JP2002529776A - 陰極線管用のレーザ照射装置。 - Google Patents
陰極線管用のレーザ照射装置。Info
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Abstract
(57)【要約】
陰極線管の感光層は、レーザ照射装置によって照射される。レーザ照射装置は、レーザビームの干渉を減少させるように作用するホモジナイザを具える。
Description
【０００１】
本発明は、陰極線管の製造の際に感光層への照射を行うレーザ照射装置であっ
て、レーザと、陰極線管の表示窓に設けられた感光層上でレーザ光を収束させる
光収束装置とを具えるレーザ照射装置に関するものである。
て、レーザと、陰極線管の表示窓に設けられた感光層上でレーザ光を収束させる
光収束装置とを具えるレーザ照射装置に関するものである。
【０００２】
そのような照射装置は、特に陰極線管の表示窓上に蛍光体パターン及びブラッ
クマトリックスパターンを形成するために、陰極線管を製造する際に使用される
。 冒頭で説明したタイプの照射装置は、米国特許第４，１１７，１１７号に開示
されている。この特許出願において、レーザビームによって感光層を照射する装
置が記載されている。蛍光体層は、陰極線管の表示窓の表面に設けられる。照射
は、レーザ光を収束させるとともにそれを感光層を横切るように走査させること
によって行う。複数の開口を具えるシャドーマスクは、照明装置と感光層との間
に配置される。レーザ光は、シャドーマスクの後方にパターンを形成するような
角度で、シャドーマスクの開口を通じて指導される。このプロセスは、複数の互
いに相違する角度が繰り返され、これによって、複数のパターンが形成される。
このようにして、蛍光体パターン及び／又はブラックマトリックスパターンが設
けられる。 感光層を照射するためにレーザを使用することによって、複数の利点が得られ
るが、実際には、上記方法を用いることによって、照射パターンに変動が生じる
おそれがあり、その結果、不良品の個数（＝課された品質要求に適合せず、した
がって、製造プロセスから除去する必要がある照射された感光層の個数／割合）
が増加する。
クマトリックスパターンを形成するために、陰極線管を製造する際に使用される
。 冒頭で説明したタイプの照射装置は、米国特許第４，１１７，１１７号に開示
されている。この特許出願において、レーザビームによって感光層を照射する装
置が記載されている。蛍光体層は、陰極線管の表示窓の表面に設けられる。照射
は、レーザ光を収束させるとともにそれを感光層を横切るように走査させること
によって行う。複数の開口を具えるシャドーマスクは、照明装置と感光層との間
に配置される。レーザ光は、シャドーマスクの後方にパターンを形成するような
角度で、シャドーマスクの開口を通じて指導される。このプロセスは、複数の互
いに相違する角度が繰り返され、これによって、複数のパターンが形成される。
このようにして、蛍光体パターン及び／又はブラックマトリックスパターンが設
けられる。 感光層を照射するためにレーザを使用することによって、複数の利点が得られ
るが、実際には、上記方法を用いることによって、照射パターンに変動が生じる
おそれがあり、その結果、不良品の個数（＝課された品質要求に適合せず、した
がって、製造プロセスから除去する必要がある照射された感光層の個数／割合）
が増加する。
【０００３】
本発明の目的は、冒頭で説明したタイプの向上した照射装置を提供することで
ある。 このために、本発明によるレーザ照射装置は、前記レーザと光収束装置との間
に配置され又は前記光収束装置の一部を構成するビームホモゲナイザを具えるこ
とを特徴とするものである。 ビームホモゲナイザによって、ビームホモゲナイザに入射するレーザビームの
干渉が減少する。 レーザビームは、収束されたコヒーレントな光ビームである。実際には、不所
望な干渉パターン及び反射パターンが生じる。コヒーレントなレーザ光のビーム
はそれ自体干渉を生じ、これによって干渉パターンが生じる。例えば空気中又は
レンズやミラーのような光学素子上の埃粒子での散乱も生じる。その干渉パター
ン及び散乱パターンは予測できない。実際のビームの外側及び重ね合わせ部分に
おいて、パターンはある種の点のパターンを形成する。逸脱した強度すなわち所
望の強度以外の強度の光が、感光層の所定の位置に入射し、これは不所望である
。これによって不良品が生じる。本発明によるレーザ照射装置において、レーザ
ビームはビームホモゲナイザによって制御される。そのビームホモゲナイザでは
、ビームホモゲナイザに入射するコヒーレントなレーザビームは、ほとんどコヒ
ーレントでないビームに変換される。実際には、複数のサブビームがビームイン
テグレータで形成され、それは共同して幅広いビームを形成する。干渉が著しく
減少し、好適には消失するので、レーザビームそれ自体の干渉パターンがほとん
ど生じなくなる。埃粒子の反射が生じるおそれがあるが、ビームは一般に幅広く
なるので、反射される光の強度が小さくなり、更に重要なことには、レーザビー
ムの干渉が減少し、反射光は、更に広い空間角度(space angle)に亘って広が（
り、集中度がいちじくしく減少す）る。埃又は他の粒子の結果として感光層のス
ポットに発生するおそれがある最大強度の逸脱は、大幅に減少する。 従来の既知の状態とは異なり、好適には、レーザビームを感光層を横切るよう
に走査させる代わりに、レーザ照射装置は、感光層にレーザビームを収束させる
広角対物レンズを具える。これは、移動部が必要でないという利点を有する。移
動部によって、画像又はレーザ照射装置のセッティングを妨害するおそれがある
振動を発生させるおそれがある。さらに、移動部は、故障の影響を受けやすく、
比較的多くのメンテナンスワークが要求される。 広角対物レンズを使用することによって、仮想光源を形成することができる。
好適には、仮想光源のサイズを、１−２．５ｍｍの範囲とする。光の強度が、シ
ャドーマスクの開口の後方で顕著なリップルを示し、それは不所望である。サイ
ズが２．５ｍｍを超える場合、強度が弱くなる。好適にはサイズは１．５ｍｍを
超える。 好適には、ビームホモゲナイザから出射するビームの形状が陰極線管の感光層
の形状とほぼ同一となるように、ビームホモゲナイザを構成する。このために、
４×３表示スクリーンを照射するに当たり、（ビームホモゲナイザを通じて案内
された後に）約４×３の長さ／幅比を有するレーザビームを使用し、１６×９表
示スクリーンを照射するに当たり、約１６×９の長さ／幅比を有するレーザビー
ムを使用する。これによって、照射効率（使用される光の量）を増大させること
ができる。
ある。 このために、本発明によるレーザ照射装置は、前記レーザと光収束装置との間
に配置され又は前記光収束装置の一部を構成するビームホモゲナイザを具えるこ
とを特徴とするものである。 ビームホモゲナイザによって、ビームホモゲナイザに入射するレーザビームの
干渉が減少する。 レーザビームは、収束されたコヒーレントな光ビームである。実際には、不所
望な干渉パターン及び反射パターンが生じる。コヒーレントなレーザ光のビーム
はそれ自体干渉を生じ、これによって干渉パターンが生じる。例えば空気中又は
レンズやミラーのような光学素子上の埃粒子での散乱も生じる。その干渉パター
ン及び散乱パターンは予測できない。実際のビームの外側及び重ね合わせ部分に
おいて、パターンはある種の点のパターンを形成する。逸脱した強度すなわち所
望の強度以外の強度の光が、感光層の所定の位置に入射し、これは不所望である
。これによって不良品が生じる。本発明によるレーザ照射装置において、レーザ
ビームはビームホモゲナイザによって制御される。そのビームホモゲナイザでは
、ビームホモゲナイザに入射するコヒーレントなレーザビームは、ほとんどコヒ
ーレントでないビームに変換される。実際には、複数のサブビームがビームイン
テグレータで形成され、それは共同して幅広いビームを形成する。干渉が著しく
減少し、好適には消失するので、レーザビームそれ自体の干渉パターンがほとん
ど生じなくなる。埃粒子の反射が生じるおそれがあるが、ビームは一般に幅広く
なるので、反射される光の強度が小さくなり、更に重要なことには、レーザビー
ムの干渉が減少し、反射光は、更に広い空間角度(space angle)に亘って広が（
り、集中度がいちじくしく減少す）る。埃又は他の粒子の結果として感光層のス
ポットに発生するおそれがある最大強度の逸脱は、大幅に減少する。 従来の既知の状態とは異なり、好適には、レーザビームを感光層を横切るよう
に走査させる代わりに、レーザ照射装置は、感光層にレーザビームを収束させる
広角対物レンズを具える。これは、移動部が必要でないという利点を有する。移
動部によって、画像又はレーザ照射装置のセッティングを妨害するおそれがある
振動を発生させるおそれがある。さらに、移動部は、故障の影響を受けやすく、
比較的多くのメンテナンスワークが要求される。 広角対物レンズを使用することによって、仮想光源を形成することができる。
好適には、仮想光源のサイズを、１−２．５ｍｍの範囲とする。光の強度が、シ
ャドーマスクの開口の後方で顕著なリップルを示し、それは不所望である。サイ
ズが２．５ｍｍを超える場合、強度が弱くなる。好適にはサイズは１．５ｍｍを
超える。 好適には、ビームホモゲナイザから出射するビームの形状が陰極線管の感光層
の形状とほぼ同一となるように、ビームホモゲナイザを構成する。このために、
４×３表示スクリーンを照射するに当たり、（ビームホモゲナイザを通じて案内
された後に）約４×３の長さ／幅比を有するレーザビームを使用し、１６×９表
示スクリーンを照射するに当たり、約１６×９の長さ／幅比を有するレーザビー
ムを使用する。これによって、照射効率（使用される光の量）を増大させること
ができる。
【０００４】
図面は線形的であり、寸法通りではない。図面中、一般に同様な参照番号は同
様なパーツを称するものとする。 図１は、米国特許出願第４，１７７，１７７号に示すようなレーザ照射装置の
線形的に簡単化した図である。レーザ照射装置は、レーザ１と、装置２とを具え
る。装置２は、レンズＬ１及びＬ２を有する第１セット３と、軸Ｍ１及びＭ２の
周りで回転する移動可能なミラーＭ１及びＭ２のセットを有する走査部４と、レ
ンズＬ３及びＬ４を有する第２セット５と、軸Ｃ及びＤの周りで回転する移動可
能なミラーＭ３を有する他の走査部６とを有する。これらレンズのセットによっ
て、ビーム直径を拡大するとともに、ビーム７を、ディスプレイ窓１０の上の感
光層９上に収束させる。シャドーマスク８を、感光層の前に配置する。走査部は
、ビームを偏向させるとともに、感光層を走査する。 図２は、本発明によるレーザ照射装置の線形的に簡単化した図である。本例で
は、感光層を走査する。ビームホモジナイザを、レーザ１とレンズＬ１との間に
配置する。このビームインテグレータ(integrator)において、入射面に入射する
レーザビームの直径は増大し、レーザビームは均一にされ、すなわち、出射面か
ら出射するレーザ光の強度が出射窓の面全体に亘ってほぼ均一になり、出射光の
干渉が減少し又は出現しなくなる。本例では、ビームホモジナイザをレーザとレ
ンズＬ１との間に配置する。これを、狭い意味に解釈すべきでない。このビーム
ホモジナイザを、例えば、レンズＬ２とミラーＭ１との間に配置することもでき
る。 図３は、本発明によるレーザ照射装置の他の例を示す。レーザ１（レーザ１を
図３に示さない。）から発生したレーザビーム７は、テレスコープレンズ系Ｌ１
，Ｌ２を通過する。その後、レーザビーム７の方向がプリズムＰ１によって９０
°変化し、ビームがビームホモジナイザ２１で均一にされ、ビーム方向がプリズ
ムＰ２によって９０°変化し、ビームは、広角対物レンズ３２によって表示窓上
の感光層９上に収束される。ビームホモジナイザは、例えば、（２５−５０ｃｍ
の長さを有する）細長い水晶棒を有する。棒の側壁の内部反射の結果、入射レー
ザビーム７の干渉が減少し、好適には消失する。レーザビームの二つのサブビー
ム７ａ及び７ｂを、広角対物レンズ３２を通過するビーム経路とともに示す。全
てのサブビームは、広角対物レンズの仮想光源（ＶＰ）から発生する。仮想光源
の（仮想）サイズは、後に説明するように重要なパラメータである。本例では、
装置は、複数の面を有するフレネルレンズ３３も有する。このレンズによって、
レーザビームの収束が、特にレーザビームが感光層に入射する角度において向上
する。照射中、フレネルレンズは、面間の遷移が感光層上で見えるのを妨げるよ
うに小さい移動を行う。好適には、棒２１の入射面の前に散光器を配置する。散
光器によって、レーザビームを散乱して通過させることができ、レーザビームの
分散の角度を増大させる。その結果、棒の側面で更に多くの反射が生じ、レーザ
ビームの干渉が更に減少し、出射窓３５を横切る（強度に関する）レーザビーム
の均一性が増大する。好適には、出射窓は、僅かに焦点をぼかすように感光層９
上への収束を行う。先鋭な収束の場合、出射窓上の埃粒子によって、感光窓上に
おける強度の不所望な減少が生じる。焦点をぼかすことによって、この問題を著
しく減少させる。 図４は、ビームホモジナイザの他の例の線形的な断面図である。このタイプの
ビームホモジナイザは、図３に示す棒の代わりとして使用される。本例において
、ビームホモジナイザは、複数（例えば３２（４×８）個の）レンズ２３を有す
る入射面２２を具える。そのレンズは、面２７に収束される複数のサブビームを
形成する。この面はＦ点（図３参照）で収束される。その入射面は、複数のレン
ズ２４及びレンズ２５も有する。レンズ２３に入射するレーザビームは、複数の
サブビームに分割され、そのうちの３本（２８，２９及び３０）を図４に示す。
サブビーム間に小さい経路長差が生じる。したがって、全てのサブビームが面３
１に集中する出射ビームは、複数のサブビームから構成される。その結果、光の
干渉が減少する。面３１は、感光層９の上に結像される（図３参照）。本例では
、この面を、先鋭に収束されるように結像する。その理由は、それが、（図３に
示す棒の場合のように）固定された面によって形成されないからである。 図５は、広角対物レンズ３２の線形的な断面図である。レーザビームは、広角
対物レンズ３２によって、シャドーマスク８の開口を通じて感光層９の上に収束
される。全ての光ビームは、仮想光源ＶＰから発生するように思われる。したが
って、この装置において、感光層は、単一の工程で照射され及び露出される。既
知の装置とは異なり、レーザビームは感光層を走査しない。レーザビームが感光
層を走査する図１に示すような装置に対する広角対物レンズの使用の利点は、移
動部を必要としないことである。移動部によって、照射及び／又は装置に悪影響
を及ぼすおそれがある振動が生じる。さらに、走査によっていわゆるステッチ問
題(stitching problem)が生じる。レーザビームは、複数の区域において感光層
を走査する。区域が重複する箇所で問題が生じるおそれがある。照射すべき部分
が重複を表さない場合、感光層の一部が照射されないが、それが重複を表す場合
、感光層の一部が２回照射される。いずれの場合も問題が生じる。照射されない
部分は使用することができず、それに対して２回照射された部分は過度の光を受
光する。図３に示す装置ではそのような問題が生じない。その理由は、感光層が
１本のレーザビームによって完全に照射されるからである。上記問題（干渉現象
）が、レーザビームによって走査を行う装置の問題を構成する場合、その問題は
、走査が行われない場合に大きくなる。上記干渉パターンによって生じた問題は
、レーザビームによる走査が行われる場合、走査によって僅かに減少する。予測
しない不所望な強度の差は、ビームの移動によって大きな表面全体に亘って分布
し、その結果、その影響は小さくなる。このような「スムージング」の影響は、
レーザビームが固定された照射装置では生じない。 既に説明したように、仮想光源ＶＰの寸法は、シャドーマスクを介して照射が
行われる場合に重要である。 図６は、仮想光源ＶＰ（ΦＶＰ）の直径の関数としてシャドーマスクの開口の
後方の感光層上の強度分布を示す。０．５ｍｍの直径では、強度は明瞭なピーク
を示す。これは不所望である。このピークは、仮想光源の直径が増大するに従っ
て消失する。このように直径を増大させることによって、最大強度が減少する。
このために、好適には、仮想光源の寸法（すなわちある方向の直径）は１−２．
５ｍｍの範囲となる。 これまで、本発明を、レーザ照査装置について説明した。以後、本発明による
方法を説明する。 陰極線管の表示窓上の感光層を、レーザビームからの光によって照射し、その
レーザビームは、感光層に到達する前にビームホモジナイザによって案内される
。その結果、悪影響を及ぼす干渉パターンの発生を減少させ又は防止する。好適
には、レーザビームは、広角対物レンズを通じて更に案内され、その結果、レー
ザビームは、感光層全体に亘って広がる。本発明による他の好適な実施の形態は
、レーザ光を散光器によって案内する。 本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、幾多の変更及び変形が
可能である。
様なパーツを称するものとする。 図１は、米国特許出願第４，１７７，１７７号に示すようなレーザ照射装置の
線形的に簡単化した図である。レーザ照射装置は、レーザ１と、装置２とを具え
る。装置２は、レンズＬ１及びＬ２を有する第１セット３と、軸Ｍ１及びＭ２の
周りで回転する移動可能なミラーＭ１及びＭ２のセットを有する走査部４と、レ
ンズＬ３及びＬ４を有する第２セット５と、軸Ｃ及びＤの周りで回転する移動可
能なミラーＭ３を有する他の走査部６とを有する。これらレンズのセットによっ
て、ビーム直径を拡大するとともに、ビーム７を、ディスプレイ窓１０の上の感
光層９上に収束させる。シャドーマスク８を、感光層の前に配置する。走査部は
、ビームを偏向させるとともに、感光層を走査する。 図２は、本発明によるレーザ照射装置の線形的に簡単化した図である。本例で
は、感光層を走査する。ビームホモジナイザを、レーザ１とレンズＬ１との間に
配置する。このビームインテグレータ(integrator)において、入射面に入射する
レーザビームの直径は増大し、レーザビームは均一にされ、すなわち、出射面か
ら出射するレーザ光の強度が出射窓の面全体に亘ってほぼ均一になり、出射光の
干渉が減少し又は出現しなくなる。本例では、ビームホモジナイザをレーザとレ
ンズＬ１との間に配置する。これを、狭い意味に解釈すべきでない。このビーム
ホモジナイザを、例えば、レンズＬ２とミラーＭ１との間に配置することもでき
る。 図３は、本発明によるレーザ照射装置の他の例を示す。レーザ１（レーザ１を
図３に示さない。）から発生したレーザビーム７は、テレスコープレンズ系Ｌ１
，Ｌ２を通過する。その後、レーザビーム７の方向がプリズムＰ１によって９０
°変化し、ビームがビームホモジナイザ２１で均一にされ、ビーム方向がプリズ
ムＰ２によって９０°変化し、ビームは、広角対物レンズ３２によって表示窓上
の感光層９上に収束される。ビームホモジナイザは、例えば、（２５−５０ｃｍ
の長さを有する）細長い水晶棒を有する。棒の側壁の内部反射の結果、入射レー
ザビーム７の干渉が減少し、好適には消失する。レーザビームの二つのサブビー
ム７ａ及び７ｂを、広角対物レンズ３２を通過するビーム経路とともに示す。全
てのサブビームは、広角対物レンズの仮想光源（ＶＰ）から発生する。仮想光源
の（仮想）サイズは、後に説明するように重要なパラメータである。本例では、
装置は、複数の面を有するフレネルレンズ３３も有する。このレンズによって、
レーザビームの収束が、特にレーザビームが感光層に入射する角度において向上
する。照射中、フレネルレンズは、面間の遷移が感光層上で見えるのを妨げるよ
うに小さい移動を行う。好適には、棒２１の入射面の前に散光器を配置する。散
光器によって、レーザビームを散乱して通過させることができ、レーザビームの
分散の角度を増大させる。その結果、棒の側面で更に多くの反射が生じ、レーザ
ビームの干渉が更に減少し、出射窓３５を横切る（強度に関する）レーザビーム
の均一性が増大する。好適には、出射窓は、僅かに焦点をぼかすように感光層９
上への収束を行う。先鋭な収束の場合、出射窓上の埃粒子によって、感光窓上に
おける強度の不所望な減少が生じる。焦点をぼかすことによって、この問題を著
しく減少させる。 図４は、ビームホモジナイザの他の例の線形的な断面図である。このタイプの
ビームホモジナイザは、図３に示す棒の代わりとして使用される。本例において
、ビームホモジナイザは、複数（例えば３２（４×８）個の）レンズ２３を有す
る入射面２２を具える。そのレンズは、面２７に収束される複数のサブビームを
形成する。この面はＦ点（図３参照）で収束される。その入射面は、複数のレン
ズ２４及びレンズ２５も有する。レンズ２３に入射するレーザビームは、複数の
サブビームに分割され、そのうちの３本（２８，２９及び３０）を図４に示す。
サブビーム間に小さい経路長差が生じる。したがって、全てのサブビームが面３
１に集中する出射ビームは、複数のサブビームから構成される。その結果、光の
干渉が減少する。面３１は、感光層９の上に結像される（図３参照）。本例では
、この面を、先鋭に収束されるように結像する。その理由は、それが、（図３に
示す棒の場合のように）固定された面によって形成されないからである。 図５は、広角対物レンズ３２の線形的な断面図である。レーザビームは、広角
対物レンズ３２によって、シャドーマスク８の開口を通じて感光層９の上に収束
される。全ての光ビームは、仮想光源ＶＰから発生するように思われる。したが
って、この装置において、感光層は、単一の工程で照射され及び露出される。既
知の装置とは異なり、レーザビームは感光層を走査しない。レーザビームが感光
層を走査する図１に示すような装置に対する広角対物レンズの使用の利点は、移
動部を必要としないことである。移動部によって、照射及び／又は装置に悪影響
を及ぼすおそれがある振動が生じる。さらに、走査によっていわゆるステッチ問
題(stitching problem)が生じる。レーザビームは、複数の区域において感光層
を走査する。区域が重複する箇所で問題が生じるおそれがある。照射すべき部分
が重複を表さない場合、感光層の一部が照射されないが、それが重複を表す場合
、感光層の一部が２回照射される。いずれの場合も問題が生じる。照射されない
部分は使用することができず、それに対して２回照射された部分は過度の光を受
光する。図３に示す装置ではそのような問題が生じない。その理由は、感光層が
１本のレーザビームによって完全に照射されるからである。上記問題（干渉現象
）が、レーザビームによって走査を行う装置の問題を構成する場合、その問題は
、走査が行われない場合に大きくなる。上記干渉パターンによって生じた問題は
、レーザビームによる走査が行われる場合、走査によって僅かに減少する。予測
しない不所望な強度の差は、ビームの移動によって大きな表面全体に亘って分布
し、その結果、その影響は小さくなる。このような「スムージング」の影響は、
レーザビームが固定された照射装置では生じない。 既に説明したように、仮想光源ＶＰの寸法は、シャドーマスクを介して照射が
行われる場合に重要である。 図６は、仮想光源ＶＰ（ΦＶＰ）の直径の関数としてシャドーマスクの開口の
後方の感光層上の強度分布を示す。０．５ｍｍの直径では、強度は明瞭なピーク
を示す。これは不所望である。このピークは、仮想光源の直径が増大するに従っ
て消失する。このように直径を増大させることによって、最大強度が減少する。
このために、好適には、仮想光源の寸法（すなわちある方向の直径）は１−２．
５ｍｍの範囲となる。 これまで、本発明を、レーザ照査装置について説明した。以後、本発明による
方法を説明する。 陰極線管の表示窓上の感光層を、レーザビームからの光によって照射し、その
レーザビームは、感光層に到達する前にビームホモジナイザによって案内される
。その結果、悪影響を及ぼす干渉パターンの発生を減少させ又は防止する。好適
には、レーザビームは、広角対物レンズを通じて更に案内され、その結果、レー
ザビームは、感光層全体に亘って広がる。本発明による他の好適な実施の形態は
、レーザ光を散光器によって案内する。 本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、幾多の変更及び変形が
可能である。
【図１】 従来のレーザ照射装置を線形的に示す。
【図２】 本発明によるレーザ照射装置を線形的に示す。
【図３】 本発明によるレーザ照射装置の他の例を線形的に示す。
【図４】 ビームインテグレータの例のビームホモジナイザの線形的な側面図で
ある。
ある。
【図５】 本発明によるレーザ照射装置で適切に使用される広角対物レンズを線
形的に示す。
形的に示す。
【図６】 仮想ソースのサイズとシャドーマスクの後方の光の強度の形状との間
の関係を線形的に示す。
の関係を線形的に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 Ｇｒｏｅｎｅｗｏｕｄｓｅｗｅｇ １， 5621 ＢＡ Ｅｉｎｄｈｏｖｅｎ， Ｔｈ ｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ Ｆターム(参考） 2H042 BA10 BA12 BA16 5C028 GG06 GG09 GG10 5F072 JJ08 MM08 MM12
Claims (8)
- 【請求項１】 陰極線管の製造の際に感光層への照射を行うレーザ照射装置であ
って、レーザと、陰極線管の表示窓に設けられた感光層上でレーザ光を収束させ
る光収束装置とを具えるレーザ照射装置において、前記レーザと光収束装置との
間に配置され又は前記光収束装置の一部を構成するビームホモゲナイザを具える
ことを特徴とするレーザ照射装置。 - 【請求項２】 前記ビームホモゲナイザを、前記ビームホモゲナイザから出射し
たレーザビームが矩形となるように形成したことを特徴とする請求項１記載のレ
ーザ照射装置。 - 【請求項３】 ビームインテグレータから出射した光を収束する広角対物レンズ
を有することを特徴とする請求項１記載のレーザ照射装置。 - 【請求項４】 前記感光層から見て、前記広角対物レンズから出射したレーザビ
ームが仮想光源から到来するようにし、その仮想光源が、所定の方向で１−２．
５ｍｍの範囲の寸法を有するように構成したことを特徴とする請求項３記載のレ
ーザ照射装置。 - 【請求項５】 前記レーザビームによって前記感光層を走査する手段を具えるこ
とを特徴とする請求項１記載のレーザ照射装置。 - 【請求項６】 前記ビームホモゲナイザの前方に配置した散光器を具えることを
特徴とする請求項１記載のレーザ照射装置。 - 【請求項７】 陰極線管の表示窓の上の感光層がレーザビームからの光によって
照射される陰極線管の製造方法において、前記レーザビームを、前記感光層に到
達する前にビームホモゲナイザによって案内することを特徴とする陰極線管製造
方法。 - 【請求項８】 前記レーザビームを広角対物レンズによって案内して、前記レー
ザビームを前記感光層上に広げることを特徴とする陰極線管製造方法。
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