JP2003188052A - 固体電解コンデンサ素子及びその製造方法並びに固体電解コンデンサ - Google Patents

固体電解コンデンサ素子及びその製造方法並びに固体電解コンデンサ

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JP2003188052A
JP2003188052A JP2001383331A JP2001383331A JP2003188052A JP 2003188052 A JP2003188052 A JP 2003188052A JP 2001383331 A JP2001383331 A JP 2001383331A JP 2001383331 A JP2001383331 A JP 2001383331A JP 2003188052 A JP2003188052 A JP 2003188052A
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electrolytic capacitor
solid electrolytic
conductive polymer
oxidant
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Yuji Aoki
勇治 青木
Haruhiro Kawai
陽洋 川合
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Tokin Corp
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NEC Tokin Toyama Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】固体電解質に化学酸化重合反応による導電性高
分子層を用いた固体電解コンデンサにおいて、導電性高
分子層を単層構造にし、しかも面と面が交わるエッジ部
でも、それ以外の面の部分でも10〜50μmの膜厚に
なるように形成する技術を提供する。 【解決手段】ポリチオフェン層7Aを形成する過程で、
陽極体に付着させる酸化剤の、陽極体の外表面における
付着量の分布状態を制御することによって、ポリチオフ
ェン層7Aの厚さを制御する。酸化剤の付着量の制御
は、陽極体を酸化剤溶液に浸漬させ、引き上げたあと乾
燥させるときの乾燥速度を制御することによって、制御
する。酸化剤溶液の乾燥速度は、乾燥時の温度、湿度、
風速、気圧の少くともひとつを変化させることによっ
て、制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、固体電解質に導電
性高分子を用いた固体電解コンデンサとその素子及びそ
れらの製造方法に関し、特に、導電性高分子の層を化学
酸化重合反応によって形成する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の固体電解コンデンサの構造とそ
の製造方法について、タンタル固体電解コンデンサを例
にして説明する。一例のコンデンサの断面を示す図3を
参照して、この図に示すタンタル固体電解コンデンサ
は、蓄電作用を行うコンデンサ素子1と、陽極端子2及
び陰極端子3と、外装の樹脂4とからなっている。2つ
の端子2、3は、外部との電気的接続のためにコンデン
サ素子1に取り付けられた端子であり、外装樹脂4はコ
ンデンサ素子1、陽極端子2及び陰極端子3を、上記陽
・陰両端子の一部分を除いて覆っている。
【0003】コンデンサ素子1は、焼結体5と、その焼
結体5の表面に順次設けられた酸化タンタル皮膜6、導
電性高分子層7、グラファイト層8及び銀ペースト層9
と、焼結体5の一端面から導出されている陽極リード1
0とからなっている。
【0004】焼結体5は、金属タンタルの微粉末をプレ
ス成形で円柱或いは角柱に成形し、焼結するなどして得
た多孔質体であって、コンデンサの陽極に当るものであ
る。酸化タンタル皮膜6は、焼結体5を陽極酸化して形
成したもので、焼結体の母材である金属タンタルの酸化
生成物(酸化タンタル:Ta25 )の膜からなり、焼
結体5の外表面のみならず、図示はできないが、内部の
微細孔の表面も残るところなく覆っている。この酸化タ
ンタル皮膜6は、コンデンサの誘電体である。陽極リー
ド10は、コンデンサの陽極である焼結体5と外部との
接続用端子である陽極端子2とを接続するものであっ
て、焼結体5を作る際の、金属タンタル粉末を円柱又は
角柱に成形するとき、同時に柱体の一底面にタンタルワ
イヤーを植え立てることで、製造の当初から焼結体5に
植立されている。陽極端子2はこの陽極リード10に、
例えば抵抗溶接或いはレーザー溶接などの方法で固着さ
れている。尚、以下では、焼結体5と、酸化タンタル皮
膜6と、陽極リード10とを合せたものを陽極体と呼ぶ
ことがある。
【0005】上記酸化タンタル皮膜6を覆って設けられ
た導電性高分子層7は、固体電解質である。この導電性
高分子層7の上には、更に、例えばグラファイト層8と
銀ペースト層9とを積層したもののような導電体の層が
形成されていて、上記導電性高分子層7と、グラファイ
ト層8と、銀ペースト層9とでコンデンサの陰極となる
導体層を構成している。そして、この陰極導体層の最外
層に外部との接続用端子である陰極端子3が、導電性接
着剤11などで固着されている。
【0006】本発明との関連で上記導電性高分子層7の
形成方法についていえば、導電性高分子層7は、例えば
ピロールのようなモノマーの電解酸化重合又は化学酸化
重合によって形成される。どちらの形成方法にもそれぞ
れ特徴があるが、本発明は、化学酸化重合反応により導
電性高分子層を形成する方法に係るものである。
【0007】導電性高分子層7を化学酸化重合反応によ
って形成する場合は、概略、以下のようにして形成す
る。すなわち、先ず、例えば上述したモノマーの溶液
と、酸化剤溶液とを準備する。酸化剤溶液は、例えばド
デシルベンゼンスルホン酸第二鉄のような酸化剤を溶質
とし、これを例えばエチルアルコールのような溶媒に溶
解させることで得られる。そして、始めに、酸化タンタ
ル皮膜6の形成までが済んだ陽極体を酸化剤溶液に浸漬
させて、陽極体内部の微細孔の中まで酸化剤溶液を浸透
させる。その後、陽極体を引き上げ、恒温槽内で温風を
送るなどして乾燥させ、陽極体の外表面及び内表面(陽
極体内の微細孔の表面)に酸化剤を付着させる。次に、
上記酸化剤付着済みの陽極体をモノマー溶液に浸漬さ
せ、モノマー溶液を陽極体内部に浸透させる。そして、
陽極体を引き上げ、恒温槽内で温風を送るなどして熱を
与えて化学酸化重合反応をさせる。この一連の操作によ
り、陽極体の内表面、外表面に導電性高分子層7が形成
される。
【0008】尚、通常、上述の酸化剤溶液への浸漬→引
き上げ→乾燥→モノマー溶液への浸漬→化学酸化重合反
応の一連の操作を1回行っただけでは十分な厚さの導電
性高分子層が得られないので、所要の厚さになるまで数
回、上記一連の操作を繰り返して行う。酸化剤溶液、モ
ノマー溶液への浸漬の順序を上に述べたとは反対にし
て、先にモノマー溶液に浸漬、乾燥させ、そのあと酸化
剤溶液に浸漬させ、化学酸化重合反応させるようにして
も良い。
【0009】ところで、先に述べたように、導電性高分
子層7は、その上のグラファイト層8や銀ペースト層9
と共にコンデンサの陰極として作用する。従って、陰極
の直列抵抗という点からすれば、薄いほうが好ましい。
しかし一方で、導電性高分子層は、外装樹脂4からコン
デンサ素子に加えられる機械的ストレスから素子を保護
する働きもしている。この観点からは、ある程度以上の
厚さでなければならない。すなわち、コンデンサ素子1
は、外装樹脂4を形成するときの加熱や冷却、完成後の
コンデンサを実装用基板にはんだ付けするときの急熱や
急冷あるいは、実装後の実使用における環境の温度変化
などに伴って膨張、収縮を繰り返す。そして、酸化タン
タル皮膜6には、上記の膨張、収縮のたびに外装樹脂4
から機械的ストレスが加わる。導電性高分子層7は、そ
のようなストレスを緩和して酸化タンタル皮膜6を保護
する機能を持っている。従って、ある程度以上の厚さで
あることが必要である。
【0010】上に述べた導電性高分子層7の誘電体酸化
皮膜保護作用と、そのために導電性高分子層7はある程
度以上の厚さにしなければならないということは、例え
ば特開2001−143968号公報に記載されている
ように、既によく知られている。上記公報が開示する固
体電解コンデンサにおいては、導電性高分子層7を化学
酸化重合反応による単層構造のものにした場合、陽極体
のコーナー部(陽極体において、陽極リード10の導出
面と側面とが交わる辺を取りまく部分及び、もう一方の
底面と側面とが交わる辺を取りまく部分)の導電性高分
子層は、それ以外の平面の部分に比べて薄くしか形成さ
れず、そのことが原因でコーナー部では誘電体酸化皮膜
がストレスを受けやすいことに着目して、上記コーナー
部の導電性高分子層の厚さを従来より厚くする工夫をし
ている。そのために、導電性高分子層を化学酸化重合反
応による第1層目と、同じく化学酸化重合反応による第
2層目からなる2層構造にすると共に、第2層目形成時
の反応速度を第1層目形成時の反応速度より速くするよ
うにしたり、更に、第1層目の形成に先立って予めプレ
重合膜層を形成するようにして3層構造にし、プレ重合
膜層形成時の反応速度を第1層目形成時の反応速度より
速くするようにしている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】上述の特開2001−
143968号公報に記載の導電性高分子層形成技術に
よれば、それまでの化学酸化重合反応による単層構造の
導電性高分子層では陽極体のコーナー部の厚さはせいぜ
い1〜2μmであったところ、これを5〜100μmに
厚くできる。
【0012】しかしながら、上記公報記載の導電性高分
子層形成方法においては、導電性高分子層を複層構造に
するというだけでも構造や製造工程が複雑になるのに、
その上に、第2層目形成時の反応速度が第1層目形成時
の反応速度より速くなるようにしなければならないの
で、製造条件の管理が難しくなり、場合によっては製造
設備の新設や増強などが必要になる。
【0013】加えて、コーナー部の導電性高分子層こそ
従来より厚くできはするものの、その他の部分の厚さに
ついてはなんら考慮されていない。前述した通り、導電
性高分子層7の厚さは、コンデンサの陰極における直列
抵抗という点からは薄いほうが良く、一方、誘電体酸化
皮膜保護効果という点からは厚いほうが好ましい。しか
しながら、導電性高分子層が厚すぎる場合は、コンデン
サ素子の外形寸法が大きくなるので、外装樹脂4の厚さ
が薄くなってクラックが生じやすくなり、信頼性が低下
してしまう。はなはだしい場合は、素子が外装樹脂4か
ら露出してしまい、コンデンサとして使いものにならな
くなってしまう。上記公報に係る固体電解コンデンサに
おいては、例えばその図13などに見られるように、導
電性高分子層は、コーナー部に比べそれ以外の面の部分
で厚く形成される傾向にある。従って、コーナー部の導
電性高分子層がちょうど適当な厚さであれば、コーナー
部以外の面の部分では厚くなり過ぎて、上述したような
外装樹脂のクラックや外装樹脂からの素子露出の不良が
発生しかねない。
【0014】本発明者らが、化学酸化重合反応による導
電性高分子を固体電解質に用いたコンデンサについて、
導電性高分子層の厚さとコンデンサの洩れ電流不良率及
び外装樹脂4からの素子露出不良率の関係を調査した結
果を図4に示す。図4において、洩れ電流不良率は、コ
ンデンサ素子に外装樹脂4から加わる機械的ストレスが
同じである場合に、酸化タンタル皮膜6に実際に加わる
ストレスは導電性高分子層7の厚さにどのように依存す
るか、つまり、導電性高分子層7のストレス緩和能力を
表していると考えてよいのであるが、その漏れ電流不良
率は、導電性高分子層7が薄ければ薄いほど、高い。言
い換えれば、導電性高分子層7のストレス緩和能力が小
さく、酸化タンタル皮膜6に大きいストレスが加わる。
特に、導電性高分子層7の膜厚が10μm以下では、漏
れ電流不良率が急激に増大する。一方、素子露出不良率
は、導電性高分子層7が厚ければ厚いほど高く、特に、
導電性高分子層7の膜厚が50μm以上では急増する。
従って、導電性高分子層7の厚さは10〜50μmの範
囲であることが望ましいのであるが、上記公報記載の固
体電解コンデンサでは、コーナー部以外の面の部分にお
ける導電性高分子層の厚さを規定していないので、上述
のような素子露出の不良が発生する恐れがある。
【0015】後に明らかにするように、陽極体の外表面
における導電性高分子層7の厚さの分布状態は、陽極体
を酸化剤溶液から引き上げた後の乾燥の仕方によって大
きく変わる。上記公報においてはコーナー部以外の面の
部分の導電性高分子層の厚さに関する配慮は何もなされ
ていないし、面の部分の導電性高分子層の厚さとコーナ
ー部の導電性高分子層の厚さとを同時に制御しようとす
る考えも見られない。従って、せっかく導電性高分子層
を2層又は3層の複層構造にし、構造も製造条件も複雑
にするという代償を払って、コーナー部の導電性高分子
層を従来より厚くしても、コーナー部以外の面の部分で
は導電性高分子層が厚くなりすぎて、上述のような外装
樹脂のクラックや外装樹脂からの素子露出による信頼性
の低下や良品率の低下が生じる可能性が大きくなってし
まう。
【0016】従って、本発明は、固体電解質に化学酸化
重合反応による導電性高分子層を用いた固体電解コンデ
ンサにおいて、導電性高分子層を単層構造で、しかも面
と面の交わりの部分でもそれ以外の部分でも10〜50
μmの膜厚になるように形成する技術を提供することを
目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の固体電解コンデ
ンサ素子は、弁作用金属の粉末を柱状体に成形し、焼結
し、母材の弁作用金属の酸化皮膜を形成してなる陽極体
と、前記酸化皮膜の表面に形成された導電性高分子の層
とを含む固体電解コンデンサ素子において、前記導電性
高分子の層はモノマーの化学酸化重合によって形成され
た単層構造のものであり、前記柱状体の外表面における
厚さが10μm以上、50μm以下であることを特徴と
する。
【0018】上述の固体電解コンデンサ素子は、弁作用
金属の粉末を柱状体に成形し、焼結し、母材の弁作用金
属の酸化皮膜を形成して陽極体を得る過程と、酸化剤と
モノマーとの化学酸化重合反応により、前記酸化皮膜の
表面に導電性高分子の層を形成する過程とを含む固体電
解コンデンサ素子の製造方法において、前記導電性高分
子の層を形成する過程で、前記陽極体に付着させる酸化
剤の、陽極体の外表面における付着量の分布状態を制御
することによって、前記陽極体の外表面に形成される導
電性高分子の層の厚さを前記10μm以上、50μm以
下の範囲内に制御することを特徴とする固体電解コンデ
ンサ素子の製造方法により製造する。
【0019】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。本発明の一実施例に係る
タンタル固体電解コンデンサ素子の断面を示す図1と、
従来の技術に係る一例のタンタル固体電解コンデンサの
断面を示す図3とを比較して、どちらの図に示すコンデ
ンサ素子も、固体電解質である導電性高分子の層7A、
7は化学酸化重合反応により形成した単層構造で、その
点では同じである。しかし、本実施例に係るコンデンサ
素子1Aは、エッジ部の導電性高分子層7Aの厚さtE
とエッジ部以外の面の部分の導電性高分子層の厚さtP
とが等しく、10μm≦tE =tP ≦50μmの範囲に
ある点に特徴がある。
【0020】ここで、本実施例に係るコンデンサ素子1
Aは、厚さ:1.5mm、長さ:4mm、幅:3mmの
直方体である。そして、導電性高分子層7Aは、焼結体
の6つの面の部分とそれら6つの面の交わりで作られる
12のエッジ部の全ての部分で、10〜50μmの範囲
の厚さであった。尚、以下では、柱体の全ての辺(角柱
であれば12個の辺、円柱であれば2つの円周)を取り
まく部分を指すときは「エッジ部」と称することにす
る。前述の特開2001−143968号公報における
「コーナー部」と類似の概念であるが、上記公報におけ
る「コーナー部」が、角柱における側面どうしの交わり
で作られる4つの辺を含むか否かが必ずしも明らかでは
ないので、上記4つの辺も含むことを明確にするため
に、敢えて異なる用語を用いる。
【0021】本発明者らは、図1に示すタンタル固体電
解コンデンサ素子を、以下のようにして作製した。先
ず、従来公知の方法で、陽極体を形成する。すなわち、
金属タンタルの粉末をプレス成形し、焼結して直方体
(厚さ:1.5mm、長さ:4mm、幅:3mm)の焼
結体5を形成する。その場合、タンタル粉末のプレス成
形の際、同時に、直方体の一つの底面に陽極リード10
となるタンタルワイヤーを植え立てる。その後、陽極酸
化を行って、焼結体の外表面及び内部の微細孔の表面に
母材の金属タンタルの酸化皮膜6を形成して、陽極体を
得る。
【0022】そして、上記酸化タンタル皮膜6の上に、
化学酸化重合反応によって単層のポリチオフェンの層7
Aを形成する。この層が、導電性高分子層である。ポリ
チオフェン層7Aの形成には、モノマー溶液にチオフェ
ンを用い、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄をエチル
アルコールに溶解させた液を酸化剤溶液に用いる。そし
て、始めに陽極体を上記酸化剤溶液に浸漬させ、引き上
げ、温風を送風して乾燥させ、次いでモノマー溶液に浸
漬させ、引き上げ、温風を送って熱を加え酸化重合させ
るという一連の操作を、ポリチオフェン層7Aが目標の
厚さになるまで繰り返す。
【0023】上述のポリチオフェン層7Aの形成に先だ
って、本発明者らは、酸化剤の乾燥速度とポリチオフェ
ン層の厚さとの関係を、陽極体のエッジ部とそれ以外の
部分について調査した。そして、酸化剤溶液から陽極体
を引き上げた後の乾燥速度を制御することで、陽極体の
エッジ部におけるポリチオフェン層の厚さとエッジ部以
外の部分に形成される厚さとの関係を制御できることを
見い出した。図2に、調査結果を示す。図2を参照し
て、横軸は酸化剤の乾燥速度Vを示す。乾燥速度は、V
=陽極体に付着した酸化剤溶液の重量に対する、乾燥の
進行に伴って減少する1分間当りの重量の比(wt%/
分)で定義した値であり、酸化剤溶液中の溶媒の蒸発速
度に他ならない。縦軸はポリチオフェン層7Aの厚さ
(μm)を示す。黒丸の実線がエッジ部における厚さを
示し、乾燥速度V=0.3wt%/分当りにピークを持
つ、すその広がった山形の曲線を描いている。白丸の破
線はエッジ部以外の面の部分における厚さを示し、乾燥
速度Vの増加に伴って単調に増加していって飽和傾向を
示す曲線を描く。そして、乾燥速度Vが約0.4wt%
/分より遅いとき(グラフ上で、左側)は、エッジ部の
ポリチオフェン層のほうがそれ以外の部分より厚く、一
方、乾燥速度Vが上記0.4wt%/分より早いとき
(同、右側)では、エッジ部のほうがそれ以外の面の部
分より薄くなっている。
【0024】ポリチオフェン層7Aの厚さが上述のよう
な曲線形状となる理由は、以下のように考えられる。す
なわち、これまで、本発明者らは、酸化剤が未乾燥の場
合について、この場合でも導電性高分子層は形成できる
ものの、陽極体表面には定着しないのでコンデンサ素子
としては使えないこと、従って、固体電解質としての導
電性高分子層の形成における要点は、酸化剤を陽極体表
面で十分乾燥させ、定着させることで導電性高分子層を
陽極体表面に定着させる点にあることを経験している。
陽極体の外表面に形成される導電性高分子層の厚さは、
陽極体に定着させた酸化剤の量に依存する。次に、一般
的に、酸化剤溶液の溶媒には、例えばエチルアルコール
のような有機溶媒が使用されていて、陽極体を酸化剤溶
液に浸漬して引き上げた直後は、エッジ部に比べそれ以
外の面の部分に多くの溶液が付着しており、乾燥、酸化
剤の析出は、液の付着量の少ないエッジ部から始まる。
【0025】そこで、先ず、乾燥速度Vが遅い場合を考
えると、この場合は、溶媒がゆっくり蒸発してゆくこと
から、乾燥が遅れる面の部分の未乾燥の液が乾燥の進ん
だエッジ部に引き寄せられてゆき、結局、乾燥が終わっ
た後では、エッジ部への酸化剤の付着量のほうが面の部
分への付着量より多くなっている。そして、この酸化剤
の付着量の違いが、導電性高分子層の厚さの違いとなっ
て現れる。これが、図2に示すグラフにおける、乾燥速
度Vが0.4wt%/分以下の領域である。
【0026】一方、乾燥速度Vが速いときは、溶媒がす
ばやく蒸発してしまい、面の部分の液がエッジ部へ引き
寄せられていく暇がないので、乾燥後の陽極体への酸化
剤の付着状態は、酸化剤溶液から引き上げた直後の陽極
体の、各部位への酸化剤溶液の付着状態をそのまま反映
したものになる。つまり、エッジ部への酸化剤の付着量
のほうが面の部分への付着量より少なくなり、導電性高
分子層もエッジ部のほうが薄くなる。これが、図2に示
すグラフにおける、乾燥速度Vが0.4wt%/分以上
の領域である。
【0027】なお、乾燥速度がある限度を越えて遅くな
る(V=0.3wt%/分以下)と、陽極体の表面が濡
れたままで乾燥しないので、形成された導電性高分子は
エッジ部でも平面部でも定着しにくくなって薄くなり、
さらに遅い場合(V=0.1wt%/分以下)では、殆
ど形成されなくなる。一方、乾燥速度が十分速い場合
(V=0.7wt%/分以上)では、エッジ部、平面部
とも陽極体に付着する液量で決まる飽和傾向を示す。
【0028】以上の結果から、酸化剤溶液の乾燥速度V
を0.4wt%/分近辺にすれば、エッジ部のポリチオ
フェン層の厚さとそれ以外の部分の厚さとを同一にする
ことができる。酸化剤の乾燥速度Vは、乾燥時の湿度、
温度、風速及び気圧によって制御できる。本実施例で
は、温度:25℃、湿度:60%RH、風速:0.5m
/s、気圧:1気圧の条件で、酸化剤の乾燥を行った。
【0029】図2に示す調査結果によれば、酸化剤溶液
の乾燥速度Vが正確に0.4wt%/分でなくても、V
=0.1〜0.5wt%/分の範囲内に制御すれば、陽
極体の外表面上のポリチオフェン層全体の厚さを10〜
50μm以内に収めることができる。このとき、エッジ
部におけるポリチオフェン層の厚さtE と面の部分の厚
さtP とは、乾燥速度Vを変えることによって、エッジ
部のほうを厚くするようにも、平面部分のほうを厚くす
るようにも、どちらにでもできるが、両方の厚さの差Δ
tは、乾燥速度V=0.5wt%/分のとき最大で、t
P =50μm、tE =30μm、Δt=20μmであっ
た。
【0030】乾燥速度Vは、温度、湿度、風速、気圧に
よって制御するが、上述した数値に限定する必要はな
い。温度、湿度、風速、気圧の4要因を変化させるとい
うことは、陽極体の表面における溶媒の蒸気圧を変化さ
せて酸化剤溶液の乾燥速度Vを制御するということであ
るから、乾燥速度Vが0.1〜0.5wt%/分の範囲
内なるようにできさえすれば、上記4要因の数値を固定
すべき必然性はない。また、上記4要因を変化させる場
合でも、どの要因を変化させてもよい。更には、一つの
要因に限らず、いくつかの複数の要因を組み合せて変え
るようにしてもよい。
【0031】なお、本実施例は、モノマー及び酸化剤溶
液に、それぞれチオフェン及びドデシルベンゼンスルホ
ン酸第二鉄のエチルアルコール溶液を用いた例である
が、例えばピロールのような他のモノマーや、例えばド
デシルベンゼン第二銅、ブチルナフタレンスルホンサン
第二鉄あるいはブチルナフタレンスルホンサン第二銅の
ような他の酸化剤を用いた場合でも本実施例と同様の作
用効果が得られることを確認した。
【0032】尚また、本実施例は、タンタル固体電解コ
ンデンサに本発明を適用した例であるが、タンタル以外
の例えばアルミニウムのような他の弁作用金属を用いた
コンデンサ素子に適用して、本実施例と同様の作用効果
を得ることができることは、明らかであろう。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
固体電解質に化学酸化重合反応による導電性高分子層を
用いた固体電解コンデンサにおいて、導電性高分子層を
単層構造にし、しかも面と面の交わりの部分とそれ以外
の部分とで均等に、10〜50μmの膜厚に形成できる
ようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係るタンタル固体電解コン
デンサ素子の断面図である。
【図2】酸化剤の乾燥速度と導電性高分子層の厚さとの
関係を、陽極体のエッジ部とそれ以外の部分とについて
示す図である。
【図3】従来の技術に係る固体電解コンデンサの断面図
である。
【図4】導電性高分子層の厚さと漏れ電流不良率及び素
子露出不良率の関係を示す図である。
【符号の説明】
1A コンデンサ素子 2 陽極端子 3 陰極端子 4 外装樹脂 5 焼結体 6 酸化タンタル皮膜 7A 導電性高分子層 8 グラファイト層 9 銀ペースト層 10 陽極リード 11 導電性接着剤

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 弁作用金属の粉末を柱状体に成形し、焼
    結し、母材の弁作用金属の酸化皮膜を形成してなる陽極
    体と、前記酸化皮膜の表面に形成された導電性高分子の
    層とを含む固体電解コンデンサ素子において、 前記導電性高分子の層はモノマーの化学酸化重合によっ
    て形成された単層構造のものであり、前記柱状体の外表
    面における厚さが10μm以上、50μm以下であるこ
    とを特徴とする固体電解コンデンサ素子。
  2. 【請求項2】 前記柱状体の各々の面が交わる部分にお
    ける導電性高分子層の厚さと、それ以外の部分における
    導電性高分子層の厚さとの差異が±20μm以下である
    ことを特徴とする請求項1に記載の固体電解コンデンサ
    素子。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載の固体電解
    コンデンサ素子を製造する方法であって、弁作用金属の
    粉末を柱状体に成形し、焼結し、母材の弁作用金属の酸
    化皮膜を形成して陽極体を得る過程と、酸化剤とモノマ
    ーとの化学酸化重合反応により、前記酸化皮膜の表面に
    導電性高分子の層を形成する過程とを含む固体電解コン
    デンサ素子の製造方法において、 前記導電性高分子の層を形成する過程で、前記陽極体に
    付着させる酸化剤の、陽極体の外表面における付着量の
    分布状態を制御することによって、前記陽極体の外表面
    に形成される導電性高分子の層の厚さを前記10μm以
    上、50μm以下の範囲内に制御することを特徴とする
    固体電解コンデンサ素子の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記導電性高分子の層を形成する過程で
    は、酸化剤を含む溶液中に陽極体を浸漬させ、引き上
    げ、乾燥して陽極体に酸化剤を付着させる酸化剤付着過
    程と、前記酸化剤を付着させた陽極体をモノマーを含む
    溶液中に浸漬させてモノマーを付着させる過程と、酸化
    剤とモノマーとを化学酸化重合反応させる過程とをこの
    順に行うことを少なくとも1回以上繰り返して行い、 各々の前記酸化剤付着過程における乾燥の速度を制御す
    ることにより、前記陽極体の外表面における酸化剤の付
    着量の分布状態を制御することを特徴とする、請求項3
    に記載の固体電解コンデンサ素子の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記酸化剤付着過程における乾燥の速度
    Vを、前記酸化剤を含む溶液における、浸漬により陽極
    体に付着した重量に対する乾燥により1分間当りに減少
    する重量の%比で表したとき、0.1wt%/分≦V≦
    0.5wt%/分とすることを特徴とする、請求項4に
    記載の固体電解コンデンサ素子の製造方法。
  6. 【請求項6】 弁作用金属の粉末を柱状体に成形し、焼
    結し、母材の弁作用金属の酸化皮膜を形成して陽極体を
    得る過程と、 前記陽極体を前記酸化剤を含む溶液中に浸漬させ、引き
    上げ、陽極体に付着した酸化剤を含む溶液の乾燥の速度
    V=浸漬により陽極体に付着した重量/乾燥により1分
    間当りに減少する重量が、0.1wt%/分≦V≦0.
    5wt%/分となるように乾燥させ、モノマーを含む溶
    液中に浸漬させ、引き上げ、前記酸化剤とモノマーとを
    化学重合反応させることを少なくとも1回以上繰り返し
    て、前記陽極体の外表面における厚さが10μm以上、
    50μm以下になるように、導電性高分子の層を形成す
    る過程とを含む固体電解コンデンサ素子の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記陽極体に付着した酸化剤を含む溶液
    の乾燥の速度を、乾燥雰囲気の温度、湿度、気圧及び風
    速により制御することを特徴とする、請求項4乃至6の
    何れか1項に記載の固体電解コンデンサ素子の製造方
    法。
  8. 【請求項8】 請求項1に記載の固体電解コンデンサ素
    子に外部との接続のための陽極端子及び陰極端子を設
    け、外装を施してなる固体電解コンデンサであって、前
    記弁作用金属にTaを用いたことを特徴とする固体電解
    コンデンサ。
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