JP2002350360A - Detector, detection processor and inspection device of projecting and recessed pattern, and inspection device - Google Patents

Detector, detection processor and inspection device of projecting and recessed pattern, and inspection device

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JP2002350360A
JP2002350360A JP2001341098A JP2001341098A JP2002350360A JP 2002350360 A JP2002350360 A JP 2002350360A JP 2001341098 A JP2001341098 A JP 2001341098A JP 2001341098 A JP2001341098 A JP 2001341098A JP 2002350360 A JP2002350360 A JP 2002350360A
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勉 斎藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a detector of projecting and recessed pattern capable of detecting a fine and dense projecting and recessed pattern with an image sensor of low resolution. SOLUTION: The detector has a lighting part 200 which divides an inspection surface W into several irradiation areas and illuminates adjacent areas Wa and Wb from different direction, an imaging part 400 which acquires images of these areas overlapped a mask 320 generating moire and an image processing part 500 which determines the presence of a projecting and recessed pattern Q by detecting phase difference in density variation of the moire images of these areas Wa and Wb obtained from the imaging part 400.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーブラウン管
のシャドウパターンの欠陥検査装置、ＩＣのマスタパタ
ーンの検査装置、凹凸テクスチャの品質管理装置等のよ
うに被検知面上に設けられた凹凸パターンの有無を検知
する凹凸パターン検知装置及び凹凸パターン検知処理装
置に関し、特に微小なパターンを検知できるものに関す
る。また、被検査面上の微小な凹凸パターンの有無を検
出することにより、凹凸パターンの良否を判定する凹凸
パターン検査装置に関する。さらに、シート状の検査対
象物に対し精度の高い検査を行うことが可能な検査装置
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect inspection apparatus for a shadow pattern of a color cathode ray tube, an inspection apparatus for an IC master pattern, a quality control apparatus for an irregular texture, and the like. The present invention relates to an uneven pattern detecting device and an uneven pattern detection processing device for detecting presence / absence, and particularly to a device capable of detecting a minute pattern. The present invention also relates to an uneven pattern inspection apparatus that determines the quality of an uneven pattern by detecting the presence or absence of a minute uneven pattern on a surface to be inspected. Further, the present invention relates to an inspection apparatus capable of performing a highly accurate inspection on a sheet-like inspection target.

【０００２】[0002]

【従来の技術】板状体や紙等の被検体の表面（被検知
面）にある微小な段差を検知するために段差検知装置が
用いられている。例えば、特開平１１−１５３４１１に
は、照明光に空間変調をかけることで郵便宛名ラベル等
のエッジに破線状の特徴的な模様を発生させる手法が開
示されている。図２３はこのような段差検知装置の検知
原理を示す説明図である。すなわち、結像レンズ１０に
よるラインイメージセンサ１１の撮像領域２０をスリッ
ト１２，１３を用いて短い領域２１，２２に区切り、こ
れらの領域２１，２２のうち奇数番目の領域を右側か
ら、偶数番目の領域を左側からそれぞれ照明装置１４，
１５を用いて照明ビームＥａ，Ｅｂにより照明する。被
検体３０はラインイメージセンサ１１の撮像領域２０下
を図中矢印の方向に搬送される。これにより、郵便物の
宛名ラベルのエッジ等、段差の部分においてのみ図２４
に示すように破線状の特徴的な模様（図中斜線部分）が
発生し、これを画像処理部４０にて抽出することによ
り、段差の存在を検出できる。2. Description of the Related Art A step detecting device is used to detect a minute step on a surface (detected surface) of a test object such as a plate or paper. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-153411 discloses a method of generating a dashed characteristic pattern at an edge of a postal address label or the like by applying spatial modulation to illumination light. FIG. 23 is an explanatory view showing the detection principle of such a step detecting device. That is, the imaging area 20 of the line image sensor 11 by the imaging lens 10 is divided into short areas 21 and 22 using the slits 12 and 13, and odd-numbered areas of these areas 21 and 22 are even-numbered from the right. The area is illuminated 14,
15 to illuminate with illumination beams Ea and Eb. The subject 30 is transported below the imaging area 20 of the line image sensor 11 in the direction of the arrow in the figure. As a result, only at the steps such as the edge of the address label of the postal matter, FIG.
As shown in (1), a characteristic pattern of a broken line (shaded portion in the figure) is generated, and the presence of a step can be detected by extracting the pattern with the image processing unit 40.

【０００３】紙等のシートＣの被検査面Ｃ１上に形成さ
れた微小な凹凸パターンＰの有無を検出するために従来
から様々な方法が採られている。図２５の（ａ）〜
（ｃ）はその一例を示す図である。すなわち、左右斜方
より向き合うように配置された一対の照明部５１ａ，５
１ｂにより検査領域Ｄに光を照射する。各照明部５１
ａ，５１ｂと検査領域Ｄとの間には、くし型に形成され
た一対のスリット５２ａ，５２ｂが配置されている。一
対のスリット５２ａ，５２ｂは、図２５の（ｂ）に示す
ように左右それぞれで、光を通す部分と遮蔽する部分が
異なる形状であることから、検査領域Ｄ上で、図２５の
（ｃ）に示すように、照射方向が異なる複数の小領域に
分割される。この検査領域ＤをＣＣＤカメラ等の撮像部
５３にて撮像し、検査領域Ｄからの反射光を電気信号に
変換する。検査領域Ｄ内に凹凸パターンＰがあると、光
の照射方向に応じて、凹凸パターンＰの前後に輝線又は
影が生じ、これらを検出することによって凹凸パターン
Ｐの有無を検出する。[0003] Various methods have conventionally been employed to detect the presence or absence of a fine concavo-convex pattern P formed on the inspection surface C1 of a sheet C such as paper. (A) of FIG.
(C) is a diagram showing an example. That is, a pair of illumination units 51a, 5 arranged so as to face each other from the left and right oblique directions.
The inspection area D is irradiated with light by 1b. Each lighting unit 51
A pair of slits 52a and 52b formed in a comb shape are arranged between a and 51b and the inspection area D. As shown in FIG. 25B, the pair of slits 52a and 52b have different shapes on the left and right sides, respectively, in the light-transmitting portion and the shielding portion. As shown in (1), it is divided into a plurality of small areas having different irradiation directions. The inspection area D is imaged by an imaging unit 53 such as a CCD camera, and the reflected light from the inspection area D is converted into an electric signal. If there is a concavo-convex pattern P in the inspection area D, bright lines or shadows are generated before and after the concavo-convex pattern P according to the light irradiation direction, and the presence or absence of the concavo-convex pattern P is detected by detecting these.

【０００４】また、特開平１１-１７９２８８に開示さ
れているように、波長特性の異なる複数種の照明光を、
それぞれ異なる方向から対象物に照射し、その反射光を
波長毎に分岐する色分離手段、例えばダイクロイックミ
ラーで分離して、複数の撮像手段によって各々画像を取
得する。これにより、各波長毎に照射方向に応じて、凹
凸の前後に輝線、影が生じ、それらを検出することによ
って、凹凸の有無を検出していた。As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-179288, a plurality of types of illumination light having different wavelength characteristics are used.
The object is illuminated from different directions, and the reflected light is separated by a color separating means, for example, a dichroic mirror, which divides the reflected light for each wavelength. As a result, bright lines and shadows are generated before and after the irregularities according to the irradiation direction for each wavelength, and the presence or absence of the irregularities is detected by detecting them.

【０００５】一方、このようなシートＣを撮像して何ら
かの物理量を検出する検出装置において、シートＣを搬
送する場合には、通常、検査装置の読取面において、平
坦となっていた。[0005] On the other hand, in such a detecting device that images the sheet C and detects some physical quantity, when the sheet C is conveyed, the reading surface of the inspection device is usually flat.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の段差検
知方法であると次のような問題があった。すなわち、宛
名ラベルのように高さ１００μｍ程度の大きな段差であ
れば解像度の低いイメージセンサでも検知することが可
能であるが、これよりもさらに小さい段差が細かく密集
しているような凹凸パターンの有無を検知する場合に
は、解像度の高いイメージセンサが必要となる。また、
解像度の高いイメージセンサを用いると、検査・処理に
時間がかかり、効率的な検知を行うことができない。However, the above-described conventional step detecting method has the following problems. That is, a large step having a height of about 100 μm, such as an address label, can be detected by an image sensor having a low resolution. However, the presence or absence of a concavo-convex pattern in which even smaller steps are finely and densely packed. In order to detect, an image sensor having a high resolution is required. Also,
If an image sensor with a high resolution is used, it takes time for inspection and processing, and efficient detection cannot be performed.

【０００７】一方、上述した凹凸パターン検査方法で
は、次のような問題があった。すなわち、照明光を小領
域に分割する場合に、例えばくし型のスリットのような
光を領域分割する手段が必要である。また、図２６の
（ａ）に示すように、縦方向すなわち光の照射方向に交
差する方向に凹凸パターンＰが形成されている場合に
は、その画像は図２６の（ｂ）に示すようなものとな
り、照射方向の異なる小領域毎にそれぞれ影Ｓが生じ
る。この影Ｓに基づいて、凹凸パターンＰを検出するこ
とができる。しかしながら、図２６の（ｃ）に示すよう
に、横方向すなわち光の照射方向と同一の方向に凹凸パ
ターンＰが形成されている場合には、その画像は図２６
の（ｄ）に示すようなものとなり、影が生じない。この
ように照明光を小領域に分割する方式では、凹凸パター
ンＰの形状によっては検出ができないという問題があっ
た。On the other hand, the above-described method for inspecting a concavo-convex pattern has the following problems. That is, when illuminating light is divided into small regions, a means for dividing light into regions, such as a comb-shaped slit, is required. In addition, as shown in FIG. 26A, when the uneven pattern P is formed in the vertical direction, that is, in the direction intersecting the light irradiation direction, the image is as shown in FIG. 26B. And a shadow S is generated for each of the small regions having different irradiation directions. The uneven pattern P can be detected based on the shadow S. However, when the concavo-convex pattern P is formed in the horizontal direction, that is, in the same direction as the light irradiation direction, as shown in FIG.
(D), and no shadow is produced. In the method of dividing the illumination light into small areas as described above, there is a problem that detection cannot be performed depending on the shape of the concavo-convex pattern P.

【０００８】また、色分離をする方法の場合には、照明
の種類に応じた複数の撮像手段が必要となり、装置の構
造が大きく、かつ、複雑となる。また、照明の照射方向
の組み合わせによっては、凹凸パターンが照射方向との
関係により検出ができない場合がある。Further, in the case of the color separation method, a plurality of image pickup means are required according to the type of illumination, and the structure of the apparatus is large and complicated. Further, depending on the combination of the irradiation directions of the illumination, the uneven pattern may not be detected due to the relationship with the irradiation direction.

【０００９】図２７の（ａ）はシートＣと照明部５４と
の位置関係を示す説明図である。シートＣに対し斜方入
射する照明部５４を用いた場合には、測定精度を高める
ために、その入射角度に一定の角度θが必要となる。し
かしながら、角度θを大きくすると、シートＣと照明部
５４とが構造的に干渉することになり、照明部５４の配
置が困難となる。FIG. 27A is an explanatory view showing the positional relationship between the sheet C and the lighting section 54. As shown in FIG. When the illuminating unit 54 obliquely incident on the sheet C is used, a certain angle θ is required for the incident angle in order to increase the measurement accuracy. However, when the angle θ is increased, the sheet C and the illumination unit 54 structurally interfere with each other, and it becomes difficult to arrange the illumination unit 54.

【００１０】図２７の（ｂ）は搬送ベルトから構成され
た搬送系５５に搬送されているシートＣをその搬送方向
から見た模式図、図２７の（ｃ）は斜め方向から見た説
明図である。図２７の（ｂ）に示すように、シートＣは
搬送中に撓み易く、また、図２７の（ｃ）に示すよう
に、搬送途中でばたつき、図中破線のようにシートＣの
厚さ方向の基準位置から離れることがある。これらの現
象は特に高速搬送を行う際に顕著となる。検査の精度
は、シートＣと撮像部との距離の変動に影響を受けるこ
とから、このような搬送系は好ましくない。FIG. 27B is a schematic view of a sheet C being conveyed to a conveyance system 55 constituted by a conveyance belt, as viewed from the conveyance direction. FIG. 27C is an explanatory view of the sheet C viewed from an oblique direction. It is. As shown in FIG. 27 (b), the sheet C easily bends during the conveyance, and as shown in FIG. 27 (c), flaps during the conveyance, and the thickness direction of the sheet C as shown by the broken line in the drawing. May depart from the reference position. These phenomena become remarkable especially when high-speed conveyance is performed. Such a transport system is not preferable because the accuracy of the inspection is affected by fluctuations in the distance between the sheet C and the imaging unit.

【００１１】特に大入射角の斜方照明の場合には、厚さ
方向の変化によりシートＣの照射方向、照度といった特
性に大きく影響することから、シートＣを安定に検査位
置の基準位置に位置決めすることが重要となる。Particularly, in the case of oblique illumination with a large incident angle, a change in the thickness direction greatly affects characteristics such as the irradiation direction and the illuminance of the sheet C. Therefore, the sheet C is stably positioned at the reference position of the inspection position. It is important to:

【００１２】そこで本発明は、低い解像度を有するイメ
ージセンサであっても細かく密集した凹凸パターンを検
知することができる凹凸パターン検知装置及び凹凸パタ
ーン検知処理装置を提供することを目的としている。ま
た、検査対象物の凹凸パターンの方向に関わらず検査が
可能な凹凸パターン検査装置を提供することを目的とし
ている。さらに、シート状の検査対象物の安定した搬送
を行うとともに、照明の入射角を充分にとることで精度
の高い検査ができる検査装置を提供することを目的とし
ている。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an uneven pattern detecting device and an uneven pattern detecting and processing device capable of detecting fine and dense uneven patterns even with an image sensor having a low resolution. It is another object of the present invention to provide a concave / convex pattern inspection apparatus capable of performing inspection regardless of the direction of the concave / convex pattern of the inspection object. Further, it is another object of the present invention to provide an inspection apparatus which can stably transport a sheet-like inspection target and can perform an inspection with high accuracy by sufficiently taking an incident angle of illumination.

【００１３】[0013]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決し目的を
達成するために、本発明の凹凸パターン検知装置、凹凸
パターン検知処理装置、凹凸パターン検査装置及び検査
装置は次のように構成されている。Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, an uneven pattern detection device, an uneven pattern detection processing device, an uneven pattern inspection device, and an inspection device of the present invention are configured as follows. I have.

【００１４】（１）被検知面上の凹凸パターンの有無を
検知する凹凸パターン検知装置において、前記被検知面
を複数の照射領域に分割し、隣接する照射領域に互いに
異なる方向から照射光を照射する照明手段と、前記照射
領域を所定のパターンを有するマスクと重ね合せて撮像
する撮像手段と、この撮像手段によって得られるモアレ
画像の濃度変化を検出し、前記隣接する照射領域におけ
るモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記
凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段とを備えて
いることを特徴とする。(1) In a concavo-convex pattern detecting device for detecting the presence or absence of a concavo-convex pattern on a surface to be detected, the surface to be detected is divided into a plurality of irradiation regions, and adjacent irradiation regions are irradiated with irradiation light from different directions. Illuminating means, imaging means for imaging the illuminated area by superimposing it on a mask having a predetermined pattern, detecting a density change of a moiré image obtained by the imaging means, and detecting density of the moiré image in the adjacent illuminated area. Image processing means for judging the presence or absence of the concavo-convex pattern by detecting a phase difference of the change.

【００１５】（２）前記（１）に記載された凹凸パター
ン検知装置であって、前記凹凸パターンは一定のピッチ
を有し、前記マスクのパターンは一定のピッチを有する
とともに、そのピッチが前記凹凸パターンのピッチの
０．７５倍以上１．２５倍以下に設定されていることを
特徴とする。(2) The uneven pattern detecting device according to (1), wherein the uneven pattern has a fixed pitch, the mask pattern has a fixed pitch, and the pitch is the uneven pattern. The pitch of the pattern is set to be 0.75 times or more and 1.25 times or less.

【００１６】（３）被検知面上の凹凸パターンの有無を
検知する凹凸パターン検知装置において、前記被検知面
を複数の照射領域に分割し、隣接する照射領域に互いに
異なる方向から照射光を照射する照明手段と、前記照射
領域を所定の画素ピッチを有する複数の画素により撮像
する撮像手段と、この撮像手段によって得られるモアレ
画像の濃度変化を検出し、前記隣接する照射領域におけ
るモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記
凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段とを備えて
いることを特徴とする。(3) In a concave / convex pattern detecting apparatus for detecting the presence / absence of a concave / convex pattern on a surface to be detected, the surface to be detected is divided into a plurality of irradiation regions, and irradiation light is irradiated onto adjacent irradiation regions from different directions. Illuminating means, imaging means for imaging the illuminated area with a plurality of pixels having a predetermined pixel pitch, detecting a density change of a moire image obtained by the imaging means, and detecting density of the moire image in the adjacent illuminated area. Image processing means for judging the presence or absence of the concavo-convex pattern by detecting a phase difference of the change.

【００１７】（４）前記（３）に記載された凹凸パター
ン検知装置であって、前記凹凸パターンは所定方向につ
いて一定のピッチを有し、前記画素ピッチは前記所定方
向について前記凹凸パターンのピッチの０．３７５倍以
上０．６２５倍以下であることを特徴とする。(4) The uneven pattern detecting device according to (3), wherein the uneven pattern has a constant pitch in a predetermined direction, and the pixel pitch is a pitch of the uneven pattern in the predetermined direction. It is 0.375 times or more and 0.625 times or less.

【００１８】（５）被検体の被検知面に設けられた凹凸
パターンの有無を検知する凹凸パターン検知装置におい
て、撮像領域を複数の照射領域に分割し、隣接する照射
領域に互いに異なる方向から照射光を照射する照明手段
と、所定の搬送方向に搬送される前記被検体の前記被検
知面に対して、前記搬送方向と交差するライン状の撮像
領域の画像を所定の解像度で順次入力する撮像手段と、
前記撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を
検出し、前記隣接する照射領域におけるモアレ画像の濃
度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有
無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴と
する。(5) In a concave / convex pattern detecting device for detecting the presence / absence of a concave / convex pattern provided on a surface to be detected of an object, an imaging region is divided into a plurality of irradiation regions, and adjacent irradiation regions are irradiated from different directions. Illuminating means for irradiating light, and imaging for sequentially inputting, at a predetermined resolution, an image of a linear imaging area intersecting the transport direction with respect to the detection surface of the subject transported in a predetermined transport direction. Means,
Image processing means for detecting a density change of the moire image obtained by the imaging means and detecting a phase difference of the density change of the moire image in the adjacent irradiation area to determine the presence or absence of the concavo-convex pattern. It is characterized by the following.

【００１９】（６）前記（５）に記載された凹凸パター
ン検知装置であって、前記凹凸パターンは所定方向につ
いて一定のピッチを有し、前記解像度は前記所定方向に
ついて前記凹凸パターンのピッチの０．３７５倍以上
０．６２５倍以下であることを特徴とする。(6) The uneven pattern detecting device according to (5), wherein the uneven pattern has a constant pitch in a predetermined direction, and the resolution is 0% of the pitch of the uneven pattern in the predetermined direction. 0.375 times or more and 0.625 times or less.

【００２０】（７）被検体の被検知面に設けられた凹凸
パターンの有無を検知することが可能な凹凸パターン検
知処理装置において、撮像領域を複数の照射領域に分割
し、隣接する照射領域に互いに異なる方向から照射光を
照射する照明手段と、所定の搬送方向に搬送される前記
被検体の被検知面に対して、前記搬送方向と交差するラ
イン状の撮像領域の画像をモアレを発生させる解像度で
順次入力する撮像手段と、前記撮像手段によって得られ
るモアレ画像の濃度変化を検出し、前記隣接する照射領
域におけるモアレ画像の濃度変化の位相差を検知するこ
とで前記凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段
と、この画像処理手段による前記凹凸パターンの有無情
報に基づいて前記被検体を処理する被検体処理手段とを
備えていることを特徴とする。(7) In a concave / convex pattern detection processing device capable of detecting the presence / absence of a concave / convex pattern provided on a surface to be detected of an object, an imaging region is divided into a plurality of irradiation regions, and an adjacent irradiation region is divided into a plurality of irradiation regions. Illuminating means for irradiating irradiation light from different directions, and generating a moiré image of a line-shaped imaging region intersecting the transport direction on a detection surface of the subject transported in a predetermined transport direction. An imaging unit for sequentially inputting the resolution, and a density change of a moire image obtained by the imaging unit is detected, and a phase difference of the density change of the moire image in the adjacent irradiation area is detected to determine the presence or absence of the concavo-convex pattern. And an object processing unit for processing the object based on the presence / absence information of the concavo-convex pattern by the image processing unit. To.

【００２１】（８）検査対象物の被検査面上の凹凸パタ
ーンを検査する凹凸パターン検査装置において、前記被
検査面に異なる方向からそれぞれ異なる特性の所定数の
照明光を照射する照明手段と、撮像素子と、この撮像素
子に入射する前記反射光の入射光路上に配置され、前記
反射光を小領域に分割し、前記照明手段の発光波長に対
応するとともに、隣接する小領域がそれぞれ異なる発光
波長を透過するフィルタを備え、前記被検査面からの反
射光を色分離して所定数の画像をそれぞれ取得する色分
離画像取得手段と、前記色分離画像取得手段より得られ
る所定数の画像間の差分画像に基づき前記凹凸パターン
の有無または高さを判断する画像処理手段とを備えてい
ることを特徴とする凹凸パターン検出装置。(8) In an uneven pattern inspection apparatus for inspecting an uneven pattern on an inspection surface of an inspection object, an illuminating means for irradiating the inspection surface with a predetermined number of illumination lights having different characteristics from different directions, An image sensor, and the reflected light incident on the image sensor is arranged on an incident optical path, divides the reflected light into small regions, and corresponds to the emission wavelength of the illuminating means, and adjacent small regions emit different light. A color-separated image acquisition unit that includes a filter that transmits a wavelength, and color-separates the reflected light from the surface to be inspected to acquire a predetermined number of images, and a predetermined number of images obtained by the color-separated image acquisition unit. And an image processing means for judging the presence or absence or the height of the uneven pattern based on the difference image.

【００２２】（９）前記（８）に記載された凹凸パター
ン検査装置であって、前記検査対象物を所定の搬送方向
に搬送する搬送手段をさらに具備し、前記色分離画像取
得手段は、前記搬送方向に交差する走査方向に沿って画
素がライン状に配置された一次元撮像素子を具備するこ
とを特徴とする。(9) The uneven pattern inspection apparatus according to the above (8), further comprising a transport means for transporting the inspection object in a predetermined transport direction, wherein the color separation image acquiring means comprises: It is characterized by including a one-dimensional image sensor in which pixels are arranged in a line along a scanning direction that intersects the transport direction.

【００２３】（１０）検査対象物の被検査面上の凹凸パ
ターンを検査する凹凸パターン検査装置において、前記
被検査面に異なる方向からそれぞれ異なる特性の所定数
の照明光を照射する照明手段と、入射した前記反射光
を、前記照明手段の発光特性に対応した波長にそれぞれ
分離して取り込む撮像素子を備え、前記被検査面からの
反射光を色分離して所定数の画像をそれぞれ取得する色
分離画像取得手段と、前記色分離画像取得手段より得ら
れる所定数の画像間の差分画像に基づき前記凹凸パター
ンの有無または高さを判断する画像処理手段とを備えて
いることを特徴とする。(10) An uneven pattern inspection apparatus for inspecting an uneven pattern on a surface to be inspected of an inspection object, illuminating means for irradiating the inspected surface with a predetermined number of illumination lights having different characteristics from different directions, An image pickup device that separates the incident reflected light into wavelengths corresponding to the light emission characteristics of the illumination unit and captures the reflected light from the surface to be inspected, and acquires a predetermined number of images. The image processing apparatus further includes: a separated image obtaining unit; and an image processing unit that determines the presence or absence or the height of the uneven pattern based on a difference image between a predetermined number of images obtained by the color separated image obtaining unit.

【００２４】（１１）前記（７）に記載された凹凸パタ
ーン検査装置であって、前記検査対象物を所定の搬送方
向に搬送する搬送手段をさらに具備し、前記色分離画像
取得手段は、前記搬送方向に交差する走査方向に沿って
画素がライン状に配置された一次元撮像素子を具備する
ことを特徴とする。(11) The uneven pattern inspection apparatus according to the above (7), further comprising a transport means for transporting the inspection object in a predetermined transport direction, wherein the color separation image obtaining means comprises: It is characterized by including a one-dimensional image sensor in which pixels are arranged in a line along a scanning direction that intersects the transport direction.

【００２５】（１２）前記（１１）に記載された凹凸パ
ターン検査装置であって、前記一次元撮像素子は、前記
走査方向に沿って前記照明光の特性に対応した画素が並
んだ前記所定数の撮像画素列と、各撮像画素列間の距離
に基づく読取位置ずれを補正する読取位置補正手段を具
備することを特徴とする。(12) In the uneven pattern inspection apparatus according to (11), the one-dimensional image pickup device includes a plurality of pixels each corresponding to a characteristic of the illumination light arranged along the scanning direction. And a reading position correcting unit that corrects a reading position shift based on a distance between the imaging pixel lines.

【００２６】（１３）前記（１１）に記載された凹凸パ
ターン検査装置であって、前記一次元撮像素子は、前記
走査方向に沿って前記照明光の特性に対応した画素が交
互に並んだ撮像画素列を備え、前記色分離画像取得手段
は、前記撮像画素列より得られる電気信号パターンの色
配列を、色ごとに分離した電気信号パターンに整列する
色整列手段とを具備することを特徴とする。(13) In the concave-convex pattern inspection apparatus according to (11), the one-dimensional image pickup device has an image pickup device in which pixels corresponding to the characteristics of the illumination light are alternately arranged along the scanning direction. A pixel array, and the color separation image acquiring unit includes a color alignment unit that aligns a color arrangement of an electric signal pattern obtained from the imaging pixel line with an electric signal pattern separated for each color. I do.

【００２７】（１４）前記（８）〜（１３）に記載され
た凹凸パターン検査装置であって、前記所定数は２であ
り、前記異なる方向は、互いに交差する２方向であるこ
とを特徴とする。(14) The uneven pattern inspection apparatus according to any one of (8) to (13), wherein the predetermined number is two, and the different directions are two directions intersecting each other. I do.

【００２８】（１５）前記（８）〜（１３）に記載され
た凹凸パターン検査装置であって、前記所定数は３であ
り、前記異なる方向は、互いに対向する２方向と、これ
ら２方向に交差する１方向であることを特徴とする。(15) In the uneven pattern inspection apparatus according to any one of (8) to (13), the predetermined number is three, and the different directions are two directions facing each other, and two directions facing each other. It is characterized by one direction intersecting.

【００２９】（１６）前記（８）〜（１５）に記載され
た凹凸パターン検査装置であって、前記画像処理手段に
よって検出された前記凹凸パターンの形状に基づいて前
記検査対象物の良否を判別する判別手段をさらに備えて
いることを特徴とする。(16) The uneven pattern inspection apparatus according to any one of (8) to (15), wherein the quality of the inspection object is determined based on the shape of the uneven pattern detected by the image processing means. It is characterized by further comprising a determining means for performing the determination.

【００３０】（１７）前記（８）〜（１６）に記載され
た凹凸パターン検査装置であって、前記検査対象物を所
定の搬送方向に搬送する搬送手段をさらに具備し、前記
検査対象物を前記搬送方向に交差する方向の軸回りで屈
曲させて搬送方向を変化させる屈曲手段とを備えている
ことを特徴とする。(17) The uneven pattern inspection apparatus according to any one of the above (8) to (16), further comprising a transport means for transporting the inspection object in a predetermined transport direction. Bending means for bending around an axis in a direction intersecting the transport direction to change the transport direction.

【００３１】（１８）検査対象物の被検査面を検査する
検査装置において、前記検査対象物をその被検査面に沿
った搬送方向に搬送する搬送手段と、前記検査対象物を
前記搬送方向に交差する方向の軸回りで屈曲させて搬送
方向を変化させる屈曲手段と、前記被検査面の前記屈曲
された位置に照明光を照射する照明手段と、前記被検査
面の前記屈曲された位置を撮像する撮像手段とを備えて
いることを特徴とする。(18) In an inspection apparatus for inspecting a surface to be inspected of an inspection object, a transport means for transporting the inspection object in a transportation direction along the surface to be inspected, and the inspection object in the transportation direction. Bending means for bending around an axis in a direction intersecting to change the transport direction, illuminating means for irradiating illumination light to the bent position of the surface to be inspected, and the bent position of the surface to be inspected. Image pickup means for picking up an image.

【００３２】[0032]

【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施の形態
に係る凹凸パターン検知装置１００の全体の概略構成を
示す図である。凹凸パターン検知装置１００は、被検知
面Ｗ上において１００〜３００μｍピッチの縦縞からな
る凹凸パターンＱの有無を検知するものである。なお、
被検知面Ｗに設けられる凹凸パターンＱは、凸部分Ｘは
濃色、凹部分Ｙは淡色である。なお、凸部分Ｘを黒色、
凹部分Ｙを白色、あるいは、凸部分Ｘを不透明、凹部分
を透明とするようにしてもよい。さらに、凸部分Ｘと凹
部分Ｙとの関係を逆にしてもよい。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a diagram showing the overall schematic configuration of an uneven pattern detecting device 100 according to a first embodiment of the present invention. The uneven pattern detecting device 100 detects the presence or absence of an uneven pattern Q composed of vertical stripes having a pitch of 100 to 300 μm on the surface W to be detected. In addition,
In the concavo-convex pattern Q provided on the detected surface W, the convex portion X is dark and the concave portion Y is light. The convex portion X is black,
The concave portion Y may be white, the convex portion X may be opaque, and the concave portion may be transparent. Further, the relationship between the convex portion X and the concave portion Y may be reversed.

【００３３】凹凸パターン検知装置１００は、被検知面
Ｗに対して左右両方向から照明ビーム（照明光）Ｅ１，
Ｅ２を所定の入射角（例えば４５°）で照射する照明部
２００と、被検知面Ｗの画像に所定のマスクパターン
（参照パターン）を重ねるためのマスク部３００と、マ
スク部３００を通過した被検知面Ｗからの画像を撮像す
る撮像部４００と、この撮像部４００で撮像された画像
を処理し、所定のピッチＱｐを有する凹凸パターンＱの
有無を判断する画像処理部５００とを備えている。The concave / convex pattern detecting apparatus 100 includes an illumination beam (illumination light) E1,
An illumination unit 200 that irradiates E2 at a predetermined incident angle (for example, 45 °), a mask unit 300 for superimposing a predetermined mask pattern (reference pattern) on an image of the detection surface W, and an object that has passed through the mask unit 300. An imaging unit 400 that captures an image from the detection surface W, and an image processing unit 500 that processes the image captured by the imaging unit 400 and determines the presence or absence of a concavo-convex pattern Q having a predetermined pitch Qp. .

【００３４】照明部２００は、多数の平行で等間隔な照
明ビームＥ１，Ｅ２をそれぞれ発する一対の照明装置２
１０，２２０を備えている。照明装置２１０は、被検知
面Ｗに対して左側から斜め照明する光源２１１と、凹凸
パターンＱの縦縞パターンと直交する方向に形成された
横縞パターンの透過孔を有するスリット２１２と、投影
結像系２１３とを備え、スリット２１２のパターンを被
検知面Ｗ上に投影する。また、照明装置２２０は、右側
から斜め照明する光源２２１と、横縞状のスリット２２
２と、投影結像系２２３とを備え、横縞状のスリット２
２２のパターンを被検知面Ｗ上に投影する。The illuminating section 200 includes a pair of illuminating devices 2 that emit a number of parallel and equally spaced illumination beams E1 and E2, respectively.
10, 220 are provided. The illumination device 210 includes a light source 211 obliquely illuminating the detection surface W from the left side, a slit 212 having a transmission hole of a horizontal stripe pattern formed in a direction orthogonal to the vertical stripe pattern of the concavo-convex pattern Q, and a projection imaging system. 213, and projects the pattern of the slit 212 onto the detection surface W. The illumination device 220 includes a light source 221 that illuminates obliquely from the right side and a slit 22 having a horizontal stripe shape.
2 and a projection imaging system 223, and a horizontal stripe-shaped slit 2
The pattern 22 is projected on the detection surface W.

【００３５】このとき、スリット２１２とスリット２２
２との相対的な位置関係を適切に設定することで、被検
知面Ｗ上は図２に示されるように横縞状の小領域Ｗａ，
Ｗｂに分割される。ここで、各々の小領域Ｗａ，Ｗｂは
交互に、照明装置２１０からの照明ビームＥ１のみが照
射される領域Ｗａと、照明装置２２０からの照明ビーム
Ｅ２のみが照射される領域Ｗｂとなる。At this time, the slits 212 and 22
By appropriately setting the relative positional relationship with respect to the detection area W, as shown in FIG.
Wb. Here, each of the small regions Wa and Wb alternately becomes a region Wa where only the illumination beam E1 from the illumination device 210 is irradiated and a region Wb where only the illumination beam E2 from the illumination device 220 is irradiated.

【００３６】マスク部３００は、被検知面Ｗを結像させ
る結像レンズ３１０と、結像レンズ３１０による結像面
上に置かれた縦縞状の透過部３２１及び不透過部３２２
からなるパターンを有するマスク３２０とを備えてい
る。マスク３２０のピッチφは、図４に示すように、検
知対象の凹凸パターンＱのピッチＱｐと後述するように
僅かにずれており、モアレが発生しやすい値に設定して
ある。The mask unit 300 includes an image forming lens 310 for forming an image on the surface W to be detected, and a transparent portion 321 and an opaque portion 322 in the form of vertical stripes placed on the image forming surface of the image forming lens 310.
And a mask 320 having a pattern composed of As shown in FIG. 4, the pitch φ of the mask 320 is slightly deviated from the pitch Qp of the concave / convex pattern Q to be detected, as described later, and is set to a value at which moiré easily occurs.

【００３７】撮像部４００は、マスク３２０上に現われ
た画像をＣＣＤエリアイメージセンサ４２０上に結像す
る結像レンズ４１０と、ＣＣＤエリアイメージセンサ４
２０とを備えている。画像処理部５００は、ＣＣＤエリ
アイメージセンサ４２０により得られた画像を処理し、
被検知面Ｗ上の凹凸パターンＱの有無を判断する。The image pickup section 400 includes an image forming lens 410 for forming an image appearing on the mask 320 on the CCD area image sensor 420, and a CCD area image sensor 4
20. The image processing unit 500 processes an image obtained by the CCD area image sensor 420,
The presence / absence of the concavo-convex pattern Q on the detection surface W is determined.

【００３８】このように構成された凹凸パターン検知装
置１００では、次のようにして被検知面Ｗ上における凹
凸パターンＱの有無を検知する。最初に、照明部２００
により、被検知面Ｗの領域Ｗａ上に照明ビームＥ１、領
域Ｗｂ上に照明ビームＥ２を照射する。The uneven pattern detecting apparatus 100 configured as described above detects the presence or absence of the uneven pattern Q on the detection target surface W as follows. First, the lighting unit 200
Thus, the illumination beam E1 is radiated on the region Wa of the detection surface W, and the illumination beam E2 is radiated on the region Wb.

【００３９】図３に示すように、領域Ｗａにおける凹凸
パターンＰの凸部Ｘのうち、照明ビームＥ１の入射側に
近いエッジＸｂは、入射した照明ビームＥ１が散乱さ
れ、真上から見たときに白く見える。一方、照明ビーム
Ｅ１の入射側と反対側のエッジＸａは、凹凸パターンＱ
の盛り上がりによる影が生じ、黒く見える。従って、凹
凸パターンＱの凸部Ｘに斜めから照明した場合には、黒
色に見える部分が本来の凸部Ｘが存在している位置より
もやや照明光の入射側と反対側に移動して見えることに
なる。したがって、被検知面Ｗ上に検知対象の凹凸パタ
ーンＱがあった場合、そのパターンの左方向から照明さ
れる領域の部分の白黒縞模様は右に僅かにシフトした凹
凸パターンＱａとなる。As shown in FIG. 3, the edge Xb of the convex portion X of the concave-convex pattern P in the region Wa, which is close to the incident side of the illumination beam E1, has the incident illumination beam E1 scattered and is viewed from directly above. It looks white. On the other hand, the edge Xa on the side opposite to the incident side of the illumination beam E1 is
The swelling causes shadows that appear black. Therefore, when the projection X of the concavo-convex pattern Q is illuminated obliquely, the portion that appears black moves slightly to the opposite side to the incident side of the illumination light from the position where the original projection X exists. Will be. Therefore, when there is an uneven pattern Q to be detected on the surface W to be detected, the black and white stripe pattern in the portion of the pattern illuminated from the left becomes an uneven pattern Qa slightly shifted to the right.

【００４０】一方、領域Ｗｂでは、同様のことから右方
向から照明される領域の部分の白黒縞模様は左に僅かに
シフトした凹凸パターンＱｂとなる。なお、凹凸パター
ンＱが存在しない場合や、平面的に黒白の縞模様のみが
存在する場合はこの現象は生じない。On the other hand, in the area Wb, the black-and-white stripe pattern in the area illuminated from the right direction becomes a concavo-convex pattern Qb slightly shifted to the left. This phenomenon does not occur when the uneven pattern Q does not exist or when only the black-and-white stripe pattern exists only in a plane.

【００４１】次に、被検知面Ｗは結像レンズ３１０を介
してマスク３２０上に結像される。一定方向にシフトし
た凹凸パターンＱａ，Ｑｂの像に図４に示すようにマス
ク３２０を掛ける。これにより、透過部３２１を透過し
た部分の画像は白い部分と黒い部分とが併存又はいずれ
か一方を表す画像となる。これらの画像を不透過部３２
２の部分を取り除いてつなぎ合せると、図５の（ａ），
（ｂ）に示すように明るさが周期的に変化する画像が得
られる。なお、図５の（ａ）は領域Ｗａ、図５の（ｂ）
は領域Ｗｂを示しており、図５中τは透過部３２１の幅
を示している。この画像は、マスク３２０と凹凸パター
ンＱａ，Ｑｂの像との干渉により、モアレが発生したモ
アレ画像α，βである。すなわち、パターンの幅に長短
が生じた画像が得られ、一定の長さでパターンの幅の変
化を観察すると、濃色の多い部分と淡色の多い部分とで
濃度変化が生じ、所定の周期が生じている。Next, the surface W to be detected is imaged on the mask 320 via the imaging lens 310. The image of the concavo-convex patterns Qa and Qb shifted in a certain direction is covered with a mask 320 as shown in FIG. As a result, the image of the portion transmitted through the transmission portion 321 is an image in which a white portion and a black portion coexist or represent either one. These images are transferred to the opaque section 32.
When the two parts are removed and connected, FIG.
As shown in (b), an image whose brightness changes periodically is obtained. 5A is a region Wa, and FIG.
Indicates the region Wb, and τ in FIG. 5 indicates the width of the transmission part 321. The images are moire images α and β in which moire has occurred due to interference between the mask 320 and the images of the uneven patterns Qa and Qb. That is, an image in which the width of the pattern has a length is obtained, and when a change in the width of the pattern is observed at a fixed length, a density change occurs in a portion with a large amount of dark color and a portion with a large amount of light color. Has occurred.

【００４２】領域Ｗａ上と領域Ｗｂ上でのモアレ画像の
濃度変化の位相を、図６に示す。上述の右または左への
パターンのわずかな位置シフトにより、モアレ画像の濃
度変化の位相は大きく異なったものとなる。FIG. 6 shows the phase of the density change of the moire image on the area Wa and the area Wb. Due to the slight position shift of the pattern to the right or left, the phase of the density change of the moire image is greatly different.

【００４３】モアレ画像α，βは結像レンズ４１０を介
してＣＣＤイメージセンサ４２０に入力される。ここ
で、モアレ画像αとモアレ画像βに基づいてモアレの位
相差を検出する。モアレ画像αとモアレ画像βとの位相
差が所定の値を超えている場合には、凹凸パターンＱが
存在し、所定の値以下であると凹凸パターンＱが存在し
ていない。The moire images α and β are input to the CCD image sensor 420 via the imaging lens 410. Here, the phase difference of the moire is detected based on the moire image α and the moire image β. When the phase difference between the moiré image α and the moiré image β exceeds a predetermined value, the concavo-convex pattern Q exists, and when the phase difference is less than the predetermined value, the concavo-convex pattern Q does not exist.

【００４４】ここで、ＣＣＤイメージセンサ４２０で必
要となる解像度は、モアレ画像α，βの位相差を検出で
きる程度であるため、例えばモアレ画像α，βの周期の
４分の１程度となる。すなわち、マスク３２０の周期や
凹凸パターンＱの周期より十分に大きいものとなる。Here, the resolution required by the CCD image sensor 420 is such that the phase difference between the moiré images α and β can be detected, and is, for example, about 周期 of the period of the moiré images α and β. That is, the period is sufficiently larger than the period of the mask 320 or the period of the uneven pattern Q.

【００４５】次に、マスク３２０の周期の設定方法につ
いて説明する。凹凸パターンＱの周期を２Ｐ、マスクの
周期２ｋＰの場合を想定する。モアレ現象の特性よりｋ
が１に近い値であると、モアレ現象が発生しやすい。マ
スク周期２ｋＰの前半部分のみ撮像部４００に取り込
む、あるいは前半部と後半部を別々のカメラに取り込ん
で差をとると、図６に示すようにモアレ画像α，βの濃
度変化を表すなだらかなグラフが得られる。Next, a method of setting the period of the mask 320 will be described. It is assumed that the period of the uneven pattern Q is 2P and the period of the mask is 2kP. From the characteristics of the moire phenomenon, k
Is close to 1, the moire phenomenon is likely to occur. If only the first half of the mask period 2 kP is captured by the imaging unit 400 or the first and second half is captured by separate cameras and the difference is taken, a smooth graph showing the density change of the moiré images α and β as shown in FIG. Is obtained.

【００４６】このグラフの周期Ｈはおよそ２ｋＰ／｜１
−ｋ｜となる。この２ｋＰ／｜１−ｋ｜の周期の中にマ
スク３２０のパターンは１／｜１−ｋ｜周期分入る。モ
アレ画像α，βの濃度変化の位相を９０°以上の分解能
で読み取るには、凹凸パターンＱの１周期内にマスク３
２０のパターンが４周期以上含まれることが望ましいこ
とから、１／｜１−ｋ｜≧４を満たす必要がある。これ
より、０．７５≦ｋ≦１．２５となっているべきことが
わかる。これより、マスク３２０のパターンの周期は凹
凸パターンＱの０．７５倍以上１．２５倍以下であるこ
とが望ましい。The period H of this graph is about 2 kP / | 1
−k |. The pattern of the mask 320 is included in the period of 2 kP / | 1-k | for 1 / | 1-k | period. To read the phase of the density change of the moiré images α and β with a resolution of 90 ° or more, the mask 3
Since it is desirable that 20 patterns are included in four cycles or more, it is necessary to satisfy 1 / | 1-k | ≧ 4. This shows that 0.75 ≦ k ≦ 1.25 should be satisfied. Accordingly, it is desirable that the period of the pattern of the mask 320 be 0.75 times or more and 1.25 times or less of the concavo-convex pattern Q.

【００４７】なお、被検知面Ｗ上に凹凸パターンＱでは
なく、例えば黒と白の縦縞ラインが平面上に単に描かれ
ている場合には、領域Ｗａ，Ｗｂで照明ビームＥ１，Ｅ
２によるシフトが発生しないため、領域Ｗａ，Ｗｂのモ
アレ画像α，βで濃度変化に位相差が発生しない。When, for example, black and white vertical stripe lines are simply drawn on a plane instead of the concavo-convex pattern Q on the surface W to be detected, the illumination beams E1 and Eb in the regions Wa and Wb.
2, no phase difference occurs in the density change in the moire images α and β in the areas Wa and Wb.

【００４８】したがって、画像処理部５００では、２種
類のモアレ画像α，βの周期の位相差が所定の値を超え
ていれば凹凸パターンＱが有ると判断し、位相差が所定
の値以下であれば、凹凸パターンＱが無いと判断する。Therefore, the image processing section 500 determines that there is a concavo-convex pattern Q if the phase difference between the periods of the two types of moiré images α and β exceeds a predetermined value. If there is, it is determined that there is no uneven pattern Q.

【００４９】ここで、凹凸パターンＱのシフト量、位相
差の相互関係について具体例を挙げて説明する。凹凸の
高さが４０μｍ、１つのパターンの幅を１５０μｍとし
た場合、左右のシフト量は４０μｍ程度となる。このと
きの、モアレ濃度変化の位相差は、パターンの幅の数倍
から数十倍となる。したがって、ＣＣＤイメージセンサ
４２０に要求される解像度は数百μｍ〜１ｍｍとなる。Here, the mutual relationship between the shift amount and the phase difference of the concavo-convex pattern Q will be described with a specific example. When the height of the unevenness is 40 μm and the width of one pattern is 150 μm, the shift amount on the left and right is about 40 μm. At this time, the phase difference of the moire density change is several times to several tens times the width of the pattern. Therefore, the resolution required for the CCD image sensor 420 is several hundred μm to 1 mm.

【００５０】上述したように、本第１の実施の形態に係
る凹凸パターン検知装置１００によれば、凹凸パターン
Ｑを右ないし左から斜め照明したときに、凸部Ｘのエッ
ジＸａ，Ｘｂに生じる影や輝線によって、パターン自体
が僅かに左右にシフトしたように見えることを利用し、
モアレ現象によるモアレ画像を生成し、その濃度変化の
位相差を検知することで凹凸パターンＱの有無を判断す
ることができる。このとき、位相差がシフト量よりも十
分に大きくなることから、凹凸パターンＱやシフト量の
変化を直接検出することができない低い解像度のＣＣＤ
イメージセンサ４２０であっても凹凸パターンＱの有無
を判断することが可能となる。As described above, according to the uneven pattern detecting apparatus 100 according to the first embodiment, when the uneven pattern Q is obliquely illuminated from the right or left, it is generated at the edges Xa and Xb of the convex portion X. Using the fact that the pattern itself looks slightly shifted left and right due to shadows and bright lines,
By generating a moiré image due to the moiré phenomenon and detecting the phase difference of the density change, the presence or absence of the concavo-convex pattern Q can be determined. At this time, since the phase difference is sufficiently larger than the shift amount, a low-resolution CCD that cannot directly detect the uneven pattern Q or a change in the shift amount.
Even with the image sensor 420, it is possible to determine the presence or absence of the uneven pattern Q.

【００５１】なお、凹凸の段差部を詳細に観察して、照
明光の散乱や影を捉えることも可能ではあるが、このた
めには非常に高い解像度で画像を取得し、これに対して
画像処理を掛ける必要がある。高い解像度での画像取得
は、それだけ強力な光源が不可欠である。モアレ現象を
用いた判定方法は、低い解像度で画像取得した場合でも
高い精度で位置ずれを判定し、これにより凹凸パターン
の有無の確実な判定を可能にする。It is possible to observe the unevenness of the projections and depressions in detail to capture the scattering and shadow of the illumination light. It needs to be processed. To acquire an image at a high resolution, a powerful light source is indispensable. The determination method using the moiré phenomenon determines a position shift with high accuracy even when an image is acquired at a low resolution, thereby making it possible to reliably determine the presence or absence of an uneven pattern.

【００５２】（第２の実施の形態）図７は、本発明の第
２の実施の形態に係る被検知面Ｗ上において凹凸パター
ンＱの有無を検知する凹凸パターン検知装置６００の全
体の構成が示されている。なお、図７において図１と同
一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略
した。(Second Embodiment) FIG. 7 shows an overall configuration of an uneven pattern detecting device 600 for detecting the presence or absence of an uneven pattern Q on a detection surface W according to a second embodiment of the present invention. It is shown. In FIG. 7, the same functional portions as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

【００５３】凹凸パターン検知装置６００は、被検知面
Ｗに対して左右両方向から照明ビームＥ１，Ｅ２を所定
の入射角で照射する照明部２００と、被検知面Ｗからの
像を分割し、所定のマスクパターンを掛けるマスク部３
３０と、マスク部３３０を通過した被検知面Ｗからの画
像を撮像する一対の撮像部４００と、画像処理部５００
とを備えている。The uneven pattern detecting device 600 divides an image from the detected surface W into an illuminating section 200 for irradiating the detected surface W with illumination beams E1 and E2 at predetermined incident angles from both left and right directions. Mask part 3 to apply the mask pattern of
30, a pair of image pickup units 400 for picking up an image from the detected surface W that has passed through the mask unit 330, and an image processing unit 500
And

【００５４】マスク部３３０は、被検知面Ｗを結像させ
る結像レンズ３１０と、結像レンズ３１０による結像面
上に置かれ縦縞状の透過部３４１及び不透過部３４２か
らなるパターンを有するマスク３４０と、マスク３４０
を透過した光が入力するハーフミラー３３１を備えてい
る。ハーフミラー３３１を透過した光は結像レンズ４１
０によりＣＣＤエリアイメージセンサ４２０に入力され
る。また、ハーフミラー３３１により反射された光は結
像レンズ４１０によりＣＣＤエリアイメージセンサ４２
０に入力される。The mask section 330 has a pattern consisting of an image forming lens 310 for forming an image on the surface W to be detected, and a transparent portion 341 and a non-transmitting portion 342 which are placed on the image forming surface of the image forming lens 310 and have a stripe shape. Mask 340 and mask 340
Is provided with a half mirror 331 to which the light transmitted through is input. The light transmitted through the half mirror 331 is
0 is input to the CCD area image sensor 420. The light reflected by the half mirror 331 is transmitted by the imaging lens 410 to the CCD area image sensor 42.
Input to 0.

【００５５】本第２の実施の形態に係る凹凸パターン検
知装置６００によれば、２つのＣＣＤエリアイメージセ
ンサ４２０，４２０に導き、２つの取得画像の差をとっ
ているので、１つのＣＣＤエリアイメージセンサ４２０
を用いる上述した凹凸パターン検知装置１００に比べて
モアレ画像の濃淡変化の位相差をより正確に測定でき
る。According to the concave / convex pattern detecting device 600 according to the second embodiment, since the two acquired images are guided to the two CCD area image sensors 420, 420, one CCD area image is obtained. Sensor 420
The phase difference of the shading change of the moiré image can be measured more accurately as compared with the above-described uneven pattern detection device 100 using.

【００５６】図８は凹凸パターン検知装置６００の変形
例を示す図である。なお、図８において図１と同一機能
部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略した。FIG. 8 is a view showing a modified example of the uneven pattern detecting device 600. In FIG. 8, the same functional portions as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

【００５７】本変形例によれば、ＣＣＤエリアイメージ
センサ４２０上に被検知面Ｗを結像させる結像レンズ３
６０と、この光路中に配置されたハーフミラー３３１を
備えており、ハーフミラー３３１を透過した光はＣＣＤ
エリアイメージセンサ４２０に入力される。また、ハー
フミラー３３１により反射された光はＣＣＤエリアイメ
ージセンサ４２０に入力される。ここで、ＣＣＤエリア
イメージセンサ４２０の入力面には、マスク３４０，３
５０が配置されている。According to the present modification, the imaging lens 3 for imaging the surface W to be detected on the CCD area image sensor 420
60, and a half mirror 331 arranged in the optical path.
It is input to the area image sensor 420. The light reflected by the half mirror 331 is input to the CCD area image sensor 420. Here, masks 340 and 3 are provided on the input surface of the CCD area image sensor 420.
50 are arranged.

【００５８】マスク３４０，３５０のピッチは、検知対
象の凹凸パターンＱのピッチと後述するように僅かにず
れており、モアレが発生しやすい値に設定してある。ま
た、マスク３４０を透過する像は、マスク３５０を透過
しないように設定され、また、マスク３５０を透過する
像は、マスク３４０を透過しないように設定されてい
る。The pitch of the masks 340 and 350 is slightly deviated from the pitch of the concave / convex pattern Q to be detected, as will be described later, and is set to a value that easily causes moire. The image transmitted through the mask 340 is set so as not to transmit through the mask 350, and the image transmitted through the mask 350 is set so as not to transmit through the mask 340.

【００５９】本変形例においても上述した凹凸パターン
検知装置６００と同様の効果を得ることができる。In this modification, the same effect as that of the above-described uneven pattern detecting device 600 can be obtained.

【００６０】（第３の実施の形態）図９は、本発明の第
３の実施の形態に係る被検知面Ｗ上において凹凸パター
ンＱの有無を検知する凹凸パターン検知装置７００の全
体の構成が示されている。なお、図９において図１と同
一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略
した。(Third Embodiment) FIG. 9 shows an overall configuration of a concave / convex pattern detecting device 700 for detecting the presence / absence of a concave / convex pattern Q on a detection surface W according to a third embodiment of the present invention. It is shown. In FIG. 9, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

【００６１】凹凸パターン検知装置７００は、照明部２
００と、撮像部４００と、画像処理部５００とを備えて
いる。The unevenness pattern detecting device 700 includes the illumination unit 2
00, an imaging unit 400, and an image processing unit 500.

【００６２】撮像部４００は、この結像面３２０上に現
われた画像をＣＣＤエリアイメージセンサ４２０上に結
像する結像レンズ４１０と、ＣＣＤエリアイメージセン
サ４２０とから成る。ＣＣＤエリアイメージセンサ４２
０の横方向の画素ピッチは、凹凸パターンＱのピッチの
半分から僅かにずれた大きさとなっており、凹凸パター
ンＱによりモアレ現象を発生しやすい状態に設定されて
いる。The image pickup section 400 includes an image forming lens 410 for forming an image appearing on the image forming plane 320 on a CCD area image sensor 420, and a CCD area image sensor 420. CCD area image sensor 42
The pixel pitch in the horizontal direction of 0 is slightly shifted from half of the pitch of the concavo-convex pattern Q, and is set so that the moire phenomenon is easily generated by the concavo-convex pattern Q.

【００６３】画像処理部５００は、ＣＣＤエリアイメー
ジセンサ４２０により得られた画像に基づいて、被検知
面Ｗ面上の所定のパターンの有無を判定する。The image processing section 500 determines the presence or absence of a predetermined pattern on the surface W to be detected based on the image obtained by the CCD area image sensor 420.

【００６４】このように構成された凹凸パターン検知装
置７００では、次のようにして凹凸パターンＱの検知を
行う。すなわち、上述した凹凸パターン検知装置１００
と同様にして、領域Ｗａ，Ｗｂにおいて凹凸パターンＱ
が存在すると、凸部Ｘがシフトし、領域Ｗａ，Ｗｂにお
いてそれぞれパターンＱａ，Ｑｂが生じる。The uneven pattern detecting device 700 configured as described above detects the uneven pattern Q as follows. That is, the above-described uneven pattern detection device 100
In the same manner as described above, the uneven pattern Q
Exists, the convex portion X is shifted, and patterns Qa and Qb are generated in the regions Wa and Wb, respectively.

【００６５】これに対して、ＣＣＤエリアイメージセン
サ４２０の画素ピッチが適切に設定されていると、上述
した第１の実施の形態に係る凹凸パターン検知装置１０
０におけるマスク３２０を透過した像のみがＣＣＤエリ
アイメージセンサ４２０で検知するのと同様の状態とな
り、モアレ現象によるモアレ画像α，βが得られる。し
たがって、このモアレ画像α，βの濃度変化の位相差を
検知すれば、被検知面Ｗ上の検知対象の凹凸パターンＱ
の有無を判定できる。On the other hand, if the pixel pitch of the CCD area image sensor 420 is set appropriately, the uneven pattern detecting device 10 according to the first embodiment described above can be used.
Only the image transmitted through the mask 320 at 0 is in a state similar to that detected by the CCD area image sensor 420, and moire images α and β due to the moire phenomenon are obtained. Therefore, if the phase difference of the density change of the moiré images α and β is detected, the uneven pattern Q
Can be determined.

【００６６】なお、モアレ画像α，βの濃度変化の位相
差は、横方向に連なる１ライン中において、隣接する奇
数番画素の値から偶数番画素の値を引き算する等すれ
ば、容易に知ることが可能である。ＣＣＤエリアイメー
ジセンサ４２０の画素ピッチは、凹凸パターンの周期の
０．３７５倍以上０．６２５倍以下であることが望まし
い。The phase difference of the density change of the moiré images α and β can be easily known by subtracting the value of the even-numbered pixel from the value of the adjacent odd-numbered pixel in one horizontal line. It is possible. It is desirable that the pixel pitch of the CCD area image sensor 420 is 0.375 times or more and 0.625 times or less of the period of the concavo-convex pattern.

【００６７】この理由について説明する。すなわち、周
期２Ｐをもつ凹凸パターンＱを、画素ピッチｋＰをもつ
センサで読み取ったとき、ｋが１に近い値であると、読
み取った画像にモアレ現象が発生しやすくなる。画素を
１画素おきに飛ばして読む、あるいは奇数番画素の値か
ら右隣の偶数番画素の値を引くと、なだらかな濃度変化
のグラフが得られる。The reason will be described. That is, when the uneven pattern Q having the period 2P is read by the sensor having the pixel pitch kP, if k is a value close to 1, the moire phenomenon is likely to occur in the read image. If a pixel is read by skipping every other pixel, or if the value of the even-numbered pixel on the right is subtracted from the value of the odd-numbered pixel, a graph of a gradual change in density is obtained.

【００６８】これはモアレの変化を表すグラフである
が、この周期はおよそ２ｋＰ｜１−ｋｌとなる。画素を
１画素おきに飛ばして読むと、画素ピッチは２ｋＰに広
がり、この２ｋＰ／｜１−ｋ｜の周期の中に画素は１／
｜１−ｋ｜個入る。モアレ画像の濃度変化の位相を９０
°以上の分解能で読み取るには１周期に４点以上の画素
が望ましく、１／｜１−ｋ｜≧４を満たす必要がある。This is a graph showing a change in moiré, and this cycle is about 2 kP | 1-kl. If a pixel is read skipping every other pixel, the pixel pitch expands to 2 kP, and during this 2 kP / | 1-k |
| 1-k | pieces. Set the phase of the density change of the moiré image to 90
To read at a resolution of ° or more, four or more pixels are desirable in one cycle, and it is necessary to satisfy 1 / | 1−k | ≧ 4.

【００６９】これより、０．７５≦ｋ≦１．２５となっ
ているべきことがわかる。これより、センサの画素ピッ
チｋＰは凹凸パターン周期２Ｐの０.３７５倍以上０．
６２５倍以下であることが要求される。From this, it is understood that 0.75 ≦ k ≦ 1.25 should be satisfied. Accordingly, the pixel pitch kP of the sensor is equal to or more than 0.375 times the period 2P of the concavo-convex pattern.
625 times or less is required.

【００７０】上述したように本第３の実施の形態に係る
凹凸パターン検出装置７００によれば、第１の実施の形
態に係る凹凸パターン検出装置１００と同様の効果を得
ることができる。As described above, according to the concavo-convex pattern detecting device 700 according to the third embodiment, the same effect as that of the concavo-convex pattern detecting device 100 according to the first embodiment can be obtained.

【００７１】（第４の実施形態）図１０には、本発明の
第４の実施の形態に係る凹凸パターン検知処理装置８０
０の構成が示されている。なお、図１０において、上述
した図１と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細
な説明は省略する。(Fourth Embodiment) FIG. 10 shows an uneven pattern detection processing device 80 according to a fourth embodiment of the present invention.
A configuration of 0 is shown. In FIG. 10, the same functional portions as those in FIG. 1 described above are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【００７２】凹凸パターン検知処理装置８００は、搬送
装置８１０と、照明部８２０と、撮像部８３０と、画像
処理部８４０と、凹凸パターンＱの有無に応じて被検体
Ｆの次工程の処理を行う処理部８５０から構成されてい
る。The unevenness pattern detection processing device 800 performs processing of the next process of the subject F according to the presence or absence of the unevenness pattern Q, with the transport device 810, the illumination unit 820, the imaging unit 830, the image processing unit 840, and the presence or absence of the unevenness pattern Q. It comprises a processing unit 850.

【００７３】搬送装置８１０は、被検体Ｆを矢印Ｌ方向
に搬送するものであり、被検体Ｆの被検知面Ｗを後述す
るＣＣＤラインイメージセンサ８３１の読取りエリアＨ
に通過させるように設定されている。The transport device 810 transports the subject F in the direction of the arrow L, and moves the detection surface W of the subject F to a reading area H of a CCD line image sensor 831 described later.
Is set to pass through.

【００７４】照明部８２０は、被検知面Ｗに対して左ま
たは右方向から照明光を大入射角で照射するものであ
り、ハロゲンランプ及びライン型ライトガイド８２１と
８２２から成る光源と、被検知面Ｗの直近に置いた櫛形
のスリット８２３と８２４とから構成される。The illuminating section 820 irradiates illumination light onto the surface W to be detected from left or right at a large angle of incidence, and includes a light source including a halogen lamp and line type light guides 821 and 822, It is composed of comb-shaped slits 823 and 824 placed close to the surface W.

【００７５】撮像部８３０は、ＣＣＤラインイメージセ
ンサ８３１と、このＣＣＤラインイメージセンサ８３１
に像を結像する結像レンズ８３２とを備えている。The imaging section 830 includes a CCD line image sensor 831 and this CCD line image sensor 831
And an imaging lens 832 for forming an image.

【００７６】被検知面Ｗは、搬送装置８１０により。被
検知面Ｗ面上のＣＣＤラインイメージセンサの読取りエ
リアＨは、櫛形のスリットに対応する形で左側ライトガ
イド８２１からの照明ビームＥ３により左斜め上方から
照明される領域Ｈａと、右側ライトガイド８２２の出射
口からの照明ビームＥ４により右斜め上方から照明され
る領域Ｈｂとに分割される。The detected surface W is transferred by the transfer device 810. The reading area H of the CCD line image sensor on the surface W to be detected corresponds to an area Ha illuminated from the upper left by an illumination beam E3 from the left light guide 821 and a right light guide 822 corresponding to the comb-shaped slit. Is divided into a region Hb illuminated from obliquely right above by the illumination beam E4 from the exit of the light emitting device.

【００７７】ＣＣＤラインイメージセンサ８３１の領域
Ｈａ，Ｈｂ上における副走査方向解像度は、凹凸パター
ンＱのピッチの半分から僅かにずれた大きさとなってお
り、凹凸パターンＱによりモアレ現象を発生しやすい状
態に設定されている。The resolution in the sub-scanning direction on the areas Ha and Hb of the CCD line image sensor 831 is slightly deviated from half the pitch of the uneven pattern Q, and the moire phenomenon is likely to occur due to the uneven pattern Q. Is set to

【００７８】画像処理部８４０は、撮像部８３０によっ
て得られたモアレ画像α，βに基づいて被検知面Ｗ上の
凹凸パターンＱの有無を判定する。The image processing unit 840 determines the presence or absence of the concavo-convex pattern Q on the detection surface W based on the moiré images α and β obtained by the imaging unit 830.

【００７９】このように構成された凹凸パターン検知装
置８００では、次のようにして凹凸パターンＱの検知を
行う。すなわち、上述した凹凸パターン検知装置１００
と同様にして、領域Ｗａ，Ｗｂにおいて凹凸パターンＱ
が存在すると、凸部Ｘがシフトし、領域Ｗａ，Ｗｂにお
いてそれぞれパターンＱａ，Ｑｂが生じる。The uneven pattern detecting apparatus 800 configured as described above detects the uneven pattern Q as follows. That is, the above-described uneven pattern detection device 100
In the same manner as described above, the uneven pattern Q
Exists, the convex portion X is shifted, and patterns Qa and Qb are generated in the regions Wa and Wb, respectively.

【００８０】これに対して、ＣＣＤラインイメージセン
サ８３１の副走査方向の解像度が適切に設定されている
と、上述した第３の実施の形態に係る凹凸パターン検知
装置７００と同様に、モアレ現象によるモアレ画像α，
βが得られる。したがって、このモアレ画像α，βの濃
度変化の位相差を検知すれば、被検知面Ｗ上の検知対象
の凹凸パターンＱの有無を判定できる。On the other hand, if the resolution in the sub-scanning direction of the CCD line image sensor 831 is set appropriately, the moire phenomenon occurs similarly to the uneven pattern detecting device 700 according to the third embodiment described above. Moire image α,
β is obtained. Therefore, by detecting the phase difference of the density change of the moiré images α and β, it is possible to determine the presence / absence of the uneven pattern Q to be detected on the detection surface W.

【００８１】なお、モアレ画像α，βの濃度変化の位相
差は、横方向に連なる１ライン中において、隣接する奇
数番画素の値から偶数番画素の値を引き算する等した結
果を比較すれば、容易に知ることが可能である。ＣＣＤ
ラインイメージセンサ８３１の副走査方向の解像度は、
凹凸パターンの周期の０．３７５倍以上０．６２５倍以
下であることが望ましい。これについては、凹凸パター
ン検知装置７００の画素ピッチを設定した理由と同じで
ある。The phase difference of the density change of the moiré images α and β can be obtained by comparing the result of subtracting the value of the even-numbered pixel from the value of the adjacent odd-numbered pixel in one horizontal line. It is possible to know easily. CCD
The resolution in the sub-scanning direction of the line image sensor 831 is
It is desirable that the period is not less than 0.375 times and not more than 0.625 times the period of the concavo-convex pattern. This is the same as the reason for setting the pixel pitch of the uneven pattern detection device 700.

【００８２】上述したように本第４の実施の形態に係る
凹凸パターン検出装置８００によれば、第３の実施の形
態に係る凹凸パターン検出装置７００と同様の効果を得
ることができる。As described above, according to the concavo-convex pattern detecting device 800 according to the fourth embodiment, the same effect as that of the concavo-convex pattern detecting device 700 according to the third embodiment can be obtained.

【００８３】なお、本第４の実施の形態に係る凹凸パタ
ーン検知装置８００の変形例としては、特定点における
濃淡変化検知装置を追加し、その出力信号を参照してＣ
ＣＤラインイメージセンサ８３１の読み取り周期を決め
る制御信号（シフトパルス）を調整して搬送方向におけ
る読み取り周期を調整することも可能である。As a modification of the uneven pattern detecting device 800 according to the fourth embodiment, a device for detecting a change in shading at a specific point is added, and the output signal thereof is referred to.
It is also possible to adjust the reading cycle in the transport direction by adjusting a control signal (shift pulse) that determines the reading cycle of the CD line image sensor 831.

【００８４】例えば、ＣＣＤラインイメージセンサ８３
１の読取りエリアＨの近傍の１点にレーザ光線を当て、
この反射光を光検出器で受ける。この出力から、検知対
象の凹凸パターンに近いと思われる周期の信号成分をバ
ンドパスフィルタにより取り出し、その信号成分の周期
とＣＣＤラインイメージセンサ８３１のシフトパルスの
周期とが僅かに異なるようにＣＣＤラインイメージセン
サ８３１のシフトパルスを調整する。これにより、被検
体の個体差によりモアレ現象の発生条件に多少の揺らぎ
が生じても、安定的にモアレ現象を発生させて凹凸パタ
ーンＱを検知できる。また、ＣＣＤラインイメージセン
サ８３１のシフトパルスを調整するのではなく、被検体
の搬送速度を調整するようにしてもよい。For example, a CCD line image sensor 83
A laser beam is applied to one point near one reading area H,
This reflected light is received by a photodetector. From this output, a signal component having a period considered to be close to the concave / convex pattern to be detected is extracted by a band-pass filter, and the CCD line is shifted so that the period of the signal component is slightly different from the period of the shift pulse of the CCD line image sensor 831. The shift pulse of the image sensor 831 is adjusted. Thereby, even if the moiré phenomenon occurrence condition slightly fluctuates due to individual differences between the subjects, the moiré phenomenon can be stably generated and the concavo-convex pattern Q can be detected. Further, instead of adjusting the shift pulse of the CCD line image sensor 831, the transport speed of the subject may be adjusted.

【００８５】なお、本発明は上記第１〜第４の各実施の
形態に限定されるものではない。すなわち、マスクのパ
ターンは必ずしも縦縞模様である必要は無く、同心円状
・放射状直線群・斜め交差の直線群２群等であってもよ
い。このようにすることにより、単に縦縞の凹凸パター
ンのみでなく、様々な凹凸パターンの有無を検知でき
る。The present invention is not limited to the first to fourth embodiments. That is, the pattern of the mask does not necessarily have to be a vertical stripe pattern, and may be a group of two concentric circles, a group of radial straight lines, and a group of diagonally crossed straight lines. By doing so, it is possible to detect the presence / absence of various uneven patterns as well as the vertical stripe uneven patterns.

【００８６】また、照明方向は、左右２方向から斜め照
明するものの他、ややスキュー角をつけた方向、例えば
左上と右下の２方向から斜め照明するものでもよい。こ
のようにすることにより、縦縞の凹凸パターンのみでな
く、横縞の凹凸パターンについても影が発生し、凹凸パ
ターン判別に用いることができる。また、向かい合った
２方向ではなく、向き合わない２方向、例えば左上と右
上の２方向から斜め照明するものでもよい。向かい合っ
た２方向の場合には、凹凸の縞パターンの向きが、照明
の向き合った角度と平行になった場合には影が発生せ
ず、凹凸があることが全くわからないが、向き合わない
２方向から照明すれば、どのような向きの凹凸パターン
が入っても必ず影が発生する。The illumination direction may be oblique illumination from the left and right two directions, or may be oblique illumination from a slightly skewed direction, for example, the upper left and lower right directions. By doing so, not only the uneven pattern of the vertical stripes, but also the uneven pattern of the horizontal stripes produces shadows, which can be used for the uneven pattern discrimination. In addition, illumination may be performed obliquely not from two opposite directions but from two opposite directions, for example, two directions from the upper left and the upper right. In the case of two facing directions, when the direction of the stripe pattern of the unevenness becomes parallel to the angle of the lighting, no shadow is generated, and it is not known that there is unevenness at all. When illuminated, a shadow always occurs regardless of the direction of the uneven pattern.

【００８７】さらに、照明方向は予め決められた静的な
２方向ばかりでなく、時間的に変化する２方向であって
も良い。例えば、向かい合った２方向から照明するとき
の、照明の向き合った角度が時間的に回転するものや、
ある時間間隔で切り替わるもの等でも良い。このように
することにより、どのような向きの凹凸の縞パターンが
入っても必ず影が発生し、ある特定の向きの凹凸の縞パ
ターンに対して感度が低いといったことが起こりにくく
なる。Further, the illumination directions may be not only two static directions determined in advance but also two directions that change with time. For example, when illuminating from two facing directions, the facing angle of the lighting rotates with time,
It may be one that switches at a certain time interval. By doing so, a shadow always occurs regardless of the direction of the uneven stripe pattern in any direction, and it is unlikely that the sensitivity is low for the uneven stripe pattern in a specific direction.

【００８８】さらにまた、照明方向は２方向に限らず、
３方向以上であっても良い。このようにすることによ
り、どのような向きの凹凸の縞パターンが入っても必ず
影が発生し、ある特定の向きの凹凸の縞パターンに対し
て感度が低いといったことが起こりにくくなる。この
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能
であるのは勿論である。Furthermore, the illumination direction is not limited to two directions,
The directions may be three or more. By doing so, a shadow always occurs regardless of the direction of the uneven stripe pattern in any direction, and it is unlikely that the sensitivity is low for the uneven stripe pattern in a specific direction. In addition, it goes without saying that various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【００８９】（第５の実施の形態）図１１は本発明の第
５の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置９１０の全
体の概略構成を示すブロック図、図１２の（ａ），
（ｂ）は凹凸パターン検出装置９１０の測定方法の概要
を示す説明図、図１３の（ａ）は凹凸パターン検査装置
９１０に組み込まれたＣＣＤラインセンサ９３１を示す
下面図、図１４は凹凸パターン検査装置９１０に組み込
まれシートＣを搬送する搬送機構９５０の要部を示す説
明図である。なお、これらの図中ＭはシートＣの搬送方
向、Ｍ′は逆搬送方向、Ｎは被検査面Ｃ１上で搬送方向
Ｍに直交する直交方向を示している。さらに、図中Ｄは
被検査面Ｃ１上の検査領域を示している。また、シート
Ｃは例えば紙のように柔軟な性質を有するものである。(Fifth Embodiment) FIG. 11 is a block diagram showing the overall schematic configuration of an uneven pattern inspection apparatus 910 according to a fifth embodiment of the present invention.
13B is an explanatory view showing an outline of a measuring method of the uneven pattern detecting device 910, FIG. 13A is a bottom view showing a CCD line sensor 931 incorporated in the uneven pattern inspecting device 910, and FIG. FIG. 9 is an explanatory diagram illustrating a main part of a transport mechanism 950 that is incorporated in the apparatus 910 and transports a sheet C. In these figures, M indicates the conveying direction of the sheet C, M 'indicates the reverse conveying direction, and N indicates the direction orthogonal to the conveying direction M on the inspection target surface C1. Further, D in the figure indicates an inspection area on the inspection target surface C1. Further, the sheet C has a flexible property like paper, for example.

【００９０】凹凸パターン検査装置９１０は、検査対象
物であるシートＣの被検査面Ｃ１上において１００〜３
００μｍピッチの縦縞からなる凹凸パターンＰの有無を
検査するものである。なお、被検査面Ｃ１に設けられる
凹凸パターンＰは、凸部分Ｔが縦横に直交するパターン
で、地部分Ｕは淡色系、例えば白色で、凸部分Ｔが濃色
系、例えば黒色の色、形状を持つものである。なお、本
発明はこれに限定されるものではなく、地部分Ｕに濃色
系の模様が入ったり、凸部分Ｔが淡色系であっても、凹
凸の検出は可能である。The uneven pattern inspection apparatus 910 is used to inspect the sheet C to be inspected on the inspection surface C1 of the sheet C by 100 to 3
This is to inspect the presence or absence of a concave / convex pattern P composed of vertical stripes having a pitch of 00 μm. The uneven pattern P provided on the inspected surface C1 is a pattern in which the convex portions T are vertically and horizontally orthogonal, the ground portion U is of a light color type, for example, white, and the convex portion T is of a dark color type, for example, black. With Note that the present invention is not limited to this, and it is possible to detect unevenness even if a dark color pattern is present in the ground portion U or the convex portion T is light color.

【００９１】凹凸パターン検査装置９１０は、被検査面
Ｃ１に対して逆搬送方向Ｍ′及び直交方向Ｎから照明光
Ｒ１，Ｂ１を所定の入射角（例えば６０〜６５°）で照
射する照明部９２０と、被検査面Ｃ１からの画像を撮像
する撮像部９３０と、この撮像部９３０で撮像された画
像を処理し、凹凸パターンＰの有無を判断する画像処理
部９４０と、シートＣを所定の搬送方向に搬送する搬送
機構９５０と、これら各部を連携動作させる制御部９６
０とを備えている。The unevenness pattern inspection device 910 illuminates the inspection surface C1 with illumination light R1, B1 at a predetermined incident angle (for example, 60 to 65 °) from the reverse transport direction M ′ and the orthogonal direction N. An imaging unit 930 that captures an image from the surface to be inspected C1, an image processing unit 940 that processes the image captured by the imaging unit 930, and determines the presence or absence of the uneven pattern P; Transport mechanism 950 for transporting in the direction, and a control unit 96 for operating these components in cooperation with each other.
0.

【００９２】図１２の（ａ）に示すように、照明部９２
０は、一対の照明装置９２１，９２２を備えている。照
明装置９２１は、被検査面Ｃ１に対して逆搬送方向Ｍ′
側から斜め照明する白色の光源９２１ａと、赤色のフィ
ルタ９２１ｂとを備えている。また、照明装置９２２
は、直交方向Ｎ側から斜め照明する白色の光源９２２ａ
と、青色のフィルタ９２２ｂとを備えている。すなわ
ち、被検査面Ｃ１上では図１２の（ｂ）に示すように赤
色光Ｒ１，青色光Ｂ１が照射されることになる。なお、
光源９２１ａ，９２２ａを白色ではなく、それぞれ赤色
及び青色の光源とすることで、フィルタ９２１ｂ，９２
２ｂを省略してもよい。As shown in FIG. 12A, the illumination unit 92
0 includes a pair of lighting devices 921 and 922. The illuminating device 921 moves in the reverse transport direction M '
A white light source 921a illuminating obliquely from the side and a red filter 921b are provided. In addition, the lighting device 922
Is a white light source 922a that illuminates obliquely from the orthogonal direction N side.
And a blue filter 922b. That is, as shown in FIG. 12B, red light R1 and blue light B1 are irradiated on the inspection surface C1. In addition,
By setting the light sources 921a and 922a to light sources of red and blue instead of white, respectively, the filters 921b and 922a can be used.
2b may be omitted.

【００９３】撮像部９３０は、図１３の（ａ）に示すよ
うに、その走査方向が直交方向Ｎに設定されたＣＣＤラ
インセンサ（撮像素子）９３１を備えている。なお、シ
ートＣを搬送機構９５０により搬送方向Ｍに搬送し、か
つ、ＣＣＤラインセンサ９３１により繰り返し直交方向
Ｎにおける走査を行うことにより、二次元の画像を得る
ことができる。また、ＣＣＤラインセンサ９３１は、赤
色に反応する画素９３１ａ及び青色に反応する画素９３
１ｂの２種類が交互に並べられて形成されている。As shown in FIG. 13A, the image pickup section 930 includes a CCD line sensor (image pickup element) 931 whose scanning direction is set to the orthogonal direction N. Note that a two-dimensional image can be obtained by transporting the sheet C in the transport direction M by the transport mechanism 950 and repeatedly performing scanning in the orthogonal direction N by the CCD line sensor 931. The CCD line sensor 931 includes a pixel 931a that responds to red and a pixel 931 that responds to blue.
1b are alternately arranged.

【００９４】画像処理部９４０は、ＣＣＤラインセンサ
９３１により得られた二次元の画像を処理し、被検査面
Ｃ１上の凹凸パターンＰの有無及び形状を判断し、予め
記憶された凹凸パターンＰの形状と比較し、その良否を
判別する機能を有している。The image processing section 940 processes the two-dimensional image obtained by the CCD line sensor 931 to determine the presence / absence and the shape of the concave / convex pattern P on the surface C1 to be inspected. It has a function of comparing with the shape and judging the quality.

【００９５】搬送機構９５０は、図１４の（ａ）に示す
ように、シートＣを供給する供給部（不図示）とシート
Ｃを排出する排出部（不図示）との間に配置されたドラ
ム９５１を備えている。シートＣはドラム９５１に円弧
状に巻き付くように供給されることで、シートＣが屈曲
されて搬送される。また、シートＣが屈曲する位置が検
査領域Ｄとなるように設定されている。これにより、照
明部９２０と被検査面Ｃ１とが一定の角度θを有した場
合であっても照明部９２０とシートＣとが干渉すること
はない。As shown in FIG. 14A, the transport mechanism 950 includes a drum disposed between a supply section (not shown) for supplying the sheet C and a discharge section (not shown) for discharging the sheet C. 951. The sheet C is supplied to be wound around the drum 951 in an arc shape, so that the sheet C is bent and conveyed. The position where the sheet C is bent is set to be the inspection area D. Accordingly, even when the illumination unit 920 and the inspection surface C1 have a certain angle θ, the illumination unit 920 does not interfere with the sheet C.

【００９６】このように構成された凹凸パターン検査装
置９１０による検査方法について説明する。すなわち、
搬送機構９５０により、シートＣが検査領域Ｄまで搬送
される。検査領域Ｄに到達したシートＣは、ドラム９５
１により上に凸に屈曲される。照明装置９２１及び照明
装置９２２によりシートＣの被検査面Ｃ１にそれぞれ赤
色光Ｒ１、青色光Ｂ１がそれぞれ入射角θで照射され
る。An inspection method using the concavo-convex pattern inspection apparatus 910 configured as described above will be described. That is,
The sheet C is transported to the inspection area D by the transport mechanism 950. The sheet C that has reached the inspection area D is
1 is bent upwardly. The illumination device 921 and the illumination device 922 irradiate the inspected surface C1 of the sheet C with the red light R1 and the blue light B1, respectively, at the incident angle θ.

【００９７】図１５〜図１７は、凹凸パターン検査装置
９１０の検査原理を示す説明図である。すなわち、照明
装置２１からは赤色光Ｒ１、照明装置９２２からは青色
光Ｂ１が照射されることにより、シートＣの検査領域Ｄ
上では、凸部Ｔの照射方向の反対側に影が生ずる。すな
わち、赤色光Ｒ１に対しては、直交方向Ｎに沿って形成
された部位に対応した影Ｓ１が、青色光Ｂ１に対して
は、搬送方向Ｍに沿って形成された部位に対応した影Ｓ
２がそれぞれ地部分Ｕに生じる。このとき影Ｓ１，Ｓ２
の長さは、照射する赤色光Ｒ１、青色光Ｂ１の入射角θ
と、凸部Ｔの高さＨｔによって決定される。FIGS. 15 to 17 are explanatory diagrams showing the inspection principle of the uneven pattern inspection apparatus 910. FIG. That is, the illumination device 21 emits red light R1 and the illumination device 922 emits blue light B1.
Above, a shadow is generated on the opposite side of the projection T from the irradiation direction. That is, the shadow S1 corresponding to the portion formed along the orthogonal direction N for the red light R1, and the shadow S1 corresponding to the portion formed along the transport direction M for the blue light B1.
2 respectively occur in the ground part U. At this time, shadows S1 and S2
Is the incident angle θ of the irradiated red light R1 and blue light B1.
And the height Ht of the convex portion T.

【００９８】一方、撮像部９３０においては検査領域Ｄ
を上方から撮像することにより、２種類の画像が得られ
る。第１の画像は、図１６の（ａ）に示すように、赤色
に感度を持つ画素による画像、すなわち凹凸パターンＰ
の凸部Ｔ及びその影Ｓ１が暗く、その他の部分が明るい
画像である。第２の画像は、図１６の（ｂ）に示すよう
に、青色に感度を持つ画素による画像、すなわち凹凸パ
ターンＰの凸部Ｔ及びその影Ｓ２が暗く、その他の部分
が明るい画像が得られる。これらの２種類の画像は画像
処理部９４０に送られる。On the other hand, in the imaging section 930, the inspection area D
Are captured from above, two types of images are obtained. As shown in FIG. 16A, the first image is an image formed by pixels having a sensitivity to red, that is, an uneven pattern P
Is a dark image, and the other portions are bright images. As shown in FIG. 16B, the second image is an image formed by pixels having sensitivity to blue, that is, an image in which the convex portion T of the uneven pattern P and its shadow S2 are dark and the other portions are bright. . These two types of images are sent to the image processing unit 940.

【００９９】画像処理部９４０では、これら第１及び第
２の画像に基づいて画像処理を行い、差分の画像を得
る。差分の画像は、図１６の（ｃ）に示すように、凹凸
パターンＰの凸部Ｔの濃色部分は相殺され、凹凸パター
ンＰの影Ｓ１，Ｓ２のみの画像が得られることになる。
したがって、影Ｓ１，Ｓ２の有無と長さを求めることに
より、凸部Ｔの有無と高さＨｔを求めることが可能とな
る。The image processing section 940 performs image processing based on the first and second images to obtain a difference image. In the difference image, as shown in FIG. 16C, the dark portion of the convex portion T of the concave-convex pattern P is canceled, and an image of only the shadows S1 and S2 of the concave-convex pattern P is obtained.
Therefore, by determining the presence and the length of the shadows S1 and S2, it is possible to determine the presence and the height Ht of the projection T.

【０１００】このように凹凸パターン検査装置９１０で
は、図１７の（ａ）に示すように、凹凸パターンＰが直
交方向Ｎに延びている場合には、逆搬送方向Ｍ′からの
赤色光による検査領域Ｄの反射画像において図１７の
（ｂ）に示すように影Ｓが生じ、直交方向Ｎからの青色
光による検査領域Ｄの反射画像においては図１７の
（ｃ）に示すように影が生じない。このため、図１７の
（ｄ）に示すように、これら反射画像の差分を取った画
像においては影Ｓのみを抽出することができることとな
り、凹凸パターンＰの検出が可能となる。As described above, in the concavo-convex pattern inspection apparatus 910, as shown in FIG. 17A, when the concavo-convex pattern P extends in the orthogonal direction N, the inspection using the red light from the reverse transport direction M '. In the reflection image of the area D, a shadow S is generated as shown in FIG. 17B, and in the reflection image of the inspection area D due to the blue light from the orthogonal direction N, a shadow is generated as shown in FIG. Absent. For this reason, as shown in FIG. 17D, only the shadow S can be extracted from the image obtained by taking the difference between the reflection images, and the uneven pattern P can be detected.

【０１０１】一方、図１８の（ａ）に示すように、凹凸
パターンＰが搬送方向Ｍに延びている場合には、逆搬送
方向Ｍ′からの赤色光による検査領域Ｄの反射画像にお
いては図１８の（ｂ）に示すように影Ｓが生じず、直交
方向Ｎからの青色光による検査領域Ｄの反射画像におい
ては図１８の（ｃ）に示すように影Ｓ′が生じる。この
ため、図１８の（ｄ）に示すように、これら反射画像の
差分を取った画像においては影Ｓ′のみを抽出すること
ができることとなり、凹凸パターンＰの検出が可能とな
る。On the other hand, when the concavo-convex pattern P extends in the transport direction M, as shown in FIG. 18A, the reflected image of the inspection area D by the red light from the reverse transport direction M 'is not shown. The shadow S does not occur as shown in FIG. 18B, and a shadow S ′ occurs in the reflection image of the inspection area D due to the blue light from the orthogonal direction N as shown in FIG. Therefore, as shown in FIG. 18D, only the shadow S 'can be extracted from the image obtained by taking the difference between the reflection images, and the uneven pattern P can be detected.

【０１０２】すなわち、凹凸パターン検出装置９１０に
よれば、凹凸パターンＰの凸部Ｔの延びる方向がどちら
であっても凹凸パターンＰの有無及び高さの検出が可能
となる。That is, according to the concave / convex pattern detecting device 910, the presence / absence and height of the concave / convex pattern P can be detected regardless of the direction in which the convex portion T of the concave / convex pattern P extends.

【０１０３】上述したように本第５の実施の形態に係る
凹凸パターン検査装置９１０によれば、簡単な構成で凹
凸パターンＰの形状に関わらずその検出が可能である。
また、シートＣを検査領域Ｄの位置で屈曲させているの
で、照明装置９２１，９２２からの照明光の検査領域Ｄ
への入射角を十分に大きくとることができるとともに、
シートＣを安定して搬送できるので、より精度の高い検
出が可能となる。As described above, according to the uneven pattern inspection apparatus 910 according to the fifth embodiment, it is possible to detect the uneven pattern P regardless of the shape of the uneven pattern P with a simple configuration.
Further, since the sheet C is bent at the position of the inspection area D, the inspection area D of the illumination light from the illumination devices 921 and 922 is used.
Angle of incidence to
Since the sheet C can be stably conveyed, more accurate detection becomes possible.

【０１０４】図１３の（ｂ）は、上述した第５の実施の
形態に係る凹凸パターン検出装置１０に組み込まれた撮
像部９３０の第１の変形例を示す図である。すなわち、
画素が一列に設けられているＣＣＤラインセンサ９３１
の代わりに、画素が二列に設けられたＣＣＤラインセン
サ９３２を用いても良い。ＣＣＤラインセンサ９３２
は、赤色に対応する画素が所定のピッチｐで配置された
画素列９３２ａと、青色に対応する画素が所定のピッチ
ｐで配置された画素列９３２ｂが形成されている。この
場合、各画素のピッチｐを小さくすることができるの
で、ＣＣＤラインセンサ９３１を用いた場合に比べ、よ
り高精度の検査を行うことが可能である。FIG. 13B is a diagram showing a first modification of the image pickup section 930 incorporated in the uneven pattern detection device 10 according to the fifth embodiment described above. That is,
CCD line sensor 931 in which pixels are provided in a line
Instead, a CCD line sensor 932 in which pixels are provided in two rows may be used. CCD line sensor 932
In the figure, a pixel column 932a in which pixels corresponding to red are arranged at a predetermined pitch p and a pixel column 932b in which pixels corresponding to blue are arranged at a predetermined pitch p are formed. In this case, since the pitch p of each pixel can be reduced, a more accurate inspection can be performed as compared with the case where the CCD line sensor 931 is used.

【０１０５】なお、ＣＣＤラインセンサ９３２において
は、同一の検査領域Ｄを撮像するためには、画素列９３
２ａ，９３２ｂ間の間隔ｄを補正する必要がある。そこ
で、シートＣの搬送速度をＶとした場合、時間δだけ画
像の取り込みを遅らせることで、同一の検査領域Ｄを撮
像することが可能となる。In the CCD line sensor 932, in order to image the same inspection area D, the pixel line 93
It is necessary to correct the distance d between 2a and 932b. Therefore, when the conveyance speed of the sheet C is V, the same inspection area D can be imaged by delaying the image capturing by the time δ.

【０１０６】この他、ＣＣＤラインセンサではなく、例
えばＣＣＤエリアイメージセンサを用いるようにしても
よい。この場合、検査領域Ｄを一度に撮像することによ
り、画像を取得することが可能である。In addition, instead of the CCD line sensor, for example, a CCD area image sensor may be used. In this case, an image can be obtained by imaging the inspection area D at one time.

【０１０７】図１４の（ｂ）は、上述した第５の実施の
形態に係る凹凸パターン検査装置１０に組み込まれた搬
送機構９５０の変形例に係る搬送機構９５２を示す図で
ある。搬送機構９５２は、ベルト搬送路９５２ａとロー
ラ９５２ｂとによってシートＣを屈曲させるようにして
もよい。FIG. 14B is a view showing a transport mechanism 952 according to a modification of the transport mechanism 950 incorporated in the uneven pattern inspection apparatus 10 according to the fifth embodiment. The transport mechanism 952 may cause the sheet C to be bent by the belt transport path 952a and the roller 952b.

【０１０８】（第６の実施の形態）図１９及び図２０
は、図１１に示した本発明の第６の実施の形態に係る凹
凸パターン検査装置９１０Ａの検査原理を示す説明図で
ある。本凹凸パターン検査装置９１０Ａでは撮像部９３
０の代わりに撮像部９８０を用いている。すなわち、撮
像部９３０では、色を識別できるＣＣＤラインセンサ及
びＣＣＤエリアイメージセンサを用いているが、撮像部
９８０では、カラーフィルタ９８１，９８２及びモノク
ロセンサを用いている。(Sixth Embodiment) FIGS. 19 and 20
FIG. 12 is an explanatory diagram showing the inspection principle of the uneven pattern inspection device 910A according to the sixth embodiment of the present invention shown in FIG. In the present concavo-convex pattern inspection device 910A, the imaging unit 93 is provided.
The imaging unit 980 is used instead of 0. That is, the imaging unit 930 uses a CCD line sensor and a CCD area image sensor that can identify colors, while the imaging unit 980 uses color filters 981 and 982 and a monochrome sensor.

【０１０９】図１９の（ａ）に示すようなカラーフィル
タ９８１は、赤色（Ｒ）及び青色（Ｂ）の小フィルタ９
８１ａ，９８１ｂが直交方向Ｎに沿って交互に配置され
ている。このようなカラーフィルタ９８１を用いた場合
には、赤色光Ｒ１による検査領域Ｄの反射画像は小フィ
ルタ９８１ａを透過して、凸部Ｔ及び影Ｓ３を形成す
る。一方、青色光Ｂ１による検査領域Ｄの反射画像は小
フィルタ９８１ｂを透過して、凸部Ｔ及び影Ｓ４を形成
する。すなわち、凸部Ｔがいずれの画面でもモノクロセ
ンサにより検出できるのに対し、影については小フィル
タ９８１ａ，９８１ｂ毎に照射光の方向によって、検出
されたり、検出されなかったりすることになる。The color filter 981 as shown in FIG. 19A is a small filter 9 for red (R) and blue (B).
81a and 981b are alternately arranged along the orthogonal direction N. When such a color filter 981 is used, a reflection image of the inspection area D by the red light R1 passes through the small filter 981a to form a convex portion T and a shadow S3. On the other hand, the reflection image of the inspection area D by the blue light B1 is transmitted through the small filter 981b to form the convex portion T and the shadow S4. That is, while the projection T can be detected by the monochrome sensor on any screen, the shadow is detected or not detected depending on the direction of the irradiation light for each of the small filters 981a and 981b.

【０１１０】これら２つの画像の差分をとることによ
り、図１９の（ｂ）に示すような画像が形成される。こ
れにより、凹凸パターンＰを検出することができる。な
お、小フィルタ９８１ａ，９８１ｂの大きさはモノクロ
センサの画素と１対１で対応する必要は無く、複数の画
素が１つの小フィルタに対応するようにしてもよい。By calculating the difference between these two images, an image as shown in FIG. 19B is formed. Thereby, the concavo-convex pattern P can be detected. Note that the sizes of the small filters 981a and 981b do not need to correspond one-to-one with the pixels of the monochrome sensor, and a plurality of pixels may correspond to one small filter.

【０１１１】図２０の（ａ）に示すようなカラーフィル
タ９８２は、赤色（Ｒ）及び青色（Ｂ）の小フィルタ９
８２ａ，９８２ｂが直交方向Ｎ及び搬送方向Ｍに沿って
桝目状に、かつ、交互に配置されている。このようなカ
ラーフィルタ９８２を用いた場合には、赤色光Ｒ１によ
る検査領域Ｄの反射画像は小フィルタ９８２ａを透過し
て、凸部Ｔ及び影Ｓ５を形成する。一方、青色光Ｂ１に
よる検査領域Ｄの反射画像は小フィルタ９８１ｂを透過
して、凸部Ｔ及び影Ｓ６を形成する。すなわち、凸部Ｔ
がいずれの画面でもモノクロセンサにより検出できるの
に対し、影については小フィルタ９８２ａ，９８２ｂ毎
に照射光の方向によって、検出されたり、検出されなか
ったりすることになる。A color filter 982 as shown in FIG. 20A is a small filter 9 for red (R) and blue (B).
82a and 982b are arranged in a grid along the orthogonal direction N and the transport direction M and alternately. When such a color filter 982 is used, the reflection image of the inspection area D by the red light R1 passes through the small filter 982a to form the convex portion T and the shadow S5. On the other hand, the reflection image of the inspection area D by the blue light B1 is transmitted through the small filter 981b to form the convex portion T and the shadow S6. That is, the convex portion T
Can be detected by the monochrome sensor on any of the screens, whereas the shadow is detected or not detected depending on the direction of the irradiation light for each of the small filters 982a and 982b.

【０１１２】これら２つの画像の差分をとることによ
り、図２０の（ｂ）に示すような画像が形成される。こ
れにより、凹凸パターンＰを検出することができる。By calculating the difference between these two images, an image as shown in FIG. 20B is formed. Thereby, the concavo-convex pattern P can be detected.

【０１１３】（第７の実施の形態）図２１の（ａ）は本
発明の第７の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置９
１０Ａの要部構成を示す図である。図２１において上述
した図１１，１２と同一機能部分には同一符号を付し、
その詳細な説明は省略する。(Seventh Embodiment) FIG. 21A shows a concavo-convex pattern inspection apparatus 9 according to a seventh embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the principal part structure of 10A. In FIG. 21, the same functional portions as those in FIGS.
Detailed description is omitted.

【０１１４】凹凸パターン検査装置９１０Ａは、上述し
た凹凸パターン検査装置９１０の照明部９２０の代わり
に照明部９２０Ａ、撮像部９３０の代わりに撮像部９３
０Ａ、画像処理部９４０の代わりに画像処理部９４０Ａ
を備えている。The uneven pattern inspecting device 910A includes an illuminating section 920A instead of the illuminating section 920 of the uneven pattern inspecting apparatus 910, and an image pickup section 93 instead of the image pickup section 930.
0A, image processing unit 940A instead of image processing unit 940
It has.

【０１１５】照明部９２０Ａは、照明装置９２１，９２
２に加え、照明装置９２３が設けられている。照明装置
９２３は、被検査面Ｃ１に対して搬送方向Ｍ側から斜め
照明する白色の光源９２３ａと、緑色のフィルタ９２３
ｂとを備えている。The lighting unit 920A includes lighting devices 921 and 92
In addition to 2, a lighting device 923 is provided. The illumination device 923 includes a white light source 923a for obliquely illuminating the inspection surface C1 from the transport direction M side,
b.

【０１１６】撮像部９３０Ａは、ＣＣＤラインセンサ
は、赤色に反応する画素、青色に反応する画素、緑色に
反応する画素の３種類が直交方向Ｎに沿って交互に並べ
られている。In the image pickup section 930A, the CCD line sensor has three types of pixels that respond to red, pixels that respond to blue, and pixels that respond to green are alternately arranged in the orthogonal direction N.

【０１１７】画像処理部９４０Ａでは、図２１の（ｂ）
に示すような論理回路にて色分離された画像信号が全て
の画像の差分が得られるように処理される。In the image processing section 940A, (b) of FIG.
The image signal color-separated by the logic circuit shown in FIG. 7 is processed so as to obtain a difference between all the images.

【０１１８】このように構成された凹凸パターン検査装
置９１０Ａによる検査方法について説明する。ここでは
図２２の（ａ）に示すような搬送方向Ｍ及び直交方向Ｎ
の両方向に対し４５°ずつずれた方向に延びる凸部Ｔが
形成されている。すなわち、搬送機構により、シートＣ
が検査領域Ｄまで搬送される。検査領域Ｄでは、照明装
置９２１〜９２３によりシートＣの被検査面Ｃ１にそれ
ぞれ赤色光Ｒ１、青色光Ｂ１、緑色光Ｇ１が照射され
る。An inspection method using the uneven pattern inspection apparatus 910A configured as described above will be described. Here, the transport direction M and the orthogonal direction N as shown in FIG.
Are formed to extend in directions shifted by 45 ° with respect to both directions. That is, the sheet C
Is transported to the inspection area D. In the inspection region D, the illumination devices 921 to 923 irradiate the inspection target surface C1 of the sheet C with red light R1, blue light B1, and green light G1, respectively.

【０１１９】一方、撮像部９３０Ａにおいては３種類の
画像が得られる。１つ目の画像は、図２２の（ｂ）に示
すように、赤色に感度を持つ画素による画像、すなわち
凹凸パターンＰの凸部Ｔ及びその影Ｓ１０が得られる。
２つ目の画像は、図２２の（ｃ）に示すように、青色に
感度を持つ画素による画像、すなわち凹凸パターンＰの
凸部Ｔ及びその影Ｓ１１が得られる。３つ目の画像は、
図２２の（ｄ）に示すように、緑色に感度を持つ画素に
よる画像、すなわち凹凸パターンＰの凸部Ｔ及びその影
Ｓ１２が得られる。これらの３種類の画像の差分の画像
を画像処理部９４０Ａにて画像処理することにより、図
２２の（ｅ）に示す画像、すなわち凸部Ｔは相殺され、
影Ｓ１３のみの画像が得られることになる。したがっ
て、その有無と長さを求めることにより、凸部Ｔの有無
と高さを求めることが可能となる。On the other hand, three types of images are obtained in the imaging section 930A. In the first image, as shown in FIG. 22B, an image of pixels having sensitivity to red, that is, a convex portion T of the concavo-convex pattern P and a shadow S10 thereof are obtained.
In the second image, as shown in FIG. 22C, an image of pixels having sensitivity to blue, that is, a convex portion T of the concavo-convex pattern P and a shadow S11 thereof are obtained. The third image is
As shown in (d) of FIG. 22, an image by pixels having green sensitivity, that is, a convex portion T of the concavo-convex pattern P and its shadow S12 are obtained. By performing image processing on the difference image of these three types of images in the image processing unit 940A, the image shown in FIG.
An image of only the shadow S13 is obtained. Therefore, by determining the presence / absence and length, it is possible to determine the presence / absence and height of the projection T.

【０１２０】上述したように、第７の実施の形態に係る
凹凸パターン検査装置９１０Ａによれば、第５の実施の
形態に係る凹凸パターン検査装置９１０の２つの照明装
置９２１，９２２を用いた場合に検出できない斜め方向
の凹凸パターンに対しても、効果的に影を抽出すること
ができ、凹凸パターンＰの検出が可能となる。As described above, according to the concavo-convex pattern inspection apparatus 910A according to the seventh embodiment, the two illumination devices 921 and 922 of the concavo-convex pattern inspection apparatus 910 according to the fifth embodiment are used. Shadows can be effectively extracted even from an uneven pattern in an oblique direction that cannot be detected at a time, and the uneven pattern P can be detected.

【０１２１】なお、本発明は上記第５〜第７の各実施の
形態に限定されるものではない。すなわち、上述した実
施の形態の凹凸パターン検出装置ではシートにより屈曲
させていたが、平面の状態であっても検出は可能であ
る。また、シートを屈曲させて搬送する方法は凹凸パタ
ーン検出装置以外の検出・測定方法に適用しても良い。
この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施
可能であるのは勿論である。Note that the present invention is not limited to the above-described fifth to seventh embodiments. That is, in the uneven pattern detection device of the above-described embodiment, the sheet is bent by the sheet, but detection can be performed even in a flat state. Further, the method of bending and conveying the sheet may be applied to a detection / measurement method other than the uneven pattern detection device.
In addition, it goes without saying that various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【０１２２】[0122]

【発明の効果】本発明によれば、低い解像度を有するイ
メージセンサであっても細かく密集した凹凸パターンを
検知することが可能となる。また、検査対象物の凹凸パ
ターンの方向に関わらず検査が可能であり、また、シー
ト状の検査対象物の安定した搬送を行うとともに、照明
の入射角を充分にとることで精度の高い検査を行うこと
ができる。According to the present invention, even an image sensor having a low resolution can detect a fine and dense concavo-convex pattern. In addition, inspection can be performed regardless of the direction of the uneven pattern of the inspection object. In addition to performing stable conveyance of the sheet-like inspection object, high-precision inspection can be performed by sufficiently setting the incident angle of illumination. It can be carried out.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る凹凸パターン
検知装置の概要を示す説明図。FIG. 1 is an explanatory view showing an outline of an uneven pattern detection device according to a first embodiment of the present invention.

【図２】同凹凸パターン検知装置による照射領域を示す
説明図。FIG. 2 is an explanatory view showing an irradiation area by the uneven pattern detection device.

【図３】同凹凸パターン検知装置による検知原理を示す
説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a detection principle by the uneven pattern detection device.

【図４】同凹凸パターン検知装置による検知原理を示す
説明図。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a principle of detection by the uneven pattern detection device.

【図５】同凹凸パターン検知装置による検知原理を示す
説明図。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a principle of detection by the uneven pattern detection device.

【図６】同凹凸パターン検知装置によるモアレ画像の濃
度変化の位相を示す説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a phase of a density change of a moire image by the uneven pattern detection device.

【図７】同凹凸パターン検知装置の変形例を示す説明
図。FIG. 7 is an explanatory view showing a modification of the uneven pattern detection device.

【図８】同凹凸パターン検知装置の別の変形例を示す説
明図。FIG. 8 is an explanatory view showing another modified example of the uneven pattern detecting device.

【図９】本発明の第３の実施の形態に係る凹凸パターン
検知装置の概要を示す説明図。FIG. 9 is an explanatory diagram showing an outline of an uneven pattern detection device according to a third embodiment of the present invention.

【図１０】本発明の第４の実施の形態に係る凹凸パター
ン検知処理装置の概要を示す説明図。FIG. 10 is an explanatory diagram showing an outline of an uneven pattern detection processing device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図１１】本発明の第１の実施の形態に係る凹凸パター
ン検査装置全体の概略構成を示すブロック図。FIG. 11 is a block diagram showing a schematic configuration of the entire concavo-convex pattern inspection apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図１２】同凹凸パターン検査装置の測定方法の概要を
示す説明図。FIG. 12 is an explanatory view showing an outline of a measuring method of the uneven pattern inspection apparatus.

【図１３】同凹凸パターン検査装置に組み込まれたＣＣ
Ｄラインセンサを示す説明図。FIG. 13 shows a CC incorporated in the uneven pattern inspection apparatus.
Explanatory drawing which shows a D line sensor.

【図１４】同凹凸パターン検査装置に組み込まれた搬送
機構の要部を示す説明図。FIG. 14 is an explanatory view showing a main part of a transport mechanism incorporated in the uneven pattern inspection apparatus.

【図１５】同凹凸パターン検査装置による検査原理を示
す説明図。FIG. 15 is an explanatory view showing an inspection principle by the uneven pattern inspection apparatus.

【図１６】同凹凸パターン検査装置による検査原理を示
す説明図。FIG. 16 is an explanatory view showing an inspection principle by the uneven pattern inspection apparatus.

【図１７】同凹凸パターン検査装置による検査原理を示
す説明図。FIG. 17 is an explanatory view showing an inspection principle by the uneven pattern inspection apparatus.

【図１８】同凹凸パターン検査装置による検査原理を示
す説明図。FIG. 18 is an explanatory view showing an inspection principle by the uneven pattern inspection apparatus.

【図１９】本発明の第２の実施の形態に係る凹凸パター
ン検出装置の検出原理を示す説明図。FIG. 19 is an explanatory diagram showing the detection principle of the uneven pattern detection device according to the second embodiment of the present invention.

【図２０】同凹凸パターン検出装置の検出原理を示す説
明図。FIG. 20 is an explanatory diagram showing a detection principle of the uneven pattern detection device.

【図２１】本発明の第３の実施の形態に係る凹凸パター
ン検査装置を示す図であって、（ａ）は概略構成を示す
ブロック図、（ｂ）は検査原理を示す説明図。FIGS. 21A and 21B are diagrams showing an uneven pattern inspection apparatus according to a third embodiment of the present invention, wherein FIG. 21A is a block diagram showing a schematic configuration, and FIG.

【図２２】同凹凸パターン検出装置の検出原理を示す説
明図。FIG. 22 is an explanatory view showing the detection principle of the uneven pattern detection device.

【図２３】従来の段差検知装置の概要を示す説明図。FIG. 23 is an explanatory diagram showing an outline of a conventional step detecting device.

【図２４】同段差検知装置による検知原理を示す説明
図。FIG. 24 is an explanatory view showing the principle of detection by the step detecting device.

【図２５】従来の凹凸パターン検査装置の一例を示す
図。FIG. 25 is a diagram showing an example of a conventional uneven pattern inspection apparatus.

【図２６】同凹凸パターン検査装置の問題点を示す説明
図。FIG. 26 is an explanatory view showing a problem of the uneven pattern inspection apparatus.

【図２７】同凹凸パターン検査装置の別の問題点を示す
説明図。FIG. 27 is an explanatory view showing another problem of the uneven pattern inspection apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１００…凹凸パターン検知装置 ２００…照明部 ３００…マスク部 ４００…撮像部 ５００…画像処理部 ９１０，９１０Ａ…凹凸パターン検査装置 ９２０，９２０Ａ…照明部 ９２１，９２２…照明装置 ９３０，９３０Ａ，９８０…撮像部 ９３１，９３２…ＣＣＤラインセンサ ９４０，９４０Ａ…画像処理部 ９５０…搬送機構 ９６０…制御部 Reference Signs List 100: uneven pattern detecting device 200: illumination unit 300: mask unit 400: imaging unit 500: image processing unit 910, 910A: uneven pattern inspection device 920, 920A: illumination unit 921, 922: illumination device 930, 930A, 980: imaging Units 931, 932: CCD line sensors 940, 940A: Image processing unit 950: Transport mechanism 960: Control unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斎藤 勉 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 株式会社 東芝柳町事業所内 (72)発明者 猪狩 精司 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 株式会社 東芝柳町事業所内 Ｆターム(参考） 2F065 AA07 BB02 BB18 CC00 CC18 DD03 DD06 FF08 GG02 HH04 HH06 JJ02 JJ03 JJ25 JJ26 KK03 LL22 LL46 MM03 QQ00 QQ13 UU01 UU05 2G051 AA51 AA56 AA90 AB20 BA02 BB02 CA03 CB10 CC07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tsutomu Saito 70, Yanagicho, Saiwai-ku, Kawasaki, Kanagawa Prefecture Inside the Toshiba Yanagicho Works Co., Ltd. On-site F-term (reference) 2F065 AA07 BB02 BB18 CC00 CC18 DD03 DD06 FF08 GG02 HH04 HH06 JJ02 JJ03 JJ25 JJ26 KK03 LL22 LL46 MM03 QQ00 QQ13 UU01 UU05 2G051 AA51 AA56 AA02 CB02 BA02 BA02 CB02

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】被検知面上の凹凸パターンの有無を検知す
る凹凸パターン検知装置において、 前記被検知面を複数の照射領域に分割し、隣接する照射
領域に互いに異なる方向から照射光を照射する照明手段
と、 前記照射領域を所定のパターンを有するマスクと重ね合
せて撮像する撮像手段と、 この撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を
検出し、前記隣接する照射領域におけるモアレ画像の濃
度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有
無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴と
する凹凸パターン検知装置。1. An uneven pattern detecting device for detecting the presence or absence of an uneven pattern on a surface to be detected, wherein the surface to be detected is divided into a plurality of irradiation regions, and adjacent irradiation regions are irradiated with irradiation light from different directions. An illuminating unit; an imaging unit configured to capture an image by superimposing the irradiation area on a mask having a predetermined pattern; detecting a density change of a moiré image obtained by the imaging unit; and detecting a density change of the moiré image in the adjacent irradiation area. And an image processing means for judging the presence or absence of the uneven pattern by detecting the phase difference of the uneven pattern. 【請求項２】前記凹凸パターンは一定のピッチを有し、 前記マスクのパターンは一定のピッチを有するととも
に、そのピッチが前記凹凸パターンのピッチの０．７５
倍以上１．２５倍以下に設定されていることを特徴とす
る請求項１記載の凹凸パターン検知装置。2. The uneven pattern has a fixed pitch, the mask pattern has a fixed pitch, and the pitch is 0.75 of the pitch of the uneven pattern.
2. The uneven pattern detecting device according to claim 1, wherein the value is set to be not less than twice and not more than 1.25 times. 【請求項３】被検知面上の凹凸パターンの有無を検知す
る凹凸パターン検知装置において、 前記被検知面を複数の照射領域に分割し、隣接する照射
領域に互いに異なる方向から照射光を照射する照明手段
と、 前記照射領域を所定の画素ピッチを有する複数の画素に
より撮像する撮像手段と、 この撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を
検出し、前記隣接する照射領域におけるモアレ画像の濃
度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有
無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴と
する凹凸パターン検知装置。3. An uneven pattern detecting device for detecting the presence or absence of an uneven pattern on a surface to be detected, wherein the surface to be detected is divided into a plurality of irradiation areas, and adjacent irradiation areas are irradiated with irradiation light from different directions. Illuminating means; imaging means for imaging the irradiation area with a plurality of pixels having a predetermined pixel pitch; detecting a density change of a moire image obtained by the imaging means; And an image processing means for judging the presence or absence of the uneven pattern by detecting the phase difference of the uneven pattern. 【請求項４】前記凹凸パターンは所定方向について一定
のピッチを有し、 前記画素ピッチは前記所定方向について前記凹凸パター
ンのピッチの０．３７５倍以上０．６２５倍以下である
ことを特徴とする請求項３記載の凹凸パターン検知装
置。4. The uneven pattern has a constant pitch in a predetermined direction, and the pixel pitch is 0.375 to 0.625 times the pitch of the uneven pattern in the predetermined direction. The uneven pattern detecting device according to claim 3. 【請求項５】被検体の被検知面に設けられた凹凸パター
ンの有無を検知する凹凸パターン検知装置において、 撮像領域を複数の照射領域に分割し、隣接する照射領域
に互いに異なる方向から照射光を照射する照明手段と、 所定の搬送方向に搬送される前記被検体の前記被検知面
に対して、前記搬送方向と交差するライン状の撮像領域
の画像を所定の解像度で順次入力する撮像手段と、 前記撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を
検出し、前記隣接する照射領域におけるモアレ画像の濃
度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有
無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴と
する凹凸パターン検知装置。5. An uneven pattern detecting device for detecting the presence or absence of an uneven pattern provided on a surface to be detected of a subject, wherein an imaging region is divided into a plurality of irradiation regions, and irradiation light is irradiated onto adjacent irradiation regions from different directions. Illuminating means for irradiating the object; and imaging means for sequentially inputting, at a predetermined resolution, an image of a linear imaging area intersecting the conveyance direction with respect to the detection surface of the subject conveyed in a predetermined conveyance direction. And image processing means for detecting a density change of a moiré image obtained by the imaging means, and detecting the presence or absence of the concavo-convex pattern by detecting a phase difference of the density change of the moiré image in the adjacent irradiation area. An uneven pattern detection device, characterized in that: 【請求項６】前記凹凸パターンは所定方向について一定
のピッチを有し、 前記解像度は前記所定方向について前記凹凸パターンの
ピッチの０．３７５倍以上０．６２５倍以下であること
を特徴とする請求項５記載の凹凸パターン検知装置。6. The uneven pattern has a constant pitch in a predetermined direction, and the resolution is 0.375 to 0.625 times the pitch of the uneven pattern in the predetermined direction. Item 6. The uneven pattern detecting device according to Item 5. 【請求項７】被検体の被検知面に設けられた凹凸パター
ンの有無を検知することが可能な凹凸パターン検知処理
装置において、 撮像領域を複数の照射領域に分割し、隣接する照射領域
に互いに異なる方向から照射光を照射する照明手段と、 所定の搬送方向に搬送される前記被検体の被検知面に対
して、前記搬送方向と交差するライン状の撮像領域の画
像をモアレを発生させる解像度で順次入力する撮像手段
と、 前記撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を
検出し、前記隣接する照射領域におけるモアレ画像の濃
度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有
無を判断する画像処理手段と、 この画像処理手段による前記凹凸パターンの有無情報に
基づいて前記被検体を処理する被検体処理手段とを備え
ていることを特徴とする凹凸パターン検知処理装置。7. An uneven pattern detection processing device capable of detecting the presence or absence of an uneven pattern provided on a surface to be detected of a subject, wherein the imaging region is divided into a plurality of irradiation regions, and adjacent irradiation regions are separated from each other. Illuminating means for irradiating irradiation light from different directions, and a resolution for generating a moiré image of a line-shaped imaging region intersecting the transport direction with respect to a detection surface of the subject transported in a predetermined transport direction. And an image pickup means for sequentially inputting, and detecting presence or absence of the concavo-convex pattern by detecting a density change of a moire image obtained by the image pickup means and detecting a phase difference of the density change of the moire image in the adjacent irradiation area. Image processing means, and subject processing means for processing the subject based on the presence / absence information of the concavo-convex pattern by the image processing means. Pattern detection processing device. 【請求項８】検査対象物の被検査面上の凹凸パターンを
検査する凹凸パターン検査装置において、 前記被検査面に異なる方向からそれぞれ異なる特性の所
定数の照明光を照射する照明手段と、 撮像素子と、この撮像素子に入射する前記反射光の入射
光路上に配置され、前記反射光を小領域に分割し、前記
照明手段の発光波長に対応するとともに、隣接する小領
域がそれぞれ異なる発光波長を透過するフィルタを備
え、前記被検査面からの反射光を色分離して所定数の画
像をそれぞれ取得する色分離画像取得手段と、 前記色分離画像取得手段より得られる所定数の画像間の
差分画像に基づき前記凹凸パターンの有無または高さを
判断する画像処理手段とを備えていることを特徴とする
凹凸パターン検査装置。8. An uneven pattern inspection apparatus for inspecting an uneven pattern on an inspected surface of an inspection object, comprising: illuminating means for irradiating the inspected surface with a predetermined number of illumination lights having different characteristics from different directions; Element, and arranged on an incident optical path of the reflected light incident on the image sensor, divides the reflected light into small areas, and corresponds to the emission wavelength of the illumination means, and adjacent small areas have different emission wavelengths. A color-separated image obtaining means for obtaining a predetermined number of images by color-separating the reflected light from the surface to be inspected, and a predetermined number of images obtained by the color-separated image obtaining means. An uneven pattern inspection apparatus, comprising: image processing means for determining the presence or absence or height of the uneven pattern based on a difference image. 【請求項９】前記検査対象物を所定の搬送方向に搬送す
る搬送手段をさらに具備し、 前記色分離画像取得手段は、前記搬送方向に交差する走
査方向に沿って画素がライン状に配置された一次元撮像
素子を具備することを特徴とする請求項８記載の凹凸パ
ターン検査装置。9. The image forming apparatus according to claim 1, further comprising a transport unit configured to transport the inspection object in a predetermined transport direction, wherein the color separation image acquiring unit includes pixels arranged in a line along a scanning direction that intersects the transport direction. The uneven pattern inspection apparatus according to claim 8, further comprising a one-dimensional imaging device. 【請求項１０】検査対象物の被検査面上の凹凸パターン
を検査する凹凸パターン検査装置において、 前記被検査面に異なる方向からそれぞれ異なる特性の所
定数の照明光を照射する照明手段と、 入射した前記反射光を、前記照明手段の発光特性に対応
した波長にそれぞれ分離して取り込む撮像素子を備え、
前記被検査面からの反射光を色分離して所定数の画像を
それぞれ取得する色分離画像取得手段と、 前記色分離画像取得手段より得られる所定数の画像間の
差分画像に基づき前記凹凸パターンの有無または高さを
判断する画像処理手段とを備えていることを特徴とする
凹凸パターン検出装置。10. An uneven pattern inspection apparatus for inspecting an uneven pattern on a surface to be inspected of an inspection object, comprising: illuminating means for irradiating the inspected surface with a predetermined number of illumination lights having different characteristics from different directions; The reflected light is provided with an image sensor that separately captures wavelengths corresponding to the light emission characteristics of the illumination means,
A color-separated image acquisition unit for color-separating the reflected light from the surface to be inspected to acquire a predetermined number of images, respectively, and the concavo-convex pattern based on a difference image between the predetermined number of images obtained from the color-separated image acquisition unit An image processing means for judging the presence or absence or height of the pattern. 【請求項１１】前記検査対象物を所定の搬送方向に搬送
する搬送手段をさらに具備し、 前記色分離画像取得手段は、前記搬送方向に交差する走
査方向に沿って画素がライン状に配置された一次元撮像
素子を具備することを特徴とする請求項１０記載の凹凸
パターン検査装置。11. The image processing apparatus according to claim 11, further comprising a transport unit configured to transport the inspection object in a predetermined transport direction, wherein the color separation image acquiring unit includes pixels arranged in a line along a scanning direction that intersects the transport direction. The uneven pattern inspection apparatus according to claim 10, further comprising a one-dimensional image sensor. 【請求項１２】前記一次元撮像素子は、前記走査方向に
沿って前記照明光の特性に対応した画素が並んだ前記所
定数の撮像画素列と、 各撮像画素列間の距離に基づく読取位置ずれを補正する
読取位置補正手段を具備することを特徴とする請求項１
１記載の凹凸パターン検査装置。12. The one-dimensional imaging device, wherein the predetermined number of imaging pixel rows in which pixels corresponding to the characteristics of the illumination light are arranged along the scanning direction, and a reading position based on a distance between the imaging pixel rows. 2. The apparatus according to claim 1, further comprising: a reading position correcting unit configured to correct the displacement.
2. The uneven pattern inspection apparatus according to 1. 【請求項１３】前記一次元撮像素子は、前記走査方向に
沿って前記照明光の特性に対応した画素が交互に並んだ
撮像画素列を備え、 前記色分離画像取得手段は、前記撮像画素列より得られ
る電気信号パターンの色配列を、色ごとに分離した電気
信号パターンに整列する色整列手段とを具備することを
特徴とする請求項１１記載の凹凸パターン検査装置。13. The one-dimensional image pickup device includes an image pickup pixel array in which pixels corresponding to the characteristics of the illumination light are alternately arranged along the scanning direction. The uneven pattern inspection apparatus according to claim 11, further comprising: a color alignment unit that aligns a color arrangement of the obtained electric signal pattern with an electric signal pattern separated for each color. 【請求項１４】前記所定数は２であり、前記異なる方向
は、互いに交差する２方向であることを特徴とする請求
項８乃至１３のいずれか記載の凹凸パターン検査装置。14. The uneven pattern inspection apparatus according to claim 8, wherein the predetermined number is two, and the different directions are two directions crossing each other. 【請求項１５】前記所定数は３であり、前記異なる方向
は、互いに対向する２方向と、これら２方向に交差する
１方向であることを特徴とする請求項８乃至１３のいず
れか記載の凹凸パターン検査装置。15. The apparatus according to claim 8, wherein the predetermined number is three, and the different directions are two directions facing each other and one direction intersecting the two directions. Uneven pattern inspection equipment. 【請求項１６】前記画像処理手段によって検査された前
記凹凸パターンの形状に基づいて前記検査対象物の良否
を判別する判別手段をさらに備えていることを特徴とす
る請求項８乃至１５のいずれか記載の凹凸パターン検査
装置。16. The apparatus according to claim 8, further comprising a discriminating means for discriminating the quality of said inspection object based on a shape of said uneven pattern inspected by said image processing means. The uneven pattern inspection apparatus according to the above description. 【請求項１７】前記検査対象物を所定の搬送方向に搬送
する搬送手段をさらに具備し、 前記検査対象物を前記搬送方向に交差する方向の軸回り
で屈曲させて搬送方向を変化させる屈曲手段とを備えて
いることを特徴とする請求項８乃至１６のいずれか記載
の凹凸パターン検査装置。17. A bending means for changing the transport direction by bending the inspected object around an axis in a direction intersecting the transport direction, further comprising transport means for transporting the inspection object in a predetermined transport direction. The uneven pattern inspection apparatus according to any one of claims 8 to 16, further comprising: 【請求項１８】検査対象物の被検査面を検査する検査装
置において、 前記検査対象物をその被検査面に沿った搬送方向に搬送
する搬送手段と、 前記検査対象物を前記搬送方向に交差する方向の軸回り
で屈曲させて搬送方向を変化させる屈曲手段と、 前記被検査面の前記屈曲された位置に照明光を照射する
照明手段と、 前記被検査面の前記屈曲された位置を撮像する撮像手段
とを備えていることを特徴とする検査装置。18. An inspection apparatus for inspecting a surface to be inspected of an inspection object, comprising: transport means for transporting the inspection object in a transportation direction along the inspection surface; and intersecting the inspection object in the transportation direction. Bending means for bending around the axis of the direction to be changed to change the transport direction; illuminating means for irradiating the bent position on the surface to be inspected with illumination light; and imaging the bent position on the surface to be inspected. An inspection apparatus comprising: an imaging unit that performs the inspection.
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