JP2003156617A - ブラックマトリクス基板の製造方法および該方法で製造される基板を用いたカラーフィルタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 実用上十分な透明基板との密着性を有するブ
ラックマトリックス基板の製造方法およびブラックマト
リクスと透明基板との密着性が良好で膜強度の高いカラ
ーフィルタの提供。 【解決手段】透明基板上に黒色感光性レジストを塗布
し、フォトマスクを介して黒色感光性レジスト塗布面側
から活性エネルギー線を照射したのち、現像を行い、つ
いで透明基板側から活性エネルギー線を照射するラック
マトリクス基板の製造方法、および該方法で製造される
ブラックマトリクス基板上に、黒色以外の少なくとも２
色のフィルタセグメントが形成されているカラーフィル
タ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する分野】本発明は、黒色感光性レジストを
用いたブラックマトリクス基板の製造方法、および該方
法で製造される基板を用いたカラーフィルタに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、カラーフィルタのフィルタセグメ
ントの外周部には、カラーフィルタを液晶パネル化する
際にパネル外周部からのバックライト光の漏れを防止す
るために、１〜１０ｍｍ程度の額縁状のパターン（ブラ
ックマトリクス）が形成されている。通常、ブラックマ
トリクスは、透明基板上に微細パターンからなる金属薄
膜で形成される場合が多い。例えば、クロム、ニッケ
ル、アルミニウム等の金属あるいは金属化合物を用い
て、蒸着法、スパッタ法等の真空成膜法等で金属等の薄
膜を形成したのち、フォトリソグラフィ法で、微細パタ
ーンを形成する方法が一般的である。より具体的には、
金属等の薄膜上にフォトレジストを塗布、乾燥し、フォ
トマスクを介して紫外線を照射し、現像することにより
レジストパターンを形成後、エッチング工程、レジスト
剥離工程を経てブラックマトリクスを形成する。

【０００３】しかし、上記方法で製造されるブラックマ
トリクス基板は、その工程の複雑さから製造コストが非
常に高く、また、これを用いるカラーフィルタのコスト
も高くなるという問題点がある。また、ブラックマトリ
クスの製造に一般的に使用されている金属の薄膜（例え
ば、クロム薄膜）の表面は反射率が高いので、透過型の
液晶ディスプレイに、金属薄膜からなるブラックマトリ
クスを有するカラーフィルタを搭載した場合、強い外光
がカラーフィルタに入射したときに、表示品位が著しく
低下する問題点がある。そのため、黒色感光性レジスト
を用いて形成したブラックマトリクスを有するカラーフ
ィルタが検討されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記カラーフ
ィルタは、ブラックマトリクスと透明基板との密着性が
弱いために、パネル化した際に透明基板との界面からブ
ラックマトリクスが剥離してしまうことがあった。透明
基板との密着性を向上するために、特開平１０−１３３
３７０号公報には、シランカップリング剤を添加した黒
色感光性レジストが開示されているが、この黒色感光性
レジストを用いた場合には、透明基板との密着性改善に
は効果があるものの、透明基板面への残さが発生する。
また、レジスト中でシランカップリング剤が空気中の水
分と反応するので、回収再生ができなくなり、経済的に
も不利である。

【０００５】そこで、本発明は、実用上十分な透明基板
との密着性を有するブラックマトリクス基板を製造する
方法、およびブラックマトリクスと透明基板との密着性
が良好で膜強度の高いカラーフィルタを提供することを
目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を進めた結果、透明基板上に
黒色感光性レジストを塗布し、黒色感光性レジスト塗布
面側からフォトマスクを介して活性エネルギー線を照
射、現像してブラックマトリクスパターンを形成したの
ち、透明基板側から活性エネルギー線を照射することに
より、実用上十分な透明基板との密着性を有するブラッ
クマトリクス基板が得られること、および該方法で製造
されるブラックマトリクス基板を用いることにより、ブ
ラックマトリクスと透明基板との密着性が良好で膜強度
の高いカラーフィルタが得られることを見出し、本発明
に至った。

【０００７】すなわち、本発明は、透明基板上に黒色感
光性レジストを塗布し、フォトマスクを介して黒色感光
性レジスト塗布面側から活性エネルギー線を照射したの
ち、現像を行い、ついで透明基板側から活性エネルギー
線を照射することを特徴とするブラックマトリクス基板
の製造方法を提供する。上記製造方法において、透明基
板側から照射する活性エネルギー線量は、レジスト塗布
面側から照射する活性エネルギー線量の０．１〜１５０
％であることが好ましい。また、本発明は、上記方法で
製造されるブラックマトリクス基板上に、黒色以外の少
なくとも２色のフィルタセグメントが形成されているこ
とを特徴とするカラーフィルタを提供する。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明のブラックマトリクス基板
とは、透明基板上にブラックマトリクスが形成されてい
る基板をいう。透明基板としては、ソーダ石灰ガラス、
低アルカリ硼珪酸ガラス、無アルカリアルミノ硼珪酸ガ
ラスなどのガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタク
リル酸メチル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂
板が用いられる。特に、ガラス基板を用いた場合には、
ブラックマトリクスと透明基板との密着性が低くなる傾
向にあるため、本発明の方法を採用する効果が高い。ま
た、ガラス板や樹脂板の表面には、パネル化後の液晶駆
動のために、酸化インジウム、酸化錫などからなる透明
電極が形成されていてもよい。

【０００９】本発明に用いられる黒色感光性レジスト
は、黒色顔料および活性エネルギー線硬化性化合物を少
なくとも含有する。黒色顔料としては、カーボンブラッ
ク、チタンブラック、アニリンブラック、アントラキノ
ン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、具体的には C.I.
ピグメントブラック１、６、７、１２、２０、３１、３
２などを用いることができるが、価格、遮光性の大きさ
からカーボンブラックの使用が好ましい。カーボンブラ
ックは、樹脂などで表面処理されていてもよい。

【００１０】黒色感光性レジストには、分散性改良、色
相調整などの目的で、黒色顔料以外のアゾ顔料、フタロ
シアニン系顔料、スレン系顔料、インジゴ系顔料、ペリ
ノン系顔料、ペリレン系顔料、フタロン系顔料、ジオキ
サジン系顔料、キナクリドン系顔料、イソインドリノン
系顔料、金属錯体系顔料、メチン・アゾメチン系顔料、
ジケトピロロピロール系顔料やこれらの顔料の誘導体を
添加してもよい。黒色感光性レジスト中の黒色顔料の含
有量は、黒色感光性レジストを基準として３〜８０重量
％であることが好ましい。黒色顔料の含有量が３重量％
未満の場合は、ブラックマトリクスの単位膜厚あたりの
遮光性が低下し、８０重量％を越えると薄膜形成が困難
になる。

【００１１】活性エネルギー線硬化性化合物としては、
モノマー、オリゴマー、感光性樹脂などを用いることが
できる。モノマー、オリゴマーとしては、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アク
リレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、メラミ
ン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレー
ト等の各種アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エス
テル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、
N-ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、スチレ
ン、酢酸ビニル、アクリロニトリル等が挙げられる。

【００１２】感光性樹脂としては、水酸基、カルボキシ
ル基、アミノ基等の反応性の置換基を有する線状高分子
にイソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等を介
して、（メタ）アクリル化合物、ケイヒ酸等の光架橋性
基を導入した樹脂が用いられる。また、スチレン−無水
マレイン酸共重合物やα−オレフィン−無水マレイン酸
共重合物等の酸無水物を含む線状高分子をヒドロキシア
ルキル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メ
タ）アクリル化合物によりハーフエステル化した重合物
も用いられる。

【００１３】本発明に用いられる黒色感光性レジストに
は、さらに、活性エネルギー線により硬化しない非感光
性の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂を含有させてもよい。
しかしながら、カラーフィルタの製造工程において、高
温加熱の処理が行われるため、加熱処理においても耐性
のよい樹脂を用いることが好ましい。また、カラーフィ
ルタの製造工程において、種々の溶剤や薬品による処理
も行われるため、耐溶剤性や耐薬品性に優れる樹脂を用
いることが好ましい。

【００１４】熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂としては、例
えば, ブチラール樹脂、スチレンーマレイン酸共重合
体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢
酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、フェノール樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル系樹脂、アルキッド樹脂、スチ
レン樹脂、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム、エ
ポキシ樹脂、セルロース類、ポリブタジエン、ポリイミ
ド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹
脂等が挙げられる。

【００１５】また、紫外線照射により黒色感光性レジス
トの硬化を行いブラックマトリクスを形成する場合に
は、黒色感光性レジストに光開始剤を含有させる。光開
始剤としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノ
ン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエト
キシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１オン、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン系光
開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系、ベン
ゾフェノン系光開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安
息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベン
ゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベ
ンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニ
ルサルファイド等のベンゾフェノン系光開始剤、チオキ
サンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオ
キサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジ
イソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系光開
始剤、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−
フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−
トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−ピペニル−−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２，４−−ビス（トリクロ
ロメチル）−６−スチリルｓ−トリアジン、２−（ナフ
ト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６
−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メト
キシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系光開
始剤およびカルバゾール系光開始剤、イミダゾール系光
開始剤等の化合物が用いられる。

【００１６】上記光開始剤は、単独あるいは２種以上混
合して用いることができるが、増感剤として、α−アシ
ロキシムエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メ
チルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０−
フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアン
スラキノン、４，４’−ジエチルイソフタロフェノン、
３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカ
ルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノ
ベンゾフェノン等の化合物を併用することもできる。

【００１７】本発明に用いられる黒色感光性レジストに
は、黒色顔料を充分に分散させ、透明基板上に所望の膜
厚になるように塗布するために溶剤を含有させることが
できる。溶剤としては、例えばシクロヘキサノン、エチ
ルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチルベンゼン、エチ
レングリコールジエチルエーテル、キシレン、エチルセ
ロソルブ、メチル−ｎアミルケトン、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルトルエン、メチルエチルケト
ン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ブタノール、イソブチルケトン、石油系
溶剤等が挙げられ、これらを単独もしくは混合して用い
る。

【００１８】本発明に用いられる黒色感光性レジスト
は、遠心分離、焼結フィルタ、メンブレンフィルタ等の
手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以
上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大
粒子および混入した塵の除去を行うことが好ましい。溶
剤現像型あるいはアルカリ現像型として調製された感光
性黒色レジストは、ガラス板等の透明基板上に、スピン
コート、スリットコート、ロールコート等の塗布方法に
より塗布する。次いで、フォトマスクを介してレジスト
塗布面側から活性エネルギー線を照射したのち、溶剤ま
たはアルカリ現像液に漬浸するかスプレーなどにより現
像液を噴霧して未照射部、すなわち未硬化部を除去して
現像を行い、所望のブラックマトリクスパターンを形成
する。黒色感光性レジストの塗布膜厚は、０．２〜５μ
ｍ（乾燥時）の範囲であることが好ましく、塗工性と遮
光性のバランス取りが容易な０．５〜２μｍの範囲であ
ることがさらに好ましい。

【００１９】アルカリ現像液としては、炭酸ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム等の水溶液が使用され、ジメチル
ベンジルアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカ
リを用いることもできる。また、現像液には、消泡剤や
界面活性剤を添加することもできる。なお、活性エネル
ギー線による露光感度を上げるために、黒色感光性レジ
ストを塗布乾燥後、水溶性あるいはアルカリ水溶性樹
脂、例えばポリビニルアルコールや水溶性アクリル樹脂
等を塗布乾燥し酸素による重合阻害を防止する膜を形成
した後、レジスト塗布面側から活性エネルギー線を照射
することもできる。

【００２０】活性エネルギー線としては、電子線、紫外
線、４００〜５００ｎｍの可視光を使用することができ
る。レジスト塗布面側から照射する電子線の線源には熱
電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線
および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）に
は、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライ
ド灯、ガリウム灯、キセノン灯、カーボンアーク灯等を
使用することができる。具体的には、点光源であるこ
と、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水
銀ランプが用いられることが多い。レジスト塗布面側か
ら照射する活性エネルギー線量は、５〜１０００ｍＪの
範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい５０〜３
００ｍＪの範囲であることが好ましい。

【００２１】透明基板側から照射する活性エネルギー線
の線光源としては、レジスト塗布面側から照射する活性
エネルギー線の線源に加えて、各種の蛍光灯等を使用す
ることができる。透明基板側から照射する活性エネルギ
ー線量は、レジスト塗布面側から照射する活性エネルギ
ー線量の０．１〜１５０％であることが好ましい。より
好ましくは、少ないエネルギーで実用十分な効果が得ら
れる０．１〜９０％であり、特に好ましくは、工程上管
理しやすい１〜６０％である。透明基板側から照射する
活性エネルギー線量がレジスト塗布面側から照射する活
性エネルギー線量の０．１％未満では十分な密着性が得
られないし、１５０％を越えると密着性改善の効果が低
くなる。透明基板側からの活性エネルギー線の照射で透
明基板との密着性が向上する機構は明確になっていない
が、透明基板側から照射する活性エネルギー線量が増加
しずぎると密着性向上効果が低くなることから、単なる
活性エネルギー線量の増加による硬化促進とは異なり、
透明基板とブラックマトリクスとの密着面での何らかの
硬化状態変化によるものと思われる。

【００２２】本発明のカラーフィルタは、上記方法で製
造されるブラックマトリクス基板上に、黒以外の少なく
とも２色のフィルタセグメントが形成されているもので
ある。フィルタセグメントの色は、青色、緑色、赤色、
シアン、エロー、マゼンタ、橙色、紫色などから２〜６
色程度選択される。同色系の色で、濃度の違うフィルタ
セグメントが形成されていてもよい。ブラックマトリク
ス基板上へのフィルタセグメントの形成法としては、グ
ラビアオフセット印刷法、水無しオフセット印刷法、シ
ルクスクリーン印刷法、溶剤現像型あるいはアルカリ現
像型着色レジストを用いるフォトリソグラフィー法、コ
ロイド粒子の電気泳動により着色材を透明導電膜の上に
電着形成する電着法、転写ベースシートの表面に予め形
成したフィルタセグメント層をブラックマトリクス基板
上に転写させる転写法等が挙げられる。

【００２３】印刷法は、印刷と乾燥を繰り返すだけでパ
ターン化ができるため、カラーフィルタの製造法として
は、低コストで量産性に優れている。さらに、印刷技術
の発展により高い寸法精度および平滑度を有する微細パ
ターンの印刷を行うことができる。印刷法によりカラー
フィルタを製造する場合には、印刷機上でのインキの流
動性の制御が重要であり、分散剤や体質顔料によるイン
キ粘度の調整を行うこともできる。

【００２４】溶剤現像型あるいはアルカリ現像型着色レ
ジストを用いるフォトリソグラフィー法は、ブラックマ
トリクス基板上に、スピンコート、スリットコート、ロ
ールコート等の塗布方法により着色レジストを塗布し、
次いでフォトマスクを介して紫外線露光を行い、未露光
部を溶剤またはアルカリ現像液で洗い流して所望のパタ
ーンを形成したのち、同様の操作を他の色について繰り
返してカラーフィルタを製造する方法である。この製造
法は、上記印刷法より精度の高いカラーフィルタが製造
できる。

【００２５】着色レジストは、本発明に用いられる黒色
感光性レジストに含有される黒色顔料の代わりに、所望
の色の着色剤を含有するレジストである。着色剤として
は、各種の耐性に優れた色剤が使用されるが、耐光性、
耐熱性や耐溶媒性の観点から顔料を使用することが好ま
しく、光吸収能の大きさから有機顔料を使用することが
特に好ましい。代表的な顔料の具体例をカラーインデッ
クス（ＣＩ）ナンバーで示す。エローの着色剤として
は、ピグメントイエロー１２，１３，１４，２０，２
４，８３，８６，９３，９４，１０９，１１０，１１
７，１２５，１３７，１３８，１３９，１４７，１４
８，１５３，１５４，１６６，１７３等があげられる。

【００２６】橙色の着色剤としては、ピグメントオレン
ジ１３，３１，３６，３８，４０，４２，４３，５１，
５５，５９，６１，６４，６５等があげられる。赤色お
よびマゼンタの着色剤としては、ピグメントレッド９，
９７，１２２，１２３，１４４，１４９，１６６，１６
８，１７７，１９０，１９２，２１５，２１６，２２
４，２５４，２５５等があげられる。紫色の着色剤とし
ては、ピグメントバイオレット１９，２３，２９，３
２，３３，３６，３７，３８等があげられる。

【００２７】青色およびシアンの着色剤としては、ピグ
メントブルー１５（１５，１５：１，１５：２，１５：
３，１５：４、１５：６等）、２１、２２，６０，６４
等があげられる。緑色の着色剤としては、ピグメントグ
リーン７，１０，３６，４７等があげられる。これらの
着色剤は、所望の色を得るために２種以上を組み合わせ
て用いてもよい。以下、本発明を実施例に基づいて説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。なお、実施例および比較例中、部とは重量部を、％
とは重量％をそれぞれ示す。

【００２８】

【実施例】（アクリル樹脂溶液の調製）反応容器にシク
ロヘキサノン８００部を入れ、容器に窒素ガスを注入し
ながら１００℃に加熱して、同温度で、スチレン６０．
０部、メタクリル酸６０．０部、メタクリル酸メチル６
５．０部、メタクリル酸ブチル６５．０部、およびアゾ
ビスイソブチロニトリル１０．０部の混合物を１時間か
けて滴下し、さらに１００℃で３時間反応させた後、ア
ゾビスイソブチロニトリル２．０部をシクロヘキサノン
５０部で溶解させたものを添加し、さらに１００℃で１
時間反応を続けて樹脂溶液を合成した。室温まで冷却し
た後、樹脂溶液約２ｇをサンプリングして１８０℃で２
０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂
溶液に不揮発分が２０％となるようにシクロヘキサノン
を添加してアクリル樹脂溶液を調製した。なお、アクリ
ル樹脂の重量平均分子量は４００００であった。

【００２９】（黒色感光性レジストの作製）カーボンブ
ラック（デグサ社製「Ｐｒｉｔｅｘ７５」）８部、分散
剤０．５部、上記アクリル樹脂溶液２４部、およびシク
ロヘキサノン４０部を均一に混合し、直径１ｍｍのガラ
スビーズを用いて、サンドミルで５時間分散した後、５
μｍのフィルタでろ過して黒色分散体を調整した。得ら
れた黒色分散体７２．５部、トリメチロールプロパント
リアクリレート（新中村化学社製「ＮＫエステルＡＴＭ
ＰＴ」） ５．４部、光開始剤（チバガイギー社製「イ
ルガキュアー９０７」）０．３部 増感剤（保土ヶ谷化
学社製「ＥＡＢ−Ｆ」）０．２部、およびシクロヘキサ
ノン２１．６部の混合物を均一に撹拌混合した後、１μ
ｍのフィルタで濾過してアルカリ現像型黒色感光性レジ
ストを作製した。

【００３０】［実施例１］１００ｍｍ×１００ｍｍ、
１．１ｍｍ厚のガラス基板上に、上記黒色感光性レジス
トをスピンコーターを用いて塗布して、７０℃で２０分
乾燥した。レジストの乾燥膜厚は１．０μｍであった。
超高圧水銀ランプを用いて、マスクフィルムを介してレ
ジスト塗布面側から光量２００ｍＪの紫外線を照射し
た。この塗布基板を２％の炭酸ナトリウム水溶液に約２
０秒浸漬して現像を行い、ブラックマトリクスパターン
を形成した。次に、塗布基板のガラス基板側から超高圧
水銀ランプを用いて光量４０ｍＪの紫外線を照射した。
この後、２３０℃で１時間加熱して、ブラックマトリク
ス基板を作成した。

【００３１】［比較例１］ガラス基板側からの紫外線照
射を行わなかった以外は、実施例１と同様にしてブラッ
クマトリクス基板を作成した。 ［実施例２〜５］ガラス基板側からの紫外線の照射条件
を表１に示す条件に変更した以外は、実施例１と同様に
してブラックマトリクス基板を作成した。

【００３２】［実施例６〜７］カーボンブラックをキャ
ボット社製「ＭＯＮＡＲＣＨ２８０」に、光開始剤をＢ
ＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」に変更した以外は、実施
例１と同様にしてブラックマトリクス基板を作成した。 ［比較例２］ガラス基板側からの紫外線照射を行わなか
った以外は、実施例６と同様にしてブラックマトリクス
基板を作成した。

【００３３】実施例および比較例で得られたブラックマ
トリクス基板について、プレシャークッカー試験器を用
いて、１２０℃、１００％ＲＨ、２気圧の条件で５０時
間放置後、JIS K5400に準じた基盤目付着性試験方法に
て密着性を評価し、碁盤目１００個中の剥離個数を数え
た。結果を表１に示す。

【００３４】

【表１】

【００３５】（赤色感光性レジストの作製）赤色顔料
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４（チバガイギー
社製「イルガフォーレッドＢ−ＣＦ」）２０部、上記ア
クリル樹脂溶液１０８部、およびシクロヘキサノン１０
０部を均一に混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用い
て、サンドミルで５時間分散した後、５μｍのフィルタ
でろ過して赤色分散体を調整した。得られた赤色分散体
２２８部、トリメチロールプロパントリアクリレート
（新中村化学社製「ＮＫエステルＡＴＭＰＴ」）１３
部、光開始剤（チバガイギー社製「イルガキュアー９０
７」） ３部、増感剤（保土ヶ谷化学社製「ＥＡＢ−
Ｆ」）１部、およびシクロヘキサノン１５３部の混合物
を均一に撹拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して
赤色レジストを作製した。

【００３６】（緑色感光性レジストの作製）緑色顔料
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ３６（東洋インキ
製造社製「リオノールグリーン６ＹＫ」）１１部、黄色
顔料Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１５０（バ
イエル社製「ファンチョンファーストエローＹ−５６８
８」）８部、上記アクリル樹脂溶液１０２部、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート（新中村化学社製「Ｎ
ＫエステルＡＴＭＰＴ」）１４部、光開始剤（チバガイ
ギー社製「イルガキュアー９０７」）４部、増感剤（保
土ヶ谷化学社製「ＥＡＢ−Ｆ」）２部、およびシクロヘ
キサノン２５７部を混合し、赤色感光性レジストと同様
にして緑色感光性レジストを作製した。

【００３７】（青色感光性レジストの作製）青色顔料
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６（東洋イン
キ製造社製「リオノールブルーＥＳ」）３０部、上記ア
クリル樹脂溶液９７部、トリメチロールプロパントリア
クリレート（新中村化学社製「ＮＫエステルＡＴＭＰ
Ｔ」）１８部、光開始剤（チバガイギー社製「イルガキ
ュアー９０７」）４部、増感剤（保土ヶ谷化学社製「Ｅ
ＡＢ−Ｆ」）２部、およびシクロヘキサノン２６７部を
混合し、赤色感光性レジストと同様にして青色感光性レ
ジストを作製した。

【００３８】［実施例８〜１２］実施例１〜３および６
〜７で作成したブラックマトリクス基板上に、赤色感光
性レジストを黒色感光性レジストと同様にして塗布、乾
燥した。次に、幅１００μｍのストライプ状の開口部を
有するフォトマスクを介してレジスト塗布面側から紫外
線を照射（露光）し、５％の炭酸ナトリウム水溶液で未
露光部を洗い流し、２３０℃で３０分熱風オーブンでベ
ークして、ブラックマトリクス基板上に幅１００μｍの
ストライプ状の赤色フィルタセグメントを形成した。つ
いで、緑色感光性レジストおよび青色感光性レジストを
用いて、赤色フィルタセグメントと同様にして、順次緑
色フィルタセグメントおよび青色フィルタセグメントを
ブラックマトリクス基板上に形成し、カラーフィルタを
作成した。

【００３９】［比較例３、４］ブラックマトリクス基板
を比較例１、２で作成したものに変更した以外は、実施
例８と同様にしてカラーフィルタを作成した。実施例お
よび比較例で作成したカラーフィルタについて、ブラッ
クマトリクス部分の密着性を評価した。なお、密着性の
評価は、ブラックマトリクス基板の密着性の評価と同様
にして行った。結果を表２に示す。

【００４０】

【表２】

【００４１】

【発明の効果】本発明により、実用上十分な透明基板と
の密着性を有するブラックマトリクス基板を製造するこ
とが可能になった。また、本発明の方法により製造され
るブラックマトリクス基板を用いることにより、ブラッ
クマトリクスと透明基板との密着性が良好で膜強度の高
いカラーフィルタを作成することが可能になった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮村 護嗣 東京都中央区京橋二丁目３番13号 東洋イ ンキ製造株式会社内 (72)発明者 山田 和則 東京都中央区京橋二丁目３番13号 東洋イ ンキ製造株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA11 BA45 BA48 BA55 BA66 BB02 BB14 BB15 BB42 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB12 FC12 FC23 FD05 FD21 GA01 GA03 LA30 2H096 AA30 BA05 HA03 HA30

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基板上に黒色感光性レジストを塗布
   し、フォトマスクを介して黒色感光性レジスト塗布面側
   から活性エネルギー線を照射したのち、現像を行い、つ
   いで透明基板側から活性エネルギー線を照射することを
   特徴とするブラックマトリクス基板の製造方法。
2. 【請求項２】透明基板側から照射する活性エネルギー線
   量が、レジスト塗布面側から照射する活性エネルギー線
   量の０．１〜１５０％であることを特徴とする請求項１
   記載のブラックマトリクス基板の製造方法。
3. 【請求項３】請求項１または２記載の方法で製造される
   ブラックマトリクス基板。
4. 【請求項４】請求項３記載のブラックマトリクス基板上
   に、黒色以外の少なくとも２色のフィルタセグメントが
   形成されていることを特徴とするカラーフィルタ。