JP2003173875A

JP2003173875A - 有機ｅｌディスプレイパネル

Info

Publication number: JP2003173875A
Application number: JP2001370260A
Authority: JP
Inventors: Munehiro Takaku; 宗裕高久
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2001-12-04
Filing date: 2001-12-04
Publication date: 2003-06-20

Abstract

(57)【要約】【課題】設備コストの増加や工程数を増やすこと無
く、簡易的に多色化が可能な有機ＥＬディスプレイパネ
ルを提供し、積層構造や貼りつけ精度に起因する視差の
問題を最小限に抑える有機ＥＬディスプレイパネルを提
供する。【解決手段】有機ＥＬ素子を有するディスプレイパネ
ルであって、パネル基板の表示面側に波長選択層を有す
る構成の有機ＥＬディスプレイパネルとした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報表示パネル、
各種計器パネル、動画・静止画を表示させるディスプレ
イ等、家電製品、自動車、二輪車電装品に使用され、有
機化合物を用いて構成された有機ＥＬディスプレイパネ
ルの構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】有機ＥＬ素子は、錫ドープ酸化インジウ
ム（ＩＴＯ）などの透明電極（ホール注入電極）上にト
リフェニルジアミン（ＴＰＤ）などのホール輸送材料を
蒸着により薄膜とし、さらにアルミキノリノール錯体
（Ａｌｑ3 ）などの蛍光物質を発光層として積層し、さ
らにＭｇなどの仕事関数の小さな金属電極（電子注入電
極）を形成した基本構成を有する素子で、１０V 前後の
電圧で数１００から数１００００cd/m² ときわめて高い
輝度が得られることで、家電製品、自動車、二輪車電装
品等のディスプレイとして注目されている。

【０００３】従来、有機ＥＬディスプレイの多色化方式
としては、発光色の違う有機材料を別々に成膜する方式
（塗り分け方式）、所望の透過スペクトルを持った波長
選択層や蛍光変換層等を透明電極の下側に配する方式
（カラーフィル夕方式や蛍光変換方式）等がある。塗り
分け方式はそれぞれに発光色の異なる有機材料が必要で
あり、更に、有機成膜時にそれぞれの有機材料毎に成膜
する必要が有り、設備コストが増えたり、スループット
が悪くなる。

【０００４】一方、残りの２つの方式は、有機ＥＬ素子
構造を形成する前にパネル基板上に波長選択層又は蛍光
変換層を形成する際、その層から出てくる水分等を防ぐ
為、保護膜を形成する必要が有る。これは、各色のパタ
ーニング工程に加えて更にパターニング工程の数を増や
すことにもなるため、コスト増の要因となる。

【０００５】これらの問題を回避すべく、本発明者は特
開平１１−３４５６８８号公報において、別の補助基板
上に作製した波長選択層を貼り合わせるという手法を発
案した。しかしながら、パネル基板に厚みがある分だけ
視差が発生し、境界部分が見る角度によって色が変わる
という不具合が生じることがある。これは、補助基板を
貼りつける時の貼り付け精度からも影響を受けるので、
表示上の制約となり、デザインの自由度が狭まる恐れが
あった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、設備
コストの増加や工程数を増やすこと無く、簡易的に多色
化が可能な有機ＥＬディスプレイパネルを提供すること
である。

【０００７】また、積層構造や貼りつけ精度に起因する
視差の問題を最小限に抑える有機ＥＬディスプレイパネ
ルを提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち上記目的は、以
下の本発明の構成により達成される。（１）パネル基板上に有機ＥＬ素子を有するディスプ
レイパネルであって、パネル基板の表示面側に波長選択
層を有する有機ＥＬディスプレイパネル。（２）前記波長選択層の波長選択率がパネル基板の面
方向に漸次的変化している上記（１）の有機ＥＬディス
プレイパネル。（３）前記波長選択層は、パネル基板の表示面側に直
接形成されている上記（１）または（２）の有機ＥＬデ
ィスプレイパネル。（４）前記波長選択層は、パネル基板の表示面側に貼
り合わせる基材上に形成されている上記（１）または
（２）の有機ＥＬディスプレイパネル。（５）前記パネル基板の表示面側に貼り合わせる基材
は、光学機能フィルムである上記（４）の有機ＥＬディ
スプレイパネル。（６）前記光学機能フィルムは、円偏光機能を有する
上記（５）の有機ＥＬディスプレイパネル。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の有機ＥＬディスプレイパ
ネルは、有機ＥＬ素子が形成されているパネル基板の表
示面側に波長選択層を有するものである。また、好まし
くは前記波長選択層が有機ＥＬディスプレイパネル、つ
まりパネル基板の面方向に漸次的変化しているものであ
る。

【００１０】このように、パネル基板の表示面側に波長
選択層を形成、配置することにより、波長選択層からダ
メージを受けやすい有機層等を保護する保護膜を形成す
る必要もなく、製造が容易になり、素子の信頼性も向上
する。また、発光層から波長選択層が離れることで視差
が生じやすくなるが、波長選択層を漸次的変化させるこ
とで見る角度による色の変化は認識しづらくなる。

【００１１】表示面側に形成、配置される波長選択層
は、発光波長帯域のうち特定波長部分（特定波長ないし
特定波長帯域）を選択して取り出す機能を有する。選択
される波長部分は、青色でも、緑色でも、赤色でもよ
く、その他の色や中間色でもよい。波長選択層は１種以
上を用いることが好ましい。波長選択層には、液晶ディ
スプレイ等で用いられている波長選択機能を有する機能
膜を用いてもよいが、有機ＥＬの発光する光に合わせて
波長選択の特性を調製し、取り出し効率・色純度を最適
化するとよい。

【００１２】具体的には、オフセット印刷やスクリーン
印刷法を用いて、波長選択層を形成し、その際に用いる
顔料を調合する事で所望の波長選択特性を調整する事が
できる。

【００１３】具体的には、オフセット印刷法による場
合、印刷部分が凹版になっている版の上にインキローラ
で顔料を含有したインキを載せ、それを表面がゴムで出
来たブランケットと呼ばれるローラーに転写し、それを
印刷対象物に押し付け、５０〜７０℃程度で１〜２時間
乾燥させて形成する。このオフセット法で形成すると、
膜厚が1〜5μm程度と薄く、印刷のドットピッチも細か
くできる。

【００１４】一方、スクリーン印刷法による場合、印刷
対象物の上に印刷部分にメッシュが入ったマスクを近づ
け、その上に顔料を含有したインキを載せて、スキージ
を用いてインキを押し出し、５０〜７０℃程度で１〜２
時間の乾燥させる。この方法によると、印刷膜の膜厚が
オフセット印刷に比べて厚くなる。

【００１５】このような印刷手法を用いることで、本来
のディスプレイパネルの製作工程が終了してから、素子
等に熱的負荷をかける事なく、波長選択層を形成でき、
製造工程上極めて有利である。

【００１６】このような波長選択層を用いてカラーディ
スプレイを得ようとする場合、波長選択層通過後の色
が、ＮＴＳＣ標準、あるいは現行のＣＲＴの色度座標に
適合するように調整してもよいが、独自の色度に調整し
てもよい。色度座標は、一般的な色度座標測定器、例え
ばトプコン社製のＢＭ−７、ＳＲ−１等を用いて測定で
きる。

【００１７】波長選択層は、その波長選択性が好ましく
はディスプレイパネルの面方向に漸次変化するように形
成されている。漸次的に変化する波長選択性は、波長選
択層の特定波長透過率が変化するものであってもよい
し、選択波長が変化するものであってもよいが、通常、
特定波長透過率が変化するように形成される。

【００１８】波長選択層に漸次的変化を与えるには、印
刷するドットピッチを変化させたり、印刷するドットの
大きさ自体を変化させたりすることで、任意の漸次的変
化を与える事ができる。２種類以上の色による漸次的変
化(選択波長の変化)は、各色の漸次的変化を別々に印刷
し、それらを組み合わせる事で実現可能である。

【００１９】波長選択層の厚さは、特に限定されるもの
ではないが、通常、０．２〜２０μm 程度とすればよ
い。また、好ましくは０．５〜１０μm 程度、より好ま
しくは１〜５μm 程度である。

【００２０】波長選択層は三原色表示によるフルカラー
表示に応用することも可能であるが、その他のキャラク
ター表示や、実施例に示すような単色のドットマトリク
スタイプの表示の一部分に用いることが好ましい。ま
た、発光層自体で複数の色を発色する場合、それぞれの
発光層の発光波長に合わせて波長選択層を設計すればよ
い。

【００２１】波長選択層の大きさは、視野角が確保でき
る程度に画面の大きさよりも大きくすることが好まし
い。

【００２２】波長選択層の具体的な材料としては、フェ
ノール・アルキッド系のベース樹脂に所望の色の有機顔
料及び硬化触媒や硬化抑制材を適切な比率で配合し、高
沸点石油系の溶剤に溶かしたもの等を使用することが好
ましい。

【００２３】さらに本発明では、パネル基板に直接印刷
する方法の他に、パネル基板以外の別の基材に印刷する
印刷法がより好ましい。別の基材に波長選択層を印刷し
て形成し、最後に波長選択層が形成された基材を貼り合
わせることで、有機ＥＬ素子自体の製造が、波長選択層
の形成工程に制限されることなく自由に処理を行うこと
ができ、製造工程の自由度が向上する。

【００２４】パネル基板、波長選択層基材の材料として
は、どちらも光取り出し側となるため、光透過性を有す
る透明ないし半透明の材料を用いることが必要である。
ここで光透過性とは、発光波長帯域、通常３５０〜８０
０nm、特に可視光領域での光透過率が５０％以上、好ま
しくは７０％以上、特に８０％以上であることをいう。
具体的には積層する有機ＥＬ構造体や波長選択層の材質
等により適宜決めることができる。例えば、ガラス、石
英や樹脂等の透明ないし半透明材料、フェノール樹脂等
の熱硬化性樹脂、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂等
を用いることができる。

【００２５】特に、波長選択層基材の材料として、光学
機能フィルム、例えば円偏光板などの光学的効果に影響
を与えない材料が好ましい。具体的には、光学異方性を
持たない樹脂フィルムとして、TAC(トリアセテートセル
ロース)や無延伸のポリカーボネード等が挙げられる。

【００２６】パネル基板の厚みとしては０．３〜３mm程
度、特に０．５〜１．１mm程度、波長選択層基材の厚み
は０．１〜１mm程度、特に０．２〜０．５mm程度が好ま
しい。

【００２７】波長選択層が形成された基材は、通常、パ
ネル基板上に有機ＥＬ構造体が積層され、封止板が設け
られた後に、この基板の有機ＥＬ構造体成膜面と反対側
の面、すなわち表示面側に貼り合わされる。貼り合わせ
には透明な粘着剤が用いられる。

【００２８】粘着剤としては、安定した粘着強度が保
て、波長選択層を浸食したり、透光性に影響を及ぼさな
い透明なものが好ましい。このようなものであれば特に
限定されるものではないが、アクリル系、ポリエステル
系、シリコーン系、エポキシ系の粘着剤が用いられ特に
透明性の高いアクリル系の粘着剤を用いることが好まし
い。

【００２９】また、波長選択基材として、元々有機ＥＬ
ディスプレイに用いられることの多い光学機能フィルム
を用いることも好ましい。光学機能フィルムを用いるこ
とで、余分に基材を用意する必要が無くなり、新たに貼
り合わせ工程を設ける必要がなくなる。

【００３０】光学機能フィルムとしては、反射防止、防
眩フィルムなどを用いることも可能であるが、円偏光板
（シート）を用いるとよい。円偏光板を用いることによ
り、金属電極である陰極（電子注入電極）からの反射光
を遮断することができ、ディスプレイの表示品質を飛躍
的に向上させることができる。

【００３１】通常、円偏光板は偏光層と位相差層とを組
み合わせて形成される。そして、この円偏光板は、有機
ＥＬ素子形成面とは反対側の面、つまりディスプレイの
表示面側に配置される。

【００３２】このような円偏光板を配置すると、偏光層
を透過した外光は、先ず偏光層に入射することで特定の
偏光方向のみが透過し直線偏光となる。次に、この直線
偏光は位相差層を通過することで位相差が１／４λずれ
て円偏光となる。また、波長分散を考慮して位相差板を
設計すれば可視光域の光をほぼ円偏光に変換できる。

【００３３】円偏光状態の光は、陰電極、配線電極等で
反射され、逆回りの円偏光状態となり、反射光は再び位
相差層を透過する。このとき、偏光状態はさらに１／４
λ進んで円偏光から直線偏光に変換される。この直線偏
光の角度は偏光層の透過軸の角度と直交している。この
ため、位相差層を透過した直線偏光は偏光層でほとんど
吸収される。つまり、外光の入射光が最終的に偏光層で
吸収されるので外光による反射がほとんど存在しないこ
とになる。ここで、偏光層の偏光の度合いを表わす偏光
度とは、透過光のうち、直線偏光に変換された割合を示
し、その値が高ければ高いほど、円偏光板としては、外
光による反射を抑える能力が高い事を間接的に意味する
が、円偏光板に使用される偏光層の偏光度としては、通
常、90%以上、好ましくは98%以上、特に99%以上の偏光
度があれば良い。

【００３４】このような円偏光板は偏光層、位相差層の
貼り合わせ品として市販されていて、例えば偏光層：住
友化学社製のスミカランやサンリッツ社製、日東電工製
等、位相差層：住友化学社製のスミカライトやサンリッ
ツ社製、日東電工製等として入手することができる。ま
た、偏光層、位相差層以外でも同様な機能を有するもの
であれば使用することができる。もちろん、前述したよ
うに、別途、円偏光機能に影響を与えないような透明な
フィルム基材を印刷基材として用いてもよい。

【００３５】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの構
成例である概略断面図を図１に示す。図１に示される有
機ＥＬディスプレイパネルは、パネル基板１上に、有機
ＥＬ構造体として、ＩＴＯ等の透明なホール注入電極
（陽極）５と、発光層を含む有機層６と、電子注入電極
（陰極）７とを有する。

【００３６】また、パネル基板１の有機ＥＬ構造体形成
面とは反対側、つまり光取り出し側には、赤、緑、青の
波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂと、光学機能層である円偏
光板、すなわち位相差層３と、偏光層４とが形成、配置
されている。なお、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂは、必
ずしも３種用いる必要はなく、また、３原色である赤、
緑、青を用いる必要もない。波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、ディスプレイに表示する画像のデザインにより、
最適な形態、色のものを用いればよい。

【００３７】波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂは、パネル基
板２の光取り出し側に形成、配置されるが、前記円偏光
板との関係で、以下のような態様がある。

【００３８】〔第１の態様〕図２は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第１の態様を示した概略断面図であ
る。

【００３９】図２において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、波長選択基材１２上に形成され、この基材１２の
波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ形成面とは反対側にある接
着層１１により図示しないパネル基板１に貼り付けられ
る。また、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上には、接着層
１１を介して、それぞれ位相差層３、偏光層４が貼り付
けられる。なお、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂは必ずし
も、複数種設ける必要はなく、適用するディスプレイの
形態により最適なものとすればよい。以下の各態様にお
いても同様である。

【００４０】〔第２の態様〕図３は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第２の態様を示した概略断面図であ
る。

【００４１】図３において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、波長選択基材１２上に形成され、この波長選択層
２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上に設けられた接着層１１により図示
しないパネル基板１に貼り付けられる。また、波長選択
層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上には、接着層１１を介して、それ
ぞれ位相差層３、偏光層４が貼り付けられる。

【００４２】〔第３の態様〕図４は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第３の態様を示した概略断面図であ
る。

【００４３】図４において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、位相差層３上に形成され、この位相差層３の波長
選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ形成面とは反対側にある接着層
１１により図示しないパネル基板１に貼り付けられる。
また、位相差層３の波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上に
は、接着層１１を介して偏光層４が貼り付けられる。

【００４４】〔第４の態様〕図５は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第４の態様を示した概略断面図であ
る。

【００４５】図５において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、位相差層３上に形成され、この波長選択層２Ｒ、
２Ｇ、２Ｂ上に設けられた接着層１１により図示しない
パネル基板１に貼り付けられる。また、位相差層３上に
は、接着層１１を介して偏光層４が貼り付けられる。

【００４６】〔第５の態様〕図６は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第５の態様を示した概略断面図であ
る。

【００４７】図６において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、偏光層４上に形成され、この偏光層４の波長選択
層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上に設けられた接着層１１により、
位相差層３に貼り付けられる。また、位相差層３は、波
長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ接着面と反対側にある接着層
１１により図示しないパネル基板に貼り付けられる。

【００４８】〔第６の態様〕図７は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第６の態様を示した概略断面図であ
る。

【００４９】図７において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、偏光層４上に形成され、この偏光層４の波長選択
層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ形成面と反対側にある接着層１１に
より、位相差層３に貼り付けられる。また、位相差層３
は、偏光層４接着面と反対側にある接着層１１により図
示しないパネル基板に貼り付けられる。

【００５０】〔第７の態様〕図８は、波長選択層をＥＬ
パネルに取り付ける第７の態様を示した概略断面図であ
る。

【００５１】図８において、波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２
Ｂは、パネル基板の光取り出し面に直接形成される。そ
して、このパネル基板１の波長選択層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ
上に、接着層を介してそれぞれ位相差層３、偏光層４が
貼り付けられる。

【００５２】このように、種々の態様により波長選択層
を、パネル基板の表示面（光取り出し）側に形成配置す
ることができる。なお、上記態様のうち、発光層からな
るべく近い距離に波長選択層を形成、配置するという点
では、第２の態様、第４の態様、第７の態様が好ましい
といえる。

【００５３】しかしながら、現実の製造工程を考える
と、パネル基板上に波長選択を直接形成すると、上記の
ようにＥＬ構造体を形成する工程に制約を受ける。ま
た、フィルムに波長選択層を形成する場合、フィルムは
シート状であることが多いが、フィルムに粘着層を形成
する場合、フィルムはロール状で処理することが一般的
である。このため、フィルムがロール状のときに接着層
を形成し、その後シートにして波長選択層を形成する工
程が最も好ましい。従って、上記態様のうち粘着層を形
成してから印刷する事のできる第１の態様と、第３の態
様が好ましく、特別に基材を用意する必要が無く、貼り
付け工程も増えない第３の態様が現実的には最も好まし
い。この様態であれば、従来の円偏光板作成工程時、す
なわち円偏光板と位相差板を貼り合わせる前に印刷をす
るだけで実現可能となる。

【００５４】次に、本発明のディスプレイパネルに好ま
しく用いられる有機ＥＬ素子について説明する。

【００５５】電子注入電極としては、低仕事関数の物質
が好ましく、例えば、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚ
ｎ、Ｚｒ等の金属元素単体、または安定性を向上させる
ためにそれらを含む２成分、３成分の合金系を用いるこ
とが好ましい。合金系としては、例えばＡｇ・Ｍｇ（Ａ
ｇ：０．１〜５０at％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．０１
〜１４at％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０〜８０at％）、
Ａｌ・Ｃａ（Ｃａ：０．０１〜２０at％）等が好まし
い。電子注入電極は、上記配線電極と兼用してもよい
し、別々に形成してもよい。電子注入電極は蒸着法やス
パッタ法で形成することが可能である。

【００５６】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすれば良く、０．１nm以上、
好ましくは１nm以上とすればよい。また、その上限値に
は特に制限はないが、通常膜厚は１〜５００nm程度とす
ればよい。

【００５７】ホール注入電極は、通常パネル基板側から
発光した光を取り出す構成であるため、透明ないし半透
明な電極が好ましい。透明電極としては、ＩＴＯ（錫ド
ープ酸化インジウム）、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジ
ウム）、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃等が挙げられる
が、好ましくはＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、Ｉ
ＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）が好ましい。ＩＴＯ
は、通常Ｉｎ₂Ｏ₃とＳｎＯとを化学量論組成で含有する
が、Ｏ量は多少これから偏倚していてもよい。

【００５８】ホール注入電極は、発光波長帯域、通常３
５０〜８００nm、特に各発光光に対する光透過率が５０
％以上、特に６０％以上であることが好ましい。通常、
発光光はホール注入電極を通って取り出されるため、そ
の透過率が低くなると、発光層からの発光自体が減衰さ
れ、発光素子として必要な輝度が得られなくなる傾向が
ある。ただし、一方のみから発光光を取り出すときに
は、取り出す側が上記以上であればよい。

【００５９】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十
分行える一定以上の厚さを有すれば良く、好ましくは５
０〜５００nm、さらには５０〜３００nmの範囲が好まし
い。また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと
剥離などの心配が生じる。厚さが薄すぎると、製造時の
膜強度やホール輸送能力、抵抗値の点で問題がある。

【００６０】このホール注入電極層は蒸着法やスパッタ
法等により形成できる。

【００６１】次に、有機ＥＬ素子の有機層について説明
する。

【００６２】発光層には発光機能を有する化合物である
蛍光性物質が用いられる。このような蛍光性物質として
は、例えば、特開昭６３−２６４６９２号公報に開示さ
れているような化合物、例えばキナクリドン、ルブレ
ン、スチリル系色素等の化合物から選択される少なくと
も１種が挙げられる。また、トリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム等の８−キノリノールないしその誘導
体を配位子とする金属錯体色素などのキノリン誘導体、
テトラフェニルブタジエン、アントラセン、ペリレン、
コロネン、１２−フタロペリノン誘導体等が挙げられ
る。さらには、特開平８−１２６００号公報（特願平６
−１１０５６９号）に記載のフェニルアントラセン誘導
体、特開平８−１２９６９号公報（特願平６−１１４４
５６号）に記載のテトラアリールエテン誘導体等を用い
ることができる。

【００６３】このような蛍光物質はそれ自体で発光が可
能なホスト物質と組み合わせ、ドーパントとして使用す
ることができる。その場合、発光層における蛍光性物質
の含有量は０．０１〜１０wt% 、さらには０．１〜５wt
% であることが好ましい。ホスト物質と組み合わせて使
用することによって、ホスト物質の発光波長特性を変化
させることができ、長波長に移行した発光が可能になる
とともに、素子の発光効率や安定性が向上する。

【００６４】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が
好ましく、さらには８−キノリノールないしその誘導体
を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。このよう
なアルミニウム錯体としては、特開昭６３−２６４６９
２号、特開平３−２５５１９０号、特開平５−７０７７
３号、特開平５−２５８８５９号、特開平６−２１５８
７４号等に開示されているものを挙げることができる。

【００６５】具体的には、まず、トリス（８−キノリノ
ラト）アルミニウム、ビス（８−キノリノラト）マグネ
シウム、ビス（ベンゾ｛ｆ｝−８−キノリノラト）亜
鉛、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ムオキシド、トリス（８−キノリノラト）インジウム、
トリス（５−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ム、８−キノリノラトリチウム、トリス（５−クロロ−
８−キノリノラト）ガリウム、ビス（５−クロロ−８−
キノリノラト）カルシウム、５，７−ジクロル−８−キ
ノリノラトアルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−
８−ヒドロキシキノリノラト）アルミニウム、ポリ［亜
鉛（II）−ビス（８−ヒドロキシ−５−キノリニル）メ
タン］、等がある。

【００６６】また、８−キノリノールないしその誘導体
のほかに他の配位子を有するアルミニウム錯体であって
もよい。

【００６７】このほかのホスト物質としては、特開平８
−１２６００号公報に記載のフェニルアントラセン誘導
体や、特開平８−１２９６９号公報に記載のテトラアリ
ールエテン誘導体なども好ましい。

【００６８】発光層は電子注入輸送層を兼ねたものであ
ってもよく、このような場合はトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム等を使用することが好ましい。

【００６９】電子注入輸送性の化合物としては、キノリ
ン誘導体、さらには８−キノリノールないしその誘導体
を配位子とする金属錯体、特にトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム（Ａｌｑ3 ）を用いることが好まし
い。また、上記のフェニルアントラセン誘導体、テトラ
アリールエテン誘導体を用いるのも好ましい。

【００７０】ホール注入輸送層用の化合物としては、強
い蛍光を持ったアミン誘導体、例えばトリフェニルジア
ミン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族縮合環を持
つアミン誘導体を用いるのが好ましい。

【００７１】なお、上記電子注入輸送層、ホール注入輸
送層を無機物質（シリコン、ゲルマニウム、ストロンチ
ウム、ルビジウム等の酸化物など）を用いて形成するこ
ともできる。

【００７２】有機ＥＬ素子各層を成膜した後に、ＳｉＯ
_X 等の無機材料、テフロン（登録商標）、塩素を含むフ
ッ化炭素重合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成し
てもよい。保護膜は透明でも不透明であってもよく、保
護膜の厚さは５０〜１２００nm程度とする。保護膜は、
前記の反応性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、
蒸着法、ＰＥＣＶＤ法等により形成すればよい。

【００７３】有機ＥＬ構造体、配線電極、ダミー金属層
等を形成するパネル基板としては、非晶質基板たとえば
ガラス、石英など、結晶基板たとえば、Ｓｉ、ＧａＡ
ｓ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＧａＰ、ＩｎＰなどがあげら
れ、またこれらの結晶基板に結晶質、非晶質あるいは金
属のバッファ層を形成した基板も用いることができる。
また金属基板としては、Ｍｏ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ａ
ｕ、Ｐｄなどを用いることができ、好ましくはガラス基
板が用いられる。パネル基板は、通常光取り出し側とな
るため、上記電極と同様な光透過性を有することが好ま
しい。

【００７４】さらに、有機層や電極の劣化を防ぐため
に、有機ＥＬ構造体上を封止板等により封止することが
好ましい。封止板は、湿気の浸入を防ぐために、接着性
樹脂層を用いて、封止板を接着し密封する。封止ガス
は、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎ₂等の不活性ガス等が好ましい。ま
た、この封止ガスの水分含有量は、１００ppm 以下、よ
り好ましくは１０ppm 以下、特には１ppm 以下であるこ
とが好ましい。この水分含有量に下限値は特にないが、
通常０．１ppm 程度である。

【００７５】封止板の材料としては、好ましくは平板状
であって、ガラス、セラミック、金属、樹脂等の材料が
挙げられるが、特にガラスが好ましい。封止板は、スペ
ーサーを用いて高さを調整し、所望の高さに保持しても
よい。スペーサーの材料としては、樹脂ビーズ、シリカ
ビーズ、ガラスビーズ、ガラスファイバー等が挙げら
れ、特にガラスビーズ等が好ましい。

【００７６】なお、封止板に凹部を形成した場合には、
スペーサーは使用しても、使用しなくてもよい。使用す
る場合の好ましい大きさとしては、特に２〜４０μm の
範囲が好ましい。

【００７７】スペーサーは、予め封止用接着剤中に混入
されていても、接着時に混入してもよい。封止用接着剤
中におけるスペーサーの含有量は、好ましくは０．０１
〜３０wt％、より好ましくは０．１〜５wt％である。

【００７８】接着剤としては、安定した接着強度が保
て、気密性が良好なものであれば特に限定されるもので
はないが、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ
樹脂接着剤を用いることが好ましい。

【００７９】各画素となる有機ＥＬ素子は、直流駆動や
パルス駆動等される。印加電圧は、通常、２〜３０V 程
度である。

【００８０】

【実施例】円偏光板は偏光層：住友化学社製の商品名：
スミカラン、ＳＱシリーズ、位相差層：住友化学社製の
商品名：スミカライト、ＳＥＦシリーズを用いた。

【００８１】前記円偏光板の位相差層上に、オフセット
法を用いて波長選択層を形成した。このとき、図９に示
すように、波長選択層の透過率が漸次的に変化する領域
２１において、青色のドットサイズを漸次的に変化させ
ることで、面方向に青色の濃度が変化し、最大透過率を
有する領域２２で丁度無色透明になるようにした。な
お、この例では青色を用いたが、波長選択層に用いる色
は、もちろんディスプレイパネルの仕様に応じて適当な
色とすることができる。

【００８２】得られた波長選択付き位相差層に、偏光層
を貼り付け、図４に示すような構成とした。

【００８３】上記工程とは別に、ガラス基板上に、配線
電極としてアルミニウムをスパッタ法にて３００nmの膜
厚に成膜し、フォトリソグラフィーによりパターニング
を行った。

【００８４】次いで、ＩＴＯ透明電極（ホール注入電
極）をスパッタ法にて約１００nm成膜した。得られたＩ
ＴＯ薄膜を、フォトリソグラフィーの手法によりパター
ニング、エッチング処理し、６４×２５６ドット（画
素）のパターンを構成するホール注入電極層を形成し
た。

【００８５】さらに、発光部を除き、フォトレジストを
用いてエッジカバーを成膜（パターニング）した。

【００８６】その後、各電子注入電極を分離するために
素子分離構造体を形成した。

【００８７】ＩＴＯ透明電極、下地層、電極層等が形成
されているパネル基板の表面をＵＶ／Ｏ₃ 洗浄した後、
例えば特願平９−４１６６３号に示されているような、
有機層の遮蔽機能のあるひさし構造を有する素子分離構
造体を形成した。

【００８８】次いで、真空蒸着装置の基板ホルダーに固
定して、槽内を１×１０^-4Pa以下まで減圧した。４，
４’，４”−トリス（−Ｎ−（３−メチルフェニル）−
Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（以下、ｍ−
ＭＴＤＡＴＡ）を蒸着速度０.２nm／sec で４０nmの厚
さに蒸着し、ホール注入層とし、次いで減圧状態を保っ
たまま、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｍ−トリル
−４，４’−ジアミノ−１，１’−ビフェニル（以下、
ＴＰＤ）を蒸着速度０．２nm／sec で３５nmの厚さに蒸
着し、ホール輸送層とした。さらに、減圧を保ったま
ま、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（以下、
Ａｌｑ3 ）を蒸着速度０.２nm／sec で５０nmの厚さに
蒸着して、電子注入輸送・発光層とした。

【００８９】次いで減圧を保ったまま、このＥＬ素子構
造体基板を真空蒸着装置からスパッタ装置に移し、スパ
ッタ圧力１．０PaにてＡｌＬｉ電子注入電極（Ｌｉ濃
度：７．２at％）を５０nmの厚さに成膜した。その際ス
パッタガスにはＡｒを用い、投入電力は１００Ｗ、ター
ゲットの大きさは４インチ径、基板とターゲットの距離
は９０mmとした。

【００９０】さらに、減圧を保ったまま、このＥＬ素子
基板を他のスパッタ装置に移し、Ａｌターゲットを用い
たＤＣスパッタ法により、スパッタ圧力０．３PaにてＡ
ｌ保護電極を２００nmの厚さに成膜した。この時スパッ
タガスにはＡｒを用い、投入電力は５００Ｗ、ターゲッ
トの大きさは４インチ径、基板とターゲットの距離は９
０mmとした。前記マスクは、全ての成膜が終了した時点
で取り外した。

【００９１】最後にガラス封止板を貼り合わせ、反対面
の表示面側に波長変換層の入った円偏光板を貼り付け有
機ＥＬディスプレイパネルとした。これにより、円偏光
板貼り付け工程と同時に波長選択層も取り付けることが
でき全体の作業効率が損なわれる事はなく、印刷工程の
追加のみなのでコスト面でも有利なことがわかった。

【００９２】得られた有機ＥＬディスプレイパネルを、
大気中で直流電圧を印加し、１０mA／cm² の定電流密度
で連続駆動させた。このディスプレイについて視差が認
識できるか否かについて、無作為に抽出した１００人の
被験者に対して行ったところ、７１人が視差は認められ
ないと回答し、２９人がわからないと回答した。また、
視差が認められると回答した者はいなかった。

【００９３】また、比較サンプルとして漸次的を付け
ず、波長選択層がある位置で終わりすぐに透明になるよ
うにしたサンプルも作製して同様に評価した。その結
果、７３人が視差が認められる回答し、２７人がわから
ないと回答した。また、視差が認められないと回答した
者はいなかった。

【００９４】さらに、上記実施例において、ディスプレ
イパネルと波長選択層付の円偏光板との貼り合わせを従
来の貼り合わせ精度の範囲内でわざとずらしたサンプル
を製作しても、漸次的変化により、官能試験等で表示の
品質は変わらないというデータが得られた。

【００９５】また、部材コストの上昇も印刷費のみに抑
えることができ、大幅なコストアップにはつながらない
ことが分かった。

【００９６】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、形成する
波長選択層の透過スペクトルがパネル面方向に斬次的変
化することで色と色の境目が曖昧になり、厚みや貼り付
け精度に起因する視差が発生しても認識しにくい構造と
することができる。

【００９７】さらに、この波長選択層を光学性機能フィ
ルムに直接印刷することで厚みを厚くすることなく、ま
た、特別な装置コストを生ずることなく、塗り分け方式
ではなし得ない微妙な色彩表現が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの基本構
成を示す概略断面図である。

【図２】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第１の態
様を示した概略断面図である。

【図３】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第２の態
様を示した概略断面図である。

【図４】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第３の態
様を示した概略断面図である。

【図５】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第４の態
様を示した概略断面図である。

【図６】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第５の態
様を示した概略断面図である。

【図７】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第６の態
様を示した概略断面図である。

【図８】波長選択層をＥＬパネルに取り付ける第７の態
様を示した概略断面図である。

【図９】実施例で形成した波長選択層の平面図である。

【符号の説明】

１基板２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ波長選択層３位相差層４偏光層５ホール注入電極６有機層７電子注入電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H048 BA02 BA55 BB02 BB07 BB10 BB41 BB42 2H049 BA02 BA03 BA07 BB03 BB66 BC14 BC22 3K007 AB04 AB17 AB18 BA06 BB06 CB01 CB02 DB03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】パネル基板上に有機ＥＬ素子を有するデ
ィスプレイパネルであって、パネル基板の表示面側に波長選択層を有する有機ＥＬデ
ィスプレイパネル。
【請求項２】前記波長選択層の波長選択率がパネル基
板の面方向に漸次的変化している請求項１の有機ＥＬデ
ィスプレイパネル。
【請求項３】前記波長選択層は、パネル基板の表示面
側に直接形成されている請求項１または２の有機ＥＬデ
ィスプレイパネル。
【請求項４】前記波長選択層は、パネル基板の表示面
側に貼り合わせる基材上に形成されている請求項１また
は２の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項５】前記パネル基板の表示面側に貼り合わせ
る基材は、光学機能フィルムである請求項４の有機ＥＬ
ディスプレイパネル。
【請求項６】前記光学機能フィルムは、円偏光機能を
有する請求項５の有機ＥＬディスプレイパネル。