JP2003181350A

JP2003181350A - 塗布装置及び塗布方法並びに熱現像感光材料の製造方法

Info

Publication number: JP2003181350A
Application number: JP2001389222A
Authority: JP
Inventors: Hironobu Iwashita; 広信岩下
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-12-21
Filing date: 2001-12-21
Publication date: 2003-07-02

Abstract

(57)【要約】【課題】コーターエッジに対し支持体進行方向上流側
のビード部での気液界面での反応や乾燥による塗布スジ
を防止し、特に有機溶剤系塗布液で反応性の高い素材を
使用する高粘度かつ高揮発性の塗布液（例えば熱現像感
光材料の塗布液）でも塗布故障を生じない塗布装置およ
び塗布方法を提供する。【解決手段】バックアップロールで保持され連続的に
走行している支持体表面に、バックアップロールに対向
し設置されている押出しコーターにより有機溶剤系塗布
液を塗布する塗布装置を用い、塗布ビード上流側を酸素
濃度０．５〜８％、かつ、有機溶剤の関係湿度が８０〜
１００％、水分量が０．５〜５Ｖｏｌ％の不活性ガスを
主たる成分としたガスを満たして塗布することを特徴と
する塗布方法、塗布装置及び該塗布装置による熱現像感
光材料の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布装置、塗布方
法及び熱現像感光材料の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、支持体上に塗布液を塗布する塗布
工程では様々な塗布方式が存在する。その塗布方式は大
きく２つに大別される。一つは必要な塗布液膜を形成す
る量だけ塗布液を吐出させて支持体上に塗布液を塗布す
る前計量型塗布方式、もう一つはあらかじめ必要な塗布
液膜形成量よりも余剰な塗布液を支持体上に吐出させ、
その後なんらかのかきとり手段で余剰分を取り除く後計
量型塗布方式である。後計量型塗布方式としては、ブレ
ード型塗布方式、エアーナイフ型塗布方式、ワイヤーバ
ー型塗布方式などが挙げられる。また、前計量型塗布方
式としては、エクストルージョン型塗布方式、カーテン
型塗布方式、スライド型塗布方式などが挙げられる。

【０００３】写真感光材料などの製造工程における塗布
では、塗布精度の高さ、高品位性、支持体の影響（し
わ、ツレなど）の受けにくさから、エクストルージョン
型塗布方式およびスライド型塗布方式が採用されること
が多かった。

【０００４】この２つの塗布方式における塗布装置と
は、支持体に均一に塗布液膜を形成するため塗布液を供
給する所謂ダイヘッドと連続走行する支持体表面を均一
に保持させるためのバックアップロールとから構成され
ている。これらの塗布方法はダイヘッドのスリットより
塗布液を吐出させリップとよばれる部分とバックアップ
ロールに保持された連続走行する支持体表面との間隙に
ビード（液だまり）を形成させつつ塗布する方法であ
り、ダイヘッドは二つ以上のブロックを組み合わせ、塗
布液を供給する供給口と、供給された塗布液を幅方向に
一旦溜めるためのマニホールドと、マニホールドから塗
布液を均一に吐出するためのスリットを有しており、ブ
ロックの組み合わせ数により単層から多層塗布が可能と
なる塗布方法である。

【０００５】エクストルージョン型塗布方式に関して
は、特開昭５６−９５３６３号、同５０−１４２６４３
号各公報に開示されている単層での塗布方法、および特
開昭４５−１２３９０号、同４６−２３６号に開示され
ている重層塗布方式に関するものなど多くの技術が開示
されている。

【０００６】こうした塗布方式により塗布を行うとき
に、使用される塗布液が有機溶剤系である場合とくに熱
現像感光材料（以後単に感光材料ともいう）の塗布液の
ような反応性の高い素材を使用した塗布の場合、塗布し
ている最中にコーターエッジに対し支持体進行方向上流
側のビード部での気液界面にて塗布液が反応したり乾燥
したりし、フロントエッジ部のビードが不均一になり、
塗布スジを発生させる塗布故障が発生する。ダイヘッド
での塗布液乾燥防止方法に関して、特開平６−１１４３
１８号、同７−１０８２１３号などがある。これらはダ
イヘッドリップの下流側を有機溶剤にて濡らすことによ
り乾燥を防止している。

【０００７】しかし、これら方法の問題点として、ダイ
ヘッドリップ下流側は乾燥防止することができるが、ダ
イヘッドリップ上流側が乾燥防止することができない。
つまり、ダイヘッドリップ下流側から有機溶剤を流下さ
せても、塗布液の上層部に有機溶剤が流下するだけであ
りダイヘッド上流側の外周面には塗布液が付着してしま
い、これが乾燥することで塗布故障を引き起こしてしま
う可能性が高い。さらにダイヘッド上流側の外周面に付
着した塗布液は塗布中支持体に塗布液がすべて塗布され
るため乾燥状態が長く続き、本発明のような高粘度、高
揮発性の熱現像感光材料塗布液では固化してしまい清掃
が非常に困難である。また、ダイヘッドリップ下流側で
は有機溶剤の流下を停めても、下流側外周面を伝わって
有機溶剤が流下して塗布中の塗膜に故障を発生させる可
能性もある。さらには、ビード上流側での反応を防止す
ることが出来ない。

【０００８】また、その他に特開昭５５−７５７５８号
記載の方法として塗布中リップ近傍にフードを設置して
その内部の有機溶剤濃度を高くする方法が開示されてい
るが、この方式はビード下流側である。そして上流側は
減圧しているために、上流側の反応や乾燥を防止する事
は出来ない。

【０００９】特願２０００−１３５７２６号明細書に
は、塗布工程を酸素濃度２質量％以下、水分量１質量％
以下にすることで乾燥過程における塗膜表面品質を良好
に維持する方法が開示されているが、この方式は乾燥時
の乾燥故障による塗膜表面品質劣化を防止する方法であ
り、スジを防止するものではない。特に、ビード上流側
の乾燥を防止できず、塗布スジ故障を発生させる可能性
がある。

【００１０】従来より、反応性の高い塗布液のコーター
エッジに対し支持体進行方向上流側のビード部での気液
界面での反応および乾燥を防止し、塗布スジ故障を防止
する方法についてはあまり知られていない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、有機
溶剤系塗布液の塗布装置および塗布方法において、コー
ターエッジに対し支持体進行方向上流側のビード部での
気液界面での反応や乾燥による塗布スジを防止し、特に
有機溶剤系塗布液で反応性の高い素材を使用する高粘度
かつ高揮発性の塗布液（例えば熱現像感光材料の塗布
液）でも塗布故障を生じない塗布装置および塗布方法を
提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成された。

【００１３】１．バックアップロールで保持され連続的
に走行している支持体表面に、バックアップロールに対
向し設置されている押出しコーターにより有機溶剤系塗
布液を塗布する塗布装置を用い、塗布ビード上流側を酸
素濃度０．５〜８％、かつ、有機溶剤の関係湿度が８０
〜１００％、水分量が０．５〜５Ｖｏｌ％の不活性ガス
を主たる成分としたガスを満たして塗布することを特徴
とする塗布方法。

【００１４】２．前記１記載の塗布方法に用いる塗布装
置が、塗布ビード上流側にチャンバーを設け、供給ガス
流量はチャンバー内部の圧力を計測し、設定圧力になる
ように流量を調整するガス供給装置を有することを特徴
とする塗布装置。

【００１５】３．前記１記載の塗布方法に用いる塗布装
置が、塗布ビード上流側にチャンバーを設け、塗布の有
無に合わせて、供給ガス流量を制御する装置を有するこ
とを特徴とする塗布装置。

【００１６】４．ビード上流に設けるチャンバーの支持
体入口が、塗布ビードより上部にあることを特徴とする
前記２又は３記載の塗布装置。

【００１７】５．支持体長手方向に少なくとも２つ以上
の隣接したチャンバーを設け、ガスの供給口を設けたチ
ャンバーを塗布開始前にあらかじめ支持体に接し、チャ
ンバー内部にガスを満たしてから塗布を開始することを
特徴とする塗布方法。

【００１８】６．前記１又は５記載の塗布方法により製
造することを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。

【００１９】７．前記２〜４のいずれか１項記載の塗布
装置により製造することを特徴とする熱現像感光材料の
製造方法。

【００２０】本発明を更に詳しく説明する。請求項１の
発明は、バックアップロールで保持され連続的に走行し
ている支持体表面に、バックアップロールに対向し設置
されている押出しコーターにて有機溶剤系塗布液を塗布
する塗布装置において、塗布ビード上流側を酸素濃度
０．５〜８％、かつ、有機溶剤の関係湿度が８０〜１０
０％、水分量が０．５〜５Ｖｏｌ％の不活性ガスを主た
る成分としたガスを満たして塗布を行うことにより、上
流側のビード部での気液界面での反応および乾燥を防止
できる。本発明において上流側とは、コーターを基準と
して、支持体の繰り出される側を示し、下流側とは反対
側を示す。

【００２１】請求項２の発明は、ビード上流側のチャン
バーへの供給流量はチャンバー内部の圧力を計測し、設
定圧力になるように流量を調整する事と、請求項３の発
明は、塗布の有無に合わせて、供給ガス流量を制御する
ことにより、ビード上流側にガスを満たしながら膜厚変
動が少なく、そして塗布開始直後から安定な塗布が可能
となった。

【００２２】請求項４の発明は、ビード上流に設けるチ
ャンバーの支持体入口が、塗布ビードより上部にあるこ
とにより、チャンバー内部への供給ガス量が驚くべきほ
ど低減可能となった。

【００２３】請求項５の発明は支持体長手方向に少なく
とも２つ以上の隣接したチャンバーを設け、ガスの供給
口を設けたチャンバーを塗布開始前にあらかじめ支持体
に接し、チャンバー内部にガスを満たしておいてから塗
布を開始する方法により、塗布開始直後から安定な塗布
が可能となった。

【００２４】本発明の塗布方法は、連続的に走行してい
る支持体表面にバックアップロールに対向し設置されて
いるダイヘッドのスリットから吐出された塗布液を塗布
する塗布方法、いわゆるエクストルージョン型塗布方法
が好ましい。

【００２５】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源（有機銀
塩）、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常（有機）バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有していることが好まし
い。本発明の熱現像感光材料は常温で安定であるが、露
光後高温（例えば、８０℃〜１４０℃）に加熱すること
で現像される。加熱することで有機銀塩（酸化剤として
機能する）と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を
生成する。この酸化還元反応は露光でハロゲン化銀に発
生した潜像の触媒作用によって促進されるので光の量に
応じて画像の形成がなされる。この反応過程は、外部か
ら水等の処理液を供給することなしに進行する。

【００２６】また、この熱現像感光材料は支持体上に少
なくとも一層の感光性層を有している。支持体の上に感
光性層のみを形成しても良いが、感光性層の上に少なく
とも１層の非感光性層を形成することが好ましい。感光
性層に通過する光の量または波長分布を制御するために
感光性層と同じ側にフィルター染料層および／または反
対側にアンチハレーション染料層、いわゆるバックコー
ト層を形成しても良いし、感光性層に染料または顔料を
含ませても良い。用いられる染料としては所望の波長範
囲で目的の吸収を有するものであればいかなる化合物で
も良いが、例えば特開昭５９−６４８１号、同５９−１
８２４３６号、米国特許第４，２７１，２６３号、同第
４，５９４，３１２号、欧州特許公開５３３，００８
号、同６５２，４７３号、特開平２−２１６１４０号、
同４−３４８３３９号、同７−１９１４３２号、同７−
３０１８９０号等に記載の化合物が好ましく用いられ
る。

【００２７】またこれらの非感光性層には前記のバイン
ダーやマット剤を含有することが好ましく、さらにポリ
シロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのような
スベリ剤を含有してもよい。

【００２８】本発明に係る感光性層は複数層にしても良
く、また階調の調節のため感度を高感層／低感層または
低感層／高感層にしても良い。

【００２９】感光性層と表面保護層はそれぞれ逐次に塗
布形成してもよいが、同時重層塗布が好ましい。また、
感光性層を複数層にした場合も同様に、逐次に塗布形成
してもよいが、同時重層塗布形成が好ましい。さらに、
支持体上に各層を形成する際は、バックコート層を塗布
形成し乾燥した後、その裏面に感光性層及び表面保護層
を塗布形成しても、その逆に支持体上に感光性層及び表
面保護層を塗布形成し乾燥した後、その裏面にバックコ
ート層を塗布形成しても良い。

【００３０】同時重層塗布方式としては複数のスリット
を有するエクストルージョン型塗布方式、スライド型塗
布方式などを採用することができる。また、各層塗布面
の乾燥方式についても特に限定されず、熱風乾燥方式、
赤外線乾燥方式などの乾燥方式を用いることができる。

【００３１】本発明に係る感光性ハロゲン化銀について
説明する。本発明に係る感光性ハロゲン化銀は光センサ
ーとして機能する。

【００３２】本発明においては、画像形成後の白濁を低
く抑えるため、及び良好な画質を得るために感光性ハロ
ゲン化銀粒子の平均粒子サイズが小さい方が好ましく、
平均粒子サイズが０．１μｍ以下、より好ましくは０．
０１μｍ〜０．１μｍ、特に０．０２μｍ〜０．０８μ
ｍが好ましい。ハロゲン化銀粒子の形状については、特
に制限はないが、ミラー指数〔１００〕面の占める割合
が高いことが好ましく、この割合が５０％以上、更には
７０％以上、特に８０％以上であることが好ましい。ま
たもう一つの好ましいハロゲン化銀の形状は、平板粒子
である。ここでいう平板粒子とは、投影面積の平方根を
粒径ｒμｍとして垂直方向の厚みｈμｍした場合のアス
ペクト比＝ｒ／ｈが３以上のものをいう。その中でも好
ましくはアスペクト比が３以上５０以下である。また粒
径は０．１μｍ以下であることが好ましく、さらに０．
０１μｍ〜０．０８μｍが好ましい。これらは米国特許
第５，２６４，３３７号、同第５，３１４，７９８号、
同第５，３２０，９５８号等に記載されており、容易に
目的の平板状粒子を得ることができる。

【００３３】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。

【００３４】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀粒
子は化学増感されていることが好ましい。好ましい化学
増感法としては当業界でよく知られているように硫黄増
感法、セレン増感法、テルル増感法を用いることができ
る。また金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合
物等の貴金属増感法や還元増感法が適用出来る。

【００３５】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、
該粒子形成時に平均分子量５万以下の低分子量ゼラチン
を用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀
粒子の核形成時に用いることが好ましい。

【００３６】本発明において低分子量ゼラチンは、平均
分子量５万以下のものであり、好ましくは２０００〜４
００００、更には５０００〜２５０００である。ゼラチ
ンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定す
ることができる。

【００３７】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、
該粒子形成時に下記の一般式（１）で示される化合物を
用いることが好ましい。一般式（１）ＹＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_m（ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ）_p（Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂Ｏ）_nＹ式中、Ｙは水素原子、−ＳＯ₃Ｍ、又は−ＣＯ−Ｂ−Ｃ
ＯＯＭを表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アン
モニウム基又は炭素原子数５以下のアルキル基にて置換
されたアンモニウム基を、Ｂは有機２塩基性酸を形成す
る鎖状又は環状の基を表す。ｍ及びｎは各々０〜５０を
ｐは１〜１００を表す。

【００３８】上記の一般式で表されるポリエチレンオキ
シド化合物は、ハロゲン化銀写真感光材料を製造するに
際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に
水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳
剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を攪拌した
り、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤と
して好ましく用いられてきたものであり、消泡剤として
用いる技術は例えば特開昭４４−９４９７号に記載され
ている。

【００３９】本発明において有機銀塩は還元可能な銀源
であり、有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特にこの中で
も長鎖の（炭素数１０〜３０、好ましくは１５〜２５）
脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環化合物の銀塩が好ま
しい。配位子が銀イオンに対する総安定度定数として
４．０〜１０．０の値をもつようなＲＤ１７０２９及び
２９９６３に記載された有機または無機の錯体も好まし
い。

【００４０】本発明に係る有機銀塩は種々の形状におい
て使用できるが、平板状の粒子が好ましい。特にアスペ
クト比３以上の平板状有機銀塩粒子であり、かつ、最大
面積を有する２枚のほぼ平行に相対する面（主平面）の
形状異方性を小さくして感光層中での充填を行うため、
主平面方向から計測される該平板状有機銀塩粒子の針状
比率の平均値が１．１以上、１０未満である粒子が好ま
しい。なお、さらに好ましい針状比率は１．１以上５．
０未満である。

【００４１】通常、熱現像感光材料に含有されている有
機銀粒子は、水系の母液中で形成され、多くの場合予め
形成されたハロゲン化銀粒子とここで混合される。最も
一般的な製造過程の概略としては、この後遠心脱水等に
より母液を除きスラリー及び／またはウエットケーキを
得る。次いで乾燥過程を経てドライ粉末を形成し、有機
溶媒及び／またはバインダー中で分散され、調液の後、
支持体に塗布される。

【００４２】本発明に係る平板状有機銀塩粒子は必要に
応じバインダーや界面活性剤などと共に予備分散した
後、メディア分散機または高圧ホモジナイザなどで分散
粉砕することが好ましい。上記予備分散にはアンカー
型、プロペラ型等の一般的攪拌機や高速回転遠心放射型
攪拌機（ディゾルバ）、高速回転剪断型撹拌機（ホモミ
キサ）を使用することができる。

【００４３】本発明の熱現像感光材料には還元剤が内蔵
されている。好適な還元剤の例は、米国特許第３，７７
０，４４８号、同第３，７７３，５１２号、同第３，５
９３，８６３号、及びＲｅｓｅａｒｃｈＤｉｓｃｌｏ
ｓｕｒｅ第１７０２９及び２９９６３に記載されてい
る。

【００４４】本発明の熱現像感光材料において、上述し
た各成分と共に色調剤、色調付与剤若しくは付活剤トー
ナーと称せられる添加剤（以下色調剤と呼ぶ）が使用さ
れる事が望ましい。色調剤は有機銀塩と還元剤の酸化還
元反応に関与して、生ずる銀画像を濃色、特に黒色にす
る機能を有する。本発明に用いられる好適な色調剤の例
はＲｅｓｅａｒｃｈＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２
９号に開示されている。

【００４５】本発明の熱現像感光材料は、製造中に或い
は感光材料の経時保存中に生成するカブリの元となる、
微小銀クラスターを漂白するためのハロゲン化カブリ防
止化合物を含有することが好ましい。写真業界で一般に
微小銀クラスターを漂白することが知られている化合物
を、本発明では適用できるが、特に少なくとも１個のハ
ロゲン化基をその上に有するアリール化合物が好まし
く、以下の一般式（２）で示される化合物が好ましい。

【００４６】一般式（２）Ａｒ−（ＳＯ₂）_y−ＣＨ_3-l（Ｘ）_l 式中、ｙは０または１であり、Ｘはハロゲン原子であ
り、ｌは１、２又は３であり、そしてＡｒは芳香族もし
くは複素芳香族基である。

【００４７】一般式（２）に含まれる化合物の詳細な列
挙は、米国特許第４，５４６，０７５号、同第４，７５
６，９９９号、同第４，４５２，８８５号、同第３，８
７４，９４６号および同第３，９５５，９８２号に記載
されている。

【００４８】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィル
ムを形成する媒体、例えば：ゼラチン、アラビアゴム、
ポリ（ビニルアルコール）、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ（ビニルピロリドン）、カゼイン、デンプ
ン、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メチルメタクリル
酸）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（メタクリル酸）、コ
ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、コポリ（スチレン
−アクリロニトリル）、コポリ（スチレン−ブタジエ
ン）、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、ポリ（ビ
ニルホルマール）及びポリ（ビニルブチラール））、ポ
リ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹
脂、ポリ（塩化ビニリデン）、ポリ（エポキシド）類、
ポリ（カーボネート）類、ポリ（ビニルアセテート）、
セルロースエステル類、ポリ（アミド）類がある。親水
性でも非親水性でもよい。

【００４９】また感光材料の表面を保護したり擦り傷を
防止するために、感光性層の外側に非感光性層を有する
ことができる。これらの非感光性層に用いられるバイン
ダーは感光性層に用いられるバインダーと同じ種類でも
異なった種類でもよい。

【００５０】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために感光性層のバインダー量が１．５〜１０ｇ／ｍ²
であることが好ましい。さらに好ましくは１．７〜８ｇ
／ｍ²である。１．５ｇ／ｍ²未満では未露光部の濃度が
大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。

【００５１】本発明においては、感光性層側にマット剤
を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防
止のために、感光材料の表面にマット剤を配することが
好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対
し、質量比で０．５〜３０％含有することが好ましい。

【００５２】また、支持体をはさみ感光層の反対側に非
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも１層中
にマット剤を含有することが好ましく、感光材料のすべ
り性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット
剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の
反対側の層の全バインダーに対し、質量比で０．５〜４
０％含有することが好ましい。

【００５３】本発明において用いられるマット剤の材質
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。マット剤の形
状は、定形、不定形どちらでも良いが、好ましくは定形
で、球形が好ましく用いられる。マット剤の大きさはマ
ット剤の体積を球形に換算したときの直径で表される。
本発明においてマット剤の粒径とはこの球形換算した直
径のことを示すものとする。

【００５４】本発明においては上記ハロゲン化カブリ防
止化合物を特開平６−２０８１９３号公報に記載された
ようなイソシアネート化合物、米国特許第３，０１７，
２８０号明細書、特開平９−５９１６号公報に記載され
たようなアジリジン化合物、特開平１０−１８６５６１
号、同９−５９１６号公報に記載されたエポキシ化合物
等と併用する事によりいっそうのカブリ防止効果を実現
できる。又、米国特許第３，１００，７０４号明細書に
記載されたカルボジイミド化合物も併用したときこれら
に次いで効果のあるカブリ防止化合物である。

【００５５】本発明の熱現像感光材料には例えば特開昭
６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５号、同６
３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１号、同６３
−３０４２４２号、同６３−１５２４５号、米国特許第
４，６３９，４１４号、同第４，７４０，４５５号、同
第４，７４１，９６６号、同第４，７５１，１７５号、
同第４，８３５，０９６号に記載された増感色素が使用
できる。

【００５６】本発明においては、特に赤外に分光感度を
有する増感色素を用いることが好ましい。本発明におい
て、好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例
えば、米国特許第４，５３６，４７３号、同第４，５１
５，８８８号、同第４，９５９，２９４号等に開示され
ている赤外分光増感色素が挙げられる。

【００５７】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。

【００５８】本発明に係るハロゲン化銀粒子には化学増
感を施すことができる。例えば、特願平１２−５７００
４号明細書及び特願平１２−６１９４２号明細書に開示
されている方法等により、硫黄などのカルコゲンを放出
する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴
金属化合物の利用により化学増感中心（化学増感核）を
形成付与できる。

【００５９】本発明の熱現像感光材料の好ましい総銀量
は０．５ｇ／ｍ²〜２．４ｇ／ｍ²であり、さらに好まし
くは１．０ｇ／ｍ²〜２．２ｇ／ｍ²である。前記総銀量
は、感光材料の使用目的、条件などに応じて決めること
が出来るが、前記の範囲に調整することにより、感度、
カブリ、保存性能などの性能が良好な熱現像感光材料を
得ることが出来る。

【００６０】本発明に用いられる支持体は現像処理後の
画像の変形を防ぐためにプラスチックフィルム（例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポ
リエチレンナフタレート）であることが好ましい。

【００６１】中でも好ましい支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）及びシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプラス
チック（以下ＳＰＳと略す）の支持体が挙げられる。支
持体の厚みとしては５０〜３００μｍ程度、好ましくは
７０〜１８０μｍである。また熱処理したプラスチック
支持体を用いることもできる。採用するプラスチックと
しては、前記のプラスチックが挙げられる。支持体の熱
処理とはこれらの支持体を製膜後、感光性層が塗布され
るまでの間に、支持体のガラス転移点より３０℃以上高
い温度で、好ましくは３５℃以上高い温度で、更に好ま
しくは４０℃以上高い温度で加熱することがよい。

【００６２】

【発明の実施の形態】図１に熱現像感光材料の製造に関
する一般的なエクストルージョン型塗布方式での塗布工
程概略図を示す。支持体１は図示しない巻き出し部より
図示しない支持体清掃手段（ウェブクリーナーなど）を
経てバックアップロール２により保持され矢印方向に走
行し塗布液膜乾燥室（図示しない）を通過し巻き取られ
る。その際、バックアップロール２に対向して配置され
るダイヘッド３により塗布液４が支持体上に塗布され
る。なお、ここでは図示しないが、塗布工程で塗布液膜
の未乾燥によるロール汚れ等の問題となる塗布開始部お
よび塗布終了部における厚膜部分を除去もしくは防止す
る機構が具備されていることが一般的である。

【００６３】なお、塗布液はタンク８より送液ポンプ７
により送液され、圧力計１０と濾過装置６を通過したの
ちダイヘッド３に導通される。なお、濾過装置の上流側
には濾過装置にかかる塗布液圧力を測定する圧力計が設
けられている。また、ダイヘッド３は塗布位置と待機位
置（塗布準備作業等を行うための退避位置）とを移動さ
せるためのステージ５と、待機位置で流出する塗布液を
廃液するための塗布液受け皿９を具備している。さらに
濾過装置による塗布液の濾過は絶対濾過精度または準絶
対濾過精度が５〜５０μｍの濾材を少なくとも１回は通
過させることが好ましい。塗布液受け皿は塗布位置にあ
る際にはバックロールに巻きまわされる支持体と接触し
ない位置に具備されており、塗布液の性質や塗布の必要
性に合わせて塗布中に減圧されることもある。また、ダ
イヘッドはスリット中間延長線（ただし、多層ダイヘッ
ドの場合はいずれかのスリット中間延長線）がバックア
ップロール中心を向いていることが好ましい。

【００６４】図２にダイヘッド３の塗布幅方向中央部に
おける断面の模式図を示す。ダイヘッドは通常２つ以上
のブロックの組み合わせ（組み合わせはボルトや、油圧
ジャッキなどによる）により構成されている。ダイヘッ
ドは塗布液を支持体幅方向に均一に広げるためのスリッ
ト３３、塗布液を内部に溜めるためのマニホールド３
４、マニホールド内に塗布液を導通するための供給口３
５、バックアップロール２に対向しビード（液溜まり）
を形成するリップからなる。リップはスリット３３を挟
んで上流側３２と下流側３１に別れている。

【００６５】スリットの間隙値は通常０．０５ｍｍ〜２
ｍｍの間で塗布液の粘度等物性値から決定される。ただ
し、塗布幅方向の間隙値のばらつきは２％以下が好まし
い。供給口の大きさは任意であり、その位置は通常ダイ
ヘッド塗布幅方向中央である。リップは上流側と下流側
で長さは同じでも異なっていても良い。また、その長さ
は通常０．５ｍｍ〜３ｍｍ程度の範囲で設定される。

【００６６】塗布方法について説明する。ダイヘッドは
塗布位置から充分に離れた待機位置にある状態でポンプ
により塗布液を規定流量で送液し、スリット清掃やリッ
プ清掃などの準備作業を行い、その後支持体を規定速度
で走行させてからステージを移動させダイヘッドを所定
の塗布位置へ移動させることにより塗布を開始する。ま
た、塗布終了時はステージを移動させダイヘッドを所定
の待機位置に移動させることにより行う。なお、移動の
際塗布液は送液したままでも一旦停止してもよい。

【００６７】ただし、本発明のような高粘度、高揮発性
有機溶剤系熱現像感光材料塗布液では送液を一旦止めて
しまうとスリットやその近傍で塗布液が固化してしまう
ため行わず、塗布液を送液したまま移動を行う。

【００６８】また、所定の塗布位置は任意に設定できる
が、塗布液受け皿での減圧や塗布液物性、塗布性などに
より任意に設定できる。バックアップロール上の支持体
とダイヘッドリップとの最も狭い間隙が通常は支持体上
に塗布される塗布液膜厚みの５倍以下である。

【００６９】図３〜図５に本発明のエクストルージョン
型塗布方式での塗布工程におけるダイヘッド近傍概略図
を示す。コータービード上流側に設けたチャンバーが、
図３の様に、支持体進行方向に支持体上流側のチャンバ
ー１１、下流側のチャンバー１２のごとく２分割で
きるようになっており、チャンバー１１は支持体近傍
の所定の位置に設け、内部を所定の溶剤濃度、酸素濃
度、水分量にしておく。チャンバー１２はコーターの
前後動と同期して移動し、コーターが支持体から離れて
いる時は、チャンバー１２内部は大気で置換される。
また、支持体から離れている時にコーターに塗布液を供
給した場合に、流れ出る塗布液の液受けも兼ねるため
に、液を排出するための弁を開く。塗布時はコーターと
共に、支持体近傍の所定の位置に移動する。そして、液
を排出する弁を閉じ、内部に供給するガスが流出しない
ようにした。ガスの供給口は、図３のごとく、ビードよ
り重力方向上部に搬送上流側のチャンバー１１に設け
られ、そしてチャンバー１１に供給されたガスは、チ
ャンバー１１とチャンバー１２の間の間隙を通り抜
け、チャンバー１２内に供給されるように、チャンバ
ー１１とチャンバー１２の支持体との間隙は設定す
る。具体的には支持体との距離は、ギャップ＜ギャッ
プ≒ギャップとなるように設定する。ここで、ギャ
ップ２１は４００μｍ、ギャップ２２およびギャッ
プ２３は８００μｍとした。また、チャンバー両端の
部分は、チャンバー１１、チャンバー１２共に間隙
を４００μｍとした。チャンバー１１とチャンバー
１２は密着性を上げ、ガス漏れを防ぐために、隙間にパ
ッキンを挿入することが好ましい。ここで、チャンバー
は２分割しているが、図５の如く、１つのチャンバーで
も構わない。また、２つ以上に分かれていても構わな
い。

【００７０】塗布の有無で、ガスの流量はバルブ１５に
より調整する方法が好ましい。特に、塗布をしていない
時は、ガスの流量を０に絞る事で、ガスの無駄な消費を
防ぎ、運転コストを削減する事が出来る。また、有機溶
剤を含んだ不活性ガスの飛散を防ぎ、作業環境への配慮
も出来る。ガス供給系には、気体圧力計１６、ガス濾過
装置１３及び塗布液排出口１４が設けられている。

【００７１】本発明では関係湿度は以下の様に示され
る。 ψ＝（Ｐ／Ｐｓ）×１００ ψ：関係湿度Ｐ：蒸気圧Ｐｓ：飽和蒸気圧関係湿度はＲｏｂｅｒｔＨ．Ｐｅｒｒｙ／Ｃ
ｅｃｉｌＨ．Ｃｈｉｌｔｏｎ， “Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌＥｎｇｉｎｅｅｒｓ’ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，５
ｔｈｅｄ．，ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ，Ｐ２０−７
に記載されているように、有機溶剤蒸気の混合ガスの
諸特性を示す湿度図表から求める事が可能である。

【００７２】又、任意の温度における飽和蒸気圧は、
Ｒ．Ｃリード他著、平田光穂訳、マグロウヒルブック
（株）、「物性推算ハンドブック」第３版、Ｐ１８５に
記載されているＡｎｔｏｉｎｅ蒸気圧式で推算する事が
可能である。一方、蒸気圧は、江口彌著、（株）化学
同人、「化学工学量論」Ｐ８２に記載されているＤａｌ
ｔｏｎの法則、ｐ８３のＡｍａｇａｔの法則より、ガス
クロマトグラフで測定した雰囲気中の有機溶剤ガスの容
積比（Ｖｏｌ％）より蒸気圧を推算する事が可能であ
る。

【００７３】本発明で用いることのできる不活性ガス
は、窒素、アルゴン、ヘリウム、炭酸ガス等が挙げられ
るが、コスト的に窒素ガスが好ましい。供給方法として
は高圧ガスボンベから供給する方法、液化ガス貯槽より
液化ガス蒸発器を通過させ供給する方法、ＰＳＡ（Ｐｒ
ｅｓｓｕｒｅＳｗｉｎｇＡｄｓｏｒｐｔｉｏｎ：圧
力変動吸着）式空気分離装置を用いて供給する方法、膜
分離方式を用いて供給する方法等が使用可能である。こ
のうち、本発明においては、膜分離式が運転コストが安
価であり最も好ましい。

【００７４】有機溶剤を含んだ不活性ガスのチャンバー
内への供給方法は、ガス流量そのものを調整する方法
と、チャンバー内部の圧力を測定し流量を制御する方法
がある。ここでチャンバー内の圧力は、塗布するコータ
ーギャップや塗布液粘度、塗布膜厚、塗布速度にもよる
が、０．１Ｐａ〜２０Ｐａ、好ましくは０．１〜１０Ｐ
ａの範囲内で、チャンバー内がチャンバー外よりも高く
なるように不活性ガスの流量を調節することが好まし
い。

【００７５】不活性ガス中へ有機溶剤を含ませる事は、
密閉容器内に有機溶剤（たとえばメチルエチルケトン
ＭＥＫ）を入れ、その内部に不活性ガスを通過させる事
や、例えば熱交換器内で霧吹きすることで達成される。
また、チャンバー内へ供給する有機溶剤を含む不活性ガ
スは、例えば熱交換器を通過させ、必要な温度に温調さ
れる。また冷却、加温の有機溶剤の調湿操作をすること
で、供給する不活性ガス中の有機溶剤量を調整すること
も可能である。

【００７６】チャンバー内の水分に関しては、供給され
る不活性ガス中に含まれるもの、あるいは、湿らせる有
機溶剤中に含まれるものもあるが、搬送される支持体の
同伴空気としてチャンバーへ流入するコーター部の大気
に含まれる水分が主である。供給する不活性ガス中の水
分量を極力減らす場合には、液化ガス貯槽より液化ガス
蒸発器を通過させ供給する方法が優れている。

【００７７】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明の効果を具体的
に説明するが、本発明はこれらの様態に限定されるもの
ではない。

【００７８】実施例１下記記載の感光層塗布液及び保護層塗布液を、感光層塗
布液の目標湿潤膜厚は９０μｍ、保護層塗布液の目標湿
潤膜厚は３０μｍとなるようにして、市販の２軸延伸熱
固定済みの厚さ１７５μｍＰＥＴフィルム上に、バック
ロールでウェブを保持し、図３の様に塗布ビード前にチ
ャンバーを設けた重層ダイコーターにより塗布速度５０
ｍ／ｍｉｎにて均一に塗工した。

【００７９】この塗膜を、裏面をウェブ案内ロールで支
持し、搬送しながら３つの乾燥ゾーンからなる窒素雰囲
気のイナート乾燥装置へ搬送し、吹き出し口より加熱し
た風を塗膜表面に吹き付けることにより乾燥した。乾燥
ゾーンの温度は第１ゾーン、第２ゾーン、第３ゾーン全
て７０℃で行った。吹き出し口距離３００ｍｍ、吹き出
し風速７ｍ／ｓｅｃ、シール風量２５％で塗膜を乾燥
し、塗膜乾燥後の支持体は搬送し巻取機にて巻き取っ
た。

【００８０】（ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）水４０Ｌ中
にイナートゼラチン１．３ｋｇ及び０．１Ｍ／Ｌ臭化カ
リウム１６０ｍｌを溶解して温度３５℃、ｐＨを３．０
に合わせた後、硝酸銀４．５ｋｇを含む水溶液３９Ｌと
（９８／２）のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムを
含む水溶液及び〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕塩を銀１モル当
たり１×１０^-6モル及び塩化ロジウム塩を銀１モル当た
り１×１０^-4モルを、ｐＡｇ７．７に保ちながらコント
ロールドダブルジェット法で添加した。その後４−ヒド
ロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザイン
デンを添加し、ＮａＯＨでｐＨを５に調整して平均粒子
サイズ０．０６μｍ、投影直径面積の変動係数８％、
（１００）面比率８７％の立方体沃臭化銀粒子を得た。
この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ、脱塩
処理後フェノキシエタノール４．２ｇを加え、ｐＨ５．
９、ｐＡｇ７．５に調整して、ハロゲン化銀乳剤を得
た。

【００８１】次に、このハロゲン化銀乳剤に銀１モル当
たり３×１０^-2モルのチオ硫酸ナトリウムを加え、５５
℃にて６０分間反応させて化学増感を施した。その後、
ハロゲン化銀乳剤の温度を室温に降温させてから、後記
するカブリ防止剤等を加え、塩化金酸及び無機硫黄で化
学増感を行い、ハロゲン化銀乳剤Ａを調製した。

【００８２】（ベヘン酸Ｎａ溶液の調製）４０Ｌの純水
にベヘン酸１．４ｋｇ、アラキジン酸０．４２ｋｇ、ス
テアリン酸０．２５ｋｇを９０℃で溶解した。次いで高
速で攪拌しながら、１．５Ｍ／Ｌの水酸化ナトリウム溶
液４．１Ｌを添加した。次に濃硝酸３９Ｌを加えた後、
５５℃に冷却して３０分攪拌してベヘン酸Ｎａ溶液を得
た。

【００８３】（ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Ａのプレ
フォーム乳剤の調製）上記ベヘン酸Ｎａ溶液に前記ハロ
ゲン化銀乳剤Ａを６４０ｇ添加し、水酸化ナトリウム溶
液でｐＨ８．１に調整した後に、１Ｍ／Ｌの硝酸銀溶液
６．２Ｌを加え、２０分攪拌し、限外濾過により水溶性
塩類を除去した。得られたベヘン酸銀は平均粒子サイズ
０．８μｍ、単分散度８％の粒子であった。分散物のフ
ロックを形成後、水を取り除き、更に６回の水洗と水の
除去を行った後、乾燥させた。

【００８４】（感光層塗布液の調製）上記で得られたプ
レフォーム乳剤に、ポリビニルブチラール（平均分子量
３０００）のメチルエチルケトン溶液（１７質量％）２
３ｋｇとトルエン４．５ｋｇを、徐々に添加して混合し
た後に、４０００ｐｓｉで分散させ感光性乳剤分散物を
得た。

【００８５】この分散物を用いて以下の組成の感光層塗
布液を調製した。メチルエチルケトン６９．９質量％感光性乳剤分散物２２．８質量％増感色素−１０．１６質量％ピリジニウムプロミドペルブロミド０．２９質量％臭化カルシウム０．１６質量％カブリ防止剤−１０．１１質量％２−（４−クロロベンゾイル）安息香酸０．８７質量％２−メルカプトベンズイミダゾール１．０５質量％トリブロモメチルスルホキノリン１．６２質量％Ａ−１２．８２質量％フタラジン０．１５質量％

【００８６】

【化１】

【００８７】〈保護層塗布液の調製〉以下の組成の保護
層塗布液を調製した。

【００８８】メチルエチルケトン８３．１質量％酢酸セルロース４．６３質量％メタノール１１．１質量％４−メチルフタル酸０．３６質量％テトラクロロフタル酸０．３０質量％テトラクロロフタル酸無水物０．３４質量％単分散シリカマット剤（単分散度１０％、平均粒子サイズ４μｍ）０．１４質量％Ｃ₈Ｈ₁₇−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₃Ｎａ０．０２０質量％＜実験１＞表１の如く、塗布する際の条件を変更し、塗
布長１００００ｍを連続塗布した後の、熱現像感光材料
に８１０ｎｍの半導体レーザーを有するレーザー感光計
で均一に露光した。その後、ヒートドラムを有する自動
現像機を用いて、１１０℃で１．５の光学濃度になるよ
うに熱現像処理した。その際、露光及び現像は２３℃、
５０％ＲＨに調湿した部屋で行った。その現像済みの塗
布試料をＸ線写真観察器（シャウカステン）上で塗布ス
ジの本数を数えた。

【００８９】チャンバー内の酸素濃度を８％以下、水分
量を５Ｖｏｌ％以下、チャンバー内の溶剤関係湿度を８
０％以上にすることで、スジの本数が激減した。

【００９０】

【表１】

【００９１】ここで、酸素濃度は、チャンバー内の雰囲
気ガスをサンプリングし理研計器（株）隔膜ガルバニ電
池式酸素濃度計ＧＤＦ４Ａにて計測した。

【００９２】窒素ガスを含むチャンバー内の水分量（Ｖ
ｏｌ％）、および有機溶剤量（Ｖｏｌ％）は、ＧＬサイ
エンス製ＧＣ−３２３Ｓガスクロマトグラフにて、ＴＣ
Ｄ式で計測した。この有機溶剤量よりＭＥＫ蒸気分圧を
Ａｍａｇａｔ及びＤａｌｔｏｎの法則から推算し、チャ
ンバー内のガス温度からＡｎｔｏｉｎｅ蒸気圧式よりチ
ャンバー内の飽和蒸気圧を推算した。ＭＥＫのＡｎｔｏ
ｉｎｅの係数はＲ．Ｃリード他著、平田光穂訳、マグロ
ウヒルブック（株）、「物性推算ハンドブック」第３版
より引用した。

【００９３】チャンバー内のガス温度は、チャンバー内
に測温抵抗体を挿入し計測した。有機溶剤を含む不活性
ガスは、ＭＥＫで満たした密閉容器中に、窒素ガスを通
過させ供給した。

【００９４】＜実験２＞チャンバー内圧調整手段を設
け、塗布の有無でチャンバー内の圧力を調整した以外
は、水準１−５と同じ方法で塗布長１００００ｍ連続塗
布し作製した熱現像感光材料に、実験１同様、８１０ｎ
ｍの半導体レーザーを有するレーザー感光計で均一に露
光した。その後、ヒートドラムを有する自動現像機を用
いて、１１０℃で１．５の光学濃度になるように熱現像
処理し、塗布膜厚測定試料とした。その際、露光及び現
像は２３℃、５０％ＲＨに調湿した部屋で行った。

【００９５】ここで、塗布長に応じたチャンバー内のチ
ャンバー外との差圧と、塗布長に応じた露光後の光学濃
度の濃度分布標準偏差（％）は以下の表２の通りであ
る。

【００９６】（４００ｎｍにおける光学透過濃度の測
定）島津製作所（株）製分光光度計ＵＶ−１２００を
用いて、現像後試料未露光部の部分の４００ｎｍにおけ
る透過濃度を幅手方向で等間隔に計２００ポイント測定
し、濃度分布標準偏差（％）とした。尚、濃度分布標準
偏差（％）は次式より計算した値である。

【００９７】濃度分布標準偏差（％）＝２００ポイント
の標準偏差／２００ポイントの濃度平均値×１００

【００９８】

【表２】

【００９９】内圧調整手段を設けた場合は、塗布先頭か
ら、塗布長経過の幅手膜厚分布の変動が少なく安定であ
った。

【０１００】＜実験３＞コータービード上流側に設けた
チャンバーの支持体出入り口が図３の様に、塗布ビード
より重力方向で上部にある場合と、図４の様に、塗布ビ
ードより重力方向で下部にある場合に、図３と図４の装
置で酸素濃度を３％に維持するのに必要な供給ガス流量
の比は表３の通りである。

【０１０１】

【表３】

【０１０２】ガス流量は、「ＪＩＳＺ８７６２（１
９９５）絞り機構による流量測定方法」に基づき、配管
内に入れたオリフィス前後の差圧を山武製防爆形差圧発
信機にて差圧を計測しその差圧から流量換算した。

【０１０３】３−２のガス流量比は、水準３−１の流量
を１とした場合の相対的な流量である。すなわち水準３−２のガス流量÷水準３−１のガス流量＝０．２となる。

【０１０４】ここでガスは、不活性ガス（窒素ガス）に
有機溶剤（ＭＥＫ）を含ませるために、ガス流量が多い
ほど、窒素ガス、および有機溶剤の消費量が増え、コス
トもかさむことになる。

【０１０５】このように、ビードより重力方向上部にあ
る場合、必要なガス流量は下部にある場合の２／１０、
すなわち１／５のガス流量で必要な酸素濃度８％を維持
可能となり、ガスの消費量が少なく、より経済的な運転
が可能となった。

【０１０６】なお、水準１−５と同じ条件で１００００
ｍ塗布したところ、両者とも塗布スジの発生は無かっ
た。

【０１０７】

【発明の効果】本発明によって、有機溶剤系塗布液の塗
布装置および塗布方法において、コーターエッジに対し
支持体進行方向上流側のビード部での気液界面での反応
や乾燥による塗布スジを防止し、特に有機溶剤系塗布液
で反応性の高い素材を使用する高粘度かつ高揮発性の塗
布液（例えば熱現像感光材料の塗布液）でも塗布故障を
生じない塗布装置および塗布方法を提供することができ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的なエクストルージョン型塗布方式での塗
布工程概略図である。

【図２】ダイヘッドの塗布幅方向中央部における断面の
模式図である。

【図３】本発明のエクストルージョン型塗布方式での塗
布工程におけるダイヘッド近傍概略図である。

【図４】本発明の別のエクストルージョン型塗布方式で
の塗布工程におけるダイヘッド近傍概略図である。

【図５】本発明の別のエクストルージョン型塗布方式で
の塗布工程におけるダイヘッド近傍概略図である。

【符号の説明】

１支持体２バックアップロール３ダイヘッド４塗布液５ステージ６濾過装置７送液ポンプ８タンク９塗布液受け皿１０圧力計１１チャンバー１２チャンバー１３ガス濾過装置１４塗布液排出口１５バルブ１６気体圧力計２１ギャップ２２ギャップ２３ギャップ３０ブロック３１下流側リップ３２上流側リップ３３スリット３４マニホールド３５供給口

フロントページの続きＦターム(参考） 2H123 AB00 AB01 AB03 AB23 AB25 BA00 BB39 BC00 CB00 CB03 4D075 AC02 AC05 AC16 AC17 AC72 AC80 AC94 AC95 BB56Y CA47 CA48 DA04 DB48 DC27 EA05 EA43 EA45 EB07 EB11 EB15 EB19 EB22 EB31 EB32 EB35 4F041 AA11 AA12 AB02 CA02 CA03 CA15

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】バックアップロールで保持され連続的に
走行している支持体表面に、バックアップロールに対向
し設置されている押出しコーターにより有機溶剤系塗布
液を塗布する塗布装置を用い、塗布ビード上流側を酸素
濃度０．５〜８％、かつ、有機溶剤の関係湿度が８０〜
１００％、水分量が０．５〜５Ｖｏｌ％の不活性ガスを
主たる成分としたガスを満たして塗布することを特徴と
する塗布方法。
【請求項２】請求項１記載の塗布方法に用いる塗布装
置が、塗布ビード上流側にチャンバーを設け、供給ガス
流量はチャンバー内部の圧力を計測し、設定圧力になる
ように流量を調整するガス供給装置を有することを特徴
とする塗布装置。
【請求項３】請求項１記載の塗布方法に用いる塗布装
置が、塗布ビード上流側にチャンバーを設け、塗布の有
無に合わせて、供給ガス流量を制御する装置を有するこ
とを特徴とする塗布装置。
【請求項４】ビード上流に設けるチャンバーの支持体
入口が、塗布ビードより上部にあることを特徴とする請
求項２又は３記載の塗布装置。
【請求項５】支持体長手方向に少なくとも２つ以上の
隣接したチャンバーを設け、ガスの供給口を設けたチャ
ンバーを塗布開始前にあらかじめ支持体に接し、チャン
バー内部にガスを満たしてから塗布を開始することを特
徴とする塗布方法。
【請求項６】請求項１又は５記載の塗布方法により製
造することを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。
【請求項７】請求項２〜４のいずれか１項記載の塗布
装置により製造することを特徴とする熱現像感光材料の
製造方法。