JP2003232398A

JP2003232398A - 除振装置の調整方法および除振装置

Info

Publication number: JP2003232398A
Application number: JP2002029114A
Authority: JP
Inventors: Hiroaki Kato; 宏昭加藤
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2002-02-06
Filing date: 2002-02-06
Publication date: 2003-08-22

Abstract

(57)【要約】【課題】床振動フィードフォワードループの調整を、
除振台の振動の検出信号を用いたフィードバックループ
と同等に、安全かつ容易に行なう。【解決手段】除振台１と、除振台を支持する空気ばね
３と、除振台の振動を検出する第１の加速度センサ４
と、第１の加速度センサの検出信号に応じて空気ばねの
圧力を制御するフィードバックループと、空気ばねを設
置した床２の振動を検出する第２の加速度センサ５と、
第２の加速度センサの検出信号に応じて空気ばねの圧力
を制御するフィードフォワードループを有する除振装置
において、該フィードフォワードループのゲインを、該
フィードバックループのゲインの設定に応じて設定す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置な
どの精密機器において使用される除振装置に関する。よ
り具体的には、アクティブ方式と呼ばれており、除振台
および床の振動を振動検出手段で検出して、検出信号に
応じてアクチュエータを駆動する方式の除振装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】電子顕微鏡、半導体露光装置などの精密
機器においては外部環境から装置への振動伝達を極力遮
断しなくてはならない。よって、これら精密機器は除振
装置に搭載することが必須要件となっている。特に半導
体露光装置では露光用ＸＹステージが高速かつ連続的に
移動するので、除振装置には外部振動に対する除振性能
と搭載機器自身の動作により発生する内部振動に対する
制振性能の双方を高精度に実現することが求められる。

【０００３】このような要求に対して近年では振動セン
サとアクチュエータを備えたアクティブ方式の除振装置
が実用化されている。同除振装置では振動センサの検出
信号に応じてアクチュエータを駆動することによって効
果的な振動制御が可能となっている。一方、受動的な除
振装置は、ばねおよびダンパ特性を有する支持機構だけ
で構成されており、除振性能と制振性能との間にトレー
ドオフが存在する。受動的な除振装置において除振性能
を優先するならば支持機構に低剛性および低粘性が要求
されるが、この要求は制振性能を逆に劣化させてしま
う。アクティブ方式の除振装置の利点は除振性能と制振
性能の両立が可能なことである。振動センサの検出信号
に応じてアクチュエータを駆動することにより、効果的
な除振および制振が実現できるからである。

【０００４】アクティブ方式の除振装置は、精密機器を
搭載する除振台に振動センサを設置して、振動センサの
検出信号をアクチュエータにフィードバックすること、
そして、除振台自身を設置する床の振動を検出して、こ
の検出信号をアクチュエータにフィードフォワードする
ことを特徴としている。特開２０００―２７４４８２号
公報（能動的除振装置、露光装置及び方法並びにデバイ
ス製造方法）に開示された除振装置は、除振台に対して
スカイフックの粘性（スカイフックダンパ効果）とスカ
イフックの剛性（スカイフックスプリング効果）を付与
するようなフィードバックループを採用している。同公
報によると、除振装置は除振台を支持する空気ばねアク
チュエータと除振台の振動を計測する振動計測手段を有
する。空気ばねアクチュエータのような剛性要素で除振
台を支持することにより設置床から除振台への振動伝達
を遮断する。また、加速度と速度のフィードバックルー
プを備えており、振動計測手段の出力に基づく加速度と
速度を空気ばねアクチュエータにフィードバックして除
振台にスカイフックの粘性と剛性を付与する。スカイフ
ックとは空間上の絶対静止点を支点にするという意味で
あり、スカイフックの粘性と剛性は除振台を絶対静止さ
せる効果がある。剛性は変位を抑制し、粘性は残留振動
を速やかに減衰させる効果をもつ。

【０００５】また、特開２００１−２０９９６号公報
（除振装置および半導体製造装置）に開示された除振装
置は、床に設置した振動センサの検出信号に応じて空気
ばねアクチュエータを駆動するようなフィードフォワー
ドループを採用している。同公報によると、除振装置は
除振台を支持する空気ばねと設置床の振動を計測する振
動計測手段を有する。設置床から除振台への伝達振動は
空気ばねによっておおよそ減衰されるが、振動の絶縁が
完全になされるわけではない。支持脚である空気ばねを
伝達経路として設置床の振動が除振台に伝達する。フィ
ードフォワードループは設置床の振動伝達を相殺するよ
うに空気ばねを駆動する。設置床の振動を空気ばねにフ
ィードフォワードすることにより、除振台は設置床から
振動的に絶縁される。

【０００６】なお、フィードフォワードとは、信号伝達
の経路をブロック線図で表示したときに、当該経路が制
御対象に対して一方通行であることを意味する。すなわ
ちフィードフォワードループはオープンループである。
除振装置の床振動フィードフォワードループにおいて
は、制御対象は除振台で、信号の発生源は床である。信
号経路は、床の振動を検出して、検出信号に応じて空気
ばねを駆動し、除振台に制振力を作用させるという一方
通行的なものである。これに対して、フィードバックと
は、信号伝達経路が制御対象を含んで閉ループを構成し
ていることを意味する。除振装置において、スカイフッ
クの粘性および剛性は典型的なフィードバックループの
作用である。制御対象である除振台の振動を振動検出手
段で検出して、検出信号に適当な補償を施した後に、補
償信号に応じた制振力を除振台に作用させることによ
り、除振台にスカイフックの粘性と剛性を付与してい
る。このように除振台を含めた閉ループが構成されてい
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】フィードフォワードは
効果的な制御方式であるが、調整が試行錯誤的かつ困難
という問題点がある。理論的に最適な調整点は唯一に定
まるものの、産業現場の常識として、理論的、数値的な
解と実機における実測結果の間には隔たりが存在する。
シミュレーションで求めた最適調整状態を、実機におい
て制御系立ち上げ時の初期値とすることは稀である。こ
れは、仮にアクチュエータに過大な信号が入力される
と、最悪の場合、機器を破損してしまうからである。勢
い、フィードフォワードループの調整は、初期値として
ループゲインを非常に小さい値に設定して、徐々に値を
上げていき、制御効果の最大点を模索するという試行錯
誤的な作業になる。

【０００８】床振動フィードフォワードループの調整に
おいては、床から除振台までの振動伝達特性を測定し
て、同伝達特性が極小となる時点で調整を確定させてい
た。しかしながら、同伝達特性を測定するには高価なＦ
ＦＴアナライザを用いて長時間にわたる振動測定が必要
である。ＦＦＴとはＦａｓｔＦｏｕｒｉｅｒＴｒａ
ｎｓｆｏｒｍの略称である。このように、床振動のフィ
ードフォワードループは調整に多大な時間と労力とコス
トを要していた。よって、生産工程の肥大化と生産効率
の悪化、そして生産コストの上昇を招くという問題点が
あった。

【０００９】公知のように、フィードフォワードループ
の作用は先行的であるのに対して、フィードバックルー
プの作用は反省的である。フィードフォワードループは
外乱が制御対象に印加される以前にこの外乱を相殺する
ように作用するので、効果的に作用した場合、制御対象
に対する外乱入力を完全に阻止できる。先行的作用とい
われる所以である。フィードバックループは制御対象の
変動を検出した後に変動を抑制するように動作する。不
具合が起きてからこれを修正するように動作するため反
省的作用といわれる。フィードバックループでは外乱を
完全に抑制することは不可能である。当該フィードバッ
クループを構成しない場合と比較して、ある一定の比率
でもって外乱抑制がなされるに過ぎない。

【００１０】しかしながら、フィードバックループの大
きな利点は調整の容易性にある。通常、フィードバック
ループの調整は、閉ループを構成する前の段階でループ
の一巡伝達関数を測定することによって行なわれる。一
巡伝達関数を観察すれば、閉ループを構成した場合にフ
ィードバックループがいかなる動作をするのか容易に推
察可能である。最適な調整状態を確定した後にフィード
バック制御を実行できる。よって、アクチュエータに不
適で過大な信号が入力されるようなことがなく、安全か
つ確実な制御系調整がなされる。また、調整が容易であ
るため生産効率の向上に寄与するところが大きい。除振
装置において、スカイフックの粘性およびスカイフック
の剛性はフィードバックループによって安全かつ容易に
実現される。

【００１１】本発明はこのような事情を考慮してなされ
たものである。すなわち、本発明の目的は、床振動フィ
ードフォワードループの調整が、除振台の振動の検出信
号を用いたフィードバックループと同等に、安全かつ容
易になされるような方法および除振装置を提供すること
である。

【００１２】

【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために、本発明の調整方法は、除振台と、該除振
台を支持する空気ばねと、該除振台の振動を検出する第
１の加速度センサと、該第１の加速度センサの検出信号
に応じて前記空気ばねの圧力を制御するフィードバック
ループと、前記空気ばねを設置した床の振動を検出する
第２の加速度センサと、該第２の加速度センサの検出信
号に応じて前記空気ばねの圧力を制御するフィードフォ
ワードループとを有する除振装置の調整方法であって、
前記フィードバックループのゲインを設定する第１の工
程と、前記フィードフォワードループのゲインの設定を
前記フィードバックループのゲインの設定に応じて行な
う第２の工程とを有することを特徴とする。

【００１３】本発明が適用される除振装置は、除振台
と、除振台を支持する空気ばねと、除振台の振動を検出
する第１の加速度センサと、第１の加速度センサの検出
信号に応じて空気ばねの圧力を制御するフィードバック
ループと、空気ばねを設置した床の振動を検出する第２
の加速度センサと、第２の加速度センサの検出信号に応
じて空気ばねの圧力を制御するフィードフォワードルー
プとを有する。

【００１４】該除振装置によると、露光用ＸＹステージ
などの精密機器を搭載する除振台は空気ばねによって支
持される。第１の加速度センサは除振台に取り付けられ
ており、該除振台の振動を加速度信号として検出する。
フィードバックループは第１の加速度センサの検出信号
に応じて空気ばねの圧力を制御するように構成される。
該フィードバックループは除振台の振動を抑制するよう
に作用する。第２の加速度センサは空気ばねを設置する
床に取り付けられており、該床の振動を加速度信号とし
て検出する。フィードフォワードループは第２の加速度
センサの検出信号に応じて空気ばねの圧力を制御するよ
うに構成される。該フィードフォワードループは空気ば
ねを伝達経路として床から除振台に伝達する振動を相殺
するように作用する。

【００１５】本発明の調整方法によれば、第１の工程に
おいて、フィードバックループのゲインの設定は公知の
方法により行なうことができる。本発明の特徴は第２の
工程にある。すなわち、本発明の第２の工程では、フィ
ードフォワードループのゲインの設定を前記第１の工程
におけるフィードバックループのゲインの設定に応じて
行なう。よって、フィードフォワードループは安全かつ
確実に動作する。

【００１６】従来の理論により最適な調整点として求め
たフィードフォワードループのゲインは、それをいきな
り設定して除振装置を動作させた場合、過大入力による
機器破損等の問題があった。そのため、通常、フィード
フォワードループの調整は、ループのゲインをごく微小
な初期値に設定して、制御の効果を確認しながら徐々に
ゲインを上げていくというように、試行錯誤的に行なわ
れていた。しかしながら、本発明では、フィードバック
ループの設定に応じてフィードフォワードループを調整
できる。試行錯誤的な調整は一切不要である。よって、
除振装置の生産効率を大幅に向上させることができる。
また、調整のために用いられていた振動測定のためのＦ
ＦＴアナライザのような高価な機器も不要である。

【００１７】また、本発明の好ましい実施例において
は、前記フィードバックループが除振台に剛性を付与す
るフィードバックループであり、前記第２の工程では、
該フィードバックループの一巡伝達関数を用いて、前記
フィードフォワードループのゲインを設定する。

【００１８】フィードバックループは除振台に剛性を付
与するように作用する。この際、フィードバックループ
の一巡伝達関数は、除振台に作用する外力から除振台の
変位までの伝達関数であり一般にコンプライアンスと呼
ばれる応答と一致する。コンプライアンス応答におい
て、除振台の慣性と空気ばねの剛性とで定まる共振周波
数より低域のゲインは空気ばねの剛性の逆数と等しい。
一方、床振動の除振台への伝達は、支持脚である空気ば
ねの剛性に起因する。フィードフォワードループのゲイ
ンは該一巡伝達関数の低域のゲインを用いて設定する。
よって、試行錯誤的な調整を一切行なわなくとも、フィ
ードフォワードループは適切に作用する。

【００１９】また、本発明の好ましい他の実施例におい
ては、前記フィードバックループが除振台に剛性を付与
するフィードバックループであり、前記第２の工程で
は、除振装置の剛性を２倍とするような該フィードバッ
クループのゲインの設定と、前記フィードフォワードル
ープのゲインの設定とを一致させる。

【００２０】除振装置を動力学的に解析すると、除振装
置の剛性を２倍とするようなフィードバックループのゲ
インの設定は、床振動を相殺するフィードフォワードル
ープのゲインの設定と一致する。よって、本発明の調整
方法により調整された除振装置では該フィードフォワー
ドループが適切に動作する。

【００２１】本発明に係る第１の除振装置は、除振台
と、該除振台を支持する空気ばねと、前記除振台の振動
を検出する第１の加速度センサと、該第１の加速度セン
サの検出信号に応じて前記空気ばねの圧力を制御するフ
ィードバックループと、前記空気ばねを設置した床の振
動を検出する第２の加速度センサと、該第２の加速度セ
ンサの検出信号に応じて前記空気ばねの圧力を制御する
フィードフォワードループとを有する除振装置であっ
て、前記フィードバックループが前記除振台に剛性を付
与するフィードバックループであり、該フィードバック
ループのゲインが前記除振台に付与される剛性を等価的
に前記空気ばね本来の剛性の２倍とするように設定され
ていることを特徴とする。

【００２２】上述のように、除振装置の剛性を２倍とす
るようなフィードバックループのゲインの設定は、動力
学的に、床振動を相殺するフィードフォワードループの
ゲインの設定と一致する。よって、本発明に係る第１の
除振装置では、さらに、フィードフォワードループのゲ
インの設定をフィードバックループのゲインの設定と一
致させるだけで、該フィードフォワードループを適切に
動作させることができる。

【００２３】本発明に係る第２の除振装置は、除振台
と、該除振台を支持する空気ばねと、前記除振台の振動
を検出する第１の加速度センサと、該第１の加速度セン
サの検出信号に応じて前記空気ばねの圧力を制御するフ
ィードバックループと、前記空気ばねを設置した床の振
動を検出する第２の加速度センサと、該第２の加速度セ
ンサの検出信号に応じて前記空気ばねの圧力を制御する
フィードフォワードループとを有する除振装置であっ
て、前記フィードバックループは前記除振台に剛性を付
与するフィードバックループであり、前記除振台に付与
される剛性が等価的に前記空気ばね本来の剛性の２倍と
なるような該フィードバックループのゲインの設定と前
記フィードフォワードループのゲインの設定とを一致さ
せたことを特徴とする。この除振装置は、上述の理由
で、フィードフォワードループを適切に動作させること
ができる。なお、設置後または実際に動作させる場合、
フィードフォワードループのゲインの設定がそのままで
あれば、フィードバックループのゲインの設定は変更し
てもよい。

【００２４】本発明の調整方法により調整された除振装
置または本発明に係る除振装置は露光装置に備えられる
除振装置として好適に用いられる。半導体チップ、液晶
パネル、薄膜磁気ヘッドなどの微細パターンを有するデ
バイスの製造に用いられる露光装置では、露光用ＸＹス
テージや露光用投影レンズなどの精密機器が除振台に搭
載される。該除振台では試行錯誤的な調整を行なわなく
とも床振動フィードフォワードループが適切に作用す
る。よって、床からの振動伝達が遮断され、かつ、生産
効率が向上した半導体露光装置が提供される。

【００２５】

【実施例】本発明による除振装置の実施例について、図
面に基づき詳細に説明する。図１は本発明の一実施例に
係る除振装置を示す。同図において、ＸＹステージや露
光用投影レンズなどの精密機器を搭載する除振台１は三
角形の形状をなす。各頂点付近は空気ばね３ａ、３ｂ、
３ｃで支持されている。以下、図面左手前の添え字ａを
つけた構成要素について説明する。添え字ｂ、ｃをつけ
た構成要素については構成、作用とも添え字ａの構成要
素と同様である。なお、添え字ｃの構成要素において、
空気ばね３ｃ、パワーアンプ１１ｃおよび空気弁１２ｃ
は図示を省略している。

【００２６】空気ばね３ａは除振台１を床２より支持す
る。空気ばね３ａは除振台１を支持する支持脚であると
同時に、除振台１に制振力を付与するアクチュエータの
役割を担う。圧力をアクティブに制御することで制振力
を発生する。この目的のため、空気ばね３ａは空気弁１
２ａを備える。空気弁１２ａは圧力制御型の空気弁であ
る。パワーアンプ１１ａは空気弁１２ａを駆動する。パ
ワーアンプ１１ａへの入力信号に応じて空気ばね３ａの
圧力が制御される。一般に空気ばね３ａ、空気弁１２
ａ、パワーアンプ１１ａを組み合わせた空気圧アクチュ
エータは、パワーアンプ１１ａへの入力信号に対して積
分で制振力を発生する。すなわち、空気ばね３ａはパワ
ーアンプ１１ａへの入力信号の積分値に応じた推力を発
生する。

【００２７】空気ばね３ａは除振台１のような大重量を
支持するのに十分な推力を発生するため、除振装置の支
持脚として広く用いられる。また、振動をアクティブに
制御するためのアクチュエータとしては、積分特性を有
することが特徴である。

【００２８】除振台１は、空気ばね３ａによって支持さ
れる部位の近くに第１の加速度センサ４ａを具備してい
る。第１の加速度センサ４ａは除振台１に生ずる振動を
加速度信号として出力する。また、第２の加速度センサ
５ａは、空気ばね３ａが設置されている床２で、空気ば
ね３ａの近くに取り付けられている。第２の加速度セン
サ５ａは床２の振動を加速度信号として出力する。第１
の加速度センサ４ａと第２の加速度センサ５ａとして
は、サーボ型の加速度センサを採用することが精度と分
解能の面で望ましい。

【００２９】コントローラ６ａは第１の加速度センサ４
ａと第２の加速度センサ５ａの出力に応じてパワーアン
プ１１ａへ与える入力信号を生成する。コントローラ６
ａの作用で空気ばね３ａは適切な制振力を除振台１に付
与する。

【００３０】コントローラ６ａ、６ｂ、６ｃの作用をさ
らに詳しく説明する。図２は、図１に示した除振装置に
おいて、除振台１の一つの頂点付近の構成要素のみを取
り出して、かつ、コントローラ６の構成を詳細に図示し
た実施例である。図１において添え字ａ、ｂ、ｃで区別
した各構成要素は、それぞれが図２の実施例に対応す
る。図２では表記を簡潔にするため添え字ａ、ｂ、ｃを
省略している。

【００３１】除振台１は空気ばね３によって床２から支
持されている。空気ばね３は除振台１を支持する支持脚
であると同時に、除振台１に制振力を作用させるアクチ
ュエータの役割も担う。空気弁１２は空気ばね３の圧力
を制御する。パワーアンプ１１は入力信号に応じて空気
弁１２を駆動する。第１の加速度センサ４は除振台１に
設置されており、除振台１の振動を加速度信号として検
出する。第２の加速度センサ５は床２に設置されてお
り、床２の振動を加速度信号として検出する。コントロ
ーラ６は第１の加速度センサ４の検出信号と第２の加速
度センサ５の検出信号に応じてパワーアンプ１１に与え
る入力信号を生成する。コントローラ６の作用で空気ば
ね３は適切な制振力を除振台１に付与する。コントロー
ラ６は積分器７、床振動ゲイン８、剛性ゲイン９、粘性
ゲイン１０から構成される。

【００３２】パワーアンプ１１、空気弁１２、空気ばね
３からなる空気圧アクチュエータは、パワーアンプ１１
への入力信号に対して積分で除振台１に制振力を付与す
る。粘性ゲイン１０を含むループは、第１の加速度セン
サ４の検出信号に対して粘性ゲイン１０を作用させ、パ
ワーアンプ１１に入力信号として与えるフィードバック
ループである。同フィードバックループの作用により、
除振台１には速度に比例した制振力が付与される。これ
は除振台１に粘性を付与することに等しい。粘性付与で
除振台１に発生した振動は速やかに減衰される。

【００３３】なお、この場合のフィードバックループと
は、制御対象である除振台１を含んで信号の経路が閉ル
ープを構成していることを意味する。除振台１の振動を
第１の加速度センサ４で検出して、検出信号に応じた制
振力が除振台１に付与されるから、閉ループが構成され
ている。粘性付与のフィードバックループはアクティブ
方式の除振装置において必要不可欠な構成要素である。

【００３４】また、剛性ゲイン９を含むループは除振台
１に剛性を付与するためのループである。第１の加速度
センサ４が検出した除振台１の加速度は積分器７１へと
導入されて速度信号に変換される。除振台１の速度信号
は剛性ゲイン９で適切なゲイン補償を施された後にパワ
ーアンプ１１へと入力される。上述したようにアクチュ
エータが積分特性を有するため、剛性ゲイン９を含むフ
ィードバックループの作用により、除振台１の変位に比
例した制振力が除振台１に付与される。これは除振台１
に剛性を付与することに等しい。剛性付与で特に低周波
数帯域における除振装置の振動抑制性能が向上する。

【００３５】床振動ゲイン８を含むループは空気ばね３
を伝達経路として床２から除振台１へ伝達する振動を相
殺するためのフィードフォワードループである。第２の
加速度センサ５が検出した床２の加速度信号は、積分器
７２へと導入されて速度信号に変換される。床２の速度
信号は床振動ゲイン８で適切なゲイン補償を施された後
にパワーアンプ１１へと入力される。アクチュエータが
積分特性を有するため、床振動ゲイン８を含むフィード
フォワードループの作用により、床２の変位に比例した
制振力が除振台１に付与される。これによって空気ばね
３を伝達経路とした床振動の伝達が相殺される。なぜな
ら、床振動の伝達は主として空気ばね３の剛性に由来す
る。すなわち、床２の変位に比例した外乱力が除振台１
に作用する。床振動ゲイン８を含むフィードフォワード
ループは、この外乱力を相殺するように作用する。よっ
て、除振台１は床２に対して完全に振動絶縁される。

【００３６】なお、この場合のフィードフォワードルー
プとは、制御対象である除振台１を含んで信号の経路が
一方通行であり、閉ループを構成していないことを意味
する。床２の振動を第２の加速度センサ５で検出して、
検出信号に応じた制振力が除振台１に付与されるから、
信号の経路は床２から除振台１に向かって一方通行であ
る。

【００３７】床振動ゲイン８の値は唯一に定まる。しか
しながら、従来、産業現場においてその最適値を探索す
ることは容易でなかった。従来法によれば、当初は床振
動ゲイン８の値を十分に小さく設定する。次に、床２か
ら除振台１への振動伝達特性を確認しながら徐々に床振
動ゲイン８の値を上げていく。そして振動伝達特性が最
小となる状態で床振動ゲイン８を決定する。床振動ゲイ
ン８の調整はこのように煩雑かつ試行錯誤的であった。

【００３８】本実施例の本質は、床振動フィードフォワ
ードループの調整に、剛性付与のフィードバックループ
の一巡伝達関数を用いる点である。フィードバックルー
プの一巡伝達関数はループを閉じる前に容易に測定可能
である。これによって床振動フィードフォワードループ
の調整は大幅に簡略化される。

【００３９】本実施例の本質を数式および信号伝達経路
のブロック線図を用いて説明する。図３は除振台１、床
２および空気ばね３を動力学的にモデル化した図面であ
る。除振台１は質量Ｍの剛体である。空気ばね３は剛性
Ｋの剛性要素と粘性Ｄの粘性要素である。空気弁１２に
よってアクティブに空気ばね１３が発生する制振力は、
力Ｆで表わす。すると、力Ｆと床の変位Ｘ₀から除振台
の変位Ｘまでの伝達関数は次式で示される。（Ｍｓ²＋Ｄｓ＋Ｋ）Ｘ＝（Ｄｓ＋Ｋ）Ｘ₀＋Ｆ（１）

【００４０】（１）式において、記号ｓはラプラス演算
子である。（１）式右辺においてＸ ₀に係る（Ｄｓ＋
Ｋ）が床２から除振台１までの振動伝達経路を示してお
り、空気ばねの剛性Ｋおよび粘性Ｄの和に等しい。

【００４１】ここで、振動伝達経路であるＤｓとＫの大
小関係について考察する。Ｄｓは周波数の関数であり、
低周波において大きさは無限小、高周波で大きさが無限
大である。一方、Ｋは周波数に関わらず一定である。通
常、除振装置で問題とする周波数は比較的低周波であ
り、この周波数帯域においてＤｓはＫと比べて無視でき
るほど小さい。よって、（１）式右辺の（Ｄｓ＋Ｋ）か
らＤｓは削除できる。このとき、(１)式は次式のように
簡略化される。（Ｍｓ²＋Ｄｓ＋Ｋ）Ｘ＝ＫＸ₀＋Ｆ（２）

【００４２】図４は、（２）式で示した伝達関数と、図
２で示したフィードバックループおよびフィードフォワ
ードループとを組み合わせた、信号伝達のブロック線図
である。ブロックＧ_a／ｓはパワーアンプ１１への入力
信号から空気ばね３が発生する制振力までの積分特性を
示す。除振台１と床２の振動は加速度信号として検出さ
れるので、除振台１の変位Ｘと床２の変位Ｘ₀にはそれ
ぞれｓ²のブロック（加速度センサ４、５）が作用す
る。ｓ²Ｘは除振台１の加速度、ｓ²Ｘ₀は床２の加速度
を示す。

【００４３】ブロックＧ_dは粘性ゲイン１０のゲインを
示す。除振台１の加速度ｓ²Ｘに対して粘性ゲインＧ_dを
作用させたのちに空気ばね３に負帰還するというフィー
ドバックループが構成されている。同フィードバックの
作用で除振台１に粘性が付与される。除振台１に生ずる
振動は粘性付与により速やかに減衰される。

【００４４】ブロック１／ｓは積分器７１および７２を
示す。ブロックＧ_kは剛性ゲイン９のゲインを示す。除
振台１の加速度ｓ²Ｘに対して積分器１／ｓと剛性ゲイ
ンＧ_kをカスケードに作用させたのちに空気ばね３に負
帰還するというフィードバックループが構成されてい
る。同フィードバックの作用で除振台１に剛性が付与さ
れる。剛性付与で主に低周波数帯域における除振台１の
振動が抑制される。

【００４５】空気ばね３を伝達経路とした床振動伝達
は、床２の変位Ｘ₀が空気ばね３の剛性Ｋを介して除振
台１の動特性であるブロック１／（Ｍｓ²＋Ｄｓ＋Ｋ）
に入力する経路でもって示される。この伝達経路を相殺
するように作用するのが床振動フィードフォワードルー
プである。同ループはブロックＧ_fを含むループで示さ
れる。ブロックＧ_fは床振動ゲイン８のゲインである。
床２の加速度ｓ²Ｘ₀に積分器７２を作用させて速度信号
に変換したのち、床振動ゲインＧ_fを作用させて空気ば
ね３に入力するという前向きループを形成している。床
振動伝達を相殺するためには、図４において床振動フィ
ードフォワードループと床振動伝達経路とを比較して、
次式が成立しなければならない。Ｋ−ｓ²（１／ｓ）Ｇ_f（Ｇ_a／ｓ）＝０（３）

【００４６】このとき、床振動ゲインＧ_fは次式のよう
に唯一に決定される。Ｇ_f＝Ｋ／Ｇ_a （４）床振動ゲインＧ_fが（４）式を満たせば、床振動フィー
ドフォワードループは適切に作用して除振台１を床２か
ら振動絶縁できる。

【００４７】しかしながら、実際に（４）式を満たすよ
うに床振動ゲインＧ_fを設定することは容易でない。勢
い、調整は試行錯誤的となる。まず、初期値として床振
動ゲインＧ_fを十分に小さく設定する。次に、床２から
除振台１への振動伝達特性を確認しながら徐々に床振動
ゲインＧ_fの値を上げていく。そして、振動伝達特性が
極小となったところで床振動ゲインＧ_fを確定する。振
動伝達特性の測定にはＦＦＴアナライザなどの測定器を
用いて長時間に渡る振動計測が必要である。このように
従来では床振動ゲインＧ_fの調整は煩雑かつ試行錯誤的
であった。

【００４８】一方、フィードバックループの調整は、公
知のようにループの一巡伝達関数を測定することで行な
われる。一巡伝達関数はループを閉じる前に容易に測定
可能である。フィードフォワードループには一巡伝達関
数に相当するような調整基準が存在しない。そこで、本
実施例では、床振動フィードフォワードループの調整
に、剛性付与のフィードバックループの一巡伝達関数を
用いる。同フィードフォワードループの調整はこれによ
って大幅に簡略化される。

【００４９】図４において、剛性ゲインＧ_kを含んだ剛
性付与のフィードバックループに着目すると、同フィー
ドバックループの一巡伝達関数Ｇ_openは次式で示され
る。Ｇ_open＝Ｇ_kＧ_a／（Ｍｓ²＋Ｄｓ＋Ｋ）（５）

【００５０】また、同フィードバックループの閉ループ
伝達関数Ｇ_closeは次式で示される。Ｇ_close＝Ｇ_kＧ_a／（Ｍｓ²＋Ｄｓ＋Ｋ＋Ｇ_kＧ_a）（６）

【００５１】一巡伝達関数Ｇ_openのゲイン線図は周波数
領域でみるとおおよそ図５のようである。２次共振系の
コンプライアンス応答（変位／力応答）と相似である。
除振台１の質量Ｍと空気ばね３の剛性Ｋとで定まる共振
周波数（Ｋ／Ｍ）^1/2より低周波では、ゲインＧ_kＧ_a／
Ｋのフラットな特性である。また、この共振周波数より
も高周波数帯域では−４０ｄＢ／ｄｅｃａｄｅで高周波
減衰特性を有する。いま、低周波のフラットな部分のゲ
インが０ｄＢとなるように剛性ゲインＧ_kを調整したと
すると、図５より次式が成立する。Ｇ_kＧ_a／Ｋ＝１（７）

【００５２】このとき、剛性ゲインＧ_kは次式のように
なる。Ｇ_k＝Ｋ／Ｇ_a （８）そして、（８）式のように定めた剛性ゲインＧ_kを
（６）式に代入すると、閉ループ伝達関数Ｇ_closeは次
式のようである。Ｇ_close＝Ｋ／（Ｍｓ²＋Ｄｓ＋２Ｋ）（９）

【００５３】（５）式で示された一巡伝達関数Ｇ_openと
（８）式で示された閉ループ伝達関数Ｇ_closeを比較す
ると、除振台１に作用する剛性を示す項が、Ｋから２Ｋ
へと倍増していることがわかる。剛性付与のフィードバ
ックループの作用により、除振装置の剛性は２倍に向上
する。これによって、主に低周波数帯域で除振装置の振
動抑制性能は２倍に向上する。

【００５４】さて、床振動ゲインＧ_fは（４）式のよう
に唯一に決定される。一方、剛性ゲインＧ_kは（８）式
のように除振装置の剛性を２倍とするように調整され
た。このとき、（４）式と（８）式を比較すると明らか
なように、床振動ゲインＧ_fは剛性ゲインＧ_kと一致す
る。すなわち、床振動ゲインＧ_fは剛性ゲインＧ_kと同じ
値に設定すればよい。

【００５５】本実施例による床振動フィードフォワード
ループのゲイン調整をまとめる。まず、剛性付与のフィ
ードバックループの一巡伝達関数を測定する。次に、そ
の一巡伝達関数において共振周波数より低周波のゲイン
が０ｄＢとなるような剛性ゲインＧ_kを決定する。そし
て、このように求めた剛性ゲインＧ_kと同じ値に床振動
ゲインＧ_fを決定する。以上で床振動フィードフォワー
ドループは好適に作用する。

【００５６】もちろん、以上の手順で床振動ゲインＧ_f
を決定したのちは、剛性ゲインＧ_kは必ずしも床振動ゲ
インＧ_fと一致させなくてよい。本実施例の本質は床振
動フィードフォワードループの調整に剛性付与のフィー
ドバックループの一巡伝達関数を利用することである。
剛性ゲインＧ_kの値を床振動ゲインＧ_fの値よりも高く設
定して、除振装置の剛性をさらに向上させてもよい。ま
た、剛性ゲインＧ_kの値をゼロとしてフィードバックル
ープを作用させなくともよい。

【００５７】なお、上述の実施例においては、図１で開
示したように、空気ばね３ａ、３ｂ、３ｃが三角形形状
の除振台１を支持する構造の除振装置に本発明を適用し
た例を開示したが、本発明の適用範囲はこのような場合
に制限されるものではない。床振動フィードフォワード
ループのゲインを、フィードバックループ、例えば剛性
付与のフィードバックループの一巡伝達関数でもって決
定するという本発明の本質は、除振台の形状を問わずに
実施できる。また、本発明による除振装置を有する半導
体露光装置は、露光方式が逐次露光方式か走査露光方式
かを問わずに実施することができる。

【００５８】＜半導体生産システムの実施例＞次に、半
導体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パ
ネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の
生産システムの例を説明する。これは半導体製造工場に
設置された製造装置のトラブル対応や定期メンテナン
ス、あるいはソフトウェア提供などの保守サービスを、
製造工場外のコンピュータネットワークを利用して行な
うものである。

【００５９】図６は全体システムをある角度から切り出
して表現したものである。図中、１０１は半導体デバイ
スの製造装置を提供するベンダ（装置供給メーカ）の事
業所である。製造装置の実例として、半導体製造工場で
使用する各種プロセス用の半導体製造装置、例えば、前
工程用機器（露光装置、レジスト処理装置、エッチング
装置等のリソグラフィ装置、熱処理装置、成膜装置、平
坦化装置等）や後工程用機器（組立て装置、検査装置
等）を想定している。事業所１０１内には、製造装置の
保守データベースを提供するホスト管理システム１０
８、複数の操作端末コンピュータ１１０、これらを結ん
でイントラネットを構築するローカルエリアネットワー
ク（ＬＡＮ）１０９を備える。ホスト管理システム１０
８は、ＬＡＮ１０９を事業所の外部ネットワークである
インターネット１０５に接続するためのゲートウェイ
と、外部からのアクセスを制限するセキュリティ機能を
備える。

【００６０】一方、１０２〜１０４は、製造装置のユー
ザとしての半導体デバイスメーカの製造工場である。製
造工場１０２〜１０４は、互いに異なるメーカに属する
工場であっても良いし、同一のメーカに属する工場（例
えば、前工程用の工場、後工程用の工場等）であっても
良い。各工場１０２〜１０４内には、それぞれ、複数の
製造装置１０６と、それらを結んでイントラネットを構
築するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）１１１
と、各製造装置１０６の稼動状況を監視する監視装置と
してホスト管理システム１０７とが設けられている。各
工場１０２〜１０４に設けられたホスト管理システム１
０７は、各工場内のＬＡＮ１１１を工場の外部ネットワ
ークであるインターネット１０５に接続するためのゲー
トウェイを備える。これにより各工場のＬＡＮ１１１か
らインターネット１０５を介してベンダ１０１側のホス
ト管理システム１０８にアクセスが可能となり、ホスト
管理システム１０８のセキュリティ機能によって限られ
たユーザだけがアクセスが許可となっている。具体的に
は、インターネット１０５を介して、各製造装置１０６
の稼動状況を示すステータス情報（例えば、トラブルが
発生した製造装置の症状）を工場側からベンダ側に通知
する他、その通知に対応する応答情報（例えば、トラブ
ルに対する対処方法を指示する情報、対処用のソフトウ
ェアやデータ）や、最新のソフトウェア、ヘルプ情報な
どの保守情報をベンダ側から受け取ることができる。各
工場１０２〜１０４とベンダ１０１との間のデータ通信
および各工場内のＬＡＮ１１１でのデータ通信には、イ
ンターネットで一般的に使用されている通信プロトコル
（ＴＣＰ／ＩＰ）が使用される。なお、工場外の外部ネ
ットワークとしてインターネットを利用する代わりに、
第三者からのアクセスができずにセキュリティの高い専
用線ネットワーク（ＩＳＤＮなど）を利用することもで
きる。また、ホスト管理システムはベンダが提供するも
のに限らずユーザがデータベースを構築して外部ネット
ワーク上に置き、ユーザの複数の工場から該データベー
スへのアクセスを許可するようにしてもよい。

【００６１】さて、図７は本実施例の全体システムを図
６とは別の角度から切り出して表現した概念図である。
先の例ではそれぞれが製造装置を備えた複数のユーザ工
場と、該製造装置のベンダの管理システムとを外部ネッ
トワークで接続して、該外部ネットワークを介して各工
場の生産管理や少なくとも１台の製造装置の情報をデー
タ通信するものであった。これに対し本例は、複数のベ
ンダの製造装置を備えた工場と、該複数の製造装置のそ
れぞれのベンダの管理システムとを工場外の外部ネット
ワークで接続して、各製造装置の保守情報をデータ通信
するものである。図中、２０１は製造装置ユーザ（半導
体デバイスメーカ）の製造工場であり、工場の製造ライ
ンには各種プロセスを行なう製造装置、ここでは例とし
て露光装置２０２、レジスト処理装置２０３、成膜処理
装置２０４が導入されている。なお図７では製造工場２
０１は１つだけ描いているが、実際は複数の工場が同様
にネットワーク化されている。工場内の各装置はＬＡＮ
２０６で接続されてイントラネットを構成し、ホスト管
理システム２０５で製造ラインの稼動管理がされてい
る。一方、露光装置メーカ２１０、レジスト処理装置メ
ーカ２２０、成膜装置メーカ２３０などベンダ（装置供
給メーカ）の各事業所には、それぞれ供給した機器の遠
隔保守を行なうためのホスト管理システム２１１、２２
１、２３１を備え、これらは上述したように保守データ
ベースと外部ネットワークのゲートウェイを備える。ユ
ーザの製造工場内の各装置を管理するホスト管理システ
ム２０５と、各装置のベンダの管理システム２１１、２
２１、２３１とは、外部ネットワーク２００であるイン
ターネットもしくは専用線ネットワークによって接続さ
れている。このシステムにおいて、製造ラインの一連の
製造機器の中のどれかにトラブルが起きると、製造ライ
ンの稼動が休止してしまうが、トラブルが起きた機器の
ベンダからインターネット２００を介した遠隔保守を受
けることで迅速な対応が可能で、製造ラインの休止を最
小限に抑えることができる。

【００６２】半導体製造工場に設置された各製造装置は
それぞれ、ディスプレイと、ネットワークインターフェ
ースと、記憶装置にストアされたネットワークアクセス
用ソフトウェアならびに装置動作用のソフトウェアを実
行するコンピュータを備える。記憶装置としては内蔵メ
モリやハードディスク、あるいはネットワークファイル
サーバーなどである。上記ネットワークアクセス用ソフ
トウェアは、専用または汎用のウェブブラウザを含み、
例えば図８に一例を示す様な画面のユーザインターフェ
ースをディスプレイ上に提供する。各工場で製造装置を
管理するオペレータは、画面を参照しながら、製造装置
の機種（４０１）、シリアルナンバー（４０２）、トラ
ブルの件名（４０３）、発生日（４０４）、緊急度（４
０５）、症状（４０６）、対処法（４０７）、経過（４
０８）等の情報を画面上の入力項目に入力する。入力さ
れた情報はインターネットを介して保守データベースに
送信され、その結果の適切な保守情報が保守データベー
スから返信されディスプレイ上に提示される。またウェ
ブブラウザが提供するユーザインターフェースはさらに
図示のごとくハイパーリンク機能（４１０〜４１２）を
実現し、オペレータは各項目の更に詳細な情報にアクセ
スしたり、ベンダが提供するソフトウェアライブラリか
ら製造装置に使用する最新バージョンのソフトウェアを
引出したり、工場のオペレータの参考に供する操作ガイ
ド（ヘルプ情報）を引出したりすることができる。

【００６３】次に上記説明した生産システムを利用した
半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図９は半導
体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。ス
テップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を
行なう。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パ
ターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３
（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４
によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する
工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディ
ング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立て
工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製
された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト
等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これを出荷（ステップ７）する。前工程と後
工程はそれぞれ専用の別の工場で行ない、これらの工場
毎に上記説明した遠隔保守システムによって保守がなさ
れる。また前工程工場と後工程工場との間でも、インタ
ーネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や
装置保守のための情報がデータ通信される。

【００６４】図１０は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上
に多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製
造機器は上記説明した遠隔保守システムによって保守が
なされているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もし
トラブルが発生しても迅速な復旧が可能で、従来に比べ
て半導体デバイスの生産性を向上させることができる。

【００６５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
床振動を空気ばねにフィードフォワード入力して、床か
ら除振台への振動伝達を相殺する。フィードフォワード
ループのゲインは、フィードバックループのゲインの設
定に応じて決定する。例えば除振台に剛性を付与するフ
ィードバックループの一巡伝達関数でもって決定する。
よって、ゲイン調整が短時間かつ容易に行なえる。従来
の除振装置でみられたような、同フィードフォワードル
ープのゲインを試行錯誤的に調整する工程は、一切不要
である。このように調整が容易であり好適な振動制御が
可能な除振装置と、この除振装置を有する高精度な半導
体露光装置とを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る除振装置の構成を示
す図である。

【図２】図１の除振装置の１脚当たりの構成を示す説
明図である。

【図３】図２の除振装置の動力学的なモデルを示す図
である。

【図４】図２の除振装置の信号伝達経路を示すブロッ
ク線図である。

【図５】図４における剛性付与のフィードバックルー
プの一巡伝達関数を示す図である。

【図６】半導体デバイスの生産システムをある角度か
ら見た概念図である。

【図７】半導体デバイスの生産システムを別の角度か
ら見た概念図である。

【図８】ユーザインターフェースの具体例である。

【図９】デバイスの製造プロセスのフローを説明する
図である。

【図１０】ウエハプロセスを説明する図である。

【符号の説明】

１：除振台、２：床、３，３ａ，３ｂ，３ｃ：空気ば
ね、４，４ａ，４ｂ，４ｃ：第１の加速度センサ、５，
５ａ，５ｂ，５ｃ：第２の加速度センサ、６，６ａ，６
ｂ，６ｃ：コントローラ、７１，７２：積分器、８：床
振動ゲイン、９：剛性ゲイン、１０：粘性ゲイン、１
１，１１ａ，１１ｂ，１１ｃ：パワーアンプ、１２，１
２ａ，１２ｂ，１２ｃ：空気弁。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】除振台と、前記除振台を支持する空気ば
ねと、前記除振台の振動を検出する第１の加速度センサ
と、前記第１の加速度センサの検出信号に応じて前記空
気ばねの圧力を制御するフィードバックループと、前記
空気ばねを設置した床の振動を検出する第２の加速度セ
ンサと、前記第２の加速度センサの検出信号に応じて前
記空気ばねの圧力を制御するフィードフォワードループ
とを有する除振装置の調整方法であって、前記フィードバックループのゲインを設定する第１の工
程と、前記フィードフォワードループのゲインの設定を
前記フィードバックループのゲインの設定に応じて行な
う第２の工程とを有することを特徴とする除振装置の調
整方法。
【請求項２】前記フィードバックループは前記除振台
に剛性を付与するフィードバックループであり、前記第
２の工程は前記第１の工程を経た際の前記フィードバッ
クループの一巡伝達関数に基づいて前記フィードフォワ
ードループのゲインを設定する工程であることを特徴と
する請求項１に記載の調整方法。
【請求項３】前記フィードバックループは前記除振台
に剛性を付与するフィードバックループであり、前記第
１の工程は前記除振台に付与される剛性を等価的に前記
空気ばね本来の剛性の２倍とするような前記フィードバ
ックループのゲインを設定する工程であり、前記第２の
工程は前記フィードフォワードループのゲインの設定を
前記第１の工程における前記フィードバックループのゲ
インの設定と一致させる工程であることを特徴とする請
求項１に記載の調整方法。
【請求項４】除振台と、前記除振台を支持する空気ば
ねと、前記除振台の振動を検出する第１の加速度センサ
と、前記第１の加速度センサの検出信号に応じて前記空
気ばねの圧力を制御するフィードバックループと、前記
空気ばねを設置した床の振動を検出する第２の加速度セ
ンサと、前記第２の加速度センサの検出信号に応じて前
記空気ばねの圧力を制御するフィードフォワードループ
とを有する除振装置であって、前記フィードバックループが前記除振台に剛性を付与す
るフィードバックループであり、該フィードバックルー
プのゲインが前記除振台に付与される剛性を等価的に前
記空気ばね本来の剛性の２倍とするように設定されてい
ることを特徴とする除振装置。
【請求項５】前記フィードバックループのゲインの設
定と前記フィードフォワードループのゲインの設定とを
一致させたことを特徴とする請求項４に記載の除振装
置。
【請求項６】除振台と、前記除振台を支持する空気ば
ねと、前記除振台の振動を検出する第１の加速度センサ
と、前記第１の加速度センサの検出信号に応じて前記空
気ばねの圧力を制御するフィードバックループと、前記
空気ばねを設置した床の振動を検出する第２の加速度セ
ンサと、前記第２の加速度センサの検出信号に応じて前
記空気ばねの圧力を制御するフィードフォワードループ
とを有する除振装置であって、前記フィードバックルー
プは前記除振台に剛性を付与するフィードバックループ
であり、前記除振台に付与される剛性が等価的に前記空
気ばね本来の剛性の２倍となるような該フィードバック
ループのゲインの設定と前記フィードフォワードループ
のゲインの設定とを一致させたことを特徴とする除振装
置。
【請求項７】請求項１〜３のいずれか１つに記載の調
整方法により調整された除振装置または請求項４〜６の
いずれか１つに記載の除振装置を有することを特徴とす
る露光装置。
【請求項８】請求項７に記載の露光装置において、デ
ィスプレイと、ネットワークインターフェースと、ネッ
トワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさ
らに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワ
ークを介してデータ通信することを可能にした露光装
置。
【請求項９】前記ネットワーク用ソフトウェアは、前
記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接続
され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する保
守データベースにアクセスするためのユーザインターフ
ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
能にする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】請求項７〜９のいずれか１つに記載の
露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半導体製
造工場に設置する工程と、該製造装置群を用いて複数の
プロセスによって半導体デバイスを製造する工程とを有
することを特徴とする半導体デバイス製造方法。
【請求項１１】前記製造装置群をローカルエリアネッ
トワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネット
ワークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの
間で、前記製造装置群の少なくとも１台に関する情報を
データ通信する工程とをさらに有する請求項１０記載の
方法。
【請求項１２】前記露光装置のベンダもしくはユーザ
が提供するデータベースに前記外部ネットワークを介し
てアクセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守
情報を得る、もしくは前記半導体製造工場とは別の半導
体製造工場との間で前記外部ネットワークを介してデー
タ通信して生産管理を行なう請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】請求項７〜９のいずれか１つに記載の
露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群と、該製造
装置群を接続するローカルエリアネットワークと、該ロ
ーカルエリアネットワークから工場外の外部ネットワー
クにアクセス可能にするゲートウェイを有し、前記製造
装置群の少なくとも１台に関する情報をデータ通信する
ことを可能にした半導体製造工場。
【請求項１４】半導体製造工場に設置された請求項７
〜９のいずれか１つに記載の露光装置の保守方法であっ
て、前記露光装置のベンダもしくはユーザが、半導体製
造工場の外部ネットワークに接続された保守データベー
スを提供する工程と、前記半導体製造工場内から前記外
部ネットワークを介して前記保守データベースへのアク
セスを許可する工程と、前記保守データベースに蓄積さ
れる保守情報を前記外部ネットワークを介して半導体製
造工場側に送信する工程とを有することを特徴とする露
光装置の保守方法。