JP2003185999A - 液晶装置および電子機器 - Google Patents
液晶装置および電子機器Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射型表示が可能なカラー液晶装置におい
て、良好な表示特性とともに高信頼性を実現する。 【解決手段】 絶縁性を有する基板(1)上に、反射膜
(2)、遮光膜(13)、着色層(4)、保護膜
(6)、透明電極(7)が順番に形成されている。そし
て、透明電極(7)は密着性を高める膜(5)上に形成
されているので、透明電極(7)をガラスや樹脂材料と
いう異なる特性を持つ表面に形成する場合に、これらの
表面に対して、密着性を確保することができる。
て、良好な表示特性とともに高信頼性を実現する。 【解決手段】 絶縁性を有する基板(1)上に、反射膜
(2)、遮光膜(13)、着色層(4)、保護膜
(6)、透明電極(7)が順番に形成されている。そし
て、透明電極(7)は密着性を高める膜(5)上に形成
されているので、透明電極(7)をガラスや樹脂材料と
いう異なる特性を持つ表面に形成する場合に、これらの
表面に対して、密着性を確保することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の液晶層側の
面に反射膜および着色層が形成された液晶装置、該液晶
装置を備える電子機器および液晶装置用基板に関する。
面に反射膜および着色層が形成された液晶装置、該液晶
装置を備える電子機器および液晶装置用基板に関する。
【0002】
【背景技術】従来より、携帯情報端末等には、低消費電
力という利点を有する反射型液晶装置が用いられてい
る。特に最近では、画像情報の授受が増えてきたことに
伴って、反射型液晶装置にカラー化の動きが高まってい
る。
力という利点を有する反射型液晶装置が用いられてい
る。特に最近では、画像情報の授受が増えてきたことに
伴って、反射型液晶装置にカラー化の動きが高まってい
る。
【0003】ここで、液晶装置において、反射膜を液晶
層の外面あるいは内面のいずれか一方に設けることによ
り、反射型液晶装置を実現することができるが、反射膜
を内面に設ける構成の方が、視差による二重像や色ボケ
などの表示品質の低下が抑えられる点において好まし
い、と考える。例えば、アクティブマトリクス方式の液
晶装置では、スイッチング素子が設けられる基板に形成
される画素電極に反射性を持たせて、画素電極を反射膜
として兼用することで、表示品質の低下が抑えられた反
射型カラー液晶装置を実現することができる。
層の外面あるいは内面のいずれか一方に設けることによ
り、反射型液晶装置を実現することができるが、反射膜
を内面に設ける構成の方が、視差による二重像や色ボケ
などの表示品質の低下が抑えられる点において好まし
い、と考える。例えば、アクティブマトリクス方式の液
晶装置では、スイッチング素子が設けられる基板に形成
される画素電極に反射性を持たせて、画素電極を反射膜
として兼用することで、表示品質の低下が抑えられた反
射型カラー液晶装置を実現することができる。
【0004】また、近年では、暗所での視認性を確保す
るために、光を反射させるだけでなく、光を透過させる
ように反射膜を形成することにより、反射型表示と透過
型表示との双方の表示を可能とする半透過反射型液晶装
置が提案されている。このような半透過反射型液晶装置
によれば、通常は反射型表示として用いることにより、
低消費電力が図られる一方、暗所においては必要に応じ
て透過型表示として用いることにより、視認性が確保さ
れることとなる。
るために、光を反射させるだけでなく、光を透過させる
ように反射膜を形成することにより、反射型表示と透過
型表示との双方の表示を可能とする半透過反射型液晶装
置が提案されている。このような半透過反射型液晶装置
によれば、通常は反射型表示として用いることにより、
低消費電力が図られる一方、暗所においては必要に応じ
て透過型表示として用いることにより、視認性が確保さ
れることとなる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、画素電
極を反射膜と兼用する構成では、製造工程中、反射膜と
して一般的に用いられるアルミニウムが露出することに
なる。周知のようにアルミニウムは耐蝕性に欠けるの
で、このような構成では、アルミニウムがダメージを受
けて、反射膜としての反射特性や、電極としての電気特
性等が悪化する可能性がある。
極を反射膜と兼用する構成では、製造工程中、反射膜と
して一般的に用いられるアルミニウムが露出することに
なる。周知のようにアルミニウムは耐蝕性に欠けるの
で、このような構成では、アルミニウムがダメージを受
けて、反射膜としての反射特性や、電極としての電気特
性等が悪化する可能性がある。
【0006】例えば、液晶装置の製造プロセスのうち、
配向膜の形成工程では、N−メチルピロリドン(1−メ
チル−2−ピロリジノン)や、γ−ブチロラクトン(4
−ヒドロキシブチィリック酸γ―ラクトン)などのよう
な極性溶媒に溶解したポリイミドやポリアミク酸を主成
分とする溶液を基板に塗布した後に、150℃から25
0℃に加熱する工程を含む。このため、当該アルミニウ
ムがダメージを受ける可能性が高い。
配向膜の形成工程では、N−メチルピロリドン(1−メ
チル−2−ピロリジノン)や、γ−ブチロラクトン(4
−ヒドロキシブチィリック酸γ―ラクトン)などのよう
な極性溶媒に溶解したポリイミドやポリアミク酸を主成
分とする溶液を基板に塗布した後に、150℃から25
0℃に加熱する工程を含む。このため、当該アルミニウ
ムがダメージを受ける可能性が高い。
【0007】さらに、反射電極に対向する他方の電極が
ITO(Indium Tin Oxide)である構成では、液晶層を
狭持するアルミニウム電極とITO電極との間には極性
差が生じるので、液晶装置の表示品位のみならず、長期
信頼性も低下する。そして、これらの現象は、他の元素
を含んだアルミニウム合金においても、程度の大小はあ
るものの、同様に発生する。
ITO(Indium Tin Oxide)である構成では、液晶層を
狭持するアルミニウム電極とITO電極との間には極性
差が生じるので、液晶装置の表示品位のみならず、長期
信頼性も低下する。そして、これらの現象は、他の元素
を含んだアルミニウム合金においても、程度の大小はあ
るものの、同様に発生する。
【0008】また、上述した半透過反射型液晶装置にお
いて、透過型表示とする場合、画素外からの漏れ光によ
りコントラスト比が大幅に低下してしまい、高品位な表
示を行うことができない。このような漏れ光によるコン
トラスト比の低下を防ぐためには、反射膜が設けられる
基板と対向する基板に、すなわち、観察者から見て手前
側の基板に、遮光膜を別途設ける構成とすれば良い。
いて、透過型表示とする場合、画素外からの漏れ光によ
りコントラスト比が大幅に低下してしまい、高品位な表
示を行うことができない。このような漏れ光によるコン
トラスト比の低下を防ぐためには、反射膜が設けられる
基板と対向する基板に、すなわち、観察者から見て手前
側の基板に、遮光膜を別途設ける構成とすれば良い。
【0009】ここで、遮光膜としては、クロムあるいは
黒色樹脂材料を用いるのが一般的である。このうち、ク
ロムは、遮光性が高く、膜厚を200nm以下にするこ
とができるが、金属材料であるために、表面反射率が大
きい。例えば、単層クロムでは反射率が約60%程度も
あり、また、低反射2層クロムでも反射率が約7%程度
ある。このため、遮光膜にクロムを用いると、観察側か
ら入射した光が当該遮光膜の表面で反射してしまうた
め、特に反射型表示においてコントラスト比が低下して
しまう、という問題があった。
黒色樹脂材料を用いるのが一般的である。このうち、ク
ロムは、遮光性が高く、膜厚を200nm以下にするこ
とができるが、金属材料であるために、表面反射率が大
きい。例えば、単層クロムでは反射率が約60%程度も
あり、また、低反射2層クロムでも反射率が約7%程度
ある。このため、遮光膜にクロムを用いると、観察側か
ら入射した光が当該遮光膜の表面で反射してしまうた
め、特に反射型表示においてコントラスト比が低下して
しまう、という問題があった。
【0010】一方、黒色樹脂材料は、低反射率であるた
め、表面反射率を抑えることができるが、遮光性が劣る
ので、透過型表示において要求される2以上の光学濃度
を確保するためには、黒色樹脂を厚くしなければならな
い。このため、基板の平坦性が悪化するばかりか、パタ
ーニング幅を狭くできないので、結果的に開口率が小さ
くなる、といった問題があった。
め、表面反射率を抑えることができるが、遮光性が劣る
ので、透過型表示において要求される2以上の光学濃度
を確保するためには、黒色樹脂を厚くしなければならな
い。このため、基板の平坦性が悪化するばかりか、パタ
ーニング幅を狭くできないので、結果的に開口率が小さ
くなる、といった問題があった。
【0011】本発明は、このような背景の下でなされた
ものであり、その目的とするところは、反射特性や表示
特性が良好な液晶装置並びに電子機器及び液晶装置用基
板を提供することにある。
ものであり、その目的とするところは、反射特性や表示
特性が良好な液晶装置並びに電子機器及び液晶装置用基
板を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本件第1の発明に係る液晶装置にあっては、第1の
基板の側に形成された第1の透明電極と第2の基板の側
に形成された第2の透明電極との間で液晶層を挟持して
なる液晶装置であって、前記第2の基板における前記液
晶層側の面に形成されて、少なくとも前記第1の基板側
から入射する光を反射する反射膜と、前記第2の基板に
おける前記液晶層側の面に形成されるとともに、前記第
1および第2の透明電極の交差領域に対応した開口領域
を有する遮光膜と、前記第2の基板における前記液晶層
側の面にあって、前記遮光膜を覆うように形成された着
色層とを具備することを特徴としている。
に、本件第1の発明に係る液晶装置にあっては、第1の
基板の側に形成された第1の透明電極と第2の基板の側
に形成された第2の透明電極との間で液晶層を挟持して
なる液晶装置であって、前記第2の基板における前記液
晶層側の面に形成されて、少なくとも前記第1の基板側
から入射する光を反射する反射膜と、前記第2の基板に
おける前記液晶層側の面に形成されるとともに、前記第
1および第2の透明電極の交差領域に対応した開口領域
を有する遮光膜と、前記第2の基板における前記液晶層
側の面にあって、前記遮光膜を覆うように形成された着
色層とを具備することを特徴としている。
【0013】この第1の発明によれば、液晶層は、同種
の第1および第2の透明電極によって挟持されるので、
液晶装置の表示品位や長期信頼性が低下することがな
い。また、反射膜上には、遮光膜および着色層が形成さ
れるので、反射膜を露出させないようにすることができ
る。このため、液晶装置の製造工程において、反射膜
が、薬液や、ガス、液晶層等にさらされないようにし
て、反射膜へのダメージを抑えることができる。さら
に、着色層が遮光膜を覆うように形成されているので、
遮光膜での表面反射が抑えられるだけでなく、遮光膜に
要求される光学濃度も小さくて済む。特に反射型表示に
おいて光は遮光膜を2回通過することになるので、反射
型表示を主とする場合には、遮光膜の光学濃度が小さく
ても実質的には充分な遮光性が得られる。
の第1および第2の透明電極によって挟持されるので、
液晶装置の表示品位や長期信頼性が低下することがな
い。また、反射膜上には、遮光膜および着色層が形成さ
れるので、反射膜を露出させないようにすることができ
る。このため、液晶装置の製造工程において、反射膜
が、薬液や、ガス、液晶層等にさらされないようにし
て、反射膜へのダメージを抑えることができる。さら
に、着色層が遮光膜を覆うように形成されているので、
遮光膜での表面反射が抑えられるだけでなく、遮光膜に
要求される光学濃度も小さくて済む。特に反射型表示に
おいて光は遮光膜を2回通過することになるので、反射
型表示を主とする場合には、遮光膜の光学濃度が小さく
ても実質的には充分な遮光性が得られる。
【0014】ここで、第1の発明において、前記遮光膜
の開口領域内にあって、前記反射膜に光を透過する第1
の開口部を備える構成が望ましい。この構成では、反射
膜が電極として機能しないので、すなわち、反射膜の第
1の開口部であっても第2の透明電極によって液晶層が
駆動されるので、当該開口部を透過する光による透過型
表示が可能となる。さらに、透過型表示において光は、
遮光膜の開口領域ではなく、反射膜に設けられる第1の
開口部によって規定されるので、遮光膜に要求される光
学濃度は、反射型表示のみを考慮して設定すれば良いこ
とになる。
の開口領域内にあって、前記反射膜に光を透過する第1
の開口部を備える構成が望ましい。この構成では、反射
膜が電極として機能しないので、すなわち、反射膜の第
1の開口部であっても第2の透明電極によって液晶層が
駆動されるので、当該開口部を透過する光による透過型
表示が可能となる。さらに、透過型表示において光は、
遮光膜の開口領域ではなく、反射膜に設けられる第1の
開口部によって規定されるので、遮光膜に要求される光
学濃度は、反射型表示のみを考慮して設定すれば良いこ
とになる。
【0015】また、第1の発明において、前記反射膜と
第2の基板における前記液晶層側の面との間に第1の膜
をさらに備える構成が好ましい。この構成によれば、反
射膜として用いられる金属と第2の基板表面との密着性
が劣るような組み合わせであっても、第1の膜により、
反射膜の密着性を向上させることが可能となる。このよ
うに反射膜の密着性を向上させる第1の膜としては、金
属や、酸化物、窒化物を用いることができる。このう
ち、金属としては、Taや、Cr、Mo、Wなどの5b
〜6b族に含まれる遷移金属が挙げられる。また、酸化
物の一例としては、Ta2O5などの上記遷移金属の酸
化物やSiO2等の酸化シリコンなどが挙げられ、別例
としては、TiO2や、ZrO2、これらとSiO2を
適宜組み合わせたもの、Al2O3などが挙げられる。
さらに、窒化物としては、Si3N 4に代表される窒化
シリコンが挙げられる。この第1の膜は、反射膜の密着
性を向上させるためのものであるので、その膜厚は、1
00nm前後、場合によっては30〜60nm程度で十
分である。さらに、導電性を有さないSiO2膜やTa
2O5膜などを用いる場合には、当該膜が第2の基板全
面に残存していても構わないので、当該膜をパターニン
グしないで済む。例えば、反射膜として銀や銀を主成分
とする銀合金を用いるとともに、第2の基板としてガラ
スを用いた場合においては、密着性を向上するための第
1の膜としては、Moや、Ta2O5SiO2膜などを
用いるのが望ましい。また、絶縁性基板にプラスチック
フィルムなどの可撓性を有する基板を用いる場合におい
ては、第1の膜として、SiO 2膜や、TiO2、Zr
O2、これらとSiO2を適宜組み合わせたものなど用
いるのが望ましい。
第2の基板における前記液晶層側の面との間に第1の膜
をさらに備える構成が好ましい。この構成によれば、反
射膜として用いられる金属と第2の基板表面との密着性
が劣るような組み合わせであっても、第1の膜により、
反射膜の密着性を向上させることが可能となる。このよ
うに反射膜の密着性を向上させる第1の膜としては、金
属や、酸化物、窒化物を用いることができる。このう
ち、金属としては、Taや、Cr、Mo、Wなどの5b
〜6b族に含まれる遷移金属が挙げられる。また、酸化
物の一例としては、Ta2O5などの上記遷移金属の酸
化物やSiO2等の酸化シリコンなどが挙げられ、別例
としては、TiO2や、ZrO2、これらとSiO2を
適宜組み合わせたもの、Al2O3などが挙げられる。
さらに、窒化物としては、Si3N 4に代表される窒化
シリコンが挙げられる。この第1の膜は、反射膜の密着
性を向上させるためのものであるので、その膜厚は、1
00nm前後、場合によっては30〜60nm程度で十
分である。さらに、導電性を有さないSiO2膜やTa
2O5膜などを用いる場合には、当該膜が第2の基板全
面に残存していても構わないので、当該膜をパターニン
グしないで済む。例えば、反射膜として銀や銀を主成分
とする銀合金を用いるとともに、第2の基板としてガラ
スを用いた場合においては、密着性を向上するための第
1の膜としては、Moや、Ta2O5SiO2膜などを
用いるのが望ましい。また、絶縁性基板にプラスチック
フィルムなどの可撓性を有する基板を用いる場合におい
ては、第1の膜として、SiO 2膜や、TiO2、Zr
O2、これらとSiO2を適宜組み合わせたものなど用
いるのが望ましい。
【0016】さて、第1の発明において、前記遮光膜
は、黒色の樹脂材料からなる構成が好ましい。このよう
な黒色の樹脂材料としては、例えば、黒色顔料を分散さ
せたカラーレジストや、印刷可能な黒色塗料などが挙げ
られる。上述したように黒色樹脂材料は、クロムと比較
して、低反射率の点で優れているが、遮光性の点で劣
る。ただし、第1の発明では、上述したように遮光膜の
光学濃度が小さくて済むので、遮光膜を厚く形成する必
要がない。例えば、透過型表示のみを考えた場合、遮光
膜には2以上の光学濃度が要求されるが、この光学濃度
を、黒色樹脂材料で得るためには、約0.9μmの膜厚
が必要である。これに対して、第1の発明では、着色層
が遮光膜を覆うように形成され、さらに、反射型表示に
おいて光は遮光膜を2回通過するので、また、透過型表
示において光は反射膜の第1の開口部によって規定され
るので、遮光膜に黒色樹脂材料を用いたとしても、必要
な膜厚は0.5μm以下で済み、ほぼ半減させることが
可能となる。このため、第1の発明において、遮光膜に
黒色樹脂材料を用いても、基板の平坦性が悪化すること
がないし、開口率が低下することもない。なお、一般的
に反射型表示装置のコントラスト比は1:10〜1:2
5程度であり、この値は透過型液晶装置に比較して低い
ので、用いる液晶モードに合わせて光学濃度を小さくし
て、黒色樹脂材料の膜厚をさらに薄く済ませることも可
能である。
は、黒色の樹脂材料からなる構成が好ましい。このよう
な黒色の樹脂材料としては、例えば、黒色顔料を分散さ
せたカラーレジストや、印刷可能な黒色塗料などが挙げ
られる。上述したように黒色樹脂材料は、クロムと比較
して、低反射率の点で優れているが、遮光性の点で劣
る。ただし、第1の発明では、上述したように遮光膜の
光学濃度が小さくて済むので、遮光膜を厚く形成する必
要がない。例えば、透過型表示のみを考えた場合、遮光
膜には2以上の光学濃度が要求されるが、この光学濃度
を、黒色樹脂材料で得るためには、約0.9μmの膜厚
が必要である。これに対して、第1の発明では、着色層
が遮光膜を覆うように形成され、さらに、反射型表示に
おいて光は遮光膜を2回通過するので、また、透過型表
示において光は反射膜の第1の開口部によって規定され
るので、遮光膜に黒色樹脂材料を用いたとしても、必要
な膜厚は0.5μm以下で済み、ほぼ半減させることが
可能となる。このため、第1の発明において、遮光膜に
黒色樹脂材料を用いても、基板の平坦性が悪化すること
がないし、開口率が低下することもない。なお、一般的
に反射型表示装置のコントラスト比は1:10〜1:2
5程度であり、この値は透過型液晶装置に比較して低い
ので、用いる液晶モードに合わせて光学濃度を小さくし
て、黒色樹脂材料の膜厚をさらに薄く済ませることも可
能である。
【0017】一方、第1の発明において、前記遮光膜
は、前記着色層が2色以上積層されてなる構成も好まし
い。この構成では、遮光膜として別個の層を設ける必要
がなくなるので、低コスト化を図ることが可能となる。
一般的な反射型液晶装置の着色層は、透過型表示装置の
着色層の濃度と比較して淡いので、2色以上の着色層を
積層しても、その光学濃度は、1以下の場合があり、必
要な光学濃度を得ることが困難である。これに対して、
この構成では、反射型表示において光は、着色層が2色
以上積層してなる遮光膜を2回通過するので、また、透
過型表示において光は反射膜の第1の開口部によって規
定されるので、淡い着色層を用いても充分な遮光性を得
ることができる。例えば、R(赤)、G(緑)、B
(青)の3色の着色層を有する場合、これら3色の着色
層を積層した場合の光学濃度が0.7であれば、光が2
回通過することによる実質的な光学濃度は約1.4とな
るので、一般的にコントラスト比が1:25以下である
反射型液晶装置では、実用上充分な遮光性を有すること
になる。
は、前記着色層が2色以上積層されてなる構成も好まし
い。この構成では、遮光膜として別個の層を設ける必要
がなくなるので、低コスト化を図ることが可能となる。
一般的な反射型液晶装置の着色層は、透過型表示装置の
着色層の濃度と比較して淡いので、2色以上の着色層を
積層しても、その光学濃度は、1以下の場合があり、必
要な光学濃度を得ることが困難である。これに対して、
この構成では、反射型表示において光は、着色層が2色
以上積層してなる遮光膜を2回通過するので、また、透
過型表示において光は反射膜の第1の開口部によって規
定されるので、淡い着色層を用いても充分な遮光性を得
ることができる。例えば、R(赤)、G(緑)、B
(青)の3色の着色層を有する場合、これら3色の着色
層を積層した場合の光学濃度が0.7であれば、光が2
回通過することによる実質的な光学濃度は約1.4とな
るので、一般的にコントラスト比が1:25以下である
反射型液晶装置では、実用上充分な遮光性を有すること
になる。
【0018】また、遮光膜が、2色以上の着色層の積層
部分からなる場合に、濃度を濃くした着色層が、遮光膜
の開口領域に対してある割合で部分的に設けられる構成
として、当該開口領域内において反射され着色される光
の平均濃度が、反射型表示に適した値となるように設定
しても良い。この構成によれば、濃度の濃い着色層が積
層された部分が遮光膜となるので、当該遮光膜の光学濃
度をさらに大きくすることができる。例えば、3色の着
色層を積層した部分の光学濃度が1.6であれば、光が
2回通過することによる実質的な光学濃度は約3.0前
後にまで達するので、1:100以上の高いコントラス
ト比の反射型表示が可能となる。
部分からなる場合に、濃度を濃くした着色層が、遮光膜
の開口領域に対してある割合で部分的に設けられる構成
として、当該開口領域内において反射され着色される光
の平均濃度が、反射型表示に適した値となるように設定
しても良い。この構成によれば、濃度の濃い着色層が積
層された部分が遮光膜となるので、当該遮光膜の光学濃
度をさらに大きくすることができる。例えば、3色の着
色層を積層した部分の光学濃度が1.6であれば、光が
2回通過することによる実質的な光学濃度は約3.0前
後にまで達するので、1:100以上の高いコントラス
ト比の反射型表示が可能となる。
【0019】このように第1の発明において、(光が1
回通過することによる)前記遮光膜の光学濃度は、0.
5以上1.7以下である構成が好ましい。第1の発明で
は、上述したように、反射型表示において光は遮光膜を
2回通過するので、その光学濃度が小さくても、実質的
な(光が2回通過することによる)光学濃度の値が大き
くなるためである。
回通過することによる)前記遮光膜の光学濃度は、0.
5以上1.7以下である構成が好ましい。第1の発明で
は、上述したように、反射型表示において光は遮光膜を
2回通過するので、その光学濃度が小さくても、実質的
な(光が2回通過することによる)光学濃度の値が大き
くなるためである。
【0020】ところで、第1の発明において、前記遮光
膜の開口領域は、前記第1および第2の透明電極との交
差領域に対し、当該領域の周縁から前記第1および第2
の透明電極間の距離の略半分までを限度として当該領域
の外側に拡大している構成が好ましい。
膜の開口領域は、前記第1および第2の透明電極との交
差領域に対し、当該領域の周縁から前記第1および第2
の透明電極間の距離の略半分までを限度として当該領域
の外側に拡大している構成が好ましい。
【0021】ここで、液晶装置において、設計上の画素
とは、第1および第2の透明電極が平面的にみて互いに
重なる領域であるが、この設計上の画素領域外であって
も、いわゆる斜め電界により液晶分子が駆動される領域
がある。具体的に言えば、第1の透明電極内であって、
第2の透明電極内である部分であって、第1および第2
の透明電極の交差領域の端部から、電極間距離(液晶層
の厚さ)の約1/2の距離に相当する部分までは、斜め
電界によって液晶分子が駆動されることが本件発明者に
よって確認されている。例えば、ある液晶モードにおい
て、電極間距離が4.0μmであるとき、電極の端部か
ら外側に約2.0μm近傍までの領域では液晶分子が駆
動される。そこで、この領域に対応する部分にまで、遮
光膜の開口領域を拡大して、反射膜により光が反射する
構成とすれば、実質的な開口率を向上することが可能と
なる。
とは、第1および第2の透明電極が平面的にみて互いに
重なる領域であるが、この設計上の画素領域外であって
も、いわゆる斜め電界により液晶分子が駆動される領域
がある。具体的に言えば、第1の透明電極内であって、
第2の透明電極内である部分であって、第1および第2
の透明電極の交差領域の端部から、電極間距離(液晶層
の厚さ)の約1/2の距離に相当する部分までは、斜め
電界によって液晶分子が駆動されることが本件発明者に
よって確認されている。例えば、ある液晶モードにおい
て、電極間距離が4.0μmであるとき、電極の端部か
ら外側に約2.0μm近傍までの領域では液晶分子が駆
動される。そこで、この領域に対応する部分にまで、遮
光膜の開口領域を拡大して、反射膜により光が反射する
構成とすれば、実質的な開口率を向上することが可能と
なる。
【0022】例えば、電圧無印加時に黒表示を行うノー
マリーブラックモードの液晶装置において、電圧印加に
よって白表示を行う場合、設計上の画素の端部から多少
離れていても、その領域では液晶分子が斜め電界によっ
て駆動される。このため、当該領域に遮光膜を設けずに
反射膜を配置すれば、実質的に画素として機能する面積
が設計上の画素の面積よりも拡大する結果、開口率が向
上して、明るい表示を実現することが可能となる。
マリーブラックモードの液晶装置において、電圧印加に
よって白表示を行う場合、設計上の画素の端部から多少
離れていても、その領域では液晶分子が斜め電界によっ
て駆動される。このため、当該領域に遮光膜を設けずに
反射膜を配置すれば、実質的に画素として機能する面積
が設計上の画素の面積よりも拡大する結果、開口率が向
上して、明るい表示を実現することが可能となる。
【0023】一方、設計上の画素領域内であっても、い
わゆる斜め電界により液晶分子が駆動されない領域があ
るが、このような領域には、遮光膜を設けて、反射膜に
より光が反射しない構成とすれば、コントラスト比の低
下を防止することが可能となる。例えば、電圧無印加時
に白表示を行うノーマリーホワイトモードの液晶装置に
おいて、液晶分子が駆動されない領域には、遮光膜を設
けずに反射膜を配置すると、電圧印加によって黒表示を
する場合でも、完全な黒表示とすることができないの
で、コントラスト比が低下することになるが、このよう
な領域には、遮光膜を設けて視認されない構成とすれ
ば、コントラスト比の低下を防止することが可能とな
る。
わゆる斜め電界により液晶分子が駆動されない領域があ
るが、このような領域には、遮光膜を設けて、反射膜に
より光が反射しない構成とすれば、コントラスト比の低
下を防止することが可能となる。例えば、電圧無印加時
に白表示を行うノーマリーホワイトモードの液晶装置に
おいて、液晶分子が駆動されない領域には、遮光膜を設
けずに反射膜を配置すると、電圧印加によって黒表示を
する場合でも、完全な黒表示とすることができないの
で、コントラスト比が低下することになるが、このよう
な領域には、遮光膜を設けて視認されない構成とすれ
ば、コントラスト比の低下を防止することが可能とな
る。
【0024】また、STN(Super Twisted Nematic)
であって、ノーマリーホワイトモードを用いた液晶装置
において、ある画素を黒表示とする場合に、設計上の画
素の領域内であるにもかかわらず、その一辺では、斜め
電界の影響により液晶分子が完全に駆動されない領域が
残存する、という現象が発生して、コントラスト比が低
下することもあるが、第1の発明のように反射膜と電極
とが独立する構成では、当該領域を遮光膜で隠すことに
より、コントラスト比の低下を防止することが可能とな
る。さらに、当該画素の領域外であっても、斜め電界に
よって液晶分子が駆動される領域には、遮光膜を設けず
に反射膜を配置することで、実質的な開口率が向上し
て、明るい表示が可能となる。
であって、ノーマリーホワイトモードを用いた液晶装置
において、ある画素を黒表示とする場合に、設計上の画
素の領域内であるにもかかわらず、その一辺では、斜め
電界の影響により液晶分子が完全に駆動されない領域が
残存する、という現象が発生して、コントラスト比が低
下することもあるが、第1の発明のように反射膜と電極
とが独立する構成では、当該領域を遮光膜で隠すことに
より、コントラスト比の低下を防止することが可能とな
る。さらに、当該画素の領域外であっても、斜め電界に
よって液晶分子が駆動される領域には、遮光膜を設けず
に反射膜を配置することで、実質的な開口率が向上し
て、明るい表示が可能となる。
【0025】このようなコントラスト比の低下防止と実
質的な開口率の向上とについては、第1の発明のよう
に、反射膜と画素電極とが独立して設けられることによ
ってはじめて実現可能となるものである。そこで、この
点について図を用いて今一度説明する。ここで、図19
Aは、STNの液晶を用いたパッシブマトリクス方式の
液晶装置の構成を示す概略平面図であり、図19Bは、
同液晶装置における基板に隣接する液晶分子の配向方向
と、液晶層のバルクにおける液晶分子の配向方向とを示
す概略平面図である。また、図19Cは、電圧無印加時
における図19Aの線GG−GG’についての概略断面
図であり、図19Dは、電圧印加時における図19Aの
線GG−GG’についての概略断面図である。
質的な開口率の向上とについては、第1の発明のよう
に、反射膜と画素電極とが独立して設けられることによ
ってはじめて実現可能となるものである。そこで、この
点について図を用いて今一度説明する。ここで、図19
Aは、STNの液晶を用いたパッシブマトリクス方式の
液晶装置の構成を示す概略平面図であり、図19Bは、
同液晶装置における基板に隣接する液晶分子の配向方向
と、液晶層のバルクにおける液晶分子の配向方向とを示
す概略平面図である。また、図19Cは、電圧無印加時
における図19Aの線GG−GG’についての概略断面
図であり、図19Dは、電圧印加時における図19Aの
線GG−GG’についての概略断面図である。
【0026】図19Aに示されるように、パッシブマト
リクス方式の液晶装置においては、上基板21に設けら
れる透明な電極22とこれに対向する下基板31に設け
られる透明な電極32とが平面的にみて互いに交差する
領域が、設計上の画素の領域50となる。ここで、図1
9Bに示されるように、上基板21のラビング方向23
と下基板31のラビング方向33との組み合わせによ
り、左回りのSTN液晶モードを採用した場合を想定す
る。この場合、上基板21近傍の液晶分子41は上基板
21のラビング方向23に、下基板31近傍の液晶分子
42は下基板31のラビング方向33に、それぞれ沿っ
た形で配向し、また、液晶層40のバルクにおける液晶
分子43は、下基板31の電極32の形成方向と直交す
る方向に配向することになる。
リクス方式の液晶装置においては、上基板21に設けら
れる透明な電極22とこれに対向する下基板31に設け
られる透明な電極32とが平面的にみて互いに交差する
領域が、設計上の画素の領域50となる。ここで、図1
9Bに示されるように、上基板21のラビング方向23
と下基板31のラビング方向33との組み合わせによ
り、左回りのSTN液晶モードを採用した場合を想定す
る。この場合、上基板21近傍の液晶分子41は上基板
21のラビング方向23に、下基板31近傍の液晶分子
42は下基板31のラビング方向33に、それぞれ沿っ
た形で配向し、また、液晶層40のバルクにおける液晶
分子43は、下基板31の電極32の形成方向と直交す
る方向に配向することになる。
【0027】ここで、電圧無印加時には、図19Cに示
されるように、液晶層40のバルクにおける液晶分子4
3の配向は均一であるが、電圧印加時には、図19Dに
示されるように、上基板21の電極22と下基板31の
電極32との間に生じる電気力線53が画素の周縁で歪
む(すなわち「斜め電界」の発生する)結果、画素53
の一端部では、液晶層40のバルクにおける液晶分子4
3の配向が乱れ、リバースチルトドメインが発生して、
液晶分子43が正常に駆動されない領域51が出現す
る。一方、画素の他方の端部では、下基板31の電極3
2外であっても、バルクにおける液晶分子43が正常に
駆動される領域52が出現する。
されるように、液晶層40のバルクにおける液晶分子4
3の配向は均一であるが、電圧印加時には、図19Dに
示されるように、上基板21の電極22と下基板31の
電極32との間に生じる電気力線53が画素の周縁で歪
む(すなわち「斜め電界」の発生する)結果、画素53
の一端部では、液晶層40のバルクにおける液晶分子4
3の配向が乱れ、リバースチルトドメインが発生して、
液晶分子43が正常に駆動されない領域51が出現す
る。一方、画素の他方の端部では、下基板31の電極3
2外であっても、バルクにおける液晶分子43が正常に
駆動される領域52が出現する。
【0028】したがって、液晶分子43が正常に駆動さ
れない領域51に対応する位置にまで遮光膜を広げる一
方、液晶分子43が正常に駆動される領域52に対応す
る位置には、遮光膜を設けずに反射膜で光が反射する構
成として、コントラスト比を低下させることなく、実質
的な開口率の向上を図って、明るい表示が可能となる。
このような効果は、電極に反射性を持たせた従来構成で
は不可能であり、第1の発明のように、反射膜と画素電
極とを独立して設けることによってはじめて実現可能と
なるものである。
れない領域51に対応する位置にまで遮光膜を広げる一
方、液晶分子43が正常に駆動される領域52に対応す
る位置には、遮光膜を設けずに反射膜で光が反射する構
成として、コントラスト比を低下させることなく、実質
的な開口率の向上を図って、明るい表示が可能となる。
このような効果は、電極に反射性を持たせた従来構成で
は不可能であり、第1の発明のように、反射膜と画素電
極とを独立して設けることによってはじめて実現可能と
なるものである。
【0029】ところで、第1の発明において、反射膜と
しては、アルミニウムや、銀、クロム等を主成分とする
金属合金または単体金属を用いることができる。反射膜
として、アルミニウムを主成分とする金属合金を用いる
と、比較的反射率の高い反射膜を、製造コストを低く抑
えて実現することができる。この際、金属合金における
アルミニウムの含有割合は、80重量%以上であると好
ましい。また、反射膜として、銀を主成分とする金属合
金を用いると、その反射率を非常に高くすることができ
る。この際、金属合金における銀の割合は、80重量%
以上であると好ましい。
しては、アルミニウムや、銀、クロム等を主成分とする
金属合金または単体金属を用いることができる。反射膜
として、アルミニウムを主成分とする金属合金を用いる
と、比較的反射率の高い反射膜を、製造コストを低く抑
えて実現することができる。この際、金属合金における
アルミニウムの含有割合は、80重量%以上であると好
ましい。また、反射膜として、銀を主成分とする金属合
金を用いると、その反射率を非常に高くすることができ
る。この際、金属合金における銀の割合は、80重量%
以上であると好ましい。
【0030】また、第2の基板としては、ガラス等のほ
か、例えばプラスチックフィルム等の可撓性を有する基
板を用いることも可能である。このような可撓性を有す
る基板を用いると、反射膜を無電解メッキなどにより被
膜可能な金属、例えばニッケルを主成分とする金属合金
などを用いることもできる。
か、例えばプラスチックフィルム等の可撓性を有する基
板を用いることも可能である。このような可撓性を有す
る基板を用いると、反射膜を無電解メッキなどにより被
膜可能な金属、例えばニッケルを主成分とする金属合金
などを用いることもできる。
【0031】ここで第1の発明において、反射膜として
用いられる金属が、着色層を形成する際に、薬液やガス
などによりダメージを受ける可能性がある場合には、前
記反射膜の表面を少なくとも覆う第2の膜を、さらに備
える構成が好ましい。この構成において、第2の膜は、
反射膜の反射率を著しく低下させない範囲内であること
が望ましい。なお、第1の発明では、着色層が実質的に
反射膜を保護しているので、この第2の膜は、着色層の
形成する際にさらされる薬液やガス等に対して耐性を有
していれば充分である。例えば、反射膜に印刷法や染色
法などで着色層を形成する場合には、第2の膜は、特別
に必要ではないが、感光性カラーレジストを用いた着色
感材法で着色層を形成する場合には、使用する材料によ
っては、強アルカリ性の現像液が用いられるときもある
ため、現像液と反射膜に用いられる金属との組み合わせ
に応じて、第2の膜を設けて、反射膜の表面を覆う構成
とする方が好ましい。
用いられる金属が、着色層を形成する際に、薬液やガス
などによりダメージを受ける可能性がある場合には、前
記反射膜の表面を少なくとも覆う第2の膜を、さらに備
える構成が好ましい。この構成において、第2の膜は、
反射膜の反射率を著しく低下させない範囲内であること
が望ましい。なお、第1の発明では、着色層が実質的に
反射膜を保護しているので、この第2の膜は、着色層の
形成する際にさらされる薬液やガス等に対して耐性を有
していれば充分である。例えば、反射膜に印刷法や染色
法などで着色層を形成する場合には、第2の膜は、特別
に必要ではないが、感光性カラーレジストを用いた着色
感材法で着色層を形成する場合には、使用する材料によ
っては、強アルカリ性の現像液が用いられるときもある
ため、現像液と反射膜に用いられる金属との組み合わせ
に応じて、第2の膜を設けて、反射膜の表面を覆う構成
とする方が好ましい。
【0032】ただし、反射膜として、アルミニウム合金
や銀合金等を用いると、第2の膜を不要とすることがで
きる場合がある。例えば、反射膜として、ネオジウムを
1重量%含むアルミニウム合金を用いると、耐蝕性が向
上するため、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混
合水溶液や、テトラメチルアンモニウム水酸化物の水溶
液などを用いた一般的組成の現像液に対しては、反射率
の低下を招くようなダメージは受けにくくなるので、反
射膜の表面を覆う第2の膜を設ける必要をなくすること
ができる。
や銀合金等を用いると、第2の膜を不要とすることがで
きる場合がある。例えば、反射膜として、ネオジウムを
1重量%含むアルミニウム合金を用いると、耐蝕性が向
上するため、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混
合水溶液や、テトラメチルアンモニウム水酸化物の水溶
液などを用いた一般的組成の現像液に対しては、反射率
の低下を招くようなダメージは受けにくくなるので、反
射膜の表面を覆う第2の膜を設ける必要をなくすること
ができる。
【0033】また例えば、反射膜として、ネオジウムを
3重量%含むアルミニウム合金や、ネオジウムを3重量
%とチタン(Ti)を3重量%とを含むアルミニウム合
金等を用いると、耐蝕性がより向上するため、第2の膜
を設ける必要がなくなる。
3重量%含むアルミニウム合金や、ネオジウムを3重量
%とチタン(Ti)を3重量%とを含むアルミニウム合
金等を用いると、耐蝕性がより向上するため、第2の膜
を設ける必要がなくなる。
【0034】さて、第2の透明電極は、ガラスや樹脂材
料という異なる特性を持つ表面に形成する必要があるの
で、これらの表面に対して、ある程度の密着性を確保す
る必要がある。そこで、第1の発明において、前記第2
の透明電極は、密着性を高める第3の膜上に形成されて
いる構成が望ましい。このような第3の膜としては、S
iO2に代表される無機酸化膜が挙げられ、特に、スパ
ッタ法などによってSiO2と、第2の透明電極として
のITOを連続形成するのが望ましい。
料という異なる特性を持つ表面に形成する必要があるの
で、これらの表面に対して、ある程度の密着性を確保す
る必要がある。そこで、第1の発明において、前記第2
の透明電極は、密着性を高める第3の膜上に形成されて
いる構成が望ましい。このような第3の膜としては、S
iO2に代表される無機酸化膜が挙げられ、特に、スパ
ッタ法などによってSiO2と、第2の透明電極として
のITOを連続形成するのが望ましい。
【0035】ところで、第1の発明にあって、反射膜に
第1の開口部を備える構成においては、前記着色層を覆
うように形成された第4の膜と、前記遮光膜の開口領域
にあって、前記着色層を開口する第2の開口部とをさら
に備える構成が好ましい。これにより反射型表示と透過
型表示とにおける色再現性をそれぞれ最適化することが
可能となる。
第1の開口部を備える構成においては、前記着色層を覆
うように形成された第4の膜と、前記遮光膜の開口領域
にあって、前記着色層を開口する第2の開口部とをさら
に備える構成が好ましい。これにより反射型表示と透過
型表示とにおける色再現性をそれぞれ最適化することが
可能となる。
【0036】あるいは、第1の発明において、単に、前
記着色層を覆うように形成された第4の膜を、さらに備
える構成が好ましい。この第4の膜によって、遮光膜の
開口領域の有無や、着色層などに起因する段差、さらに
は、反射膜に第1の開口部がある場合にも、それによる
段差等が平坦化されるので、表示品位の低下を防止する
ことができる。
記着色層を覆うように形成された第4の膜を、さらに備
える構成が好ましい。この第4の膜によって、遮光膜の
開口領域の有無や、着色層などに起因する段差、さらに
は、反射膜に第1の開口部がある場合にも、それによる
段差等が平坦化されるので、表示品位の低下を防止する
ことができる。
【0037】ここで、前記第4の膜は、光散乱性を有す
る構成が好ましい。この構成によれば、第4の膜自体が
散乱層となるため、別途散乱層を設ける必要がなくなる
結果、工程数を減らして低コストを図ることが可能とな
る。
る構成が好ましい。この構成によれば、第4の膜自体が
散乱層となるため、別途散乱層を設ける必要がなくなる
結果、工程数を減らして低コストを図ることが可能とな
る。
【0038】このような第4の膜としては、樹脂材料中
に、該樹脂材料とは屈折率が異なり、かつ、前記第4の
膜厚よりも直径が小さい粒子を含む構成が考えられる。
これにより、平坦性と散乱性とを両立した反射膜を得る
ことができる。
に、該樹脂材料とは屈折率が異なり、かつ、前記第4の
膜厚よりも直径が小さい粒子を含む構成が考えられる。
これにより、平坦性と散乱性とを両立した反射膜を得る
ことができる。
【0039】第4の膜における樹脂材料として、アクリ
ル樹脂やポリイミド樹脂などが挙げられ、また、粒子と
して、ガラスビーズなどの無機粒子やポリスチレン球な
どの有機ポリマー粒子などが挙げられる。そして、樹脂
材料の膜厚や、屈折率差、粒子径、粒子の分散度などに
より、散乱特性をコントロールすることが可能である。
ル樹脂やポリイミド樹脂などが挙げられ、また、粒子と
して、ガラスビーズなどの無機粒子やポリスチレン球な
どの有機ポリマー粒子などが挙げられる。そして、樹脂
材料の膜厚や、屈折率差、粒子径、粒子の分散度などに
より、散乱特性をコントロールすることが可能である。
【0040】この際、光散乱特性においてはヘイズ値が
40〜90%の範囲内にあり、屈折率差が0.05〜
0.12の範囲内であることが望ましい。例えば樹脂材
料として考えられる材料の屈折率は、PMMA(ポリメ
チルメタクリレート)が1.50前後であり、ポリイミ
ド樹脂が1.60〜1.65前後である一方、粒子とし
て考えられる材料の屈折率は、PTFE(4−フッ化エ
チレン)が1.35前後であり、PVDF(フッ化ビニ
リデン)が1.42前後であり、LF1光学ガラスが
1.57前後、スチレンが1.59前後、F2光学ガラ
スが1.62前後、SF2光学ガラスが1.65などの
値を有している。このため、これらを適宜組み合わせる
ことで、所望の散乱機能を得ることが可能となる。な
お、ここで挙げた材料の屈折率は、その製法や形態によ
って異なる値となり得る。また、これらは利用可能な材
料の一部であり、第1の発明はこれに限定されることな
く、さまざまな特性を有する材料を組み合わせて使用可
能であるのは言うまでもない。
40〜90%の範囲内にあり、屈折率差が0.05〜
0.12の範囲内であることが望ましい。例えば樹脂材
料として考えられる材料の屈折率は、PMMA(ポリメ
チルメタクリレート)が1.50前後であり、ポリイミ
ド樹脂が1.60〜1.65前後である一方、粒子とし
て考えられる材料の屈折率は、PTFE(4−フッ化エ
チレン)が1.35前後であり、PVDF(フッ化ビニ
リデン)が1.42前後であり、LF1光学ガラスが
1.57前後、スチレンが1.59前後、F2光学ガラ
スが1.62前後、SF2光学ガラスが1.65などの
値を有している。このため、これらを適宜組み合わせる
ことで、所望の散乱機能を得ることが可能となる。な
お、ここで挙げた材料の屈折率は、その製法や形態によ
って異なる値となり得る。また、これらは利用可能な材
料の一部であり、第1の発明はこれに限定されることな
く、さまざまな特性を有する材料を組み合わせて使用可
能であるのは言うまでもない。
【0041】さて、第1の発明において、前記反射膜
は、粗面に形成されている構成が望ましい。この構成に
よっても、第2の基板側で散乱特性を持つことになるた
め、別途散乱層を設ける必要がなくなる結果、工程数を
減らして低コストを図ることが可能となる。さらに、第
4の膜によって、粗面が平坦化されるので、粗面に起因
する段差によって表示品位の低下を防止することができ
る。例えば、反射膜に良好な散乱特性を持たせるため
に、0.3μm〜1.5μmの差を有する山と谷を多数
設けて粗面とした場合、その形状により、部分的に液晶
層の厚みや液晶分子のプレティルト角が変化してしまう
ため、良好な表示特性が得られない可能性があるが、こ
の構成では、第4の膜により平坦化されるので、第2の
透明電極の平坦性を確保することができる。この構成
は、100度以下のツイスト角を有するTN(Twisted
Nematic)モードに対しても有効であるが、特に、液晶
層の厚みに対して高い精度が要求されるSTNモードと
の組み合わせにおいて有効である。
は、粗面に形成されている構成が望ましい。この構成に
よっても、第2の基板側で散乱特性を持つことになるた
め、別途散乱層を設ける必要がなくなる結果、工程数を
減らして低コストを図ることが可能となる。さらに、第
4の膜によって、粗面が平坦化されるので、粗面に起因
する段差によって表示品位の低下を防止することができ
る。例えば、反射膜に良好な散乱特性を持たせるため
に、0.3μm〜1.5μmの差を有する山と谷を多数
設けて粗面とした場合、その形状により、部分的に液晶
層の厚みや液晶分子のプレティルト角が変化してしまう
ため、良好な表示特性が得られない可能性があるが、こ
の構成では、第4の膜により平坦化されるので、第2の
透明電極の平坦性を確保することができる。この構成
は、100度以下のツイスト角を有するTN(Twisted
Nematic)モードに対しても有効であるが、特に、液晶
層の厚みに対して高い精度が要求されるSTNモードと
の組み合わせにおいて有効である。
【0042】ここで、前記粗面は、前記第2の基板にお
ける前記液晶層側の面に形成された樹脂材料の表面であ
る構成が考えられる。このような樹脂材料としては、ア
クリル系やポリイミド系などの感光性樹脂などが有用で
ある。これらの樹脂材料は、耐熱性が高いので、反射膜
や、着色層、第2の透明電極などの形成プロセスに対し
て充分な耐性を有している。なお、感光性についてはネ
ガタイプでもポジタイプでも構わない。また、粗面の形
成については、多数の山および谷を有する面の金型を、
樹脂材料を塗布した面に密着させ、圧力をかけて、当該
面の形状を樹脂材料の表面に転写する、というプレス法
を用いることもできる。
ける前記液晶層側の面に形成された樹脂材料の表面であ
る構成が考えられる。このような樹脂材料としては、ア
クリル系やポリイミド系などの感光性樹脂などが有用で
ある。これらの樹脂材料は、耐熱性が高いので、反射膜
や、着色層、第2の透明電極などの形成プロセスに対し
て充分な耐性を有している。なお、感光性についてはネ
ガタイプでもポジタイプでも構わない。また、粗面の形
成については、多数の山および谷を有する面の金型を、
樹脂材料を塗布した面に密着させ、圧力をかけて、当該
面の形状を樹脂材料の表面に転写する、というプレス法
を用いることもできる。
【0043】また、前記粗面は、前記第2の基板におけ
る前記液晶層側の面を粗面化処理した構成も考えられ
る。この粗面化処理としては、粒子を分散させたゾルゲ
ル溶液を塗布焼成する方法や、基板表面を不均一にエッ
チングする方法などが挙げられる。特に、第2の基板が
ガラス基板である場合、その基板表面に酸化膜を形成し
た後に、酸化膜の不均一な組成によって不均一にエッチ
ングする第1の方法や、基板自体に含有されるアルミニ
ウムや、ボロン、ナトリウムなどの濃度が高い部分を溶
解させるエッチング液により不均一にエッチングする第
2の方法、基板の組成物を過飽和としたフッ化水素酸水
溶液に浸漬することにより組成物を析出させるLPD
(Liquid Phase Deposition)法により不均一にエッチ
ングする第3の方法などを用いることができる。これら
のうち、第2および第3の方法は、塗布工程や、スパッ
タ工程を要さず、薬液に浸漬するだけで良いため、低コ
スト化の面で有利である。
る前記液晶層側の面を粗面化処理した構成も考えられ
る。この粗面化処理としては、粒子を分散させたゾルゲ
ル溶液を塗布焼成する方法や、基板表面を不均一にエッ
チングする方法などが挙げられる。特に、第2の基板が
ガラス基板である場合、その基板表面に酸化膜を形成し
た後に、酸化膜の不均一な組成によって不均一にエッチ
ングする第1の方法や、基板自体に含有されるアルミニ
ウムや、ボロン、ナトリウムなどの濃度が高い部分を溶
解させるエッチング液により不均一にエッチングする第
2の方法、基板の組成物を過飽和としたフッ化水素酸水
溶液に浸漬することにより組成物を析出させるLPD
(Liquid Phase Deposition)法により不均一にエッチ
ングする第3の方法などを用いることができる。これら
のうち、第2および第3の方法は、塗布工程や、スパッ
タ工程を要さず、薬液に浸漬するだけで良いため、低コ
スト化の面で有利である。
【0044】そして、このような第1の発明に係る液晶
装置を備える電子機器では、明るくて表示品位が高い反
射型表示が可能である一方、必要に応じて透過型表示が
可能となるので、どのような環境下でも視認性に優れる
ことになる。
装置を備える電子機器では、明るくて表示品位が高い反
射型表示が可能である一方、必要に応じて透過型表示が
可能となるので、どのような環境下でも視認性に優れる
ことになる。
【0045】さて、上記目的は、第1の発明に係る液晶
装置のうちの、第2の基板側でも達成することが可能で
ある。すなわち、本件の第2の発明に係る液晶装置用基
板にあっては、液晶層を挟持する一対の基板のうち、観
察側とは反対側に位置する液晶装置用基板であって、前
記液晶層側の面に形成されて、少なくとも観察側から入
射する光を反射する反射膜と、前記液晶層側の面に形成
されて、反射膜に対して開口する開口領域を有する遮光
膜と、前記液晶層側の面にあって、前記遮光膜を覆うよ
うに形成される着色層と、前記着色層上に形成された透
明電極とを具備することを特徴としている。
装置のうちの、第2の基板側でも達成することが可能で
ある。すなわち、本件の第2の発明に係る液晶装置用基
板にあっては、液晶層を挟持する一対の基板のうち、観
察側とは反対側に位置する液晶装置用基板であって、前
記液晶層側の面に形成されて、少なくとも観察側から入
射する光を反射する反射膜と、前記液晶層側の面に形成
されて、反射膜に対して開口する開口領域を有する遮光
膜と、前記液晶層側の面にあって、前記遮光膜を覆うよ
うに形成される着色層と、前記着色層上に形成された透
明電極とを具備することを特徴としている。
【0046】この第2の発明によれば、観察側に位置す
る基板と貼り合わせられることによって、液晶層が、同
種の透明電極によって挟持できるので、液晶装置の表示
品位や長期信頼性が低下することがない。また、反射膜
上には、遮光膜および着色層が形成されるので、反射膜
反射膜へのダメージを抑えることができる。さらに、着
色層が遮光膜を覆うように形成されているので、遮光膜
での表面反射が抑えられるだけでなく、遮光膜に要求さ
れる光学濃度も小さくて済む。
る基板と貼り合わせられることによって、液晶層が、同
種の透明電極によって挟持できるので、液晶装置の表示
品位や長期信頼性が低下することがない。また、反射膜
上には、遮光膜および着色層が形成されるので、反射膜
反射膜へのダメージを抑えることができる。さらに、着
色層が遮光膜を覆うように形成されているので、遮光膜
での表面反射が抑えられるだけでなく、遮光膜に要求さ
れる光学濃度も小さくて済む。
【0047】ここで、第2の発明において、前記遮光膜
の開口領域内にあって、前記反射膜に光を透過する第1
の開口部を備える構成が望ましい。この構成では、反射
膜が電極として機能しないので、すなわち、反射膜の第
1の開口部であっても透明電極によって液晶層が駆動さ
れるので、当該開口部を透過する光による透過型表示が
可能となり、さらに、透過型表示において光は、遮光膜
の開口領域ではなく、反射膜に設けられる第1の開口部
によって規定されるので、遮光膜に要求される光学濃度
を、反射型表示のみを考慮して設定すれば良いことにな
る。
の開口領域内にあって、前記反射膜に光を透過する第1
の開口部を備える構成が望ましい。この構成では、反射
膜が電極として機能しないので、すなわち、反射膜の第
1の開口部であっても透明電極によって液晶層が駆動さ
れるので、当該開口部を透過する光による透過型表示が
可能となり、さらに、透過型表示において光は、遮光膜
の開口領域ではなく、反射膜に設けられる第1の開口部
によって規定されるので、遮光膜に要求される光学濃度
を、反射型表示のみを考慮して設定すれば良いことにな
る。
【0048】また、第2の発明において、前記反射膜と
前記液晶層側の面との間に第1の膜を、さらに備える構
成が好ましい。この構成によれば、反射膜に用いられる
金属と第2の基板表面との密着性が劣るような組み合わ
せであっても、第1の膜により、反射膜の密着性を向上
させることが可能となる。
前記液晶層側の面との間に第1の膜を、さらに備える構
成が好ましい。この構成によれば、反射膜に用いられる
金属と第2の基板表面との密着性が劣るような組み合わ
せであっても、第1の膜により、反射膜の密着性を向上
させることが可能となる。
【0049】さて、第2の発明において、前記遮光膜
は、黒色の樹脂材料からなり、その光学濃度が、0.5
以上1.7以下である構成が好ましい。この構成によれ
ば、遮光膜に黒色樹脂材料を用いても、基板の平坦性が
悪化することがないし、開口率が低下することもない。
は、黒色の樹脂材料からなり、その光学濃度が、0.5
以上1.7以下である構成が好ましい。この構成によれ
ば、遮光膜に黒色樹脂材料を用いても、基板の平坦性が
悪化することがないし、開口率が低下することもない。
【0050】一方、第2の発明において、前記遮光膜
は、前記着色層が2色以上積層されてなり、その光学濃
度が、0.5以上1.7以下である構成も好ましい。こ
の構成では、遮光膜として別個の層を設ける必要がなく
なるので、低コスト化を図ることが可能となる。
は、前記着色層が2色以上積層されてなり、その光学濃
度が、0.5以上1.7以下である構成も好ましい。こ
の構成では、遮光膜として別個の層を設ける必要がなく
なるので、低コスト化を図ることが可能となる。
【0051】また、第2の発明において、前記反射膜の
表面を少なくとも覆う第2の膜を、さらに備える構成が
好ましい。この構成によれば、反射膜として用いられる
金属が、着色層を形成する際において薬液やガスなどに
直接さらされないので、ダメージを受けないようにする
ことができる。
表面を少なくとも覆う第2の膜を、さらに備える構成が
好ましい。この構成によれば、反射膜として用いられる
金属が、着色層を形成する際において薬液やガスなどに
直接さらされないので、ダメージを受けないようにする
ことができる。
【0052】さて、第2の発明において、前記透明電極
は、密着性を高める第3の膜上に形成されている構成が
好ましい。この構成によれば、透明電極が、ガラスや樹
脂材料などのように、それとは異なる特性を有する表面
に対し、密着性を確保した上で形成することが可能とな
る。
は、密着性を高める第3の膜上に形成されている構成が
好ましい。この構成によれば、透明電極が、ガラスや樹
脂材料などのように、それとは異なる特性を有する表面
に対し、密着性を確保した上で形成することが可能とな
る。
【0053】ところで、第2の発明にあって、反射膜に
第1の開口部を備える構成においては、前記着色層を覆
うように形成された第4の膜と、前記遮光膜の開口領域
にあって、前記着色層を開口する第2の開口部とをさら
に備える構成が好ましい。これにより反射型表示と透過
型表示とにおける色再現性をそれぞれ最適化することが
可能となる。
第1の開口部を備える構成においては、前記着色層を覆
うように形成された第4の膜と、前記遮光膜の開口領域
にあって、前記着色層を開口する第2の開口部とをさら
に備える構成が好ましい。これにより反射型表示と透過
型表示とにおける色再現性をそれぞれ最適化することが
可能となる。
【0054】あるいは、第2の発明において、単に、前
記着色層を覆うように形成された第4の膜を、さらに備
える構成が好ましい。この第4の膜によって、遮光膜の
開口領域の有無や、着色層などに起因する段差、さらに
は、反射膜に第1の開口部がある場合にも、それによる
段差等が平坦化されるので、表示品位の低下を防止する
ことができる。
記着色層を覆うように形成された第4の膜を、さらに備
える構成が好ましい。この第4の膜によって、遮光膜の
開口領域の有無や、着色層などに起因する段差、さらに
は、反射膜に第1の開口部がある場合にも、それによる
段差等が平坦化されるので、表示品位の低下を防止する
ことができる。
【0055】ここで、前記第4の膜は、光散乱性を有す
る構成が望ましい。この構成によれば、第4の膜自体が
散乱層となるため、別途散乱層を設ける必要がなくなる
結果、工程数を減らして低コストを図ることが可能とな
る。
る構成が望ましい。この構成によれば、第4の膜自体が
散乱層となるため、別途散乱層を設ける必要がなくなる
結果、工程数を減らして低コストを図ることが可能とな
る。
【0056】このような第4の膜としては、樹脂材料中
に、該樹脂材料とは屈折率が異なり、かつ、前記第4の
膜厚よりも直径が小さい粒子を含む構成が考えられる。
これにより、平坦性と散乱性を両立した反射膜を得るこ
とができる。
に、該樹脂材料とは屈折率が異なり、かつ、前記第4の
膜厚よりも直径が小さい粒子を含む構成が考えられる。
これにより、平坦性と散乱性を両立した反射膜を得るこ
とができる。
【0057】また、第2の発明において、前記反射膜
は、前記液晶層側の粗面に形成されている構成も好まし
い。この構成によっても、この基板自体で散乱特性を持
つことになるため、別途散乱層を設ける必要がなくなる
結果、工程数を減らして低コストを図ることが可能とな
る。さらに、第4の膜によって、粗面が平坦化されるの
で、粗面に起因する段差によって表示品位の低下を防止
することができる。
は、前記液晶層側の粗面に形成されている構成も好まし
い。この構成によっても、この基板自体で散乱特性を持
つことになるため、別途散乱層を設ける必要がなくなる
結果、工程数を減らして低コストを図ることが可能とな
る。さらに、第4の膜によって、粗面が平坦化されるの
で、粗面に起因する段差によって表示品位の低下を防止
することができる。
【0058】ここで、前記粗面は、前記液晶層側の面に
形成された樹脂材料の表面である構成や、前記液晶層側
の面を粗面化処理した構成などが考えられる。
形成された樹脂材料の表面である構成や、前記液晶層側
の面を粗面化処理した構成などが考えられる。
【0059】本発明の液晶装置は、第1の基板の側に形
成された第1の透明電極と第2の基板の側に形成された
第2の透明電極との間で液晶層を挟持してなる液晶装置
であって、前記第2の基板における前記液晶層側の面上
に形成されて、少なくとも前記第1の基板側から入射す
る光を反射する反射膜と、前記第2の基板における前記
液晶層側の面上であって前記反射膜上に形成されるとと
もに、前記第1および第2の透明電極が平面的にみて互
いに重なる画素領域に対応した開口領域を有する遮光膜
と、前記遮光膜の開口領域内において前記反射膜上に形
成された着色層と、前記着色層を覆うように形成された
保護膜と、前記保護膜上および前記保護膜の形成されて
いない前記第2の基板上に形成された密着性向上層と、
を具備し、前記第2の透明電極は、前記保護膜上に位置
する前記密着性向上層上および前記保護膜の形成されて
いない前記第2の基板上に位置する前記密着性向上層上
に形成されていることを特徴とする。
成された第1の透明電極と第2の基板の側に形成された
第2の透明電極との間で液晶層を挟持してなる液晶装置
であって、前記第2の基板における前記液晶層側の面上
に形成されて、少なくとも前記第1の基板側から入射す
る光を反射する反射膜と、前記第2の基板における前記
液晶層側の面上であって前記反射膜上に形成されるとと
もに、前記第1および第2の透明電極が平面的にみて互
いに重なる画素領域に対応した開口領域を有する遮光膜
と、前記遮光膜の開口領域内において前記反射膜上に形
成された着色層と、前記着色層を覆うように形成された
保護膜と、前記保護膜上および前記保護膜の形成されて
いない前記第2の基板上に形成された密着性向上層と、
を具備し、前記第2の透明電極は、前記保護膜上に位置
する前記密着性向上層上および前記保護膜の形成されて
いない前記第2の基板上に位置する前記密着性向上層上
に形成されていることを特徴とする。
【0060】また、本発明の液晶装置は、第1の基板の
側に形成された第1の透明電極と第2の基板の側に形成
された第2の透明電極との間で液晶層を挟持してなる液
晶装置であって、前記第2の基板における前記液晶層側
の面上に形成された着色層と、前記着色層を覆うように
形成された保護膜と、前記保護膜上および前記保護膜の
形成されていない前記第2の基板上に形成された密着性
向上層と、を具備し、前記第2の透明電極は、前記保護
膜上に形成された前記密着性向上層上および前記保護膜
の形成されていない前記第2の基板上に形成された前記
密着性向上層上に形成されていることを特徴とする。
側に形成された第1の透明電極と第2の基板の側に形成
された第2の透明電極との間で液晶層を挟持してなる液
晶装置であって、前記第2の基板における前記液晶層側
の面上に形成された着色層と、前記着色層を覆うように
形成された保護膜と、前記保護膜上および前記保護膜の
形成されていない前記第2の基板上に形成された密着性
向上層と、を具備し、前記第2の透明電極は、前記保護
膜上に形成された前記密着性向上層上および前記保護膜
の形成されていない前記第2の基板上に形成された前記
密着性向上層上に形成されていることを特徴とする。
【0061】また、前記第1の基板および前記第2の基
板の間に配置されるとともに、前記液晶層を封止するシ
ール材を更に備え、前記保護膜の端縁は、前記シール材
によって前記液晶層が封止された領域内に位置している
ことが好ましい。
板の間に配置されるとともに、前記液晶層を封止するシ
ール材を更に備え、前記保護膜の端縁は、前記シール材
によって前記液晶層が封止された領域内に位置している
ことが好ましい。
【0062】また、前記密着性向上層は無機酸化物を含
むことが好ましい。また、前記保護膜は樹脂材料を含む
ことが好ましい。
むことが好ましい。また、前記保護膜は樹脂材料を含む
ことが好ましい。
【0063】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための形
態について図面を参照して説明する。
態について図面を参照して説明する。
【0064】<第1の実施形態>はじめに、本発明の第
1の実施形態に係る反射型の液晶装置について説明す
る。なお、便宜上、第1に、この液晶装置の概略構成に
ついて図1を参照して説明し、第2に、この液晶装置に
おける一対の基板のうち、背面側(観察側とは反対側)
に位置する基板に適用可能な態様について図2〜図6を
参照して説明し、第3に、各態様における遮光膜の位置
関係について図7〜図9を参照して説明し、第4に、応
用例・変形例について説明することとする。
1の実施形態に係る反射型の液晶装置について説明す
る。なお、便宜上、第1に、この液晶装置の概略構成に
ついて図1を参照して説明し、第2に、この液晶装置に
おける一対の基板のうち、背面側(観察側とは反対側)
に位置する基板に適用可能な態様について図2〜図6を
参照して説明し、第3に、各態様における遮光膜の位置
関係について図7〜図9を参照して説明し、第4に、応
用例・変形例について説明することとする。
【0065】まず、この液晶装置の概略構成について説
明する。図1は、その概略断面図である。この図に示さ
れるように、この液晶装置では、それぞれ透明性および
絶縁性を有する上側の基板(第1の基板)および下側の
基板(第2の基板)101の間に、所定のツイスト角を
有するネマチック液晶である液晶層58が枠状のシール
材59によって封止されて、これにより液晶セルが形成
されている。ここで、上側の基板101の内面上には、
ITOなどの透明性を有する導電層からなるストライプ
状の電極(第1の透明電極)110が、紙面垂直方向に
複数形成され、さらに、それらの表面には、配向膜11
2が形成されて、所定方向にラビング処理されている。
一方、基板101の外面上には、基板101の側から順
に、前方散乱板121、位相差板123および偏光板1
25が配置されている。
明する。図1は、その概略断面図である。この図に示さ
れるように、この液晶装置では、それぞれ透明性および
絶縁性を有する上側の基板(第1の基板)および下側の
基板(第2の基板)101の間に、所定のツイスト角を
有するネマチック液晶である液晶層58が枠状のシール
材59によって封止されて、これにより液晶セルが形成
されている。ここで、上側の基板101の内面上には、
ITOなどの透明性を有する導電層からなるストライプ
状の電極(第1の透明電極)110が、紙面垂直方向に
複数形成され、さらに、それらの表面には、配向膜11
2が形成されて、所定方向にラビング処理されている。
一方、基板101の外面上には、基板101の側から順
に、前方散乱板121、位相差板123および偏光板1
25が配置されている。
【0066】また、下側の基板1の内面上には、反射膜
2、保護膜3、遮光膜13、着色層4、保護膜6、密着
性向上層5および電極7が順次形成されている。これら
の詳細については詳述するが、電極(第2の透明電極)
7は、上側の基板101に形成される電極110と同一
材料、すなわちITOなどの透明性を有する導電層から
なり、電極110と交差するように紙面左右方向に、ス
トライプ状に複数形成されたものである。したがって、
この液晶装置では、電極7、110が互い交差する領域
が設計上の画素となる。領域9は、この設計上の画素が
配列する領域、すなわち表示領域を示している。
2、保護膜3、遮光膜13、着色層4、保護膜6、密着
性向上層5および電極7が順次形成されている。これら
の詳細については詳述するが、電極(第2の透明電極)
7は、上側の基板101に形成される電極110と同一
材料、すなわちITOなどの透明性を有する導電層から
なり、電極110と交差するように紙面左右方向に、ス
トライプ状に複数形成されたものである。したがって、
この液晶装置では、電極7、110が互い交差する領域
が設計上の画素となる。領域9は、この設計上の画素が
配列する領域、すなわち表示領域を示している。
【0067】一方、反射膜2は、例えばアルミニウムや
銀などの反射性を有する金属層からなり、上側の基板1
01から入射した光を反射するものである。次に、保護
膜(第2の膜)3は、後述するように反射膜2の性質に
応じて形成されるものである。また、遮光膜13は、黒
色材料樹脂やクロムなどの遮光性材料からなり、電極
7、101の交差領域に対応して開口するものである。
さらに、着色層4は、遮光膜13の開口領域において、
例えばR(赤)、G(緑)、B(青)の3色が所定パタ
ーンで配列されたものである。続いて、保護膜(第4の
膜)6は、着色層4や遮光膜13などによる段差を平坦
化する機能と、着色層4とともに反射膜2を保護する機
能とを兼用するものである。次に、密着性向上層(第3
の膜)5は、保護膜6の表面を含む全面に形成されて、
電極7の密着性を高めるために設けられるものであり、
SiO2のような無機酸化膜からなる。そして、密着向
上層5や電極7の表面には、配向膜11が形成されて、
所定方向にラビング処理が施されている。
銀などの反射性を有する金属層からなり、上側の基板1
01から入射した光を反射するものである。次に、保護
膜(第2の膜)3は、後述するように反射膜2の性質に
応じて形成されるものである。また、遮光膜13は、黒
色材料樹脂やクロムなどの遮光性材料からなり、電極
7、101の交差領域に対応して開口するものである。
さらに、着色層4は、遮光膜13の開口領域において、
例えばR(赤)、G(緑)、B(青)の3色が所定パタ
ーンで配列されたものである。続いて、保護膜(第4の
膜)6は、着色層4や遮光膜13などによる段差を平坦
化する機能と、着色層4とともに反射膜2を保護する機
能とを兼用するものである。次に、密着性向上層(第3
の膜)5は、保護膜6の表面を含む全面に形成されて、
電極7の密着性を高めるために設けられるものであり、
SiO2のような無機酸化膜からなる。そして、密着向
上層5や電極7の表面には、配向膜11が形成されて、
所定方向にラビング処理が施されている。
【0068】このような構成において、外光は、偏光板
125、位相差板123、前方散乱板121、基板10
1、電極110、液晶層58、電極7、着色層4という
経路を介して反射膜2に至り、ここで反射して、今きた
経路を逆に辿って、偏光板125から観察側に出射す
る。このとき、偏光板125から出射する光量は、電極
7、110によって液晶層58に印加される電圧に応じ
て、明状態、暗状態およびその中間の明るさの状態とさ
れる。したがって、液晶層58への印加電圧を制御する
ことで、所望の表示が可能となる。
125、位相差板123、前方散乱板121、基板10
1、電極110、液晶層58、電極7、着色層4という
経路を介して反射膜2に至り、ここで反射して、今きた
経路を逆に辿って、偏光板125から観察側に出射す
る。このとき、偏光板125から出射する光量は、電極
7、110によって液晶層58に印加される電圧に応じ
て、明状態、暗状態およびその中間の明るさの状態とさ
れる。したがって、液晶層58への印加電圧を制御する
ことで、所望の表示が可能となる。
【0069】したがって、この液晶装置によれば、液晶
層58は、同じITOからなる電極7、110によって
挟持されるので、表示品位や長期信頼性が低下すること
がない。また、反射膜2上には、遮光膜13および着色
層4が形成されるので、反射膜2を露出させないように
することができる。このため、液晶装置の製造工程にお
いて、反射膜2が、薬液や、ガス、液晶層等にさらされ
ないので、反射膜2へのダメージを抑えることができ
る。さらに、着色層4が遮光膜13を覆うように形成さ
れているので、遮光膜13での表面反射が抑えられるだ
けでなく、遮光膜13に要求される光学濃度も小さくて
済む。特に反射型表示において光は遮光膜を2回通過す
ることになるので、遮光膜13の実質的な光学濃度は小
さくて済む。
層58は、同じITOからなる電極7、110によって
挟持されるので、表示品位や長期信頼性が低下すること
がない。また、反射膜2上には、遮光膜13および着色
層4が形成されるので、反射膜2を露出させないように
することができる。このため、液晶装置の製造工程にお
いて、反射膜2が、薬液や、ガス、液晶層等にさらされ
ないので、反射膜2へのダメージを抑えることができ
る。さらに、着色層4が遮光膜13を覆うように形成さ
れているので、遮光膜13での表面反射が抑えられるだ
けでなく、遮光膜13に要求される光学濃度も小さくて
済む。特に反射型表示において光は遮光膜を2回通過す
ることになるので、遮光膜13の実質的な光学濃度は小
さくて済む。
【0070】なお、この液晶装置は、パッシブマトリク
ス方式であるが、本発明は、これに限定されず、TFT
(Thin Film Transistor)素子で代表される三端子型ス
イッチング素子や、TFD(Thin Film Diode)素子で
代表される二端子型スイッチング素子などを用いたアク
ティブマトリクス方式の液晶装置にも適用可能である。
ここで、アクティブマトリクス型の液晶装置である場合
には、電極110は、例えば矩形状の画素電極として形
成され、スイッチング素子を介して配線に接続されるこ
とになる。このうち、TFD素子を備える液晶装置で
は、画素電極と対向するように、電極7をストライプ状
にパターニングする必要があるが、TFT素子を備える
液晶装置では、電極7をパターニングする必要がない。
ス方式であるが、本発明は、これに限定されず、TFT
(Thin Film Transistor)素子で代表される三端子型ス
イッチング素子や、TFD(Thin Film Diode)素子で
代表される二端子型スイッチング素子などを用いたアク
ティブマトリクス方式の液晶装置にも適用可能である。
ここで、アクティブマトリクス型の液晶装置である場合
には、電極110は、例えば矩形状の画素電極として形
成され、スイッチング素子を介して配線に接続されるこ
とになる。このうち、TFD素子を備える液晶装置で
は、画素電極と対向するように、電極7をストライプ状
にパターニングする必要があるが、TFT素子を備える
液晶装置では、電極7をパターニングする必要がない。
【0071】ところで、本実施形態において、下側の基
板1の内面構造は、図1に示されるものに限られず、種
々の態様が適用可能である。そこで、これらの態様の詳
細について、配向膜11を省略した形で説明することと
する。
板1の内面構造は、図1に示されるものに限られず、種
々の態様が適用可能である。そこで、これらの態様の詳
細について、配向膜11を省略した形で説明することと
する。
【0072】図2は、この一態様の構成を示す概略断面
図である。まず、絶縁性および透明性を有するガラスな
どの基板1の内面側、すなわち、上側の基板101と対
向する面側には、アルミニウムを主成分とする反射膜2
が形成されている。この反射膜2は、液晶装置の表示領
域9を含むように、フォトリソグラフィー法などにより
パターニングされたものである。
図である。まず、絶縁性および透明性を有するガラスな
どの基板1の内面側、すなわち、上側の基板101と対
向する面側には、アルミニウムを主成分とする反射膜2
が形成されている。この反射膜2は、液晶装置の表示領
域9を含むように、フォトリソグラフィー法などにより
パターニングされたものである。
【0073】次に、パターニングされた反射膜2には、
黒色樹脂材料からなる遮光膜13が厚さ0.6μm程度
で形成され、さらに、樹脂材料からなる着色層4が、着
色感材法によって、例えばR(赤)、G(緑)、B
(青)の3色が所定パターンで配列されるとともに、遮
光膜13を含む反射膜2の全面を覆うように形成されて
いる。これにより、着色層4は、実質的に反射膜2の保
護膜としても機能することになる。
黒色樹脂材料からなる遮光膜13が厚さ0.6μm程度
で形成され、さらに、樹脂材料からなる着色層4が、着
色感材法によって、例えばR(赤)、G(緑)、B
(青)の3色が所定パターンで配列されるとともに、遮
光膜13を含む反射膜2の全面を覆うように形成されて
いる。これにより、着色層4は、実質的に反射膜2の保
護膜としても機能することになる。
【0074】この際、遮光膜4のみの光学濃度(Optica
l Density)は、1.4である。なお、光学濃度とは、
被測定物である遮光膜13の透過率の逆数を対数で示し
た値である。すなわち、光学濃度Dは、遮光膜13に入
射する光の強度をI0とし、遮光膜13を透過する光の
強度をIとした場合に、次式によって示される。
l Density)は、1.4である。なお、光学濃度とは、
被測定物である遮光膜13の透過率の逆数を対数で示し
た値である。すなわち、光学濃度Dは、遮光膜13に入
射する光の強度をI0とし、遮光膜13を透過する光の
強度をIとした場合に、次式によって示される。
【0075】D=log10(I0/I)
【0076】続いて、密着性向上層5と、透明金属であ
るITO膜とが連続形成され、このうち、ITO膜は、
適用する液晶装置に合わせてパターニングされて、電極
7となっている。このうち、密着性向上層5は、ITO
からなる電極7と樹脂材料からなる着色層4との密着性
を確保するために設けられた厚さ20〜80nm程度の
SiO2等の無機酸化膜である。このため、ITOが充
分な密着性を有する場合には、この密着性向上層5を省
略することが可能である。
るITO膜とが連続形成され、このうち、ITO膜は、
適用する液晶装置に合わせてパターニングされて、電極
7となっている。このうち、密着性向上層5は、ITO
からなる電極7と樹脂材料からなる着色層4との密着性
を確保するために設けられた厚さ20〜80nm程度の
SiO2等の無機酸化膜である。このため、ITOが充
分な密着性を有する場合には、この密着性向上層5を省
略することが可能である。
【0077】このような構成では、遮光膜13として、
黒色樹脂材料が用いられているので、これを、液晶装置
を構成する一対の基板のうち、背面側に位置する基板と
して用いると、その表面反射率が小さくなって、明るい
場所においてコントラスト比が低下することを防ぐこと
ができる。ここで、遮光膜13のみの光学濃度は1.4
であるが、遮光膜13を覆うように着色層4が設けら
れ、反射型表示において光は遮光膜13を2度通過する
ので、遮光膜13の実質的な光学濃度は、反射型表示に
おいて充分な2.8以上となる。
黒色樹脂材料が用いられているので、これを、液晶装置
を構成する一対の基板のうち、背面側に位置する基板と
して用いると、その表面反射率が小さくなって、明るい
場所においてコントラスト比が低下することを防ぐこと
ができる。ここで、遮光膜13のみの光学濃度は1.4
であるが、遮光膜13を覆うように着色層4が設けら
れ、反射型表示において光は遮光膜13を2度通過する
ので、遮光膜13の実質的な光学濃度は、反射型表示に
おいて充分な2.8以上となる。
【0078】さて、反射膜2としてアルミニウムを主成
分とする金属を用いる場合には、図3に示されるよう
に、反射膜2の表面を保護膜3で覆う構成としても良
い。ここで、保護膜3は、パターニングされた反射膜2
を陽極酸化することで形成されたものである。この陽極
酸化における化成溶液は、サリチル酸アンモニウム1〜
10重量%とエチレングリコール20〜80重量%とを
含有する混合溶液が用いられ、また、化成電圧は5〜2
50V、電流密度は0.001〜1mA/cm2の条件
の範囲内で、所望の膜厚が得られるように設定すれば良
い。なお、化成溶液としては、上記混合溶液に限定され
るものではなく、また、化成電圧や電流密度の各条件に
ついても、用いる化成液に合わせて適宜設定すればよ
い。
分とする金属を用いる場合には、図3に示されるよう
に、反射膜2の表面を保護膜3で覆う構成としても良
い。ここで、保護膜3は、パターニングされた反射膜2
を陽極酸化することで形成されたものである。この陽極
酸化における化成溶液は、サリチル酸アンモニウム1〜
10重量%とエチレングリコール20〜80重量%とを
含有する混合溶液が用いられ、また、化成電圧は5〜2
50V、電流密度は0.001〜1mA/cm2の条件
の範囲内で、所望の膜厚が得られるように設定すれば良
い。なお、化成溶液としては、上記混合溶液に限定され
るものではなく、また、化成電圧や電流密度の各条件に
ついても、用いる化成液に合わせて適宜設定すればよ
い。
【0079】一方、反射膜2としてはアルミニウムのほ
か、クロムや、ニッケル、銀などの単体金属やこれらの
いずれかを主成分とする合金を用いることが可能であ
る。これらのうち、特に、銀単体やこれを主成分とする
合金を反射膜2として用いると、反射率を高くすること
ができるが、陽極酸化が困難になるので、保護膜3の形
成には、例えば化学気相成長法や、スピンコート法、ロ
ールコート法等が用いられることになる。なお、保護膜
3としては、化学気相成長法によって成膜する場合に
は、SiO2や、Si3N4を用いることができ、ま
た、スピンコートやロールコート等により形成する場合
には、有機絶縁膜が用いられることになる。
か、クロムや、ニッケル、銀などの単体金属やこれらの
いずれかを主成分とする合金を用いることが可能であ
る。これらのうち、特に、銀単体やこれを主成分とする
合金を反射膜2として用いると、反射率を高くすること
ができるが、陽極酸化が困難になるので、保護膜3の形
成には、例えば化学気相成長法や、スピンコート法、ロ
ールコート法等が用いられることになる。なお、保護膜
3としては、化学気相成長法によって成膜する場合に
は、SiO2や、Si3N4を用いることができ、ま
た、スピンコートやロールコート等により形成する場合
には、有機絶縁膜が用いられることになる。
【0080】このように、保護膜3が、陽極酸化でない
方法で形成される場合には、図4に示されるように、反
射膜2の露出面だけではなく、基板1の内面全面に設け
られることになる。なお、反射膜2としてアルミニウム
を主成分とする金属を用いる場合でも、保護膜3として
は、化学気相成長法により成膜されたSiO2や、Si
3N4のほか、スピンコート法やロールコート法等によ
り形成された有機絶縁膜を用いて、図3に示されるよう
な構成としても良いのはもちろんである。
方法で形成される場合には、図4に示されるように、反
射膜2の露出面だけではなく、基板1の内面全面に設け
られることになる。なお、反射膜2としてアルミニウム
を主成分とする金属を用いる場合でも、保護膜3として
は、化学気相成長法により成膜されたSiO2や、Si
3N4のほか、スピンコート法やロールコート法等によ
り形成された有機絶縁膜を用いて、図3に示されるよう
な構成としても良いのはもちろんである。
【0081】また、液晶装置として、STNモードや、
IPS(In Plain Switching)モードが用いられる場
合、電極7の形成面には平坦性が要求されるので、この
ような場合には、図4における着色層4と密着性向上層
5との間に、図5に示されるように保護膜6を別途設け
た構成とするのが好ましい。この構成について詳述する
と、パターニングされた反射膜2に、化学気相成長法に
よって、厚さ60nmのSiO2からなる保護膜3が形
成されており、次いで、黒色樹脂材料からなる遮光膜1
3が形成されている。ここで、遮光膜13の厚さは、
0.4μm程度であり、図2乃至図4と比較して薄くな
っている。続いて、遮光膜13を含む反射膜2の全面を
覆うように形成された着色層4には、さらに、感光性ア
クリル樹脂などからなる保護膜6が、着色層4の全体を
覆い隠すように特定の領域に形成されている。
IPS(In Plain Switching)モードが用いられる場
合、電極7の形成面には平坦性が要求されるので、この
ような場合には、図4における着色層4と密着性向上層
5との間に、図5に示されるように保護膜6を別途設け
た構成とするのが好ましい。この構成について詳述する
と、パターニングされた反射膜2に、化学気相成長法に
よって、厚さ60nmのSiO2からなる保護膜3が形
成されており、次いで、黒色樹脂材料からなる遮光膜1
3が形成されている。ここで、遮光膜13の厚さは、
0.4μm程度であり、図2乃至図4と比較して薄くな
っている。続いて、遮光膜13を含む反射膜2の全面を
覆うように形成された着色層4には、さらに、感光性ア
クリル樹脂などからなる保護膜6が、着色層4の全体を
覆い隠すように特定の領域に形成されている。
【0082】このような構成では、遮光膜13が0.4
μm程度で薄いので、遮光膜13のみの光学濃度も、
0.9と小さくなっているが、遮光膜13を覆うように
着色層4および保護膜6が設けられ、さらに光は遮光膜
13を2度通過するので、遮光膜13の実質的な光学濃
度は、反射型表示において充分な1.8以上となる。さ
らに、遮光膜13を薄くすることにより、電極7の形成
面における平坦性を、表示領域9にあって0.1μm以
内に抑えることができる。
μm程度で薄いので、遮光膜13のみの光学濃度も、
0.9と小さくなっているが、遮光膜13を覆うように
着色層4および保護膜6が設けられ、さらに光は遮光膜
13を2度通過するので、遮光膜13の実質的な光学濃
度は、反射型表示において充分な1.8以上となる。さ
らに、遮光膜13を薄くすることにより、電極7の形成
面における平坦性を、表示領域9にあって0.1μm以
内に抑えることができる。
【0083】ところで、上述した態様では、反射膜2が
基板1の上面に直接形成されていたが、反射膜2の密着
性が問題となるような場合には、図5に示されるよう
に、反射膜2と基板1の上面との間に、反射膜2の密着
性を向上させる密着性向上層(第1の膜)8を別途設け
る構成としても良い。ここで、密着性向上層8として
は、金属や、酸化物、窒化物を用いることができる。こ
のうち、金属としては、Taや、Cr、Mo、Wなどの
5b〜6b族に含まれる遷移金属が挙げられる。また、
酸化物の一例としては、Ta2O5などの上記遷移金属
の酸化物やSiO2等の酸化シリコンなどが挙げられ、
別例としては、TiO2や、ZrO2、これらとSiO
2を適宜組み合わせたもの、Al2O3などが挙げられ
る。さらに、窒化物としては、Si3N4に代表される
窒化シリコンが挙げられる。この密着性向上層8は、反
射膜2の密着性を向上させるためのものであるので、そ
の膜厚は、100nm前後、場合によっては30〜60
nm程度で十分である。さらに、導電性を有さないSi
O2膜やTa2O5膜などを用いた場合には、該密着性
向上層8が基板1の上面全面に残存していても構わない
ので、該密着性向上層8をパターニングしないで済む。
例えば、反射膜2として銀や銀を主成分とする銀合金が
用いられとともに、基板1としてガラスが用いられる場
合においては、密着性向上層8としては、Moや、Ta
2O5 SiO2膜などを用いるのが望ましい。また、
基板1にプラスチックフィルムなどの可撓性を有する材
料を用いる場合においては、密着性向上層8として、S
iO2膜や、TiO2、ZrO2、これらとSiO2を
適宜組み合わせたものなど用いるのが望ましい。なお、
このような密着性向上層8は、図5に示される基板のみ
ならず、図2、図3または図4に示される基板に設けて
も良いのはもちろんである。
基板1の上面に直接形成されていたが、反射膜2の密着
性が問題となるような場合には、図5に示されるよう
に、反射膜2と基板1の上面との間に、反射膜2の密着
性を向上させる密着性向上層(第1の膜)8を別途設け
る構成としても良い。ここで、密着性向上層8として
は、金属や、酸化物、窒化物を用いることができる。こ
のうち、金属としては、Taや、Cr、Mo、Wなどの
5b〜6b族に含まれる遷移金属が挙げられる。また、
酸化物の一例としては、Ta2O5などの上記遷移金属
の酸化物やSiO2等の酸化シリコンなどが挙げられ、
別例としては、TiO2や、ZrO2、これらとSiO
2を適宜組み合わせたもの、Al2O3などが挙げられ
る。さらに、窒化物としては、Si3N4に代表される
窒化シリコンが挙げられる。この密着性向上層8は、反
射膜2の密着性を向上させるためのものであるので、そ
の膜厚は、100nm前後、場合によっては30〜60
nm程度で十分である。さらに、導電性を有さないSi
O2膜やTa2O5膜などを用いた場合には、該密着性
向上層8が基板1の上面全面に残存していても構わない
ので、該密着性向上層8をパターニングしないで済む。
例えば、反射膜2として銀や銀を主成分とする銀合金が
用いられとともに、基板1としてガラスが用いられる場
合においては、密着性向上層8としては、Moや、Ta
2O5 SiO2膜などを用いるのが望ましい。また、
基板1にプラスチックフィルムなどの可撓性を有する材
料を用いる場合においては、密着性向上層8として、S
iO2膜や、TiO2、ZrO2、これらとSiO2を
適宜組み合わせたものなど用いるのが望ましい。なお、
このような密着性向上層8は、図5に示される基板のみ
ならず、図2、図3または図4に示される基板に設けて
も良いのはもちろんである。
【0084】さて、反射型表示では、光が、適度に散乱
して、上側の基板101側の偏光板125から出射する
構成が好ましい。このため、図1に示される構成では、
上側の基板101の外面に、前方散乱板121が設けら
れていたが、この散乱機能については、後述する応用例
のように反射膜2を基板1の粗面に形成するほか、保護
膜6を図6に示されるように構成して、下側の基板1で
負担させることも可能である。
して、上側の基板101側の偏光板125から出射する
構成が好ましい。このため、図1に示される構成では、
上側の基板101の外面に、前方散乱板121が設けら
れていたが、この散乱機能については、後述する応用例
のように反射膜2を基板1の粗面に形成するほか、保護
膜6を図6に示されるように構成して、下側の基板1で
負担させることも可能である。
【0085】すなわち、この図に示される保護膜6は、
感光性アクリル樹脂などの樹脂材料6a中に、これとは
屈折率が異なる材料の粒子6bが分散したものである。
これらの樹脂材料6aと粒子6bとについては、両者の
屈折率差が0.05〜0.12の範囲内となるように材
料を組み合わせるのが望ましい。例えば、樹脂材料6a
としてのPMMA(ポリメチルメタクリレート)樹脂中
に、粒子6bとしてのPVDF(ポリフッ化ビニリデ
ン)粒子を分散させる組み合わせを採用すると、0.8
程度の屈折率差が得られる。もちろん組み合わせはこれ
に限定されること無く、所望の屈折率差と散乱度が得ら
れるように適宜材料を組み合わせて使用することが可能
である。このような保護膜6は、Mie散乱により、光
の散乱機能を有することになるので、図1における前方
散乱板121を省略することができる。
感光性アクリル樹脂などの樹脂材料6a中に、これとは
屈折率が異なる材料の粒子6bが分散したものである。
これらの樹脂材料6aと粒子6bとについては、両者の
屈折率差が0.05〜0.12の範囲内となるように材
料を組み合わせるのが望ましい。例えば、樹脂材料6a
としてのPMMA(ポリメチルメタクリレート)樹脂中
に、粒子6bとしてのPVDF(ポリフッ化ビニリデ
ン)粒子を分散させる組み合わせを採用すると、0.8
程度の屈折率差が得られる。もちろん組み合わせはこれ
に限定されること無く、所望の屈折率差と散乱度が得ら
れるように適宜材料を組み合わせて使用することが可能
である。このような保護膜6は、Mie散乱により、光
の散乱機能を有することになるので、図1における前方
散乱板121を省略することができる。
【0086】なお、図5または図6における保護膜6と
しては、感光性アクリル樹脂以外の感光性を有する樹脂
材料を用いることができる。また、保護膜6を特定の領
域のみに設ける場合であっても、印刷法や転写法などを
用いる場合や、保護膜6が基板1の全面に設けられても
構わない場合においては、保護膜6として、ゾルゲル膜
や感光性を有さない有機保護膜を用いることができる。
しては、感光性アクリル樹脂以外の感光性を有する樹脂
材料を用いることができる。また、保護膜6を特定の領
域のみに設ける場合であっても、印刷法や転写法などを
用いる場合や、保護膜6が基板1の全面に設けられても
構わない場合においては、保護膜6として、ゾルゲル膜
や感光性を有さない有機保護膜を用いることができる。
【0087】次に、遮光膜13における位置関係、特に
遮光膜13の開口領域と電極7との位置関係について説
明する。ここで、図7Aは、下側の基板1の内面に形成
される遮光膜13および着色層4の配列を示す概略平面
図であり、また、図7Bは、図7Bの線A−A’につい
ての概略断面図であり、両図は、いずれも着色層4が形
成された段階の構成を示すものである。なお、図7C
は、図7Bに示される基板において、電極7までが形成
された構成を示す概略断面図である。
遮光膜13の開口領域と電極7との位置関係について説
明する。ここで、図7Aは、下側の基板1の内面に形成
される遮光膜13および着色層4の配列を示す概略平面
図であり、また、図7Bは、図7Bの線A−A’につい
ての概略断面図であり、両図は、いずれも着色層4が形
成された段階の構成を示すものである。なお、図7C
は、図7Bに示される基板において、電極7までが形成
された構成を示す概略断面図である。
【0088】これらの図に示されるように、遮光膜13
の開口領域は、液晶層を有効に駆動できる領域20毎に
設けられている。ここで、図7A、図7Bおよび図7C
に示される基板にあって、領域20とは、液晶装置とし
て構成される場合に、下側の基板1に設けられる電極7
と上側の基板101に設けられる電極110との交差領
域であって、設計上の画素に一致している。すなわち、
これらの図における領域20は、電極7の幅をL1と
し、電極110の幅をW1とした場合に、長さL 1およ
び幅W1で規定される矩形状の領域をいう。
の開口領域は、液晶層を有効に駆動できる領域20毎に
設けられている。ここで、図7A、図7Bおよび図7C
に示される基板にあって、領域20とは、液晶装置とし
て構成される場合に、下側の基板1に設けられる電極7
と上側の基板101に設けられる電極110との交差領
域であって、設計上の画素に一致している。すなわち、
これらの図における領域20は、電極7の幅をL1と
し、電極110の幅をW1とした場合に、長さL 1およ
び幅W1で規定される矩形状の領域をいう。
【0089】なお、図19Dを参照して説明したよう
に、斜め電界によって、該交差領域外であっても液晶分
子が駆動される領域(ここでは便宜上、領域Aと称呼す
る)が存在する一方、該交差領域内であっても液晶分子
が正常に駆動されない領域(便宜上、領域Bと称呼す
る)が存在するので、厳密に言えば、これらの領域を考
慮して、遮光膜13の開口領域を設ける必要がある。た
だし、液晶層の厚みd(図1参照)に対して、領域20
(長さL1および幅W1)が充分に大きいのであれば、
領域A、Bを無視して考えることができる。図7A、図
7Bおよび図7Cに示される基板については、液晶層の
厚みdに対し領域20(長さL1および幅W 1)が充分
に大きいとして、領域A、Bを無視して、遮光膜13の
開口領域を設定したものである。
に、斜め電界によって、該交差領域外であっても液晶分
子が駆動される領域(ここでは便宜上、領域Aと称呼す
る)が存在する一方、該交差領域内であっても液晶分子
が正常に駆動されない領域(便宜上、領域Bと称呼す
る)が存在するので、厳密に言えば、これらの領域を考
慮して、遮光膜13の開口領域を設ける必要がある。た
だし、液晶層の厚みd(図1参照)に対して、領域20
(長さL1および幅W1)が充分に大きいのであれば、
領域A、Bを無視して考えることができる。図7A、図
7Bおよび図7Cに示される基板については、液晶層の
厚みdに対し領域20(長さL1および幅W 1)が充分
に大きいとして、領域A、Bを無視して、遮光膜13の
開口領域を設定したものである。
【0090】そこで今度は、領域A、Bを考慮して、遮
光膜13の開口領域を設定した基板について説明する。
まず、領域A、Bを考慮した場合における遮光膜13の
開口領域とは、液晶装置として2枚の基板1、101が
貼り合わせられた場合に、電極7、110の交差領域
に、領域Aを加えた領域であって、領域Bを除いた領域
をいい、図8Aにおいて、長さL2および幅W2で規定
される矩形状の領域12である。ここで、図8Aは、下
側の基板1の内面に形成される遮光膜13および着色層
4の配列を示す部分平面図であり、図8Bは、図8Aに
おける線E−E’線についての概略断面図であり、図8
Cは、図8Aにおける線F−F’線についての概略断面
図である。これらの図に示されるように、領域A、Bを
考慮した遮光膜13の開口領域12は、設計上の画素の
領域9c(長さL1および幅W1で規定される矩形状の
領域)に対して、液晶層のバルクにおける液晶分子のダ
イレクタ方向と直交する辺の一方では、長さd1だけ狭
く、それ以外の辺においては、長さd2だけ広くなって
いる。したがって、長さd2により広くなった領域が、
斜め電界によって液晶分子が駆動される領域Aに相当
し、長さd1により狭くなった領域が、斜め電界によっ
て液晶分子が駆動されない領域Bに相当する。ここで、
長さd1、d2について詳述すると、図1に示されるよ
うに液晶装置として2枚の基板1、101が貼り合わせ
られた場合に、電極7、110間の距離(すなわち、液
晶層58の厚み)をdで表したとき、長さd1は、距離
dの概ね同等以下の値であり、また、長さd2は、距離
dの概ね1/2以下の値である。
光膜13の開口領域を設定した基板について説明する。
まず、領域A、Bを考慮した場合における遮光膜13の
開口領域とは、液晶装置として2枚の基板1、101が
貼り合わせられた場合に、電極7、110の交差領域
に、領域Aを加えた領域であって、領域Bを除いた領域
をいい、図8Aにおいて、長さL2および幅W2で規定
される矩形状の領域12である。ここで、図8Aは、下
側の基板1の内面に形成される遮光膜13および着色層
4の配列を示す部分平面図であり、図8Bは、図8Aに
おける線E−E’線についての概略断面図であり、図8
Cは、図8Aにおける線F−F’線についての概略断面
図である。これらの図に示されるように、領域A、Bを
考慮した遮光膜13の開口領域12は、設計上の画素の
領域9c(長さL1および幅W1で規定される矩形状の
領域)に対して、液晶層のバルクにおける液晶分子のダ
イレクタ方向と直交する辺の一方では、長さd1だけ狭
く、それ以外の辺においては、長さd2だけ広くなって
いる。したがって、長さd2により広くなった領域が、
斜め電界によって液晶分子が駆動される領域Aに相当
し、長さd1により狭くなった領域が、斜め電界によっ
て液晶分子が駆動されない領域Bに相当する。ここで、
長さd1、d2について詳述すると、図1に示されるよ
うに液晶装置として2枚の基板1、101が貼り合わせ
られた場合に、電極7、110間の距離(すなわち、液
晶層58の厚み)をdで表したとき、長さd1は、距離
dの概ね同等以下の値であり、また、長さd2は、距離
dの概ね1/2以下の値である。
【0091】この構成では、電極7、110との交差領
域9c外であっても、領域Aには遮光膜13が開口して
いるので、反射膜2で光が反射する結果、実質的な開口
率の向上が図られる一方、交差領域9c内であっても、
領域Bには遮光膜13が設けられるので、液晶分子が駆
動されないことによるコントラスト比の低下を抑えるこ
とが可能となる。
域9c外であっても、領域Aには遮光膜13が開口して
いるので、反射膜2で光が反射する結果、実質的な開口
率の向上が図られる一方、交差領域9c内であっても、
領域Bには遮光膜13が設けられるので、液晶分子が駆
動されないことによるコントラスト比の低下を抑えるこ
とが可能となる。
【0092】なお、電極7、110の交差領域9cに対
して、拡大する領域Aの方向・面積、および、縮小する
領域Bの方向・面積は、用いる液晶モードや、基板1、
101に対するラビング方向等の各種条件によって異な
るが、いずれにしても、遮光膜13における開口領域1
2は、領域9cに対して、距離dと概ね同等の長さd 1
だけ内側から、距離dの概ね1/2である長さd2だけ
外側まで、となるようにパターニングされることになる
(図9A、図9Bおよび図9C参照)。すなわち、遮光
膜13における開口領域12の長さL2および幅W
2は、それぞれ次の範囲に収まることになる。
して、拡大する領域Aの方向・面積、および、縮小する
領域Bの方向・面積は、用いる液晶モードや、基板1、
101に対するラビング方向等の各種条件によって異な
るが、いずれにしても、遮光膜13における開口領域1
2は、領域9cに対して、距離dと概ね同等の長さd 1
だけ内側から、距離dの概ね1/2である長さd2だけ
外側まで、となるようにパターニングされることになる
(図9A、図9Bおよび図9C参照)。すなわち、遮光
膜13における開口領域12の長さL2および幅W
2は、それぞれ次の範囲に収まることになる。
【0093】L1−2・d1≦L2≦L1+2・d2
W1−2・d1≦W2≦W1+2・d2
【0094】<第1の実施形態の応用・変形例>ところ
で、上述した例では、遮光膜13を黒色の樹脂材料から
形成したが、次のように形成しても良い。すなわち、遮
光膜13として別途の層を設けるのではなく、R
(赤)、G(緑)、B(青)の着色層4が3色分積層さ
れた部分を遮光膜13として用いるのである。このよう
な構成を図10A、図10Bおよび図10Cを参照して
説明する。ここで、図10Aは、同構成を示す部分平面
図であり、図10Bは、図10Aにおける線W−W’線
についての概略断面図であり、図10Cは、図10Aに
おける線X−X’線についての概略断面図である。
で、上述した例では、遮光膜13を黒色の樹脂材料から
形成したが、次のように形成しても良い。すなわち、遮
光膜13として別途の層を設けるのではなく、R
(赤)、G(緑)、B(青)の着色層4が3色分積層さ
れた部分を遮光膜13として用いるのである。このよう
な構成を図10A、図10Bおよび図10Cを参照して
説明する。ここで、図10Aは、同構成を示す部分平面
図であり、図10Bは、図10Aにおける線W−W’線
についての概略断面図であり、図10Cは、図10Aに
おける線X−X’線についての概略断面図である。
【0095】これらの図に示されるように、パターニン
グされた反射膜2上には、R、G、Bの感光性カラーレ
ジストが、順番に、かつ、遮光膜13となるべき部分で
重なるように、着色感材法を用いてパターニングされて
いる。これにより、着色層4が3色分積層された部分
は、加法混色により黒色となって、遮光膜13として機
能する一方、1色のみの部分は、上述した例と同様に、
遮光膜13の開口領域12として機能することになる。
そして、これらの表面を覆うように保護膜6が形成され
て、これらの保護とともに、着色層4が積層された部分
とそうでない部分との平坦化が図られている。
グされた反射膜2上には、R、G、Bの感光性カラーレ
ジストが、順番に、かつ、遮光膜13となるべき部分で
重なるように、着色感材法を用いてパターニングされて
いる。これにより、着色層4が3色分積層された部分
は、加法混色により黒色となって、遮光膜13として機
能する一方、1色のみの部分は、上述した例と同様に、
遮光膜13の開口領域12として機能することになる。
そして、これらの表面を覆うように保護膜6が形成され
て、これらの保護とともに、着色層4が積層された部分
とそうでない部分との平坦化が図られている。
【0096】ここで、着色層4が3色分積層された部分
の光学濃度は0.7程度であるが、この部分は、もとも
と着色層4であるので、その表面反射率が小さい。この
ため、明るい場所において、コントラスト比の低下とい
った悪影響を及ぼさない。また、反射型表示において光
は、着色層4が3色分積層されて、遮光膜13となる部
分を2度通過するため、遮光膜13として光学濃度は実
質的には1.4以上となって、反射型表示において充分
な遮光性を有することなる。さらに、遮光膜13として
別途の層を設ける工程が省略されるので、その分だけ、
低コスト化が可能となる。
の光学濃度は0.7程度であるが、この部分は、もとも
と着色層4であるので、その表面反射率が小さい。この
ため、明るい場所において、コントラスト比の低下とい
った悪影響を及ぼさない。また、反射型表示において光
は、着色層4が3色分積層されて、遮光膜13となる部
分を2度通過するため、遮光膜13として光学濃度は実
質的には1.4以上となって、反射型表示において充分
な遮光性を有することなる。さらに、遮光膜13として
別途の層を設ける工程が省略されるので、その分だけ、
低コスト化が可能となる。
【0097】なお、これらの図において、他の構成や説
明したものと同様であるので、同一の符号を付してその
説明を省略することとする。また、着色層4が3色分積
層された部分を遮光膜13とする構成においても、上述
した保護膜3、6および密着性向上層5、8を適宜選択
して適用することが可能であり、遮光膜13の開口領域
としても図9のほか、図7、図8で説明したものとする
ことが可能である。
明したものと同様であるので、同一の符号を付してその
説明を省略することとする。また、着色層4が3色分積
層された部分を遮光膜13とする構成においても、上述
した保護膜3、6および密着性向上層5、8を適宜選択
して適用することが可能であり、遮光膜13の開口領域
としても図9のほか、図7、図8で説明したものとする
ことが可能である。
【0098】さて、下側の基板1の側に光散乱特性を持
たせる構成については、図6に示した構成のほか、図1
1A、図11Bおよび図11Cで示される構成でも可能
である。ここで、図11Aは、光散乱特性を有する基板
の構成を示す部分平面図であり、図11Bは、図11A
における線CC−CC’線についての概略断面図であ
り、図11Cは、図11Aにおける線DD−DD’線に
ついての概略断面図である。
たせる構成については、図6に示した構成のほか、図1
1A、図11Bおよび図11Cで示される構成でも可能
である。ここで、図11Aは、光散乱特性を有する基板
の構成を示す部分平面図であり、図11Bは、図11A
における線CC−CC’線についての概略断面図であ
り、図11Cは、図11Aにおける線DD−DD’線に
ついての概略断面図である。
【0099】これらの図に示されるように、基板1に
は、上側に粗面を有する粗面層16が形成されて、この
粗面に反射膜2が形成されている。ここで、粗面層16
は、例えば、アクリルを主成分とする感光性樹脂であ
り、基板1上に塗布された後に、次のような構造となる
ように、所定のフォトマスクを用いたフォトリソグラフ
ィー法によってパターニングされたものである。すなわ
ち、粗面層16における粗面は、山および谷の差が0.
2μm〜1.5μmであり、山および谷のピッチが2μ
m〜15μmであって、ランダムな山および谷の形状に
パターニングされたものである。
は、上側に粗面を有する粗面層16が形成されて、この
粗面に反射膜2が形成されている。ここで、粗面層16
は、例えば、アクリルを主成分とする感光性樹脂であ
り、基板1上に塗布された後に、次のような構造となる
ように、所定のフォトマスクを用いたフォトリソグラフ
ィー法によってパターニングされたものである。すなわ
ち、粗面層16における粗面は、山および谷の差が0.
2μm〜1.5μmであり、山および谷のピッチが2μ
m〜15μmであって、ランダムな山および谷の形状に
パターニングされたものである。
【0100】このような構成では、反射膜2は、粗面層
16の粗面を反映したものとなって、上側の基板101
側からの入射光をランダムな角度で反射させるため、下
側の基板1側のみにより、適度な散乱特性を持たせるこ
とが可能となる。また、このような構成では、反射膜2
の表面は、粗面層16の粗面を反映したものとなるが、
反射膜2の表面を覆うように形成される着色層4、保護
膜6によって平坦化されるため、電極7は、粗面を反映
することなく、平坦面に形成されることになる。
16の粗面を反映したものとなって、上側の基板101
側からの入射光をランダムな角度で反射させるため、下
側の基板1側のみにより、適度な散乱特性を持たせるこ
とが可能となる。また、このような構成では、反射膜2
の表面は、粗面層16の粗面を反映したものとなるが、
反射膜2の表面を覆うように形成される着色層4、保護
膜6によって平坦化されるため、電極7は、粗面を反映
することなく、平坦面に形成されることになる。
【0101】なお、図11A、図11Bおよび図11C
において、他の構成や説明したものと同様であるので、
同一の符号を付してその説明を省略することとする。ま
た、これらの図において、遮光膜13として着色層4が
3色分積層された部分が用いられているが、黒色樹脂材
料が用いられても良いのはもちろんである。さらに、上
述した保護膜3、6および密着性向上層5、8を適宜選
択して適用することが可能であり、遮光膜13の開口領
域としても図9のほか、図7、図8で説明したものとす
ることが可能である。
において、他の構成や説明したものと同様であるので、
同一の符号を付してその説明を省略することとする。ま
た、これらの図において、遮光膜13として着色層4が
3色分積層された部分が用いられているが、黒色樹脂材
料が用いられても良いのはもちろんである。さらに、上
述した保護膜3、6および密着性向上層5、8を適宜選
択して適用することが可能であり、遮光膜13の開口領
域としても図9のほか、図7、図8で説明したものとす
ることが可能である。
【0102】また、下側の基板1の側に光散乱特性を持
たせる構成については、図11A、図11Bおよび図1
1Cに示した構成のほか、図12A、図12Bおよび図
12Cで示される構成でも可能である。ここで、図12
Aは、光散乱特性を有する基板の構成を示す部分平面図
であり、図12Bは、図12Aにおける線EE−EE’
線についての概略断面図であり、図12Cは、図12A
における線FF−FF’線についての概略断面図であ
る。
たせる構成については、図11A、図11Bおよび図1
1Cに示した構成のほか、図12A、図12Bおよび図
12Cで示される構成でも可能である。ここで、図12
Aは、光散乱特性を有する基板の構成を示す部分平面図
であり、図12Bは、図12Aにおける線EE−EE’
線についての概略断面図であり、図12Cは、図12A
における線FF−FF’線についての概略断面図であ
る。
【0103】これらの図で示されるように、基板1の上
面が直接的に粗面化されて、この粗面17に反射膜2が
形成されている。このような基板1における粗面17
は、基板1としてガラスを用いて、その表面を、弗化水
素酸を主成分とする水溶液によって、次のような形状と
なるように不均一にエッチングすることによって得られ
る。すなわち、基板1の表面は、山および谷の差が0.
05μm〜2.5μmであり、山および谷のピッチが1
μm〜50μmであって、ランダムな山および谷の形状
となるように不均一にエッチングされる。
面が直接的に粗面化されて、この粗面17に反射膜2が
形成されている。このような基板1における粗面17
は、基板1としてガラスを用いて、その表面を、弗化水
素酸を主成分とする水溶液によって、次のような形状と
なるように不均一にエッチングすることによって得られ
る。すなわち、基板1の表面は、山および谷の差が0.
05μm〜2.5μmであり、山および谷のピッチが1
μm〜50μmであって、ランダムな山および谷の形状
となるように不均一にエッチングされる。
【0104】このような構成でも、反射膜2は、基板1
の粗面17を反映したものとなって、上側の基板101
側からの入射光をランダムな角度で反射させるため、下
側の基板1側のみにより、適度な散乱特性を持たせるこ
とが可能となる。また、このような構成では、反射膜2
の表面は、粗面17の粗面を反映したものとなるが、反
射膜2の表面を覆うように形成される着色層4、保護膜
6によって平坦化されるため、電極7は、粗面を反映す
ることなく、平坦面に形成されることになる。なお、図
12A、図12Bおよび図12Cにおいて、他の構成
は、すでに説明したものと同様であるので、同一の符号
を付してその説明を省略することとする。また、これら
の図において、遮光膜13として着色層4が3色分積層
された部分が用いられているが、同様に、黒色樹脂材料
が用いられても良いのはもちろんである。さらに、上述
した保護膜3、6および密着性向上層5、8を適宜選択
して適用することが可能であり、遮光膜13の開口領域
としても図9のほか、図7、図8で説明したものとする
ことが可能である点も同様である。
の粗面17を反映したものとなって、上側の基板101
側からの入射光をランダムな角度で反射させるため、下
側の基板1側のみにより、適度な散乱特性を持たせるこ
とが可能となる。また、このような構成では、反射膜2
の表面は、粗面17の粗面を反映したものとなるが、反
射膜2の表面を覆うように形成される着色層4、保護膜
6によって平坦化されるため、電極7は、粗面を反映す
ることなく、平坦面に形成されることになる。なお、図
12A、図12Bおよび図12Cにおいて、他の構成
は、すでに説明したものと同様であるので、同一の符号
を付してその説明を省略することとする。また、これら
の図において、遮光膜13として着色層4が3色分積層
された部分が用いられているが、同様に、黒色樹脂材料
が用いられても良いのはもちろんである。さらに、上述
した保護膜3、6および密着性向上層5、8を適宜選択
して適用することが可能であり、遮光膜13の開口領域
としても図9のほか、図7、図8で説明したものとする
ことが可能である点も同様である。
【0105】<第2の実施形態>次に、本発明の第2の
実施形態に係る半透過反射型の液晶装置について説明す
る。上述した第1実施形態に係る反射型の液晶装置で
は、外光の強度が充分であれば、非常に明るい表示が可
能であるが、その反面、外光の強度が不充分であると、
表示が見づらくなるという欠点がある。
実施形態に係る半透過反射型の液晶装置について説明す
る。上述した第1実施形態に係る反射型の液晶装置で
は、外光の強度が充分であれば、非常に明るい表示が可
能であるが、その反面、外光の強度が不充分であると、
表示が見づらくなるという欠点がある。
【0106】そこで、第2実施形態に係る半透過反射型
の液晶装置は、反射膜2において画素毎に開口部を設け
ることにより、背面側から入射した光を通過可能とし
て、外光の強度が不充分であれば、開口部を通過する光
による反射型表示を行う一方、外光の強度が充分であれ
ば、開口部以外で反射する光による反射型表示を行うも
のである。
の液晶装置は、反射膜2において画素毎に開口部を設け
ることにより、背面側から入射した光を通過可能とし
て、外光の強度が不充分であれば、開口部を通過する光
による反射型表示を行う一方、外光の強度が充分であれ
ば、開口部以外で反射する光による反射型表示を行うも
のである。
【0107】図13は、この第2の実施形態に係る液晶
装置の構成を示す概略断面図である。この図に示される
液晶装置が、図1における第1実施形態に係る液晶装置
と相違する点は、白色光を発する線状の蛍光管31と、
一端面が蛍光管31に沿って配置する導光板33とを含
む補助光源を備える第1の点、基板1の外面側に、位相
差板23、偏光板25が順に設けられている第2の点、
遮光膜13の開口領域毎に、反射膜2に開口部(第1の
開口部)14がそれぞれ設けられて、下側から入射した
光を透過させる第3の点、および、遮光膜13として着
色層4が3色分積層された部分が用いられている第4の
点にある。
装置の構成を示す概略断面図である。この図に示される
液晶装置が、図1における第1実施形態に係る液晶装置
と相違する点は、白色光を発する線状の蛍光管31と、
一端面が蛍光管31に沿って配置する導光板33とを含
む補助光源を備える第1の点、基板1の外面側に、位相
差板23、偏光板25が順に設けられている第2の点、
遮光膜13の開口領域毎に、反射膜2に開口部(第1の
開口部)14がそれぞれ設けられて、下側から入射した
光を透過させる第3の点、および、遮光膜13として着
色層4が3色分積層された部分が用いられている第4の
点にある。
【0108】他の構成については、すでに説明したもの
と同様であるので、同一の符号を付してその説明を省略
し、また、第4の点についても、すでの説明しているの
で、その説明を省略する。したがって、ここでは、第
1、第2および第3の点を中心にして説明することとす
る。
と同様であるので、同一の符号を付してその説明を省略
し、また、第4の点についても、すでの説明しているの
で、その説明を省略する。したがって、ここでは、第
1、第2および第3の点を中心にして説明することとす
る。
【0109】まず、導光板33は、裏面(図において下
側の面)全体に散乱用の粗面が形成された透明体、また
は、散乱用の印刷層が形成されたアクリル樹脂板などの
透明体である。これにより、導光板33は、蛍光管31
の光をその一端面に入射すると、図の上面へ、ほぼ均一
な光を照射することになる。なお、補助光源としては、
ほかにLED(発光ダイオード)や、EL(エレクトロ
ルミネセンス)などを用いたものなどが適用可能であ
る。
側の面)全体に散乱用の粗面が形成された透明体、また
は、散乱用の印刷層が形成されたアクリル樹脂板などの
透明体である。これにより、導光板33は、蛍光管31
の光をその一端面に入射すると、図の上面へ、ほぼ均一
な光を照射することになる。なお、補助光源としては、
ほかにLED(発光ダイオード)や、EL(エレクトロ
ルミネセンス)などを用いたものなどが適用可能であ
る。
【0110】次に、基板1の外面に設けられる偏光板2
5、位相差板23は、補助光源により照射される光を所
定の偏光状態とさせるために設けられている。
5、位相差板23は、補助光源により照射される光を所
定の偏光状態とさせるために設けられている。
【0111】そして、反射膜2の開口部14は、図14
Aに示されるように、遮光膜13の開口領域12毎に、
すなわち、着色層4が1色分だけ設けられて領域毎に設
けられるものであって、アルミニウムや、銀、クロムな
どの反射性を有する金属層を、表示領域9を含むよう
に、かつ、開口部14に相当する部分を除去するよう
に、パターニングして形成したものである。ここで、図
13または図14Bに示されるように、着色層4は、開
口部14に充填されているので、背面側(図において下
側)から入射して、開口部14を通過し、観察側(図に
おいて上側)に出射する光は、着色層4によって着色さ
れることになる。なお、図14Aでは、開口部14の平
面形状は矩形状であるが、いかなる形状であっても構わ
ない。
Aに示されるように、遮光膜13の開口領域12毎に、
すなわち、着色層4が1色分だけ設けられて領域毎に設
けられるものであって、アルミニウムや、銀、クロムな
どの反射性を有する金属層を、表示領域9を含むよう
に、かつ、開口部14に相当する部分を除去するよう
に、パターニングして形成したものである。ここで、図
13または図14Bに示されるように、着色層4は、開
口部14に充填されているので、背面側(図において下
側)から入射して、開口部14を通過し、観察側(図に
おいて上側)に出射する光は、着色層4によって着色さ
れることになる。なお、図14Aでは、開口部14の平
面形状は矩形状であるが、いかなる形状であっても構わ
ない。
【0112】なお、図14Aは、図13における基板1
の内面構造、特に反射膜2の開口部14と遮光膜13の
開口領域12との位置関係を示す図であり、図14B
は、図14AにおけるY−Y’線についての略断面図で
あり、図14Cは、図14AにおけるZ−Z’線につい
ての略断面図であるが、遮光膜13の開口領域12につ
いては、すでに説明しているので、ここでは省略するこ
ととする。
の内面構造、特に反射膜2の開口部14と遮光膜13の
開口領域12との位置関係を示す図であり、図14B
は、図14AにおけるY−Y’線についての略断面図で
あり、図14Cは、図14AにおけるZ−Z’線につい
ての略断面図であるが、遮光膜13の開口領域12につ
いては、すでに説明しているので、ここでは省略するこ
ととする。
【0113】このような第2実施形態において、外光の
強度が充分であれば、蛍光管31が非点灯状態にされ
て、反射型表示が行われる。ここで、反射型表示におい
て光は、偏光板125、位相差板123、前方散乱板1
21、基板101、電極110、液晶層58、電極7、
着色層4という経路を介して反射膜2に至り、ここで反
射して、今きた経路を逆に辿って、偏光板125から観
察側に出射する。このとき、偏光板125から出射する
光量は、電極7、110によって液晶層58に印加され
る電圧に応じて、明状態、暗状態およびその中間の明る
さの状態にされるので、液晶層58への印加電圧を制御
することにより、所望の表示が可能となる。
強度が充分であれば、蛍光管31が非点灯状態にされ
て、反射型表示が行われる。ここで、反射型表示におい
て光は、偏光板125、位相差板123、前方散乱板1
21、基板101、電極110、液晶層58、電極7、
着色層4という経路を介して反射膜2に至り、ここで反
射して、今きた経路を逆に辿って、偏光板125から観
察側に出射する。このとき、偏光板125から出射する
光量は、電極7、110によって液晶層58に印加され
る電圧に応じて、明状態、暗状態およびその中間の明る
さの状態にされるので、液晶層58への印加電圧を制御
することにより、所望の表示が可能となる。
【0114】一方、外光の強度が不充分であれば、蛍光
管31が点灯状態にされて、透過型表示が行われる。こ
こで、透過型表示において、蛍光管31、導光板33に
よって照射される光は、偏光板25、位相差板23を経
ることで所定の偏光状態となり、基板1、開口部14、
電極7、液晶層58、電極110を経て、偏光板125
から観察側に出射する。このとき、偏光板125から出
射する光量は、透過型表示と同様に、電極7、110に
よって液晶層58に印加される電圧に応じて、明状態、
暗状態およびその中間の明るさの状態にされるので、液
晶層58への印加電圧を制御することで、所望の表示が
可能となる。
管31が点灯状態にされて、透過型表示が行われる。こ
こで、透過型表示において、蛍光管31、導光板33に
よって照射される光は、偏光板25、位相差板23を経
ることで所定の偏光状態となり、基板1、開口部14、
電極7、液晶層58、電極110を経て、偏光板125
から観察側に出射する。このとき、偏光板125から出
射する光量は、透過型表示と同様に、電極7、110に
よって液晶層58に印加される電圧に応じて、明状態、
暗状態およびその中間の明るさの状態にされるので、液
晶層58への印加電圧を制御することで、所望の表示が
可能となる。
【0115】この液晶装置によれば、液晶層58は、同
じITOからなる電極7、110によって挟持されるの
で、表示品位や長期信頼性が低下することがない。ま
た、反射膜2上には、遮光膜13および着色層4が形成
されるので、反射膜2を露出させないようにすることが
できる。このため、液晶装置の製造工程において、反射
膜2が、薬液や、ガス、液晶層等にさらされないので、
反射膜2へのダメージを抑えることができる。さらに、
着色層4が遮光膜13を覆うように形成されているの
で、遮光膜13での表面反射が抑えられるだけでなく、
遮光膜13に要求される光学濃度も小さくて済む。例え
ば反射型表示において光は遮光膜を2回通過することに
なるので、遮光膜13の実質的な光学濃度は小さくて済
むし、透過型表示において光は、遮光膜13により規定
されるのではなく、反射膜2によって規定されるので、
透過型表示において遮光膜13の光学濃度はほとんど影
響を与えない。このため、本実施形態によれば、透過型
表示においても反射型表示においてコントラスト比の低
下を抑えた明るい高品位な表示が可能となる。
じITOからなる電極7、110によって挟持されるの
で、表示品位や長期信頼性が低下することがない。ま
た、反射膜2上には、遮光膜13および着色層4が形成
されるので、反射膜2を露出させないようにすることが
できる。このため、液晶装置の製造工程において、反射
膜2が、薬液や、ガス、液晶層等にさらされないので、
反射膜2へのダメージを抑えることができる。さらに、
着色層4が遮光膜13を覆うように形成されているの
で、遮光膜13での表面反射が抑えられるだけでなく、
遮光膜13に要求される光学濃度も小さくて済む。例え
ば反射型表示において光は遮光膜を2回通過することに
なるので、遮光膜13の実質的な光学濃度は小さくて済
むし、透過型表示において光は、遮光膜13により規定
されるのではなく、反射膜2によって規定されるので、
透過型表示において遮光膜13の光学濃度はほとんど影
響を与えない。このため、本実施形態によれば、透過型
表示においても反射型表示においてコントラスト比の低
下を抑えた明るい高品位な表示が可能となる。
【0116】また、反射膜が電極を兼ねる従来構成にお
いて、反射膜に開口部を設けると、この部分では液晶層
に電圧が印加されないため、液晶分子が正常に駆動され
ない(表示に寄与しない)領域が出現してしまうことに
なる。これに対して、本実施形態では、反射膜2と電極
7とは独立であり、開口部14の地点にも電極7を設け
ることできるため、開口部14にあっても、液晶分子が
正常に駆動されることになる。したがって、この意味で
も、本実施形態では、透過型表示におけるコントラスト
比の低下が抑えられることとなる。
いて、反射膜に開口部を設けると、この部分では液晶層
に電圧が印加されないため、液晶分子が正常に駆動され
ない(表示に寄与しない)領域が出現してしまうことに
なる。これに対して、本実施形態では、反射膜2と電極
7とは独立であり、開口部14の地点にも電極7を設け
ることできるため、開口部14にあっても、液晶分子が
正常に駆動されることになる。したがって、この意味で
も、本実施形態では、透過型表示におけるコントラスト
比の低下が抑えられることとなる。
【0117】ところで、第2実施形態における基板1の
構造については、図13や図14等に示されるものに限
られず、種々の態様が適用可能である。そこで、これら
の態様のいくつかについて説明することとする。
構造については、図13や図14等に示されるものに限
られず、種々の態様が適用可能である。そこで、これら
の態様のいくつかについて説明することとする。
【0118】まず、この態様について、図15A、図1
5Bおよび図15Cを参照して説明する。ここで、図1
5Aは、この態様に係る基板について、電極7までが形
成された基板の構成を示す部分平面図であり、図15B
は、図15Aにおける線AA−AA’線についての概略
断面図であり、図15Cは、図15Aにおける線BB−
BB’線についての概略断面図である。
5Bおよび図15Cを参照して説明する。ここで、図1
5Aは、この態様に係る基板について、電極7までが形
成された基板の構成を示す部分平面図であり、図15B
は、図15Aにおける線AA−AA’線についての概略
断面図であり、図15Cは、図15Aにおける線BB−
BB’線についての概略断面図である。
【0119】これらの図に示されるように、1つの画素
について2つの開口部14、15が設けられる。このう
ち、開口部14については、図13や図14B、図14
Cに示されるように、反射膜2が存在しない部分に着色
層4が充填されたものであるが、開口部(第2の開口
部)15については、図15Cに示されるように、反射
膜2が存在する部分に着色層4が設けられないように形
成されたもの、すなわち、着色層4の形成段階において
反射膜2が露出するように形成されたものである。詳細
には、開口部15は、R(赤)、G(緑)、B(青)の
感光性カラーレジストを、着色感材法を用いて順次形成
する際に、開口部15に相当する部分に、該感光性カラ
ーレジストが残らないようにしたものである。
について2つの開口部14、15が設けられる。このう
ち、開口部14については、図13や図14B、図14
Cに示されるように、反射膜2が存在しない部分に着色
層4が充填されたものであるが、開口部(第2の開口
部)15については、図15Cに示されるように、反射
膜2が存在する部分に着色層4が設けられないように形
成されたもの、すなわち、着色層4の形成段階において
反射膜2が露出するように形成されたものである。詳細
には、開口部15は、R(赤)、G(緑)、B(青)の
感光性カラーレジストを、着色感材法を用いて順次形成
する際に、開口部15に相当する部分に、該感光性カラ
ーレジストが残らないようにしたものである。
【0120】ここで、着色層4が設けられない開口部1
5の面積は、遮光膜13の開口領域12から開口部14
を除いた部分の面積(すなわち、実質的に反射型表示に
おいて1画素として機能する面積)に対して、次のよう
にして設定する。すなわち、透過型表示において好適な
着色層の光透過特性が図16Aであり、反射型表示にお
いて好適な着色層の光透過特性が図16Bであるとする
と、第1に、開口部14を通過する光のみによる特性
が、図16Aに示される特性になるように着色層4を形
成し、第2に、遮光膜13の開口領域12のうち開口部
14を除いた部分で反射して該着色層4により着色され
る光と、開口部15で反射して着色されない光とを合わ
せた平均光が、図16Bに示される特性になるように、
開口部15の面積を、各色にあわせてそれぞれ設定する
のが望ましい。なお、図16Aおよび図16Bに示され
た各色の特性はあくまでも一例であり、実際には、組み
合わされる液晶モードや、透過率、色濃度に合わせて適
切に変更される。
5の面積は、遮光膜13の開口領域12から開口部14
を除いた部分の面積(すなわち、実質的に反射型表示に
おいて1画素として機能する面積)に対して、次のよう
にして設定する。すなわち、透過型表示において好適な
着色層の光透過特性が図16Aであり、反射型表示にお
いて好適な着色層の光透過特性が図16Bであるとする
と、第1に、開口部14を通過する光のみによる特性
が、図16Aに示される特性になるように着色層4を形
成し、第2に、遮光膜13の開口領域12のうち開口部
14を除いた部分で反射して該着色層4により着色され
る光と、開口部15で反射して着色されない光とを合わ
せた平均光が、図16Bに示される特性になるように、
開口部15の面積を、各色にあわせてそれぞれ設定する
のが望ましい。なお、図16Aおよび図16Bに示され
た各色の特性はあくまでも一例であり、実際には、組み
合わされる液晶モードや、透過率、色濃度に合わせて適
切に変更される。
【0121】この態様によれば、光の色特性を、反射型
表示と透過型表示とに合わせて最適化することができる
ので、両表示のいずれにおいても優れた色再現性を実現
することが可能となる。
表示と透過型表示とに合わせて最適化することができる
ので、両表示のいずれにおいても優れた色再現性を実現
することが可能となる。
【0122】なお、第2実施形態においては、着色層4
が3色分積層された部分が遮光膜13として用いられて
いるが、図17A、図17Bおよび図17Cに示される
ように、黒色樹脂材料が用いられても良いのはもちろん
である。
が3色分積層された部分が遮光膜13として用いられて
いるが、図17A、図17Bおよび図17Cに示される
ように、黒色樹脂材料が用いられても良いのはもちろん
である。
【0123】また、第2実施形態における背面側に位置
する基板としては、図14Aや、図15A、図17Aな
どに示された基板に対して、第1実施形態で挙げた基板
の各要素を適宜選択して適用することが可能である。例
えば、保護膜3、6や、密着性向上層5、8を適宜選択
して適用しても良いし、反射膜2を図11Bにおける粗
面層16や図12Bにおける粗面17に形成するととも
に、開口部14、15を設ける構成としても良い。
する基板としては、図14Aや、図15A、図17Aな
どに示された基板に対して、第1実施形態で挙げた基板
の各要素を適宜選択して適用することが可能である。例
えば、保護膜3、6や、密着性向上層5、8を適宜選択
して適用しても良いし、反射膜2を図11Bにおける粗
面層16や図12Bにおける粗面17に形成するととも
に、開口部14、15を設ける構成としても良い。
【0124】<電子機器>続いて、上述した第1実施形
態や、第2実施形態、応用例に係る液晶装置を適用した
電子機器について説明する。上述したようにこれらの液
晶装置は、様々な環境下で用いられ、しかも低消費電力
が必要とされる携帯機器に適している。
態や、第2実施形態、応用例に係る液晶装置を適用した
電子機器について説明する。上述したようにこれらの液
晶装置は、様々な環境下で用いられ、しかも低消費電力
が必要とされる携帯機器に適している。
【0125】まず、図18Aは、電子機器の一例である
携帯情報機器の構成を示す斜視図である。この図に示さ
れるように携帯情報機器本体の上側には、実施形態に係
る液晶装置181が設けられ、また、下側には入力部1
83が設けられる。一般に、この種の携帯情報機器の表
示部の前面には、タッチパネルを設けることが多い。通
常のタッチパネルは、表面反射が多いため、表示が見づ
らい。このため、従来では、携帯型であっても表示部に
は、透過型液晶装置が利用される場合が多かったが、透
過型液晶装置では、常時補助光源を利用するため消費電
力が大きく、電池寿命が短かった。これに対して、実施
形態に係る液晶装置は、反射型でも半透過反射型でも、
表示が明るく鮮やかであるため、携帯情報機器に好適で
ある。
携帯情報機器の構成を示す斜視図である。この図に示さ
れるように携帯情報機器本体の上側には、実施形態に係
る液晶装置181が設けられ、また、下側には入力部1
83が設けられる。一般に、この種の携帯情報機器の表
示部の前面には、タッチパネルを設けることが多い。通
常のタッチパネルは、表面反射が多いため、表示が見づ
らい。このため、従来では、携帯型であっても表示部に
は、透過型液晶装置が利用される場合が多かったが、透
過型液晶装置では、常時補助光源を利用するため消費電
力が大きく、電池寿命が短かった。これに対して、実施
形態に係る液晶装置は、反射型でも半透過反射型でも、
表示が明るく鮮やかであるため、携帯情報機器に好適で
ある。
【0126】次に、図18Bは、電子機器の一例である
携帯電話の構成を示す斜視図である。この図に示される
ように携帯電話本体の前面上方部には、実施形態に係る
液晶装置184が設けられる。携帯電話は、屋内屋外を
問わず、あらゆる環境で利用される。特に自動車内で利
用されることが多いが、夜間の車内は大変暗い。このた
め、表示装置184としては、消費電力が低い反射型表
示をメインとし、必要に応じて補助光を利用した透過型
表示ができる半透過反射型の液晶装置、すなわち、第2
実施形態に係る液晶装置が望ましい。この液晶装置18
4では、反射型表示でも透過型表示でも従来の液晶装置
より明るく、コントラスト比が高くて高品位な表示が可
能となる。
携帯電話の構成を示す斜視図である。この図に示される
ように携帯電話本体の前面上方部には、実施形態に係る
液晶装置184が設けられる。携帯電話は、屋内屋外を
問わず、あらゆる環境で利用される。特に自動車内で利
用されることが多いが、夜間の車内は大変暗い。このた
め、表示装置184としては、消費電力が低い反射型表
示をメインとし、必要に応じて補助光を利用した透過型
表示ができる半透過反射型の液晶装置、すなわち、第2
実施形態に係る液晶装置が望ましい。この液晶装置18
4では、反射型表示でも透過型表示でも従来の液晶装置
より明るく、コントラスト比が高くて高品位な表示が可
能となる。
【0127】続いて、図18Cは、電子機器の一例であ
るウォッチの構成を示す斜視図である。この図に示され
るようにウォッチ本体の中央に、実施形態に係る表示部
186が設けられる。ウォッチ用途における重要な観点
は、高級感である。この液晶装置184は、明るくコン
トラストが高いことはもちろん、光の波長による特性変
化が少ないために色付きも小さい。従って、従来の液晶
装置と比較して、大変に高級感ある表示が得られる。
るウォッチの構成を示す斜視図である。この図に示され
るようにウォッチ本体の中央に、実施形態に係る表示部
186が設けられる。ウォッチ用途における重要な観点
は、高級感である。この液晶装置184は、明るくコン
トラストが高いことはもちろん、光の波長による特性変
化が少ないために色付きも小さい。従って、従来の液晶
装置と比較して、大変に高級感ある表示が得られる。
【図1】 本発明の第1の実施形態に係る反射型の液晶
装置の構成を示す略断面図である。
装置の構成を示す略断面図である。
【図2】 同実施形態において背面側に位置する基板の
一例を示す略断面図である。
一例を示す略断面図である。
【図3】 同基板の別の一例を示す略断面図である。
【図4】 同基板の別の一例を示す略断面図である。
【図5】 同基板の別の一例を示す略断面図である。
【図6】 同基板の別の一例を示す略断面図である。
【図7】 Aは、同実施形態にあって背面側に位置する
基板における遮光膜の開口領域の位置関係を示す平面図
である。Bは、図7Aにおける線A−A’線についての
概略断面図であって、着色層まで形成した構成を示す図
である。Cは、図7Aにおける線A−A’線についての
概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図で
ある。
基板における遮光膜の開口領域の位置関係を示す平面図
である。Bは、図7Aにおける線A−A’線についての
概略断面図であって、着色層まで形成した構成を示す図
である。Cは、図7Aにおける線A−A’線についての
概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図で
ある。
【図8】 Aは、同実施形態において背面側に位置する
基板における遮光膜の開口領域の位置関係を示す部分平
面図である。Bは、図8Aにおける線E−E’線につい
ての概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す
図である。Cは、図8Aにおける線F−F’線について
の概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図
である。
基板における遮光膜の開口領域の位置関係を示す部分平
面図である。Bは、図8Aにおける線E−E’線につい
ての概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す
図である。Cは、図8Aにおける線F−F’線について
の概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図
である。
【図9】 Aは、同実施形態にあって背面側に位置する
基板における遮光膜の開口領域の位置関係を示す部分平
面図である。Bは、図9Aにおける線L−L’線につい
ての概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す
図である。Cは、図9Aにおける線M−M’線について
の概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図
である。
基板における遮光膜の開口領域の位置関係を示す部分平
面図である。Bは、図9Aにおける線L−L’線につい
ての概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す
図である。Cは、図9Aにおける線M−M’線について
の概略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図
である。
【図10】 Aは、同実施形態にあって背面側に位置す
る基板の別例の構成を示す部部分平面図である。Bは、
図10Aにおける線W−W’線についての概略断面図で
あって、電極まで形成した構成を示す図である。Cは、
図10Aにおける線X−X’線についての概略断面図で
あって、電極まで形成した構成を示す図である。
る基板の別例の構成を示す部部分平面図である。Bは、
図10Aにおける線W−W’線についての概略断面図で
あって、電極まで形成した構成を示す図である。Cは、
図10Aにおける線X−X’線についての概略断面図で
あって、電極まで形成した構成を示す図である。
【図11】 Aは、同実施形態にあって背面側に位置す
る基板の別例の構成を示す部分平面図である。Bは、図
11Aにおける線CC−CC’線についての概略断面図
であって、電極まで形成した構成を示す図である。C
は、図11Aにおける線DD−DD’線についての概略
断面図であって、電極まで形成した構成を示す図であ
る。
る基板の別例の構成を示す部分平面図である。Bは、図
11Aにおける線CC−CC’線についての概略断面図
であって、電極まで形成した構成を示す図である。C
は、図11Aにおける線DD−DD’線についての概略
断面図であって、電極まで形成した構成を示す図であ
る。
【図12】 Aは、同実施形態において背面側に位置す
る基板の別例の構成を示す部分平面図である。Bは、図
12Aにおける線EE−EE’線についての概略断面図
であって、電極まで形成した構成を示す図である。C
は、図12Aにおける線FF−FF’線についての概略
断面図であって、電極まで形成した構成を示す図であ
る。
る基板の別例の構成を示す部分平面図である。Bは、図
12Aにおける線EE−EE’線についての概略断面図
であって、電極まで形成した構成を示す図である。C
は、図12Aにおける線FF−FF’線についての概略
断面図であって、電極まで形成した構成を示す図であ
る。
【図13】 本発明の第2の実施形態に係る反射型の液
晶装置の構成を示す略断面図である。
晶装置の構成を示す略断面図である。
【図14】 Aは、同実施形態にあって背面側に位置す
る基板における開口部の位置関係を示す部分平面図であ
る。Bは、図14Aにおける線Y−Y’線についての概
略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図であ
る。Cは、図14Aにおける線Z−Z’線についての概
略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図であ
る。
る基板における開口部の位置関係を示す部分平面図であ
る。Bは、図14Aにおける線Y−Y’線についての概
略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図であ
る。Cは、図14Aにおける線Z−Z’線についての概
略断面図であって、電極まで形成した構成を示す図であ
る。
【図15】 Aは、同実施形態において背面側に位置す
る基板として適用可能な構成を示す部分平面図である。
Bは、図15Aにおける線AA−AA’線についての概
略断面図である。Cは、図15Aにおける線BB−B
B’線についての概略断面図である。
る基板として適用可能な構成を示す部分平面図である。
Bは、図15Aにおける線AA−AA’線についての概
略断面図である。Cは、図15Aにおける線BB−B
B’線についての概略断面図である。
【図16】 Aは、透過型表示における各色着色層の特
性を示す図である。Bは、反射型表示における各色着色
層の特性を示す図である。
性を示す図である。Bは、反射型表示における各色着色
層の特性を示す図である。
【図17】 Aは、同実施形態にあって背面側に位置す
る基板の一例における開口部の位置関係を示す部分平面
図である。Bは、図17Aにおける線N−N’線につい
ての概略断面図である。Cは、図17Aにおける線O−
O’線についての概略断面図である。
る基板の一例における開口部の位置関係を示す部分平面
図である。Bは、図17Aにおける線N−N’線につい
ての概略断面図である。Cは、図17Aにおける線O−
O’線についての概略断面図である。
【図18】 Aは、実施形態に係る液晶装置を適用した
携帯情報機器の構成を示す斜視図である。Bは、実施形
態に係る液晶装置を適用した携帯電話の構成を示す斜視
図である。Cは、実施形態に係る液晶装置を適用したウ
ォッチの構成を示す斜視図である。
携帯情報機器の構成を示す斜視図である。Bは、実施形
態に係る液晶装置を適用した携帯電話の構成を示す斜視
図である。Cは、実施形態に係る液晶装置を適用したウ
ォッチの構成を示す斜視図である。
【図19】 Aは、一般的なパッシブマトリクス方式の
液晶装置の構成を示す概略平面図である。Bは、同液晶
装置における基板に隣接する液晶分子の配向方向と、液
晶層のバルクにおける液晶分子の配向方向とを示す平面
図である。Cは、電圧無印加時における図19Aの線G
G−GG’についての概略断面図である。Dは、電圧印
加時における図19Aの線GG−GG’についての概略
断面図である。
液晶装置の構成を示す概略平面図である。Bは、同液晶
装置における基板に隣接する液晶分子の配向方向と、液
晶層のバルクにおける液晶分子の配向方向とを示す平面
図である。Cは、電圧無印加時における図19Aの線G
G−GG’についての概略断面図である。Dは、電圧印
加時における図19Aの線GG−GG’についての概略
断面図である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成14年10月24日(2002.10.
24)
24)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 液晶装置および電子機器
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 瀧澤 圭二
長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ
ーエプソン株式会社内
Fターム(参考) 2H042 BA02 BA03 BA12 BA20
2H089 LA41 RA05 RA10 TA01 TA02
TA04 TA05 TA09 TA13 TA14
TA15 TA17 TA18 TA20
2H091 FA07X FA11X FA14Y FA23Z
FA31X FA34Y FA41Z FA42Z
FA44Z FA45Z GA01 GA02
GA03 GA06 GA07 GA09 GA13
GA16 HA07 HA10 LA30
Claims (36)
- 【請求項1】 第1の基板の側に形成された第1の透明
電極と第2の基板の側に形成された第2の透明電極との
間で液晶層を挟持してなる液晶装置であって、 前記第2の基板における前記液晶層側の面に形成され
て、少なくとも前記第1の基板側から入射する光を反射
する反射膜と、 前記第2の基板における前記液晶層側の面に形成される
とともに、前記第1および第2の透明電極の交差領域に
対応した開口領域を有する遮光膜と、 前記第2の基板における前記液晶層側の面にあって、前
記遮光膜を覆うように形成された着色層とを具備するこ
とを特徴とする液晶装置。 - 【請求項2】前記遮光膜の開口領域内にあって、前記反
射膜に光を透過する第1の開口部を備えることを特徴と
する請求項1に記載の液晶装置。 - 【請求項3】 前記反射膜と第2の基板における前記液
晶層側の面との間に第1の膜を、さらに備えることを特
徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。 - 【請求項4】 前記遮光膜は、黒色の樹脂材料からなる
ことを特徴とする請求項1、2または3に記載の液晶装
置。 - 【請求項5】 前記遮光膜は、前記着色層が2色以上積
層されてなることを特徴とする請求項1、2または3に
記載の液晶装置。 - 【請求項6】 前記遮光膜の光学濃度は、0.5以上
1.7以下であることを特徴とする請求項1乃至5のい
ずれかに記載の液晶装置。 - 【請求項7】 前記遮光膜の開口領域は、 前記第1および第2の透明電極との交差領域に対し、当
該領域の周縁から前記第1および第2の透明電極間の距
離の略半分までを限度として当該領域の外側に拡大して
いることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 【請求項8】 前記反射膜の表面を少なくとも覆う第2
の膜を、さらに備えることを特徴とする請求項1に記載
の液晶装置。 - 【請求項9】 前記第2の透明電極は、密着性を高める
第3の膜上に形成されていることを特徴とする請求項1
または8に記載の液晶装置。 - 【請求項10】 前記着色層を覆うように形成された第
4の膜と、 前記遮光膜の開口領域にあって、前記着色層を開口する
第2の開口部とをさらに備えることを特徴とする請求項
2に記載の液晶装置。 - 【請求項11】 前記着色層を覆うように形成された第
4の膜を、さらに備えることを特徴とする請求項1、
2、8または9に記載の液晶装置。 - 【請求項12】 前記第4の膜は、光散乱性を有するこ
とを特徴とする請求項11に記載の液晶装置。 - 【請求項13】 前記第4の膜は、樹脂材料中に、該樹
脂材料とは屈折率が異なり、かつ、前記第4の膜厚より
も直径が小さい粒子を含むことを特徴とする請求項12
に記載の液晶装置。 - 【請求項14】 前記反射膜は、前記第2の基板におけ
る前記液晶層側の粗面に形成されていることを特徴とす
る請求項11に記載の液晶装置。 - 【請求項15】 前記粗面は、前記第2の基板における
前記液晶層側の面に形成された樹脂材料の表面であるこ
とを特徴とする請求項14に記載の液晶装置。 - 【請求項16】 前記粗面は、前記第2の基板における
前記液晶層側の面を粗面化処理したものであることを特
徴とする請求項14に記載の液晶装置。 - 【請求項17】 請求項1乃至16のいずれかに記載の
液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。 - 【請求項18】 液晶層を挟持する一対の基板のうち、
観察側とは反対側に位置する液晶装置用基板であって、 前記液晶層側の面に形成されて、少なくとも観察側から
入射する光を反射する反射膜と、 前記液晶層側の面に形成されて、反射膜に対して開口す
る開口領域を有する遮光膜と、 前記液晶層側の面にあって、前記遮光膜を覆うように形
成された着色層と、 前記着色層上に形成された透明電極とを具備することを
特徴とする液晶装置用基板。 - 【請求項19】 前記遮光膜の開口領域内にあって、前
記反射膜に光を透過する第1の開口部を備えることを特
徴とする請求項18に記載の液晶装置用基板。 - 【請求項20】 前記反射膜と前記液晶層側の面との間
に第1の膜を、さらに備えることを特徴とする請求項1
8または19に記載の液晶装置用基板。 - 【請求項21】 前記遮光膜は、黒色の樹脂材料からな
り、 その光学濃度が、0.5以上1.7以下であることを特
徴とする請求項18、19または20に記載の液晶装置
用基板。 - 【請求項22】 前記遮光膜は、前記着色層が2色以上
積層されてなり、 その光学濃度が、0.5以上1.7以下であることを特
徴とする請求項18、19または20に記載の液晶装置
用基板。 - 【請求項23】 前記反射膜の表面を少なくとも覆う第
2の膜を、さらに備えることを特徴とする請求項18に
記載の液晶装置用基板。 - 【請求項24】 前記透明電極は、密着性を高める第3
の膜上に形成されていることを特徴とする請求項17ま
たは23に記載の液晶装置用基板。 - 【請求項25】 前記着色層を覆うように形成された第
4の膜と、 前記遮光膜の開口領域にあって、前記着色層を開口する
第2の開口部とをさらに備えることを特徴とする請求項
19に記載の液晶装置用基板。 - 【請求項26】 前記着色層を覆うように形成された第
4の膜を、さらに備えることを特徴とする請求項18、
19、23または24に記載の液晶装置用基板。 - 【請求項27】 前記第4の膜は、光散乱性を有するこ
とを特徴とする請求項26に記載の液晶装置用基板。 - 【請求項28】 前記第4の膜は、樹脂材料中に、該樹
脂材料とは屈折率が異なり、かつ、前記第4の膜厚より
も直径が小さい粒子を含むことを特徴とする請求項27
に記載の液晶装置用基板。 - 【請求項29】 前記反射膜は、前記液晶層側の粗面に
形成されていることを特徴とする請求項26に記載の液
晶装置用基板。 - 【請求項30】 前記粗面は、前記液晶層側の面に形成
された樹脂材料の表面であることを特徴とする請求項2
9に記載の液晶装置用基板。 - 【請求項31】 前記粗面は、前記液晶層側の面を粗面
化処理したものであることを特徴とする請求項29に記
載の液晶装置用基板。 - 【請求項32】 第1の基板の側に形成された第1の透
明電極と第2の基板の側に形成された第2の透明電極と
の間で液晶層を挟持してなる液晶装置であって、 前記第2の基板における前記液晶層側の面上に形成され
て、少なくとも前記第1の基板側から入射する光を反射
する反射膜と、 前記第2の基板における前記液晶層側の面上であって前
記反射膜上に形成されるとともに、前記第1および第2
の透明電極が平面的にみて互いに重なる画素領域に対応
した開口領域を有する遮光膜と、 前記遮光膜の開口領域内において前記反射膜上に形成さ
れた着色層と、 前記着色層を覆うように形成された保護膜と、 前記保護膜上および前記保護膜の形成されていない前記
第2の基板上に形成された密着性向上層と、を具備し、 前記第2の透明電極は、前記保護膜上に位置する前記密
着性向上層上および前記保護膜の形成されていない前記
第2の基板上に位置する前記密着性向上層上に形成され
ていることを特徴とする液晶装置。 - 【請求項33】 第1の基板の側に形成された第1の透
明電極と第2の基板の側に形成された第2の透明電極と
の間で液晶層を挟持してなる液晶装置であって、 前記第2の基板における前記液晶層側の面上に形成され
た着色層と、 前記着色層を覆うように形成された保護膜と、 前記保護膜上および前記保護膜の形成されていない前記
第2の基板上に形成された密着性向上層と、を具備し、 前記第2の透明電極は、前記保護膜上に形成された前記
密着性向上層上および前記保護膜の形成されていない前
記第2の基板上に形成された前記密着性向上層上に形成
されていることを特徴とする液晶装置。 - 【請求項34】 前記第1の基板および前記第2の基板
の間に配置されるとともに、前記液晶層を封止するシー
ル材を更に備え、 前記保護膜の端縁は、前記シール材によって前記液晶層
が封止された領域内に位置していることを特徴とする請
求項32又は33に記載の液晶装置。 - 【請求項35】 前記密着性向上層は無機酸化物を含む
ことを特徴とする請求項32乃至34のいずれかに記載
の液晶装置。 - 【請求項36】 前記保護膜は樹脂材料を含むことを特
徴とする請求項32乃至34のいずれかに記載の液晶装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002277918A JP2003185999A (ja) | 1999-07-16 | 2002-09-24 | 液晶装置および電子機器 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20363599 | 1999-07-16 | ||
JP11-203635 | 1999-07-16 | ||
JP2002277918A JP2003185999A (ja) | 1999-07-16 | 2002-09-24 | 液晶装置および電子機器 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001510886A Division JP3379534B2 (ja) | 1999-07-16 | 2000-07-11 | 液晶装置および電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003185999A true JP2003185999A (ja) | 2003-07-03 |
Family
ID=27615021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002277918A Withdrawn JP2003185999A (ja) | 1999-07-16 | 2002-09-24 | 液晶装置および電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003185999A (ja) |
-
2002
- 2002-09-24 JP JP2002277918A patent/JP2003185999A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040525 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040726 |