JP2003178431A - Perpendicular two-layer patterned medium and method for manufacturing the same - Google Patents
Perpendicular two-layer patterned medium and method for manufacturing the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、各種磁気記録装置
に搭載される垂直二層パターンド媒体およびその製造方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a perpendicular double-layer patterned medium mounted on various magnetic recording devices and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】磁気記録の高密度化を実現する技術とし
て、従来の長手磁気記録方式に代えて、垂直磁気記録方
式が注目されつつある。垂直磁気記録媒体は主に、硬質
磁性材料の磁気記録層、この磁気記録層の表面を保護す
る保護膜、そしてこの記録層への記録に用いられる磁気
ヘッドが発生する磁束を集中させる役割を担う軟磁性材
料の裏打ち層から構成されている。一方、垂直磁気記録
媒体よりも更に高密度化を狙う技術としてパターンド媒
体がある。このパターンド媒体は、磁気記録層に規則的
に微細なパターンを施すもので、磁気的に分離されたｂ
ｉｔ（ビット）を規則的に配置することで、超高密度記
録を達成しようという試みのものである。2. Description of the Related Art As a technique for realizing high density of magnetic recording, a perpendicular magnetic recording system is attracting attention in place of the conventional longitudinal magnetic recording system. The perpendicular magnetic recording medium mainly plays a role of concentrating a magnetic recording layer of a hard magnetic material, a protective film for protecting the surface of the magnetic recording layer, and a magnetic flux generated by a magnetic head used for recording on the recording layer. It is composed of a backing layer of a soft magnetic material. On the other hand, there is a patterned medium as a technique aiming at higher density than the perpendicular magnetic recording medium. This patterned medium is one in which a magnetic recording layer is regularly provided with a fine pattern, and magnetically separated b
This is an attempt to achieve ultra-high density recording by arranging it (bits) regularly.
【０００３】図１に従来の典型的なパターンド媒体の作
製方法を示す。以下、図１を参照してパターンド媒体の
作製方法についてを説明する。まず、(a) 非磁性基体１
２上に磁気記録層１１を成膜する。次に、(b) 磁気記録
層１１の表面にレジスト１３を塗布し、(c) レジスト１
３に対し電子線リソグラフィによりパターンを描画す
る。引き続いて、(d) このパターンに対し、図示のよう
にマスク膜１４を成膜するが、この膜は後で行うＲＩＥ
（Reactive Ion Etching：反応性イオン・エッチング）
によりエッチングされない材質を選ぶ。次に、(e) レジ
ストを取り除き、(f) マスクされていない部分をＲＩＥ
により取り除く。最後に、(g) マスク膜を取り除くと、
非磁性基体１２上にパターニングされた磁気記録層１１
が残る。FIG. 1 shows a conventional method for producing a typical patterned medium. Hereinafter, a method for manufacturing a patterned medium will be described with reference to FIG. First, (a) non-magnetic substrate 1
A magnetic recording layer 11 is formed on the magnetic recording layer 2. Next, (b) the resist 13 is applied to the surface of the magnetic recording layer 11, and (c) the resist 1
3 is patterned by electron beam lithography. Subsequently, (d) a mask film 14 is formed on this pattern as shown in the figure, and this film is formed by RIE.
(Reactive Ion Etching)
Select a material that is not etched by. Next, (e) the resist is removed, and (f) the unmasked portion is RIEed.
Remove by. Finally, if the (g) mask film is removed,
Magnetic recording layer 11 patterned on non-magnetic substrate 12
Remains.
【０００４】このようなパターンド媒体は、超高密度記
録が狙えるばかりではなく、サーボ信号の埋め込みにも
応用できる。Such a patterned medium can be used not only for ultra-high density recording but also for embedding a servo signal.
【０００５】パターンド媒体の技術を垂直磁気記録媒体
に適用することにより、超高密度記録が可能になると考
えられるが、実用化を考えた場合、一見してわかるよう
に、上記のような半導体作製工程のようなプロセスは生
産性が低く、コスト高に繋がる。そのため、コストをで
きるだけ低く抑えることができる簡易なプロセスが望ま
れている。By applying the technique of the patterned medium to the perpendicular magnetic recording medium, it is considered that ultra-high density recording can be realized. However, when it is put into practical use, as can be seen at a glance, the above semiconductors are used. A process such as a manufacturing process has low productivity and leads to high cost. Therefore, a simple process that can keep the cost as low as possible is desired.
【０００６】これに対し、より生産性の高い方法とし
て、射出成形等により予めパターンが埋め込まれたプラ
スチック基板、プレスによりパターンを転写した金属基
板、あるいはポーラスアルミナのような多孔質体を基板
として用いて、パターン内や細孔内に磁気記録膜を埋め
込むことでパターンド媒体を達成しようという試みがあ
る。On the other hand, as a more productive method, a plastic substrate having a pattern embedded therein by injection molding or the like, a metal substrate having a pattern transferred by pressing, or a porous body such as porous alumina is used as the substrate. Then, there is an attempt to achieve a patterned medium by embedding a magnetic recording film in the pattern or in the pores.
【０００７】しかしながら、これら後者の方法は、図１
の半導体的プロセスよりも簡易ではあるが、解決すべき
点が２点挙げられる。その一つは、上記の方法ではパタ
ーンド媒体用の基板としての平面度、平坦度を出すこと
が困難であるという点である。磁気ヘッドの浮上量が１
０ｎｍを切ろうとしている現在では、例えばガラス基板
に要求されるスペックは、平均荒さ（Ｒａ）は０．５ｎ
ｍ以下、平坦度４μｍ以下、平均ウネリ（Ｗca）が０．
８ｎｍ以下と非常に厳しいものとなっており、プラスチ
ックやプレスにより歪みを加えられた金属基板、あるい
は多孔質体でこのスペックを満たすことは大変困難であ
る。However, these latter methods are shown in FIG.
Although it is simpler than the semiconductor process, there are two points to be solved. One of them is that it is difficult to obtain flatness and flatness as a substrate for a patterned medium by the above method. The flying height of the magnetic head is 1
At present, when it is about to cut to 0 nm, for example, the specifications required for a glass substrate have an average roughness (Ra) of 0.5 n.
m or less, flatness 4 μm or less, average waviness (Wca) of 0.
It is extremely strict at 8 nm or less, and it is very difficult to satisfy this specification with a plastic or a metal substrate strained by a press, or a porous body.
【０００８】その２点目としては、垂直磁気記録媒体特
有の軟磁性裏打ち層に関連した問題がある。垂直磁気記
録媒体における軟磁性裏打ち層は、磁気ヘッドの一部と
も言われており、記録に際しては、磁気ヘッドが発生す
る磁束が広がらないようにして引き込み、更にその磁束
を磁気ヘッドにリターンさせる役割を持つ。予めパター
ニングされた基板、あるいは細孔を持つ基板に軟磁性裏
打ち層を成膜すると、軟磁性裏打ち層もパターンあるい
は細孔により磁気的に分断されることになる。これによ
り、磁束のリターンパスを充分に確保できなくなるばか
りでなく、磁壁がパターンあるいは細孔内でしか動けな
くなるため軟磁気特性が劣化し、これらが原因で磁気ヘ
ッドの記録能力が低下する。実際、これらの方法は、垂
直二層パターンド媒体については、報告されておらず、
軟磁性裏打ち層を設けない単層媒体を用いて基礎的な検
討がなされているというのが現状である。The second problem is the soft magnetic backing layer peculiar to the perpendicular magnetic recording medium. The soft magnetic backing layer in the perpendicular magnetic recording medium is also called a part of the magnetic head. During recording, the magnetic flux generated by the magnetic head is pulled in so as not to spread, and the magnetic flux is returned to the magnetic head. have. When the soft magnetic backing layer is formed on a pre-patterned substrate or a substrate having pores, the soft magnetic backing layer is also magnetically divided by the pattern or pores. As a result, not only the return path of the magnetic flux cannot be sufficiently secured, but also the domain wall can move only within the pattern or the pores, so that the soft magnetic characteristics are deteriorated, and the recording capability of the magnetic head is deteriorated due to these. In fact, these methods have not been reported for vertical bilayer patterned media,
The present situation is that basic studies have been made using a single-layer medium without a soft magnetic backing layer.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】以上述べたようによう
に、図１に示した従来技術は、描画に電子線リソグラフ
ィを用いることで微細なパターンを形成することが可能
であることから、高密度記録が可能なパターンド媒体の
製造という観点からは優れた方法であると言えるが、大
量生産を考えた場合、現実的な製造方法とは言えない。
また、予めパターニングされた基板を用いる従来技術の
場合には、基板自体が媒体基板としての平面度、平坦度
等のスペックを満たすことが難しいことに加え、パター
ン内あるいは細孔内に、軟磁気特性を劣化させることな
く軟磁性裏打ち層を埋め込むことは不可能である。As described above, according to the conventional technique shown in FIG. 1, since it is possible to form a fine pattern by using electron beam lithography for drawing, it is possible to obtain a high pattern. It can be said that this is an excellent method from the viewpoint of manufacturing a patterned medium capable of density recording, but it is not a realistic manufacturing method when considering mass production.
Further, in the case of the conventional technique using a pre-patterned substrate, it is difficult for the substrate itself to meet the specifications such as flatness and flatness as a medium substrate, and in addition, in the pattern or in the pores, soft magnetic It is impossible to embed the soft magnetic backing layer without deteriorating the characteristics.
【００１０】本発明は、このような従来技術の課題に鑑
みてなされたものであって、その目的は、軟磁性裏打ち
層を有する垂直磁気記録媒体に規則的で微細なパターン
を形成して成るパターンド媒体において、簡易で、
記録特性を低下させることなく軟磁性裏打ち層を付与す
ることが可能な製造方法と、その製造方法により製造さ
れた垂直二層パターンド媒体を提供することにより、低
コスト化および高スループット化に加えて媒体の記録分
解能の向上、高記録密度化といった媒体性能の向上を実
現することにある。The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and its object is to form a regular fine pattern on a perpendicular magnetic recording medium having a soft magnetic backing layer. For patterned media, simple,
By providing a manufacturing method capable of providing a soft magnetic backing layer without deteriorating the recording characteristics and a perpendicular double-layer patterned medium manufactured by the manufacturing method, in addition to cost reduction and high throughput, It is to realize improvement of medium performance such as improvement of recording resolution and increase of recording density of the medium.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、垂直磁気記録媒体の磁気記録層が規則的
で微細なパターンによって磁気的に分離されている垂直
二層パターンド媒体の製造方法において、基板上に軟磁
性層まで成膜した後、熱可塑性樹脂をコーティングする
第１の工程と、加熱・加圧による成形で前記熱可塑性樹
脂に微細なパターンを転写する第２の工程と、前記パタ
ーンの凹部中に磁気記録層を埋め込む第３の工程とを有
することを特徴とする。To achieve the above object, the present invention provides a perpendicular double-layer patterned medium in which the magnetic recording layer of the perpendicular magnetic recording medium is magnetically separated by a regular fine pattern. In the manufacturing method, a first step of coating a thermoplastic resin after forming a soft magnetic layer on a substrate and a second step of transferring a fine pattern to the thermoplastic resin by molding by heating and pressurization And a third step of embedding the magnetic recording layer in the recesses of the pattern.
【００１２】ここで、好ましくは、前記第２の工程は、
前記コーティングした熱可塑性樹脂をガラス転移点以上
に加熱する工程と、該加熱した熱可塑性樹脂に予め微細
なパターンを形成したスタンパを押し付けてパターンを
転写することにより、熱可塑性樹脂膜に微細なパターニ
ングを行う工程とを含む。[0012] Preferably, the second step is
Finely patterning the thermoplastic resin film by heating the coated thermoplastic resin to a temperature above the glass transition point and transferring the pattern by pressing a stamper having a fine pattern previously formed on the heated thermoplastic resin. And the step of performing.
【００１３】また、好ましくは、前記第１の工程と前記
第２の工程において、前記熱可塑性樹脂の膜にパターン
を形成する時の凹部の深さが、シード層、下地層、中間
層など磁気記録層の磁化容易軸を基板面に対して垂直方
向に配向させるために必要な層の合計膜厚よりも深く、
該シード層、下地層、中間層など磁気記録層の磁化容易
軸を基板面に対して垂直方向に配向させるために必要な
層、および磁気記録層の合計膜厚以下となるように、前
記熱可塑性樹脂の膜厚、前記加熱の温度、前記成形の圧
力等を調整する。Further, preferably, in the first step and the second step, the depth of the recess when forming the pattern on the thermoplastic resin film is determined by the magnetic field such as the seed layer, the underlayer and the intermediate layer. Deeper than the total film thickness of the layer required to orient the easy axis of magnetization of the recording layer in the direction perpendicular to the substrate surface,
The seed layer, the underlayer, the intermediate layer, and other layers necessary for orienting the easy axis of magnetization of the magnetic recording layer in the direction perpendicular to the substrate surface, and the total thickness of the magnetic recording layer, the heat The film thickness of the plastic resin, the heating temperature, the molding pressure and the like are adjusted.
【００１４】また、好ましくは、前記第３の工程は、前
記パターンを形成した熱可塑性樹脂上に、シード層、下
地層、中間層など磁気記録層の磁化容易軸を基板面に対
して垂直方向に配向させるために必要な層、および磁気
記録層を成膜する工程と、前記磁気記録層を成膜後、媒
体表面を研磨することにより、熱可塑性樹脂に形成され
たパターンの凸部の高さよりも上部にある膜を除去して
平坦な表面を得る工程とを含む。Preferably, in the third step, the easy axis of magnetization of a magnetic recording layer such as a seed layer, an underlayer or an intermediate layer is perpendicular to the substrate surface on the patterned thermoplastic resin. A step of forming a layer necessary for orienting the magnetic recording layer and a magnetic recording layer, and polishing the medium surface after forming the magnetic recording layer to increase the height of the convex portion of the pattern formed on the thermoplastic resin. Removing the film above it to obtain a flat surface.
【００１５】また、好ましくは、前記磁気記録層を成膜
後、媒体表面を研磨する工程で、金属と樹脂の研磨レー
トの違いを利用して前記研磨の終点を検知する。Further, preferably, in the step of polishing the surface of the medium after forming the magnetic recording layer, the end point of the polishing is detected by utilizing the difference in polishing rate between metal and resin.
【００１６】また、上記目的を達成するため、本発明
は、垂直磁気記録媒体の磁気記録層が規則的で微細なパ
ターンによって磁気的に分離されている垂直二層パター
ンド媒体であって、基板上に軟磁性層まで成膜した後、
該軟磁性層上にコーティングされた熱可塑性樹脂と、加
熱・加圧による成形で前記熱可塑性樹脂に転写された微
細なパターンと、前記熱可塑性樹脂の前記パターンの凹
部中に埋め込まれた磁気記録層とを有することを特徴と
する。In order to achieve the above object, the present invention is a perpendicular double-layer patterned medium in which the magnetic recording layers of the perpendicular magnetic recording medium are magnetically separated by a regular fine pattern, and the substrate After forming the soft magnetic layer on top,
Thermoplastic resin coated on the soft magnetic layer, fine patterns transferred to the thermoplastic resin by molding by heating and pressurization, and magnetic recording embedded in recesses of the pattern of the thermoplastic resin And a layer.
【００１７】ここで、好ましくは、前記熱可塑性樹脂
は、ガラス転移点以上に加熱された後、予め微細なパタ
ーンを形成したスタンパが押し付けられることにより、
前記微細なパターンが転写されている。Here, preferably, the thermoplastic resin is heated to a temperature not lower than the glass transition point, and then a stamper having a fine pattern formed thereon is pressed.
The fine pattern is transferred.
【００１８】また、好ましくは、前記熱可塑性樹脂の膜
に形成された前記パターンの凹部の深さが、シード層、
下地層、中間層など磁気記録層の磁化容易軸を基板面に
対して垂直方向に配向させるために必要な層の合計膜厚
よりも深く、該シード層、下地層、中間層など磁気記録
層の磁化容易軸を基板面に対して垂直方向に配向させる
ために必要な層、および磁気記録層の合計膜厚以下であ
る。Further, preferably, the depth of the concave portion of the pattern formed in the thermoplastic resin film is determined by the seed layer,
The magnetic recording layer such as the seed layer, the underlayer and the intermediate layer is deeper than the total film thickness of the layers such as the underlayer and the intermediate layer required to orient the easy axis of magnetization of the magnetic recording layer in the direction perpendicular to the substrate surface. Is less than or equal to the total film thickness of the layer necessary for orienting the easy axis of magnetization in the direction perpendicular to the substrate surface and the magnetic recording layer.
【００１９】また、好ましくは、前記パターンの凹部中
に、シード層、下地層、中間層など磁気記録層の磁化容
易軸を基板面に対して垂直方向に配向させるために必要
な層、および前記磁気記録層が埋め込まれている。Further, preferably, a layer necessary for orienting the easy axis of magnetization of the magnetic recording layer such as a seed layer, an underlayer, and an intermediate layer in the concave portion of the pattern in a direction perpendicular to the substrate surface, and The magnetic recording layer is embedded.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【００２１】図２に一般的な垂直記録媒体の模式的な断
面構造を示し、図３に本発明の一実施形態の垂直二層パ
ターンド媒体の模式的な断面構造を示す。図２と図３を
比較しながら、本発明に係る垂直二層パターンド媒体の
構成と製造方法について説明する。FIG. 2 shows a schematic sectional structure of a general perpendicular recording medium, and FIG. 3 shows a schematic sectional structure of a perpendicular double-layer patterned medium according to an embodiment of the present invention. The structure and manufacturing method of the perpendicular double-layer patterned medium according to the present invention will be described by comparing FIGS.
【００２２】図２の一般的な垂直記録媒体２０は、非磁
性基体２１の上に、軟磁性裏打ち層２２、下地層２３、
磁気記録層２４、保護膜２５、および液体潤滑材層２６
を順次堆積している。一方、図３の本発明の垂直二層パ
ターンド媒体３０は、非磁性基体３１とその上に設けら
れる軟磁性裏打ち層３２までは、図２の一般的な垂直磁
気記録媒体２０と全く同様の構成である。The general perpendicular recording medium 20 of FIG. 2 has a soft magnetic backing layer 22, an underlayer 23,
Magnetic recording layer 24, protective film 25, and liquid lubricant layer 26
Are sequentially deposited. On the other hand, the perpendicular double-layer patterned medium 30 of the present invention shown in FIG. 3 is exactly the same as the general perpendicular magnetic recording medium 20 shown in FIG. 2 up to the non-magnetic substrate 31 and the soft magnetic backing layer 32 provided thereon. It is a composition.
【００２３】しかし、図２の一般的な垂直磁気記録媒体
２０では、軟磁性裏打ち層２２の上に下地層２３、磁気
記録層２４と順次積層されるが、本発明の垂直二層パタ
ーンド媒体３０では、軟磁性裏打ち層３２の上にパター
ニングされたプラスチック膜３７が積層され、そのプラ
スチック膜３７のパターンの凹の部分に下地層３３、磁
気記録層３４が順次積層されるという相違がある。However, in the general perpendicular magnetic recording medium 20 of FIG. 2, the underlayer 23 and the magnetic recording layer 24 are sequentially laminated on the soft magnetic backing layer 22, but the perpendicular double-layer patterned medium of the present invention is used. In No. 30, there is a difference that a patterned plastic film 37 is laminated on the soft magnetic backing layer 32, and an underlayer 33 and a magnetic recording layer 34 are sequentially laminated on the concave portion of the pattern of the plastic film 37.
【００２４】引き続いて順次積層される保護膜３５（２
５）、液体潤滑材層３６（２６）については、本発明に
係る垂直二層パターンド媒体３０と一般的な垂直記録媒
体２０は、全く同様である。The protective film 35 (2, which is successively laminated in sequence)
5) Regarding the liquid lubricant layer 36 (26), the perpendicular two-layer patterned medium 30 according to the present invention and the general perpendicular recording medium 20 are exactly the same.
【００２５】このように、本発明に係る垂直二層パター
ンド媒体３０は、軟磁性裏打ち層３２上にパターニング
されたプラスチック膜３７が存在し、その凹の部分に下
地層３３および磁気記録層３４が存在することを特徴と
する。As described above, in the perpendicular double-layer patterned medium 30 according to the present invention, the patterned plastic film 37 is present on the soft magnetic backing layer 32, and the underlying layer 33 and the magnetic recording layer 34 are provided in the concave portions. Is present.
【００２６】そして、このような垂直二層パターンド媒
体３０を次のような工程により製造する。
(１) 媒体基板３１上に軟磁性裏打ち層３２を成膜す
る。
(２) 続いて、軟磁性裏打ち層３２の上にプラスチック
の薄膜３７をコーティングする。
(３) 加熱下で、凹凸を形成したスタンパ（型）をプラ
スチックの薄膜３７に押し付けて、プラスチック膜３７
に微細なパターンを転写する。
(４) プラスチック膜３７のパターンの凹凸上に下地層
３３、磁気記録層３４を順次成膜する。
(５) 研磨によりプラスチック膜３７のパターンの凸上
に形成された下地層３３、磁気記録層３４を除去する。Then, such a vertical double-layer patterned medium 30 is manufactured by the following steps. (1) The soft magnetic backing layer 32 is formed on the medium substrate 31. (2) Subsequently, the soft magnetic backing layer 32 is coated with a plastic thin film 37. (3) While heating, press the stamper (mold) having the unevenness against the plastic thin film 37 to form the plastic film 37.
Transfer a fine pattern to. (4) The underlayer 33 and the magnetic recording layer 34 are sequentially formed on the unevenness of the pattern of the plastic film 37. (5) The underlayer 33 and the magnetic recording layer 34 formed on the convex portions of the pattern of the plastic film 37 are removed by polishing.
【００２７】(６) その上に、保護膜３５、液体潤滑材
層３６を順次積層する。(6) A protective film 35 and a liquid lubricant layer 36 are sequentially laminated on top of this.
【００２８】上記（３）の「プラスチックに型を押し付
けて微細なパターンを形成する」という方法は、例えば
コンパクトディスク（ＣＤ）において既に量産に適用さ
れており、低コストでスループットの高い方法としてよ
く知られている。また、この方法を用いて、更に微細な
数十ｎｍオーダーのパターンを形成する方法について
も、実用化はされていないものの、既に検討されている
（Stephen Y. Chou, Peter R. Krauss and Preston J.
Renstrom, Science, 272, pp85-87 (1996)）。The method (3) "pressing a mold against plastic to form a fine pattern" has already been applied to mass production of compact discs (CDs), for example, and may be a low cost and high throughput method. Are known. Further, although a method of forming a finer pattern of several tens of nm order using this method has not been put into practical use, it has already been studied (Stephen Y. Chou, Peter R. Krauss and Preston J. .
Renstrom, Science, 272, pp85-87 (1996)).
【００２９】以上述べた製造工程を採用したことによ
り、以下のような利点が得られる。By adopting the manufacturing process described above, the following advantages can be obtained.
【００３０】(a) 電子線リソグラフィやＸ線リソグラフ
ィのように微細加工が可能な方法を用いて一旦スタンパ
を製作すれば、あとは転写によりパターンを形成できる
ことから、個々の媒体に微細加工を施す必要がなく、大
量生産に適している。
(b) 軟磁性裏打ち層の軟磁気特性を損ねることなく、ま
た軟磁性裏打ち層に加工等によるダメージを一切与える
ことなく垂直二層パターンド媒体を作製することが可能
である。
(c) 媒体用の基板上にプラスチックの薄膜を形成してそ
こにパターニングするので、平坦度、平面度等で媒体基
板としてのスペックを満たす表面が容易に得られる。
(d) 研磨により凸上に成膜された磁気記録層を除去して
平坦な表面を得る際に、研磨面がプラスチック膜の凸表
面に達すると研磨レートが極端に遅くなることから、研
磨の終点を容易に検知できる。(A) Since a stamper can be manufactured once by using a method capable of fine processing such as electron beam lithography or X-ray lithography, a pattern can be formed by transfer after that, and thus individual medium is subjected to fine processing. No need, suitable for mass production. (b) It is possible to fabricate a perpendicular double-layer patterned medium without impairing the soft magnetic characteristics of the soft magnetic backing layer and without damaging the soft magnetic backing layer due to processing or the like. (c) Since a plastic thin film is formed on a medium substrate and patterned there, it is possible to easily obtain a surface that satisfies the specifications as a medium substrate in terms of flatness, flatness and the like. (d) When removing the magnetic recording layer formed on the protrusions by polishing to obtain a flat surface, the polishing rate becomes extremely slow when the polishing surface reaches the convex surface of the plastic film. The end point can be easily detected.
【００３１】次に、本発明の垂直二層パターンド媒体３
０の構成要素の材質について説明する。まず、非磁性基
体３１としては、表面が平滑である様々な基体であって
よく、例えば、磁気記録媒体用に用いられる、ＮｉＰメ
ッキを施したＡｌ合金や、強化ガラス、結晶化ガラス等
を用いることができる。また、軟磁性裏打ち層３２とし
ては、結晶のＦｅＴａＣ、センダスト（ＦｅＳｉＡｌ）
合金等、また非晶質のＣｏ合金であるＣｏＺｒＮｂ、Ｃ
ｏＴａＺｒなどを用いることができる。軟磁性裏打ち層
３２の膜厚は、記録に使用する磁気ヘッドの構造や特性
によって最適値が変化するが、おおむね１０ｎｍ以上５
００ｎｍ以下程度であることが、生産性との兼ね合いか
ら望ましい。Next, the vertical double-layer patterned medium 3 of the present invention.
The materials of the components of No. 0 will be described. First, as the non-magnetic substrate 31, various substrates having a smooth surface may be used, and for example, a NiP-plated Al alloy, a strengthened glass, a crystallized glass or the like used for a magnetic recording medium is used. be able to. The soft magnetic backing layer 32 is made of crystalline FeTaC, sendust (FeSiAl).
Alloys and CoZrNb, C which are amorphous Co alloys
For example, oTaZr can be used. The optimum thickness of the soft magnetic backing layer 32 varies depending on the structure and characteristics of the magnetic head used for recording, but is generally 10 nm or more 5
A thickness of about 00 nm or less is desirable in consideration of productivity.
【００３２】パターニングされたプラスチック膜３７と
しては、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸
メチル（ＰＭＭＡ）、あるいはポリエステル系、ポリオ
レフィン系材料等の熱可塑性樹脂を用いることができ
る。As the patterned plastic film 37, polycarbonate (PC), polymethylmethacrylate (PMMA), or a thermoplastic resin such as a polyester or polyolefin material can be used.
【００３３】下地層３３には、磁気記録層３４の磁化容
易軸を膜面に対して垂直の方向に配向させることができ
る材料が選択され、例えばＴｉ，ＴｉＣｒ等のＴｉ系合
金やＲｕ，Ｐｔなどの材料を用いることが出来る。磁気
記録層３４は少なくともＣｏとＣｒを含む合金の強磁性
材料が好適に用いられ、その六方細密充填構造のｃ軸が
膜面に垂直方向に配向していることが垂直磁気記録媒体
として用いるために必要である。磁気記録層３４として
は、ＣｏＣｒＰｔ，ＣｏＣｒＴａ，ＣｏＣｒＰｔＢ，Ｃ
ｏＣｒＰｔＮｂ，ＣｏＣｒＰｔＴａなどが挙げられる
が、これらに限定されるものではない。For the underlayer 33, a material that can orient the easy axis of magnetization of the magnetic recording layer 34 in a direction perpendicular to the film surface is selected. For example, a Ti-based alloy such as Ti or TiCr or Ru or Pt. Materials such as can be used. For the magnetic recording layer 34, a ferromagnetic material of an alloy containing at least Co and Cr is preferably used, and the c-axis of the hexagonal close-packed structure is oriented perpendicular to the film surface for use as a perpendicular magnetic recording medium. Needed for. As the magnetic recording layer 34, CoCrPt, CoCrTa, CoCrPtB, C
Examples thereof include oCrPtNb and CoCrPtTa, but the present invention is not limited thereto.
【００３４】保護膜３５は、例えばカーボンを主体とす
る薄膜が用いられる。その他、保護膜３５は、磁気記録
媒体の保護膜として一般的に用いられる様々な薄膜材料
を使用しても良い。液体潤滑材層３６は、例えばパーフ
ルオロポリエーテル系の潤滑剤を用いることができる。
その他、磁気記録媒体の液体潤滑材層３６の材料として
一般的に用いられる様々な潤滑材料を使用しても良い。As the protective film 35, for example, a thin film containing carbon as a main component is used. In addition, as the protective film 35, various thin film materials generally used as a protective film of a magnetic recording medium may be used. For the liquid lubricant layer 36, for example, a perfluoropolyether lubricant can be used.
In addition, various lubricant materials generally used as the material of the liquid lubricant layer 36 of the magnetic recording medium may be used.
【００３５】非磁性基体３１の上に積層される各層は、
磁気記録媒体の分野で通常用いられる様々な成膜技術に
よって形成することが可能である。プラスチック膜３７
および液体潤滑材層３６を除く各層の形成には、例えば
ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロン
スパッタリング法、真空蒸着法を用いることが出来る。
また、プラスチック膜および液体潤滑材層の形成には、
例えばディップ法、スピンコート法を用いることができ
る。しかし、これらに限定されるものではない。Each layer laminated on the non-magnetic substrate 31 is
It can be formed by various film forming techniques usually used in the field of magnetic recording media. Plastic film 37
For forming each layer except for the liquid lubricant layer 36, for example, a DC magnetron sputtering method, an RF magnetron sputtering method, or a vacuum evaporation method can be used.
Further, in forming the plastic film and the liquid lubricant layer,
For example, a dip method or a spin coating method can be used. However, it is not limited to these.
【００３６】[0036]
【実施例】更に、本発明に係る垂直磁気記録媒体の実施
例を詳細に説明する。ただし、本発明はそれら実施例に
限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範
囲において種々変更可能であることは言うまでもない。EXAMPLES Further, examples of the perpendicular magnetic recording medium according to the present invention will be described in detail. However, it is needless to say that the present invention is not limited to these examples and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.
【００３７】［第１の実施例］図４は、本実施例の第１
の実施例における垂直二層パターンド媒体の製造工程を
示す模式的な断面図である。以下、図４を参照して、本
発明に係る垂直二層パターンド媒体の製造方法について
説明する。[First Embodiment] FIG. 4 shows the first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the manufacturing process of the vertical double-layer patterned medium in the example of FIG. Hereinafter, a method of manufacturing a vertical double-layer patterned medium according to the present invention will be described with reference to FIG.
【００３８】(a) 非磁性基体として表面が平滑な化学強
化ガラス基板４１（例えばＨＯＹＡ社製Ｎ−１０ガラス
基板）を用い、これを洗浄後スパッタ装置内に導入し、
Ｃｏ ５Ｚｒ８Ｎｂターゲットを用いてＣｏＺｒＮｂ軟磁
性裏打ち層４２を２００ｎｍ成膜した。
(b) 次に、その基板をスパッタ装置から取り出し、クロ
ロホルムに溶解したＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチ
ル）の膜４７をスピンコートにより５０ｎｍ成膜した。
なおこの時、溶液内に含まれるＰＭＭＡの濃度は０．３
ｗｔ％とした。
(c) 次に、基板およびスタンパ４９を１９０℃まで加熱
し、スタンパ４９を１５ＭＰａの圧力で基板上に押し付
け、１００℃まで冷却した後、離型した。なお、スタン
パ４９には電子ビームリソグラフィを用いてφ１００ｎ
ｍのパターンが形成されている。(b) および(c) におい
ては、ＰＭＭＡ膜４７にパターンを形成する時の凹部の
深さが、「下地層＋中間層の膜厚」よりも深く、「下地
層＋中間層＋磁気記録層の膜厚」以下となるように、Ｐ
ＭＭＡ膜厚、加熱温度、成形圧力を調整している。(A) Chemical strength with a smooth surface as a non-magnetic substrate
Glass substrate 41 (for example, N-10 glass manufactured by HOYA)
Substrate), and after cleaning it, introduce it into the sputtering device,
Co 5Zr8CoZrNb soft magnetism using Nb target
The backing layer 42 having a thickness of 200 nm was formed.
(b) Next, take out the substrate from the sputtering device and
PMMA (polymethacrylic acid
The film 47 of (1) was formed by spin coating to a thickness of 50 nm.
At this time, the concentration of PMMA contained in the solution was 0.3.
It was set to wt%.
(c) Next, heat the substrate and stamper 49 to 190 ° C
Then, the stamper 49 is pressed onto the substrate with a pressure of 15 MPa.
After cooling to 100 ° C., the mold was released. In addition, Stan
Electron beam lithography is used for the pass 49.
m patterns are formed. (b) and (c) odors
Of the concave portion when the pattern is formed on the PMMA film 47.
The depth is deeper than the "layer thickness of the base layer + intermediate layer",
Layer + intermediate layer + magnetic recording layer thickness "or less.
The MMA film thickness, heating temperature, and molding pressure are adjusted.
【００３９】次に基板を再びスパッタ装置内に導入し、
(d) Ｎｉ１５Ｆｅ２５Ｃｒターゲットを用いてＮｉＦｅ
Ｃｒ下地層４３を１０ｎｍ、Ｒｕターゲットを用いて、
Ａｒガス圧４．０Ｐａ下でＲｕ中間層４８を１０ｎｍ、
Ｃｏ２０Ｃｒ１０Ｐｔターゲットを用いてＣｏＣｒＰｔ
磁気記録層４４を３５ｎｍ、順次成膜した。その後、再
び真空装置から取り出し、
(e) ダイヤモンドスラリを用いてパターンの凸上に成膜
された磁気記録層等４３、４８、４４を除去した。この
時の研磨量はレーザー変位計によりモニターし、変位量
の変化が急激に落ちたところを終点とした。引き続い
て、これを洗浄して、スパッタ装置内に導入し、
(f) カーボンターゲットを用いてカーボンからなる保護
膜４５を１０ｎｍ成膜後、真空装置から取り出した。そ
の後、パーフルオロポリエーテルからなる液体潤滑材層
４６を２ｎｍだけディップ法により形成し、垂直二層パ
ターンド媒体とした。Next, the substrate is again introduced into the sputtering device,
(d) NiFe using a Ni 15 Fe 25 Cr target
Using a Cr target layer 43 of 10 nm and a Ru target,
Under the Ar gas pressure of 4.0 Pa, the Ru intermediate layer 48 has a thickness of 10 nm,
CoCrPt using a Co 20 Cr 10 Pt target
The magnetic recording layer 44 having a thickness of 35 nm was sequentially formed. After that, it was taken out from the vacuum apparatus again, and (e) the magnetic recording layers 43, 48, 44 formed on the convex portions of the pattern were removed by using a diamond slurry. The polishing amount at this time was monitored by a laser displacement meter, and the point where the change in the displacement amount drastically dropped was set as the end point. Subsequently, this was washed and introduced into the sputtering apparatus, and (f) a protective film 45 made of carbon was formed to a thickness of 10 nm using a carbon target, and then taken out from the vacuum apparatus. Then, a liquid lubricant layer 46 made of perfluoropolyether was formed to a thickness of 2 nm by a dip method to obtain a vertical two-layer patterned medium.
【００４０】なお、ＣｏＺｒＮｂ軟磁性裏打ち層４２、
ＮｉＦｅＣｒ下地層４３、ＣｏＣｒＰｔ磁気記録層４４
およびＣ保護膜４５の成膜はすべてＡｒガス圧０．６７
Ｐａ下で行い、真空装置内における全ての成膜はＤＣマ
グネトロンスパッタリング法により行なった。The CoZrNb soft magnetic backing layer 42,
NiFeCr underlayer 43, CoCrPt magnetic recording layer 44
The Ar gas pressure is 0.67 for the formation of the C and C protective films 45.
It was performed under Pa, and all film formation in the vacuum apparatus was performed by the DC magnetron sputtering method.
【００４１】完成した垂直二層パターンド媒体の表面が
媒体として適切かどうかを判断するため、Ｇｌｉｄｅ
ｈｅｉｇｈｔ（グライド・ハイト）試験を実施した。こ
の試験は、媒体を回転させ、その上に試験用のヘッドを
飛ばして突起やパーティクルの有無を調べるもので、突
起、パーティクル、大きなウネリ等があるとヘッドが衝
突してこれらを検知するというものである。試験条件
は、周速７ｍ／ｓ、Ｇｌｉｄｅ ｈｅｉｇｈｔ１２．５
ｎｍで行った。その結果、合格率は２０％であった。今
回の媒体の製作は試作ラインを使用して行っているが、
試作ラインでは製造ラインと異なり、媒体の運搬を人が
行うなど、完全に自動化されておらず、通常の媒体でも
Ｇｌｉｄｅ ｈｅｉｇｈｔの合格率は２０〜２５％程度
である。つまり、本実施例の垂直二層パターンド媒体
は、通常の媒体と同程度の合格率が得られている。To determine whether the surface of the completed vertical double-layer patterned medium is suitable as a medium, Glide is used.
A height test was carried out. In this test, the medium is rotated and the test head is blown over it to check for the presence of protrusions and particles. If there are protrusions, particles, large swells, etc., the head collides and detects them. Is. Test conditions are peripheral speed 7m / s, Glide height12.5.
nm. As a result, the pass rate was 20%. The production of the medium this time is done using a prototype line,
Unlike the production line, the trial production line is not completely automated, for example, a person carries the medium, and the pass rate of the Glide height is about 20 to 25% even for the ordinary medium. In other words, the vertical double-layer patterned medium of this example has a pass rate similar to that of a normal medium.
【００４２】次いで、完成した垂直パターンド媒体の磁
気特性を磁気光学的カー（Ｋｅｒｒ）効果（外部磁界を
印加しながら、反射光の偏向面の回転角を測定）を用い
て評価した。その結果は、後述の「比較結果」の項に記
述する。Next, the magnetic characteristics of the completed vertical patterned medium were evaluated using the magneto-optical Kerr effect (the rotation angle of the deflecting surface of reflected light was measured while applying an external magnetic field). The results are described in the section "Comparison result" described later.
【００４３】［第１の比較例］非磁性基体として表面が
平滑な化学強化ガラス基板（例えばＨＯＹＡ社製Ｎ−１
０ガラス基板）を用い、これを洗浄後スパッタ装置内に
導入し、Ｃｏ５Ｚｒ８Ｎｂターゲットを用いてＣｏＺｒ
Ｎｂ軟磁性裏打ち層を２００ｎｍ成膜した。[First Comparative Example] A chemically strengthened glass substrate having a smooth surface (for example, N-1 manufactured by HOYA) as a non-magnetic substrate.
0 glass substrate), which was cleaned and then introduced into a sputtering apparatus, and Co 5 Zr 8 Nb target was used to produce CoZr.
A 200 nm thick Nb soft magnetic backing layer was formed.
【００４４】次に、Ｎｉ１５Ｆｅ２５Ｃｒターゲットを
用いてＮｉＦｅＣｒ下地層を５ｎｍ、Ｒｕターゲットを
用いて、Ａｒガス圧４．０Ｐａ下でＲｕ中間層を５ｎ
ｍ、Ｃｏ２０Ｃｒ１０Ｐｔターゲットを用いてＣｏＣｒ
Ｐｔ磁気記録層を３０ｎｍ、順次成膜した。最後に、カ
ーボンターゲットを用いてカーボンからなる保護膜１０
ｎｍを成膜後、真空装置から取り出した。Next, a NiFeCr underlayer of 5 nm was formed using a Ni 15 Fe 25 Cr target, and a Ru intermediate layer of 5 n was formed under an Ar gas pressure of 4.0 Pa using a Ru target.
m, Co 20 Cr 10 Pt target with CoCr
A Pt magnetic recording layer having a thickness of 30 nm was sequentially formed. Finally, a protective film 10 made of carbon using a carbon target
After depositing the film having a thickness of nm, the film was taken out from the vacuum device.
【００４５】その後、パーフルオロポリエーテルからな
る液体潤滑材層２ｎｍをディップ法により形成し、垂直
二層媒体とした。After that, a liquid lubricant layer of 2 nm made of perfluoropolyether was formed by a dipping method to obtain a vertical two-layer medium.
【００４６】なお、真空装置内における全ての成膜はＤ
Ｃマグネトロンスパッタリング法により行い、Ｒｕ中間
層を除く各層の成膜は、Ａｒガス圧０．６７Ｐａ下で実
施した。すなわち、本比較例に係る垂直二層媒体は、パ
ターニングされたプラスチック膜を用いていないこと以
外は、第１の実施例と全く同一の材料およびプロセスに
て作製した。In addition, all film formations in the vacuum apparatus are D
The C magnetron sputtering method was used, and each layer except the Ru intermediate layer was formed under Ar gas pressure of 0.67 Pa. That is, the perpendicular double-layered medium according to this comparative example was manufactured by using the same material and process as those of the first example except that the patterned plastic film was not used.
【００４７】［比較結果］図５、図６は、完成した垂直
パターンド媒体の磁気特性を磁気光学的カー効果を用い
て評価した結果であり、図５に上記第１の比較例に係る
垂直二層媒体のヒステリシスループを、図６に上記本発
明の第１の実施例に係る垂直二層パターンド媒体のヒス
テリシスループを示す。[Comparison Results] FIGS. 5 and 6 show the results of evaluating the magnetic characteristics of the completed vertical patterned medium by using the magneto-optical Kerr effect. FIG. 5 shows the perpendicular characteristics according to the first comparative example. FIG. 6 shows the hysteresis loop of the double-layered medium, and FIG. 6 shows the hysteresis loop of the perpendicular double-layered patterned medium according to the first embodiment of the present invention.
【００４８】通常の垂直媒体の成膜方法とは異なり磁気
記録層を室温で成膜しているため、パターニングしない
第１の比較例の場合は、図５に示すように、粒間相互作
用が強タイプのヒステリシスループになり、Ｈｃは低く
なる。Since the magnetic recording layer is formed at room temperature, which is different from the usual perpendicular medium film forming method, in the case of the first comparative example in which no patterning is performed, the intergranular interaction is caused as shown in FIG. It becomes a strong type hysteresis loop, and Hc becomes low.
【００４９】これに対し、図６のパターニングしている
本発明の第１の実施例の場合では、ループが傾き、粒間
相互作用が比較的切れたタイプのヒステリシスとなって
おり、Ｈｃも図５の約６３．７［ｋＡ／ｍ］から、倍以
上の約１５９．２［ｋＡ／ｍ］に上昇している。これ
は、パターニングにより、それぞれのｂｉｔが磁気的に
分離されていることを示している。On the other hand, in the case of the first embodiment of the present invention in which patterning is performed as shown in FIG. 6, the loop is inclined and the intergranular interaction is a relatively broken type hysteresis, and Hc is also shown in FIG. 5 about 63.7 [kA / m], which is more than doubled to about 159.2 [kA / m]. This indicates that each bit is magnetically separated by patterning.
【００５０】以上のように、本発明による垂直二層パタ
ーンド媒体では、媒体に必要な表面を得ることが可能で
あることがわかった。また磁気特性から、それぞれのｂ
ｉｔが分離していて、パターニングが有効に機能してい
ることも証明された。As described above, it was found that the vertical double-layer patterned medium according to the present invention can obtain the surface required for the medium. Also, from the magnetic characteristics, each b
It was also proved that it was separated and patterning worked effectively.
【００５１】［第２の実施例］本発明の第２の実施例と
して、図４の膜４７のプラスチック材料としてＰＣ（ポ
リカーボネート）を使用し、これをスピンコートにより
軟磁性裏打ち層４２上に１００ｎｍ成膜した以外は、上
記の第１の実施例と全く同様にして垂直二層パターンド
媒体を作製した。なお、スピンコートにはジクロロメタ
ン中に溶解したＰＣを用い、溶液内に含まれるＰＣの濃
度は０．２５ｗｔ％とした。また、プレスによるパター
ン転写時の条件は、基板およびスタンパの加熱温度を２
００℃、転写圧力は１５ＭＰａとした。[Second Embodiment] As a second embodiment of the present invention, PC (polycarbonate) is used as the plastic material of the film 47 of FIG. 4, and this is spin-coated to 100 nm on the soft magnetic backing layer 42. A vertical two-layer patterned medium was manufactured in exactly the same manner as in the above-mentioned first example except that the film was formed. For the spin coating, PC dissolved in dichloromethane was used, and the concentration of PC contained in the solution was 0.25 wt%. In addition, the conditions for pattern transfer by pressing are the heating temperature of the substrate and the stamper to be 2
The transfer pressure was set to 00 ° C. and 15 MPa.
【００５２】上記の第１の実施例と同様の条件でＧｌｉ
ｄｅ ｈｅｉｇｈｔ試験を実施したところ、１５０枚中
２８枚が試験をパスし、合格率は約１９％であった。こ
れは、第１の実施例と同様に、試作ラインとしては通常
の媒体とほぼ同程度の合格率であり、媒体として十分平
坦な表面が得られていることがわかる。Under the same conditions as in the first embodiment, Gli
When the de height test was performed, 28 out of 150 sheets passed the test, and the pass rate was about 19%. Similar to the first embodiment, this shows a pass rate of about the same level as a normal medium as a trial production line, and it can be seen that a sufficiently flat surface is obtained as a medium.
【００５３】また、磁気光学的カー（ｋｅｒｒ）効果に
より磁気特性を評価したところ、Ｈｃ＝約１７４．３
［ｋＡ／ｍ］、Ｓ＝０．９５が得られ、パターン中に埋
め込まれた磁気記録層が磁気的に分離されていることが
確認された。When the magnetic characteristics were evaluated by the magneto-optical Kerr effect, Hc = approximately 174.3.
[KA / m], S = 0.95 were obtained, and it was confirmed that the magnetic recording layer embedded in the pattern was magnetically separated.
【００５４】[0054]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
半導体的製法の従来技術と比較して、低コストかつ高ス
ループットでパターンド媒体を製造することが可能にな
る。As described above, according to the present invention,
It becomes possible to manufacture a patterned medium at low cost and high throughput as compared with the conventional semiconductor manufacturing method.
【００５５】また、予めパターンや細孔を形成した基板
を用いて磁気記録層をパターンあるいは細孔内に埋め込
むことでパターンド媒体を作成する従来技術の場合に
は、軟磁性裏打ち層までパターニングされてしまい、軟
磁気特性が劣化してしまうが、本発明によれば、軟磁性
裏打ち層の特性を損ねることなく、垂直二層パターンド
媒体が作製できる。In the case of the prior art in which a patterned medium is prepared by embedding a magnetic recording layer in a pattern or pores using a substrate on which patterns or pores are formed in advance, the soft magnetic backing layer is also patterned. However, according to the present invention, a perpendicular double-layer patterned medium can be manufactured without impairing the characteristics of the soft magnetic backing layer.
【００５６】これにより、本発明によれば、ヘッドの記
録分解能を低下させることなく、パターンド媒体が実現
され、磁気記録媒体の高記録密度化が達成されるという
顕著な効果を奏する。As a result, according to the present invention, it is possible to realize a patterned medium without lowering the recording resolution of the head, and to achieve the high recording density of the magnetic recording medium.
【図１】従来の典型的なパターンド媒体の製造工程を示
す断面模式図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a manufacturing process of a conventional typical patterned medium.
【図２】一般的な垂直二層媒体の構成を示す断面模式図
である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing the structure of a general vertical double-layer medium.
【図３】本発明による垂直二層パターンド媒体の構成を
示す断面模式図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a vertical double-layer patterned medium according to the present invention.
【図４】本発明の第１の実施例に係る垂直二層パターン
ド媒体の製造工程を示す断面模式図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing a manufacturing process of the perpendicular double-layer patterned medium according to the first embodiment of the present invention.
【図５】第１の比較例に係る垂直二層媒体のヒステリシ
スループを示す特性図である。FIG. 5 is a characteristic diagram showing a hysteresis loop of a perpendicular double-layer medium according to a first comparative example.
【図６】本発明の第１の実施例に係る垂直二層パターン
ド媒体のヒステリシスループを示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing a hysteresis loop of the perpendicular double-layer patterned medium according to the first embodiment of the present invention.
１１ 磁気記録層 １２ 非磁性基体 １３ レジスト １４ マスク膜 ２１ 非磁性基体 ２２ 軟磁性裏打ち層 ２３ 下地層 ２４ 磁気記録層 ２５ 保護膜 ２６ 液体潤滑材層 ３１ 非磁性基体 ３２ 軟磁性裏打ち層 ３３ 下地層 ３４ 磁気記録層 ３５ 保護膜 ３６ 液体潤滑材層 ３７ パターニングされたプラスチック膜 ４１ 非磁性基体（化学強化ガラス基板） ４２ 軟磁性裏打ち層 ４３ 下地層 ４４ 磁気記録層 ４５ 保護膜 ４６ 液体潤滑材層 ４７ プラスチック膜（ＰＭＭＡ膜） ４８ 中間層 ４９ スタンパ 11 Magnetic recording layer 12 Non-magnetic substrate 13 Resist 14 Mask film 21 non-magnetic substrate 22 Soft magnetic backing layer 23 Underlayer 24 Magnetic recording layer 25 Protective film 26 Liquid lubricant layer 31 non-magnetic substrate 32 Soft Magnetic Backing Layer 33 Underlayer 34 Magnetic recording layer 35 Protective film 36 Liquid lubricant layer 37 patterned plastic film 41 Non-magnetic substrate (Chemically strengthened glass substrate) 42 Soft magnetic backing layer 43 Underlayer 44 magnetic recording layer 45 Protective film 46 Liquid lubricant layer 47 Plastic film (PMMA film) 48 Middle class 49 Stamper
フロントページの続き Ｆターム(参考） 5D006 BB01 BB07 CA01 CA03 CA05 DA03 DA08 EA03 FA09 5D112 AA03 AA04 AA05 AA18 AA24 BA10 BB05 BD01 BD03 FA04Continued front page F term (reference) 5D006 BB01 BB07 CA01 CA03 CA05 DA03 DA08 EA03 FA09 5D112 AA03 AA04 AA05 AA18 AA24 BA10 BB05 BD01 BD03 FA04
Claims (9)
で微細なパターンによって磁気的に分離されている垂直
二層パターンド媒体の製造方法において、 基板上に軟磁性層まで成膜した後、熱可塑性樹脂をコー
ティングする第１の工程と、 加熱・加圧による成形で前記熱可塑性樹脂に微細なパタ
ーンを転写する第２の工程と、 前記パターンの凹部中に磁気記録層を埋め込む第３の工
程とを有することを特徴とする垂直二層パターンド媒体
の製造方法。1. A method of manufacturing a perpendicular double-layer patterned medium in which a magnetic recording layer of a perpendicular magnetic recording medium is magnetically separated by a regular fine pattern, after forming a soft magnetic layer on a substrate. A first step of coating a thermoplastic resin, a second step of transferring a fine pattern to the thermoplastic resin by molding by heating and pressurization, and a third step of embedding a magnetic recording layer in the recesses of the pattern And a method of manufacturing a vertical double-layer patterned medium.
に加熱する工程と、 該加熱した熱可塑性樹脂に予め微細なパターンを形成し
たスタンパを押し付けてパターンを転写することによ
り、熱可塑性樹脂膜に微細なパターニングを行う工程と
を含むことを特徴とする請求項１に記載の垂直二層パタ
ーンド媒体の製造方法。2. The second step is a step of heating the coated thermoplastic resin to a temperature equal to or higher than a glass transition point, and transferring a pattern by pressing a stamper having a fine pattern previously formed on the heated thermoplastic resin. The method for producing a vertical double-layer patterned medium according to claim 1, further comprising: performing fine patterning on the thermoplastic resin film.
て、 前記熱可塑性樹脂の膜にパターンを形成する時の凹部の
深さが、シード層、下地層、中間層など磁気記録層の磁
化容易軸を基板面に対して垂直方向に配向させるために
必要な層の合計膜厚よりも深く、該シード層、下地層、
中間層など磁気記録層の磁化容易軸を基板面に対して垂
直方向に配向させるために必要な層、および磁気記録層
の合計膜厚以下となるように、前記熱可塑性樹脂の膜
厚、前記加熱の温度、前記成形の圧力等を調整すること
を特徴とする請求項１または２に記載の垂直二層パター
ンド媒体の製造方法。3. In the first step and the second step, when the pattern is formed on the thermoplastic resin film, the depth of the recess is determined by the depth of the magnetic recording layer such as the seed layer, the underlayer, and the intermediate layer. The seed layer, the underlayer, which is deeper than the total film thickness of the layers necessary for orienting the easy axis of magnetization in the direction perpendicular to the substrate surface,
The thickness of the thermoplastic resin, the layer required to orient the easy axis of magnetization of the magnetic recording layer such as an intermediate layer in the direction perpendicular to the substrate surface, and the total thickness of the magnetic recording layer, The method for producing a perpendicular double-layer patterned medium according to claim 1 or 2, wherein a heating temperature, a molding pressure and the like are adjusted.
下地層、中間層など磁気記録層の磁化容易軸を基板面に
対して垂直方向に配向させるために必要な層、および磁
気記録層を成膜する工程と、 前記磁気記録層を成膜後、媒体表面を研磨することによ
り、熱可塑性樹脂に形成されたパターンの凸部の高さよ
りも上部にある膜を除去して平坦な表面を得る工程とを
含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記
載の垂直二層パターンド媒体の製造方法。4. The third step comprises: forming a seed layer on the patterned thermoplastic resin;
A layer necessary for orienting the magnetization easy axis of the magnetic recording layer such as an underlayer and an intermediate layer in a direction perpendicular to the substrate surface, and a step of forming the magnetic recording layer, and after forming the magnetic recording layer, Polishing the surface of the medium to remove the film above the height of the protrusions of the pattern formed on the thermoplastic resin to obtain a flat surface. 5. The method for manufacturing a vertical double-layer patterned medium according to any one of 1.
磨する工程で、金属と樹脂の研磨レートの違いを利用し
て前記研磨の終点を検知することを特徴とする請求項４
に記載の垂直二層パターンド媒体の製造方法。5. The end point of polishing is detected by utilizing the difference in polishing rate between metal and resin in the step of polishing the medium surface after forming the magnetic recording layer.
A method for manufacturing a vertical double-layer patterned medium according to.
で微細なパターンによって磁気的に分離されている垂直
二層パターンド媒体であって、 基板上に軟磁性層まで成膜した後、該軟磁性層上にコー
ティングされた熱可塑性樹脂と、 加熱・加圧による成形で前記熱可塑性樹脂に転写された
微細なパターンと、 前記熱可塑性樹脂の前記パターンの凹部中に埋め込まれ
た磁気記録層とを有することを特徴とする垂直二層パタ
ーンド媒体。6. A perpendicular double-layer patterned medium in which a magnetic recording layer of a perpendicular magnetic recording medium is magnetically separated by a regular fine pattern, and after forming a soft magnetic layer on a substrate, Thermoplastic resin coated on the soft magnetic layer, a fine pattern transferred to the thermoplastic resin by molding by heating and pressurization, and magnetic recording embedded in recesses of the pattern of the thermoplastic resin A vertical double-layer patterned medium having a layer.
に加熱された後、予め微細なパターンを形成したスタン
パが押し付けられることにより、前記微細なパターンが
転写されていることを特徴とする請求項６に記載の垂直
二層パターンド媒体。7. The fine pattern is transferred to the thermoplastic resin by being heated to a temperature equal to or higher than a glass transition point and then pressed by a stamper on which a fine pattern is formed in advance. Item 8. The vertical double-layer patterned medium according to item 6.
パターンの凹部の深さが、シード層、下地層、中間層な
ど磁気記録層の磁化容易軸を基板面に対して垂直方向に
配向させるために必要な層の合計膜厚よりも深く、該シ
ード層、下地層、中間層など磁気記録層の磁化容易軸を
基板面に対して垂直方向に配向させるために必要な層、
および磁気記録層の合計膜厚以下であることを特徴とす
る請求項６または７に記載の垂直二層パターンド媒体。8. The depth of the recesses of the pattern formed in the thermoplastic resin film is such that the easy axis of magnetization of a magnetic recording layer such as a seed layer, an underlayer, or an intermediate layer is oriented in a direction perpendicular to the substrate surface. A layer that is deeper than the total film thickness of the layers necessary for making the seed layer, the underlayer, the intermediate layer, and the layer necessary for orienting the easy axis of magnetization of the magnetic recording layer in the direction perpendicular to the substrate surface,
8. The perpendicular double-layer patterned medium according to claim 6, wherein the total thickness of the magnetic recording layer is less than or equal to the total thickness of the magnetic recording layer.
地層、中間層など磁気記録層の磁化容易軸を基板面に対
して垂直方向に配向させるために必要な層、および前記
磁気記録層が埋め込まれていることを特徴とする請求項
６ないし８のいずれかに記載の垂直二層パターンド媒
体。9. A layer necessary for orienting an easy axis of magnetization of a magnetic recording layer such as a seed layer, an underlayer, and an intermediate layer in a direction perpendicular to a substrate surface in the concave portion of the pattern, and the magnetic recording layer. 9. The perpendicular double-layer patterned medium according to claim 6, wherein the vertical double-layer patterned medium is embedded.
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