JP2002365246A - Ｘ線マッピング分析方法 - Google Patents

Ｘ線マッピング分析方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 Ｘ線マッピング分析において、含有物やその
濃度が異なる領域を自動的にグループ分けし、代表的な
Ｘ線スペクトルを取得する。 【解決手段】 スペクトルデータベースを空にして測定
を開始し、測定で得たＸ線スペクトルと前記スペクトル
データベース内のＸ線スペクトルとをスペクトル比較手
段で比較し、データベース内に一致するＸ線スペクトル
が存在しない場合に、測定で得たＸ線スペクトルをデー
タベースに追加登録し、指定された測定を繰り返す。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線を検出して元
素の分布状態を調査する、Ｘ線マッピング装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、第１の方法として、着目元素及び
着目元素のＸ線強度を積算するＸ線エネルギ領域をあら
かじめ指定し、測定を行った場所と測定スペクトルから
得られたＸ線強度の情報を蓄積し、Ｘ線強度の大小の情
報を使用して、分布の分析を行っていた。
【０００３】第２の方法として、全ての測定点で得られ
たＸ線スペクトルを保存し、測定後にＸ線スペクトルを
使用して、分析を行っていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、第１の分析方
法では、事前に予測しなかった元素が試料中に存在した
場合、その元素の存在と分布の情報を見過ごしてしまう
という重大な欠点を有している。
【０００５】第２の方法は、全ての測定スペクトルを保
存するため、情報源としては最大限に存在するが、測定
後に全てのスペクトルを解析するためには、非常に多く
の時間を要するという欠点を有している。
【０００６】本発明は、Ｘ線マッピング分析において、
試料内の含有物が違う領域及び含有物の濃度が違う領域
を自動的にグループ分けし、測定後、直ちに詳細な分析
作業ができるデータを提供することを本発明の課題とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するため、以下の手段を採用した。
【０００８】試料に１次ビームを照射しＸ線を励起させ
る励起手段と、試料に対して前記１次ビームを前後左右
に制御できる１次ビーム制御手段と、前記試料からのＸ
線をエネルギ弁別しながらＸ線強度を計数するＸ線検出
手段と、前記Ｘ線検出手段で得た２つのＸ線スペクトル
を比較するスペクトル比較手段と、測定の途中でＸ線ス
ペクトルを登録できるスペクトルデータベースとを備え
たＸ線マッピング装置において、前記スペクトルデータ
ベースを空にした状態で測定を開始し、前記１次ビーム
制御手段によって試料内の指定された場所に１次ビーム
を照射し、一定時間試料に１次ビームを照射して測定ス
ペクトルを取得し、測定で得たＸ線スペクトルと前記ス
ペクトルデータベース内のＸ線スペクトルとをスペクト
ル比較手段で比較し、データベース内に一致するＸ線ス
ペクトルが存在しない場合に、測定で得たＸ線スペクト
ルをデータベースに追加登録し、指定された測定点での
測定を繰り返す。以上の手順を実施することで、データ
ベースには、試料中に存在する代表的なスペクトルを取
得できることを特徴とするＸ線マッピング分析方法。
【０００９】前記Ｘ線マッピング分析方法において、デ
ータベース内のＸ線スペクトルに番号を付番し、比較手
段によって判定した結果を、データベース番号で保存
し、データベース番号の情報と測定の位置情報を使用し
て分析結果を表示することで、視覚的に元素の分布を確
認することができるＸ線マッピング分析方法。
【００１０】前記２つのＸ線マッピング分析方法におい
て、データベース内に一致しているＸ線スペクトルが存
在しない場合に、同じ場所で再度長時間の測定を行い、
そのときに得られたスペクトルをデータベースに保存す
ることで、ばらつきの小さなＸ線スペクトルが得られる
ことを特徴とするＸ線マッピング分析方法。
【００１１】前記Ｘ線マッピング分析方法のスペクトル
比較手段の第１の方法として、着目元素及び着目元素の
Ｘ線強度を積算するＸ線エネルギ領域をあらかじめ指定
し、データベースのＸ線スペクトルの各元素のＸ線強度
と、測定スペクトルにおける各元素のＸ線強度とを比較
し、基準以上に変化した場合に、異なるスペクトルと判
定することを特徴とするＸ線マッピング分析方法。
【００１２】前記Ｘ線マッピング分析方法のスペクトル
比較手段の第２の方法として、着目元素及び着目元素の
Ｘ線強度を積算するＸ線エネルギ領域をあらかじめ指定
し、データベースのＸ線スペクトルにおいて、着目元素
のＸ線強度の合計値と、各元素のＸ線強度との強度比率
を算出する。測定スペクトルにおいて、着目元素のＸ線
強度の合計値と各元素のＸ線強度との比率を算出し、同
一元素での強度比率を比較して、基準以上に変化してい
る場合に、異なるスペクトルと判定することを特徴とす
るＸ線マッピング分析方法。
【００１３】前記Ｘ線マッピング分析方法のスペクトル
比較手段の第３の方法として、データベースのＸ線スペ
クトルと測定スペクトルのピークが存在するエネルギを
列挙して、各ピークの有無によって異なるスペクトルと
判定することを特徴とするＸ線マッピング装置。
【００１４】前記Ｘ線マッピング分析方法において、１
次ビームがＸ線ビームであることを特徴とするＸ線マッ
ピング分析方法。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照して実施例をあげながら説明する。
【００１６】始めに、本発明の基本となる分析手順を説
明する。図１の分析手順１として、代表的なＸ線スペク
トルを蓄積するためのスペクトルデータベースを空にす
る。分析手順２で、試料に照射する１次ビームの位置制
御を行い試料に１次ビームを照射する。Ｘ線検出手段で
指定された時間、Ｘ線スペクトルを蓄積する。分析手順
３で、取得したＸ線スペクトルとスペクトルデータベー
ス内のＸ線スペクトルとを比較手段で比較する。第１点
目の測定を行った場合、スペクトルデータベースには、
Ｘ線スペクトルは蓄積されていないため、一致するＸ線
スペクトルは存在しないという判定になる。第２点目以
降の測定の場合、スペクトルデータベースに蓄積されて
いるＸ線スペクトル全てと比較処理を行う。分析手順４
は、分析手順３の判定の結果によって分岐処理を行う部
分であり、判定の結果一致するＸ線スペクトルが無い場
合分析手順５へ遷移し、判定の結果一致しているＸ線ス
ペクトルがある場合、分析手順６へ遷移する。分析手順
５では、分析手順２で取得したＸ線スペクトルをスペク
トルデータベースに追加登録を行う。分析手順６では、
分析が未終了の場合分析手順２へ遷移し、終了の場合測
定作業を終了する。
【００１７】以上の手順で分析作業を行うことで、スペ
クトルデータベースには、分析試料の中で、含有物が違
う領域及び含有物の濃度が違う領域の代表的なＸ線スペ
クトルを自動的に取得することができる。
【００１８】第２に、本発明を実現するための装置の例
を説明する。
【００１９】図２において、１次ビームにＸ線を使用し
た装置の例を説明する。
【００２０】１次ビームを照射する励起手段７にＸ線発
生装置を用いる。必要に応じてＸ線を絞るコリメータを
装着する。測定試料１２に対して照射する１次ビーム８
はＸ線ビームとなる。測定試料１２からは、試料から得
られるＸ線１０として蛍光Ｘ線が放出され、Ｘ線検出手
段９としてＳｉＬｉ検出器などのエネルギ弁別できるＸ
線検出器を用いて、Ｘ線を検出する。
【００２１】スペクトルを比較する手段１３として、コ
ンピュータシステム及びソフトウェアによってＸ線スペ
クトルの比較処理を行い、スペクトルデータベースを保
管する手段１４としてハードディスクを用いる。試料と
１次ビームの位置関係を制御する試料ステージとして、
ＸＹステージを用いる。
【００２２】第３に、図３に示した分析手順は、データ
ベーススペクトルに格納された特性をもった領域がどの
ように分布しているかを、得るための手順である。
【００２３】図１の分析手順に対して、分析手順１９で
スペクトルデータベースに対してＸ線スペクトルを保存
するときに、各スペクトルに通し番号を付け、終了判定
前に、分析手順２０で各測定スペクトルが一致したスペ
クトルデータベースの番号を保存する処理を追加する。
【００２４】以上の手順で分析作業を行うことで、デー
タベーススペクトルに格納された特性をもった領域がど
のように分布しているかを、得ることができる。後処理
として、測定位置の情報とスペクトルデータベースの番
号の関係を表示することで、視覚的に分布の状態を確認
することができる。
【００２５】第４に、図４に示した分析手順は、データ
ベーススペクトルにばらつきの小さなＸ線スペクトルを
得るための分析手順である。
【００２６】図１の分析手順に対して、スペクトルデー
タベース内に一致するＸ線スペクトルが無かった場合
に、分析手順２６で測定時間を長くしてＸ線スペクトル
を再取得する処理を追加する。
【００２７】以上の手順で分析作業を行うことで、スペ
クトルデータベースには、ばらつきの小さなＸ線スペク
トルが得られる。
【００２８】例えば、１次ビームがＸ線の場合、分析手
順２３の試料に１次ビームを照射してＸ線スペクトルを
取得するときに１０秒間の測定を実施する。分析手順２
６では１００秒間の測定を行う。含有物の有無の判定で
あれば、１０秒程度で十分判定でき、濃度を正確に算出
する目的で、データベースに保存するスペクトルを１０
０秒で行う。選択的に測定時間を変えられるため、効率
よくばらつきの小さなＸ線スペクトルを得ることができ
る。
【００２９】第５に、Ｘ線スペクトルを比較する手段に
ついて説明する。
【００３０】比較手段の第１の方法として、着目元素及
び着目元素のＸ線強度を積算するＸ線エネルギ領域をあ
らかじめ指定し、Ｘ線スペクトルを比較する方法につい
て説明する。
【００３１】この方法は、事前に含有物が分かっている
場合に有効な方法である。
【００３２】図５のように、銅と錫に着目して判定を実
施する例を以下に説明する。
【００３３】着目元素は銅、錫であり、銅のＸ線強度を
積算するＸ線エネルギ領域を、７．８〜８．３(keV)と
する。錫のＸ線強度を積算するＸ線エネルギ領域を、２
４．９〜２５．５とする。比較のしきい値として、Ｘ線
強度の差で比較するための基準を指定する。この例で
は、銅は１００（ＣＰＳ）、Ｓｎは５０（ＣＰＳ）と
し、これ以上の差が確認された場合、Ｘ線スペクトルの
比較の結果、不一致と判定する。
【００３４】図６のように、Ｘ線強度の比較基準を３０
％以上とする、比率でしきい値を指定することも可能で
ある。
【００３５】比較手段の第２の方法として、着目元素及
び着目元素のＸ線強度を積算するＸ線エネルギ領域をあ
らかじめ指定し、着目元素のＸ線強度の合計値と、各元
素のＸ線強度との強度比率を利用した、Ｘ線スペクトル
を比較する方法について説明する。
【００３６】この方法は、事前に含有物が分かってい
て、含有物の濃度の違いによって判定したいときに有効
な手段である。
【００３７】図７のように、銅と錫に着目して判定を実
施する例を以下に説明する。着目元素は銅、錫であり、
銅のＸ線強度を算出するＸ線エネルギ領域を、７．８〜
８．３(keV)とする。錫のＸ線強度を算出するＸ線エネ
ルギ領域を、２４．９〜２５．５とする。着目元素のＸ
線強度を着目元素のＸ線強度の合計値で除算した結果を
Ｘ線強度比率とする。この例では、銅のＸ線強度を銅と
錫の両者のＸ線強度を加算したもので除算する。
【００３８】Ｘ線強度比率が、銅で１０（％）、錫で１
０（％）以上変化した時に、Ｘ線スペクトルの比較の結
果、不一致と判定する。
【００３９】１次ビームの寸法よりも小さな領域と、１
次ビームの寸法よりも大きな領域が存在した場合に、単
純にＸ線強度でスペクトルを比較すると、不一致と判定
するが、強度比率を判定基準に採用した場合、領域の大
小にかかわらず、一定の強度比率がえられ、一致と判定
することができる。
【００４０】比較手段の第３の方法として、ピークが存
在するエネルギを列挙して、各ピークの有無によって、
Ｘ線スペクトルを比較する方法について説明する。
【００４１】この方法は、含有物が未知の場合に有効な
手段である。
【００４２】取得したＸ線スペクトルに対して、ピーク
の探索を行い、ピークエネルギを列挙する。スペクトル
データベースのスペクトルで列挙したピークエネルギと
比較して、１つでも違うピークが存在したり、逆にピー
クが存在しない場合に、スペクトルは不一致と判定す
る。
【００４３】
【発明の効果】この発明は、３つの効果を得ることがで
きる。
【００４４】第１に、含有元素の違い及び各元素の濃度
の違う領域を、容易にグループ分けができ、同時に各グ
ループの代表的なスペクトルを取得できることが１番目
の効果である。
【００４５】従来、含有物が事前にわからない場合は、
全てのＸ線スペクトル残したり、可能性のある全ての元
素の強度を蓄積したりし、多くの時間をかけて分析作業
を行っていたが、本発明を利用して分析を行えば、代表
的なＸ線スペクトルを絞り込む効果があるため、スペク
トルの解析時間を大幅に短縮することができ、時間効率
の面で非常に大きな効果を得ることができる。
【００４６】第２に、前記グループ分けを行った情報を
保存して、その情報と測定位置の情報を組み合わせて表
示することで、含有元素の違い及び濃度の違いを、視覚
的に表すことができる点が２番目の効果である。マッピ
ング分析であれば当然の機能であると思われがちだが、
未知試料に対して前処理なしに自動的に解析情報が得ら
れる点は、非常に大きな効果である言える。
【００４７】第３に、スペクトルデータベースにばらつ
きの小さなＸ線スペクトルを取得できる点が３番目の効
果である。
【００４８】通常含有元素が判明すれば、次に求められ
るのは、材料の特定である。
【００４９】例えば、ステンレス等の鋼種の判定では、
ばらつきの小さなＸ線スペクトルがあれば、簡単に鋼種
の判定が可能である。マッピング分析の全ての測定点で
長い時間をかけた測定を行うのは現実的ではないが、こ
の発明のように選択的にばらつきの小さなＸ線スペクト
ルを取得することで、正確な分析作業を実現することが
できる。
【００５０】またこの方法は、Ｘ線スペクトルを再取得
するときに、１次ビームの位置制御をやり直すことなく
行える点も効果があるといえる。例えば、一通り測定し
た後で、再度Ｘ線スペクトルを取得しようとした場合、
位置制御に時間がかかったり、位置が正確に戻せないよ
うな心配も不要である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を実現するための流れ図。
【図２】本発明を実現する装置の構成例を示す図。
【図３】データベース番号を保存するための流れ図。
【図４】データベースに一致しないＸ線スペクトルが見
つかったときに長い時間で再度Ｘ線スペクトルを取得す
るための流れ図。
【図５】Ｘ線強度の差で、Ｘ線スペクトルを比較する方
法。
【図６】Ｘ線強度の変化比率で、Ｘ線スペクトルを比較
する方法。
【図７】着目元素のＸ線強度と着目元素のＸ線強度の合
計値との比率で、Ｘ線スペクトルを比較する方法。
【符号の説明】
１ ．．． 発明の基本となる分析手順の１ ２ ．．． 発明の基本となる分析手順の２ ３ ．．． 発明の基本となる分析手順の３ ４ ．．． 発明の基本となる分析手順の４ ５ ．．． 発明の基本となる分析手順の５ ６ ．．． 発明の基本となる分析手順の６ ７ ．．． １次ビームを照射する励起手段 ８ ．．． 試料に対して照射する１次ビーム ９ ．．． Ｘ線検出手段 １０ ．．． 試料から得られるＸ線 １１ ．．． 試料と１次ビームの位置関係を制御する
試料ステージ １２ ．．． 測定試料 １３ ．．． スペクトルを比較する手段 １４ ．．． スペクトルデータベースを保管する手段 １５ ．．． グループの情報を格納する分析手順の１ １６ ．．． グループの情報を格納する分析手順の２ １７ ．．． グループの情報を格納する分析手順の３ １８ ．．． グループの情報を格納する分析手順の４ １９ ．．． グループの情報を格納する分析手順の５ ２０ ．．． グループの情報を格納する分析手順の６ ２１ ．．． グループの情報を格納する分析手順の７ ２２ ．．． ばらつきの小さなスペクトルを得る分析
手順の１ ２３ ．．． ばらつきの小さなスペクトルを得る分析
手順の２ ２４ ．．． ばらつきの小さなスペクトルを得る分析
手順の３ ２５ ．．． ばらつきの小さなスペクトルを得る分析
手順の４ ２６ ．．． ばらつきの小さなスペクトルを得る分析
手順の５ ２７ ．．． ばらつきの小さなスペクトルを得る分析
手順の６ ２８ ．．． ばらつきの小さなスペクトルを得る分析
手順の７

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 試料に１次ビームを照射しＸ線を励起さ
    せる励起手段と、試料に対して前記１次ビームを前後左
    右に制御できる１次ビーム制御手段と、前記試料からの
    Ｘ線をエネルギ弁別しながらＸ線強度を計数するＸ線検
    出手段と、前記Ｘ線検出手段で得た２つのＸ線スペクト
    ルを比較するスペクトル比較手段と、測定の途中でＸ線
    スペクトルを登録できるスペクトルデータベースとを備
    えたＸ線マッピング装置において、前記スペクトルデー
    タベースを空にした状態で測定を開始し、前記１次ビー
    ム制御手段によって試料内の指定された場所に１次ビー
    ムを照射し、一定時間試料に１次ビームを照射して測定
    スペクトルを取得し、測定で得たＸ線スペクトルと前記
    スペクトルデータベース内のＸ線スペクトルとをスペク
    トル比較手段で比較し、データベース内に一致するＸ線
    スペクトルが存在しない場合に、測定で得たＸ線スペク
    トルをデータベースに追加登録し、指定された測定点で
    の測定を繰り返す。以上の手順を実施することで、デー
    タベースには、試料中に存在する代表的なスペクトルを
    取得できることを特徴とするＸ線マッピング分析方法。
  2. 【請求項２】 請求項１のＸ線マッピング分析方法にお
    いて、データベース内のＸ線スペクトルに番号を付番
    し、比較手段によって判定した結果を、データベース番
    号で保存し、データベース番号の情報と測定の位置情報
    を使用して分析結果を表示することで、視覚的に元素の
    分布を確認することができるＸ線マッピング分析方法。
  3. 【請求項３】 請求項１または請求項２のＸ線マッピン
    グ分析方法において、データベース内に一致しているＸ
    線スペクトルが存在しない場合に、同じ場所で再度長時
    間の測定を行い、そのときに得られたスペクトルをデー
    タベースに保存することで、ばらつきの小さなＸ線スペ
    クトルが得られることを特徴とするＸ線マッピング分析
    方法。
  4. 【請求項４】 請求項１から３のいずれかに記載のＸ線
    マッピング分析方法のスペクトル比較手段は、着目元素
    及び着目元素のＸ線強度を積算するＸ線エネルギ領域を
    あらかじめ指定し、データベースのＸ線スペクトルの各
    元素のＸ線強度と、測定スペクトルにおける各元素のＸ
    線強度とを比較し、基準以上に変化した場合に、異なる
    スペクトルと判定することを特徴とするＸ線マッピング
    分析方法。
  5. 【請求項５】 請求項１から３のいずれかに記載のＸ線
    マッピング分析方法のスペクトル比較手段は、着目元素
    及び着目元素のＸ線強度を積算するＸ線エネルギ領域を
    あらかじめ指定し、データベースのＸ線スペクトルにお
    いて、着目元素のＸ線強度の合計値と、各元素のＸ線強
    度との強度比率を算出する。測定スペクトルにおいて、
    着目元素のＸ線強度の合計値と各元素のＸ線強度との比
    率を算出し、同一元素での強度比率を比較して、基準以
    上に変化している場合に、異なるスペクトルと判定する
    ことを特徴とするＸ線マッピング分析方法。
  6. 【請求項６】 請求項１から３のいずれかに記載のＸ線
    マッピング分析方法のスペクトル比較手段は、データベ
    ースのＸ線スペクトルと測定スペクトルのピークが存在
    するエネルギを列挙して、各ピークの有無によって異な
    るスペクトルと判定することを特徴とするＸ線マッピン
    グ分析方法。
  7. 【請求項７】 請求項１から６のいずれかに記載のＸ線
    マッピング分析方法において、前記１次ビームがＸ線ビ
    ームであることを特徴とするＸ線マッピング分析方法。
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Cited By (1)

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3428629B1 (en) * 2017-07-14 2022-12-07 Malvern Panalytical B.V. Analysis of x-ray spectra using curve fitting

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63107848A (ja) * 1986-10-23 1988-05-12 九州耐火煉瓦株式会社 無機繊維強化セメント複合材料
JPH06123718A (ja) * 1992-10-11 1994-05-06 Horiba Ltd 螢光ｘ線定性分析方法
JPH11295246A (ja) * 1998-04-10 1999-10-29 Advantest Corp 表面検査装置および方法
JPH11304732A (ja) * 1998-04-16 1999-11-05 Jeol Ltd 表面分析機器による分析元素の同定方法
JP2000046768A (ja) * 1998-07-28 2000-02-18 Jeol Ltd Ｘ線分析装置
JP2000097884A (ja) * 1998-09-18 2000-04-07 Rigaku Industrial Co 蛍光ｘ線分析装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2524256Y2 (ja) * 1986-12-29 1997-01-29 株式会社島津製作所 電子線マイクロアナライザ

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63107848A (ja) * 1986-10-23 1988-05-12 九州耐火煉瓦株式会社 無機繊維強化セメント複合材料
JPH06123718A (ja) * 1992-10-11 1994-05-06 Horiba Ltd 螢光ｘ線定性分析方法
JPH11295246A (ja) * 1998-04-10 1999-10-29 Advantest Corp 表面検査装置および方法
JPH11304732A (ja) * 1998-04-16 1999-11-05 Jeol Ltd 表面分析機器による分析元素の同定方法
JP2000046768A (ja) * 1998-07-28 2000-02-18 Jeol Ltd Ｘ線分析装置
JP2000097884A (ja) * 1998-09-18 2000-04-07 Rigaku Industrial Co 蛍光ｘ線分析装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7476247B2 (ja) 2022-02-16 2024-04-30 日本電子株式会社 相分析装置、試料分析装置、および分析方法

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