JP2003240931A - 回折光学素子及びその製造方法 - Google Patents
回折光学素子及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2003240931A JP2003240931A JP2002302913A JP2002302913A JP2003240931A JP 2003240931 A JP2003240931 A JP 2003240931A JP 2002302913 A JP2002302913 A JP 2002302913A JP 2002302913 A JP2002302913 A JP 2002302913A JP 2003240931 A JP2003240931 A JP 2003240931A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- vertical
- diffraction grating
- diffractive optical
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1866—Transmission gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 回折光学素子のフレアを低減する。
【解決手段】 ブレーズド回折格子の縦面にのみアッシ
ングによる艶消し処理を施す、又は不透明膜を形成す
る。
ングによる艶消し処理を施す、又は不透明膜を形成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はブレーズド回折格子
を有する回折光学素子及びその製造方法に関するもので
ある。
を有する回折光学素子及びその製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来、光学系の色収差を補正する方法と
しては、分散の異なる硝材からなる光学素子を組み合わ
せる方法が知られていた。一方、回折光学素子を用いて
色収差を補正する技術が知られている（例えば、非特許
文献１及び非特許文献２参照。）。通常、このような回
折光学素子には、凹凸構造の断面形状が左右非対称であ
り、傾斜面と縦面とが交互に配されたブレーズド回折格
子が用いられる。
しては、分散の異なる硝材からなる光学素子を組み合わ
せる方法が知られていた。一方、回折光学素子を用いて
色収差を補正する技術が知られている（例えば、非特許
文献１及び非特許文献２参照。）。通常、このような回
折光学素子には、凹凸構造の断面形状が左右非対称であ
り、傾斜面と縦面とが交互に配されたブレーズド回折格
子が用いられる。
【０００３】ところで、回折光学素子の性能は、素子を
構成する材料の光学特性と、格子の形状によって決定さ
れる。カメラなど光学機器への使用を考えると、回折光
学素子の性能を十分に活用するためには、回折格子の凹
凸の高さをある程度高くする必要がある。
構成する材料の光学特性と、格子の形状によって決定さ
れる。カメラなど光学機器への使用を考えると、回折光
学素子の性能を十分に活用するためには、回折格子の凹
凸の高さをある程度高くする必要がある。
【０００４】
【非特許文献１】M.W.ファーン（M.W.Farn），J.W.グッ
ドマン（J.W.Goodman），「ディフラクティブ・ダブレ
ット・コレクティッド・オン−アクシス・アット・ツー
・ウェブレングス（Diffractive doublet corrected on
-axis at two wavelengths）」，エス・ピー・アイ・イ
ー・インターナショナル・レンズ・デザイン・コンファ
レンス（SPIE International Lens Design Conferenc
e），1990年，vol.1345，p.24-29
ドマン（J.W.Goodman），「ディフラクティブ・ダブレ
ット・コレクティッド・オン−アクシス・アット・ツー
・ウェブレングス（Diffractive doublet corrected on
-axis at two wavelengths）」，エス・ピー・アイ・イ
ー・インターナショナル・レンズ・デザイン・コンファ
レンス（SPIE International Lens Design Conferenc
e），1990年，vol.1345，p.24-29
【非特許文献２】Ｃ.ロンドノ（C.Londono），P.P.クラ
ーク（P.P.Clark），「デザイン・オブ・アクロマタイ
ズド・ハイブリッド・ディフラクティブ・レンズ・シス
テムズ（Design of achromatized hybrid diffractive
lens systems）」，エス・ピー・アイ・イー・インター
ナショナル・レンズ・デザイン・コンファレンス（SPIE
International Lens Design Conference），1990年，v
ol.1345，p.30-37
ーク（P.P.Clark），「デザイン・オブ・アクロマタイ
ズド・ハイブリッド・ディフラクティブ・レンズ・シス
テムズ（Design of achromatized hybrid diffractive
lens systems）」，エス・ピー・アイ・イー・インター
ナショナル・レンズ・デザイン・コンファレンス（SPIE
International Lens Design Conference），1990年，v
ol.1345，p.30-37
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ブレー
ズド回折格子において、上記のように凹凸の高さを高く
すると、光学機器に入射してくる光に対して不必要な入
射面、つまり縦面を大きくすることになる。回折格子の
縦面に入射した光は、結像面においてフレア光として現
れ、著しく画質を悪化してしまう。このようなフレア光
を低減するために、光学材料の改善によって回折格子の
凹凸の高さを低くする方法も考えられるが、現状ではこ
のような改善も思うに任せない。また、回折素子を球面
上に形成することにより、有効光に対して極力影響がな
いような工夫もなされているが、一般撮影において避け
きれない斜入射光への対策には十分ではなかった。
ズド回折格子において、上記のように凹凸の高さを高く
すると、光学機器に入射してくる光に対して不必要な入
射面、つまり縦面を大きくすることになる。回折格子の
縦面に入射した光は、結像面においてフレア光として現
れ、著しく画質を悪化してしまう。このようなフレア光
を低減するために、光学材料の改善によって回折格子の
凹凸の高さを低くする方法も考えられるが、現状ではこ
のような改善も思うに任せない。また、回折素子を球面
上に形成することにより、有効光に対して極力影響がな
いような工夫もなされているが、一般撮影において避け
きれない斜入射光への対策には十分ではなかった。
【０００６】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解決し、高性能で、且つ、フレア光が発生することが少
ない回折光学素子を提供することにある。
解決し、高性能で、且つ、フレア光が発生することが少
ない回折光学素子を提供することにある。
【０００７】本発明の他の目的は、高性能で、且つ、フ
レア光が発生することが少ない回折光学素子を安価に製
造する方法を提供することにある。
レア光が発生することが少ない回折光学素子を安価に製
造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的を達成
する第１実施形態の回折光学素子は、傾斜面と縦面とが
交互に配されたブレーズド回折格子から成り、前記傾斜
面と縦面の内、縦面にのみアッシングによる艶消し処理
が施されているものである。
する第１実施形態の回折光学素子は、傾斜面と縦面とが
交互に配されたブレーズド回折格子から成り、前記傾斜
面と縦面の内、縦面にのみアッシングによる艶消し処理
が施されているものである。
【０００９】本発明の上記目的を達成する第２実施形態
の回折光学素子は、傾斜面と縦面とが交互に配されたブ
レーズド回折格子から成り、前記傾斜面と縦面の内、縦
面にのみ不透明膜が形成されているものである。
の回折光学素子は、傾斜面と縦面とが交互に配されたブ
レーズド回折格子から成り、前記傾斜面と縦面の内、縦
面にのみ不透明膜が形成されているものである。
【００１０】上記第１及び第２の実施形態の回折光学素
子は、例えば、基板と、該基板上に形成され、表面に前
記傾斜面及び縦面から成る凹凸が形成された樹脂層とか
ら成る。ここで、ブレーズド回折格子の傾斜面と縦面の
内、傾斜面上にのみ反射防止膜が形成されていることが
望ましい。また、上記第１又は第２の実施形態の回折光
学素子を２つ、回折格子を内側にして互いに貼り合わせ
ることによって、積層型回折光学素子を構成することが
できる。
子は、例えば、基板と、該基板上に形成され、表面に前
記傾斜面及び縦面から成る凹凸が形成された樹脂層とか
ら成る。ここで、ブレーズド回折格子の傾斜面と縦面の
内、傾斜面上にのみ反射防止膜が形成されていることが
望ましい。また、上記第１又は第２の実施形態の回折光
学素子を２つ、回折格子を内側にして互いに貼り合わせ
ることによって、積層型回折光学素子を構成することが
できる。
【００１１】上記第１実施形態の回折光学素子の製造方
法は、基板上に、表面に傾斜面と縦面とが交互に配され
たブレーズド回折格子を有する樹脂層を形成する工程、
前記ブレーズド回折格子の傾斜面と縦面の内、傾斜面上
にのみ反射防止膜を形成する工程、及び前記ブレーズド
回折格子をアッシングすることにより、傾斜面と縦面の
内、縦面にのみ艶消し処理を施す工程とから成る。
法は、基板上に、表面に傾斜面と縦面とが交互に配され
たブレーズド回折格子を有する樹脂層を形成する工程、
前記ブレーズド回折格子の傾斜面と縦面の内、傾斜面上
にのみ反射防止膜を形成する工程、及び前記ブレーズド
回折格子をアッシングすることにより、傾斜面と縦面の
内、縦面にのみ艶消し処理を施す工程とから成る。
【００１２】上記第２実施形態の回折光学素子の製造方
法は、基板上に、表面に傾斜面と縦面とが交互に配され
たブレーズド回折格子を有する樹脂層を形成する工程、
前記ブレーズド回折格子の傾斜面と縦面にディッピング
によって不透明膜を塗布する工程、及び前記ブレーズド
回折格子を異方性エッチングすることにより、傾斜面上
の不透明膜のみを除去する工程から成る。
法は、基板上に、表面に傾斜面と縦面とが交互に配され
たブレーズド回折格子を有する樹脂層を形成する工程、
前記ブレーズド回折格子の傾斜面と縦面にディッピング
によって不透明膜を塗布する工程、及び前記ブレーズド
回折格子を異方性エッチングすることにより、傾斜面上
の不透明膜のみを除去する工程から成る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を説明す
る。
る。
【００１４】（第１実施形態）図１は、本発明の第１実
施形態の回折光学素子の一実施例を示す概略断面図であ
る。本例は、積層型回折光学素子の例を示したものであ
る。この回折光学素子は、第１の光学部材１３と第２の
光学部材１４とを接着することによって形成されてい
る。第１の光学部材１３は、第１の基板１と、第１の基
板１上に形成され、表面に第１のブレーズド回折格子が
形成された第１の樹脂層２とから成る。第２の光学部材
１４は、第２の基板４と、第２の基板４上に形成され、
表面に第２のブレーズド回折格子が形成された第２の樹
脂層３とから成る。これらの光学部材は第１及び第２の
樹脂層を内側にして、不図示の接着剤によって互いに貼
り合わされている。
施形態の回折光学素子の一実施例を示す概略断面図であ
る。本例は、積層型回折光学素子の例を示したものであ
る。この回折光学素子は、第１の光学部材１３と第２の
光学部材１４とを接着することによって形成されてい
る。第１の光学部材１３は、第１の基板１と、第１の基
板１上に形成され、表面に第１のブレーズド回折格子が
形成された第１の樹脂層２とから成る。第２の光学部材
１４は、第２の基板４と、第２の基板４上に形成され、
表面に第２のブレーズド回折格子が形成された第２の樹
脂層３とから成る。これらの光学部材は第１及び第２の
樹脂層を内側にして、不図示の接着剤によって互いに貼
り合わされている。
【００１５】図１の回折光学素子において、第１の基板
１及び第２の基板４はガラス基板から成る。第１の樹脂
層２は、高屈折率で分散の大きい変性ウレタンアクレリ
ートを主成分とする光硬化樹脂から形成されている。ま
た、第２の樹脂層３は、低分散のアクレリート系紫外線
硬化樹脂から成る。これらの樹脂層の材料は、用途に応
じた光学設計によって、最適なコンビネーションとなる
ように任意に選択される。また、重ねる順序も任意に選
択できる。表１に上記それぞれの樹脂層の材料と光学特
性を示す。
１及び第２の基板４はガラス基板から成る。第１の樹脂
層２は、高屈折率で分散の大きい変性ウレタンアクレリ
ートを主成分とする光硬化樹脂から形成されている。ま
た、第２の樹脂層３は、低分散のアクレリート系紫外線
硬化樹脂から成る。これらの樹脂層の材料は、用途に応
じた光学設計によって、最適なコンビネーションとなる
ように任意に選択される。また、重ねる順序も任意に選
択できる。表１に上記それぞれの樹脂層の材料と光学特
性を示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】回折光学素子を、カメラなどの光学機器に
用いる場合、使用波長領域の光束が特定次数に集中する
形状に回折格子を形成する必要がある。本実施例におい
ては、ｃ線波長（５６５．２７ｎｍ）とｇ線波長（４３
５．８３ｎｍ）において、積層回折光学素子が高い回折
効率を得るようにそれぞれの樹脂層の格子形状を決定し
た。ここで、第１の樹脂層２に形成されたブレーズド回
折格子の格子高さは６．７４μｍ、第２の樹脂層３に形
成されたブレーズド回折格子の格子高さは９．５０μｍ
である。これらのブレーズド回折格子は入射光に対して
レンズ作用を生ずるように構成されている。このため、
格子ピッチは回折格子の中心から離れるにしたがって小
さくなっており、最小ピッチは４０μｍ弱である。ま
た、両ブレーズド回折格子において、格子ピッチは同一
である。
用いる場合、使用波長領域の光束が特定次数に集中する
形状に回折格子を形成する必要がある。本実施例におい
ては、ｃ線波長（５６５．２７ｎｍ）とｇ線波長（４３
５．８３ｎｍ）において、積層回折光学素子が高い回折
効率を得るようにそれぞれの樹脂層の格子形状を決定し
た。ここで、第１の樹脂層２に形成されたブレーズド回
折格子の格子高さは６．７４μｍ、第２の樹脂層３に形
成されたブレーズド回折格子の格子高さは９．５０μｍ
である。これらのブレーズド回折格子は入射光に対して
レンズ作用を生ずるように構成されている。このため、
格子ピッチは回折格子の中心から離れるにしたがって小
さくなっており、最小ピッチは４０μｍ弱である。ま
た、両ブレーズド回折格子において、格子ピッチは同一
である。
【００１８】図２及び図３はそれぞれ図１の回折光学素
子を構成する第１及び第２の光学部材の貼り合わせ前の
様子を示す概略断面図である。図２及び図３において、
図１と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は
省略する。
子を構成する第１及び第２の光学部材の貼り合わせ前の
様子を示す概略断面図である。図２及び図３において、
図１と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は
省略する。
【００１９】図２において、第１の樹脂層２の表面に
は、ブレーズド回折格子１５が形成されている。このブ
レーズド回折格子１５の外周部には円環上の凹部１６が
形成されている。一方、図３において、第２の樹脂層３
の表面には、ブレーズド回折格子１７が形成されてい
る。このブレーズド回折格子１７の外周部には円環上の
凸部１８が形成されている。第１の光学部材１３と第２
の光学部材１４とを貼り合わせる際には、凹部１６と凸
部１８とが嵌合することによって位置合わせが行われ
る。したがって、凹部１６と凸部１８のそれぞれの光学
部材の中心からの位置は等しく、誤差は１μｍ以下に形
成されている。
は、ブレーズド回折格子１５が形成されている。このブ
レーズド回折格子１５の外周部には円環上の凹部１６が
形成されている。一方、図３において、第２の樹脂層３
の表面には、ブレーズド回折格子１７が形成されてい
る。このブレーズド回折格子１７の外周部には円環上の
凸部１８が形成されている。第１の光学部材１３と第２
の光学部材１４とを貼り合わせる際には、凹部１６と凸
部１８とが嵌合することによって位置合わせが行われ
る。したがって、凹部１６と凸部１８のそれぞれの光学
部材の中心からの位置は等しく、誤差は１μｍ以下に形
成されている。
【００２０】図２及び図３に示す第１及び第２の光学部
材は、互いに貼り合わせることなく、それぞれ単独で単
層回折光学素子として用いることもできる。
材は、互いに貼り合わせることなく、それぞれ単独で単
層回折光学素子として用いることもできる。
【００２１】次に図２の第１の光学部材１３を形成する
方法を図４（ａ）〜（ｄ）の概略断面図を用いて説明す
る。第１の光学部材を作製するには、まず図４（ａ）に
示す成形型５を用意する。成形型５は鋼材にクロムメッ
キを施すことによって形成されており、表面に第１の樹
脂層２に形成される凹凸パターンを反転した形状の凹凸
パターンが形成されている。この凹凸パターンの形状
は、コンピュータを用いた計算によって設計され、鋼材
の表面をバイトで切削することによって形成される。
方法を図４（ａ）〜（ｄ）の概略断面図を用いて説明す
る。第１の光学部材を作製するには、まず図４（ａ）に
示す成形型５を用意する。成形型５は鋼材にクロムメッ
キを施すことによって形成されており、表面に第１の樹
脂層２に形成される凹凸パターンを反転した形状の凹凸
パターンが形成されている。この凹凸パターンの形状
は、コンピュータを用いた計算によって設計され、鋼材
の表面をバイトで切削することによって形成される。
【００２２】上記の成形型５を図４（ａ）のように型保
持枠６に固定し、上からディスペンサー７によって紫外
線（ＵＶ）硬化樹脂８を滴下する。ここで、樹脂８が成
形型５の凹凸パターンが形成された領域まで広がったの
ち、真空容器内で約１０ｍｍＨｇに減圧し脱泡をおこな
うのが望ましい。これは、格子形状がピッチ４０μｍで
格子高さが１０μｍ近いものでは、樹脂が型上で広がる
際に微細形状内に空気をためてしまうことが確認さてい
るため、成形品の形状欠陥を防止するためである。
持枠６に固定し、上からディスペンサー７によって紫外
線（ＵＶ）硬化樹脂８を滴下する。ここで、樹脂８が成
形型５の凹凸パターンが形成された領域まで広がったの
ち、真空容器内で約１０ｍｍＨｇに減圧し脱泡をおこな
うのが望ましい。これは、格子形状がピッチ４０μｍで
格子高さが１０μｍ近いものでは、樹脂が型上で広がる
際に微細形状内に空気をためてしまうことが確認さてい
るため、成形品の形状欠陥を防止するためである。
【００２３】次に、ガラス基板から成る第１の基板１を
用意する。第１の基板１は、樹脂との密着性を高めるた
めその表面にシランカップリング剤をスピンナーで塗布
した後、オーブンで乾燥させる処理が施されている。こ
の第１の基板１の中心にごく少量の樹脂を滴下し、その
樹脂滴と成形型５上の樹脂８を最初に接触させた後、図
４（ｂ）に示すように、ゆっくりと第１の基板１を降下
させ所望の位置で固定する。
用意する。第１の基板１は、樹脂との密着性を高めるた
めその表面にシランカップリング剤をスピンナーで塗布
した後、オーブンで乾燥させる処理が施されている。こ
の第１の基板１の中心にごく少量の樹脂を滴下し、その
樹脂滴と成形型５上の樹脂８を最初に接触させた後、図
４（ｂ）に示すように、ゆっくりと第１の基板１を降下
させ所望の位置で固定する。
【００２４】その後、図４（ｃ）に示すように、不図示
のランプを用いて第１の基板１を通して紫外線光９をＵ
Ｖ硬化樹脂８に照射し、この樹脂を硬化させる。
のランプを用いて第１の基板１を通して紫外線光９をＵ
Ｖ硬化樹脂８に照射し、この樹脂を硬化させる。
【００２５】ＵＶ硬化樹脂８が硬化したら、図４（ｄ）
に示すように、第１の基板１に外力を加え、硬化した樹
脂を成形型５から離型する。離型された樹脂は第１の樹
脂層２となる。
に示すように、第１の基板１に外力を加え、硬化した樹
脂を成形型５から離型する。離型された樹脂は第１の樹
脂層２となる。
【００２６】次に、図４（ａ）〜（ｄ）に示すプロセス
で形成された第１の光学部材を真空蒸着槽に搬入し、真
空蒸着によって反射防止膜（増透膜）を形成する。反射
防止膜が形成された第１の光学部材の様子を図５（ａ）
に示す。
で形成された第１の光学部材を真空蒸着槽に搬入し、真
空蒸着によって反射防止膜（増透膜）を形成する。反射
防止膜が形成された第１の光学部材の様子を図５（ａ）
に示す。
【００２７】図５（ａ）は第１の光学部材における第１
の樹脂層の表面の一部を拡大して示す概略断面図であ
る。第１の樹脂層２の表面には、ブレーズド回折格子が
形成されている。ブレーズド回折格子においては、傾斜
面（第１の格子面）２ａと縦面（第２の格子面）とが交
互に配されている。傾斜面は不図示の基板表面に対し、
比較的緩やかな角度を有している。これに対し、縦面２
ｂは基板表面に対して垂直か、もしくは基板表面に対し
第１の傾斜面２ａよりも急峻な角度をなす面である。
の樹脂層の表面の一部を拡大して示す概略断面図であ
る。第１の樹脂層２の表面には、ブレーズド回折格子が
形成されている。ブレーズド回折格子においては、傾斜
面（第１の格子面）２ａと縦面（第２の格子面）とが交
互に配されている。傾斜面は不図示の基板表面に対し、
比較的緩やかな角度を有している。これに対し、縦面２
ｂは基板表面に対して垂直か、もしくは基板表面に対し
第１の傾斜面２ａよりも急峻な角度をなす面である。
【００２８】基板の表面を蒸着源に向けてセットし、上
記のようなブレーズド回折格子上に、真空蒸着を行う
と、傾斜面２ａ上には反射防止膜１０が形成されるが、
縦面２ｂには反射防止膜が形成されない。この理由は、
蒸着源からの蒸着粒子の飛来方向に対して縦面２ｂはほ
とんど角度を持たないからである。また、傾斜面２ａ上
に形成される反射防止膜１０は、格子先端部にも周り込
みによって凸状に形成されるが、蒸着粒子にとって縦面
２ｂがこの凸状部の影になることも、縦面２ｂに膜が形
成されない理由である。
記のようなブレーズド回折格子上に、真空蒸着を行う
と、傾斜面２ａ上には反射防止膜１０が形成されるが、
縦面２ｂには反射防止膜が形成されない。この理由は、
蒸着源からの蒸着粒子の飛来方向に対して縦面２ｂはほ
とんど角度を持たないからである。また、傾斜面２ａ上
に形成される反射防止膜１０は、格子先端部にも周り込
みによって凸状に形成されるが、蒸着粒子にとって縦面
２ｂがこの凸状部の影になることも、縦面２ｂに膜が形
成されない理由である。
【００２９】続いて、反射防止膜が形成された第１の光
学部材を対向電極型装置に搬入し、酸素アッシングを行
う。図５（ｂ）はアッシングされた第１の樹脂層の表面
の一部を拡大して示す概略断面図である。図５（ｂ）に
おいて、図５（ａ）と同一の部材には同一の符号を付
し、詳細な説明は省略する。
学部材を対向電極型装置に搬入し、酸素アッシングを行
う。図５（ｂ）はアッシングされた第１の樹脂層の表面
の一部を拡大して示す概略断面図である。図５（ｂ）に
おいて、図５（ａ）と同一の部材には同一の符号を付
し、詳細な説明は省略する。
【００３０】図５（ｂ）において、傾斜面２ａには反射
防止膜１０が形成されているため、樹脂が露出している
縦面２ｂのみアッシングされる。そして、アッシングに
よって、縦面２ｂの表面の粗度が大きくなり、艶消し処
理１２が施される。本実施例で用いた対向電極型装置
は、処理速度とアッシング反応の均一性に優れている。
アッシングの条件は、反射防止膜が劣化しないように、
比較的酸素圧は高めで、高周波（ＲＦ）出力は低めにす
ると好ましい。例えば、酸素圧２０〜５０Ｐａ、ＲＦ出
力２０〜１００Ｗの範囲が好適に用いられる。
防止膜１０が形成されているため、樹脂が露出している
縦面２ｂのみアッシングされる。そして、アッシングに
よって、縦面２ｂの表面の粗度が大きくなり、艶消し処
理１２が施される。本実施例で用いた対向電極型装置
は、処理速度とアッシング反応の均一性に優れている。
アッシングの条件は、反射防止膜が劣化しないように、
比較的酸素圧は高めで、高周波（ＲＦ）出力は低めにす
ると好ましい。例えば、酸素圧２０〜５０Ｐａ、ＲＦ出
力２０〜１００Ｗの範囲が好適に用いられる。
【００３１】以上説明したようにして、図２に示す第１
の光学部材１３が形成される。一方、図３に示す第２の
光学部材１４も、図４（ａ）〜（ｄ）、図５（ａ）及び
（ｂ）で説明した方法と全く同様にして形成される。
の光学部材１３が形成される。一方、図３に示す第２の
光学部材１４も、図４（ａ）〜（ｄ）、図５（ａ）及び
（ｂ）で説明した方法と全く同様にして形成される。
【００３２】上記のように形成された第１及び第２の光
学部材の一方を固定治具にセットし、図２及び図３に示
す凹部１６又は凸部１８より外側に、流動性の小さいチ
キソ系光硬化接着剤を周方向の複数箇所に滴下する。次
に、もう一方の光学部材をブレーズド回折格子が形成さ
れた面が互いに向き合うように、かつ凡そ互いに中心が
合うよう重ね合わせる。そのとき、ブレーズド回折格子
が形成された領域には干渉縞が見られ、それを目安に中
心への粗調整をしても良い。周辺部に施した凹部１６と
凸部１８が嵌合するようにして組み込んだ後、紫外線を
照射し接着剤を硬化させる。このようにして図１に示す
積層型回折光学素子が製造される。
学部材の一方を固定治具にセットし、図２及び図３に示
す凹部１６又は凸部１８より外側に、流動性の小さいチ
キソ系光硬化接着剤を周方向の複数箇所に滴下する。次
に、もう一方の光学部材をブレーズド回折格子が形成さ
れた面が互いに向き合うように、かつ凡そ互いに中心が
合うよう重ね合わせる。そのとき、ブレーズド回折格子
が形成された領域には干渉縞が見られ、それを目安に中
心への粗調整をしても良い。周辺部に施した凹部１６と
凸部１８が嵌合するようにして組み込んだ後、紫外線を
照射し接着剤を硬化させる。このようにして図１に示す
積層型回折光学素子が製造される。
【００３３】（第２実施形態）本発明の第２実施形態の
回折光学素子を以下に説明する。第２実施形態の回折光
学素子は、図１の回折光学素子と同様の外観を有してい
るが、ブレーズド回折格子の縦面をアッシング処理する
代わりに、縦面に不透明膜が形成されている。第２実施
形態の回折光学素子を構成する第１及び第２の光学部材
は、図２及び図３に示す第１実施形態と同一の外観を有
している。
回折光学素子を以下に説明する。第２実施形態の回折光
学素子は、図１の回折光学素子と同様の外観を有してい
るが、ブレーズド回折格子の縦面をアッシング処理する
代わりに、縦面に不透明膜が形成されている。第２実施
形態の回折光学素子を構成する第１及び第２の光学部材
は、図２及び図３に示す第１実施形態と同一の外観を有
している。
【００３４】次に、第２の実施形態における第１の光学
部材の形成方法を図６（ａ）〜（ｃ）の概略断面図を用
いて説明する。図６（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ、第１の
光学部材における第１の樹脂層の表面の一部を拡大して
示す概略断面図である。図６（ａ）〜（ｃ）において、
図５（ａ）と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な
説明は省略する。
部材の形成方法を図６（ａ）〜（ｃ）の概略断面図を用
いて説明する。図６（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ、第１の
光学部材における第１の樹脂層の表面の一部を拡大して
示す概略断面図である。図６（ａ）〜（ｃ）において、
図５（ａ）と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な
説明は省略する。
【００３５】まず、図４（ａ）〜（ｄ）及び図５（ａ）
で説明した第１実施形態と同様の方法によって、反射防
止膜が形成されたブレーズド回折格子を有する第１の光
学部材を形成する。次に、図６（ａ）に示すように、ブ
レーズド回折格子の全面に不透明膜１１をディッピング
によって塗布する。この不透明膜１１は、十分に希釈し
た色素塗料から成り、遮光および艶消しの機能を有して
いる。ディッピングの際に、希釈溶媒の沸点が高すぎる
と引き上げ途中で、回折格子形状の影響で流れ模様が発
生してしまうため、液温、ワーク温度を調整することが
肝要である。このように不透明膜１１を塗布した第１の
光学部材を、オーブンで乾燥をさせて十分に不透明膜を
樹脂層に定着させる。
で説明した第１実施形態と同様の方法によって、反射防
止膜が形成されたブレーズド回折格子を有する第１の光
学部材を形成する。次に、図６（ａ）に示すように、ブ
レーズド回折格子の全面に不透明膜１１をディッピング
によって塗布する。この不透明膜１１は、十分に希釈し
た色素塗料から成り、遮光および艶消しの機能を有して
いる。ディッピングの際に、希釈溶媒の沸点が高すぎる
と引き上げ途中で、回折格子形状の影響で流れ模様が発
生してしまうため、液温、ワーク温度を調整することが
肝要である。このように不透明膜１１を塗布した第１の
光学部材を、オーブンで乾燥をさせて十分に不透明膜を
樹脂層に定着させる。
【００３６】続いて、不透明膜が塗布された第１の光学
部材を、平行平板型の反応性イオンエッチング装置（Ｒ
ＩＥ）内に搬入し、図６（ｂ）に示すようにイオン１２
を照射してエッチングを行う。すると、図６（ｂ）に示
すように、傾斜面２ａ及び反射防止膜１０上の不透明膜
がエッチングによって除去され、縦面２ｂ上の不透明膜
１１のみが残る。これは、反応性イオンエッチングは異
方性が強いため、μｍサイズの微小凹凸の縦面ではイオ
ン照射が起こりづらいためである。エッチングの際に
は、反応ガスとしてＣＦ４、ＣＨＦ３を１０〜１００Ｐ
ａの圧力で装置内に導入し、高周波出力を印加してプラ
ズマを発生させる。エッチング時間は、不透明膜の厚み
とエッチングレートにより計算されるが、本実施例にお
いては１分ほどで除去が完了した。
部材を、平行平板型の反応性イオンエッチング装置（Ｒ
ＩＥ）内に搬入し、図６（ｂ）に示すようにイオン１２
を照射してエッチングを行う。すると、図６（ｂ）に示
すように、傾斜面２ａ及び反射防止膜１０上の不透明膜
がエッチングによって除去され、縦面２ｂ上の不透明膜
１１のみが残る。これは、反応性イオンエッチングは異
方性が強いため、μｍサイズの微小凹凸の縦面ではイオ
ン照射が起こりづらいためである。エッチングの際に
は、反応ガスとしてＣＦ４、ＣＨＦ３を１０〜１００Ｐ
ａの圧力で装置内に導入し、高周波出力を印加してプラ
ズマを発生させる。エッチング時間は、不透明膜の厚み
とエッチングレートにより計算されるが、本実施例にお
いては１分ほどで除去が完了した。
【００３７】以上説明したようにして、第２実施形態の
第１の光学部材が形成される。一方、第２の光学部材
も、図６（ａ）〜（ｃ）で説明した方法と全く同様にし
て形成される。これらの光学部材を第１実施形態と同一
の方法で貼り合わせ、図１と同様の積層型回折光学素子
が製造される。
第１の光学部材が形成される。一方、第２の光学部材
も、図６（ａ）〜（ｃ）で説明した方法と全く同様にし
て形成される。これらの光学部材を第１実施形態と同一
の方法で貼り合わせ、図１と同様の積層型回折光学素子
が製造される。
【００３８】第２実施形態において、ブレーズド回折格
子の凹凸の高さがより高い場合には、イオンの指向性が
さらに強い反応イオンビームエッチング（ＲＩＢＥ）を
使用するのが望ましい。
子の凹凸の高さがより高い場合には、イオンの指向性が
さらに強い反応イオンビームエッチング（ＲＩＢＥ）を
使用するのが望ましい。
【００３９】上記反応イオンビームエッチングを用いて
凸球面上に凸レンズタイプの回折格子が形成された素
子、又は凹球面上に凹レンズタイプの回折格子が形成さ
れた素子を製造する場合、イオンビームに対する縦面の
角度が場所によって異なる。このため、素子全面に対し
ての面法線方向の異方性エッチングが行われるような工
夫が必要である。このような例を図７に示す。
凸球面上に凸レンズタイプの回折格子が形成された素
子、又は凹球面上に凹レンズタイプの回折格子が形成さ
れた素子を製造する場合、イオンビームに対する縦面の
角度が場所によって異なる。このため、素子全面に対し
ての面法線方向の異方性エッチングが行われるような工
夫が必要である。このような例を図７に示す。
【００４０】図７は、反応イオンビームエッチング（Ｒ
ＩＢＥ）によって回折格子の表面を処理する様子を示す
概略図である。プラズマ源１９から発したイオンビーム
２０は、開口２１を有する遮蔽板２２によって、そのイ
オン照射面積が制限される。凸レンズ形状の基板２３上
にブレーズド回折格子を有する樹脂層２４が形成されて
いる。この基板を、回折光学素子の曲面法線が常にイオ
ン照射方向と一致するように、角度を変えながら自転さ
せることにより、素子全面について所望の異方性を有し
たエッチングをすることが行うことができる。これは、
イオンビームが基板の曲面に対して一定の角度をなすよ
うに制御するものである。
ＩＢＥ）によって回折格子の表面を処理する様子を示す
概略図である。プラズマ源１９から発したイオンビーム
２０は、開口２１を有する遮蔽板２２によって、そのイ
オン照射面積が制限される。凸レンズ形状の基板２３上
にブレーズド回折格子を有する樹脂層２４が形成されて
いる。この基板を、回折光学素子の曲面法線が常にイオ
ン照射方向と一致するように、角度を変えながら自転さ
せることにより、素子全面について所望の異方性を有し
たエッチングをすることが行うことができる。これは、
イオンビームが基板の曲面に対して一定の角度をなすよ
うに制御するものである。
【００４１】反射防止膜はその最表層が酸化ケイ素で形
成される場合が多い。この場合、最表層がＲＩＥあるい
はＲＩＢＥによってエッチングされてしまうため、エン
ドポイントをあらかじめ設定しておくことが重要であ
る。
成される場合が多い。この場合、最表層がＲＩＥあるい
はＲＩＢＥによってエッチングされてしまうため、エン
ドポイントをあらかじめ設定しておくことが重要であ
る。
【００４２】本発明は、以上説明した実施例の他にも種
々の応用が可能である。例えば、実施例では積層型回折
光学素子を示したが、図２及び図３に示す光学部材を単
層回折光学素子として単独で用いる場合にも、本発明を
適用することができる。本発明はクレームを逸脱しない
限りにおいて、このような応用例を全て包含するもので
ある。
々の応用が可能である。例えば、実施例では積層型回折
光学素子を示したが、図２及び図３に示す光学部材を単
層回折光学素子として単独で用いる場合にも、本発明を
適用することができる。本発明はクレームを逸脱しない
限りにおいて、このような応用例を全て包含するもので
ある。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明はブレーズ
ド回折格子の縦面にのみアッシングによる艶消し処理を
施す、又は不透明膜を形成することにより、高性能で、
且つ、フレア光が発生することが少ない回折光学素子が
得られた。
ド回折格子の縦面にのみアッシングによる艶消し処理を
施す、又は不透明膜を形成することにより、高性能で、
且つ、フレア光が発生することが少ない回折光学素子が
得られた。
【図１】本発明の第１実施形態の回折光学素子の一実施
例を示す概略断面図である。
例を示す概略断面図である。
【図２】図１に示す回折光学素子を構成する第１の光学
部材の貼り合わせ前の様子を示す概略断面図である。
部材の貼り合わせ前の様子を示す概略断面図である。
【図３】図１に示す回折光学素子を構成する第２の光学
部材の貼り合わせ前の様子を示す概略断面図である。
部材の貼り合わせ前の様子を示す概略断面図である。
【図４】図２に示す第１の光学部材を形成する方法を説
明するための概略断面図である。
明するための概略断面図である。
【図５】図２に示す第１の光学部材を形成する方法を説
明するための概略断面図である。
明するための概略断面図である。
【図６】第２実施形態における第１の光学部材を形成す
る方法を説明するための概略断面図である。
る方法を説明するための概略断面図である。
【図７】反応イオンビームエッチングによって回折格子
の表面を処理する様子を示す概略図である。
の表面を処理する様子を示す概略図である。
１ 第１の基板
２ 第１の樹脂層
２ａ 傾斜面
２ｂ 縦面
３ 第２の樹脂層
４ 第２の基板
５ 成形型
６ 型保持枠
７ ディスペンサー
８ 紫外線（ＵＶ）硬化樹脂
９ 紫外線光
１０ 反射防止膜
１１ 不透明膜
１２ 艶消し処理
１３ 第１の光学部材
１４ 第２の光学部材
１５、１７ ブレーズド回折格子
１６ 凹部
１８ 凸部
Claims (14)
- 【請求項１】 傾斜面と縦面とが交互に配されたブレー
ズド回折格子から成る回折光学素子において、前記傾斜
面と縦面の内、縦面にのみアッシングによる艶消し処理
が施されていることを特徴とする回折光学素子。 - 【請求項２】 傾斜面と縦面とが交互に配されたブレー
ズド回折格子から成る回折光学素子において、前記傾斜
面と縦面の内、縦面にのみ不透明膜が形成されているこ
とを特徴とする回折光学素子。 - 【請求項３】 前記回折光学素子は、基板と、該基板上
に形成され、表面に前記傾斜面及び縦面から成る凹凸が
形成された樹脂層とから成る請求項１又は２に記載の回
折光学素子。 - 【請求項４】 前記ブレーズド回折格子の傾斜面と縦面
の内、傾斜面上にのみ反射防止膜が形成されている請求
項１乃至３のいずれか一項に記載の回折光学素子。 - 【請求項５】 第１の基板と、該第１の基板上に設けら
れ、表面に傾斜面と縦面とが交互に配された第１のブレ
ーズド回折格子を有する第１の樹脂層とから成る第１の
光学部材、第２の基板と、該第２の基板上に設けられ、
表面に傾斜面と縦面とが交互に配された第２のブレーズ
ド回折格子を有する第２の樹脂層とから成る第２の光学
部材とから成り、前記第１及び第２の光学部材が第１及
び第２の樹脂層を内側にして互いに貼り合わされている
回折光学素子において、前記第１及び第２のブレーズド
回折格子の傾斜面と縦面の内、縦面にのみアッシングに
よる艶消し処理が施されていることを特徴とする回折光
学素子。 - 【請求項６】 第１の基板と、該第１の基板上に設けら
れ、表面に傾斜面と縦面とが交互に配された第１のブレ
ーズド回折格子を有する第１の樹脂層とから成る第１の
光学部材、第２の基板と、該第２の基板上に設けられ、
表面に傾斜面と縦面とが交互に配された第２のブレーズ
ド回折格子を有する第２の樹脂層とから成る第２の光学
部材とから成り、前記第１及び第２の光学部材が第１及
び第２の樹脂層を内側にして互いに貼り合わされている
回折光学素子において、前記第１及び第２のブレーズド
回折格子の傾斜面と縦面の内、縦面にのみ不透明膜が形
成されていることを特徴とする回折光学素子。 - 【請求項７】 前記第１及び第２のブレーズド回折格子
の傾斜面と縦面の内、傾斜面上にのみ反射防止膜が形成
されている請求項５又は６に記載の回折光学素子。 - 【請求項８】 基板上に、表面に傾斜面と縦面とが交互
に配されたブレーズド回折格子を有する樹脂層を形成す
る工程と、前記ブレーズド回折格子の傾斜面と縦面の
内、傾斜面上にのみ反射防止膜を形成する工程と、前記
ブレーズド回折格子をアッシングすることにより、傾斜
面と縦面の内、縦面にのみ艶消し処理を施す工程とから
成る回折光学素子の製造方法。 - 【請求項９】 基板上に、表面に傾斜面と縦面とが交互
に配されたブレーズド回折格子を有する樹脂層を形成す
る工程と、前記ブレーズド回折格子の傾斜面と縦面にデ
ィッピングによって不透明膜を塗布する工程と、前記ブ
レーズド回折格子を異方性エッチングすることにより、
傾斜面上の不透明膜のみを除去する工程とから成る回折
光学素子の製造方法。 - 【請求項１０】 前記異方性エッチングは、反応性イオ
ンビームエッチングである請求項９記載の回折光学素子
の製造方法。 - 【請求項１１】 前記基板は前記樹脂層が形成された曲
面を有しており、エッチングの際にイオンビームが前記
曲面に対して一定の角度をなすように制御する請求項１
０記載の回折光学素子の製造方法。 - 【請求項１２】 更に、前記ブレーズド回折格子の傾斜
面と縦面の内、傾斜面上にのみ反射防止膜を形成する工
程から成る請求項９乃至１１のいずれか一項に記載の回
折光学素子の製造方法。 - 【請求項１３】 前記反射防止膜は蒸着によって形成さ
れる請求項８又は１２に記載の回折光学素子の製造方
法。 - 【請求項１４】 前記樹脂層を形成する工程は、回折格
子パターンが形成された成形型上に紫外線硬化型樹脂を
供給する工程と、該紫外線硬化型樹脂の上に基板を重ね
る工程と、前記紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して樹
脂を硬化する工程と、硬化した樹脂と基板とを成形型か
ら離型する工程とから成る請求項８乃至１３のいずれか
一項に記載の回折光学素子の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002302913A JP2003240931A (ja) | 2001-12-13 | 2002-10-17 | 回折光学素子及びその製造方法 |
| US10/285,469 US20030112515A1 (en) | 2001-12-13 | 2002-11-01 | Diffractive optical element and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001379984 | 2001-12-13 | ||
| JP2001-379984 | 2001-12-13 | ||
| JP2002302913A JP2003240931A (ja) | 2001-12-13 | 2002-10-17 | 回折光学素子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003240931A true JP2003240931A (ja) | 2003-08-27 |
Family
ID=26625039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002302913A Withdrawn JP2003240931A (ja) | 2001-12-13 | 2002-10-17 | 回折光学素子及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030112515A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003240931A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012018380A (ja) * | 2010-06-11 | 2012-01-26 | Canon Inc | 回折光学素子、光学系、及び、光学機器 |
| JP2012189999A (ja) * | 2011-02-21 | 2012-10-04 | Canon Inc | 回折光学素子、積層型回折光学素子およびそれらの製造方法 |
| US8902504B2 (en) | 2010-06-11 | 2014-12-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element having a reflective member disposed between different grating wall surfaces thereof, and optical system and optical apparatus having the diffractive optical element |
| US8941923B2 (en) | 2010-06-11 | 2015-01-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element, optical system, and optical apparatus |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6961490B2 (en) * | 2000-01-27 | 2005-11-01 | Unaxis-Balzers Aktiengesellschaft | Waveguide plate and process for its production and microtitre plate |
| JP2004126394A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Nikon Corp | 回折光学素子 |
| US20040256628A1 (en) * | 2003-06-23 | 2004-12-23 | Chin Yee Loong | Optical source having integral diffractive element |
| US7572300B2 (en) * | 2006-03-23 | 2009-08-11 | International Business Machines Corporation | Monolithic high aspect ratio nano-size scanning probe microscope (SPM) tip formed by nanowire growth |
| JP2007293956A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Sony Corp | 光ピックアップ及び光ディスク装置 |
| JP4977275B2 (ja) | 2010-08-19 | 2012-07-18 | パナソニック株式会社 | 回折格子レンズおよびそれを用いた撮像装置 |
| TWI536051B (zh) * | 2011-02-08 | 2016-06-01 | Hamamatsu Photonics Kk | Optical element and manufacturing method thereof |
| WO2013027324A1 (ja) * | 2011-08-24 | 2013-02-28 | パナソニック株式会社 | 回折光学素子および回折光学素子の製造方法 |
| EP2662205B1 (en) * | 2012-05-11 | 2020-06-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Laminated diffraction optical element and production method thereof |
| JP6486042B2 (ja) * | 2014-09-12 | 2019-03-20 | キヤノン株式会社 | 積層型の回折光学素子 |
| JP6566618B2 (ja) * | 2014-09-12 | 2019-08-28 | キヤノン株式会社 | 金型の製造方法、光学部材の製造方法、および光学機器の製造方法 |
| RU2642139C1 (ru) * | 2016-12-27 | 2018-01-24 | Акционерное общество "Научно-производственное объединение "Государственный институт прикладной оптики" (АО "НПО ГИПО") | Способ изготовления дифракционных решеток |
| JP6783829B2 (ja) * | 2018-08-09 | 2020-11-11 | キヤノン株式会社 | 回折光学素子およびそれを用いた光学機器 |
| WO2020055658A1 (en) * | 2018-09-11 | 2020-03-19 | Corning Incorporated | Optical assembly with enhanced surface coupling |
| CN218272766U (zh) * | 2019-11-08 | 2023-01-10 | 3M创新有限公司 | 光学膜 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3852296T2 (de) * | 1988-03-18 | 1995-04-13 | Instruments Sa | Beugungsgitter und Herstellungsverfahren dafür. |
| JPH0416910A (ja) * | 1990-05-11 | 1992-01-21 | Omron Corp | 光学レンズ |
| US5840374A (en) * | 1993-12-28 | 1998-11-24 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Method of forming a SiO2 passivation film on a plastic substrate |
| JP3330786B2 (ja) * | 1994-09-13 | 2002-09-30 | シャープ株式会社 | フレネルレンズの作製方法およびそれを用いた投影画像表示装置 |
| US5801889A (en) * | 1995-08-16 | 1998-09-01 | Eastman Kodak Company | Technique to eliminate scattered light in diffractive optical elements |
| US6310733B1 (en) * | 1996-08-16 | 2001-10-30 | Eugene Dolgoff | Optical elements and methods for their manufacture |
-
2002
- 2002-10-17 JP JP2002302913A patent/JP2003240931A/ja not_active Withdrawn
- 2002-11-01 US US10/285,469 patent/US20030112515A1/en not_active Abandoned
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012018380A (ja) * | 2010-06-11 | 2012-01-26 | Canon Inc | 回折光学素子、光学系、及び、光学機器 |
| US8605358B2 (en) | 2010-06-11 | 2013-12-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element, optical system, and optical apparatus |
| US8902504B2 (en) | 2010-06-11 | 2014-12-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element having a reflective member disposed between different grating wall surfaces thereof, and optical system and optical apparatus having the diffractive optical element |
| US8941923B2 (en) | 2010-06-11 | 2015-01-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element, optical system, and optical apparatus |
| JP2012189999A (ja) * | 2011-02-21 | 2012-10-04 | Canon Inc | 回折光学素子、積層型回折光学素子およびそれらの製造方法 |
| US9366791B2 (en) | 2011-02-21 | 2016-06-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element and manufacturing method for the same |
| US9612372B2 (en) | 2011-02-21 | 2017-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element and manufacturing method for the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030112515A1 (en) | 2003-06-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003240931A (ja) | 回折光学素子及びその製造方法 | |
| KR101020634B1 (ko) | 기능성 나노패턴을 갖는 렌즈의 제조방법 | |
| JP6197647B2 (ja) | 光学フィルタとその製造方法、並びに撮像装置 | |
| JP2005157119A (ja) | 反射防止光学素子及びこれを用いた光学系 | |
| US20170348943A1 (en) | Optical body, optical film adhesive body, and method for manufacturing optical body | |
| KR20220038493A (ko) | 근안 디스플레이 회절 격자 도파로의 제조 방법 | |
| KR20190029489A (ko) | 회절 도광판 및 회절 도광판의 제조 방법 | |
| JP7127931B2 (ja) | 回折導光板および回折導光板の製造方法 | |
| EP3043375B1 (en) | Reflective photomask and production method therefor | |
| WO2022012245A1 (zh) | 近眼显示设备和光学结构及其晶圆级别的制备方法 | |
| US11656389B2 (en) | Diffractive optical element, optical apparatus using the same, and method for manufacturing diffractive optical element | |
| JP2012039012A (ja) | ナノインプリント用モールドの製造方法、ナノインプリント法による樹脂パターンの製造方法、及び、ナノインプリント用モールド | |
| US20010026399A1 (en) | Diffractive optical element and method of manufacture of the same | |
| WO2014092132A1 (ja) | 光学素子作製用金型及びその製造方法、光学素子 | |
| JP2015152660A (ja) | 防眩フィルム | |
| JP2020522021A (ja) | 回折格子の製造方法 | |
| US20150049318A1 (en) | Optical element, optical system, capturing apparatus, optical equipment, and original recording and manufacturing method therefor | |
| TW201727270A (zh) | 防反射光學體的形成方法、顯示面板及光學膜 | |
| US7294293B2 (en) | Method for manufacturing diffraction optical element | |
| JP4280567B2 (ja) | 偏光光学素子とその製造方法 | |
| CN112639575A (zh) | 用于增强现实的高折射率波导 | |
| US11926113B2 (en) | Optical element and method for manufacturing optical element | |
| JP2006162863A (ja) | 回折光学素子の成形型及び成形型の製造方法 | |
| JP2000241608A (ja) | 樹脂接合型光学素子とその製造方法 | |
| EP4336229A1 (en) | Optical element and method for manufacturing optical element |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040331 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070116 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20070227 |