JP2003138132A - Modified cyanate ester resin composition, flame- retardant resin film, flame-retardant multilayered printed wiring board and method for producing the same - Google Patents

Modified cyanate ester resin composition, flame- retardant resin film, flame-retardant multilayered printed wiring board and method for producing the same

Info

Publication number
JP2003138132A
JP2003138132A JP2001334448A JP2001334448A JP2003138132A JP 2003138132 A JP2003138132 A JP 2003138132A JP 2001334448 A JP2001334448 A JP 2001334448A JP 2001334448 A JP2001334448 A JP 2001334448A JP 2003138132 A JP2003138132 A JP 2003138132A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cyanate ester
resin composition
modified cyanate
flame
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001334448A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4039034B2 (en
Inventor
Takashi Morita
高示 森田
Kiyoshi Hirozawa
清 広沢
Yasushi Kamishiro
恭 神代
Takayuki Sueyoshi
隆之 末吉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2001334448A priority Critical patent/JP4039034B2/en
Publication of JP2003138132A publication Critical patent/JP2003138132A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4039034B2 publication Critical patent/JP4039034B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a modified cyanate ester resin composition having good moisture, heat, solvent and chemical resistances, affording a cured product exhibiting flame retardance and effective for affording a thinner, a light-weight and a high-density printed wiring boards, a flame-retardant insulating film and a multilayered printed wiring board having a low permittivity and dielectric dissipation factor in a high-frequency band, capable of realizing low loss properties of a high-frequency circuit and having good moldability such as circuit filling properties, and a method for producing the same. SOLUTION: This modified cyanate ester curable resin composition comprises (A) a cyanate ester compound, (B) a monohydric phenol compound, (C) a polyphenylene oxide, (D) an epoxy resin, (E) an elastomer and (F) a flame retardant. The modified cyanate ester resin film and multilayered printed wiring board are obtained by using the resin composition. The method for producing the same is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷配線板などに
おける絶縁層の形成に用いられる変性シアネートエステ
ル系樹脂組成物、難燃性樹脂フィルムおよび難燃性多層
プリント配線板、ならびにそれらの製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a modified cyanate ester resin composition used for forming an insulating layer in a printed wiring board, a flame-retardant resin film, a flame-retardant multilayer printed wiring board, and a method for producing them. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型・高機能化に伴い、印刷
配線板に用いるための、薄型・軽量でかつ高密度配線が
可能な基板材料が求められるようになってきた。また、
近年、小径でかつ必要な層間のみを非貫通孔で接続する
IVH構造のビルドアップ積層方式印刷配線板が開発さ
れ、急速に普及が進んでいる。ビルドアップ積層方式印
刷配線板の絶縁層には、ガラス布のような基材を含まな
い耐熱性樹脂が用いられており、IVH用の孔は、感光
性樹脂を利用したホトリソグラフィーによるか、または
熱硬化性樹脂をレーザ加工機によって熱分解するなどの
方法で形成されている。
2. Description of the Related Art As electronic equipment has become smaller and more sophisticated, there has been a demand for a thin, lightweight substrate material capable of high-density wiring for use in printed wiring boards. Also,
In recent years, a build-up laminated type printed wiring board having an IVH structure, which has a small diameter and connects only necessary layers with non-through holes, has been developed and rapidly spread. A heat-resistant resin that does not contain a base material such as glass cloth is used for the insulating layer of the build-up laminated type printed wiring board, and the holes for IVH are formed by photolithography using a photosensitive resin, or It is formed by a method of thermally decomposing a thermosetting resin with a laser processing machine.

【0003】さらに近年では、大量のデータを高速で処
理するために、コンピュータや情報機器端末などで、信
号の高周波化が進んでいる。用いる周波数が高くなるに
つれて、電気信号の伝送損失が大きくなる。高周波回路
における伝送損失は、配線まわりの絶縁層(誘電体)の
誘電特性で決まる誘電体損の影響が大きく、印刷配線板
用基板(特に絶縁樹脂)の低誘電率および低誘電正接
(tanδ)化が必要となる。それゆえ、高周波化に対応
した誘電特性を有する印刷配線板の開発が強く求められ
ている。たとえば移動体通信関連の機器では、信号の高
周波化に伴い、準マイクロ波帯(1〜3GHz)における
伝送損失を少なくするために、誘電正接の低い基板が強
く望まれるようになっている。
Further, in recent years, in order to process a large amount of data at high speed, the frequency of signals has been increasing in computers and information equipment terminals. As the frequency used increases, the transmission loss of electric signals increases. Transmission loss in high-frequency circuits is greatly affected by dielectric loss, which is determined by the dielectric properties of the insulating layer (dielectric) around the wiring, and the low dielectric constant and low dielectric loss tangent (tan δ) of the printed wiring board substrate (especially insulating resin). Need to be converted. Therefore, there is a strong demand for the development of a printed wiring board having a dielectric characteristic that is compatible with higher frequencies. For example, in devices related to mobile communication, a substrate having a low dielectric loss tangent is strongly desired in order to reduce the transmission loss in the quasi-microwave band (1 to 3 GHz) as the signal becomes higher in frequency.

【0004】さらにコンピュータなどの電子情報機器で
は、動作周波数が200MHzを越える高速マイクロプロ
セッサが搭載されるようになり、印刷配線板における高
速パルス信号の遅延が問題になってきた。信号の遅延時
間が、印刷配線板では、配線まわりの絶縁物の比誘電率
εrの平方根に比例して長くなるため、高速コンピュー
タなどで、誘電率の低い配線板用基板が求められてい
る。
Further, in electronic information devices such as computers, high-speed microprocessors having an operating frequency exceeding 200 MHz have been mounted, and the delay of high-speed pulse signals in printed wiring boards has become a problem. In a printed wiring board, the signal delay time increases in proportion to the square root of the relative permittivity ε r of the insulating material around the wiring. Therefore, high-speed computers and the like require wiring board substrates with low permittivity. .

【0005】以上のような印刷配線板の技術動向に対し
て、高周波帯域における誘電率と誘電正接が低く、かつ
前述のビルドアップ積層方式印刷配線板の製造に適した
耐熱性絶縁フィルムは、これまで開発されていなかっ
た。
In response to the above-mentioned technical trends of printed wiring boards, a heat-resistant insulating film having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent in a high frequency band and suitable for manufacturing the above-mentioned build-up laminated type printed wiring board is Was not developed until.

【0006】従来から誘電特性が良好なフィルム材料と
して、耐熱性熱可塑性樹脂(エンジニアリング・プラス
チック)の一種であるポリフェニレンオキシド(PPO
またはPPE)系樹脂が知られていたが、印刷配線板用
の絶縁材料に適用するためには、実装時のはんだ接続工
程に耐えられる耐熱性と、印刷配線板製造の際その他の
工程における耐溶媒性・耐薬品性などの改善が必要であ
った。
Conventionally, polyphenylene oxide (PPO), which is a kind of heat-resistant thermoplastic resin (engineering plastic), has been used as a film material having good dielectric properties.
Or PPE) resin has been known, but in order to apply it to the insulating material for the printed wiring board, the heat resistance that can withstand the solder connection process at the time of mounting and the resistance to other processes during the manufacturing of the printed wiring board. It was necessary to improve solvent resistance and chemical resistance.

【0007】そこで、耐熱性や耐溶媒性を改善する方法
として、ポリフェニレンオキシドを熱硬化性樹脂で変性
する方法が提案されている。たとえば、熱硬化性樹脂の
中では最も誘電率が低いシアネートエステル樹脂を用い
た樹脂フィルムとして、特公平1−53700号公報に
示されているように、ポリフェニレンオキシドにシアネ
ートエステル樹脂を配合した硬化性樹脂組成物を用いる
ポリフェニレンオキシド系フィルムがある。同様に、シ
アネートエステル系の変性樹脂を用いる樹脂組成物とし
て、特公昭63−33506号公報に示されているビス
マレイミド/シアネートエステル変性樹脂とポリフェニ
レンオキシドとの樹脂組成物、および特開平5−311
071号公報に示されている変性フェノール樹脂/シア
ネートエステル系樹脂とポリフェニレンオキシドとの樹
脂組成物などがある。
Therefore, as a method of improving heat resistance and solvent resistance, a method of modifying polyphenylene oxide with a thermosetting resin has been proposed. For example, as a resin film using a cyanate ester resin having the lowest dielectric constant among thermosetting resins, as shown in Japanese Patent Publication No. 53700/1989, the curability obtained by mixing a cyanate ester resin with polyphenylene oxide is disclosed. There is a polyphenylene oxide film using a resin composition. Similarly, as a resin composition using a cyanate ester-based modified resin, a resin composition of a bismaleimide / cyanate ester modified resin and polyphenylene oxide disclosed in JP-B-63-33506, and JP-A-5-311.
There is a resin composition of a modified phenol resin / cyanate ester resin and polyphenylene oxide disclosed in Japanese Patent Publication No. 071.

【0008】また熱可塑性樹脂であるポリフェニレンオ
キシドに、熱硬化性を付与して、耐熱性や耐溶媒性を改
善するものとして、特開平3−166255号公報に示
されている、ポリフェニレンオキシドと架橋性ポリマー
および/またはモノマーとの樹脂組成物を流延して得ら
れるフィルム、ならびに特開平7−188362号公報
に示されている、不飽和基を有する特定の硬化性ポリフ
ェニレンオキシドを適度に架橋させたフィルムなどがあ
る。
In order to improve heat resistance and solvent resistance by imparting thermosetting property to polyphenylene oxide which is a thermoplastic resin, it is crosslinked with polyphenylene oxide as disclosed in JP-A-3-166255. A film obtained by casting a resin composition with a polymerizable polymer and / or a monomer, and a specific curable polyphenylene oxide having an unsaturated group, which is disclosed in JP-A-7-188362, is appropriately crosslinked. There is a film.

【0009】特公平1-53700号公報に示されるポ
リフェニレンオキシドにシアネートエステル樹脂を配合
した樹脂組成物からなるフィルムは、樹脂同士の相溶性
が悪く、硬化性樹脂としてシアネートエステル樹脂を単
独で用いているため、樹脂硬化物の誘電特性は、誘電率
は後述の他の組成物よりは比較的良好ではあるものの、
誘電正接が誘電率の値の割に高い傾向にあり、高周波特
性(特に伝送損失の低減)が不十分である。特公昭63
−33506号公報や特開平5−311071号公報に
示される方法は、ポリフェニレンオキシドを変性する熱
硬化性樹脂がビスマレイミド/シアネートエステル変性
樹脂や変性フェノール樹脂/シアネートエステル系樹脂
であるため、ポリフェニレンオキシドに対する相溶性は
若干良好になるものの、シアネートエステル樹脂以外の
他の熱硬化性樹脂を含有しているため、樹脂硬化物の誘
電特性はシアネート樹脂単独で変性された樹脂よりも悪
く、その結果、高周波特性が更に不十分になっている。
A film made of a resin composition obtained by blending a polyphenylene oxide with a cyanate ester resin disclosed in Japanese Patent Publication No. 53700/1989 has a poor compatibility between resins, and a cyanate ester resin alone is used as a curable resin. Therefore, the dielectric properties of the resin cured product, although the dielectric constant is relatively better than other compositions described below,
The dielectric loss tangent tends to be high relative to the value of the dielectric constant, and high frequency characteristics (particularly reduction of transmission loss) are insufficient. Japanese Examiner Sho 63
Nos. 33506 and 5-311071 disclose that polyphenylene oxide is used because the thermosetting resin that modifies polyphenylene oxide is a bismaleimide / cyanate ester modified resin or modified phenol resin / cyanate ester resin. Although it has a slightly better compatibility with, since it contains a thermosetting resin other than the cyanate ester resin, the dielectric properties of the resin cured product is worse than the resin modified by the cyanate resin alone, and as a result, The high-frequency characteristics are even worse.

【0010】特開平3−166255号公報に示される
方法は、ポリトリアリルイソシアヌラートやスチレンブ
タジエン共重合体等の架橋性ポリマーおよび/またはト
リアリルイソシアヌラートなどの架橋性モノマーを、ポ
リフェニレンオキシドに配合することによって、熱硬化
性(ラジカル重合性)を付与しているが、配合する架橋
性のポリマーおよびモノマーが極性の高い化合物である
ために、未反応で残存する少量成分のために、樹脂硬化
物の誘電特性が悪い。
The method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-166255 discloses a method in which a crosslinkable polymer such as polytriallyl isocyanurate or a styrene-butadiene copolymer and / or a crosslinkable monomer such as triallyl isocyanurate is added to polyphenylene oxide. Although it is imparted with thermosetting property (radical polymerizability), since the crosslinkable polymer and monomer to be compounded are highly polar compounds, a small amount of unreacted component remains, The cured resin has poor dielectric properties.

【0011】また、特開平7−188362号公報に示
されている方法は、ポリフェニレンオキシド自身にアリ
ル基などの不飽和基を導入したポリマーを用いるもので
ある。該ポリマーは、本来、熱可塑性樹脂であるポリフ
ェニレンオキシドの誘導体が主体となっているため、も
ともと溶融粘度が高いことに加えて、不飽和基のラジカ
ル重合性を利用しているので連鎖反応的に一気に硬化が
進むために、硬化時の最低溶融粘度が高く、かつ溶融粘
度の上昇率も大きい。そのため、プレス成形の際に樹脂
が十分に流動化できない結果、ボイドが発生して回路充
填性が不十分となり、また多層化接着工程でのプレス条
件の管理幅が狭くなるため、成形性が悪い。
The method disclosed in JP-A-7-188362 uses a polymer obtained by introducing an unsaturated group such as an allyl group into polyphenylene oxide itself. Since the polymer is primarily composed of a derivative of polyphenylene oxide, which is a thermoplastic resin, it originally has a high melt viscosity and, in addition, it utilizes the radical polymerizability of an unsaturated group, so that a chain reaction occurs. Since the curing proceeds at once, the minimum melt viscosity at the time of curing is high, and the increase rate of the melt viscosity is large. As a result, the resin cannot be sufficiently fluidized during press molding, resulting in voids and insufficient circuit filling, and narrow control of press conditions in the multi-layer adhesion process, resulting in poor moldability. .

【0012】このような状況を解決するために、本発明
者らは、先に印刷配線板用樹脂組成物として特定のシア
ネートエステル樹脂を1価フェノール化合物で変性した
組成物を用いる方法(特開平10−273532号公
報、特開平11−124452号公報および特開平11
−124453号公報参照)を提案した。この方法によ
れば、特定のシアネートエステル樹脂を1価フェノール
化合物で変性することで、高周波(GHz)帯域での誘電
特性に優れ、特に誘電正接が低い樹脂組成物を得ること
ができる。しかしながら、この方法によって得られる変
性シアネートエステル系樹脂フィルムは、未硬化ないし
半硬化の状態で使用する工程において、作業中に過度の
応力がかかると、フィルムが割れやすい傾向がある。
In order to solve such a situation, the present inventors previously used a method in which a specific cyanate ester resin was modified with a monohydric phenol compound as a resin composition for a printed wiring board (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10 (1999) -264,091). 10-273532, JP-A-11-124452, and JP-A-11-124452.
-124453). According to this method, by modifying a specific cyanate ester resin with a monohydric phenol compound, it is possible to obtain a resin composition having excellent dielectric properties in a high frequency (GHz) band, and particularly having a low dielectric loss tangent. However, the modified cyanate ester resin film obtained by this method tends to be cracked when excessive stress is applied during the process in the step of using it in an uncured or semi-cured state.

【0013】さらに、樹脂フィルムまたは多層プリント
配線板を用いる電子機器の用途は、難燃性に関する要求
が厳しくなり、その基準を満たすために、硬化後のフィ
ルムや配線板には、難燃規格UL−94における等級V
−0のような、高い難燃性が求められるようになってき
ている。
Further, in the application of electronic equipment using a resin film or a multilayer printed wiring board, the requirement for flame retardancy becomes strict, and in order to satisfy the standard, the flame retardant standard UL is applied to the film or wiring board after curing. Class V at -94
High flame retardancy such as −0 has been demanded.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、耐熱
性と耐溶媒性・耐薬品性が良好で、かつ印刷配線板の薄
形・軽量化と高密度化に有効なビルドアップ積層方式に
適した絶縁フィルムを形成して、高周波帯域での誘電率
と誘電正接が低く、高周波回路の低損失性を実現でき、
しかも回路充填性などの成形性が良好で、成形品が割れ
難く、取扱が容易であり、かつ優れた難燃性を有する変
性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物;その樹脂組
成物を半硬化もしくは硬化して得られる変性シアネート
エステル系樹脂フィルム;多層プリント配線板ならびに
それらの製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide a build-up stacking system which has good heat resistance, solvent resistance and chemical resistance, and is effective for thinning / lightening and high density of printed wiring boards. By forming an insulating film suitable for, the dielectric constant and dielectric loss tangent in the high frequency band are low and low loss of high frequency circuits can be realized.
Moreover, the modified cyanate ester-based curable resin composition having good moldability such as circuit filling property, the molded product is hard to crack, is easy to handle, and has excellent flame retardancy; A modified cyanate ester resin film obtained by curing; a multilayer printed wiring board and a method for producing the same.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の変性シアネート
エステル系硬化性樹脂組成物は、(A)式〔1〕:
The modified cyanate ester-based curable resin composition of the present invention comprises (A) formula [1]:

【0016】[0016]

【化5】 [Chemical 5]

【0017】(式中、R1は、(Wherein R 1 is

【0018】[0018]

【化6】 [Chemical 6]

【0019】を表し;R2およびR3は、たがいに同一で
も異なっていてもよく、水素またはメチル基を表す)で
示されるシアネートエステル化合物; (B)式〔2〕:
R 2 and R 3, which may be the same or different from each other, represent hydrogen or a methyl group); and (B) Formula [2]:

【0020】[0020]

【化7】 [Chemical 7]

【0021】(式中、R4およびR5は、たがいに同一で
も異なっていてもよく、水素原子または炭素数1〜4の
低級アルキル基を表し;nは、1または2である)で示
される1価フェノール化合物; (C)ポリフェニレンオキシド; (D)エポキシ化合物; (E)エラストマー;ならびに (F)難燃剤 を含むことを特徴とする。
(Wherein R 4 and R 5, which may be the same or different from each other, represent a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; n is 1 or 2) A monohydric phenol compound; (C) polyphenylene oxide; (D) epoxy compound; (E) elastomer; and (F) flame retardant.

【0022】本発明のもう一つのタイプの変性シアネー
トエステル系硬化性樹脂組成物は、 (A)シアネートエステル化合物と(B)1価フェノー
ル化合物を反応させて得られる(A′)変性シアネート
エステル樹脂; (C)ポリフェニレンオキシド; (D)エポキシ化合物; (E)エラストマー;および (F)難燃剤 を含み、場合によっては、さらに(B)1価フェノール
化合物を含むことを特徴とする。
Another type of modified cyanate ester-based curable resin composition of the present invention is (A ') modified cyanate ester resin obtained by reacting (A) cyanate ester compound with (B) monohydric phenol compound. (C) polyphenylene oxide; (D) epoxy compound; (E) elastomer; and (F) flame retardant, and optionally (B) monohydric phenol compound.

【0023】さらに、本発明は、これらの変性シアネー
トエステル系樹脂組成物を用いて得られる難燃性樹脂フ
ィルムおよび難燃性多層プリント配線板、ならびにそれ
らの製造方法に関する。
Further, the present invention relates to a flame-retardant resin film and a flame-retardant multilayer printed wiring board obtained by using these modified cyanate ester resin compositions, and a method for producing them.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】本発明に用いられる(A)シアネ
ートエステル化合物は、式〔1〕で示されるように、1
分子中にシアナト基を2個有する、特定の構造のシアネ
ートエステル化合物である。式〔1〕で示される化合物
は、分子中にトリアジン環を有するシアネートエステル
化合物と異なり、後述の(C)ポリフェニレンオキシド
との相溶性に優れ、(C)ポリフェニレンオキシドの存
在下に網状化し、IPN構造を形成して、均一な樹脂溶
液となり、次の硬化工程で、一体となった硬化樹脂を形
成する。このような化合物としては、たとえば、1,1
−ビス(4−シアナトフェニル)エタン、2、2−ビス
(4−シアナトフェニル)プロパン、2、2−ビス
(3、5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン、
2、2−ビス(4−シアナトフェニル)−1、1、1、
3、3、3−ヘキサフルオロプロパン、α、α′−ビス
(4−シアナトフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼ
ン、ビス(4−シアナトフェニル)ジシクロペンタジエ
ンなどが挙げられる。その中でも、2、2−ビス(4−
シアナトフェニル)プロパンおよび2、2−ビス(3、
5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタンが、硬化
物の誘電特性と硬化性のバランスが特に良好であるため
好ましい。また(A)シアネートエステル化合物は、1
種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いても
よい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The cyanate ester compound (A) used in the present invention is a compound represented by the formula [1]:
It is a cyanate ester compound having a specific structure having two cyanato groups in the molecule. Unlike the cyanate ester compound having a triazine ring in the molecule, the compound represented by the formula [1] has excellent compatibility with (C) polyphenylene oxide described below, and is reticulated in the presence of (C) polyphenylene oxide to give an IPN. The structure is formed into a uniform resin solution, and in the next curing step, an integrated cured resin is formed. Examples of such compounds include 1,1
-Bis (4-cyanatophenyl) ethane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane,
2,2-bis (4-cyanatophenyl) -1,1,1,
Examples include 3,3,3-hexafluoropropane, α, α′-bis (4-cyanatophenyl) -m-diisopropylbenzene, bis (4-cyanatophenyl) dicyclopentadiene and the like. Among them, 2,2-bis (4-
Cyanatophenyl) propane and 2,2-bis (3,
5-Dimethyl-4-cyanatophenyl) methane is preferable because the cured product has a particularly good balance between dielectric properties and curability. The (A) cyanate ester compound is 1
The seeds may be used alone or in combination of two or more.

【0025】本発明に用いられる(B)1価フェノール
化合物は、シアナト基との反応性が高く、また単官能で
比較的低分子量であり、かつシアネートエステル化合物
との相溶性が優れていて、その結果、優れた誘電特性が
得られ、特に高周波帯域で十分に低い誘電正接が得ら
れ、耐熱性も良好であることから、式〔2〕で示される
ものが用いられる。このような1価フェノール化合物と
しては、たとえば、p−ベンジルフェノール、p−(α
−クミル)フェノールが挙げられる。なお、(B)1価
フェノール化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種
以上を混合して用いてもよい。
The monohydric phenol compound (B) used in the present invention has high reactivity with a cyanato group, is monofunctional and has a relatively low molecular weight, and has excellent compatibility with a cyanate ester compound. As a result, excellent dielectric properties are obtained, a sufficiently low dielectric loss tangent is obtained particularly in a high frequency band, and heat resistance is also good. Therefore, the one represented by the formula [2] is used. Examples of such monohydric phenol compounds include p-benzylphenol and p- (α
-Cumyl) phenol. The monohydric phenol compound (B) may be used alone or in combination of two or more.

【0026】本発明における(B)1価フェノール化合
物の配合量は、(A)シアネートエステル化合物に由来
して残存するシアナト基と反応して、遊離の該シアナト
基を実質的に残存させず、その結果、優れた誘電特性が
得られ、特に高周波帯域で十分に低い誘電正接をもたら
すことから、(A)シアネートエステル化合物100重
量部に対して4〜30重量部が好ましく、5〜25重量
部がより好ましく、5〜20重量部が特に好ましい。
The amount of the monohydric phenol compound (B) used in the present invention is such that the free cyanato group does not substantially remain by reacting with the cyanato group remaining from the cyanate ester compound (A). As a result, excellent dielectric properties are obtained, and particularly a sufficiently low dielectric loss tangent is brought about in the high frequency band. Therefore, 4 to 30 parts by weight is preferable, and 5 to 25 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the (A) cyanate ester compound. Is more preferable and 5 to 20 parts by weight is particularly preferable.

【0027】本発明において、(A)シアネートエステ
ル化合物と(B)1価フェノール化合物は、両者を反応
させて得られる(A′)変性シアネートエステル樹脂と
して用いることができる。すなわち、(A)シアネート
エステル化合物のプレポリマー化とともに、(A)シア
ネートエステル化合物に(B)1価フェノール化合物を
付加させたイミドカーボネート化変性樹脂として用いら
れる。この反応は、本発明の樹脂組成物を調製する前に
あらかじめ行ってもよく、樹脂組成物の溶液中で、また
は後述のように、樹脂組成物を硬化させるいずれかの工
程で行ってもよい。
In the present invention, the cyanate ester compound (A) and the monohydric phenol compound (B) can be used as a modified cyanate ester resin (A ') obtained by reacting both. That is, it is used as an imide carbonate modified resin obtained by adding a monohydric phenol compound (B) to the cyanate ester compound (A) together with prepolymerization of the cyanate ester compound (A). This reaction may be carried out in advance before preparing the resin composition of the present invention, or may be carried out in a solution of the resin composition or in any step of curing the resin composition as described later. .

【0028】(A)シアネートエステル化合物と(B)
1価フェノール化合物を反応させる際には、反応初期か
ら、上記の適正配合量の(B)1価フェノール化合物の
全量を投入して反応させて、(A)変性シアネートエス
テル樹脂としてもよいし、反応初期には上記の適正配合
量の一部を反応させ、冷却後、残りの(B)1価フェノ
ール化合物を投入して、Bステージ化または硬化の段階
で反応させて、(A′)変性シアネートエステル樹脂と
してもよい。反応条件は、通常、温度40〜140℃で
ある。
(A) Cyanate ester compound and (B)
When reacting the monohydric phenol compound, from the initial stage of the reaction, the total amount of the above-mentioned (B) monohydric phenol compound in an appropriate blending amount may be added and reacted to obtain the (A) modified cyanate ester resin, At the initial stage of the reaction, a part of the above proper compounding amount is reacted, and after cooling, the remaining (B) monohydric phenol compound is charged and reacted at the stage of B stage or curing to modify (A '). It may be a cyanate ester resin. The reaction conditions are usually a temperature of 40 to 140 ° C.

【0029】本発明に用いられる(C)ポリフェニレン
オキシドとは、アルキル基のような置換基を有していて
もよいベンゼン環がエーテル結合によって結合している
ポリマーであり、ポリスチレン、スチレン−ブタジエン
コポリマー、ABSなどによって変成したものを包含す
る。上記置換基としては、メチル基が好ましい。該ポリ
フェニレンオキシドとしては、たとえば、ポリ(2,6
−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシド、ポリ
(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシドと
ポリスチレンのポリマーアロイ、ポリ(2、6−ジメチ
ル−1,4−フェニレン)オキシドとスチレン−ブタジ
エンコポリマーのポリマーアロイなどが挙げられ、その
中でも、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレ
ン)オキシドとポリスチレンのポリマーアロイ、および
ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシ
ドとスチレン−ブタジエンコポリマーのポリマーアロイ
などが好ましい。(C)ポリフェニレンオキシド中のポ
リ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシド
の量は、硬化物の誘電特性が良好であることから、50
重量%以上であることがさらに好ましく、65重量%以
上であることが特に好ましい。
The polyphenylene oxide (C) used in the present invention is a polymer in which a benzene ring which may have a substituent such as an alkyl group is bound by an ether bond, and is polystyrene, styrene-butadiene copolymer. , ABS, etc. are included. As the above substituent, a methyl group is preferable. Examples of the polyphenylene oxide include poly (2,6
-Dimethyl-1,4-phenylene) oxide, polymer alloy of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide and polystyrene, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide and styrene- Examples include polymer alloys of butadiene copolymer, and among them, polymer alloys of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide and polystyrene, and poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide. And a polymer alloy of styrene-butadiene copolymer are preferred. The amount of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide in (C) polyphenylene oxide is 50 because the cured product has good dielectric properties.
It is more preferable that the content is not less than wt%, and particularly preferably not less than 65 wt%.

【0030】本発明における(C)ポリフェニレンオキ
シドの配合量は、十分な誘電特性が得られ、かつ熱硬化
成分である(A)シアネートエステル化合物の反応性が
低下せず、耐熱性および耐溶媒性に優れた樹脂フィルム
が得られることから、(A)シアネートエステル化合物
100重量部に対して5〜500重量部が好ましく、1
0〜300重量部がより好ましく、15〜200重量部
が特に好ましい。
The amount of the (C) polyphenylene oxide compounded in the present invention is such that sufficient dielectric properties can be obtained, the reactivity of the (A) cyanate ester compound, which is a thermosetting component, does not decrease, and the heat resistance and solvent resistance are high. 5 to 500 parts by weight is preferable with respect to 100 parts by weight of the (A) cyanate ester compound, since an excellent resin film can be obtained.
0 to 300 parts by weight is more preferable, and 15 to 200 parts by weight is particularly preferable.

【0031】本発明で用いられる(D)エポキシ化合物
は、分子内に1個以上のエポキシ基を有する低〜高分子
量の化合物である。エポキシ化合物としては、分子量は
特に限定されず、1価あるいはそれ以上の価数のものが
用いられる。たとえば、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノール
S型エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型
エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン、グリシジル
エステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ
樹脂、脂環式エポキシ樹脂など、ならびにそれらの2種
以上の混合物が挙げられる。脂環式エポキシ樹脂として
は、ビス(ジシクロペンタジエン)型をはじめとするジ
シクロペンタジエン型エポキシ樹脂、シクロヘキセンオ
キシド型エポキシ樹脂などが挙げられる。また、その一
部または全部として、スチレンオキシド、フェニルグリ
シジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、n−ブ
チルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテルの
ような、反応性希釈剤として用いられるものを用いるこ
とができる。硬化物の誘電特性が低下するのを抑制する
ために、特にジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂のよ
うな、誘電率の低いエポキシ化合物が好ましい。なお、
エポキシ樹脂のうち、臭素化エポキシ樹脂は、(F)難
燃剤として機能するとともに、分子中に存在するエポキ
シ基により、(D)成分としての機能も有するので、本
発明においては、(D)成分および(F)成分として扱
い、その配合量は、(D)、(F)両成分の配合量とし
て重複して扱う。
The (D) epoxy compound used in the present invention is a low to high molecular weight compound having one or more epoxy groups in the molecule. The epoxy compound is not particularly limited in molecular weight, and one having a valence of 1 or more is used. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, epoxidized polybutadiene, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl Examples thereof include amine type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and the like, and mixtures of two or more thereof. Examples of the alicyclic epoxy resin include dicyclopentadiene type epoxy resins such as bis (dicyclopentadiene) type and cyclohexene oxide type epoxy resins. Further, as a part or all thereof, those used as a reactive diluent such as styrene oxide, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, n-butyl glycidyl ether and allyl glycidyl ether can be used. An epoxy compound having a low dielectric constant, such as a dicyclopentadiene type epoxy resin, is particularly preferable in order to suppress the deterioration of the dielectric properties of the cured product. In addition,
Among the epoxy resins, the brominated epoxy resin functions not only as the (F) flame retardant but also as the (D) component due to the epoxy group present in the molecule. Therefore, in the present invention, the (D) component is used. And (F) are treated as components, and the blending amounts thereof are duplicated as the blending amounts of both (D) and (F) components.

【0032】本発明における(D)エポキシ化合物の配
合量は、硬化物の誘電特性を低下させないことから、
(A)シアネートエステル化合物100重量部に対して
10〜600重量部が好ましく、30〜500重量部が
より好ましく、40〜400重量部が特に好ましい。
The blending amount of the (D) epoxy compound in the present invention does not lower the dielectric properties of the cured product,
The amount of the cyanate ester compound (A) is preferably 10 to 600 parts by weight, more preferably 30 to 500 parts by weight, and particularly preferably 40 to 400 parts by weight, relative to 100 parts by weight.

【0033】本発明に用いられる(E)エラストマー
は、シアネートエステル樹脂より引張弾性率が低く、そ
れ自体がフィルム形成能を有するものであり、変性シア
ネートエステル系樹脂フィルムにフィルム形成性を与
え、該樹脂の取扱性向上剤として機能する。該(E)成
分は、好ましくは(A)シアネートエステル化合物ない
し(D)エポキシ化合物と相溶性を有することが好まし
い。エラストマーとしては、たとえば、アクリルゴム、
エポキシ変性アクリルゴム、シリコーンゴム、エチレン
−プロピレンゴム、ポリブタジエン、エポキシ変性ポリ
ブタジエン、(メタ)アクリル酸変性ポリブタジエン、
水酸基変性ポリブタジエンなどがあり、特にブタジエン
系の、誘電率の低いエラストマーが好ましい。これらの
エラストマーの分子量は特に限定されず、また2種以上
を併用してもよい。なお、ここでエラストマーとは、液
状シリコーンゴムのように、その前駆体の形で配合し、
系中でエラストマーを形成するものも包含する。ただ
し、反応性がきわめて高く、系中で他の成分や水などと
反応して、エラストマーを形成しないか、樹脂化するも
の、たとえばイソシアネート変性ポリブタジエンは除外
される。
The (E) elastomer used in the present invention has a lower tensile elastic modulus than the cyanate ester resin and has a film-forming ability by itself, and imparts a film-forming property to the modified cyanate ester-based resin film. Functions as a handleability improver for resins. The component (E) preferably has compatibility with the cyanate ester compound (A) or the epoxy compound (D). As the elastomer, for example, acrylic rubber,
Epoxy-modified acrylic rubber, silicone rubber, ethylene-propylene rubber, polybutadiene, epoxy-modified polybutadiene, (meth) acrylic acid-modified polybutadiene,
There are hydroxyl-modified polybutadiene and the like, and particularly, a butadiene-based elastomer having a low dielectric constant is preferable. The molecular weight of these elastomers is not particularly limited, and two or more kinds may be used in combination. The elastomer here is compounded in the form of its precursor like liquid silicone rubber,
Also included are those that form an elastomer in the system. However, those that are extremely reactive and do not form an elastomer or become a resin by reacting with other components or water in the system, for example, isocyanate-modified polybutadiene are excluded.

【0034】本発明における(E)エラストマーの配合
量は、変性シアネートエステル系樹脂フィルムに十分な
取扱性向上効果を付与することができ、かつ誘電特性が
低下しないことから、(A)〜(D)成分の総量に対
し、0.5〜30重量%が好ましく、0.5〜20重量
%が特に好ましい。
The blending amount of the (E) elastomer in the present invention can impart a sufficient handleability-improving effect to the modified cyanate ester resin film and does not lower the dielectric properties. ) 0.5 to 30% by weight is preferable, and 0.5 to 20% by weight is particularly preferable based on the total amount of the components.

【0035】本発明に用いられる(F)難燃剤は、本発
明の樹脂組成物から得られる硬化物に難燃性を付与でき
るものであれば、どのような種類のものでも差支えない
が、硬化物の誘電特性の低下を抑制することから、臭素
系難燃剤が好ましい。このような臭素系難燃剤として
は、1,2−ジブロモ−4−(1,2−ジブロモエチ
ル)シクロヘキサン、テトラブロモシクロオクタン、テ
トラブロモシクロヘキサン、ヘキサブロモシクロドデカ
ンのような臭素化脂環式難燃剤;ポリブロモジフェニル
オキシド、臭素化ビスフェノールAおよびその誘導体、
トリブロモスチレン、臭素化フェノールおよびそのシク
ロペンタジエンとの反応生成物のような臭素化芳香族難
燃剤;臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェ
ノールAノボラック型エポキシ樹脂、トリアジン/テト
ラブロモビスフェノールA骨格エポキシ樹脂、ジグリシ
ジルトリブロムアニリンのような臭素化エポキシ樹脂系
難燃剤;臭素化ポリスチレン、臭素化ポリカーボネート
のようなその他の臭素化高分子系難燃剤、ならびに式
〔3〕:
The flame retardant (F) used in the present invention may be of any kind as long as it can impart flame retardancy to the cured product obtained from the resin composition of the present invention. Brominated flame retardants are preferred because they suppress the deterioration of the dielectric properties of the product. Such brominated flame retardants include brominated alicyclic flame retardants such as 1,2-dibromo-4- (1,2-dibromoethyl) cyclohexane, tetrabromocyclooctane, tetrabromocyclohexane, and hexabromocyclododecane. Combustion agent; polybrominated diphenyl oxide, brominated bisphenol A and its derivatives,
Brominated aromatic flame retardants such as tribromostyrene, brominated phenols and their reaction products with cyclopentadiene; brominated bisphenol A type epoxy resins, brominated phenol novolac type epoxy resins, brominated bisphenol A novolac type epoxy resins , Triazine / tetrabromobisphenol A backbone epoxy resins, brominated epoxy resin flame retardants such as diglycidyl tribromaniline; other brominated polymer flame retardants such as brominated polystyrene, brominated polycarbonate, and formula [ 3]:

【0036】[0036]

【化8】 [Chemical 8]

【0037】(式中、x、y、zは、たがいに同一でも
異なっていてもよく、1〜5の整数である)で示される
臭素化トリフェニルシアヌラート系難燃剤が例示され、
1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
An example is a brominated triphenyl cyanurate flame retardant represented by the formula (wherein x, y and z may be the same or different from each other and is an integer of 1 to 5),
One kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

【0038】これらのうち、(D)エポキシ化合物とし
ての機能を有し、硬化物に優れた誘電特性を与えること
から、臭素化エポキシ樹脂系難燃剤がより好ましく、形
成される樹脂フィルムに高いガラス転移温度を与えるこ
とから、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素
化フェノールノボラック型エポキシ樹脂および臭素化ビ
スフェノールAノボラック型エポキシ樹脂が特に好まし
い。それ以外の難燃剤では、融点が低いか、微細に分散
しうるものがより好ましい。また、得られる硬化物の誘
電特性が良好なことから、臭素化脂環式難燃剤および臭
素化トリフェニルシアヌラート系難燃剤がより好まし
く、臭素化脂環式難燃剤の中では、1,2−ジブロモ−
4−(1,2−ジブロモエチル)シクロヘキサン、テト
ラブロモシクロオクタンおよびヘキサブロモシクロドデ
カンが特に好ましい。
Of these, the brominated epoxy resin-based flame retardant is more preferable because it has a function as the epoxy compound (D) and imparts excellent dielectric properties to the cured product, and a high glass for the resin film to be formed. Brominated bisphenol A type epoxy resin, brominated phenol novolac type epoxy resin and brominated bisphenol A novolac type epoxy resin are particularly preferable because they give a transition temperature. Of the other flame retardants, those having a low melting point or capable of being finely dispersed are more preferable. Further, since the resulting cured product has good dielectric properties, brominated alicyclic flame retardants and brominated triphenyl cyanurate flame retardants are more preferable, and among brominated alicyclic flame retardants, 1, 2-dibromo-
4- (1,2-Dibromoethyl) cyclohexane, tetrabromocyclooctane and hexabromocyclododecane are particularly preferred.

【0039】本発明における(F)難燃剤の配合量は、
硬化物に十分な難燃性と優れた耐熱性を付与することか
ら、(A)〜(E)成分の総量に対して20〜160重
量%が好ましく、20〜120重量%がより好ましく、
20〜100重量%が特に好ましい。
The blending amount of the (F) flame retardant in the present invention is
Since it imparts sufficient flame retardancy and excellent heat resistance to the cured product, it is preferably 20 to 160% by weight, more preferably 20 to 120% by weight, based on the total amount of components (A) to (E).
20 to 100% by weight is particularly preferred.

【0040】本発明の変性シアネートエステル系硬化性
樹脂組成物に、(A)シアネートエステル化合物と
(B)1価フェノール化合物との反応を促進するため
に、さらに(G)金属化合物触媒を含むことができる。
該触媒は、該樹脂組成物を製造する際に反応触媒として
用いてもよく、また該樹脂組成物から得られる樹脂フィ
ルムが硬化する際に、硬化促進剤として用いられる。金
属化合物触媒としては、マンガン、鉄、コバルト、ニッ
ケル、銅、亜鉛などの金属原子を含有する有機化合物が
用いられ、具体的には、オクタン酸塩、2−エチルヘキ
サン酸塩およびナフテン酸塩などの有機酸金属塩;なら
びにアセチルアセトン錯体などの有機リガンドを有する
金属錯体が例示される。変性シアネートエステル系硬化
性樹脂組成物を製造する際の反応促進剤と、積層板を製
造する際の硬化促進剤とは、同一の金属化合物触媒を単
独で用いてもよく、またはそれぞれ別の2種類以上を用
いてもよい。
The modified cyanate ester-based curable resin composition of the present invention further contains (G) a metal compound catalyst in order to accelerate the reaction between the (A) cyanate ester compound and the (B) monohydric phenol compound. You can
The catalyst may be used as a reaction catalyst when producing the resin composition, or as a curing accelerator when the resin film obtained from the resin composition is cured. As the metal compound catalyst, an organic compound containing a metal atom such as manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc is used, and specifically, octanoate, 2-ethylhexanoate, naphthenate, etc. Examples of the organic acid metal salts thereof include metal complexes having an organic ligand such as an acetylacetone complex. The same metal compound catalyst may be used alone for the reaction accelerator used for producing the modified cyanate ester-based curable resin composition and the curing accelerator used for producing the laminated plate, or two different catalysts may be used. More than one type may be used.

【0041】本発明における(G)金属化合物触媒の配
合量は、十分な反応性および適切な硬化速度が得られ、
また反応の制御が容易であって、成形、硬化の際に、流
動性の不足により成形性が悪くならないことから、
(A)シアネートエステル化合物に対して1〜300重
量ppmが好ましく、1〜200重量ppmがより好ましく、
2〜150重量ppmが特に好ましい。また、本発明にお
ける(D)金属化合物触媒を配合するには、変性シアネ
ートエステル系硬化性樹脂組成物を製造する際に、反応
促進剤および硬化促進剤として必要な量をまとめて配合
してもよいし、変性シアネートエステル系硬化性樹脂組
成物を製造する際には変性反応の促進に必要な量を用
い、該反応の終了後に、硬化促進剤として同一の触媒、
または別の金属化合物触媒を添加してもよい。
The amount of the (G) metal compound catalyst used in the present invention is such that a sufficient reactivity and an appropriate curing rate can be obtained.
Also, the reaction is easy to control, and during molding and curing, the moldability does not deteriorate due to lack of fluidity,
(A) Cyanate ester compound is preferably 1 to 300 wtppm, more preferably 1 to 200 wtppm,
2-150 ppm by weight is particularly preferred. In addition, in order to mix the (D) metal compound catalyst in the present invention, when the modified cyanate ester-based curable resin composition is produced, the amounts required as a reaction accelerator and a curing accelerator may be collectively added. Good, at the time of producing the modified cyanate ester-based curable resin composition, an amount necessary for accelerating the modification reaction is used, and after completion of the reaction, the same catalyst as a curing accelerator,
Alternatively, another metal compound catalyst may be added.

【0042】本発明の変性シアネートエステル系樹脂組
成物には、必要に応じて無機および/または有機充填剤
を配合することができる。無機充填剤としては、シリ
カ、アルミナ、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、
クレイ、タルク、窒化ケイ素、窒化ホウ素、酸化チタ
ン、チタン酸バリウム、チタン酸鉛、チタン酸ストロン
チウムなどを使用することができる。有機充填剤として
は、シリコーン樹脂、パルプなどを使用することができ
る。無機および/または有機充填剤の配合量は、本発明
の変性シアネートエステル系樹脂フィルムが、均一を保
ち、かつ容易に取り扱うことができるために、本発明の
樹脂組成物の総量に対して、300重量%以下が好まし
い。
If necessary, the modified cyanate ester resin composition of the present invention may contain an inorganic and / or organic filler. As the inorganic filler, silica, alumina, aluminum hydroxide, calcium carbonate,
Clay, talc, silicon nitride, boron nitride, titanium oxide, barium titanate, lead titanate, strontium titanate and the like can be used. As the organic filler, silicone resin, pulp or the like can be used. The blending amount of the inorganic and / or organic filler is 300 with respect to the total amount of the resin composition of the present invention, because the modified cyanate ester resin film of the present invention can maintain its uniformity and can be easily handled. It is preferably not more than wt%.

【0043】本発明の変性シアネートエステル系樹脂組
成物には、上記のほか、場合によっては、イミダゾール
化合物、有機リン化合物、第三級アミン、オニウム塩の
ようなエポキシ樹脂の硬化促進剤;ならびにその他の添
加剤を配合することができる。
In the modified cyanate ester resin composition of the present invention, in addition to the above, a curing accelerator for an epoxy resin such as an imidazole compound, an organophosphorus compound, a tertiary amine, or an onium salt may be used, if necessary. Additives can be added.

【0044】本発明の変性シアネートエステル系樹脂組
成物は、上述の樹脂組成物の各成分を混合して調製する
ことができる。各成分を有機溶媒に溶解ないし分散させ
て、ワニスの形態に調製することが好ましい。なお、
(F)難燃剤は、(A)シアネートエステル化合物と
(B)1価フェノール化合物の反応を阻害して、該反応
の未反応物によって硬化物の誘電特性を悪化させること
がないように、該反応の終了後に添加することが好まし
い。
The modified cyanate ester resin composition of the present invention can be prepared by mixing the respective components of the above resin composition. It is preferable that each component is dissolved or dispersed in an organic solvent to prepare a varnish. In addition,
The flame retardant (F) inhibits the reaction of the cyanate ester compound (A) and the monohydric phenol compound (B) so that the unreacted product of the reaction does not deteriorate the dielectric properties of the cured product. It is preferable to add it after the completion of the reaction.

【0045】本発明の変性シアネートエステル系樹脂フ
ィルムを製造するには、上述の変性樹脂組成物の各成分
を、溶媒に溶解ないし分散させて、たとえば有効成分濃
度が10〜50重量%のワニスを調製し、支持基材の片
面にバーコータやロールコータなどを用いて流延塗布
し、加熱乾燥により溶媒を除去してフィルムを形成させ
る(製膜)ことができる。乾燥条件は、溶媒の種類によ
っても異なるが、通常、温度60〜180℃で1分〜2
時間、たとえば、140℃で3分間である。通常は常圧
で乾燥を行うが、必要に応じて減圧下で行ってもよい。
In order to produce the modified cyanate ester resin film of the present invention, each component of the above-mentioned modified resin composition is dissolved or dispersed in a solvent to prepare, for example, a varnish having an active ingredient concentration of 10 to 50% by weight. A film can be prepared by forming a film by casting on one surface of a supporting substrate using a bar coater, a roll coater or the like, and removing the solvent by heating and drying. Drying conditions vary depending on the type of solvent, but are usually at a temperature of 60 to 180 ° C. for 1 minute to 2
The time is, for example, 140 ° C. for 3 minutes. Usually, drying is carried out under normal pressure, but if necessary, it may be carried out under reduced pressure.

【0046】上記のワニスを製造する場合に用いられる
溶媒としては、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;トリクロロエチレン、ク
ロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド
などのアミド系やN−メチルピロリドンのような窒素系
溶媒などが用いられる。ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素系溶媒が、より好ましい。これら
の溶媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合
して用いてもよい。溶媒の配合量は、有効成分濃度が1
0〜80重量%になる量、すなわち(A)〜(F)成分
の合計量に対して25〜900重量%が好ましく、40
〜600重量%がより好ましく、40〜400重量%が
特に好ましい。
Examples of the solvent used for producing the above varnish include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as trichloroethylene and chlorobenzene; N, N-
Amide-based solvents such as dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide and nitrogen-based solvents such as N-methylpyrrolidone are used. Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene are more preferable. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount of solvent blended is such that the active ingredient concentration is 1
An amount of 0 to 80% by weight, that is, 25 to 900% by weight based on the total amount of the components (A) to (F), is preferable.
˜600 wt% is more preferred and 40-400 wt% is especially preferred.

【0047】また上記の芳香族炭化水素系溶媒に、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノンのようなケトン系溶媒を併用すると、
ワニスが懸濁溶液にはなるが、より高濃度の溶液が得ら
れるという利点がある。しかし、ケトン系溶媒の配合量
が多すぎると、樹脂組成物が分離沈降する恐れがあるの
で、この場合のケトン系溶媒の配合量は、芳香族炭化水
素系溶媒に対して1〜250重量%が好ましい。
Further, in the above aromatic hydrocarbon solvent, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone,
When used in combination with a ketone solvent such as cyclohexanone,
Although the varnish becomes a suspension solution, there is an advantage that a higher concentration solution can be obtained. However, when the blending amount of the ketone solvent is too large, the resin composition may be separated and settled. Therefore, the blending amount of the ketone solvent in this case is 1 to 250% by weight with respect to the aromatic hydrocarbon solvent. Is preferred.

【0048】本発明に用いる支持基材としては、銅、ア
ルミニウムのような金属箔;ポリエステル、ポリイミド
のような樹脂フィルム;またはこれらの樹脂フィルムの
表面に離型剤を塗布したものなどを用いることができ
る。支持基材に銅箔を用いた場合は、銅箔をそのまま回
路導体として使用することができる利点があり、また支
持基材に離型剤処理が施されていると、支持基材から難
燃性シアネートエステル系樹脂フィルムを引き剥がす際
や、支持基材付フィルムを基板に積層した後に、支持基
材を剥離する際の、作業性を向上させるうえで好まし
い。
As the supporting substrate used in the present invention, a metal foil such as copper or aluminum; a resin film such as polyester or polyimide; or a resin film coated with a release agent on its surface is used. You can When copper foil is used as the supporting base material, there is an advantage that the copper foil can be used as it is as a circuit conductor, and if the supporting base material is treated with a release agent, the supporting base material will be flame retardant. It is preferable for improving workability when peeling the soluble cyanate ester resin film or when peeling the supporting substrate after laminating the film with the supporting substrate on the substrate.

【0049】以下、金属箔として銅箔、金属張積層板と
して銅張積層板を例として記述する。これらの記述は、
銅以外の金属、たとえばアルミニウムを用いる場合にも
適用される。
Hereinafter, a copper foil will be described as an example of the metal foil, and a copper clad laminate will be described as an example of the metal clad laminate. These statements are
This also applies when using a metal other than copper, such as aluminum.

【0050】このように支持基材の片面に絶縁性の樹脂
層を形成した変性シアネートエステル系樹脂フィルム
を、以下に示す方法によって印刷配線板の製造に供する
ことができる。たとえば、支持基材を除去したフィルム
状の樹脂を、1枚用いるか、複数枚積層し、その上下に
銅箔を積層してプレス成形するか、または支持基材であ
る銅箔にワニスを塗工した変性シアネートエステル系樹
脂フィルムを、フィルム同士を合わせるように貼り合わ
せ、さらに必要ならばその間に樹脂フィルム基材を除去
した変性シアネートエステル系樹脂フィルムを1枚以上
介在させて、プレス成形することにより、印刷配線板用
の銅張積層板を製造することができる。
The modified cyanate ester resin film having the insulating resin layer formed on one surface of the supporting substrate as described above can be used for producing a printed wiring board by the method described below. For example, one film-like resin from which the supporting base material has been removed is used, or a plurality of film-like resins are laminated, and copper foils are laminated on the upper and lower sides of the resin and press-molded, or a copper foil serving as the supporting base material is coated with varnish. The modified cyanate ester-based resin film that has been processed is laminated so that the films are aligned with each other, and if necessary, one or more modified cyanate ester-based resin film from which the resin film base material has been removed is interposed and press-molded. Thereby, a copper clad laminate for printed wiring boards can be manufactured.

【0051】また、従来のガラス布基材の銅張積層板ま
たは上記の銅張積層板に回路を形成した後、支持基材を
除去した変性シアネートエステル系樹脂フィルムを1枚
以上積層し、さらにその上に銅箔や回路形成基板を配置
してプレス成形するか、または支持基材としての銅箔に
塗工した変性シアネートエステル系樹脂フィルムを配置
してプレス成形することにより、多層配線板用の基板を
製造することができる。
Further, after forming a circuit on the copper clad laminate of the conventional glass cloth substrate or the above copper clad laminate, one or more modified cyanate ester resin films from which the supporting substrate is removed are laminated, and For multilayer wiring boards by arranging a copper foil or circuit forming board on it and press-molding it, or by arranging a modified cyanate ester resin film coated on the copper foil as a supporting base material and press-molding it. The substrate can be manufactured.

【0052】なお、回路の形成には、従来の方法を適用
することができる。たとえば、銅張積層板または多層配
線板用基板に、必要に応じて貫通孔もしくは非貫通孔を
あけ、ついで無電解めっきまたは必要に応じて電気めっ
きを施して孔内壁を導体化した後、導通した孔部の保
護、エッチングレジストの形成、およびエッチングによ
る非配線部分の銅の除去などの工程により、回路を形成
することができる。
A conventional method can be applied to the formation of the circuit. For example, a through hole or a non-through hole may be opened in a copper clad laminate or a multilayer wiring board substrate, if necessary, and then electroless plating or electroplating may be performed to make the inner wall of the hole conductive, and then conductive. A circuit can be formed by steps such as protecting the formed holes, forming an etching resist, and removing copper in the non-wiring portion by etching.

【0053】さらに、本発明の変性シアネートエステル
系樹脂フィルムを用いることにより、貫通孔または非貫
通孔を明ける方法として、たとえばドリル孔明けまたは
レーザ加工を採用することができる。レーザ加工の場合
には、レーザショットによりただちに孔を形成するダイ
レクト・イメージング法や、金属製マスクなどを用いる
コンフォーマル・マスク法により、レーザ孔明けが可能
である。本発明で得られる変性シアネートエステル系樹
脂フィルムの一例である、銅箔を支持基材とした場合
は、貫通孔または非貫通孔を形成すべき場所をエッチン
グによって除去した銅箔をマスクとして用いて、レーザ
孔明けを行うことができる。
Further, by using the modified cyanate ester resin film of the present invention, as a method for making through holes or non-through holes, for example, drilling or laser processing can be adopted. In the case of laser processing, laser drilling can be performed by a direct imaging method in which holes are immediately formed by laser shot or a conformal mask method using a metal mask or the like. An example of a modified cyanate ester-based resin film obtained in the present invention, when using a copper foil as a supporting substrate, using a copper foil as a mask removed by etching the place where a through hole or a non-through hole should be formed , Laser drilling can be performed.

【0054】[0054]

【実施例】以下、実施例により、本発明をより具体的に
説明する。本発明は、これらの実施例によって限定され
るものではない。以下に示すように、変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物ワニスを調製し、半硬化状の
樹脂フィルムを作製して、それぞれの評価を行った。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples. The invention is not limited by these examples. As shown below, a modified cyanate ester-based curable resin composition varnish was prepared, a semi-cured resin film was produced, and each evaluation was performed.

【0055】実施例1 温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフ
ラスコに、トルエン270gとポリフェニレンオキシド
(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス
株式会社商品名)700gを仕込み、攪拌しつつ80℃
に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナト
フェニル)プロパン(AroCy B−10、旭チバ株
式会社商品名)140gおよびp−(α−クミル)フェ
ノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)5.6g
を添加して溶解した後、ナフテン酸亜鉛(Zn含有量8
重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエンでM
n分0.8重量%に希釈した溶液0.4gを添加し、還流
温度で3時間反応させた。この後、室温まで冷却し、ジ
シクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP−7200
H、大日本インキ株式会社商品名)280g、臭素化ト
リフェニルシアヌレート(ピロガードSR−245、第
一工業製薬株式会社商品名)340g、イミダゾール系
硬化促進剤(キュアゾール2MZ−CNS、四国化成株
式会社商品名)0.6g、およびアクリルゴム(HTR
−860、帝国化学産業株式会社商品名)55gを添加
して1時間攪拌し、ついでトルエンを加えて固形分濃度
を45重量%に調節することにより、硬化性フィルム用
樹脂ワニスを調製した。
Example 1 A four-necked separable flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer was charged with 270 g of toluene and 700 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, a product of Nippon GE Plastics Co., Ltd.) and stirred. 80 ° C
It was heated to dissolve. Next, 140 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (AroCy B-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 5.6 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of San Techno Chemical Co., Ltd.)
After adding and dissolving, zinc naphthenate (Zn content 8
% By weight, Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) in toluene
0.4 g of a solution diluted to 0.8% by weight for n minutes was added, and the mixture was reacted at reflux temperature for 3 hours. After that, it is cooled to room temperature, and dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200
H, Dainippon Ink Co., Ltd. product name) 280 g, brominated triphenyl cyanurate (Piroguard SR-245, Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. product name) 340 g, imidazole curing accelerator (Curezol 2MZ-CNS, Shikoku Kasei Co., Ltd.) Product name) 0.6g, and acrylic rubber (HTR
A resin varnish for a curable film was prepared by adding 55 g of -860, trade name of Teikoku Kagaku Sangyo Co., Ltd., stirring for 1 hour, and then adding toluene to adjust the solid content concentration to 45% by weight.

【0056】このワニスを、バーコータの一種であるコ
ンマコータ(株式会社ヒラノテクシード商品名)を用い
て、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルム(ピューレックスA−63、株式会社帝人
商品名)のあらかじめ剥離剤を塗布した面に塗工して、
140℃で3分間乾燥し、キャリヤフィルム面に、樹脂
層厚さ30〜33μmの、半硬化状態の樹脂フィルムを
作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切
断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れてい
た。
This varnish was applied to a polyethylene terephthalate (PE) having a thickness of 50 μm by using a comma coater (trade name of Hirano Techseed Co., Ltd.) which is a kind of bar coater.
T) Coating on the surface of the film (Purex A-63, Teijin Ltd.) to which a release agent has been applied in advance,
After drying at 140 ° C. for 3 minutes, a semi-cured resin film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was prepared on the carrier film surface. The resin film thus obtained was free from resin cracking and powder drop even when cut with a cutter knife, and was excellent in handleability.

【0057】実施例2 温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフ
ラスコに、トルエン300gとポリフェニレンオキシド
(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス
株式会社商品名)11.5gを仕込み、攪拌しつつ80
℃に加熱して溶解した。次にビス(3.5−ジメチル−
4−シアナトフェニル)メタン(AroCy M−1
0、旭チバ株式会社商品名)230gおよびp−(α−
クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品
名)48gを添加して溶解した後、ナフテン酸マンガン
(Mn含有量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)
をトルエンでMn分0.6重量%に希釈した溶液0.0
5gを添加して、還流温度で6時間反応させた。さらに
室温まで冷却した後、p−(α−クミル)フェノール
(サンテクノケミカル株式会社製)21g、ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂(DER−331、ダウケミカル
日本株式会社商品名)115g、臭素化ビスフェノール
A型エポキシ樹脂(ESB−400、住友化学工業株式
会社商品名)200g、臭素化トリフェニルシアヌラー
ト(ピロガードSR−245、第一工業製薬株式会社商
品名)140g、2−エチル−4−メチルイミダゾール
(キュアゾール2E4MZ、四国化成株式会社商品名)
0.8gおよびメタクリル酸変性ポリブタジエン(MM-
1000−80、日本石油株式会社商品名)3.2gを
添加して溶解し、ついでトルエンを加えて固形分濃度を
40重量%に調節することにより、硬化性フィルム用樹
脂ワニスを調製した。
Example 2 300 g of toluene and 11.5 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, trade name of Nippon GE Plastics Co., Ltd.) were placed in a four-necked separable flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer and stirred. While doing 80
It melt | dissolved by heating at 0 degreeC. Next, bis (3.5-dimethyl-
4-Cyanatophenyl) methane (AroCy M-1
0, Asahi Chiba Co., Ltd. product name) 230 g and p- (α-
Cumyl) 48 g of phenol (trade name of San Techno Chemical Co., Ltd.) was added and dissolved, and then manganese naphthenate (Mn content 6% by weight, trade name of Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.)
A solution of 0.0 in a Mn content of 0.6% by weight diluted with toluene
5 g was added and the reaction was carried out at reflux temperature for 6 hours. After further cooling to room temperature, 21 g of p- (α-cumyl) phenol (manufactured by San Techno Chemical Co., Ltd.), 115 g of bisphenol A type epoxy resin (DER-331, Dow Chemical Japan Co., Ltd. trade name), brominated bisphenol A type epoxy 200 g of resin (ESB-400, trade name of Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 140 g of brominated triphenyl cyanurate (Piroguard SR-245, trade name of Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), 2-ethyl-4-methylimidazole (Curezol) 2E4MZ, trade name of Shikoku Kasei Co., Ltd.)
0.8 g and methacrylic acid modified polybutadiene (MM-
3.2 g of 1000-80, trade name of Nippon Oil Co., Ltd. was added and dissolved, and then toluene was added to adjust the solid content concentration to 40% by weight to prepare a resin varnish for a curable film.

【0058】このワニスを用い、実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹
脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッ
タナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性
に優れていた。
Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film thus obtained was free from resin cracking and powder drop even when cut with a cutter knife, and was excellent in handleability.

【0059】実施例3 温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフ
ラスコに、トルエン400gとポリフェニレンオキシド
(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス
株式会社製商品名)100gを仕込み、攪拌しつつ80
℃に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナ
トフェニル)プロパン(AroCy B−10、旭チバ
株式会社製商品名)67gおよびp−(α−クミル)フ
ェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)20g
を添加して溶解した後、ナフテン酸コバルト(Co含有
量8重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエン
でCo分0.8重量%に希釈した溶液1.2gを添加
し、還流温度で2時間反応させた。反応液を室温まで冷
却した後、臭素化トリフェニルシアヌラート(ピロガー
ドSR−245、第一工業製薬株式会社商品名)62
g、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ESB−
400、住友化学工業株式会社商品名)80g、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190−
3、住友化学工業株式会社商品名)80g、2−エチル
−4−メチルイミダゾール(キュアゾール2E4MZ、
四国化成株式会社商品名)0.5gおよびエポキシ変性
ポリブタジエン(PB−3600、ダイセル化学工業株
式会社製商品名)80gを添加し、攪拌して溶解し、つ
いでトルエンを加えて固形分濃度を39重量%に調節す
ることにより、硬化性フィルム用樹脂ワニスを調製し
た。
Example 3 A 4-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer was charged with 400 g of toluene and 100 g of polyphenylene oxide (nonyl PKN4752, a product name of Nippon GE Plastics Co., Ltd.) and stirred. While 80
It melt | dissolved by heating at 0 degreeC. Next, 67 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (AroCy B-10, trade name manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.) and 20 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of San Techno Chemical Co., Ltd.)
Was added and dissolved, and then 1.2 g of a solution prepared by diluting cobalt naphthenate (Co content: 8 wt%, trade name of Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) with toluene to a Co content of 0.8 wt% was added, and the reflux temperature was added. And reacted for 2 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, brominated triphenyl cyanurate (Piroguard SR-245, trade name of Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 62
g, brominated bisphenol A type epoxy resin (ESB-
400, Sumitomo Chemical Co., Ltd. product name) 80 g, cresol novolac type epoxy resin (ESCN-190-
3, Sumitomo Chemical Co., Ltd. product name) 80 g, 2-ethyl-4-methylimidazole (Curezol 2E4MZ,
Shikoku Kasei Co., Ltd. product name) 0.5 g and epoxy-modified polybutadiene (PB-3600, product name of Daicel Chemical Industry Co., Ltd.) 80 g are added and dissolved by stirring, and then toluene is added to give a solid content concentration of 39% by weight. The resin varnish for the curable film was prepared by adjusting the ratio to%.

【0060】このワニスを用い、実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹
脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッ
タナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性
に優れていた。
Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film thus obtained was free from resin cracking and powder drop even when cut with a cutter knife, and was excellent in handleability.

【0061】実施例4 温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフ
ラスコに、トルエン400gとポリフェニレンオキシド
(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス
株式会社商品名)120gを仕込み、攪拌しつつ80℃
に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナト
フェニル)プロパン(AroCy B−10、旭チバ株
式会社製商品名)200gおよびp−(α−クミル)フ
ェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)24g
を添加して溶解した後、ナフテン酸マンガン(Mn含有
量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエン
でMn分0.6重量%に希釈した溶液0.6gを添加
し、還流温度で2時間反応させた。さらに室温まで冷却
した後、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP−
7200L、大日本インキ化学工業株式会社商品名)1
20g、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ES
B−400、住友化学工業株式会社商品名)400g、
イミダゾール系硬化促進剤(キュアゾール2MZ−CN
S、四国化成株式会社商品名)0.7g、エポキシ変性
ポリブタジエン(PB−3600、ダイセル化学工業株
式会社商品名)18gおよびエポキシ変性スチレン/ポ
リブタジエン共重合体(A−1005、ダイセル化学工
業株式会社商品名)5gを添加し、撹拌して溶解し、つ
いでトルエンを加えて固形分濃度を37重量%に調節す
ることにより、硬化性フィルム用樹脂ワニスを調製し
た。
Example 4 400 g of toluene and 120 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, trade name of Japan GE Plastics Co., Ltd.) were placed in a four-necked separable flask equipped with a thermometer, a condenser and a stirrer, and stirred. 80 ° C
It was heated to dissolve. Next, 200 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (AroCy B-10, trade name manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.) and 24 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of San Techno Chemical Co., Ltd.)
Was added and dissolved, and then 0.6 g of a solution prepared by diluting manganese naphthenate (Mn content: 6% by weight, trade name of Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) with toluene to a Mn content of 0.6% by weight was added. And reacted for 2 hours. After further cooling to room temperature, dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-
7200L, product name of Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 1
20 g, brominated bisphenol A type epoxy resin (ES
B-400, Sumitomo Chemical Co., Ltd. product name) 400 g,
Imidazole type curing accelerator (Curesol 2MZ-CN
S, Shikoku Kasei Co., Ltd. product name) 0.7 g, epoxy-modified polybutadiene (PB-3600, product name of Daicel Chemical Industry Co., Ltd.) 18 g and epoxy-modified styrene / polybutadiene copolymer (A-1005, product of Daicel Chemical Co., Ltd.) (5 g) was added and dissolved by stirring, and then toluene was added to adjust the solid content concentration to 37% by weight to prepare a resin varnish for curable film.

【0062】このワニスを用い、実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹
脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッ
タナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性
に優れていた。
Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film thus obtained was free from resin cracking and powder drop even when cut with a cutter knife, and was excellent in handleability.

【0063】実施例5 温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフ
ラスコに、トルエン380gとポリフェニレンオキシド
(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス
株式会社製商品名)140gを仕込み、攪拌しつつ80
℃に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナ
トフェニル)プロパン(AroCy B−10、旭チバ
株式会社商品名)107gおよびp−(α−クミル)フ
ェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)16g
を添加して溶解した後、ナフテン酸マンガン(Mn含有
量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエン
でMn分0.6重量%に希釈した溶液0.6gを添加
し、還流温度で3時間反応させた。ついで反応液を室温
まで冷却した後、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂
(HP−7200H、大日本インキ化学工業株式会社商
品名)60g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DE
R−331、ダウケミカル日本株式会社商品名)10
g、臭素化トリフェニルシアヌラート(ピロガードSR
−245、第一工業製薬株式会社商品名)120g、臭
素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ESB−40
0、住友化学工業株式会社商品名)50g、2−エチル
−4−メチルイミダゾール(キュアゾール2E4MH
Z、四国化成株式会社商品名)0.5g、エポキシ変性
ポリブタジエン(PB−3600、ダイセル化学工業株
式会社商品名)8g、エポキシ変性スチレン/ポリブタ
ジエン共重合体(A−1005、ダイセル化学工業株式
会社商品名)5gおよびメタクリル酸変性ポリブタジエ
ン(MM−1000−80、日本石油株式会社商品名)
12gを添加し、攪拌して溶解し、ついでトルエンを加
えて固形分濃度を45重量%に調節することにより、硬
化性フィルム用樹脂ワニスを調製した。
Example 5 A 4-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer was charged with 380 g of toluene and 140 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, trade name of Japan GE Plastics Co., Ltd.) and stirred. While 80
It melt | dissolved by heating at 0 degreeC. Next, 107 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (AroCy B-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 16 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of San Techno Chemical Co., Ltd.)
Was added and dissolved, and then 0.6 g of a solution prepared by diluting manganese naphthenate (Mn content: 6% by weight, trade name of Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) with toluene to a Mn content of 0.6% by weight was added. And reacted for 3 hours. Then, after cooling the reaction solution to room temperature, 60 g of dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200H, trade name of Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), bisphenol A type epoxy resin (DE
R-331, Dow Chemical Japan Co., Ltd. product name) 10
g, brominated triphenyl cyanurate (Pyroguard SR
-245, trade name of Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., 120 g, brominated bisphenol A type epoxy resin (ESB-40
0, Sumitomo Chemical Co., Ltd. product name) 50 g, 2-ethyl-4-methylimidazole (Curesol 2E4MH)
Z, Shikoku Kasei Co., Ltd. product name 0.5 g, epoxy-modified polybutadiene (PB-3600, product name of Daicel Chemical Industry Co., Ltd.) 8 g, epoxy-modified styrene / polybutadiene copolymer (A-1005, product of Daicel Chemical Co., Ltd.) Name) 5 g and methacrylic acid modified polybutadiene (MM-1000-80, Nippon Oil Co., Ltd. trade name)
A resin varnish for a curable film was prepared by adding 12 g of the varnish and stirring it to dissolve it, and then adding toluene to adjust the solid content concentration to 45% by weight.

【0064】このワニスを用い、実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹
脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッ
タナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性
に優れていた。
Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film thus obtained was free from resin cracking and powder drop even when cut with a cutter knife, and was excellent in handleability.

【0065】実施例6 温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフ
ラスコに、トルエン380gとポリフェニレンオキシド
(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス
株式会社製商品名)140gを仕込み、攪拌しつつ80
℃に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナ
トフェニル)プロパン(AroCy B−10、旭チバ
株式会社商品名)107gおよびp−(α−クミル)フ
ェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)16g
を添加して溶解した後、ナフテン酸マンガン(Mn含有
量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエン
でMn分0.6重量%に希釈した溶液0.6gを添加
し、還流温度で3時間反応させた。ついで反応液を室温
まで冷却した後、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂
(HP−7200H、大日本インキ化学工業株式会社商
品名)60g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DE
R−331、ダウケミカル日本株式会社商品名)10
g、1,2−ジブロモ−4−(1,2−ジブロモエチ
ル)シクロヘキサン(Saytex BCL462、アルベマ
ール社商品名)300g、2−エチル−4−メチルイミ
ダゾール(キュアゾール2E4MHZ、四国化成株式会
社商品名)0.5gおよびエポキシ変性ポリブタジエン
(PB−3600、ダイセル化学工業株式会社商品名)
25gを添加し、攪拌して溶解し、ついでトルエンを加
えて固形分濃度を45重量%に調節することにより、硬
化性フィルム用樹脂ワニスを調製した。
Example 6 A 4-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer was charged with 380 g of toluene and 140 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, a product name of Nippon GE Plastics Co., Ltd.) and stirred. While 80
It melt | dissolved by heating at 0 degreeC. Next, 107 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (AroCy B-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 16 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of San Techno Chemical Co., Ltd.)
Was added and dissolved, and then 0.6 g of a solution prepared by diluting manganese naphthenate (Mn content: 6% by weight, trade name of Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) with toluene to a Mn content of 0.6% by weight was added. And reacted for 3 hours. Then, after cooling the reaction solution to room temperature, 60 g of dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200H, trade name of Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), bisphenol A type epoxy resin (DE
R-331, Dow Chemical Japan Co., Ltd. product name) 10
g, 1,2-dibromo-4- (1,2-dibromoethyl) cyclohexane (Saytex BCL462, trade name of Albemarle) 300 g, 2-ethyl-4-methylimidazole (Curesol 2E4MHZ, trade name of Shikoku Kasei Co., Ltd.) 0 0.5 g and epoxy modified polybutadiene (PB-3600, trade name of Daicel Chemical Industries Ltd.)
A resin varnish for a curable film was prepared by adding 25 g of the resin varnish, stirring and dissolving it, and then adding toluene to adjust the solid content concentration to 45% by weight.

【0066】このワニスを用い、実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹
脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッ
タナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性
に優れていた。
Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film thus obtained was free from resin cracking and powder drop even when cut with a cutter knife, and was excellent in handleability.

【0067】比較例1 温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフ
ラスコに、トルエン200g、ビス(3,5−ジメチル
−4−シアナトフェニル)メタン(AroCyM−1
0、旭チバ株式会社商品名)110g、およびp−(α
−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商
品名)8gを仕込み、攪拌して溶解した後、ナフテン酸
コバルト(Co含有量8重量%、日本化学産業株式会社
商品名)をトルエンでCo分0.8重量%に希釈した溶
液1.2gを添加し、還流温度で2時間反応させ、室温
まで冷却した後、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂
(HP−7200、大日本インキ化学工業株式会社商品
名)100g、イミダゾール系硬化触媒0.5g、および
臭素化トリフェニルシアヌラート(ピロガードSR−2
45、第一工業製薬株式会社商品名)90gを添加し、
攪拌して溶解し、ついでトルエンを加えて固形分濃度を
36重量%に調節することにより、硬化性フィルム用樹
脂ワニスを調製した。このワニスを用いて、実施例1と
同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィ
ルム付樹脂フィルムを作製したが、得られた樹脂フィル
ムは、カッタナイフで切断した際に樹脂割れや粉落ちが
発生し、キャリヤフィルムを剥離すると、樹脂フィルム
単体で取扱うことができなかった。
Comparative Example 1 200 g of toluene and bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane (AroCyM-1) were placed in a 4-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer.
0, Asahi Chiba Co., Ltd. product name) 110 g, and p- (α
-Cumil) Phenol (San Techno Chemical Co., Ltd. trade name) 8 g was charged, and after stirring and dissolving, cobalt naphthenate (Co content 8 wt%, Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd. trade name) was added to toluene with a Co content of 0.8. After adding 1.2 g of a solution diluted to 1 wt% and reacting at reflux temperature for 2 hours and cooling to room temperature, 100 g of dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200, trade name of Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), 0.5 g of imidazole-based curing catalyst, and brominated triphenyl cyanurate (Pyroguard SR-2
45, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. product name) 90 g,
A resin varnish for a curable film was prepared by stirring and dissolving, and then adding toluene to adjust the solid content concentration to 36% by weight. Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film obtained had resin cracks or powder when cut with a cutter knife. When the carrier film peeled off due to dropping, it was impossible to handle the resin film alone.

【0068】比較例2 温度計、冷却管、撹拌装置を備えた4つ口セパラブルフ
ラスコに、トルエン270gとポリフェニレンオキシド
(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス
株式会社製商品名)70gを仕込み、攪拌しつつ80℃
に加熱して溶解し、次に2,2−ビス(4−シアナトフ
ェニル)プロパン(AroCy B−10、旭チバ株式
会社商品名)140gおよびp−(α−クミル)フェノ
ール(サンテクノケミカル株式会社商品名)8gを添加
し、撹拌して溶解した後、ナフテン酸マンガン(Mn含
有量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエ
ンでMn分0.6重量%に希釈した溶液0.5gを添加
し、還流温度で3時間反応させ、室温まで冷却した後、
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP−720
0、大日本インキ化学工業株式会社商品名)140g、
イミダゾール系硬化促進剤(キュアゾール2MZ−CN
S、四国化成株式会社商品名)6gおよびウレタン変性
ポリブタジエン(TP−1001、日本曹達株式会社商
品名)35gを添加し、攪拌して溶解し、ついでトルエ
ンを加えて固形分濃度を45%に調節することにより、
樹脂ワニス(固形分濃度36重量%)を調製した。この
ワニスを用いて実施例1と同様にして、樹脂層厚さ30
〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製し
た。得られた樹脂フィルムはカッタナイフで切断しても
樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。
Comparative Example 2 A 4-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer was charged with 270 g of toluene and 70 g of polyphenylene oxide (nonyl PKN4752, a product name of Nippon GE Plastics Co., Ltd.) and stirred. 80 ° C
It is heated to dissolve and then heated to 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (AroCy B-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) 140 g and p- (α-cumyl) phenol (San Techno Chemical Co., Ltd.). (Trade name) 8 g was added and dissolved by stirring, and then a solution of manganese naphthenate (Mn content: 6 wt%, trade name of Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) diluted with toluene to a Mn content of 0.6 wt%. After adding 5 g and reacting at reflux temperature for 3 hours and cooling to room temperature,
Dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-720
0, Product name of Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 140g,
Imidazole type curing accelerator (Curesol 2MZ-CN
S, Shikoku Kasei Co., Ltd. (trade name) 6 g and urethane modified polybutadiene (TP-1001, Nippon Soda Co., Ltd. trade name) 35 g were added and dissolved by stirring, and then toluene was added to adjust the solid content concentration to 45%. By doing
A resin varnish (solid content concentration 36% by weight) was prepared. Using this varnish, in the same manner as in Example 1, the resin layer thickness 30
A resin film with a carrier film of ˜33 μm was prepared. The resin film thus obtained did not have resin cracking or powder drop even when cut with a cutter knife, and was excellent in handleability.

【0069】比較例3 温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフ
ラスコに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコー
ト828、油化シェル株式会社商品名)80g、臭素化
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ESB−400、住
友化学工業株式会社製商品名)120g、ジシアンジア
ミド10g、重量平均分子量350,000のエポキシ
基含有アクリルゴム20重量%の、トルエン/メチルエ
チルケトン:1/3の混合溶媒溶液(帝国化学製、商品
名SG−80HDR)100g、および2−エチル−4
−メチルイミダゾール1gを仕込み、均一に溶解するま
で撹拌し、ついでトルエンを加えて固形分濃度を45重
量%に調節することにより、樹脂ワニスを調製した。こ
のワニスを用いて、実施例1と同様にして、樹脂層厚さ
30〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作
製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断
しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。
Comparative Example 3 80 g of a bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828, trade name of Yuka Shell Co., Ltd.) and a brominated bisphenol A type epoxy were placed in a 4-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer. 120 g of resin (ESB-400, trade name of Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 10 g of dicyandiamide, 20% by weight of an epoxy group-containing acrylic rubber having a weight average molecular weight of 350,000, toluene / methyl ethyl ketone: 1/3 mixed solvent solution (Teikyo Chemical product, SG-80 HDR) 100 g, and 2-ethyl-4
A resin varnish was prepared by charging 1 g of methylimidazole, stirring until it was uniformly dissolved, and then adding toluene to adjust the solid content concentration to 45% by weight. Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film thus obtained was free from resin cracking and powder drop even when cut with a cutter knife, and was excellent in handleability.

【0070】比較例4 p−(α−クミル)フェノールの代わりに、ノニルフェ
ノール(三井東圧化学株式会社製)を、第1段階で5
g、第2段階で3g用いた以外は実施例4と同様にして、
樹脂ワニスを調製した。このワニスを用い、実施例1と
同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィ
ルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルム
は、カッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがな
く、取扱性に優れていた。
Comparative Example 4 Instead of p- (α-cumyl) phenol, nonylphenol (manufactured by Mitsui Toatsu Kagaku Co., Ltd.) was used in the first step.
g, in the same manner as in Example 4 except that 3 g was used in the second step,
A resin varnish was prepared. Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film thus obtained was free from resin cracking and powder drop even when cut with a cutter knife, and was excellent in handleability.

【0071】評価例 実施例1〜6ならびに比較例2〜4で得られた各キャリ
ヤフィルム付き樹脂フィルムからキャリヤフィルムを剥
離し、得られた樹脂フィルムを12枚を積層し、さらに
その上下に、電解銅箔の鏡面を剥離面として用いて重
ね、200℃、1.5MPaで1時間のプレス成形を行っ
て、厚さ約0.4mmの樹脂硬化フィルムを作製した。
Evaluation Example The carrier film was peeled from the resin film with each carrier film obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 2 to 4, 12 sheets of the obtained resin film were laminated, and further above and below, Using the mirror surface of the electrolytic copper foil as the release surface, the layers were stacked and press-molded at 200 ° C. and 1.5 MPa for 1 hour to produce a resin-cured film having a thickness of about 0.4 mm.

【0072】このようにして得られた硬化樹脂フィルム
のGHz帯における誘電特性および難燃性を、下記のよ
うにして評価した。すなわち、化学エッチングによって
銅箔をすべて除去した樹脂硬化物を、RFインピーダン
ス/マテリアルアナライザ(アジレントテクノロジー社
製、HP 4291B)を用いて、1GHzにおける誘電率
および誘電正接を測定した。また、難燃性は、UL−9
4に準拠して燃焼持続時間を測定した。それらの結果を
表1に示す。
The dielectric characteristics and flame retardancy in the GHz band of the cured resin film thus obtained were evaluated as follows. That is, the resin cured product from which all the copper foil was removed by chemical etching was measured for its dielectric constant and dielectric loss tangent at 1 GHz using an RF impedance / material analyzer (HP 4291B manufactured by Agilent Technologies). In addition, flame retardancy is UL-9
The burning duration was measured according to 4. The results are shown in Table 1.

【0073】[0073]

【表1】 [Table 1]

【0074】表1より、本発明のポリフェニレンオキシ
ド変性シアネートエステル系樹脂フィルムを用いた硬化
フィルムは、GHz帯における低い誘電率および誘電正
接を示すこと、ならびに難燃性が高いことが確認でき
た。
From Table 1, it was confirmed that the cured film using the polyphenylene oxide-modified cyanate ester resin film of the present invention exhibits a low dielectric constant and dielectric loss tangent in the GHz band and high flame retardancy.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上のように、本発明の樹脂組成物から
得られる変性シアネートエステル系樹脂フィルムは、フ
ィルム単独での取扱が可能で、耐溶媒性に優れ、かつそ
の硬化物は、高周波帯域での誘電率や誘電正接が低く、
優れた難燃性を示し、さらに多層配線板材料として用い
た場合には耐湿性、成形性、はんだ耐熱性および銅箔ピ
ール強さなどが良好なので、高速デジタル信号や無線通
信関連の高周波信号を扱う機器に用いられる印刷配線板
の、特にビルドアップ積層方式による製造に好適であ
る。本発明の樹脂フィルムを用いることにより、コンピ
ュータの高速化や高周波関連機器の低損失化に適し、か
つ難燃性を示す多層プリント配線板を、容易に製造する
ことが可能になる。
As described above, the modified cyanate ester resin film obtained from the resin composition of the present invention can be handled as a film alone, has excellent solvent resistance, and its cured product has a high frequency band. Has a low dielectric constant and dielectric loss tangent,
It exhibits excellent flame retardancy, and when used as a multilayer wiring board material, its moisture resistance, moldability, solder heat resistance, and copper foil peel strength are excellent, so high-speed digital signals and high-frequency signals related to wireless communication can be transmitted. It is suitable for manufacturing a printed wiring board used in a device to be handled, especially by a build-up lamination method. By using the resin film of the present invention, it is possible to easily manufacture a multilayer printed wiring board which is suitable for increasing the speed of a computer and reducing the loss of high-frequency related equipment and exhibits flame retardancy.

【0076】特に本発明の樹脂組成物から得られる樹脂
フィルムのような硬化物、および多層プリント配線板の
ような印刷配線板は、優れた難燃性を有するという特徴
を生かして、特に高周波機器のためのプリント配線板に
有用である。
In particular, a cured product such as a resin film obtained from the resin composition of the present invention and a printed wiring board such as a multilayer printed wiring board have a characteristic of having excellent flame retardancy, and are particularly useful for high frequency equipment. Is useful for printed wiring boards.

【0077】本発明は、誘電特性が良好な変性シアネー
トエステル樹脂に、誘電特性が良好な熱可塑性樹脂であ
る(C)ポリフェニレンオキシドを配合することによ
り、誘電特性を向上することを意図したものである。す
なわち、本来、非相溶系であって、均一な樹脂を得るこ
とが困難なシアネートエステル樹脂とポリフェニレンオ
キシドとを、(C)ポリフェニレンオキシドの溶媒溶液
中で、(A)式〔1〕のシアネートエステル化合物と
(B)式〔2〕の1価フェノール化合物の反応を行うこ
とによって、均一な樹脂ワニスを製造し、さらにそれを
支持基材である銅箔やキャリヤフィルムの片面に流延塗
布し、加熱乾燥により溶媒を除去して、相溶化した樹脂
フィルムが得られる。
The present invention is intended to improve dielectric properties by blending a modified cyanate ester resin having good dielectric properties with (C) polyphenylene oxide, which is a thermoplastic resin having good dielectric properties. is there. That is, a cyanate ester resin and polyphenylene oxide, which are originally incompatible and in which it is difficult to obtain a uniform resin, are mixed with a cyanate ester of formula (1) in a solvent solution of (C) polyphenylene oxide. By reacting the compound with the monohydric phenol compound of the formula (2) [2], a uniform resin varnish is produced, and the resin varnish is cast-coated on one side of a copper foil or carrier film which is a supporting substrate. The solvent is removed by heating and drying to obtain a compatibilized resin film.

【0078】高分子材料などの誘電特性は、双極子の配
向分極による影響が大きい。したがって分子内の極性基
を少なくすることにより低誘電率化が図れ、また極性基
の運動性を抑えることにより誘電正接を低くすることが
可能になる。シアネートエステル樹脂は、極性の強いシ
アナト基を有していながら、硬化の際に、対称性かつ剛
直なトリアジン構造を生成するので、熱硬化性樹脂とし
ては最も低い誘電率および誘電正接を有する硬化物が得
られるという特徴がある。
Dielectric properties of polymer materials and the like are greatly affected by orientation polarization of dipoles. Therefore, the dielectric constant can be lowered by reducing the polar groups in the molecule, and the dielectric loss tangent can be lowered by suppressing the mobility of the polar groups. Cyanate ester resin, which has a highly polar cyanato group, produces a symmetric and rigid triazine structure during curing, so that a cured product having the lowest dielectric constant and dielectric loss tangent as a thermosetting resin. Is obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 63/00 C08L 63/00 A 71/12 71/12 H05K 3/46 H05K 3/46 B N S T //(C08L 79/00 C08L 21:00 21:00) (72)発明者 神代 恭 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 末吉 隆之 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4F071 AA10 AA42 AA51 AA69 AC03 AC11 AC12 AC18 AC19 AE07 AF39 AH12 AH13 BB02 BC01 BC02 4J002 AC00Z AC02Z AC03Z AC10Z AC11Z BG04Z CD00Y CD01Y CD02Y CD03Y CD04Y CD05Y CD06Y CD13Y CD18Y CH07X CK02Z CM00W EB006 EB016 EB046 EB076 EG007 EG037 EG047 EU186 FD01 FD13 FD14 FD15 GF00 GQ01 4J036 AA01 AA02 AD01 AF01 AF06 AH00 AK02 CA06 CA07 CB21 DB05 DC30 FA03 JA08 5E346 AA12 AA43 CC12 CC32 DD12 EE33 EE39 FF13 FF14 GG15 HH13 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08L 63/00 C08L 63/00 A 71/12 71/12 H05K 3/46 H05K 3/46 B N S T // (C08L 79/00 C08L 21:00 21:00) (72) Inventor Kyo Kashiro 1500 Ogawa, Shimodate, Ibaraki Prefecture, Ogawa, Hitachi Research Institute, Ltd. (72) Takayuki Sueyoshi, Shimodate, Ibaraki 1500 Ogawa Hitachi Chemical Co., Ltd. Research Institute F-term (reference) 4F071 AA10 AA42 AA51 AA69 AC03 AC11 AC12 AC18 AC19 AE07 AF39 AH12 AH13 BB02 BC01 BC02 4J002 AC00Z AC02Z AC03Z AC10Z AC11Z BG04Z CDY CDY CD01 CD05 CD03 CD04 CD05 CD04 CD04 CD04 CD04 CD04 CD04 CK02Z CM00W EB006 EB016 EB046 EB076 EG007 EG037 EG047 EU186 FD01 FD13 FD14 FD15 GF00 GQ01 4J036 AA01 AA02 AD01 AF01 AF06 AH00 AK02 CA06 CA07 CB2 1 DB05 DC30 FA03 JA08 5E346 AA12 AA43 CC12 CC32 DD12 EE33 EE39 FF13 FF14 GG15 HH13

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)式〔1〕: 【化1】 (式中、R1は、 【化2】 を表し;R2およびR3は、たがいに同一でも異なってい
てもよく、水素またはメチル基を表す)で示されるシア
ネートエステル化合物; (B)式〔2〕: 【化3】 (式中、R4およびR5は、たがいに同一でも異なってい
てもよく、水素原子または炭素数1〜4の低級アルキル
基を表し;nは、1または2である)で示される1価フ
ェノール化合物; (C)ポリフェニレンオキシド; (D)エポキシ化合物; (E)エラストマー;ならびに (F)難燃剤を含むことを特徴とする変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物。
1. A formula (1) [1]: (In the formula, R 1 is R 2 and R 3, which may be the same or different from each other, each represents hydrogen or a methyl group), and is a cyanate ester compound represented by: (B) Formula [2]: (In the formula, R 4 and R 5, which may be the same or different from each other, represent a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; n is 1 or 2) A modified cyanate ester-based curable resin composition comprising: a phenol compound; (C) polyphenylene oxide; (D) an epoxy compound; (E) an elastomer; and (F) a flame retardant.
【請求項2】 (A)シアネートエステル化合物100
重量部; (B)1価フェノール化合物4〜30重量部; (C)ポリフェニレンオキシド5〜500重量部; (D)エポキシ化合物10〜600重量部; (E)エラストマー (A)〜(D)の総量に対して
0.5〜30重量%;および (F)難燃剤 (A)〜(E)の総量に対して20〜1
60重量%を含む、請求項1記載の変性シアネートエス
テル系硬化性樹脂組成物。
2. A cyanate ester compound (A) 100
Parts by weight; (B) monohydric phenol compound 4 to 30 parts by weight; (C) polyphenylene oxide 5 to 500 parts by weight; (D) epoxy compound 10 to 600 parts by weight; (E) elastomer (A) to (D) 0.5 to 30% by weight based on the total amount; and (F) Flame retardant (A) to (E) 20 to 1 based on the total amount.
The modified cyanate ester-based curable resin composition according to claim 1, which comprises 60% by weight.
【請求項3】 請求項1記載の(A)シアネートエステ
ル化合物と請求項1記載の(B)1価フェノール化合物
を反応させて得られる(A′)変性シアネートエステル
樹脂; (C)ポリフェニレンオキシド; (D)エポキシ化合物; (E)エラストマー;および (F)難燃剤を含み、場合によっては、さらに上記
(B)1価フェノール化合物を含むことを特徴とする変
性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物。
3. A modified cyanate ester resin (A ′) obtained by reacting the cyanate ester compound (A) according to claim 1 with the monohydric phenol compound (B) according to claim 1; (C) polyphenylene oxide; A modified cyanate ester-based curable resin composition comprising (D) an epoxy compound; (E) an elastomer; and (F) a flame retardant, and optionally (B) a monohydric phenol compound.
【請求項4】 (A)シアネートエステル化合物が、
2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンまたは
2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニ
ル)メタンの1種以上である、請求項1〜3のいずれか
1項記載の変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成
物。
4. The (A) cyanate ester compound,
4. Any one or more of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane or 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 4. The modified cyanate ester-based curable resin composition described.
【請求項5】 (B)1価フェノール化合物が、p−
(α−クミル)フェノールである、請求項1〜4のいず
れか1項記載の変性シアネートエステル系硬化性樹脂組
成物。
5. The (B) monohydric phenol compound is p-
The modified cyanate ester-based curable resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is (α-cumyl) phenol.
【請求項6】 (C)ポリフェニレンオキシドが、ポリ
(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシドと
ポリスチレンまたはスチレン−ブタジエンコポリマーと
のポリマーアロイであり、うちポリ(2,6−ジメチル
−1,4−フェニレン)オキシドが50重量%以上であ
る、請求項1〜5のいずれか1項記載の変性シアネート
エステル系硬化性樹脂組成物。
6. The (C) polyphenylene oxide is a polymer alloy of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide and polystyrene or a styrene-butadiene copolymer, of which poly (2,6-dimethyl- The modified cyanate ester-based curable resin composition according to claim 1, wherein the content of 1,4-phenylene) oxide is 50% by weight or more.
【請求項7】 (E)エラストマーが、(A)シアネー
トエステル化合物〜(D)エポキシ樹脂と相溶性を有す
るポリマーからなる群より選ばれる1種以上である、請
求項1〜6のいずれか1項記載の変性シアネートエステ
ル系硬化性樹脂組成物。
7. The elastomer (E) is one or more selected from the group consisting of a polymer having compatibility with a cyanate ester compound (A) to an epoxy resin (D), and any one or more of them. The modified cyanate ester-based curable resin composition according to the item.
【請求項8】 (F)難燃剤が、1,2−ジブロモ−4
−(1,2−ジブロモエチル)シクロヘキサン、テトラ
ブロモシクロオクタンまたはヘキサブロモシクロドデカ
ンからなる群より選ばれる臭素化脂環式難燃剤の1種以
上である、請求項1〜7のいずれか1項記載の変性シア
ネートエステル系硬化性樹脂組成物。
8. The flame retardant (F) is 1,2-dibromo-4.
8. One or more brominated alicyclic flame retardants selected from the group consisting of-(1,2-dibromoethyl) cyclohexane, tetrabromocyclooctane or hexabromocyclododecane. The modified cyanate ester-based curable resin composition described.
【請求項9】 (F)難燃剤が、臭素化ビスフェノール
A型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポ
キシ樹脂または臭素化ビスフェノールAノボラック型エ
ポキシ樹脂からなる群より選ばれる臭素化エポキシ系難
燃剤の1種以上である、請求項1〜7のいずれか1項記
載の変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物。
9. The brominated epoxy-based flame retardant selected from the group consisting of brominated bisphenol A type epoxy resin, brominated phenol novolac type epoxy resin or brominated bisphenol A novolac type epoxy resin (F). The modified cyanate ester-based curable resin composition according to any one of claims 1 to 7, which is one or more kinds.
【請求項10】 (F)難燃剤が、式〔3〕: 【化4】 (式中、x、y、zは、たがいに同一でも異なっていて
もよく、1〜5の整数である)で示される臭素化トリフ
ェニルシアヌレート系難燃剤の1種以上である、請求項
1〜7のいずれか1項記載の変性シアネートエステル系
硬化性樹脂組成物。
10. The flame retardant (F) has the formula [3]: Wherein, in the formula, x, y and z may be the same or different from each other and is an integer of 1 to 5), one or more brominated triphenylcyanurate flame retardants. The modified cyanate ester-based curable resin composition according to any one of 1 to 7.
【請求項11】 さらに、(G)金属化合物触媒を含
む、請求項1〜10のいずれか1項記載の変性シアネー
トエステル系硬化性樹脂組成物。
11. The modified cyanate ester-based curable resin composition according to claim 1, which further comprises (G) a metal compound catalyst.
【請求項12】 (G)金属化合物触媒が、マンガン、
鉄、コバルト、ニッケル、銅または亜鉛のオクタン酸
塩、2−エチルヘキサン酸塩、ナフテン酸塩もしくはア
セチルアセトン錯体からなる群より選ばれる金属原子含
有有機化合物の1種以上である、請求項11記載の変性
シアネートエステル系硬化性樹脂組成物。
12. The (G) metal compound catalyst is manganese,
The metal atom-containing organic compound selected from the group consisting of iron, cobalt, nickel, copper or zinc octanoate, 2-ethylhexanoate, naphthenate or acetylacetone complex, according to claim 11. A modified cyanate ester-based curable resin composition.
【請求項13】 請求項1〜12のいずれか1項記載の
変性シアネートエステル系樹脂組成物を半硬化もしくは
硬化して得られる難燃性変性シアネートエステル系樹脂
フィルム。
13. A flame-retardant modified cyanate ester resin film obtained by semi-curing or curing the modified cyanate ester resin composition according to any one of claims 1 to 12.
【請求項14】 請求項1〜12のいずれか1項記載の
変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物と溶媒とを
含むワニスを、支持基材の片面に流延塗布し、加熱乾燥
により溶媒を除去し製膜することを特徴とする、難燃性
変性シアネートエステル系樹脂フィルムの製造方法。
14. A varnish containing the modified cyanate ester-based curable resin composition according to any one of claims 1 to 12 and a solvent is cast onto one surface of a supporting substrate, and the solvent is obtained by heating and drying. A method for producing a flame-retardant modified cyanate ester resin film, which comprises removing and forming a film.
【請求項15】 (C)ポリフェニレンオキシドの溶媒
溶液中で、(A)シアネートエステル化合物と(B)1
価フェノール化合物の反応を行う工程を含む方法によ
り、請求項1〜12のいずれか1項記載の変性シアネー
トエステル系硬化性樹脂組成物を含むワニスを調製し、
該ワニスを支持基材の片面に流延塗布し、加熱乾燥によ
り溶媒を除去し製膜することを特徴とする、難燃性変性
シアネートエステル系樹脂フィルムの製造方法。
15. A cyanate ester compound (A) and (B) 1 in a solvent solution of (C) polyphenylene oxide.
A varnish containing the modified cyanate ester-based curable resin composition according to any one of claims 1 to 12 is prepared by a method including a step of reacting a polyhydric phenol compound,
A method for producing a flame-retardant modified cyanate ester-based resin film, which comprises casting the varnish on one side of a supporting substrate, removing the solvent by heating and drying, and forming a film.
【請求項16】 溶媒が、芳香族炭化水素系溶媒であ
る、請求項14または15記載の難燃性変性シアネート
エステル系樹脂フィルムの製造方法。
16. The method for producing a flame-retardant modified cyanate ester resin film according to claim 14, wherein the solvent is an aromatic hydrocarbon solvent.
【請求項17】 (A)シアネートエステル化合物と
(B)1価フェノール化合物を反応させた後、さらにケ
トン系溶媒を配合してワニスを調製する、請求項12記
載の難燃性変性シアネートエステル系樹脂フィルムの製
造方法。
17. The flame-retardant modified cyanate ester system according to claim 12, wherein the varnish is prepared by further reacting the (A) cyanate ester compound with the (B) monohydric phenol compound and then further blending a ketone solvent. Method for producing resin film.
【請求項18】 請求項1〜12のいずれか1項記載の
変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物と溶媒から
なるワニスを、回路加工済みの配線板に塗布し、加熱乾
燥により溶媒を除去して製膜・硬化し、外層面の回路を
形成することにより、内層回路と電気的な導通をさせて
作製した難燃性多層プリント配線板。
18. A circuit-processed wiring board is coated with a varnish comprising the modified cyanate ester-based curable resin composition according to any one of claims 1 to 12 and a solvent, and the solvent is removed by heating and drying. A flame-retardant multilayer printed wiring board manufactured by forming and curing a film on the outer layer surface to electrically connect with the inner layer circuit.
【請求項19】 請求項13〜16のいずれか1項記載
の方法によって製造された変性シアネートエステル系樹
脂フィルムを、回路形成済みの配線板と積層した後、外
層面の回路を形成することにより、内層回路と電気的な
導通をさせて作製した難燃性多層プリント配線板。
19. By laminating the modified cyanate ester resin film produced by the method according to any one of claims 13 to 16 with a circuit-formed wiring board, and then forming a circuit on the outer layer surface. , A flame-retardant multi-layer printed wiring board which is electrically connected to the inner layer circuit.
JP2001334448A 2001-10-31 2001-10-31 Modified cyanate ester-based resin composition, flame retardant resin film, flame retardant multilayer printed wiring board, and production method thereof Expired - Fee Related JP4039034B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001334448A JP4039034B2 (en) 2001-10-31 2001-10-31 Modified cyanate ester-based resin composition, flame retardant resin film, flame retardant multilayer printed wiring board, and production method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001334448A JP4039034B2 (en) 2001-10-31 2001-10-31 Modified cyanate ester-based resin composition, flame retardant resin film, flame retardant multilayer printed wiring board, and production method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003138132A true JP2003138132A (en) 2003-05-14
JP4039034B2 JP4039034B2 (en) 2008-01-30

Family

ID=19149572

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001334448A Expired - Fee Related JP4039034B2 (en) 2001-10-31 2001-10-31 Modified cyanate ester-based resin composition, flame retardant resin film, flame retardant multilayer printed wiring board, and production method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4039034B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005023933A1 (en) * 2003-09-05 2005-03-17 Lg Chem, Ltd. Thermosetting resin composition for high speed transmission circuit board
KR100722900B1 (en) * 2004-11-05 2007-05-30 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Thermosetting Resin Composition, and Prepreg, Metal-Clad Laminated Board and Printed Wiring Board Using the Same
WO2016201076A1 (en) * 2015-06-09 2016-12-15 Rogers Corporation Circuit materials and articles formed therefrom
WO2019230945A1 (en) * 2018-06-01 2019-12-05 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, resin sheet and printed wiring board
CN111454539A (en) * 2020-04-17 2020-07-28 上海国瓷新材料技术有限公司 Thermosetting resin composition and application thereof in millimeter wave circuit substrate
CN114561170A (en) * 2022-03-28 2022-05-31 深圳市纽菲斯新材料科技有限公司 Insulating adhesive film and preparation method and application thereof

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005023933A1 (en) * 2003-09-05 2005-03-17 Lg Chem, Ltd. Thermosetting resin composition for high speed transmission circuit board
KR100722900B1 (en) * 2004-11-05 2007-05-30 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Thermosetting Resin Composition, and Prepreg, Metal-Clad Laminated Board and Printed Wiring Board Using the Same
WO2016201076A1 (en) * 2015-06-09 2016-12-15 Rogers Corporation Circuit materials and articles formed therefrom
US9809690B2 (en) 2015-06-09 2017-11-07 Rogers Corporation Circuit materials and articles formed therefrom
WO2019230945A1 (en) * 2018-06-01 2019-12-05 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, resin sheet and printed wiring board
JP6680405B1 (en) * 2018-06-01 2020-04-15 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, prepreg, metal foil clad laminate, resin sheet and printed wiring board
KR20200139837A (en) * 2018-06-01 2020-12-14 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 Resin composition, prepreg, metal foil clad laminate, resin sheet and printed wiring board
KR102329650B1 (en) 2018-06-01 2021-11-19 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, resin sheet and printed wiring board
CN111454539A (en) * 2020-04-17 2020-07-28 上海国瓷新材料技术有限公司 Thermosetting resin composition and application thereof in millimeter wave circuit substrate
CN111454539B (en) * 2020-04-17 2023-04-18 上海国瓷新材料技术有限公司 Thermosetting resin composition and application thereof in millimeter wave circuit substrate
CN114561170A (en) * 2022-03-28 2022-05-31 深圳市纽菲斯新材料科技有限公司 Insulating adhesive film and preparation method and application thereof
CN114561170B (en) * 2022-03-28 2023-08-08 深圳市纽菲斯新材料科技有限公司 Insulating adhesive film and preparation method and application thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP4039034B2 (en) 2008-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6465083B1 (en) Method of making varnish of modified cyanate ester group curable resin composition, and prepreg, metal clad laminated board, film, printed circuit board, and multilayered circuit board using the composition
JP4039033B2 (en) Modified cyanate ester-based resin composition, resin film, multilayer printed wiring board, and production method thereof
JP2002309084A (en) Siloxane-modified cyanate resin composition, adhesive film using the same, resin coated metal foil and multilayered printed circuit board
JP4934910B2 (en) Modified cyanate ester-based resin composition, resin film using the same, multilayer printed wiring board and method for producing them
JP3719833B2 (en) Modified cyanate ester resin film and method for producing the same
JP3261076B2 (en) Modified cyanate ester-based curable resin composition for laminate, prepreg and laminate using the same
JP2003138132A (en) Modified cyanate ester resin composition, flame- retardant resin film, flame-retardant multilayered printed wiring board and method for producing the same
JP3382507B2 (en) Modified cyanate ester resin varnish for printed wiring boards, and prepreg for laminate and metal-clad laminate using the same
JP2011208150A (en) Modified cyanate ester based resin composition, resin film and multilayer printed wiring board using the same, and method for manufacturing them
JP3382508B2 (en) Modified cyanate ester resin varnish for printed wiring boards and method for producing the same
JP3315631B2 (en) Flame retardant modified cyanate ester-based resin film and method for producing the same
JP3382510B2 (en) Modified cyanate ester resin varnish for printed wiring boards and method for producing prepreg for laminated board and metal-clad laminate using the same
JP2002338887A (en) Insulating varnish using modified cyanate ester based resin composition and method for producing its resin film
JP2002194212A (en) Modified cyanate ester based curable resin composition for laminate, and prepreg and laminate made by using it
JP3382509B2 (en) Modified cyanate ester resin varnish for printed wiring boards and method for producing the same
JP3315630B2 (en) Flame retardant modified cyanate ester-based resin film and method for producing the same
JP3722601B2 (en) Modified cyanate ester resin film and method for producing the same
JP2011252152A (en) Insulating varnish using modified cyanate ester-based resin composition, and manufacturing method of resin film of the same
JP3261078B2 (en) Modified cyanate ester-based curable resin composition for laminate, prepreg and laminate using the same
JP2003332701A (en) Modified cyanate ester resin varnish for printed wiring board, prepreg for laminate using same, and method for manufacturing metal-clad laminate
JP4154625B2 (en) Modified cyanate ester resin varnish for printed wiring board and method for producing the same
JP3981847B2 (en) Modified cyanate ester-based curable resin composition for laminates, and prepreg and metal-clad laminate using the same
JP4189706B2 (en) Modified cyanate ester resin varnish for printed wiring board, and prepreg for laminate and metal-clad laminate using the same
JP2001081322A (en) Modified cyanate ester resin composition and prepreg and laminate using the same
JP4788934B2 (en) Modified cyanate ester-based curable resin composition for laminate, prepreg and laminate using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040820

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060511

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20060516

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20060718

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070306

A521 Written amendment

Effective date: 20070411

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20071016

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071029

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101116

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101116

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111116

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111116

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 5

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121116

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees