JP2002324312A - Manufacturing method of master information carrier - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacture method of a master information carrier, which has a process to carry out pattern exposure using an electronic beam lithographic device, and can form a reliable ferromagnetic thin film pattern. SOLUTION: A master information carrier is manufactured by applying a resist 92 to the surface of the non-magnetism base 91 and carrying out pattern exposure using an electronic beam lithographic device, developing the resist 92 and ion etching it, and depositing the ferromagnetic thin film 95 by removing the remaining resist and the ferromagnetic thin film deposited on it. When performing pattern exposure, the non-magnetism base 91 is moved so the orbit of the position irradiated by the electronic beam 93 matches the tracking and scanning orbit of the magnetic head. Thereby, a complicated and fine pattern can be exposed at a high-speed with high precision.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、大容量で高記録密
度の磁気記録再生装置に用いられる磁気記録媒体に、所
定のディジタル情報信号を予め記録するためのマスター
情報担体の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a master information carrier for recording a predetermined digital information signal on a magnetic recording medium used in a magnetic recording / reproducing apparatus having a large capacity and a high recording density.

【０００２】[0002]

【従来の技術】現在、磁気記録再生装置は、小型でかつ
大容量のものを実現するために、高記録密度化の傾向に
ある。代表的な磁気記録再生装置であるハードディスク
ドライブの分野においては、すでに面記録密度が１５Ｇ
ｂｉｔ／ｉｎ²（２３．３Ｍｂｉｔ／ｍｍ²）を超える装
置が商品化されており、数年後には、面記録密度が４０
Ｇｂｉｔ／ｉｎ²（６２．０Ｍｂｉｔ／ｍｍ²）の装置の
実用化が予測されるほどの急激な技術の進歩が認められ
る。2. Description of the Related Art At present, a magnetic recording / reproducing apparatus has a tendency to have a high recording density in order to realize a small and large-capacity magnetic recording / reproducing apparatus. In the field of hard disk drives, which are typical magnetic recording / reproducing devices, the areal recording density is already 15G.
An apparatus having a recording density exceeding 40 bits / in ² (23.3 Mbit / mm ² ) has been commercialized.
The rapid technological progress is recognized such that practical application of a Gbit / in ² (62.0 Mbit / mm ² ) device is expected.

【０００３】このような高記録密度化が可能となった技
術的背景として、磁気記録媒体及びヘッド・ディスクイ
ンターフェースの性能の向上やパーシャルレスポンス等
の新規な信号処理方式の出現による線記録密度の向上が
挙げられる。しかし、近年では、トラック密度の増加傾
向が線記録密度の増加傾向を大きく上回り、面記録密度
の向上の主な要因となっている。これは、従来の誘導型
磁気ヘッドに比べて再生出力性能がはるかに優れた磁気
抵抗素子型ヘッドの実用化によるものである。現在、磁
気抵抗素子型ヘッドの実用化により、数μｍ以下のトラ
ック幅信号を高いＳ／Ｎ比をもって再生することが可能
となっている。一方、今後のさらなるヘッド性能の向上
に伴い、近い将来には、トラックピッチがサブミクロン
領域に達するものと予想されている。[0003] The technical background that has enabled such a high recording density is to improve the performance of magnetic recording media and head-disk interfaces, and to improve the linear recording density by the emergence of new signal processing methods such as partial response. Is mentioned. However, in recent years, the increasing trend of the track density has greatly exceeded the increasing trend of the linear recording density, which is a major factor in improving the areal recording density. This is due to the practical use of a magnetoresistive element type head which has much better reproduction output performance than a conventional induction type magnetic head. At present, the practical use of a magnetoresistive element type head makes it possible to reproduce a track width signal of several μm or less with a high S / N ratio. On the other hand, it is expected that the track pitch will reach the submicron region in the near future with further improvement in head performance in the future.

【０００４】磁気ヘッドがこのような狭いトラックを正
確に走査し、高いＳ／Ｎ比をもって信号を再生するため
には、磁気ヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役
割を果たす。このようなトラッキングサーボ技術に関し
ては、例えば、『山口：磁気ディスク装置の高精度サー
ボ技術、日本応用磁気学会誌、Vol.20, No.3, p.771,
（１９９６）』に詳細な内容が開示されている。この文
献によれば、現在のハードディスクドライブでは、ディ
スクの１周、すなわち角度にして３６０度中に、一定の
角度間隔でトラッキング用サーボ信号、アドレス情報信
号、再生クロック信号等が記録された領域（以下『プリ
フォーマット記録領域』という。）が設けられている。
これにより、磁気ヘッドは、一定の間隔でこれらの信号
を再生して自己の位置を確認し、磁気ディスクの径方向
における変位を必要に応じて修正しながら正確にトラッ
ク上を走査することができる。In order for the magnetic head to accurately scan such a narrow track and reproduce a signal with a high S / N ratio, the tracking servo technique of the magnetic head plays an important role. Regarding such tracking servo technology, for example, see “Yamaguchi: High Accuracy Servo Technology for Magnetic Disk Drives, Journal of the Japan Society of Applied Magnetics, Vol. 20, No. 3, p. 771,
(1996)]. According to this document, in a current hard disk drive, an area in which a tracking servo signal, an address information signal, a reproduction clock signal, and the like are recorded at regular angular intervals in one round of the disk, that is, in 360 degrees. Hereinafter, referred to as a “preformat recording area”).
As a result, the magnetic head reproduces these signals at regular intervals, confirms its position, and can accurately scan the track while correcting the radial displacement of the magnetic disk as necessary. .

【０００５】上記したトラッキング用サーボ信号、アド
レス情報信号、再生クロック信号等のプリフォーマット
情報信号は、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査する
ための基準信号となるものであるから、その記録時に
は、正確なトラック位置決め精度が要求される。例え
ば、『植松、他：メカ・サーボ、ＨＤＩ技術の現状と展
望、日本応用磁気学会第９３回研究会資料、93-5, pp.3
5 （１９９６）』に開示された内容によれば、現在のハ
ードディスクドライブでは、磁気ディスク及び磁気ヘッ
ドをドライブ内に組み込んだ後、専用のサーボトラック
記録装置を用いて、ドライブ内に組み込まれた固有の磁
気ヘッドにより、トラッキング用サーボ信号、アドレス
情報信号、再生クロック信号等の記録が行われている。
この場合、ドライブ内に組み込まれた固有の磁気ヘッド
を、サーボトラック記録装置に装備された外部アクチュ
エータによって精密に位置制御しながらプリフォーマッ
ト記録を行うことにより、必要なトラック位置決め精度
が実現されている。The preformat information signals such as the tracking servo signal, the address information signal, and the reproduction clock signal serve as reference signals for the magnetic head to accurately scan the track. Accurate track positioning accuracy is required. For example, "Uematsu, et al .: Current Status and Prospects of Mechanical Servo, HDI Technology, 93rd Meeting of the Japan Society of Applied Magnetics, 93-5, pp.3
5 (1996)], in a current hard disk drive, after a magnetic disk and a magnetic head are incorporated in the drive, a unique servo track recording device is used to assemble the magnetic disk and the magnetic head. Recording of a tracking servo signal, an address information signal, a reproduction clock signal, and the like is performed by the magnetic head.
In this case, the necessary track positioning accuracy is realized by performing preformat recording while precisely controlling the position of the unique magnetic head incorporated in the drive by an external actuator provided in the servo track recording device. .

【０００６】しかし、専用のサーボトラック記録装置を
用い、ドライブ内に組み込まれた固有の磁気ヘッドによ
ってプリフォーマット記録を行う従来の技術には、以下
のような問題点があった。However, the conventional technique of performing preformat recording by using a dedicated servo track recording device and a unique magnetic head incorporated in a drive has the following problems.

【０００７】第１に、磁気ヘッドによる記録は、基本的
に磁気ヘッドと磁気記録媒体との相対的な移動による線
記録であるため、専用のサーボトラック記録装置を用
い、磁気ヘッドを精密に位置制御しながら記録を行う上
記方法では、プリフォーマット記録に多くの時間を要す
る。さらに、専用のサーボトラック記録装置はかなり高
価であるため、プリフォーマット記録に要するコストが
高くなる。First, recording by a magnetic head is basically linear recording by relative movement between a magnetic head and a magnetic recording medium. Therefore, a dedicated servo track recording device is used to precisely position the magnetic head. In the above-described method of performing recording while controlling, a large amount of time is required for preformat recording. Further, since the dedicated servo track recording device is considerably expensive, the cost required for preformat recording increases.

【０００８】この課題は、磁気記録再生装置のトラック
密度が向上するほど深刻である。ディスクの径方向のト
ラック数が増加することに加えて、以下の理由によって
もプリフォーマット記録に要する時間が長くなる。すな
わち、トラック密度が向上するほど磁気ヘッドの位置決
めに高精度が要求されるため、ディスクの１周において
トラッキング用サーボ信号等の情報信号を記録するプリ
フォーマット記録領域を設ける角度間隔を小さくしなけ
ればならない。従って、高記録密度の装置ほどディスク
にプリフォーマット記録すべき信号量が多くなり、多く
の時間を要することになる。[0008] This problem becomes more serious as the track density of the magnetic recording / reproducing apparatus increases. In addition to the increase in the number of tracks in the radial direction of the disk, the time required for preformat recording also increases for the following reasons. That is, the higher the track density, the higher the accuracy of the positioning of the magnetic head is required. Therefore, it is necessary to reduce the angular interval for providing a preformat recording area for recording information signals such as a servo signal for tracking in one round of the disk. No. Therefore, the higher the recording density of the device, the larger the amount of signals to be preformat-recorded on the disk, and more time is required.

【０００９】また、磁気ディスク媒体は小径化の傾向に
あるものの、依然として９５ｍｍ径や８４ｍｍ径といっ
た大径ディスクに対する需要も多い。ディスクの記録面
積が大きいほどプリフォーマット記録すべき信号量が多
くなる。このような大径ディスクのコストパフォーマン
スに関しても、プリフォーマット記録に要する時間が大
きく影響している。Although the magnetic disk medium tends to be smaller in diameter, there is still a great demand for a large-diameter disk having a diameter of 95 mm or 84 mm. The larger the recording area of the disc, the larger the signal amount to be preformat-recorded. The time required for preformat recording also greatly affects the cost performance of such a large-diameter disk.

【００１０】第２に、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間
のスペーシング、及び、磁気ヘッドの先端ポール形状に
起因して記録磁界が広がるため、プリフォーマット記録
されたトラック方向端部の磁化遷移が急峻性に欠ける。Second, since the recording magnetic field expands due to the spacing between the magnetic head and the magnetic recording medium and the shape of the tip pole of the magnetic head, the magnetization transition at the end of the preformat recorded track in the track direction is performed. Lacks steepness.

【００１１】磁気ヘッドによる記録は、基本的に磁気ヘ
ッドと磁気記録媒体との相対的な移動による動的な線記
録であるため、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間のイン
ターフェース性能の観点から、磁気ヘッドと磁気記録媒
体との間に一定量のスペーシングを設けざるを得ない。
また、現在の磁気ヘッドは、通常、記録と再生を別々に
担う２つのエレメントを有する構造であるため、記録ギ
ャップの後縁側ポールの幅が記録トラック幅に相当し、
前縁側ポールの幅は記録トラック幅の数倍以上と大きく
なっている。Since the recording by the magnetic head is basically a dynamic linear recording by the relative movement between the magnetic head and the magnetic recording medium, from the viewpoint of the interface performance between the magnetic head and the magnetic recording medium, A certain amount of spacing must be provided between the magnetic head and the magnetic recording medium.
In addition, since the current magnetic head generally has a structure having two elements that separately perform recording and reproduction, the width of the trailing edge side pole of the recording gap corresponds to the recording track width,
The width of the leading edge side pole is as large as several times or more of the recording track width.

【００１２】上記２つの問題点は、いずれも、記録トラ
ック方向端部において記録磁界の広がりを生じさせる要
因となる。その結果、プリフォーマット記録された記録
トラック方向端部の磁化遷移が急峻性に欠ける、あるい
はトラック方向両端側に消去領域を生じるといった問題
が生じる。現在のトラッキングサーボ技術では、磁気ヘ
ッドがトラックを外れて走査した際の再生出力の変化量
に基づいて磁気ヘッドの位置を検出している。このた
め、サーボ領域間に記録されたデータ信号を再生する際
のように、磁気ヘッドがトラック上を正確に走査したと
きのＳ／Ｎ比に優れることだけではなく、磁気ヘッドが
トラックを外れて走査したときの再生出力変化量、すな
わちオフトラック特性が急峻であることが要求される。
従って、上記のようにプリフォーマット記録されたトラ
ック方向端部の磁化遷移が急峻性に欠けると、今後のサ
ブミクロントラック記録における正確なトラッキングサ
ーボ技術の実現が困難になる。Both of the above two problems are factors that cause the recording magnetic field to spread at the end in the recording track direction. As a result, there arises a problem that the magnetization transition at the end of the recording track in which the preformat recording is performed lacks sharpness, or an erase area is formed at both ends in the track direction. In the current tracking servo technology, the position of the magnetic head is detected based on the amount of change in the reproduction output when the magnetic head scans off the track. Therefore, not only is the magnetic head excellent in the S / N ratio when the magnetic head scans the track accurately as in the case of reproducing the data signal recorded between the servo areas, but also the magnetic head moves off the track. It is required that the reproduction output change amount during scanning, that is, the off-track characteristic is steep.
Accordingly, if the magnetization transition at the end in the track direction on which preformat recording is performed lacks sharpness as described above, it becomes difficult to realize an accurate tracking servo technique in future submicron track recording.

【００１３】上記のような磁気ヘッドによるプリフォー
マット記録における２つの問題点を解決するため、基体
の表面にプリフォーマット情報信号に対応する強磁性薄
膜パターンが形成されているマスター情報担体の表面
を、磁気記録媒体の表面に密接させた後に、マスター情
報担体に形成された強磁性薄膜パターンを磁化させるこ
とにより、強磁性薄膜パターンに対応する磁化パターン
を磁気記録媒体に記録する技術が特開平１０−４０５４
４号公報の明細書において提案されている。このプリフ
ォーマット記録技術によれば、記録媒体のＳ／Ｎ比、イ
ンターフェース性能等の他の重要性能を犠牲することな
く、良好なプリフォーマット記録を効率的に行うことが
できる。In order to solve the two problems in the preformat recording by the magnetic head as described above, the surface of a master information carrier having a ferromagnetic thin film pattern corresponding to a preformat information signal formed on the surface of a substrate is formed by: A technique of recording a magnetization pattern corresponding to a ferromagnetic thin film pattern on a magnetic recording medium by magnetizing a ferromagnetic thin film pattern formed on a master information carrier after closely contacting the surface of the magnetic recording medium is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4054
No. 4 proposes the specification. According to this preformat recording technique, good preformat recording can be efficiently performed without sacrificing other important performances such as the S / N ratio of the recording medium and interface performance.

【００１４】特開平１０−４０５４４号公報の明細書に
開示された内容によると、トラッキング用サーボ信号や
アドレス情報信号、再生クロック信号などのプリフォー
マット情報信号に対応する強磁性薄膜パターンは、従来
のフォトリソグラフィ技術を用いて、マスター情報担体
の表面に形成させることができる。According to the contents disclosed in the specification of Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-45544, a ferromagnetic thin film pattern corresponding to a preformat information signal such as a tracking servo signal, an address information signal, and a reproduction clock signal is a conventional one. It can be formed on the surface of the master information carrier using a photolithography technique.

【００１５】図７に、フォトマスクを用いて強磁性薄膜
パターンを構成するプロセスの一例を示す。まず、図７
（Ａ）に示すように、表面粗度が細かくて平坦性の良好
な基体１１の表面に、Ｃｏなどからなる強磁性薄膜１２
をスパッタリング法によって成膜する。次いで、図７
（Ｂ）に示すように、強磁性薄膜１２上にレジスト層１
３をスピンコートなどの方法により製膜する。次に、図
７（Ｃ）に示すように、所望の凹凸パターンに対応した
フォトマスク１４をレジスト層１３に近接させて光１５
を照射して露光する。レジスト層１３としてポジ型レジ
ストを用いた場合には、現像すると図７（Ｄ）に示すよ
うに、所望の凹凸パターンの凸部に相当する部分のレジ
スト層１３は残留し、凹部に相当する部分のレジスト層
は除去される。その後に、図７（Ｅ）に示すようにＡｒ
イオン１６などを用いたイオンエッチングを行ない、強
磁性薄膜１２上にレジスト層１３が形成されていない部
分をミリングする。その結果、図７（Ｆ）に示すように
所望する強磁性薄膜パターン１７が形成されたマスター
情報担体が得られる。FIG. 7 shows an example of a process for forming a ferromagnetic thin film pattern using a photomask. First, FIG.
As shown in (A), a ferromagnetic thin film 12 made of Co or the like is provided on the surface of a substrate 11 having a fine surface roughness and good flatness.
Is formed by a sputtering method. Then, FIG.
As shown in (B), the resist layer 1 is formed on the ferromagnetic thin film 12.
3 is formed by a method such as spin coating. Next, as shown in FIG. 7C, a photomask 14 corresponding to a desired concavo-convex pattern is
For exposure. When a positive resist is used as the resist layer 13, when the resist layer 13 is developed, as shown in FIG. 7D, a portion of the resist layer 13 corresponding to the convex portion of the desired concavo-convex pattern remains, and a portion corresponding to the concave portion is left. Is removed. Thereafter, as shown in FIG.
By performing ion etching using the ions 16 and the like, a portion where the resist layer 13 is not formed on the ferromagnetic thin film 12 is milled. As a result, a master information carrier on which a desired ferromagnetic thin film pattern 17 is formed as shown in FIG.

【００１６】ところで、上述したように、ハードディス
クドライブのさらなる高記録密度化を図るため、トラッ
クピッチは１μｍ以下、ビット長は０．２μｍ以下にな
ることが予想される。この際、特開平１０−４０５４４
号公報の明細書において提案されている手法を用いて、
磁気記録媒体上にプリフォーマット情報信号を記録する
ためには、マスター情報担体の表面に形成する強磁性薄
膜パターンの大きさは、トラック幅方向で１μｍ以下、
ビット長方向で０．２μｍ以下にする必要がある。しか
しながら、図７に示すフォトマスクを用いたフォトリソ
グラフィプロセス技術では、０．２μｍ以下の強磁性薄
膜パターンを精度よく形成することは極めて困難であ
る。なぜなら、図７に示すフォトマスクを用いたプロセ
スでは、パターン加工精度は露光時に使用する光の波長
に大きく依存し、所望の強磁性薄膜パターンの大きさ
が、この光の波長よりも小さくなるからである。As described above, in order to further increase the recording density of a hard disk drive, it is expected that the track pitch will be 1 μm or less and the bit length will be 0.2 μm or less. At this time, Japanese Unexamined Patent Publication No.
By using the method proposed in the specification of
In order to record a preformat information signal on a magnetic recording medium, the size of the ferromagnetic thin film pattern formed on the surface of the master information carrier is 1 μm or less in the track width direction.
It is necessary to make it 0.2 μm or less in the bit length direction. However, it is extremely difficult to accurately form a ferromagnetic thin film pattern having a thickness of 0.2 μm or less by the photolithography process technology using the photomask shown in FIG. This is because, in the process using the photomask shown in FIG. 7, the pattern processing accuracy largely depends on the wavelength of light used at the time of exposure, and the size of a desired ferromagnetic thin film pattern becomes smaller than the wavelength of this light. It is.

【００１７】０．１μｍ以下の微細なパターンを実現で
きる手法のひとつとして、電子ビーム露光がある。レジ
スト層を露光する際に、光の代わりに細く絞りこんだ電
子ビームを用いることにより、極めて微細なレジストパ
ターンを形成することが可能である。電子ビームを用い
た露光装置である電子ビーム描画（露光）装置の概略を
図８に示す。電子銃２２より放出された電子ビーム２３
は電子ビーム成形レンズ２４、アパーチャ２６により細
く絞りこまれて、ＸＹステージ２８上に配置された被描
画試料２７上に結像される。電子ビーム２３は電子ビー
ム偏向器２５により被描画試料２７上を所定の方向に走
査される。走査（描画）できるパターン領域は１００〜
２０００μｍ角の正方形領域（フィールド）である。従
って、所望するパターンデータを複数のフィールドに分
割し、フィールド内においては電子ビーム２３を走査し
て描画し、当該フィールド内の描画が終了するとＸＹス
テージ２８により被描画試料２７をその表面と平行な方
向に移動して、新たなフィールド内の描画を行なう。こ
のようにして、被描画試料２７の面全体に電子ビームが
走査されるようになっている。被描画試料２７上に照射
される電子ビーム２３のビーム径は、電子銃２２に供給
される電流量やアパーチャ２６を調整することにより、
数１０ｎｍ程度の大きさに絞り込むことが可能である。
従って、電子ビーム描画装置２１を用いることにより、
マスター情報担体上に０．２μｍ以下の微細な強磁性薄
膜パターンを、マスター情報担体のほぼ全面に精度よく
形成することは十分に可能であると考えられる。One of the techniques for realizing a fine pattern of 0.1 μm or less is electron beam exposure. When exposing the resist layer, an extremely fine resist pattern can be formed by using a finely narrowed electron beam instead of light. FIG. 8 schematically shows an electron beam drawing (exposure) apparatus which is an exposure apparatus using an electron beam. Electron beam 23 emitted from electron gun 22
Is narrowed down by an electron beam shaping lens 24 and an aperture 26 to form an image on a sample 27 to be drawn arranged on an XY stage 28. The electron beam 23 is scanned by the electron beam deflector 25 on the drawing target 27 in a predetermined direction. The pattern area that can be scanned (drawn) is 100 to
It is a square area (field) of 2000 μm square. Accordingly, the desired pattern data is divided into a plurality of fields, and the field is drawn by scanning with the electron beam 23. When the drawing in the field is completed, the sample 27 to be drawn is moved in parallel with the surface by the XY stage 28. To draw in a new field. In this way, the electron beam is scanned over the entire surface of the sample 27 to be drawn. The beam diameter of the electron beam 23 irradiated onto the sample 27 to be drawn can be adjusted by adjusting the amount of current supplied to the electron gun 22 and the aperture 26.
It is possible to narrow down to a size of about several tens nm.
Therefore, by using the electron beam writing apparatus 21,
It is considered that it is sufficiently possible to form a fine ferromagnetic thin film pattern of 0.2 μm or less on the master information carrier over almost the entire surface of the master information carrier with high accuracy.

【００１８】図９にマスター情報担体の構成例を示す。
マスター情報担体は、例えば、略円盤形状の基体３１の
表面にプリフォーマット情報信号に対応した強磁性薄膜
パターンが形成された領域３２が、所定の角度間隔で設
けられているものである。FIG. 9 shows a configuration example of the master information carrier.
In the master information carrier, for example, regions 32 in which a ferromagnetic thin film pattern corresponding to a preformat information signal is formed on the surface of a substantially disk-shaped base 31 are provided at predetermined angular intervals.

【００１９】この領域３２の一部（図９中の領域Ｘ）の
拡大図を図１０に示す。図１０において、紙面上下方向
は磁気ヘッドの走査方向を、左右方向はトラックの円周
方向を示す。図１０に示すように、トラッキング用サー
ボ信号、アドレス情報信号、クロック信号のそれぞれの
領域がトラック円周方向に順番に配列されている。図１
０においては、ハッチングを施した部分が強磁性薄膜パ
ターンとなっている。FIG. 10 is an enlarged view of a part of the area 32 (the area X in FIG. 9). In FIG. 10, the vertical direction on the paper indicates the scanning direction of the magnetic head, and the horizontal direction indicates the circumferential direction of the track. As shown in FIG. 10, respective areas of the tracking servo signal, the address information signal, and the clock signal are sequentially arranged in the track circumferential direction. FIG.
At 0, the hatched portion is a ferromagnetic thin film pattern.

【００２０】マスター情報担体のこのような強磁性薄膜
パターンが形成されている表面を、磁気記録媒体の表面
に密接させた後に、強磁性薄膜パターンを磁化させるこ
とにより、強磁性薄膜パターンに対応する磁化ビットパ
ターンを磁気記録媒体に記録することができる。After the surface of the master information carrier on which such a ferromagnetic thin film pattern is formed is brought into close contact with the surface of the magnetic recording medium, the ferromagnetic thin film pattern is magnetized to correspond to the ferromagnetic thin film pattern. The magnetization bit pattern can be recorded on a magnetic recording medium.

【００２１】図９および図１０に示すように、強磁性薄
膜パターンは、概略、トラック円周方向および磁気ヘッ
ド走査方向に配列された微細な矩形状の、あるいは磁気
ヘッド走査方向に長く伸びた線形状のパターンである。
ここで、磁気ヘッド走査方向とは、磁気ヘッドが磁気デ
ィスク上を走査する際の軌跡の方向を意味し、磁気ヘッ
ドの走査軌跡は円弧を描く。これを図１１により説明す
る。As shown in FIGS. 9 and 10, the ferromagnetic thin film pattern is roughly a fine rectangular shape arranged in the track circumferential direction and the magnetic head scanning direction, or a line extending long in the magnetic head scanning direction. It is a shape pattern.
Here, the scanning direction of the magnetic head means the direction of the locus when the magnetic head scans the magnetic disk, and the scanning locus of the magnetic head draws an arc. This will be described with reference to FIG.

【００２２】図１１に一般的な磁気ディスク装置を示
す。筐体５６内の磁気ディスク５２は回転軸５９を中心
として回転する。磁気ヘッド５１は、ヘッドサスペンシ
ョン５３によって支持され、ヘッドサスペンション５３
はヘッドアーム５４によって支持される。磁気ヘッド５
１が磁気ディスク５２上をトラッキング走査する際、磁
気ヘッド５１はボイスコイルモータ５５によって図１１
中の一点鎖線５７で示す軌道上を動く。この軌道は通常
ヘッドアクチュエータの回転軸５８を中心とし、回転軸
５８と磁気ヘッド５１との距離を半径とする円弧であ
る。FIG. 11 shows a general magnetic disk drive. The magnetic disk 52 in the housing 56 rotates about a rotation shaft 59. The magnetic head 51 is supported by a head suspension 53, and the head suspension 53
Is supported by the head arm 54. Magnetic head 5
1 performs tracking scanning on the magnetic disk 52, the magnetic head 51 is moved by the voice coil motor 55 in FIG.
It moves on the trajectory indicated by the one-dot chain line 57 therein. This trajectory is usually a circular arc whose center is the rotation axis 58 of the head actuator and whose radius is the distance between the rotation axis 58 and the magnetic head 51.

【００２３】図１０に示したような複雑かつ微細なパタ
ーンを図８に示した電子ビーム描画装置を用いて精度よ
くパターン露光する場合、電子銃２２に流す電子ビーム
電流を小さくして被描画試料２７上に形成される電子ビ
ーム径を細くする必要がある。電子ビーム径の大きさと
得られる露光パターンとの関係を図１２を用いて説明す
る。When a complicated and fine pattern as shown in FIG. 10 is subjected to pattern exposure with high accuracy using the electron beam lithography apparatus shown in FIG. It is necessary to make the diameter of the electron beam formed on 27 smaller. The relationship between the size of the electron beam diameter and the obtained exposure pattern will be described with reference to FIG.

【００２４】図１２（Ａ）は電子ビーム径が大きい場合
を示している。左側の図に示すように、電子ビームの走
査方向６２に沿って大きな径の電子ビームスポット６４
を移動させて、所定の設計パターン６１の領域内を露光
すると、右側の図に示すように、設計パターン６１より
もはみ出した太い露光パターン６７が得られてしまう。
このような太くなった露光パターンの「太り量」は電子
ビームのビーム電流の大きさや使用するレジストの種類
にもよるが、大きいときには０．１μｍ程度となる。パ
ターン幅が０．２μｍ幅程度の微細なパターンを描画す
る場合にこのような「太り」が発生すると、隣り合う矩
形パターン同士がつながってしまうおそれがあり、電子
ビーム描画装置を用いたパターン露光の信頼性が低下す
ることになる。従って、太り量をあらかじめ求めてお
き、これを考慮してパターン設計を行うことで、露光さ
れたパターンが所望のパターン幅になるようにするのが
一般的である。FIG. 12A shows a case where the electron beam diameter is large. As shown in the diagram on the left, an electron beam spot 64 having a large diameter along the scanning direction 62 of the electron beam.
Is moved to expose the area of the predetermined design pattern 61, a thick exposure pattern 67 that protrudes beyond the design pattern 61 is obtained as shown in the right-hand figure.
The “thickening amount” of such a thickened exposure pattern depends on the beam current of the electron beam and the type of resist used, but when it is large, it is about 0.1 μm. When such a “thickness” occurs when a fine pattern having a pattern width of about 0.2 μm is drawn, there is a possibility that adjacent rectangular patterns may be connected to each other. Reliability will be reduced. Therefore, it is common to determine the amount of fattening in advance and design the pattern in consideration of this, so that the exposed pattern has a desired pattern width.

【００２５】一方、図１２（Ｂ）に示すように、小さな
径の電子ビームスポット６５でパターン露光を行った場
合には、得られる露光パターン６８の「太り量」は小さ
くなる。しかしながら、マスター情報担体のようにパタ
ーンが大面積にわたって配列されているような場合、細
いビーム径でパターン露光すると、露光時間が膨大なも
のになることが予想され、マスター情報担体の生産性が
著しく低下するおそれがある。また、被描画試料を載置
するＸＹステージ２８（図８参照）の機械的ドリフトや
電子ビームの電流ドリフトなどの外乱により、所望の露
光パターンが得られないおそれがある。On the other hand, as shown in FIG. 12B, when pattern exposure is performed with an electron beam spot 65 having a small diameter, the “expansion amount” of the obtained exposure pattern 68 becomes small. However, when patterns are arranged over a large area such as a master information carrier, pattern exposure with a small beam diameter is expected to increase the exposure time, which significantly increases the productivity of the master information carrier. It may decrease. Also, a desired exposure pattern may not be obtained due to disturbance such as mechanical drift of the XY stage 28 (see FIG. 8) on which the sample to be drawn is mounted or current drift of the electron beam.

【００２６】[0026]

【発明が解決しようとする課題】すなわち、電子ビーム
描画装置を用いてパターン露光をするにあたり、微細な
パターンを短時間で精度よく露光することが重要な課題
となっている。That is, in performing pattern exposure using an electron beam drawing apparatus, it is important to accurately expose a fine pattern in a short time.

【００２７】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、磁気ヘッドの走査軌道方向に配列され
た複雑かつ微細なパターン露光を電子ビーム描画装置を
用いて高速・高精度で行うことができ、信頼性の高い強
磁性薄膜パターンを形成することのできるマスター情報
担体の製造方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and performs a complicated and fine pattern exposure arranged in a scanning orbit direction of a magnetic head at high speed and with high accuracy by using an electron beam drawing apparatus. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a master information carrier that can form a highly reliable ferromagnetic thin film pattern.

【００２８】[0028]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明のマスター情報担体の製造方法は以下の構成
とする。In order to achieve the above object, a method for manufacturing a master information carrier according to the present invention has the following configuration.

【００２９】即ち、本発明の第１の構成にかかるマスタ
ー情報担体の製造方法は、基体と、前記基体の表面に形
成されたディジタル情報信号に対応する強磁性薄膜パタ
ーンとを有し、前記強磁性薄膜パターンが形成された側
の面を磁気記録媒体の表面に密接させることにより、前
記磁気記録媒体に前記ディジタル情報信号を磁気的に記
録するためのマスター情報担体を製造する方法であっ
て、前記基体の表面にレジスト層を形成する工程と、前
記レジスト層を電子ビーム描画装置を用いてパターン露
光を行う工程と、前記レジスト層を現像する工程とを有
し、前記電子ビーム描画装置は、前記レジスト層が形成
された前記基体を載置して、前記基体をその表面と平行
な方向に機械的に移動させることが可能な可動ステージ
を具備し、前記パターン露光の工程において、電子ビー
ムが前記レジスト層に照射される位置と前記基体との相
対移動を、前記磁気記録媒体に記録されたディジタル情
報信号を再生するための、磁気記録再生装置に具備され
た磁気ヘッドが、前記磁気記録媒体表面をトラッキング
走査する軌道に対応させることを特徴とする。That is, a method of manufacturing a master information carrier according to a first configuration of the present invention has a base and a ferromagnetic thin film pattern corresponding to a digital information signal formed on a surface of the base, and A method of manufacturing a master information carrier for magnetically recording the digital information signal on the magnetic recording medium by closely contacting the surface on the side on which the magnetic thin film pattern is formed with the surface of the magnetic recording medium, Forming a resist layer on the surface of the substrate, performing a pattern exposure of the resist layer using an electron beam drawing device, and developing the resist layer, the electron beam drawing device, A movable stage capable of placing the substrate on which the resist layer is formed and mechanically moving the substrate in a direction parallel to a surface of the substrate; In the exposure step, the relative movement between the position at which the resist layer is irradiated with the electron beam and the substrate is provided in a magnetic recording / reproducing apparatus for reproducing a digital information signal recorded on the magnetic recording medium. Wherein the magnetic head corresponds to a trajectory for tracking and scanning the surface of the magnetic recording medium.

【００３０】また、本発明の第２の構成による情報担体
の製造方法は、基体と、前記基体の表面に形成されたデ
ィジタル情報信号に対応する強磁性薄膜パターンとを有
し、前記強磁性薄膜パターンが形成された側の面を磁気
記録媒体の表面に密接させることにより、前記磁気記録
媒体に前記ディジタル情報信号を磁気的に記録するため
のマスター情報担体を製造する方法であって、前記基体
の表面に強磁性薄膜を堆積する工程と、前記強磁性薄膜
の表面にレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層
を電子ビーム描画装置を用いてパターン露光を行う工程
とを有し、前記電子ビーム描画装置は、前記レジスト層
が形成された前記基体を載置して、前記基体をその表面
と平行な方向に機械的に移動させることが可能な可動ス
テージを具備し、前記パターン露光の工程において、電
子ビームが前記レジスト層に照射される位置と前記基体
との相対移動を、前記磁気記録媒体に記録されたディジ
タル情報信号を再生するための、磁気記録再生装置に具
備された磁気ヘッドが、前記磁気記録媒体表面をトラッ
キング走査する軌道に対応させることを特徴とする。Further, according to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an information carrier, comprising: a base; and a ferromagnetic thin film pattern corresponding to a digital information signal formed on the surface of the base. A method for manufacturing a master information carrier for magnetically recording the digital information signal on the magnetic recording medium by bringing a surface on which a pattern is formed into close contact with a surface of a magnetic recording medium, the method comprising: Depositing a ferromagnetic thin film on the surface of the ferromagnetic thin film, forming a resist layer on the surface of the ferromagnetic thin film, and performing a pattern exposure of the resist layer using an electron beam lithography apparatus, The beam drawing apparatus includes a movable stage capable of placing the substrate on which the resist layer is formed and mechanically moving the substrate in a direction parallel to the surface thereof. In the step of pattern exposure, a relative position between the position where the resist layer is irradiated with the electron beam and the substrate is provided in a magnetic recording and reproducing apparatus for reproducing a digital information signal recorded on the magnetic recording medium. The magnetic head is adapted to correspond to a trajectory for tracking and scanning the surface of the magnetic recording medium.

【００３１】上記の第１または第２の構成によれば、電
子ビーム描画装置を用いてパターン露光を行う際に、電
子ビームの照射位置と被描画試料である基体との相対移
動を、露光するパターンが磁気ヘッド走査軌道方向に配
列されていることを鑑みて、磁気ヘッド走査軌道に対応
するように、基体を移動させる可動ステージを制御する
ので、マスター情報担体上の所定の位置に、かつ所定の
形状に、複雑かつ微細な強磁性薄膜パターンを高精度で
形成することができる。この結果、信頼性の高いマスタ
ー情報担体を製造することができる。According to the first or second configuration, when pattern exposure is performed using an electron beam lithography apparatus, the relative movement between the irradiation position of the electron beam and the substrate as the sample to be drawn is exposed. In view of the fact that the patterns are arranged in the direction of the magnetic head scanning trajectory, the movable stage for moving the base is controlled so as to correspond to the magnetic head scanning trajectory. A complicated and fine ferromagnetic thin film pattern can be formed with high precision in the shape of. As a result, a highly reliable master information carrier can be manufactured.

【００３２】上記の第１の構成において、前記レジスト
層を現像する工程の後に、エッチングにより前記基体の
表面に凹凸形状を形成する工程と、前記凹凸形状が形成
された前記基体と前記凹凸形状を形成後に残留した前記
レジスト層の表面に強磁性薄膜を堆積する工程と、前記
残留レジスト層および前記残留レジスト層上に形成され
た前記強磁性薄膜を除去する工程とをさらに有していて
も良い。In the above-mentioned first configuration, after the step of developing the resist layer, a step of forming an uneven shape on the surface of the base by etching, and the step of forming the uneven shape on the base and the uneven shape. The method may further include a step of depositing a ferromagnetic thin film on the surface of the resist layer remaining after formation, and a step of removing the residual resist layer and the ferromagnetic thin film formed on the residual resist layer. .

【００３３】または、上記の第１の構成において、前記
レジスト層を現像する工程の後に、エッチングにより前
記基体の表面に凹凸形状を形成する工程と、前記凹凸形
状を形成した後に残留した前記レジスト層を除去する工
程と、前記凹凸形状が形成された前記基体の表面に強磁
性薄膜を堆積する工程とをさらに有していても良い。Alternatively, in the first configuration, after the step of developing the resist layer, a step of forming an uneven shape on the surface of the base by etching, and the resist layer remaining after the formation of the uneven shape And a step of depositing a ferromagnetic thin film on the surface of the substrate on which the uneven shape is formed.

【００３４】または、上記の第１の構成において、前記
レジスト層を現像する工程の後に、前記レジスト層の表
面に強磁性薄膜を堆積する工程と、前記レジスト層およ
び前記レジスト層の表面に形成された前記強磁性薄膜を
除去する工程とをさらに有していても良い。Alternatively, in the first configuration, after the step of developing the resist layer, a step of depositing a ferromagnetic thin film on a surface of the resist layer; and a step of forming a ferromagnetic thin film on the surface of the resist layer. Removing the ferromagnetic thin film.

【００３５】また、上記の第１または第２の構成におい
て、前記可動ステージは、前記基体表面に平行な面内に
おいて、前記基体の中心近傍を回転中心として前記基体
を回転移動させる第１の機構と、前記第１の機構を載置
して前記基体をその表面に平行に移動させる第２の機構
と、前記第２の機構を載置して前記基体をその表面に平
行な面内において回転移動させる第３の機構と、前記第
３の機構を載置して前記基体をその表面に平行に移動さ
せる第４の機構とを具備し、前記電子ビームの照射位置
と前記基体との相対移動が、前記第１〜第４の機能のう
ちの少なくともひとつの機構を用いて制御されるのが好
ましい。かかる好ましい構成によれば、電子ビームの照
射位置と基体との相対移動を、磁気記録媒体に記録され
たディジタル情報信号を再生するための、磁気記録再生
装置に具備された磁気ヘッドが、磁気記録媒体表面をト
ラッキング走査する軌道に対応させることができ、パタ
ーン露光精度を向上させることができる。In the above first or second configuration, the movable stage may be a first mechanism for rotating and moving the substrate around a center of the substrate in a plane parallel to the surface of the substrate. A second mechanism for mounting the first mechanism and moving the substrate in parallel with the surface thereof, and mounting the second mechanism and rotating the substrate in a plane parallel to the surface. A third mechanism for moving the substrate, and a fourth mechanism for mounting the third mechanism and moving the substrate in parallel with the surface thereof, and the relative movement between the electron beam irradiation position and the substrate. Is preferably controlled using at least one of the first to fourth functions. According to such a preferred configuration, the magnetic head provided in the magnetic recording / reproducing apparatus for reproducing the digital information signal recorded on the magnetic recording medium can be used to determine the relative movement between the irradiation position of the electron beam and the substrate. It is possible to correspond to the trajectory for tracking scanning on the medium surface, and it is possible to improve pattern exposure accuracy.

【００３６】また、上記の第１または第２の構成におい
て、前記電子ビームのビーム電流を、前記電子ビームの
照射位置に従って変化させるのが好ましい。特に、前記
電子ビームのビーム電流を、前記電子ビームの照射位置
と前記基体の中心との距離に概略比例するように変化さ
せるのが好ましい。特にハードディスクドライブに具備
される磁気ディスクに、マスター情報担体を用いてディ
ジタル情報信号を記録する場合、記録された磁化ビット
のビット長は、磁気ディスクの外周ほど大きくなる。従
って、マスター情報担体に形成すべき強磁性薄膜パター
ンの幅は、基体の中心からの距離に比例して大きくな
る。電子ビームのビーム電流を大きくすると、ビーム径
が大きくなり、幅の大きなパターンを露光するのに適す
るようになる。従って、上記の好ましい構成のように電
子ビームの照射位置と基体の中心との距離が大きくなる
に従ってビーム電流を大きくすることにより、上記の外
周に近いほど大きなパターン幅を有するパターンの露光
を効率よく行なえる。これによりパターン露光時間の短
縮化を図ることができる。In the first or second configuration, it is preferable that the beam current of the electron beam is changed according to the irradiation position of the electron beam. In particular, it is preferable to change the beam current of the electron beam so as to be substantially proportional to the distance between the irradiation position of the electron beam and the center of the substrate. In particular, when a digital information signal is recorded on a magnetic disk provided in a hard disk drive using a master information carrier, the bit length of the recorded magnetization bit becomes larger toward the outer periphery of the magnetic disk. Therefore, the width of the ferromagnetic thin film pattern to be formed on the master information carrier increases in proportion to the distance from the center of the base. Increasing the beam current of the electron beam increases the beam diameter, making it suitable for exposing a pattern having a large width. Therefore, by increasing the beam current as the distance between the electron beam irradiation position and the center of the base increases as in the preferred configuration described above, a pattern having a larger pattern width can be efficiently exposed closer to the outer periphery. I can do it. Thereby, the pattern exposure time can be shortened.

【００３７】また、上記の第１または第２の構成におい
て、前記電子ビームの照射位置と前記基体との相対移動
の速度を、前記電子ビームの照射位置に従って変化させ
るのが好ましい。特に、前記電子ビームの照射位置と前
記基体との相対移動の速度を、前記電子ビームの照射位
置と前記基体の中心との距離に概略反比例するように変
化させるのが好ましい。前述のように、マスター情報担
体に形成すべき強磁性薄膜パターンの幅は、基体の中心
からの距離に比例して大きくなる。電子ビームの照射位
置と前記基体との相対移動の速度を小さくすると、基体
に形成されたレジスト層に電子ビームが照射される時間
が長くなる。一般的に電子ビームを照射する時間が長く
なれば、レジスト層に電子がより多く供給されることに
なり、得られる露光パターンは太くなり、幅の大きなパ
ターンを露光するのに適するようになる。従って、上記
の好ましい構成のように、電子ビームの照射位置と基体
の中心との距離が大きくなるに従って、電子ビームの照
射位置と基体との相対移動の速度を小さくするとによ
り、上記の外周に近いほど大きなパターン幅を有するパ
ターンの露光を効率よく行なえる。これによりパターン
露光時間の短縮化を図ることができる。更に、電子ビー
ムの照射位置と基体との相対速度を小さくするというこ
とは、基体を載置する可動ステージの動作速度を遅くす
るということであり、電子ビームの照射位置と基体との
相対位置の精度を向上させることができ、その結果、パ
ターン露光精度を向上させることができる。In the first or second configuration, it is preferable that the speed of the relative movement between the electron beam irradiation position and the substrate is changed according to the electron beam irradiation position. In particular, it is preferable to change the speed of the relative movement between the irradiation position of the electron beam and the base so as to be substantially inversely proportional to the distance between the irradiation position of the electron beam and the center of the base. As described above, the width of the ferromagnetic thin film pattern to be formed on the master information carrier increases in proportion to the distance from the center of the base. When the speed of the relative movement between the irradiation position of the electron beam and the base is reduced, the time during which the resist layer formed on the base is irradiated with the electron beam becomes longer. In general, when the time for irradiating the electron beam becomes longer, more electrons are supplied to the resist layer, and the obtained exposure pattern becomes thicker, which is suitable for exposing a pattern having a large width. Therefore, as in the above preferred configuration, as the distance between the irradiation position of the electron beam and the center of the base increases, the speed of the relative movement between the irradiation position of the electron beam and the base is reduced, so that the outer periphery is closer to the outer periphery. Exposure of a pattern having a larger pattern width can be performed efficiently. Thereby, the pattern exposure time can be shortened. Further, reducing the relative speed between the irradiation position of the electron beam and the base means lowering the operation speed of the movable stage on which the base is placed, and thus the relative position between the irradiation position of the electron beam and the base. Accuracy can be improved, and as a result, pattern exposure accuracy can be improved.

【００３８】いずれの製造方法においても、電子ビーム
描画装置を用いてパターン露光を精度よく行うことがで
き、信頼性の高いマスター情報担体を提供することが可
能となる。In any of the manufacturing methods, pattern exposure can be accurately performed using an electron beam drawing apparatus, and a highly reliable master information carrier can be provided.

【００３９】[0039]

【発明の実施の形態】本発明の製造方法によって得られ
るマスター情報担体は、ディスク状磁気記録媒体にトラ
ッキング用サーボ信号、アドレス情報信号、再生クロッ
ク信号などのプリフォーマット情報信号を記録するため
のものである。このマスター情報担体の一構成例は上記
した図９と同様である。即ち、略円盤形状の基体３１の
表面に、プリフォーマット情報信号に対応した強磁性薄
膜の配列パターン（マスター情報パターン）が形成され
た領域３２が所定の角度間隔で設けられている。図９に
示す領域３２の一部分である領域Ｘを拡大したものを図
１０に示す。図１０に示すように、トラッキング用サー
ボ信号、アドレス情報信号、再生クロック信号に対応す
る強磁性薄膜パターンが順番に配列されて構成されてい
る。図１０においては、ハッチングを施した部分がＣｏ
などの強磁性材料によって構成されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A master information carrier obtained by the manufacturing method of the present invention is for recording a preformat information signal such as a servo signal for tracking, an address information signal, and a reproduction clock signal on a disk-shaped magnetic recording medium. It is. One configuration example of this master information carrier is the same as that of FIG. 9 described above. That is, regions 32 in which an array pattern (master information pattern) of ferromagnetic thin films corresponding to preformat information signals are formed at predetermined angular intervals on the surface of a substantially disk-shaped base 31. FIG. 10 shows an enlarged view of a region X which is a part of the region 32 shown in FIG. As shown in FIG. 10, a ferromagnetic thin film pattern corresponding to a tracking servo signal, an address information signal, and a reproduced clock signal is arranged in order. In FIG. 10, the hatched portion is Co
And the like.

【００４０】基体の表面に極微細な強磁性薄膜パターン
を形成する手段として、本発明では電子ビーム描画装置
を用いる。装置の概略を図１に示す。電子銃７２より放
出された電子ビーム７３はビーム成形レンズ７４、アパ
ーチャ７６により細く絞りこまれて、可動ステージ７８
上に載置された被描画試料７７上に結像される。As a means for forming an extremely fine ferromagnetic thin film pattern on the surface of the substrate, an electron beam drawing apparatus is used in the present invention. FIG. 1 schematically shows the apparatus. An electron beam 73 emitted from an electron gun 72 is narrowed down by a beam shaping lens 74 and an aperture 76 to form a movable stage 78.
An image is formed on the object to be drawn 77 placed thereon.

【００４１】可動ステージ７８は、図２に示すように、
被描画試料７７を載置し、被描画試料７７をその略中心
を中心として回転させることのできる第１の回転ステー
ジ７８ａと、第１の回転ステージ７８ａを載置し、これ
を被描画試料７７の表面と平行な方向に移動させること
のできる第１の直線ステージ７８ｂと、第１の直線ステ
ージ７８ｂを載置し、これを被描画試料７７の表面と平
行な面内で回転させることのできる第２の回転ステージ
７８ｃと、第２の回転ステージ７８ｃを載置し、これを
被描画試料７７の表面と平行な方向に移動させることの
できる第２の直線ステージ７８ｄとから構成される。図
２中の矢印８１ａ、８１ｂ、８１ｃ、８１ｄは、それぞ
れステージ７８ａ、７８ｂ、７８ｃ、７８ｄの可動方向
を示している。被描画試料７７上における電子ビーム７
３の照射位置は、第２の回転ステージ７８ｃを動かすこ
とによって、図２中の点線８２で示す円弧上を移動す
る。この円弧８２の半径は図２中の距離Ａであり、円弧
８２の中心は第２の回転ステージ７８ｃの回転中心と一
致する。距離Ａの調整は第２の直線ステージ７８ｄによ
って行われる。The movable stage 78 is, as shown in FIG.
The sample to be drawn 77 is placed, and a first rotary stage 78a and a first rotary stage 78a capable of rotating the sample to be drawn 77 about the approximate center thereof are placed. A first linear stage 78b, which can be moved in a direction parallel to the surface of the sample, and a first linear stage 78b are mounted, and can be rotated in a plane parallel to the surface of the sample 77 to be drawn. It comprises a second rotary stage 78c and a second linear stage 78d on which the second rotary stage 78c is placed and which can be moved in a direction parallel to the surface of the sample 77 to be drawn. Arrows 81a, 81b, 81c, and 81d in FIG. 2 indicate the movable directions of the stages 78a, 78b, 78c, and 78d, respectively. Electron beam 7 on sample 77 to be drawn
The irradiation position of No. 3 moves on an arc shown by a dotted line 82 in FIG. 2 by moving the second rotary stage 78c. The radius of the arc 82 is the distance A in FIG. 2, and the center of the arc 82 coincides with the rotation center of the second rotary stage 78c. The adjustment of the distance A is performed by the second linear stage 78d.

【００４２】被描画試料７７上に照射される電子ビーム
７３のビーム径は、電子銃７２に供給されるビーム電流
量やアパーチャ７６を調整することにより、数１０ｎｍ
程度から数１００ｎｍの大きさにすることがが可能であ
る。The beam diameter of the electron beam 73 radiated on the sample 77 is several tens of nm by adjusting the amount of beam current supplied to the electron gun 72 and the aperture 76.
It can be as small as several hundred nm.

【００４３】以下、基体の表面にプリフォーマット情報
信号に対応した強磁性薄膜パターンを形成してマスター
情報担体を製造する方法について、詳細に説明する。Hereinafter, a method of manufacturing a master information carrier by forming a ferromagnetic thin film pattern corresponding to a preformat information signal on the surface of a base will be described in detail.

【００４４】（実施の形態１）図３は、本発明の第１の
実施の形態にかかるマスター情報担体の製造方法を、マ
スター情報担体の断面図を用いてプロセス順に示したも
のである。(Embodiment 1) FIG. 3 shows a method of manufacturing a master information carrier according to a first embodiment of the present invention in the order of processes using sectional views of the master information carrier.

【００４５】まず、図３（Ａ）に示すように、表面粗度
が細かくて平坦性の良好な非磁性基体９１の表面に、Ｐ
ＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）などの高感度の電
子ビーム感光性レジスト９２（以下、単にレジストと呼
ぶ）を塗布する。非磁性基体９１の材料としてガラスや
シリコンなどを用いることができるが、電子ビーム描画
装置によってパターン露光を行うため、非磁性基体９１
は導電性を有するものが好ましい。ガラスなどの非導電
性材料を使用する場合には、帯電防止剤を塗布するのが
好ましい。これにより、電子ビームが照射されたときに
非磁性基体９１が帯電することを防止できる。本実施の
形態においては、非磁性基体の材料として、市場に潤沢
かつ安価に供給されており、かつ導電性を有するシリコ
ンウエハを使用している。First, as shown in FIG. 3A, the surface of a non-magnetic substrate 91 having a fine surface roughness and good flatness is
A highly sensitive electron beam photosensitive resist 92 such as MMA (polymethyl methacrylate) is applied. Glass or silicon can be used as the material of the non-magnetic substrate 91. However, since pattern exposure is performed by an electron beam drawing apparatus, the non-magnetic substrate 91 is used.
Is preferably conductive. When a non-conductive material such as glass is used, it is preferable to apply an antistatic agent. This can prevent the non-magnetic substrate 91 from being charged when irradiated with the electron beam. In the present embodiment, a silicon wafer which is supplied abundantly and inexpensively in the market and has conductivity is used as the material of the non-magnetic substrate.

【００４６】非磁性基体９１にレジスト９２を塗布した
後、これを図１に示した電子ビーム描画装置７１に具備
された可動ステージ７８の第１の回転ステージ７８ａ上
に載置する。そして、電子ビーム９３をレジスト９２に
照射して、プリフォーマット情報信号に対応したパター
ンを電子ビーム描画する（図３（Ｂ））。電子ビーム描
画すべきパターンは、図１０に示したように磁気ヘッド
が磁気ディスク表面をトラッキング走査するときに磁気
ヘッドが描く円弧状の軌道に沿って形成されたパターン
である。この磁気ヘッドの走査軌道の円弧形状は、図１
１に示すように、磁気ディスク５２の回転中心５９とヘ
ッドアクチュエータの回転軸５８との距離（以下これを
「ディスク−アクチュエータ距離」と呼ぶ）と、ヘッド
アクチュエータの回転軸５８と磁気ヘッド５１との距離
（以下これを「ヘッド−アクチュエータ距離」と呼ぶ）
とによって決定される。従って、電子ビーム９３を非磁
性基体９１に照射する際には、図２において、第１の直
線ステージ７８ｂによって、非磁性基体９１（図２の被
描画試料７７）を回転させるための第１の回転ステージ
７８ａの回転軸と第２の回転ステージ７８ｃの回転軸と
の距離Ｃを、ディスク−アクチュエータ距離に一致させ
る。また、第２の直線ステージ７８ｄによって、電子ビ
ーム９３（図２の電子ビーム７３）の照射位置と第２の
回転ステージ７８ｃの回転軸との距離Ａを、ヘッド−ア
クチュエータ距離に一致させる。この状態で、電子ビー
ム９３が非磁性基体９１の中心近傍（内周）から外縁
（外周）まで走査されるように第２の回転ステージ７８
ｃを回転させることにより、電子ビーム９３は、磁気ヘ
ッドのトラッキング走査軌道と同じ軌道を描いて、非磁
性基体９１に塗布されたレジスト９２を露光していく。
この露光工程を行った後、第１の回転ステージ７８ａを
所定の角度回転させて、同様の露光工程を施す。これら
の工程を繰り返すことにより、非磁性基体９１の全面
に、プリフォーマット情報信号に対応したパターンが電
子ビーム露光される。After applying a resist 92 to the non-magnetic substrate 91, the resist 92 is mounted on the first rotary stage 78a of the movable stage 78 provided in the electron beam drawing apparatus 71 shown in FIG. Then, the resist 92 is irradiated with the electron beam 93, and a pattern corresponding to the preformat information signal is drawn by the electron beam (FIG. 3B). The pattern to be drawn by the electron beam is a pattern formed along an arc-shaped orbit drawn by the magnetic head when the magnetic head performs tracking scanning on the surface of the magnetic disk as shown in FIG. The arc shape of the scanning track of this magnetic head is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, the distance between the rotation center 59 of the magnetic disk 52 and the rotation axis 58 of the head actuator (hereinafter referred to as “disk-actuator distance”) and the distance between the rotation axis 58 of the head actuator and the magnetic head 51. Distance (hereinafter referred to as "head-actuator distance")
And is determined by Therefore, when irradiating the nonmagnetic substrate 91 with the electron beam 93, the first linear stage 78b in FIG. 2 uses the first linear stage 78b to rotate the nonmagnetic substrate 91 (the sample 77 to be drawn in FIG. 2). The distance C between the rotation axis of the rotation stage 78a and the rotation axis of the second rotation stage 78c is made equal to the disk-actuator distance. Further, the distance A between the irradiation position of the electron beam 93 (the electron beam 73 in FIG. 2) and the rotation axis of the second rotation stage 78c is made to match the head-actuator distance by the second linear stage 78d. In this state, the second rotary stage 78 is moved so that the electron beam 93 is scanned from near the center (inner circumference) of the non-magnetic substrate 91 to the outer edge (outer circumference).
By rotating c, the electron beam 93 exposes the resist 92 applied to the non-magnetic substrate 91 along the same trajectory as the tracking scan trajectory of the magnetic head.
After performing this exposure step, the first rotation stage 78a is rotated by a predetermined angle, and the same exposure step is performed. By repeating these steps, a pattern corresponding to the preformat information signal is exposed to the electron beam on the entire surface of the non-magnetic substrate 91.

【００４７】本実施の形態においてはさらに、図４
（Ａ）に示すように、レジスト９２が塗布された非磁性
基体９１の内周から外周に向けて矢印９７の向きに電子
ビーム９３が相対移動する際、非磁性基体９１の中心か
ら電子ビーム９３が照射される位置までの距離が大きく
なるに従って電子ビーム９３のビーム電流を大きくす
る。ハードディスクドライブに具備される磁気ディスク
に記録すべきディジタル情報信号の磁化ビット長は、磁
気ディスクのトラック半径に比例して、内周側から外周
側にいくに従って大きくなる。従って、マスター情報担
体に形成すべき強磁性薄膜パターンの幅は、非磁性基体
９１の中心からの距離に比例して大きくする必要があ
る。電子ビーム９３のビーム電流を大きくすると、電子
ビーム９３のビーム径が大きくなる。図４（Ａ）に示す
ように、非磁性基体９１の中心から電子ビーム９３の照
射位置までの距離に比例してビーム電流を変化させれ
ば、電子ビーム９３のビーム径がそれに伴って変化する
ので、図４（Ｂ）に示すように、非磁性基体９１の中心
から遠くなるに従って太い露光パターン９８が得られ
る。従って、外周側の幅広のパターンも１回の電子ビー
ム走査によって露光することができる。その結果、パタ
ーン露光時間の短縮化を図ることができる。In this embodiment, FIG.
As shown in (A), when the electron beam 93 relatively moves in the direction of the arrow 97 from the inner circumference to the outer circumference of the non-magnetic substrate 91 on which the resist 92 is applied, the electron beam 93 moves from the center of the non-magnetic substrate 91. The beam current of the electron beam 93 is increased as the distance to the position where is irradiated is increased. The magnetization bit length of the digital information signal to be recorded on the magnetic disk provided in the hard disk drive increases in proportion to the track radius of the magnetic disk from the inner circumference to the outer circumference. Therefore, the width of the ferromagnetic thin film pattern to be formed on the master information carrier needs to be increased in proportion to the distance from the center of the non-magnetic substrate 91. When the beam current of the electron beam 93 is increased, the beam diameter of the electron beam 93 increases. As shown in FIG. 4A, if the beam current is changed in proportion to the distance from the center of the non-magnetic substrate 91 to the irradiation position of the electron beam 93, the beam diameter of the electron beam 93 changes accordingly. Therefore, as shown in FIG. 4B, the exposure pattern 98 becomes thicker as the distance from the center of the non-magnetic substrate 91 increases. Therefore, a wide pattern on the outer peripheral side can be exposed by one electron beam scanning. As a result, the pattern exposure time can be reduced.

【００４８】上述の露光工程を非磁性基体９１の全面に
おいて行った後、レジスト９２を現像して（図３
（Ｃ））、ＣＦ₄イオン９４などの反応性ガスイオンを
用いた反応性イオンエッチングを行うことにより（図３
（Ｄ））、非磁性基体９１に凹凸形状を形成する。な
お、凹凸形状の形成においては、Ａｒイオンなどを用い
たイオンエッチングを用いてもよいが、本実施の形態に
おいては非磁性基体９１の材料としてシリコンを使用し
ているため、反応性ガスを用いた反応性イオンエッチン
グを用いることにより、Ａｒイオンを用いたイオンエッ
チングに比べて格段に高速にエッチングを行うことがで
きる。After the above-described exposure process is performed on the entire surface of the non-magnetic substrate 91, the resist 92 is developed (FIG. 3).
(C)), by performing reactive ion etching using reactive gas ions such as CF ₄ ions 94 (FIG. 3).
(D)) An uneven shape is formed on the non-magnetic substrate 91. In the formation of the uneven shape, ion etching using Ar ions or the like may be used. However, in this embodiment, since silicon is used as the material of the nonmagnetic substrate 91, a reactive gas is used. By using the reactive ion etching, the etching can be performed at a much higher speed than the ion etching using Ar ions.

【００４９】凹凸形状を形成した後に、残留したレジス
ト（残留レジスト層）９２を除去することなく、非磁性
基体９１上にＣｏ等からなる強磁性薄膜９５をスパッタ
リング法などの一般的な薄膜形成方法によって製膜する
（図３（Ｅ））。最後に残留レジスト層９２と残留レジ
スト層上に堆積している強磁性薄膜とを有機溶剤などを
用いて除去する（図３（Ｆ））。これで、所望の強磁性
薄膜パターン９６が形成されたマスター情報担体が完成
する。After forming the concavo-convex shape, a ferromagnetic thin film 95 made of Co or the like is formed on the non-magnetic substrate 91 without removing the remaining resist (residual resist layer) 92 by a general thin film forming method such as a sputtering method. (FIG. 3E). Finally, the residual resist layer 92 and the ferromagnetic thin film deposited on the residual resist layer are removed using an organic solvent or the like (FIG. 3F). This completes the master information carrier on which the desired ferromagnetic thin film pattern 96 has been formed.

【００５０】強磁性薄膜９５を非磁性基体９１の表面に
製膜する方法は、スパッタリング法に限定されるもので
はなく、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ
法、めっき法などの従来から行われている一般的な薄膜
形成方法を用いることができる。また、強磁性薄膜９５
は、マスター情報担体上に形成される強磁性薄膜パター
ンを構成するものである。強磁性薄膜９５の材料はＣｏ
に限定されるものではなく、硬質磁性材料、半硬質磁性
材料、軟質磁性材料を問わず、多くの種類の磁性材料を
用いることができる。情報信号が記録される磁気記録媒
体の種類によらずに十分な記録磁界を発生させるために
は、磁性材料の飽和磁束密度が大きいほどよい。特に、
２０００エルステッドを超える高保磁力の磁気ディスク
や磁性層の厚みの大きいフレキシブルディスクに対して
は、飽和磁束密度が０．８テスラ以下になると十分な記
録を行うことができない場合があるので、一般的には、
０．８テスラ以上、好ましくは１．０テスラ以上の飽和
磁束密度を有する磁性材料が用いられる。The method for forming the ferromagnetic thin film 95 on the surface of the nonmagnetic substrate 91 is not limited to the sputtering method, but may be a vacuum deposition method, an ion plating method, a CVD method, or the like.
Conventional thin film forming methods such as a plating method and a plating method can be used. The ferromagnetic thin film 95
Constitutes a ferromagnetic thin film pattern formed on a master information carrier. The material of the ferromagnetic thin film 95 is Co.
However, the present invention is not limited to this, and many types of magnetic materials can be used regardless of a hard magnetic material, a semi-hard magnetic material, or a soft magnetic material. In order to generate a sufficient recording magnetic field irrespective of the type of the magnetic recording medium on which the information signal is recorded, the larger the saturation magnetic flux density of the magnetic material, the better. In particular,
For a magnetic disk having a high coercive force exceeding 2000 Oersted or a flexible disk having a large magnetic layer thickness, sufficient recording may not be performed if the saturation magnetic flux density is 0.8 Tesla or less. Is
A magnetic material having a saturation magnetic flux density of 0.8 Tesla or more, preferably 1.0 Tesla or more is used.

【００５１】本実施の形態１においては、図３に示すよ
うに、非磁性基体９１上にレジスト９２を塗布して電子
ビーム描画装置によってパターン露光を行ない、現像
し、エッチングにより非磁性基体９１に凹凸パターンを
形成し、強磁性薄膜９５を製膜し、残留レジスト層と残
留レジスト層上に堆積した強磁性薄膜とを除去すること
により、非磁性基体９１の凹部にのみ強磁性薄膜を堆積
した。In the first embodiment, as shown in FIG. 3, a resist 92 is applied on a non-magnetic substrate 91, pattern exposure is performed by an electron beam lithography apparatus, development is performed, and etching is performed on the non-magnetic substrate 91 by etching. By forming a concavo-convex pattern, forming a ferromagnetic thin film 95, and removing the residual resist layer and the ferromagnetic thin film deposited on the residual resist layer, the ferromagnetic thin film was deposited only in the concave portions of the nonmagnetic substrate 91. .

【００５２】しかしながら、本発明の強磁性薄膜パター
ンの形成方法はこれに限定されない。例えば、非磁性基
体に凹凸パターンを形成後に、残留レジスト層を除去し
てから強磁性薄膜を堆積し、その後にＣＭＰ（ケミカル
メカニカルポリッシュ）等の研磨処理を施すことによ
り、非磁性基体の凸部上に形成された強磁性薄膜を除去
するとともに、非磁性基体の表面を平坦化しても良い。
これにより、非磁性基体に形成した凹凸形状の凹部のみ
に強磁性薄膜が堆積した、強磁性薄膜パターンが形成さ
れる。あるいは、電子ビーム描画装置によってパターン
露光を行ない、現像した後に、強磁性薄膜を製膜し、レ
ジスト層およびレジスト層上に堆積した強磁性薄膜を除
去する、いわゆるリフトオフ法によっても強磁性薄膜パ
ターンを形成することができる。この場合、平坦な非磁
性基体の表面上に所定パターンの強磁性薄膜が突出して
堆積される。However, the method for forming a ferromagnetic thin film pattern of the present invention is not limited to this. For example, after forming a concavo-convex pattern on a non-magnetic substrate, the residual resist layer is removed, a ferromagnetic thin film is deposited, and then a polishing process such as CMP (chemical mechanical polishing) is performed. The ferromagnetic thin film formed thereon may be removed, and the surface of the non-magnetic substrate may be flattened.
As a result, a ferromagnetic thin film pattern in which the ferromagnetic thin film is deposited only on the concave and convex portions formed on the nonmagnetic substrate is formed. Alternatively, the ferromagnetic thin film pattern is also formed by a so-called lift-off method in which pattern exposure is performed by an electron beam lithography apparatus, and after development, a ferromagnetic thin film is formed, and the resist layer and the ferromagnetic thin film deposited on the resist layer are removed. Can be formed. In this case, a ferromagnetic thin film having a predetermined pattern is protruded and deposited on the surface of the flat nonmagnetic substrate.

【００５３】以上のように、本実施の形態１において
は、非磁性基体上にレジストを塗布する工程と、電子ビ
ームによってパターン露光を行う工程と、レジストを現
像する工程と、イオンエッチングすることにより非磁性
基体に凹凸形状を形成する工程と、強磁性薄膜を形成す
る工程と、残留レジスト層および残留レジスト層上に堆
積した強磁性薄膜を除去する工程とを経て、マスター情
報担体を製造する。電子ビームによってパターン露光を
行う工程においては、電子ビーム描画装置に具備された
可動ステージによって、レジストが塗布された非磁性基
体を、磁気ヘッドのトラッキング走査軌道に対応させて
移動させることにより、電子ビームによるパターン露光
を高速かつ高精度に行うことができる。この結果、信頼
性の高いマスター情報担体を製造することが可能とな
る。As described above, in the first embodiment, the step of applying a resist on a non-magnetic substrate, the step of performing pattern exposure with an electron beam, the step of developing the resist, and the step of ion etching are performed. A master information carrier is manufactured through a step of forming a concavo-convex shape on the non-magnetic substrate, a step of forming a ferromagnetic thin film, and a step of removing the residual resist layer and the ferromagnetic thin film deposited on the residual resist layer. In the step of performing pattern exposure using an electron beam, the non-magnetic substrate coated with the resist is moved by a movable stage provided in the electron beam drawing apparatus in accordance with the tracking scanning trajectory of the magnetic head, thereby obtaining the electron beam. Can be performed at high speed and with high accuracy. As a result, a highly reliable master information carrier can be manufactured.

【００５４】（実施の形態２）図５は、本発明の第２の
実施の形態にかかるマスター情報担体の製造方法を、マ
スター情報担体の断面図を用いてプロセス順に示したも
のである。(Embodiment 2) FIG. 5 shows a method of manufacturing a master information carrier according to a second embodiment of the present invention in the order of processes using a cross-sectional view of the master information carrier.

【００５５】まず、図５（Ａ）に示すように、表面粗度
が細かくて平坦性の良好な非磁性基体１１１上に、強磁
性薄膜１１２を形成する。本実施の形態においては、非
磁性基体１１１としてシリコンウエハーを用いた。First, as shown in FIG. 5A, a ferromagnetic thin film 112 is formed on a nonmagnetic substrate 111 having a fine surface roughness and good flatness. In the present embodiment, a silicon wafer is used as the nonmagnetic substrate 111.

【００５６】次に、強磁性薄膜１１２の表面にＰＭＭＡ
（ポリメチルメタクリレート）などの高感度の電子ビー
ム感光性レジスト１１３（以下、単にレジストと呼ぶ）
を塗布する（図５（Ｂ））。Next, PMMA is applied to the surface of the ferromagnetic thin film 112.
(Polymethyl methacrylate) or other high-sensitivity electron beam photosensitive resist 113 (hereinafter simply referred to as resist)
Is applied (FIG. 5B).

【００５７】次いで、これを図１に示した電子ビーム描
画装置７１に具備された可動ステージ７８の第１の回転
ステージ７８ａ上に載置する。そして、電子ビーム１１
４をレジスト１１３に照射して、プリフォーマット情報
信号に対応したパターンを電子ビーム描画する（図５
（Ｃ））。電子ビーム描画すべきパターンは、図１０に
示したように磁気ヘッドが磁気ディスク表面をトラッキ
ング走査するときに磁気ヘッドが描く円弧状の軌道に沿
って形成されたパターンである。この磁気ヘッドの走査
軌道の円弧形状は、図１１に示すように、磁気ディスク
５２の回転中心５９とヘッドアクチュエータの回転軸５
８との距離（以下これを「ディスク−アクチュエータ距
離」と呼ぶ）と、ヘッドアクチュエータの回転軸５８と
磁気ヘッド５１との距離（以下これを「ヘッド−アクチ
ュエータ距離」と呼ぶ）によって決定される。従って、
電子ビーム１１４を非磁性基体１１１に照射する際に
は、図２において、第１の直線ステージ７８ｂによっ
て、非磁性基体１１１（図２の被描画試料７７）を回転
させるための第１の回転ステージ７８ａの回転軸と第２
の回転ステージ７８ｃの回転軸との距離Ｃを、ディスク
−アクチュエータ距離に一致させる。また、第２の直線
ステージ７８ｄによって、電子ビーム１１４（図２の電
子ビーム７３）の照射位置と第２の回転ステージ７８ｃ
の回転軸との距離Ａを、ヘッド−アクチュエータ距離に
一致させる。この状態で、電子ビーム１１４が非磁性基
体１１１の中心近傍（内周）から外縁（外周）まで走査
されるように第２の回転ステージ７８ｃを回転させるこ
とにより、電子ビーム１１４は、磁気ヘッドのトラッキ
ング走査軌道と同じ軌道を描いて、非磁性基体１１１に
塗布されたレジスト１１３を露光していく。この露光工
程を行った後、第１の回転ステージ７８ａを所定の角度
回転させて、同様の露光工程を施す。これらの工程を繰
り返すことにより、非磁性基体１１１の全面に、プリフ
ォーマット情報信号に対応したパターンが電子ビーム露
光される。Next, this is mounted on the first rotary stage 78a of the movable stage 78 provided in the electron beam drawing apparatus 71 shown in FIG. And the electron beam 11
4 is irradiated on the resist 113, and a pattern corresponding to the preformat information signal is drawn by the electron beam (FIG. 5).
(C)). The pattern to be drawn by the electron beam is a pattern formed along an arc-shaped orbit drawn by the magnetic head when the magnetic head performs tracking scanning on the surface of the magnetic disk as shown in FIG. As shown in FIG. 11, the arc shape of the scanning trajectory of the magnetic head corresponds to the rotation center 59 of the magnetic disk 52 and the rotation axis 5 of the head actuator.
8 (hereinafter referred to as “disk-actuator distance”) and the distance between the rotation axis 58 of the head actuator and the magnetic head 51 (hereinafter referred to as “head-actuator distance”). Therefore,
In irradiating the nonmagnetic substrate 111 with the electron beam 114, a first rotating stage for rotating the nonmagnetic substrate 111 (the sample 77 to be drawn in FIG. 2) by the first linear stage 78b in FIG. 78a rotating shaft and the second
Of the rotation stage 78c with the rotation axis of the rotation stage 78c is made equal to the disk-actuator distance. The irradiation position of the electron beam 114 (the electron beam 73 in FIG. 2) and the second rotation stage 78c are controlled by the second linear stage 78d.
Is made equal to the head-actuator distance. In this state, the second rotating stage 78c is rotated so that the electron beam 114 is scanned from the vicinity (inner periphery) of the non-magnetic substrate 111 to the outer periphery (outer periphery). The resist 113 applied to the non-magnetic substrate 111 is exposed while drawing the same track as the tracking scan track. After performing this exposure step, the first rotation stage 78a is rotated by a predetermined angle, and the same exposure step is performed. By repeating these steps, a pattern corresponding to the preformat information signal is exposed to the electron beam on the entire surface of the nonmagnetic substrate 111.

【００５８】本実施の形態においてはさらに、図６
（Ａ）に示すように、レジスト１１３が塗布された非磁
性基体１１１の内周から外周に向けて矢印１２１の向き
に電子ビーム１１４が相対移動する際、非磁性基体１１
１の中心から電子ビーム１１４が照射される位置までの
距離が大きくなるに従って第２の回転ステージ７８ｃの
回転速度を遅くする。図６（Ａ）に示す矢印１２１は、
非磁性基体１１１に対する電子ビーム１１４の相対速度
を矢印の長さおよび太さで表現したもので、矢印１２１
が長くて太いほど、該相対速度が大きいことを意味す
る。ハードディスクドライブに具備される磁気ディスク
に記録されるディジタル情報信号の磁化ビット長は、磁
気ディスクのトラック半径に比例して、内周側から外周
側にいくに従って大きくなる。従って、マスター情報担
体に形成すべき強磁性薄膜パターンの幅は、非磁性基体
１１１の中心からの距離に比例して大きくする必要があ
る。図６（Ａ）に示すように、非磁性基体１１１の中心
から電子ビーム１１４の照射位置までの距離が大きくな
るに従って（即ち、外周にいくにしたがって）、非磁性
基体１１１に対する電子ビーム１１４の相対速度を遅く
することにより、電子ビーム１０４がレジスト１０３を
照射する時間が長くなるので、図６（Ｂ）に示すよう
に、非磁性基体１１１の中心から遠くなるに従って太い
露光パターン１１８が得られる。従って、外周側の幅広
のパターンも１回の電子ビーム走査によって露光するこ
とができる。その結果、パターン露光時間の短縮化を図
ることができる。In this embodiment, FIG.
As shown in (A), when the electron beam 114 relatively moves in the direction of arrow 121 from the inner periphery to the outer periphery of the nonmagnetic substrate 111 on which the resist 113 is applied, the nonmagnetic substrate 11
As the distance from the center of 1 to the position where the electron beam 114 is irradiated increases, the rotation speed of the second rotation stage 78c is reduced. The arrow 121 shown in FIG.
The relative speed of the electron beam 114 with respect to the non-magnetic substrate 111 is represented by the length and thickness of the arrow.
The longer and thicker the, the higher the relative speed. The magnetization bit length of a digital information signal recorded on a magnetic disk provided in a hard disk drive increases in proportion to the track radius of the magnetic disk from the inner circumference to the outer circumference. Therefore, the width of the ferromagnetic thin film pattern to be formed on the master information carrier needs to be increased in proportion to the distance from the center of the nonmagnetic substrate 111. As shown in FIG. 6A, as the distance from the center of the non-magnetic substrate 111 to the irradiation position of the electron beam 114 increases (that is, toward the outer periphery), the relative position of the electron beam 114 to the non-magnetic substrate 111 increases. By reducing the speed, the time during which the electron beam 104 irradiates the resist 103 becomes longer, so that as the distance from the center of the non-magnetic substrate 111 increases, a thicker exposure pattern 118 is obtained, as shown in FIG. Therefore, a wide pattern on the outer peripheral side can be exposed by one electron beam scanning. As a result, the pattern exposure time can be reduced.

【００５９】上述の露光工程を非磁性基体１１１の全面
において行った後、レジスト１１３を現像して（図５
（Ｄ））、Ａｒイオン１１５などを用いたイオンエッチ
ングを行うことにより（図５（Ｅ））、強磁性薄膜１１
２に凹凸形状を形成する。その後、酸素プラズマなどを
用いたアッシング処理により、強磁性薄膜１１２上に残
留するレジスト１１３を除去する（図５（Ｆ））。これ
で、所望の強磁性薄膜パターン１１６を有するマスター
情報担体が完成する。After the above-described exposure step is performed on the entire surface of the non-magnetic substrate 111, the resist 113 is developed (FIG. 5).
(D)), the ferromagnetic thin film 11 is formed by performing ion etching using Ar ions 115 or the like (FIG. 5E).
2 is formed with an uneven shape. After that, the resist 113 remaining on the ferromagnetic thin film 112 is removed by an ashing process using oxygen plasma or the like (FIG. 5F). Thus, a master information carrier having a desired ferromagnetic thin film pattern 116 is completed.

【００６０】以上のように、本実施の形態２において
は、非磁性基体上に強磁性薄膜を形成する工程と、強磁
性薄膜上にレジストを塗布する工程と、電子ビームによ
ってパターン露光を行う工程と、レジストを現像する工
程と、イオンエッチングすることにより強磁性薄膜に凹
凸形状を形成する工程と、強磁性薄膜上に残留するレジ
スト層を除去する工程とを経て、マスター情報担体を製
造する。電子ビームによってパターン露光を行う工程に
おいては、電子ビーム描画装置に具備された可動ステー
ジによって、レジストが塗布された非磁性基体を、磁気
ヘッドのトラッキング走査軌道に対応させて移動させる
ことにより、電子ビームによるパターン露光を高速かつ
高精度に行うことができる。この結果、信頼性の高いマ
スター情報担体を製造することが可能となる。As described above, in the second embodiment, a step of forming a ferromagnetic thin film on a nonmagnetic substrate, a step of applying a resist on the ferromagnetic thin film, and a step of performing pattern exposure with an electron beam And a step of developing the resist, a step of forming irregularities on the ferromagnetic thin film by ion etching, and a step of removing the resist layer remaining on the ferromagnetic thin film, thereby producing a master information carrier. In the step of performing pattern exposure using an electron beam, the non-magnetic substrate coated with the resist is moved by a movable stage provided in the electron beam drawing apparatus in accordance with the tracking scanning trajectory of the magnetic head, thereby obtaining the electron beam. Can be performed at high speed and with high accuracy. As a result, a highly reliable master information carrier can be manufactured.

【００６１】以上の実施の形態１，２では、電子ビーム
によってパターン露光を行う工程において、可動ステー
ジ７８を用いて、電子ビームの照射位置が磁気ヘッドの
トラッキング走査軌道と同じ軌道を描くように、電子ビ
ームの照射位置を非磁性基体に対して相対移動させた。
このとき、電子ビームの照射位置が非磁性基体の内周側
から外周側に移動するに従って、実施の形態１ではビー
ム電流を大きくし、実施の形態２では電子ビームの照射
位置の相対移動速度を遅くした。しかしながら、本発明
はこのような構成に限定されない。例えば、実施の形態
１の図３の製造プロセスにおいて、パターン露光工程で
は、実施の形態２の図６に示したように、電子ビームの
照射位置が非磁性基体の内周側から外周側に移動するに
従って、電子ビームの照射位置の相対移動速度を遅くし
ても良い。また、実施の形態２の図５の製造プロセスに
おいて、パターン露光工程では、実施の形態１の図４に
示したように、電子ビームの照射位置が非磁性基体の内
周側から外周側に移動するに従って、ビーム電流を大き
くしても良い。In the first and second embodiments, in the step of performing the pattern exposure with the electron beam, the movable stage 78 is used so that the irradiation position of the electron beam draws the same trajectory as the tracking scan trajectory of the magnetic head. The irradiation position of the electron beam was moved relative to the nonmagnetic substrate.
At this time, as the irradiation position of the electron beam moves from the inner periphery to the outer periphery of the nonmagnetic substrate, the beam current is increased in the first embodiment, and the relative movement speed of the irradiation position of the electron beam is increased in the second embodiment. I was late. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, in the manufacturing process of FIG. 3 of the first embodiment, in the pattern exposure step, as shown in FIG. 6 of the second embodiment, the irradiation position of the electron beam moves from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the nonmagnetic substrate. Accordingly, the relative movement speed of the irradiation position of the electron beam may be reduced. In the manufacturing process of FIG. 5 of the second embodiment, in the pattern exposure step, as shown in FIG. 4 of the first embodiment, the irradiation position of the electron beam moves from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the nonmagnetic substrate. The beam current may be increased accordingly.

【００６２】また、図４（Ａ）、図６（Ａ）では、電子
ビームの照射位置を非磁性基体の内周側から外周側に移
動させる場合を示しているが、これとは逆に非磁性基体
の外周側から内周側に移動させても構わない。この場合
も、電子ビームの照射位置に応じて、ビーム電流や移動
速度を変化させることが好ましい。FIGS. 4A and 6A show a case where the irradiation position of the electron beam is moved from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the non-magnetic base. The magnetic substrate may be moved from the outer peripheral side to the inner peripheral side. Also in this case, it is preferable to change the beam current and the moving speed according to the irradiation position of the electron beam.

【００６３】[0063]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マスター情報担体上の所定の位置に、かつ所定の形状
に、複雑かつ微細な強磁性薄膜パターンを高精度で形成
することができる。この結果、信頼性の高いマスター情
報担体を製造することができる。As described above, according to the present invention,
A complicated and fine ferromagnetic thin film pattern can be formed at a predetermined position on the master information carrier and in a predetermined shape with high precision. As a result, a highly reliable master information carrier can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】 本発明の実施の形態１および２にかかる電子
ビーム描画装置の構造を模式的に示す断面図FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a structure of an electron beam writing apparatus according to first and second embodiments of the present invention.

【図２】 図１の電子ビーム描画装置に具備され、被描
画試料を載置するための可動ステージの構造を模式的に
示す斜視図FIG. 2 is a perspective view schematically showing a structure of a movable stage provided in the electron beam drawing apparatus of FIG. 1 for mounting a sample to be drawn.

【図３】 本発明の実施の形態１にかかるマスター情報
担体の製造方法を工程順に示す断面図FIG. 3 is a sectional view showing a method for manufacturing the master information carrier according to the first embodiment of the present invention in the order of steps;

【図４】 図４（Ａ）は非磁性基体の内周側から外周側
にいくに従って、電子ビームのビーム電流を増加させて
電子ビーム露光する様子を模式的に示した説明図。図４
（Ｂ）は、このような露光の後、現像して得られる残留
レジストパターンを模式的に示した概念図。FIG. 4A is an explanatory diagram schematically showing a state in which the electron beam exposure is performed by increasing the beam current of the electron beam from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the nonmagnetic substrate. FIG.
(B) is a conceptual diagram schematically showing a residual resist pattern obtained by developing after such exposure.

【図５】 本発明の実施の形態２にかかるマスター情報
担体の製造方法を工程順に示す断面図FIG. 5 is a sectional view showing a method of manufacturing a master information carrier according to the second embodiment of the present invention in the order of steps.

【図６】 図６（Ａ）は非磁性基体の内周側から外周側
にいくに従って、電子ビームの照射位置の非磁性基体に
対する相対速度を遅くして電子ビーム露光する様子を模
式的に示した説明図。図６（Ｂ）は、このような露光の
後、現像して得られる残留レジストパターンを模式的に
示した概念図。FIG. 6A schematically shows a state in which the relative speed of the irradiation position of the electron beam with respect to the non-magnetic substrate is decreased and the electron beam exposure is performed from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the non-magnetic substrate. FIG. FIG. 6B is a conceptual diagram schematically showing a residual resist pattern obtained by developing after such exposure.

【図７】 従来のフォトマスクを用いて強磁性薄膜パタ
ーンを形成してマスター情報担体を製造する方法を工程
順に示す断面図FIG. 7 is a sectional view showing a method of manufacturing a master information carrier by forming a ferromagnetic thin film pattern using a conventional photomask in the order of steps.

【図８】 従来の一般的な電子ビーム描画装置の構造を
模式的に示す断面図FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a conventional general electron beam writing apparatus.

【図９】 マスター情報担体の構造を模式的に示す平面
図FIG. 9 is a plan view schematically showing the structure of a master information carrier.

【図１０】 図９のマスター情報担体の表面に形成され
たプリフォーマット情報信号に対応する強磁性薄膜パタ
ーンの一例を示す拡大図10 is an enlarged view showing an example of a ferromagnetic thin film pattern corresponding to a preformat information signal formed on the surface of the master information carrier of FIG.

【図１１】 一般的なハードディスクドライブの構造を
模式的に示す平面図FIG. 11 is a plan view schematically showing the structure of a general hard disk drive.

【図１２】 矩形パターンを電子ビーム露光する際に、
電子ビーム径の大きさの違いが露光パターンに及ぼす影
響を説明するための図FIG. 12 shows a rectangular pattern exposed to an electron beam.
Diagram for explaining the effect of the difference in electron beam diameter on the exposure pattern

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１１ 基体 １２ 強磁性薄膜 １３ レジスト １４ フォトマスク １５ 光 １６ Ａｒイオン １７ 強磁性薄膜パターン ２１ 電子ビーム描画装置 ２２ 電子銃 ２３ 電子ビーム ２４ 電子ビーム成形レンズ ２５ 電子ビーム偏向器 ２６ アパーチャ ２７ 被描画試料 ２８ ＸＹステージ ３１ 基体 ３２ 強磁性薄膜パターンの形成領域 ５１ 磁気ヘッド ５２ 磁気ディスク ５３ ヘッドサスペンション ５４ ヘッドアーム ５５ ボイスコイルモータ ５６ 筐体 ５７ 磁気ヘッドの走査軌跡 ５８ ヘッドアクチュエータの回転軸 ５９ 磁気ディスクの回転軸 ６１ 設計パターン ６２ 電子ビームの走査方向 ６４ 大きな径の電子ビームスポット ６５ 小さな径の電子ビームスポット ６７，６８ 露光パターン ７１ 電子ビーム描画装置 ７２ 電子銃 ７３ 電子ビーム ７４ 電子ビーム成形レンズ ７６ アパーチャ ７７ 被描画試料 ７８ 可動ステージ ７８ａ 第１の回転ステージ ７８ｂ 第１の直線ステージ ７８ｃ 第２の回転ステージ ７８ｄ 第２の直線ステージ ８１ａ 第１の回転ステージの可動方向 ８１ｂ 第１の直線ステージの可動方向 ８１ｃ 第２の回転ステージの可動方向 ８１ｄ 第２の直線ステージの可動方向 ８２ 電子ビームの被描画試料への照射位置の軌跡 ９１ 非磁性基体 ９２ 電子ビーム感光性レジスト ９３ 電子ビーム ９４ ＣＦ₄イオン ９５ 強磁性薄膜 ９６ 強磁性薄膜パターン １１１ 非磁性基体 １１２ 強磁性薄膜 １１３ 電子ビーム感光性レジスト １１４ 電子ビーム １１５ Ａｒイオン １１６ 強磁性薄膜パターン １２１ 非磁性基体の移動方向DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Substrate 12 Ferromagnetic thin film 13 Resist 14 Photomask 15 Light 16 Ar ion 17 Ferromagnetic thin film pattern 21 Electron beam drawing device 22 Electron gun 23 Electron beam 24 Electron beam shaping lens 25 Electron beam deflector 26 Aperture 27 Sample to be drawn 28 XY Stage 31 Base 32 Forming area of ferromagnetic thin film pattern 51 Magnetic head 52 Magnetic disk 53 Head suspension 54 Head arm 55 Voice coil motor 56 Housing 57 Magnetic head scanning locus 58 Head actuator rotation axis 59 Magnetic disk rotation axis 61 Design Pattern 62 Electron beam scanning direction 64 Large diameter electron beam spot 65 Small diameter electron beam spot 67, 68 Exposure pattern 71 Electron beam drawing device 72 Electron gun 73 Electron beam 7 Electron beam shaping lens 76 Aperture 77 Sample to be drawn 78 Movable stage 78a First rotating stage 78b First linear stage 78c Second rotating stage 78d Second linear stage 81a Moving direction of first rotating stage 81b First Moving direction of the linear stage 81c Moving direction of the second rotating stage 81d Moving direction of the second linear stage 82 Trace of the irradiation position of the electron beam on the sample to be drawn 91 Nonmagnetic substrate 92 Electron beam photosensitive resist 93 Electron beam 94 CF ₄ ion 95 Ferromagnetic thin film 96 Ferromagnetic thin film pattern 111 Nonmagnetic substrate 112 Ferromagnetic thin film 113 Electron beam photosensitive resist 114 Electron beam 115 Ar ion 116 Ferromagnetic thin film pattern 121 Moving direction of nonmagnetic substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H097 AA03 AB05 CA16 GB04 LA20 5C034 BB06 5D112 GA20 5F056 AA20 CB03 CB21  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H097 AA03 AB05 CA16 GB04 LA20 5C034 BB06 5D112 GA20 5F056 AA20 CB03 CB21

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 基体と、前記基体の表面に形成されたデ
ィジタル情報信号に対応する強磁性薄膜パターンとを有
し、前記強磁性薄膜パターンが形成された側の面を磁気
記録媒体の表面に密接させることにより、前記磁気記録
媒体に前記ディジタル情報信号を磁気的に記録するため
のマスター情報担体を製造する方法であって、 前記基体の表面にレジスト層を形成する工程と、前記レ
ジスト層を電子ビーム描画装置を用いてパターン露光を
行う工程と、前記レジスト層を現像する工程とを有し、 前記電子ビーム描画装置は、前記レジスト層が形成され
た前記基体を載置して、前記基体をその表面と平行な方
向に機械的に移動させることが可能な可動ステージを具
備し、 前記パターン露光の工程において、電子ビームが前記レ
ジスト層に照射される位置と前記基体との相対移動を、
前記磁気記録媒体に記録されたディジタル情報信号を再
生するための、磁気記録再生装置に具備された磁気ヘッ
ドが、前記磁気記録媒体表面をトラッキング走査する軌
道に対応させることを特徴とするマスター情報担体の製
造方法。1. A magnetic recording medium comprising: a base; and a ferromagnetic thin film pattern corresponding to a digital information signal formed on a surface of the base, and a surface on which the ferromagnetic thin film pattern is formed is formed on a surface of the magnetic recording medium. A method for manufacturing a master information carrier for magnetically recording the digital information signal on the magnetic recording medium by bringing the resist layer into close contact with each other, comprising: forming a resist layer on a surface of the base; A step of performing pattern exposure using an electron beam drawing apparatus, and a step of developing the resist layer. The electron beam drawing apparatus places the base on which the resist layer is formed, and A movable stage capable of mechanically moving the resist layer in a direction parallel to the surface thereof. In the pattern exposure process, the resist layer is irradiated with an electron beam. Position and the relative movement of the substrate,
A master information carrier for reproducing a digital information signal recorded on the magnetic recording medium, wherein a magnetic head provided in the magnetic recording / reproducing apparatus corresponds to an orbit for performing tracking scanning on the surface of the magnetic recording medium. Manufacturing method. 【請求項２】 前記レジスト層を現像する工程の後に、
エッチングにより前記基体の表面に凹凸形状を形成する
工程と、前記凹凸形状が形成された前記基体と前記凹凸
形状を形成後に残留した前記レジスト層の表面に強磁性
薄膜を堆積する工程と、前記残留レジスト層および前記
残留レジスト層上に形成された前記強磁性薄膜を除去す
る工程とをさらに有することを特徴とする請求項１に記
載のマスター情報担体の製造方法。2. After the step of developing the resist layer,
Forming a concavo-convex shape on the surface of the substrate by etching; depositing a ferromagnetic thin film on the surface of the substrate on which the concavo-convex shape is formed and the resist layer remaining after forming the concavo-convex shape; Removing the ferromagnetic thin film formed on the resist layer and the residual resist layer. The method of manufacturing a master information carrier according to claim 1, further comprising: 【請求項３】 前記レジスト層を現像する工程の後に、
エッチングにより前記基体の表面に凹凸形状を形成する
工程と、前記凹凸形状を形成した後に残留した前記レジ
スト層を除去する工程と、前記凹凸形状が形成された前
記基体の表面に強磁性薄膜を堆積する工程とをさらに有
することを特徴とする請求項１に記載のマスター情報担
体の製造方法。3. After the step of developing the resist layer,
Forming a concave-convex shape on the surface of the substrate by etching, removing the resist layer remaining after forming the concave-convex shape, and depositing a ferromagnetic thin film on the surface of the substrate on which the concave-convex shape is formed 2. The method for producing a master information carrier according to claim 1, further comprising the step of: 【請求項４】 前記レジスト層を現像する工程の後に、
前記レジスト層の表面に強磁性薄膜を堆積する工程と、
前記レジスト層および前記レジスト層の表面に形成され
た前記強磁性薄膜を除去する工程とをさらに有すること
を特徴とする請求項１に記載のマスター情報担体の製造
方法。4. After the step of developing the resist layer,
Depositing a ferromagnetic thin film on the surface of the resist layer,
2. The method according to claim 1, further comprising: removing the resist layer and the ferromagnetic thin film formed on the surface of the resist layer. 【請求項５】 基体と、前記基体の表面に形成されたデ
ィジタル情報信号に対応する強磁性薄膜パターンとを有
し、前記強磁性薄膜パターンが形成された側の面を磁気
記録媒体の表面に密接させることにより、前記磁気記録
媒体に前記ディジタル情報信号を磁気的に記録するため
のマスター情報担体を製造する方法であって、 前記基体の表面に強磁性薄膜を堆積する工程と、前記強
磁性薄膜の表面にレジスト層を形成する工程と、前記レ
ジスト層を電子ビーム描画装置を用いてパターン露光を
行う工程とを有し、 前記電子ビーム描画装置は、前記レジスト層が形成され
た前記基体を載置して、前記基体をその表面と平行な方
向に機械的に移動させることが可能な可動ステージを具
備し、 前記パターン露光の工程において、電子ビームが前記レ
ジスト層に照射される位置と前記基体との相対移動を、
前記磁気記録媒体に記録されたディジタル情報信号を再
生するための、磁気記録再生装置に具備された磁気ヘッ
ドが、前記磁気記録媒体表面をトラッキング走査する軌
道に対応させることを特徴とするマスター情報担体の製
造方法。5. A magnetic recording medium comprising: a base; and a ferromagnetic thin film pattern formed on the surface of the base and corresponding to a digital information signal. A method of manufacturing a master information carrier for magnetically recording said digital information signal on said magnetic recording medium by contacting said magnetic recording medium, comprising: depositing a ferromagnetic thin film on a surface of said base; Forming a resist layer on the surface of the thin film, and performing a pattern exposure of the resist layer using an electron beam lithography apparatus, the electron beam lithography apparatus, the substrate on which the resist layer is formed A movable stage mounted on the substrate and capable of mechanically moving the substrate in a direction parallel to the surface thereof; The relative movement between the position irradiated on the dist layer and the substrate,
A master information carrier for reproducing a digital information signal recorded on the magnetic recording medium, wherein a magnetic head provided in the magnetic recording / reproducing apparatus corresponds to an orbit for performing tracking scanning on the surface of the magnetic recording medium. Manufacturing method. 【請求項６】 前記可動ステージは、 前記基体表面に平行な面内において、前記基体の中心近
傍を回転中心として前記基体を回転移動させる第１の機
構と、 前記第１の機構を載置して前記基体をその表面に平行に
移動させる第２の機構と、 前記第２の機構を載置して前記基体をその表面に平行な
面内において回転移動させる第３の機構と、 前記第３の機構を載置して前記基体をその表面に平行に
移動させる第４の機構とを具備し、 前記電子ビームの照射位置と前記基体との相対移動が、
前記第１〜第４の機能のうちの少なくともひとつの機構
を用いて制御されることを特徴とする請求項１あるいは
５に記載のマスター情報担体の製造方法。6. The movable stage is provided with a first mechanism for rotating and moving the substrate around a center near the center of the substrate in a plane parallel to the surface of the substrate and the first mechanism. A second mechanism for moving the substrate in parallel with the surface thereof, a third mechanism for mounting the second mechanism and rotating and moving the substrate in a plane parallel to the surface, And a fourth mechanism for mounting the mechanism and moving the substrate in parallel to the surface thereof, wherein the relative position between the electron beam irradiation position and the substrate is
The method for manufacturing a master information carrier according to claim 1, wherein the master information carrier is controlled using at least one of the first to fourth functions. 【請求項７】 前記電子ビームのビーム電流を、前記電
子ビームの照射位置に従って変化させることを特徴とす
る請求項１あるいは５に記載のマスター情報担体の製造
方法。7. The method for manufacturing a master information carrier according to claim 1, wherein a beam current of the electron beam is changed according to an irradiation position of the electron beam. 【請求項８】 前記電子ビームのビーム電流を、前記電
子ビームの照射位置と前記基体の中心との距離に概略比
例するように変化させることを特徴とする請求項７に記
載のマスター情報担体の製造方法。8. The master information carrier according to claim 7, wherein a beam current of the electron beam is changed so as to be substantially proportional to a distance between an irradiation position of the electron beam and a center of the base. Production method. 【請求項９】 前記電子ビームの照射位置と前記基体と
の相対移動の速度を、前記電子ビームの照射位置に従っ
て変化させることを特徴とする請求項１あるいは５に記
載のマスター情報担体の製造方法。9. The method for manufacturing a master information carrier according to claim 1, wherein the speed of relative movement between the irradiation position of the electron beam and the substrate is changed according to the irradiation position of the electron beam. . 【請求項１０】 前記電子ビームの照射位置と前記基体
との相対移動の速度を、前記電子ビームの照射位置と前
記基体の中心との距離に概略反比例するように変化させ
ることを特徴とする請求項９に記載のマスター情報担体
の製造方法。10. The method according to claim 1, wherein a speed of the relative movement between the irradiation position of the electron beam and the base is changed so as to be substantially inversely proportional to a distance between the irradiation position of the electron beam and the center of the base. Item 10. The method for producing a master information carrier according to Item 9.