JP2002356345A - 耐食性石英ガラスの製造方法、これを用いた部材及び装置 - Google Patents
耐食性石英ガラスの製造方法、これを用いた部材及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】従来技術の課題を改善し、添加元素の良好な分
散性と耐プラズマ性を併せ持つ石英ガラス、これを容易
に製造する方法、さらに半導体容器、治工具、プラズマ
エッチャーのベルジャー等などに利用できる石英ガラス
部材、及びこの部材を備えた半導体製造装置や液晶製造
装置を提供する。 【解決の手段】アルミニウム及び／又はイットリウムを
含む化合物溶液をシリカ粉末と混ぜて攪拌した後、この
混合溶液を６０〜１３０℃で保持し溶媒を徐々に蒸発さ
せ、酸化雰囲気下３００〜５００℃に昇温し、アルミニ
ウム及び／又はイットリウムを含む化合物を酸化物に転
換させた後、これを冷却して仮焼粉末を得、さらに得ら
れた粉末を減圧下１７００℃以上の温度で電気溶融して
石英ガラスを得ることを特徴とする耐食性石英ガラスの
製造方法、これを用いた部材及び装置を用いる。
散性と耐プラズマ性を併せ持つ石英ガラス、これを容易
に製造する方法、さらに半導体容器、治工具、プラズマ
エッチャーのベルジャー等などに利用できる石英ガラス
部材、及びこの部材を備えた半導体製造装置や液晶製造
装置を提供する。 【解決の手段】アルミニウム及び／又はイットリウムを
含む化合物溶液をシリカ粉末と混ぜて攪拌した後、この
混合溶液を６０〜１３０℃で保持し溶媒を徐々に蒸発さ
せ、酸化雰囲気下３００〜５００℃に昇温し、アルミニ
ウム及び／又はイットリウムを含む化合物を酸化物に転
換させた後、これを冷却して仮焼粉末を得、さらに得ら
れた粉末を減圧下１７００℃以上の温度で電気溶融して
石英ガラスを得ることを特徴とする耐食性石英ガラスの
製造方法、これを用いた部材及び装置を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ耐食性の
高い石英ガラスの製造方法に関する。更に詳しくは、プ
ラズマ耐食性のあるアルミニウムやイットリウムを石英
ガラスマトリックスの中に均一に分散することができる
ため、必要十分な添加量で効率よく耐プラズマ性を向上
させることができる。従って、半導体容器、治工具やこ
れを用いた半導体製造装置、液晶製造装置として利用で
きる。
高い石英ガラスの製造方法に関する。更に詳しくは、プ
ラズマ耐食性のあるアルミニウムやイットリウムを石英
ガラスマトリックスの中に均一に分散することができる
ため、必要十分な添加量で効率よく耐プラズマ性を向上
させることができる。従って、半導体容器、治工具やこ
れを用いた半導体製造装置、液晶製造装置として利用で
きる。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造装置、液晶製造装置な
どにはプラズマ反応装置が用いられている．これらの装
置のプラズマ発生部分には主として透明石英ガラスから
なるベルジャー、フォーカスリング等が使用される。こ
こで、フッ素系プラズマ例えば、ＣＦ4／Ｏ2プラズマに
対する耐性は十分とは言えない。これはフッ素ラジカル
によってシリカＳｉＯ2中のＳｉがＳｉＦ4の形で蒸発
し、消耗してしまうからである。
どにはプラズマ反応装置が用いられている．これらの装
置のプラズマ発生部分には主として透明石英ガラスから
なるベルジャー、フォーカスリング等が使用される。こ
こで、フッ素系プラズマ例えば、ＣＦ4／Ｏ2プラズマに
対する耐性は十分とは言えない。これはフッ素ラジカル
によってシリカＳｉＯ2中のＳｉがＳｉＦ4の形で蒸発
し、消耗してしまうからである。
【０００３】そこで、耐プラズマ性を有する元素の酸化
物等を、シリカ粉末と乾式混合した後、融点以上の温度
で溶融することが考えられる（第１の方法）。また、石
英ガラス部材の表面にゾル・ゲル法等で表面修飾膜を形
成する方法が考えられる（第２の方法）。
物等を、シリカ粉末と乾式混合した後、融点以上の温度
で溶融することが考えられる（第１の方法）。また、石
英ガラス部材の表面にゾル・ゲル法等で表面修飾膜を形
成する方法が考えられる（第２の方法）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述の第１の方法は添
加元素の偏析が大きい。粉末同士の混合は静電気の発生
を伴うため、ミクロンオーダーで十分に混じることは期
待できない。また、混合に使う容器と粉末との長時間の
摩擦から原料中にコンタミが混じる虞れがある。このよ
うな、乾式混合処理した原料を焼成すると、生成した石
英ガラス中に空洞（ボイド）が発生しやすくなる。従っ
て、これを用いた耐プラズマテストは石英ガラスそのも
のの性能とほぼ同等ないしは若干劣る。これは、添加元
素の偏析が大きくなると、Ｓｉの原子価（４価）と添加
元素の原子価との食い違いからどの原子とも結合しない
酸素Ｏが生成される確率が大きくなることに起因すると
推定される。
加元素の偏析が大きい。粉末同士の混合は静電気の発生
を伴うため、ミクロンオーダーで十分に混じることは期
待できない。また、混合に使う容器と粉末との長時間の
摩擦から原料中にコンタミが混じる虞れがある。このよ
うな、乾式混合処理した原料を焼成すると、生成した石
英ガラス中に空洞（ボイド）が発生しやすくなる。従っ
て、これを用いた耐プラズマテストは石英ガラスそのも
のの性能とほぼ同等ないしは若干劣る。これは、添加元
素の偏析が大きくなると、Ｓｉの原子価（４価）と添加
元素の原子価との食い違いからどの原子とも結合しない
酸素Ｏが生成される確率が大きくなることに起因すると
推定される。
【０００５】他方、前述の第２のゾル・ゲル法による膜
形成は収縮率が５０％程度で非常に大きくクラックが発
生しやすい。膜厚は１μｍ形成するのも容易なことでは
ない。更に、石英ガラスと表面修飾膜との線膨張係数が
約１０倍異なるため界面にひずみがかかり、表面修飾膜
にクラックがはいりやすい。また、表面修飾膜は石英ガ
ラス無垢の場合に比較して約１０倍の耐プラズマ性を有
するが、膜厚が薄いため長時間の使用には無理があると
いった問題があった。
形成は収縮率が５０％程度で非常に大きくクラックが発
生しやすい。膜厚は１μｍ形成するのも容易なことでは
ない。更に、石英ガラスと表面修飾膜との線膨張係数が
約１０倍異なるため界面にひずみがかかり、表面修飾膜
にクラックがはいりやすい。また、表面修飾膜は石英ガ
ラス無垢の場合に比較して約１０倍の耐プラズマ性を有
するが、膜厚が薄いため長時間の使用には無理があると
いった問題があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題に
鑑み、鋭意研究した結果、目的とする添加元素の良好な
分散性と耐プラズマ性を併せ持つ透明石英ガラスを得
て、本発明を完成するに至った。
鑑み、鋭意研究した結果、目的とする添加元素の良好な
分散性と耐プラズマ性を併せ持つ透明石英ガラスを得
て、本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、石英ガラスマトリクス中への添
加元素としてアルミニウム（Ａｌ）及び／又はイットリ
ウム（Ｙ）が有効であることを突き止めた。これらの添
加元素をシリカ粉末中に均一に介在させるのが望ましい
が、大別して湿式、乾式２通りの方法を検討した。石英
ガラスマトリックス中に目的とする添加物質を均一に分
散させるにはまず、乾式法で添加元素単体あるいはその
化合物、塩を充分に時間をかけて混合しても良い。すな
わち、シリカ粉末と添加物質を混合する際その添加物質
を含む乾燥した固体状物質とシリカ粉末を容器中に入れ
て密閉し、ポットミル回転台上で十分に混合すれば良
い。しかし、乾式法では静電気の影響や粉末の粒度分布
の影響があり、シリカ粉末と添加元素含有固体粉末は混
合状態に限度がある。
加元素としてアルミニウム（Ａｌ）及び／又はイットリ
ウム（Ｙ）が有効であることを突き止めた。これらの添
加元素をシリカ粉末中に均一に介在させるのが望ましい
が、大別して湿式、乾式２通りの方法を検討した。石英
ガラスマトリックス中に目的とする添加物質を均一に分
散させるにはまず、乾式法で添加元素単体あるいはその
化合物、塩を充分に時間をかけて混合しても良い。すな
わち、シリカ粉末と添加物質を混合する際その添加物質
を含む乾燥した固体状物質とシリカ粉末を容器中に入れ
て密閉し、ポットミル回転台上で十分に混合すれば良
い。しかし、乾式法では静電気の影響や粉末の粒度分布
の影響があり、シリカ粉末と添加元素含有固体粉末は混
合状態に限度がある。
【０００８】そこで、分散性を更に向上させる手段とし
て湿式法が有効であることが見出された。すなわち、シ
リカ粉末と添加物質を混合する際その添加物質を含む溶
液を調製し、この溶液をシリカ粉末に加えて浸漬後かく
拌し、シリカ粒子の周囲に添加物質をほぼ均一に行き渡
らせた後、この溶液をその沸点近くの温度で保持し、溶
媒をほぼ全量蒸発させた後、添加物質が酸化物になる温
度まで仮焼して、原料粉末を得る方法を本発明者は開発
した。ここで、添加物質を含む溶液としては添加物質の
リン酸塩、フッ化物塩、蓚酸塩、次亜塩素酸塩、塩化
物、硝酸塩または硫酸塩等の「塩」で良く、水溶性であ
ることが望ましい。この際、添加元素を溶液化するには
焼成後にその構成塩が残存しない硝酸塩、塩化物あるい
は硫酸塩が適合する。これらの塩は溶解熱が小さく安全
な取扱いが可能である。
て湿式法が有効であることが見出された。すなわち、シ
リカ粉末と添加物質を混合する際その添加物質を含む溶
液を調製し、この溶液をシリカ粉末に加えて浸漬後かく
拌し、シリカ粒子の周囲に添加物質をほぼ均一に行き渡
らせた後、この溶液をその沸点近くの温度で保持し、溶
媒をほぼ全量蒸発させた後、添加物質が酸化物になる温
度まで仮焼して、原料粉末を得る方法を本発明者は開発
した。ここで、添加物質を含む溶液としては添加物質の
リン酸塩、フッ化物塩、蓚酸塩、次亜塩素酸塩、塩化
物、硝酸塩または硫酸塩等の「塩」で良く、水溶性であ
ることが望ましい。この際、添加元素を溶液化するには
焼成後にその構成塩が残存しない硝酸塩、塩化物あるい
は硫酸塩が適合する。これらの塩は溶解熱が小さく安全
な取扱いが可能である。
【０００９】溶媒を蒸発させる温度としては６０〜１３
０℃の範囲が適用できるが、８０〜９０℃程度の温度で
長時間保持し、穏やかに（突沸が起こらないように）溶
媒を追い出すことが肝要である。「塩」の状態から酸化
物とするために酸化雰囲気中５００〜１０００℃で仮焼
すればよい。大気中で仮焼すれば充分であるが、酸素雰
囲気中で焼成すれば仮焼時間を短縮できる。
０℃の範囲が適用できるが、８０〜９０℃程度の温度で
長時間保持し、穏やかに（突沸が起こらないように）溶
媒を追い出すことが肝要である。「塩」の状態から酸化
物とするために酸化雰囲気中５００〜１０００℃で仮焼
すればよい。大気中で仮焼すれば充分であるが、酸素雰
囲気中で焼成すれば仮焼時間を短縮できる。
【００１０】このようにして、シリカ粒子の周囲を酸化
物が均一に取り囲んだ酸化物仮焼体ができる。
物が均一に取り囲んだ酸化物仮焼体ができる。
【００１１】これを真空引き・加圧可能な電気炉に装着
し、減圧下クリストバライトの融点以上で本焼する。こ
のようにして添加元素の分散状態の良好な石英ガラスが
得られる。ここで、添加物質の分散状態を確認するため
には、ＥＰＭＡ（Ｘ線マイクロアナライザー）等を利用
できる。
し、減圧下クリストバライトの融点以上で本焼する。こ
のようにして添加元素の分散状態の良好な石英ガラスが
得られる。ここで、添加物質の分散状態を確認するため
には、ＥＰＭＡ（Ｘ線マイクロアナライザー）等を利用
できる。
【００１２】シリカガラスマトリックスを形成する原料
としては、天然水晶粉末、合成シリカ粉末、ヒュームド
シリカ、あるいはスート等を用いることができる。天然
水晶粉末や合成シリカ粉末を用いる場合、その粒度は複
合石英ガラス中の添加元素の分散性に影響するが、粒度
範囲４０〜４３０μｍ，最瀕値（ｍｏｄｅ）２２０μｍ
程度が一般的である。これは、充填性がよく、粉末が舞
いにくいからである。また、吸湿性も極少ない。ただ
し、分級して３００μｍアンダーかつ２００μｍアップ
（最瀕値２６０μｍ）あるいは、２００μｍアンダー
（最瀕値１８０μｍ）の粉末を用いればさらに添加元素
の分散性を制御できる。また、上記シリカ粉末を用いる
場合はポアのサイズや粉末の粒度分布が石英ガラス中の
添加元素の分散性に影響する。すなわち、均一でポア径
の小さなシリカ粉末、平均粒径の小さなシリカ粉末が有
利である。
としては、天然水晶粉末、合成シリカ粉末、ヒュームド
シリカ、あるいはスート等を用いることができる。天然
水晶粉末や合成シリカ粉末を用いる場合、その粒度は複
合石英ガラス中の添加元素の分散性に影響するが、粒度
範囲４０〜４３０μｍ，最瀕値（ｍｏｄｅ）２２０μｍ
程度が一般的である。これは、充填性がよく、粉末が舞
いにくいからである。また、吸湿性も極少ない。ただ
し、分級して３００μｍアンダーかつ２００μｍアップ
（最瀕値２６０μｍ）あるいは、２００μｍアンダー
（最瀕値１８０μｍ）の粉末を用いればさらに添加元素
の分散性を制御できる。また、上記シリカ粉末を用いる
場合はポアのサイズや粉末の粒度分布が石英ガラス中の
添加元素の分散性に影響する。すなわち、均一でポア径
の小さなシリカ粉末、平均粒径の小さなシリカ粉末が有
利である。
【００１３】このようにして得られる本発明の石英ガラ
スは製造時に公知の方法により目的の形状にあった石英
ガラス部材とすることもできる。
スは製造時に公知の方法により目的の形状にあった石英
ガラス部材とすることもできる。
【００１４】本発明のプラズマ耐食性石英ガラス部材は
プラズマ耐性に優れており、ハロゲン化合物及びそのプ
ラズマを利用した、半導体製造用装置や液晶製造装置の
容器、治工具、プラズマエッチャーのベルジャーに好適
に用いることができ、この部材を窓材等として備えた半
導体製造用装置や液晶製造装置は、プラズマ照射等によ
っても劣化することが少なく、長期間取り替えることな
く有効に用いることができる。
プラズマ耐性に優れており、ハロゲン化合物及びそのプ
ラズマを利用した、半導体製造用装置や液晶製造装置の
容器、治工具、プラズマエッチャーのベルジャーに好適
に用いることができ、この部材を窓材等として備えた半
導体製造用装置や液晶製造装置は、プラズマ照射等によ
っても劣化することが少なく、長期間取り替えることな
く有効に用いることができる。
【００１５】
【実施例】以下、実施例によって、本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
【００１６】実施例１ 原料として、表１の純度を有する石英（水晶）粉末（粒
度範囲４０〜４３０μｍ、最瀕値＝２１９μｍ）を使用
し（ふっ酸にて精製処理したもの）、これを２２３ｇ秤
量した。
度範囲４０〜４３０μｍ、最瀕値＝２１９μｍ）を使用
し（ふっ酸にて精製処理したもの）、これを２２３ｇ秤
量した。
【００１７】
【表１】
【００１８】一方、硝酸アルミニウム九水和物（純度９
８．０％）を１．７９ｇ秤量した。また、硝酸イットリ
ウム六水和物（純度９９．９９％）を４．９４ｇ秤量し
た。これらの物質を１５０ｍｌの超純水（比抵抗１７Ｍ
Ω・ｃｍ）に溶解し、石英粉末と混合し、約１時間静置
した。この混合物を石英ボートに移し、大気中９０℃で
８時間、続いて５００℃で１時間仮焼した。この仮焼体
をＸＲＤ（Ｘ線回折）にかけたところ硝酸アルミニウム
九水和物は酸化アルミニウムＡｌ2Ｏ3に、硝酸イットリ
ウム六水和物は酸化イットリウムＹ2Ｏ3に転化してい
た。仕込み原料中のアルミニウムの濃度は５５０ｐｐｍ
（０．０４原子％）、イットリウムの濃度は５０００ｐ
ｐｍとした。この仮焼体はさらさらしていて粉砕の必要
はなかった。
８．０％）を１．７９ｇ秤量した。また、硝酸イットリ
ウム六水和物（純度９９．９９％）を４．９４ｇ秤量し
た。これらの物質を１５０ｍｌの超純水（比抵抗１７Ｍ
Ω・ｃｍ）に溶解し、石英粉末と混合し、約１時間静置
した。この混合物を石英ボートに移し、大気中９０℃で
８時間、続いて５００℃で１時間仮焼した。この仮焼体
をＸＲＤ（Ｘ線回折）にかけたところ硝酸アルミニウム
九水和物は酸化アルミニウムＡｌ2Ｏ3に、硝酸イットリ
ウム六水和物は酸化イットリウムＹ2Ｏ3に転化してい
た。仕込み原料中のアルミニウムの濃度は５５０ｐｐｍ
（０．０４原子％）、イットリウムの濃度は５０００ｐ
ｐｍとした。この仮焼体はさらさらしていて粉砕の必要
はなかった。
【００１９】これを、高純度処理されたカーボンモール
ド内に充填した。仕込形状は直径φ９０ｍｍ、高さ２５
ｍｍとした。これを、真空排気しつつ減圧下で電気溶融
した。常温〜１８５０℃まで５℃／分で昇温し、１８５
０℃を５分保持した後、窒素雰囲気下で炉冷した。生成
した複合石英ガラスについてＥＰＭＡでアルミニウムの
濃度，イットリウム濃度を定量したところ、変動係数は
１０〜６０であった。
ド内に充填した。仕込形状は直径φ９０ｍｍ、高さ２５
ｍｍとした。これを、真空排気しつつ減圧下で電気溶融
した。常温〜１８５０℃まで５℃／分で昇温し、１８５
０℃を５分保持した後、窒素雰囲気下で炉冷した。生成
した複合石英ガラスについてＥＰＭＡでアルミニウムの
濃度，イットリウム濃度を定量したところ、変動係数は
１０〜６０であった。
【００２０】この複合石英ガラスを切断してＣＦ4／Ｏ2
系プラズマおよびＢＣｌ3／Ｃｌ2系プラズマに対するエ
ッチング耐性を確認したところ、無垢の石英ガラスより
良好であった。
系プラズマおよびＢＣｌ3／Ｃｌ2系プラズマに対するエ
ッチング耐性を確認したところ、無垢の石英ガラスより
良好であった。
【００２１】比較例１ 原料として、表１の純度を有する水晶粉末（粒度範囲４
０〜４３０μｍ、最瀕値＝２１９μｍ）を使用した。こ
れを２２３ｇ秤量した。
０〜４３０μｍ、最瀕値＝２１９μｍ）を使用した。こ
れを２２３ｇ秤量した。
【００２２】一方、酸化アルミニウム（純度９９．９
％）粉末を０．２３ｇ秤量した。また、酸化イットリウ
ム（純度９９．９％）粉末を１．４３ｇ秤量した。仕込
み原料中のアルミニウムの濃度は５５０ｐｐｍ（０．０
４原子％）、イットリウムの濃度は５０００ｐｐｍとし
た。
％）粉末を０．２３ｇ秤量した。また、酸化イットリウ
ム（純度９９．９％）粉末を１．４３ｇ秤量した。仕込
み原料中のアルミニウムの濃度は５５０ｐｐｍ（０．０
４原子％）、イットリウムの濃度は５０００ｐｐｍとし
た。
【００２３】これらの粉末をポリプロピレン製ポットに
入れ、ポットミル回転台上で４日間混合した。これを、
高純度処理されたカーボンモールド内に充填した。仕込
形状は直径φ９０ｍｍ、高さ２５ｍｍとした。これを、
真空排気しつつ減圧下で電気溶融した。常温〜１８５０
℃まで５℃／分で昇温し、１８５０℃を５分保持した
後、窒素雰囲気下で炉冷した。生成した複合石英ガラス
についてＥＰＭＡでアルミニウムの濃度，イットリウム
濃度を定量したところ、変動係数は１１０〜１５０であ
った。
入れ、ポットミル回転台上で４日間混合した。これを、
高純度処理されたカーボンモールド内に充填した。仕込
形状は直径φ９０ｍｍ、高さ２５ｍｍとした。これを、
真空排気しつつ減圧下で電気溶融した。常温〜１８５０
℃まで５℃／分で昇温し、１８５０℃を５分保持した
後、窒素雰囲気下で炉冷した。生成した複合石英ガラス
についてＥＰＭＡでアルミニウムの濃度，イットリウム
濃度を定量したところ、変動係数は１１０〜１５０であ
った。
【００２４】この複合石英ガラスを切断してＣＦ4／Ｏ2
系プラズマおよびＢＣｌ3／Ｃｌ2系プラズマに対するエ
ッチング耐性を確認したところ、無垢の石英ガラスより
良好であった。
系プラズマおよびＢＣｌ3／Ｃｌ2系プラズマに対するエ
ッチング耐性を確認したところ、無垢の石英ガラスより
良好であった。
【００２５】比較例２ 原料として、表１の純度を有する水晶粉末（粒度範囲４
０〜４３０μｍ、最瀕値＝２１９μｍ）を使用した。こ
れを２２３ｇ秤量した。一方、酸化アルミニウム（純度
９９．９％）を０．２３ｇ秤量した。また、酸化イット
リウム（純度９９．９％）を１．４３ｇ秤量した。
０〜４３０μｍ、最瀕値＝２１９μｍ）を使用した。こ
れを２２３ｇ秤量した。一方、酸化アルミニウム（純度
９９．９％）を０．２３ｇ秤量した。また、酸化イット
リウム（純度９９．９％）を１．４３ｇ秤量した。
【００２６】これらの粉末をポリプロピレン製ポットに
入れ、ポットミル回転台上で２時間混合した。これを、
高純度処理されたカーボンモールド内に充填した。仕込
形状は直径φ９０ｍｍ、高さ２５ｍｍとした。これを、
真空排気しつつ減圧下で電気溶融した。常温〜１８５０
℃まで５℃／分で昇温し、１８５０℃を５分保持した
後、窒素雰囲気下で炉冷した。生成した複合石英ガラス
についてＥＰＭＡでアルミニウムＡｌの濃度，イットリ
ウムＹ濃度を定量したところ、変動係数は１６０〜２０
０であった。
入れ、ポットミル回転台上で２時間混合した。これを、
高純度処理されたカーボンモールド内に充填した。仕込
形状は直径φ９０ｍｍ、高さ２５ｍｍとした。これを、
真空排気しつつ減圧下で電気溶融した。常温〜１８５０
℃まで５℃／分で昇温し、１８５０℃を５分保持した
後、窒素雰囲気下で炉冷した。生成した複合石英ガラス
についてＥＰＭＡでアルミニウムＡｌの濃度，イットリ
ウムＹ濃度を定量したところ、変動係数は１６０〜２０
０であった。
【００２７】この複合石英ガラスを切断してＣＦ4／Ｏ2
系プラズマおよびＢＣｌ3／Ｃｌ2系プラズマに対するエ
ッチング耐性を確認したところ、無垢の石英ガラス並み
であった。また、比較例１の場合より悪化した。
系プラズマおよびＢＣｌ3／Ｃｌ2系プラズマに対するエ
ッチング耐性を確認したところ、無垢の石英ガラス並み
であった。また、比較例１の場合より悪化した。
【００２８】以上から、添加元素を石英ガラス中に均一
に混合する場合、乾式法よりも湿式法のほうが分散性が
向上し、また耐プラズマ性も向上することがわかった。
に混合する場合、乾式法よりも湿式法のほうが分散性が
向上し、また耐プラズマ性も向上することがわかった。
【００２９】
【発明の効果】本発明による製造法によって添加元素の
均一な分散状態を有する複合石英ガラスが得られる。ま
た、本発明による複合石英ガラスは耐プラズマ性が向上
する。従って、例えば、半導体製造用の治工具類、特に
反応管フランジ、ベルジャー等に利用される。また、耐
熱が必要とされる半導体製造装置や液晶製造装置の部品
としても有用となる。
均一な分散状態を有する複合石英ガラスが得られる。ま
た、本発明による複合石英ガラスは耐プラズマ性が向上
する。従って、例えば、半導体製造用の治工具類、特に
反応管フランジ、ベルジャー等に利用される。また、耐
熱が必要とされる半導体製造装置や液晶製造装置の部品
としても有用となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA18 BB02 CC04 DA08 DB02 DC01 DD01 DE01 DF01 EA02 EB02 EC02 ED01 EE02 EF01 EG01 FA01 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ02 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH04 HH05 HH07 HH09 HH11 HH12 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM04 MM12 MM23 MM31 NN34
Claims (7)
- 【請求項１】アルミニウム及び／又はイットリウムを含
む化合物溶液をシリカ粉末と混ぜて攪拌した後、この混
合溶液を６０〜１３０℃で保持し溶媒を徐々に蒸発さ
せ、酸化雰囲気下３００〜５００℃に昇温し、アルミニ
ウム及び／又はイットリウムを含む化合物を酸化物に転
換させた後、これを冷却して仮焼粉末を得、さらに得ら
れた粉末を減圧下１７００℃以上の温度で電気溶融して
石英ガラスを得ることを特徴とする耐食性石英ガラスの
製造方法。 - 【請求項２】化合物が塩であることを特徴とする請求項
１記載の石英ガラスの製造方法。 - 【請求項３】化合物が塩化物、硝酸塩または硫酸塩であ
ることを特徴とする請求項１記載の石英ガラスの製造方
法。 - 【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載の方法によ
り得られた石英ガラスからなる石英ガラス部材。 - 【請求項５】半導体製造用容器、半導体製造用治工具又
はプラズマエッチャーのベルジャーに用いられる請求項
４記載の石英ガラス部材。 - 【請求項６】請求項４又は請求項５記載の石英ガラス部
材を備えた半導体製造装置。 - 【請求項７】請求項４又は請求項５記載の石英ガラス部
材を備えた液晶製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001166314A JP2002356345A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | 耐食性石英ガラスの製造方法、これを用いた部材及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2001166314A JP2002356345A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | 耐食性石英ガラスの製造方法、これを用いた部材及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002356345A true JP2002356345A (ja) | 2002-12-13 |
Family
ID=19008863
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001166314A Pending JP2002356345A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | 耐食性石英ガラスの製造方法、これを用いた部材及び装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2002356345A (ja) |
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-
2001
- 2001-06-01 JP JP2001166314A patent/JP2002356345A/ja active Pending
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