JP2003131024A - Color filter substrate, its manufacturing method, liquid crystal display panel, liquid crystal display device and electronic equipment - Google Patents

Color filter substrate, its manufacturing method, liquid crystal display panel, liquid crystal display device and electronic equipment

Info

Publication number
JP2003131024A
JP2003131024A JP2001326921A JP2001326921A JP2003131024A JP 2003131024 A JP2003131024 A JP 2003131024A JP 2001326921 A JP2001326921 A JP 2001326921A JP 2001326921 A JP2001326921 A JP 2001326921A JP 2003131024 A JP2003131024 A JP 2003131024A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
colored layer
color
layer
substrate
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001326921A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keiji Takizawa
圭二 瀧澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2001326921A priority Critical patent/JP2003131024A/en
Publication of JP2003131024A publication Critical patent/JP2003131024A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter substrate capable of providing a display color having desired color tone without any irregularity when being used for a liquid crystal display device or the like, and capable of providing a device easy in adjustment of white balance, to provide its manufacturing method, a liquid crystal display panel, a liquid crystal display device and electronic equipment. SOLUTION: The color filter substrate 10 provided with a substrate 1, color dots 3 arranged on the substrate 1 and a light shielding film 2 arranged on the substrate 1 and surrounding the color dots 3, is characterized in that the light shielding film 2 includes the same first colored layer 21 as the color dots 3 and arranged on the substrate 1, a second colored layer 22 arranged on the first colored layer 21 and different in color from the first colored layer 21, and a third colored layer 23 arranged on the second colored layer 22 and different in color from the first colored layer 21 and the second colored layer 22.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ基
板及びその製造方法、液晶表示パネル、液晶表示装置、
並びに電子機器に関する。さらに詳しくは、携帯電話
機、携帯型パーソナルコンピュータ等の電子機器用の液
晶表示装置等に用いられた場合、バラツキ(ムラ)のな
い、所望の色調を有する表示色を備えるとともに、ホワ
イトバランスの調整が容易な装置を提供することができ
るカラーフィルタ基板及びその製造方法、液晶表示パネ
ル、液晶表示装置、並びに電子機器に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a color filter substrate and a method for manufacturing the same, a liquid crystal display panel, a liquid crystal display device,
And electronic devices. More specifically, when used in a liquid crystal display device for an electronic device such as a mobile phone or a portable personal computer, the display color has a desired color tone without variation (unevenness), and white balance can be adjusted. The present invention relates to a color filter substrate that can provide an easy device, a manufacturing method thereof, a liquid crystal display panel, a liquid crystal display device, and an electronic device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型パーソナルコ
ンピュータ等の電子機器に液晶表示装置が広く用いられ
るようになっている。また、カラーフィルタ基板を用い
てカラー表示を行う構造の液晶表示装置も広く用いられ
るようになっている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been widely used in electronic devices such as mobile phones and portable personal computers. Further, a liquid crystal display device having a structure for performing color display using a color filter substrate is also widely used.

【0003】カラーフィルタ基板として、従来、ガラ
ス、プラスチック等によって形成した基材の表面に、例
えば、R(赤)、G(緑)及びB(青)のそれぞれの色
ドットを所定の配列、例えば、ストライプ配列、モザイ
ク配列、デルタ配列等に形成してなるものが知られてい
る(図13参照)。このように、R(赤)、G(緑)及
びB(青)の三色の色ドットによって、一画素(一ピク
セル)が構成される。
Conventionally, as a color filter substrate, for example, R (red), G (green) and B (blue) color dots are arranged in a predetermined array on the surface of a base material formed of glass, plastic or the like. It is known that a stripe array, a mosaic array, a delta array, etc. are formed (see FIG. 13). In this way, one pixel (one pixel) is formed by the color dots of the three colors of R (red), G (green) and B (blue).

【0004】この場合、基板上に色ドットを配置すると
ともに、この色ドットを囲むように遮光膜を形成して、
表示のコントラストを向上させることが行われている。
In this case, color dots are arranged on the substrate and a light shielding film is formed so as to surround the color dots,
The contrast of display is being improved.

【0005】また、このような遮光膜を形成する方法と
して、色ドットを構成する、例えば、R(赤)、G
(緑)及びB(青)の3色の色ドット材料と同一の3色
の材料をそれぞれ用い、全体として、例えば、ブラック
マスクのような黒色となるように構成することも行われ
ている。この方法は、遮光膜として特別の材料を用いる
ことなく、色ドット材料だけで遮光膜を形成することが
できるので、材料及び工程の面で低コスト化をもたらす
優れた方法である。
As a method of forming such a light shielding film, color dots are formed, for example, R (red) and G.
It is also practiced to use the same three-color materials as the three-color dot materials of (green) and B (blue), and to make them black as a whole, for example, like a black mask. This method is an excellent method that can reduce the cost in terms of material and process because the light-shielding film can be formed only by the color dot material without using a special material for the light-shielding film.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな遮光膜の形成方法を用いて作製された従来のカラー
フィルタ基板においては、前述の3色の色ドット材料と
同一の3色の材料を用いる場合に、その積層順序につい
て統一性がなくバラバラで、その表示色の色調も全体と
して統一がなくバラツキ(ムラ)が生じ、バラツキ(ム
ラ)のない所望の色調を有する表示色を実現することが
困難であるとともに、いわゆるホワイトバランスを調整
することが困難であるという問題があった。また、反射
膜を備えた反射型又は半透過反射型の液晶表示装置の場
合、この反射膜の存在に起因して表示色の色調にバラツ
キ(ムラ)が生じるという問題もあった。
However, in a conventional color filter substrate manufactured by using such a method for forming a light-shielding film, the same three-color material as the above-mentioned three-color color dot material is used. In this case, the stacking order is not uniform and different, and the color tones of the display colors are not uniform as a whole, causing variations (unevenness), and it is possible to realize a display color having a desired tone without variations (unevenness). There is a problem that it is difficult and it is difficult to adjust the so-called white balance. Further, in the case of a reflection type or semi-transmissive reflection type liquid crystal display device provided with a reflection film, there is also a problem that the color tone of the display color varies due to the presence of the reflection film.

【0007】本発明は、上述の問題点に鑑みてなされた
ものであって、携帯電話機、携帯型パーソナルコンピュ
ータ等の電子機器用の液晶表示装置等に用いられた場
合、バラツキ(ムラ)のない、所望の色調を有する表示
色を備えるとともに、ホワイトバランスの調整が容易な
装置を提供することができるカラーフィルタ基板及びそ
の製造方法、液晶表示パネル、液晶表示装置、並びに電
子機器を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and when used in a liquid crystal display device or the like for electronic equipment such as a mobile phone and a portable personal computer, there is no variation. Provided are a color filter substrate and a method for manufacturing the same, a liquid crystal display panel, a liquid crystal display device, and an electronic device that can provide a device having a display color having a desired color tone and easily adjusting white balance. To aim.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記の目的
を達成するため鋭意研究した結果、前述の遮光膜におけ
る、色ドットと色が同じ複数の材料の積層順序を一定な
ものに統一することにより、バラツキ(ムラ)がなく、
所望の色調を有する表示色を備えるものを得ることがで
きることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本
発明によって、基板と、前記基板上に配置された色ドッ
トと、前記基板上に配置されていて前記色ドット近傍に
配置された遮光膜とを備え、前記遮光膜は、前記基板上
に配置されていて前記色ドットと色が同じ第1着色層
と、前記第1着色層上に配置されていて前記第1着色層
と色が異なる第2着色層と、前記第2着色層上に配置さ
れていて前記第1着色層及び前記第2着色層と色が異な
る第3着色層とを含むことを特徴とするカラーフィルタ
基板が提供される。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for achieving the above object, the inventors of the present invention unified the order of stacking a plurality of materials having the same color as the color dot in the light shielding film. By doing, there is no variation (uniformity),
The present invention has been completed by finding that a display color having a desired color tone can be obtained. That is, according to the present invention, a substrate, a color dot arranged on the substrate, and a light-shielding film arranged on the substrate in the vicinity of the color dot are provided, and the light-shielding film is formed on the substrate. A first colored layer having the same color as the color dots, a second colored layer disposed on the first colored layer and having a different color from the first colored layer, and on the second colored layer A color filter substrate is provided which includes a third colored layer which is disposed in the first colored layer and which has a color different from that of the first colored layer and the second colored layer.

【0009】このように構成することによって、携帯電
話機、携帯型パーソナルコンピュータ等の電子機器用の
液晶表示装置等に用いられた場合、バラツキ(ムラ)の
ない、所望の色調を有する表示色を備えるとともに、ホ
ワイトバランスの調整が容易な装置を提供することがで
きる。
With such a configuration, when used in a liquid crystal display device for electronic equipment such as a mobile phone and a portable personal computer, a display color having a desired color tone without variation is provided. At the same time, it is possible to provide a device in which the white balance can be easily adjusted.

【0010】また、本発明のカラーフィルタ基板は、前
記基板上に配置された反射膜をさらに備えているもので
あってもよい。
Further, the color filter substrate of the present invention may further include a reflective film arranged on the substrate.

【0011】このように構成することによって、本発明
のカラーフィルタ基板を反射型の液晶表示装置に適用す
ることが可能になる。
With this structure, the color filter substrate of the present invention can be applied to a reflection type liquid crystal display device.

【0012】この場合、前記色ドットと平面的に重なっ
た重畳領域を有するとともに、前記反射膜の重畳領域の
少なくとも一部に開口部を有するものとしてもよい。
In this case, it is possible to have an overlapping region that overlaps the color dots in a plane and to have an opening in at least a part of the overlapping region of the reflective film.

【0013】このように構成することによって、本発明
のカラーフィルタ基板を反射型及び半透過反射型の液晶
表示装置に適用することができる。
With such a structure, the color filter substrate of the present invention can be applied to the reflection type and semi-transmissive reflection type liquid crystal display devices.

【0014】また、本発明のカラーフィルタ基板は、基
板と、前記基板上に配置されていてそれぞれ色が異なる
複数の色ドットと、前記複数の色ドットのそれぞれを囲
んでいる遮光膜とを備え、前記遮光膜は、前記基板上に
配置されていて前記複数の色ドットのうちいずれか1つ
の色ドットと色が同じ第1着色層と、前記第1着色層上
に配置されていて前記第1着色層と色が異なる第2着色
層と、前記第2着色層上に配置されていて前記第1着色
層及び前記第2着色層と色が異なる第3着色層とを含む
ことを特徴とするカラーフィルタ基板であってもよい。
Further, the color filter substrate of the present invention comprises a substrate, a plurality of color dots arranged on the substrate and having different colors, and a light shielding film surrounding each of the plurality of color dots. The light-shielding film is disposed on the substrate and has the same first colored layer as any one of the plurality of color dots, and the first colored layer is disposed on the first colored layer. A second coloring layer having a color different from that of the first coloring layer; and a third coloring layer arranged on the second coloring layer and having a different color from the first coloring layer and the second coloring layer. It may be a color filter substrate.

【0015】このように構成することによって、バラツ
キ(ムラ)のない、所望の色調を有する表示色を確実に
具備したカラーフィルタ基板を提供することができる。
With such a configuration, it is possible to provide a color filter substrate that surely has a display color having a desired color tone without variations (unevenness).

【0016】また、本発明のカラーフィルタ基板は、基
板と、前記基板上に配置されていてそれぞれ色が異なる
複数の色ドットと、前記基板上に配置された遮光膜とを
備え、前記複数の色ドットは、それぞれ接触して一方向
に配列しており、前記遮光膜は、前記複数の色ドットの
配列方向に沿った前記複数の色ドットの辺に接して配置
されるとともに、前記基板上に配置されていて前記複数
の色ドットのうちいずれか1つの色ドットと色が同じ第
1着色層と、前記第1着色層上に配置されていて前記第
1着色層と色が異なる第2着色層と、前記第2着色層上
に配置されていて前記第1着色層及び前記第2着色層と
色が異なる第3着色層とを含むことを特徴とするカラー
フィルタ基板であってもよい。
The color filter substrate of the present invention includes a substrate, a plurality of color dots arranged on the substrate and having different colors, and a light-shielding film arranged on the substrate. The color dots are in contact with each other and arranged in one direction, and the light-shielding film is arranged in contact with the sides of the plurality of color dots along the arrangement direction of the plurality of color dots, and on the substrate. A first colored layer having the same color as any one color dot of the plurality of color dots, and a second colored layer having a color different from that of the first color layer arranged on the first colored layer. The color filter substrate may include a colored layer and a third colored layer that is disposed on the second colored layer and has a different color from the first colored layer and the second colored layer. .

【0017】また、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法は、基板上の、色ドットが配置される色ドット領域
と、前記色ドット領域を囲む遮光領域とに第1着色層を
形成する工程と、前記遮光領域内の前記第1着色層上に
前記第1着色層と色が異なる第2着色層を形成する工程
と、前記第2着色層上に前記第1着色層及び前記第2着
色層と色が異なる第3着色層を形成する工程とを有する
ことを特徴とする。
Further, the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention comprises a step of forming a first colored layer on a color dot region in which color dots are arranged and a light shielding region surrounding the color dot region on the substrate. Forming a second colored layer having a color different from that of the first colored layer on the first colored layer in the light-shielding region, and the first colored layer and the second colored layer on the second colored layer And a step of forming a third colored layer having a different color.

【0018】このように構成することによって、バラツ
キ(ムラ)のない、所望の色調を有する表示色を具備し
たカラーフィルタ基板を効率的にかつ低コストで製造す
ることができる。
With this structure, it is possible to efficiently and inexpensively manufacture a color filter substrate having a display color having a desired color tone without variations.

【0019】また、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法は、基板上の、それぞれ1つの色ドットが配置され
る複数の色ドット領域と前記複数の色ドット領域のそれ
ぞれを囲む遮光領域とに第1着色層を形成する工程と、
前記複数の色ドット領域のうち前記第1着色層と色が異
なる色ドットが配置される色ドット領域から前記第1着
色層を除去する工程と、前記遮光領域内の前記第1着色
層上に前記第1着色層と色が異なる第2着色層を形成す
る工程と、前記第2着色層上に前記第1着色層及び前記
第2着色層と色が異なる第3着色層を形成する工程とを
有することを特徴とするものであってもよい。
Further, in the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention, a plurality of color dot regions in which one color dot is arranged respectively and a light shielding region surrounding each of the plurality of color dot regions are provided on the substrate. 1 forming a colored layer,
A step of removing the first colored layer from a color dot area in which color dots different in color from the first colored layer are arranged in the plurality of color dot areas; and Forming a second colored layer different in color from the first colored layer; forming a third colored layer different in color from the first colored layer and the second colored layer on the second colored layer; It may be characterized by having.

【0020】このように構成することによって、バラツ
キ(ムラ)のない、所望の色調を有する表示色を確実に
具備したカラーフィルタ基板を効率的にかつ低コストで
製造することができる。
With this structure, it is possible to efficiently and inexpensively manufacture a color filter substrate having a display color having a desired color tone without variations (unevenness).

【0021】また、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法は、基板上の、複数の色ドットがそれぞれ接続して
一方向に並んで配置される色ドット領域と前記色ドット
領域の前記複数の色ドットの配列方向に沿った前記複数
の色ドットの辺に接している遮光領域とに第1着色層を
形成する工程と、前記色ドット領域内のうち前記第1着
色層と色が異なる色ドットが配置される領域から前記第
1着色層を除去する工程と、前記遮光領域内の前記第1
着色層上に前記第1着色層と色が異なる第2着色層を形
成する工程と、前記第2着色層上に前記第1着色層及び
前記第2着色層と色が異なる第3着色層を形成する工程
とを有することを特徴とするものであってもよい。
In the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention, a plurality of color dots on the substrate are connected to each other and arranged in one direction, and the plurality of colors of the color dot regions are arranged. Forming a first colored layer in a light-shielding region in contact with sides of the plurality of color dots along the dot arrangement direction; and a color dot having a color different from that of the first colored layer in the color dot region. Removing the first colored layer from the area where the first colored layer is disposed, and the first colored layer in the light shielding area.
Forming a second colored layer having a color different from that of the first colored layer on the colored layer; and forming a third colored layer having a color different from that of the first colored layer and the second colored layer on the second colored layer. It may have a step of forming.

【0022】また、本発明の液晶表示パネルは、液晶を
挟持している一対の基板と、前記一対の基板のうち一方
の基板上に配置された色ドットと、前記一方の基板上に
配置されていて前記色ドット近傍に配置された遮光膜と
を備え、前記遮光膜は、前記一方の基板上に配置されて
いて前記色ドットと色が同じ第1着色層と、前記第1着
色層上に配置されていて前記第1着色層と色が異なる第
2着色層と、前記第2着色層上に配置されていて前記第
1着色層及び前記第2着色層と色が異なる第3着色層と
を含むことを特徴とする。
In the liquid crystal display panel of the present invention, a pair of substrates sandwiching the liquid crystal, color dots arranged on one of the pair of substrates, and color dots arranged on the one substrate. And a light-shielding film disposed in the vicinity of the color dots, the light-shielding film being disposed on the one substrate and having the same color as the color dots, and on the first color layer. A second colored layer having a different color from that of the first colored layer and a third colored layer having a color different from that of the first colored layer and the second colored layer disposed on the second colored layer. It is characterized by including and.

【0023】このように構成することによって、バラツ
キ(ムラ)のない、所望の色調を有する表示色を具備し
た液晶表示パネルを提供することができる。
With such a constitution, it is possible to provide a liquid crystal display panel having a display color having a desired color tone without variations.

【0024】また、本発明の液晶表示装置は、上述の液
晶表示パネルを備えたことを特徴とする。
The liquid crystal display device of the present invention is characterized by including the above-mentioned liquid crystal display panel.

【0025】このように構成することによって、バラツ
キ(ムラ)のない、所望の色調を有する表示色を具備し
た液晶表示装置を提供することができる。
With this structure, it is possible to provide a liquid crystal display device having a display color having a desired color tone without variations.

【0026】また、本発明の電子機器は、上述の液晶表
示装置を備えている。
The electronic equipment of the present invention includes the above-mentioned liquid crystal display device.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明のカラーフィルタ基
板及びその製造方法、液晶表示パネル、液晶表示装置、
並びに電子機器の実施の形態を図面を参照しつつ、具体
的に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a color filter substrate of the present invention and a method for manufacturing the same, a liquid crystal display panel, a liquid crystal display device,
In addition, embodiments of the electronic device will be specifically described with reference to the drawings.

【0028】図1は、本発明のカラーフィルタ基板の一
の実施の形態を模式的に示す説明図で、図1(a)は平
面図、図1(b)は断面図、図1(c)は、その一部拡
大図である。図1(a)、(b)、(c)に示すよう
に、本発明のカラーフィルタ基板10(断面構造)は、
基板1と、基板1上に配置された色ドット3(図1
(a)、(b)においては、色ドット3の色として、R
(赤)を用いた場合を示す)と、基板1上に配置されて
いて色ドット3を囲んでいる遮光膜2とを備え、遮光膜
2は、基板1上に配置されていて色ドット3(R
(赤))と色が同じ第1着色層21(R(赤))と、第
1着色層21(R(赤))上に配置されていて第1着色
層21(R(赤))と色が異なる第2着色層22(G
(緑))と、第2着色層22(G(緑))上に配置され
ていて第1着色層21(R(赤))及び第2着色層22
(G(緑))と色が異なる第3着色層23(B(青))
とを含んでいる。
FIG. 1 is an explanatory view schematically showing an embodiment of a color filter substrate of the present invention. FIG. 1 (a) is a plan view, FIG. 1 (b) is a sectional view, and FIG. 1 (c). ) Is a partially enlarged view thereof. As shown in FIGS. 1A, 1B, and 1C, the color filter substrate 10 (cross-sectional structure) of the present invention is
The substrate 1 and the color dots 3 arranged on the substrate 1 (see FIG.
In (a) and (b), the color of the color dot 3 is R
(Showing the case of using red) and a light shielding film 2 arranged on the substrate 1 and surrounding the color dots 3. The light shielding film 2 is arranged on the substrate 1 and has the color dots 3 (R
(Red)) and a first colored layer 21 (R (red)) having the same color, and a first colored layer 21 (R (red)) disposed on the first colored layer 21 (R (red)). The second colored layer 22 (G
(Green)), and the first colored layer 21 (R (red)) and the second colored layer 22 disposed on the second colored layer 22 (G (green)).
Third colored layer 23 (B (blue)) different in color from (G (green))
Includes and.

【0029】なお、図1においては色ドット3及び第1
着色層21の色としてR(赤)を例にとって説明した
が、R(赤)に限定されることはない。すなわち、第1
着色層21、第2着色層22及び第3着色層23は、そ
れぞれ赤色、緑色及び青色のいずれかの色であればよ
く、また、第1着色層21、第2着色層22及び第3着
色層23は、それぞれシアン、マゼンタ及びイエローの
いずれかの色であってもよい。
In FIG. 1, the color dots 3 and the first
Although R (red) is described as an example of the color of the colored layer 21, the color is not limited to R (red). That is, the first
The colored layer 21, the second colored layer 22, and the third colored layer 23 may be any colors of red, green, and blue, respectively, and the first colored layer 21, the second colored layer 22, and the third colored layer. Layer 23 may be any of the colors cyan, magenta and yellow, respectively.

【0030】この場合、図2に示すように、基板1上に
配置された反射膜4をさらに備えているものであっても
よく、また、反射膜4は、色ドット3と平面的に重なっ
た重畳領域Wを有するとともに、反射膜4の重畳領域W
の少なくとも一部に開口部5を有するものであってもよ
い。
In this case, as shown in FIG. 2, a reflective film 4 may be further provided on the substrate 1, and the reflective film 4 planarly overlaps the color dots 3. And a superposed area W of the reflective film 4.
The opening 5 may be provided in at least a part of the above.

【0031】また、第1着色層21は第2着色層22よ
りも厚いことが好ましく、具体的には、第1着色層21
は第2着色層22よりも1.5〜2.5倍厚いことが好
ましい。
Further, the first colored layer 21 is preferably thicker than the second colored layer 22, and specifically, the first colored layer 21.
Is preferably 1.5 to 2.5 times thicker than the second colored layer 22.

【0032】さらに、第1着色層21は第3着色層23
よりも厚いことが好ましく、具体的には、第1着色層2
1は第3着色層23よりも1.5〜2.5倍厚いことが
好ましい。
Further, the first colored layer 21 is the third colored layer 23.
Is preferably thicker than the first colored layer 2
1 is preferably 1.5 to 2.5 times thicker than the third colored layer 23.

【0033】図3は、本発明のカラーフィルタ基板の他
の実施の形態を模式的に示す説明図であり、図3(a)
は平面図、図3(b)は断面図、図3(c)はその一部
拡大図である。図3(a)、(b)、(c)に示すよう
に、本発明のカラーフィルタ基板は、基板1と、基板1
上に配置されていてそれぞれ色が異なる複数の色ドット
31、32、33と、複数の色ドット31、32、33
のそれぞれを囲んでいる遮光膜2とを備え、遮光膜2
は、基板1上に配置されていて複数の色ドット31、3
2、33のうちいずれか1つの色ドットと色が同じ第1
着色層21と、第1着色層21上に配置されていて第1
着色層21と色が異なる第2着色層22と、第2着色層
22上に配置されていて第1着色層21及び第2着色層
22と色が異なる第3着色層23とを含んでいるもので
あってもよい。
FIG. 3 is an explanatory view schematically showing another embodiment of the color filter substrate of the present invention, and FIG.
Is a plan view, FIG. 3B is a cross-sectional view, and FIG. 3C is a partially enlarged view thereof. As shown in FIGS. 3A, 3B, and 3C, the color filter substrate of the present invention includes a substrate 1 and a substrate 1.
A plurality of color dots 31, 32, 33 arranged above and different in color, and a plurality of color dots 31, 32, 33
And a light-shielding film 2 surrounding each of the
Is a plurality of color dots 31, 3 arranged on the substrate 1.
The same color as any one of the color dots
The coloring layer 21 and the first coloring layer 21 are arranged on the first coloring layer 21.
It includes a second colored layer 22 having a color different from that of the colored layer 21, and a third colored layer 23 arranged on the second colored layer 22 and having a different color from the first colored layer 21 and the second colored layer 22. It may be one.

【0034】なお、図3においては色ドット31及び第
1着色層21の色としてR(赤)を例にとって説明した
が、R(赤)に限定されることはない。すなわち、第1
着色層21、第2着色層22及び第3着色層23は、そ
れぞれ赤色、緑色及び青色のいずれかの色であればよ
く、また、第1着色層21、第2着色層22及び第3着
色層23は、それぞれシアン、マゼンタ及びイエローの
いずれかの色であってもよい。
Although R (red) is described as an example of the color of the color dot 31 and the first colored layer 21 in FIG. 3, the color is not limited to R (red). That is, the first
The colored layer 21, the second colored layer 22, and the third colored layer 23 may be any colors of red, green, and blue, respectively, and the first colored layer 21, the second colored layer 22, and the third colored layer. Layer 23 may be any of the colors cyan, magenta and yellow, respectively.

【0035】この場合、図4に示すように、基板1上に
配置された反射膜4をさらに備えているものであっても
よく、また、反射膜4は、色ドット31、32、33と
平面的に重なった重畳領域Wを有するとともに、反射膜
4の重畳領域Wの少なくとも一部に開口部5を有するも
のであってもよい。
In this case, as shown in FIG. 4, the reflection film 4 may be further provided on the substrate 1, and the reflection film 4 includes color dots 31, 32, 33. It may have a superposed region W that overlaps in a plane, and may have an opening 5 in at least a part of the superposed region W of the reflective film 4.

【0036】また、第1着色層21は第2着色層22よ
りも厚いことが好ましく、具体的には、第1着色層21
は第2着色層22よりも1.5〜2.5倍厚いことが好
ましい。
The first colored layer 21 is preferably thicker than the second colored layer 22, and more specifically, the first colored layer 21.
Is preferably 1.5 to 2.5 times thicker than the second colored layer 22.

【0037】さらに、第1着色層21は第3着色層23
よりも厚いことが好ましく、具体的には、第1着色層2
1は第3着色層23よりも1.5〜2.5倍厚いことが
好ましい
Further, the first colored layer 21 is the third colored layer 23.
Is preferably thicker than the first colored layer 2
1 is preferably 1.5 to 2.5 times thicker than the third colored layer 23.

【0038】図5は、本発明のカラーフィルタ基板の他
の実施の形態を模式的に示す説明図であり、図5(a)
は平面図、図5(b)は断面図、図5(c)はその一部
拡大図である。図5(a)、(b)、(c)に示すよう
に、本発明のカラーフィルタ基板は、基板1と、基板1
上に配置されていてそれぞれ色が異なる複数の色ドット
31、32、33と、基板1上に配置された遮光膜2と
を備え、複数の色ドット31、32、33は、それぞれ
接触して一方向に配列しており、遮光膜2は、複数の色
ドット31、32、33の配列方向に沿った複数の色ド
ット31、32、33の辺に接して配置されるととも
に、基板1上に配置されていて複数の色ドット31、3
2、33のうちいずれか1つの色ドット31、32、3
3と色が同じ第1着色層21と、第1着色層21上に配
置されていて第1着色層21と色が異なる第2着色層2
2と、第2着色層22上に配置されていて第1着色層2
1及び第2着色層22と色が異なる第3着色層23とを
含むものであってもよい。
FIG. 5 is an explanatory view schematically showing another embodiment of the color filter substrate of the present invention, which is shown in FIG.
Is a plan view, FIG. 5B is a sectional view, and FIG. 5C is a partially enlarged view thereof. As shown in FIGS. 5A, 5B, and 5C, the color filter substrate of the present invention includes a substrate 1 and a substrate 1.
A plurality of color dots 31, 32, 33 arranged above and different in color and a light shielding film 2 arranged on the substrate 1 are provided, and the plurality of color dots 31, 32, 33 are in contact with each other. The light-shielding films 2 are arranged in one direction, and the light-shielding film 2 is arranged in contact with the sides of the plurality of color dots 31, 32, 33 along the arrangement direction of the plurality of color dots 31, 32, 33 and on the substrate 1. Arranged in a plurality of color dots 31, 3
Any one of the color dots 2, 32, 3
3 is the same as the first colored layer 21, and the second colored layer 2 is disposed on the first colored layer 21 and has a different color from the first colored layer 21.
2 and the first colored layer 2 disposed on the second colored layer 22.
It may include the first and second colored layers 22 and the third colored layer 23 having a different color.

【0039】なお、図5においては色ドット31及び第
1着色層21の色としてR(赤)を例にとって説明した
が、R(赤)に限定されることはない。すなわち、第1
着色層21、第2着色層22及び第3着色層23は、そ
れぞれ赤色、緑色及び青色のいずれかの色であればよ
く、また、第1着色層21、第2着色層22及び第3着
色層23は、それぞれシアン、マゼンタ及びイエローの
いずれかの色であってもよい。
Although R (red) has been described as an example of the color of the color dot 31 and the first colored layer 21 in FIG. 5, the color is not limited to R (red). That is, the first
The colored layer 21, the second colored layer 22, and the third colored layer 23 may be any colors of red, green, and blue, respectively, and the first colored layer 21, the second colored layer 22, and the third colored layer. Layer 23 may be any of the colors cyan, magenta and yellow, respectively.

【0040】この場合、図6に示すように、基板1上に
配置された反射膜4をさらに備えているものであっても
よく、また、反射膜4は、色ドット31、32、33と
平面的に重なった重畳領域Wを有するとともに、反射膜
4の重畳領域Wの少なくとも一部に開口部5を有するも
のであってもよい。
In this case, as shown in FIG. 6, the reflective film 4 may be further provided on the substrate 1, and the reflective film 4 includes color dots 31, 32, 33. It may have a superposed region W that overlaps in a plane, and may have an opening 5 in at least a part of the superposed region W of the reflective film 4.

【0041】また、第1着色層21は第2着色層22よ
りも厚いことが好ましく、具体的には、第1着色層21
は第2着色層22よりも1.5〜2.5倍厚いことが好
ましい。
The first colored layer 21 is preferably thicker than the second colored layer 22, and more specifically, the first colored layer 21.
Is preferably 1.5 to 2.5 times thicker than the second colored layer 22.

【0042】さらに、第1着色層21は第3着色層23
よりも厚いことが好ましく、具体的には、第1着色層2
1は第3着色層23よりも1.5〜2.5倍厚いことが
好ましい。
Furthermore, the first colored layer 21 is the third colored layer 23.
Is preferably thicker than the first colored layer 2
1 is preferably 1.5 to 2.5 times thicker than the third colored layer 23.

【0043】また、上述の色ドット3(31、32、3
3)の配列パターンとしては、図13に示すような、例
えば、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等の
パターンを挙げることができる。
The color dots 3 (31, 32, 3) described above are also used.
As the arrangement pattern of 3), for example, a pattern such as a stripe arrangement, a delta arrangement, a mosaic arrangement, etc. as shown in FIG. 13 can be mentioned.

【0044】図7(a)に示すように、基板1上に遮光
膜2及び色ドット3が形成された本発明のカラーフィル
タ基板の大きさは、例えば、対角寸法が1.8インチで
ある。また、一個の色ドット3の大きさは、例えば、3
0μm×100μmである。また、各色ドット3の間の
間隔、いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、75μ
mである。
As shown in FIG. 7A, the size of the color filter substrate of the present invention in which the light shielding film 2 and the color dots 3 are formed on the substrate 1 is, for example, a diagonal dimension of 1.8 inches. is there. The size of one color dot 3 is, for example, 3
It is 0 μm × 100 μm. Further, the interval between the dots 3 of each color, that is, the pitch between elements is, for example, 75 μm.
m.

【0045】本発明のカラーフィルタ基板をフルカラー
表示のための光学要素として用いる場合には、例えば、
R(赤)、G(緑)及びB(青)の三個の色ドット3を
一つのユニットとして一つの画素(ピクセル)を形成
し、一画素内のR(赤)、G(緑)及びB(青)のいず
れか一つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過さ
せることにより(透過型)、光を選択的に反射させるこ
とにより(反射型)、又は光を選択的に反射及び通過さ
せることにより(半透過反射型)、フルカラー表示を行
うことができる。この場合、遮光膜2は色ドット3以外
の部分から光が漏れるのを防止して、コントラストを高
めることができる。
When the color filter substrate of the present invention is used as an optical element for full color display, for example,
One pixel (pixel) is formed by using three color dots 3 of R (red), G (green) and B (blue) as one unit, and R (red), G (green) and By selectively passing the light through any one of B (blue) or a combination thereof (transmissive type), by selectively reflecting the light (reflective type), or selectively reflecting the light, Full color display can be performed by passing the light (semi-transmissive reflection type). In this case, the light-shielding film 2 can prevent light from leaking from portions other than the color dots 3 and enhance the contrast.

【0046】図7(a)に示すように、カラーフィルタ
基板10は、一般に、図7(b)に示すような大面積の
マザー基材12上に作製することができる。具体的に
は、まず、マザー基材12内に設定された複数のカラー
フィルタ形成領域11のそれぞれの表面にカラーフィル
タ基板10の一個分のパターンを形成する。さらに、そ
れらのカラーフィルタ形成領域11の周りに切断用の溝
を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基材12を
切断することにより、個々のカラーフィルタ基板10を
形成することができる。切断は、共通電極基板を貼り合
せて一対のガラス基板を形成した後であってもよい。
As shown in FIG. 7A, the color filter substrate 10 can be generally formed on the mother substrate 12 having a large area as shown in FIG. 7B. Specifically, first, a pattern for one color filter substrate 10 is formed on each surface of the plurality of color filter formation regions 11 set in the mother base material 12. Further, by forming grooves for cutting around the color filter forming regions 11 and further cutting the mother base material 12 along the grooves, the individual color filter substrates 10 can be formed. The cutting may be performed after the common electrode substrates are bonded to each other to form a pair of glass substrates.

【0047】以下、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法の一の実施の形態を、さらに具体的に説明する。
Hereinafter, one embodiment of the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention will be described more specifically.

【0048】図8は、カラーフィルタ基板の製造方法を
工程順に模式的に示している。なお、図8においては、
反射型又は半透過反射型にも適用される反射膜を備える
とともに、複数の色ドットをそれぞれ格子状に囲んだ遮
光膜を備えたカラーフィルタ基板の製造方法について説
明する。
FIG. 8 schematically shows a method of manufacturing a color filter substrate in the order of steps. In addition, in FIG.
A method of manufacturing a color filter substrate that includes a reflective film that is also applied to a reflective type or a semi-transmissive reflective type and that includes a light shielding film that surrounds a plurality of color dots in a grid pattern will be described.

【0049】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の
一の実施の形態は、図8(a)に示すように、まず、基
板1上に、後述する色ドット3と平面的に重なった重畳
領域Wを形成するとともに、反射膜4の重畳領域Wの少
なくとも一部に開口部5を形成するようにして(図8
(b)参照)、開口部5を有する反射膜4を形成する
(工程P1:反射膜の形成工程)。この場合、反射膜4
としては、アルミニウム、銀、アルミニウム及び銀の少
なくともいずれかを含む合金、又はこれらのチタン、窒
化チタン、モリブデン、タンタル等との積層膜からなる
ものを挙げることができる。その形成方法としては、任
意の成膜手法(例えば、スパッタリング)によって前述
の材料を100〜200μm程度の均一な厚さで一様に
形成した後、適宜のパターニング手法(例えば、フォト
リソグラフィ法、エッチング法)によって所定の開口部
5を有するパターンに形成する。
In one embodiment of the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention, as shown in FIG. 8 (a), first, on a substrate 1, an overlapping region which overlaps with color dots 3 which will be described later in plan view is formed. While forming W, the opening 5 is formed in at least a part of the overlapping region W of the reflective film 4 (see FIG. 8).
(Refer to (b)), the reflective film 4 which has the opening part 5 is formed (process P1: reflective film formation process). In this case, the reflection film 4
Examples of the material include aluminum, silver, an alloy containing at least one of aluminum and silver, or a laminated film of titanium, titanium nitride, molybdenum, tantalum, or the like. As a method of forming the same, after the above material is uniformly formed to have a uniform thickness of about 100 to 200 μm by an arbitrary film forming method (eg, sputtering), an appropriate patterning method (eg, photolithography method, etching method) is used. Method) to form a pattern having a predetermined opening 5.

【0050】次いで、図8(b)に示すように、色ドッ
ト31が配置される色ドット領域(この場合、重畳領域
Wと同じ)と、色ドット領域を囲む遮光領域Pとに第1
着色層21(本実施の形態においてはR(赤)を用い
る)を形成する(工程P2:色ドット(R)及び第1着
色層の形成工程)。さらに具体的には、所定の色(この
場合はR(赤))の樹脂材料(例えば、アクリル樹脂等
の感光性樹脂)を用い、また、所定の成膜手法(例え
ば、スピンコート法やインクジェット法等)及び所定の
パターニング手法(例えば、フォトリソグラフィ法等)
を用いることによって、第1着色層21を、矢印B方向
から見て所定の厚さ(この場合、後述するように色ドッ
ト31と同じ色の第1着色層21の厚さを、第2着色層
22及び第3着色層23の厚さよりも厚く形成する)の
格子状パターンに形成するとともに、格子状パターンの
格子穴の部分(色ドット31が形成される領域、すなわ
ち色ドット領域W1に対応)に同一の(同一色の)樹脂
材料によって色ドット31を形成する。
Next, as shown in FIG. 8B, the color dot area in which the color dots 31 are arranged (in this case, the same as the overlapping area W) and the light-shielding area P surrounding the color dot area are first formed.
The colored layer 21 (R (red) is used in the present embodiment) is formed (process P2: color dot (R) and first colored layer forming process). More specifically, a resin material (for example, a photosensitive resin such as acrylic resin) of a predetermined color (in this case, R (red)) is used, and a predetermined film forming method (for example, a spin coating method or an inkjet method) is used. Method) and a predetermined patterning method (eg, photolithography method)
The first colored layer 21 has a predetermined thickness when viewed from the direction of the arrow B (in this case, the thickness of the first colored layer 21 of the same color as the color dot 31 is changed to the second colored layer as described later). The layer 22 and the third colored layer 23 are formed to have a grid pattern thicker than the thickness of the layer 22 and the third colored layer 23, and the grid holes of the grid pattern correspond to the area where the color dots 31 are formed, that is, the color dot area W1. ), The color dots 31 are formed of the same (same color) resin material.

【0051】この場合、第1着色層21及び色ドット3
1の形成は、同時に行うことが製造効率上好ましい。第
1着色層21によって形成される個々の色ドット領域
(W1に相当)の矢印B方向から見た場合の平面寸法
は、例えば、30μm×100μm程度に形成される。
In this case, the first colored layer 21 and the color dots 3
It is preferable to form 1 at the same time in terms of production efficiency. The plane size of each color dot region (corresponding to W1) formed by the first colored layer 21 when viewed in the direction of the arrow B is, for example, about 30 μm × 100 μm.

【0052】次いで、図8(c)に示すように、遮光領
域P内の第1着色層21上に第1着色層21と色が異な
る第2着色層22(例えば、G(緑))を形成するとと
もに、色ドット32を形成する格子状パターンの格子穴
の部分(色ドット32が形成される領域、すなわち色ド
ット領域W2に対応)に同一の(同一色の)樹脂材料に
よって色ドット32を形成する(工程P3:色ドット
(G)及び第2着色層の形成工程)。この工程P3は、
工程P2の場合と同様に行うことができる。
Then, as shown in FIG. 8C, a second colored layer 22 (for example, G (green)) having a color different from that of the first colored layer 21 is formed on the first colored layer 21 in the light-shielding region P. While forming the color dots 32, the color dots 32 are made of the same (same color) resin material in the part of the grid hole of the grid pattern (the area where the color dots 32 are formed, that is, the color dot area W2) of the grid pattern. (Step P3: Step of forming color dots (G) and second colored layer). This step P3 is
It can be performed in the same manner as in the case of step P2.

【0053】次いで、図8(d)に示すように、第2着
色層22上に第1着色層21及び第2着色層22と色が
異なる第3着色層23(例えば、B(青))を形成する
とともに、色ドット33を形成する格子状パターンの格
子穴の部分(色ドット33が形成される領域、すなわち
色ドット領域W3に対応)に同一の(同一色の)樹脂材
料によって色ドット33を形成する(工程P4:色ドッ
ト(B)及び第3着色層の形成工程)。この工程P4
は、工程P2の場合と同様に行うことができる。
Next, as shown in FIG. 8D, a third colored layer 23 (for example, B (blue)) having a color different from that of the first colored layer 21 and the second colored layer 22 is formed on the second colored layer 22. Color dots formed by the same (same color) resin material in the portion of the grid hole of the grid pattern that forms the color dots 33 (corresponding to the area where the color dots 33 are formed, that is, the color dot area W3). 33 is formed (process P4: process of forming color dots (B) and third colored layer). This process P4
Can be performed in the same manner as in step P2.

【0054】第2着色層22を形成する工程(工程P
3:色ドット(G)及び第2着色層の形成工程)では、
第2着色層22を第1着色層21よりも薄く形成するこ
とが、好ましい。具体的には、第2着色層22は、第1
着色層21が第2着色層22の1.5〜2.5倍の厚さ
となるように形成することが好ましい。
Step of forming the second colored layer 22 (step P
3: In the process of forming the color dots (G) and the second colored layer),
It is preferable to form the second colored layer 22 thinner than the first colored layer 21. Specifically, the second colored layer 22 is the first
The colored layer 21 is preferably formed to have a thickness 1.5 to 2.5 times as large as that of the second colored layer 22.

【0055】また、第3着色層23を形成する工程(工
程P4:色ドット(B)及び第3着色層の形成工程)で
は、第3着色層23を第1着色層21よりも薄く形成す
ることが好ましい。具体的には、第3着色層23は、第
1着色層21が第3着色層23の1.5〜2.5倍の厚
さとなるように形成することが好ましい。
In the step of forming the third colored layer 23 (step P4: step of forming color dots (B) and third colored layer), the third colored layer 23 is formed thinner than the first colored layer 21. It is preferable. Specifically, the third colored layer 23 is preferably formed so that the first colored layer 21 has a thickness 1.5 to 2.5 times that of the third colored layer 23.

【0056】この場合、着色層21、22、23の重ね
合わせ部において、第1着色層21と他の着色層22、
23との膜厚が、レベリングにより変化することを利用
してもよい。
In this case, in the overlapping portion of the colored layers 21, 22, 23, the first colored layer 21 and the other colored layers 22,
It may be possible to use that the film thickness with 23 changes due to the leveling.

【0057】なお、図8においては色ドット31及び第
1着色層21の色としてR(赤)を例にとって説明した
が、R(赤)に限定されることはない。すなわち、第1
着色層21、第2着色層22及び第3着色層23は、そ
れぞれ赤色、緑色及び青色のいずれかの色であればよ
く、また、第1着色層21、第2着色層22及び第3着
色層23は、それぞれシアン、マゼンタ及びイエローの
いずれかの色であってもよい。
In FIG. 8, R (red) is described as an example of the color of the color dot 31 and the first colored layer 21, but the color is not limited to R (red). That is, the first
The colored layer 21, the second colored layer 22, and the third colored layer 23 may be any colors of red, green, and blue, respectively, and the first colored layer 21, the second colored layer 22, and the third colored layer. Layer 23 may be any of the colors cyan, magenta and yellow, respectively.

【0058】工程P1〜工程P4において、インクジェ
ット法を用いて、R(赤)、G(緑)及びB(青)の、
着色層21、22、23及び色ドット31、32、33
を形成するには、インクジェットヘッドを移動させてマ
ザー基材12の表面を走査させながら、インクジェット
ヘッドに設けたノズルから色ドット材料を図13のいず
れかに示す配列パターンに対応した所定のタイミングで
インク滴として吐出してマザー基材12上に付着させ
る。そして、焼成処理、紫外線照射処理、又は真空乾燥
処理により色ドット材料を乾燥、固化させて着色層2
1、22、23及び色ドット31、32、33を形成す
る。この処理を各着色層21、22、23及び色ドット
31、32、33ごとに繰り返すことによって、バラツ
キ(ムラ)のない、所望の色調を有する表示を実現する
ことが可能な、着色層21、22、23及び色ドット3
1、32、33のパターンを形成することができる。
In steps P1 to P4, R (red), G (green) and B (blue)
Colored layers 21, 22, 23 and color dots 31, 32, 33
In order to form, the inkjet head is moved to scan the surface of the mother substrate 12, and the color dot material is supplied from the nozzles provided in the inkjet head at a predetermined timing corresponding to the array pattern shown in any of FIG. It is ejected as an ink droplet and attached onto the mother substrate 12. Then, the colored dot material is dried and solidified by baking treatment, ultraviolet irradiation treatment, or vacuum drying treatment to obtain the colored layer 2.
1, 22, 23 and color dots 31, 32, 33 are formed. By repeating this process for each of the colored layers 21, 22, 23 and the color dots 31, 32, 33, it is possible to realize a display having a desired color tone without variations (unevenness). 22, 23 and color dot 3
1, 32, 33 patterns can be formed.

【0059】なお、インクジェット法を用いる場合、着
色層21、22、23及び色ドット31、32、33の
各色ごとにインクジェットヘッドの走査を繰り返して着
色層21、22、23及び色ドット31、32、33を
形成してもよく、一つのインクジェットヘッドにR
(赤)、G(緑)及びB(青)3色のノズルを配備して
おいて一回の走査によってR(赤)、G(緑)及びB
(青)3色を同時に形成してもよい。
When the inkjet method is used, the scanning of the inkjet head is repeated for each color of the colored layers 21, 22, 23 and the color dots 31, 32, 33 to repeat the colored layers 21, 22, 23 and the color dots 31, 32. , 33 may be formed, and R can be formed on one inkjet head.
Nozzles for three colors (red), G (green) and B (blue) are provided, and R (red), G (green) and B are obtained by one scan.
The three colors (blue) may be formed at the same time.

【0060】以下、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法の他の実施の形態を、具体的に説明する。
Another embodiment of the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention will be specifically described below.

【0061】図9は、カラーフィルタ基板の製造方法を
工程順に模式的に示す平面図及び断面図である。なお、
図9においては、反射型又は半透過反射型にも適用され
る反射膜を備えるとともに、複数の色ドットをそれぞれ
格子状に囲んだ遮光膜を備えたカラーフィルタ基板の製
造方法について説明する。
FIG. 9 is a plan view and a sectional view schematically showing the method of manufacturing a color filter substrate in the order of steps. In addition,
In FIG. 9, a method of manufacturing a color filter substrate that includes a reflective film that is also applied to a reflective type or a semi-transmissive reflective type and that includes a light shielding film that surrounds a plurality of color dots in a grid pattern will be described.

【0062】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の
他の実施の形態は、図9(a)に示すように、まず、基
板1上に、後述する色ドット3と平面的に重なった重畳
領域Wを形成するとともに、反射膜4の重畳領域Wの少
なくとも一部に開口部5を形成するようにして(図9
(b)参照)、開口部5を有する反射膜4を形成する
(工程S1:反射膜の形成工程)。
In another embodiment of the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention, as shown in FIG. 9 (a), first, on a substrate 1, a superposed region overlapping with color dots 3 which will be described later in plan view. While forming W, the opening 5 is formed in at least a part of the overlapping region W of the reflective film 4 (see FIG. 9).
(Refer to (b)), the reflective film 4 which has the opening part 5 is formed (process S1: reflective film formation process).

【0063】次いで、図9(b)に示すように、基板1
上の、それぞれ1つの色ドットが配置される複数の色ド
ット領域W4、W5、W6と複数の色ドット領域W4、
W5、W6のそれぞれを囲む遮光領域P4とに第1着色
層21(例えば、R(赤))を形成する(工程S2:第
1着色層の形成工程)。
Then, as shown in FIG. 9B, the substrate 1
A plurality of color dot areas W4, W5, W6 and a plurality of color dot areas W4 in which one color dot is arranged, respectively.
The first colored layer 21 (for example, R (red)) is formed in the light-shielding region P4 surrounding each of W5 and W6 (step S2: step of forming first colored layer).

【0064】次いで、図9(c)に示すように、複数の
色ドット領域W4、W5、W6のうち第1着色層21と
色が異なる色ドットが配置される色ドット領域W5、W
6から第1着色層21を除去して、第1着色層21を形
成するとともに、色ドット領域W4に色ドット31を形
成する(工程S3:色ドット(R)及び第1着色層の形
成工程)。
Next, as shown in FIG. 9C, among the plurality of color dot areas W4, W5, W6, color dot areas W5, W in which color dots different in color from the first colored layer 21 are arranged.
The first colored layer 21 is removed from 6 to form the first colored layer 21, and the color dots 31 are formed in the color dot region W4 (step S3: color dot (R) and first colored layer forming step). ).

【0065】次いで、図10(d)に示すように、遮光
領域P4内の第1着色層21上に第1着色層21と色が
異なる第2着色層22を形成するとともに、色ドット領
域W5に色ドット32を形成する(工程S4:色ドット
(G)及び第2着色層の形成工程)。
Next, as shown in FIG. 10D, a second colored layer 22 having a color different from that of the first colored layer 21 is formed on the first colored layer 21 in the light-shielded area P4, and the color dot area W5 is formed. The color dots 32 are formed on (step S4: color dot (G) and second colored layer forming step).

【0066】次いで、図10(e)に示すように、遮光
領域P4内の第2着色層22上に第1着色層21及び第
2着色層22と色が異なる第3着色層23を形成すると
ともに、色ドット領域W6に色ドット33を形成する
(工程S5:色ドット(B)及び第3着色層の形成工
程)。
Next, as shown in FIG. 10E, a third colored layer 23 having a color different from that of the first colored layer 21 and the second colored layer 22 is formed on the second colored layer 22 in the light-shielding region P4. At the same time, the color dots 33 are formed in the color dot region W6 (step S5: color dot (B) and third colored layer forming step).

【0067】このようにして、反射型又は半透過反射型
にも適用される反射膜を備えるとともに、複数の色ドッ
トをそれぞれ格子状に囲んだ遮光膜を備えたカラーフィ
ルタ基板を製造することができる。なお、本実施の形態
で用いる材料及び各種技術等は、図8に示す製造方法の
場合と同様である。また、図5に示すカラーフィルタ基
板も同様にして製造することができる。
In this way, it is possible to manufacture a color filter substrate that includes a reflective film that is also applied to a reflective type or a semi-transmissive reflective type and that includes a light-shielding film that surrounds a plurality of color dots in a grid pattern. it can. The materials and various techniques used in this embodiment are the same as in the case of the manufacturing method shown in FIG. Further, the color filter substrate shown in FIG. 5 can be manufactured in the same manner.

【0068】なお、上述のようにして得られたカラーフ
ィルタ基板10を液晶表示装置のカラー表示のために用
いる場合、カラーフィルタ基板10の表面には電極や配
向膜等がさらに積層されることになる。このような場
合、電極や配向膜等を積層する前にマザー基材12(図
7参照)を切断して個々のカラーフィルタ基板10を切
り出してしまうと、その後の電極等の形成工程が非常に
面倒になる。このような場合には、マザー基材12上で
カラーフィルタ基板10が完成した後に、直ぐにマザー
基材12を切断してしまうのではなく、電極形成や配向
膜形成等の必要な付加工程が終了した後にマザー基材1
2を切断することが好ましい。
When the color filter substrate 10 obtained as described above is used for color display of a liquid crystal display device, electrodes, alignment films and the like are further laminated on the surface of the color filter substrate 10. Become. In such a case, if the mother base material 12 (see FIG. 7) is cut and individual color filter substrates 10 are cut out before laminating the electrodes, the alignment film, etc., the subsequent steps for forming the electrodes, etc. Be troublesome. In such a case, the mother base material 12 is not cut immediately after the color filter substrate 10 is completed on the mother base material 12, but the necessary additional steps such as electrode formation and alignment film formation are completed. After doing mother base material 1
It is preferable to cut 2.

【0069】本発明の液晶表示パネルは、上述のカラー
フィルタ基板10を備えてなることを特徴とする。すな
わち、液晶を挟持している一対の基板と、一対の基板の
うち一方の基板上に配置された色ドットと、一方の基板
上に配置されていて色ドット近傍に配置された遮光膜と
を備え、遮光膜は、一方の基板上に配置されていて色ド
ットと色が同じ第1着色層と、第1着色層上に配置され
ていて第1着色層と色が異なる第2着色層と、第2着色
層上に配置されていて第1着色層及び第2着色層と色が
異なる第3着色層とを含むことを特徴とする。詳細は、
以下の液晶表示装置のところで説明する。
The liquid crystal display panel of the present invention is characterized by including the color filter substrate 10 described above. That is, a pair of substrates sandwiching the liquid crystal, color dots arranged on one substrate of the pair of substrates, and a light-shielding film arranged on one substrate in the vicinity of the color dots are provided. The light-shielding film includes a first colored layer which is disposed on one of the substrates and has the same color as the color dots, and a second colored layer which is disposed on the first colored layer and has a color different from that of the first colored layer. And a third colored layer which is disposed on the second colored layer and has a different color from the first colored layer and the second colored layer. Detail is,
The liquid crystal display device will be described below.

【0070】本発明の液晶表示装置は、上述の液晶表示
パネルを備えてなることを特徴とする。本発明の液晶表
示装置に用いられる液晶としては、例えば、STN(Su
perTwisted Nematic)液晶又はTN(Twisted Nemati
c)液晶であることが好ましい。
A liquid crystal display device of the present invention is characterized by including the above-mentioned liquid crystal display panel. Examples of the liquid crystal used in the liquid crystal display device of the present invention include STN (Su
perTwisted Nematic liquid crystal or TN (Twisted Nemati)
c) It is preferably liquid crystal.

【0071】以下、図11及び図12(図11のX−X
線における液晶表示装置の断面構造を示す)を用いて本
発明の液晶表示装置をさらに具体的に説明する。なお、
図11及び図12に示す液晶表示装置は、単純マトリク
ス方式でフルカラー表示を行う半透過反射方式の液晶表
示装置である。
11 and 12 (XX-X in FIG. 11).
The cross-sectional structure of the liquid crystal display device taken along the line) will be used to more specifically describe the liquid crystal display device of the present invention. In addition,
The liquid crystal display device shown in FIGS. 11 and 12 is a transflective liquid crystal display device that performs full-color display by a simple matrix system.

【0072】図11に示すように、液晶表示装置101
は、液晶パネル102に半導体チップとしての液晶駆動
用IC103a及び103bを実装し、配線接続要素と
してのFPC(Flexible Printed Circuit)104を液
晶パネル102に接続し、さらに液晶パネル102の裏
面側に照明装置106をバックライトとして設けること
によって形成される。
As shown in FIG. 11, the liquid crystal display device 101
The liquid crystal driving ICs 103a and 103b as semiconductor chips are mounted on the liquid crystal panel 102, an FPC (Flexible Printed Circuit) 104 as a wiring connection element is connected to the liquid crystal panel 102, and a lighting device is provided on the back side of the liquid crystal panel 102. It is formed by providing 106 as a backlight.

【0073】液晶パネル102は、第1基板107aと
第2基板107bとをシール材108によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材108は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第1基
板107a又は第2基板107bの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材10
8の内部には、図12に示すように、導電性材料によっ
て球状又は円筒状に形成された導通材109が分散状態
で含まれる。
The liquid crystal panel 102 is formed by bonding the first substrate 107a and the second substrate 107b with the sealing material 108. The sealing material 108 is formed by, for example, screen-printing or the like and attaching an epoxy resin to the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b in an annular shape. In addition, the sealing material 10
As shown in FIG. 12, a conductive material 109 formed of a conductive material in a spherical shape or a cylindrical shape is contained in the interior of the conductive material 8 in a dispersed state.

【0074】図12に示すように、第1基板107a
は、透明なガラスや、透明なプラスチック等によって形
成された板状の基材111aを有する。この基材111
aの内側表面(図12の上側表面)には反射膜112が
形成されてもよい。その上に絶縁膜113が積層され、
その上に第1電極114aが矢印D方向から見てストラ
イプ状(図11参照)に形成され、さらにその上に配向
膜116aが形成される。また、基材111aの外側表
面(図12の下側表面)には偏光板117aが貼着等に
よって装着される。
As shown in FIG. 12, the first substrate 107a
Has a plate-like base material 111a formed of transparent glass, transparent plastic, or the like. This base material 111
A reflective film 112 may be formed on the inner surface (the upper surface in FIG. 12) of a. An insulating film 113 is laminated on it,
A first electrode 114a is formed thereon in a stripe shape (see FIG. 11) when viewed in the direction of arrow D, and an alignment film 116a is further formed thereon. A polarizing plate 117a is attached to the outer surface (lower surface of FIG. 12) of the base material 111a by sticking or the like.

【0075】図11においては第1電極114aの配列
を分かり易く示すために、それらのストライプ間隔を実
際よりも大幅に広く描いており、よって、第1電極11
4aの本数を少なく描いているが、実際には、第1電極
114aはより多数本が基材111a上に形成される。
In FIG. 11, in order to show the arrangement of the first electrodes 114a in an easy-to-understand manner, the stripe intervals between them are drawn much wider than they actually are.
Although a small number of 4a is drawn, in reality, a larger number of first electrodes 114a are formed on the base material 111a.

【0076】図12に示すように、第2基板107bは
透明なガラスや、透明なプラスチック等によって形成さ
れた板状の基材111bを有する。この基材111bの
内側表面(図12における下側表面)には、前述の構成
を有するカラーフィルタ118が形成され、その上に第
2電極114bが第1電極114aと直交する方向へ矢
印D方向から見てストライプ状(図11参照)に形成さ
れ、さらにその上に配向膜116bが形成される。
As shown in FIG. 12, the second substrate 107b has a plate-shaped base material 111b made of transparent glass or transparent plastic. The color filter 118 having the above-described configuration is formed on the inner surface (lower surface in FIG. 12) of the base material 111b, and the second electrode 114b is formed on the color filter 118 in a direction orthogonal to the first electrode 114a in the arrow D direction. It is formed in a stripe shape (see FIG. 11) when viewed from above, and an alignment film 116b is further formed thereon.

【0077】また、基材111bの外側表面(図12の
上側表面)には偏光板117bが貼着等によって装着さ
れる。
A polarizing plate 117b is attached to the outer surface (upper surface in FIG. 12) of the substrate 111b by sticking or the like.

【0078】図12に示すように、第1基板107a、
第2基板107b及びシール材108によって囲まれる
間隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えば、ST
N(Super Twisted Nematic)液晶Lが封入されてい
る。第1基板107a又は第2基板107bの内側表面
には微小で球形のスペーサ119が多数分散され、これ
らのスペーサ119がセルギャップ内に存在することに
よりそのセルギャップの厚さが均一に維持される。
As shown in FIG. 12, the first substrate 107a,
A liquid crystal, for example, ST, is provided in a so-called cell gap surrounded by the second substrate 107b and the sealing material 108.
N (Super Twisted Nematic) liquid crystal L is enclosed. A large number of minute spherical spacers 119 are dispersed on the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b, and the presence of these spacers 119 in the cell gap maintains the thickness of the cell gap uniform. .

【0079】第1電極114aと第2電極114bは互
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図12の矢
印D方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が一つの画
素(ピクセル)を構成する。カラーフィルタ118は、
前述の、三層の着色層からなる遮光膜を有するととも
に、R(赤)、G(緑)及びB(青)の各色ドットを矢
印D方向から見て所定のパターン、例えば、ストライプ
配列、デルタ配列、モザイク配列等のパターンで配列さ
せることによって形成されている。上記の一つの画素
(ピクセル)はそれらR(赤)、G(緑)及びB(青)
の各一つずつの色ドットに対応しており、そしてR
(赤)、G(緑)及びB(青)の3層の色ドットが一つ
のユニットになって一画素(ピクセル)が構成される。
The first electrode 114a and the second electrode 114b are arranged orthogonally to each other, and their intersections are arranged in a dot matrix when viewed from the direction of arrow D in FIG. Then, each intersection of the dot matrix forms one pixel. The color filter 118 is
In addition to having the above-mentioned light-shielding film composed of three colored layers, the R (red), G (green), and B (blue) color dots are viewed in the direction of arrow D and have a predetermined pattern, for example, stripe arrangement, delta. It is formed by arranging in a pattern such as an array or a mosaic array. The above-mentioned one pixel (pixel) is those R (red), G (green) and B (blue)
Each one corresponds to a color dot, and R
Three layers of color dots of (red), G (green) and B (blue) form one unit to form one pixel.

【0080】ドット・マトリクス状に配列される複数の
画素(ピクセル)を選択的に反射又は透過させて発光さ
せることにより、液晶パネル102の第2基板107b
の外側に文字、数字等の像が表示される。このようにし
て像が表示される領域が有効画素領域であり、図11及
び図12において矢印Vによって示される平面的な矩形
領域が有効表示領域となっている。
The second substrate 107b of the liquid crystal panel 102 is formed by selectively reflecting or transmitting a plurality of pixels arranged in a dot matrix to emit light.
Images such as letters and numbers are displayed outside the. The area in which the image is displayed in this way is the effective pixel area, and the planar rectangular area indicated by the arrow V in FIGS. 11 and 12 is the effective display area.

【0081】図12に示す反射膜112は、例えば、A
g系合金、Al系合金等の光反射性材料によって形成さ
れ、第1電極114aと第2電極114bとの交差点で
ある各画素(ピクセル)に対応する位置に開口121が
形成されている。結果的に、開口121は図12の矢印
D方向から見て、各画素(ピクセル)と同じドット・マ
トリクス状に配列されている。
The reflection film 112 shown in FIG.
The opening 121 is formed of a light-reflective material such as a g-based alloy or an Al-based alloy, and has an opening 121 at a position corresponding to each pixel (pixel) which is an intersection of the first electrode 114a and the second electrode 114b. As a result, the openings 121 are arranged in the same dot matrix as each pixel (pixel) when viewed from the direction of arrow D in FIG.

【0082】第1電極114a及び第2電極114b
は、例えば、透明導電材であるITOによって形成され
る。また、配向膜116a及び116bは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜116a及び116bがラビ
ング処理を受けることにより、第1基板107a及び第
2基板107bの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。
First electrode 114a and second electrode 114b
Is formed of, for example, ITO which is a transparent conductive material. The alignment films 116a and 116b are formed by attaching a polyimide resin in a film shape having a uniform thickness. By subjecting these alignment films 116a and 116b to a rubbing treatment, the initial alignment of liquid crystal molecules on the surfaces of the first substrate 107a and the second substrate 107b is determined.

【0083】図11に示すように、第1基板107a
は、第2基板107bよりも広い面積に形成されてお
り、これらの基板をシール材108によって貼り合わせ
たとき、第1基板107aは第2基板107bの外側へ
張り出す基板張出し部107cを有する。そして、この
基板張出し部107cには、第1電極114aから延び
出る引出し配線114c、シール材108の内部に存在
する導通材109(図12参照)を介して第2基板10
7b上の第2電極114bと導通する引出し配線114
d、液晶駆動用IC103aの入力用バンプ、すなわち
入力用端子に接続される金属配線114e、そして液晶
駆動用IC103bの入力用バンプに接続される金属配
線114f等の各種の配線が適切なパターンで形成され
る。
As shown in FIG. 11, the first substrate 107a
Is formed in a larger area than the second substrate 107b, and when these substrates are bonded together by the sealing material 108, the first substrate 107a has a substrate overhanging portion 107c that projects to the outside of the second substrate 107b. Then, in the substrate overhanging portion 107c, the second substrate 10 is provided through the lead wiring 114c extending from the first electrode 114a and the conductive material 109 (see FIG. 12) existing inside the sealing material 108.
Lead-out wiring 114 electrically connected to the second electrode 114b on 7b
d, various wirings such as an input bump of the liquid crystal driving IC 103a, that is, a metal wiring 114e connected to an input terminal, and a metal wiring 114f connected to an input bump of the liquid crystal driving IC 103b are formed in appropriate patterns. To be done.

【0084】第1電極114aから延びる引出し配線1
14c及び第2電極114bに導通する引出し配線11
4dはそれらの電極と同じ材料であるITO等の導電性
酸化物によって形成される。また、液晶駆動用IC10
3a及び103bの入力側の配線である金属配線114
e及び114fは電気抵抗値の低い金属材料、例えば、
Ag系合金によって形成される。Ag系合金は、主とし
てAgを含み、付随してPd及びCuを含む合金、例え
ば、Ag 98%、Pd 1%、Cu 1%から成る合金
である。
Lead-out wiring 1 extending from the first electrode 114a
Lead-out wiring 11 electrically connected to 14c and the second electrode 114b
4d is formed of a conductive oxide such as ITO which is the same material as those electrodes. Further, the liquid crystal driving IC 10
Metal wiring 114 which is the wiring on the input side of 3a and 103b
e and 114f are metal materials having a low electric resistance value, for example,
It is formed of an Ag-based alloy. The Ag-based alloy is an alloy mainly containing Ag and accompanying Pd and Cu, for example, an alloy consisting of Ag 98%, Pd 1%, and Cu 1%.

【0085】液晶駆動用IC103a及び液晶駆動用I
C103bは、ACF(Anisotropic Conductive Fil
m:異方性導電膜)122によって基板張出し部107
cの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施の
形態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造
の、いわゆるCOG(Chip On Glass)方式の液晶パネ
ルとして形成されている。このCOG方式の実装構造に
おいては、ACF122の内部に含まれる導電粒子によ
って、液晶駆動用IC103a及び103bの入力側バ
ンプと金属配線114e及び114fとが導電接続さ
れ、液晶駆動用IC103a及び103bの出力側バン
プと引出し配線114c及び114dとが導電接続され
る。
Liquid crystal driving IC 103a and liquid crystal driving I
C103b is an ACF (Anisotropic Conductive Fil)
(m: anisotropic conductive film) 122, the substrate overhang 107
It is mounted by being adhered to the surface of c. That is, in the present embodiment, a so-called COG (Chip On Glass) type liquid crystal panel having a structure in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate is formed. In this COG type mounting structure, the conductive particles contained inside the ACF 122 conductively connect the input side bumps of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b to the metal wirings 114e and 114f, and the output side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b. The bumps and the lead wires 114c and 114d are conductively connected.

【0086】図11に示すように、FPC104は、可
撓性の樹脂フィルム123と、チップ部品124を含ん
で構成された回路126と、金属配線端子127とを有
する。回路126は樹脂フィルム123の表面に半田付
けその他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子127はAg系合金、Cr、Cuその
他の導電材料によって形成される。FPC104のうち
金属配線端子127が形成された部分は、第1基板10
7aのうち金属配線114e及び金属配線114fが形
成された部分にACF122によって接続される。そし
て、ACF122の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線114e及び114fとFPC側
の金属配線端子127とが導通する。
As shown in FIG. 11, the FPC 104 has a flexible resin film 123, a circuit 126 including a chip part 124, and a metal wiring terminal 127. The circuit 126 is directly mounted on the surface of the resin film 123 by soldering or other conductive connection method. Further, the metal wiring terminal 127 is made of Ag-based alloy, Cr, Cu or other conductive material. The portion of the FPC 104 where the metal wiring terminal 127 is formed is the first substrate 10
ACF 122 is connected to the portion of 7a where the metal wiring 114e and the metal wiring 114f are formed. The metal particles 114e and 114f on the substrate side and the metal wiring terminal 127 on the FPC side are electrically connected by the action of the conductive particles contained inside the ACF 122.

【0087】FPC104の反対側の辺端部には外部接
続端子131が形成され、この外部接続端子131が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて液晶駆動用IC103a
及び103bが駆動され、第1電極114a及び第2電
極114bの一方に走査信号が供給され、他方にデータ
信号が供給される。これにより、有効表示領域V内に配
列されたドット・マトリクス状の画素(ピクセル)が個
々のピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Lの
配向が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
An external connection terminal 131 is formed at the edge portion on the opposite side of the FPC 104, and this external connection terminal 131 is connected to an external circuit (not shown). Then, based on the signal transmitted from the external circuit, the liquid crystal driving IC 103a
And 103b are driven, and the scanning signal is supplied to one of the first electrode 114a and the second electrode 114b, and the data signal is supplied to the other. As a result, the dot-matrix pixels (pixels) arranged in the effective display area V are voltage-controlled for each individual pixel, and as a result, the orientation of the liquid crystal L is controlled for each individual pixel pixel.

【0088】図11に示すいわゆるバックライトとして
機能する照明装置106は、図12に示すように、アク
リル樹脂等によって構成された導光体132と、その導
光体132の光出射面132bに設けられた拡散シート
133と、導光体132の光出射面132bの反対面に
設けられた反射シート134と、発光源としてのLED
(Light Emitting Diode)136とを有する。
As shown in FIG. 12, the illuminating device 106 functioning as a so-called backlight shown in FIG. 11 is provided on a light guide body 132 made of acrylic resin or the like and a light emitting surface 132b of the light guide body 132. The diffusion sheet 133, the reflection sheet 134 provided on the opposite surface of the light emitting surface 132b of the light guide body 132, and the LED as the light emitting source.
(Light Emitting Diode) 136.

【0089】LED136は、LED基板137に支持
され、そのLED基板137は、例えば、導光体132
と一体に形成された支持部(図示せず)に装着される。
LED基板137が支持部の所定位置に装着されること
により、LED136が導光体132の側辺端面である
光取込み面132aに対向する位置に置かれる。なお、
符号138は液晶パネル102に加わる衝撃を緩衝する
ための緩衝材を示している。
The LED 136 is supported by the LED substrate 137, and the LED substrate 137 is, for example, the light guide body 132.
It is attached to a support portion (not shown) formed integrally with the.
By mounting the LED board 137 at a predetermined position on the support portion, the LED 136 is placed at a position facing the light-trapping surface 132 a, which is the side end surface of the light guide body 132. In addition,
Reference numeral 138 indicates a cushioning material for cushioning the impact applied to the liquid crystal panel 102.

【0090】LED136が発光すると、その光は光取
込み面132aから取り込まれて導光体132の内部へ
導かれ、反射シート134や導光体132の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面132bから拡散シート
133を通して外部へ平面光として出射する。
When the LED 136 emits light, the light is taken in from the light receiving surface 132a and guided to the inside of the light guide body 132, and is propagated while being reflected by the reflection sheet 134 and the wall surface of the light guide body 132 while propagating. It is emitted from the surface 132b through the diffusion sheet 133 to the outside as plane light.

【0091】本発明の液晶表示装置101は以上のよう
に構成されているので、太陽光、室内光等の外部光が十
分に明るい場合には、図12に示すように、第2基板1
07b側から外部光が液晶パネル102の内部へ取り込
まれ、その光が液晶Lを通過した後に反射膜112で反
射して再び液晶Lへ供給される。液晶Lはこれを挟持す
る電極114a及び114bによってR(赤)、G
(緑)及びB(青)の画素(ピクセル)ごとに配向制御
されており、よって、液晶Lへ供給された光は画素(ピ
クセル)ごとに変調され、その変調によって偏光板11
7bを通過する光と、通過できない光とによって液晶パ
ネル102の外部に文字、数字等の像が表示される。こ
れにより、反射型の表示が行われる。
Since the liquid crystal display device 101 of the present invention is constructed as described above, when the external light such as sunlight and room light is sufficiently bright, as shown in FIG.
External light is taken into the liquid crystal panel 102 from the 07b side, passes through the liquid crystal L, is reflected by the reflective film 112, and is supplied to the liquid crystal L again. The liquid crystal L is R (red), G by the electrodes 114a and 114b that sandwich it.
The orientation is controlled for each pixel (pixel) of (green) and B (blue), and thus the light supplied to the liquid crystal L is modulated for each pixel (pixel), and the polarization causes the polarization plate 11 to be modulated.
Images such as letters and numbers are displayed on the outside of the liquid crystal panel 102 by the light that passes through 7b and the light that cannot pass through. As a result, reflective display is performed.

【0092】他方、外部光の光量が十分に得られない場
合には、LED136が発光して導光体132の光出射
面132bから平面光が出射され、その光が反射膜11
2に形成された開口121を通して液晶Lへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Lによって画素(ピクセル)ご
とに変調され、これにより、外部へ像が表示される。こ
れにより、透過型の表示が行われる。
On the other hand, when the amount of external light is not sufficiently obtained, the LED 136 emits light and plane light is emitted from the light emitting surface 132b of the light guide 132, and the light is reflected.
It is supplied to the liquid crystal L through the opening 121 formed in 2. At this time, similarly to the reflection type display, the supplied light is modulated for each pixel by the liquid crystal L whose orientation is controlled, whereby an image is displayed to the outside. Thereby, transmissive display is performed.

【0093】いずれの場合であっても、本発明の液晶表
示装置101は、前述の構成のカラーフィルタ基板を有
しているため、その表示色は、バラツキ(ムラ)のな
い、所望の色調を帯びたものとなる。従って、このよう
な液晶表示装置101を備えた、本発明の電子機器(例
えば、携帯電話機、携帯型パーソナルコンピュータ等)
は、表示にバラツキ(ムラ)がなく、また、ホワイトバ
ランスの調整が容易なものとなる。
In any case, since the liquid crystal display device 101 of the present invention has the color filter substrate having the above-mentioned structure, its display color has a desired color tone without variation (uniformity). It will be tinged. Therefore, the electronic apparatus of the present invention including such a liquid crystal display device 101 (for example, a mobile phone, a portable personal computer, etc.)
Has no unevenness in the display, and the white balance can be easily adjusted.

【0094】[0094]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明によっ
て、携帯電話機、携帯型パーソナルコンピュータ等の電
子機器用の液晶表示装置等に用いられた場合、バラツキ
(ムラ)のない、所望の色調を有する表示色を備えると
ともに、ホワイトバランスの調整が容易な装置を提供す
ることができるカラーフィルタ基板及びその製造方法、
液晶表示パネル、液晶表示装置、並びに電子機器を提供
することができる。
As described above, according to the present invention, when it is used in a liquid crystal display device for electronic equipment such as a mobile phone and a portable personal computer, a desired color tone without variations is obtained. A color filter substrate having a display color having the above and capable of providing a device with easy white balance adjustment, and a manufacturing method thereof,
A liquid crystal display panel, a liquid crystal display device, and an electronic device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のカラーフィルタ基板の一の実施の形態
を模式的に示す説明図であり、図1(a)は平面図、図
1(b)は断面図、図1(c)はその部分拡大図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory view schematically showing an embodiment of a color filter substrate of the present invention, FIG. 1 (a) is a plan view, FIG. 1 (b) is a sectional view, and FIG. 1 (c) is FIG.

【図2】図1に示すカラーフィルタ基板が、さらに反射
膜を備えた場合を模式的に示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a case where the color filter substrate shown in FIG. 1 is further provided with a reflective film.

【図3】本発明のカラーフィルタ基板の他の実施の形態
を模式的に示す説明図であり、図3(a)は平面図、図
3(b)は断面図、図3(c)はその部分拡大図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory view schematically showing another embodiment of the color filter substrate of the present invention, FIG. 3 (a) is a plan view, FIG. 3 (b) is a sectional view, and FIG. FIG.

【図4】本発明のカラーフィルタ基板の他の実施の形態
を模式的に示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory view schematically showing another embodiment of the color filter substrate of the present invention.

【図5】本発明のカラーフィルタ基板の他の実施の形態
を模式的に示す説明図であり、図5(a)は平面図、図
5(b)は断面図、図5(c)はその部分拡大図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory view schematically showing another embodiment of the color filter substrate of the present invention, FIG. 5 (a) is a plan view, FIG. 5 (b) is a sectional view, and FIG. 5 (c) is FIG.

【図6】図5に示すカラーフィルタ基板が、さらに反射
膜を備えた場合を模式的に示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a case where the color filter substrate shown in FIG. 5 is further provided with a reflective film.

【図7】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によっ
て得られるカラーフィルタ基板を模式的に示す平面図
で、(a)は(b)の一部拡大図で、切り出し後の個々
のカラーフィルタ基板を示し、(b)はカラーフィルタ
基板に切り出す前のマザーボード全体を示す。
FIG. 7 is a plan view schematically showing a color filter substrate obtained by the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention, (a) is a partially enlarged view of (b), and individual color filter substrates after being cut out. And (b) shows the entire motherboard before being cut out into a color filter substrate.

【図8】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一の
実施の形態を製造工程順に模式的に示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of a method of manufacturing a color filter substrate of the present invention in the order of manufacturing steps.

【図9】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の他の
実施の形態を製造工程順に模式的に示す平面図及び断面
図である。
FIG. 9 is a plan view and a cross-sectional view schematically showing another embodiment of the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention in the order of manufacturing steps.

【図10】図9に示す工程以降のカラーフィルタ基板の
製造方法を工程順に模式的に示す平面図及び断面図であ
る。
FIG. 10 is a plan view and a cross-sectional view schematically showing the method of manufacturing the color filter substrate after the step shown in FIG. 9 in the order of steps.

【図11】本発明の液晶表示装置の一の実施の形態を模
式的に示す分解斜視図である。
FIG. 11 is an exploded perspective view schematically showing an embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.

【図12】図11のX−X線における液晶表示装置の断
面構造を示す断面図である。
12 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the liquid crystal display device taken along line XX of FIG.

【図13】カラーフィルタにおけるR(赤)、G(緑)
及びB(青)三色の絵素の配列例を示す平面図である。
FIG. 13: R (red) and G (green) in a color filter
3 is a plan view showing an arrangement example of B (blue) three-color picture elements. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板 2…遮光膜 3…色ドット 4…反射膜 5…開口部 10…カラーフィルタ基板 11…カラーフィルタ形成領域 12…マザー基材 21…第1着色層 22…第2着色層 23…第3着色層 31…色ドット(赤) 32…色ドット(緑) 33…色ドット(青) 101…液晶表示装置 102…液晶パネル 107a,107b…基板 111a,111b…基材 114a,114b…電極 118…カラーフィルタ L…液晶 1 ... Substrate 2 ... Shading film 3 ... Color dots 4 ... Reflective film 5 ... Opening 10 ... Color filter substrate 11 ... Color filter forming area 12 ... Mother base material 21 ... First colored layer 22 ... Second colored layer 23 ... Third colored layer 31 ... Color dots (red) 32 ... Color dots (green) 33 ... Color dots (blue) 101 ... Liquid crystal display device 102 ... Liquid crystal panel 107a, 107b ... Substrate 111a, 111b ... Base material 114a, 114b ... Electrodes 118 ... Color filter L ... Liquid crystal

Claims (41)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、 前記基板上に配置された色ドットと、 前記基板上に配置されていて前記色ドット近傍に配置さ
れた遮光膜とを備え、 前記遮光膜は、前記基板上に配置されていて前記色ドッ
トと色が同じ第1着色層と、前記第1着色層上に配置さ
れていて前記第1着色層と色が異なる第2着色層と、前
記第2着色層上に配置されていて前記第1着色層及び前
記第2着色層と色が異なる第3着色層とを含むことを特
徴とするカラーフィルタ基板。
1. A substrate, a color dot arranged on the substrate, and a light-shielding film arranged on the substrate in the vicinity of the color dot, wherein the light-shielding film is formed on the substrate. A first colored layer which is arranged and has the same color as the color dots, a second colored layer which is arranged on the first colored layer and has a different color from the first colored layer, and on the second colored layer A color filter substrate, which is disposed and includes a third colored layer having a color different from that of the first colored layer and the second colored layer.
【請求項2】 前記基板上に配置された反射膜をさらに
備えていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフ
ィルタ基板。
2. The color filter substrate according to claim 1, further comprising a reflective film disposed on the substrate.
【請求項3】 前記反射膜は、前記色ドットと平面的に
重なった重畳領域を有するとともに、前記反射膜の重畳
領域の少なくとも一部に開口部を有することを特徴とす
る請求項2に記載のカラーフィルタ基板。
3. The reflective film has an overlapping region that overlaps with the color dots in a plane, and has an opening in at least a part of the overlapping region of the reflective film. Color filter substrate.
【請求項4】 基板と、 前記基板上に配置されていてそれぞれ色が異なる複数の
色ドットと、 前記複数の色ドットのそれぞれを囲んでいる遮光膜とを
備え、 前記遮光膜は、前記基板上に配置されていて前記複数の
色ドットのうちいずれか1つの色ドットと色が同じ第1
着色層と、前記第1着色層上に配置されていて前記第1
着色層と色が異なる第2着色層と、前記第2着色層上に
配置されていて前記第1着色層及び前記第2着色層と色
が異なる第3着色層とを含むことを特徴とするカラーフ
ィルタ基板。
4. A substrate, a plurality of color dots arranged on the substrate and having different colors, and a light-shielding film surrounding each of the plurality of color dots, wherein the light-shielding film is the substrate. A first color element disposed above and having the same color as one of the color dots.
A colored layer and the first colored layer disposed on the first colored layer;
A second coloring layer having a color different from that of the coloring layer; and a third coloring layer arranged on the second coloring layer and having a different color from the first coloring layer and the second coloring layer. Color filter substrate.
【請求項5】 基板と、 前記基板上に配置されていてそれぞれ色が異なる複数の
色ドットと、 前記基板上に配置された遮光膜とを備え、 前記複数の色ドットは、それぞれ接触して一方向に配列
しており、 前記遮光膜は、前記複数の色ドットの配列方向に沿った
前記複数の色ドットの辺に接して配置されるとともに、
前記基板上に配置されていて前記複数の色ドットのうち
いずれか1つの色ドットと色が同じ第1着色層と、前記
第1着色層上に配置されていて前記第1着色層と色が異
なる第2着色層と、前記第2着色層上に配置されていて
前記第1着色層及び前記第2着色層と色が異なる第3着
色層とを含むことを特徴とするカラーフィルタ基板。
5. A substrate, a plurality of color dots arranged on the substrate and having different colors, and a light-shielding film arranged on the substrate, wherein the plurality of color dots are in contact with each other. Are arranged in one direction, the light-shielding film is arranged in contact with the sides of the plurality of color dots along the arrangement direction of the plurality of color dots,
A first colored layer disposed on the substrate and having the same color as any one of the plurality of color dots; and a first colored layer disposed on the first colored layer and having the same color as the first colored layer. A color filter substrate comprising: a different second coloring layer; and a third coloring layer disposed on the second coloring layer and having a different color from the first coloring layer and the second coloring layer.
【請求項6】 前記基板上に配置された反射膜をさらに
備えていることを特徴とする請求項4又は請求項5に記
載のカラーフィルタ基板。
6. The color filter substrate according to claim 4, further comprising a reflective film disposed on the substrate.
【請求項7】 前記反射膜は、前記色ドットと平面的に
重なった重畳領域を有するとともに、前記反射膜の重畳
領域の少なくとも一部に開口部を有することを特徴とす
る請求項6に記載のカラーフィルタ基板。
7. The reflection film has an overlapping region that overlaps with the color dots in a plane, and has an opening in at least a part of the overlapping region of the reflecting film. Color filter substrate.
【請求項8】 前記第1着色層は前記第2着色層よりも
厚いことを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか
に記載のカラーフィルタ基板。
8. The color filter substrate according to claim 1, wherein the first colored layer is thicker than the second colored layer.
【請求項9】 前記第1着色層は前記第2着色層よりも
1.5〜2.5倍厚いことを特徴とする請求項8に記載
のカラーフィルタ基板。
9. The color filter substrate of claim 8, wherein the first colored layer is 1.5 to 2.5 times thicker than the second colored layer.
【請求項10】 前記第1着色層は前記第3着色層より
も厚いことを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれ
かに記載のカラーフィルタ基板。
10. The color filter substrate according to claim 1, wherein the first colored layer is thicker than the third colored layer.
【請求項11】 前記第1着色層は前記第3着色層より
も1.5〜2.5倍厚いことを特徴とする請求項10に
記載のカラーフィルタ基板。
11. The color filter substrate according to claim 10, wherein the first colored layer is 1.5 to 2.5 times thicker than the third colored layer.
【請求項12】 前記第1着色層、前記第2着色層及び
前記第3着色層は、それぞれ赤、緑及び青のいずれかの
色であることを特徴とする請求項1乃至請求項11のい
ずれかに記載のカラーフィルタ基板。
12. The first coloring layer, the second coloring layer, and the third coloring layer have a color of any one of red, green, and blue, respectively. The color filter substrate as described in any one.
【請求項13】 前記第1着色層、前記第2着色層及び
前記第3着色層は、それぞれシアン、マゼンタ及びイエ
ローのいずれかの色であることを特徴とする請求項1乃
至請求項11のいずれかに記載のカラーフィルタ基板。
13. The first coloring layer, the second coloring layer, and the third coloring layer each have a color of cyan, magenta, or yellow, respectively. The color filter substrate as described in any one.
【請求項14】 基板上の、色ドットが配置される色ド
ット領域と、前記色ドット領域を囲む遮光領域とに第1
着色層を形成する工程と、 前記遮光領域内の前記第1着色層上に前記第1着色層と
色が異なる第2着色層を形成する工程と、 前記第2着色層上に前記第1着色層及び前記第2着色層
と色が異なる第3着色層を形成する工程とを有すること
を特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
14. A first color dot area on the substrate, in which color dots are arranged, and a light-shielding area surrounding the color dot area.
A step of forming a colored layer; a step of forming a second colored layer having a color different from that of the first colored layer on the first colored layer in the light shielding area; and a step of forming the first colored layer on the second colored layer. And a step of forming a third colored layer having a color different from that of the second colored layer and the second colored layer.
【請求項15】 前記基板上に反射膜を形成する工程を
さらに有し、前記第1着色層を形成する工程では、前記
第1着色層を前記反射膜上に形成することを特徴とする
請求項14に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
15. The method further comprises the step of forming a reflective film on the substrate, and in the step of forming the first colored layer, the first colored layer is formed on the reflective film. Item 15. A method for manufacturing a color filter substrate according to Item 14.
【請求項16】 前記反射膜を形成する工程では、前記
色ドットと平面的に重なった重畳領域を形成するととも
に、前記反射膜の重畳領域の少なくとも一部に開口部を
形成することを特徴とする請求項15に記載のカラーフ
ィルタ基板の製造方法。
16. The step of forming the reflective film includes forming an overlapping region that overlaps the color dots in a plane and forming an opening in at least a part of the overlapping region of the reflective film. The method for manufacturing a color filter substrate according to claim 15.
【請求項17】 基板上の、それぞれ1つの色ドットが
配置される複数の色ドット領域と前記複数の色ドット領
域のそれぞれを囲む遮光領域とに第1着色層を形成する
工程と、 前記複数の色ドット領域のうち前記第1着色層と色が異
なる色ドットが配置される色ドット領域から前記第1着
色層を除去する工程と、 前記遮光領域内の前記第1着色層上に前記第1着色層と
色が異なる第2着色層を形成する工程と、 前記第2着色層上に前記第1着色層及び前記第2着色層
と色が異なる第3着色層を形成する工程とを有すること
を特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
17. A step of forming a first colored layer on a substrate on a plurality of color dot areas in which one color dot is arranged respectively and on a light shielding area surrounding each of the plurality of color dot areas, Removing the first colored layer from a color dot area in which color dots having a color different from that of the first colored layer in the color dot area are disposed on the first colored layer in the light shielding area. A step of forming a second colored layer having a color different from that of the first colored layer; and a step of forming a third colored layer having a color different from that of the first colored layer and the second colored layer on the second colored layer A method for manufacturing a color filter substrate, comprising:
【請求項18】 基板上の、複数の色ドットがそれぞれ
接続して一方向に並んで配置される色ドット領域と前記
色ドット領域の前記複数の色ドットの配列方向に沿った
前記複数の色ドットの辺に接している遮光領域とに第1
着色層を形成する工程と、 前記色ドット領域内のうち前記第1着色層と色が異なる
色ドットが配置される領域から前記第1着色層を除去す
る工程と、 前記遮光領域内の前記第1着色層上に前記第1着色層と
色が異なる第2着色層を形成する工程と、 前記第2着色層上に前記第1着色層及び前記第2着色層
と色が異なる第3着色層を形成する工程とを有すること
を特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
18. A color dot area on a substrate, in which a plurality of color dots are connected to each other and are arranged side by side in one direction, and the plurality of colors along an arrangement direction of the plurality of color dots in the color dot area. First in the light-shielding area in contact with the side of the dot
A step of forming a colored layer; a step of removing the first colored layer from an area in the color dot area where a color dot having a color different from that of the first colored layer is arranged; Forming a second colored layer having a color different from that of the first colored layer on a first colored layer; and a third colored layer having a color different from that of the first colored layer and the second colored layer on the second colored layer And a step of forming a color filter substrate.
【請求項19】 前記基板上に反射膜を形成する工程を
さらに有し、前記第1着色層を形成する工程では、前記
第1着色層を前記反射膜上に形成することを特徴とする
請求項17又は請求項18に記載のカラーフィルタ基板
の製造方法。
19. The method further comprising the step of forming a reflective film on the substrate, wherein in the step of forming the first colored layer, the first colored layer is formed on the reflective film. Item 19. A method of manufacturing a color filter substrate according to item 17 or 18.
【請求項20】 前記反射膜を形成する工程では、前記
色ドットと平面的に重なった重畳領域を形成するととも
に、前記反射膜の重畳領域の少なくとも一部に開口部を
形成することを特徴とする請求項19に記載のカラーフ
ィルタ基板の製造方法。
20. In the step of forming the reflective film, an overlapping region that planarly overlaps with the color dot is formed, and an opening is formed in at least a part of the overlapping region of the reflective film. 20. The method for manufacturing a color filter substrate according to claim 19.
【請求項21】 前記第2着色層を形成する工程では、
前記第2着色層を前記第1着色層よりも薄く形成するこ
とを特徴とする請求項14乃至請求項20のいずれかに
記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
21. In the step of forming the second colored layer,
21. The method of manufacturing a color filter substrate according to claim 14, wherein the second colored layer is formed thinner than the first colored layer.
【請求項22】 前記第2着色層は、前記第1着色層が
前記第2着色層の1.5〜2.5倍の厚さとなるように
形成することを特徴とする請求項21に記載のカラーフ
ィルタ基板の製造方法。
22. The second colored layer is formed so that the first colored layer has a thickness 1.5 to 2.5 times as large as that of the second colored layer. Of manufacturing color filter substrate of.
【請求項23】 前記第3着色層を形成する工程では、
前記第3着色層を前記第1着色層よりも薄く形成するこ
とを特徴とする請求項14乃至請求項22のいずれかに
記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
23. In the step of forming the third colored layer,
23. The method of manufacturing a color filter substrate according to claim 14, wherein the third colored layer is formed thinner than the first colored layer.
【請求項24】 前記第3着色層は、前記第1着色層が
前記第3着色層の1.5〜2.5倍の厚さとなるように
形成することを特徴とする請求項23に記載のカラーフ
ィルタ基板の製造方法。
24. The third colored layer is formed so that the first colored layer has a thickness 1.5 to 2.5 times that of the third colored layer. Of manufacturing color filter substrate of.
【請求項25】 前記第1着色層、前記第2着色層及び
前記第3着色層は、それぞれ赤、緑及び青のいずれかの
色である材料で形成されることを特徴とする請求項14
乃至請求項24のいずれかに記載のカラーフィルタ基板
の製造方法。
25. The first colored layer, the second colored layer, and the third colored layer are each formed of a material having any one of red, green, and blue colors.
25. The method for manufacturing a color filter substrate according to claim 24.
【請求項26】 前記第1着色層、前記第2着色層及び
前記第3着色層は、それぞれシアン、マゼンタ及びイエ
ローのいずれかの色である材料で形成されることを特徴
とする請求項14乃至請求項24のいずれかに記載のカ
ラーフィルタ基板の製造方法。
26. The first colored layer, the second colored layer, and the third colored layer are each formed of a material having any one of cyan, magenta, and yellow colors. 25. The method for manufacturing a color filter substrate according to claim 24.
【請求項27】 液晶を挟持している一対の基板と、 前記一対の基板のうち一方の基板上に配置された色ドッ
トと、 前記一方の基板上に配置されていて前記色ドット近傍に
配置された遮光膜とを備え、 前記遮光膜は、前記一方の基板上に配置されていて前記
色ドットと色が同じ第1着色層と、前記第1着色層上に
配置されていて前記第1着色層と色が異なる第2着色層
と、前記第2着色層上に配置されていて前記第1着色層
及び前記第2着色層と色が異なる第3着色層とを含むこ
とを特徴とする液晶表示パネル。
27. A pair of substrates sandwiching a liquid crystal, a color dot arranged on one of the pair of substrates, and a color dot arranged on the one substrate in the vicinity of the color dot. And a first colored layer having the same color as the color dots, and the first colored layer having the same color as the color dots. A second coloring layer having a color different from that of the coloring layer; and a third coloring layer arranged on the second coloring layer and having a different color from the first coloring layer and the second coloring layer. Liquid crystal display panel.
【請求項28】 前記一方の基板上に配置された反射膜
をさらに備えていることを特徴とする請求項27に記載
の液晶表示パネル。
28. The liquid crystal display panel according to claim 27, further comprising a reflective film disposed on the one substrate.
【請求項29】 前記反射膜は、前記色ドットと平面的
に重なった重畳領域を有するとともに、前記反射膜の重
畳領域の少なくとも一部に開口部を有することを特徴と
する請求項28に記載の液晶表示パネル。
29. The reflection film according to claim 28, wherein the reflection film has an overlapping region that overlaps with the color dots in a plane, and has an opening in at least a part of the overlapping region of the reflection film. LCD display panel.
【請求項30】 液晶を挟持している一対の基板と、 前記一対の基板のうち一方の基板上に配置されていてそ
れぞれ色が異なる複数の色ドットと、 前記複数の色ドットのそれぞれを囲んでいる遮光膜とを
備え、 前記遮光膜は、前記一方の基板上に配置されていて前記
複数の色ドットのうちいずれか1つの色ドットと色が同
じ第1着色層と、前記第1着色層上に配置されていて前
記第1着色層と色が異なる第2着色層と、前記第2着色
層上に配置されていて前記第1着色層及び前記第2着色
層と色が異なる第3着色層とを含むことを特徴とする液
晶表示パネル。
30. A pair of substrates sandwiching a liquid crystal, a plurality of color dots arranged on one substrate of the pair of substrates and having different colors, and surrounding each of the plurality of color dots. A light-shielding film, wherein the light-shielding film is disposed on the one substrate and has a first colored layer having the same color as any one color dot of the plurality of color dots; and the first colored layer. A second colored layer disposed on a layer and having a different color from the first colored layer; and a third colored layer disposed on the second colored layer and having a different color from the first colored layer and the second colored layer. A liquid crystal display panel comprising a colored layer.
【請求項31】 液晶を挟持している一対の基板と、 前記一対の基板のうち一方の基板上に配置されていてそ
れぞれ色が異なる複数の色ドットと、 前記一方の基板上に配置された遮光膜とを備え、 前記複数の色ドットはそれぞれ接触して一方向に配列し
ており、 前記遮光膜は前記複数の色ドットの配列方向に沿った前
記複数の色ドットの辺に配置され、 前記遮光膜は、前記一方の基板上に配置されていて前記
複数の色ドットのうちいずれか1つの色ドットと色が同
じ第1着色層と、前記第1着色層上に配置されていて前
記第1着色層と色が異なる第2着色層と、前記第2着色
層上に配置されていて前記第1着色層及び前記第2着色
層と色が異なる第3着色層とを含むことを特徴とする液
晶表示パネル。
31. A pair of substrates sandwiching a liquid crystal, a plurality of color dots arranged on one of the pair of substrates and having different colors, and arranged on the one substrate. A light-shielding film, the plurality of color dots are in contact with each other and arranged in one direction, the light-shielding film is arranged on a side of the plurality of color dots along an arrangement direction of the plurality of color dots, The light-shielding film is disposed on the one substrate and has a first colored layer that has the same color as any one of the color dots of the plurality of color dots; and the light-shielding film is disposed on the first colored layer. A second coloring layer having a color different from that of the first coloring layer; and a third coloring layer arranged on the second coloring layer and having a color different from those of the first coloring layer and the second coloring layer. And liquid crystal display panel.
【請求項32】 前記一方の基板上に配置された反射膜
をさらに備えていることを特徴とする請求項30又は請
求項31に記載の液晶表示パネル。
32. The liquid crystal display panel according to claim 30 or 31, further comprising a reflective film disposed on the one substrate.
【請求項33】 前記反射膜は、前記色ドットと平面的
に重なった重畳領域を有するとともに、前記反射膜の重
畳領域の少なくとも一部に開口部を有することを特徴と
する請求項32に記載の液晶表示パネル。
33. The reflection film according to claim 32, wherein the reflection film has an overlapping region that overlaps with the color dots in a plane, and has an opening in at least a part of the overlapping region of the reflecting film. LCD display panel.
【請求項34】 前記第1着色層は前記第2着色層より
も厚いことを特徴とする請求項27乃至請求項33のい
ずれかに記載の液晶表示パネル。
34. The liquid crystal display panel according to claim 27, wherein the first colored layer is thicker than the second colored layer.
【請求項35】 前記第1着色層は前記第2着色層より
も1.5〜2.5倍厚いことを特徴とする請求項34に
記載の液晶表示パネル。
35. The liquid crystal display panel of claim 34, wherein the first colored layer is 1.5 to 2.5 times thicker than the second colored layer.
【請求項36】 前記第1着色層は前記第3着色層より
も厚いことを特徴とする請求項27乃至請求項35のい
ずれかに記載の液晶表示パネル。
36. The liquid crystal display panel according to claim 27, wherein the first colored layer is thicker than the third colored layer.
【請求項37】 前記第1着色層は前記第3着色層より
も1.5〜2.5倍厚いことを特徴とする請求項36に
記載の液晶表示パネル。
37. The liquid crystal display panel of claim 36, wherein the first colored layer is 1.5 to 2.5 times thicker than the third colored layer.
【請求項38】 前記第1着色層、前記第2着色層及び
前記第3着色層は、それぞれ赤、緑及び青のいずれかの
色であることを特徴とする請求項27乃至請求項37の
いずれかに記載の液晶表示パネル。
38. The color filter according to claim 27, wherein the first colored layer, the second colored layer, and the third colored layer are any one of red, green, and blue colors. The liquid crystal display panel according to any one.
【請求項39】 前記第1着色層、前記第2着色層及び
前記第3着色層は、それぞれシアン、マゼンタ及びイエ
ローのいずれかの色であることを特徴とする請求項27
乃至請求項37のいずれかに記載の液晶表示パネル。
39. The first coloring layer, the second coloring layer, and the third coloring layer each have a color of cyan, magenta, or yellow, respectively.
38. The liquid crystal display panel according to claim 37.
【請求項40】 請求項27乃至請求項39のいずれか
に記載の前記液晶表示パネルを備えたことを特徴とする
液晶表示装置。
40. A liquid crystal display device comprising the liquid crystal display panel according to claim 27.
【請求項41】 請求項40に記載の前記液晶表示装置
を備えた電子機器。
41. An electronic device comprising the liquid crystal display device according to claim 40.
JP2001326921A 2001-10-24 2001-10-24 Color filter substrate, its manufacturing method, liquid crystal display panel, liquid crystal display device and electronic equipment Withdrawn JP2003131024A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001326921A JP2003131024A (en) 2001-10-24 2001-10-24 Color filter substrate, its manufacturing method, liquid crystal display panel, liquid crystal display device and electronic equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001326921A JP2003131024A (en) 2001-10-24 2001-10-24 Color filter substrate, its manufacturing method, liquid crystal display panel, liquid crystal display device and electronic equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003131024A true JP2003131024A (en) 2003-05-08

Family

ID=19143222

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001326921A Withdrawn JP2003131024A (en) 2001-10-24 2001-10-24 Color filter substrate, its manufacturing method, liquid crystal display panel, liquid crystal display device and electronic equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003131024A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9478428B2 (en) 2010-10-05 2016-10-25 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for shielding a plasma etcher electrode
US9711364B2 (en) 2010-10-05 2017-07-18 Skyworks Solutions, Inc. Methods for etching through-wafer vias in a wafer
JP2019148823A (en) * 2017-11-24 2019-09-05 浜松ホトニクス株式会社 Wafer
US11448869B2 (en) 2017-11-24 2022-09-20 Hamamatsu Photonics K.K. Wafer

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9478428B2 (en) 2010-10-05 2016-10-25 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for shielding a plasma etcher electrode
US9711364B2 (en) 2010-10-05 2017-07-18 Skyworks Solutions, Inc. Methods for etching through-wafer vias in a wafer
US9905484B2 (en) 2010-10-05 2018-02-27 Skyworks Solutions, Inc. Methods for shielding a plasma etcher electrode
US10453697B2 (en) 2010-10-05 2019-10-22 Skyworks Solutions, Inc. Methods of measuring electrical characteristics during plasma etching
JP2019148823A (en) * 2017-11-24 2019-09-05 浜松ホトニクス株式会社 Wafer
US11448869B2 (en) 2017-11-24 2022-09-20 Hamamatsu Photonics K.K. Wafer
US11609420B2 (en) 2017-11-24 2023-03-21 Hamamatsu Photonics K.K. Wafer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8009253B2 (en) Electro-optical device having insulating layer with varying thickness in the reflection and transmission displays
US6888605B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
KR100536312B1 (en) Color filter substrate and method for manufacturing the same, electrooptic device and method for manufacturing the same, and electronic apparatus
JP2004341213A (en) Electrooptical device, electronic apparatus, and method for manufacturing electrooptical device
KR100477778B1 (en) Liquid crystal panel, liquid crystal device and electronic apparatus
KR100488840B1 (en) Liquid crystal device and electronic equipment
US7123327B2 (en) Substrate for reflective-transmissive electro-optical device having opening in base layer varying in size along a first direction
JP3968232B2 (en) ELECTRO-OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND ELECTRONIC DEVICE
JP2003131024A (en) Color filter substrate, its manufacturing method, liquid crystal display panel, liquid crystal display device and electronic equipment
JP3829669B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP2006267782A (en) Electrooptical apparatus and electronic equipment
JP3915381B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP2005148477A (en) Substrate for electrooptical device, electrooptical device, electronic equipment
JP4258231B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus using the same
JP4466044B2 (en) Electro-optical device substrate, electro-optical device, electronic equipment
JP2004109815A (en) Electro-optical device, manufacturing method of electro-optical device, and electronic device
JP3649222B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP2004341215A (en) Electrooptical device, electronic apparatus, and method for manufacturing electrooptical device
JP2005049638A (en) Substrate for electrooptical device, electrooptical device, electronic equipment, manufacturing method of substrate for electrooptical device, and, exposure mask
JP4645327B2 (en) Liquid crystal display device and electronic device
JP2004363172A (en) Wiring board, its manufacturing method, chip module, electro-optical device, its manufacturing method, and electronic apparatus
JP2005148305A (en) Substrate for electrooptical device, electrooptical device and electronic equipment
JP2003177393A (en) Optoelectronic device, method for manufacturing the same, and electronic appliance
JP2005049580A (en) Mask, color filter substrate, method for manufacturing color filter substrate, electrooptical device, method for manufacturing electrooptical device and electronic equipment
JP2005062625A (en) Method for manufacturing light-reflective substrate, method for manufacturing substrate for electrooptical device, substrate for electrooptical device, and electronic equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050104