JP2003176068A - Winding method of optical film - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stable winding method in a long-sized film manufacturing process capable of providing a clear optical film without tarnish by decreasing failure such as abrasion caused by mutual tight adhesion of films wound in a roll form. <P>SOLUTION: In the winding method of an optical film, a 1 to 40 μm emboss is formed, and the long-sized film is then wound at a tension of 29.4 to 490.3 N/m. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光学フィルムの製造
におけるフィルム巻き取り方法に関し、より詳しくは、
スリ傷や巻き取りによる故障の少ない優れた特性を有す
る光学フィルムを得ることの出来る巻き取り方法に関す
るものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a film winding method in the production of an optical film, and more specifically,
The present invention relates to a winding method capable of obtaining an optical film having excellent characteristics with few scratches and failures due to winding.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年液晶装置の普及、大型化や野外使用
化に伴い、その使用条件下でのタフネス化、例えば反射
光耐性（視認性確保）の向上が求められている。一般的
に最表面に反射防止膜を設ける方法が行われている。特
にゾル−ゲル法とよばれる塗布方式による反射防止膜形
成方法は、技術的に乾燥ムラやハジキのない均一な膜厚
の反射防止フィルムが得られるようになってきている。
しかしながら、表面の膜は脆く、ひび割れしやすい上、
強く密着すると変質しやすい傾向がある。光学フィルム
用途のフィルム基材や、該フィルム基材上に機能膜を塗
設した光学フィルム等は長尺の形態で加工されることが
多く最終的にはロールの形態に巻き取られフィルム同士
が強く密着する。従って最終工程である巻き取り工程に
おいて品質が劣化すると、そのまま製品に持ち越される
ため品質劣化は致命的であり、如何に安定で、均一な巻
き取り条件を得ることが出来るかが重要である。2. Description of the Related Art In recent years, along with the widespread use of liquid crystal devices, the increase in size, and the increase in outdoor use, there is a demand for toughness under the conditions of use, for example, improved resistance to reflected light (ensuring visibility). Generally, a method of providing an antireflection film on the outermost surface is performed. Particularly, in the method of forming an antireflection film by a coating method called a sol-gel method, it is technically possible to obtain an antireflection film having a uniform film thickness without drying unevenness and cissing.
However, the film on the surface is brittle and easily cracked.
Strong adhesion tends to cause deterioration. Film base materials for optical film applications, and optical films in which a functional film is coated on the film base material are often processed in a long form, and finally they are wound into a roll form to form films. Stick firmly. Therefore, if the quality deteriorates in the final step of the winding step, it is carried over to the product as it is, so the quality deterioration is fatal, and it is important how stable and uniform winding conditions can be obtained.

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、ロールの形態に巻き取られフィルム同士が強く密着
することに起因したスリ傷等の故障を減少させ、曇りの
ないクリアな光学用途のフィルムを得ることの出来る長
尺フィルムの製造における安定な巻き取り方法を提供す
ることにある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to reduce failures such as scratches and the like caused by the fact that the films are strongly wound and wound in a roll form and are firmly adhered to each other, and are used for clear optical applications without fog. It is intended to provide a stable winding method in the production of a long film capable of obtaining a film.

【０００４】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は以下
の手段により達成される。The above objects of the present invention can be achieved by the following means.

【０００５】１．１〜４０μｍのエンボスを形成した
後、張力が２９．４〜４９０．３Ｎ／ｍで長尺状のフィ
ルムを巻き取ることを特徴とする光学フィルムの巻き取
り方法。A method for winding an optical film, which comprises winding an elongated film having a tension of 29.4 to 490.3 N / m after forming an emboss of 1.1 to 40 μm.

【０００６】２．フィルムの巻き取り時の張力の制御に
５〜６０％のテーパ張力を設けることを特徴とする前記
１に記載の光学フィルムの巻き取り方法。2. 5. The method for winding an optical film as described in 1 above, wherein a taper tension of 5 to 60% is provided for controlling the tension when winding the film.

【０００７】３．フィルムの巻き取り時に、巻き取った
フィルム基材表面からニアロール面までの距離を０．１
〜５０ｍｍとした、ニアロールを用いることを特徴とす
る前記１又は２に記載の光学フィルムの巻き取り方法。3. When winding the film, set the distance from the wound film substrate surface to the near roll surface to 0.1.
3. The method for winding an optical film as described in 1 or 2 above, wherein a near roll having a thickness of ˜50 mm is used.

【０００８】４．フィルムの巻き取り時に、接圧が０．
９８〜２９４Ｎ／ｍのタッチロールを用いることを特徴
とする前記１又は２に記載の光学フィルムの巻き取り方
法。4. When winding the film, the contact pressure is 0.
3. The method for winding an optical film as described in 1 or 2 above, wherein a touch roll of 98 to 294 N / m is used.

【０００９】５．フィルムがセルロースエステルフィル
ムであることを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に
記載の光学フィルムの巻き取り方法。5. 5. The winding method for an optical film as described in any one of 1 to 4 above, wherein the film is a cellulose ester film.

【００１０】６．フィルムが、フィルム基材上に反射防
止膜組成物を塗布したものであることを特徴とする前記
１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムの巻き取り
方法。6. 5. The method for winding an optical film as described in any one of 1 to 4 above, wherein the film is a film substrate coated with an antireflection film composition.

【００１１】７．フィルム基材がセルロースエステルフ
ィルムであることを特徴とする前記６に記載の光学フィ
ルムの巻き取り方法。7. 7. The method for winding an optical film as described in 6 above, wherein the film substrate is a cellulose ester film.

【００１２】以下、本発明を詳述する。本発明は、高品
質の光学フィルム、例えば、反射防止フィルムや防眩フ
ィルム等を得るための製造方法特に、その製造時、長尺
状で製造される基材フィルム、更にその基材フィルム上
に、反射防止膜組成物を塗布し乾燥して巻き取る際の巻
き取り方法に関するものである。The present invention will be described in detail below. The present invention is a high-quality optical film, for example, a production method for obtaining an antireflection film, an antiglare film, or the like, particularly a base film produced in a long shape at the time of its production, and further on the base film. The present invention relates to a winding method when the antireflection film composition is applied, dried and wound.

【００１３】これにより液晶用光学フィルムに用いる、
例えば、セルロースエステルトフィルム等の光学フィル
ムを、巻き取り時のすり傷やブラックバンドといわれる
長尺状のフィルムを巻き取ったロールで顕著に観察され
る巻き取り方向に出来る筋ムラ等、巻き取りによる故障
の発生しにくい優れた巻き取り方法を得ることが出来
た。ブラックバンドとは原因が特定できないところもあ
るが、塗布膜厚が微妙に変わった場合に厚いところが密
着するとその部分が黒っぽくみえたり、表面に可塑剤が
転写して巻き状態で黒っぽく見えたりする等、いずれに
しても膜厚や膜表面の状態が一定でないときに観察され
る塗布故障のことをさし、フィルム基材の巻き取り時に
発生するこれらの故障は、特に光学フィルムとして、更
に、反射防止膜をフィルム基材上に塗設して、反射防止
フィルムを製造する際にも影響が大きい。反射防止膜は
基本的にはＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の金属酸化物からなる膜
を、例えばゾル−ゲル法とよばれる方法で、塗布方式に
より形成する方法がとられる為、前述のように、表面の
膜が脆く、ひび割れしやすい上、強く密着すると変質し
やすい傾向があり、すり傷が更に目立ったり、例えばブ
ラックバンド等が既に基材フィルムにありこの上に反射
防止膜組成物を塗設した場合、甚だしい場合には、フィ
ルム表面が白く濁ったりという、光学フィルムとしては
許されない欠陥を生ずることがある。As a result, it is used for an optical film for liquid crystal,
For example, an optical film such as a cellulose ester film is scratched at the time of winding, and a streak that can be noticeably observed in a winding direction, which is noticeably observed in a roll in which a long film called a black band is wound, is formed. We were able to obtain an excellent winding method that is less prone to failure. Although the cause cannot be identified with the black band, when the coating thickness changes subtly, if the thick part adheres, the part looks black, or the plasticizer is transferred to the surface and looks black when wound. In any case, it refers to coating failures that are observed when the film thickness and the state of the film surface are not constant, and these failures that occur during winding of the film base material are reflected especially in the optical film. It also has a great influence when an antireflection film is coated on a film substrate to produce an antireflection film. The antireflection film is basically a film made of a metal oxide such as SiO ₂ or TiO ₂ and is formed by a coating method, for example, by a method called a sol-gel method. The surface film is fragile and easily cracked, and if it adheres strongly, it tends to be deteriorated, and scratches are more noticeable, for example, a black band or the like is already present on the base film, and the antireflection composition is applied on it. In such a case, the surface of the film may become white and turbid, which is not acceptable as an optical film.

【００１４】本発明によれば、従って、反射防止膜を塗
設して、反射防止フィルムを製造する際に用いる基材フ
ィルムを製造する際に、上記のごときすり傷や、ブラッ
クバンドの生成しにくく、従って、反射防止膜を塗設し
ても、高品位の光学フィルムを製造することの出来る、
長尺状のフィルム巻き取り方法が提供することができ、
更に、反射防止膜を塗設し、反射防止フィルムを製造す
る際にも、同様にすり傷が発生しにくく、又ひび割れ等
の欠陥が発生しにくく、基材フィルムと同様にブラック
バンドの発生もしにくい、安定した品質の光学フィルム
を得ることの出来る、フィルム巻き取り方法を提供する
ことが出来た。According to the present invention, therefore, when an antireflection film is applied to produce a base film used for producing an antireflection film, the above-mentioned scratches and black bands are produced. It is difficult, therefore, even if an antireflection film is applied, a high quality optical film can be manufactured.
A long film winding method can be provided,
Furthermore, even when an antireflection film is applied to produce an antireflection film, scratches are unlikely to occur, defects such as cracks are less likely to occur, and a black band is also generated like the base film. It has been possible to provide a film winding method capable of obtaining a difficult and stable optical film.

【００１５】本発明は、例えば、セルロースエステルフ
ィルムの製造において、ドープを用いて、流延用支持体
である例えば、無端のステンレスベルトにキャスティン
グして製膜した後、乾燥して、巻き取る際に適用出来
る。In the present invention, for example, in the production of a cellulose ester film, when a dope is used, a casting support, for example, an endless stainless belt is cast to form a film, which is then dried and wound. Can be applied to.

【００１６】本発明の巻き取り方法によれば、キャステ
ィング等により製造した長尺状フィルムを、先ず、高さ
が１〜４０μｍのエンボスを形成した後、張力が２９．
４〜４９０．３Ｎ／ｍで巻き取ることで、前記の様な故
障が少ないフィルムを得ることが出来る。According to the winding method of the present invention, a long film produced by casting or the like is first embossed with a height of 1 to 40 μm, and then tension is set to 29.
By winding at 4 to 490.3 N / m, it is possible to obtain a film with less failure as described above.

【００１７】エンボス加工は長尺状フィルムを巻き取り
前に、巻き取られたフィルム同士の裏面と表面が完全に
面同士密着するのを防止するために、フィルム加工幅の
端部に微小の連続した凹凸からなる一定の幅に文様をつ
けるもので、これにより巻き取ったフィルム同士が完全
に接着して、或いは、部分的に接着してフィルムの表面
の状態に影響を与え、故障を引き起こすのを防ぐ役割を
果たす。Before winding the long film, the embossing process is performed in order to prevent the back surface and the front surface of the wound films from completely adhering to each other. It is a pattern that has a certain width consisting of unevenness, which allows the wound films to be completely adhered or partially adhered to each other, affecting the surface condition of the film and causing a failure. Play a role in preventing

【００１８】エンボス加工の幅は５〜４０ｍｍが好まし
く、より好ましくは７〜１５ｍｍである。フィルム端部
から０〜５０ｍｍの部分にエンボス加工が施されている
ことが好ましく、エンボスの形態は問わないが、一ヶ所
に加工するエンボスの条数は、一条でも二条でもそれ以
上であってもかまわない。加工しようとするフィルムの
両端部になされていることが特に好ましい。The embossing width is preferably 5 to 40 mm, more preferably 7 to 15 mm. It is preferable that embossing is applied to a portion of 0 to 50 mm from the end of the film, and the embossing form does not matter, but the number of embossing lines processed in one place may be one, two or more. I don't care. It is particularly preferable that both ends of the film to be processed are formed.

【００１９】エンボス加工の凹凸の高さは１〜４０μｍ
であることが好ましく、更に２〜３５μｍであることが
好ましく、７〜３０μｍであることが特に好ましい。エ
ンボス加工は高すぎると巻き乱れや、ロール端部の盛り
上がりなど、フィルム端部にひずみを与えてしまうため
好ましくない。又、低すぎると配向の乱れを抑制する効
果に乏しくなる。樹脂フィルム厚みの１〜２５％の範囲
で高さを調節することが好ましい。The height of the embossed unevenness is 1 to 40 μm
Is more preferable, 2 to 35 μm is more preferable, and 7 to 30 μm is particularly preferable. If the embossing is too high, it is not preferable because it causes distortion in the film edge such as winding disorder and swelling of the roll edge. On the other hand, if it is too low, the effect of suppressing disorder of orientation becomes poor. It is preferable to adjust the height within the range of 1 to 25% of the resin film thickness.

【００２０】エンボス加工の各条の突起として観察され
る部分のエンボス加工部全体に対する面積の割合が、１
５〜５０％程度が好ましく、これらの各条に含まれる突
起が不連続なものである場合にはその数は１ｃｍ²あた
り１０〜３０個程度であるのが好ましい。The ratio of the area of the portion observed as the protrusion of each embossed line to the entire embossed portion is 1
It is preferably about 5 to 50%, and when the projections contained in each of these strips are discontinuous, the number is preferably about 10 to 30 per cm ² .

【００２１】エンボス加工は、通常、金属やゴムなどの
バックロール上でフィルムに刻印の刻まれたエンボスリ
ングを押し当てることで、加工できる。加工は常温でも
可能であるが、Ｔｇ＋２０℃以上、融点（Ｔｍ）＋３０
℃以下で加工するのが好ましい。The embossing can be usually carried out by pressing an embossing ring with a stamp on the film on a back roll made of metal or rubber. Processing is possible at room temperature, but Tg + 20 ° C or higher, melting point (Tm) +30
It is preferable to process at a temperature of not more than ° C.

【００２２】長尺状のフィルムを、これらのエンボス加
工に加えて、例えばドープのキャスティングにより製膜
し製造したトリアセチルセルロースフィルム（溶融キャ
スティングしたしたポリエチレンテレフタレート等にも
適用できるが）を、張力が２９．４〜４９０．３Ｎ／ｍ
で巻き取りロールに巻き取ることが重要である。余りに
強い張力で巻き取ると、巻き取り後期においてフィルム
の幅方向の張力の微妙なずれや、巻きとったフィルムの
巻き方向のよれ等によって、ブラックバンドやすり傷の
発生に関して大きな影響を与える。又少ない張力で巻き
取る場合には、初期の巻き取りではロールの各巻き毎の
フィルム同士の接圧が弱いため、巻き取りの後記ではロ
ールの処理巻き取り部分にゆるみを生じ、中心部がの巻
きが波をうってしまい、くっつきや、すれによる故障が
多くなって３ｋｇ／ｍ以下では、実質的に故障が発生し
ない条件を設定することは難しい。In addition to the embossing of a long film, for example, a triacetyl cellulose film produced by casting a dope (which can be applied to melt cast polyethylene terephthalate, etc.) is used. 29.4 to 490.3 N / m
It is important to wind on a take-up roll. If the film is wound with an excessively high tension, a slight deviation in the tension in the width direction of the film in the latter half of the film winding, a twist in the winding direction of the wound film, and the like have a great influence on the occurrence of black band and scratches. In the case of winding with a small tension, since the contact pressure between the films in each winding of the roll is weak in the initial winding, in the following description of the winding, looseness occurs in the processing winding portion of the roll, and It is difficult to set a condition in which the failure does not substantially occur when the winding is wavy and the number of failures due to sticking or rubbing increases and the number of failures is 3 kg / m or less.

【００２３】前記のように、フィルムの巻き取り時に
は、張力の制御を行うことが好ましいが、巻き取り時に
５〜６０％のテーパ張力を設けることが好ましい。テー
パ張力とは、巻き取り時の張力を、巻き取りの中間段階
から巻き取りの最終段階迄において、巻き取り張力を順
次減少して巻き取ることをいう。巻き取り初期の張力を
例えば１００としたとき、巻き取り最終段階での巻き取
り張力を５〜６０％に抑えることが、外周部では均一に
幾重にも巻き取られる為に、巻き取ったフィルムが、ロ
ールの中心部に対して強い圧力を及ぼす為、巻き取り等
れたロールフィルムにおいて、巻き取り方向に波をう
ち、それによって中心部に段状の、或いはスジ状の連続
的なムラ（ブラックバンド）が大きく発生したり、各巻
き毎に発生するずれによって多くのスリ傷が発生する。As described above, it is preferable to control the tension when winding the film, but it is preferable to provide a taper tension of 5 to 60% when winding the film. The taper tension means that the tension at the time of winding is gradually reduced from the intermediate stage of winding to the final stage of winding, and the winding is performed. When the tension at the initial stage of winding is set to 100, for example, it is necessary to keep the winding tension at the final stage of winding to 5 to 60%. Since a strong pressure is exerted on the central part of the roll, the roll film wound up, for example, has a wave in the winding direction, which causes stepwise or streaky continuous unevenness (black) in the central part. A large band is generated, and many scratches are generated due to the deviation generated in each winding.

【００２４】テーパ張力は、前記のように、巻き取り張
力を２９．４〜４９０．３Ｎ／ｍとして巻き取りロール
に巻き取る方法と組み合わせると特に効果が大きい。例
えば後述の図３に示したように１０００ｍｍ幅で、４０
００ｍの長尺フィルムを巻き取る際、９８．０Ｎ／ｍの
張力で巻き取りを開始し、巻き取りの進行に伴って最終
的に６８．６Ｎ／ｍ程度（約７０％）の張力で巻き終わ
るように順次減少するパターンで巻き取る方法をとる。
張力の減少は、リニアに減少してもよいが、関数的に減
少させるようなパターンを用いてもよい。As described above, the taper tension is particularly effective when combined with the method of winding the tape on the winding roll with the winding tension of 29.4 to 490.3 N / m. For example, as shown in FIG.
When winding a long film of 00 m, the winding starts with a tension of 98.0 N / m, and finally the winding ends with a tension of about 68.6 N / m (about 70%) as the winding progresses. The winding method is such that the pattern gradually decreases.
The decrease in tension may be decreased linearly, but a pattern that decreases functionally may be used.

【００２５】フィルムの巻き取り時、後述するが、図５
に示すように、製膜した或いは基材フィルム状に光学層
を形成したフィルムを最終的に巻き取る為のコア近傍
に、ニアロールを設置するのが、フィルムの搬送によっ
てフィルムが上下にぶれる（振動する）現象を防止し、
すり傷やブラックバンドを防ぐ上で好ましい。ニアロー
ルは、コアに巻き取ったフィルム基材表面からニアロー
ル面までの距離を０．１〜５０ｍｍとするとその効果が
大きい。これより小さくすると巻き取り途中からフィル
ム基材表面とニアロール面が接触し後述するタッチロー
ルとなり、別の接触圧の制御等、もう一つの制御を行う
ための制御手段が必要になり、コストアップとなる。
又、余り離れすぎると、搬送時にフィルムが上下に振動
する現象を防止する効果が低下する。これも又、前記フ
ィルム基材にエンボス加工を施す、巻き取り時の張力が
２９．４〜４９０．３Ｎ／ｍで巻き取りロールに巻き取
る、更には巻き取り張力に５〜６０％のテーパ張力を設
ける等の手段と併用するとより一層効果を発揮する。When winding the film, as will be described later, FIG.
As shown in, a near roll is installed in the vicinity of the core for final winding of the film on which the optical layer is formed or the base film is formed. Prevent) phenomenon,
It is preferable in preventing scratches and black bands. The near roll has a great effect when the distance from the surface of the film substrate wound on the core to the near roll surface is 0.1 to 50 mm. If it is smaller than this, the film base surface and the near roll surface come into contact with each other from the midway of winding and become a touch roll to be described later, and a control means for performing another control such as control of another contact pressure is required, resulting in cost increase. Become.
On the other hand, if it is too far away, the effect of preventing the phenomenon of the film vibrating up and down during transport is reduced. Also, the film base material is embossed, wound on a winding roll with a winding tension of 29.4 to 490.3 N / m, and the taper tension is 5 to 60% of the winding tension. When used in combination with a means such as provision of, the effect is further enhanced.

【００２６】又、ニアロールを設ける方法の他、フィル
ムの巻き取り時に、フィルム表面に対する接圧が０．９
８〜２９４Ｎ／ｍのタッチロールを用いても、安定した
巻き取りを行うことが出来る。タッチロールを用いて巻
き取りを行う様子を図６に示した。但し、この場合、巻
き取った、或いは順次巻き取りが行われつつあるフィル
ム表面に対するロールの接圧を常に一定とする制御手段
が必要となる。しかしながら接圧を常に一定とすること
で、より安定した巻き取りを行うことが出来ると共に、
フィルムの搬送時の上下のぶれを防ぐことが出来るので
より好ましい。タッチロールを設けることも、前記フィ
ルム基材にエンボス加工を施す、巻き取り時の張力が２
９．４〜４９０．３Ｎ／ｍで巻き取りロールに巻き取
る、更には巻き取り張力に５〜６０％のテーパ張力を設
ける等の手段と併用するとより一層効果を発揮する。In addition to the method of providing a near roll, when the film is wound, the contact pressure on the film surface is 0.9.
Even with a touch roll of 8 to 294 N / m, stable winding can be performed. FIG. 6 shows how the winding is performed using the touch roll. However, in this case, it is necessary to provide a control means for keeping the contact pressure of the roll on the surface of the film which has been wound or is being wound successively constant. However, by making the contact pressure always constant, more stable winding can be performed, and
It is more preferable because it is possible to prevent vertical blurring during transport of the film. By providing a touch roll, the film substrate is embossed and the tension during winding is 2
It is more effective when used in combination with a means such as winding on a winding roll at 9.4 to 490.3 N / m, and further providing a taper tension of 5 to 60% to the winding tension.

【００２７】本発明の好ましい態様においては、従っ
て、光学フィルム或いは光学フィルム用基材にエンボス
加工を施し、巻き取り時に２９．４〜４９０．３Ｎ／ｍ
の張力で巻き取り、好ましくは巻き取り張力として５〜
６０％のテーパ張力を設ける、更に、ニアロール又はタ
ッチロール等を用いることにより、巻き取り時のスリ傷
や、前記ブラックバンドといわれるやはりフィルムの巻
き取り時に発生する光学フィルムの故障を改善すること
が出来る。In a preferred embodiment of the present invention, therefore, the optical film or the base material for the optical film is embossed and 29.4 to 490.3 N / m when wound.
It is wound up with a tension of, preferably a winding tension of 5 to
By providing a taper tension of 60% and further using a near roll or a touch roll, it is possible to improve scratches at the time of winding and failures of the optical film which is also referred to as the black band and which occurs at the time of winding the film. I can.

【００２８】本発明においては、セルロースエステル等
のフィルムが、光学フィルムとして又光学フィルム用の
基材フィルムとして優れた性質を有していることから最
も有利に用いられること、及び、巻き取りによってスリ
傷が付きやすく、ブラックバンド等を発生しやすいこと
から、本発明のフィルム巻き取り方法を適用するフィル
ムとしては好ましい。これらのスリ傷や、ブラックバン
ドといわれる故障は、例えば、巻きほぐし、例えば、ト
リアセチルセルロースフィルム単体で表面を観察すると
それ程目立たないが、トリアセチルセルロースフィルム
を、ドープといわれるトリアセチルセルロースの有機溶
媒溶液をステンレスベルト等にキャスティングすること
によって製膜し、乾燥して巻き取る際にも発生するので
あるが、これをフィルム基材として、更に金属酸化物反
射防止膜形成組成物を塗設して、反射防止フィルムを製
造する際には、基材では目立たなかった上記故障が、甚
だしい場合には白い濁りを生じたりして光学フィルムと
して使用が出来ないレベルまで拡大してしまうという現
象を生ずる。In the present invention, a film of cellulose ester or the like is most advantageously used because it has excellent properties as an optical film or a base film for an optical film, and it is wound by winding. It is preferable as a film to which the film winding method of the present invention is applied, because it is easily scratched and a black band or the like is easily generated. These scratches and failures called black bands are not so noticeable when the surface is unraveled, for example, by observing the surface of the triacetyl cellulose film alone, but the triacetyl cellulose film is an organic solvent of triacetyl cellulose called a dope. It is also generated when the solution is cast on a stainless belt or the like to form a film, which is dried and wound up. By using this as a film substrate, a metal oxide antireflection film-forming composition is further applied. When manufacturing an antireflection film, the above-mentioned failure that was not noticeable on the base material causes a phenomenon in which white turbidity is generated in some cases, and it expands to a level where it cannot be used as an optical film.

【００２９】従って、本発明は、反射防止膜等の光学フ
ィルムを製造するにあたって、前記巻き取り方法によっ
て巻き取られた光学フィルム基材を用いるというもので
あり。更に、反射防止膜等の光学用途の機能性膜を塗設
した光学フィルムそのものの製造において、スリ傷や、
ブラックバンド等の前記故障が少ない、優れた光学用途
の長尺フィルムの巻き取り方法を提供するものである。Therefore, the present invention uses the optical film substrate wound by the above-described winding method in manufacturing an optical film such as an antireflection film. Furthermore, in the production of the optical film itself coated with a functional film for optical use such as an antireflection film, scratches,
It is intended to provide an excellent method for winding a long film for optical use, which is less likely to cause the black band and other defects.

【００３０】（基材フィルム）本発明の光学フィルム又
光学フィルムの基材フィルムとして用いられるフィルム
は、ハードコート層または反射防止層等が接着し易いこ
と、光学的に等方性であること、光学的に透明性である
こと等から、必ずしもセルロースエステルフィルムでな
くともよく、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネー
ト系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホ
ン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の
ポリエステルフィルム等でもよいが、本発明において
は、特にセルローストリアセテートフィルムまたはセル
ロースアセテートプロピオネートフィルムが、製造上、
コスト面、透明性、等方性等の光学的性質や接着性等の
面から好ましい。(Substrate film) The optical film of the present invention or the film used as the substrate film of the optical film has a hard coat layer, an antireflection layer or the like that is easily adhered to it, and is optically isotropic. It is not necessarily a cellulose ester film because it is optically transparent, and may be a polyester film, a polycarbonate film, a polyarylate film, a polysulfone (including polyether sulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate. Although it may be a polyester film or the like, in the present invention, in particular, a cellulose triacetate film or a cellulose acetate propionate film, in terms of production,
It is preferable in terms of cost, optical properties such as transparency and isotropic property, and adhesiveness.

【００３１】（セルロースエステルフィルム）低い反射
率の積層体が得られるため、基材としてはセルロースエ
ステルフィルムを用いることが好ましい。セルロースエ
ステルとしては、セルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネ
ートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレー
ト、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用
いられる。(Cellulose Ester Film) A cellulose ester film is preferably used as the substrate because a laminate having a low reflectance can be obtained. As the cellulose ester, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable, and among them, cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate are preferably used.

【００３２】本発明に係る基材フィルムとしてセルロー
スエステルを用いる場合、セルロースエステルの原料の
セルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンタ
ー、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等
を挙げることができる。またそれらから得られたセルロ
ースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用すること
ができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤
が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）
である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロラ
イド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒
を用いてセルロース原料と反応させて、又、ＣＨ₃ＣＯ
Ｃｌ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＣｌ、Ｃ₃Ｈ₇ＣＯＣｌ等のアシル化剤
を混合して反応させ得ることができる。When cellulose ester is used as the base material film according to the present invention, the raw material of the cellulose ester is not particularly limited, but includes cotton linter, wood pulp (derived from coniferous trees and hardwood), kenaf and the like. You can The cellulose esters obtained from them can be mixed and used in arbitrary proportions. In these cellulose esters, the acylating agent is an acid anhydride (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride).
In the case of the above, an organic acid such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride is used to react with a cellulose raw material using a protic catalyst such as sulfuric acid, or CH ₃ CO
An acylating agent such as Cl, C ₂ H ₅ COCl or C ₃ H ₇ COCl can be mixed and reacted.

【００３３】アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−
Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。The method of measuring the substitution degree of the acyl group is ASTM-
It can be measured according to the regulations of D817-96.

【００３４】セルロースエステルの数平均分子量は、７
０，０００〜２５０，０００が、成型した場合の機械的
強度が強く、且つ、適度なドープ粘度となり好ましく、
更に好ましくは、８０，０００〜１５０，０００であ
る。The number average molecular weight of cellulose ester is 7
20,000 to 250,000 has a high mechanical strength when molded and has an appropriate dope viscosity, which is preferable.
More preferably, it is 80,000-150,000.

【００３５】これらセルロースエステルは後述するよう
に一般的に流延法と呼ばれるセルロースエステル溶解液
（ドープ）を、例えば、無端の金属ベルト等の流延用支
持体上に加圧ダイからドープを流延（キャスティング）
し製膜する方法で製造される。これらドープの調製に用
いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解
でき、かつ、適度な沸点であれば用いることができる
が、好ましいものとしてメチレンクロライド等の有機ハ
ロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸
エチル、アセトン等が挙げられる。As for these cellulose esters, as will be described later, a cellulose ester solution (dope) generally called a casting method is cast on a casting support such as an endless metal belt from a pressure die. Rolling (casting)
It is manufactured by the method of forming a film. As the organic solvent used for the preparation of these dopes, cellulose ester can be dissolved and can be used if it has an appropriate boiling point, but preferred are organic halogen compounds such as methylene chloride, dioxolane derivatives, methyl acetate, acetic acid. Examples thereof include ethyl and acetone.

【００３６】また、下記の製膜工程に示すように、溶媒
蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ
（ドープ膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の
発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点と
しては、３０〜８０℃が好ましい。Further, as shown in the following film forming step, when the solvent is dried from the web (dope film) formed on the casting support in the solvent evaporation step, foaming in the web is prevented. Therefore, the boiling point of the organic solvent used is preferably 30 to 80 ° C.

【００３７】上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れる
メチレンクロライド、酢酸メチルが好ましく用いられ、
特にメチレンクロライドが全有機溶媒に対して５０質量
％以上含まれていることが好ましい。Among the above-mentioned good solvents, methylene chloride and methyl acetate, which have excellent solubility, are preferably used,
Particularly, it is preferable that methylene chloride is contained in an amount of 50% by mass or more based on the total organic solvent.

【００３８】上記有機溶媒の他に、０．１〜３０質量％
のメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール等の低級
アルコールを含有させることが好ましい。これらは上記
記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始
めアルコールの比率が高まるウェブ（ドープ膜）がゲル
化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離すること
を容易にする。In addition to the above organic solvent, 0.1 to 30% by mass
It is preferable to contain a lower alcohol such as methanol, ethanol or n-propanol. After casting the dope described above on the casting support, the web begins to evaporate the solvent and the alcohol ratio increases (the dope film) gels, strengthening the web and separating it from the casting support. make it easier.

【００３９】これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよ
く、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、且つ毒性がない
こと等からエタノールが好ましく、メチレンクロライド
７０〜９５質量％に対してエタノール５〜３０質量％を
含む溶媒が好ましい。環境上の制約でハロゲンを含む溶
媒を避ける場合は、メチレンクロライドの代わりに酢酸
メチルを用いることもできる。このとき、冷却溶解法に
よりドープを調製してもよい。Of these solvents, ethanol is preferable because it has good stability of dope, relatively low boiling point, good drying property, and no toxicity. Ethanol is preferable to 70 to 95% by mass of methylene chloride. Solvents containing -30% by weight are preferred. Methyl acetate may be used in place of methylene chloride when a solvent containing halogen is avoided due to environmental restrictions. At this time, the dope may be prepared by a cooling dissolution method.

【００４０】セルロースエステルには、リン酸エステル
系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸
エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレ
ート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステ
ル系可塑剤等可塑剤を含有するのが好ましい。これらの
可塑剤は単独または併用するのが好ましい。The cellulose ester includes phosphoric acid ester plasticizers, phthalic acid ester plasticizers, trimellitic acid ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, glycolate plasticizers, citric acid ester plasticizers, It is preferable to contain a plasticizer such as a polyester plasticizer. These plasticizers are preferably used alone or in combination.

【００４１】これらの可塑剤の使用量は、フィルム性
能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜
２０質量％が好ましい。The amount of these plasticizers to be used is 1 to cellulose ester in view of film performance, processability and the like.
20 mass% is preferable.

【００４２】セルロースエステルには、例えばオキシベ
ンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、
サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合
物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合
物等の紫外線吸収剤が好ましく用いられる。Examples of the cellulose ester include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds,
Ultraviolet absorbers such as salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salt compounds are preferably used.

【００４３】特に、不要な着色がより少ないベンゾトリ
アゾール系紫外線吸収剤が好ましく用いられる。Particularly, a benzotriazole type ultraviolet absorber which causes less unnecessary coloring is preferably used.

【００４４】（製膜方法）本発明に係わるセルロースエ
ステルフィルムの製膜方法についてより詳しく述べる。(Film Forming Method) The method for forming the cellulose ester film according to the present invention will be described in more detail.

【００４５】前記のドープは、例えば回転数によって高
精度に定量送液出来る加圧型精密ギャポンプから加圧ダ
イに送り込まれ、加圧型ダイの口金（スリット）からエ
ンドレスに回転している流延用支持体の上に均一に流延
され、流延用支持体がほぼ一周したところで、生乾きの
ウェブとして流延用支持体から、回転しているロール群
に通されながら乾燥され、乾燥されたセルロースエステ
ルフィルムは搬送後巻き取り機で所定の長さに巻き取ら
れる。The above-mentioned dope is sent to a pressurizing die from a pressurizing type precision gas pump capable of accurately and quantitatively feeding the dope, and the casting support is rotating endlessly from a die (slit) of the pressurizing die. Cellulose ester that is evenly cast on the body, and where the casting support has made almost one round, is dried from the casting support as a raw dry web while being passed through a rotating roll group, and dried. After being conveyed, the film is wound into a predetermined length by a winder.

【００４６】本発明のセルロースエステルフィルムを製
造するのに使用されるエンドレスの流延用支持体として
は、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラ
ムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベル
ト（バンドといってもよい）が用いられる。As the endless casting support used for producing the cellulose ester film of the present invention, a drum whose surface is mirror-finished by chrome plating or a stainless belt (band and May be used) is used.

【００４７】流延用支持体上における溶液の乾燥は、流
延用支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法
等幾つかあるが、温度コントロールした液体をベルトや
ドラムの溶液流延面の反対側の裏面から接触させて、伝
熱によりドラムあるいはベルトを加熱し表面温度をコン
トロールする液体電熱方法が好ましい。There are several methods for drying the solution on the casting support, such as applying hot air from the surface of the web on the casting support. A temperature-controlled liquid is applied to the solution casting surface of a belt or a drum. A liquid electrothermal method in which the surface temperature is controlled by heating the drum or belt by heat transfer by contacting from the back surface on the opposite side is preferable.

【００４８】流延される前の流延用支持体の表面温度及
び溶液の温度は、２０℃以上溶媒の沸点より低い方が好
ましい。溶液温度、流延用支持体温度は、高いほど溶媒
の乾燥速度が早く出来るので好ましいが、あまり高すぎ
ると発泡したり平面性が劣化する場合がある。更に剥離
する際の流延用支持体温度を１０〜４０℃、更に好まし
くは１５〜３０℃にすることでウェブと流延用支持体と
の密着力を低減出来好ましい。The surface temperature of the casting support before casting and the temperature of the solution are preferably 20 ° C. or higher and lower than the boiling point of the solvent. The higher the solution temperature and the temperature of the casting support, the faster the drying speed of the solvent, which is preferable. However, if the temperature is too high, foaming or flatness may occur. Further, by setting the temperature of the casting support at the time of peeling to 10 to 40 ° C., more preferably 15 to 30 ° C., it is possible to reduce the adhesion between the web and the casting support, which is preferable.

【００４９】剥離時のウェブの残留溶媒量は１０〜１２
０質量％が好ましく、本発明によれば剥離残留溶媒量が
１００質量％未満であっても、剥離の際に生じる幅手方
向の横段の発生を抑制することが出来る。The amount of residual solvent in the web at the time of peeling is 10 to 12
0 mass% is preferable, and according to the present invention, even if the amount of the residual solvent for peeling is less than 100 mass%, it is possible to suppress the occurrence of lateral steps in the width direction that occur during peeling.

【００５０】剥離したウェブの乾燥方法について述べ
る。流延用支持体が１周する直前の剥離位置で剥離され
たウェブは、千鳥状に配置されたロール群に交互に通し
て搬送する方法や剥離されたウェブの両端をクリップで
把持させて非接触的に搬送する方法などにより搬送しつ
つ、搬送中のウェブ両面に所定の温度の風を当てる方法
やマイクロウェーブなどの加熱手段などを用いる方法に
よって乾燥が行われる。乾燥の初期段階では、溶媒が発
泡しない程度の温度で乾燥し、乾燥が進んでから高温で
乾燥を行うのが好ましい。A method for drying the peeled web will be described. The web peeled at the peeling position immediately before the casting support makes one round is conveyed by alternately passing through the rolls arranged in a staggered manner, or both ends of the peeled web are grasped by clips and the Drying is performed by a method of applying air having a predetermined temperature to both surfaces of the web being conveyed or a method of using a heating means such as microwave while conveying the web by a contacting method. In the initial stage of drying, it is preferable to dry at a temperature at which the solvent does not foam, and then to dry at a high temperature after the progress of drying.

【００５１】流延用支持体から剥離した後の乾燥工程で
は、溶媒の蒸発によってウェブは巾方向に収縮しようと
する。高温度で乾燥するほど収縮が大きくなる。この収
縮は可能な限り抑制しながら乾燥することが、出来上が
ったセルロースエステルフィルムの平面性を良好にする
上で好ましい。この点から、例えば、特開昭６２−４６
６２５号公報に示されているような乾燥全工程あるいは
一部の工程を巾方向にクリップでウェブの巾両端を巾保
持しつつ乾燥させる方法（テンター方式）も好ましく用
いることが出来る。In the drying step after peeling from the casting support, the web tends to shrink in the width direction due to evaporation of the solvent. The higher the temperature, the greater the shrinkage. It is preferable to dry the cellulose ester film while suppressing the shrinkage as much as possible in order to improve the flatness of the finished cellulose ester film. From this point, for example, JP-A-62-46
It is also possible to preferably use a method of drying all or a part of the steps as disclosed in Japanese Patent No. 625 (tenter method) in which the width of the web is held while holding the width of the web with a clip in the width direction.

【００５２】本発明において、セルロースエステルフィ
ルムの乾燥工程における乾燥温度は４０〜２５０℃、特
に７０〜１８０℃が好ましい。使用する溶媒によって乾
燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使用溶媒の種
類、組合せに応じて適宜選べばよい。In the present invention, the drying temperature in the step of drying the cellulose ester film is preferably 40 to 250 ° C, particularly preferably 70 to 180 ° C. The drying temperature, the amount of drying air, and the drying time differ depending on the solvent used, and may be appropriately selected according to the type and combination of the solvents used.

【００５３】以上のようにして得られたセルロースエス
テルフィルムは、最終仕上がりセルロースエステルフィ
ルムの残留溶媒量で２質量％以下、さらに０．４質量％
以下であることが、寸度安定性が良好なセルロースエス
テルフィルムを得る上で好ましい。The cellulose ester film obtained as described above has a residual solvent content of 2% by mass or less, further 0.4% by mass, in the final finished cellulose ester film.
The following is preferable for obtaining a cellulose ester film having good dimensional stability.

【００５４】これら流延から乾燥までの工程は、空気雰
囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で
もよい。The steps from casting to drying may be performed in an air atmosphere or an inert gas atmosphere such as nitrogen gas.

【００５５】又、本発明では、乾燥後、ロールフィルム
として巻き取る前に、エンボス加工を施すことが、フィ
ルムの両端部にエンボス加工の付与を前記の張力制御と
あわせて行うことで、しわや空気の抱き込み、異物を巻
き込む事による故障などが少なくなり、フィルムの巻き
取り時に生ずるスリ傷やブラックバンドが減少し、さら
にこれを基材フィルムとして用いることで、反射防止膜
組成物である金属酸化物膜をこの上に形成する際に更に
顕著に生じていたムラが著しく減少した。Further, in the present invention, after the film is dried, it is embossed before being wound into a roll film, and the embossing is applied to both end portions of the film together with the above tension control, whereby wrinkles and wrinkles are formed. The inclusion of air, the number of failures caused by entraining foreign substances, etc. are reduced, and the scratches and black bands that occur during film winding are reduced. When the oxide film was formed on top of this, the unevenness, which was more remarkable, was significantly reduced.

【００５６】エンボス加工の幅は５〜４０ｍｍが好まし
く、より好ましくは７〜１５ｍｍである。フィルム端部
から０〜５０ｍｍの部分にエンボス加工が施されている
ことが好ましく、エンボスの形態は問わないが、一ヶ所
に加工するエンボスの条数は、一条でも二条でもそれ以
上であってもかまわない。両端部になされていることが
特に好ましい。The embossing width is preferably 5 to 40 mm, more preferably 7 to 15 mm. It is preferable that embossing is applied to a portion of 0 to 50 mm from the end of the film, and the embossing form does not matter, but the number of embossing lines processed in one place may be one, two or more. I don't care. It is particularly preferable that the both ends are formed.

【００５７】エンボス加工の高さは１〜４０μｍである
ことが好ましく、更に２〜３０μｍであることが好まし
い。The height of embossing is preferably 1 to 40 μm, more preferably 2 to 30 μm.

【００５８】エンボス加工の各条の突起として観察され
る部分のエンボス加工部全体に対する面積の割合が、１
５〜５０％程度が好ましく、これらの各条に含まれる突
起が不連続なものである場合にはその数は１ｃｍ²あた
り１０〜３０個程度であるのが好ましい。The ratio of the area of the portion observed as the protrusion of each embossed line to the entire embossed portion is 1
It is preferably about 5 to 50%, and when the projections contained in each of these strips are discontinuous, the number is preferably about 10 to 30 per cm ² .

【００５９】エンボス加工は、通常、金属やゴムなどの
バックロール上でフィルムに刻印の刻まれたエンボスリ
ングを押し当てることで、加工できる。加工は常温でも
可能であるが、Ｔｇ＋２０℃以上、融点（Ｔｍ）＋３０
℃以下で加工するのが好ましい。The embossing can be usually carried out by pressing an embossed ring with a stamp on the film on a back roll made of metal or rubber. Processing is possible at room temperature, but Tg + 20 ° C or higher, melting point (Tm) +30
It is preferable to process at a temperature of not more than ° C.

【００６０】本発明において、セルロースエステルフィ
ルムの巻き取りは、前記エンボス加工と併せて行われ
る。一定の張力（テンション）で巻き取る際には巻き取
り張力として２９．４〜４９０．３Ｎ／ｍとすることが
光学特性に優れたフィルムを得るための条件である。テ
ーパ張力法を用いると更に好ましく、５〜６０％のテー
パをつけて巻き取ることが好ましい。テーパ張力におい
ても、巻き取り張力をリニアに減少させるのではなく、
内部応力一定のプログラムテンションコントロール法な
どの巻き取り方法を用いて巻き取ってもよい。In the present invention, the winding of the cellulose ester film is performed together with the embossing. When winding with a constant tension, a winding tension of 29.4 to 490.3 N / m is a condition for obtaining a film having excellent optical characteristics. It is more preferable to use the taper tension method, and it is preferable to wind the taper with a taper of 5 to 60%. Even with taper tension, the winding tension is not reduced linearly,
The winding may be performed by using a winding method such as a program tension control method with a constant internal stress.

【００６１】又、巻き取りの際には前述のようにニアロ
ールを設置して或いはタッチロールを用いて安定に巻き
取ることが上述のようにして製膜を行い、乾燥したセル
ロースエステルフィルム表面にスリ傷やブラックバンド
等の巻き取りによるスリ傷故障を減少させる上で効果が
高い。Further, at the time of winding, it is possible to install a near roll as described above or to stably wind it by using a touch roll as described above to form a film, and slide it on the surface of the dried cellulose ester film. It is highly effective in reducing scratch defects caused by winding of scratches and black bands.

【００６２】本発明の出来上がり（乾燥後）のセルロー
スエステルフィルムの厚さは、使用目的によって異なる
が、通常５〜５００μｍの範囲であり、更に２０〜２５
０μｍの範囲が好ましく、特に４０〜１２５μｍの範囲
が好ましい。特に、液晶表示装置用に使用する薄手の４
０〜６０μｍのセルロースエステルフィルムを製造する
際に本発明の剥離部近傍に静電気除去装置を設置するこ
とによって、発生する横段を有効に抑制することが出来
る。セルロースエステルフィルム厚さの調整は、所望の
厚さになるように、溶液中に含まれる固形分濃度、ダイ
の口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、流延
用流延用支持体の速度等を調節すればよい。The thickness of the finished (after dried) cellulose ester film of the present invention varies depending on the purpose of use, but is usually in the range of 5 to 500 μm, and further 20 to 25.
The range of 0 μm is preferable, and the range of 40 to 125 μm is particularly preferable. Especially, the thin 4 used for liquid crystal display devices.
When a cellulose ester film having a thickness of 0 to 60 μm is produced, by installing a static eliminator in the vicinity of the peeling portion of the present invention, it is possible to effectively suppress the generated horizontal step. The thickness of the cellulose ester film is adjusted so that the desired thickness is achieved by the solid content concentration in the solution, the slit gap of the die die, the extrusion pressure from the die, and the speed of the casting casting support. Etc. should be adjusted.

【００６３】図１は通常の、溶液流延製膜装置の概略見
取り図である。セルロースエステル溶液（ドープと呼
ぶ）をダイ２から流延用支持体３上にドープ膜１として
流延し（流延後のドープ膜をウェブと呼ぶ）、ドープ中
の溶媒を蒸発させ、剥離可能になったところで剥離ロー
ル（剥離点）４で流延用支持体３からウェブ１を剥離す
る。この時点ではウェブ１中の溶媒は１０〜１２０％程
度残っており、更に乾燥が必要である。流延用支持体３
から剥離されたウェブ１は、複数のロール群６により搬
送されながら、乾燥装置５により乾燥後のセルロースエ
ステルフィルム中の溶媒量２％以下まで乾燥され巻き取
り機８により巻き取られる。７は乾燥風である。FIG. 1 is a schematic sketch of a conventional solution casting film forming apparatus. A cellulose ester solution (called dope) is cast from the die 2 onto the casting support 3 as the dope film 1 (the dope film after casting is called the web), and the solvent in the dope is evaporated to enable peeling. At this point, the web 1 is peeled from the casting support 3 by a peeling roll (peeling point) 4. At this point, about 10 to 120% of the solvent remains in the web 1, and further drying is necessary. Casting support 3
The web 1 separated from is dried by the drying device 5 to a solvent amount of 2% or less in the dried cellulose ester film while being conveyed by the plurality of roll groups 6, and is wound by the winder 8. 7 is a dry wind.

【００６４】図２に乾燥後に、本発明に係わる、エンボ
ス加工を行うエンボス加工装置９を付加した、フィルム
の製膜、乾燥、巻き取り装置の概略見取り図を示した。
又、図３にエンボス加工のためのエンボスリングを備え
たエンボス加工装置の概略図を示した。エンボス加工は
前記製膜されたフィルムＦが一定の圧と温度をかけられ
エンボスリング１０とバックアップロール１０′間を通
過することで行われる。エンボス加工と巻き取りロール
の張力を２９．４〜４９０．３Ｎ／ｍとすることで本発
明の効果が得られる。又、図４に示すように、テーパ張
力を用いて巻き取りの応力を巻き取りが進むにつれ緩和
する様に巻き取ることがスリ傷を少なくする上では効果
が高い。図４は、例えば、幅１０００ｍｍ×４０００ｍ
の前記トリアセチルセルロースフィルムを巻き取る際
に、巻き取り開始時の張力９８．０Ｎ／ｍから、テーパ
張力３０％とし巻き取り終点での張力を６８．６Ｎ／ｍ
とリニアに減少させたテーパ張力の１例を示す図であ
る。FIG. 2 shows a schematic sketch of a film forming, drying and winding device according to the present invention to which an embossing device 9 for embossing is added after drying.
Further, FIG. 3 shows a schematic view of an embossing device equipped with an embossing ring for embossing. The embossing is carried out by passing the film F thus formed through a space between the embossing ring 10 and the backup roll 10 ′ under constant pressure and temperature. The effect of the present invention can be obtained by setting the tension of the embossing process and the take-up roll to 29.4 to 490.3 N / m. Further, as shown in FIG. 4, it is highly effective to reduce the scratches by using the taper tension so that the winding stress is relaxed as the winding progresses. FIG. 4 shows, for example, a width of 1000 mm × 4000 m
When winding the above-mentioned triacetyl cellulose film, the tension at the start of winding was set to 9% from the tension at the start of winding to 30%, and the tension at the end of winding was set to 68.6 N / m.
It is a figure which shows an example of the taper tension which decreased linearly with.

【００６５】以上のようにして得られたセルロースエス
テルフィルムは、スリ傷が少なく、ブラックバンドも軽
減し、透明性に優れ、平面性も良好で、偏光板用保護フ
ィルムとして用いたり、又、該フィルム基材上に、金属
酸化物層を形成する反射防止層組成物を塗設して、反射
防止フィルムを作製するととりわけ傷や、濁りの少ない
優れた光学用途のフィルムとなる。The cellulose ester film obtained as described above has few scratches, reduces black bands, is excellent in transparency, and has good flatness, and can be used as a protective film for a polarizing plate. When an antireflection layer composition for forming a metal oxide layer is applied onto a film base material to produce an antireflection film, it is a film excellent in optical use with less scratches and turbidity.

【００６６】又、図５に示したように、製膜、乾燥、エ
ンボス加工後巻き取る際に、併せてニアロールＮを設置
した巻き取り装置を用いることが搬送時のフィルムの上
下のぶれをなくすことが出来好ましい。図中、巻き取っ
たフィルムの巻き取り面からニアロール面までのニアロ
ールギャップ、ロール間の中心同士を結んだ線上の各ロ
ール表面間の距離Ｌは、本発明においては０．１ｍｍ〜
５０ｍｍが好ましい。Further, as shown in FIG. 5, when winding after film formation, drying and embossing, it is possible to use a winding device equipped with a near roll N in order to eliminate the vertical blurring of the film during transport. It is possible and preferable. In the figure, the near roll gap from the winding surface of the wound film to the near roll surface, and the distance L between the roll surfaces on the line connecting the centers of the rolls are 0.1 mm to
50 mm is preferable.

【００６７】又、更に、図６にタッチロールＴを設置し
た本発明に係わる巻き取り装置の概略図を示す。タッチ
ロールは前述のように、巻き取りの進行につれて接圧を
一定にする様に制御するため（制御用の手段はここでは
省略されている）光学用フィルムの巻き取りに適してい
る。Further, FIG. 6 shows a schematic view of the winding device according to the present invention in which the touch roll T is installed. As described above, the touch roll is suitable for winding the optical film because it controls the contact pressure to be constant as the winding progresses (controlling means is omitted here).

【００６８】セルロースエステル基材フィルム上に設け
られ反射防止層を形成する各層組成物の塗布方法として
は、ディッピング、スピンコート、ナイフコート、バー
コート、エアードクターコート、ブレードコート、スク
イズコート、リバースロールコート、グラビアロールコ
ート、カーテンコート、スプレイコート、ダイコート等
の公知の塗布方法を用いることができ、連続塗布または
薄膜塗布が可能な塗布方法が好ましい。The coating method of each layer composition provided on the cellulose ester base film to form the antireflection layer includes dipping, spin coating, knife coating, bar coating, air doctor coating, blade coating, squeeze coating and reverse roll. Known coating methods such as coating, gravure roll coating, curtain coating, spray coating, and die coating can be used, and coating methods capable of continuous coating or thin film coating are preferable.

【００６９】本発明の組成物を基材に塗布する際、塗布
液中の固形分濃度や塗布量を調整することにより、層の
膜厚及び塗布均一性等をコントロールすることができ
る。また、組成物の塗布性を向上させるために、塗布液
中に微量の界面活性剤等を添加してもよい。When the composition of the present invention is applied to a substrate, the film thickness of the layer and the coating uniformity can be controlled by adjusting the solid content concentration and coating amount in the coating liquid. Further, in order to improve the coatability of the composition, a trace amount of a surfactant or the like may be added to the coating liquid.

【００７０】本発明のもう１つの態様としては、これら
のフィルムを光学フィルムに用いるのみでなく、これら
のフィルム上に固形分濃度が２０％以下である反射防止
膜組成物塗布液を塗設し、反射防止膜組成物を基材フィ
ルム状に形成した反射防止フィルムを、更に前記の方法
により巻き取るものである。本発明の巻き取り方法を実
施することにより光学特性に優れた反射防止フィルムが
得られる。In another embodiment of the present invention, not only these films are used as an optical film, but also an antireflection coating composition coating solution having a solid content concentration of 20% or less is coated on these films. The antireflection film having the antireflection film composition formed into a substrate film is further wound by the above method. By carrying out the winding method of the present invention, an antireflection film having excellent optical properties can be obtained.

【００７１】反射防止膜組成物を基材フィルム状に形成
するには、代表的には、金属アルコキシドまたはアルコ
キシシラン或いは金属塩を主原料とした金属酸化物ゾル
から金属酸化物ゲルの皮膜や薄膜、成型体を形成するゾ
ル・ゲル法による方法が知られている。これは、例え
ば、金属アルコキシド又はアルコキシシランや金属塩を
主原料として得られた金属酸化物ゾルを含有する反射防
止膜組成物塗布液を基材上に塗布し、３次元架橋を形成
させゲル化させる事により金属酸化物或いはシリカの均
一な皮膜を形成させるものである。ゾルとは低粘度で流
動性をもった状態で、ある程度の３次元架橋をした状態
がゲル状態と考えられるが、通常はこの状態でも一部ゾ
ルを含む場合があるが、この様な状態も含めここではゲ
ル或いはゲル薄膜等のように便宜的に表現した。To form the antireflective coating composition in the form of a base film, typically, a metal oxide sol or a metal oxide gel coating or thin film containing a metal alkoxide or alkoxysilane or a metal salt as a main raw material is used. A method using a sol-gel method for forming a molded body is known. For example, a coating solution for coating an antireflection film composition containing a metal oxide sol obtained by using a metal alkoxide or an alkoxysilane or a metal salt as a main raw material is applied onto a substrate to form three-dimensional crosslinks and gelation. By doing so, a uniform film of metal oxide or silica is formed. A sol is considered to be a gel state when it has a low viscosity and fluidity and is cross-linked to some extent. Normally, even in this state, some sol may be contained, but such a state also exists. Including here, for convenience, it is expressed as gel or gel thin film.

【００７２】金属アルコキシドやアルコキシシランから
ゾル溶液を調製する際には酸等、縮合反応触媒（硬化促
進剤）を添加しゾル形成させて塗布する。縮合反応触媒
を添加したときから徐々に縮合反応による架橋が進行す
るために、ゾル・ゲル硬化促進剤溶液は塗布直前に混合
しするのが好ましい。或いは、金属アルコキシド又はア
ルコキシシラン溶液含有液と硬化促進剤溶液を基体上に
同時重層してもよい。When a sol solution is prepared from a metal alkoxide or an alkoxysilane, a condensation reaction catalyst (curing accelerator) such as an acid is added to form a sol for coating. It is preferable to mix the sol-gel curing accelerator solution immediately before coating, because the crosslinking due to the condensation reaction gradually progresses after the condensation reaction catalyst is added. Alternatively, the metal alkoxide or alkoxysilane solution-containing solution and the curing accelerator solution may be simultaneously overlaid on the substrate.

【００７３】本発明で用いられる金属アルコキシド、金
属塩の「金属」とは、一般に周期律表等で定義されてい
る「金属（Ｍｅｔａｌｓ）」の他に「遷移金属（Ｔｒａ
ｎｓｉｔｉｏｎ Ｍｅｔａｌｓ）」の元素、「ランタノ
イド」の元素、「アクチノイド」の元素、および「非金
属（Ｎｏｎ Ｍｅｔａｌｓ）」として定義されるホウ
素、珪素（シリコン）を含んだものとして定義するが、
好ましいものとしては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、
Ｓｒ、Ｔ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ等であり、特に好ましいも
のとしてはＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉである。The “metal” of the metal alkoxide and the metal salt used in the present invention includes not only “metals” generally defined in the periodic table, but also “transition metal (Tra)”.
However, boron, which is defined as “non-metals (Non Metals)”, and silicon (silicon) are defined as “elements”, “lanthanoids”, “actinides”, and
Preferred are Al, Si, Ti, V, Zn,
Sr, T, Zr, In, Sn and the like, and particularly preferable ones are Al, Si and Ti.

【００７４】従ってこれらの金属酸化物の皮膜或いは薄
膜の製造に用いられる金属アルコキシドの例としては以
下のものがあげられる。Therefore, examples of the metal alkoxide used for producing the film or thin film of these metal oxides are as follows.

【００７５】本発明に用いられる好ましい代表的な金属
アルコキシドをあげると、Ａｌのアルコキシドの例とし
ては、アルミニウム（III）ｎ−ブトキサイド、アルミ
ニウム（III）ｓ−ブトキサイド、アルミニウム（III）
ｔ−ブトキサイド、アルミニウム（III）エトキサイ
ド、アルミニウム（III）イソプロポキサイド等、Ｓｉ
のアルコキシドの例としては、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、
テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ブトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、ジメチルジメトキシシラン等、Ｔｉのアルコキシ
ドの例としては、チタンｎ−ブトキサイド、チタンメト
キサイド、チタンエトキサイド、チタンｎ−プロポキサ
イド、チタンイソプロポキサイド、チタンブトキサイ
ド、チタンクロロトリイソプロポキサイド、チタンジク
ロライドジエトキサイド、等がある。The preferred representative metal alkoxides used in the present invention are, as examples of Al alkoxides, aluminum (III) n-butoxide, aluminum (III) s-butoxide and aluminum (III).
t-butoxide, aluminum (III) ethoxide, aluminum (III) isopropoxide, Si, etc.
Examples of alkoxides include tetramethoxysilane,
Tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane,
Examples of Ti alkoxides such as tetra-n-propoxysilane, tetra-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and dimethyldimethoxysilane include titanium n-butoxide, titanium methoxide, titanium ethoxide, and titanium n. -Propoxide, titanium isopropoxide, titanium butoxide, titanium chlorotriisopropoxide, titanium dichloride dietoxide, and the like.

【００７６】また、これらの金属アルコキシドは、一部
が加水分解、重合反応した多量体も使用できる。この例
としては、チタンイソプロポキシドやチタンブトキシド
の多量体が挙げられる。これらの金属アルコキシドは単
独で又は２種以上組み合わせて用いる事が出来る。Further, for these metal alkoxides, a polymer partially hydrolyzed and polymerized can be used. Examples of this include multimers of titanium isopropoxide and titanium butoxide. These metal alkoxides can be used alone or in combination of two or more kinds.

【００７７】また、これらの金属アルコキシドは、対応
する金属ハロゲン化物（例えば四塩化チタン）と対応す
るアルコール（例えばｎ−プロパノール）またはβ−ジ
ケトン（例えば２，４−ペンタンジオン）またはβ−ケ
トエステル（例えば３−オキソブタン酸エチル）を混合
し、部分的に金属アルコキシドを形成した状態のもので
も構わない。Further, these metal alkoxides include corresponding metal halides (eg titanium tetrachloride) and corresponding alcohols (eg n-propanol) or β-diketones (eg 2,4-pentanedione) or β-ketoesters ( For example, ethyl oxobutanoate) may be mixed to partially form a metal alkoxide.

【００７８】これらの金属アルコキシドは、これにより
得られる金属酸化物材料、又は薄膜材料の用途により適
宜、選択して用いるが、例えば高屈折率膜の形成等の用
途には、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｚｎ等からなる単独
或いは混合金属酸化物膜であり、低屈折率の膜形成のよ
うな用途には、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓ
ｎ及びＳｂから選ばれた金属酸化物が（２種以上の金属
が組み合わされた複合酸化物でもよい）が好ましく、特
に好ましいのはＳｉの酸化物（シリカ）膜である。These metal alkoxides are appropriately selected and used according to the intended use of the metal oxide material or thin film material obtained therefrom. For example, for the purpose of forming a high refractive index film, In, Sn, Ti are used. A single or mixed metal oxide film made of Al, Si, Ti, Zn, Y, Zr, S, etc., for applications such as low refractive index film formation.
A metal oxide selected from n and Sb is preferable (it may be a composite oxide in which two or more kinds of metals are combined), and a Si oxide (silica) film is particularly preferable.

【００７９】又、金属アルコキシドにかわって、ハロゲ
ン化物、硝酸塩、硫酸塩等の無機塩、りん酸の塩、カル
ボン酸の塩等の有機物金属塩を用いることの出来る。Instead of the metal alkoxide, it is possible to use an inorganic salt such as a halide, a nitrate or a sulfate, or an organic metal salt such as a salt of phosphoric acid or a salt of carboxylic acid.

【００８０】金属アルコキシド等と共に用いられる、縮
合反応による架橋を促進する硬化促進剤としての触媒と
しては、水およびメタノール等の低級アルコール、酸
類、無機或いは有機の酸いずれでもよく、例としては塩
酸、硝酸、リン酸、酢酸、シュウ酸、フタル酸、安息香
酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。The catalyst used as a curing accelerator for promoting cross-linking by a condensation reaction, which is used together with a metal alkoxide or the like, may be water and a lower alcohol such as methanol, an acid, an inorganic or organic acid, for example, hydrochloric acid, Examples thereof include nitric acid, phosphoric acid, acetic acid, oxalic acid, phthalic acid, benzoic acid and p-toluenesulfonic acid.

【００８１】Ａｌキレート、Ｚｒキレート等の金属触
媒。キレート配位子としてはピコリン酸、サリチル酸、
１，３−ジケトン類、ヒドロキシカルボン酸、アセト酢
酸エステル、オクタンジオール、ヘキサンジオール等が
挙げられる。これら金属キレート促進剤は、例えば特公
昭６０−１１７２７号、特公昭６０−３０３５０号等に
開示されているが、金属アルコキシドの中心金属を一部
置換しながら、脱離し、縮合反応を促進するものと推定
される。Metal catalysts such as Al chelate and Zr chelate. As the chelating ligand, picolinic acid, salicylic acid,
1,3-diketones, hydroxycarboxylic acid, acetoacetic acid ester, octanediol, hexanediol and the like can be mentioned. These metal chelate accelerators are disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 60-11727 and Japanese Patent Publication No. 60-30350, but those which desorb while partially substituting the central metal of the metal alkoxide to accelerate the condensation reaction. It is estimated to be.

【００８２】また、触媒として、前記酸類の代りに、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンなど、
ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン−１）などのビシク
ロ環系アミン、アンモニア、ホスフィン等の塩基も用い
ることができる。As the catalyst, instead of the above acids, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, diethylamine, triethylamine, etc.
A bicyclo ring amine such as DBU (diazabicycloundecene-1) and a base such as ammonia or phosphine can also be used.

【００８３】上記の金属アルコキシド、に加え、触媒、
その他必要な成分を溶剤に溶解或いは分散し、固形分濃
度が２０％以下の塗布液として、前記基材フィルム上に
塗設し薄膜を形成させる。溶剤としては揮発性の溶媒が
好ましく、かつ、アルコキシシラン等の金属アルコキシ
ドや触媒等と反応せず、しかもプラスチックフィルムな
どの基体を溶解しないものであれば、いかなるものでも
よく、通常、例えば、水、メチルアルコール、エチルア
ルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアル
コールなどのアルコール、酢酸エチル、酢酸メチルなど
の酢酸エステル、アセトン、メチルエチルケトンなどの
ケトン、テトラヒドロフランなどのエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコー
ルモノアルキルエーテル、ジメチルフォルムアミド、ジ
メチルスルフォキシド、アセチルアセトンなどが挙げら
れる。In addition to the above metal alkoxide, a catalyst,
Other necessary components are dissolved or dispersed in a solvent to form a coating solution having a solid content concentration of 20% or less, which is applied on the base film to form a thin film. As the solvent, a volatile solvent is preferable, and any solvent may be used as long as it does not react with a metal alkoxide such as an alkoxysilane or a catalyst, and does not dissolve a substrate such as a plastic film, usually, for example, water. , Alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol and n-propyl alcohol, acetic acid esters such as ethyl acetate and methyl acetate, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol monoethyl ether such as ethylene glycol monoethyl ether. Examples thereof include alkyl ether, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, acetylacetone and the like.

【００８４】塗布後の乾燥は室温でも可能であるが、加
熱することが好ましく、これにより、溶媒の蒸発と共に
加水分解、重縮合反応が促進され、より強固な３次元架
橋したゲル薄膜を作成することも可能となる。従って、
加熱処理は、これらの目的、或いは、該プラスチックフ
ィルムなどの耐熱性などにみあった加熱温度で処理をす
ることが可能であり、通常は４０℃以上、好ましくは５
０℃から２８０℃の範囲で、かつ、基体が耐熱性を有す
る範囲で行われる。又、特開平９−１５７８５５号公報
に記載されたように、加熱する代わりに、紫外光を照射
して、薄膜を形成している金属酸化物を結晶化する方法
を用いる事も有効である。本発明において、硬化促進剤
との混合後直ちに塗布するような場合においては特にＵ
Ｖ光の照射が効果が大きい。Although it is possible to dry after coating at room temperature, it is preferable to heat it. As a result, the hydrolysis and polycondensation reaction are promoted together with the evaporation of the solvent, and a stronger three-dimensionally crosslinked gel thin film is prepared. It is also possible. Therefore,
The heat treatment can be carried out at a heating temperature suitable for these purposes or the heat resistance of the plastic film or the like, and is usually 40 ° C or higher, preferably 5 ° C.
It is carried out in the range of 0 ° C. to 280 ° C. and in the range where the substrate has heat resistance. Further, as described in JP-A-9-157855, it is also effective to use a method of irradiating with ultraviolet light to crystallize the metal oxide forming the thin film, instead of heating. In the present invention, especially when U is applied immediately after mixing with the curing accelerator, U
Irradiation with V light has a great effect.

【００８５】これらのゾル溶液はディッピング、スピン
コーター、ナイフコーター、バーコーター、ブレードコ
ーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、
グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテン
コーター、スプレイコーター、ダイコーター等の公知の
塗布機を用いて塗布することが出来る。これらのうち連
続塗布が可能な方法が好ましく用いられる。又高屈折
層、低屈折層等複数の層を同時重層する場合はカーテン
コーター、スライドコーター等同時重層に好適に用いら
れる塗布機を使用することが出来る。These sol solutions are used for dipping, spin coater, knife coater, bar coater, blade coater, squeeze coater, reverse roll coater,
Coating can be performed using a known coating machine such as a gravure roll coater, a slide coater, a curtain coater, a spray coater, and a die coater. Of these, the method capable of continuous coating is preferably used. When a plurality of layers such as a high-refractive index layer and a low-refractive index layer are simultaneously laminated, a coater such as a curtain coater or a slide coater which is preferably used for simultaneous lamination can be used.

【００８６】反射防止層を塗設する前に材フィルムに下
引き層として、基ハードコート層を設けることもでき、
活性線硬化樹脂層であることが好ましい。A base hard coat layer may be provided as an undercoat layer on the material film before applying the antireflection layer.
It is preferably an actinic radiation curable resin layer.

【００８７】活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂
や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられ
るが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化す
る樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポ
リエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ
アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレ
ート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げる
ことが出来る。Typical examples of the actinic ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, but a resin curable by irradiation with an actinic ray other than ultraviolet rays and electron beams may be used. As the ultraviolet curable resin, for example,
Examples thereof include UV-curable acrylic urethane-based resin, UV-curable polyester acrylate-based resin, UV-curable epoxy acrylate-based resin, UV-curable polyol acrylate-based resin, and UV-curable epoxy resin.

【００８８】これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に
使用される。樹脂モノマーとしては、例えば、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート等ビニル系モノマーを挙げるこ
とができる。These resins are usually used together with known photosensitizers. Examples of resin monomers include vinyl-based monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, and propylene glycol diacrylate.

【００８９】例えば、紫外線硬化樹脂としては、具体的
にはアデカ オプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ ＫＲ−４
００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、Ｋ
Ｒ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上 旭電化工業株式会
社製）等がある。For example, as the ultraviolet curable resin, specifically, ADEKA OPTOMER KR / BY series KR-4 is used.
00, KR-410, KR-550, KR-566, K
R-567, BY-320B (all manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) and the like.

【００９０】活性線硬化樹脂層の塗布組成物は固形分濃
度は１０〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法
により適当な濃度が選ばれる。The coating composition for the actinic radiation curable resin layer preferably has a solid content concentration of 10 to 95% by mass, and an appropriate concentration is selected depending on the coating method.

【００９１】活性線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化
皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生す
る光源であればいずれでも使用出来る。例えば、低圧水
銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボ
ンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等
を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプに
よって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃ
ｍ²程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ
／ｃｍ²である。近紫外線領域から可視光線領域にかけ
てはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによ
って使用出来る。As the light source for forming the cured film layer by the photocuring reaction of the actinic ray curable resin, any light source which emits ultraviolet rays can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a super high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, etc. can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is 20 to 10,000 mJ / c
It may be about m ² , preferably 50 to 2000 mJ.
/ Cm ² . From the near-ultraviolet region to the visible light region, it can be used by using a sensitizer having an absorption maximum in that region.

【００９２】活性線硬化樹脂層を塗設する際の溶媒とし
ては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、
エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中
から適宜選択し、あるいはこれらを混合し利用できる。As the solvent for applying the actinic radiation curable resin layer, for example, hydrocarbons, alcohols, ketones,
It can be appropriately selected from esters, glycol ethers and other solvents, or can be used by mixing them.

【００９３】また、グラビアコーター、スピナーコータ
ー、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバース
コーター、押し出しコーター、エアードクターコーター
等公知の方法を用いることが出来る。塗布量はウェット
膜厚で０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５
〜１５μｍである。塗布速度は好ましくは１０〜６０ｍ
／ｍｉｎで行われる。Known methods such as a gravure coater, a spinner coater, a wire bar coater, a roll coater, a reverse coater, an extrusion coater and an air doctor coater can be used. The coating amount of the wet film thickness is suitably 0.1 to 30 μm, preferably 0.5.
Is about 15 μm. The coating speed is preferably 10 to 60 m
/ Min.

【００９４】紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された
後、紫外線を光源より照射するが、照射時間は０．５秒
〜５分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率
とから３秒〜２分がより好ましい。The UV-curable resin composition is coated and dried and then irradiated with UV rays from a light source. The irradiation time is preferably 0.5 seconds to 5 minutes. Seconds to 2 minutes are more preferable.

【００９５】例えば、前記のような製膜法によって得ら
れたセルロースエステルフィルムを基材として、ハード
コート層を塗設し更に、その上に、ゾル−ゲル法によ
り、前記金属酸化物層を高屈折率層、中屈折率層、低屈
折率層と順次塗設して、反射防止フィルムを製造する際
に、本発明の巻き取り方法を用いて巻き取った基材フィ
ルムは、スリ傷等の故障が少なく、通常であれば、反射
防止用の金属酸化物層をこの上に塗設した時にフィルム
基材製造時の表面故障、特にブラックバンドと呼ばれる
巻き取り方向に連続するスリ傷故障がより目立ってしま
い、光学フィルムとしての特性が損なわれるという、光
学フィルム製造上の問題を解決するものである。即ち、
得られた反射防止フィルムには前記の故障がみられず、
光学的にクリアである。For example, a cellulose ester film obtained by the above-mentioned film-forming method is used as a base material, a hard coat layer is applied, and the metal oxide layer is formed thereon by a sol-gel method. A refractive index layer, a medium refractive index layer, and a low refractive index layer are sequentially coated, and when producing an antireflection film, the substrate film wound using the winding method of the present invention has scratches and the like. There are few failures, and usually, when a metal oxide layer for antireflection is applied on top of this, surface failures during film base material manufacturing, especially scratch failures that are continuous in the winding direction called the black band, are more likely to occur. It solves the problem of manufacturing an optical film, which is conspicuous and impairs the properties as an optical film. That is,
The above-mentioned failure is not observed in the obtained antireflection film,
Optically clear.

【００９６】又、反射防止層として機能する金属酸化物
層を塗設し、反射防止フィルムを製造する際、金属酸化
物層は、硬度が高いため巻き取り方法によってはひび割
れたり、その結果、反射防止フィルム表面に濁りを生じ
たりするため、特に本発明の巻き取り方法を用いること
が光学特性の優れたフィルムを得る上で好ましい。When a metal oxide layer functioning as an antireflection layer is applied to produce an antireflection film, the metal oxide layer has a high hardness and may be cracked depending on the winding method. In particular, the winding method of the present invention is preferably used in order to obtain a film having excellent optical properties, because it causes turbidity on the surface of the prevention film.

【００９７】[0097]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will now be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【００９８】実施例 《光学フィルム試料の作製》以下に示す方法に従って、
光学フィルム試料１〜１０を作製した。Example << Preparation of Optical Film Sample >> According to the method described below,
Optical film samples 1-10 were prepared.

【００９９】 （酸化珪素分散液の調製） アエロジルＲ−９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製 一次粒子の平均径１６ｎ ｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル） １５質量部 エタノール ８５質量部 以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マント
ンゴーリンで分散を行った。分散後の液濁度は１０５ｐ
ｐｍであり、数平均粒子径は０．１８μｍであった。(Preparation of Silicon Oxide Dispersion) Aerosil R-972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average diameter of primary particles: 16 nm, apparent specific gravity: 90 g / liter) 15 parts by mass Ethanol 85 parts by mass or more is stirred for 30 minutes with a dissolver. After mixing, dispersion was carried out with Manton Gorin. Liquid turbidity after dispersion is 105p
It was pm and the number average particle diameter was 0.18 μm.

【０１００】 （インライン添加液Ａの調製） チヌビン−１０９ ８質量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） リンター綿から合成されたセルローストリアセテート ４質量部 メチレンクロライド １００質量部 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら、完全に
溶解した後、濾過した。これに、上記酸化珪素分散液の
２０質量部を撹拌しながら加え、さらに３０分間撹拌し
た後、アドバンテック東洋（株）のポリプロピレンワイ
ンドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−２０Ｎで
濾過し、インライン添加液Ａを調製した。インライン添
加液Ａ中の微粒子の数平均粒子径は０．２５μｍであっ
た。(Preparation of In-Line Additive Liquid A) Tinuvin-109 8 parts by mass (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Cellulose triacetate synthesized from linter cotton 4 parts by mass Methylene chloride 100 parts by mass or more is charged into a closed container. Then, it was completely dissolved with heating and stirring, and then filtered. To this, 20 parts by mass of the above silicon oxide dispersion liquid was added with stirring, and the mixture was further stirred for 30 minutes, and then filtered with a polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-20N of Advantech Toyo Co., Ltd. to prepare an in-line addition liquid A. did. The number average particle size of the fine particles in the in-line additive liquid A was 0.25 μm.

【０１０１】 （ドープ液Ａの調製） リンター綿から合成されたセルローストリアセテート ８５質量部 木材パルプから合成されたセルローストリアセテート １５質量部 トリフェニルフォスフェイト １１．５質量部 メチレンクロライド ４７５質量部 エタノール ５０質量部 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら、完全に
溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使
用して濾過し、ドープ液Ａを調製した。(Preparation of Dope Liquid A) Cellulose triacetate synthesized from linter cotton 85 parts by mass Cellulose triacetate synthesized from wood pulp 15 parts by mass Triphenyl phosphate 11.5 parts by mass Methylene chloride 475 parts by mass Ethanol 50 parts by mass The above was placed in a closed container, completely dissolved while heating and stirring, and Azumi Filter Paper No. No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. A dope solution A was prepared by filtration using 244.

【０１０２】（フィルム製膜）製膜ライン中で、日本精
線（株）製のファインメットＮＦ（絶対濾過精度５０μ
ｍ、１５μｍ、５μｍの順に順次濾過精度を上げて使
用）でドープ液Ａを濾過した。一方、インライン添加液
ライン中で、日本精線（株）製のファインメットＮＦ
（絶対濾過精度５０μｍ、１５μｍ、５μｍの順に順次
濾過精度を上げて使用）によりインライン添加液Ａを濾
過した。濾過したドープ液Ａ１００質量部に対し、濾過
したインライン添加液Ａを２．２質量部加えて、インラ
インミキサー（東レ社製静止型管内混合機 Ｈｉ−Ｍｉ
ｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、次いで、ベルト流延装
置を用い、温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスバ
ンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体
で、残留溶媒量が８０％になるまで溶媒を蒸発させ、剥
離張力１２７Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥
離した。剥離したセルローストリアセテートフィルムを
１５５０ｍｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方
向に１０％延伸しながら、７０℃の乾燥温度で乾燥さ
せ、その後、１２０℃、１３５℃の乾燥ゾーンを多数の
ロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１３３０ｍｍ
幅にスリットし、幅方向の両端部に２５０℃にコントロ
ールされたエンボスリングを押込み量と押込み圧力を調
節して押付けながら高さ５μｍ、幅１０ｍｍのエンボス
加工を施した後、巻き取り張力９８．０Ｎ／ｍの均一な
張力でロールに巻き取った（セルローストリアセテート
フィルム２とした）。試料の膜厚は８０μｍ、巻数は４
０００ｍであった。(Film Forming) FineMet NF (absolute filtration accuracy 50 μm, manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd.) in the film forming line.
m, 15 μm, 5 μm in this order with increasing filtration accuracy). On the other hand, in the in-line additive liquid line, Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd.
The in-line additive solution A was filtered by (absolute filtration accuracy of 50 μm, 15 μm, 5 μm in this order with increasing filtration accuracy). 2.2 parts by mass of the filtered in-line additive liquid A was added to 100 parts by mass of the filtered dope liquid A, and the in-line mixer (Toray Co. static in-tube mixer Hi-Mi was used.
xer, SWJ), followed by uniform casting on a stainless band support at a temperature of 33 ° C. and 1500 mm width using a belt casting device. The solvent was evaporated on the stainless steel band support until the residual solvent amount reached 80%, and the product was peeled from the stainless steel band support with a peeling tension of 127 N / m. The peeled cellulose triacetate film is slit into a width of 1550 mm, and then it is dried at a drying temperature of 70 ° C. while being stretched by 10% in a width direction with a tenter, and then conveyed in a drying zone of 120 ° C. and 135 ° C. by a large number of rolls. Drying is completed while letting go to 1330mm
After slitting in the width, and embossing the height of 5 μm and the width of 10 mm while pressing the embossing ring controlled at 250 ° C. at both ends in the width direction by adjusting the pressing amount and the pressing pressure, the winding tension 98. The film was wound on a roll with a uniform tension of 0 N / m (the cellulose triacetate film 2 was used). The thickness of the sample is 80 μm, and the number of turns is 4.
It was 000 m.

【０１０３】又これらのセルローストリアセテートフィ
ルムにおいて、エンボスリングの押込み量と押込み圧力
を調節して表１の様にエンボスの高さを１０μｍ，２０
μｍ，４０μｍとした試料を作製し同様に巻き取った
（セルローストリアセテートフィルム３〜５）。又、エ
ンボス加工を行わず巻き取った試料をセルローストリア
セテートフィルム１とした。Further, in these cellulose triacetate films, the embossing height was 10 μm and the embossing height was 10 μm as shown in Table 1 by adjusting the pushing amount and the pushing pressure of the embossing ring.
Samples having a thickness of 40 μm were prepared and wound in the same manner (cellulose triacetate films 3 to 5). In addition, a sample wound without embossing was used as a cellulose triacetate film 1.

【０１０４】巻き取ったロールの状態で各セルロースト
リアセテートフィルム試料１〜５に巻き方向に所謂ブラ
ックバンドといわれる濃淡ムラが見られるか否かを観察
した。又、巻き取り後半の５０ｍを巻きほぐし表面のス
リ傷発生の程度を目視で確認した。It was observed whether or not the cellulose triacetate film samples 1 to 5 in the state of being wound up had unevenness in light and shade called a so-called black band in the winding direction. In addition, the degree of occurrence of scratches on the surface after unwinding 50 m in the latter half of the winding was visually confirmed.

【０１０５】[0105]

【表１】 [Table 1]

【０１０６】２、３，４においては、ブラックバンド、
スリ傷とも全く認められなかったが、１においては顕著
に認められ、５においてはやや認められた。In 2, 3, 4 the black band,
No scratches were observed at all, but it was noticeable in 1 and slightly in 5.

【０１０７】《ハードコート層を有するセルロースアセ
テートフィルム（以降、ハードコート層フィルムとす
る）の作製》次いで、前記において作製した膜厚８０μ
ｍのセルローストリアセテートフィルム１〜５の片面に
下記のハードコート組成物を乾燥膜厚３．５μｍとなる
ように塗布し、８０℃にて５分間乾燥させた。次に、８
０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を１２ｃｍの距離から４秒間照射
して硬化させてハードコート層フィルム試料６〜１０を
作製した。ハードコート層の屈折率は１．５０であっ
た。 〔ハードコート組成物〕 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部 ジエトキシベンゾフェノン（ＵＶ開始剤） ２質量部 シリコーン系界面活性剤（信越化学製ＫＰ−３２１） １質量部 アエロジルＲ−９７２（日本アエロジル（株）製） １質量部 メチルエチルケトン ５０質量部 酢酸エチル ５０質量部 イソプロピルアルコール ５０質量部 上記組成物を攪拌しながら超音波分散した。<< Preparation of Cellulose Acetate Film Having Hard Coat Layer (Hereinafter, Hard Coat Layer Film) >> Next, the film thickness of 80 μm prepared above.
The following hard coat composition was applied to one surface of each of the cellulose triacetate films 1 to 5 having a thickness of m to give a dry film thickness of 3.5 μm, and dried at 80 ° C. for 5 minutes. Next, 8
Hard coating layer film samples 6 to 10 were prepared by irradiating a 0 W / cm high pressure mercury lamp from a distance of 12 cm for 4 seconds to cure. The refractive index of the hard coat layer was 1.50. [Hard coat composition] Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate trimer 20 parts by mass Diethoxybenzophenone (UV initiator) 2 parts by mass Silicone-based surfactant (KP-321 manufactured by Shin-Etsu Chemical) 1 part by mass Aerosil R-972 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 1 part by mass Methyl ethyl ketone 50 parts by mass Ethyl acetate 50 parts by mass Isopropyl alcohol 50 parts by mass The above composition The product was ultrasonically dispersed while stirring.

【０１０８】（金属酸化物含有皮膜の作製）前述のハー
ドコート層フィルム試料６〜１０をコロナ放電処理後、
下記塗布液Ａを図７に示す装置で塗布し、８０℃で乾燥
させ、金属酸化物含有皮膜を有するフィルム試料１１〜
１５を作製した。図７のタンク１１及びタンク１２に蓄
えられたそれぞれ塗布液Ａと塗布液Ｂはインラインで直
前混合され、コーターから塗布液が上記ハードコート層
を有するフィルム基材へ塗布される。混合は、塗布液Ａ
とＢの液量の比が１０：１に流量を調節した。(Preparation of Metal Oxide-Containing Film) After the hard coat layer film samples 6 to 10 were subjected to corona discharge treatment,
The following coating liquid A was applied with the apparatus shown in FIG. 7, dried at 80 ° C., and film samples 11 to 11 each having a metal oxide-containing coating.
15 was produced. The coating liquid A and the coating liquid B respectively stored in the tank 11 and the tank 12 in FIG. 7 are immediately mixed in-line, and the coating liquid is applied from the coater to the film base material having the hard coat layer. Mix the coating liquid A
The flow rate was adjusted so that the ratio of the liquid amounts of B and B was 10: 1.

【０１０９】図７は本発明の金属酸化物或いはシリカ含
有皮膜をプラスチックフィルム基材上に塗布するための
塗布の直前に備えられた、送液・混合装置を有する塗布
機の概略図を示している。図において、１１、１２はそ
れぞれ調製した塗布液Ａ、Ｂを塗布前に一時貯蔵してお
くタンクを表し、１３、１４はそれぞれのタンクに備え
られたバルブ、１８はこれらの溶液を送るためのポンプ
と混合器を表している。即ちそれぞれタンク１１、１２
に蓄えられた塗布液Ａ、Ｂはバルブ１３、１４を通しそ
れぞれライン１５、１６を通してポンプおよび混合器を
表す１８により均一に混合されライン１７を通ってコー
ターヘッドＣに送られコーターヘッドＣにおいて前記ハ
ードコート層フィルムに塗布される。FIG. 7 shows a schematic view of a coating machine having a liquid feeding / mixing device provided immediately before coating for coating a metal oxide or silica-containing coating of the present invention on a plastic film substrate. There is. In the figure, 11 and 12 represent tanks for temporarily storing the prepared coating liquids A and B before coating, 13 and 14 are valves provided in the respective tanks, and 18 is a valve for sending these solutions. Represents a pump and mixer. That is, tanks 11 and 12 respectively
The coating liquids A and B stored in (1) are uniformly mixed by valves (13) and (14) which represent pumps and mixers through lines (15) and (16), respectively, and are sent to a coater head (C) through a line (17). It is applied to the hard coat layer film.

【０１１０】 〈塗布液Ａ〉 チタンｎ−ブトキサイド ７５質量部 テトラエトキシシラン ５質量部 ブタノール ８０００質量部 界面活性剤（大日本インキ社製Ｆ−１７７） １質量部 〈塗布液Ｂ〉 １０％塩酸水溶液 ３０質量部 イソプロパノール １０００質量部 図１のキャスティング装置に続く乾燥・巻き取り装置と
同じ乾燥・巻き取り装置で８０℃で乾燥させた後、巻き
取りを、張力９８．０Ｎ／ｍとしてそれぞれフリー巻き
取りを行った。巻き取り後、各試料について同様にブラ
ックバンド、スリ傷について同様に目視確認を行った。
結果を表２に示す。<Coating liquid A> Titanium n-butoxide 75 parts by mass tetraethoxysilane 5 parts by mass Butanol 8000 parts by mass Surfactant (F-177 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass <Coating liquid B> 10% hydrochloric acid aqueous solution 30 parts by mass Isopropanol 1000 parts by mass After drying at 80 ° C. with the same drying / winding device as the drying / winding device following the casting device shown in FIG. 1, the winding is performed independently with a tension of 98.0 N / m. I went. After winding, each sample was visually inspected for black bands and scratches in the same manner.
The results are shown in Table 2.

【０１１１】[0111]

【表２】 [Table 2]

【０１１２】スリ傷、ブラックバンドとも基材トリアセ
チルセルロースフィルムの場合よりも金属酸化物含有皮
膜を有するフィルム試料１１，１２及び１５については
より顕著に認められた。また、部分的に濁りを発生して
いる部分もあり、この様な金属酸化膜層を形成した時に
より基材フィルムのスリ傷等の故障が拡大して認められ
ることがわかる。Both scratches and black bands were more noticeable in the film samples 11, 12 and 15 having the metal oxide-containing coating than in the case of the substrate triacetylcellulose film. In addition, there is a portion where turbidity is partially generated, and it can be seen that when such a metal oxide film layer is formed, defects such as scratches on the base film are enlarged and recognized.

【０１１３】実施例２ 実施例１に従ってトリアセチルセルロースフィルム１
（エンボス加工なし）及びトリアセチルセルロースフィ
ルム２（５μｍのエンボス加工を付与）をそれぞれ作製
した。但し、いずれも図５で示される様にニアロールを
巻き取りロール直前に設置して、同様に巻き取りを行っ
た。巻き取り張力は９８．０Ｎ／ｍ、且つ、ニアロール
ギャップは表３に示すように変化させて巻き取りを行っ
た。Example 2 Triacetyl cellulose film 1 according to Example 1
(No embossing) and triacetyl cellulose film 2 (with 5 μm embossing) were prepared. However, in each case, as shown in FIG. 5, a near roll was installed immediately before the winding roll, and the winding was similarly performed. The winding tension was 98.0 N / m, and the near-roll gap was changed as shown in Table 3 for winding.

【０１１４】[0114]

【表３】 [Table 3]

【０１１５】ギャップを０．１〜５０ｍｍとしたニアロ
ールを用いることにより実施例１におけるよりもより安
定な巻き取り条件を得ることが出来た。By using a near roll having a gap of 0.1 to 50 mm, a more stable winding condition than that in Example 1 could be obtained.

【０１１６】実施例３ 実施例１に従ってトリアセチルセルロースフィルム１
（エンボス加工なし）及びトリアセチルセルロースフィ
ルム２（５μｍのエンボス加工を付与）をそれぞれ作製
し、それぞれ図６で示される様に、タッチロールと組合
せて巻き取りを行った。巻き取り張力は９８．０Ｎ／ｍ
であるが、タッチロールの接圧を表４のように変化させ
て巻き取りを行った。Example 3 Triacetyl cellulose film 1 according to Example 1
(No embossing) and triacetyl cellulose film 2 (giving an embossing of 5 μm) were produced, and each was wound in combination with a touch roll as shown in FIG. Winding tension is 98.0 N / m
However, the contact pressure of the touch roll was changed as shown in Table 4 and winding was performed.

【０１１７】[0117]

【表４】 [Table 4]

【０１１８】以上のように、接圧を０．９８〜９８．０
Ｎ／ｍとしたタッチロールを用いることにより安定な巻
き取り条件を得ることが出来た。As described above, the contact pressure is 0.98 to 98.0.
By using a touch roll with N / m, stable winding conditions could be obtained.

【０１１９】実施例４ 前記実施例２において、それぞれニアロール、タッチロ
ールを用いて巻き取ったトリアセチルセルロースフィル
ムに、実施例１のハードコート層、金属酸化物層を塗設
して、実施例１と同様に定張力（９８．０Ｎ／ｍ）で巻
き取った。ブラックバンドやスリ傷故障がなく、金属酸
化物層の濁りやひび割れがない金属酸化物層を有するセ
ルローストリアセテートフィルムが得られた。Example 4 In Example 1, the hard coat layer and the metal oxide layer of Example 1 were applied to the triacetyl cellulose film wound by using a near roll and a touch roll, respectively, and It was wound with a constant tension (98.0 N / m) in the same manner as in. A cellulose triacetate film having a metal oxide layer free from black bands and scratch defects and free from turbidity or cracks in the metal oxide layer was obtained.

【０１２０】実施例５ 実施例１と同様に、ハードコート層フィルム３（エンボ
ス加工（１０μｍ））を製造した。更に、得られたハー
ドコート層フィルムに、塗布液Ａにかえて以下に示す塗
布液Ａ２を用いる他は同様にして金属酸化物（シリカ）
層を塗設して金属酸化物層を有するトリアセチルセルロ
ールフィルムを作製した。Example 5 A hard coat layer film 3 (embossed (10 μm)) was produced in the same manner as in Example 1. Further, in the obtained hard coat layer film, a metal oxide (silica) was similarly prepared except that the coating solution A2 shown below was used instead of the coating solution A.
The layers were applied to prepare a triacetyl cellulose film having a metal oxide layer.

【０１２１】 〈塗布液Ａ２〉 テトラエトキシシラン ８０質量部 ブタノール ４０００質量部 界面活性剤（大日本インキ社製Ｆ−１７７） １質量部 乾燥後、巻き取りを、巻き取りの開始時には張力９８．
０Ｎ／ｍで、巻き取りの進行に伴って巻き取り張力のテ
ーパ量を表５のようにかえて巻き取った（巻き取り張力
はリニアに減少させた）試料１〜６を作製した。但しニ
アロール、タッチロールの設置はないフリー巻き取りと
した。巻き取り後、それぞれのロールを観察し、ブラッ
クバンド、又スリ傷について目視で観察を行った結果を
以下に示す。<Coating Liquid A2> Tetraethoxysilane 80 parts by mass Butanol 4000 parts by mass Surfactant (F-177 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 1 part by mass After winding, the tension is 98.
At 0 N / m, the taper amount of the winding tension was changed as shown in Table 5 as the winding progressed, and samples 1 to 6 were produced (the winding tension was linearly reduced). However, there was no near roll or touch roll installed, and free winding was used. After winding, each roll was observed, and the results of visually observing the black band and scratches are shown below.

【０１２２】[0122]

【表５】 [Table 5]

【０１２３】基材フィルムの時にはブラックバンドやス
リ傷が金属酸化物層を塗設することによって一定張力で
巻き取った試料ではやや観察された。５〜６０％のテー
パ量で巻き取ったものにはこれがみられず好ましい。In the case of the substrate film, black bands and scratches were slightly observed in the sample wound with a constant tension by coating the metal oxide layer. This is not seen in the case of winding with a taper amount of 5 to 60%, which is preferable.

【０１２４】[0124]

【発明の効果】光学フィルムの製造における、スリ傷や
巻き取りによる故障の少ない優れた巻き取り方法を得る
ことが出来た。EFFECT OF THE INVENTION In the production of an optical film, an excellent winding method with few scratches and failures due to winding can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】溶液流延製膜装置の概略見取り図である。FIG. 1 is a schematic sketch of a solution casting film forming apparatus.

【図２】エンボス加工を工程を付加した、フィルムの製
膜、乾燥、巻き取り装置の概略見取り図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a film forming, drying and winding device to which an embossing process is added.

【図３】エンボス加工装置の概略図である。FIG. 3 is a schematic view of an embossing device.

【図４】テーパ張力の１例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of taper tension.

【図５】ニアロールを設置した巻き取り装置の概略図で
ある。FIG. 5 is a schematic view of a winding device in which a near roll is installed.

【図６】タッチロールを設置した巻き取り装置の概略図
である。FIG. 6 is a schematic view of a winding device provided with a touch roll.

【図７】金属酸化物含有皮膜形成するための送液・混合
装置を有する塗布機の概略図である。FIG. 7 is a schematic view of a coating machine having a liquid feeding / mixing device for forming a metal oxide-containing film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ ウェブ（ドープ膜） ２ ダイ ３ 流延用支持体 ４ 剥離ロール（剥離点） ５ 乾燥装置 ６ ロール群 ８ 巻き取り機 ９ エンボス加工装置 １０ エンボスリング １０′ バックアップロール Ｎ ニアロール Ｔ タッチロール １１、１２ タンク １３、１４ バルブ １５、１６、１７ ライン １８ ポンプおよび混合器 Ｃ コーターヘッド Ａ、Ｂ 塗布液 1 Web (doped film) Two dies 3 Casting support 4 Peeling roll (peeling point) 5 dryer 6 rolls 8 winder 9 Embossing equipment 10 embossed ring 10 'backup roll N near roll T touch roll 11, 12 tanks 13, 14 valves 15, 16, 17 lines 18 Pumps and mixers C coater head A, B coating liquid

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 １〜４０μｍのエンボスを形成した後、
張力が２９．４〜４９０．３Ｎ／ｍで長尺状のフィルム
を巻き取ることを特徴とする光学フィルムの巻き取り方
法。1. After forming an emboss of 1 to 40 μm,
A method of winding an optical film, which comprises winding a long film having a tension of 29.4 to 490.3 N / m. 【請求項２】 フィルムの巻き取り時の張力の制御に５
〜６０％のテーパ張力を設けることを特徴とする請求項
１に記載の光学フィルムの巻き取り方法。2. A method for controlling tension when winding a film
The method of winding an optical film according to claim 1, wherein a taper tension of -60% is provided. 【請求項３】 フィルムの巻き取り時に、巻き取ったフ
ィルム基材表面からニアロール面までの距離を０．１〜
５０ｍｍとした、ニアロールを用いることを特徴とする
請求項１又は２に記載の光学フィルムの巻き取り方法。3. When winding a film, the distance from the surface of the wound film base material to the near roll surface is 0.1 to 0.1.
The method of winding an optical film according to claim 1 or 2, wherein a near roll having a length of 50 mm is used. 【請求項４】 フィルムの巻き取り時に、接圧が０．９
８〜２９４Ｎ／ｍのタッチロールを用いることを特徴と
する請求項１又は２に記載の光学フィルムの巻き取り方
法。4. A contact pressure of 0.9 when winding the film.
The method of winding an optical film according to claim 1 or 2, wherein a touch roll of 8 to 294 N / m is used. 【請求項５】 フィルムがセルロースエステルフィルム
であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に
記載の光学フィルムの巻き取り方法。5. The method for winding an optical film according to claim 1, wherein the film is a cellulose ester film. 【請求項６】 フィルムが、フィルム基材上に反射防止
膜組成物を塗布したものであることを特徴とする請求項
１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムの巻き取り
方法。6. The method for winding an optical film according to claim 1, wherein the film is a film substrate coated with an antireflection film composition. 【請求項７】 フィルム基材がセルロースエステルフィ
ルムであることを特徴とする請求項６に記載の光学フィ
ルムの巻き取り方法。7. The method for winding an optical film according to claim 6, wherein the film substrate is a cellulose ester film.