JP2002353118A - Stage apparatus and projection aligner - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide, for example, a stage apparatus that has a small amount of turbulence in a magnetic field, and can reduce the size and weight. SOLUTION: In two fixing guides 6 extended in Y direction, Y sliders 7 driven by a linear motor 16 are provided. Two movement guides 21 and 22 extended in the X direction stride across the portion between the Y sliders 7, and an X slider 25, driven by an air cylinder 28, is provided in the movement guide 21. A stage 61 projects on the X slider 25, and a table 65 driven in a θZ direction (about Z axis) is placed on a stage 61.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、原版（マスク、レ
チクル等）上に形成されたパターンを感応基板（ウェハ
等）上に転写露光する露光装置等に用いられる精密移動
・位置決め用のステージ装置に関する。特には、磁場の
乱れが少なく、装置を小型・軽量にもしうるステージ装
置に関する。また、そのようなステージ装置を有する露
光装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stage apparatus for precision movement and positioning used in an exposure apparatus for transferring and exposing a pattern formed on an original (mask, reticle, etc.) onto a sensitive substrate (wafer, etc.). About. In particular, the present invention relates to a stage device capable of reducing disturbance of a magnetic field and reducing the size and weight of the device. Further, the present invention relates to an exposure apparatus having such a stage device.

【０００２】[0002]

【従来の技術】現在、光露光機のステージ装置として
は、いわゆるＨ型あるいはＩ型ＸＹステージ装置が主に
用いられている。これらのステージ装置は、ある方向に
平行に延びる２本の固定ガイド間に移動ガイドを掛け渡
し、該移動ガイド上で自走式のステージを走らせるもの
である。２本の固定ガイドと移動ガイドの形がアルファ
ベットのＨやＩの形をしているので、この名前が付けら
れている。このステージ装置の各軸の駆動アクチュエー
タには、最近一般的にはリニアモータが用いられる。こ
のステージ装置は、装置が簡単で、小型・軽量・高効率
を期待できる。なお、Ｈ型ステージは両軸が長ストロー
クのウェハステージに、Ｉ型ステージは一方向のみ長ス
トロークのレチクルステージに用いられることが多い。2. Description of the Related Art At present, a so-called H-type or I-type XY stage device is mainly used as a stage device of an optical exposure machine. In these stage devices, a moving guide is bridged between two fixed guides extending in parallel in a certain direction, and a self-propelled stage runs on the moving guide. The names of the two fixed guides and the movable guides are given because the shapes of the alphabets are H and I. Recently, a linear motor is generally used as a drive actuator for each axis of the stage device. This stage device is simple, and can be expected to be small, light, and highly efficient. The H-type stage is often used as a wafer stage having a long stroke on both axes, and the I-type stage is often used as a reticle stage having a long stroke in only one direction.

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記のＨ型・Ｉ型ステ
ージ装置を、電子線露光装置中でマスクステージやウェ
ハステージとして用いようとすると、移動ガイド上で自
走する側の軸のリニアモータについては、固定子も可動
子も動くため、露光中の磁場変動が問題となる。この対
策として、リニアモータの磁気を磁気シールドで遮蔽す
ることも考えられるが、その場合は装置の構造が複雑に
なる。When the above-mentioned H-type / I-type stage apparatus is used as a mask stage or a wafer stage in an electron beam exposure apparatus, a linear motor of a shaft which is self-propelled on a moving guide is used. With regard to (5), since both the stator and the mover move, magnetic field fluctuation during exposure becomes a problem. As a countermeasure against this, it is conceivable to shield the magnetism of the linear motor with a magnetic shield, but in that case, the structure of the device becomes complicated.

【０００４】他の代替案として、いわゆる十字型ステー
ジ装置がある。つまり、Ｘ及びＹ方向のいずれにも２本
の平行固定ガイドを設け、その間に十字型に交差する移
動ガイドを互いにスライド可能に設け、移動ガイドの交
差点上にステージを搭載する。そして、リニアモータを
構成する永久磁石と電機子コイルの内、変動磁場の大き
い永久磁石をＸＹ両軸とも固定子として定盤上に固定
し、変動磁場の比較的少ない電機子コイルを可動子とす
れば、露光中の変動磁場を低減できる。しかしながら、
この十字型ステージ装置は、上述のＨ型ステージとＩ型
ステージとを中央で連結したような形態であって、装置
が大型になる。Another alternative is the so-called cruciform stage device. That is, two parallel fixed guides are provided in both the X and Y directions, moving guides intersecting in a cross shape are slidably provided therebetween, and a stage is mounted on the intersection of the moving guides. Then, of the permanent magnets and armature coils constituting the linear motor, the permanent magnet having a large fluctuating magnetic field is fixed on the surface plate as a stator for both XY axes, and the armature coil having a relatively small fluctuating magnetic field is defined as a mover. Then, the fluctuating magnetic field during exposure can be reduced. However,
This cross-shaped stage device has a form in which the above-mentioned H-type stage and I-type stage are connected at the center, and the device becomes large.

【０００５】さらに、他の代替案として２自由度リニア
モータを用いるステージ装置がある。これは、ある方向
に平行に延びる２本の固定ガイド間に、他の一軸を駆動
するための２自由度リニアモータを配置したＨ型又はＩ
型ステージである。しかし、この２自由度リニアモータ
は、特殊な構成をしており、高価である。Another alternative is a stage device using a two-degree-of-freedom linear motor. This is an H-shape or I-shape in which a two-degree-of-freedom linear motor for driving another axis is arranged between two fixed guides extending parallel to a certain direction.
It is a mold stage. However, this two-degree-of-freedom linear motor has a special configuration and is expensive.

【０００６】特開平９−３４１３５には、空気軸受とバ
キュームパッドを利用してテーブルにＺ方向の与圧をか
けるタイプのステージ装置が開示されている。このステ
ージ装置は、定盤に設けられたバキュームパッドと空気
軸受を利用して移動テーブルにＺ方向の与圧を与えるも
のである。この装置では、移動テーブル等の重量を定盤
で受けることができるとともに与圧のメカニズムもシン
プルであるので、比較的、装置を軽量化しうる。しか
し、真空中ではバキュームによるプリロードがかけられ
ないため、ステージの剛性を高めたい場合には、空気軸
受を多数配置する必要があり、ステージ構造が複雑にな
ってしまう。また、バキュームの替りに磁石吸引力によ
る与圧をかけることも考えられるが、磁場変動を嫌う荷
電粒子線露光装置には使用しにくい。Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-34135 discloses a stage device of a type in which a table is pressurized in the Z direction using an air bearing and a vacuum pad. This stage device applies a pressure in the Z direction to a moving table using a vacuum pad and an air bearing provided on a surface plate. In this device, the weight of the moving table or the like can be received on the surface plate and the mechanism for pressurizing is simple, so that the device can be made relatively lightweight. However, since vacuum preloading cannot be performed in a vacuum, a large number of air bearings need to be arranged to increase the rigidity of the stage, which complicates the stage structure. Further, it is conceivable to apply a pressurization by a magnet attraction instead of the vacuum, but it is difficult to use a charged particle beam exposure apparatus which dislikes magnetic field fluctuation.

【０００７】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、磁場の乱れが少なく、装置を小型・軽
量にもしうるステージ装置等を提供することを目的とす
る。The present invention has been made in view of such a problem, and has as its object to provide a stage device and the like which can reduce the size of the device and reduce the disturbance of the magnetic field.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明のステージ装置は、 ある平面（ＸＹ平面）
内でステージを駆動・位置決めするステージ装置であっ
て、 該平面内におけるある方向（Ｙ方向）に延びる固
定ガイドと、 各固定ガイド上をスライドする２つのＹ
スライダと、 該Ｙスライダの駆動機構と、 両Ｙスラ
イダ間に掛け渡された、他の方向（Ｘ方向）に延びる移
動ガイドと、 該移動ガイド上をスライドするＸスライ
ダと、 該Ｘスライダの駆動機構と、 該Ｘスライダに
搭載されたステージ部と、 を具備し、 前記Ｙスライ
ダの駆動機構のアクチュエータが、前記固定ガイドに沿
って固定された永久磁石固定子を有するリニアモータで
あり、 前記Ｘスライダの駆動機構のアクチュエータが
非電磁力アクチュエータであることを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a stage device according to the present invention has a certain plane (XY plane).
A stage device for driving and positioning a stage within a fixed guide extending in a certain direction (Y direction) in the plane, and two Y sliding on each fixed guide.
A slider, a driving mechanism for the Y slider, a moving guide that extends between the two Y sliders and extends in the other direction (X direction), an X slider that slides on the moving guide, and driving of the X slider A linear motor having a permanent magnet stator fixed along the fixed guide, wherein the actuator includes a stage unit mounted on the X slider. The actuator of the drive mechanism of the slider is a non-electromagnetic force actuator.

【０００９】リニアモータは、線形性に優れるため、高
精度の位置決め制御と速度追従制御が可能である。しか
し、リニアモータは、高価で、漏洩磁場が生じ、位置決
め安定性が高くない。特に、Ｘスライダの駆動機構を、
もし通常のリニアモータとすると、該リニアモータの永
久磁石がＹスライダや移動ガイドと共に動いてしまい、
ステージ上での磁場の乱れが大きくなってしまう。この
ような磁場の乱れは、本ステージ装置を荷電粒子線露光
装置に応用するような場合には、極めて好ましくない。
そこで、Ｘスライダの駆動機構をエアシリンダ等の非電
磁力アクチュエータにすれば、Ｙスライダを駆動した際
のステージ上での磁場の乱れをほとんど無視できるの
で、高精度な露光を行える。なお、Ｙスライダの駆動ア
クチュエータの固定子（永久磁石）は、固定ガイドに沿
って定盤に固定されているので、また、ステージ部から
比較的離れているので、Ｙスライダをリニアモータ駆動
としても悪影響は限定的である。Since the linear motor has excellent linearity, high-precision positioning control and speed tracking control are possible. However, the linear motor is expensive, generates a leakage magnetic field, and does not have high positioning stability. In particular, the drive mechanism of the X slider
If a normal linear motor is used, the permanent magnet of the linear motor moves together with the Y slider and the moving guide,
The disturbance of the magnetic field on the stage increases. Such disturbance of the magnetic field is extremely undesirable when the present stage apparatus is applied to a charged particle beam exposure apparatus.
Therefore, if the driving mechanism of the X slider is a non-electromagnetic actuator such as an air cylinder, the disturbance of the magnetic field on the stage when the Y slider is driven can be almost ignored, so that high-precision exposure can be performed. Since the stator (permanent magnet) of the drive actuator for the Y slider is fixed to the surface plate along the fixed guide, and is relatively far from the stage, the Y slider can be driven by a linear motor. Adverse effects are limited.

【００１０】前記ステージ装置においては、 前記ステ
ージ部の上に、θ_Z方向（Ｚ軸周り）に駆動される第１
テーブルが載置されており、 該第１テーブル上に、θ
_X方向（Ｘ軸周り）、θ_Y方向（Ｙ軸周り）及びＺ方向に
駆動される第２テーブルが搭載されていることが好まし
い。In the stage device, a first device driven in the θ _Z direction (around the Z axis) is placed on the stage unit.
A table is mounted, and on the first table, θ
_X-direction (around the X axis), theta _Y direction (around the Y axis), and it is preferable that the second table being driven are mounted on the Z direction.

【００１１】このような構成により、多自由度なステー
ジ装置を実現できる。また、いくつかの駆動軸を別々の
テーブルに設けることにより、ステージやテーブルの制
御がしやすくなり、精度を向上できる。With such a configuration, a stage device having many degrees of freedom can be realized. Also, by providing several drive shafts on separate tables, it becomes easier to control the stage and the table, and the accuracy can be improved.

【００１２】前記ステージ装置においては、 前記Ｘス
ライダの駆動機構のアクチュエータの可動部が、気体軸
受（エアパッド）を介してガイドされていることが好ま
しい。このように、アクチュエータの可動部に気体軸受
を設けることにより、ステージを低摩擦で駆動すること
ができる。In the stage device, it is preferable that a movable portion of an actuator of the drive mechanism of the X slider is guided via a gas bearing (air pad). Thus, by providing the gas bearing in the movable part of the actuator, the stage can be driven with low friction.

【００１３】前記ステージ装置においては、 前記非電
磁力アクチュエータがエアシリンダであり、 該エアシ
リンダのエア圧を調整する圧空制御弁が、前記移動ガイ
ド上に搭載されていることが好ましい。In the stage device, it is preferable that the non-electromagnetic force actuator is an air cylinder, and a pneumatic control valve for adjusting the air pressure of the air cylinder is mounted on the moving guide.

【００１４】エアシリンダは、安価で、非電磁駆動のた
め磁場変動が生じず、停止時の安定性がある。しかし、
エアシリンダは、作動流体である空気に圧縮性があるた
め、空気の圧力伝播遅れ等に起因する非線形性が強い。
また、ピストンの位置によって気体室の体積が変化する
ため、ステージ位置による特性変動がある。そこで、圧
空制御弁をエアシリンダ近傍の移動ガイド上に配置する
ことにより、エアの圧力伝播遅れを短くし、より応答性
の良いステージ位置決めを図る。エアシリンダの圧空制
御弁の内で応答性の高い代表的なものは、ＶＣＭ（ボイ
ス・コイル・モータ）で駆動されるサーボ弁である。こ
のサーボ弁を移動ガイド上に搭載して動かすと、ステー
ジ上における変動磁場が生じる恐れがある。しかし、Ｖ
ＣＭの磁気回路は磁気的に閉じられているので、サーボ
弁の移動による変動磁場はリニアモータに比べ無視でき
るほど小さい。The air cylinder is inexpensive, has no magnetic field fluctuation due to non-electromagnetic drive, and has stability when stopped. But,
In the air cylinder, since the air as the working fluid has compressibility, the air cylinder has a strong nonlinearity due to a delay in pressure propagation of the air.
Further, since the volume of the gas chamber changes depending on the position of the piston, there is a characteristic change due to the stage position. Therefore, by arranging the compressed air control valve on the movement guide near the air cylinder, the delay in air pressure propagation is reduced, and the stage positioning with more responsiveness is achieved. A representative one having high responsiveness among the pneumatic control valves of the air cylinder is a servo valve driven by a VCM (voice coil motor). If this servo valve is mounted and moved on a moving guide, a fluctuating magnetic field on the stage may be generated. But V
Since the magnetic circuit of the CM is magnetically closed, the fluctuating magnetic field due to the movement of the servo valve is negligibly small compared to the linear motor.

【００１５】前記ステージ装置においては、 前記２つ
のＹスライダが、前記固定ガイドに上下面のみを拘束さ
れて案内されており、 前記２つのＹスライダの各々の
駆動機構のリニアモータの推力配分を調整することによ
り、前記ステージがθ_Z方向（Ｚ軸周り）に回動可能と
することもできる。これにより、θ_Z方向（Ｚ軸周り）
に回動可能なテーブルを設けなくても、ステージをθ_Z
方向（Ｚ軸周り）に回動することができる。In the stage device, the two Y sliders are guided by the fixed guide only with the upper and lower surfaces restrained, and the thrust distribution of a linear motor of a drive mechanism of each of the two Y sliders is adjusted. by may be the stage is rotatable in the theta _Z direction (about the Z axis). Thus, the θ _Z direction (around the Z axis)
The stage can be set to θ _Z without the need for a rotatable table.
It can rotate in the direction (around the Z axis).

【００１６】前記ステージ装置においては、 前記固定
ガイドと平行に配置された副固定ガイドと、 該副固定
ガイド上を、気体軸受を介して、４面（摺動面の上下及
び両側面）を拘束されて案内される補助スライダと、
該補助スライダと前記Ｙスライダとを接続するＸ方向に
柔でＹ方向に剛な接続手段と、 をさらに具備し、前記
ステージをＸ方向に駆動した際に、運動量保存則により
ステージ反力を打ち消すこともできる。In the stage device, a sub-fixed guide arranged in parallel with the fixed guide, and four surfaces (upper and lower sides and both side surfaces of the sliding surface) are restrained on the sub-fixed guide via a gas bearing. An auxiliary slider to be guided
And a connecting means for connecting the auxiliary slider and the Y slider, which is soft in the X direction and rigid in the Y direction, and cancels the stage reaction force by the law of conservation of momentum when the stage is driven in the X direction. You can also.

【００１７】ＸスライダがＸ方向に駆動された際には、
移動ガイド等にステージ反力が伝わる。しかし、ここ
で、移動ガイド等には、ばねを介して補助スライダが接
続されているため、可動部（Ｘスライダ等）質量と固定
部（移動ガイド等）質量との質量比に基づく運動量保存
則によりステージ反力を打ち消すことができる。したが
って、ステージ反力による振動が装置全体に伝わること
が無く、より正確なステージ位置決めを行うことができ
る。When the X slider is driven in the X direction,
The stage reaction force is transmitted to the movement guide and the like. However, since the auxiliary slider is connected to the moving guide and the like via a spring, the momentum conservation law based on the mass ratio between the mass of the movable portion (X slider and the like) and the mass of the fixed portion (moving guide and the like). Thus, the stage reaction force can be canceled. Therefore, vibration due to the stage reaction force is not transmitted to the entire apparatus, and more accurate stage positioning can be performed.

【００１８】前記ステージ装置においては、 前記接続
手段が、Ｘ方向に柔でＹ方向に剛なばねであることもで
きる。In the stage device, the connection means may be a spring which is flexible in the X direction and rigid in the Y direction.

【００１９】本発明の露光装置は、 所望のパターンが
形成されたマスクを載置するマスクステージと、 前記
マスクをエネルギ線照明する照明光学系と、 前記パタ
ーンを転写する感応基板を載置する感応基板ステージ
と、 前記マスクを通過したエネルギ線を前記感応基板
上に投影結像させる投影光学系と、 前記各部を制御す
る制御手段と、 を具備し、 前記両ステージをある方
向（Ｙ方向）に同期スキャンさせながら露光する露光装
置であって、 前記マスクステージ又は感応基板ステー
ジが、 前記Ｙ方向に延びる固定ガイドと、 各固定ガ
イド上をスライドする２つのＹスライダと、 該Ｙスラ
イダの駆動機構と、 両Ｙスライダ間に掛け渡された、
他の方向（Ｘ方向）に延びる移動ガイドと、 該移動ガ
イド上をスライドするＸスライダと、 該Ｘスライダの
駆動機構と、 該Ｘスライダに搭載されたステージ部
と、 を具備し、 前記Ｙスライダの駆動機構のアクチ
ュエータが、前記固定ガイドに沿って固定された永久磁
石固定子を有するリニアモータであり、 前記Ｘスライ
ダの駆動機構のアクチュエータが非電磁力アクチュエー
タであることを特徴とする。An exposure apparatus according to the present invention comprises: a mask stage on which a mask on which a desired pattern is formed is placed; an illumination optical system for irradiating the mask with energy rays; A substrate stage; a projection optical system for projecting and forming an energy beam passing through the mask on the sensitive substrate; and a control unit for controlling the respective units. The two stages are moved in a certain direction (Y direction). An exposure apparatus that performs exposure while performing synchronous scanning, wherein the mask stage or the sensitive substrate stage includes a fixed guide extending in the Y direction, two Y sliders sliding on each fixed guide, and a driving mechanism of the Y slider. , Spanned between both Y sliders,
A moving guide extending in the other direction (X direction); an X slider that slides on the moving guide; a driving mechanism for the X slider; and a stage mounted on the X slider. Wherein the actuator of the drive mechanism is a linear motor having a permanent magnet stator fixed along the fixed guide, and the actuator of the drive mechanism of the X slider is a non-electromagnetic actuator.

【００２０】すなわち、露光装置の感応基板ステージの
スキャン軸（Ｙ軸）を固定ガイドのリニアモータ駆動と
し、他方の軸（Ｘ軸、定置ステップ軸等）を移動ガイド
の非電磁力アクチュエータ駆動とするのである。こうす
ることにより、移動ガイドと一緒に動く非電磁力アクチ
ュエータには実質的な電磁気発生部品は無く、スキャン
軸駆動固定子である永久磁石は定盤上に固定されている
ので、スキャン中の変動磁場を極力低減できる。また、
特殊で高価な２自由度リニアモータを避けることができ
る。また、装置の小型化・軽量化・高効率化を図れると
ともに、制御性を向上できる。なお、リニアモータに
は、電磁式、静電式、電歪式及び磁歪式等のものを用い
ることができる。非電磁力アクチュエータの例として
は、空圧シリンダ、超音波モータ等を挙げることができ
る。なお、その場合には、スキャン軸を２本の固定ガイ
ドでガイドすると共に、ステップ軸を１本の移動ガイド
上で駆動するＨ型構造とすることにより、装置を簡単に
できる。That is, the scan axis (Y axis) of the sensitive substrate stage of the exposure apparatus is driven by a linear motor of a fixed guide, and the other axis (X axis, stationary step axis, etc.) is driven by a non-electromagnetic actuator of a movable guide. It is. By doing so, the non-electromagnetic force actuator that moves together with the moving guide has no substantial electromagnetic generating parts, and the permanent magnets, which are the scan axis drive stators, are fixed on the surface plate, so that fluctuations during scanning can be prevented. The magnetic field can be reduced as much as possible. Also,
Special and expensive two-degree-of-freedom linear motors can be avoided. Further, the size, weight, and efficiency of the device can be reduced, and controllability can be improved. The linear motor may be of an electromagnetic type, an electrostatic type, an electrostrictive type, a magnetostrictive type, or the like. Examples of the non-electromagnetic force actuator include a pneumatic cylinder and an ultrasonic motor. In this case, the apparatus can be simplified by adopting an H-shaped structure in which the scan axis is guided by two fixed guides and the step axis is driven on one moving guide.

【００２１】前記露光装置においては、 前記ステージ
部の上に、θ_Z方向（Ｚ軸周り）に駆動される第１テー
ブルが載置され、 該第１テーブル上に、θ_X方向（Ｘ
軸周り）、θ_Y方向（Ｙ軸周り）及びＺ方向に駆動され
る第２テーブルが搭載されていることが好ましい。In the exposure apparatus, a first table driven in the θ _Z direction (around the Z axis) is placed on the stage section, and the first table is driven in the θ _X direction (X
It is preferable to mount a second table that is driven in the θ axis direction (around the axis), the θ _Y direction (around the Y axis), and the Z direction.

【００２２】[0022]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ説明す
る。まず、図６を参照しつつ本発明の実施の形態に係る
ステージ装置を搭載可能な荷電粒子ビーム（電子線）露
光装置について説明する。なお、本発明に係るステージ
装置は、大気中で使用することもでき、荷電粒子ビーム
露光装置に限らず、様々な用途に使用できる。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, a charged particle beam (electron beam) exposure apparatus on which a stage device according to an embodiment of the present invention can be mounted will be described with reference to FIG. The stage device according to the present invention can be used in the atmosphere, and can be used not only for the charged particle beam exposure device but also for various uses.

【００２３】図６は、本発明の実施の形態に係るステー
ジ装置を搭載可能な荷電粒子ビーム（電子線）露光装置
を模式的に示す図である。図６には、電子線露光装置１
００が模式的に示されている。電子線露光装置１００の
上部には、光学鏡筒（真空チャンバ）１０１が示されて
いる。光学鏡筒１０１には真空ポンプ１０２が接続され
ており、光学鏡筒１０１内を真空排気している。FIG. 6 is a view schematically showing a charged particle beam (electron beam) exposure apparatus on which a stage apparatus according to an embodiment of the present invention can be mounted. FIG. 6 shows an electron beam exposure apparatus 1
00 is schematically shown. An optical column (vacuum chamber) 101 is shown above the electron beam exposure apparatus 100. A vacuum pump 102 is connected to the optical barrel 101, and the inside of the optical barrel 101 is evacuated.

【００２４】光学鏡筒１０１の上部には、電子銃１０３
が配置されており、下方に向けて電子線を放射する。電
子銃１０３の下方には、コンデンサレンズ１０４ａや電
子線偏向器１０４ｂ等を含む照明光学系１０４、マスク
Ｍが配置されている。電子銃１０３から放射された電子
線は、コンデンサレンズ１０４ａによって収束される。
続いて、偏向器１０４ｂにより図の横方向に順次走査
（スキャン）され、光学系１０４の視野内にあるマスク
Ｍの各小領域（サブフィールド）の照明が行われる。な
お、図ではコンデンサレンズ１０４ａは一段であるが、
実際の照明光学系には、数段のレンズやビーム成形開口
等が設けられている。An electron gun 103 is provided above the optical barrel 101.
And emits an electron beam downward. Below the electron gun 103, an illumination optical system 104 including a condenser lens 104a and an electron beam deflector 104b, and a mask M are arranged. The electron beam emitted from the electron gun 103 is converged by the condenser lens 104a.
Subsequently, the light is sequentially scanned (scanned) in the lateral direction of the drawing by the deflector 104b, and illumination of each small area (subfield) of the mask M within the field of view of the optical system 104 is performed. Although the condenser lens 104a has one stage in the drawing,
An actual illumination optical system is provided with several stages of lenses, a beam shaping aperture, and the like.

【００２５】マスクＭは、マスクステージ１１１の上部
に設けられたチャック１１０に静電吸着等により固定さ
れている。マスクステージ１１１は、定盤１１６に載置
されている。The mask M is fixed to a chuck 110 provided above the mask stage 111 by electrostatic attraction or the like. The mask stage 111 is mounted on a surface plate 116.

【００２６】マスクステージ１１１には、図の左方に示
す駆動装置１１２が接続されている。なお、実際には、
駆動装置１１２とステージ１１１とは図１等に示すよう
に一体化されている。駆動装置１１２は、ドライバ１１
４を介して、制御装置１１５に接続されている。また、
マスクステージ１１１の側方（図の右方）にはレーザ干
渉計１１３が設置されている。レーザ干渉計１１３は、
制御装置１１５に接続されている。レーザ干渉計１１３
で計測されたマスクステージ１１１の正確な位置情報が
制御装置１１５に入力される。マスクステージ１１１の
位置を目標位置とすべく、制御装置１１５からドライバ
１１４に指令が送出され、駆動装置１１２が駆動され
る。その結果、マスクステージ１１１の位置をリアルタ
イムで正確にフィードバック制御することができる。A driving device 112 shown on the left side of the figure is connected to the mask stage 111. In practice,
The drive device 112 and the stage 111 are integrated as shown in FIG. The driving device 112 includes the driver 11
4 is connected to the control device 115. Also,
A laser interferometer 113 is provided on the side (right side in the figure) of the mask stage 111. The laser interferometer 113
It is connected to the control device 115. Laser interferometer 113
The accurate position information of the mask stage 111 measured in the step is input to the control device 115. A command is sent from the control device 115 to the driver 114 so that the position of the mask stage 111 is set as the target position, and the driving device 112 is driven. As a result, the position of the mask stage 111 can be accurately feedback-controlled in real time.

【００２７】定盤１１６の下方には、ウェハチャンバ
（真空チャンバ）１２１が示されている。ウェハチャン
バ１２１の側方（図の右側）には、真空ポンプ１２２が
接続されており、ウェハチャンバ１２１内を真空排気し
ている。ウェハチャンバ１２１内には、コンデンサレン
ズ（投影レンズ）１２４ａや偏向器１２４ｂ等を含む投
影光学系１２４、及びウェハWが配置されている。Below the surface plate 116, a wafer chamber (vacuum chamber) 121 is shown. A vacuum pump 122 is connected to the side of the wafer chamber 121 (the right side in the drawing), and the inside of the wafer chamber 121 is evacuated. In the wafer chamber 121, a projection optical system 124 including a condenser lens (projection lens) 124a, a deflector 124b, and the like, and a wafer W are arranged.

【００２８】マスクＭを通過した電子線は、コンデンサ
レンズ１２４ａにより収束される。コンデンサレンズ１
２４ａを通過した電子線は、偏向器１２４ｂにより偏向
され、ウェハW上の所定の位置にマスクＭの像が結像さ
れる。なお、図ではコンデンサレンズ１２４ａは一段で
あるが、実際には、投影光学系中には複数段のレンズや
収差補正用のレンズやコイルが設けられている。The electron beam passing through the mask M is converged by the condenser lens 124a. Condenser lens 1
The electron beam that has passed through 24a is deflected by deflector 124b, and an image of mask M is formed at a predetermined position on wafer W. Although the condenser lens 124a has one stage in the figure, in practice, a plurality of stages of lenses, aberration correcting lenses and coils are provided in the projection optical system.

【００２９】ウェハWは、ウェハステージ１３１の上部
に設けられたチャック１３０に静電吸着等により固定さ
れている。ウェハステージ１３１は、定盤１３６に載置
されている。ウェハステージ１３１には、図の左方に示
す駆動装置１３２が接続されている。駆動装置１３２
は、ドライバ１３４を介して、制御装置１１５に接続さ
れている。また、ウェハステージ１３１の側方（図の右
方）にはレーザ干渉計１３３が設置されている。レーザ
干渉計１３３は、制御装置１１５に接続されている。レ
ーザ干渉計１３３で計測されたウェハステージ１３１の
正確な位置情報が制御装置１１５に入力される。ウェハ
ステージ１３１の位置を目標位置とすべく、制御装置１
１５からドライバ１３４に指令が送出され、駆動装置１
３２が駆動される。その結果、ウェハステージ１３１の
位置をリアルタイムで正確にフィードバック制御するこ
とができる。The wafer W is fixed to a chuck 130 provided above the wafer stage 131 by electrostatic attraction or the like. The wafer stage 131 is mounted on a surface plate 136. A driving device 132 shown on the left side of the figure is connected to the wafer stage 131. Drive device 132
Is connected to the control device 115 via the driver 134. A laser interferometer 133 is provided on the side of the wafer stage 131 (the right side in the figure). The laser interferometer 133 is connected to the control device 115. The accurate position information of the wafer stage 131 measured by the laser interferometer 133 is input to the control device 115. In order to set the position of wafer stage 131 as a target position, control device 1
15 sends a command to the driver 134, and the driving device 1
32 is driven. As a result, the position of the wafer stage 131 can be feedback-controlled accurately in real time.

【００３０】次に、本発明の第１の実施の形態に係るス
テージ装置について説明する。図１は、本発明の第１の
実施の形態に係るステージ装置の全体構成を示す斜視図
である。図２は、同ステージ装置のＸスライダ及びステ
ージ部の側面断面図である。図３は、同ステージ装置の
Ｙスライダ部の側面断面図である。図１には、ＸＹ平面
に広がる定盤１１６（図６参照）上に設置されているス
テージ装置１が示されている。このステージ装置１は、
図６の露光装置におけるマスクステージ１１１にあた
る。Next, a stage device according to a first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a perspective view showing the overall configuration of the stage device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a side sectional view of an X slider and a stage unit of the stage device. FIG. 3 is a side sectional view of a Y slider portion of the stage device. FIG. 1 shows a stage device 1 installed on a surface plate 116 (see FIG. 6) that spreads in an XY plane. This stage device 1
This corresponds to the mask stage 111 in the exposure apparatus of FIG.

【００３１】定盤１１６の上面の２箇所には、それぞれ
２つのガイド固定部５を介して、Ｙ方向に平行に延びる
２本の固定ガイド６が対向するように固定されている。
この２本の固定ガイド６及びその周辺の部材は、基本的
に同様の構成をしている。各固定ガイド６には、気体軸
受（エアパッド５１、図４参照）を介して、中空のボッ
クス状をしたＹスライダ７がＹ方向に摺動可能に嵌合さ
れている。Two fixed guides 6 extending in parallel in the Y direction are fixed to two places on the upper surface of the surface plate 116 via two guide fixing portions 5 respectively.
The two fixed guides 6 and the peripheral members have basically the same configuration. A hollow box-shaped Y slider 7 is fitted to each fixed guide 6 via a gas bearing (air pad 51, see FIG. 4) so as to be slidable in the Y direction.

【００３２】この例のステージ装置では、詳しくは図４
を参照しつつ後述するが、Ｙスライダ７側にエアパッド
やガードリング（溝）が形成されており、固定ガイド６
側にエアの回収・排気を行う通路が形成されている。Ｙ
スライダ７の外面には、Ｙスライダ７のエアパッドにエ
アを供給するエア配管９ａや、後述するリニアモータ１
６の駆動電流を供給する配管１２ａが接続されている。
また、Ｙスライダ７の外面からエアシリンダ２８、ステ
ージ６１にかけては、Ｘスライダ２５のエアパッドにエ
アを供給するエア配管３０ａ（途中図示省略）や静電チ
ャックに供給するヘリウムガスの供給配管３０ｂ（途中
図示省略）が配設されており、配管固定部材９で束ねら
れている。Ｙスライダ７の外側の定盤１１６上には、Ｌ
字型をしたＹ方向に延びる配管受け１０が固定されてい
る。配管受け１０上の２箇所には、配管固定部材１０
ａ、１０ｂが設けられており、配管固定部材９で固定さ
れる配管９ａ等を装置の外部に接続している。一方、Ｙ
スライダ７のエアパッドに供給されたエアは、詳しくは
図４を参照しつつ後述するように、固定ガイド６内に設
けられた回収・排気通路等を介して、固定ガイド６に設
けられたエアポート８から排気される。In the stage apparatus of this example, FIG.
As will be described later with reference to FIG. 5, an air pad and a guard ring (groove) are formed on the Y slider 7 side, and the fixed guide 6 is formed.
A passage for collecting and exhausting air is formed on the side. Y
An air pipe 9a for supplying air to the air pad of the Y slider 7 and a linear motor 1
6, a pipe 12a for supplying a drive current is connected.
In addition, from the outer surface of the Y slider 7 to the air cylinder 28 and the stage 61, an air pipe 30a (not shown) for supplying air to the air pad of the X slider 25 and a helium gas supply pipe 30b (not shown) for supplying to the electrostatic chuck. (Not shown), and are bundled by a pipe fixing member 9. On the surface plate 116 outside the Y slider 7, L
A pipe receiver 10 extending in the Y direction, which is shaped like a letter, is fixed. The pipe fixing member 10 is provided at two places on the pipe receiver 10.
a and 10b are provided, and the pipe 9a and the like fixed by the pipe fixing member 9 are connected to the outside of the apparatus. On the other hand, Y
The air supplied to the air pad of the slider 7 is supplied to an air port 8 provided in the fixed guide 6 through a collection / exhaust passage provided in the fixed guide 6 as described later in detail with reference to FIG. It is exhausted from.

【００３３】次に、図３を参照しつつ、固定ガイド６と
Ｙスライダ７、同スライダ駆動用リニアモータ１６の構
造について説明する。各Ｙスライダ７の上面及び下面の
端部には、固定部材１１を介して、ＸＺ断面において横
たわったＴ字型をしたＹ方向に延びるコイルジョイント
１２がステージ内側に向けて突設されている。コイルジ
ョイント１２の先には、長方形の平板状をした可動子コ
イル１２ｂ（図３のみ図示）が設けられている。固定部
材１１には、可動子コイル１２ｂを制御する電気配線及
び冷却媒体を循環させる配管１２ａ（図１のみ図示）が
取り付けられている。各配管１２ａは、配管固定部材９
に固定されている。Next, the structure of the fixed guide 6, the Y slider 7, and the slider driving linear motor 16 will be described with reference to FIG. At the ends of the upper surface and the lower surface of each Y slider 7, a T-shaped coil joint 12 lying in the XZ section and extending in the Y direction protrudes toward the inside of the stage via a fixing member 11. At the end of the coil joint 12, a mover coil 12b having a rectangular flat plate shape (only FIG. 3 is shown) is provided. The fixed member 11 is provided with an electric wiring for controlling the mover coil 12b and a pipe 12a (only FIG. 1 is shown) for circulating the cooling medium. Each pipe 12a is provided with a pipe fixing member 9
It is fixed to.

【００３４】各Ｙスライダ７の上下には、それぞれ固定
子１３がある隙間をもって配置されている。固定子１３
は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系等の永久磁石が極が交互となるよ
う駆動方向に配置されたものである。固定子１３はＹ方
向に延びる帯状をしており、そのＸＺ断面は平たいコの
字型をしており、そのコの字の中央の溝１３ａの開口側
がステージ装置の外側に向けて配置されている。上下の
固定子１３のＹ方向両端部には、図１に示すように、コ
の字型をした固定子固定部材１４が設けられており、両
固定子１３をサポート台１５を介して定盤１１６に固定
している。固定子サポート台１５と固定部材１４の間に
は、板バネ１５ａが設けられており、固定子１３はＹ方
向にわずかに移動できるようになっている。なお、図示
はしないが、固定部材１４の一方を、端部が定盤１１６
上に接地された緩衝材（バネ−ダンパ等）を介して、定
盤１１６上に固定することにより、固定子１３をＹ方向
にわずかに移動できるようにすることもできる。Above and below each Y-slider 7, a stator 13 is arranged with a gap. Stator 13
Are permanent magnets of Nd-Fe-B type or the like arranged in the driving direction such that the poles are alternated. The stator 13 has a band shape extending in the Y direction, and its XZ section has a flat U-shape. The opening side of the central groove 13a of the U-shape is arranged toward the outside of the stage device. I have. As shown in FIG. 1, U-shaped stator fixing members 14 are provided at both ends of the upper and lower stators 13 in the Y direction. 116. A leaf spring 15a is provided between the stator support base 15 and the fixing member 14, so that the stator 13 can slightly move in the Y direction. Although not shown, one end of the fixing member 14 has an end
By fixing the stator 13 on the surface plate 116 via a buffer material (spring-damper or the like) grounded on the top, the stator 13 can be slightly moved in the Y direction.

【００３５】上述の各可動子コイル１２ｂは、それぞれ
に対応する固定子１３の溝１３ａの中に入り込んでお
り、該コイル１２ｂと固定子１３はＹ方向駆動用のリニ
アモータ１６を形成する。なお、Ｙスライダ７の上下２
つのリニアモータ１６の駆動力の合点は、Ｙスライダ７
の重心位置とほぼ一致しているので、Ｙスライダ７の重
心部に駆動力を与えることができ、高精度・高速に位置
制御ができる。また、Ｙスライダ７をＹ方向に駆動した
際には、固定子１３に逆方向の反力が掛るが、固定子サ
ポート台１５に設けられた板バネ１５ａで吸収されるた
め、装置に振動が伝わることがない。また、固定部材１
４の一方を、端部が定盤１１６上に接地された緩衝材
（バネ−ダンパ等）を介して、定盤１１６上に固定する
場合にも、同様に、Ｙスライダ７の反力が装置に伝わる
ことはない。Each of the above-described mover coils 12b is inserted into a corresponding groove 13a of the stator 13, and the coils 12b and the stator 13 form a linear motor 16 for driving in the Y direction. Note that the upper and lower 2 of the Y slider 7
The converging point of the driving forces of the two linear motors 16
, The driving force can be applied to the center of gravity of the Y slider 7, and the position can be controlled with high accuracy and high speed. When the Y-slider 7 is driven in the Y-direction, a counter-force is applied to the stator 13 in the opposite direction, but is absorbed by the leaf spring 15a provided on the stator support base 15, so that vibration is applied to the device. There is no transmission. Also, the fixing member 1
Similarly, when one of the four sliders 4 is fixed on the surface plate 116 via a cushioning material (spring-damper or the like) whose end is grounded on the surface plate 116, the reaction force of the Y slider 7 Will not be transmitted to

【００３６】両Ｙスライダ７間には、Ｘ方向に延びる移
動ガイド２１、２２が掛け渡されている。移動ガイド２
１と２２とは間隔を開けて配置されており、マスクＭ
（図６参照）を通過したビームが両ガイド２１、２２の
間の空間を下方に通過する。両Ｙスライダ７と移動ガイ
ド２１、２２の接続部には、それぞれ補強用のリブ２
３、２４が設けられている。Moving guides 21 and 22 extending in the X direction extend between the Y sliders 7. Moving guide 2
1 and 22 are spaced from each other, and the mask M
The beam that has passed (see FIG. 6) passes downward through the space between the guides 21 and 22. The connecting portions between the Y sliders 7 and the moving guides 21 and 22 have reinforcing ribs 2 respectively.
3 and 24 are provided.

【００３７】次に、エアシリンダ２８について説明す
る。移動ガイド２１には、中空のボックス状をしたＸス
ライダ２５が嵌合されている。この移動ガイド２１とＸ
スライダ２５とは、エアシリンダ２８（図５を参照しつ
つ後述）を構成しており、Ｘスライダ２５はＸ方向に駆
動可能となっている。移動ガイド２１の一方（図のＸ軸
の正方向）の両端部には、エアの圧力を制御する圧空制
御弁２７が配置されている（図１には、一方のみ図
示）。この例では、圧空制御弁２７は、ＶＣＭ（ボイス
・コイル・モータ）で駆動されるサーボ弁である。この
圧空制御弁２７は、その圧力伝播遅れを小さくするた
め、エアシリンダ２８に近接して配置することが好まし
い。Next, the air cylinder 28 will be described. A hollow box-shaped X slider 25 is fitted to the moving guide 21. This moving guide 21 and X
The slider 25 constitutes an air cylinder 28 (described later with reference to FIG. 5), and the X slider 25 can be driven in the X direction. Compressed air control valves 27 for controlling the pressure of air are disposed at one end (the positive direction of the X-axis in the drawing) of the moving guide 21 (only one is shown in FIG. 1). In this example, the compressed air control valve 27 is a servo valve driven by a VCM (voice coil motor). The compressed air control valve 27 is preferably arranged close to the air cylinder 28 in order to reduce the pressure propagation delay.

【００３８】この例のステージ装置では、詳しくは図４
を参照しつつ後述するが、Ｘスライダ２５側にエアパッ
ドやガードリング（溝）が形成されており、移動ガイド
２１側にエアの回収・排気を行う通路が形成されてい
る。Ｘスライダ２５の上面には、Ｘスライダ２５のエア
パッドにエアを供給するエア配管３０ａが接続されてい
る。Ｘスライダ２５の外面の定盤１１６上には、Ｘ方向
に延びる配管受け３０が固定されている。配管受け３０
は、詳しい図示は省略されているが、Ｙスライダ７の横
の配管受け１０と同様の構成を有し、エア配管３０ａや
静電チャックに供給するヘリウムガスの供給配管３０ｂ
をスイング可能に固定している。In the stage device of this example, the details are shown in FIG.
As will be described later with reference to FIG. 2, an air pad and a guard ring (groove) are formed on the X slider 25 side, and a passage for collecting and exhausting air is formed on the moving guide 21 side. An air pipe 30a for supplying air to the air pad of the X slider 25 is connected to the upper surface of the X slider 25. A pipe receiver 30 extending in the X direction is fixed on the surface plate 116 on the outer surface of the X slider 25. Pipe receiver 30
Although not shown in detail, it has the same configuration as the pipe receiver 10 on the side of the Y slider 7, and has a helium gas supply pipe 30b to be supplied to the air pipe 30a and the electrostatic chuck.
Is fixed so that it can swing.

【００３９】Ｘスライダ２５の内側の側面には、図２に
分りやすく示すように、ＸＹ平面に広がる四角い平板状
をしたステージ６１が取り付けられている。ステージ６
１には、マスクＭ（図６参照）を通過したビームが下方
に通過できるように貫通孔６１ａが開けられている。図
２に示すように、ステージ６１の反Ｘスライダ２５側
（先端部）には、下面に気体軸受５１を有する気体軸受
部６１ｂが設けられている。この気体軸受部６１ｂは、
気体軸受（エアパッド）５１を介して、移動ガイド２２
上に載置されており、移動ガイド２２上をＸ方向に非接
触に摺動可能となっている。この気体軸受があるため、
片持ち梁状のステージ６１の下方への変形が防止され
る。On the inner side surface of the X slider 25, as shown in FIG. 2, a stage 61 in the shape of a rectangular flat plate extending on the XY plane is mounted. Stage 6
1, a through hole 61a is formed so that a beam passing through the mask M (see FIG. 6) can pass downward. As shown in FIG. 2, a gas bearing 61 b having a gas bearing 51 on the lower surface is provided on the stage 61 on the side opposite to the X slider 25 (tip). This gas bearing 61b is
The movement guide 22 is provided via a gas bearing (air pad) 51.
It is slidable on the moving guide 22 in the X direction in a non-contact manner. Because of this gas bearing,
The downward deformation of the cantilever stage 61 is prevented.

【００４０】エアパッド５１は、例えば、ステージ６１
の下面のＸ方向に離れた２箇所に配置することができ
る。この例のステージ装置では、詳しくは図４を参照し
つつ後述するが、気体軸受部６１ｂ側にエアパッドやガ
ードリング（溝）が形成されており、移動ガイド２２側
にエアの回収・排気を行う通路（図示せず）が形成され
ている。気体軸受部６１ｂの上面には、気体軸受部６１
ｂのエアパッド５１にエアを供給するエア配管２２ａが
接続されている。気体軸受部６１ｂのエアパッドに供給
されたエアは、ガードリング、移動ガイド２２内に設け
られた回収・排気通路（図示せず）を介して排気され
る。The air pad 51 is, for example, a stage 61
Can be arranged at two places separated in the X direction on the lower surface of the. In the stage device of this example, an air pad and a guard ring (groove) are formed on the gas bearing portion 61b side, and air is collected and exhausted on the moving guide 22 side, which will be described later in detail with reference to FIG. A passage (not shown) is formed. The gas bearing 61 is provided on the upper surface of the gas bearing 61b.
The air pipe 22a for supplying air to the air pad 51 of b is connected. The air supplied to the air pad of the gas bearing 61b is exhausted through a guard ring and a collection / exhaust passage (not shown) provided in the moving guide 22.

【００４１】ステージ６１上には、ＸＹ平面に広がる四
角い平板状をした第１テーブル６２が載置されている。
第１テーブル６２には、貫通孔６２ａが開けられてお
り、マスクＭ（図６参照）を通過したビームが下方に通
過する。On the stage 61, a first table 62 in the form of a rectangular flat plate spreading on the XY plane is placed.
The first table 62 has a through-hole 62a, and the beam that has passed through the mask M (see FIG. 6) passes downward.

【００４２】第１テーブル６２上には、気体軸受（エア
パッド５１、図２参照）を介して、ＸＹ平面に広がる四
角い平板状をした第２テーブル６５が載置されている。
第２テーブル６５の端面の３箇所には、図１に示すよう
に、ピエゾアクチュエータ６３ａ、６３ｂ、６３ｃが設
けられている。ピエゾアクチュエータ６３ａ、６３ｂ、
６３ｃは、また、図示せぬピン等により第１テーブル６
２に回動可能に係止されている。このピエゾアクチュエ
ータ６３ａ、６３ｂ、６３ｃは、ＸＹ平面上で伸縮する
ことができる。このピエゾアクチュエータ６３ａ、６３
ｂ、６３ｃの伸縮により、第２テーブル６５をθ_Z方向
（Ｚ軸周り）に回転させることができる。On the first table 62, a second table 65 in the form of a rectangular flat plate spreading on the XY plane is placed via a gas bearing (air pad 51, see FIG. 2).
As shown in FIG. 1, piezo actuators 63a, 63b, 63c are provided at three places on the end surface of the second table 65. Piezo actuators 63a, 63b,
63c is a first table 6 using pins (not shown) or the like.
2 is rotatably locked. The piezo actuators 63a, 63b, 63c can expand and contract on the XY plane. The piezo actuators 63a, 63
b, the expansion and contraction of 63c, it is possible to rotate the second table 65 in the theta _Z direction (about the Z axis).

【００４３】第２テーブル６５の中央には、貫通孔６５
ａが開けられている。第２テーブル６５上には、さら
に、静電チャック１１０（マスク保持装置）があり、マ
スクＭを固定している。第２テーブル６５の上面には、
ヘリウムガス供給配管３０ｂが設けられており、静電チ
ャック１１０にヘリウムガスを供給する。In the center of the second table 65, a through hole 65 is provided.
a is open. On the second table 65, there is further provided an electrostatic chuck 110 (mask holding device) for fixing the mask M. On the upper surface of the second table 65,
A helium gas supply pipe 30b is provided to supply helium gas to the electrostatic chuck 110.

【００４４】なお、この例は、ステージ６１及びテーブ
ル６２、６５の中央部に１枚のマスクを搭載するタイプ
であるが、例えば、Ｘ方向に並べて２枚のマスクを載置
するようにしてもよい。あるいは、さらに多くのマスク
を搭載可能にもできる。第２テーブル６５上のマスクＭ
の脇の２箇所には、図１に示すように、第２テーブル６
５のＸ・Ｙ方向の位置を確認するためのマークプレート
６６が載置されている。第２テーブル６５の端面の２箇
所には、移動鏡６７ａ、６７ｂが設置されている。移動
鏡６７ａ、６７ｂの外側の側面は高精度に研磨されてお
り、図６に示したレーザ干渉計１１３等の反射面として
利用される。In this example, one mask is mounted on the center of the stage 61 and the tables 62 and 65. For example, two masks may be placed side by side in the X direction. Good. Alternatively, more masks can be mounted. Mask M on second table 65
, Two tables 6 as shown in FIG.
A mark plate 66 for confirming the position of X in the X and Y directions is placed. Moving mirrors 67a and 67b are installed at two places on the end surface of the second table 65. The outer side surfaces of the movable mirrors 67a and 67b are polished with high precision and are used as reflection surfaces of the laser interferometer 113 shown in FIG.

【００４５】図４は、ステージ装置のＹスライダに設け
られた気体軸受の構成を示す分解斜視図である。図４に
は、図１に示した固定ガイド６に嵌合されたＹスライダ
７の外形が想像線で示されている。また、スライダ７の
上方には、スライダ７の上面部７ａが分解されて示され
ている。スライダ７の他の各面の部分も上面部７ａと同
様の構成である。なお、図４においては、気体軸受の構
成の一例として、固定ガイド６とスライダ７の気体軸受
の構成について説明するが、他の気体軸受についても同
様の構成を用いることができる。ただし、気体軸受の構
成は、これに限定されるものではなく、様々な形態のも
のを用いることができる。FIG. 4 is an exploded perspective view showing the structure of the gas bearing provided on the Y slider of the stage device. FIG. 4 shows the outer shape of the Y slider 7 fitted to the fixed guide 6 shown in FIG. 1 by imaginary lines. Above the slider 7, an upper surface portion 7a of the slider 7 is shown in an exploded manner. The other surface portions of the slider 7 have the same configuration as the upper surface portion 7a. In FIG. 4, the configuration of the gas bearing of the fixed guide 6 and the slider 7 will be described as an example of the configuration of the gas bearing, but the same configuration can be used for other gas bearings. However, the configuration of the gas bearing is not limited to this, and various configurations can be used.

【００４６】シリンダ上面７ａの摺動面の両端には、多
孔オリフィス性の部材からなるエアパッド５１が２個付
設されている。２つのエアパッド５１の間には、エア供
給溝５１ｃが長手方向の中央部に直線状に形成されてい
る。各エアパッド５１及びエア供給溝５１ｃの外周に
は、エアを大気に開放する大気開放ガードリング（溝）
５２、低真空（Low Vacuum）排気を行う低真空ガードリ
ング５３、高真空（HighVacuum）排気を行う高真空ガー
ドリング５５が順に形成されている。各ガードリング５
２、５３、５５の端部は半円状をしており、中央部分は
長手方向に延びる直線状をしている。Two air pads 51 made of a porous orifice member are provided at both ends of the sliding surface of the cylinder upper surface 7a. Between the two air pads 51, an air supply groove 51c is formed linearly at the center in the longitudinal direction. Atmospheric release guard rings (grooves) on the outer periphery of each air pad 51 and air supply groove 51c to release air to the atmosphere.
52, a low vacuum guard ring 53 for performing low vacuum (Low Vacuum) exhaust, and a high vacuum guard ring 55 for performing high vacuum (High Vacuum) exhaust are sequentially formed. Each guard ring 5
The ends of 2, 53 and 55 have a semicircular shape, and the central portion has a linear shape extending in the longitudinal direction.

【００４７】シリンダ上面７ａの上面には、エアパッド
５１にエアを供給するエア配管９ａが接続されている。
一方、固定ガイド６の内部には、各ガードリング５２、
５３、５５にエアの回収・排気を行う通路が形成されて
いる。固定ガイド６の断面の図４の左上と右下には、高
真空排気通路５５ａが長手方向に貫通するように形成さ
れている。高真空排気通路５５ａの側方には、Ｌ字型を
した低真空排気通路５３ａが長手方向に貫通するように
形成されている。低真空排気通路５３ａの側方には、Ｌ
字型をした大気開放通路５２ａが長手方向に貫通するよ
うに形成されている。An air pipe 9a for supplying air to the air pad 51 is connected to the upper surface of the cylinder upper surface 7a.
On the other hand, inside the fixed guide 6, each guard ring 52,
Passages for collecting and exhausting air are formed in 53 and 55. At the upper left and lower right in FIG. 4 of the cross section of the fixed guide 6, a high vacuum exhaust passage 55a is formed so as to penetrate in the longitudinal direction. On the side of the high vacuum exhaust passage 55a, an L-shaped low vacuum exhaust passage 53a is formed so as to penetrate in the longitudinal direction. L is provided beside the low vacuum exhaust passage 53a.
A letter-shaped open air passage 52a is formed to penetrate in the longitudinal direction.

【００４８】通路５５ａ、５３ａ、５２ａの固定ガイド
６の側面の中央部分には、孔５５ｂ、５３ｂ、５２ｂが
形成されている。各孔は各ガードリング５２、５３、５
５に連通し、エアの回収・排気を行う。各ガードリング
５２、５３、５５の中央部分は直線状となっている。し
たがって、スライダ７がＹ軸上を動いても、各孔が各ガ
ードリング５２、５３、５５から外れることはないの
で、常に各孔からのエア回収・排気を行うことができ
る。Holes 55b, 53b and 52b are formed in the central portions of the side surfaces of the fixed guide 6 in the passages 55a, 53a and 52a. Each hole has a guard ring 52, 53, 5
5 to collect and exhaust air. The central part of each guard ring 52, 53, 55 is linear. Therefore, even if the slider 7 moves on the Y axis, each hole does not come off from each guard ring 52, 53, 55, so that the air can be always collected and exhausted from each hole.

【００４９】エア配管９ａからエア供給溝５１ｃにエア
が供給され、エアパッド５１からエアが噴出される。噴
出されたエアは、大気開放ガードリング５２を介して、
大気開放通路５２ａから大気に開放される。大気開放ガ
ードリング５２から洩れた気体は、低真空ガードリング
５３を介して、低真空排気通路５３ａから排気される。
さらに高真空ガードリング５５を介して、高真空排気通
路５５ａから排気される。このようにして、エアパッド
のエアが、高真空に保たれているチャンバ内にあまり洩
れ出さないようになっている。Air is supplied from the air pipe 9a to the air supply groove 51c, and air is jetted from the air pad 51. The ejected air passes through an atmosphere release guard ring 52,
It is opened to the atmosphere from the atmosphere opening passage 52a. The gas leaked from the atmosphere opening guard ring 52 is exhausted from the low vacuum exhaust passage 53a via the low vacuum guard ring 53.
Further, the air is exhausted from the high vacuum exhaust passage 55a via the high vacuum guard ring 55. In this way, the air of the air pad is prevented from leaking too much into the chamber maintained at a high vacuum.

【００５０】図５は、Ｘスライダに設けられたエアシリ
ンダの構成を示す側面断面図である。図５には、２つの
Ｙスライダ７に掛け渡された移動ガイド２１と、移動ガ
イド２１に嵌合されたＸスライダ２５が示されている。
移動ガイド２１とＸスライダ２５とでエアシリンダ２８
を構成している。FIG. 5 is a side sectional view showing the structure of the air cylinder provided on the X slider. FIG. 5 shows a moving guide 21 spanned over two Y sliders 7 and an X slider 25 fitted to the moving guide 21.
The air cylinder 28 includes the moving guide 21 and the X slider 25.
Is composed.

【００５１】Ｘスライダ２５の移動ガイド２１との摺動
面には、エアパッド５１が付設されている。エアパッド
５１は、Ｘスライダ２５の両端部付近の摺動面の上下及
び両側面（図示せず）に付設されている。エアパッド５
１には、図１にも示したエア配管３０ａからエアが供給
される。エアパッド５１の周囲には、順に大気開放ガー
ドリング５２、低真空排気ガードリング５３、高真空排
気ガードリング５５が設けられている。移動ガイド２１
内には、ガードリング５２、５３、５５から気体を回収
・排気するための通路も形成されている（図４参照）。
移動ガイド２１の側面の中央には、上記ガードリングと
上記通路を連通させるための貫通孔３４、３５、３６が
設けられているAn air pad 51 is provided on the sliding surface of the X slider 25 with the moving guide 21. The air pads 51 are provided on the upper and lower sides and both side surfaces (not shown) of the sliding surface near both ends of the X slider 25. Air pad 5
1 is supplied with air from the air pipe 30a also shown in FIG. An air release guard ring 52, a low vacuum exhaust guard ring 53, and a high vacuum exhaust guard ring 55 are sequentially provided around the air pad 51. Moving guide 21
A passage for collecting and exhausting gas from the guard rings 52, 53, 55 is also formed therein (see FIG. 4).
In the center of the side surface of the moving guide 21, through holes 34, 35, 36 for communicating the guard ring with the passage are provided.

【００５２】移動ガイド２１のほぼ中央には、しきり板
３１ａ、３１ｂが設けられている。Ｘスライダ２５の中
央部は、しきり板３１ａ、３１ｂにより、２つの気体室
３３ａ、３３ｂに分割されている。移動ガイド２１内に
は、Ｘスライダ２５の気体室３３ａ、３３ｂに気体を供
給するための通路３２が破線で示されている。通路３２
の両端部には、圧空制御弁２７が設けられており、気体
室３３ａ、３３ｂに供給する気体の圧力を制御する。隣
り合う気体室の圧力に差をつけることにより、Ｘスライ
ダ２５をＸ方向に駆動する。例えば、気体室３３ａの圧
力を気体室３３ｂよりも高くすることにより、気体室の
壁にかかる圧力の差が生じる。比較的高い圧力のかかっ
た気体室３３ａの図の左方の壁が押され、Ｘスライダ２
５が移動ガイド２１上を相対的に図の左方向に移動す
る。At substantially the center of the moving guide 21, there are provided partition plates 31a and 31b. The center of the X slider 25 is divided into two gas chambers 33a and 33b by partitioning plates 31a and 31b. In the movement guide 21, a passage 32 for supplying gas to the gas chambers 33a and 33b of the X slider 25 is indicated by broken lines. Passage 32
A pressure control valve 27 is provided at both ends of the gas chamber to control the pressure of gas supplied to the gas chambers 33a and 33b. The X slider 25 is driven in the X direction by making a difference between the pressures of the adjacent gas chambers. For example, by making the pressure of the gas chamber 33a higher than that of the gas chamber 33b, a difference in pressure applied to the walls of the gas chamber occurs. The left wall in the figure of the gas chamber 33a under a relatively high pressure is pushed, and the X slider 2 is pressed.
5 relatively moves on the movement guide 21 to the left in the figure.

【００５３】上述のように、この例のステージ装置をレ
チクルステージとして用いた場合には、２本の固定ガイ
ド６でガイドする側をスキャン軸とすることができ、ス
キャン移動時に、ステージ６１がねじれることが無く、
ステージの制御性を向上できる。また、Ｘスライダ２５
の駆動機構をエアシリンダ２８にすることにより、Ｙス
ライダ７を駆動した際のステージ上での磁場の乱れをほ
とんど無視できるので、高精度な露光を行える。なお、
Ｙスライダ７の駆動アクチュエータであるリニアモータ
１６の固定子（永久磁石）１３は、固定ガイド６に沿っ
て定盤１１６に固定されているので、また、ステージ部
から比較的離れているので、Ｙスライダ７をリニアモー
タ駆動としても悪影響は限定的である。As described above, when the stage apparatus of this example is used as a reticle stage, the side guided by the two fixed guides 6 can be used as the scan axis, and the stage 61 is twisted during the scan movement. Without
The controllability of the stage can be improved. Also, the X slider 25
By using the air cylinder 28 as the driving mechanism, the disturbance of the magnetic field on the stage when the Y slider 7 is driven can be almost ignored, so that highly accurate exposure can be performed. In addition,
The stator (permanent magnet) 13 of the linear motor 16, which is the drive actuator of the Y slider 7, is fixed to the surface plate 116 along the fixed guide 6, and is relatively distant from the stage. The adverse effect is limited even when the slider 7 is driven by a linear motor.

【００５４】次に、図７を参照しつつ、本発明の第２の
実施の形態に係るステージ装置について説明する。これ
は、図１に示したステージ装置１のステージ６１′の反
移動ガイド側の上下を気体軸受で拘束ガイドした例であ
る。図７は、本発明の第２の実施の形態に係るステージ
装置のＸスライダ及びステージ部の側面断面図である。
図７のステージ装置の大部分の構成は、図１に示したス
テージ装置１と同様であるので、同じ構成の部分には同
じ符号を付して説明を省略する。Next, a stage device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This is an example in which the upper and lower sides of the stage 61 'of the stage device 1 shown in FIG. FIG. 7 is a side sectional view of the X slider and the stage unit of the stage device according to the second embodiment of the present invention.
Most of the configuration of the stage device shown in FIG. 7 is the same as that of the stage device 1 shown in FIG. 1, and therefore, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

【００５５】図７には、移動ガイド２１に嵌合されたＸ
スライダ２５が示されている。Ｘスライダ２５の内側の
側面には、ステージ６１′が取り付けられている。ステ
ージ６１′の反Ｘスライダ２５側（先端部）には、ＹＺ
断面が平たいコの字型をしたＸ方向に延びる移動ガイド
２２′が設けられている。FIG. 7 shows the X fitted to the moving guide 21.
A slider 25 is shown. A stage 61 'is mounted on the inner side surface of the X slider 25. The stage 61 'has a YZ
A moving guide 22 'having a flat U-shaped cross section and extending in the X direction is provided.

【００５６】ステージ６１′には、マスクＭ（図６参
照）を通過したビームが下方に通過できるように貫通孔
６１′ａが開けられている。図７に示すように、ステー
ジ６１′の反Ｘスライダ２５側（先端部）には、上下面
に気体軸受５１を有する気体軸受部６１′ｂが設けられ
ている。エアパッド５１は、例えば、ステージ６１′の
上下面に、それぞれ２つずつ配置することができる。こ
の例のステージ装置では、気体軸受部６１′ｂ側にエア
パッドやガードリング（溝）が形成されており、移動ガ
イド２２′側にエアの回収・排気を行う通路（図示せ
ず）が形成されている。気体軸受部６１′ｂには、気体
軸受部６１′ｂのエアパッド５１にエアを供給するエア
配管２２′ａが接続されている。気体軸受部６１′ｂの
エアパッドに供給されたエアは、ガードリング、移動ガ
イド２２′内に設けられた回収・排気通路を介して排気
される。The stage 61 'is provided with a through-hole 61'a so that the beam passing through the mask M (see FIG. 6) can pass downward. As shown in FIG. 7, a gas bearing 61'b having a gas bearing 51 on the upper and lower surfaces is provided on the stage 61 'on the side opposite to the X slider 25 (tip). For example, two air pads 51 can be arranged on each of the upper and lower surfaces of the stage 61 '. In the stage device of this example, an air pad and a guard ring (groove) are formed on the gas bearing portion 61'b side, and a passage (not shown) for collecting and exhausting air is formed on the moving guide 22 'side. ing. An air pipe 22'a for supplying air to the air pad 51 of the gas bearing 61'b is connected to the gas bearing 61'b. The air supplied to the air pad of the gas bearing 61'b is exhausted through a guard ring and a recovery / exhaust passage provided in the moving guide 22 '.

【００５７】この気体軸受部６１′ｂは、気体軸受（エ
アパッド）５１を介して、移動ガイド２２′のコの字の
部分に隙間を持って入り込んでおり、移動ガイド２２′
内をＸ方向に非接触に摺動可能となっている。この気体
軸受があるため、片持ち梁上のステージ６１′の上下へ
の変形が防止される。The gas bearing portion 61'b is inserted into the U-shaped portion of the moving guide 22 'with a gap through the gas bearing (air pad) 51, and the moving guide 22'
The inside can be slid in the X direction in a non-contact manner. The presence of this gas bearing prevents the stage 61 'on the cantilever from deforming up and down.

【００５８】ステージ６１′上には、例えば、４本のＺ
方向に延びる円柱部材６９を介して、第１テーブル６２
が載置されている。第１テーブル６２上には、気体軸受
（エアパッド５１、図４参照）を介して、マスクＭを載
置する第２テーブル６５が載置されている。ここで、上
述の円柱部材６９は、第１テーブル６２及び第２テーブ
ル６５を底上げし、第２テーブル６５に設けられた移動
鏡６７ａに当てるレーザ光を遮らないようにするための
ものである。On stage 61 ', for example, four Z
The first table 62 is connected via a cylindrical member 69 extending in the direction
Is placed. On the first table 62, a second table 65 on which the mask M is mounted is placed via a gas bearing (air pad 51, see FIG. 4). Here, the above-mentioned cylindrical member 69 raises the first table 62 and the second table 65 so as not to block the laser beam applied to the movable mirror 67 a provided on the second table 65.

【００５９】次に、本発明の第３の実施の形態に係るス
テージ装置について説明する。図８は、本発明の第３の
実施の形態に係るステージ装置の全体構成を示す斜視図
である。これは、ＸＹステージ上に、５自由度微動ステ
ージを載置した例である。この例のステージ装置の大部
分の構成は、図１に示したステージ装置１と同様である
ので、同じ構成の部分には同じ符号を付して説明を省略
する。また、この例のステージ装置においては、配管や
配線は図示省略してある。Next, a stage device according to a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a perspective view showing the overall configuration of the stage device according to the third embodiment of the present invention. This is an example in which a fine movement stage with five degrees of freedom is mounted on the XY stage. Since most of the configuration of the stage device of this example is the same as that of the stage device 1 shown in FIG. 1, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted. In the stage device of this example, piping and wiring are not shown.

【００６０】図８には、定盤１１６（図６参照）上に固
定された２本の固定ガイド６と、各固定ガイド６に嵌合
されたＹスライダ７が示されている。Ｙスライダ７は、
固定ガイド６上をリニアモータ１６によりＹ方向に駆動
される。なお、この例では、各リニアモータ１６を構成
する、上下に配置された２つのコイルジョイント１２及
び可動子コイル１２ｂ（図３参照）は、ある厚さを有す
る平板状をした可動子固定プレート７１で固定されてい
る。各可動子固定プレート７１（一方のみ図示）には、
４つのネジ孔７１ａが設けられており、この孔７１ａに
通されたネジによって、固定プレート７１はＹスライダ
７に固定されている。FIG. 8 shows two fixed guides 6 fixed on the surface plate 116 (see FIG. 6) and the Y slider 7 fitted to each fixed guide 6. The Y slider 7
The linear guide 16 drives the fixed guide 6 in the Y direction. In this example, the two coil joints 12 and the mover coil 12b (see FIG. 3), which constitute each linear motor 16 and are arranged vertically, are formed by a flat mover fixing plate 71 having a certain thickness. It is fixed at. Each mover fixing plate 71 (only one is shown) has
Four screw holes 71a are provided, and the fixing plate 71 is fixed to the Y slider 7 by screws passed through the holes 71a.

【００６１】両Ｙスライダ７間には、Ｘ方向に延びる移
動ガイド２１、２２が掛け渡されている。図の手前側の
移動ガイド２１には、Ｘスライダ２５が嵌合されてい
る。このＸスライダ２５と移動ガイド２１とで、エアシ
リンダ２８を構成している。Ｘスライダ２５の内側の側
面には、ステージ６１が取り付けられている。ステージ
６１上には、詳しくは後述するが、第１テーブル７２及
び第２テーブル７５が載置されている。Moving guides 21 and 22 extending in the X direction are stretched between the Y sliders 7. An X slider 25 is fitted to the moving guide 21 on the near side in the drawing. The X-slider 25 and the movement guide 21 constitute an air cylinder 28. A stage 61 is attached to the inner side surface of the X slider 25. As will be described later in detail, a first table 72 and a second table 75 are mounted on the stage 61.

【００６２】図９は、同ステージ装置のテーブル部の構
成を示す分解斜視図である。図９には、ステージ６１上
に載置される第１テーブル７２及び第２テーブル７５が
示されている。FIG. 9 is an exploded perspective view showing the structure of the table unit of the stage device. FIG. 9 shows a first table 72 and a second table 75 placed on the stage 61.

【００６３】ステージ６１（図８参照）上に載置される
第１テーブル７２は、ＸＹ平面に広がる四角い平板状を
しており、その中央部には、マスクＭを通過したビーム
が下方に通過できるように四角い貫通孔７２ａが開けら
れている。The first table 72 mounted on the stage 61 (see FIG. 8) is in the form of a rectangular flat plate spreading on the XY plane, and the beam passing through the mask M passes downward at the center. A square through-hole 72a is opened so as to make it possible.

【００６４】第１テーブル７２は、図示せぬ気体軸受
（エアパッド５１、図４参照）を介して、ステージ６１
上に載置される。エアパッド５１は、例えば、ステージ
６１上の４箇所に設置できる。第１テーブル７２の端面
の３箇所には、ピエゾアクチュエータ７３ａ、７３ｂ、
７３ｃが設けられている。ピエゾアクチュエータ７３
ａ、７３ｂ、７３ｃは、また、図示せぬピン等によりス
テージ６１に回動可能に係止されている。このピエゾア
クチュエータ７３ａ、７３ｂ、７３ｃの伸縮により、第
１テーブル７２をθ_Z方向（Ｚ軸周り）に回転させるこ
とができる。The first table 72 is connected to the stage 61 through a gas bearing (not shown) (air pad 51, see FIG. 4).
Placed on top. The air pads 51 can be installed at four places on the stage 61, for example. Piezo actuators 73a and 73b are provided at three places on the end face of the first table 72.
73c is provided. Piezo actuator 73
a, 73b, 73c are rotatably locked to the stage 61 by pins (not shown) or the like. The piezoelectric actuator 73a, 73b, by the expansion and contraction of 73c, it is possible to rotate the first table 72 in the theta _Z direction (about the Z axis).

【００６５】第１テーブル７２上の３点には、３個のピ
エゾアクチュエータ７９ａ、７９ｂ、７９ｃが上方に向
けて配置されている。３つのピエゾアクチュエータ７９
ａ、７９ｂ、７９ｃ上には、マスクＭを載置する第２テ
ーブル７５が載置される。At three points on the first table 72, three piezo actuators 79a, 79b, 79c are arranged upward. Three piezo actuators 79
A second table 75 on which the mask M is to be mounted is mounted on a, 79b, and 79c.

【００６６】第２テーブル７５は、ＸＹ平面に広がる四
角い平板状をしており、その中央部には、マスクＭを通
過したビームが下方に通過できるように丸い貫通孔７５
ａが開けられている。第２テーブル７５上の貫通孔７５
ａの脇の２箇所には、マークプレート６６が載置されて
いる。第２テーブル７５の端面の２箇所には、移動鏡６
７ａ、６７ｂが設置されている。The second table 75 has a rectangular flat plate shape extending in the XY plane, and has a round through hole 75 at the center thereof so that the beam passing through the mask M can pass downward.
a is open. Through hole 75 on second table 75
A mark plate 66 is placed at two locations beside a. The movable mirror 6 is provided at two places on the end face of the second table 75.
7a and 67b are provided.

【００６７】ここで、第２テーブル７５の駆動方法につ
いて説明する。ピエゾアクチュエータ７９ａ、７９ｂ、
７９ｃを同じ長さだけ伸縮させることにより、第２テー
ブル７５をＺ方向に駆動できる。また、ピエゾアクチュ
エータ７９ａと、ピエゾアクチュエータ７９ｂ及び７９
ｃを相対的に伸縮させることにより、第２テーブル７５
をθ_X方向（Ｘ軸周り）に駆動できる。例えば、ピエゾ
アクチュエータ７９ａを固定、若しくは縮めた状態に
し、ピエゾアクチュエータ７９ｂ及び７９ｃを伸ばすこ
とにより、第２テーブル７５をθ_X方向の負方向に駆動
できる。さらに、ピエゾアクチュエータ７９ｂと７９ｃ
を相対的に伸縮させることにより、第２テーブル７５を
θ_Y方向（Ｙ軸周り）に駆動できる。例えば、ピエゾア
クチュエータ７９ｂを固定、若しくは縮めた状態にし、
ピエゾアクチュエータ７９ｃを伸ばすことにより、第２
テーブル７５をθ_Y方向の正方向に駆動できる。なお、
３つのピエゾアクチュエータ７９ａ、７９ｂ、７９ｃは
独立に制御することができ、上記の動作を組み合わせ
て、第２テーブル７５に３自由度の位置・姿勢制御を加
えることができる。この例の場合、微動テーブルは、結
局、Ｚ、θ_X、θ_Y、θ_Zの４自由度を有する。Here, a method of driving the second table 75 will be described. Piezo actuators 79a, 79b,
By expanding and contracting 79c by the same length, the second table 75 can be driven in the Z direction. Also, a piezo actuator 79a, piezo actuators 79b and 79
By relatively expanding and contracting c, the second table 75
Can be driven in the θ _X direction (around the X axis). For instance, fixing the piezoelectric actuator 79a, or the contracted state, by extending the piezoelectric actuator 79b and 79c, to drive the second table 75 in the negative direction of theta _X direction. Further, the piezo actuators 79b and 79c
The second table 75 can be driven in the _θY direction (around the Y axis) by relatively expanding and contracting. For example, the piezo actuator 79b is fixed or contracted,
By extending the piezo actuator 79c, the second
Can drive table 75 in the positive direction of theta _Y direction. In addition,
The three piezo actuators 79a, 79b, 79c can be controlled independently, and the above operations can be combined to add three degrees of freedom position / posture control to the second table 75. In the case of this example, the fine movement table eventually has four degrees of freedom of Z, θ _X , θ _Y , and θ _Z.

【００６８】上述の実施の形態においては、３個のピエ
ゾアクチュエータ７９ａ、７９ｂ、７９ｃで第２テーブ
ル７５を３自由度で駆動するようにしたが、６個のピエ
ゾアクチュエータで６自由度で駆動するテーブルを用い
ることもできる。In the above-described embodiment, the second table 75 is driven with three degrees of freedom by the three piezo actuators 79a, 79b, 79c, but is driven with six degrees of freedom by the six piezo actuators. A table can also be used.

【００６９】次に、本発明の第４の実施の形態に係るス
テージ装置について説明する。図１０は、本発明の第４
の実施の形態に係るステージ装置の構成を概略的に示す
平面図である。図１１は、同ステージ装置のテーブル部
の構成を示す分解斜視図である。図１２は、同ステージ
の補助スライダ部の構成を示す側面断面図である。この
ステージ装置においては、Ｙシリンダに配置されたリニ
アモータで、ステージをθ_Z方向（Ｚ軸周り）に回転さ
せる。また、補助スライダを設け、ステージ反力を打ち
消す機構も設けられている。このステージ装置のかなり
の部分の構成は、図１に示したステージ装置１と同様で
あるので、同じ構成の部分には同じ符号を付して説明を
省略する。Next, a stage device according to a fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 10 shows a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view schematically showing a configuration of a stage device according to the embodiment. FIG. 11 is an exploded perspective view showing a configuration of a table unit of the stage device. FIG. 12 is a side sectional view showing the configuration of the auxiliary slider portion of the stage. In this stage apparatus, a linear motor disposed in the Y-cylinder, is rotated in the stage theta _Z direction (about the Z axis). A mechanism for providing an auxiliary slider and canceling the stage reaction force is also provided. The configuration of a considerable part of this stage device is the same as that of the stage device 1 shown in FIG. 1, and therefore, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【００７０】図１０には、定盤１１６（図６参照）上に
固定された２本の固定ガイド６と、各固定ガイド６に嵌
合されたＹスライダ７′が示されている。Ｙスライダ
７′は、リニアモータ１６により固定ガイド６上をＹ方
向に駆動される。ここで、この例のＹスライダ７′の固
定ガイド６との摺動面には、上下の各２箇所にのみ、図
示せぬ気体軸受（エアパッド５１、図４参照）が設けら
れている。摺動面の左右の側面には、気体軸受が無く、
ある隙間Ｃが設けられているため、Ｙスライダ７′は固
定ガイド６に対してＸＹ平面内でθ_Z方向（Ｚ軸周り）
に少しではあるが回転自由度がある。FIG. 10 shows two fixed guides 6 fixed on a surface plate 116 (see FIG. 6) and a Y slider 7 'fitted to each fixed guide 6. The Y slider 7 ′ is driven on the fixed guide 6 in the Y direction by a linear motor 16. Here, on the sliding surface of the Y slider 7 'of this example with the fixed guide 6, gas bearings (not shown) (air pad 51, see FIG. 4) are provided only at the upper and lower two positions. There are no gas bearings on the left and right sides of the sliding surface,
Since a certain gap C is provided, the Y slider 7 ′ moves relative to the fixed guide 6 in the θ _Z direction (around the Z axis) in the XY plane.
Has a little freedom of rotation.

【００７１】両Ｙスライダ７′間には、Ｘ方向に延びる
移動ガイド２１、２２′（図７参照）が掛け渡されてい
る。移動ガイド２１には、Ｘスライダ２５が嵌合されて
おり、エアシリンダ２８を構成している。Ｘスライダ２
５の内側の側面には、ステージ６１が取り付けられてい
る。ステージ６１は、エアシリンダ２８により、移動ガ
イド２１、２２′上をＸ方向に駆動される。Moving guides 21 and 22 '(see FIG. 7) extending in the X direction are stretched between the Y sliders 7'. An X slider 25 is fitted to the movement guide 21 to form an air cylinder 28. X slider 2
A stage 61 is mounted on the inner side surface of the stage 5. The stage 61 is driven by the air cylinder 28 on the moving guides 21 and 22 'in the X direction.

【００７２】ステージ６１上の３点には、図１１に示す
ように、３つのピエゾアクチュエータ７９ａ′、７９
ｂ′、７９ｃ′が上方に向けて配置されている。３つの
ピエゾアクチュエータ７９ａ′、７９ｂ′、７９ｃ′上
には、マスクＭを載置する第２テーブル７５が載置され
る。ピエゾアクチュエータ７９ａ′、７９ｂ′、７９
ｃ′を伸縮させることにより、第２テーブル７５はθ_X
方向（Ｘ軸周り）、θ_Y方向（Ｙ軸周り）及びＺ方向に
駆動される。なお、この実施の形態においては、θ_Z方
向（Ｚ軸周り）に回転する第１テーブル（図９の第１テ
ーブル７２等参照）は存在しない。As shown in FIG. 11, three piezo actuators 79a 'and 79
b 'and 79c' are arranged upward. On the three piezo actuators 79a ', 79b', 79c ', a second table 75 on which the mask M is mounted is mounted. Piezo actuators 79a ', 79b', 79
By expanding and contracting c ′, the second table 75 becomes θ _X
Direction (around the X axis), is driven in the theta _Y direction (around the Y axis) and Z-direction. Incidentally, in this embodiment, theta (see the first table 72, etc. in FIG. 9) first table that rotates in the _Z direction (about the Z axis) is absent.

【００７３】この実施の形態においては、２つのＹスラ
イダ７′の内の一方（図１０の左側）の外側の端面に
は、ある厚さを有し、Ｘ方向に延びるアーム８１が取り
付けられている。図１２に示すように、アーム８１に
は、孔８１ａがＹ方向に貫通して設けられており、副固
定ガイド８６が嵌合されている。図１０に示すように、
孔８１ａの摺動面の左右の側面と副固定ガイド８６の間
には、ある隙間Ｃ′が設けられているため、アーム８１
及びＹスライダ７′等は、固定ガイド６、８６に対して
ＸＹ平面内でθ_Z方向（Ｚ軸周り）に回転自由度があ
る。In this embodiment, an arm 81 having a certain thickness and extending in the X direction is attached to the outer end face of one of the two Y sliders 7 '(left side in FIG. 10). I have. As shown in FIG. 12, a hole 81a is provided in the arm 81 so as to penetrate in the Y direction, and a sub-fixing guide 86 is fitted therein. As shown in FIG.
Since a certain gap C 'is provided between the left and right side surfaces of the sliding surface of the hole 81a and the auxiliary fixed guide 86, the arm 81
And Y slider 7 'and the like, there is a rotational degree of freedom in the theta _Z-direction in the XY plane (about the Z axis) with respect to the fixed guide 6,86.

【００７４】副固定ガイド８６は、基本的には、固定ガ
イド６と同様の構成をしており、２つのガイド固定部８
５を介して、定盤１１６上に固定される。The sub-fixing guide 86 has basically the same configuration as the fixing guide 6 and has two guide fixing portions 8.
5, is fixed on the surface plate 116.

【００７５】副固定ガイド８６上の２つのアーム８１の
間には、補助スライダ８７が嵌合されている。補助スラ
イダ８７は、基本的には、図１等に示したＹスライダ７
と同様の構成をしており、摺動面の上下左右の各２箇所
に、図示せぬ気体軸受（エアパッド５１、図４参照）が
設けられている。したがって、補助スライダ８７は、副
固定ガイド８６に対してＸＹ平面内でθ_Z方向（Ｚ軸周
り）に回転自由度は無い。An auxiliary slider 87 is fitted between the two arms 81 on the auxiliary fixed guide 86. The auxiliary slider 87 is basically a Y slider 7 shown in FIG.
In this case, gas bearings (not shown) (air pad 51, see FIG. 4) are provided at each of the upper, lower, left, and right sides of the sliding surface. Thus, the auxiliary slider 87, rotational degree of freedom in the theta _Z-direction in the XY plane (about the Z axis) to the sub fixed guide 86 is not.

【００７６】補助スライダ８７と２つのアーム８１と
は、それぞればね８２で連結されている。ばね８２は、
補助スライダ８７及び２つのアーム８１上にばね固定具
８２ａで固定されている。このばね８２には、Ｘ方向に
は柔（伸縮可能）でＹ方向には剛（伸縮不可能）である
平行板バネを用いる。そのため、Ｙスライダ７′がＹ方
向に駆動された際には、ばね８２を介して補助スライダ
８７も同様にＹ方向に駆動される。一方、Ｘスライダ２
５がＸ方向に駆動された際には、エアシリンダ２８を介
して、移動ガイド２１等にステージ反力が伝わる。移動
ガイド２１が反力を受けると、移動ガイド２１に接続さ
れたＹスライダ７′、移動ガイド２２′、アーム８１等
にもステージ反力が伝わり、これらの装置構成部材は、
Ｘ方向に動く。アーム８１等の移動によりばね８２にＸ
方向の力が加わるが、ばね８２はＸ方向に柔（伸縮可
能）となっており、且つ補助スライダ８７の４面が拘束
されているので、可動部（Ｘスライダ２５等）質量と固
定部（移動ガイド２１等）質量との質量比に基づく運動
量保存則によりステージ反力を打ち消すことができる。
この場合には、移動ガイド２１、Ｙスライダ７′、移動
ガイド２２′、アーム８１等は、反力処理機構（カウン
タマス）として作用する。The auxiliary slider 87 and the two arms 81 are connected by springs 82, respectively. The spring 82
It is fixed on the auxiliary slider 87 and the two arms 81 by a spring fixing tool 82a. As the spring 82, a parallel leaf spring that is flexible (expandable) in the X direction and rigid (non-expandable) in the Y direction is used. Therefore, when the Y slider 7 'is driven in the Y direction, the auxiliary slider 87 is also driven in the Y direction via the spring 82. On the other hand, X slider 2
When 5 is driven in the X direction, a stage reaction force is transmitted to the movement guide 21 and the like via the air cylinder 28. When the moving guide 21 receives the reaction force, the stage reaction force is also transmitted to the Y slider 7 ′, the moving guide 22 ′, the arm 81, and the like connected to the moving guide 21, and these device components are
Move in X direction. X is applied to the spring 82 by the movement of the arm 81 and the like.
However, since the spring 82 is flexible (expandable and contractible) in the X direction and the four surfaces of the auxiliary slider 87 are restrained, the mass of the movable part (the X slider 25 and the like) and the fixed part ( The stage reaction force can be canceled by the law of conservation of momentum based on the mass ratio to the mass of the moving guide 21).
In this case, the moving guide 21, the Y slider 7 ', the moving guide 22', the arm 81, and the like act as a reaction force processing mechanism (counter mass).

【００７７】ここで、このステージ装置のθ_Z方向（Ｚ
軸周り）の駆動方法について説明する。この例のステー
ジ装置においては、対向して配置されたＹスライダ７′
のリニアモータ１６の推力バランスを変えることによ
り、回転（θ方向）運動が可能である。例えば、図１０
の右側のリニアモータ１６をＹ方向の負方向に駆動し、
図１０の左側のリニアモータ１６をＹ方向の正方向に駆
動することにより、第２テーブル７５をθ_Z方向（Ｚ軸
周り）の正方向に回転できる。ただし、回転角度は、Ｙ
スライダ７′と固定ガイド６、及びアーム８１と固定ガ
イド８６のギャップ間隔分だけであるので微小である。
また、リニアモータ１６の推力バランスを調整すること
により、ブレ等の少ない正確な駆動を行うことができ
る。Here, the direction of the stage device in the θ _Z direction (Z
Driving method (around the axis) will be described. In the stage device of this example, a Y slider 7 'arranged oppositely is used.
By changing the thrust balance of the linear motor 16, a rotational (θ direction) motion can be performed. For example, FIG.
Is driven in the negative Y direction,
The left side of the linear motor 16 in FIG. 10 by driving in the positive direction of the Y-direction, can rotate the second table 75 in the positive direction of theta _Z direction (Z about axis). However, the rotation angle is Y
Since it is only the gap between the slider 7 ′ and the fixed guide 6 and between the arm 81 and the fixed guide 86, it is very small.
Further, by adjusting the thrust balance of the linear motor 16, accurate driving with less blurring or the like can be performed.

【００７８】以上図１〜図１２を参照しつつ、本発明の
実施の形態に係るステージ装置等について説明したが、
本発明はこれに限定されるものではなく、以下のような
変更を加えることができる。 （１）上述のステージ装置は、ウェハ（感応基板）ステ
ージ１３１（図６参照）にも適用できる。この場合は、
ステージ及びテーブルに設けたＺ方向の貫通孔（図９の
貫通孔７２ａ、７５ａ等）は必要ないが、ステージ等の
軽量化のために孔を設けても良い。The stage device and the like according to the embodiment of the present invention have been described with reference to FIGS.
The present invention is not limited to this, and the following changes can be made. (1) The above-described stage device can also be applied to a wafer (sensitive substrate) stage 131 (see FIG. 6). in this case,
The Z-direction through-holes (through-holes 72a and 75a in FIG. 9) provided in the stage and the table are not necessary, but holes may be provided to reduce the weight of the stage and the like.

【００７９】[0079]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、磁場の乱れが少なく、装置を小型・軽量にで
きる。As is apparent from the above description, according to the present invention, the disturbance of the magnetic field is small, and the apparatus can be made small and lightweight.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の第１の実施の形態に係るステージ装置
の全体構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an overall configuration of a stage device according to a first embodiment of the present invention.

【図２】同ステージ装置のＸスライダ及びステージ部の
側面断面図である。FIG. 2 is a side sectional view of an X slider and a stage section of the stage device.

【図３】同ステージ装置のＹスライダ部の側面断面図で
ある。FIG. 3 is a side sectional view of a Y slider portion of the stage device.

【図４】ステージ装置のＹスライダに設けられた気体軸
受の構成を示す分解斜視図である。FIG. 4 is an exploded perspective view showing a configuration of a gas bearing provided on a Y slider of the stage device.

【図５】Ｘスライダに設けられたエアシリンダの構成を
示す側面断面図である。FIG. 5 is a side sectional view showing a configuration of an air cylinder provided on the X slider.

【図６】本発明の実施の形態に係るステージ装置を搭載
可能な荷電粒子ビーム（電子線）露光装置を模式的に示
す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing a charged particle beam (electron beam) exposure apparatus on which a stage device according to an embodiment of the present invention can be mounted.

【図７】本発明の第２の実施の形態に係るステージ装置
のＸスライダ及びステージ部の側面断面図である。FIG. 7 is a side sectional view of an X slider and a stage unit of a stage device according to a second embodiment of the present invention.

【図８】本発明の第３の実施の形態に係るステージ装置
の全体構成を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing an overall configuration of a stage device according to a third embodiment of the present invention.

【図９】同ステージ装置のテーブル部の構成を示す分解
斜視図である。FIG. 9 is an exploded perspective view showing a configuration of a table unit of the stage device.

【図１０】本発明の第４の実施の形態に係るステージ装
置の構成を概略的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing a configuration of a stage device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図１１】同ステージ装置のテーブル部の構成を示す分
解斜視図である。FIG. 11 is an exploded perspective view showing a configuration of a table unit of the stage device.

【図１２】同ステージの補助スライダ部の構成を示す側
面断面図である。FIG. 12 is a side sectional view showing a configuration of an auxiliary slider portion of the stage.

【符号の説明】 Ｍ マスク １ ステージ装置 ６ 固定ガイド ７ Ｙスライダ １３ 固定子 １６ リニアモータ ２１、２２ 移動ガイド ２５ Ｘスライダ ２７ 圧空制御弁 ２８ エアシリンダ ６１ ステージ ６２、６５ テーブル ６３ａ、６３ｂ、６３ｃ ピエゾアクチュエータ ６７ａ、６７ｂ 移動鏡[Description of Signs] M Mask 1 Stage Device 6 Fixed Guide 7 Y Slider 13 Stator 16 Linear Motor 21, 22 Movement Guide 25 X Slider 27 Pneumatic Control Valve 28 Air Cylinder 61 Stage 62, 65 Table 63a, 63b, 63c Piezo Actuator 67a, 67b Moving mirror

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F078 CA02 CA08 CB05 CB09 CB12 CB16 CC01 CC11 CC15 5F031 CA07 HA57 HA58 HA59 KA06 KA07 KA08 LA02 LA08 LA15 MA27 PA30 5F046 CC03 CC17  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page F term (reference) 2F078 CA02 CA08 CB05 CB09 CB12 CB16 CC01 CC11 CC15 5F031 CA07 HA57 HA58 HA59 KA06 KA07 KA08 LA02 LA08 LA15 MA27 PA30 5F046 CC03 CC17

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 ある平面（ＸＹ平面）内でステージを駆
動・位置決めするステージ装置であって、 該平面内におけるある方向（Ｙ方向）に延びる固定ガイ
ドと、 各固定ガイド上をスライドする２つのＹスライダと、 該Ｙスライダの駆動機構と、 両Ｙスライダ間に掛け渡された、他の方向（Ｘ方向）に
延びる移動ガイドと、 該移動ガイド上をスライドするＸスライダと、 該Ｘスライダの駆動機構と、 該Ｘスライダに搭載されたステージ部と、 を具備し、 前記Ｙスライダの駆動機構のアクチュエータが、前記固
定ガイドに沿って固定された永久磁石固定子を有するリ
ニアモータであり、 前記Ｘスライダの駆動機構のアクチュエータが非電磁力
アクチュエータであることを特徴とするステージ装置。1. A stage device for driving and positioning a stage in a certain plane (XY plane), comprising: a fixed guide extending in a certain direction (Y direction) in the plane; A Y slider, a driving mechanism for the Y slider, a moving guide extending between the two Y sliders, extending in the other direction (X direction), an X slider sliding on the moving guide, A linear motor having a drive mechanism, and a stage mounted on the X slider, wherein the actuator of the drive mechanism of the Y slider has a permanent magnet stator fixed along the fixed guide; A stage device, wherein the actuator of the drive mechanism of the X slider is a non-electromagnetic force actuator. 【請求項２】 前記ステージ部の上に、θ_Z方向（Ｚ軸
周り）に駆動される第１テーブルが載置されており、 該第１テーブル上に、θ_X方向（Ｘ軸周り）、θ_Y方向
（Ｙ軸周り）及びＺ方向に駆動される第２テーブルが搭
載されていることを特徴とする請求項１記載のステージ
装置。2. A first table driven in the θ _Z direction (around the Z axis) is mounted on the stage section, and on the first table, in a θ _X direction (around the X axis). The stage device according to claim 1, further comprising a second table driven in the _θY direction (around the Y axis) and the Z direction. 【請求項３】 前記Ｘスライダの駆動機構のアクチュエ
ータの可動部が、気体軸受（エアパッド）を介してガイ
ドされていることを特徴とする請求項１記載のステージ
装置。3. The stage device according to claim 1, wherein the movable portion of the actuator of the drive mechanism of the X slider is guided via a gas bearing (air pad). 【請求項４】 前記非電磁力アクチュエータがエアシリ
ンダであり、 該エアシリンダのエア圧を調整する圧空制御弁が、前記
移動ガイド上に搭載されていることを特徴とする請求項
１記載のステージ装置。4. The stage according to claim 1, wherein the non-electromagnetic force actuator is an air cylinder, and a pneumatic control valve for adjusting an air pressure of the air cylinder is mounted on the moving guide. apparatus. 【請求項５】 前記２つのＹスライダが、前記固定ガイ
ドに上下面のみを拘束されて案内されており、 前記２つのＹスライダの各々の駆動機構のリニアモータ
の推力配分を調整することにより、前記ステージがθ_Z
方向（Ｚ軸周り）に回動可能であることを特徴とする請
求項１記載のステージ装置。5. The two Y sliders are guided by the fixed guide only with upper and lower surfaces constrained, and by adjusting the thrust distribution of the linear motors of the respective drive mechanisms of the two Y sliders, The stage is θ _Z
2. The stage device according to claim 1, wherein the stage device is rotatable in a direction (around the Z axis). 【請求項６】 前記固定ガイドと平行に配置された副固
定ガイドと、 該副固定ガイド上を、気体軸受を介して、４面（摺動面
の上下及び両側面）を拘束されて案内される補助スライ
ダと、 該補助スライダと前記Ｙスライダとを接続するＸ方向に
柔でＹ方向に剛な接続手段と、 をさらに具備し、 前記ステージをＸ方向に駆動した際に、運動量保存則に
よりステージ反力を打ち消すことを特徴とする請求項１
又は５記載のステージ装置。6. A sub-fixing guide arranged in parallel with said fixing guide, and guided on said sub-fixing guide via gas bearings by restricting four surfaces (upper and lower sides and both side surfaces of a sliding surface). An auxiliary slider, and connecting means for connecting the auxiliary slider and the Y slider, the connecting means being soft in the X direction and rigid in the Y direction. When the stage is driven in the X direction, 2. The stage reaction force is canceled.
Or the stage device according to 5. 【請求項７】 前記接続手段が、Ｘ方向に柔でＹ方向に
剛なばねであることを特徴とする請求項６記載のステー
ジ装置。7. The stage apparatus according to claim 6, wherein said connecting means is a spring which is flexible in the X direction and rigid in the Y direction. 【請求項８】 所望のパターンが形成されたマスクを載
置するマスクステージと、 前記マスクをエネルギ線照明する照明光学系と、 前記パターンを転写する感応基板を載置する感応基板ス
テージと、 前記マスクを通過したエネルギ線を前記感応基板上に投
影結像させる投影光学系と、 前記各部を制御する制御手段と、 を具備し、 前記両ステージをある方向（Ｙ方向）に同期スキャンさ
せながら露光する露光装置であって、 前記マスクステージ又は感応基板ステージが、 前記Ｙ方向に延びる固定ガイドと、 各固定ガイド上をスライドする２つのＹスライダと、 該Ｙスライダの駆動機構と、 両Ｙスライダ間に掛け渡された、他の方向（Ｘ方向）に
延びる移動ガイドと、 該移動ガイド上をスライドするＸスライダと、 該Ｘスライダの駆動機構と、 該Ｘスライダに搭載されたステージ部と、 を具備し、 前記Ｙスライダの駆動機構のアクチュエータが、前記固
定ガイドに沿って固定された永久磁石固定子を有するリ
ニアモータであり、 前記Ｘスライダの駆動機構のアクチュエータが非電磁力
アクチュエータであることを特徴とする露光装置。8. A mask stage on which a mask on which a desired pattern is formed is placed; an illumination optical system for irradiating the mask with energy rays; a sensitive substrate stage on which a sensitive substrate for transferring the pattern is placed; A projection optical system for projecting and forming an energy beam having passed through the mask onto the sensitive substrate; and a control unit for controlling each of the units. An exposure apparatus, wherein the mask stage or the sensitive substrate stage comprises: a fixed guide extending in the Y direction; two Y sliders sliding on each fixed guide; a driving mechanism for the Y slider; A moving guide that extends in the other direction (X direction), and an X slider that slides on the moving guide, and a driving device for the X slider And a stage mounted on the X slider, wherein the actuator of the drive mechanism of the Y slider is a linear motor having a permanent magnet stator fixed along the fixed guide; An exposure apparatus, wherein the actuator of the driving mechanism is a non-electromagnetic actuator. 【請求項９】 前記ステージ部の上に、θ_Z方向（Ｚ軸
周り）に駆動される第１テーブルが載置され、 該第１テーブル上に、θ_X方向（Ｘ軸周り）、θ_Y方向
（Ｙ軸周り）及びＺ方向に駆動される第２テーブルが搭
載されていることを特徴とする請求項８記載の露光装
置。9. A first table driven in the θ _Z direction (around the Z axis) is mounted on the stage section, and the first table is driven in the θ _X direction (around the X axis) and θ _Y. 9. The exposure apparatus according to claim 8, further comprising a second table driven in the direction (around the Y axis) and the Z direction.