JP2002340785A - 分光光度測定器 - Google Patents
分光光度測定器Info
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- JP2002340785A JP2002340785A JP2001150642A JP2001150642A JP2002340785A JP 2002340785 A JP2002340785 A JP 2002340785A JP 2001150642 A JP2001150642 A JP 2001150642A JP 2001150642 A JP2001150642 A JP 2001150642A JP 2002340785 A JP2002340785 A JP 2002340785A
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- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 真の分光特性を測定可能な分光光度測定器を
得る。 【解決手段】 測定室1の雰囲気を酸素濃度計17で設
定値以下の酸素量となるようにガス置換する。被測定物
交換室15では低圧水銀灯20を点灯させ、酸素を導入
してトランスファロッド18に支持されている被測定物
Sを紫外線洗浄する。任意の時間洗浄した後に低圧水銀
灯20を消灯し、酸素の導入を停止する。続いて、酸素
以外の任意のガスを導入し、酸素濃度計19で酸素濃度
が許容量以下になるまで置換する。次に、ヒータ17を
加熱することにより被測定物Sを加熱する。所定の温
度、時間で加熱した後にヒータ17を断にし、ゲートバ
ルブ14を解放しトランスファロッド18を用いて被測
定物Sを測定室1内に搬入し、被測定物ホルダ11に受
け渡した後に測定用光源2を点灯して測定を開始する。
得る。 【解決手段】 測定室1の雰囲気を酸素濃度計17で設
定値以下の酸素量となるようにガス置換する。被測定物
交換室15では低圧水銀灯20を点灯させ、酸素を導入
してトランスファロッド18に支持されている被測定物
Sを紫外線洗浄する。任意の時間洗浄した後に低圧水銀
灯20を消灯し、酸素の導入を停止する。続いて、酸素
以外の任意のガスを導入し、酸素濃度計19で酸素濃度
が許容量以下になるまで置換する。次に、ヒータ17を
加熱することにより被測定物Sを加熱する。所定の温
度、時間で加熱した後にヒータ17を断にし、ゲートバ
ルブ14を解放しトランスファロッド18を用いて被測
定物Sを測定室1内に搬入し、被測定物ホルダ11に受
け渡した後に測定用光源2を点灯して測定を開始する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス等から成る
光学部品等の分光特性を測定する分光光度測定器に関す
るものである。
光学部品等の分光特性を測定する分光光度測定器に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来の分光光度測定器は特開平8−22
129号公報に開示されているように、測定室のみで構
成され、測定直前に被測定物を洗浄する機構等は装備さ
れていない。
129号公報に開示されているように、測定室のみで構
成され、測定直前に被測定物を洗浄する機構等は装備さ
れていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、被測定
物を測定室に挿入するまでの間に大気中に暴露されるた
め、何ら洗浄もせずに測定すると大気中の有機物等によ
る汚染物質が被測定物の表面に付着したまま測定するこ
とになる。このような状況下において分光特性を測定す
ると、被測定物本来の光学特性とは異なった測定結果が
得られることになる。分光特性の中でも、特に透過率の
測定ではその傾向が著しく、更に紫外波長領域ではその
影響が顕著にあらわれる。
物を測定室に挿入するまでの間に大気中に暴露されるた
め、何ら洗浄もせずに測定すると大気中の有機物等によ
る汚染物質が被測定物の表面に付着したまま測定するこ
とになる。このような状況下において分光特性を測定す
ると、被測定物本来の光学特性とは異なった測定結果が
得られることになる。分光特性の中でも、特に透過率の
測定ではその傾向が著しく、更に紫外波長領域ではその
影響が顕著にあらわれる。
【0004】また、測定室外において被測定物を洗浄
し、直ちに測定を実施したとしても、被測定物の汚染は
避けられないため本来の分光特性を得ることは難しい。
従って、測定直前に大気に触ることなく、被測定物の表
面を洗浄することが必要である。
し、直ちに測定を実施したとしても、被測定物の汚染は
避けられないため本来の分光特性を得ることは難しい。
従って、測定直前に大気に触ることなく、被測定物の表
面を洗浄することが必要である。
【0005】一般に、被測定物の有機物汚染を除去する
洗浄方法は、ウエット洗浄法とドライ洗浄法に大別する
ことができる。しかし、洗浄後の残差や洗浄の安定性等
を考慮すると、ドライ洗浄法の方がウエット洗浄法より
も優れている。特に、酸素を含む雰囲気中において紫外
線を照射することにより活性化酸素を発生し、有機物を
ガス化して排気除去する紫外線洗浄方法は有効な手法で
ある。
洗浄方法は、ウエット洗浄法とドライ洗浄法に大別する
ことができる。しかし、洗浄後の残差や洗浄の安定性等
を考慮すると、ドライ洗浄法の方がウエット洗浄法より
も優れている。特に、酸素を含む雰囲気中において紫外
線を照射することにより活性化酸素を発生し、有機物を
ガス化して排気除去する紫外線洗浄方法は有効な手法で
ある。
【0006】酸素を含むガスに紫外線を照射すると、下
記の反応を経てオゾンO3が発生する。 O2→O+O O+O2→O3
記の反応を経てオゾンO3が発生する。 O2→O+O O+O2→O3
【0007】更に、このオゾンO3は紫外線により、O
3→O2+Oのように非常に活性化状態である活性化酸
素に分解される。
3→O2+Oのように非常に活性化状態である活性化酸
素に分解される。
【0008】上述の反応を経ることにより、発生した強
力な酸化力を有する活性化酸素が有機物と反応すると、
H2O、CO2、CO、NO2等のガスに変換され、排
気除去される。
力な酸化力を有する活性化酸素が有機物と反応すると、
H2O、CO2、CO、NO2等のガスに変換され、排
気除去される。
【0009】特に、低圧水銀灯の照射ランプを用いた場
合には、その放射スペクトルの1つである波長λ=18
4.9nmの光で、オゾンO3を多量に発生させること
ができ、更に別の放射スペクトルの1つである波長λ=
253.7nmの光で活性化酸素が発生する。
合には、その放射スペクトルの1つである波長λ=18
4.9nmの光で、オゾンO3を多量に発生させること
ができ、更に別の放射スペクトルの1つである波長λ=
253.7nmの光で活性化酸素が発生する。
【0010】ところが、このような紫外線と活性化酸素
で充分に洗浄したにも拘わらず、分光特性値が既値であ
る物質を測定した場合に、その既値とは異なる測定値が
得られることがある。特に、波長λ=300nm以下の
紫外域や真空紫外域における透過率においては、既値よ
りも低い測定値が観察される傾向が強い。これは酸素雰
囲気下において紫外線を照射すると、被測定物の表面に
付着した有機物等は除去されるのであるが、通常はガス
化し難い物質つまり蒸気圧の低い物質、例えば洗浄容器
内に装備されているシールゴムやテフロン(登録商標)
等の部材が、紫外線照射により分解されることによって
ガス化し、これらの分解物質が被測定物表面に再付着す
るためである。
で充分に洗浄したにも拘わらず、分光特性値が既値であ
る物質を測定した場合に、その既値とは異なる測定値が
得られることがある。特に、波長λ=300nm以下の
紫外域や真空紫外域における透過率においては、既値よ
りも低い測定値が観察される傾向が強い。これは酸素雰
囲気下において紫外線を照射すると、被測定物の表面に
付着した有機物等は除去されるのであるが、通常はガス
化し難い物質つまり蒸気圧の低い物質、例えば洗浄容器
内に装備されているシールゴムやテフロン(登録商標)
等の部材が、紫外線照射により分解されることによって
ガス化し、これらの分解物質が被測定物表面に再付着す
るためである。
【0011】このシールゴムやテフロン等は紫外線を照
射している限りは洗浄できず、紫外線を使用しない除去
方法が必要となる。そこで、被測定物を加熱し、被測定
物に付着した物質に運動エネルギを加え、被測定物表面
から脱離させることが有効な洗浄方法である。また、そ
の加熱雰囲気は希ガス雰囲気中の方が、被測定物の性質
が変質し難いため望ましい。
射している限りは洗浄できず、紫外線を使用しない除去
方法が必要となる。そこで、被測定物を加熱し、被測定
物に付着した物質に運動エネルギを加え、被測定物表面
から脱離させることが有効な洗浄方法である。また、そ
の加熱雰囲気は希ガス雰囲気中の方が、被測定物の性質
が変質し難いため望ましい。
【0012】なお、この加熱による付着物質の除去方法
においては、紫外線洗浄で除去可能な大気中の有機物汚
染全てに対して有効でなく、特定の物質にのみ有効であ
る。
においては、紫外線洗浄で除去可能な大気中の有機物汚
染全てに対して有効でなく、特定の物質にのみ有効であ
る。
【0013】従って、紫外線洗浄及び加熱除去を実施す
ることにより、被測定物の表面が清浄化され、真の分光
特性値を測定することができる。
ることにより、被測定物の表面が清浄化され、真の分光
特性値を測定することができる。
【0014】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
測定直前に大気に触れることなく被測定物の表面を洗浄
することにより、正確な測定が可能な分光光度測定器を
提供することにある。
測定直前に大気に触れることなく被測定物の表面を洗浄
することにより、正確な測定が可能な分光光度測定器を
提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る分光光度測定器は、内部雰囲気を任意の
ガスで置換可能な測定室と被測定物交換室とを備え、該
被測定物交換室に紫外線照射機構と酸素を含むガス供給
機構とを設けたことを特徴とする。
の本発明に係る分光光度測定器は、内部雰囲気を任意の
ガスで置換可能な測定室と被測定物交換室とを備え、該
被測定物交換室に紫外線照射機構と酸素を含むガス供給
機構とを設けたことを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明を図示の実施の形態に基づ
いて詳細に説明する。図1は実施の形態における分光光
度測定器の構成図を示しており、ステンレス製の耐圧容
器から成る測定室1内には、測定用光源2からの光束に
沿って、レンズ3、グレーティング4、スリット5、チ
ョッパ6、ミラー7、チョッパ8、スリット9、光検出
器10が順次に配置されている。また、このチョッパ6
の反射方向には、被測定物ホルダ11により支持された
被測定物Sを介して、ミラー12、チョッパ8が配置さ
れている。また、測定室1内の酸素濃度を測定する酸素
濃度計13が設けられている。
いて詳細に説明する。図1は実施の形態における分光光
度測定器の構成図を示しており、ステンレス製の耐圧容
器から成る測定室1内には、測定用光源2からの光束に
沿って、レンズ3、グレーティング4、スリット5、チ
ョッパ6、ミラー7、チョッパ8、スリット9、光検出
器10が順次に配置されている。また、このチョッパ6
の反射方向には、被測定物ホルダ11により支持された
被測定物Sを介して、ミラー12、チョッパ8が配置さ
れている。また、測定室1内の酸素濃度を測定する酸素
濃度計13が設けられている。
【0017】また、測定室1はゲートバルブ14を介し
て耐圧容器から成る被測定物交換室15が連結されてお
り、この被測定物交換室15の側面には石英ガラス窓1
6が取り付けられている。被測定物交換室15内には、
ヒータ17、被測定物Sを支持し測定室1に搬送するた
めのトランスファロッド18、酸素濃度を計測するため
の酸素濃度計19が設置されている。更に、石英ガラス
窓16の前面には、被測定物交換室15内に紫外線を照
射するための低圧水銀灯20が配置されている。
て耐圧容器から成る被測定物交換室15が連結されてお
り、この被測定物交換室15の側面には石英ガラス窓1
6が取り付けられている。被測定物交換室15内には、
ヒータ17、被測定物Sを支持し測定室1に搬送するた
めのトランスファロッド18、酸素濃度を計測するため
の酸素濃度計19が設置されている。更に、石英ガラス
窓16の前面には、被測定物交換室15内に紫外線を照
射するための低圧水銀灯20が配置されている。
【0018】測定室1には、ニードルバルブ21を介し
てNe、He、Ar、N2ボンベから各種ガスが供給さ
れ、被測定物交換室15にはバルブ22、ニードルバル
ブ23を介して同様にボンベから各種ガスが供給させる
ようになっている。更に、被測定物交換室15にはバル
ブ24、ニードルバルブ25を介してO2ボンベから酸
素ガスが供給されるようになっている。
てNe、He、Ar、N2ボンベから各種ガスが供給さ
れ、被測定物交換室15にはバルブ22、ニードルバル
ブ23を介して同様にボンベから各種ガスが供給させる
ようになっている。更に、被測定物交換室15にはバル
ブ24、ニードルバルブ25を介してO2ボンベから酸
素ガスが供給されるようになっている。
【0019】一方、排気は測定室1、被測定物交換室1
5からそれぞれ図示しない排気口からガスが排気される
ようになっている。
5からそれぞれ図示しない排気口からガスが排気される
ようになっている。
【0020】なお、図1における測定器1は透過率測定
用の測定器を示しているが、反射率測定用の場合には測
定光路が異なるだけで、装置の構成は同様である。
用の測定器を示しているが、反射率測定用の場合には測
定光路が異なるだけで、装置の構成は同様である。
【0021】先ず、Ne、He、Ar、N2の任意のガ
スボンベのバルブを開け、ニードルバルブ21により流
量を調節しながら、測定室1の雰囲気を酸素濃度計17
で設定値以下の酸素量となるようにガス置換する。
スボンベのバルブを開け、ニードルバルブ21により流
量を調節しながら、測定室1の雰囲気を酸素濃度計17
で設定値以下の酸素量となるようにガス置換する。
【0022】被測定物交換室15においては、低圧水銀
灯20を点灯させ、バルブ24を開けニードルバルブ2
5で流量調節しながら酸素を導入することにより、トラ
ンスファロッド18に支持されている被測定物Sを紫外
線洗浄する。任意の時間洗浄した後に低圧水銀灯20を
消灯し、バルブ24を閉じて酸素の導入を停止する。続
いてバルブ22を開け、ニードルバルブ23で流量を調
節しながら、酸素以外の任意のガスを導入し、被測定物
交換室15内の雰囲気が酸素濃度計19で酸素濃度が許
容量以下になるまで置換する。
灯20を点灯させ、バルブ24を開けニードルバルブ2
5で流量調節しながら酸素を導入することにより、トラ
ンスファロッド18に支持されている被測定物Sを紫外
線洗浄する。任意の時間洗浄した後に低圧水銀灯20を
消灯し、バルブ24を閉じて酸素の導入を停止する。続
いてバルブ22を開け、ニードルバルブ23で流量を調
節しながら、酸素以外の任意のガスを導入し、被測定物
交換室15内の雰囲気が酸素濃度計19で酸素濃度が許
容量以下になるまで置換する。
【0023】次に、ヒータ17を加熱することにより被
測定物Sを加熱する。所定の温度、時間で加熱した後に
ヒータ17を断にし、ゲートバルブ14を解放し、トラ
ンスファロッド18を用いて被測定物Sを測定室1内に
搬入し、被測定物ホルダ11に受け渡した後に測定を開
始する。
測定物Sを加熱する。所定の温度、時間で加熱した後に
ヒータ17を断にし、ゲートバルブ14を解放し、トラ
ンスファロッド18を用いて被測定物Sを測定室1内に
搬入し、被測定物ホルダ11に受け渡した後に測定を開
始する。
【0024】測定用光源2から被測定物Sに向けて出射
された光束は、チョッパ6においてリファレンス光とサ
ンプル光に交互に分離され、リファレンス光はミラー7
で反射され、再度チョッパ8でスリット9を通して光検
出器10に入射する。また、サンプル光はチョッパ6に
おいて反射され被測定物Sを通過した後に、ミラー1
2、チョッパ8、スリット9を経て同様に光検出器10
に入射する。
された光束は、チョッパ6においてリファレンス光とサ
ンプル光に交互に分離され、リファレンス光はミラー7
で反射され、再度チョッパ8でスリット9を通して光検
出器10に入射する。また、サンプル光はチョッパ6に
おいて反射され被測定物Sを通過した後に、ミラー1
2、チョッパ8、スリット9を経て同様に光検出器10
に入射する。
【0025】図2は波長λ=193nmにおけるの透過
率の測定結果を示したものである。先ず、被測定物Sと
して表面を研磨し、有機溶剤を用いて厚さ1mmの平面
の石英基板を用意し、被測定物交換室15で酸素濃度が
10ppm以下になるまで窒素ガスで置換した後に、酸
素濃度が10ppm以下になるように窒素ガスで置換し
た測定室1に被測定物Sを搬入し、波長λ=193nm
における透過率を10回測定する。
率の測定結果を示したものである。先ず、被測定物Sと
して表面を研磨し、有機溶剤を用いて厚さ1mmの平面
の石英基板を用意し、被測定物交換室15で酸素濃度が
10ppm以下になるまで窒素ガスで置換した後に、酸
素濃度が10ppm以下になるように窒素ガスで置換し
た測定室1に被測定物Sを搬入し、波長λ=193nm
における透過率を10回測定する。
【0026】波長λ=193nmの波長において、厚さ
1mmの平面の石英基板の内部損失が約0.05%であ
ることを考慮すると、この平面の石英基板の理想透過率
(A)は90.80%である。これに対し、未洗浄の基
板の10回の透過率(B)が各回ともほぼ同値ながら理
想透過率(A)よりもかなり低い値を示している。これ
はこの測定器1の測定精度の再現性は良好であるが、被
測定物Sに問題があると推測できる。
1mmの平面の石英基板の内部損失が約0.05%であ
ることを考慮すると、この平面の石英基板の理想透過率
(A)は90.80%である。これに対し、未洗浄の基
板の10回の透過率(B)が各回ともほぼ同値ながら理
想透過率(A)よりもかなり低い値を示している。これ
はこの測定器1の測定精度の再現性は良好であるが、被
測定物Sに問題があると推測できる。
【0027】続いて、同様の石英基板を用意し、酸素ガ
ス雰囲気下の測定物交換室15内において10分間、紫
外線洗浄した後に、酸素濃度が10ppm以下になるま
で窒素ガスで置換し、続いて測定室1に搬入し、波長λ
=193nmにおける透過率(C)を10回測定した。
この10回の測定結果は、各回共、ほぼ同値ながら理想
透過率(A)よりも若干低い値を示している。
ス雰囲気下の測定物交換室15内において10分間、紫
外線洗浄した後に、酸素濃度が10ppm以下になるま
で窒素ガスで置換し、続いて測定室1に搬入し、波長λ
=193nmにおける透過率(C)を10回測定した。
この10回の測定結果は、各回共、ほぼ同値ながら理想
透過率(A)よりも若干低い値を示している。
【0028】更に、同様の石英基板を用意し、被測定物
交換室15で酸素ガス雰囲気下において10分間、紫外
線洗浄した後に、酸素濃度が10ppm以下になるまで
窒素ガスで置換し、続いて基板温度が70度になるよう
にヒータ17の出力を調整し、20分間加熱処理した後
に測定室1に搬入し、波長λ=193nmにおける透過
率(D)を10回測定した。この10回の測定結果は、
各回共、理想透過率(A)とほぼ同値な値を示してい
る。
交換室15で酸素ガス雰囲気下において10分間、紫外
線洗浄した後に、酸素濃度が10ppm以下になるまで
窒素ガスで置換し、続いて基板温度が70度になるよう
にヒータ17の出力を調整し、20分間加熱処理した後
に測定室1に搬入し、波長λ=193nmにおける透過
率(D)を10回測定した。この10回の測定結果は、
各回共、理想透過率(A)とほぼ同値な値を示してい
る。
【0029】一方、同様の平面の石英基板を測定器1の
外部において、同様の紫外線洗浄と加熱処理を実施した
後に、直ちに被測定物交換室15において窒素ガスで置
換した後に、測定室1に搬入し透過率(E)を10回測
定した。被測定物交換室15での同様の洗浄をしたにも
拘わらず透過率(E)は低い。
外部において、同様の紫外線洗浄と加熱処理を実施した
後に、直ちに被測定物交換室15において窒素ガスで置
換した後に、測定室1に搬入し透過率(E)を10回測
定した。被測定物交換室15での同様の洗浄をしたにも
拘わらず透過率(E)は低い。
【0030】これらの結果から、紫外線洗浄及び加熱処
理を施すことにより、被測定物Sの真の光学特性値の測
定が可能となる。また、被測定物Sの洗浄は大気に触れ
ずに測定直前に実施した方が真の光学特性値が得易いこ
とが分かる。
理を施すことにより、被測定物Sの真の光学特性値の測
定が可能となる。また、被測定物Sの洗浄は大気に触れ
ずに測定直前に実施した方が真の光学特性値が得易いこ
とが分かる。
【0031】第2の実施の形態では、被測定物Sとして
表面を研磨し有機溶剤を用いてパーティクルを除去した
厚さ1mmの平面の蛍石基板を用意し、これを被測定物
交換室15で酸素濃度が10ppm以下になるまでヘリ
ウムガスで置換し、酸素濃度が10ppm以下になるよ
うにヘリウムガスに置換した測定室1に搬入し、波長λ
=193nmの透過率を10回測定する。
表面を研磨し有機溶剤を用いてパーティクルを除去した
厚さ1mmの平面の蛍石基板を用意し、これを被測定物
交換室15で酸素濃度が10ppm以下になるまでヘリ
ウムガスで置換し、酸素濃度が10ppm以下になるよ
うにヘリウムガスに置換した測定室1に搬入し、波長λ
=193nmの透過率を10回測定する。
【0032】図3は波長λ=193nmにおける透過率
の測定結果を示している。また、波長λ=193nmの
波長において、厚さ1mmの平面の蛍石基板の内部損失
は約0.05%であることを考慮すると、この平面の蛍
石基板の理想透過率(A)は92.25%である。これ
に対し、未洗浄の10回の透過率(B)は、各回共、ほ
ぼ同値ながら理想透過率(A)よりもかなり低い値を示
している。
の測定結果を示している。また、波長λ=193nmの
波長において、厚さ1mmの平面の蛍石基板の内部損失
は約0.05%であることを考慮すると、この平面の蛍
石基板の理想透過率(A)は92.25%である。これ
に対し、未洗浄の10回の透過率(B)は、各回共、ほ
ぼ同値ながら理想透過率(A)よりもかなり低い値を示
している。
【0033】続いて、同様の蛍石基板を用意し、被測定
物交換室15において30分間、紫外線洗浄した後に、
酸素濃度が10ppm以下になるまでヘリウムガスで置
換した後に測定室1に搬入し、波長λ=193nmにお
ける透過率(C)を10回測定した。この10回の測定
結果は各回共、理想透過率(A)よりも若干低い値を示
している。
物交換室15において30分間、紫外線洗浄した後に、
酸素濃度が10ppm以下になるまでヘリウムガスで置
換した後に測定室1に搬入し、波長λ=193nmにお
ける透過率(C)を10回測定した。この10回の測定
結果は各回共、理想透過率(A)よりも若干低い値を示
している。
【0034】更に、同様の蛍石基板を用意し、被測定物
交換室15において30分間、紫外線洗浄した後に、酸
素濃度が10ppm以下になるまでヘリウムガスで置換
した後に、続いて基板温度が70度になるようにヒータ
17の出力を調整し、20分間加熱処理した後に測定室
1に搬入し、波長λ=193nmにおける透過率(D)
を10回測定した。この10回の測定結果は、各回共、
理想透過率(A)とほぼ同値な値を示している。
交換室15において30分間、紫外線洗浄した後に、酸
素濃度が10ppm以下になるまでヘリウムガスで置換
した後に、続いて基板温度が70度になるようにヒータ
17の出力を調整し、20分間加熱処理した後に測定室
1に搬入し、波長λ=193nmにおける透過率(D)
を10回測定した。この10回の測定結果は、各回共、
理想透過率(A)とほぼ同値な値を示している。
【0035】一方、同様の平面の蛍石基板を測定器1の
外部において、同様の紫外線洗浄と加熱処理を施した後
に、直ちに被測定物交換室15をヘリウムガスで置換し
た後に測定室1に搬入し、透過率(E)を10回測定し
た。被測定物交換室15で同様の洗浄をしたにも拘わら
ず透過率は低い。
外部において、同様の紫外線洗浄と加熱処理を施した後
に、直ちに被測定物交換室15をヘリウムガスで置換し
た後に測定室1に搬入し、透過率(E)を10回測定し
た。被測定物交換室15で同様の洗浄をしたにも拘わら
ず透過率は低い。
【0036】これらの結果からも、被測定物Sの真の光
学特性値を得るためには、大気に触れることなく紫外線
洗浄と加熱処理をすることが必要であることが分かる。
学特性値を得るためには、大気に触れることなく紫外線
洗浄と加熱処理をすることが必要であることが分かる。
【0037】また、未洗浄の蛍石の透過率(E)は、洗
浄、加熱処理を施した場合の透過率(D)よりもかなり
低く、石英基板と比較してもかなり低い。これは石英基
板と蛍石基板では有機物の汚染速度に差がある。つま
り、蛍石基板の方が汚染速度が速いことを示している。
このような有機物汚染され易い物質においても、分光光
度測定器内において、紫外線洗浄と加熱処理による洗浄
後に測定することにより真の光学特性値を得ることがで
きる。
浄、加熱処理を施した場合の透過率(D)よりもかなり
低く、石英基板と比較してもかなり低い。これは石英基
板と蛍石基板では有機物の汚染速度に差がある。つま
り、蛍石基板の方が汚染速度が速いことを示している。
このような有機物汚染され易い物質においても、分光光
度測定器内において、紫外線洗浄と加熱処理による洗浄
後に測定することにより真の光学特性値を得ることがで
きる。
【0038】なお、本発明における洗浄とは、パーティ
クルや塵埃等の除去は既に実施済みの被測定物の洗浄を
指し、主に大気中に暴露されて汚染された有機物を除去
することを主たる目的としている。
クルや塵埃等の除去は既に実施済みの被測定物の洗浄を
指し、主に大気中に暴露されて汚染された有機物を除去
することを主たる目的としている。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る分光光
度測定器は、分光光度測定する計測器において、被測定
物の真の光学特性値の測定が可能となる。
度測定器は、分光光度測定する計測器において、被測定
物の真の光学特性値の測定が可能となる。
【図1】分光器の構成図である。
【図2】石英基板を用いた透過率のグラフ図である。
【図3】蛍石基板を用いた透過率のグラフ図である。
1 測定室 2 測定用光源 10 光検出器 11 被測定物ホルダ 13、19 酸素濃度計 14 ゲートバルブ 15 被測定物交換室 16 石英ガラス窓 17 ヒータ 18 トランスファロッド 20 低圧水銀灯 25 ニードルバルブ 22、24 バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大谷 実 東京都大田区下丸子三丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 鈴木 康之 東京都大田区下丸子三丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 金沢 秀宏 東京都大田区下丸子三丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2G020 AA05 CB05 CB07 2G059 AA02 BB08 BB15 DD16 EE01 FF08 FF09 GG00 HH03 HH06 JJ05 JJ11 JJ13 JJ24 KK01 KK03 NN01 NN07 2G065 AB05 CA29 CA30
Claims (5)
- 【請求項1】 内部雰囲気を任意のガスで置換可能な測
定室と被測定物交換室とを備え、該被測定物交換室に紫
外線照射機構と酸素を含むガス供給機構とを設けたこと
を特徴とする分光光度測定器。 - 【請求項2】 前記被測定物交換室に被測定物を加熱可
能な加熱機構を装備した請求項1に記載の分光光度測定
器。 - 【請求項3】 前記被測定物を加熱する雰囲気ガスを不
活性ガスとした請求項2に記載の分光光度測定器。 - 【請求項4】 前記測定室において、被測定物の透過率
を測定する請求項1に記載の分光光度測定器。 - 【請求項5】 前記測定室において、波長λ=300n
m以下の波長領域で被測定物を測定する請求項4に記載
の分光光度測定器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001150642A JP2002340785A (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 分光光度測定器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001150642A JP2002340785A (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 分光光度測定器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002340785A true JP2002340785A (ja) | 2002-11-27 |
Family
ID=18995628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001150642A Pending JP2002340785A (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 分光光度測定器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002340785A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012247431A (ja) * | 2012-08-07 | 2012-12-13 | Shimadzu Corp | 光度計を用いた試料測定方法 |
CN104713768A (zh) * | 2013-12-16 | 2015-06-17 | 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司 | 消化反应器和用于确定液体样品的消化参数的分析装置 |
JP2015182351A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 積層フィルムの製造方法 |
-
2001
- 2001-05-21 JP JP2001150642A patent/JP2002340785A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012247431A (ja) * | 2012-08-07 | 2012-12-13 | Shimadzu Corp | 光度計を用いた試料測定方法 |
CN104713768A (zh) * | 2013-12-16 | 2015-06-17 | 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司 | 消化反应器和用于确定液体样品的消化参数的分析装置 |
JP2015182351A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 積層フィルムの製造方法 |
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