数１〜８のアルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチ
ル基などが挙げられる。以下に、上記一般式（６）又は
（７）で表されるジオールの具体例を示すが、本発明は
これらに限定されるものではない。 【００７８】式（６）の具体例 HO-(-CH₂CH₂O-)₃-H HO-(-CH₂CH₂O-)₄-H HO-(-CH₂CH₂O-)₅-H HO-(-CH₂CH₂O-)₆-H HO-(-CH₂CH₂O-)₇-H HO-(-CH₂CH₂O-)₈-H HO-(-CH₂CH₂O-)₁₀-H HO-(-CH₂CH₂O-)₁₂-H ポリエチレングリコール（平均分子量1000） ポリエチレングリコール（平均分子量2000） ポリエチレングリコール（平均分子量4000） HO-(-CH₂CH(CH₃)O-)₃-H HO-(-CH₂CH(CH₃)O-)₄-H HO-(-CH₂CH(CH₃)O-)₆-H ポリプロピレングリコール（平均分子量1000） ポリプロピレングリコール（平均分子量2000） ポリプロピレングリコール（平均分子量4000） 【００７９】式（７）の具体例 HO-(-CH₂CH₂CH₂O-)₃-H HO-(-CH₂CH₂CH₂O-)₄-H HO-(-CH₂CH₂CH₂O-)₈-H HO-(-CH₂CH₂CH(CH₃)O-)₁₂-H 【００８０】一般式(８)で示されるジイソシアネート化
合物として、具体的には以下に示すものが含まれる。す
なわち、２，４−トリレンジイソシアネート、２，４−
トリレンジイソシアネートの二量体、２，６−トリレン
ジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、
ｍ−キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソ
シアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’
−ジイソシアネートなどの如き芳香族ジイソシアネート
化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチル
ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネ
ート、ダイマー酸ジイソシアネートなどの如き脂肪族ジ
イソシアネート化合物、イソホロンジイソシアネート、
４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト）、メチルシクロヘキサン−２，４（又は２，６）−
ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチル）
シクロヘキサンなどの如き脂肪族ジイソシアネート化合
物；１，３−ブチレングリコール１モルとトリレンジイ
ソシアネート２モルとの付加体などの如きジオールとジ
イソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合
物などが挙げられる。 【００８１】高分子化合物（ｂ１−２）の合成に使用す
るジイソシアネート及びジオール化合物のモル比は好ま
しくは０．８：１〜１．２〜１であり、ポリマー末端に
イソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はア
ミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネー
ト基が残存しない形で合成される。 【００８２】（Ｂ１）成分として、上記の高分子化合物
（ｂ１−１）及び（ｂ１−２）から１種単独を使用して
もよいし、また２種以上を併用してもよい。（Ｂ１）成
分中に含有されるカルボキシル基を有する繰り返し単位
の含有量は、該（Ｂ１）成分の各単量体の総量に基づい
て２モル％以上であり、好ましくは２〜７０モル％であ
り、より好ましくは５〜６０モル％の範囲である。（Ｂ
１）成分の好ましい重量平均分子量は、３０００〜３０
０，０００が好ましく、６，０００〜１００，０００が
より好ましい。 【００８３】さらに、（Ｂ１）成分の好ましい添加量
は、画像形成層の全固形分質量に対して０．００５〜８
０質量％の範囲であり、好ましくは０．０１〜５０質量
％の範囲であり、更に好ましくは１〜２０質量％の範囲
である。（Ｂ１）成分の添加量が０．０００５質量％未
満では効果が不充分であり、また８０質量％より多くな
ると、塗膜の乾燥が十分に行なわれなくなったり、感光
材料としての性能（例えば感度）に悪影響を及ぼす。 【００８４】−(Ｂ２)アルカリ可溶性樹脂− 使用可能なアルカリ可溶性樹脂（以下、「(Ｂ２）成
分」ということがある。）としては、下記（１）〜
（３）の酸性基を主鎖及び／又は側鎖の構造中に有する
アルカリ水可溶性の高分子化合物を用いることができ
る。 （１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ） （２）スルホンアミド基（−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ） （３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド
基」という。） 〔−ＳＯ₂ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂Ｒ、−ＣＯＮ
ＨＳＯ₂Ｒ〕 前記（１）〜（３）中、Ａｒは置換基を有していてもよ
い２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置換基を有して
いてもよい炭化水素基を表す。以下に、その具体例を示
すが、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。 【００８５】（１）フェノール基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、フェノールとホルム
アルデヒドとの縮重合体、ｍ−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムア
ルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール（ｍ
−、ｐ−又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい。）とホ
ルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂又はピ
ロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができ
る。さらに、フェノール基を側鎖に有するモノマーを重
合させた高分子化合物を挙げることもできる。 【００８６】側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽
和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる
重合性モノマーを単独重合、或いは、該重合性モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。フェノール基を側鎖に有するモノマ
ーとしては、フェノール基を側鎖に有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。 【００８７】具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリ
レート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタク
リレート等を好適に挙げることができる。 【００８８】前記フェノール基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物の重量平均分子量としては、５．０×１０
²〜２．０×１０⁵のものが、数平均分子量としては、
２．０×１０²〜１．０×１０⁵のものが、画像形成性の
点で好ましい。また、フェノール基を有するアルカリ可
溶性高分子化合物は、単独での使用のみならず、２種類
以上を組合わせて使用してもよい。組合わせる場合に
は、米国特許第４１２３２７９号明細書に記載されてい
るような、ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒドと
の縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体のような、炭素数３〜８のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体を併用してもよい。これらの縮重合体も、重量平
均分子量が５．０×１０²〜２．０×１０⁵のもの、数平
均分子量が２．０×１０²〜１．０×１０⁵のものが好ま
しい。 【００８９】（２）スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド
基を有する化合物を主たるモノマー構成単位とする重合
体、即ち、単独重合体又は前記モノマー構成単位に他の
重合性モノマーを共重合させた共重合体を挙げることが
できる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとし
ては、１分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基−ＳＯ₂−ＮＨ−と、
重合可能な不飽和結合とを、それぞれ１以上有する低分
子化合物からなるモノマーが挙げられる。中でも、アク
リロイル基、アリル基又はビニロキシ基と、置換或いは
モノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ
基と、を有する低分子化合物が好ましい。前記低分子化
合物としては、例えば、下記一般式（ａ）〜（ｅ）で表
される化合物が挙げられるが、本発明においては、これ
らに限定されるものではない。 【００９０】【００９１】式中、Ｘ¹、Ｘ²は、それぞれ独立に酸素原
子又はＮＲ⁷を表す。Ｒ¹、Ｒ⁴は、それぞれ独立に水素
原子又はＣＨ₃を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹²、Ｒ¹⁶は、
それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１
２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基
又はアラルキレン基を表す。Ｒ³、Ｒ⁷、Ｒ¹³は、それぞ
れ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又
はアラルキル基を表す。また、Ｒ⁶、Ｒ¹⁷は、それぞれ
独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基
を表す。Ｒ⁸、Ｒ¹⁰、Ｒ¹⁴は、それぞれ独立に水素原子
又はＣＨ₃を表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹⁵は、それぞれ独立に単結
合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアル
キレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラ
ルキレン基を表す。Ｙ¹、Ｙ²はそれぞれ独立に単結合又
はＣＯを表す。 【００９２】中でもｍ−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。 【００９３】（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有す
る化合物を主たるモノマー構成単位とする重合体を挙げ
ることができる。活性イミド基を有する化合物を主たる
モノマー構成単位とする重合体としては、１分子中に、
下記式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和結
合とをそれぞれ１以上有する低分子化合物からなるモノ
マーを単独重合、或いは、該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げること
ができる。 【００９４】 【００９５】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に挙げることができる。さらに、上記のほか、前記フェ
ノール基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を
有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合
性モノマーのうちのいずれか２種類以上を重合させた高
分子化合物、或いは、これら２種以上の重合性モノマー
にさらに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高
分子化合物も好適に挙げられる。 【００９６】フェノール基を有する重合性モノマー（Ｍ
１）に、スルホンアミド基を有する重合性モノマー（Ｍ
２）及び／又は活性イミド基を有する重合性モノマー
（Ｍ３）を共重合させる場合の配合比（Ｍ１：Ｍ２及び
／又はＭ３；質量比）としては、５０：５０〜５：９５
が好ましく、４０：６０〜１０：９０がより好ましい。 【００９７】アルカリ可溶性樹脂が、前記酸性基（１）
〜（３）より選ばれるいずれかを有するモノマー構成単
位と、他の重合性モノマーの構成単位とから構成される
共重合体である場合、該共重合体中に、前記酸性基
（１）〜（３）より選ばれるいずれかを有するモノマー
構成単位を１０モル％以上含むことが好ましく、２０モ
ル％以上含むことがより好ましい。前記モノマー構成単
位の含有量が、１０モル％未満であると、十分なアルカ
リ可溶性が得られずに、現像ラチチュードが狭くなるこ
とがある。前記共重合体の合成方法としては、従来より
公知のグラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム
共重合法等を用いることができる。 【００９８】前記酸性基（１）〜（３）より選ばれるい
ずれかを有するモノマーを構成単位とする重合性モノマ
ーと共重合させる他の重合性モノマーとしては、例え
ば、下記（ａ）〜（１）に挙げるモノマーを挙げること
ができるが、本発明においては、これらに限定されるも
のではない。 【００９９】（ａ）２−ヒドロキエチルアクリレート又
は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類。 （ｂ）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 （ｃ）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 【０１００】（ｄ）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルアクリるアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミド、又はメタクリルアミ
ド。 （ｅ）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 （ｆ）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 （ｇ）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 【０１０１】（ｈ）メチルビニルケトン、エチルビニル
ケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン
等のビニルケトン類。 （ｉ）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 （ｊ）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 （ｋ）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、
Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタ
クリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリ
ルアミド等の不飽和イミド。 （ｌ）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。 【０１０２】前記アルカリ可溶性樹脂としては、単独重
合体、共重合体に関わらず、膜強度の点で、重量平均分
子量が２０００以上、数平均分子量が５００以上のもの
が好ましく、重量平均分子量が５０００〜３００００
０、数平均分子量が８００〜２５００００であり、分散
度（重量平均分子量／数平均分子量）が１．.１〜１０
のものがより好ましい。また、前記アルカリ可溶性樹脂
が、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−
アルデヒド樹脂等である場合には、重量平均分子量が５
００〜２００００であって、数平均分子量が２００〜１
００００のものが好ましい。 【０１０３】前記アルカリ可溶性樹脂の含有量として
は、画像形成層の全固形分質量に対して３０〜９９質量
％が好ましく、４０〜９５質量％がより好ましく、５０
〜９０質量％が最も好ましい。前記含有量が、３０質量
％未満であると、画像形成層の耐久性が低下することが
あり、９９質量％を越えると、感度、耐久性が低下する
ことがある。また、前記アルカリ可溶性樹脂は、１種類
のみを用いても、２種類以上を組合わせて用いてもよ
い。 【０１０４】−（Ｃ）前記カルボキシル基を含有するア
ルカリ可溶性高分子化合物及び前記アルカリ可溶性樹脂
と相溶させて該高分子化合物及び該樹脂のアルカリ水溶
液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解
性低下作用が減少する化合物−この（Ｃ）成分は、分子
内に存在する水素結合性の官能基の働きにより、前記
（Ｂ１）及び（Ｂ２）成分との相溶性が良好であり、均
一な画像形成層用塗布液を形成しうるとともに、該（Ｂ
１）及び（Ｂ２）成分との相互作用により、該（Ｂ１）
及び（Ｂ２）成分のアルカリ可溶性を抑制する機能（溶
解性抑制作用）を有する化合物を指す。 【０１０５】また、加熱により（Ｂ１）及び（Ｂ２）成
分に対する前記溶解性抑制作用は消滅するが、赤外線吸
収剤自体が加熱により分解する化合物である場合には、
分解に十分なエネルギーが、レーザー出力や照射時間等
の諸条件により付与されないと、（Ｂ１）及び（Ｂ２）
成分の溶解性抑制作用を十分に低下させることができ
ず、感度が低下するおそれがある。このため、（Ｃ）成
分の熱分解温度としては、１５０℃以上が好ましい。 【０１０６】（Ｃ）成分としては、前記（Ｂ１）及び
（Ｂ２）成分との相互作用を考慮して、例えば、スルホ
ン化合物、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、アミド化
合物等の、前記アルカリ可溶性高分子化合物と相互作用
しうる化合物の中から適宜選択することができる。
（Ｃ）成分と前記（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分との配
合比（Ｃ／（Ｂ１＋Ｂ２）質量比）としては、一般に１
／９９〜２５／７５が好ましい。なお、上記の（Ａ）赤
外線吸収染料で説明した一般式（Ｚ）で表される化合物
は（Ｃ）成分の作用も有するので、例えば一般式（Ｚ）
で示されるようなシアニン染料を使用することで（Ａ）
成分と（Ｃ）成分の双方の作用を発揮させることができ
る。 【０１０７】−（Ｄ）環状酸無水物− 画像形成層中には、さらに環状酸無水物を使用してもよ
い。該環状酸無水物は、その構造内にカルボン酸無水物
のカルボニル基と共役する結合を有し、そのカルボニル
基の安定性を増すことで分解速度を制御し、保存経時に
おいて適当な速度で分解して酸を発生する。そのため、
保存経時での現像性劣化を抑え、現像性を長期間安定に
維持しうる。前記環状酸無水物としては、下記一般式
（９）又は（10）で表される化合物が挙げられる。 【０１０８】【０１０９】一般式（９）中、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²はそれぞれ独
立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子
数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基、カルボニル基、カ
ルボキシ基もしくはカルボン酸エステルを表す。なお、
Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²は互いに連結して環構造を形成してもよい。
前記Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²としては、例えば水素原子、又は炭素原
子数１〜１２の無置換のアルキル基、アリール基、アル
ケニル基、シクロアルキル基などが好適に挙げられ、具
体的には水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、
ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基などが挙げられ、これらの基は、さらに置換
基を有していてもよい。Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²が互いに連結して環
構造を形成する場合、その環状基としては、例えばフェ
ニレン基、ナフチレン基、シクロヘキセン基、シクロペ
ンテン基などが挙げられる。前記置換基としては、例え
ばハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボニル基、スルホ
ン酸エステル、ニトロ基、ニトリル基などが挙げられ
る。 【０１１０】一般式（10）中、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶
は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、塩素など
のハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、又は置換基を
有していてもよい炭素年始数１〜１２のアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アリー
ル基、カルボニル基、カルボキシ基もしくはカルボン酸
エステル基などを表す。前記Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶と
しては、例えば水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１
〜１２の無置換のアルキル基、アルケニル基、炭素原子
数６〜１２のアリール基などが好適に挙げられ、具体的
にはメチル基、ビニル基、フェニル基、アリル基などが
挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していても
よい。前記置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、カルボニル基、スルホン酸エステル、ニトロ
基、ニトリル基、カルボキシ基などが挙げられる。 【０１１１】環状酸無水物として、例えば無水フタル
酸、３，４，５，６−テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−Δ⁴−
テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル
酸、３−ヒドロキシ無水フタル酸、３−メチル無水フタ
ル酸、３−フェニル無水フタル酸、無水トリメリット
酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、フェニル無
水マレイン酸、ジメチル無水マレイン酸、ジクロロ無水
マレイン酸、クロロ無水マレイン酸、無水コハク酸、な
どが好適に挙げられる。環状酸無水物の含有量として
は、画像形成層の全固形分含量に対して０．５〜２０質
量％が好ましく、１〜１５質量％がより好ましく、１〜
１０質量％が最も好ましい。前記含有量が０．５質量％
未満であると現像性の維持効果が不十分となることがあ
り、２０質量％を超えると画像を形成できないことがあ
る。 【０１１２】以下は、ネガ型平版印刷版の記録層を構成
する成分である。 −（Ｅ）熱により酸を発生する化合物− 画像形成材料がネガ型の場合、加熱時に酸を発生する化
合物（以下、「酸発生剤」という。）を併用する。この
酸発生剤は、１００℃以上に加熱することにより分解し
て酸を発生する化合物を増す。発生する酸としては、ス
ルホン酸、塩酸等の pＫa が２以下の強酸であることが
好ましい。前記酸発生剤としては、ヨードニウム塩、ス
ルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオ
ニウム塩を好適に挙げることができる。具体的には、米
国特許４，７０８，９２５号や特開平７−２０６２９号
に記載の化合物を挙げることができ、中でも、スルホン
酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウ
ム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。 【０１１３】前記ジアゾニウム塩としては、米国特許第
３，８６７，１４７号に記載のジアゾニウム塩化合物、
米国特許第２，６３２，７０３号明細書に記載のジアゾ
ニウム化合物、特開平１−１０２４５６号、特開平１−
１０２４５７号の各公報に記載のジアゾ樹脂も好適に挙
げることができる。また、米国特許第５，１３５，８３
８号、米国特許第５，２００，５４４号に記載のベンジ
ルスルホナート類、特開平２−１０００５４号、特開平
２−１０００５５号、特開平８−９４４４号に記載の活
性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。その他特開平７−２７１０２９号に記載の、ハロア
ルキル置換されたＳ−トリアジン類も好ましい。前記酸
発生剤の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に
対し0.０１〜５０質量％が好ましく、0.１〜４０質量％
がより好ましく、0.５〜３０質量％が最も好ましい。 【０１１４】−（Ｆ）酸により架橋する架橋剤− 平版印刷版原版がネガ型である場合、酸により架橋する
架橋剤（以下、単に「架橋剤」という場合がある。）を
併用する。前記架橋剤としては、以下のものを挙げるこ
とができる。 （ｉ）アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置
換された芳香族化合物 （ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル
基又はＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 さらに、特開平１１−２５４８５０号公報に記載のもの
やフェノール誘導体等も挙げることができる。 【０１１５】前記架橋剤の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し５〜８０質量％が好ましく、１０
〜７５質量％がより好ましく、２０〜７０質量％が最も
好ましい。前記フェノール誘導体を架橋剤として使用す
る場合、該フェノール誘導体の添加量としては、画像形
成材料の全固形分質量に対し５〜７０質量％が好まし
く、１０〜５０質量％がより好ましい。上記の各種化合
物の詳細については、特開２０００−２６７２６５号公
報に記載されている。 【０１１６】−その他の成分− アルカリ現像処理液を適用するのに好適な平版印刷版原
版の画像形成層には、必要に応じて、さらに種々の添加
剤を添加することができる。例えば、感度を向上させる
目的で、フェノール類、有機酸類、スルホニル化合物類
等の公知の添加剤を併用することもできる。フェノール
類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノー
ル、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，
４′，４″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，
４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，
５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。 【０１１７】前記有機酸類としては、、特開昭６０−８
８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記
載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキ
ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカル
ボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスル
フィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安
息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、
３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、４−シクロヘキセン−２，２−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。スルホニル化合物類としては、例え
ばビスヒドロキシフェニルスルホン、メチルフェニルス
ルホン、ジフェニルジスルホンなどが挙げられる。前記
のフェノール類、有機酸類又はスルホニル化合物類の添
加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し、０．
０５〜２０質量％が好ましく、０．１〜１５質量％がよ
り好ましく、０．１〜１０質量％が最も好ましい。 【０１１８】また、現像条件に対する処理性の安定性を
拡げる目的で、特開昭６２−２５１７４０号公報、特開
平３−２０８５１４号公報等に記載の非イオン界面活性
剤、特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４
９号公報等に記載の両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７
号公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特
開平１１−２８８０９３号公報に記載されているような
フッ素含有のモノマー共重合体を添加することができ
る。非イオン界面活性剤としては、例えばソルビタント
リステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビ
タントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げられ
る。両性界面活性剤としては、例えばアルキルジ（アミ
ノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシ
ン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テト
ラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば商品名：アモー
ゲンＫ、第１工業（株）製）などが挙げられる。シロキ
サン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアル
キレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例
として（株）チッソ社製、ＤＢＥ−２２４、ＤＢＥ−６
２１、ＤＢＥ−７１２、ＤＢＰ−７３２、ＤＢＰ−５３
４、独Ｔｅｇｏ社製、Tego Glide 100等のポリアルキレ
ンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。前記
非イオン界面活性剤又は両性界面活性剤の使用量として
は、画像形成層の全固形分質量に対し、０．０５〜１５
質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。 【０１１９】前記画像形成層には、露光による加熱後、
直ちに可視像を得るための焼き出し剤や画像着色剤とし
ての染料や顔料を加えることができる。前記焼き出し剤
としては、例えば、露光による加熱によって酸を発生す
る化合物と塩を形成しうる有機染料との組合せが挙げら
れる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、特開昭
５３−８１２８号の各公報に記載の、ｏ−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染
料との組合せ、特開昭５３−３６２２３号、特開昭５４
−７４７２８号、特開昭６０−３６２６号、特開昭６１
−１４３７４８号、特開昭６１−１５１６４４号及び特
開昭６３−５８４４０号の各公報に記載の、トリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せ、が挙げられ
る。前記トリハロメチル化合物として、オキサゾール系
化合物とトリアジン系化合物があり、いずれも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。前記画像着色
剤としては、例えば、前記塩形成性有機染料以外に、他
の染料を用いることができ、例えば、油溶性染料、塩基
性染料が好適に挙げられる。 【０１２０】具体的には、オイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業
（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイ
オレット（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、メチルバイオレット
（Ｃ．Ｉ．４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（Ｃ．Ｉ．１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（Ｃ．Ｉ．４２０００）、メチレンブルー（Ｃ．Ｉ．
５２０１５）等を挙げることができる。また、特開昭６
２−２９３２４７号公報に記載の染料は、特に好まし
い。前記各種染料の添加量としては、画像形成層の全固
形分質量に対し、０．０１〜１０質量％が好ましく、
０．１〜３質量％がより好ましい。 【０１２１】また、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等
を付与する目的で、可塑剤を添加することができる。可
塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマーな
どが挙げられる。 【０１２２】さらに必要に応じて、以下の種々添加剤を
添加することができる。例えば、オニウム塩、ｏ−キノ
ンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スル
ホン酸エステル化合物等の、熱分解性で、未分解状態で
はアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低
下させる化合物を併用することができる。該化合物の添
加は、画像部の現像液への溶解阻止能の向上を図る点で
好ましい。前記オニウム塩としては、例えばジアゾニウ
ム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
などが挙げられる。中でも、例えばS.I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974), T.S.Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), 特開昭５−１５８２３０号
公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，
０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１４０
１４０号に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C. S. Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988)、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，
０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、J. V. Criv
elloet et al. Macromolecules, 10(6), 1307 (1977)、
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p.31 (1988)、欧州特許
第１０４，１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同
第４１０，２０１号、特開平２−１５０８４８号、特開
平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、 【０１２３】J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985)、J. V. Crivello et al, J.Org. Chem., 43,
3055 (1978)、W. R, Watt et al, J. Polymer Sci., Po
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984)、J. V. Crivello et
al, Polymer bull., 14, 279 (1985)、J. V. Crivello
et al, Macromolecules, 14(5), 1141 (1981), J.V.Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), 欧州特許第３７０，６９３号、同２
３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４
２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０
２，１１４号、同４１０，２０１号、同３９９，０４９
号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４
号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，
６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５
８１号に記載のスルホニウム塩、 【０１２４】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10(6), 1307 (1977), J.V. Crivelloet al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979)に記載の
セレノニウム塩、C. S. Wen et al, The Proc. Conf. R
ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988)に記載の
アルソニウム塩などが挙げられる。上記のうち、ジアゾ
ニウム塩が好ましく、中でも、特開平５−１５８２３０
号公報に記載のものがより好ましい。 【０１２５】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５
−スルホサチリル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２
−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスル
ホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸などを挙げることが
できる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸などのアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。 【０１２６】前記ｏ−キノンジアジド化合物としては、
少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物
で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものが挙げら
れ、種々の構造の化合物を用いることができる。前記ｏ
−キノンジアジドは、熱分解により結着剤の溶解抑制能
を喪失し、且つｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶
性の物質に変化する、両効果により平版印刷版原版の溶
解性を助ける。 【０１２７】上記のようなｏ−キノンジアジド化合物と
しては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティ
ブ・システムズ」（John Wiley & Sons. Inc.）第３３
９〜３５２頁に記載の化合物が使用可能であるが、中で
も、種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物又は芳香族アミ
ノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸
エステル又はスルホン酸アミドが好ましい。また、特開
昭４３−２８４０３号公報に記載の、ベンゾキノン
（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又は、米国
特許第３，０４６，１２０号、同第３，１８８，２１０
号に記載のベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホ
ン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジ
ド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂とのエステルも好ましい。 【０１２８】さらに、ナフトキノン−（１，２）−ジア
ジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも好ましい。その他、例えば特開昭４
７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４
８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭
４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公
昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公
昭４９−１７４８１号、米国特許第２，７９７，２１３
号、同ぢ３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２
３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４
９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２
２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，
２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、同第
１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４、８９０号
などに記載のものも有用である。これらの化合物は単独
でも、数種を組み合わせて混合物として使用してもよ
い。前記オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香
族スルホン酸エステル等の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し、０．１〜５０質量％が好まし
く、０．５〜３０質量％がより好ましく、０．５〜２０
質量％が最も好ましい。 【０１２９】その他、画像のディスクリミネーションの
強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特
開２０００−１８７３１８号公報に記載されているよう
な、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基
を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合
成分とする重合体を併用することが好ましい。添加量と
しては画像形成層の全固形分質量に対し、０．１〜１０
質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％で
ある。また、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表
面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもで
きる。具体的には、米国特許第６１１７９１３号明細書
に開示されているような長鎖アルキルカルボン酸のエス
テルなどを挙げることができる。その添加量として好ま
しいのは、画像形成層の全固形分質量に対し０．１〜１
０質量％であり、より好ましくは０．５〜５質量％であ
る。また、画像形成層の溶解性を調節する目的で種々の
溶解抑制剤を含んでもよい。溶解抑制剤としては、特開
平１１−１１９４１８号公報に記載されるようなジスル
ホン化合物又はスルホン化合物が好適に用いられ、具体
例として4,4'-ビスヒドロキシフェニルスルホンを用い
ることが好ましい。その添加量として好ましいのは、画
像形成層の全固形分質量に対し０．０５〜２０質量％で
あり、より好ましくは０．５〜１０質量％である。 【０１３０】本発明の製版方法を適用し得る平版印刷版
原版の具体例として、特願２０００−３７８５０７号に
開示されるような画像形成層を２層構造のポジ型感熱層
とした平版印刷版原版も挙げられる。即ちこのポジ型感
熱層は積層構造を有し、表面（露光面）に近い位置に設
けられている感熱層と、支持体に近い側に設けられてい
るアルカリ可溶性樹脂、アルカリ可溶性高分子化合物を
含有する下層とを有することを特徴とする。該感熱層と
下層の双方に或いは一方に、上述してきた（Ａ）赤外線
吸収染料、（Ｂ１）カルボキシル基を有するアルカリ可
溶性高分子化合物、（Ｂ２）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｃ）該（Ｂ１）及び（Ｂ２）のアルカリ可溶性高分子
化合物と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のア
ルカリ水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱に
より該溶解性低下作用が減少する化合物、その他の成分
などを含有させることができる。下層で用いられるアル
カリ可溶性樹脂としては、アクリル樹脂が、緩衝作用を
有する有機化合物と塩基とを主成分とするアルカリ現像
液に対して下層の溶解性を良好に保持し得るため、現像
時の画像形成の観点から好ましい。さらにこのアクリル
樹脂としてスルホアミド基を有するものが特に好まし
い。また、感熱層で用いられるアルカリ可溶性樹脂とし
ては、未露光部では強い水素結合性を生起し、露光部に
おいては、一部の水素結合が容易に解除される点などか
らフェノール性水酸基を有する樹脂が望ましい。更に好
ましくはノボラック樹脂である。赤外線吸収染料は、感
熱層のみならず、下層にも添加することができる。下層
に赤外線吸収染料を添加することで下層も感熱層として
機能させることができる。下層に赤外線吸収染料を添加
する場合には、上部の感熱層におけるのと互いに同じ物
を用いてもよく、また異なる物を用いてもよい。その他
の添加剤は下層のみに含有させてもよいし、感熱層のみ
に含有させてもよく、更に両方の層に含有させてもよ
い。 【０１３１】平版印刷版原版の画像形成層（上記２層構
造も含む）は、上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支
持体上に塗布することができる。溶媒として、例えばエ
チレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチル
ケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２
−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−
メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチル
ウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、α−ブチロラクトン、トルエンなどが
挙げられるが、これらに限定されるものではない。前記
溶媒は単独でも２種以上を混合してもよい。 【０１３２】画像形成層を２層構造とする場合、感熱層
に用いるアルカリ可溶性樹脂と下層に用いるアルカリ可
溶性樹脂に対して溶解性の異なるものを選ぶことが好ま
しい。つまり、下層を塗布した後、それに隣接して上層
である感熱層を塗布する際、最上層の塗布溶剤として下
層のアルカリ可溶性樹脂を溶解させうる溶剤を用いる
と、層界面での混合が無視できなくなり、極端な場合、
重層にならず均一な単一層になってしまう場合がある。
このため、上部の感熱層を塗布するのに用いる溶剤は、
下層に含まれるアルカリ可溶性樹脂に対する貧溶剤であ
ることが好ましい。 【０１３３】画像形成層を塗布する場合の溶媒中の上記
成分の全固形分濃度は、一般的に１〜１０質量％が好ま
しい。また、支持体上に塗布、乾燥して設けられる画像
形成層の乾燥塗布量（固形分）としては、一般的に０．
５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。２層構造とする場合に
は、感熱層は０．０５〜１．０ｇ／ｍ²であり、下層は
０．３〜３．０ｇ／ｍ²であることが好ましい。塗布量
が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画
像形成層の皮膜特性は低下する。支持体上に塗布する方
法としては、公知の種々の方法の中から適宜選択できる
が、例えばバーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、
グレード塗布、ロール塗布などを挙げることができる。
画像形成層用塗布液中には、塗布性を良化する目的で界
面活性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記
載のフッ素系界面活性剤などを添加することができる。
その添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し
て０．０１〜１質量％が好ましく、０．０５〜０．５質
量％がより好ましい。 【０１３４】−支持体− 平版印刷版原版の支持体としては、例えば純アルミニウ
ム板、アルミニウム合金板、アルミニウムがラミネート
もしくは蒸着されたプラスチックフィルムなどが挙げら
れる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、ケイ酸ソ
ーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩などの
水溶液への浸透処理、あるいは、陽極酸化処理などの表
面処理が施されていることが好ましい。また、米国特許
第２，７１４，０６６号明細書に記載の砂目立てした後
にケイ酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理したアルミニウ
ム板、特公昭４７−５１２５号公報に記載のアルミニウ
ム板を陽極酸化処理した後、アルカリ金属ケイ酸塩の水
溶液中で浸漬処理したアルミニウム板も好ましい。 【０１３５】前記陽極酸化処理としては、例えば硫酸、
リン酸、クロム酸、硝酸、ホウ酸などの無機酸若しくは
蓚酸、スルファミン酸などの有機酸又はこれらの塩の水
溶液若しくは非水溶液の単独若しくは二種以上を組み合
わせた電解液中で、アルミニウム板を陽極として電極を
流すことにより施される。また、米国特許第３，６５
８，６６２号明細書に記載のシリケート電着も有効であ
る。 【０１３６】また、米国特許第４，０８７，３４１号明
細書、特公昭４６−２７４８１号公報、特開昭５２−３
０５０３号公報などに記載の、電解グレインを施した支
持体に前記陽極酸化処理を施したものも有用である。米
国特許第３，８３４，９９８号明細書に記載の砂目立て
した後、化学的にエッチングし、さらに陽極酸化処理し
たアルミニウム板も有用である。これらの処理は支持体
の表面を親水性とする目的で施されるほか、支持体上に
設けられる画像形成層との有害な反応を防止する目的、
画像形成像との密着性を向上させる目的などの種々の目
的で施される。 【０１３７】平版印刷版原版は、支持体上に少なくとも
画像形成層を積層して設けたものであるが、必要に応じ
て支持体上に下塗り層を設けることができる。下塗り層
に用いる成分としては、種々の有機化合物が挙げられ、
例えばカルボキシメチルセルロース、デキストリン、ア
ラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ
基を有するホスホン酸類；置換基を有していてもよいフ
ェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホス
ホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及
びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸；置換基
を有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸；
置換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロ
ホスフィン酸などの有機ホスフィン酸；グリシンやβ−
アラニンなどのアミノ酸類；トリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩など
が挙げられる。前記有機化合物は、１種単独で用いても
よく、２種以上を混合して用いてもよい。また、前述し
たジアゾニウム塩を下塗りすることも好ましい態様であ
る。 【０１３８】また、下塗り層としては、下記一般式（1
1）で表される構成単位を有する有機高分子化合物の少
なくとも１種を含む有機下塗り層も好ましい。 【０１３９】 【０１４０】式中、Ｒ⁵¹は水素原子、ハロゲン原子又は
アルキル基を表し、Ｒ⁵²及びＲ⁵³は、それぞれ独立に水
素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基、−ＯＲ⁵⁴、−Ｃ
ＯＯＲ⁵⁵、−ＣＯＮＨＲ⁵⁶、−ＣＯＲ⁵⁷又は−ＣＮを表
し、前記Ｒ⁵²及びＲ⁵³は互いに結合して環構造を形成し
てもよい。ここで、Ｒ⁵⁴〜Ｒ⁵⁷はそれぞれ独立にアルキ
ル基又はアリール基を表す。Ｘは水素原子、金属原子、
−ＮＲ⁵⁸Ｒ⁵⁹Ｒ⁶⁰Ｒ⁶¹を表す。ここでＲ⁵⁸〜Ｒ ⁶¹はそれ
ぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基又は置換アリール基を表し、Ｒ⁵⁸及びＲ⁵⁹は互
いに結合して環構造を形成してもよい。ｍは１〜３の整
数を表す。下塗り層の乾燥塗布量としては２〜２００ｍ
ｇ／ｍ²が好ましく、５〜１００ｍｇ／ｍ²がより好まし
い。この乾燥塗布量が２ｍｇ／ｍ²未満であると十分な
膜性が得られないことがある。一方２００ｍｇ／ｍ²を
超えて塗布しても、それ以上の効果を得ることはできな
い。 【０１４１】下塗り層は下記方法により設けることがで
きる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエ
チルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に
前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液をアルミニ
ウム板などの支持体上に塗布、乾燥して設ける方法と、
水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンな
どの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機化合
物を溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム板など
の支持体を浸漬して前記有機化合物を吸着させ、その後
水等で洗浄、乾燥して設ける方法である。 【０１４２】前者の方法では、前記有機化合物の０．０
０５〜１０質量％濃度の下塗り層用溶液を用いることが
好ましい。一方、後者の方法では、下塗り層用溶液の前
記有機化合物の濃度としては、０．０１〜２０質量％が
好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましい。また、
浸漬温度としては２０〜９０℃が好ましく、２５〜５０
℃がより好ましい。浸漬時間としては0.１秒〜２０分が
好ましく、２秒〜１分がより好ましい。下塗り層用溶液
はアンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなど
の塩基性物質や塩酸、リン酸などの酸性物質を用いてｐ
Ｈ１〜１２の範囲に調整することもできる。また、調子
再現性改良を目的として黄色染料を追加することもでき
る。 【０１４３】上記のようにして作成された平版印刷版原
版は赤外線レーザーで記録することができる他、紫外線
ランプによる記録やサーマルヘッド等による熱的な記録
も可能である。前記赤外線レーザーとしては波長７００
〜１２００ｎｍの赤外線を放射するレーザーが好まし
く、同波長範囲の赤外線を放射する固体レーザー又は半
導体レーザーがより好ましい。 【０１４４】 【発明の効果】本発明の平版印刷版の製版方法によれ
ば、良好な現像性を維持しながら、製版工程において画
像形成層の成分などに起因する不溶物を良好に分散させ
て現像カスの発生を抑えることができる。また、ガムは
じきを起こさないガム塗布面状が良化した版が提供でき
る。本発明の製版方法によれば、現像ラチチュードを一
層向上させることができる。そして、長期間安定に平版
印刷版原版の現像処理を行うことができ、高鮮鋭で鮮明
な画像を形成することができる。 【０１４５】 【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、
実施例中の「％」はすべて「質量％」を表す。 【０１４６】［ＳｉＯ₂含有のアルカリ現像処理液の調
製］酸化ケイ素ＳｉＯ₂及び酸化カリウムＫ₂Ｏの混合比
ＳｉＯ₂／Ｋ₂Ｏが１．１のケイ酸カリウム４．０％水溶
液１リットルに、以下の各種両性界面活性剤（Ａ−１〜
１１）、各種ノニオン界面活性剤（Ｎ−１〜１２）、シ
リコーン系界面活性剤（Ｓ−１）を表１に示すように添
加して（単位：グラム/リットル）、本発明のアルカリ
現像処理液(1)〜(30)を作製した。また上記組成で界面
活性剤を含まないものを現像液(61)とし、両性界面活性
剤を含めたものを現像液(62)とし、ノニオン界面活性剤
を含めたものを現像液(63)とし、シリコーン系界面活性
剤を含めたものを現像液(64)とした。 【０１４７】［非還元糖含有のアルカリ現像処理液の調
製］非還元糖と塩基とを組み合わせたＤ−ソルビット／
酸化カリウムＫ₂Ｏよりなるカリウム塩５．０％水溶液
１リットルに、以下の両性界面活性剤（Ａ−１〜１
１）、ノニオン界面活性剤（Ｎ−１〜１２）、シリコー
ン系界面活性剤（Ｓ−１）を表２に示すように添加して
（単位：グラム/リットル）、本発明のアルカリ現像処
理液(31)〜(60)を作製した。また上記組成で界面活性剤
を含まないものを現像液(65)とし、両性界面活性剤を含
めたものを現像液(66)とし、ノニオン界面活性剤を含め
たものを現像液(67)とし、シリコーン系界面活性剤を含
めたものを現像液(68)とした。 【０１４８】なお、各現像液の表面張力を自動・動的表
面張力計 JET型（協和界面科学（株）製）にて測定し
た。現像処理液に使用した界面活性剤 【０１４９】 【表１】【０１５０】 【表２】【０１５１】 【実施例１〜６０及び比較例１〜８】実施例１〜６０及
び比較例１〜８で用いる赤外線感光性平版印刷版を以下
のように作製した。実施例１〜３０として各々、アルカ
リ現像処理液(1)〜(30)で処理し、実施例３１〜６０と
して各々、アルカリ現像処理液（31）〜(60)で処理し、
比較例１〜８として各々、アルカリ現像処理液（61）〜
(68)で処理した。 【０１５２】＜平版印刷版原版の作成１＞０．３ｍｍ厚
のアルミニウム板(材質１０５０)をトリクロロエチレン
で洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシ
ュのパミス−水懸濁液を用い、この表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。洗浄後、このアルミニウム板を４５
℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエ
ッチングを行い、水洗した後、さらに２０％硝酸水溶液
に２０秒間浸漬し、再度水洗した。このときの砂目立て
表面のエッチング量は、約３ｇ／ｍ ²であった。 【０１５３】次に、このアルミニウム板を７％硫酸を電
解液として、電流密度１５Ａ／ｄｍ ²の直流電流で３ｇ
／ｍ²の陽極酸化被膜を設けた後、水洗、乾燥した。こ
れを、３０℃の珪酸ナトリウム２．５％水溶液で１０秒
処理し、下記下塗り層用塗布液を塗布し、８０℃下で１
５秒間乾燥して支持体を得た。乾燥後の下塗り層の乾燥
塗布量は、１５ｍｇ／ｍ²であった。 【０１５４】＜下塗り層用塗布液＞ 下記共重合体Ｐ(分子量２８０００) ０．３ｇ メタノール １００ｇ 水 １ｇ 【０１５５】 【０１５６】合成例１（Ｂ１成分：カルボキシル基を有
するアルカリ可溶性高分子化合物（共重合体）の合成） 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた２０ml三ッ口フ
ラスコに、メタクリル酸ｎ−プロピル６．３９ｇ（０．
０４５モル）、メタクリル酸１．２９ｇ（０．０１５モ
ル）及び１−メトキシ−２−プロパノール２０ｇを入
れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「Ｖ−６０１」（和光純薬（株）製）
０．１５ｇを加え７０℃に保ちながら窒素気流下２時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにメタクリル
酸ｎ−プロピル６．３９ｇ（０．０４５モル）、メタク
リル酸１．２９ｇ（０．０１５モル）、１−メトキシ−
２−プロパノール２０ｇ及び「Ｖ−６０１」０．１５ｇ
の混合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴
下終了後、さらに９０℃で２時間得られた混合物を攪拌
した。反応終了後、メタノール４０ｇを混合物に加え、
冷却し、得られた混合物を水２リットルにこの水を攪拌
しながら投入し、３０分混合物を攪拌した後、析出物を
ろ過により取り出し、乾燥することにより１５ｇの白色
固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
によりこの共重合体の重量平均分子量（ポリスチレン標
準）を測定したところ５３，０００であった。 【０１５７】合成例２（Ｂ１成分：カルボキシル基を有
するアルカリ可溶性高分子化合物（共重合体）の合成） 上記合成例１と同様の操作によって、メタクリル酸エチ
ル／メタクリル酸イソブチル／メタクリル酸（モル％:3
5/35/30）を使用して共重合体を合成した。その重量平
均分子量（ポリスチレン標準）を測定したところ５０，
０００であった。 【０１５８】合成例３（Ｂ１成分：カルボキシル基を有
するポリウレタン樹脂の合成） 冷却管コンデンサー、攪拌機を備えた５００mlの三ッ口
丸底フラスコに、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プ
ロピオン酸１４．６ｇ（０．１０９モル）、テトラエチ
レングリコール１３．３ｇ（０．０６８６モル）及び
１，４−ブタンジオール２．０５ｇ（０．０２２８モ
ル）を加え、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１１８ｇに
溶解した。これに、４，４′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート３０．８ｇ（０．１２３モル）、ヘキサメチ
レンジイソシアネート１３．８ｇ（０．０８１９モル）
及び触媒としてジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ０．１
ｇを添加し、攪拌下、９０℃、７時間加熱した。この反
応液にＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ml、メタノ
ール５０ml及び酢酸５０mlを加え、攪拌した後に、これ
を水４リットル中に攪拌しながら投入し、白色のポリマ
ーを析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄
後、減圧乾燥させることにより、６０ｇのポリマーを得
た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰ
Ｃ）にて分子量を測定したところ、重量平均（ポリスチ
レン標準）で７０，０００であった。また、滴定により
カルボキシル基含量を測定したところ１．４３meq／ｇ
であった。 【０１５９】合成例４（Ｂ１成分：カルボキシル基を有
するポリウレタン樹脂の合成） 以下のジイソシアネート化合物（モル％） 及び以下のジオール化合物（モル％） を用いて、合成例３と同様にして共重合体を合成した。
得られた共重合体の滴定による酸含量は１．７２meq／
ｇであり、重量平均分子量（ポリスチレン標準）は８
０，０００であった。 【０１６０】合成例５（Ｂ２成分の合成） 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた５００ml三つ口
フラスコにメタクリル酸３１．０ｇ（０．３６モル）、
クロロギ酸エチル３９．１ｇ（０．３６モル）及びアセ
トニトリル２００mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合
物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン３６．４
ｇ（０．３６モル）を約１時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で３
０分間混合物を攪拌した。この反応混合物にp-アミノベ
ンゼンスルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加
え、油浴にて７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌し
た。反応終了後、この混合物を水１リットルにこの水を
攪拌しながら投入し、３０分間得られた混合物を攪拌し
た。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水
５００mlでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、
得られた固体を乾燥することにより、N-(p-アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られ
た（収量４６．９ｇ） 【０１６１】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た２０ml三つ口フラスコにN-(p-アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド４．６１ｇ、（０．０１９２モ
ル）、メタクリル酸エチル２．９４ｇ（０．０２５８モ
ル）、アクリロニトリル０．８０ｇ（０．０１５モル）
及びN,N-ジメチルアセトアミド２０ｇを入れ、湯水浴に
より６５℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合
物に「Ｖ-６５」（和光純薬（株）製）０．１５ｇを加
え、６５℃に保ちながら窒素気流下２時間混合物を攪拌
した。この反応混合物にさらにN-(p-アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド４．６１ｇ、メタクリル酸
エチル２．９４ｇ、アクリロニトリル０．８０ｇ、N,N-
ジメチルアセトアミド及び「Ｖ−６５」０．１５ｇの混
合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終
了後、さらに６５℃で２時間得られた混合物を攪拌し
た。反応終了後、メタノール４０ｇを混合物に加え、冷
却し、得られた混合物を水２リットルにこの水を攪拌し
ながら投入し、３０分間混合物を攪拌した後、析出物を
ろ過により取り出し、乾燥することにより１５ｇの白色
固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
により、この特定の共重合体の重量平均分子量（ポリス
チレン標準）を測定したところ、５３，０００であっ
た。 【０１６２】得られた支持体上に下記画像形成層塗布液
を塗布し、１５０℃、３０秒乾燥させて、乾燥塗布量を
１．８ｇ／ｍ²とし、ポジ型の平版印刷版原版を得た。 ＜画像形成層用塗布液＞ 上記合成例２の共重合体［（Ｂ１）成分］ ０．０５０ｇ 上記合成例４の共重合体［（Ｂ１）成分］ ０．０５０ｇ 上記合成例５の共重合体［（Ｂ２）成分］ ０．４ｇ ｍ，ｐ−クレゾールノボラック［（Ｂ２）成分］ ０．６ｇ （ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量８０００、 未反応クレゾールを０．５％含有） シアニン染料Ａ［（Ａ＋Ｃ）成分］ ０．１ｇ 無水フタル酸［（Ｄ）成分］ ０．０５ｇ ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００２ｇ エチルバイオレット ０．０２ｇ （対イオン：６−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸） ナフトキノン１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 ０．０１ｇ フッ素系界面活性剤 ０．０５ｇ (商品名：メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン ８ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ４ｇ 【０１６３】上記より得られた平版印刷版原版に出力５
００ｍＷ、波長８３０ｎｍビーム径１７μｍ（１／
ｅ²）の半導体レーザーを用いて主走査速度５ｍ／秒に
て露光し、２５℃に保持した。この平版印刷版原版を、
上記の各種アルカリ現像処理液を満たした自動現像機Ｐ
Ｓ９００ＮＰ(富士写真フイルム（株）製)により、現像
温度３０℃、１２秒で現像処理した。補充液の補充なし
に、５０ｍ²、１００ｍ²、２００ｍ²、３００ｍ²、４０
０ｍ²、５００ｍ²と処理した。現像処理が終了したの
ち、水洗工程を経て、ガム（ＧＵ−７（１：１））など
で処理して、製版が完了した平版印刷版を得た。 【０１６４】＜画像部／非画像部のバランスの評価＞ （非画像部の現像性の評価）上記のようにして現像直
後、５０ｍ²、１００ｍ²、２００ｍ²、３００ｍ²、４０
０ｍ²、５００ｍ²と処理して得た平版印刷版の非画像部
の現像性を「非画像部の残膜の有無」を観察することで、
官能評価を行った。その結果を表３〜表４に示す。 −基準− ○：十分に現像され、非画像部上の画像形成層の残存は
認められなかった。印刷物上に汚れがなかった。 △：非画像部上に画像形成層が若干残存していた。印刷
物上には汚れがなかった。 ×：現像不良が認められ、非画像部に画像形成層が残存
していた。印刷物上に汚れが発生した。 【０１６５】＜画像部の膜べり及びガム塗布面状の評価
＞上記のようにして現像直後、５０ｍ²、１００ｍ²、２
００ｍ²、３００ｍ²、４００ｍ²、５００ｍ²と処理して
得た平版印刷版の「画像部の欠陥」と「ガム塗布面状」
を下記基準に従い、目視により観察し、官能評価を行っ
た。評価結果を表５〜表６に示す。 −基準− ○：画像部に欠陥は認められなかった。印刷物上でも画
像部の白ぬけはなかった。ガム塗布面状も均一でムラが
ない。 △：画像部濃度が若干低下し、一部に欠陥が認められ
た。印刷物上では、画像部の白ぬけはなかった。ガム塗
布面状に若干ムラがある。 ×：画像部濃度が大幅に低下し、画像部に欠陥した部分
有り。印刷物上に画像部の白ぬけが発生した。ガム塗布
面状が大幅に悪化した。 【０１６６】＜現像液中の不溶物の評価＞１リットル当
たり、１ｍ²、１０ｍ²、１００ｍ²処理した現像液を、
冷蔵庫（５℃）、常温（２０〜２５℃）、サーモ（３５
℃）の中に１ヶ月放置したときの不溶物を評価して、結
果を表７及び８にまとめる。 ○：不溶物なし △：若干の不溶物があるが、振ると溶解してなくなる。 ×：振っても不溶物が残存する。 【０１６７】 【表３】【０１６８】 【表４】【０１６９】 【表５】【０１７０】 【表６】【０１７１】 【表７】 現像液中の不溶物【０１７２】 【表８】 現像液中の不溶物【０１７３】 【実施例６１〜１２０及び比較例９〜１６】実施例６１
〜１２０及び比較例９〜１６で用いる赤外線感光性平版
印刷版を以下のように作製し、実施例６１〜９０として
各々、アルカリ現像処理液(1)〜(30)で処理し、実施例
９１〜１２０として各々、アルカリ現像処理液（31）〜
(60)で処理し、比較例９〜１６として各々、アルカリ現
像処理液（61）〜(68)で処理した。 【０１７４】＜平版印刷版原版の作成２＞上記の＜平版
印刷版原版の作成１＞で使用したのと同様に処理し下塗
り層を設けたアルミニウム支持体に、以下の感光液２を
塗布量が０．１６ｇ／ｍ²になるようにワイヤーバーで
塗布した後、TABAI社製 PERFECT OVER PH200にてWindCo
ntrolを７に設定して140℃、50秒で乾燥した。更にその
上に感光液３を塗布量が０．８５ｇ／ｍ²になるように
ワイヤーバーで塗布した後、TABAI社製 PERFECT OVER P
H200にてWindControlを７に設定して120℃、60秒で乾燥
し、２層構成の感熱層を有する平版印刷版原版を得た。 【０１７５】 （感光液２） 上記合成例２の共重合体 ０．０５０ｇ 上記合成例４の共重合体 ０．０５０ｇ N-(4-アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/ アクリロニトリル/メタクリル酸メチル （36/34/30重量平均分子量50000） １．８９６ｇ クレゾールノボラック（m/p=6/4 重量平均分子量4500、 残存モノマー0.8wt%） ０．２３７ｇ シアニン染料Ａ ０．１０９ｇ 4,4'-ビスヒドロキシフェニルスルホン ０．０６３ｇ 無水テトラヒドロフタル酸 ０．１９０ｇ ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００８ｇ エチルバイオレットの対イオンを 6-ヒドロキシナフタレンスルホンに変えたもの ０．０５ｇ フッ素系界面活性剤（F176、大日本インキ工業(株)社製） ０．０３５ｇ メチルエチルケトン ２６．６ｇ 1-メトキシ-2-プロパノール １３．６ｇ γ−ブチロラクトン １３．８ｇ 【０１７６】 （感光液３） 上記合成例２の共重合体 ０．０５０ｇ 上記合成例４の共重合体 ０．０５０ｇ クレゾールノボラック（m/p=6/4 重量平均分子量4500、 残存モノマー0.8wt%） ０．２３７ｇ シアニン染料Ａ ０．０４７ｇ ステアリン酸ドデシル ０．０６０ｇ 3-メトキシ-4-ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート ０．０３０ｇ フッ素系界面活性剤（F176(20%溶液)、大日本インキ工業(株)社製） ０．１１０ｇ フッ素系界面活性剤（MCF312F(30%溶液)、大日本インキ工業(株)社製） ０．１２ｇ メチルエチルケトン １５．１ｇ 1-メトキシ-2-プロパノール ７．７ｇ 【０１７７】上記より得られた平版印刷版原版に出力５
００ｍＷ、波長８３０ｎｍビーム径１７μｍ（１／
ｅ²）の半導体レーザーを用いて主走査速度５ｍ／秒に
て露光し、２５℃に保持した。この平版印刷版原版を、
上記の各種アルカリ現像処理液を満たした自動現像機Ｐ
Ｓ９００ＮＰ(富士写真フイルム（株）製)により、現像
温度３０℃、１２秒で現像処理した。補充液の補充なし
に、５０ｍ²、１００ｍ²、２００ｍ²、３００ｍ²、４０
０ｍ²、５００ｍ²と処理した。現像処理が終了したの
ち、水洗工程を経て、ガム（ＧＵ−７（１：１））など
で処理して、製版が完了した平版印刷版を得た。 【０１７８】こうして製版された平版印刷版について、
実施例１〜６０と同様にして評価を行った。その評価結
果を、非画像部の現像性について表９〜１０に、画像部
の膜べり及びガム塗布面状について表１１〜１２、及び
現像液中の不溶物について表１３〜１４に示す。 【０１７９】 【表９】【０１８０】 【表１０】【０１８１】 【表１１】【０１８２】 【表１２】【０１８３】 【表１３】 現像液中の不溶物【０１８４】 【表１４】 現像液中の不溶物 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a computer or the like.
Directly by infrared laser scanning based on digital signals
A lithographic printing plate that can be used for plate making, so-called direct plate making
A lithographic seal using a specific alkaline developer from the original
The present invention relates to a plate making method. [0002] [0002] In recent years, the development of lasers has been remarkable.
Solid-state laser with a light emitting region from near infrared to infrared, semiconductor
Body lasers with high output and small size are readily available
The plate making directly from this digital data
These lasers are not suitable as exposure light sources for systems
Always useful. Image recording material suitable for laser writing
For example, Japanese Patent Laid-Open No. 7-285275 discloses a fee.
A binder such as a resole resin generates heat by absorbing light
And pyrolytic properties such as quinonediazide
In the state before decomposition, the solubility of the binder is substantially reduced.
Type image recording material containing a compound capable of lowering
Fees have been proposed. This is because the exposed part is irradiated with infrared rays.
Substances that absorb heat and generate heat in minutes
To make the exposed part alkali soluble (heat mode)
Is absorbed by the support aluminum.
Low thermal efficiency and alkali in the development process
Solubility in developer is not satisfactory
It was. For this reason, increase the alkali concentration of the developer,
Has been secured. However, a heat-mode type lithographic printing plate precursor
The plate is the image area under high-concentration alkaline conditions as described above.
Have low resistance to dissolution in alkaline processing solutions.
The surface of the recording material is melted even if there is a slight scratch on the surface of the recording material.
There were problems such as causing defects. In particular, alkaline water
Positive type using high molecular compound that is highly soluble in liquid
The trend was more pronounced in the lithographic printing plate precursors
It was. Therefore, it is necessary to prevent the residual film from appearing in the non-image area.
There is a limit to increasing the alkali concentration of the developer. Also, recent infrared laser exposure type images.
Along with improvements in recording materials, compared to conventional infrared absorbing dyes
Difficult to dissolve in alkaline developer, for example cyanine
There is a tendency to use infrared absorbing dyes such as dyes,
When this image recording material is developed with an alkali developing solution
In addition, insoluble matter of infrared absorbing dye is discharged into the developing solution.
There is a tendency to. This is the component of binder polymer and water
Further insoluble matter is formed by interaction with inorganic substances
As the development process continues, these insoluble materials accumulate.
The product is agglomerated and settled, resulting in development residue, which makes the development process unstable.
It becomes a factor. Specifically, these insoluble materials are on the plate.
May cause damage to the image or sink in a developing bath.
When it is deposited, it creates a burden on the maintenance of the treatment bath
Cause inconvenience. Under these circumstances, on the non-image part
For example, if a burning process is performed while there is a residual film, the residual film
There is also an inconvenience that carbonized and becomes dirty during printing. Also red
Fluorine-based photosensitive material for external laser exposure type image recording materials
Gum repellency occurs on the plate due to the use of chemical compounds.
Easy to stick. And the part where the gum on the plate is peeled is marked
The part that led to smearing and the gum became relatively thick
There is a problem that causes ink deposit failure. Therefore, the above
The inconvenience caused by development residue such as
Providing a plate free from problems of creaking and formed images
Forms sharp, clear images without causing defects in the image area
In particular, detailed images including dots and fine lines
The image is required to have high sharpness and improved reproducibility.
Yes. [0005] The object of the present invention is to make a plate.
In the process, the generation of development residue is suppressed and the development residue is attached to the plate.
Prevent it from depositing or precipitating in the developing bath,
Produces a plate that can be stably developed for a long time and has no gum repellency on the plate.
A lithographic plate that can be made and provides a sharp, clear image.
It is to provide a method for making a printing plate. [0006] [Means for Solving the Problem]
As a result of earnest research to achieve
By using a combination of surfactants,
Development in development processing while maintaining suitable liquid conditions
Reduces the occurrence of scum and eliminates the problem of chewing gum in the plate
We can see that we can provide a plate that has been eliminated and the surface of the gum application has been improved.
And the present invention has been completed. Therefore, the present invention
Infrared photosensitivity with image forming layer containing infrared absorbing dye
After exposure of lithographic printing plate to infrared, amphoteric surfactant and nonio
Development with an alkaline developer containing a surfactant
A lithographic printing plate making method characterized in that. The present invention
They also add more silicone-based alkali processing solutions.
By incorporating a surfactant, development latitude
I found that it improved. Therefore, the preference of the present invention
Embodiments include amphoteric surfactants, nonionic surfactants
And an alkali developing process containing a silicone surfactant
There is a plate making method of the above lithographic printing plate using a scientific liquid. developing
The use of amphoteric surfactants in the liquid causes development residue.
While improving the dispersibility of the insoluble matter that becomes
There is a tendency to make it hydrophobic and repel the gum. The present invention
Use amphoteric surfactant and nonionic surfactant in combination.
And improve both the development residue and the problem of repelling gum.
And was completed. [0007] BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First, it is used in the plate making method of the present invention.
The alkali developing solution will be described. Used for development processing
Alkaline developer (hereinafter also referred to simply as “developer”)
Yeah. ) Is an alkaline aqueous solution,
It can select suitably from potassium aqueous solution. Arca
As aqueous solution, alkali silicate or non-reducing sugar
And a developer comprising a base, and in particular pH 12.
The thing of 5-14.0 is preferable. The alkali silicate and
It shows alkalinity when dissolved in water.
For example, sodium silicate, potassium silicate, silicic acid
Alkali metal silicates such as lithium, ammonium silicate
Um etc. are mentioned. One kind of alkali silicate alone
Also, two or more types may be used in combination. The alkaline aqueous solution is a silicate component.
Some silicon oxide SiO₂And alkali oxide M₂O (M is a
Represents a Lucari metal or ammonium group. Mixing ratio with
The developability can be easily adjusted by adjusting the rate and density.
You can. Among the alkaline aqueous solutions, the oxidation catalyst
Ion SiO₂And alkali oxide M₂Mixing ratio with O (Si
O₂/ M₂O: molar ratio) of 0.5 to 3.0 is preferred
More preferably 0.75 to 1.5. Si
O₂/ M₂When O is less than 0.5, the alkali strength is strong.
Therefore, a general-purpose assembly is used as a support for lithographic printing plate precursors.
Detrimental effects such as etching of luminium plates
If it exceeds 3.0, developability deteriorates.
Sometimes. Also, the concentration of alkali silicate in the developer and
1 to 10% by mass with respect to the mass of the aqueous alkali solution
Is preferable, 3 to 8% by mass is more preferable, and 4 to 7% by mass.
% Is most preferred. If this concentration is less than 1% by weight,
The image quality and processing capacity may decrease, exceeding 10% by mass
It is easy to produce precipitates and crystals,
Gelling easily during neutralization, hindering waste liquid treatment
There are times. In a developer comprising a non-reducing sugar and a base
Non-reducing sugars have free aldehyde groups and ketone groups.
Means a non-reducing saccharide because
Trehalose-type oligosaccharides bound by a person, saccharide reducing groups and non-
Glycosides linked to sugars, sugars reduced by hydrogenation of sugars
Classified as alcohol. In the present invention, both of these
It can be used suitably. Trehalose type oligosaccharide
Examples include sucrose and trehalose,
Examples of the glycoside include alkyl glycosides and phenols.
For example, le glycosides and mustard oil glycosides. Sugar Arco
For example, D, L-arabit, rebit,
Xylit, D, L-Sorbit, D, L-Mannic
D, L-exit, D, L-talit, slippery
And allozul sit. Furthermore, disaccharide
Of maltitol and oligosaccharides obtained by hydrogenation
Preferred examples include reduced form (reduced water candy) obtained by addition.
Can. Among the above, non-reducing sugars include sugar alcohols.
And saccharose are preferred, and in particular, D-sol
Bit, saccharose, and reduced water candy in moderate pH range
It is more preferable in that it has a buffering action. These non-reducing sugars
It can be used alone or in combination of two or more.
The proportion occupied is preferably 0.1 to 30% by mass.
-20 mass% is more preferable. For the alkali silicate or non-reducing sugar
As appropriate, an alkali agent as a base is appropriately selected from conventionally known substances.
You can select and combine them. As the alkaline agent
For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, hydroxide
Lithium iodide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate,
Triammonium phosphate, disodium phosphate, diphosphate
Potassium, diammonium phosphate, sodium carbonate, charcoal
Potassium acid, ammonium carbonate, sodium bicarbonate,
Potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, sodium borate
No such as lithium, potassium borate, ammonium borate
Alkaline agent, potassium citrate, tripotassium citrate
And sodium citrate. Furthermore, monomethylamine, dimethylamino
, Trimethylamine, monoethylamine, diethylamine
Min, triethylamine, monoisopropylamine, di
Isopropylamine, triisopropylamine, n-butyl
Tylamine, monoethanolamine, diethanolamine
, Triethanolamine, monoisopropanolamine
, Diisopropanolamine, ethyleneimine, ethyl
Organic alkali agents such as range amine and pyridine are also suitable.
Can be mentioned. These alkaline agents are used alone
Alternatively, two or more kinds may be used in combination. Above all water
Sodium oxide and potassium hydroxide are preferred. The reason
Adjusts the amount of non-reducing sugar added
This is because the pH can be adjusted in a high pH range.
In addition, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate
Thorium, potassium carbonate, etc. have their own buffering effect.
Therefore, it is preferable. The developer used in the present invention is as described above.
It is essential to contain an amphoteric surfactant in the alkaline aqueous solution
And As an amphoteric surfactant, both aminocarboxylic acid type
Surfactant, Betaine Amphoteric Surfactant, Imidazoli
Type amphoteric surfactants. Aminocarboxylic
As an acid type amphoteric surfactant, for example, it is represented by the following formula
There are compounds and their salts. (Wherein R₁And R₂Are carbonized with 1 to 30 carbon atoms
Represents a hydrogen group, a, b and c are each an integer of 1 to 10
Represents. ) R₁And R₂Is preferably an aliphatic hydrocarbon group,
It may be linear or branched, and it may be saturated or unsaturated
Specific examples include alkyl groups and alkenyl groups.
It is done. As salts of the compounds of the above formula, alkali metals
Salts, such as sodium, potassium and lithium salts,
Examples thereof include ammonium salts and amine salts. Betaine-type amphoteric surface activity used in the present invention
Examples of the agent include the following structural formulas. [0016] [0017](Wherein R¹Is carbonized with 1-30 carbon atoms
Represents a hydrogen group, which may be linear or branched, and saturated
May be unsaturated, R²And R^ThreeAre the same or different
Well, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, carboxya
It is selected from an alkyl group and a hydroxyalkyl group. p,
q is an integer of 1 to 40, preferably 1 to 20, more preferably
It is 1-5. n and m are integers of 1 to 30, preferably
Or 1-15, more preferably 1-5. ) In the above formula, R¹Is preferably C 4-18 Al
Represents a kill group, the hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group
In addition, there is an ether bond or amide bond between the carbons of the hydrocarbon chain.
May be present. R²And R^ThreeAlkyl groups in
Is preferably about 1 to 5 carbon atoms. Used in the present invention
Specific examples of amphoteric surfactants used are as follows:
Ru [0019][0020] [0021][0022] As the betaine amphoteric surfactant, the above-mentioned
Sea urchin N-lauryl-N, N-dimethyl-N-carboxy
Methylammonium, N-stearyl-N, N-dimethyl
Ru-N-carboxymethylammonium, N-lauryl
-N, N-dihydroxyethyl-N-carboxymethyl
Ammonium, N-lauryl-N, N, N-tris
(Ruboxymethyl) ammonium
N-coconut oil fatty acid acyl-N-carboxymethyl-N
-Hydroxyethyl ethylenediamine sodium
is there. Amphoteric surfactants are generally available on the market and
Examples of commercially available amphoteric surfactants are Kao's “A”
Nhitoal 24B "and" Amphitor 86B ", Daiichi Kogyo Co., Ltd.
There are "Amorgen K" made. For alkaline developer
In this regard, one amphoteric surfactant may be used alone.
Two or more kinds may be used in combination. Amphoteric boundaries in developers
The content of the surfactant is suitably 0.001 to 10.0% by mass.
This is preferably 0.01 to 5.0% by mass, more preferably
Preferably it is 0.05-1.0 mass%. Content is 0.
If it is less than 001% by mass, the dispersion power of the development residue is not sufficient
On the other hand, if it exceeds 10.0% by mass, bubbles are likely to form.
A problem occurs. The developer used in the present invention further contains noni
Include on-surfactant. As a nonionic surfactant
Is polyethylene glycol type nonionic surfactant
For example, there is one represented by the following formula. (Wherein R_FourIs a hydrogen atom, aromatic hydrocarbon group, or carbon
Represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 30 atoms, and R_FiveAnd R₆
Are each a hydrogen atom or -CH_ThreeE and f are each 0,
Or an integer from 1 to 300, where e and f are simultaneously 0
Not. ) Where R_FourAs an aromatic hydrocarbon group of
Specifically, phenyl group, naphthyl group, anthranyl group
And the aromatic ring has 1 to 30 carbon atoms
It may be substituted with an alkyl group or an alkenyl group.
R_FourThe aliphatic hydrocarbon group is branched even in a straight chain
It may be saturated or unsaturated, for example alk
Group, alkenyl group and the like. Polyoxyethylene
When there is a len part and a polyoxypropylene part, it is random
However, it may be a block copolymer. Specifically, polyoxyethylene alkyl ester
Ethers, polyoxyethylene alkenyl ethers,
Polyoxyethylene phenyl ether, polyoxyethylene
Lenalkylphenyl ethers, polyoxyethylene
Naphthyl ether, polyoxyethylene alkyl naphthy
Ruethers, polyethylene glycol or its derivatives
Conductor, or polypropylene glycol or its derivatives
There is a body. Here polyoxyethylene is
Polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxy
Polyoxyalkylene such as sibutylene, or
You may combine. 2 or more types of polyoxyalkyl
When there is a ren part, it is a random block copolymer.
Also good. Nonionic surfactants such as those listed above are
Generally available. Examples of those commercial products and
R in the formula_FourManufactured by Asahi Denka and Kaoishi
Ken, Sanyo Chemical, Shin Nippon Chemical, Daiichi Kogyo Seiyaku, Bamboo
There are products made from this fat and oil, Toho Chemical, and Nippon Oil.
Where R_FourMade by Kao soap as an aromatic group, Sanyo Kasei
Made by Daiichi Kogyo Seiyaku, Takemoto Yushi, Toho Chemical, etc.
There is. Amines as other nonionic surfactants
Alkylene oxide adduct, sugar alcohol alkyl
Lenoxide adduct, alkylene oxide of glycerin
Id adducts can be used. Specific examples of the sugar alcohol
As D, L-Trait, D, L-Arabit, Rebit,
Xylit, D, L-Sorbit, D, L-Mannit, D, L-I
Jitt, D, L-Tallit, Zulsit, Allozulsit
And so on. In addition, diglys condensed with sugar alcohol
Serine, triglycerin, tetraglycerin, pen tag
Alkylene oxa such as lysine and hexaglycerin
Id adducts can also be used. With alkylene oxide addition
In particular, ethylene oxide (EO) addition, ethylene oxide
Addition of oxide (EO) / propylene oxide (PO) and pro
Examples include addition of pyrene oxide (PO) and propylene oxide.
Sid (PO) is present in an acceptable range for water solubility.
desirable. As another example of the nonionic surfactant,
As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 60-129750
Examples include alkylene oxide adducts of rukenylene amine.
It is done. For example, it is a compound represented by the following formula. (In the above formula, R₇~ R₁₄Are the same or different
H or CH_ThreeR ₁₅~ R₁₈Are the same
But it can be different, H, CH_Three, COR₁₉, CO
NHR₂₀R₁₉And R₂₀Is an alkyl group, aryl
Represents an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group;
12 integers, h, i, j, k, l, m, n and o are the same
But may be different and represents 0 or an integer from 1 to 300
(H + 1) (i + m) (j + n) (k + o) ≠ 0
is there. ) These compounds are generally water soluble. Expressed by the above formula
Of these compounds, particularly preferred are R₇= R₈= R₉
= R_Ten= CH_Three, R₁₁= R₁₂= R₁₃= R₁₄= H, R₁₅=
R₁₆= R₁₇= R₁₈= H or COR_{1 9}, R₁₉= Alkyl
Yes, ethylene oxide is 40-80% by mass in the total molecule
And the molecular weight range of propylene oxide is 2,000.
0 to 5,000 and g is an integer of 2 to 6
A compound. In the above formula, R₁₉And R₂₀Represented by
Examples of alkyl groups include CH_Three-, CH_ThreeCH₂
-, CH_Three(CH₂)₂-, CH_Three(CH₂)_Three-, CH
_Three(CH₂)_Four-, (CH_Three)₂CH (CH₂)₂-, CH_ThreeC
H₂CH (CH_Three) -CH₂-, CH_Three(CH₂)₂CH (C
H_Three)-, CH_Three(CH₂)₇-, CH_Three(CH₂)₈-, C
H _Three(CH₂)_Ten-, CH_Three(CH₂)₁₂-, CH_Three(C
H₂)₁₄-, CH_Three(CH₂)₁₆-, CH_Three(CH₂)
₁₈-, CH_Three(CH₂)₂₀-, CH_Three(CH₂)_{twenty two}-, CH
_Three(CH₂)_{twenty four}Straight chain or minute having 1 to 25 carbon atoms such as-
A variety of alkyl groups are preferred. R₁₉And R₂₀By
Examples of the aryl group represented by phenyl include phenyl, [0030] Monocyclic or bicyclic aryl groups such as
In addition, linear or branched alkyl groups having substituents
included. R₁₉And R₂₀Arche represented by
Examples of the nyl group or alkynyl group include CH₂= CH (CH₂)₇-, CH₂CH₂CH = CH (C
H₂)₇-, CH_Three(CH₂)_FiveCH = CH-, CH_Three(CH
₂)₇CH = CH-CH_Three(CH₂)_FiveCH (OH) CH₂C
H₂CH = CH (CH₂)₇-, CH_Three(CH₂)_TenCH =
CH (CH₂)_Four-, CH_Three(CH₂)_FiveCH = CH (C
H₂)₉-, CH_Three(CH₂)_FourCH = CHCH₂CH = CH
(CH₂)₇-, CH_ThreeCH₂CH = CHCH₂CH = CH
CH₂CH = CH (CH₂)₇-, CH_Three(CH₂)_Three(CH
= CH)_Three(CH₂)₇-, CH_Three(CH₂)₈(CH = C
H)_Three(CH₂)_FourCO (CH₂)₂-, CH_Three(CH₂)₇C
≡C (CH₂)₇-, CH_Three(CH₂)₉CH = CH (C
H₂)₇And those having 9 to 24 carbon atoms such as
The Examples of these water-soluble compounds include Asahi Denka Kogyo
Listed in the product catalog of Tetronic, Inc.
Can be mentioned. The molecular weight of these nonionic surfactants
In general, about 50 to 10,000 is preferably used.
Used. If the molecular weight is less than 50,
100 may not be obtained.
If it exceeds 00, the developability of the non-image area may deteriorate.
The In the developer, one type of nonionic surfactant is used alone, or
Two or more kinds may be used in combination. In developer
The content of nonionic surfactant is 0.001 to 10.0.
% By mass is suitable, preferably 0.01 to 5.0 mass
%, More preferably 0.1 to 1.0% by mass. 0.
If it is less than 001% by mass, the effect of improving the gum application surface
Is not sufficient, and if it exceeds 10.0% by mass, image suppression
The effect is too strong. Amphoteric surfactants in developers
And nonionic surfactant mass ratio from 1: 0.001
0.001: 1 is suitable, preferably from 1: 0.01
0.01: 1, more preferably 1: 0.1 to 0.1:
1. The developer used in the present invention includes a developing lattice.
Silicone surface activity from the viewpoint of improving
An agent may be added. As a silicone surfactant
Dialkylpolysiloxane surfactants, especially
An example is a chilled polysiloxane surfactant. More
Physically, the following dimethylpolydioxane is used as it is.
Or an O / W emulsion(Where n = 0 to 2000) Poly (ethyleneoxy) represented by the following formula
Siloxane, alkoxy poly (ethyleneoxy) siloxane
There are suns. (In the above formula, n = 6 to 10 and R ′ are from 1 to 4 carbon atoms.
It is an alkyl group. ) (In the above formula, m = 2 to 4, p = 4 to 12, and R ″ are charcoal.
It is an alkyl group having 1 to 4 elementary atoms. ) In addition, poly (ethylene) represented by the following formula:
Noxy) siloxane, alkoxypoly (ethylene oxide)
B) There is siloxane. (In the formulas (1) to (4), m, n and s are each 1)
Represents an integer of -40, o is an integer of 1-30, p is 1-3
0 is an integer, q is an integer from 1 to 30, r is an integer from 1 to 30
R represents a hydrogen atom or a linear or 1 to 15 carbon atom
Represents a branched alkyl group. ) Among these, poly (ethyleneoxy) siloxane is preferable.
Sun. Silicone surfactant used in the present invention
Modified by introducing a part of carboxylic acid group or sulfonic acid group
Also included. The silicone surfactant as described above is
Examples of commercially available products that are generally available in the market
SM-5512 (made by Toray Silicone), SH-20
0 (made by Toray Silicone), DB110N (Dow Corning)
), Silicone X-20-250, X-20-308, X-20-35
2, F-260, F-239, X-22-351, X-22-945, X-22-94
4, X-20-307 (manufactured by Shin-Etsu Chemical). Silicone
The molecular weight of the surfactant is preferably 100 to 10,000.
500 to 5000 is more preferable, and 1000 to 3
500 is most preferred. The molecular weight is less than 100
In this case, it is impossible to obtain the dissolution deterrence against the image area.
If it exceeds 10,000, the developability of the non-image area is low.
Sometimes Silicone surfactant in developer
May be used singly or in combination of two or more
Yes. The content of the silicone surfactant in the developer is
0.001 to 10.0% by mass is suitable, preferably
0.01-5.0 mass%, More preferably, 0.1-1.
0% by mass. If it is less than 0.001% by mass,
The effect of improving the degree is not sufficient, while 10.0
When the amount exceeds mass%, development residue tends to be generated. The alkali developing solution used in the present invention is:
As above, alkali silicate or non-reducing sugar and salt
A developer containing a group is used as a cation component.
From Li⁺, Na⁺, K⁺, NH_Four ⁺Used in
Is a system containing many cations with a small ionic radius.
Is highly permeable to the image forming layer and excellent developability,
Dissolves up to the image area and causes image defects. Therefore, Arca
There is a certain limit to increasing the density,
The image forming layer (residual) is not formed on the non-image area without causing defects.
In order to process completely so that the film does not remain, subtle
It was required to set a proper liquid condition. However, the cation
As a component, a cation having a large ionic radius is used.
This suppresses the penetration of the developer into the image forming layer.
Can reduce alkali concentration, i.e. developability.
And improve the dissolution suppression effect of the image area
Can do. As the cation component, the alkali gold
Other cations in addition to genus cations and ammonium ions
Can also be used. In the alkaline developing solution used in the present invention,
Add additional surfactants other than those mentioned above
Can do. Surfactants include nonionic surfactants, a
Nonionic surfactant, cationic surfactant, amphoteric interface
An activator is mentioned. Nonionic surfactants include
Lioxyethylene polystyryl phenyl ethers, groups
Lysine fatty acid partial ester, sorbitan fatty acid part
Esters, pentaerythritol fatty acid partial esters
, Propylene glycol mono fatty acid esters, Sucrose fatty acid partial esters, polyoxy
Ethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxy
Ethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene
Lenglycol fatty acid esters, polyglycerin fat
Acid partial esters, polyoxyethylenated castor oils,
Polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters,
Fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydride
Roxyalkylamines, polyoxyethylene alkyl
Amine, triethanolamine fatty acid ester, tria
Suitable examples include alkylamine oxide. Examples of the anionic surfactant include fat.
Acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfo
Phosphates, alkane sulfonates, dialkyl sulfos
Succinate esters, α-olefin sulfonates, direct
Chain alkylbenzene sulfonates, branched chain alkylbenzenes
Sulfonates, alkyl naphthalene sulfonic acids
Salts, alkylphenoxypolyoxyethylenepropyl
Sulfonates, polyoxyethylene alkylsulfof
Phenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl tauri
Sodium salt, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide
Disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil,
Sulfuric acid ester salts of fatty acid alkyl esters, alkyl
Sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether
Sulfates, Fatty acid monoglyceride sulfate salts,
Polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate
Tellurium salts, polyoxyethylene styryl phenyl ether
Sulfate esters, alkyl phosphate esters,
Lioxyethylene alkyl ether phosphate ester salt
, Polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphorus
Acid ester salts of styrene / maleic anhydride copolymer
Of partially saponified products, olefin / maleic anhydride copolymer
Partially saponified products, naphthalenesulfonate formalin condensation
Preferred examples include materials. As the cationic surfactant, for example,
Rukylamine salts, tetrabutylammonium bromide
Quaternary ammonium salts such as polyoxyethylene alcohol
Killamine salts, polyethylene polyamine derivatives, etc.
Can be mentioned. Examples of amphoteric surfactants include sulfobe
Tines, amino sulfates, imidazolines, etc.
Is mentioned. Among the above surfactants, “polyoxy
The term “ethylene” refers to polyoxymethylene,
Polyoxya such as xylene, polyoxybutylene
It can also be read as Rukiren,
Included in surfactants. The above surface activity in the developer
The concentration of the sexing agent is preferably 0.001 to 10.0% by mass.
0.01 to 5.0 mass% is more preferable, 0.1
-1.0 mass% is the most preferable. Further development performance is included in the alkaline developing solution.
For the purpose of enhancing the
Yes. For example, N described in JP-A-58-75152
Neutral salts such as aCl, KCl, KBr, JP-A-58-1
EDTA, NTA, etc. described in Japanese Patent No. 90952
As described in JP-A-59-121336.
o (NH_Three)₆] Cl_ThreeCoCl₂・ 6H₂O, etc.
Body, an alkylna described in JP-A-50-51324
Sodium phthalene sulfonate, n-tetradecyl-N, N
-Anionic or amphoteric such as dihydroxyethyl betaine
Surfactant, U.S. Pat. No. 4,374,920
Nonionic fields such as tetramethyldecynediol as described
Surfactant, p- described in JP-A-55-95946
Methyl chloride of dimethylaminomethyl polystyrene
Cationic polymers such as quaternary compounds,
Vinylbenzyltrimethyl described in No. 142528
Copolymerization of ammonium chloride and sodium acrylate.
Amphoteric polymer electrolytes such as those disclosed in JP-A-57-192951
Reducing inorganic salts such as sodium sulfite described in Japanese Patent No.
Such as lithium chloride described in JP-A-58-59444
Inorganic lithium compounds, disclosed in JP 59-75255 A
Organometallic surfactants containing the described organic Si, Ti, etc.,
Organoboron compounds described in JP-A-59-84241
, Tetraalkyls described in EP101010
Quaternary ammonium salts such as ammonium oxide
Can be mentioned. Further, the surface tension of the developer is 65 dys.
Ne / cm or less is preferable, especially 60 dyne / cm or less is more preferable
Good. The surface tension of the developer is determined by, for example, the vibration jet method.
Automatic and dynamic surface tension as a measuring instrument
There is a force meter JET type. Use of alkaline developing solution in the present invention
The embodiment is not particularly limited. In recent years, especially made
Streamline and standardize plate making work in the plate and printing industry
Therefore, automatic processors for printing plate materials are widely used.
The This automatic processor generally consists of a developing section and a post-processing section.
, A device for transporting printing plate material, each treatment liquid tank and spray
Conveying the exposed printing plate horizontally
Then, each processing liquid pumped up by the pump is sprayed from the spray nozzle.
It is developed by spraying. Also recently processed
In the processing liquid tank filled with liquid, use a submerged guide roll, etc.
Also known is a method of immersing and transporting printing plate materials.
ing. In such automatic processing, each processing solution is processed.
Processing while replenishing the replenisher according to the reasoning and operating time
can do. In this case, the alkali strength is higher than that of the developer.
By adding an aqueous solution as a replenisher to the developer.
Without changing the developer in the developer tank for a long time.
An amount of imaging material can be processed. Alkali development of the present invention
This replenishment method is also used when using processing solutions.
Is a preferred embodiment. As the replenisher, the above
From the developer for development.
Can also be used as an aqueous solution with high alkali strength
The The developer and developer replenisher include developability.
Promotion and suppression, development residue dispersion, and the printing plate image area
Various other than the above as necessary to improve
Surfactants and organic solvents can also be added. World
As the surfactant, as described above, anionic and nonionic
You can choose from a series, cationic or amphoteric surfactant
Benzyl alcohol is preferred as the organic solvent.
Yes. Polyethylene glycol or its derivatives
Body, or polypropylene glycol or its derivatives
The addition of and the like is also preferable. If necessary, hydro
Quinone, resorcin, sulfurous acid or bisulfite sodium
Inorganic salt reducing agent such as um salt or potassium salt, organic
Carboxylic acid, antifoaming agent, water softener can be added
The Using an alkaline developing solution and a replenisher,
The image-processed lithographic printing plate should be washed with water or a surfactant.
Contains no rinsing liquid, gum arabic or starch derivatives
Post-treatment is performed with a sensitizing solution (gum solution). For this post-processing
Can be performed in various combinations of these treatment solutions.
The In addition, processing with a substantially unused developing solution.
It is also possible to use a so-called disposable processing method. Next, a lithographic stamp applicable to the plate making method of the present invention.
The printing plate precursor will be described. Infrared photosensitive lithographic printing plate
Has an image-forming layer on the support, and if necessary
It has other layers, and the image forming layer is (A) infrared absorbing dye
(B1) Al having a carboxyl group
Potassium-soluble polymer, (B2) alkali-soluble tree
Fat, (C) Alkali-soluble high in (B1) and (B2)
The alkali-soluble polymer compound that is compatible with the molecular compound
And reducing the solubility of the resin in an alkaline aqueous solution
In addition, a compound whose solubility-reducing action is reduced by heating,
(D) It comprises a cyclic acid anhydride. Also,
In the case of a negative type lithographic printing plate precursor, the exposed area is cured.
In order to become an image area, (E) heat is further applied to the image forming layer.
Compound that generates acid and (F) Crosslinker that crosslinks with acid
And containing. For each component below
Briefly described. -(A) Infrared absorbing dye- The infrared absorbing dye used in the image forming layer absorbs infrared light.
There is no particular limitation as long as it is a dye that generates heat and generates heat.
Various dyes known as absorbing dyes can be used
The Infrared absorbing dyes include commercially available dyes or literature (eg
For example, “Dye Handbook”, edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, Showa 45
For example, azo dyeing
Materials, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphtho
Non dye, anthraquinone dye, phthalocyanine dye,
Carbonium dye, quinoneimine dye, methine dye,
Anine dyes, squarylium pigments, pyrylium salts, metals
And dyes such as thiolate complexes. Of these dyes
Among them, those that absorb infrared light or near infrared light are infrared.
Suitable for use with lasers that emit light or near infrared light
Is particularly preferable. Absorbs such infrared light or near infrared light.
Examples of dyes to be collected include, for example, JP-A-58-125246.
JP, 59-84356, JP 59-2028
No. 29, cyanine described in JP-A-60-78787, etc.
Dye, JP-A-58-173696, JP-A-58-18
1690, Japanese Patent Laid-Open No. 58-194595, etc.
Chin dye, JP-A-58-112793, JP-A-58-
224793, JP-A-59-48187, JP-A-5
9-73996, JP-A-60-52940, JP-A
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-63744, etc.
Squarylium color described in Sho58-112792 etc.
Cyanine described in British Patent 434,875
Dyes described in US Pat. No. 5,380,635
Preferred examples include hydroperimidine squarylium dyes.
It is. Also, as a dye, US Pat. No. 5,156,
Also preferred is a near-infrared absorption sensitizer described in No. 938,
The substitution described in US Pat. No. 3,881,924
Aryl benzo (thio) pyrylium salts,
-142645 (US Pat. No. 4,327,169)
Trimethine thiapyrylium salt described in Japanese Patent Publication No.
-181051, 58-220143, 59-
41363, 59-84248, 59-842
49, 59-146063, 59-14606
The pyrylium compound described in No. 1, JP 59-216 A
146, a cyanine dye described in US Pat. No. 4,28.
Pentamethine thiopylium described in 3,475 specification
To salt etc., Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702
The described pyrylium compounds, commercially available products include Epolight I
II-178, Epolight III-130, Epolight III-12
5. Epolight IV-62A (Eporin) is also preferred.
Yes. Further, the formula described in U.S. Pat.
Suitable near infrared absorbing dyes represented by (I) and (II)
Can be mentioned. Of the above, cyanine color
Element, squarylium dye, pyrylium salt, nickelthio
A rate complex is more preferred. More specifically, it is represented by the following general formula (Z).
Can be mentioned. [0054] In the general formula (Z), R^{twenty one}~ R^{twenty four}It
Each independently a hydrogen atom or an optionally substituted carbon
Prime number 1-12 alkyl group, alkenyl group, alkoxy
Group, cycloalkyl group, aryl group, R^{twenty one}When
R^{twenty two}, R^{twenty three}And R^{twenty four}Are bonded together to form a ring structure
May be. R^{twenty one}~ R^{twenty four}As, for example, a hydrogen atom,
Methyl group, ethyl group, phenyl group, dodecyl group, naphthy
Group, vinyl group, allyl group, cyclohexyl group, etc.
These groups may further have a substituent.
Yes. Here, as the substituent, for example, a halogen atom,
Carbonyl group, nitro group, nitrile group, sulfonyl group,
Carboxyl group, carboxylic acid ester, sulfonic acid ester
And the like. Where R^{twenty five}~ R³⁰Are each independently replaced
Represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a group.
And R^{twenty five}~ R³⁰For example, methyl group, ethyl
Group, phenyl group, dodecyl group, naphthyl group, vinyl
Groups, allyl groups, cyclohexyl groups, etc., and these
This group may further have a substituent. Where
Examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group,
Nitro group, nitrile group, sulfonyl group, carboxyl
Groups, carboxylic acid esters, sulfonic acid esters, etc.
It is done. Where R³¹~ R³³Are each independently hydrogen
Atoms, halogen atoms, or carbon atoms that may have a substituent
Represents an alkyl group of 1 to 8;³²R³¹Or
R³³To form a ring structure, and m> 2
If more than one R³²Are linked together to form a ring structure
May be. R³¹~ R³³For example, chlorine source
Child, cyclohexyl group, R³²Cyclo formed by bonding each other
Pentyl ring, cyclohexyl ring, etc., and these
The group may further have a substituent. Where replace
Examples of the group include a halogen atom, a carbonyl group, and a nitrogen group.
Toro group, nitrile group, sulfonyl group, carboxyl group,
Examples include carboxylic acid esters and sulfonic acid esters.
The M represents an integer of 1 to 8, with 1 to 3 being preferred.
Good. Where R³⁴~ R³⁵Are each independently hydrogen
Atoms, halogen atoms, or carbon atoms that may have a substituent
Represents an alkyl group of 1 to 8;³⁴Is R³⁵Combined with
May form a ring structure, and if m> 2,
R³⁴They may be bonded to each other to form a ring structure. Previous
R³⁴~ R³⁵For example, chlorine atom, cyclohex
Sil group, R³⁴Cyclopentyl ring formed by bonding together,
Chlorohexyl ring, etc., and these groups are further substituted.
It may have a substituent. Here, examples of the substituent include
For example, halogen atom, carbonyl group, nitro group, nitrile
Group, sulfonyl group, carboxyl group, carboxylic acid ester
And sulfonic acid esters. M
Represents an integer of 1 to 8, among which 1 to 3 is preferable. Where X^-Represents an anion, for example
Perchloric acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triiso
Propylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-O-toluene
Ensulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethyl
Tylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylben
Zensulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-
Chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfone
Acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid,
Decylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfur
Phosphonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoy
Ru-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, etc.
Is mentioned. Among them, hexafluorophosphoric acid, triisopro
Pyrnaphthalene sulfonic acid, 2,5-dimethylbenzene
Alkyl aromatic sulfonic acids such as sulfonic acids are preferred. Among the compounds represented by the general formula (Z),
However, specifically, the following compounds are preferably used.
However, the present invention is not limited to these.
Yes.The content of the infrared absorbing dye as described above
The total solid content mass of the image forming layer is 0.01 to 50.
% By mass is preferable, 0.1 to 10% by mass is more preferable,
Furthermore, 0.5-10 mass% is the most preferable. The content is
If it is less than 0.01% by mass, the sensitivity may be lowered.
When the content exceeds 50% by mass, the uniformity of the image forming layer decreases.
However, the durability may deteriorate. -(B1) Alkaline having carboxyl group
Re-soluble polymer compound (hereinafter referred to as “component (B1)”
There is also. ) (B1) Component polymer compound includes a carboxyl group
Any alkali-soluble polymer compound having
Although it is good, the high molecular compound (b1-1) defined below,
(B1-2) is preferred. (B1-1) A polymerizable monomer represented by the following general formula (1)
-Alkali-soluble polymer compound having a unit (hereinafter referred to as high
(Also referred to as molecular compound (b1-1)) Wherein Xm is a single bond or a divalent linking group, Y is hydrogen or
Is a carboxyl group, Z is hydrogen, alkyl group or carbo
Represents a xyl group. ) Constructs a polymerizable monomer unit represented by the general formula (1)
As monomers, carboxyl groups and polymerizable unsaturated
There are polymerizable monomers having at least one group in the molecule.
The Specific examples of such polymerizable monomers include acrylics.
Phosphoric acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride,
Α, β-unsaturated carboxylic acids such as taconic acid and itaconic anhydride
Acids can be mentioned. Polymerizable monomer having a carboxyl group
As a monomer to be copolymerized with-, for example, the following (1) ~
(11), but is not limited to these.
Yes. (1) 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxy
Acyl having an aliphatic hydroxyl group such as
Rylic acid esters and methacrylic acid esters. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid
Propyl, butyl acrylate, amyl acrylate, acrylic
Hexyl rillate, octyl acrylate, benzoic acid benzoate
Jill, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate
Relate, N-dimethylaminoethyl acrylate, etc.
Alkyl acrylate. (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, methacrylate
Propyl propyl, butyl methacrylate, methacrylate
Mill, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate
Sil, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2-chloro
Roethyl, glycidyl methacrylate, N-dimethyla
Alkyl methacrylates such as minoethyl methacrylate
G. (4) Acrylamide, methacrylamide,
N-methylolacrylamide, N-ethylacrylic
Mido, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohex
Silacryl amide, N-hydroxyethyl acrylic
Mido, N-phenylacrylamide, N-nitropheny
Luacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylic
Acrylamide such as amide or methacrylamide. (5) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether
Ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl
Nyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl
Vinyl ethers such as ether and phenyl vinyl ether
Kind. (6) Vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl
Vinyl esters such as rubutylate and vinyl benzoate. (7) Styrene, α-methylstyrene, methylstyrene,
Styrenes such as chloromethylstyrene. (8) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone
T, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, etc.
Vinyl ketones. (9) Ethylene, propylene, isobutylene, butadiene
And olefins such as isoprene. (10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole,
4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacryloni
Trill etc. (11) Maleimide, N-acryloylacrylamide, N
-Acetylmethacrylamide, N-propionylmetac
Rilamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacryl
Unsaturated imides such as amides. Also preferred are monomers of general formula (2)
Used. Wherein X is O, S, or N—R¹²Represents. R^Ten~ R
¹²Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
m, n and o each independently represents an integer of 2 to 5;
_mH_2m, C_nH_2n, C_oH_2oAre each a straight chain or branched structure
But you can. p, q, and r are each independently 0 to 3,000.
P + q + r ≧ 2. R^Ten~ R¹²As the alkyl group in
Those having 1 to 12 carbon atoms are preferred.
Til, ethyl, n-propyl, isopropyl, etc.
And so on. p, q, r are preferably from 0 to 500
An integer of 0 to 100, more preferably an integer of 0 to 100
The Corresponds to the repeating unit represented by the general formula (2)
Although the example of a monomer is given below, it is not this limitation. [0068] [Chemical 1][0069] [Chemical 2] The repeating unit represented by the general formula (2)
Is a commercially available hydroxypoly (oxyalkylene) material,
For example, the product name Pluronic (Asahi Denka Kogyo)
ADEKA polyether (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)
Manufactured by Carbowax (Glico Product)
), Triton (Rohm and Haas)
(Rohm and Haas) and P.E.G (Daiichi Kogyo Seiyaku)
A product sold as
Kuryl acid, methacrylic acid, acrylic chloride, methacrylate
By reacting with luchloride or acrylic anhydride, etc.
Can be manufactured. Separately, poly (o
Xylalkylene) diacrylate can also be used
The Commercially available monomers include Nippon Oil & Fats Co., Ltd.
Company-made hydroxyl-terminated polyalkylene glycol mono (medium
B) Blemmer PE-90, Blemmer P as acrylate
E-200, Blemmer PE-350, Blemmer AE-90, Blemma
ー AE-200 、 Blemmer AE-400 、 Blemmer PP-1000 、
Lemmer PP-500, Bremmer PP-800, Bremmer AP-15
0, Blemmer AP-400, Blemmer AP-550, Blemmer A
P-800, Blemmer 50PEP-300, Blemmer 70PEP-350B,
BLEMMER AEP series, BLEMMER 55PET-400, blur
Nimmer 30PET-800, Blemmer 55PET-800, Blemmer AE
T series, Bremmer 30PPT-800, Bremmer 50PPT-80
0, Bremmer 70PPT-800, Bremmer APT series,
Renmer 10PPB-500B, Bremer 10APB-500B, etc.
It is done. Similarly, alkyl-terminated poly made by NOF Corporation
As alkylene glycol mono (meth) acrylate
Blemmer PME-100, Blemmer PME-200, Blemmer PM
E-400, Blemmer PME-1000, Blemmer PME-4000,
Lemmer AME-400, Bremmer 50POEP-800B, Bremmer
50AOEP-800B, Blemmer PLE-200, Blemmer ALE-20
0, Blemmer ALE-800, Blemmer PSE-400, Blemma
-PSE-1300, Blemmer ASEP series, Blemmer PKEP
Series, Blemmer AKEP series, Blemmer ANE-30
0, Bremmer ANE-1300, Bremmer PNEP series,
Lemmer PNPE series, Bremmer 43ANEP-500, Blen
MER 70ANEP-550 etc., and Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Light
Ester MC, light ester 130MA, light ester 041
MA, light acrylate BO-A, light acrylate EC-
A, light acrylate MTG-A, light acrylate 130
A, Light acrylate DPM-A, Light acrylate P-20
0A, light acrylate NP-4EA, light acrylate NP
-8EA. Carbo in polymer compound (b1-1)
Xyl group and polymerizable unsaturated group in the molecule
Minimum structural unit having one or more polymerizable monomer components
Does not have to be one kind in particular, and has the same acidic group
2 or more minimum structural units having different acidic groups
Use a copolymer of two or more minimum structural units
You can also. Conventionally known copolymerization methods
Graft copolymer, block copolymer, random copolymer
The method etc. can be used. (B1-2) having a carboxyl group
Diol represented by general formula (3), (4) or (5)
Compound and diisocyanate represented by the following general formula (8)
Carboxyl group with reaction product with compound as basic skeleton
Alkali-soluble polymer compound (hereinafter referred to as “polymerization”)
Also referred to as compound (b1-2). ) [0074] In the above formula, R¹³Is a hydrogen atom, a substituent (eg alkyl,
Aryl, alkoxy, ester, urethane, amide,
Ureido and halogeno groups are preferred. )
May be alkyl, alkenyl, aralkyl, aryl,
An alkoxy or aryloxy group, preferably a hydrogen atom
Child, alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or carbon atom
An alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms and an ant having 6 to 15 carbon atoms
Represents an alkyl group. R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶Are the same but
May be different, single bond, substituent (eg alkyl,
Alkenyl, aralkyl, aryl, alkoxy and ha
Each group of Logeno is preferred. ) Which may have
Indicates an aliphatic or aromatic hydrocarbon. Preferably a carbon atom
An alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an ant having 6 to 15 carbon atoms
-Lene group, more preferably an alkyl having 1 to 8 carbon atoms.
Rene group is shown. If necessary, R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶During ~
Other functional groups that do not react with isocyanate groups, e.g.
Steal, urethane, amide, ureido, carbon-
It may have a carbon unsaturated bond. R¹³,
R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶Even if two or three of them constitute a ring
Good. Ar is a trivalent aromatic carbon which may have a substituent.
A hydrogen fluoride, preferably an aromatic having 6 to 15 carbon atoms
Indicates a group. OCN-R¹⁸-NCO (8) Where R¹⁸Is a substituent (eg alkyl, alkenyl,
Aralkyl, aryl, alkoxy, and halogeno groups are preferred
Good. ) May be divalent aliphatic or aromatic
Indicates hydrocarbon. R if necessary¹⁸Isocyanate in
Other functional groups that do not react with groups, eg esters, ureta
, Amide, ureido group, carbon-carbon unsaturated bond
It may be. Represented by the general formula (3), (4) or (5)
Specific examples of diol compounds having a carboxyl group
Includes the following: That is, 3,5-dihydride
Loxybenzoic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propyl
Lopionic acid, 2,2-bis (2-hydroxyethyl) propyl
Lopionic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl)
Propionic acid, bis (hydroxymethyl) acetic acid, bis
(4-hydroxyphenyl) acetic acid, 4,4-bis (4-
Hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid, N, N-bi
(2-hydroxyethyl) -3-carboxy-propi
And onamide. It has a carboxyl group (b1-2)
The alkali-soluble polymer compound is represented by the following general formula (6) or
(7) is a reaction product that combines the diol represented by
It is preferable. Where R¹⁷Are each a hydrogen atom or 1-8 carbon atoms
Represents an alkyl group, and n represents an integer of 2 or more. R¹⁷In
Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include
Til, ethyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl
And the like. In the following, the general formula (6) or
Specific examples of the diol represented by (7) are shown below.
It is not limited to these. Specific example of formula (6) HO-(-CH₂CH₂O-)_Three-H HO-(-CH₂CH₂O-)_Four-H HO-(-CH₂CH₂O-)_Five-H HO-(-CH₂CH₂O-)₆-H HO-(-CH₂CH₂O-)₇-H HO-(-CH₂CH₂O-)₈-H HO-(-CH₂CH₂O-)_Ten-H HO-(-CH₂CH₂O-)₁₂-H Polyethylene glycol (average molecular weight 1000) Polyethylene glycol (average molecular weight 2000) Polyethylene glycol (average molecular weight 4000) HO-(-CH₂CH (CH_Three) O-)_Three-H HO-(-CH₂CH (CH_Three) O-)_Four-H HO-(-CH₂CH (CH_Three) O-)₆-H Polypropylene glycol (average molecular weight 1000) Polypropylene glycol (average molecular weight 2000) Polypropylene glycol (average molecular weight 4000) Specific example of formula (7) HO-(-CH₂CH₂CH₂O-)_Three-H HO-(-CH₂CH₂CH₂O-)_Four-H HO-(-CH₂CH₂CH₂O-)₈-H HO-(-CH₂CH₂CH (CH_Three) O-)₁₂-H Diisocyanate conversion represented by the general formula (8)
Specific examples of the compound include those shown below. You
That is, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,4-
Dimer of tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene
Diisocyanate, p-xylylene diisocyanate,
m-xylylene diisocyanate, 4,4'-dipheni
Lumethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diiso
Cyanate, 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4 '
-Aromatic diisocyanates such as diisocyanates
Compound; hexamethylene diisocyanate, trimethyl
Hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate
Aliphatic diesters such as
Isocyanate compounds, isophorone diisocyanate,
4,4'-methylenebis (cyclohexylisocyanate
G), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6)-
Diisocyanate, 1,3- (isocyanate methyl)
Aliphatic diisocyanate compounds such as cyclohexane
Product; 1 mol of 1,3-butylene glycol and tolylene diene
Diols and dimers such as adducts with 2 moles of cyanate
Diisocyanate compound that is a reaction product with isocyanate
Such as things. Used for the synthesis of polymer compound (b1-2)
The molar ratio of diisocyanate and diol compound is preferred.
Or 0.8: 1 to 1.2 to 1 at the end of the polymer.
If isocyanate groups remain, alcohols or alcohol
Isocyanate is finally treated by treatment with mines.
Is synthesized in such a way that no radical remains. As the component (B1), the above polymer compound
Using one kind alone from (b1-1) and (b1-2)
Alternatively, two or more kinds may be used in combination. (B1) completion
Repeating unit having a carboxyl group contained in a minute
The content of is based on the total amount of each monomer of the component (B1)
2 mol% or more, preferably 2 to 70 mol%
More preferably, it is the range of 5-60 mol%. (B
1) The preferred weight average molecular weight of the component is 3000-30.
0.00 is preferred, 6,000 to 100,000 are
More preferred. Furthermore, a preferred addition amount of component (B1)
Is 0.005 to 8 based on the total solid mass of the image forming layer
The range is 0% by mass, preferably 0.01 to 50% by mass.
%, More preferably in the range of 1-20% by weight
It is. (B1) Component addition amount is not 0.0005 mass%
If it is full, the effect is insufficient, and more than 80% by mass.
If this happens, the coating film will not dry sufficiently or
The material performance (eg sensitivity) is adversely affected. -(B2) Alkali-soluble resin- Usable alkali-soluble resin (hereinafter referred to as “(B2)
Sometimes it is "minute". ) As the following (1) ~
(3) Acid group in main chain and / or side chain structure
Alkaline water-soluble polymer compounds can be used
The (1) Phenol group (-Ar-OH) (2) Sulfonamide group (—SO₂NH-R) (3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide”
It is called "base". ) [-SO₂NHCOR, -SO₂NHSO₂R, -CON
HSO₂R] In the above (1) to (3), Ar may have a substituent.
R represents a divalent aryl linking group, and R has a substituent.
Represents an optionally substituted hydrocarbon group. Specific examples are shown below.
However, the present invention is not limited to these.
Absent. (1) Alkali-soluble with a phenol group
Examples of the functional polymer compound include phenol and form.
Condensation polymer with aldehyde, m-cresol and formal
Condensation polymer with aldehyde, p-cresol and formaldehyde
A polycondensation polymer with m- / p-mixed cresol and formua
Condensation polymer with aldehyde, phenol and cresol (m
Any of-, p- or m- / p-mixing may be used. ) And ho
Novolac resin such as condensation polymer with rumaldehyde or
Mention may be made of condensation polymers of rogalol and acetone.
The In addition, monomers with phenol groups in the side chain
There may also be mentioned combined polymer compounds. Polymer having a phenolic hydroxyl group in the side chain
Compounds include unsaturated polymers that can polymerize with phenolic hydroxyl groups.
Consists of low molecular compounds each having one or more sum bonds
Homopolymerization of a polymerizable monomer, or the polymerizable monomer
Polymerization obtained by copolymerizing with other polymerizable monomers
Compound may be mentioned. Monomers having a phenol group in the side chain
As for acrylamido having a phenol group in the side chain.
, Methacrylamide, acrylic ester, methacrylate
Examples of the acid ester include hydroxyester and hydroxystyrene. Specifically, N- (2-hydroxypheny
E) Acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl)
Acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) aqua
Rilamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacryl
Luamide, N- (3-hydroxyphenyl) methacryl
Amide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide
Imide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydride
Roxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl
Acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate
, M-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydride
Roxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene
, M-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene
2- (2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate
2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate
2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate
2- (2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate
2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate
Rate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate
Preferable examples include relation. Alkali soluble having the phenol group
The weight average molecular weight of the polymer compound is 5.0 × 10
²~ 2.0 × 10^FiveAs for the number average molecular weight,
2.0 × 10²~ 1.0 × 10^FiveThat is image-forming
This is preferable. Alkaline with phenol group
Soluble polymer compounds are not only used alone but also two types
The above may be used in combination. When combining
Is described in U.S. Pat. No. 4,123,279.
Such as t-butylphenol and formaldehyde
Condensation polymers of octylphenol and formaldehyde
An alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, such as a condensation polymer with
Condensation of phenol and formaldehyde as a substituent
A polymer may be used in combination. These condensation polymers are also
Average molecular weight is 5.0 × 10²~ 2.0 × 10^FiveThings
Average molecular weight 2.0 × 10²~ 1.0 × 10^FiveLike things
That's right. (2) Alkali having a sulfonamide group
Examples of soluble polymer compounds include sulfonamides.
Polymerization using a group-containing compound as the main monomer constituent unit
Other than the homopolymer or the monomer constitutional unit
Mention may be made of copolymers obtained by copolymerizing polymerizable monomers.
it can. As a polymerizable monomer having a sulfonamide group
At least one hydrogen on a nitrogen atom in one molecule
Atom-bound sulfonamide group -SO₂-NH-
Low content having at least one polymerizable unsaturated bond
And monomers composed of a child compound. Above all,
Substituted with a liloyl group, allyl group or vinyloxy group, or
Mono-substituted aminosulfonyl group or substituted sulfonylimino
And a low molecular weight compound having a group. Low molecular weight
Examples of the compound include those represented by the following general formulas (a) to (e).
In the present invention, this is
It is not limited to that. [0090]Where X¹, X²Each independently
Child or NR⁷Represents. R¹, R^FourAre each independently hydrogen
Atom or CH_ThreeRepresents. R², R^Five, R⁹, R¹², R¹⁶Is
1 to 1 carbon atoms that may each independently have a substituent
2 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group
Or represents an aralkylene group. R^Three, R⁷, R¹³Is that
Independently, a hydrogen atom and optionally having 1 substituent
~ 12 alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups or
Represents an aralkyl group. R⁶, R¹⁷Respectively
C 1-12 al which may have a substituent independently
Kill group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group
Represents. R⁸, R^Ten, R¹⁴Are independently hydrogen atoms
Or CH_ThreeRepresents. R¹¹, R¹⁵Are each independent
Or an alkyl having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent
A xylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or ara
Represents a ruxylene group. Y¹, Y²Are each independently a single bond or
Represents CO. Among them, m-aminosulfonylphenyl meta
Acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl)
Tacrylamide, N- (p-aminosulfonylpheny
E) Acrylamide and the like can be preferably used. (3) Alkali-soluble with an active imide group
Examples of the functional polymer compound include an active imide group
A polymer whose main monomer constituent unit is
Can. Mainly compounds with active imide groups
As a polymer as a monomer constituent unit, in one molecule,
An active imide group represented by the following formula and a polymerizable unsaturated bond
Mono-comprising low molecular weight compounds each having one or more
Homopolymerization of the monomer, or other polymerizable monomers
List polymer compounds obtained by copolymerization of mer
Can do. [0094] As such a compound, specifically,
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-toluenesulfonyl) acrylamide and the like are preferable
Can be listed. In addition to the above,
A polymerizable monomer having a nor group, a sulfonamide group
Polymerizable monomer having an active imide group
High that polymerizes any two or more of functional monomers
Molecular compound or two or more kinds of these polymerizable monomers
Obtained by copolymerizing with other polymerizable monomers
Also preferred are molecular compounds. Polymerizable monomer having a phenol group (M
1) a polymerizable monomer having a sulfonamide group (M
2) and / or polymerizable monomer having an active imide group
Mixing ratio when copolymerizing (M3) (M1: M2 and
(Or M3; mass ratio) is 50:50 to 5:95.
Is preferable, and 40:60 to 10:90 is more preferable. The alkali-soluble resin has the acidic group (1).
Monomer constituting unit having any one selected from (3)
And other structural units of polymerizable monomers
In the case of a copolymer, the acidic group in the copolymer
Monomer having any one selected from (1) to (3)
It is preferable to contain 10 mol% or more of structural units,
More preferably, it is contained in excess of 1%. Monomer constituent unit
If the content of the position is less than 10 mol%, sufficient
The development latitude is reduced without re-solubility.
There is. As a method for synthesizing the copolymer, conventionally,
Known graft copolymerization method, block copolymerization method, random
A copolymerization method or the like can be used. Selected from the acidic groups (1) to (3)
Polymerizable monomer comprising monomer having a difference
Examples of other polymerizable monomers copolymerized with
For example, list the monomers listed in (a) to (1) below.
However, the present invention is not limited to these.
Not. (A) 2-hydroxyethyl acrylate or
Is an aliphatic hydroxide such as 2-hydroxyethyl methacrylate
Group-containing acrylic esters, methacrylic acid ester
Le. (B) Methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic
Propyl butyl, butyl acrylate, amyl acrylate, amyl
Hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic acid base
Nylyl, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl
Chlorate, N-dimethylaminoethyl acrylate, etc.
Alkyl acrylates. (C) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, meta
Propyl crylate, butyl methacrylate, methacrylic acid
Amyl, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate
Xylyl, benzyl methacrylate, 2-methacrylic acid
Loroethyl, glycidyl methacrylate, N-dimethyl
Alkyl methacrylate such as aminoethyl methacrylate
G. (D) Acrylamide and methacrylamid
, N-methylolacrylamide, N-ethylacryl
Luamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclo
Hexyl acrylate amide, N-hydroxyethyl acrylate
Luamide, N-phenylacrylamide, N-nitrof
Phenyl acrylamide, N-ethyl-N-phenyl acrylate
Acrylamide such as rilamide, or methacrylamid
De. (E) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl
Ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl
Vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl
Vinyl ethers such as ruether and phenyl vinyl ether
Le. (F) Vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl
Vinyl esters such as nilbutyrate and vinyl benzoate
Kind. (G) Styrene, α-methylstyrene, methylstyrene
And styrenes such as chloromethylstyrene. (H) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl
Ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone
Vinyl ketones such as (I) ethylene, propylene, isobutylene, butadiene
And olefins such as isoprene. (J) N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl carbazo
, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylate
Ronitrile etc. (K) maleimide, N-acryloylacrylamide,
N-acetylmethacrylamide, N-propionylmeta
Kurylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacryl
Unsaturated imides such as luamide. (L) Acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride,
Unsaturated carboxylic acids such as taconic acid. As the alkali-soluble resin, a single weight is used.
Regardless of the polymer or copolymer, the weight average
A molecular weight of 2000 or more and a number average molecular weight of 500 or more
Is preferred, and the weight average molecular weight is 5,000 to 30,000.
0, number average molecular weight is 800-250,000, dispersed
The degree (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1. .1-10
Are more preferred. The alkali-soluble resin
Is phenol-formaldehyde resin, cresol-
In the case of an aldehyde resin or the like, the weight average molecular weight is 5
It is 00-20000, and the number average molecular weight is 200-1
Those of 0000 are preferred. The content of the alkali-soluble resin
Is 30 to 99 mass relative to the total solid mass of the image forming layer
% Is preferable, 40 to 95 mass% is more preferable, 50
-90% by weight is most preferred. The content is 30 mass
If it is less than%, the durability of the image forming layer may decrease.
Yes, if it exceeds 99% by mass, the sensitivity and durability will decrease.
Sometimes. The alkali-soluble resin is one kind.
Can be used alone or in combination of two or more
Yes. -(C) a containing a carboxyl group
Lucari-soluble polymer and alkali-soluble resin
The aqueous solution of the polymer compound and the resin
Reduces solubility in liquid and dissolves by heating
Compound with reduced activity--this component (C) is a molecule
By the action of the hydrogen bonding functional group present in the
Good compatibility with the components (B1) and (B2)
A single coating solution for an image forming layer can be formed, and the (B
1) and (B2) due to the interaction with component (B1)
And (B2) the function of inhibiting alkali solubility of the component (soluble
It refers to a compound having a degrading inhibitory action. Further, (B1) and (B2) are formed by heating.
The above-mentioned solubility-inhibiting effect on the minute disappears, but infrared absorption
When the collector itself is a compound that decomposes by heating,
Enough energy for decomposition, laser output, irradiation time, etc.
(B1) and (B2)
Can sufficiently reduce the solubility-inhibiting action of ingredients
Therefore, the sensitivity may be reduced. For this reason, (C)
The thermal decomposition temperature of the minute is preferably 150 ° C. or higher. As the component (C), the above (B1) and
Considering the interaction with the component (B2), for example, sulfo
Compounds, ammonium salts, phosphonium salts, amidation
Interaction with the alkali-soluble polymer compound such as a compound
Can be suitably selected from the possible compounds.
Arrangement of component (C) with component (B1) and component (B2)
The ratio (C / (B1 + B2) mass ratio) is generally 1
/ 99 to 25/75 is preferable. The above (A) red
The compound represented by the general formula (Z) described for the external absorption dye
Has the action of the component (C), for example, the general formula (Z)
By using a cyanine dye as shown in (A)
Can exert both effects of component and component (C)
The -(D) Cyclic acid anhydride- Further, a cyclic acid anhydride may be used in the image forming layer.
Yes. The cyclic acid anhydride has a carboxylic acid anhydride in its structure.
Having a bond conjugated to the carbonyl group of
By controlling the degradation rate by increasing the stability of the group,
The acid decomposes at an appropriate rate. for that reason,
Suppresses developability during storage and stabilizes developability for a long time
Can be maintained. As the cyclic acid anhydride, the following general formula
The compound represented by (9) or (10) is mentioned. [0108]In the general formula (9), R⁴¹, R⁴²Each
A hydrogen atom or a carbon atom optionally having a substituent
Number 1-12 alkyl group, alkenyl group, alkoxy
Group, cycloalkyl group, aryl group, carbonyl group,
Ruboxy group or carboxylic acid ester is represented. In addition,
R⁴¹, R⁴²May be linked to each other to form a ring structure.
R⁴¹, R⁴²As, for example, a hydrogen atom or a carbon atom
Unsubstituted alkyl group having 1 to 12 members, aryl group, alkyl
Preferred examples include a kenyl group and a cycloalkyl group.
Physically, hydrogen atom, methyl group, ethyl group, phenyl group,
Dodecyl, naphthyl, vinyl, allyl, cyclo
Hexyl groups, etc., and these groups are further substituted
It may have a group. R⁴¹, R⁴²Are connected to each other
When forming a structure, the cyclic group includes, for example,
Nylene group, naphthylene group, cyclohexene group, cyclope
Nten group and the like. Examples of the substituent include
Halogen atom, hydroxy group, carbonyl group, sulfo
Acid esters, nitro groups, nitrile groups, etc.
The In the general formula (10), R⁴³, R⁴⁴, R⁴⁵, R⁴⁶
Are independently hydrogen atom, hydroxy group, chlorine, etc.
A halogen atom, a nitro group, a nitrile group, or a substituent
An optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,
Lucenyl group, alkoxy group, cycloalkyl group, aryl
Group, carbonyl group, carboxy group or carboxylic acid
Represents an ester group and the like. R⁴³, R⁴⁴, R⁴⁵, R⁴⁶When
For example, a hydrogen atom, a halogen atom, or 1 carbon atom
~ 12 unsubstituted alkyl, alkenyl, carbon atoms
Preferred examples thereof include an aryl group of 6 to 12, specifically
Has methyl, vinyl, phenyl, allyl, etc.
Can be mentioned. These groups may have further substituents
Good. Examples of the substituent include a halogen atom and a hydride.
Roxy group, carbonyl group, sulfonate ester, nitro
Group, nitrile group, carboxy group and the like. Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride
Acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, hex
Sahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ^Four−
Tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride
Acid, 3-hydroxyphthalic anhydride, 3-methylphthalic anhydride
Phosphoric acid, 3-phenylphthalic anhydride, trimellitic anhydride
Acid, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, no phenyl
Maleic anhydride, dimethylmaleic anhydride, dichloroanhydride
Maleic acid, chloromaleic anhydride, succinic anhydride,
Are preferred. As content of cyclic acid anhydride
Is 0.5 to 20 quality with respect to the total solid content of the image forming layer.
% By weight is preferred, 1-15% by weight is more preferred,
10% by mass is most preferred. The content is 0.5% by mass
If the amount is less than 1, the developability maintenance effect may be insufficient.
If it exceeds 20% by mass, images may not be formed.
The The following constitutes the recording layer of the negative lithographic printing plate
It is an ingredient to do. -(E) Compound that generates acid by heat- If the image forming material is negative, it generates acid when heated.
A compound (hereinafter referred to as “acid generator”) is used in combination. this
The acid generator decomposes when heated above 100 ° C.
Increase the compound that generates acid. As the acid generated,
It must be a strong acid with a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid or hydrochloric acid.
preferable. Examples of the acid generator include iodonium salts and soot.
Such as rufonium salt, phosphonium salt, diazonium salt
Preferable examples include nium salts. Specifically, rice
Japanese Patent No. 4,708,925 and Japanese Patent Laid-Open No. 7-20629
In particular, sulfone can be used.
Iodonium salt, sulfonium with acid ion as counter ion
And salt of diazonium are preferable. As the diazonium salt, US Pat.
The diazonium salt compound described in 3,867,147,
Diazo described in US Pat. No. 2,632,703
Ni compounds, JP-A-1-102456, JP-A-1-
The diazo resin described in each publication of No. 102457 is also suitable.
I can make it. U.S. Pat. No. 5,135,83
No. 8 and the benzine described in US Pat. No. 5,200,544
Rusulfonates, JP-A-2-100054, JP-A-2-
2-100055 and JP-A-8-9444
Sulfonic acid esters and disulfonyl compounds are also preferred
Yes. Others described in JP-A-7-271029
Also preferred are rualkyl-substituted S-triazines. The acid
The amount of the generator added is the total solid mass of the image forming layer.
The content is preferably 0.01 to 50% by mass, and 0.1 to 40% by mass.
Is more preferable, and 0.5 to 30% by mass is most preferable. -(F) Crosslinking agent that crosslinks with acid- When the lithographic printing plate precursor is negative, it is crosslinked with acid.
A cross-linking agent (hereinafter sometimes simply referred to as “cross-linking agent”)
Combined. Examples of the crosslinking agent include the following:
You can. (I) placed at an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group
Substituted aromatic compounds (Ii) N-hydroxymethyl group, N-alkoxymethyl
Group or N-acyloxymethyl group-containing compound (iii) Epoxy compound Further, those described in JP-A-11-254850
And phenol derivatives. The amount of the crosslinking agent added is the image forming layer.
5 to 80 mass% is preferable with respect to the total solid content mass of 10
-75 mass% is more preferable, and 20-70 mass% is the most
preferable. Use the phenol derivative as a crosslinking agent
The amount of the phenol derivative added is image type
5 to 70% by mass is preferred based on the total solid content of the composition
10 to 50% by mass is more preferable. Various combinations above
The details of the product are disclosed in JP 2000-267265 A
Is described in the report. -Other components- A planographic printing plate precursor suitable for applying an alkali developing solution
Various additions are added to the image forming layer of the plate as necessary.
An agent can be added. For example, improve sensitivity
For the purpose, phenols, organic acids, sulfonyl compounds
A known additive such as can also be used in combination. Phenol
Bisphenol A, p-nitropheno
, P-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydride
Roxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzene
Nzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,
4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,
4 ', 3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5,3',
And 5'-tetramethyltriphenylmethane.
The Examples of the organic acids include JP-A-60-8.
No. 8942, JP-A-2-96755, etc.
Sulfonic acids, sulfinic acids, alkyls
Sulfuric acids, phosphonic acids, phosphate esters and cal
Bonic acids, etc., specifically p-toluenesulfo
Acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfuric acid
Finic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenyl
Phosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate,
Benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid,
3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalate
Acid, 4-cyclohexene-2,2-dicarboxylic acid, L
Caric acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid
Etc. Examples of sulfonyl compounds include
Bishydroxyphenylsulfone, methylphenyls
Luhon, diphenyldisulfone and the like can be mentioned. Above
Addition of phenols, organic acids or sulfonyl compounds
The amount of addition is 0. 0 with respect to the total solid mass of the image forming layer.
05-20% by mass is preferable, 0.1-15% by mass is good
More preferably, 0.1-10 mass% is the most preferable. Further, the stability of the processability with respect to the development conditions is improved.
For the purpose of expanding, JP-A-62-251740, JP-A-6-251740
Nonionic surface activity described in Japanese Patent Laid-Open No. 3-208514
Agent, JP-A-59-121044, JP-A-4-1314
Amphoteric surfactant described in No. 9 publication, etc., EP950517
Siloxane compounds such as those described in
As described in Kaihei 11-288093
Fluorine-containing monomer copolymer can be added
The Examples of nonionic surfactants include sorbitant
Restearate, sorbitan monopalmitate, sorbi
Tantrioleate, stearic acid monoglyceride, poly
Such as oxyethylene nonylphenyl ether
The Examples of amphoteric surfactants include alkyldi (amido).
Noethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglyci
Hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-
Hydroxyethylimidazolinium betaine, N-teto
Radecyl-N, N-betaine type (for example, trade name: AMOR
Gen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. Shiroki
Sun compounds include dimethylsiloxane and polyal
Preference is given to block copolymers of xylene oxide, specific examples
As a product of Chisso Corporation, DBE-224, DBE-6
21, DBE-712, DBP-732, DBP-53
4. Polyalkylene such as Tego Glide 100 made by Tego, Germany
Mention may be made of oxide-modified silicones. Above
Use amount of nonionic surfactant or amphoteric surfactant
Is 0.05 to 15 based on the total solid mass of the image forming layer.
% By mass is preferable, and 0.1 to 5% by mass is more preferable. In the image forming layer, after heating by exposure,
As a print-out agent or image colorant to obtain a visible image immediately
All dyes and pigments can be added. The baking-out agent
As an example, an acid is generated by heating by exposure.
And a combination of an organic dye capable of forming a salt
It is. Specifically, Japanese Patent Laid-Open No. 50-36209, Japanese Patent Laid-Open No.
O-Naphthoquinone described in each publication of No. 53-8128
Diazide-4-sulfonic acid halide and salt-forming organic dye
Combination with materials, JP-A 53-36223, JP-A 54
JP-A-74728, JP-A-60-3626, JP-A-61
143748, JP-A 61-151644 and special
Trihalomes described in Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 63-58440
A combination of a chill compound and a salt-forming organic dye.
The As the trihalomethyl compound, an oxazole type
There are compounds and triazine compounds, both of which are stable over time
Excellent printability and a clear printout image. The image coloring
Examples of the agent include, in addition to the salt-forming organic dye, other
For example, oil-soluble dyes, bases
A suitable dye is preferably used. Specifically, oil yellow # 101, orange
Il Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil
Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 6
03, Oil Black BY, Oil Black BS, Oy
Le Black T-505 (above, Orient Chemical Industry
Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Buy
Olet (C.I. 42555), methyl violet
(C.I. 42535), ethyl violet, loader
Min B (C.I. 145170B), Malachite Glee
(C.I. 42000), methylene blue (C.I.
52015). In addition, JP-A-6
The dye described in JP-A-2-293247 is particularly preferred.
Yes. The amount of the various dyes added is the total solidity of the image forming layer.
0.01 to 10% by mass is preferable based on the mass of the part,
0.1-3 mass% is more preferable. In addition, if necessary, the coating film is flexible.
For the purpose of imparting, a plasticizer can be added. OK
Examples of plasticizers include butylphthalyl and polyethylene group.
Recall, tributyl citrate, diethyl phthalate,
Dibutyl tartrate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate
Chill, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, phosphoric acid
Trioctyl, tetrahydrofurfuryl oleate, a
Such as oligomers and polymers of crylic acid or methacrylic acid
And so on. If necessary, the following various additives are added.
Can be added. For example, onium salt, o-kino
Diazide compounds, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfones
In pyrolytic and undecomposed state, such as phosphonate compounds
Substantially reduces the solubility of alkaline water-soluble polymer compounds
A compound to be reduced can be used in combination. Addition of the compound
Is to improve the ability to prevent dissolution of the image area in the developer.
preferable. Examples of the onium salt include diazonium.
Salt, ammonium salt, phosphonium salt, iodonium
Salt, sulfonium salt, selenonium salt, arsonium salt
Etc. Among them, for example, S.I.Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), T.S.Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230
The diazonium salts described in the publication, US Pat. No. 4,069,
No. 055, No. 4,069,056, JP-A-3-140
Ammonium salt described in No. 140, D. C. Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C. S. Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988), U.S. Pat. No. 4,069,055, 4,
Phosphonium salts described in No. 069,056, J. V. Criv
elloet et al. Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977),
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p.31 (1988), European patent
No. 104,143, US Pat. No. 339,049,
No. 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-150848
An iodonium salt described in JP-A-2-296514, J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985), J. V. Crivello et al, J. Org. Chem., 43,
3055 (1978), W.R, Watt et al, J. Polymer Sci., Po
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984), J. V. Crivello et
 al, Polymer bull., 14, 279 (1985), J. V. Crivello
 et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J.V.Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), European Patent No. 370,693, 2
33,567, 297,443, 297,44
2, U.S. Pat. Nos. 4,933,377 and 3,90
2,114, 410,201, 399,049
No. 4,760,013, No. 4,734,444
No. 2,833,827, German Patent No. 2,904
626, 3,604,580, 3,604,5
The sulfonium salt according to No. 81, J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10 (6), 1307 (1977), J.V.Crivelloet al, J. Polymer
 Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979)
Selenonium salt, C. S. Wen et al, The Proc. Conf. R
ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988)
Examples include arsonium salts. Of the above, diazo
Nilium salts are preferred, and above all, JP-A-5-158230.
More preferred are those described in Japanese Patent Publication. The counter ion of the onium salt is tetrafluoride.
Boric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalene
Sulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfo
Acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfuric acid
Phosphonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluoro
Capryl naphthalene sulfonic acid, dodecyl benzene sul
Phosphonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy
Ci-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfo
Acid, paratoluenesulfonic acid, etc.
it can. Among them, hexafluorophosphate, triisopropyl na
Phthalenesulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfone
Alkyl aromatic sulfonic acids such as acids are preferred. As the o-quinonediazide compound,
Compound having at least one o-quinonediazide group
And those that increase alkali solubility by thermal decomposition.
In addition, compounds having various structures can be used. O
-Quinonediazide has the ability to inhibit the dissolution of the binder by thermal decomposition.
And o-quinonediazide itself is alkali-soluble
Lithographic printing plate precursor due to both effects
Help solve. The o-quinonediazide compound as described above
For example, J. et al. By Korser, “Light Sensitivity”
Systems (John Wiley & Sons. Inc.) 33rd
The compounds described on pages 9 to 352 can be used.
Various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino acids
Of sulfonic acid of o-quinonediazide reacted with nitro compounds
Esters or sulfonic acid amides are preferred. Also, JP
Benzoquinone described in JP-A-43-28403
(1,2) -diazide sulfonic acid chloride or the United States
Patent No. 3,046,120, No. 3,188,210
Benzoquinone- (1,2) -diazidosulfo
Acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazi
Do-5-sulfonic acid chloride and phenol formal
Also preferred are esters with dehydrated resins. Further, naphthoquinone- (1,2) -dia
Zido-4-sulfonic acid chloride and phenol formua
Rudehydr resin or cresol-formaldehyde tree
Esters with fat, naphthoquinone- (1,2) -diazide
-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone
Also preferred are esters with resins. In addition, for example, JP-A-4
7-5303, JP 48-63802, JP 4
8-63803, JP-A-48-96575, JP-A
49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent
Sho 41-11222, Shoko 45-9610, Shoko
Sho 49-17482, U.S. Pat. No. 2,797,213
No.3, No.3,454,400, No.3,544,32
No. 3, No. 3,573,917, No. 3,674,4
No. 95, No. 3,785,825, British Patent Nos. 1, 2
No. 27,602, No. 1,251,345, No. 1,
No. 267,005, No. 1,329,888, No.
No. 1,330,932, German Patent No. 854,890
Those described in the above are also useful. These compounds alone
But you can combine several types and use them as a mixture.
Yes. The onium salt, o-quinonediazide compound, aroma
As the addition amount of the aromatic sulfonate, etc., the image forming layer
0.1 to 50% by mass is preferable with respect to the total solid content of
0.5-30 mass% is more preferable, 0.5-20
Mass% is most preferred. In addition, for image discrimination
For the purpose of strengthening and strengthening the resistance to scratches on the surface
As described in Kai 2000-187318
And a perfluoroalkyl group having 3 to 20 carbon atoms in the molecule.
Polymerization of (meth) acrylate monomer having 2 or 3
It is preferable to use a polymer as a component in combination. Addition amount
The total solid content of the image forming layer is 0.1-10.
% By mass is preferable, and more preferably 0.5 to 5% by mass.
is there. In addition, for the purpose of imparting resistance to scratches,
It is also possible to add compounds that reduce the static friction coefficient of the surface.
Yes. Specifically, US Pat. No. 6,117,913
Of long-chain alkyl carboxylic acids as disclosed in
Tell. Preferred as its addition amount
The reason is that 0.1 to 1 relative to the total solid mass of the image forming layer.
0% by mass, more preferably 0.5-5% by mass
The In addition, for the purpose of adjusting the solubility of the image forming layer,
A dissolution inhibitor may be included. As a dissolution inhibitor, JP
Disulfur as described in JP-A-11-119418
Hong compounds or sulfone compounds are preferably used.
Using 4,4'-bishydroxyphenyl sulfone as an example
It is preferable. The preferred addition amount is
0.05 to 20% by mass relative to the total solid mass of the image forming layer
Yes, more preferably 0.5 to 10% by mass. A lithographic printing plate to which the plate making method of the present invention can be applied
As a specific example of the original version, in Japanese Patent Application No. 2000-378507
A positive-type heat-sensitive layer having a two-layer structure as an image forming layer as disclosed
Also included are lithographic printing plate precursors. That is, this positive feeling
The thermal layer has a laminated structure and is set at a position close to the surface (exposed surface).
On the side close to the support
Alkali-soluble resin, alkali-soluble polymer compound
It has the lower layer to contain, It is characterized by the above-mentioned. The thermosensitive layer and
(A) Infrared rays that have been described above for both or one of the lower layers
Absorbing dye, (B1) Alkali having carboxyl group
Soluble polymer compound, (B2) alkali-soluble resin,
(C) Alkali-soluble polymer of (B1) and (B2)
The alkali-soluble polymer compound is dissolved in a compound.
It reduces the solubility in aqueous solution of Lucari and at the same time for heating
Compounds that reduce the solubility-lowering effect, other components
Etc. can be contained. Al used in the lower layer
As potash-soluble resin, acrylic resin has a buffering action.
Alkali development based on organic compounds and bases
Because it can maintain good solubility of the lower layer in the liquid, development
This is preferable from the viewpoint of image formation. Furthermore this acrylic
A resin having a sulfoamide group is particularly preferred.
Yes. In addition, alkali-soluble resin used in the heat-sensitive layer
As a result, strong hydrogen bonding occurs in the unexposed areas and
In some cases, some hydrogen bonds are easily released.
In particular, a resin having a phenolic hydroxyl group is desirable. Even better
Preferably it is a novolac resin. Infrared absorbing dye
It can be added not only to the thermal layer but also to the lower layer. Underlayer
By adding an infrared absorbing dye to the lower layer as a heat sensitive layer
Can function. Infrared absorbing dye added to the lower layer
If you want to do the same thing as in the upper thermal layer
May be used, or different ones may be used. Other
The additive may be included only in the lower layer, or only the heat-sensitive layer
May be included in both layers.
Yes. The image forming layer of the planographic printing plate precursor (the above two-layer structure)
In addition, the above components are dissolved in a solvent to give appropriate support.
It can be applied on the carrier. Examples of solvents include
Tylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl
Ketone, methanol, ethanol, propanol, ethyl
Lenglycol monomethyl ether, 1-methoxy-2
-Propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-
Methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane
, Methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetate
Amides, N, N-dimethylformamide, tetramethyl
Urea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxy
, Sulfolane, α-butyrolactone, toluene, etc.
Although it is mentioned, it is not limited to these. Above
A solvent may be individual or may mix 2 or more types. When the image forming layer has a two-layer structure, a heat-sensitive layer
Alkali-soluble resin used for coating and alkali used for lower layer
It is preferable to select ones with different solubility for soluble resins
That's right. In other words, after applying the lower layer, adjacent to the upper layer
When applying a heat-sensitive layer
Use a solvent that can dissolve the alkali-soluble resin of the layer
In the extreme case, mixing at the layer interface cannot be ignored.
There is a case where it becomes a uniform single layer without becoming a multilayer.
For this reason, the solvent used to apply the upper thermosensitive layer is
It is a poor solvent for alkali-soluble resins contained in the lower layer.
It is preferable. The above in the solvent when the image forming layer is applied
In general, the total solid concentration of the components is preferably 1 to 10% by mass.
That's right. In addition, an image that is applied and dried on a support
The dry coating amount (solid content) of the forming layer is generally 0.
5 to 5.0 g / m²Is preferred. For a two-layer structure
The heat sensitive layer is 0.05 to 1.0 g / m²And the lower layer is
0.3-3.0 g / m²It is preferable that Application amount
As the value decreases, the apparent sensitivity increases.
The film properties of the image forming layer are reduced. One to apply on support
As a method, it can select suitably from well-known various methods.
For example, bar coater coating, spin coating, spray coating
Cloth, curtain coating, dip coating, air knife coating,
Grade coating, roll coating and the like can be mentioned.
In the coating solution for the image forming layer, a boundary is formed for the purpose of improving the coating property.
Surfactant, for example, described in JP-A-62-170950
The above-mentioned fluorine-based surfactants can be added.
The amount added is based on the total solid mass of the image forming layer.
0.01 to 1 mass% is preferable, 0.05 to 0.5 quality
The amount% is more preferable. -Support- As a support for a lithographic printing plate precursor, for example, pure aluminum
Aluminum plate, aluminum alloy plate, aluminum laminate
Or vapor deposited plastic film
It is. The surface of the aluminum plate is grained, silicate
, Potassium fluoride zirconate, phosphate, etc.
Tables for penetration into aqueous solution or anodizing treatment
It is preferable that surface treatment is performed. US patents
After graining as described in No. 2,714,066
Aluminum soaked in sodium silicate aqueous solution
Aluminum plate described in Japanese Patent Publication No. 47-5125
After anodizing the copper plate, the alkali metal silicate water
An aluminum plate immersed in a solution is also preferable. As the anodizing treatment, for example, sulfuric acid,
Inorganic acids such as phosphoric acid, chromic acid, nitric acid, boric acid or
Water of organic acids such as succinic acid and sulfamic acid or their salts
Solution or non-aqueous solution alone or in combination of two or more
Electrode in the electrolyte solution
It is given by flowing. U.S. Pat. No. 3,65.
The silicate electrodeposition described in the specification of No. 8,662 is also effective.
The Also, US Pat. No. 4,087,341
Book, Japanese Examined Patent Publication No. 46-27481, Japanese Unexamined Patent Publication No. 52-3
Electroplated grained support as described in Japanese Patent No. 0503
Those obtained by subjecting the holder to the anodizing treatment are also useful. Rice
Graining as described in Japanese Patent No. 3,834,998
And then chemically etched and further anodized
Aluminum plates are also useful. These treatments are supported
In addition to the purpose of making the surface of the surface hydrophilic, on the support
The purpose of preventing harmful reactions with the image forming layer provided,
Various eyes such as the purpose of improving the adhesion with the image forming image
The target is given. The lithographic printing plate precursor is at least on a support.
It is provided by laminating image forming layers, but if necessary
An undercoat layer can be provided on the support. Undercoat
Examples of the components used in the above include various organic compounds,
For example, carboxymethylcellulose, dextrin, a
Amino such as rabia gum and 2-aminoethylphosphonic acid
A phosphonic acid having a group;
Phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphine
Phosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and
And organic phosphonic acids such as ethylenediphosphonic acid; substituents
Which may have phenyl phosphate, naphthyl phosphate,
Organic phosphoric acids such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid;
Optionally substituted phenylphosphinic acid, naphth
Tylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycero
Organic phosphinic acids such as phosphinic acid; glycine and β-
Amino acids such as alanine; salt of triethanolamine
Hydrochlorides of amines with hydroxyl groups such as acid salts
Is mentioned. The organic compounds may be used alone
Alternatively, two or more kinds may be mixed and used. Also mentioned above
It is also a preferred embodiment to undercoat a diazonium salt.
The The undercoat layer has the following general formula (1
1) A small number of organic polymer compounds having the structural unit represented by
An organic undercoat layer containing at least one kind is also preferred. [0139] In the formula, R⁵¹Is a hydrogen atom, a halogen atom or
Represents an alkyl group, R⁵²And R⁵³Each independently water
Elementary atom, hydroxyl group, halogen atom, alkyl group, substituted al
Kill group, aryl group, substituted aryl group, -OR⁵⁴, -C
OOR⁵⁵, -CONHR⁵⁶, -COR⁵⁷Or -CN
And R⁵²And R⁵³Bond together to form a ring structure
May be. Where R⁵⁴~ R⁵⁷Are each independently
Represents an aryl group or an aryl group. X is a hydrogen atom, a metal atom,
-NR⁵⁸R⁵⁹R⁶⁰R⁶¹Represents. Where R⁵⁸~ R ⁶¹Is it
Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an
Represents a reel group or a substituted aryl group, R⁵⁸And R⁵⁹Is
May be bonded to each other to form a ring structure. m is 1 to 3
Represents a number. The dry coating amount of the undercoat layer is 2 to 200 m
g / m²Is preferably 5 to 100 mg / m²Is more preferred
Yes. The dry coating amount is 2 mg / m²Less than enough
Membrane properties may not be obtained. On the other hand, 200mg / m²The
Even if it is applied in excess, no further effect can be obtained.
Yes. The undercoat layer can be provided by the following method.
Yes. That is, water or methanol, ethanol, methyl ether
For organic solvents such as tilketone or mixed solvents
A solution for the undercoat layer in which the organic compound is dissolved is aluminized.
A method of coating and drying on a support such as a um plate,
Water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone
In any organic solvent or a mixed solvent thereof,
An undercoat layer solution in which an object is dissolved, an aluminum plate, etc.
So that the organic compound is adsorbed, and then
It is a method of cleaning and drying with water or the like. In the former method, 0.0% of the organic compound is used.
Using an undercoat layer solution having a concentration of 05 to 10% by mass
preferable. On the other hand, in the latter method, before the undercoat layer solution,
The concentration of the organic compound is 0.01 to 20% by mass.
Preferably, 0.05-5 mass% is more preferable. Also,
As immersion temperature, 20-90 degreeC is preferable and 25-50
° C is more preferred. The immersion time is 0.1 second to 20 minutes.
Preferably, 2 seconds to 1 minute is more preferable. Undercoat layer solution
Is ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, etc.
P using basic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid.
It can also adjust to the range of H1-12. Also the tone
Yellow dye can be added to improve reproducibility
The The planographic printing plate source prepared as described above
The plate can be recorded with infrared laser, UV
Lamp recording or thermal recording with a thermal head
Is also possible. The infrared laser has a wavelength of 700
Laser that emits infrared light of ~ 1200nm is preferred
A solid-state laser that emits infrared light in the same wavelength range
A conductor laser is more preferable. [0144] According to the lithographic printing plate making method of the present invention,
For example, while maintaining good developability,
Disperse the insoluble matter caused by the components of the image forming layer well.
Therefore, the generation of development waste can be suppressed. Also, gum is
We can provide a plate with improved gum application surface that does not cause creaking
The According to the plate making method of the present invention, the development latitude is reduced.
The layer can be improved. And lithographically stable for a long time
It can develop the printing plate precursor, and it is sharp and clear.
An image can be formed. [0145] The present invention will now be described in detail with reference to examples.
However, the present invention is not limited to these. In addition,
“%” In the examples represents “mass%”. [SiO₂Preparation of alkaline developer solution
[Product] Silicon oxide SiO₂And potassium oxide K₂Mixing ratio of O
SiO₂/ K₂4.0% potassium silicate with O = 1.1
In 1 liter of liquid, the following various amphoteric surfactants (A-1 to
11), various nonionic surfactants (N-1 to 12),
As shown in Table 1, the ricone surfactant (S-1) was added.
(Unit: grams / liter) and alkali of the present invention
Development processing solutions (1) to (30) were prepared. In the above composition
A developer (61) containing no activator is an amphoteric surface active
The developer (62) including the agent is used as a nonionic surfactant.
A developer (63) that contains
The developer (64) was used including the agent. [Preparation of alkali developing solution containing non-reducing sugar]
D-Sorbit / Combining non-reducing sugar and base
Potassium oxide K₂A potassium salt 5.0% aqueous solution of O
In 1 liter, the following amphoteric surfactants (A-1 to 1)
1), nonionic surfactant (N-1 to 12), silicon
Add the surfactant (S-1) as shown in Table 2.
(Unit: grams / liter), alkaline developing treatment of the present invention
The liquids (31) to (60) were prepared. In addition, surfactant with the above composition
A developer (65) containing no amphoteric surfactant is included.
The developer is the developer (66) and contains nonionic surfactant.
A developer (67) containing a silicone surfactant.
The resulting product was designated as developer (68). Note that the surface tension of each developer is automatically and dynamically displayed.
Measured with a surface tension meter JET type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
It was. Surfactant used in developing solution [0149] [Table 1][0150] [Table 2][0151] Examples 1-60 and Comparative Examples 1-8 Examples 1-60 and
Infrared photosensitive lithographic printing plates used in Comparative Examples 1-8
It produced as follows. As Examples 1 to 30, respectively,
Processed with re-development processing solutions (1) to (30), and Examples 31 to 60 and
Then, each is processed with an alkali developing solution (31) to (60),
As Comparative Examples 1 to 8, alkaline developing solutions (61) to
(68). <Preparation of planographic printing plate precursor 1> Thickness of 0.3 mm
Aluminum plate (material 1050) with trichlorethylene
After degreasing and cleaning with nylon, nylon brush and 400 mesh
Pumice-water suspension is used to grain this surface,
Washed well with water. After cleaning, this aluminum plate is
Soak for 9 seconds in 25% aqueous sodium hydroxide at
20% nitric acid aqueous solution after etching and washing with water
For 20 seconds and washed again with water. Graining at this time
The etching amount on the surface is about 3 g / m. ²Met. Next, this aluminum plate was charged with 7% sulfuric acid.
Current density 15A / dm as a solution ²3g of direct current
/ M²After the anodic oxide coating was provided, it was washed with water and dried. This
10 seconds with a 2.5% aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C.
After processing, apply the following undercoat layer coating solution,
The support was obtained by drying for 5 seconds. Drying the primer layer after drying
The coating amount is 15 mg / m²Met. <Coating liquid for undercoat layer> The following copolymer P (molecular weight 28000) 0.3 g Methanol 100g 1g of water [0155] Synthesis Example 1 (B1 component: having carboxyl group
Of alkali-soluble polymer compounds (copolymers) 20ml three-necked fan equipped with stirrer, condenser and dropping funnel
To Lasco, 6.39 g of n-propyl methacrylate (0.
045 mol), 1.29 g (0.015 mol) of methacrylic acid
And 20 g of 1-methoxy-2-propanol
Stirring the mixture while heating to 65 ° C in a hot water bath
It was. To this mixture, “V-601” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
Add 0.15g and keep at 70 ° C for 2 hours under nitrogen flow
The mixture was stirred. The reaction mixture is further methacrylic.
6.39 g (0.045 mol) of n-propyl acid,
1.29 g (0.015 mol) of lauric acid, 1-methoxy-
2-Propanol 20g and "V-601" 0.15g
The mixture was added dropwise by a dropping funnel over 2 hours. drop
After completion, the mixture obtained was further stirred at 90 ° C for 2 hours
did. After completion of the reaction, 40 g of methanol is added to the mixture,
Cool and stir the resulting mixture into 2 liters of water
Then, the mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was removed.
15g white by removing by filtration and drying
A solid was obtained. Gel permeation chromatography
The weight average molecular weight of this copolymer (polystyrene standard)
Quasi) was 53,000. Synthesis Example 2 (B1 component: having carboxyl group
Of alkali-soluble polymer compounds (copolymers) By the same operation as in Synthesis Example 1 above,
/ Isobutyl methacrylate / methacrylic acid (mol%: 3
5/35/30) was used to synthesize the copolymer. Its weight
When the average molecular weight (polystyrene standard) was measured, 50,
000. Synthesis Example 3 (B1 component: having carboxyl group
Of polyurethane resin) 500ml three-neck with condenser and condenser
In a round bottom flask, add 2,2-bis (hydroxymethyl)
14.6 g (0.109 mol) of lopionic acid, tetraethyl
13.3 g (0.0686 mol) of lenglycol and
1,5-butanediol 2.05 g (0.0228 mol)
And add 118 g of N, N-dimethylacetamide.
Dissolved. To this, 4,4'-diphenylmethanediiso
30.8 g (0.123 mol) of cyanate, hexamethyl
13.8 g of diisocyanate (0.0819 mol)
And di-n-butyltin dilaurate 0.1 as a catalyst
g was added, and the mixture was heated with stirring at 90 ° C. for 7 hours. This
In the reaction solution, 100 ml of N, N-dimethylacetamide, methano
And 50 ml of acetic acid and 50 ml of acetic acid.
Is added to 4 liters of water with stirring to give a white polymer.
-Precipitated. The polymer is filtered off and washed with water
Then, 60 g of polymer was obtained by drying under reduced pressure.
It was. Gel permeation chromatography (GP
When the molecular weight was measured in (C), the weight average (polystyrene)
Ren standard) was 70,000. Also, by titration
The carboxyl group content was measured to be 1.43 meq / g
Met. Synthesis Example 4 (B1 component: having carboxyl group)
Of polyurethane resin) The following diisocyanate compounds (mol%) And the following diol compounds (mol%) Was used in the same manner as in Synthesis Example 3 to synthesize a copolymer.
The acid content of the obtained copolymer by titration is 1.72 meq /
g, and the weight average molecular weight (polystyrene standard) is 8
It was 0.00. Synthesis Example 5 (Synthesis of B2 component) 500ml three-neck equipped with stirrer, condenser and dropping funnel
In a flask, 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid,
39.1 g (0.36 mol) ethyl chloroformate and aceto
Add 200ml of trinitrile and mix while cooling in an ice-water bath
The thing was stirred. To this mixture was added triethylamine 36.4.
g (0.36 mol) by dropping funnel over about 1 hour
It was dripped. After the dripping is complete, remove the ice-water bath and remove at room temperature 3
The mixture was stirred for 0 minutes. The reaction mixture is mixed with p-aminobenzene.
Nesesulfonamide 51.7g (0.30mol) was added.
Agitate the mixture for 1 hour while warming to 70 ° C in an oil bath.
It was. After completion of the reaction, the mixture is poured into 1 liter of water.
Stir with stirring and stir the resulting mixture for 30 minutes
It was. The mixture is filtered to remove the precipitate, which is
After slurrying with 500 ml, the slurry is filtered,
The obtained solid is dried to give N- (p-aminosulfur
A white solid of (phenylphenyl) methacrylamide was obtained.
(Yield 46.9 g) Next, a stirrer, a cooling pipe and a dropping funnel are provided.
N- (p-aminosulfonylphenol) was added to a 20 ml three-necked flask.
Nyl) methacrylamide 4.61 g, (0.0192 mole)
), 2.94 g (0.0258 mol) of ethyl methacrylate.
), 0.80 g (0.015 mol) of acrylonitrile
And 20 g of N, N-dimethylacetamide in a hot water bath
The mixture was stirred while heating to 65 ° C. This mixture
Add 0.15 g of “V-65” (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to the product
And stirring the mixture for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining at 65 ° C
did. This reaction mixture is further mixed with N- (p-aminosulfonyl).
Phenyl) methacrylamide 4.61 g, methacrylic acid
2.94 g of ethyl, 0.80 g of acrylonitrile, N, N-
Dimethylacetamide and 0.15 g of “V-65”
The compound was added dropwise through a dropping funnel over 2 hours. End of dripping
After completion, the mixture obtained was further stirred at 65 ° C. for 2 hours.
It was. After completion of the reaction, 40 g of methanol is added to the mixture and cooled.
And the resulting mixture is stirred into 2 liters of water.
And stirred the mixture for 30 minutes,
15g white by removing by filtration and drying
A solid was obtained. Gel permeation chromatography
The weight average molecular weight of this particular copolymer (polis
Tylene standard) was 53,000.
It was. On the obtained support, the following image-forming layer coating solution
And dry at 150 ° C. for 30 seconds.
1.8 g / m²A positive type lithographic printing plate precursor was obtained. <Coating liquid for image forming layer>   Copolymer of Synthesis Example 2 [(B1) component] 0.050 g   Copolymer of Synthesis Example 4 [(B1) component] 0.050 g   Copolymer of Synthesis Example 5 [component (B2)] 0.4 g   m, p-cresol novolak [component (B2)] 0.6 g   (M / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 8000,     0.5% unreacted cresol)   Cyanine dye A [(A + C) component] 0.1 g   Phthalic anhydride [component (D)] 0.05 g   0.002 g of p-toluenesulfonic acid   Ethyl violet 0.02g   (Counterion: 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid)   Naphthoquinone 1,2-diazide-5-sulfonyl chloride and     0.01 g esterified with pyrogallol-acetone resin   Fluorosurfactant 0.05g   (Product name: Megafuck F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)   Methyl ethyl ketone 8g   1-methoxy-2-propanol 4g Output 5 to the lithographic printing plate precursor obtained above.
00 mW, wavelength 830 nm, beam diameter 17 μm (1 /
e²) Main scanning speed of 5 m / sec using semiconductor laser
And then kept at 25 ° C. This lithographic printing plate precursor
Automatic processor P filled with the above various alkali developing solutions
Developed with S900NP (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Development was performed at a temperature of 30 ° C. for 12 seconds. No replenisher replenishment
And 50m², 100m²200m²300m², 40
0m²500m²And processed. The development process is complete
After going through the water washing process, gum (GU-7 (1: 1)) etc.
To obtain a lithographic printing plate on which platemaking was completed. <Evaluation of balance between image portion / non-image portion> (Evaluation of developability of non-image area)
After, 50m², 100m²200m²300m², 40
0m²500m²Non-image part of planographic printing plate obtained by processing
By observing the developability of "the presence or absence of the remaining film in the non-image area",
Sensory evaluation was performed. The results are shown in Tables 3-4. -Standard- ○: Fully developed, remaining image forming layer on non-image area
I was not able to admit. There was no stain on the printed material. Δ: Some image forming layer remained on the non-image area. printing
There was no dirt on the object. X: Development failure was observed and the image forming layer remained in the non-image area
Was. Dirt has occurred on the printed material. <Evaluation of film slippage and gum application surface of image area
> 50m immediately after development as above², 100m²2
00m²300m²400m²500m²And process
“Defects in image area” and “Gum application surface”
According to the following criteria, visually observed to perform sensory evaluation
It was. The evaluation results are shown in Tables 5-6. -Standard- ○: No defect was observed in the image area. Print on print
There was no whitening in the statue. Gum application surface is uniform and uneven
Absent. Δ: Image area density slightly decreased, and some defects were observed
It was. There was no whitening in the image area on the printed matter. Gumming
There is some unevenness in the cloth surface. X: The portion where the density of the image portion is significantly reduced and the image portion is defective
Yes. White spots in the image area occurred on the printed material. Gum application
The surface condition deteriorated significantly. <Evaluation of Insoluble Material in Developer> One liter
1m²10m², 100m²The processed developer
Refrigerator (5 ° C), normal temperature (20-25 ° C), thermo (35
℃) for insolubles when left for 1 month.
The results are summarized in Tables 7 and 8. ○: No insoluble matter Δ: There are some insolubles, but they disappear when shaken. X: Insoluble matter remains even if shaken. [0167] [Table 3][0168] [Table 4][0169] [Table 5][0170] [Table 6][0171] [Table 7] Insoluble matter in developer[0172] [Table 8] Insoluble matter in developer[0173] Examples 61-120 and Comparative Examples 9-16 Example 61
-120 and Infrared photosensitive lithographic plates used in Comparative Examples 9-16
A printing plate was prepared as follows, and as Examples 61 to 90
Each was processed with an alkali developing solution (1) to (30).
91-120 as alkaline developing solution (31)-
(60), and as Comparative Examples 9-16,
It processed with image processing liquid (61)-(68). <Preparation of lithographic printing plate precursor 2> Above <lithographic printing plate
Process and undercoat in the same way as used for making the printing plate precursor 1>
The following photosensitive solution 2 is applied to an aluminum support provided with a coating layer.
The coating amount is 0.16 g / m²With a wire bar
After coating, WindCo at TABAI PERFECT OVER PH200
The ntrol was set to 7 and dried at 140 ° C. for 50 seconds. Furthermore
The coating amount of the photosensitive solution 3 is 0.85 g / m.²To be
After applying with a wire bar, PERFECT OVER P made by TABAI
Set WindControl to 7 on H200 and dry at 120 ° C for 60 seconds
A lithographic printing plate precursor having a heat-sensitive layer having a two-layer structure was obtained. [0175] (Photosensitive solution 2) Copolymer of Synthesis Example 2 0.050g Copolymer of Synthesis Example 4 0.050 g N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide /   Acrylonitrile / methyl methacrylate   (36/34/30 weight average molecular weight 50000) 1.896 g Cresol novolak (m / p = 6/4 weight average molecular weight 4500,   Residual monomer 0.8wt%) 0.237g Cyanine dye A 0.109g 4,4'-Bishydroxyphenylsulfone 0.063g Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g p-Toluenesulfonic acid 0.008g Ethyl violet counter ion   0.05g replaced with 6-hydroxynaphthalenesulfone Fluorosurfactant (F176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.035g Methyl ethyl ketone 26.6g 13.6 g of 1-methoxy-2-propanol γ-butyrolactone 13.8 g [0176] (Photosensitive solution 3) Copolymer of Synthesis Example 2 0.050g Copolymer of Synthesis Example 4 0.050 g Cresol novolak (m / p = 6/4 weight average molecular weight 4500,   Residual monomer 0.8wt%) 0.237g Cyanine dye A 0.047g 0.060 g dodecyl stearate 3-methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate                                                         0.030g Fluorosurfactant (F176 (20% solution), manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)                                                         0.110 g Fluorosurfactant (MCF312F (30% solution), manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.)                                                         0.12g Methyl ethyl ketone 15.1g 7.7 g of 1-methoxy-2-propanol Output 5 to the lithographic printing plate precursor obtained above.
00 mW, wavelength 830 nm, beam diameter 17 μm (1 /
e²) Main scanning speed of 5 m / sec using semiconductor laser
And then kept at 25 ° C. This lithographic printing plate precursor
Automatic processor P filled with the above various alkali developing solutions
Developed with S900NP (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Development was performed at a temperature of 30 ° C. for 12 seconds. No replenisher replenishment
And 50m², 100m²200m²300m², 40
0m²500m²And processed. The development process is complete
After going through the water washing process, gum (GU-7 (1: 1)) etc.
To obtain a lithographic printing plate on which platemaking was completed. Regarding the lithographic printing plate thus made,
Evaluation was performed in the same manner as in Examples 1-60. Evaluation results
The results are shown in Tables 9 to 10 for the developability of the non-image part.
Tables 11-12 about the film slip and the gum application surface shape, and
It shows to Tables 13-14 about the insoluble matter in a developing solution. [0179] [Table 9][0180] [Table 10][0181] [Table 11][0182] [Table 12][0183] [Table 13] Insoluble matter in developer[0184] [Table 14] Insoluble matter in developer

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項１】 赤外線吸収染料を含む画像形成層を有す
る赤外線感光性平版印刷版を赤外線露光後、両性界面活
性剤及びノニオン界面活性剤を含有するアルカリ現像処
理液で現像することを特徴とする平版印刷版の製版方
法。What is claimed is: 1. An infrared-sensitive lithographic printing plate having an image-forming layer containing an infrared-absorbing dye is developed with an alkaline developing solution containing an amphoteric surfactant and a nonionic surfactant after infrared exposure. A method for making a lithographic printing plate, comprising: