JP2003156643A5

JP2003156643A5 -

Info

Publication number: JP2003156643A5
Application number: JP2001354114A
Authority: JP
Filing date: 2001-11-20
Publication date: 2005-07-14

Claims

支持基板に受光素子を設ける工程１と、前記の支持基板に発光素子を設ける工程２と、かつ前記の支持基板に前記の発光素子及び受光素子を結ぶように、光照射により屈折率の制御ができる材料を成膜させる工程３と、前記の膜に対して光照射を行い導波路を形成する工程４とからなる、ことを特徴とする光学素子の製作方法。
支持基板に受光素子を設ける工程１と、前記支持基板に発光素子を設ける工程２と、かつ前記支持基板に屈折率が支持基板より低い基板を設ける工程３と、前記屈折率の低い基板上に光照射により屈折率の制御ができる材料を成膜させる工程４と、前記の膜に対して光照射を行い導波路を形成する工程５とからなる、ことを特徴とする光学素子の製作方法。
支持基板に受光素子を設ける工程１と、前記の支持基板に発光素子を設ける工程２と、かつ前記支持基板に前記の発光素子及び受光素子を結ぶように弾性体を設ける工程３と、前記の弾性体に光照射により屈折率の制御ができる材料を成膜させる工程４と、前記の膜に対して光照射を行い導波路を形成する工程５とからなる、ことを特徴とする光学素子の製作方法。
請求項１乃至請求項３に記載した導波路に対し、更に光照射を施すことによりブラッググレーディング（以下ＢＧと称する）を形成する工程を加えた、ことを特徴とする光学素子の製造方法。
前記のいずれかの製造法による光学素子において、導波路をなす材料に、一種高分子主材料の他に少なくとも一種類以上の、光照射により屈折率の変化を誘起し得る高分子、オリゴマー或いは低分子化合物若しくは無機微粒子を含有する、ことを特徴とする光学素子。
前記記のいずれかの製造法による光学素子において、用いた発光素子は電界発光素子とし、この電界発光素子は導波路の入射端にあり、かつ導波路の一部とする、ことを特徴とする光学素子。
請求項１乃至請求項６に記載のいずれかの光学素子の製造法に、少なくとも導波路の一部に有機及び無機ガス、液体若しくはそれらの混合物と物理的及び／或いは化学的反応を起こし得る反応性薄膜を製膜させる工程Ａと、補償用導波路に更に被検物質から曝されないように被覆材を設ける工程Ｂとを加えた、ことを特徴とするオプティク化学センサの製作法。
請求項１乃至請求項７に記載のいずれかの製造法によるオプティクセンサであって、少なくとも検知用導波路と、補償用導波路と、前記導波路の入射端に設けた発光素子と、及び導波路の表面にある有機及び無機ガス、液体、若しくはそれらの混合体と物理的及び／或いは化学的反応を起こし得る反応性薄膜と、前記補償用導波路に更に被検物質から曝されないように設けた被覆材と、かつ前記の導波路の光射出端に、受光素子とを備える、ことを特徴とするオプティク化学センサ。
請求項１乃至請求項８に記載のいずれかの製造法によるオプティクセンサであって、少なくても導波路の入射端に設けた発光素子と、検知用導波路及びその一部に書き込んだ検知用ブラッググレーディングＢＧと、補償用導波路及びその一部に書き込んだ補償用ＢＧと、前記導波路の表面にある有機及び無機ガス、液体若しくは混合体と物理的及び／或いは化学的反応を起こし得る反応性薄膜と、前記補償用導波路に更に被検物質から曝されないように設けた被覆材と、かつ前記の導波路の光射出端に受光素子とを備える、ことを特徴とするオプティク化学センサ。
前記のいずれかの製造法によるオプティク化学センサにおいて、検知用導波路に塗布された反応性薄膜に含まれる少なくとも一種類以上の高分子は、ポリ弗化ビニリデン、フェノル樹脂、ノボラク樹脂、エポキシ樹脂、複数環を主鎖及び／或いは側鎖に有する高分子などから選ばれ、かつ当該高分子に鉄、アルミニュウム、ルテニュウム、コバルト、ニッケル、白金、金、銀等の遷移金属をドーピングした、ことを特徴とするオプティクアルコールセンサ。
前記のいずれかの製造法による化学オプティクセンサにおいて、検知用導波路に塗布された反応性薄膜に含まれる少なくとも一種類以上の高分子は、ポリアクリル酸、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸とメチルメタクリレートとの共重合体などから選ばれた、ことを特徴とするオプティク湿度センサ。
前記のいずれかの製造法による化学オプティクセンサにおいて、検知用導波路に塗布された反応性薄膜に含まれる少なくとも一種類の高分子は、ポリフッ化ビニリデンなどのようなハイライド系ポリマーから選ばれ、ポリカッボゾールと適切な割合でブレンドし、かつ当該ブレンド物の屈折率が導波路コアの屈折率より高い、ことを特徴とするオプティク炭酸ガスセンサ。
請求項１乃至請求項６に記載のいずれかの製造法によるオプティクセンサであって、少なくても力を受け変位するセンシング部と、このセンシング部に設けられる導波路と、かつ前記導波路の一部に形成されたＢＧと、補償用ＢＧのブラッグ波長を測定して変位検出用ＢＧの波長特性を補償する、前記変位検出用導波路の近傍に形成されるＢＧを有する補償用導波路と、前記した二つの導波路の入射端に設けた発光素子と、他端に設けた受光素子とを備える、ことを特徴とするオプティク力センサ。
任意に選ばれた請求項８乃至請求項１３に記載したオプティクセンサの一つと、駆動回路と接続されている光ファイバーと、前記の支持基板に取り付けたフォトダイオード（ＰＤ）により前記の光ファイバーから伝搬される光信号を受信し、なおかつこれにより生じた光電流を適切に増幅して、駆動電圧とする、ことを特徴とするオプティクセンサモジュール。