JP2003066210A - 反射体およびこの反射体を用いた媒体 - Google Patents
反射体およびこの反射体を用いた媒体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】反射層を有する反射体において、反射層を腐食
する物質がエッジもしくは上下層の傷やクラックなどか
ら進入した場合に、反射層全体が侵食されるのを防止す
る反射体を提供すること。 【解決手段】基材の少なくとも一部に、島部分に反射物
質が存在している微細海島構造にて反射層を設けた反射
基材の、前記反射基材の反射層側から封止層を設けたこ
とを特徴とする反射体を提供する。さらには、反射層を
パターン状に形成したことを特徴とする前記反射体を提
供する。また、さらには、基材に回折構造を設けたこと
を特徴とする前記反射体を提供する。
する物質がエッジもしくは上下層の傷やクラックなどか
ら進入した場合に、反射層全体が侵食されるのを防止す
る反射体を提供すること。 【解決手段】基材の少なくとも一部に、島部分に反射物
質が存在している微細海島構造にて反射層を設けた反射
基材の、前記反射基材の反射層側から封止層を設けたこ
とを特徴とする反射体を提供する。さらには、反射層を
パターン状に形成したことを特徴とする前記反射体を提
供する。また、さらには、基材に回折構造を設けたこと
を特徴とする前記反射体を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は反射層を有する反射
体、およびこの反射体を用いた転写箔、ステッカー、漉
き込み安全線などの部材に関するものである。
体、およびこの反射体を用いた転写箔、ステッカー、漉
き込み安全線などの部材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、転写箔、ステッカー、漉き込み安
全線などは、真空蒸着法により、全面もしくはパターン
状に形成した反射層を有するものが一般的であった。
全線などは、真空蒸着法により、全面もしくはパターン
状に形成した反射層を有するものが一般的であった。
【０００３】一方、パターン状反射層の形成方法として
は、水洗シーライト加工、エッチング加工、レーザ加工
などにより、パターン化し、実現される。水洗シーライ
ト加工とは、水洗インキを基材上にネガパターンで印刷
しておき、その上から蒸着やスパッタを用いて全面に金
属薄膜を形成し、水洗インキを水で洗い流すと同時に金
属薄膜を取り除くことによりパターンを形成する加工方
法である。エッチング加工とは、金属薄膜上にポジパタ
ーンでマスキング剤を印刷し、金属腐食剤でマスキング
されていない部分を腐食させることによりパターンを形
成する加工方法である。レーザ加工とは、金属薄膜の除
去したい部分に強いレーザを当てて金属をとばすことに
よりパターンを形成する加工方法である。
は、水洗シーライト加工、エッチング加工、レーザ加工
などにより、パターン化し、実現される。水洗シーライ
ト加工とは、水洗インキを基材上にネガパターンで印刷
しておき、その上から蒸着やスパッタを用いて全面に金
属薄膜を形成し、水洗インキを水で洗い流すと同時に金
属薄膜を取り除くことによりパターンを形成する加工方
法である。エッチング加工とは、金属薄膜上にポジパタ
ーンでマスキング剤を印刷し、金属腐食剤でマスキング
されていない部分を腐食させることによりパターンを形
成する加工方法である。レーザ加工とは、金属薄膜の除
去したい部分に強いレーザを当てて金属をとばすことに
よりパターンを形成する加工方法である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】これら、反射層を形成
する物質は、主に金属もしくはセラミックスであり、全
面に形成された場合はもちろんのこと、パターン状に設
けられた場合であってもミクロ的には連続につながった
構造を持つ。このようにミクロ的に連続している構造で
は、反射層を腐食する物質がエッジもしくは上下層の傷
やクラックなどから侵入した場合、全体が侵食されるた
め、反射層の耐性の面で問題がある。
する物質は、主に金属もしくはセラミックスであり、全
面に形成された場合はもちろんのこと、パターン状に設
けられた場合であってもミクロ的には連続につながった
構造を持つ。このようにミクロ的に連続している構造で
は、反射層を腐食する物質がエッジもしくは上下層の傷
やクラックなどから侵入した場合、全体が侵食されるた
め、反射層の耐性の面で問題がある。
【０００５】そこで、ミクロ的に不連続な微細海島構造
にて反射層を形成し、エッジもしくは上下層の傷やクラ
ックなどから浸入した腐食物質の影響を最小限に食い止
め、耐性を向上させることを課題とする。
にて反射層を形成し、エッジもしくは上下層の傷やクラ
ックなどから浸入した腐食物質の影響を最小限に食い止
め、耐性を向上させることを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の課題を解決する
ため請求項１では、基材の少なくとも一部に、島部分に
反射物質が存在している微細海島構造にて反射層を設け
た反射基材の、前記反射基材の反射層側から封止層を設
けたことを特徴とする反射体である。
ため請求項１では、基材の少なくとも一部に、島部分に
反射物質が存在している微細海島構造にて反射層を設け
た反射基材の、前記反射基材の反射層側から封止層を設
けたことを特徴とする反射体である。
【０００７】また、請求項２では、反射層をパターン状
に形成したことを特徴とする請求項１記載の反射体であ
る。
に形成したことを特徴とする請求項１記載の反射体であ
る。
【０００８】また、請求項３では、基材に回折構造を設
けたことを特徴とする請求項１、または２記載の反射体
である。
けたことを特徴とする請求項１、または２記載の反射体
である。
【０００９】また、請求項４では、反射層が、真空蒸着
法により作製したことを特徴とする請求項１ないし３の
いずれかからなる記載の反射体である。
法により作製したことを特徴とする請求項１ないし３の
いずれかからなる記載の反射体である。
【００１０】また、請求項５では、請求項１ないし４記
載のいずれかからなる反射体を用いて形成したことを特
徴とする転写箔である。
載のいずれかからなる反射体を用いて形成したことを特
徴とする転写箔である。
【００１１】また、請求項６では、請求項１ないし４記
載のいずれかからなる反射体を用いて形成したことを特
徴とするステッカーである。
載のいずれかからなる反射体を用いて形成したことを特
徴とするステッカーである。
【００１２】また、請求項７では、請求項１ないし４記
載のいずれかからなる反射体を用いて形成したことを特
徴とする漉き込み安全線である。
載のいずれかからなる反射体を用いて形成したことを特
徴とする漉き込み安全線である。
【００１３】また、請求項８では、請求項５ないし７記
載の転写箔、ステッカー、漉き込み安全線のいずれかを
基体に設けたことを特徴とする媒体である。
載の転写箔、ステッカー、漉き込み安全線のいずれかを
基体に設けたことを特徴とする媒体である。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。本発明で微細海島構造で形成した反射層を
基材に設けるには、Ｖｏｌｍｅｒ−Ｗｅｂｅｒの成長様
式にモデル化された条件で蒸着することにより得ること
ができる。この成長様式では、初期段階で図１、図２に
示すような、３次元的な蒸着物質（１２）による島が基
材（１１）上に形成される。次に、蒸着時間が進むにつ
れて図３、図４のように蒸着物質（２２）の島同士が接
触し融合しながら拡大し、さらに、蒸着時間が進むと図
５、図６のように、全面を覆う蒸着物質（５１）の膜と
なる。本発明に用いる反射基材は、図３、図４のように
不連続な微細な島が存在している状態で蒸着を止めるこ
とにより微細海島構造を形成する。
て説明する。本発明で微細海島構造で形成した反射層を
基材に設けるには、Ｖｏｌｍｅｒ−Ｗｅｂｅｒの成長様
式にモデル化された条件で蒸着することにより得ること
ができる。この成長様式では、初期段階で図１、図２に
示すような、３次元的な蒸着物質（１２）による島が基
材（１１）上に形成される。次に、蒸着時間が進むにつ
れて図３、図４のように蒸着物質（２２）の島同士が接
触し融合しながら拡大し、さらに、蒸着時間が進むと図
５、図６のように、全面を覆う蒸着物質（５１）の膜と
なる。本発明に用いる反射基材は、図３、図４のように
不連続な微細な島が存在している状態で蒸着を止めるこ
とにより微細海島構造を形成する。
【００１５】そして、図７に示すように、反射基材の微
細海島構造で設けた反射層（７２）の表面にコーティン
グもしくはラミネートなどによって封止層（７３）を設
けることにより、腐食性物質の浸入を防ぐ構造を形成す
ることができる。ここで、入射光（７４）は、一部が透
過光（７６）として透過するものの、反射光（７５）と
して反射し、反射体としての効果を示す。
細海島構造で設けた反射層（７２）の表面にコーティン
グもしくはラミネートなどによって封止層（７３）を設
けることにより、腐食性物質の浸入を防ぐ構造を形成す
ることができる。ここで、入射光（７４）は、一部が透
過光（７６）として透過するものの、反射光（７５）と
して反射し、反射体としての効果を示す。
【００１６】一般の反射体は、図８に示すように反射層
が連続的に形成されたものであり、エッジ部分からの腐
食、基材（８１）もしくは封止層（８３）の傷やクラッ
クを通して浸入する腐食物質により連続的に腐食されて
しまうおそれがある。
が連続的に形成されたものであり、エッジ部分からの腐
食、基材（８１）もしくは封止層（８３）の傷やクラッ
クを通して浸入する腐食物質により連続的に腐食されて
しまうおそれがある。
【００１７】しかし、本発明の反射体は図９に示すよう
に反射層が不連続に形成されているため、エッジ部分か
らの腐食、基材（９１）もしくは封止層（９３）の傷や
クラックを通して腐食物質が浸入した場合でも、腐食が
全体に進むことがないため耐性が向上する。
に反射層が不連続に形成されているため、エッジ部分か
らの腐食、基材（９１）もしくは封止層（９３）の傷や
クラックを通して腐食物質が浸入した場合でも、腐食が
全体に進むことがないため耐性が向上する。
【００１８】ここで、パターン状に反射層を設ける方法
としては、水洗シーライト加工、エッチング加工、レー
ザ加工などを用いて行うことができる。例えば、図１０
に示すように微細海島構造による反射層形成部分（１０
１）と反射層不形成部分（１０２）により、パターンを
設けることができる。このパターンは、文字以外にも反
射物質のあるなしによるモノトーン表現ができる画像で
あれば特に限定されるものではない。
としては、水洗シーライト加工、エッチング加工、レー
ザ加工などを用いて行うことができる。例えば、図１０
に示すように微細海島構造による反射層形成部分（１０
１）と反射層不形成部分（１０２）により、パターンを
設けることができる。このパターンは、文字以外にも反
射物質のあるなしによるモノトーン表現ができる画像で
あれば特に限定されるものではない。
【００１９】水洗シーライト加工は、基材上に水洗イン
キをあらかじめネガパターンで印刷しておき、微細海島
構造で全面に反射層を設けた後、水洗インキを水で洗い
流すと同時に反射層を部分的に取り除くことによりパタ
ーン状の反射層を形成する方法である。
キをあらかじめネガパターンで印刷しておき、微細海島
構造で全面に反射層を設けた後、水洗インキを水で洗い
流すと同時に反射層を部分的に取り除くことによりパタ
ーン状の反射層を形成する方法である。
【００２０】また、エッチング加工は、基材上に蒸着に
より反射層を形成し、マスキング剤をポジパターンで印
刷し、マスキングされていない部分を腐食液により腐食
することによりパターン状の反射層を形成する方法であ
る。
より反射層を形成し、マスキング剤をポジパターンで印
刷し、マスキングされていない部分を腐食液により腐食
することによりパターン状の反射層を形成する方法であ
る。
【００２１】また、レーザ加工は、基材上に蒸着により
金属薄膜を形成し、強いレーザ光を当てることにより、
加熱蒸発することによりパターン状の金属薄膜を形成す
る方法である。
金属薄膜を形成し、強いレーザ光を当てることにより、
加熱蒸発することによりパターン状の金属薄膜を形成す
る方法である。
【００２２】これら反射体は、回折構造形成体としても
形成することができる。
形成することができる。
【００２３】回折構造形成体は、一般にホログラムと回
折格子に分けられる。ホログラムは、光学的な撮影方法
により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスタ
ー版を作製し、次に、このマスター版から電気メッキ法
により凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を
作製する。そして、このプレス版をホログラムを形成す
る層に加熱押圧する方法により大量複製が行われてい
る。このタイプのホログラムはレリーフ型ホログラムと
称されている。
折格子に分けられる。ホログラムは、光学的な撮影方法
により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスタ
ー版を作製し、次に、このマスター版から電気メッキ法
により凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を
作製する。そして、このプレス版をホログラムを形成す
る層に加熱押圧する方法により大量複製が行われてい
る。このタイプのホログラムはレリーフ型ホログラムと
称されている。
【００２４】また、回折格子を用いたものは、このよう
な実際のものを撮影するホログラムとは異なり、微少な
エリアに複数種類の単純な回折格子を配置して画素と
し、これらの画素を用いて画像を表現するものである。
このような回折格子を用いた画像は、レリーフ型ホログ
ラムと同様な方法で大量複製が行われている。
な実際のものを撮影するホログラムとは異なり、微少な
エリアに複数種類の単純な回折格子を配置して画素と
し、これらの画素を用いて画像を表現するものである。
このような回折格子を用いた画像は、レリーフ型ホログ
ラムと同様な方法で大量複製が行われている。
【００２５】これら回折構造を形成した基材に、微細海
島構造により形成した反射層を設けることにより、回折
構造を有する反射体を作製することができる。また、加
工の順番として反射層を形成した後に回折構造を形成す
ることもできる。
島構造により形成した反射層を設けることにより、回折
構造を有する反射体を作製することができる。また、加
工の順番として反射層を形成した後に回折構造を形成す
ることもできる。
【００２６】これら反射体は、転写箔、ステッカー、紙
への漉込安全線として加工することができる。
への漉込安全線として加工することができる。
【００２７】転写箔は、図１１に示すように、基材（１
１１）に剥離保護層（１１２）を塗工し、上記の反射層
（１１３）を形成し、封止層（１１４）および接着層
（１１５）を塗工する。ここで、回折構造を形成する場
合には、剥離保護層の上に熱成形性を考慮した回折構造
形成層を設けることができる。また、性能を満たす場合
には、封止層と接着層を１層で設けることもできる。ま
た、各層に着色もしくは蛍光材料を入れることができ
る。これらの転写箔を媒体に転写するには、ホットスタ
ンプなどの転写機を用いて媒体基材に貼付する。
１１）に剥離保護層（１１２）を塗工し、上記の反射層
（１１３）を形成し、封止層（１１４）および接着層
（１１５）を塗工する。ここで、回折構造を形成する場
合には、剥離保護層の上に熱成形性を考慮した回折構造
形成層を設けることができる。また、性能を満たす場合
には、封止層と接着層を１層で設けることもできる。ま
た、各層に着色もしくは蛍光材料を入れることができ
る。これらの転写箔を媒体に転写するには、ホットスタ
ンプなどの転写機を用いて媒体基材に貼付する。
【００２８】ステッカーは、図１３に示すように、基材
に上記の反射層（１３２）を形成し、封止層（１３３）
および粘着層（１３４）を塗工する。回折構造を形成す
る場合には、基材に熱成形性を考慮した回折構造形成層
を設けることができる。性能を満たす場合には、封止層
と粘着層を兼ね、１層で設けることができる。また、各
層に着色もしくは蛍光材料を入れることができる。これ
らステッカーは、媒体に貼付して使用する。
に上記の反射層（１３２）を形成し、封止層（１３３）
および粘着層（１３４）を塗工する。回折構造を形成す
る場合には、基材に熱成形性を考慮した回折構造形成層
を設けることができる。性能を満たす場合には、封止層
と粘着層を兼ね、１層で設けることができる。また、各
層に着色もしくは蛍光材料を入れることができる。これ
らステッカーは、媒体に貼付して使用する。
【００２９】漉き込み安全線は、図１４に示すように、
基材（１４１）に上記の反射層（１３２）を形成し、封
止層（１４３）を塗工した後、両面に接着層（１４４）
を塗工する。回折構造を形成する場合には、基材に熱成
形性を考慮した回折構造形成層を設けることができる。
性能を満たす場合には、封止層と接着層を兼ね、１層で
設けることができる。また、各層に着色もしくは蛍光材
料を入れることができる。この漉き込み安全線を、例え
ば１から５ｍｍ程度の幅にスリットし、紙を漉く際に漉
き込む。漉き込む方法としては、完全に紙の中に漉き込
む方法と少なくとも片面の少なくとも一部に窓を開け、
直接見えるように漉き込む方法のどちらでもかまわな
い。これら漉き込み安全線を漉き込んだ紙を媒体の基材
として用いることができる。
基材（１４１）に上記の反射層（１３２）を形成し、封
止層（１４３）を塗工した後、両面に接着層（１４４）
を塗工する。回折構造を形成する場合には、基材に熱成
形性を考慮した回折構造形成層を設けることができる。
性能を満たす場合には、封止層と接着層を兼ね、１層で
設けることができる。また、各層に着色もしくは蛍光材
料を入れることができる。この漉き込み安全線を、例え
ば１から５ｍｍ程度の幅にスリットし、紙を漉く際に漉
き込む。漉き込む方法としては、完全に紙の中に漉き込
む方法と少なくとも片面の少なくとも一部に窓を開け、
直接見えるように漉き込む方法のどちらでもかまわな
い。これら漉き込み安全線を漉き込んだ紙を媒体の基材
として用いることができる。
【００３０】図１５はこれら反射体を用いた媒体（１５
１）の例である。基体の片面の一部漉き込み安全線を漉
き込んだ用紙にホログラム転写箔もしくはステッカー
（１５３）を貼付したものである。これら反射体は紙
幣、商品券、株券、パスポート、免許証、カードなどの
有価証券、認証媒体もしくはこれらに準ずる媒体に用い
ることができる。
１）の例である。基体の片面の一部漉き込み安全線を漉
き込んだ用紙にホログラム転写箔もしくはステッカー
（１５３）を貼付したものである。これら反射体は紙
幣、商品券、株券、パスポート、免許証、カードなどの
有価証券、認証媒体もしくはこれらに準ずる媒体に用い
ることができる。
【００３１】
【実施例】本発明の具体的実施例を示すが、特にこれに
限定されるものではない。以下に示す漉き込み安全線入
りの用紙により得られた用紙に、印刷により画像や文字
等の情報を設け、さらに、以下のホログラム転写箔によ
り得られた転写箔を転写し、商品券に用いる媒体を得
た。
限定されるものではない。以下に示す漉き込み安全線入
りの用紙により得られた用紙に、印刷により画像や文字
等の情報を設け、さらに、以下のホログラム転写箔によ
り得られた転写箔を転写し、商品券に用いる媒体を得
た。
【００３２】［漉き込み安全線入り用紙］１６μｍのポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）原反に、ウレタン
系樹脂の剥離保護層をグラビアコーティング法により、
０．５μｍの膜厚で塗工した。この原反に、ニッケル製
のホログラム版を取り付けたエンボス機を用いてホログ
ラム画像を形成した。このホログラム画像を形成した面
に、水洗インキによりネガパターンで印刷した後、島部
分の面積率が７０％となる条件でＳｎ蒸着により微細海
島構造を形成した。そして、水洗インキを水洗し、パタ
ーン状の反射層を形成した。得られたホログラムにポリ
エステル樹脂系の接着層をグラビアコーティング法によ
り両面に２μｍの膜厚で塗工し、２ｍｍの幅にスリット
し、片面の一部が表面に現れるように紙に漉き込んだ。
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）原反に、ウレタン
系樹脂の剥離保護層をグラビアコーティング法により、
０．５μｍの膜厚で塗工した。この原反に、ニッケル製
のホログラム版を取り付けたエンボス機を用いてホログ
ラム画像を形成した。このホログラム画像を形成した面
に、水洗インキによりネガパターンで印刷した後、島部
分の面積率が７０％となる条件でＳｎ蒸着により微細海
島構造を形成した。そして、水洗インキを水洗し、パタ
ーン状の反射層を形成した。得られたホログラムにポリ
エステル樹脂系の接着層をグラビアコーティング法によ
り両面に２μｍの膜厚で塗工し、２ｍｍの幅にスリット
し、片面の一部が表面に現れるように紙に漉き込んだ。
【００３３】［ホログラム転写箔］１６μｍのＰＥＴ原
反に、アクリル系樹脂の剥離保護層をグラビアコーティ
ング法により２μｍの膜厚で塗工し、次に、ウレタン系
樹脂のホログラム形成層をグラビアコーティング法を用
いて、０．５μｍの膜厚で塗工した。この原反に、ニッ
ケル製のホログラム版を取り付けたエンボス機を用いて
ホログラム画像を形成した。このホログラム画像を形成
した面に、水洗インキによりネガパターンで印刷した
後、島部分の面積率が７０％となる条件でＳｎ蒸着によ
り微細海島構造を形成した。そして、水洗インキを水洗
し、パターン状の反射層を形成した。得られたホログラ
ムにアクリル系樹脂の接着層をグラビアコーティング法
により２μｍの膜厚で塗工した。
反に、アクリル系樹脂の剥離保護層をグラビアコーティ
ング法により２μｍの膜厚で塗工し、次に、ウレタン系
樹脂のホログラム形成層をグラビアコーティング法を用
いて、０．５μｍの膜厚で塗工した。この原反に、ニッ
ケル製のホログラム版を取り付けたエンボス機を用いて
ホログラム画像を形成した。このホログラム画像を形成
した面に、水洗インキによりネガパターンで印刷した
後、島部分の面積率が７０％となる条件でＳｎ蒸着によ
り微細海島構造を形成した。そして、水洗インキを水洗
し、パターン状の反射層を形成した。得られたホログラ
ムにアクリル系樹脂の接着層をグラビアコーティング法
により２μｍの膜厚で塗工した。
【００３４】
【発明の効果】反射層が、微細海島構造で不連続となっ
たため、腐食物質によりエッジ部分から連続的に浸され
ることがなくなり、耐性の高い反射体を有する媒体とす
ることができる。
たため、腐食物質によりエッジ部分から連続的に浸され
ることがなくなり、耐性の高い反射体を有する媒体とす
ることができる。
【図１】微細海島構造による反射層の平面図。
【図２】図１のＸ−Ｘにおける断面図。
【図３】微細海島構造による反射層の平面図。
【図４】図３のＹ−Ｙにおける断面図。
【図５】全面反射層の平面図。
【図６】図５のＺ−Ｚにおける断面図。
【図７】微細海島構造による反射層による反射状態を示
す説明図。
す説明図。
【図８】全面反射層の腐食状態を示す説明図。
【図９】微細海島構造による反射層の腐食状態を示す説
明図。
明図。
【図１０】パターン状に設けた微細海島構造による反射
層の一例を示す説明図。
層の一例を示す説明図。
【図１１】転写前の転写箔を示す断面図。
【図１２】転写後の転写箔を示す断面図。
【図１３】ステッカーの一例を示す断面図。
【図１４】漉き込み安全線の一例を示す断面図。
【図１５】媒体の一例を示す説明図。
１１、２１、３１、４１、６１、７１、８１、９１、１
１１、１３１、１４１…基材 １２、２２、３２、４２、５１、６２…蒸着物質 ７２、８２、９２、１１３、１２２、１３２、１４２…
反射層 ７３、８３、９３、１１４、１２３、１３３、１４３…
封止層 ７４…入射光 ７５…反射光 ７６…透過光 ８４、９４…傷もしくはクラック ８５、９５…浸食部分 １０１…反射層形成部分 １０２…反射層非形成部分 １１２、１２１…剥離保護層 １１５、１２４、１４４…接着層 １２５、１３５、１５１…媒体基材 １３４…粘着層 １５２…漉き込み安全線 １５３…転写箔もしくはステッカー
１１、１３１、１４１…基材 １２、２２、３２、４２、５１、６２…蒸着物質 ７２、８２、９２、１１３、１２２、１３２、１４２…
反射層 ７３、８３、９３、１１４、１２３、１３３、１４３…
封止層 ７４…入射光 ７５…反射光 ７６…透過光 ８４、９４…傷もしくはクラック ８５、９５…浸食部分 １０１…反射層形成部分 １０２…反射層非形成部分 １１２、１２１…剥離保護層 １１５、１２４、１４４…接着層 １２５、１３５、１５１…媒体基材 １３４…粘着層 １５２…漉き込み安全線 １５３…転写箔もしくはステッカー
Claims (8)
- 【請求項１】基材の少なくとも一部に、島部分に反射層
形成物質が存在している微細海島構造を有する反射層を
設けた反射基材の、前記反射基材の反射層を設けた側に
封止層を設けたことを特徴とする反射体。 - 【請求項２】前記反射層が、パターン状であることを特
徴とする請求項１記載の反射体。 - 【請求項３】前記基材が、回折構造を有することを特徴
とする請求項１または２記載の反射体。 - 【請求項４】前記反射層が、真空蒸着法により作製され
たことを特徴とする請求項１ないし３記載のいずれかか
らなる反射体。 - 【請求項５】請求項１ないし４のいずれかからなる反射
体を用いたことを特徴とする転写箔。 - 【請求項６】請求項１ないし４のいずれかからなる反射
体を用いたことを特徴とするステッカー。 - 【請求項７】請求項１ないし４のいずれかからなる反射
体を用いたことを特徴とする漉き込み安全線。 - 【請求項８】請求項５ないし７のいずれかからなる転写
箔、ステッカー、漉き込み安全線のいずれかを基体に設
けたことを特徴とする媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001259326A JP5028727B2 (ja) | 2001-08-29 | 2001-08-29 | 反射体およびこの反射体を用いた媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001259326A JP5028727B2 (ja) | 2001-08-29 | 2001-08-29 | 反射体およびこの反射体を用いた媒体 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003066210A true JP2003066210A (ja) | 2003-03-05 |
| JP5028727B2 JP5028727B2 (ja) | 2012-09-19 |
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|---|---|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008169508A (ja) * | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Toppan Printing Co Ltd | スレッドとその製造方法および偽造防止用紙 |
| JP2022516730A (ja) * | 2019-01-09 | 2022-03-02 | フェイスブック・テクノロジーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | Ａｒ、ｈｍｄ、およびｈｕｄ用途向けの光導波路における不均一な副瞳リフレクタおよび方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102551583B1 (ko) | 2016-02-02 | 2023-07-06 | 삼성전자주식회사 | 백라이트 유닛용 도광판 제조 방법 및 그 도광판을 사용하는 액정 표시 장치 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0334283U (ja) * | 1989-08-11 | 1991-04-04 | ||
| JPH06202561A (ja) * | 1993-01-07 | 1994-07-22 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラム付き透明保護シール |
| JPH08171005A (ja) * | 1994-12-16 | 1996-07-02 | Nippon Carbide Ind Co Inc | 光透過性再帰反射シート |
| JPH11316810A (ja) * | 1998-04-30 | 1999-11-16 | Shinko Electric Co Ltd | 非接触ｉｃカード |
| JPH11353447A (ja) * | 1998-06-10 | 1999-12-24 | Toppan Printing Co Ltd | Ｉｃカード及びｉｃモジュール、並びにそれらの製造方法 |
| JP2000047556A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 光回折構造を有する物品の製造方法 |
| JP2001075091A (ja) * | 1999-07-07 | 2001-03-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半透過型液晶表示装置 |
-
2001
- 2001-08-29 JP JP2001259326A patent/JP5028727B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
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