JP2003034542A - 封止容器の製造装置及び製造方法 - Google Patents

封止容器の製造装置及び製造方法

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JP2003034542A
JP2003034542A JP2001219326A JP2001219326A JP2003034542A JP 2003034542 A JP2003034542 A JP 2003034542A JP 2001219326 A JP2001219326 A JP 2001219326A JP 2001219326 A JP2001219326 A JP 2001219326A JP 2003034542 A JP2003034542 A JP 2003034542A
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Japan
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opening
opening body
sealing
manufacturing
sealed container
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JP2001219326A
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Seiichi Matsuyama
清一 松山
Katsunori Hayashida
勝憲 林田
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CKD Corp
Original Assignee
CKD Corp
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00Re-forming shaped glass
    • C03B23/18Re-forming and sealing ampoules
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B20/00Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】製造の際に、手間がかからず、移動を必要とし
ないで、コストの低減とシール性の向上とを図ることの
できる封止容器の製造装置及び製造方法を提供すること
にある。 【解決手段】一端が開口部になっているガラスからなる
開口体4を、回転可能な回転支持体に支持させ、回転さ
せながら、製造装置のバーナ27によって軟化させ、成
形部29によってローラ34を押付けることで、内径の
小さいくびれ部28を成形する。バキュームポンプによ
って、開口体4内を脱気させた後、再度、バーナ27に
よってくびれ部28を加熱する。すると、くびれ部28
が溶着され、アンプル1が製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、封止容器の製造装
置及び容器製造方法に係り、特に、アンプル等の内部が
封止された容器を製造するための製造装置及び製造方法
を含む技術分野に属するものである。
【0002】
【従来の技術】化合物半導体結晶を製造する場合におい
て、石英ガラス製のアンプルが用いられる。図6(f)
に示すように、アンプル61は、比較的大径の本体部6
2を備えており、その先端は先細り形状となっているの
が一般的である。本体部62内には、前記結晶の原料が
封入されている。
【0003】かかるアンプル61は、例えば次のように
して製造される。すなわち、まず、図6(a)に示すよ
うに、本体63と、該本体63の小径部よりもさらに小
径の細管64とが用意される。本体63の先端は開口し
ており、その内部には予め結晶の原料が入れられてい
る。そして、本体63先端の開口部65と細管64の一
端部とが、バーナ66等が用いられることで、相互に溶
着される。つまり、本体63の先端に細管部67が形成
されることとなる(図6(b)参照)。
【0004】次に、細管部67が形成された本体63
を、脱気可能かつ所定のガスを導入可能な装置のところ
まで移動させ、セットする。そこで、細管部67の先端
から本体63内の空気を一旦吸引し(図6(c)参
照)、その後、不活性ガス等を導入する(図6(d)参
照)。そして、図6(e)に示すように、再度バーナ6
6等を用いることで、細管部67の一部を加熱溶着し、
封止状態とする。その後、封止部分よりも先端側部分を
引っ張り、いわゆるチップオフを施すことで、上述した
アンプル61が製造される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記技術で
は、本体63等を移動させたりする必要があり、しかも
各作業は人手に頼らざるを得ないものが多い。このた
め、移動に際して破損、原料の逸脱等の不具合が生じる
おそれがあるばかりか、製造に手間がかかることとなっ
ていた。
【0006】また、上記技術では、本体63及び細管6
4といった2つの部材を必要としているため、コストが
高くつき、しかも互いに径の異なる両者63,64を融
着するのに困難性が伴い、シール性が低下するおそれも
あった。
【0007】本発明は、上述した問題に鑑みてなされた
ものであり、封止容器を製造するにあたり、手間がかか
らず、製造途中における移動を必要とせず、しかもコス
トの低減とシール性の向上とを図ることのできる封止容
器の製造装置及び製造方法を提供することを主たる目的
の1つとしている。
【0008】
【課題を解決するための手段及びその効果】上記目的を
達成し得る特徴的手段について以下に説明する。また、
各手段につき、特徴的な作用及び効果を必要に応じて記
載する。
【0009】手段1.一端に開口部を有する有底円筒状
の開口体を支持する支持手段と、前記開口体の所定位置
を含む外周部位を軟化させる軟化手段と、軟化した部位
に対し応力を付与することで内周側に窪むくびれ部を成
形可能な成形手段と、前記開口体のくびれ部を封止する
封止手段とを備えたことを特徴とする封止容器の製造装
置。
【0010】上記手段1によれば、支持手段により、一
端に開口部を有する有底円筒状の開口体が支持される。
支持された開口体は、軟化手段によって所定位置を含む
外周部位が軟化される。開口体が支持された状態で、前
記軟化された部位に、成形手段によって応力が付与さ
れ、内周側に窪むくびれ部が成形される。さらに、封止
手段によって、前記くびれ部が封止される。このよう
に、予め封止する部分の開口断面積が小さくなるよう
に、くびれ部が成形されることで、封止を容易にでき
る。このように、封止容器製造のための各手段が、1つ
の製造装置内に備えられているため、別途の装置を用意
したり、製造途中に開口体を移動させる必要がなく、人
手による作業を低減できる。加えて、別途の部材を用意
することなく、開口体のみで封止容器とできるため、材
料のコストを低減できる。また、別途の部材を溶着させ
る際の溶着不具合によってシール性を低下させることが
無い。
【0011】手段2.一端に開口部を有する有底円筒状
の開口体を支持する支持手段と、前記開口体を回転中心
として前記支持手段を回転可能な回転手段と、回転中の
前記開口体の所定位置を加熱することで、該所定位置を
含む開口体の外周部位を軟化させる軟化手段と、回転中
の前記開口体の軟化した部位に対し一定方向へ応力を付
与することで内周側に窪むくびれ部を成形可能な成形手
段と、前記開口体のくびれ部を溶着することで封止する
封止手段と、封止部分よりも開口部側を取り除く除去手
段とを備えたことを特徴とする封止容器の製造装置。
【0012】上記手段2によれば、支持手段によって、
一端に開口部を有する有底円筒状の開口体が支持され
る。支持された開口体と共に前記支持手段が、回転手段
によって、前記開口体を回転中心として回転させられ
る。そして、回転中の開口体の所定位置が、軟化手段に
よって加熱され、該所定位置を含む開口体の外周部位が
軟化される。次に、回転中の開口体の軟化した部位に対
し、成形手段によって一定方向へ応力が付与されること
で、内周側に窪むくびれ部が成形される。その後、前記
成形されたくびれ部が、封止手段によって溶着されるこ
とで、封止される。封止に際しては、くびれ部が形成さ
れているため、溶着が容易にできる。さらに、除去手段
によって、封止部分よりも開口部側が取り除かれる。さ
て、開口体が支持状態で回転させられるため、軟化手段
や成形手段等が一定方向から開口体に加工を加えること
で、開口体の所定位置の外周全体に加工を施すことがで
き、より容易に封止することができる。また、封止容器
製造のための各手段が、1つの製造装置内に備えられて
いるため、別途の装置を用意したり、製造途中に開口体
を移動させる必要がなく、人手による作業を低減でき
る。加えて、別途の部材を用意することなく、開口体の
みで封止容器とできるため、材料のコストを低減でき
る。また、別途の部材を溶着させる際の溶着不具合によ
ってシール性を低下させることが無い。
【0013】手段3.前記除去手段は、前記封止手段に
て封止される際、又は、封止後に、前記開口部側を保持
した状態で引っ張る引張手段を備えることを特徴とする
請求項2に記載の封止容器の製造装置。
【0014】上記手段3によれば、封止手段にて封止さ
れる際、又は、封止後に、開口部側が保持された状態で
引っ張られることで、封止状態を維持したまま、細くな
った部分が切断される。これにより、開口部側が除去さ
れた封止容器を製造できる。特に、封止手段にて封止さ
れる際に引っ張られる場合には、細化が促進され、封止
をより確実に行いやすくなる。
【0015】手段4.前記封止手段にて封止される際の
前記開口体内の圧力が、外気圧力より低くされるように
したことを特徴とする手段1乃至3のいずれかに記載の
封止容器の製造装置。
【0016】上記手段4によれば、封止手段にて封止さ
れる際の開口体内の圧力が、外気圧力より低くさせられ
る。このため、くびれ部分が軟化状態にある場合であっ
て、封止手段によって、前記くびれ部が封止される場合
には、開口体の内側にくびれ部が引き込まれることで、
より確実に封止が行われる。
【0017】手段5.前記封止手段にて封止する前段階
において、前記開口体内の脱気をする脱気手段を備えた
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の封
止容器の製造装置。
【0018】上記手段5によれば、封止手段にて封止す
る前段階において、脱気手段によって、開口体内が脱気
される。これにより、封止をする際の開口体内の圧力
が、外気圧力より低くさせられる。よって、手段4に記
載の作用効果がより確実に奏される。
【0019】手段6.前記封止手段は、前記軟化手段を
備えることを特徴とする手段1乃至5のいずれかに記載
の封止容器の製造装置。
【0020】上記手段6によれば、軟化手段が、封止手
段に備えられている。このため、別途の手段を設けずと
も、軟化手段を再度利用することによって、くびれ部が
軟化され溶着されて、封止できる。
【0021】手段7.前記開口体内に所定のガスを供給
するガス供給手段を備えたことを特徴とする手段1乃至
6のいずれかに記載の封止容器の製造装置。
【0022】上記手段7によれば、ガス供給手段によっ
て、開口体内に所定のガスが供給されることで、該ガス
の封入された封止容器が製造できる。
【0023】手段8.前記成形手段が前記応力を付与す
る際に、前記開口部側を保持した状態で引っ張るよう構
成したことを特徴とする手段1乃至7のいずれかに記載
の封止容器の製造装置。
【0024】上記手段8によれば、成形手段によって開
口体が応力を付与される際に、開口部側が保持された状
態で引っ張られる。このため、前記応力の付与とも相ま
って、開口体の外周に所望とするくびれ部を成形しやす
い。
【0025】手段9.前記成形手段は、ローラを備え、
該ローラから応力が付与されるようにしたことを特徴と
する手段1乃至8のいずれかに記載の封止容器の製造装
置。
【0026】上記手段9によれば、成形手段にはローラ
が備えられており、該ローラが押付けられることによっ
て、開口体外周には応力が均等に付与されやすく、もっ
て、より均質なくびれ部が成形される。
【0027】手段10.軟化させた部位を冷却すること
で硬化を促進させる硬化手段を備えたことを特徴とする
手段1乃至9のいずれかに記載の封止容器の製造装置。
【0028】上記手段10によれば、硬化手段によっ
て、開口体の軟化させた部位が冷却されることで、硬化
が促進される。
【0029】手段11.前記開口体はガラスよりなり、
前記支持手段にて支持される開口体内部には化合物半導
体結晶の原料が入れられることを特徴とする手段1乃至
10のいずれかに記載の封止容器の製造装置。
【0030】上記手段11によれば、開口体がガラスよ
りなり、支持手段によって支持される開口体の内部に化
合物半導体結晶の原料が入れられることで、内部に該原
料の封入された封止容器を製造できる。
【0031】手段12.一端に開口部を有する有底円筒
状の開口体を支持する支持工程と、前記支持されている
開口体の所定位置を含む開口体の外周部位を加熱するこ
とで軟化させる軟化工程と、前記支持されている開口体
の軟化した部位に対し応力を付与することで内周側に窪
むくびれ部を成形する成形工程と、前記支持されている
開口体のくびれ部を溶着することで封止する封止工程と
を備えたことを特徴とする封止容器の製造方法。
【0032】上記手段12によれば、支持工程におい
て、一端に開口部を有する有底円筒状の開口体が支持さ
れる。支持された開口体は、軟化工程において所定位置
を含む外周部位が、加熱されることで軟化される。次
に、成形工程において、開口体が支持された状態で、前
記軟化された部位に応力が付与され、内周側に窪むくび
れ部が成形される。さらに、封止工程においては、支持
されている開口体の前記くびれ部が溶着されることで封
止される。封止に際しては、くびれ部が形成されている
ことで、溶着を容易に行うことができる。このように、
封止容器製造のための一連の工程が、支持工程により開
口体を支持させた状態で実施できるため、製造途中に開
口体を移動させる必要がなく、人手による作業を低減で
きる。加えて、別途の部材を用意することなく、開口体
のみで封止容器とできるため、材料のコストを低減でき
る。また、別途の部材を溶着させる際の溶着不具合によ
ってシール性を低下させることが無い。
【0033】手段13.一端に開口部を有する有底円筒
状の開口体を支持する支持工程と、前記開口体を回転中
心として回転させる回転工程と、回転中の前記開口体の
所定位置を含む開口体の外周部位を加熱することで軟化
させる軟化工程と、回転中の前記開口体の軟化した部位
に対し一定方向へ応力を付与することで内周側に窪むく
びれ部を成形する成形工程と、前記開口体のくびれ部を
溶着することで封止する封止工程と、封止部分よりも開
口部側を取り除く除去工程とを備えたことを特徴とする
封止容器の製造方法。
【0034】上記手段13によれば、支持工程におい
て、一端に開口部を有する有底円筒状の開口体が支持さ
れる。支持された開口体が、回転工程において、該開口
体を回転中心として回転させられる。そして、軟化工程
においては、回転中の開口体の所定位置が加熱され、該
所定位置を含む開口体の外周部位が軟化される。次に、
成形工程において、回転中の開口体の軟化した部位に対
し、一定方向へ応力が付与されることで、内周側に窪む
くびれ部が成形される。その後、封止工程において、前
記成形されたくびれ部が、溶着されることで封止され
る。封止に際しては、くびれ部が形成されていること
で、溶着を容易に行うことができる。さらに、除去工程
においては、封止部分よりも開口部側が取り除かれる。
また、開口体が支持状態で回転させられるため、軟化工
程や成形工程等において、一定方向から開口体に加工を
加えることで、開口体の所定位置の外周全体に加工を施
すことができ、より容易に封止することができる。この
ように、封止容器製造のための一連の工程が、支持工程
により開口体を支持させた状態で実施できるため、製造
途中に開口体を移動させる必要がなく、人手による作業
を低減できる。加えて、別途の部材を用意することな
く、開口体のみで封止容器とできるため、材料のコスト
を低減できる。また、別途の部材を溶着させる際の溶着
不具合によってシール性を低下させることが無い。
【0035】手段14.前記封止工程にて封止される際
に、前記開口体内の圧力が外気圧力より低くなるように
したことを特徴とする手段12又は13に記載の封止容
器の製造方法。
【0036】上記手段14によれば、封止工程にて封止
される際の開口体内の圧力が、外気圧力より低くさせら
れる。このため、くびれ部が軟化状態にある場合であっ
て、封止工程において、前記くびれ部が封止される場合
には、開口体の内側にくびれ部が引き込まれることで、
より確実に封止が行われる。
【0037】
【発明の実施の形態】以下、本実施の形態について説明
する。
【0038】まず、図4(a)に従って製造される封止
容器としてのアンプル1について説明する。アンプル1
は、化合物半導体結晶を製造するためのものであり、石
英ガラスよりなる。また、アンプル1は、大径部2及び
小径部3を備えている。本実施の形態におけるアンプル
1は、その全長が例えば950mm程度であり、大径部
2の外径は65mm、小径部3の外径は35mmとなっ
ている。
【0039】上述したアンプル1の内部には、化合物半
導体結晶の原料(図示略)が封入されている。このアン
プル1は、2つの部材によって構成されていた従来技術
とは異なり、図4(b)に示すように1つの開口体4が
加工されることによって製造される。開口体4は、上記
大径部2及び小径部3を備えており、小径部3の先端が
開口部5となっている。
【0040】次に、図1〜図3に従って、前記アンプル
1を製造するための製造装置6について説明する。該製
造装置6は、鉛直方向に立設された2本の支柱8,9
と、該支柱8,9に沿って上下移動可能な下部可動板1
0とを備えている。下部可動板10は、下部モータ11
によって上下動可能となっている。また、下部可動板1
0には、ベアリング12を介して回転支持体13が設け
られている。
【0041】該回転支持体13の中央の孔には、先端に
台座14を具備する支持ロッド15が挿通されている。
台座14及び回転支持体13間において支持ロッド15
の周囲にはバネ16が設けられている。台座14の上に
は、開口体4の底部が載置されるようになっている。
【0042】さらに、回転支持体13には、2本の柱1
7,18が設けられており、これら両柱17,18の先
端には、開口体4の長手方向中間部を挟持可能なチャッ
ク19が設けられている。チャック19は開閉板20を
有しており、該開閉板20を開くことで、開口体4(ア
ンプル1)を着脱できるようになっている。
【0043】前記2本の支柱8,9のうち、一方の支柱
8の下端には回転用モータ25が設けられており、この
モータ25が駆動させられることにより、支柱8が自転
させられるようになっている。この支柱8及び回転支持
体13には、タイミングベルト26が掛けられており、
支柱8の自転に同期して、回転支持体13が回転させら
れるようになっている。すなわち、モータ25が駆動さ
せられることで、支柱8が自転させられるとともに、支
持ロッド15を中心として回転支持体13も回転させら
れ、ひいては、台座14上に載置されている開口体4も
回転させられる。
【0044】また、製造装置6は、軟化手段としてのバ
ーナ27と、軟化された部分にくびれ部28を成形する
成形手段としての成形部29と、硬化手段としてのブロ
ア30とを備えている。前記バーナ27には、ボンベ3
1,32からのガスが供給されるようになっている。バ
ーナ27は、バーナ用モータ33によって、開口体4の
所定高さ位置において接離方向に移動可能となってい
る。
【0045】前記成形部29は、円板状のローラ34及
びローラ用モータ35を備えている。ローラ34は、ロ
ーラ用モータ35の駆動に基づき前後動可能となってお
り、これにより、ローラ34が開口体4の外周に押付け
られたり、離されたりする。尚、成形部29には、図示
しないバネが設けられており、該バネの弾性反発力によ
り、ローラ34の開口体4への押付け力が調整されるよ
うになっている。また、該ローラ34は、支持軸を中心
にして自由に回転可能であり、開口体4に押付けられて
いる間は、回転する開口体4に追従して回転させられ
る。
【0046】また、前記ブロア30は、前記バーナ27
とは反対側に設けられており、開口体4の軟化され成形
された部分に送風するようになっている。この送風によ
り、加熱、軟化部分の冷却促進が図られるようになって
いる。
【0047】さらに、製造装置6は、前記2本の支柱
8,9の上部を支持する上部可動板38を備えている。
上部可動板38は、上部モータ39によって上下動可能
となっている。また、該上部可動板38には、ベアリン
グ40を介して回転可能にヘッド部41が設けられてい
る。
【0048】前記ヘッド部41及び前記自転する支柱8
には、タイミングベルト42が掛けられている。従っ
て、ヘッド部41は、支柱8の自転と同期して回転する
ようになっている。また、ヘッド部41は、上下に貫通
した孔43を具備している。孔43の下部の周囲には、
シールゴム44が設けられており、該孔43の下部と開
口体4の開口部5とが外部とは隔絶された状態で接続可
能となっている。
【0049】一方、ヘッド部41の孔43の上部には、
ガスの導出入用ダクト45の基端側に位置する固定部4
6が、ベアリング47を介して設置されている。従っ
て、ヘッド部41は、該固定部46に対して回転可能と
なっている。
【0050】前記ダクト45の先端側は、脱気手段とし
てのバキュームポンプ51及び、ガス供給手段としての
ガスボンベ52に分岐して接続されている。そして、バ
キュームポンプ51により、開口体4内の脱気が行われ
るようになっている。また、ガスボンベ52からは、ア
ルゴンガスの供給行われるようになっている。ダクト4
5の該分岐部分には、図示しない切換弁が設けられ、こ
の切換弁の調整により前記脱気とアルゴンガスの供給と
が、切換可能となっている。
【0051】尚、各モータ11,25,33,35,3
9、ブロア30、ポンプ51の駆動及び切換弁の調整等
は、制御盤53内に設置された制御装置により制御可能
となっている。
【0052】次に、図5等に従って、上記のように構成
されてなる製造装置6を用いたアンプル1の製造方法及
び作用効果について説明する。まず、上部モータ39を
駆動させることによって、上部可動板38を開口体4の
長さに応じて、移動させる。すると、上部可動板38に
伴って、ヘッド部41が上下方向へ適宜移動させられ
る。次に、ヘッド部41の下部に、開口体4の上部を差
し込む。このとき、ヘッド部41のシールゴム44が開
口体4の開口部5の周囲を覆うため、ヘッド部41と開
口体4との間の機密性が保持されることになる。
【0053】さらに、下部モータ11を駆動させること
によって、下部可動板10を所定位置まで上昇させる。
すると、下部可動板10に伴って、回転支持体13が上
方へ移動させられることで、開口体4が台座14に載置
させられる。次に、チャック19の開閉板20を閉じ
て、開口体4を挟持することで、開口体4が回転支持体
13に設置される。尚、この開口体4内には、予め、化
合物半導体結晶の原料が入れられている。
【0054】次に、回転用モータ25を駆動させること
によって、支柱8が自転させられる。すると、該支柱8
に掛けられたタイミングベルト26、42が回り、回転
支持体13及びヘッド部41が同期して回転させられ
る。このとき、開口体4は、回転支持体13及びヘッド
部41と共に回転させられる。
【0055】このように、前記開口体4が回転させられ
ている状態で、前記バーナ用モータ33によって、図5
(a)に示すように、バーナ27は開口体4に接近する
方向へと移動させられる。該バーナ27により、所定高
さ位置にて、開口体4の小径部3の外周が加熱され、軟
化される。軟化後、バーナ27は、バーナ用モータ33
によって、開口体4から離間する方向へと移動させられ
る。
【0056】次に、図5(b)に示すように、開口体4
の回転が継続されたままの状態で、ローラ用モータ35
を駆動させることによって、成形部29を開口体4に接
近する方向へと移動させる。すると、ローラ34が、開
口体4の前記軟化された部分に押付けられる。前記ロー
ラ34は、開口体4に追従して回転させられており、ま
た、前記バネによって、開口体4への押付け力が調整さ
れていることから、開口体4外周にほぼ均等な応力が加
えられる。
【0057】かかる押付けに際し、上部モータ39を駆
動させることによって、上部可動板38が若干上昇さ
れ、これに伴い、開口体4が若干上方に引っ張られる。
すると、前記押し付けとも相まって、開口体4の小径部
3外周にくびれ部28が容易に成形される。このとき、
くびれ部28の最小内径が、約2〜3mmとなるよう
に、予めローラ34の位置と押付け力と上部可動板38
の上昇量とが設定されている。くびれ部28が成形され
た後、成形部29は、ローラ用モータ35によって、開
口体4から離間する方向へと移動させられる。尚、当該
離間の時点では、上部可動板38の上昇が停止させられ
ている。
【0058】さらに、開口体4のくびれ部28に、ブロ
ア30から空気が送風される。すると、軟化状態にあっ
たくびれ部28が、冷却される。これにより、軟化部分
が速やかに硬化される。
【0059】続いて、図5(c)に示すように、バキュ
ームポンプ51を作動させ、ダクト45を通じてヘッド
部41から、開口体4内の圧力が所定圧になるまで、脱
気を行う。尚、さらなる製造時間短縮のために、冷却と
脱気とを同時に行ってもよい。
【0060】次に、切換弁が切換制御され、図5(d)
に示すように、ボンベ52からアルゴンガスが開口体4
内に導入される。但し、アルゴンガス導入後における開
口体4内の圧力は、開口体4の外気圧力よりやや低い圧
力、例えば71kPaに設定される。
【0061】続いて、前記圧力を保持した状態で、図5
(e)に示すように、再度、バーナ用モータ33によ
り、バーナ27を開口体4に接近する方向へと移動させ
る。前記移動により、バーナ27の炎が、回転させられ
ている開口体4のくびれ部28部に当てられ、くびれ部
28は再度加熱、軟化される。このとき、くびれ部28
の内径が前述したように非常に小さくなっており、軟化
された部分が特に外部応力を加えることなく変形して、
溶着される。かかる溶着は、開口体4内の圧力が、開口
体4の外気圧力に対して低くなっており、軟化された部
分が開口体4の内側に引き込まれることで、より確実に
行われる。このように、軟化された部分を確実に接触さ
せることができ、開口体4を封止することができる。
尚、封止後、バーナ27は、バーナ用モータ33によっ
て、開口体4から離間する方向へと移動させられる。
【0062】さらに、開口体4が軟化状態にある間に、
上部モータ39を駆動させることによって上部可動板3
8が上昇させられ、開口体4の上端が上に引っ張られ
る。そして、開口体4は、封止状態を維持しながら、軟
化部分が伸びて細くなり、切断される。これにより、く
びれ部28より上側が除去されて、封止されたアンプル
1が完成させられる(図5(f)参照)。
【0063】以上詳述したように、本実施の形態によれ
ば、一連の工程を全て一つの製造装置6において自動的
に実施できるため、人による作業の手間を省くことがで
きる。しかも、開口体4が、製造装置6に設置されてか
ら封止される間には、開口体4の移動を伴わないので、
移動に際しての破損、開口体4内の原料の逸脱等の不具
合の発生を抑制できる。
【0064】また、開口体4の封止される部分の直径が
大きくても、成形部29により、内径の小さいくびれ部
28を比較的容易に成形することができるため、予め内
径の小さい細管を別途用意する必要がない。よって、従
来のように2つの部材を利用せず、1つの部材でよいた
め、材料コストを抑えることができる。加えて、従来の
ように、2つの部材を溶着する際の溶着不具合によって
シール性を低下させることがないので、アンプル1の封
止状態を確実に保持できる。
【0065】尚、上記実施の形態の記載内容に限定され
ず、例えば次のように実施してもよい。
【0066】(a)開口体4の大径部2や小径部3の太
さは、特に上述した直径に限定されものではない。ま
た、上記実施の形態では、大径部2が小径部3に対して
太くなっているが、共に同じ太さでもよい。
【0067】(b)開口体4の材質は、石英ガラスに限
定されるものではなく、他のガラスでもよい。
【0068】(c)上記実施の形態では、バーナ27、
成形部29、ブロア30に対して、アンプル1が回転す
るようになっているが、開口体4を固定して、バーナ2
7、成形部29、ブロア30を開口体4中心として回転
させるようにしてもよい。
【0069】(d)開口体4内を脱気した後にガスを導
入しているが、ガスを導入しなくてもよい。
【0070】(e)開口体4内に導入するガスは、アル
ゴンガスに限られるものではなく、他の不活性ガスや水
素ガス等の他のガスでもよい。
【0071】(f)上記実施の形態では、開口体4を鉛
直方向に支持しているが、水平方向など許容される範囲
で、支持方向を変更させてもよい。
【0072】(g)上記実施の形態では、製造装置6
は、化合物半導体結晶を製造する過程で用いているアン
プル1を製造するための装置であるが、半導体ウエハー
への不純物拡散をするためのアンプル等、他の封止容器
を製造する装置に適用してもよい。
【0073】(h)ローラ34は、くびれ部28が成形
できればよく、その断面形状は、特に限定されるもので
はなく、例えば縁部が湾曲面となっていてもよいし、く
さび形状となっていてもよい。
【0074】(i)上記実施の形態では、くびれ部28
の成形に際し、上部可動板38を若干上昇させることと
しているが、かかる上昇を行うことなく、主としてロー
ラ34のみによってくびれ部28を成形することとして
もよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施の形態における封止容器の製造装置の概
略構成を示す側面図である。
【図2】封止容器の製造装置の概略構成を示す平面図で
ある。
【図3】封止容器の製造装置の部分的構成を示す断面図
である。
【図4】(a)は封止容器としてのアンプルを示す模式
図であり、(b)は開口体を示す模式図である。
【図5】(a)〜(f)は、封止容器製造の流れを説明
するための工程図である。
【図6】(a)〜(f)は、従来の封止容器製造の流れ
を説明するための工程図である。
【符号の説明】
1…封止容器としてのアンプル、2…大径部、3…小径
部、4…開口体、5…開口部、6…製造装置、10…下
部可動板、13…支持手段及び回転手段としてんの回転
支持体、14…台座、19…チャック、27…軟化手段
としてのバーナ、28…くびれ部、29…成形手段とし
ての成形部、30…硬化手段としてのブロア、34…ロ
ーラ、38…上部可動板、41…ヘッド部、43…孔、
45…ダクト、46…固定部、51…脱気手段としての
バキュームポンプ、52…ガス供給手段としてのガスボ
ンベ、53…制御盤。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一端に開口部を有する有底円筒状の開口
    体を支持する支持手段と、 前記開口体の所定位置を含む外周部位を軟化させる軟化
    手段と、 軟化した部位に対し応力を付与することで内周側に窪む
    くびれ部を成形可能な成形手段と、 前記開口体のくびれ部を封止する封止手段とを備えたこ
    とを特徴とする封止容器の製造装置。
  2. 【請求項2】 一端に開口部を有する有底円筒状の開口
    体を支持する支持手段と、 前記開口体を回転中心として前記支持手段を回転可能な
    回転手段と、 回転中の前記開口体の所定位置を加熱することで、該所
    定位置を含む開口体の外周部位を軟化させる軟化手段
    と、 回転中の前記開口体の軟化した部位に対し一定方向へ応
    力を付与することで内周側に窪むくびれ部を成形可能な
    成形手段と、 前記開口体のくびれ部を溶着することで封止する封止手
    段と、 封止部分よりも開口部側を取り除く除去手段とを備えた
    ことを特徴とする封止容器の製造装置。
  3. 【請求項3】 前記除去手段は、前記封止手段にて封止
    される際、又は、封止後に、前記開口部側を保持した状
    態で引っ張る引張手段を備えることを特徴とする請求項
    2に記載の封止容器の製造装置。
  4. 【請求項4】 前記封止手段にて封止される際の前記開
    口体内の圧力が、外気圧力より低くされるようにしたこ
    とを特徴とする手段1乃至3のいずれかに記載の封止容
    器の製造装置。
  5. 【請求項5】 前記封止手段にて封止する前段階におい
    て、前記開口体内の脱気をする脱気手段を備えたことを
    特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の封止容器
    の製造装置。
  6. 【請求項6】 前記封止手段は、前記軟化手段を備える
    ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の封
    止容器の製造装置。
  7. 【請求項7】 前記開口体内に所定のガスを供給するガ
    ス供給手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至6の
    いずれかに記載の封止容器の製造装置。
  8. 【請求項8】 前記成形手段が前記応力を付与する際
    に、前記開口部側を保持した状態で引っ張るよう構成し
    たことを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の
    封止容器の製造装置。
  9. 【請求項9】 前記成形手段は、ローラを備え、該ロー
    ラから応力が付与されるようにしたことを特徴とする請
    求項1乃至8のいずれかに記載の封止容器の製造装置。
  10. 【請求項10】 軟化させた部位を冷却することで硬化
    を促進させる硬化手段を備えたことを特徴とする請求項
    1乃至9のいずれかに記載の封止容器の製造装置。
  11. 【請求項11】 前記開口体はガラスよりなり、前記支
    持手段にて支持される開口体内部には化合物半導体結晶
    の原料が入れられることを特徴とする請求項1乃至10
    のいずれかに記載の封止容器の製造装置。
  12. 【請求項12】 一端に開口部を有する有底円筒状の開
    口体を支持する支持工程と、 前記支持されている開口体の所定位置を含む開口体の外
    周部位を加熱することで軟化させる軟化工程と、 前記支持されている開口体の軟化した部位に対し応力を
    付与することで内周側に窪むくびれ部を成形する成形工
    程と、 前記支持されている開口体のくびれ部を溶着することで
    封止する封止工程とを備えたことを特徴とする封止容器
    の製造方法。
  13. 【請求項13】 一端に開口部を有する有底円筒状の開
    口体を支持する支持工程と、 前記開口体を回転中心として回転させる回転工程と、 回転中の前記開口体の所定位置を含む開口体の外周部位
    を加熱することで軟化させる軟化工程と、 回転中の前記開口体の軟化した部位に対し一定方向へ応
    力を付与することで内周側に窪むくびれ部を成形する成
    形工程と、 前記開口体のくびれ部を溶着することで封止する封止工
    程と、 封止部分よりも開口部側を取り除く除去工程とを備えた
    ことを特徴とする封止容器の製造方法。
  14. 【請求項14】 前記封止工程にて封止される際に、前
    記開口体内の圧力が外気圧力より低くなるようにしたこ
    とを特徴とする請求項12又は13に記載の封止容器の
    製造方法。
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