JP2003229068A - Color selecting device and method of manufacture and cathode-ray tube - Google Patents
Color selecting device and method of manufacture and cathode-ray tubeInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は陰極線管に用いる色
選別装置及びその製造方法並びに陰極線管に係わり、特
に陰極線管及び色選別装置に用いるアパーチャグリルの
ダミースリット及びスプリングホルダの改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color selecting device used for a cathode ray tube, a method of manufacturing the same, and a cathode ray tube, and more particularly, to improvement of a dummy slit and a spring holder of an aperture grill used for the cathode ray tube and the color selecting device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般にカラー陰極線管（以下ＣＲＴと記
す）は電子銃から発射された電子ビームを管体のフェー
スプレート内面に形成した赤、緑、青の蛍光体ストライ
プが所定の順序をもって並列されたカラー蛍光面の所定
蛍光面にのみ到達させるように、電子銃と蛍光体との間
に色選別装置（以下アパーチャグリル：ＡＧと記す）を
配置している。この様なＣＲＴに用いる色選別装置とし
てのＡＧは図６に示す様にグリッド構体１２と、フレー
ム１３と、ＡＧ１１をＣＲＴに支持するためのスプリン
グ１４とスプリングホルダ１５等で構成されている。2. Description of the Related Art Generally, in a color cathode ray tube (hereinafter referred to as "CRT"), red, green and blue phosphor stripes formed by arranging electron beams emitted from an electron gun on the inner surface of a face plate of a tube are arranged in a predetermined order. Further, a color selection device (hereinafter referred to as an aperture grill: AG) is arranged between the electron gun and the phosphor so as to reach only a predetermined phosphor screen of the color phosphor screen. As shown in FIG. 6, an AG as a color selection device used for such a CRT is composed of a grid structure 12, a frame 13, a spring 14 for supporting the AG 11 on the CRT, a spring holder 15, and the like.
【０００３】この様なＡＧ１１を製造するにはフレーム
１３を洗浄した後、このフレーム１３にスプリングホル
ダ１５をスポット溶接２３等で取り付ける。その後グリ
ッド構体１２を溶接する部分のフレーム１３同士を接近
させる様にフレーム１３に圧力を加え、この状態でグリ
ッド構体１２をフレーム１３に溶接する。In order to manufacture such an AG 11, after cleaning the frame 13, the spring holder 15 is attached to the frame 13 by spot welding 23 or the like. After that, pressure is applied to the frame 13 so that the frames 13 at the portions where the grid structure 12 is welded are brought close to each other, and in this state, the grid structure 12 is welded to the frame 13.
【０００４】その後、フレーム１３に対する加圧を解除
してグリッド構体１２をフレーム１３に高い張力で架張
する。これは、ＣＲＴの動作時にグリッド構体１２の熱
膨張によって色ズレが生じるのを軽減させるためであ
る。そして、グリッド構体１２のうちでフレーム１３か
ら突出している部分を切断するというペリフェリ部のト
リミングを行なう。そして更に、グリッド構体１２を黒
化し、スプリング１４の取り付け等を行なう。Thereafter, the pressure applied to the frame 13 is released and the grid structure 12 is stretched over the frame 13 with high tension. This is to reduce color misregistration caused by thermal expansion of the grid structure 12 during operation of the CRT. Then, the peripheral part of the grid structure 12 is cut off so that the part protruding from the frame 13 is trimmed. Further, the grid structure 12 is blackened, and the spring 14 is attached.
【０００５】上述の様にグリッド構体１２をフレーム１
３に高い張力で架張すると、図７に示す様に、ｘ軸の外
側へ向かって高い応力が分布し、矢印で示す様にｚ軸の
回りでグリッド構体１２の内側へ向かう回転モーメント
が生じる。この結果、最端テープ部１７ａが内側へねじ
れ、最端スリット１６ａの幅が所定の幅よりも狭くなっ
て、良好な色選別を行なうことができなかった。そこ
で、従来は、図８に示すように、最端テープ部１７ａに
エキストラスリットまたはダミースリット１９を設ける
ことが行なわれていた。As described above, the grid structure 12 is attached to the frame 1
As shown in FIG. 7, when tension is applied to No. 3 with a high tension, high stress is distributed toward the outside of the x-axis, and a rotational moment toward the inside of the grid assembly 12 is generated around the z-axis as shown by the arrow. . As a result, the outermost tape portion 17a was twisted inward, and the width of the outermost slit 16a was narrower than a predetermined width, so that good color selection could not be performed. Therefore, conventionally, as shown in FIG. 8, an extra slit or a dummy slit 19 is provided in the outermost tape portion 17a.
【０００６】エキストラスリットまたはダミースリット
１９は、図８に示すように通常のスリット１６よりも幅
の狭い余分なスリット１９を設け、グリッド構体１２を
フレーム１３に架張した後の上述の応力をダミースリッ
ト１９で吸収し、このダミースリット１９を変形させて
いる。As shown in FIG. 8, the extra slits or the dummy slits 19 are provided with extra slits 19 having a width narrower than that of the ordinary slits 16, and dummy stresses after the grid structure 12 is stretched on the frame 13 are dummy. The dummy slit 19 is deformed by being absorbed by the slit 19.
【０００７】このダミースリット１９が設けられている
グリッド構体１２の両外端のａ部分の無孔部１８はＣＲ
Ｔの蛍光面２へ蛍光体ストライプの焼付け時にＡＧ１１
をマスクとして利用する際に露光面が露光されない様に
有効画面を制限するものであり、従って、この無孔部１
８に形成するダミースリット１９は通常のスリット１６
よりも狭くて露光し難い様に形成している。The non-perforated portions 18 at the a portions at both outer ends of the grid structure 12 having the dummy slits 19 are CR.
When the phosphor stripe is printed on the phosphor screen 2 of T, AG11
The effective screen is limited so that the exposed surface is not exposed when the mask is used as a mask.
The dummy slit 19 formed in 8 is a normal slit 16
It is formed so that it is narrower and difficult to expose.
【０００８】このグリッド構体１２に形成するスリット
１６は例えば化学エッチングによって、金属薄板に一方
向に所定の間隔で配列された多数のスリット１６を形成
させ、ダミースリット１９は図９（Ａ）に示す様にグリ
ッド構体１２を構成する金属薄板の上下面からダミース
リット１９の幅を残してレジスト２６を塗布し、エッチ
ング軸２１の上下軸を合せて上下からエッチングを施し
て作成するが上下エッチング２０を行なう時のエッチン
グ面が狭く、製造が難しく、歩留りも悪いため、図９
（Ｂ）に示す様に上のエッチング面を通常のスリット１
６を形成する際のエッチング２０ａのエッチング幅と同
様に大きくとった上エッチング軸２１に対し下側からエ
ッチングを行なう下側のエッチング軸２２を右側或は左
側に少くともシフトさせた狭い幅のエッチング２０ｂを
行ない、下エッチング軸２２が狭いエッチング幅と成る
様にレジスト２６を上下面に塗布して、上下から化学的
エッチングを行なう様にしたダミースリットの製造方法
を特開平２００１−１５５６５３号公報（シフトコーン
方法）で提案している。The slits 16 formed in the grid structure 12 are formed by chemical etching, for example, to form a large number of slits 16 arranged in one direction at predetermined intervals on a thin metal plate, and the dummy slits 19 are shown in FIG. 9 (A). Similarly, the resist 26 is applied from the upper and lower surfaces of the metal thin plate constituting the grid structure 12 leaving the width of the dummy slits 19 and etching is performed from above and below by aligning the vertical axis of the etching axis 21. Since the etching surface when performing the etching is narrow, manufacturing is difficult, and the yield is low,
As shown in (B), the upper etching surface is a normal slit 1
Etching with a small width, which is the same as the etching width of the etching 20a when forming 6 is performed. Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-155653 discloses a method of manufacturing a dummy slit in which the resist 26 is applied to the upper and lower surfaces so that the lower etching shaft 22 has a narrow etching width and chemical etching is performed from above and below. Shift cone method).
【０００９】上述のシフトコーン方法によれば、図９
（Ｃ）のエッチング後のダミースリット１９の様にグリ
ッド構体１２の上下面で２つの断面がドーム状の一部が
重なり合されたパターンと成って、露光時のダミースリ
ット１９中に入射した露光ビームＢは上部のエッチング
２０ａの湾曲面３０ａでは有効画面方向に反射せずグリ
ッド構体１２の無孔部１８側に出射するか下側のエッチ
ング２０ｂの湾曲面３０ｂで反射されるため露光時に有
効画面内に露光ビームが漏れることのないものが得られ
る。According to the shift cone method described above, FIG.
Like the dummy slit 19 after etching in (C), the two cross sections on the upper and lower surfaces of the grid structure 12 have a dome-shaped pattern in which a part of them overlap each other. The beam B is not reflected in the effective screen direction on the curved surface 30a of the upper etching 20a and is emitted to the non-hole portion 18 side of the grid structure 12 or is reflected on the curved surface 30b of the lower etching 20b, so that the effective screen is exposed at the time of exposure. The one in which the exposure beam does not leak is obtained.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】従来のＡＧは上述の様
に構成されているがフレーム１３にスポット溶接２３さ
れるスプリングホルダ１５は図６のＡ部拡大図に示すよ
うに、略長方形状のバイメタル材が用いられ３ｍｍ程度
の厚みを有し、幅広コイルからスリッタによって所定幅
に切断される。このスリッタ時に反りが発生するが、長
方形状にプレスする段階で反りは多少軽減されるが反り
が大きいとプレス後も反りが残るものが生ずる。Although the conventional AG is constructed as described above, the spring holder 15 spot-welded 23 to the frame 13 has a substantially rectangular shape as shown in the enlarged view of the portion A of FIG. A bimetal material is used, has a thickness of about 3 mm, and is cut into a predetermined width from a wide coil by a slitter. A warp occurs during this slitter, but the warp is somewhat reduced at the stage of pressing into a rectangular shape, but if the warp is large, some warp remains after pressing.
【００１１】この様に反りが生じたスプリングホルダ１
５はスポット溶接２３時の電極加圧力だけでは板厚が厚
いため、フレーム１３に密着出来ず隙間を生ずる。スポ
ット溶接２３は抵抗溶接で電流の流れは抵抗の少ない部
分に流れ易くなり、溶接用の電極チップから流れ出た電
流Ｉは反りのあるスプリングホルダ１５の端に向かって
電流が流れて溶接が不安定になり、溶接剥離が生ずる。
又、一方の溶接点から他方の溶接点方向に電流Ｉが流れ
スポット溶接時の不安定要素となる問題があった。The spring holder 1 thus warped.
In No. 5, since the plate thickness is large only by the electrode pressing force at the time of spot welding 23, it is not possible to adhere to the frame 13 and a gap is generated. The spot welding 23 is resistance welding, and the current flow easily flows to a portion with low resistance. The current I flowing out from the welding electrode tip flows toward the end of the warped spring holder 15 and the welding is unstable. And weld peeling occurs.
Further, there is a problem that a current I flows from one welding point toward the other welding point and becomes an unstable element during spot welding.
【００１２】本発明の他の課題はグリッド構体の無孔部
１８に形成するダミースリット１９をシフトコーン方法
と同様に製造条件が容易で、露光面がより露光され難く
なる様にエッチングを行なうことが可能でグリッド構体
１２の厚さＴ1 が薄いものにも対応可能なＡＧの製造方
法を提供しようとするものである。Another object of the present invention is to perform the dummy slit 19 formed in the non-hole portion 18 of the grid structure under the same manufacturing conditions as in the shift cone method, so that the exposed surface is more difficult to be exposed. The present invention intends to provide a method for manufacturing an AG which is applicable to a grid structure 12 having a small thickness T 1 .
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明の色選別装置及び
ＣＲＴは色選別装置をＣＲＴ内に保持するスプリングを
保持するスプリングホルダに溝を設けてスプリングホル
ダの反りを除去する様にしたものであり、又、色選別装
置のグリッド構体に設けるダミースリットを上面側から
エッチングする際に断面がω状となる様に構成させて細
いスリットが加工し易く、且つ露光面が露光され難く成
した色選別装置及びその製造方法並びにＣＲＴを得る様
に成したものである。The color selection device and CRT according to the present invention are such that a spring holder for holding a spring for holding the color selection device in the CRT is provided with a groove to remove the warp of the spring holder. Yes, the dummy slits provided in the grid structure of the color selection device are configured so that the cross section becomes ω when etching from the upper surface side so that the thin slits are easy to process and the exposed surface is difficult to be exposed. The sorting apparatus, the manufacturing method thereof, and the CRT are obtained.
【００１４】本発明のスプリングホルダによれば反りは
軽減され、スポット溶接時の分流が防止可能となり、
又、ダミースリットは上面側が断面ω形状と成ってＡＧ
をマスクとする場合にダミースリットからの露光漏れが
なく、種々の厚みのグリッド構体に適用可能なグリッド
構体を得ることができる。According to the spring holder of the present invention, the warp is reduced, and the split flow during spot welding can be prevented.
In addition, the dummy slit has an ω-shaped cross section on the upper surface side,
When the mask is used as a mask, there is no exposure leakage from the dummy slits, and a grid structure applicable to grid structures having various thicknesses can be obtained.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の色選別装置及びそ
の製造方法並びに陰極線管（ＣＲＴ）を図１乃至図５に
よって説明する。図１は本発明のＣＲＴに用いる色選別
装置（アパーチャグリル：ＡＧ）の組立状態斜視図、図
２はＡＧの分解斜視図、図３はスプリングホルダの拡大
斜視図、図４はスプリングホルダの１実施例を示す平面
及び側面図、図５はダミースリットの製作工程説明図で
ある。尚、以下図６乃至図９で説明した従来構成との対
応部分には同一符号を付して説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A color selecting apparatus, a method for manufacturing the same, and a cathode ray tube (CRT) according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 is an assembled perspective view of a color selection device (aperture grill: AG) used in a CRT of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of an AG, FIG. 3 is an enlarged perspective view of a spring holder, and FIG. FIG. 5 is a plan view and a side view showing an embodiment, and FIG. 5 is an explanatory view of a dummy slit manufacturing process. In the following description, the parts corresponding to those of the conventional configuration described with reference to FIGS.
【００１６】先ず、図１乃至図５によって、本発明のＣ
ＲＴに用いるＡＧについて説明する。First, referring to FIGS. 1 to 5, the C of the present invention will be described.
The AG used for RT will be described.
【００１７】図２に於いて、フレーム１３は断面が略Ｌ
字状の鋼材より成る上下の枠部材１３ａ及び１３ｂの左
右両端に角柱鋼材をＵ字状に形成した左右の腕部材１３
Ｌ及び１３Ｒを溶接して略長方形状のフレーム１３を構
成し、このフレーム１３を洗浄した後に、このフレーム
１３を構成する上下左右の枠部材１３ａ及び１３ｂ並び
に１３Ｌ及び１３Ｒの所定位置に略長方形状の厚みが３
ｍｍ程度の厚手のバイメタル材から成るスプリングホル
ダ１５を図３の様にスポット溶接２３で溶着させる。In FIG. 2, the frame 13 has a substantially L-shaped cross section.
Left and right arm members 13 in which prismatic steel materials are formed in a U shape at the left and right ends of the upper and lower frame members 13a and 13b made of U-shaped steel material
L and 13R are welded together to form a substantially rectangular frame 13, and after cleaning the frame 13, the upper and lower frame members 13a and 13b and 13L and 13R that form the frame 13 are substantially rectangular at predetermined positions. Has a thickness of 3
A spring holder 15 made of a bimetal material having a thickness of about mm is welded by spot welding 23 as shown in FIG.
【００１８】本発明に用いる、このスプリングホルダ１
５はフレーム１３にスポット溶接２３されるスポット溶
接点の略中間位置にスリット２５を形成する。This spring holder 1 used in the present invention
Reference numeral 5 forms a slit 25 at a substantially intermediate position between spot welding points where spot welding 23 is performed on the frame 13.
【００１９】図４（Ａ）（Ｂ）は、スプリングホルダ１
５の１実施例を示すもので幅Ｗ×長さＬ×厚さｔが３６
Ｗｍｍ×６２Ｌｍｍ×３ｔｍｍ程度の略長方形状で図４
（Ｂ）の側面図に示す様に枠部材１３ａ及び１３ｂ並び
に腕部材１３Ｌ及び１３Ｒとの対接面は上端部が折り曲
げられ、幅Ｗ方向の中心位置に幅Ｗ1 ＝３ｍｍ、深さＬ
1 ＝１０ｍｍ程度のスリット２５を形成している。尚、
Ｈで示すマーキングはバイメタル材で構成されるスプリ
ングホルダの高膨張率側を判別するためのマークであ
る。4A and 4B show the spring holder 1
5 shows one embodiment, and width W × length L × thickness t is 36.
FIG. 4 shows a substantially rectangular shape of about Wmm × 62Lmm × 3tmm.
As shown in the side view of (B), the upper end portions of the contact surfaces of the frame members 13a and 13b and the arm members 13L and 13R are bent, and the width W 1 = 3 mm and the depth L are set at the center position in the width W direction.
The slit 25 having a size of 1 = 10 mm is formed. still,
The marking indicated by H is a mark for identifying the high expansion coefficient side of the spring holder made of a bimetal material.
【００２０】フレーム１３は上述のスプリングホルダ１
５をスポット溶接２３した後に金属薄板に溝状の細孔を
所定ピッチで多数、化学エッチング方法でエッチングし
たスリット１６を形成すると共に無孔部１８にエキスト
ラスリット又はダミースリット１９を形成したグリッド
構体１２をフレーム１３の上下の枠部材１３ａ及び１３
ｂ上に溶接する際に、枠部材１３ａ及び１３ｂ同士を近
接させる様なテンションを与えながらフレーム１３に溶
接を行なう。その後、フレーム１３のテンションを除去
してグリッド構体１２のテープ部１７を上下に引っ張る
様な高い張力を与える。The frame 13 is the above-mentioned spring holder 1
After the spot welding 23 of 5 is formed in the metal thin plate, a large number of groove-shaped pores are formed at a predetermined pitch to form the slits 16 which are etched by the chemical etching method, and the non-perforated portion 18 is formed with the extra slits or the dummy slits 19. The upper and lower frame members 13a and 13 of the frame 13
When welding on b, the frame 13 is welded while applying tension such that the frame members 13a and 13b are brought close to each other. After that, the tension of the frame 13 is removed and a high tension is applied to pull the tape portion 17 of the grid structure 12 up and down.
【００２１】次にグリッド構体１２のフレーム１３の周
辺から突出しているペリフェリ部のトリミングを行なっ
て、グリッド構体１２の黒化処理の後にＣＲＴのガラス
管体に保持するスプリング１４をスプリングホルダ１５
にスポット溶接等で溶着する様に成されている。Next, the peripheral part projecting from the periphery of the frame 13 of the grid structure 12 is trimmed, and the spring 14 for holding the glass structure of the CRT after the blackening treatment of the grid structure 12 is held by the spring holder 15.
It is designed to be welded by spot welding.
【００２２】上述の各部材の組立状態を示す色選別装置
（ＡＧ）１１を図１（Ａ）に示す。図１（Ｂ）は図１
（Ａ）のＡ部拡大斜視図であり、図１（Ｂ）に示す様に
グリッド構体の無孔部１８にダミースリット１９を形成
する場合の本発明の形成方法を図５（Ａ）〜（Ｄ）によ
って説明する。FIG. 1A shows a color selection device (AG) 11 showing the assembled state of the above-mentioned members. FIG. 1 (B) is shown in FIG.
FIG. 5A is an enlarged perspective view of a portion A of FIG. 5A, showing a forming method of the present invention when a dummy slit 19 is formed in the non-hole portion 18 of the grid structure as shown in FIG. This will be described with reference to D).
【００２３】図５（Ａ）はグリッド構体１２の一部を拡
大した上側の平面図、図５（Ｂ）はエッチング状態を示
す側断面図、図５（Ｃ）はグリッド構体の一部を拡大し
た下側の平面図、図５（Ｄ）はダミースリットエッチン
グ後の側断面図である。FIG. 5 (A) is an enlarged plan view of an upper part of the grid structure 12, FIG. 5 (B) is a side sectional view showing an etching state, and FIG. 5 (C) is a part of the grid structure. 5D is a side sectional view after the dummy slit etching.
【００２４】図５（Ａ）乃至図５（Ｄ）に於いて、グリ
ッド構体１２上に形成するスリット１６は薄板鋼材の上
側及び下側に最端スリット１６ａとして示す様に上下面
から化学的エッチング２０ａ及び２０ｂが行なわれる。In FIGS. 5A to 5D, the slits 16 formed on the grid structure 12 are chemically etched from the upper and lower surfaces as shown as the outermost slits 16a on the upper and lower sides of the thin steel plate. 20a and 20b are performed.
【００２５】即ち、薄板鋼材の上側及び下側にフォトレ
ジスト２６をコーティングし、図５（Ｂ）に示す軸２１
を中心に上側では比較的スリット幅Ｗ2 が大きい（通常
のスリット幅）マスクを介して露光及び現像し、下側で
はスリット幅Ｗ2 ＞スリット幅Ｗ3 の関係にあるマスク
を介して露光及び現像するフォトリソグラフィを行なっ
て上下面からエッチング２０ａ及び２０ｂを行なうこと
で断面が台形状スリット１６を形成している。That is, the photoresist 26 is coated on the upper and lower sides of the thin steel plate, and the shaft 21 shown in FIG.
Center and the upper side is exposed and developed through a mask having a relatively large slit width W 2 (normal slit width), and the lower side is exposed and developed through a mask having a relationship of slit width W 2 > slit width W 3. Photolithography for development is performed and etchings 20a and 20b are performed from the upper and lower surfaces to form the slit 16 having a trapezoidal cross section.
【００２６】本発明のダミースリット１９の形成方法に
用いる上側のマスクのパターンは図５（Ａ）の様にスリ
ット１６の下側のスリット幅Ｗ3 と略同一のスリット幅
Ｗ3を有する少くとも２つのスリットをスリットパター
ン軸２１及び２２上に並設すると共に並設した両パター
ンの間の幅を通常のスリット１６のスリット幅Ｗ2 と略
同一と成る様にパターニングされている。The pattern of the upper mask used in the method of forming the dummy slit 19 of the present invention has at least a slit width W 3 which is substantially the same as the lower slit width W 3 of the slit 16 as shown in FIG. Two slits are arranged side by side on the slit pattern axes 21 and 22, and are patterned so that the width between the two arranged patterns is substantially the same as the slit width W 2 of the ordinary slit 16.
【００２７】従って、フォトリソグラフィを行なう状態
では図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示す様に２つのスリッ
ト幅Ｗ3 間にレジスト２７が残る様に形成される。Therefore, in the state where the photolithography is performed, the resist 27 is formed so as to remain between the two slit widths W 3 as shown in FIGS. 5 (A) and 5 (B).
【００２８】軸２２はシフトコーン方法と同様に軸２１
から所定距離だけ右又は左側にシフトさせている。The shaft 22 is the same as the shift cone method.
Is shifted to the right or left by a predetermined distance from.
【００２９】又、下側のマスクのダミースリット１９の
パターンは軸２２を中心にスリット幅Ｗ3 にパターニン
グされているので上下面からエッチング２０ｂを行なう
と上面のエッチング２０ｂはエッチング面が結合し、ド
ーム状と成り断面がω状に成り、やがて下面に貫通す
る。Further, since the pattern of the dummy slit 19 of the lower mask is patterned to have the slit width W 3 centering on the axis 22, when etching 20b is performed from the upper and lower surfaces, the etching surface of the upper etching 20b is joined, It has a dome shape and a ω-shaped cross section, and eventually penetrates the lower surface.
【００３０】上述のダミースリット１９の成形方法によ
ると図９（Ｂ）及び図９（Ｃ）で説明したシフトコーン
方式と同様にエッチング軸２１に対しエッチング軸２２
をシフトさせることで簡単に蛍光面が露光されないダミ
ースリットが得られる。即ち図５（Ｄ）に示す様に露光
ビームＢは上側ドームの湾曲面３０ａではグリッド構体
１２の無孔部１８側に出射し、下側ドームの湾曲部３０
ｂでは有効画面とは反対側に反射して有効画面に影響を
与えない。更に、上側のスリット幅Ｗ2 を大きくしてい
るので図９（Ａ）で説明した様に上下のエッチング面が
狭くて製造が難しくなる問題も解消されると共に図９
（Ｃ）に示す様にグリッド構体１２の厚い厚み（Ｔ1 ）
に対し薄い厚み（Ｔ2 ）のダミースリット１９の形成時
に有効なダミースリットの製造方法が得られる。According to the method for forming the dummy slits 19 described above, the etching shaft 21 and the etching shaft 22 are similar to the shift cone system described with reference to FIGS. 9B and 9C.
, A dummy slit whose fluorescent screen is not exposed can be easily obtained. That is, as shown in FIG. 5D, the exposure beam B is emitted to the non-perforated portion 18 side of the grid structure 12 on the curved surface 30a of the upper dome, and the curved portion 30 of the lower dome.
In b, it reflects on the side opposite to the effective screen and does not affect the effective screen. Further, since the upper slit width W 2 is increased, the problem that the upper and lower etching surfaces are narrow and manufacturing is difficult is solved as described with reference to FIG.
As shown in (C), the grid structure 12 has a large thickness (T 1 ).
On the other hand, a dummy slit manufacturing method effective when the dummy slit 19 having a small thickness (T 2 ) is formed can be obtained.
【００３１】[0031]
【発明の効果】本発明の色選別装置に用いるスプリング
ホルダによればスプリングホルダ幅の中央にスリットを
設けるだけで反りが軽減され、スポット溶接時の分流が
防止出来て、スポット溶接時の不安定要素が除かれて、
スポット溶接を安定に行なうことが可能と成る。According to the spring holder used in the color selecting device of the present invention, the warp can be reduced only by providing the slit in the center of the width of the spring holder, the diversion during spot welding can be prevented, and the instability during spot welding becomes unstable. With the elements removed,
It becomes possible to perform spot welding stably.
【００３２】又、本発明の色選別装置のグリッド構体に
形成するダミースリットの形成方法によれば上側のスリ
ット幅が広くとれるので狭いダミースリットを簡単に形
成することが出来て薄手のグリッド構体に対応可能で歩
留りの向上したダミースリットを製造可能と成った。Further, according to the method for forming the dummy slits formed in the grid structure of the color selecting apparatus of the present invention, the upper slit width can be widened, so that a narrow dummy slit can be easily formed and a thin grid structure can be formed. It has become possible to manufacture dummy slits that are compatible and have improved yield.
【図１】本発明の陰極線管に用いる色選別装置の組立状
態を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an assembled state of a color selection device used for a cathode ray tube of the present invention.
【図２】本発明の陰極線管に用いる色選別装置分解斜視
図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of a color selection device used in the cathode ray tube of the present invention.
【図３】本発明の色選別装置に用いるスプリングホルダ
の取付状態を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a mounted state of a spring holder used in the color selection device of the present invention.
【図４】本発明の色選別装置に用いる他のスプリングホ
ルダの正面及び側面図である。FIG. 4 is a front view and a side view of another spring holder used in the color selection device of the present invention.
【図５】本発明の色選別装置に用いるグリッド構体に形
成するダミースリットの形成方法説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a method of forming dummy slits formed in a grid structure used in the color selecting device of the present invention.
【図６】従来の色選別装置の斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a conventional color selection device.
【図７】従来のグリッド構体の最端スリットの動作説明
図である。FIG. 7 is an operation explanatory view of the most end slit of the conventional grid structure.
【図８】従来のグリッド構体に形成したダミースリット
の動作説明用斜視図である。FIG. 8 is a perspective view for explaining the operation of a dummy slit formed in a conventional grid structure.
【図９】従来のダミースリットの形成方法の説明図であ
る。FIG. 9 is an explanatory diagram of a conventional method for forming dummy slits.
１１‥‥色選別装置（ＡＧ）、１２‥‥グリッド構体、
１３‥‥フレーム、１４‥‥スプリング、１５‥‥スプ
リングホルダ、１６，２５‥‥スリット、１９‥‥ダミ
ースリット11 ... Color sorter (AG), 12 ... Grid structure,
13 ... frame, 14 ... spring, 15 ... spring holder, 16, 25 ... slit, 19 ... dummy slit
Claims (4)
線管のパネル周辺部に支持するスプリングをスプリング
ホルダを介して該フレームに固着させて成る色選別装置
に於いて、 上記スプリングホルダの上記フレームとの溶接点の中央
に溝を形成させたことを特徴とする色選別装置。1. A color selecting device comprising a spring for supporting a grid structure stretched on a frame around a panel of a cathode ray tube and fixed to the frame via a spring holder. A color selection device characterized in that a groove is formed at the center of the welding point of.
端スリットの外側にダミースリットを形成するための色
選別装置の製造方法に於いて、 上記グリッド構体の上記ダミースリット形成時に該グリ
ッド構体の上面側の大なるスリット幅のエッチング軸に
対し、下面側の小なるスリット幅のエッチング軸をシフ
トさせ、該上面側のエッチング面の中央にレジスト層を
残し、該グリッド構体の該上面側を少くとも２つの小さ
いスリット幅でエッチングを行なう様に成したことを特
徴とする色選別装置の製造方法。2. A method of manufacturing a color selection device for forming a dummy slit outside an outermost end slit of a grid structure of an aperture grill, wherein a top side of the grid structure is formed when the dummy slit of the grid structure is formed. The etching axis of the smaller slit width on the lower surface side is shifted with respect to the etching axis of the larger slit width so that the resist layer is left at the center of the etching surface on the upper surface side, and the upper surface side of the grid structure is at least 2 mm. A method for manufacturing a color selection device, characterized in that etching is performed with two small slit widths.
線管のパネル周辺部に支持するスプリングをスプリング
ホルダを介して該フレームに固着させて成る色選別装置
を具備する陰極線管に於いて、 上記スプリングホルダの上記フレームとの溶接点の中央
に溝を形成させたことを特徴とする陰極線管。3. A cathode ray tube comprising a color selecting device comprising a spring for supporting a grid structure stretched on a frame on a panel peripheral portion of the cathode ray tube and fixed to the frame via a spring holder. A cathode ray tube, characterized in that a groove is formed at the center of the welding point of the holder with the frame.
端スリットの外側にダミースリットを形成した色選別装
置を有する陰極線管に於いて、 上記ダミースリットの上面側の断面を略ω状に成したこ
とを特徴とする陰極線管。4. A cathode ray tube having a color selection device in which a dummy slit is formed outside the outermost end slit of the grid structure of the aperture grill, wherein the cross section of the upper side of the dummy slit is formed in a substantially ω shape. Is a cathode ray tube.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002024099A JP2003229068A (en) | 2002-01-31 | 2002-01-31 | Color selecting device and method of manufacture and cathode-ray tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002024099A JP2003229068A (en) | 2002-01-31 | 2002-01-31 | Color selecting device and method of manufacture and cathode-ray tube |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003229068A true JP2003229068A (en) | 2003-08-15 |
Family
ID=27746637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002024099A Pending JP2003229068A (en) | 2002-01-31 | 2002-01-31 | Color selecting device and method of manufacture and cathode-ray tube |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003229068A (en) |
-
2002
- 2002-01-31 JP JP2002024099A patent/JP2003229068A/en active Pending
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