JP2003218446A - 光モジュールおよび光学部品 - Google Patents

光モジュールおよび光学部品

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JP2003218446A JP2002325657A JP2002325657A JP2003218446A JP 2003218446 A JP2003218446 A JP 2003218446A JP 2002325657 A JP2002325657 A JP 2002325657A JP 2002325657 A JP2002325657 A JP 2002325657A JP 2003218446 A JP2003218446 A JP 2003218446A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学素子の温度変化によるロック波長シフト
を抑制できる光モジュールを提供する。 【解決手段】 光モジュール主要部10は、熱電子冷却
器21と、熱電子冷却器21の上にキャリア22aを介
して設けられたチップキャリア22bを有する。チップ
キャリア22b上には、半導体発光素子31、レンズ3
2、光検出器33a、33b、及びエタロン34が直接
的又は間接的に搭載される。また、チップキャリア22
b上に支持部材36a,36bが固定される。板状部材
35は、支持部材36a,36bにより支持され、エタ
ロン34の上方に位置する。このような構成により、板
状部材35、支持部材36a,36b、及びチップキャ
リア22bは熱電子冷却器21ほぼ等しい温度に維持さ
れる。そのため、エタロン34の温度もまた一定化さ
れ、ロック波長の変動が抑制される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信システムに
使用される光モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】光モジュールは、複数の波長成分を用い
る波長多重(WDM)伝送システムに使用される。1.
55μm帯のWDMシステムにおいては、隣接するグリ
ッドの波長間隔は、例えば、約0.8nm(100GH
z)とされる。この波長間隔を実現するためには、光モ
ジュールからの光の発光波長は、グリッド波長に対して
±0.03nm以内の範囲に制御する必要がある。
【0003】現在用いられている光モジュールの多く
は、半導体レーザ素子、光検出器、および温度調節器を
有する。レーザ素子の光反射面から僅かに放射されるレ
ーザ光の波長を光検出器によりモニタし、モニタ結果に
基づいてレーザ素子の温度が調整され、レーザ光の波長
が制御される。波長変動を精度良く検出するため、レー
ザ素子と光検出器との間にエタロンが設けられる。エタ
ロンの光透過率は、波長依存性を有している。すなわ
ち、エタロンの光透過率は、入射光の波長に依存する。
このため、光検出器によってモニタされるレーザ光の強
度は、その波長に応じた値を有する。
【0004】エタロンを用いた光モジュールでは、光モ
ジュールから放射される光の波長は以下のように制御さ
れる。図1(a)および図1(b)は、レーザ素子から
のレーザ光の波長と光検出器の出力電流との関係を示す
模式図である。図1(a)に示されるように、光検出器
の出力電流の波形Fは、波長λの増大に従って周期的に
変化する。ここで、WDMシステムで使用されるグリッ
ド波長をλとする。また、波長λの光が光検出器に
入射したときに光検出器から出力される出力電流の電流
値をIとする。出力電流が電流値Iとなるようにレ
ーザ素子の温度を調整することにより、レーザ光の波長
がグリッド波長λにロックされる。
【0005】光モジュールの動作中に、使用環境等の変
化に応じてエタロンの温度が変化することがある。例え
ば、エタロンの温度が、TからTへ上昇すると、図
1(b)に示されるように、出力電流の波形Fは波形G
へと長波長側にシフトしてしまう。これは、エタロンの
温度が上昇すると、エタロンが熱膨張するためであり、
また、エタロンを構成する材料の屈折率が変化するため
である。このような波長シフトのため、グリッド波長λ
にロックされるべきロック波長は、λへシフトして
しまう。ロック波長シフト量Δλ=λ−λは、通常
使用される一般的な光学ガラスからエタロンが構成され
ている場合には、0.013nm/℃程度の温度依存性
を有する。エタロンの温度変化に起因するロック波長の
変動を防ぐため、エタロンは、光モジュールのパッケー
ジ内に設置される温度調節器によって、例えば25℃と
いった温度に維持される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、光モジ
ュールの波長制御性を向上させるために鋭意研究を行っ
たところ、以下の知見を得た。光モジュールが使用され
る環境によっては、光モジュールのパッケージの温度は
80℃程度にまで達することがある。このような場合、
パッケージと温度調節器との間に約55℃の温度差が生
じていることになる。本発明者らの研究結果によれば、
光モジュール内にこのような温度差があると、熱対流や
熱輻射が生じ、エタロンの温度を一定に維持するのが困
難になることが判明した。
【0007】光通信システムにおいて送受信される情報
量が飛躍的に増大している状況を鑑みれば、グリッド波
長間隔をいっそう狭小化することが望ましい。そのよう
な狭小化を図るためには、光モジュールから送出される
光の波長をより高い精度で制御することが必要である。
したがって、エタロンのような光学素子の温度変化に伴
うロック波長の変動をいっそう抑制することが望まれ
る。
【0008】そこで、本発明は、光学素子の温度変化に
起因するロック波長シフトを抑制できる光モジュールの
提供を課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の一側面に係る光
モジュールは、光を放射する半導体発光素子、波長依存
性の光透過率を有する光学素子、光学素子を透過した光
を受光するように配置された光検出器、光学素子の加熱
および冷却の少なくとも一方を行うことの可能な温度調
節器、および温度調節器に熱的に結合された屋根部材を
備えている。光学素子は、光入射面および光出射面を有
しており、半導体発光素子からの光を光入射面で受光す
るように配置されている。屋根部材は、光学素子の上方
に配置されている。温度調節器は、光学素子の下方に配
置されている。
【0010】半導体発光素子から放射された光は、光学
素子を透過し、光検出器に入射する。光検出器は、入射
光の強度に応じた電気信号を出力する。光学素子の透過
率は波長依存性を有しているので、光学素子を透過した
光は、その波長に応じた強度を有する。このため、光検
出器の出力信号は、発光素子から放射される光の波長を
示す。したがって、光検出器の出力信号をモニタすれ
ば、そのモニタ結果に基づいて、発光素子から放射され
る光の波長を所望のロック波長に調整することが可能に
なる。屋根部材は、温度調節器と熱的に結合されている
ので、温度調節器とほぼ等しい温度に維持される。した
がって、屋根部材と温度調節器との間に位置する光学素
子の温度も、屋根部材および温度調節器とほぼ等しい温
度に維持されることとなる。この結果、光学素子の熱膨
張、熱収縮および屈折率変化が抑制される。したがっ
て、ロック波長の変動が抑制される。
【0011】本発明の別の側面に係る光学部品は、光入
射面および光出射面を有し、波長依存性の光透過率を有
する光学素子と、光入射面および光出射面が露出するよ
うに光学素子を収容するホルダとを備えている。ホルダ
が温度調節器と熱的に結合されるようにこの光学装置を
光モジュール内に設置すると、ホルダは、温度調節器と
ほぼ等しい温度に維持される。したがって、ホルダに収
容される光学素子の温度も、ホルダおよび温度調節器と
ほぼ等しい温度に維持されることとなる。光学素子の温
度が一定化されるので、光モジュールのロック波長の変
動が抑制される。
【0012】本発明のさらに別の側面に係る光モジュー
ルは、光を放射する半導体発光素子と、波長依存性の光
反射率を有する光学素子と、光学素子によって反射され
た光を受光するように配置された光検出器と、光学素子
の加熱および冷却の少なくとも一方を行うことの可能な
温度調節器と、温度調節器に熱的に結合された屋根部材
とを備えている。光学素子は、光入射面を有しており、
半導体発光素子からの光を光入射面で受光するように配
置されている。屋根部材は、光学素子の上方に配置され
ている。温度調節器は、光学素子の下方に配置されてい
る。
【0013】半導体発光素子から放射された光は、光学
素子によって反射され、光検出器に入射する。光学素子
の反射率は波長依存性を有しているので、光学素子によ
って反射された光は、その波長に応じた強度を有する。
このため、光検出器の出力信号は、発光素子から放射さ
れる光の波長を示す。したがって、光検出器の出力信号
をモニタすれば、そのモニタ結果に基づいて、発光素子
から放射される光の波長を所望のロック波長に調整する
ことが可能になる。屋根部材は温度調節器と熱的に結合
されているので、屋根部材は、温度調節器とほぼ等しい
温度に維持される。したがって、屋根部材と温度調節器
との間に位置する光学素子の温度も、屋根部材および温
度調節器とほぼ等しい温度に維持されることとなる。こ
の結果、ロック波長の変動が抑制される。
【0014】本発明のさらに別の側面に係る光学部品
は、光入射面を有し、波長依存性の光反射率を有する光
学素子と、光入射面が露出するように光学素子を収容す
るホルダとを備えている。ホルダが温度調節器と熱的に
結合されるようにこの光学装置を光モジュール内に設置
すると、ホルダは、温度調節器とほぼ等しい温度に維持
される。したがって、ホルダに収容される光学素子の温
度も、ホルダおよび温度調節器とほぼ等しい温度に維持
されることとなる。光学素子の温度が一定化されるの
で、光モジュールのロック波長の変動が抑制される。
【0015】屋根部材およびホルダは、光学素子よりも
熱伝導率が大きい材料で構成されると好ましい。この場
合、屋根部材およびホルダの温度は、温度調節器の温度
変化に対して良好な追従性を示す。この結果、ロック波
長をいっそう確実に安定化できる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光モジュール
の好適な実施形態について図面を参照しながら説明す
る。なお、図面の説明においては、同一の要素には同一
の符号を付し、重複する説明は省略する。
【0017】(第1の実施形態)本発明に係る光モジュ
ールの第1の実施形態について説明する。図2は、第1
実施形態の光モジュール1の部分切欠斜視図である。光
モジュール1は、光モジュール主要部10と、ハウジン
グ11とを備える。ハウジング11は、光モジュール主
要部10を収納する本体部11a、光ファイバ12を主
要部10に案内する筒状部11b、および複数のリード
ピン11cを備える。
【0018】以下、図3を参照しながら、主要部10に
ついて詳細に説明する。図3(a)は、主要部10を示
す平面図である。図3(b)は、主要部10を示す側面
図である。主要部10は、温度調節器としての熱電子冷
却器21と、熱電子冷却器21の上に設けられたL字状
のキャリア22aと、キャリア22aの上に設けられた
チップキャリア22bを有する。
【0019】熱電子冷却器21は、Lキャリア22aを
介して冷却器21上に設置されるチップキャリア22b
の温度を調整する。Lキャリア22aおよびチップキャ
リア22bは、冷却器21と熱的に結合されている。チ
ップキャリア22b上には、半導体発光素子31、レン
ズ32、光検出器33a、33b、およびエタロン34
が直接的又は間接的に搭載される。Lキャリア22aお
よびチップキャリア22bは、シリコン(Si)、窒化
アルミニウム(AlN)、アルミナ(Al )、お
よびコバール等の熱良導体から構成されていると好まし
い。チップキャリア22bがSiから構成される場合、
このチップキャリア22bは特にSiベンチと呼ばれ
る。チップキャリア22bの温度は、サーミスタ39に
よりモニタされる。熱電子冷却器21としては、例え
ば、ペルチェ効果を利用した温度制御素子、すなわちペ
ルチェ素子を利用できる。ペルチェ素子を用いれば、発
光素子31およびエタロン34の温度を容易かつ確実に
調整できる。
【0020】図3(b)に示されるように、発光素子3
1は、サブマウント31cを介してチップキャリア22
b上に固定されている。発光素子31は、光出射面31
aおよび光反射面31bを有する。光出射面31aは、
レンズを含む光学部13によって光ファイバ12と光学
的に結合されている。そのため、光出射面31aから放
射される光は、光学部13を通って光ファイバ12へ導
入される。一方、光反射面31bは、レンズ32と光学
的に結合されている。発光素子31の光反射面31bか
ら漏出する光は、レンズ32に入射する。発光素子31
としては、例えば分布帰還型(DFB)またはファブリ
ペロー型の半導体レーザ素子を用いることができる。以
下の説明では、発光素子31は、シングルモードの半導
体レーザ素子とする。このレーザ素子は、極めて狭い波
長域のレーザ光を放射する。したがって、このレーザ光
は、実質的に単一の波長を有するとみなすことができ
る。
【0021】レンズ32は、図3(b)に示す通り、互
いにほぼ平行な上面32aおよび下面32bを有する。
レンズ32は、その下面32bがチップキャリア22b
と接するように、樹脂接着剤等によりチップキャリア2
2bに固定される。レンズ32は、発光素子31の光反
射面31bと光学的に結合されている。光反射面31b
から漏出する光は、図3(a)に示すように発散光であ
る。この発散光は、レンズ32を透過して平行光Lとな
る。光検出器33aは、レンズ32を透過した平行光を
受光できるように配置される。光検出器33aは、チッ
プキャリア22b上に立設された固定部材37上に設置
される。光検出器33aは、受光した平行光Lの強度に
応じた信号を出力する。
【0022】エタロン34は、レンズ32を介して、発
光素子31の光反射面31bと光学的に結合されてい
る。この実施形態では、エタロン34は、平行平板形状
をしている。エタロン34は、その光入射面34aおよ
び光出射面34b上に多層反射膜を有していてもよい。
この多層反射膜により光入射面34aおよび光出射面3
4bの反射率が調整される。
【0023】図3(b)に示されるように、エタロン3
4はチップキャリア22b上に固定されている。エタロ
ン34の上方には、屋根部材35が配置されている。チ
ップキャリア22bの下方には、冷却器21が配置され
ている。したがって、エタロン34は、冷却器21と屋
根部材35との間に挟まれている。以下では、図4を参
照しながら、屋根部材35について説明する。
【0024】図4は、エタロン34および屋根部材35
の配置を示す概略斜視図である。屋根部材35は、板状
の部材である。屋根部材35は、方形の平面形状を有し
ている。屋根部材35は、チップキャリア22b上に固
定された支持部材36aおよび36bにより支持され、
エタロン34の上方に配置されている。エタロン34の
上面と屋根部材35との間には、間隙がある。支持部材
36aおよび36bは、Lキャリア22aおよびチップ
キャリア22bを介して熱電子冷却器21と熱的に結合
されている。屋根部材35と支持部材36a,36bと
は、接着剤により接合されていてもよいし、溶接により
接合されていてもよい。接着剤を用いる場合は、熱伝導
率の高い接着剤が好ましい。このほかに、屋根部材35
と支持部材36a,36bとは、一体に構成されていて
もよい。この場合、屋根部材35と支持部材36a,3
6bとの間の熱伝導性が、よりいっそう向上する。
【0025】屋根部材35は、支持部材36a,36
b、チップキャリア22bおよびLキャリア22aを介
して、熱電子冷却器21と熱的に結合されている。その
ため、チップキャリア22b、屋根部材35、および支
持部材36a,36bは、冷却器21により等しい温度
に維持される。エタロン34は、等しい温度に維持され
る屋根部材35、支持部材36a,36b、およびチッ
プキャリア22bにより囲まれているため、その温度も
また等しい温度に維持されることになる。このように、
屋根部材35は、支持部材36a,36bとともに、エ
タロン34の温度を調整する機能を有している。
【0026】屋根部材35および支持部材36a,36
bは、銅タングステン(CuW)やコバールといった熱
良導体から構成されることが好ましい。本発明者らの知
見によれば、エタロン34が例えば一般的な光学ガラス
から構成されている場合、その熱伝導率は1.06W/
mK程度である。これに対して、CuWの熱伝導率は2
00W/mKであり、コバールの熱伝導率は16W/m
Kである。このような熱伝導率の高い材料から屋根部材
35および支持部材36a,36bを作製すれば、ハウ
ジング11の温度が変化した場合でも、屋根部材35お
よび支持部材36a,36bの温度を極短時間に調整で
きる。そのため、ハウジング11内の温度変化がエタロ
ン34に及ぶことが確実に防止される。
【0027】光検出器33bは、チップキャリア22b
上に設けられた固定部材38の第1の面38a上に固定
される。第1の面38aは、エタロン34の光出射面3
4bに対面している。そのため、光検出器33bは、エ
タロン34の光出射面34bから放射される光を受光で
きる。本実施形態では、光検出器33bとエタロン34
との相対的な位置関係は、所定の温度のエタロン34を
透過した所定のグリッド波長λの光が光検出器33b
により所定の電流値で検出されるように決定される。光
検出器33bの出力をこの電流値にロックすることによ
り、発光素子31から放射されるレーザ光の波長がグリ
ッド波長λにロックされる。具体的には、光検出器3
3bの出力信号に応じて熱電子冷却器21の温度を調整
することにより、チップキャリア22bを介して発光素
子31の温度が調整され、レーザ光の波長が一定化され
る。
【0028】光検出器33a,33bは、例えば、In
P基板上に形成されたInGaAs半導体層を受光窓と
して有するInGaAs−pin型フォトダイオードで
あってもよい。
【0029】光モジュール1では、エタロン34は、温
度制御された屋根部材35、支持部材36a,36b、
およびチップキャリア22bに囲まれている。そのた
め、エタロン34の温度もまたこれらとほぼ等しい温度
となる。さらに、ハウジング11の内部に大きな温度差
が生じた場合であっても、その影響がエタロン34に及
ぶことが防止される。その結果、エタロン34の温度変
化が抑制される。よって、エタロン34の温度変化に伴
う熱膨張、熱収縮および屈折率変化が抑制されるので、
ロック波長の変動が抑止される。
【0030】次に、エタロン34の温度変化の防止効果
を確認するため、本発明者らが行ったシミュレーション
について説明する。図5(a)は、シミュレーションで
用いたモデルを示す平面図である。図5(b)は、図5
(a)のモデルのI−I線に沿った概略断面図である。
また、図5(c)は、図5(a)のモデルのI−I線に
沿った断面を含む概略斜視図である。図示の通り、この
モデルは、チップキャリア22b、エタロン、屋根部材
35、支持部材36a,36b、およびハウジング11
を有する。チップキャリア22bはSiから構成される
ものとし、エタロンは一般的な光学ガラスから構成され
るものとした。屋根部材35および支持部材36a,3
6bの構成材料としては、CuWおよびコバールの2通
りについてシミュレーションを行った。これらの部材の
寸法は、図5(a)および図5(b)に示す値とした。
シミュレーションのパラメータとして使用した各材料の
熱伝導率は、以下の通りである。
【0031】Si:168.0(W/mK) 光学ガラス:1.060(W/mK) CuW:200.0(W/mK) コバール:16.0(W/mK) このシミュレーションでは、ハウジング11内は窒素ガ
スが1気圧の圧力で満たされていることとした。窒素の
熱伝導率は0.0260W/mKとし、粘性定数は1.
79×10−5Pa・sとした。チップキャリア22b
の温度を25℃とし、ハウジング11の温度を60℃と
した。なお、図5(a)および図5(b)中の数値は、
シミュレーションのパラメータとして用いた便宜的な数
値であり、本実施形態の光モジュール1の実寸法がこれ
らの値に限定されるものではない。
【0032】図6および図7は、本実施形態の光モジュ
ールにおけるエタロン周辺の温度分布をシミュレーショ
ンにより求めた結果を示す側面図である。図6は、屋根
部材35および支持部材36a,36bがCuWの場合
の結果を示し、図7は、屋根部材35および支持部材3
6a,36bがコバールの場合の結果を示す。これらの
図では、支持部材36a,36bは省略されている。
【0033】図6に示されるように、屋根部材35およ
び支持部材36a,36bをCuWで構成した場合、エ
タロン34内には僅か0.2℃以下の温度差があるにす
ぎない。また、図7に示されるように、屋根部材35お
よび支持部材36a,36bをコバールで構成した場合
も、エタロン34内の温度差は0.2℃程度である。し
たがって、いずれの場合も、エタロン34を透過して光
検出器33bに入射する光の波長を精度良く一定化させ
ることができる。
【0034】比較のため、屋根部材35および支持部材
36a,36bがない点を除き図5(a)〜図5(c)
と同一のモデルを用いてシミュレーションを行った。そ
の結果を図8に示す。図8に示されるように、エタロン
34内には1.2℃程度の温度勾配が生じている。この
理由としては、エタロン34を構成する一般的な光学ガ
ラスの熱伝導率が1.06W/mK程度と低いことが挙
げられる。エタロン34内に温度勾配があると、ハウジ
ング11内の温度が僅かに変化しただけでも、エタロン
のレーザ光透過部において温度変化が生じることとな
る。しかも、エタロン34の熱伝導率が低いため、エタ
ロン34の温度変化を応答性良く抑えることはできな
い。したがって、屋根部材35および支持部材36a,
36bがない場合には、エタロン34の透過率の波長依
存性がエタロン34の温度変化に応じて変動することを
確実に防止することは難しい。
【0035】本発明者らの知見によれば、一般的な光学
ガラスから構成されるエタロンの温度が1℃変化する
と、ロック波長が約0.013nm変動する。本実施形
態による光モジュール1によれば、ハウジング11(6
0℃)とチップキャリア22b(25℃)との間に35
℃程度の温度差が生じても、エタロンの温度分布を0.
2℃程度まで抑制でき、これによりロック波長の変動を
0.003nm以下に抑えることができる。すなわち、
ハウジングの温度変化から受ける影響の少ない、高精度
の波長制御が可能となる。
【0036】以下では、本発明に係る光モジュールの他
の実施形態について説明する。第2〜4の実施形態の光
モジュールは、エタロン34の周辺の構成が異なる以外
は、第1の実施形態の光モジュール1と等しい構成を有
する。よって、第2〜4の実施形態においては、第1の
実施形態との相違点を中心に説明する。
【0037】(第2実施形態)図9は、第2実施形態の
光モジュールにおけるエタロン、屋根部材および支持部
材の配置を示す概略斜視図である。図示の通り、屋根部
材35は、チップキャリア22b上に設けられた単一の
支持部材36aのみにより支持される。エタロン34
は、チップキャリア22b上に固定されている。エタロ
ン34の上面は屋根部材35に対面し、エタロン34の
一つの側面は支持部材36aに対面する。屋根部材3
5、支持部材36aおよびチップキャリア22bの温度
は、熱電子冷却器21により制御されて、ほぼ等しい温
度となる。そのため、エタロン34の温度変化が抑制さ
れ、ロック波長の変動が防止される。このように、屋根
部材35が1つの支持部材36aのみによって支持され
る場合であっても、エタロン34の温度は十分に一定化
される。
【0038】(第3実施形態)図10(a)は、第3実
施形態の光モジュールにおけるエタロンの周辺部を示す
概略斜視図である。図10(b)は、アパーチャ部材を
示す斜視図である。図10(a)に示す通り、屋根部材
35は、チップキャリア22b上に設けられた支持部材
36a,36bにより支持されている。
【0039】エタロン34の光入射面側には、アパーチ
ャ部材40が設置されている。アパーチャ部材40は、
屋根部材35、支持部材36a,36bおよびチップキ
ャリア22bによって形成される開口の端部に嵌め込ま
れている。開口アパーチャ部材40は、エタロン34の
光入射面から離間している。アパーチャ部材40は、図
10(b)に示す通り、開口40aを有している。開口
40aは、エタロン34の光入射面と対向している。発
光素子31の光反射面31bから放射されレンズ32を
透過した光Lは、開口40aを通過してエタロン34の
光入射面34aに入射する。アパーチャ部材40は、チ
ップキャリア22b上に固定されるとともに、支持部材
36a,36bおよび屋根部材35と接触している。ア
パーチャ部材40は、Lキャリア22aおよびチップキ
ャリア22bを介して熱電子冷却器21と熱的に結合さ
れている。したがって、アパーチャ部材40の温度は、
チップキャリア22b、支持部材36a,36b、およ
び屋根部材35の温度とほぼ同一となる。
【0040】エタロン34の光出射面側には、アパーチ
ャ部材41が設置されている。アパーチャ部材41は、
屋根部材35、支持部材36a,36bおよびチップキ
ャリア22bによって形成される開口の端部に嵌め込ま
れている。アパーチャ部材41は、エタロン34の光出
射面から離間している。アパーチャ部材41は、アパー
チャ部材40と同一の構造を有している。アパーチャ部
材41には、エタロン34を透過した光が通過できる開
口41aが設けられている。開口41aは、エタロン3
4の光出射面および光検出器33bと対向している。よ
って、エタロン34の透過光は、開口41aを通過して
光検出器33bに到達できる。アパーチャ部材41は、
チップキャリア22b上に固定されるとともに、支持部
材36a,36bおよび屋根部材35と接触している。
アパーチャ部材41は、Lキャリア22aおよびチップ
キャリア22bを介して熱電子冷却器21と熱的に結合
されている。したがって、アパーチャ部材41の温度
は、チップキャリア22b、支持部材36a,36b、
および屋根部材35の温度とほぼ同一となる。
【0041】アパーチャ部材40,41は、CuW、コ
バールといった熱良導体から構成されると好ましい。こ
れらの材料は、上述の通り、一般的な光学ガラスから構
成されるエタロンよりも高い熱伝導率を有する。
【0042】第3実施形態では、エタロン34は、屋根
部材35、支持部材36a,36b、アパーチャ部材4
0,41およびチップキャリア22bによって囲まれて
いる。これらの構成要素は、熱電子冷却器21によって
ほぼ等しい温度に維持される。そのため、ハウジング1
1の内部に大きな温度差が生じた場合であっても、その
影響がエタロン34に及ぶことが防止される。その結
果、エタロン34の温度変化が抑制され、エタロン34
の温度変化に伴う熱膨張、熱収縮および屈折率変化が抑
制される。よって、ロック波長の変動も抑制される。ア
パーチャ部材40および41のために、エタロン34の
露出表面積が削減される。このため、エタロン34の温
度変化およびロック波長の変動をいっそう確実に抑える
ことができる。
【0043】(第4実施形態)図11は、第4実施形態
の光モジュールにおけるエタロンの周辺部を示す概略斜
視図である。図示の通り、第4実施形態は、屋根部材3
5が支持部材36a,36bにより支持され、アパーチ
ャ部材40が設けられている点で、第3の実施形態と同
一である。第3の実施形態と異なる点は、アパーチャ部
材41が用いられていないこと、そして、光検出器33
bが固定される固定部材38がアパーチャ部材41の代
わりに設置されていることである。固定部材38は、屋
根部材35および支持部材36a,36bに接触する。
固定部材38は、チップキャリア22b上に設けられる
とともに、屋根部材35および支持部材36a,36b
と接触している。固定部材38は、Lキャリア22aお
よびチップキャリア22bを介して熱電子冷却器21と
熱的に結合されている。したがって、固定部材38の温
度は、チップキャリア22b、屋根部材35および支持
部材36a,36bとほぼ同一となる。
【0044】このように、エタロン34は、ほぼ同一の
温度に制御される屋根部材35、支持部材36a,36
b、アパーチャ部材40、固定部材38およびチップキ
ャリア22bによって囲まれている。したがって、エタ
ロン34の温度変化は確実に抑制される。よって、ロッ
ク波長の変動も抑制される。アパーチャ部材40および
固定部材38のために、エタロン34の露出表面積が削
減される。このため、エタロン34の温度変化およびロ
ック波長の変動をいっそう確実に抑えることができる。
【0045】続いて、第5および第6の実施形態につい
て説明する。これらの実施形態では、上記の実施形態に
おけるエタロン34、屋根部材35および支持部材36
a,36bの代わりに、エタロンを含む光学装置50が
使用されている。第5および第6実施形態は、屋根部材
35および支持部材36a,36bを有していない点
で、第1〜第4実施形態と異なる。これらの点を除く
と、第5および第6実施形態は、第1実施形態の光モジ
ュール1と同様の構成を有する。以下では、相違点を中
心に説明する。
【0046】(第5実施形態)図12は、第5実施形態
の光モジュール2の部分切欠斜視図である。図12に示
されるように、光モジュール2は、光学装置50を有す
る。図13は、光学装置50を示す概略斜視図である。
光学装置50は、エタロン51およびフレーム部材52
〜54を有する。エタロン51は、平行平板形状をして
いる。光検出器33bとエタロン51との相対的な位置
関係は、所定の温度のエタロン51を透過した所定のグ
リッド波長λの光が光検出器33bにより所定の電流
値で検出されるように決定される。フレーム部材52〜
54は、エタロン51の光入射面51aおよび光出射面
51bを除く3つの隣り合う側面上に取り付けられてい
る。エタロン51の上方に位置する。フレーム部材53
は、第1〜第4実施形態における屋根部材35に相当す
る。フレーム部材52〜54は、光入射面51aおよび
光出射面51bが露出するようにエタロン51を保持す
るホルダとして機能する。フレーム部材52〜54は、
熱伝導率の高い材料、例えば、CuWやコバールから構
成されている。フレーム部材52〜54は、エタロン5
1よりも高い熱伝導率を有している。
【0047】図13に示されるように、光学装置50
は、フレーム部材52〜54が取り付けられていないエ
タロン51の底面がチップキャリア22bと接触するよ
うにチップキャリア22b上に固定される。フレーム部
材52〜54は、Lキャリア22aおよびチップキャリ
ア22bを介して熱電子冷却器21と熱的に結合されて
いる。フレーム部材52〜54は、エタロン51よりも
熱伝導率の大きい材料から構成されているため、フレー
ム部材52〜54はいずれもチップキャリア22bとほ
ぼ等しい温度となる。したがって、等しい温度を有する
チップキャリア22bおよびフレーム部材52〜54に
よってその4つの側面を囲まれるエタロン51もまた等
しい温度に維持される。その結果、エタロン51の熱膨
張、熱収縮および屈折率変化が防止され、ロック波長の
変動が抑制される。
【0048】チップキャリア22bと接触する光学装置
50の底面にはフレーム部材が取り付けられていないた
め、光学装置50をチップキャリア22b上に固定する
際、UV硬化樹脂を用いることができる。具体的には、
まず、この接触面にUV硬化樹脂を塗布する。次に、U
V硬化樹脂が塗布された接触面をチップキャリア22b
に当てて光学装置50をチップキャリア22b上に載置
するとともに、光軸調整を行う。その後、エタロン51
を通して紫外域光を照射しUV硬化樹脂を硬化させる。
これにより、光学装置50がチップキャリア22b上に
固定される。このような手順により、光学装置50の取
り付け作業が容易になる。
【0049】(第6実施形態)第6実施形態の光モジュ
ールは、使用される光学装置が異なる点を除き、第5実
施形態の光モジュールと同一の構成を有する。以下で
は、相違点を中心に説明する。
【0050】図14(a)は、第6実施形態にて採用さ
れる光学装置60を示す概略斜視図である。図14
(b)は、光学装置60の構成を示す分解斜視図であ
る。光学装置60は、エタロン51と、フレーム部材5
2〜55と、カバー部材56および57とを有する。フ
レーム部材52〜55およびカバー部材56,57は、
熱伝導率の高い材料、例えば、CuWやコバールから構
成されている。これらの部材は、エタロン51よりも高
い熱伝導率を有している。これらの部材は、Lキャリア
22aおよびチップキャリア22bを介して熱電子冷却
器21と熱的に結合されている。
【0051】フレーム部材52〜55は、エタロン51
の光入射面51aおよび光出射面51bを除く4つの側
面に取り付けられている。エタロン51の上方に位置す
る。フレーム部材53は、第1〜第4実施形態における
屋根部材35に相当する。カバー部材56は、エタロン
51の光入射面と接するように取り付けられ、カバー部
材57はエタロン51の光出射面と接するように取り付
けられる。カバー部材56,57は、それぞれ開口56
a、57aを有する。開口56aは、エタロン51の光
入射面と対向している。開口57aは、エタロン51の
光出射面と対向している。フレーム部材52〜55なら
びにカバー部材56および57は、エタロン51の光入
射面および光出射が露出するようにエタロン51を保持
するホルダとして機能する。発光素子31からの光は、
レンズ32を通過した後、開口部56aからエタロン5
1の光入射面に入射し、エタロン51を透過し、エタロ
ン51の光出射面から開口部57aを通って光検出器3
3bに到達することができる。
【0052】光学装置60は、フレーム部材55がチッ
プキャリア22bと接するように、チップキャリア22
b上に固定されている。そのため、フレーム部材52〜
55およびカバー部材56,57は、チップキャリア2
2bとほぼ等しい温度に維持される。エタロン51は、
カバー部材56,57の開口56a,56bから露出す
る部分を除けば、全表面をフレーム部材52〜55およ
びカバー部材56,57によって覆われている。このた
め、エタロン51は、フレーム部材52〜55およびカ
バー部材56,57とほぼ等しい温度に維持される。よ
って、ロック波長の変動が抑制される。
【0053】エタロン51は、フレーム部材52〜55
およびカバー部材56,57によって覆われるので、そ
のサイズを小さくできる。そのため、エタロンの材料コ
ストを低減できる。また、あらかじめ光学装置60を用
意しておけば、光モジュールを作製する際に光学装置6
0をチップキャリア22b上に載置し、光軸調整を行っ
てから光学装置60を固定するだけで、光学装置60の
設置が完了する。よって、光モジュールの製造工程が簡
易になる。
【0054】光学装置60では、エタロン51がフレー
ム部材52〜55およびカバー部材56,57によって
覆われている。しかし、カバー部材56,57について
は、いずれか一方だけを設けてもよい。また、フレーム
部材52〜55を一体に構成し、エタロン51がこの一
体型のフレーム部材に囲まれていてもよい。さらに、カ
バー部材56,57は、一体型のフレーム部材に固定さ
れていてもよい。
【0055】(第7実施形態)第7実施形態の光モジュ
ールは、使用される光学装置が異なる点を除き、第5実
施形態の光モジュールと同一の構成を有する。以下で
は、相違点を中心に説明する。
【0056】図15(a)は、本実施形態で使用される
光学装置70を示す斜視図であり、図15(b)は、光
学装置70の分解斜視図である。光学装置70は、エタ
ロン51と、保持部材58および59を有している。保
持部材58,59は、Lキャリア22aおよびチップキ
ャリア22bを介して熱電子冷却器21と熱的に結合さ
れている。保持部材58および59は、エタロン51の
光入射面および光出射面が露出するようにエタロン51
を保持するホルダとして機能する。保持部材58,59
は、熱伝導率の高い材料、例えば、CuWやコバールか
ら構成されている。これらの部材は、エタロン51より
も高い熱伝導率を有している。
【0057】保持部材58は、エタロン51が収容され
る凹部58aを有する。凹部58aの底面58bには、
開口58cが設けられている。保持部材59も、保持部
材58と同様に、開口59cと、エタロン51が収容さ
れる凹部(図示せず)とを有する。開口58cは、エタ
ロン51の光入射面および光出射面の一方と対向し、開
口59cは、他方と対向する。発光素子31からの光
は、これらの開口を介してエタロン51に入出射する。
【0058】光学装置70を使用した場合でも、エタロ
ン51の温度は、保持部材58,59を介して熱電子冷
却器21により温度制御され、その温度変化が抑制され
る。よって、ロック波長の変動が抑制される。また、エ
タロン51は、保持部材58,59によって覆われるの
で、そのサイズを小さくできる。そのため、エタロンの
材料コストを低減できる。さらに、あらかじめ光学装置
70を用意しておけば、光モジュールを作製する際に光
学装置70をチップキャリア22b上に載置し、光軸調
整を行ってから光学装置70を固定するだけで、光学装
置70の設置が完了する。よって、光モジュールの製造
工程が簡易になる。
【0059】(第8実施形態)次に、第8の実施形態に
ついて説明する。第1〜第7実施形態では、互いに平行
な光入射面と光出射面を有する平行平板形状のエタロン
が使用されている。しかし、この代わりに、光入射面と
光出射面が相対的に傾斜したウェッジエタロンを使用し
てもよい。第8実施形態の光モジュールは、第1実施形
態における平行平板エタロンをウェッジエタロンで置き
換えた構成を有している。この点を除くと、第8実施形
態は、第1実施形態の光モジュール1と同一の構成を有
する。以下では、相違点を中心に説明する。
【0060】図16(a)は、この実施形態の光モジュ
ールの主要部10を示す平面図であり、図16(b)
は、その主要部10の側面図である。図17は、ウェッ
ジエタロン34の周辺部を示す概略斜視図である。ウェ
ッジエタロン34において、光入射面34aおよび光出
射面34bは、微小な角度αを成して相対的に傾斜して
いる。ここで角度αは、エタロン34に入射した光が光
入射面34aと光出射面34bとの間で多重干渉を起こ
し得る範囲に決められる。具体的には、角度αは0.0
1°以上0.1°以下であると好適である。光入射面3
4aおよび光出射面34b上には、多層反射膜が設けら
れていてもよい。この多層反射膜により光入射面34a
および光出射面34bの反射率が調整される。
【0061】ウェッジエタロン34を使用した場合で
も、第1実施形態と同様に、屋根部材35および支持部
材36a、36bによってエタロン34の温度変化が抑
制される。したがって、ロック波長の変動が抑制され
る。
【0062】ウェッジエタロン34の光入射面34aお
よび光出射面34bが互いに傾斜しているため、これら
の面34a,34bの間隔は傾斜方向に沿って変化して
いる。そのため、ウェッジエタロン34の透過波長も、
傾斜方向に沿って変化することとなる。この性質は、ウ
ェッジエタロン34をチップキャリア22b上に実装す
るときに有益である。つまり、ウェッジエタロン34の
実装の際、ウェッジエタロン34の平行移動によって位
置合わせを行うことができる。平行平板エタロンを使用
する場合、所定の向きにエタロンを配置しなければ、所
望のロック波長が得られない。したがって、平行平板エ
タロンの実装の際は、エタロンを回転させながら向きを
調整する必要がある。これに対し、ウェッジエタロン
は、その向きを調整しなくても、ウェッジエタロンを平
行移動して透過波長を調整すれば、所望のロック波長を
得ることができる。このように、ウェッジエタロンは、
実装時に回転による位置調整を必要としないので、実装
が容易である。
【0063】第2〜第7実施形態の平行平板エタロンの
代わりに、ウェッジエタロンを使用してもよい。平行平
板エタロンとウェッジエタロンとの間に温度変化上の違
いはほとんどないので、ウェッジエタロンを使用して
も、ロック波長の変化を抑制できる。
【0064】上記実施形態におけるエタロンは、発光素
子31から放射される光の波長に応じた強度を有する光
を生成するために使用されている。このようなエタロン
の作用は、波長依存性の透過率を有する他の光学素子に
よっても得ることができる。この光学素子も、エタロン
と同様に、その温度変化によって透過特性が変化しう
る。したがって、本発明は、エタロンの代わりにこのよ
うな光学素子を備える光モジュールにも適用できる。こ
のような光学素子の一例として、光学フィルタを挙げる
ことができる。以下では、エタロンに代えて光学フィル
タを使用する実施形態について説明する。
【0065】(第9実施形態)この実施形態では、図2
〜図4に示される光モジュール1のエタロン34の代わ
りに光学フィルタが設置されている。この点を除くと、
第9実施形態は、第1実施形態の光モジュール1と同一
の構成を有する。以下では、相違点を中心に説明する。
【0066】光学フィルタは、短波長透過フィルタ、長
波長透過フィルタ、およびバンドパスフィルタのいずれ
であってもよい。光学フィルタは、Lキャリア22aお
よびチップキャリア22bを介して熱電子冷却器21と
熱的に結合している。光検出器33bと光学フィルタと
の相対的な位置関係は、所定の温度の光学フィルタを透
過した所定のグリッド波長λの光が光検出器33bに
より所定の電流値で検出されるように決定される。
【0067】図18(a)〜図18(c)は、この実施
形態の光モジュールに関して、発光素子31の出力光の
波長と光検出器33bの出力電流との関係を示してい
る。図18(a)は、長波長透過フィルタを使用したと
きの波長−出力電流の関係を示し、図18(b)は、短
波長透過フィルタを使用したとき、図18(c)は、バ
ンドパスフィルタを使用したときの波長−出力電流の関
係をそれぞれ示している。ここで、発光素子31は、シ
ングルモードの半導体レーザ素子とする。これらの図に
おいて、出力電流はフィルタの透過率に対応している。
【0068】図18(a)〜図18(c)に示されるよ
うに、使用されるフィルタの透過特性は、波長と透過率
が一意に対応する領域を含んでいる。このため、この領
域に含まれる波長は、光検出器33bの出力電流と一意
に対応する。したがって、光検出器33bの出力電流に
基づいて、発光素子31の出力レーザ光の波長を求める
ことができる。波長λの光が光検出器33bに入射す
ると、光検出器33bの出力電流値がIとなる。WD
Mシステムで使用されるグリッド波長がλの場合、出
力電流がIとなるように発光素子31の温度を調整す
ることにより、レーザ光の波長がグリッド波長λにロ
ックされる。
【0069】第1実施形態におけるエタロン34の代わ
りに光学フィルタを使用する本実施形態でも、第1実施
形態と同様の利点を得ることができる。すなわち、光学
フィルタは、屋根部材35、支持部材36a,36bお
よびチップキャリア22bに囲まれている。屋根部材3
5、支持部材36a,36bおよびチップキャリア22
bの温度は、熱電子冷却器21により制御されて、ほぼ
等しい温度となる。そのため、光学フィルタの温度変化
が抑えられ、それに応じてロック波長の変動が抑えられ
る。
【0070】同様に、第2〜第7実施形態におけるエタ
ロンの代わりに光学フィルタを使用しても、ロック波長
の変動を抑制できる。
【0071】(第10実施形態)この実施形態は、主要
部10における部品の配置が第9実施形態と異なる。こ
の実施形態では、光検出器33bが、光学フィルタによ
って反射された光を受け取るように配置されている。こ
の点を除くと、第10実施形態は、第9実施形態の光モ
ジュールと同一の構成を有する。以下では、相違点を中
心に説明する。
【0072】図19(a)は、この実施形態の光モジュ
ールの主要部10を示す平面図であり、図19(b)
は、その主要部10の側面図である。図20は、光学フ
ィルタ64の周辺部を示す概略斜視図である。光学フィ
ルタ64は、チップキャリア22b上に設置されてい
る。光学フィルタ64は、Lキャリア22aおよびチッ
プキャリア22bを介して熱電子冷却器21と熱的に結
合している。光学フィルタ64は、レンズ32を介して
発光素子31に光学的に結合されている。光学フィルタ
64の入射面64aは、レンズ32から出射する平行光
Lの進行方向に対して傾斜している。光検出器33b
は、光入射面64aに対面している。そのため、光検出
器33bは、光学フィルタ64の光入射面64aで反射
された光を受光できる。光学フィルタ64は、波長依存
性の光反射率を有している。すなわち、光学フィルタ6
4の光反射率は、入射光の波長に依存する。光検出器3
3bと光学フィルタ64との相対的な位置関係は、所定
の温度の光学フィルタ64によって反射された所定のグ
リッド波長λの光が光検出器33bにより所定の電流
値で検出されるように決定される。
【0073】光学フィルタ64の上方には、屋根部材3
5が配置されている。屋根部材35は、チップキャリア
22b上に固定された支持部材36bおよび36cによ
り支持されている。支持部材36bおよび36cは、屋
根部材35の隣接する2辺にそれぞれ連結されている。
光学フィルタ64は、レンズ32と支持部材36cとの
間に配置されている。屋根部材35は、支持部材36b
および36cを介して熱電子冷却器21に熱的に結合さ
れている。屋根部材35と支持部材36b,36cと
は、接着剤により接合されていてもよいし、溶接により
接合されていてもよい。接着剤を用いる場合は、熱伝導
率の高い接着剤が好ましい。このほかに、屋根部材35
と支持部材36b,36cとは、一体に構成されていて
もよい。この場合、屋根部材35と支持部材36b,3
6cとの間の熱伝導性が、よりいっそう向上される。
【0074】光検出器33bは、発光素子31の出力光
のうち光学フィルタ64によって反射された成分を検出
する。したがって、光検出器33bの出力電流は、光学
フィルタ64の反射特性の影響を受ける。つまり、光学
フィルタ64の反射波長域が光検出器33bの出力電流
に影響する。
【0075】光学フィルタは、短波長透過フィルタ、長
波長透過フィルタ、およびバンドパスフィルタのいずれ
であってもよい。図21(a)〜図21(c)は、この
実施形態の光モジュールに関して、発光素子31の出力
光の波長と光検出器33bの出力電流との関係を示して
いる。図21(a)は、長波長透過フィルタを使用した
ときの波長−出力電流の関係を示し、図21(b)は、
短波長透過フィルタを使用したとき、図21(c)は、
バンドパスフィルタを使用したときの波長−出力電流の
関係をそれぞれ示している。ここで、発光素子31は、
シングルモードの半導体レーザ素子とする。これらの図
において、出力電流はフィルタの反射率に対応してい
る。
【0076】図21(a)〜図21(c)に示されるよ
うに、使用されるフィルタの反射特性は、波長と反射率
が一意に対応する領域を含んでいる。このため、この領
域に含まれる波長は、光検出器33bの出力電流と一意
に対応する。したがって、光検出器33bの出力電流に
基づいて、発光素子31の出力レーザ光の波長を求める
ことができる。波長λの光が光検出器33bに入射す
ると、光検出器33bの出力電流値をIとなる。WD
Mシステムで使用されるグリッド波長がλの場合、出
力電流がIとなるように発光素子31の温度を調整す
ることにより、レーザ光の波長がグリッド波長λにロ
ックされる。
【0077】本実施形態でも、第1実施形態と同様の利
点を得ることができる。すなわち、光学フィルタ64
は、屋根部材35、支持部材36b,36cおよびチッ
プキャリア22bに囲まれている。屋根部材35、支持
部材36b,36cおよびチップキャリア22bの温度
は、熱電子冷却器21により制御されて、ほぼ等しい温
度となる。そのため、光学フィルタの温度変化が抑えら
れ、それに応じてロック波長の変動が抑えられる。
【0078】同様に、第2〜第7実施形態におけるエタ
ロンの代わりに光学フィルタを使用し、光学フィルタの
反射光を検出するように光検出器33bを配置しても、
ロック波長の変動を抑制できる。このように、本発明
は、光学フィルタの反射光の強度に基づいて発光素子の
出力波長をモニタする光モジュールにも適用できる。
【0079】上述のように、第3実施形態では、エタロ
ン34の光出射面に対向する開口を有するアパーチャ部
材41が使用されている。しかし、エタロン34に代え
て光学フィルタを使用し、光学フィルタの反射光を検出
する場合は、アパーチャ部材41の代わりに、開口のな
いカバー部材を設置してもよい。第4実施形態では、光
検出器33bがエタロン34の光出射面と対向するよう
に固定部材38が配置されている。しかし、エタロン3
4に代えて光学フィルタを使用し、光学フィルタの反射
光を検出する場合、固定部材38は、光検出器33bが
光学フィルタの光入射面と対向し、光学フィルタの反射
光を受光できるように配置される。いずれの場合も、固
定部材38は、エタロンまたは光学フィルタを経由した
発光素子31からの光を光検出器33bが受光するよう
に配置される。第6および第7実施形態では、エタロン
51の光出射面に対向する開口を有するカバー部材およ
び保持部材が使用されている。しかし、エタロン51に
代えて光学フィルタを使用し、光学フィルタの反射光を
検出する場合は、このような開口は必要ない。この場
合、光検出器33bは、光学フィルタの光入射面と対向
し、光学フィルタによって反射された発光素子31から
の光を受光するように配置される。
【0080】(第11実施形態)この実施形態は、発光
素子31がマルチモード半導体レーザ素子という点で、
シングルモード半導体レーザ素子を使用する第9実施形
態と異なる。この点を除くと、第11実施形態は、第9
実施形態の光モジュールと同一の構成を有する。以下で
は、相違点を中心に説明する。
【0081】発光素子31は、マルチモードのレーザ光
を放射する。したがって、この実施形態の光モジュール
は、発光素子31の複数のモードの中心波長に対応した
複数のロック波長を有する。この光モジュールをWDM
通信システムで使用する場合、これらのモードの中心波
長は、所定の波長にロックされる。ここで、中心波長と
は、例えば、最小二乗法によって計算される平均波長で
ある。
【0082】この実施形態では、図2〜図4に示される
光モジュール1のエタロン34の代わりに光学フィルタ
が設置されている。光学フィルタは、短波長透過フィル
タ、長波長透過フィルタ、および帯域通過フィルタのい
ずれであってもよい。図22(a)〜図22(c)は、
それぞれ、長波長通過フィルタ、帯域通過フィルタおよ
び短波長通過フィルタの光透過特性および光反射特性を
示している。図中の実線は透過波長域を示しており、破
線は反射波長域を示している。これらの透過域および反
射域の形状は、誘電体多層膜フィルタにおいて実現する
ことができる。図22(a)〜図22(c)に示される
ように、これらの光学フィルタは、波長依存性の光透過
率および光反射率を有している。
【0083】光検出器33bは光学フィルタの透過光を
受け取るので、光学フィルタの透過域が光検出器33b
の出力に影響する。図23(a)〜図23(c)は、図
22(a)〜図22(c)に示された透過域70、72
および74と、発光素子31で生成された光のマルチモ
ードスペクトル76との関係をそれぞれ示している。図
23(a)〜図23(c)に示されるように、透過域7
0、72および74は、いずれもマルチモードスペクト
ル76と重なりを有している。長波長通過フィルタおよ
び短波長通過フィルタの透過域70および74は、マル
チモードスペクトル76に含まれる複数のモードのうち
一つ以上を含むように決定されることが好ましい。帯域
透過フィルタの透過域72は、マルチモードスペクトル
76に含まれる複数のモード間の間隔よりも広い幅を有
することが好ましい。いずれにせよ、光学フィルタの透
過域は、発光素子31で生成されるマルチモード光の複
数のモードのうち二つ以上を含みうる広さを有してい
る。
【0084】図24(a)は、所望の中心波長で発振し
ているマルチモード発光素子31のスペクトル76と光
学フィルタの透過域70とを示す。図24(b)は、所
望の中心波長より低い波長で発振している発光素子31
のスペクトル78と光学フィルタの透過域70とを示
す。図24(c)は、所望の中心波長より高い波長で発
振している発光素子31のスペクトル80と光学フィル
タの透過域70とを示す。この例では、光学フィルタ
は、長波長通過フィルタである。
【0085】図24(a)〜図24(c)において、マ
ルチモードスペクトル76、78および80と透過域7
0との重なり面積は、互いに異なっている。この面積の
違いは、光検出器33bの出力電流に反映される。重な
り面積が大きいほど、出力電流も大きくなる。逆に、重
なり面積が小さいほど、出力電流は小さくなる。したが
って、光検出器33bの出力電流に基づいて発光素子3
1の温度を調整することにより、発光素子31の発振波
長域が所望の波長域に調整され、各モードの中心波長が
所望の波長にロックされる。このように、本実施形態で
は、マルチモード発光素子31が広い発振スペクトルを
有することに着目し、その発振スペクトルと光学フィル
タの透過波長域との重なりの程度を測定することによ
り、発振波長域の変化を検出する。
【0086】本実施形態でも、第1実施形態と同様の利
点を得ることができる。すなわち、光学フィルタは、ほ
ぼ等しい温度に制御された屋根部材35、支持部材36
a,36bおよびチップキャリア22bに囲まれてい
る。そのため、光学フィルタの温度変化が抑えられる。
これにより、光学フィルタの透過波長域の変化が抑えら
れるので、発光素子31の発振波長域をより精度良く安
定化し、ロック波長の変動を抑えることができる。
【0087】同様に、第2〜第7実施形態におけるエタ
ロンの代わりに光学フィルタを使用し、発光素子31と
してマルチモード半導体レーザ素子を使用しても、ロッ
ク波長の変動を抑制できる。
【0088】(第12実施形態)この実施形態は、主要
部10における部品の配置が第11実施形態と異なる。
この実施形態では、光検出器33bが、光学フィルタに
よって反射された光を受け取るように配置されている。
つまり、この実施形態の主要部10は、図19(a)、
19(b)および20に示されるような構成を有してい
る。この点を除くと、第12実施形態は、第11実施形
態の光モジュールと同一の構成を有する。以下では、第
11実施形態との相違点を中心に説明する。
【0089】マルチモード発光素子31からの光は、レ
ンズ32を介して光学フィルタ64に入射する。光検出
器33bは、発光素子31の出力光のうち光学フィルタ
64によって反射された成分を検出する。したがって、
光検出器33bの出力電流は、光学フィルタ64の反射
特性の影響を受ける。つまり、光学フィルタ64の反射
波長域が光検出器33bの出力電流に影響する。
【0090】光学フィルタ64は、長波長通過フィル
タ、短波長通過フィルタおよび帯域通過フィルタのいず
れであってもよい。光学フィルタ64の反射波長域は、
図22(a)〜図22(c)に示されている。光学フィ
ルタ64の反射波長域は、発光素子31のマルチモード
スペクトル76と重なりを有している。長波長通過フィ
ルタおよび短波長通過フィルタの反射域は、マルチモー
ドスペクトルに含まれる複数のモードのうち一つ以上を
含むように決定されることが好ましい。帯域透過フィル
タの反射域は、マルチモードスペクトルに含まれる複数
のモード間の間隔よりも広い幅を有することが好まし
い。いずれにせよ、光学フィルタ64の反射域は、発光
素子31で生成されるマルチモード光の複数のモードの
うち二つ以上を含みうる広さを有している。
【0091】光検出器33bの出力は、光学フィルタ6
4の反射域と発光素子31からのマルチモード光のスペ
クトルとの重なりの程度に応じて変化する。光検出器3
3bの出力電流に基づいて発光素子31の温度を調整す
ることにより、発光素子31の発振波長域が所望の波長
域に調整され、各モードの中心波長が所望の波長にロッ
クされる。
【0092】本実施形態でも、第11実施形態と同様の
利点を得ることができる。すなわち、光学フィルタ64
は、ほぼ等しい温度に制御された屋根部材35、支持部
材36b,36cおよびチップキャリア22bに囲まれ
ている。そのため、光学フィルタ64の温度変化が抑え
られる。これにより、光学フィルタの反射波長域の変化
が抑えられるので、発光素子31の発振波長域をより精
度良く安定化し、ロック波長の変動を抑えることができ
る。
【0093】同様に、第2〜第7実施形態におけるエタ
ロンの代わりに光学フィルタを使用し、光学フィルタの
反射光を検出するように光検出器33bを配置し、発光
素子31としてマルチモード半導体レーザ素子を使用し
ても、ロック波長の変動を抑制できる。
【0094】本発明は、上記実施形態に限定されるもの
ではなく、種々の変形が可能である。例えば、第3の実
施形態では、アパーチャ部材40,41は、屋根部材3
5および支持部材36a,36bに接触するように設置
されている。しかし、アパーチャ部材40,41は、屋
根部材35および支持部材36a,36bと離間させて
設置してもよい。このような配置でも、アパーチャ部材
40,41の温度は、チップキャリア22bを介して冷
却器21とほぼ等しい温度に調整される。このため、ア
パーチャ部材40,41の温度は、屋根部材35および
支持部材36a,36bとほぼ同一となる。したがっ
て、第3の実施形態とほぼ同様の効果が得られる。
【0095】アパーチャ部材40,41は、屋根部材3
5、支持部材36a,36b、およびチップキャリア2
2bの少なくとも一つと接触していればよい。アパーチ
ャ部材40,41の温度は、アパーチャ部材40,41
と接触する部材を介して、屋根部材35、支持部材36
a,36b、およびチップキャリア22bと等しくされ
る。そのため、第3の実施形態とほぼ同様の効果が得ら
れる。また、アパーチャ部材40,41は、エタロンや
光学フィルタと接触していてもよい。
【0096】屋根部材35、支持部材36a,36b、
アパーチャ部材40,41、および固定部材38の寸法
は、エタロンや光学フィルタの大きさおよび材質を考慮
に入れ、第1の実施形態において説明したシミュレーシ
ョン等に基づいて決定されることが好ましい。
【0097】チップキャリア22bを用いず、発光素子
31、レンズ32、エタロン(または光学フィルタ)、
支持部材36a,36b、および固定部材37,38を
熱電子冷却器21上に直接搭載しても良い。
【0098】半導体発光素子31の出力波長域は、1.
55μm帯に限られない。また、ロックされる波長の値
は、WDMに関して決められたITUグリッドに限られ
ない。
【0099】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の光
モジュールでは、温度調節器と屋根部材またはホルダと
によって光学素子の温度がほぼ一定に維持されるため、
ロック波長シフトを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a),(b)は、半導体レーザ素子から
のレーザ光の波長と光検出器の出力電流との関係を示す
模式図である。
【図2】図2は、第1の実施形態の光モジュール1の一
部破断部を有する斜視図である。
【図3】図3(a)は、光モジュール主要部10を示す
平面図である。図3(b)は、光モジュール主要部10
を示す側面図である。
【図4】図4は、板状部材35とエタロン34との位置
関係を示す斜視図である。
【図5】図5(a)は、シミュレーションに用いたモデ
ルの平面図である。図5(b)は、図5(a)のI−I
線に沿った断面図である。図5(c)は、図5(a)の
I−I線に沿った断面を含む斜視図である。
【図6】図6は、エタロンの温度分布を求めたシミュレ
ーション結果の一例を示す図である。
【図7】図7は、エタロンの温度分布を求めたシミュレ
ーション結果の他の例を示す図である。
【図8】図8は、板状部材及び支持部材のない場合につ
いて、エタロンの温度分布を求めたシミュレーションの
結果を示す図である。
【図9】図9は、第2の実施形態の光モジュールにおい
て、エタロン、板状部材、及び支持部材の位置関係を示
す斜視図である。
【図10】図10(a)は、第3の実施形態による光モ
ジュールのエタロンの周辺部を示す斜視図である。図1
0(b)は、アパーチャ部材を示す斜視図である。
【図11】図11は、第4の実施形態による光モジュー
ルのエタロンの周辺部を示す斜視図である。
【図12】図12は、第5の実施形態の光モジュールの
一部破断部を有する斜視図である。
【図13】図13は、光学部品の一例を示す斜視図であ
る。
【図14】図14(a)は、光学部品の他の例を示す斜
視図である。図14(b)は、図14(a)の光学部品
の構成を説明する模式図である。
【図15】図15(a)は、光学部品の他の例を示す斜
視図である。図15(b)は、図15(a)の光学部品
の構成を説明する模式図である。
【図16】図16(a)は、第8実施形態の光モジュー
ルの主要部を示す平面図であり、図16(b)は、その
主要部を示す側面図である。
【図17】図17は、第8実施形態におけるウェッジエ
タロンの周辺部を示す概略斜視図である。
【図18】図18(a)〜(c)は、第9実施形態の光
モジュールに関して、発光素子の出力光の波長と光検出
器の出力電流との関係を示している。
【図19】図19(a)は、第10実施形態の光モジュ
ールの主要部を示す平面図であり、図19(b)は、そ
の主要部を示す側面図である。
【図20】図20は、第10実施形態における光学フィ
ルタの周辺部を示す概略斜視図ある。
【図21】図21(a)〜(c)は、第10実施形態の
光モジュールに関して、発光素子の出力光の波長と光検
出器の出力電流との関係を示している。
【図22】図22(a)〜(c)は、長波長通過フィル
タ、帯域通過フィルタおよび短波長通過フィルタの特性
を示している。
【図23】図23(a)〜(c)は、図22(a)〜
(c)に示される透過波長域とマルチモードスペクトル
との関係を示す図である。
【図24】図24(a)は、所望の波長で発振している
マルチモードレーザ素子のスペクトルと光学フィルタの
透過波長域を示し、図24(b)は、所望の波長より低
い波長で発振しているマルチモードレーザ素子のスペク
トルと光学フィルタの透過波長域を示し、図24(c)
は、所望の波長より高い波長で発振しているマルチモー
ドレーザ素子のスペクトルと光学フィルタの透過波長域
を示している。
【符号の説明】
1,2…光モジュール、10…主要部、11…ハウジン
グ、12…光ファイバ、21…熱電子冷却器、22…チ
ップキャリア、31…半導体発光素子、32…レンズ、
33a,33b…光検出器、34…エタロン、35…板
状部材、36a,36b…支持部材、37,38…固定
部材、40,41…アパーチャ部材、50,60…光学
部品、51…エタロン、52…フレーム部材、56,5
7…カバー部材、58,59…保持部材、64…光学フ
ィルタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷田 和尋 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 渡辺 容子 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 新開 次郎 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 高木 敏男 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 佐々木 吾朗 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Fターム(参考) 2H037 AA01 BA03 CA00 DA35 DA38 5F073 AA64 AB27 AB28 BA01 EA03 FA02 FA15 FA25 FA30 GA13 GA14 GA19 GA22 GA23

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光を放射する半導体発光素子と、 光入射面および光出射面を有し、前記半導体発光素子か
    らの光を前記光入射面で受光するように配置され、波長
    依存性の光透過率を有する光学素子と、 前記光学素子を透過した光を受光するように配置された
    光検出器と、 前記光学素子の下方に配置され、前記光学素子の加熱お
    よび冷却の少なくとも一方を行うことの可能な温度調節
    器と、 前記光学素子の上方に配置され、前記温度調節器に熱的
    に結合された屋根部材とを備える光モジュール。
  2. 【請求項2】 前記半導体発光素子は、シングルモード
    半導体レーザ素子であり、前記光学素子の透過特性は、
    波長と透過率が一意に対応する領域を含んでいる、請求
    項1記載の光モジュール。
  3. 【請求項3】 前記半導体発光素子は、マルチモード半
    導体レーザ素子であり、前記光学素子は、前記レーザ素
    子の発振波長域に応じて変化するパワーを有する透過光
    を生成する、請求項1記載の光モジュール。
  4. 【請求項4】 前記光学素子は、前記レーザ素子の複数
    のモードを含みうる透過波長域を有している、請求項3
    記載の光モジュール。
  5. 【請求項5】 光を放射する半導体発光素子と、 光入射面を有し、前記半導体発光素子からの光を前記光
    入射面で受光するように配置され、波長依存性の光反射
    率を有する光学素子と、 前記光学素子によって反射された光を受光するように配
    置された光検出器と、 前記光学素子の下方に配置され、前記光学素子の加熱お
    よび冷却の少なくとも一方を行うことの可能な温度調節
    器と、 前記光学素子の上方に配置され、前記温度調節器に熱的
    に結合された屋根部材とを備える光モジュール。
  6. 【請求項6】 前記半導体発光素子は、シングルモード
    半導体レーザ素子であり、前記光学素子の反射特性は、
    波長と反射率が一意に対応する領域を含んでいる、請求
    項5記載の光モジュール。
  7. 【請求項7】 前記半導体発光素子は、マルチモード半
    導体レーザ素子であり、前記光学素子は、前記レーザ素
    子の発振波長域に応じて変化する強度を有する反射光を
    生成する、請求項5記載の光モジュール。
  8. 【請求項8】 前記光学素子は、前記レーザ素子の複数
    のモードを含みうる反射波長域を有している、請求項7
    記載の光モジュール。
  9. 【請求項9】 前記屋根部材は、支持部材によって支持
    され、前記支持部材を介して前記温度調節器と熱的に結
    合されている、請求項1〜8のいずれかに記載の光モジ
    ュール。
  10. 【請求項10】 前記光学素子の光入射面に対向するよ
    うに配置された開口を有する第1のアパーチャ部材をさ
    らに備え、前記第1アパーチャ部材は、前記温度調節器
    および前記屋根部材と熱的に結合されている、請求項1
    〜9のいずれかに記載の光モジュール。
  11. 【請求項11】 前記光学素子の光出射面に対向するよ
    うに配置された開口を有する第2のアパーチャ部材をさ
    らに備え、前記第2アパーチャ部材は、前記温度調節器
    および前記屋根部材と熱的に結合されている、請求項1
    〜4のいずれかに記載の光モジュール。
  12. 【請求項12】 前記光検出器がその上に固定される固
    定部材を更に備え、前記固定部材は、前記光検出器が前
    記光学素子を経由した前記半導体発光素子からの光を受
    光するように配置され、前記固定部材は、前記温度調節
    器および前記屋根部材と熱的に結合されている、請求項
    1〜11のいずれかに記載の光モジュール
  13. 【請求項13】 前記光学素子を搭載する搭載部材を更
    に備え、前記搭載部材は、前記温度調節器および前記屋
    根部材と熱的に結合されている、請求項1〜12のいず
    れかに記載の光モジュール。
  14. 【請求項14】 前記屋根部材は、前記光学素子よりも
    熱伝導率が大きい材料から構成されている、請求項1〜
    13記載のいずれかに記載の光モジュール。
  15. 【請求項15】 前記支持部材は、前記光学素子よりも
    熱伝導率が大きい材料から構成されている、請求項9記
    載の光モジュール。
  16. 【請求項16】 前記第1アパーチャ部材は、前記光学
    素子よりも熱伝導率が大きい材料から構成されている、
    請求項10記載の光モジュール。
  17. 【請求項17】 前記第2アパーチャ部材は、前記光学
    素子よりも熱伝導率が大きい材料から構成されている、
    請求項11記載の光モジュール。
  18. 【請求項18】 前記温度調節器は、ペルチェ素子であ
    る、請求項1〜17のいずれかに記載の光モジュール。
  19. 【請求項19】 前記光学素子は、エタロンまたは光学
    フィルタである、請求項1〜18のいずれかに記載の光
    モジュール。
  20. 【請求項20】 光入射面および光出射面を有し、波長
    依存性の光透過率を有する光学素子と、 前記光入射面および前記光出射面が露出するように前記
    光学素子を収容するホルダとを備える光学部品。
  21. 【請求項21】 光入射面を有し、波長依存性の光反射
    率を有する光学素子と、 前記光入射面が露出するように前記光学素子を収容する
    ホルダとを備える光学部品。
  22. 【請求項22】 前記ホルダは、前記光学素子の光入射
    面に対向する第1の開口を有している、請求項20また
    は21に記載の光学部品。
  23. 【請求項23】 前記ホルダは、前記光学素子の光出射
    面に対向する第2の開口を有している、請求項20に記
    載の光学部品。
  24. 【請求項24】 前記ホルダは、前記光学素子よりも熱
    伝導率が大きい材料から構成されている、請求項20〜
    23のいずれかに記載の光学部品。
  25. 【請求項25】 光を放射する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子からの光を前記光学素子の光入射面
    で受光するように配置された請求項20および22〜2
    4のいずれかに記載の光学部品と、 前記光学装置を透過した光を受光するように配置された
    光検出器と、 前記光学部品の加熱および冷却の少なくとも一方を行う
    ことの可能な温度調節器とを備える光モジュール。
  26. 【請求項26】 光を放射する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子からの光を前記光学素子の光入射面
    で受光するように配置された請求項21、22および2
    4のいずれかに記載の光学部品と、 前記光学装置によって反射された光を受光するように配
    置された光検出器と、 前記光学部品の加熱および冷却の少なくとも一方を行う
    ことの可能な温度調節器とを備える光モジュール。
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