JP2002341402A - Imaging device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は撮像装置に関し、特
にファインダからの逆入射光による影響を防止するため
のアイピースシャッタを有する撮像装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image pickup apparatus, and more particularly, to an image pickup apparatus having an eyepiece shutter for preventing the influence of back incident light from a finder.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、ＣＣＤなどの固体撮像素子を用い
て被写体像の撮像を行うディジタルスチルカメラにおい
ても、これまでの銀塩カメラと同じく一眼レフタイプの
ものが開発されている。2. Description of the Related Art In recent years, a single-lens reflex type digital still camera has been developed as in the case of a conventional silver halide camera, as a digital still camera which captures a subject image using a solid-state image sensor such as a CCD.
【０００３】一眼レフタイプのカメラにおいては、撮影
レンズを介して撮像素子やフィルムなどの受光面に到達
する光束の一部を光学ファインダに導いて、被写体像を
観察するという仕組みであるため、ファインダから入射
する漏洩光（逆入射光）が撮像素子などの受光面に到達
することにより、撮像された画像に有害なフレアーが発
生するという問題があった。In a single-lens reflex camera, a part of a light beam reaching a light receiving surface such as an image sensor or a film via a photographing lens is guided to an optical finder to observe a subject image. There is a problem that harmful flare is generated in a captured image when leaked light (back-incident light) incident from the light reaches a light receiving surface such as an image sensor.
【０００４】この問題を解決するため、従来の一眼レフ
カメラではアイピースシャッタが用いられている。アイ
ピースシャッタは光学ファインダの接眼窓に対して遮光
位置と非遮光位置との間を移動自在に設けられており、
レリーズ操作時にアイピースシャッタを閉じることによ
り、光学ファインダからの逆入射光による影響を防ぐこ
とができる。In order to solve this problem, an eyepiece shutter is used in a conventional single-lens reflex camera. The eyepiece shutter is provided movably between a light shielding position and a non-light shielding position with respect to the eyepiece window of the optical viewfinder,
By closing the eyepiece shutter at the time of the release operation, it is possible to prevent the influence of the backward incident light from the optical finder.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】また、最近では、上述
のような手動式のアイピースシャッタのみならず、電動
式のアイピースシャッタを用いるものも考え始められて
いる。この場合、レリーズ操作に連動してアイピースシ
ャッタを自動的に閉じることにより、効率よく逆入射光
による影響を防ぐことが可能となる。Recently, not only manual eyepiece shutters as described above but also motorized eyepiece shutters have been considered. In this case, by automatically closing the eyepiece shutter in conjunction with the release operation, it is possible to efficiently prevent the influence of the backward incident light.
【０００６】しかしながら、上記のようにレリーズ操作
の度にアイピースシャッタを無条件に閉じるという制御
を採用すると、撮影者はその間被写体像を観察できなく
なり、操作性が低下するという問題が生じる。また、毎
回繰り返されるアイピースシャッタの開閉は目に煩わし
いものである。However, if the control of closing the eyepiece shutter unconditionally every time the release operation is performed as described above, the photographer cannot observe the subject image during that time, causing a problem that the operability is reduced. Further, the opening and closing of the eyepiece shutter that is repeated each time is troublesome to the eyes.
【０００７】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
で、その目的とするところは、ファインダからの逆入射
光が問題となる撮影環境であるか否かに応じて必要な場
合にのみアイピースシャッタを閉じることにより、アイ
ピースシャッタの開閉をなるべく少なくするとともに、
ファインダからの逆入射光による画質低下を効率良く防
止することが可能な撮像装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide an eyepiece only when it is necessary depending on whether or not a shooting environment in which back-incident light from a finder poses a problem. By closing the shutter, opening and closing the eyepiece shutter as much as possible,
It is an object of the present invention to provide an image pickup apparatus capable of efficiently preventing the image quality from being degraded due to reverse incident light from a finder.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
め、本発明の撮像装置は、被写体像を結像するための撮
影レンズと、前記撮影レンズにより結像された被写体像
を受ける受光手段と、前記撮影レンズの光路中に設けら
れ、開口の大きさを可変可能な絞りと、被写体の明るさ
に基づいて前記絞りの開口の大きさを制御する絞り制御
手段と、前記被写体像を観察するためのファインダと、
前記絞りと前記受光手段との間に設けられ、前記撮影レ
ンズを介して入力される被写体像を前記ファインダに導
くための光学部材と、前記ファインダの接眼窓に対して
遮光位置と非遮光位置に移動可能なアイピースシャッタ
と、前記絞りの開口の大きさに基づいて、前記アイピー
スシャッタを前記遮光位置又は前記非遮光位置に設定す
るアイピースシャッタ制御手段とを具備することを特徴
とする。In order to solve the above-mentioned problems, an image pickup apparatus according to the present invention comprises a photographing lens for forming a subject image, and a light receiving means for receiving the subject image formed by the photographing lens. An aperture provided in the optical path of the photographing lens and capable of changing the size of the aperture; aperture control means for controlling the size of the aperture based on the brightness of the subject; and observing the subject image And a finder to
An optical member provided between the aperture and the light receiving means for guiding a subject image input through the photographing lens to the finder; and a light-shielding position and a non-light-shielding position with respect to the eyepiece window of the finder. A movable eyepiece shutter; and an eyepiece shutter control means for setting the eyepiece shutter to the light shielding position or the non-light shielding position based on the size of the aperture of the stop.
【０００９】また、本発明の撮像装置は、被写体像を結
像するための撮影レンズと、前記撮影レンズにより結像
された被写体像を受ける受光手段と、前記撮影レンズの
光路中に設けられ、遮光位置と非遮光位置に移動可能な
メカニカルシャッタと、被写体の明るさに基づいて前記
メカニカルシャッタで決まる露光量を制御する手段と、
前記被写体像を観察するためのファインダと、前記メカ
ニカルシャッタと前記受光手段との間に設けられ、前記
撮影レンズを介して入力される被写体像を前記ファイン
ダに導くための光学部材と、前記ファインダの接眼窓に
対して遮光位置と非遮光位置に移動可能なアイピースシ
ャッタと、前記メカニカルシャッタで決まる露光量に基
づいて、前記アイピースシャッタを前記遮光位置又は前
記非遮光位置に設定するアイピースシャッタ制御手段と
を具備することを特徴とする。The image pickup apparatus of the present invention is provided with a photographing lens for forming a subject image, light receiving means for receiving the subject image formed by the photographing lens, and provided in an optical path of the photographing lens. A mechanical shutter movable to a light-blocking position and a non-light-blocking position, and a unit that controls an exposure amount determined by the mechanical shutter based on brightness of a subject.
A finder for observing the subject image, an optical member provided between the mechanical shutter and the light receiving unit, for guiding the subject image input through the photographing lens to the finder, An eyepiece shutter movable to a light-blocking position and a non-light-blocking position with respect to the eyepiece window, and an eyepiece shutter control means for setting the eyepiece shutter to the light-blocking position or the non-light-blocking position based on an exposure amount determined by the mechanical shutter. It is characterized by having.
【００１０】このように、本発明の撮像装置において
は、絞りの開口の大きさやメカニカルシャッタで決まる
露光量といった、撮影時における被写体からの入力光量
に基づいて、アイピースシャッタを遮光位置又は非遮光
位置に設定するという制御が行われる。これより、現在
の撮影環境がファインダからの逆入射光が問題となる撮
影環境であるか否かに応じてアイピースシャッタの開閉
を制御できるので、必要な場合にのみアイピースシャッ
タを閉じることができ、操作性を損なうことなくファイ
ンダからの逆入射光による画質低下を効率良く防止する
ことが可能となる。As described above, in the image pickup apparatus according to the present invention, the eyepiece shutter is moved to the light-shielding position or the non-light-shielding position based on the input light amount from the subject at the time of photographing, such as the size of the aperture of the stop and the exposure amount determined by the mechanical shutter. Is set. Thus, since the opening and closing of the eyepiece shutter can be controlled depending on whether the current shooting environment is a shooting environment where back-incident light from the viewfinder poses a problem, the eyepiece shutter can be closed only when necessary, It is possible to efficiently prevent the image quality from being degraded due to the reverse incident light from the finder without impairing the operability.
【００１１】また、前記ファインダからの逆入射光の強
さを検出する検出手段をさらに設け、前記検出手段によ
って検出された前記逆入射光の強さと前記絞りの開口の
大きさとに基づいて、あるいは前記検出手段によって検
出された前記逆入射光の強さと前記メカニカルシャッタ
で決まる露光量とに基づいて、前記アイピースシャッタ
を前記遮光位置又は前記非遮光位置に設定することが好
ましい。Further, a detecting means for detecting the intensity of the reverse incident light from the finder is further provided, and based on the intensity of the reverse incident light detected by the detecting means and the size of the aperture of the stop, or It is preferable that the eyepiece shutter is set to the light-shielding position or the non-light-shielding position based on the intensity of the reverse incident light detected by the detection unit and an exposure amount determined by the mechanical shutter.
【００１２】このように、撮影時における被写体からの
入力光量のみならず、逆入射光の強さとの相対的な関係
を考慮してアイピースシャッタの開閉を制御することに
より、逆入射光による影響が生じる場合にのみアイピー
スシャッタを閉じるという制御をより適正に行うことが
可能となる。As described above, by controlling the opening / closing of the eyepiece shutter in consideration of not only the input light amount from the subject at the time of photographing but also the relative relationship with the intensity of the reverse incident light, the influence of the reverse incident light is reduced. Only when this occurs, the control of closing the eyepiece shutter can be performed more appropriately.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。図１には、本発明の一実施形態に係
わる撮像装置の構成が示されている。ここでは、ディジ
タルスチルカメラとして実現した場合を例示して説明す
ることにする。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a configuration of an imaging device according to an embodiment of the present invention. Here, a case where the present invention is implemented as a digital still camera will be described as an example.
【００１４】図中１０１は各種レンズからなる撮影レン
ズ系、１０２はレンズ系１０１を駆動するためのレンズ
駆動機構、１０３はレンズ系１０１の絞りを制御するた
めの露出制御機構、１０４はメカニカルシャッタ、１０
５は色フィルタを内蔵したＣＣＤカラー撮像素子、１０
６は撮像素子１０５を駆動するためのＣＣＤドライバ、
１０７はＡ／Ｄ変換器等を含むプリプロセス回路、１０
８は色信号生成処理，マトリックス変換処理，その他各
種のデジタル処理を行うためのデジタルプロセス回路、
１０９はカードインターフェース、１１０はメモリカー
ド、１１１はＬＣＤ画像表示系を示している。In FIG. 1, reference numeral 101 denotes a photographing lens system including various lenses; 102, a lens driving mechanism for driving the lens system 101; 103, an exposure control mechanism for controlling the diaphragm of the lens system 101; 104, a mechanical shutter; 10
5 is a CCD color image pickup device having a built-in color filter, 10
6, a CCD driver for driving the image sensor 105;
107, a preprocessing circuit including an A / D converter and the like;
8 is a digital process circuit for performing color signal generation processing, matrix conversion processing, and other various digital processing.
Reference numeral 109 denotes a card interface, 110 denotes a memory card, and 111 denotes an LCD image display system.
【００１５】また、図中の１１２は各部を統括的に制御
するためのシステムコントローラ（ＣＰＵ）、１１３は
各種操作ボタンからなる操作スイッチ系、１１４は操作
状態及びモード状態等を表示するための操作表示系、１
１５はレンズ駆動機構１０２を制御するためのレンズド
ライバ、１１６は発光手段としてのストロボ、１１７は
ストロボ１１６および露出制御機構１０３を制御するた
めの露出制御ドライバ、１１８は各種設定情報等を記憶
するための不揮発性メモリ（ＥＥＰＲＯＭ）を示してい
る。Further, in the figure, reference numeral 112 denotes a system controller (CPU) for overall control of each unit, 113 denotes an operation switch system including various operation buttons, and 114 denotes an operation for displaying an operation state and a mode state. Display system, 1
Reference numeral 15 denotes a lens driver for controlling the lens driving mechanism 102, 116 denotes a flash as a light emitting unit, 117 denotes an exposure control driver for controlling the flash 116 and the exposure control mechanism 103, and 118 denotes various setting information and the like. 1 shows a nonvolatile memory (EEPROM).
【００１６】本実施形態のカメラは公知の１眼レフ光学
ファインダを有している。ただし、光学ファインダへの
光路分岐はハーフミラー（プリズム）で行なっている。
光学ファインダ周辺の構造を図２に示す。The camera of this embodiment has a known single-lens reflex optical viewfinder. However, the optical path branching to the optical finder is performed by a half mirror (prism).
FIG. 2 shows the structure around the optical finder.
【００１７】撮影レンズ１０１から撮像素子１０５へ向
かう光路中には、図示のように、絞り１０３ａと、メカ
シャッタ１０４と、ハーフミラー（プリズム）２０１と
が設けられている。絞り１０３ａは上述の露出制御機構
１０３を構成するものであり、大きさが可変可能に構成
された開口（アイリス）を持つ。メカシャッタ１０４が
開いている状態では、レンズ系１０１から入力された被
写体像はハーフミラー（プリズム）２０１を通してＣＣ
Ｄ１０５の撮像面に結像されると共に、ハーフミラー
（プリズム）２０１によって分岐される。このプリズム
２０１により分岐されて１次結像面（プリズム２０１と
平面ミラー２０３との間の点線）に結像した空中像を平
面ミラー２０３および２次結像レンズ２０４でリレー
し、そして２次結像レンズ２０４によって再結像された
空中像を、光学ファインダの接眼窓（開口部）に設けら
れたルーペレンズ２０６で拡大観察するようになってい
る。An aperture 103a, a mechanical shutter 104, and a half mirror (prism) 201 are provided in an optical path from the taking lens 101 to the image sensor 105, as shown in the figure. The aperture 103a constitutes the above-described exposure control mechanism 103, and has an aperture (iris) whose size is variable. When the mechanical shutter 104 is open, the subject image input from the lens system 101 passes through the half mirror (prism) 201 to the CC.
An image is formed on the imaging surface of D105 and is branched by a half mirror (prism) 201. The aerial image branched by the prism 201 and formed on the primary image forming surface (dotted line between the prism 201 and the plane mirror 203) is relayed by the plane mirror 203 and the secondary image forming lens 204, and then the secondary image is formed. The aerial image re-formed by the image lens 204 is magnified and observed by a loupe lens 206 provided in an eyepiece window (opening) of an optical finder.
【００１８】ルーペレンズ２０６の内側には、光学ファ
インダからの逆入射光を遮断するためのアイピースシャ
ッタ２０５が設置されている。このアイピースシャッタ
２０５は電動式であり、システムコントローラ１１２か
らの駆動信号により、光学ファインダの接眼窓に対して
遮光位置と非遮光位置のいずれかに位置設定される。ア
イピースシャッタ２０５は、図３に示すように、つや消
し黒塗装された樹脂板からなる遮光板２０５ａから構成
されており、その遮光板２０５ａが取り付けられている
回動軸にはギヤ２０５ｂが設けられている。このギヤ２
０５ｂはアイピースシャッタ２０５の駆動機構としての
モータ２０５ｃのギヤ２０５ｄと噛合っており、モータ
２０５ｃの駆動により遮光板２０５ａが遮光位置と非遮
光位置との間を回動する。Inside the loupe lens 206, an eyepiece shutter 205 for blocking reverse incident light from the optical finder is provided. The eyepiece shutter 205 is electrically driven, and is set to one of a light-shielded position and a non-light-shielded position with respect to the eyepiece window of the optical viewfinder according to a drive signal from the system controller 112. As shown in FIG. 3, the eyepiece shutter 205 is composed of a light-shielding plate 205a made of a matte black painted resin plate, and a gear 205b is provided on a rotating shaft to which the light-shielding plate 205a is attached. I have. This gear 2
Reference numeral 05b meshes with a gear 205d of a motor 205c as a driving mechanism of the eyepiece shutter 205, and the light shielding plate 205a rotates between a light shielding position and a non-light shielding position by driving the motor 205c.
【００１９】また、接眼窓の内側には、光学ファインダ
からの逆入射光の強さを検出するためのセンサ２０７が
設けられている。逆入射光の強さは、周囲の明るさ、お
よび撮影者が光学ファインダを覗いた状態で撮影操作を
行っているか否かによって大きく変化する。センサ２０
７を設けることにより、レリーズ操作時における逆入射
光の強さを精度良く検出することが出来る。もちろんセ
ンサ２０７のような専用の検出手段を使用せずに、例え
ばメカシャッタ１０４を閉じた状態におけるＣＣＤ出力
を調べることによっても、レリーズ操作時における逆入
射光の強さを検出することが出来る。Inside the eyepiece window, a sensor 207 for detecting the intensity of the backward incident light from the optical finder is provided. The intensity of the back-incident light greatly changes depending on the surrounding brightness and whether or not the photographer performs a photographing operation while looking through the optical viewfinder. Sensor 20
By providing 7, it is possible to accurately detect the intensity of the reverse incident light during the release operation. Of course, the intensity of the reverse incident light at the time of the release operation can also be detected by checking the CCD output with the mechanical shutter 104 closed, for example, without using a dedicated detecting means such as the sensor 207.
【００２０】本実施形態のカメラにおいては、システム
コントローラ１１２が全ての制御を統括的に行ってお
り、露出制御機構１０３とＣＣＤドライバ１０６による
ＣＣＤ撮像素子１０５の駆動を制御して露光（電荷蓄
積）及び信号の読み出しを行い、それをプリプロセス回
路１０７を介してＡ／Ｄ変換してディジタルプロセス回
路１０８に取込んで、ディジタルプロセス回路１０８内
で各種信号処理を施した後にカードインターフェース１
０９を介してメモリカード１１０に記録するようになっ
ている。In the camera according to the present embodiment, the system controller 112 performs overall control, and controls the exposure control mechanism 103 and the CCD driver 106 to drive the CCD image pickup device 105 to perform exposure (charge accumulation). And read out the signal, A / D convert the signal through the pre-processing circuit 107, take it into the digital process circuit 108, perform various signal processing in the digital process circuit 108, and then perform the card interface 1
09 to the memory card 110.
【００２１】なお、ＣＣＤ撮像素子１０５の駆動制御
は、ＣＣＤドライバ１０６から出力される各種駆動信号
（電荷移送パルス、垂直駆動パルス、水平駆動パルス、
基板電圧ＶＳＵＢ、等）を用いて行われる。ＣＣＤ撮像
素子１０５としては、例えばインターライン型で縦型オ
ーバーフロードレイン（ＶＯＦＤ）構造のものなどが用
いられる。基板電圧ＶＳＵＢは各光電変換素子ＰＤの最
大電荷蓄積レベル（オーバーフローレベルＯＦＬ）を決
定するための基板バイアス電圧であるが、このＶＳＵＢ
に大きな値のパルス（ＶＳＵＢパルス）を重畳すること
により各ＰＤの電荷を基板に排出してリセットすること
ができる。The driving of the CCD image sensor 105 is controlled by various driving signals (charge transfer pulse, vertical driving pulse, horizontal driving pulse,
Substrate voltage VSUB, etc.). As the CCD image sensor 105, for example, an interline type vertical overflow drain (VOFD) structure or the like is used. The substrate voltage VSUB is a substrate bias voltage for determining the maximum charge accumulation level (overflow level OFL) of each photoelectric conversion element PD.
By superimposing a large value pulse (VSUB pulse) on the substrate, the charge of each PD can be discharged to the substrate and reset.
【００２２】また、システムコントローラ１１２には、
図示のように、測光値に応じて露出制御機構１０３によ
る絞りやＣＣＤ撮像素子１０５の露光時間等を制御する
ＡＥ（自動露出）制御部１１２ａと、センサ２０７を用
いて光学ファインダからの逆入射光量を検出するための
逆入射光量検出部１１２ｂと、アイピースシャッタ２０
５の開閉駆動を制御するアイピースシャッタ制御部１１
２ｃとが設けられている。The system controller 112 includes:
As shown in the figure, an AE (auto exposure) control unit 112a that controls the aperture and the exposure time of the CCD image sensor 105 by the exposure control mechanism 103 according to the photometric value, and the reverse incident light amount from the optical finder using the sensor 207 Incident light amount detection unit 112b for detecting the
Shutter control unit 11 for controlling the opening and closing drive of the eyepiece 5
2c are provided.
【００２３】アイピースシャッタ制御部１１２ｃによる
アイピースシャッタ２０５の閉駆動は、光学ファインダ
からの逆入射光が問題となるような撮影環境であるか否
かを判断して、問題となるような条件が満たされた場合
にのみ実行される。本実施形態では、被写体光量に対す
る逆入射光量の比率が所定値を越えるような場合を逆入
射光が問題となるような撮影環境であると判定する。そ
のために、絞り１０３ａの開口の大きさや、メカニカル
シャッタ１０４で決まる露光量（露光時間＝シャッタ速
度）といった撮影時の露出制御条件に基づいて条件判断
を行う。さらに、逆入射光量検出部１１２ｂにて検出さ
れた逆入射光の絶対量についても考慮され、被写体光量
に対する逆入射光量の比率が所定値を越えるような露出
制御条件下であっても、逆入射光量検出部１１２ｂにて
検出された逆入射光の絶対量がほとんど無視できるよう
な場合には逆入射光が問題となるような撮影環境ではな
いと判断される。When the eyepiece shutter 205 is closed by the eyepiece shutter control unit 112c, it is determined whether or not the photographing environment is such that back incident light from the optical finder becomes a problem, and the condition that causes the problem is satisfied. Only executed if done. In the present embodiment, when the ratio of the reverse incident light amount to the subject light amount exceeds a predetermined value, it is determined that the shooting environment is such that the reverse incident light poses a problem. For this purpose, condition determination is performed based on exposure control conditions at the time of shooting, such as the size of the opening of the aperture 103a and the exposure amount (exposure time = shutter speed) determined by the mechanical shutter 104. Further, the absolute amount of the reverse incident light detected by the reverse incident light detection unit 112b is also taken into consideration, and even under the exposure control condition where the ratio of the reverse incident light amount to the subject light amount exceeds a predetermined value, the reverse incident light condition If the absolute amount of the back-incident light detected by the light amount detection unit 112b is almost negligible, it is determined that the shooting environment is not such that the back-incident light poses a problem.
【００２４】以下、アイピースシャッタ２０５の駆動制
御を中心に撮影時の動作を説明する。Hereinafter, the operation at the time of photographing will be described focusing on the drive control of the eyepiece shutter 205.
【００２５】図４は、絞り１０３ａの開口の大きさが小
さく、且つ逆入射光量検出部１１２ｂによる逆入射光判
定を行わない場合に対応する撮像シーケンスを示してい
る。また、ここでは、ＶＳＵＢパルスと電荷移送パルス
とを用いた素子シャッタ制御で露光時間を決める場合を
想定する。FIG. 4 shows an imaging sequence corresponding to a case where the size of the aperture of the stop 103a is small and the reverse incident light detection unit 112b does not perform the reverse incident light determination. Here, it is assumed that the exposure time is determined by element shutter control using the VSUB pulse and the charge transfer pulse.
【００２６】図４において、ＶＤは垂直同期信号（但し
必要に応じてリセットがかけられるから、その意味では
１フレーム動作の開始基準信号と言うこともできる）を
示し、またＨＤは水平同期信号を示している。In FIG. 4, VD indicates a vertical synchronizing signal (however, it can be called a reference signal for starting one frame operation in that sense because it is reset if necessary), and HD indicates a horizontal synchronizing signal. Is shown.
【００２７】撮影モードにおいては、ＥＶＦ表示などの
ための露光および信号読み出しがＶＤに同期して繰り返
し実行されるとともに、シャッタボタンの半押しなどに
より自動露出制御のための測光、および逆入射光量を検
出するための逆入射光判定動作が行われる（ＡＥ期
間）。そして、ＡＥ制御部１１２ａにより測光値を基に
絞り開口の大きさとシャッタ速度（＝露光時間）が決定
される。もちろん、マニュアル操作で露出制御を行って
もよい。In the photographing mode, exposure and signal readout for EVF display and the like are repeatedly executed in synchronization with VD, and photometry for automatic exposure control and reverse incident light amount are performed by half-pressing a shutter button or the like. A reverse incident light determination operation for detection is performed (AE period). Then, the AE control unit 112a determines the size of the aperture and the shutter speed (= exposure time) based on the photometric value. Of course, the exposure control may be performed manually.
【００２８】決定された絞り開口の大きさ（Ｆ値）が所
定の基準値よりも小さいときには、レリーズ操作（シャ
ッタトリガ）に連動して、まず、アイピースシャッタ２
０５が閉駆動され、光学ファインダを遮光する遮光位置
にアイピースシャッタ２０５が移動設定される。そし
て、最終のＶＳＵＢパルスが出力されることにより本露
光が開始される。ＡＥまたはマニュアル操作で決定され
た露光時間が経過した時点で電荷移送パルスが出力さ
れ、全画素の電荷が垂直転送路に移送される。この後、
本露光で得られた信号電荷を読み出すための垂直転送お
よび水平転送が行われる（本読みモード）。ここでは、
この本読みモードの期間中は、スミア等による影響でい
わゆる縦筋ノイズが混入されるのを防止するために、メ
カシャッタ１０４は閉じられる。When the determined aperture size (F value) is smaller than a predetermined reference value, the eyepiece shutter 2 is first activated in conjunction with the release operation (shutter trigger).
05 is driven to close, and the eyepiece shutter 205 is set to move to a light blocking position for blocking the optical finder. Then, the final exposure is started by outputting the final VSUB pulse. When the exposure time determined by AE or manual operation has elapsed, a charge transfer pulse is output, and charges of all pixels are transferred to the vertical transfer path. After this,
Vertical transfer and horizontal transfer for reading out the signal charges obtained by the main exposure are performed (main reading mode). here,
During the main reading mode, the mechanical shutter 104 is closed in order to prevent so-called vertical stripe noise from being mixed due to the influence of smear or the like.
【００２９】絞り開口の大きさ（Ｆ値）が所定の基準値
よりも小さいときには逆入射光の影響が相対的に大きく
なるので、上述のようにレリーズ操作に連動してアイピ
ースシャッタ２０５を閉じてから本露光を行うことによ
り、撮影画像に対する逆入射光の影響を防止することが
できる。また、本例では素子シャッタで露光時間を制御
しているので、被写体光量と逆入射光量との比は露光時
間では変化せず、基本的には絞り開口の大きさ（Ｆ値）
のみで決定される。よって、露光時間を考慮せずとも、
絞り開口の大きさ（Ｆ値）に基づく制御のみで十分に高
精度のアイピースシャッタ制御を行うことが出来る。When the size of the aperture opening (F value) is smaller than a predetermined reference value, the influence of the back incident light becomes relatively large, so that the eyepiece shutter 205 is closed in conjunction with the release operation as described above. By performing the main exposure from the above, the influence of the reverse incident light on the captured image can be prevented. In this example, since the exposure time is controlled by the element shutter, the ratio between the amount of light of the subject and the amount of reverse incident light does not change with the exposure time, and basically, the size of the aperture (F value)
Only determined by. Therefore, even without considering the exposure time,
Sufficiently accurate eyepiece shutter control can be performed only by control based on the size (F-number) of the aperture opening.
【００３０】図５は、絞り１０３ａの開口の大きさが大
きく、且つ逆入射光量検出部１１２ｂによる逆入射光判
定を行わない場合に対応する撮像シーケンスを示してい
る。ＡＥまたはマニュアル操作で決定された絞り開口の
大きさ（Ｆ値）が上記基準値以上のときには、上述のよ
うなレリーズ操作（シャッタトリガ）に連動してアイピ
ースシャッタ２０５を閉駆動するという制御は行われ
ず、アイピースシャッタ２０５は非遮光位置にそのまま
設定され続ける。そして、最終のＶＳＵＢパルスが出力
されることにより本露光が開始される。ＡＥまたはマニ
ュアル操作で決定された露光時間が経過した時点で電荷
移送パルスが出力され、全画素の電荷が垂直転送路に移
送される。この後、本露光で得られた信号電荷を読み出
すための垂直転送および水平転送が行われる。FIG. 5 shows an imaging sequence corresponding to the case where the aperture of the stop 103a is large and the reverse incident light detection unit 112b does not determine the reverse incident light. When the size (F value) of the aperture opening determined by AE or manual operation is equal to or larger than the reference value, the control of closing the eyepiece shutter 205 in conjunction with the release operation (shutter trigger) as described above is performed. However, the eyepiece shutter 205 is kept set at the non-light-shielded position. Then, the final exposure is started by outputting the final VSUB pulse. When the exposure time determined by AE or manual operation has elapsed, a charge transfer pulse is output, and charges of all pixels are transferred to the vertical transfer path. Thereafter, vertical transfer and horizontal transfer for reading out the signal charges obtained by the main exposure are performed.
【００３１】絞り開口の大きさ（Ｆ値）が所定の基準値
以上の時は逆入射光の影響が相対的に小さくなるので、
上述のようにアイピースシャッタ２０５を開いたまま本
露光を行っても、撮影画像に対する逆入射光の影響は生
じない。When the size of the aperture (F value) is equal to or larger than a predetermined reference value, the influence of the back-incident light becomes relatively small.
Even if the main exposure is performed while the eyepiece shutter 205 is open as described above, the influence of the reverse incident light on the captured image does not occur.
【００３２】図６は、絞り開口の大きさ（Ｆ値）は所定
の基準値以上であるが、例えばＥＶＦを見ながら撮影操
作を行う場合などのように所定値以上の逆入射光量が検
出された場合を示している。この場合には、例えば絞り
開口の大きさ（Ｆ値）に関する上記基準値を高く設定変
更することにより、絞り開口の大きさが比較的大きい場
合であっても、アイピースシャッタ２０５の閉駆動が行
われる。FIG. 6 shows that the size of the aperture (F value) is equal to or larger than a predetermined reference value. Shows the case where In this case, for example, by changing the reference value regarding the size (F value) of the aperture opening to a higher value, even when the size of the aperture opening is relatively large, the closing drive of the eyepiece shutter 205 is performed. Will be
【００３３】つまり、レリーズ操作（シャッタトリガ）
に連動して、まず、アイピースシャッタ２０５が閉駆動
され、光学ファインダを遮光する遮光位置にアイピース
シャッタ２０５が移動設定される。そして、最終のＶＳ
ＵＢパルスが出力されることにより本露光が開始され
る。ＡＥまたはマニュアル操作で決定された露光時間が
経過した時点で電荷移送パルスが出力され、全画素の電
荷が垂直転送路に移送される。この後、本露光で得られ
た信号電荷を読み出すための垂直転送および水平転送が
行われる（本読みモード）。なお、逆入射光量が或る一
定値を越えるような場合には、絞り開口の大きさに関係
なく（開放Ｆ値の場合であっても）、アイピースシャッ
タ２０５を閉じるという制御を採用しても良い。That is, release operation (shutter trigger)
First, the eyepiece shutter 205 is driven to close, and the eyepiece shutter 205 is set to move to a light blocking position for blocking the optical viewfinder. And the final VS
The main exposure is started by outputting the UB pulse. When the exposure time determined by AE or manual operation has elapsed, a charge transfer pulse is output, and charges of all pixels are transferred to the vertical transfer path. Thereafter, vertical transfer and horizontal transfer for reading out the signal charges obtained by the main exposure are performed (main reading mode). When the amount of reverse incident light exceeds a certain value, the control of closing the eyepiece shutter 205 regardless of the size of the aperture opening (even in the case of the open F value) may be adopted. good.
【００３４】次に、素子シャッタではなく、メカシャッ
タ１０４を用いて露光量を制御する場合におけるアイピ
ースシャッタ２０５の制御について説明する。Next, control of the eyepiece shutter 205 when controlling the exposure amount using the mechanical shutter 104 instead of the element shutter will be described.
【００３５】図７は、メカシャッタ１０４で決まる露光
量（露光時間）が所定の基準値よりも小さく、且つ逆入
射光量検出部１１２ｂによる逆入射光判定を行わない場
合に対応する撮像シーケンスを示している。FIG. 7 shows an imaging sequence corresponding to the case where the exposure amount (exposure time) determined by the mechanical shutter 104 is smaller than a predetermined reference value and the reverse incident light detection unit 112b does not perform reverse incident light determination. I have.
【００３６】被写体からの光はメカシャッタ１０４が閉
じた時点で遮光されるが、光学ファインダからの逆入射
光はメカシャッタ１０４によっては遮光されない。この
ためＡＥまたはマニュアル操作で決定されたメカシャッ
タ１０４による露光時間が所定の基準値よりも小さい場
合には、逆入射光の影響が相対的に大きくなる。このた
めこの場合には、レリーズ操作（シャッタトリガ）に連
動して、まず、アイピースシャッタ２０５が閉駆動さ
れ、光学ファインダを遮光する遮光位置にアイピースシ
ャッタ２０５が移動設定される。そして、最終のＶＳＵ
Ｂパルスが出力されることにより本露光が開始される。
ＡＥまたはマニュアル操作で決定された露光時間が経過
した時点でメカシャッタ１０４が閉じられ、この後電荷
移送パルスが出力されて、全画素の電荷が垂直転送路に
移送される。そして、この後に、本露光で得られた信号
電荷を読み出すための垂直転送および水平転送が行われ
る。The light from the subject is blocked when the mechanical shutter 104 is closed, but the reverse incident light from the optical finder is not blocked by the mechanical shutter 104. Therefore, when the exposure time of the mechanical shutter 104 determined by the AE or the manual operation is smaller than a predetermined reference value, the influence of the reverse incident light becomes relatively large. Therefore, in this case, the eyepiece shutter 205 is first driven to close in conjunction with the release operation (shutter trigger), and the eyepiece shutter 205 is set to move to a light-shielding position that shields the optical finder. And the final VSU
The main exposure is started by outputting the B pulse.
When the exposure time determined by AE or manual operation has elapsed, the mechanical shutter 104 is closed, and thereafter, a charge transfer pulse is output, and charges of all pixels are transferred to the vertical transfer path. Thereafter, vertical transfer and horizontal transfer for reading out the signal charges obtained by the main exposure are performed.
【００３７】図８は、メカシャッタ１０４で決まる露光
量（露光時間）が所定の基準値以上で、且つ逆入射光量
検出部１１２ｂによる逆入射光判定を行わない場合に対
応する撮像シーケンスを示している。FIG. 8 shows an imaging sequence corresponding to the case where the exposure amount (exposure time) determined by the mechanical shutter 104 is equal to or greater than a predetermined reference value and the reverse incident light detection unit 112b does not perform the reverse incident light determination. .
【００３８】ＡＥまたはマニュアル操作で決定されたメ
カシャッタ１０４による露光時間が上記基準値以上のと
きには、上述のようなレリーズ操作（シャッタトリガ）
に連動してアイピースシャッタ２０５を閉駆動するとい
う制御は行われず、アイピースシャッタ２０５は非遮光
位置にそのまま設定され続ける。そして、最終のＶＳＵ
Ｂパルスが出力されることにより本露光が開始される。
ＡＥまたはマニュアル操作で決定された露光時間が経過
した時点でメカシャッタ１０４が閉じられ、この後電荷
移送パルスが出力されて、全画素の電荷が垂直転送路に
移送される。そして、この後に、本露光で得られた信号
電荷を読み出すための垂直転送および水平転送が行われ
る。When the exposure time of the mechanical shutter 104 determined by AE or manual operation is equal to or longer than the reference value, the above-described release operation (shutter trigger)
No control is performed to close the eyepiece shutter 205 in conjunction with the control, and the eyepiece shutter 205 continues to be set to the non-light-shielded position. And the final VSU
The main exposure is started by outputting the B pulse.
When the exposure time determined by AE or manual operation has elapsed, the mechanical shutter 104 is closed, and thereafter, a charge transfer pulse is output, and charges of all pixels are transferred to the vertical transfer path. Thereafter, vertical transfer and horizontal transfer for reading out the signal charges obtained by the main exposure are performed.
【００３９】メカシャッタ１０４による露光時間が上記
基準値以上の時は逆入射光の影響が相対的に小さくなる
ので、上述のようにアイピースシャッタ２０５を開いた
まま本露光を行っても、撮影画像に対する逆入射光の影
響は生じない。When the exposure time of the mechanical shutter 104 is equal to or longer than the reference value, the influence of the back-incident light becomes relatively small. There is no influence of counter-incident light.
【００４０】図９は、メカシャッタ１０４による露光時
間は所定の基準値以上であるが、例えばＥＶＦを見なが
ら撮影操作を行う場合などのように所定値以上の逆入射
光量が検出された場合を示している。この場合には、例
えばメカシャッタ１０４による露光時間に関する上記基
準値を高く設定変更することにより、メカシャッタ１０
４による露光時間が比較的長い場合であっても、アイピ
ースシャッタ２０５の閉駆動が行われる。FIG. 9 shows a case in which the exposure time by the mechanical shutter 104 is longer than a predetermined reference value, but a reverse incident light amount larger than the predetermined value is detected, for example, when a photographing operation is performed while watching the EVF. ing. In this case, for example, the reference value relating to the exposure time of the mechanical
Even when the exposure time of Step 4 is relatively long, the eyepiece shutter 205 is driven to close.
【００４１】つまり、レリーズ操作（シャッタトリガ）
に連動して、まず、アイピースシャッタ２０５が閉駆動
され、光学ファインダを遮光する遮光位置にアイピース
シャッタ２０５が移動設定される。ＡＥまたはマニュア
ル操作で決定された露光時間が経過した時点でメカシャ
ッタ１０４が閉じられ、この後電荷移送パルスが出力さ
れて、全画素の電荷が垂直転送路に移送される。そし
て、この後に、本露光で得られた信号電荷を読み出すた
めの垂直転送および水平転送が行われる（本読みモー
ド）。なお、逆入射光量が或る一定値を越えるような場
合には、メカシャッタ１０４による露光時間の長さに関
係なく、アイピースシャッタ２０５を閉じるという制御
を採用しても良い。That is, the release operation (shutter trigger)
First, the eyepiece shutter 205 is driven to close, and the eyepiece shutter 205 is set to move to a light blocking position for blocking the optical viewfinder. When the exposure time determined by AE or manual operation has elapsed, the mechanical shutter 104 is closed, and thereafter, a charge transfer pulse is output, and charges of all pixels are transferred to the vertical transfer path. Thereafter, vertical transfer and horizontal transfer for reading out the signal charges obtained by the main exposure are performed (main reading mode). In the case where the amount of reverse incident light exceeds a certain fixed value, control for closing the eyepiece shutter 205 may be employed regardless of the length of exposure time by the mechanical shutter 104.
【００４２】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範
囲で種々に変形することが可能である。たとえば上記実
施形態ではＣＣＤなどの固体撮像素子を用いて撮像を行
うディジタルカメラを例示して説明したが、上記アイピ
ースシャッタの制御は銀鉛カメラに対しても同様にして
適用可能である。The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified at the stage of implementation without departing from the scope of the invention. For example, in the above-described embodiment, a digital camera that performs imaging using a solid-state imaging device such as a CCD has been described as an example. However, the control of the eyepiece shutter can be similarly applied to a silver lead camera.
【００４３】更に、上記実施形態には種々の段階の発明
が含まれており、開示される複数の構成要件における適
宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例え
ば、実施形態に示される全構成要件から幾つかの構成要
件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で
述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられてい
る効果が得られる場合には、この構成要件が削除された
構成が発明として抽出され得る。Further, the above embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent features. For example, even if some components are deleted from all the components shown in the embodiment, the problem described in the column of the problem to be solved by the invention can be solved, and the effects described in the column of the effect of the invention can be solved. Is obtained, a configuration from which this configuration requirement is deleted can be extracted as an invention.
【００４４】[0044]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ファインダからの逆入射光が問題となる撮影環境である
か否かに応じて必要な場合にのみアイピースシャッタを
閉じることにより、アイピースシャッタの開閉をなるべ
く少なくするとともに、ファインダからの逆入射光によ
る画質低下を効率良く防止することが可能となる。As described above, according to the present invention,
By closing the eyepiece shutter only when necessary, depending on whether or not the backlit light from the viewfinder is a problematic shooting environment, the opening and closing of the eyepiece shutter is reduced as much as possible, and the image quality due to the backlit light from the viewfinder It is possible to efficiently prevent the reduction.
【図１】本発明の一実施形態に係わる撮像装置の構成を
示すブロック図。FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an imaging apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】同実施形態の撮像装置に設けられたアイピース
シャッタとその周辺の構成を示す図。FIG. 2 is an exemplary view showing the configuration of an eyepiece shutter provided in the image pickup apparatus of the embodiment and its periphery.
【図３】同実施形態の撮像装置に設けられたアイピース
シャッタの駆動機構を示す図。FIG. 3 is an exemplary view showing a driving mechanism of an eyepiece shutter provided in the imaging apparatus of the embodiment.
【図４】同実施形態の撮像装置におけるアイピースシャ
ッタの制御動作を示す第１のタイミングチャート。FIG. 4 is a first timing chart showing a control operation of an eyepiece shutter in the imaging device of the embodiment.
【図５】同実施形態の撮像装置におけるアイピースシャ
ッタの制御動作を示す第２のタイミングチャート。FIG. 5 is a second timing chart showing the control operation of the eyepiece shutter in the imaging device of the embodiment.
【図６】同実施形態の撮像装置におけるアイピースシャ
ッタの制御動作を示す第３のタイミングチャート。FIG. 6 is a third timing chart showing the control operation of the eyepiece shutter in the imaging device of the embodiment.
【図７】同実施形態の撮像装置におけるアイピースシャ
ッタの制御動作を示す第４のタイミングチャート。FIG. 7 is a fourth timing chart showing the control operation of the eyepiece shutter in the imaging device of the embodiment.
【図８】同実施形態の撮像装置におけるアイピースシャ
ッタの制御動作を示す第５のタイミングチャート。FIG. 8 is a fifth timing chart showing the control operation of the eyepiece shutter in the imaging device of the embodiment.
【図９】同実施形態の撮像装置におけるアイピースシャ
ッタの制御動作を示す第６のタイミングチャート。FIG. 9 is a sixth timing chart showing the control operation of the eyepiece shutter in the imaging device of the embodiment.
１０１…撮像レンズ １０２…レンズ駆動機構 １０３…露出制御機構 １０３ａ…絞り １０４…メカシャッタ １０５…ＣＣＤカラー撮像素子 １０６…ＣＣＤドライバ １０７…プリプロセス回路 １０８…デジタルプロセス回路 １１２…システムコントローラ ２０１…ハーフミラー（プリズム） ２０５…アイピースシャッタ ２０７…センサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Imaging lens 102 ... Lens drive mechanism 103 ... Exposure control mechanism 103a ... Aperture 104 ... Mechanical shutter 105 ... CCD color image sensor 106 ... CCD driver 107 ... Pre-process circuit 108 ... Digital process circuit 112 ... System controller 201 ... Half mirror (prism) ) 205: Eyepiece shutter 207: Sensor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｂ 19/02 Ｇ０３Ｂ 19/02 Ｈ０４Ｎ 5/225 Ｈ０４Ｎ 5/225 Ｂ // Ｈ０４Ｎ 101:00 101:00 Ｆターム(参考） 2H002 CC01 CC21 DB12 FB21 FB22 FB23 FB24 GA00 HA07 HA11 JA02 JA07 2H018 AA24 AA25 BE00 BE07 2H054 AA01 BB08 CA00 CD01 CD03 2H083 EE11 EE17 EE19 EE25 5C022 AA13 AB12 AB15 AB17 AC02 AC09 AC42 AC52 AC54 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03B 19/02 G03B 19/02 H04N 5/225 H04N 5/225 B // H04N 101: 00 101: 00 F Terms (Reference) 2H002 CC01 CC21 DB12 FB21 FB22 FB23 FB24 GA00 HA07 HA11 JA02 JA07 2H018 AA24 AA25 BE00 BE07 2H054 AA01 BB08 CA00 CD01 CD03 2H083 EE11 EE17 EE19 EE25 5C022 AA13 AB12 AB15 AC17 AC02 AC09
Claims (8)
手段と、 前記撮影レンズの光路中に設けられ、開口の大きさを可
変可能な絞りと、 被写体の明るさに基づいて前記絞りの開口の大きさを制
御する絞り制御手段と、 前記被写体像を観察するためのファインダと、 前記絞りと前記受光手段との間に設けられ、前記撮影レ
ンズを介して入力される被写体像を前記ファインダに導
くための光学部材と、 前記ファインダの接眼窓に対して遮光位置と非遮光位置
に移動可能なアイピースシャッタと、 前記絞りの開口の大きさに基づいて、前記アイピースシ
ャッタを前記遮光位置又は前記非遮光位置に設定するア
イピースシャッタ制御手段とを具備することを特徴とす
る撮像装置。A photographing lens for forming a subject image; a light receiving means for receiving the subject image formed by the photographing lens; a light receiving means provided in an optical path of the photographing lens; Aperture, aperture control means for controlling the size of the aperture of the aperture based on the brightness of the subject, a finder for observing the subject image, provided between the aperture and the light receiving means, An optical member for guiding a subject image input through the photographing lens to the finder; an eyepiece shutter movable to a light-shielding position and a non-light-shielding position with respect to an eyepiece window of the finder; And an eyepiece shutter control unit for setting the eyepiece shutter to the light shielding position or the non-light shielding position based on the eyepiece shutter.
絞りの開口の大きさが所定の基準値よりも小さいときに
前記アイピースシャッタを前記遮光位置に設定し、前記
絞りの開口の大きさが前記基準値以上のときに前記アイ
ピースシャッタを前記非遮光位置に設定することを特徴
とする請求項１記載の撮像装置。2. The eyepiece shutter control means sets the eyepiece shutter to the light blocking position when the size of the aperture of the aperture is smaller than a predetermined reference value, and sets the size of the aperture of the aperture to the reference size. The imaging apparatus according to claim 1, wherein the eyepiece shutter is set to the non-light-shielded position when the value is equal to or larger than the value.
出する検出手段をさらに具備し、 前記アイピースシャッタ制御手段は、前記検出手段によ
って検出された前記逆入射光の強さと、前記絞りの開口
の大きさとに基づいて、前記アイピースシャッタを前記
遮光位置又は前記非遮光位置に設定するように構成され
たものであることを特徴とする請求項１記載の撮像装
置。3. An eyepiece shutter control means further comprising: detecting means for detecting the intensity of the back-incident light from the finder; and detecting the intensity of the back-incident light detected by the detecting means, The imaging apparatus according to claim 1, wherein the eyepiece shutter is set to the light shielding position or the non-light shielding position based on a size of an opening.
記アイピースシャッタの設定制御は、前記撮像装置のレ
リーズ操作に連動して行われるものであることを特徴と
する請求項１記載の撮像装置。4. The imaging apparatus according to claim 1, wherein the control of setting the eyepiece shutter by the eyepiece shutter control means is performed in conjunction with a release operation of the imaging apparatus.
手段と、 前記撮影レンズの光路中に設けられ、遮光位置と非遮光
位置に移動可能なメカニカルシャッタと、 被写体の明るさに基づいて前記メカニカルシャッタで決
まる露光量を制御する手段と、 前記被写体像を観察するためのファインダと、 前記メカニカルシャッタと前記受光手段との間に設けら
れ、前記撮影レンズを介して入力される被写体像を前記
ファインダに導くための光学部材と、 前記ファインダの接眼窓に対して遮光位置と非遮光位置
に移動可能なアイピースシャッタと、 前記メカニカルシャッタで決まる露光量に基づいて、前
記アイピースシャッタを前記遮光位置又は前記非遮光位
置に設定するアイピースシャッタ制御手段とを具備する
ことを特徴とする撮像装置。5. A photographing lens for forming a subject image, a light receiving means for receiving the subject image formed by the photographing lens, and a light receiving means provided in an optical path of the photographing lens. A movable mechanical shutter; a means for controlling an exposure amount determined by the mechanical shutter based on the brightness of the subject; a finder for observing the subject image; and a finder provided between the mechanical shutter and the light receiving means. An optical member for guiding a subject image input through the photographing lens to the finder; an eyepiece shutter movable to a light-shielding position and a non-light-shielding position with respect to an eyepiece window of the finder; and the mechanical shutter. An eyepiece shutter for setting the eyepiece shutter to the light shielding position or the non-light shielding position based on the determined exposure amount. An imaging apparatus comprising: a data control unit.
メカニカルシャッタで決まる露光量が所定の基準値より
も小さいときに前記アイピースシャッタを前記遮光位置
に設定し、前記メカニカルシャッタで決まる露光量が前
記基準値以上のときに前記アイピースシャッタを前記非
遮光位置に設定することを特徴とする請求項５記載の撮
像装置。6. The eyepiece shutter control means sets the eyepiece shutter to the light blocking position when an exposure determined by the mechanical shutter is smaller than a predetermined reference value, and sets the exposure determined by the mechanical shutter to the reference. The imaging apparatus according to claim 5, wherein the eyepiece shutter is set to the non-light-shielding position when the value is equal to or more than the value.
出する検出手段をさらに具備し、 前記アイピースシャッタ制御手段は、前記検出手段によ
って検出された前記逆入射光の強さと、前記メカニカル
シャッタで決まる露光量とに基づいて、前記アイピース
シャッタを前記遮光位置又は前記非遮光位置に設定する
ように構成されたものであることを特徴とする請求項５
記載の撮像装置。7. An eyepiece shutter control means for detecting the intensity of the back-incident light from the finder and the mechanical shutter 6. The apparatus according to claim 5, wherein the eyepiece shutter is set to the light-shielding position or the non-light-shielding position based on the exposure amount determined by:
An imaging device according to any one of the preceding claims.
記アイピースシャッタの設定制御は、前記撮像装置のレ
リーズ操作に連動して行われるものであることを特徴と
する請求項５記載の撮像装置。8. The imaging apparatus according to claim 5, wherein the control of setting the eyepiece shutter by the eyepiece shutter control means is performed in conjunction with a release operation of the imaging apparatus.
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP2001143424A JP2002341402A (en) | 2001-05-14 | 2001-05-14 | Imaging device |
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Applications Claiming Priority (1)
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| JP2001143424A JP2002341402A (en) | 2001-05-14 | 2001-05-14 | Imaging device |
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|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020067625A (en) * | 2018-10-26 | 2020-04-30 | 国立大学法人九州工業大学 | Optical device |
-
2001
- 2001-05-14 JP JP2001143424A patent/JP2002341402A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080805 |