JP2002296806A - 露光装置およびその装置における基板位置決め方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスクよりも大きな露光対象基板に対する露
光処理を高精度に行えるようにする。 【解決手段】 パターン形成用のマスクＡよりも大きな
露光対象基板Ｂを該マスクに対して複数回に分けて所定
位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそ
れぞれ露光処理を行う露光装置において、マスクホルダ
２にマスクＡが保持される前に、補正手段８によって各
所定位置で軸に対する露光チャック３の変位に応じた露
光対象基板ＢとマスクＡとの位置ずれを補正して、該各
所定位置でマスクＡを軸４に対して所定角度に設定す
る。また、露光対象基板Ｂが露光チャック３上に搬入さ
れる前に、テーブル６によって軸４に対する露光対象基
板Ｂの変位に応じた位置ずれを補正する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプ
レイの製造工程においてガラス基板やカラーフィルタ等
の面上にパターンを形成する露光装置に係り、特に、フ
ォトマスクよりも大きなガラス基板を該フォトマスクに
対して複数回に分けて所定位置に順次位置決めし、位置
決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理を行うことに
よって、ガラス基板全体を露光処理する露光装置及びそ
の装置における基板位置決め方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liqud Crys
tal Display)は、ＣＲＴ（Cathode R-ay Tube)に比べて
薄型化、軽量化が可能であるため、ＣＴＶ(Color Telev
ision) やＯＡ機器等のディスプレイ装置として採用さ
れ、画面サイズも１０型以上の大型化が図られ、より一
層の高精細化及びカラー化が押し進められている。

【０００３】液晶ディスプレイは、フォトリソグラフィ
技術によりガラス基板の表面に微細なパターンを描画し
て作られる。露光装置は、この微細パターンをガラス基
板上に描画するものである。露光装置としては、マスク
パターンをレンズまたはミラーを用いてガラス基板上に
投影するプロジェクション方式と、フォトマスクとガラ
ス基板との間に微小なギャップを設けてマスクパターン
をガラス基板上に転写するプロキシミティ方式とがあ
る。

【０００４】プロキシミティ方式の露光装置は、プロジ
ェクション方式に比べてパターン解像性能が劣るもの
の、照射光学系が非常にシンプルであり、スループット
が高く、装置コストから見たコストパフォーマンスも優
れており、生産性の高い量産用装置に適したものであ
る。従来、プロキシミティ方式の露光装置は、インライ
ン対応パススルー方式のローダ・アンローダユニットを
採用しており、そのパススルー方向に沿って、ローダー
ユニット、基板搬入ユニット、アライメントステージユ
ニット、基板搬出ユニット、アンローダユニットが順番
に配置されて構成されている。

【０００５】ローダユニットは、ガラス基板を順次供給
するものであり、アンローダユニットは、露光処理の終
了したガラス基板を順次排出するものである。基板搬入
ユニットは、ローダユニットのガラス基板をセンタリン
グ位置決めしてから搬入アームによってアライメントス
テージの露光チャック上に搬入する。アライメントステ
ージユニットは、露光チャック、チルティングＺステー
ジ、基板アライメントステージ及びマスクホルダなどで
構成される。このアライメントステージユニットには、
インラインの外側に設けられた露光チャックに保持され
るガラス基板上にフォトマスクを介して紫外線を照射す
る照射光学系などが存在する。基板搬出ユニットは、露
光チャック上の露光処理後のガラス基板をアンローダユ
ニットに搬出する。

【０００６】上記の露光装置では、マスクホルダにパタ
ーン形成用のフォトマスクが吸着保持され、露光チャッ
クに露光対象のガラス基板が吸着保持されて、フォトマ
スクのマスクパターンがガラス基板に転写されるが、通
常、フォトマスクを複数枚用いてガラス基板に所定のマ
スクパターンを順次転写するため、フォトマスクとガラ
ス基板との位置合わせ精度が露光性能における重要な位
置を占めることになる。そこで、アライメントステージ
ユニットにおいて、露光チャックに対するガラス基板の
搬送位置のずれを補正するプリアライメントと、フォト
マスクとガラス基板とを高精度に位置合わせするアライ
メントとを行っている。また、ガラス基板がフォトマス
クよりも大きい場合には、露光チャックをマスクに対し
てステップテーブル走行軸によって所定方向にステップ
移動することによりガラス基板をフォトマスクに対して
複数回に分けて所定位置に順次位置決めし、位置決めさ
れた各所定位置でそれぞれ露光処理を行うことにより、
ガラス基板全体に露光処理を行うステップ露光方式が採
用される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記ステップ露光方式
の露光装置では、露光処理工程において、ガラス基板を
保持してなる露光チャックを所定の露光位置にステップ
テーブル走行軸によってステップ移動するので、ステッ
プテーブル走行軸の搬送精度などに起因して、露光チャ
ックがステップテーブル走行軸に沿って真っ直ぐにステ
ップ移動されない場合がある。この場合、露光チャック
がステップテーブル走行軸に対して変位し、これによっ
て、該ステップテーブル走行軸の軸方向であるＸ方向或
いは該Ｘ方向と直角をなすＹ方向にガラス基板がずれた
り、該ステップテーブル走行軸に対してガラス基板がＸ
方向とＹ方向とが交わる交点回りのθ方向に斜めに傾い
たりすることがある。このため、ガラス基板がフォトマ
スクに対して位置ずれを生じ、その位置ずれによりマス
クパターンがガラス基板の所定の露光領域から一部はみ
出るようになる。その結果、マスクパターンをガラス基
板の所定の露光領域に転写することができなくなり、ガ
ラス基板に対するマスクパターンの配列精度が低下する
という問題があった。

【０００８】また、ガラス基板は、搬入アームによって
ステップテーブル走行軸の一端側から露光チャック上に
搬入されるが、搬入アームの搬送精度などに起因して、
ガラス基板がステップテーブル走行軸に対して変位し、
これによって、該ステップテーブル走行軸の軸方向であ
るＸ方向或いは該Ｘ方向と直角をなすＹ方向にガラス基
板がずれたり、該ステップテーブル走行軸に対してガラ
ス基板がＸ方向とＹ方向とが交わる交点回りのθ方向に
斜めに傾いたりした状態に搬入される場合がある。この
場合、ガラス基板がステップテーブル走行軸に対して位
置ずれを生じ、その位置ずれによりガラス基板がステッ
プテーブル走行軸に対して変位した状態に露光チャック
に保持されることとなるため、露光チャックに対するガ
ラス基板の面付け精度が低下するという問題があった。

【０００９】このようなステップ方式の露光装置におい
ては、ステップテーブル走行軸は、ガラス基板のステッ
プ移動及び露光領域の位置決めのための搬送基準軸とな
るので、ステップテーブル走行軸に対する露光チャック
の変位に応じたガラス基板とフォトマスクとの位置ずれ
を補正すれば、マスクパターンを露光対象基板の所定の
露光領域からはみ出ることなく該露光領域内に転写する
ことができて、ガラス基板に対するマスクパターンの配
列精度を向上させることができ、露光処理を高精度に行
えるようになる。また、ステップテーブル走行軸に対す
るガラス基板の位置ずれを補正すれば、ガラス基板をス
テップテーブル走行軸に対して位置ずれを生じることな
く露光チャックに保持することができて、露光チャック
に対するガラス基板の面付け精度を向上させることがで
き、露光処理を高精度に行えるようになる。

【００１０】本発明は、上記の点に鑑みて為されたもの
で、パターン形成用のマスクよりも大きな露光対象基板
に対する露光処理を高精度に行えるよう、露光対象基板
に対するマスクの位置ずれを補正して、露光対象基板に
対するマスクパターンの配列精度を向上させた露光装置
を提供しようとするものである。また、パターン形成用
のマスクよりも大きな露光対象基板に対する露光処理を
高精度に行えるよう、露光チャックのステップ移動用の
軸に対する露光対象基板の位置ずれを補正して、露光チ
ャックに対する露光対象基板の面付け精度を向上させた
露光装置及びその露光装置における基板位置決め方法を
提供しようとするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明に係る露光装置
は、マスクホルダに保持されたパターン形成用のマスク
よりも大きな露光対象基板を露光チャックに保持し、該
露光チャックを該マスクに対して所定の軸によって所定
方向にステップ移動することにより、該露光対象基板を
該マスクに対して複数回に分けて所定位置に順次位置決
めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理を
行う露光装置において、前記マスクホルダに前記マスク
が保持される前に、前記マスクの位置補正を行う補正手
段と、前記マスクホルダに前記マスクが保持される前
に、前記マスクと前記露光チャックとにそれぞれ設けら
れた位置合わせ用のマークを前記各所定位置で検出し、
該マークの位置に応じた検出信号を出力する検出手段
と、前記検出信号に基づき前記各所定位置における前記
露光チャックに対する前記マスクの位置ずれを求め、該
位置ずれに基づいて該各所定位置で前記マスクを前記軸
に対して所定角度に設定するための補正量を算出する演
算手段と、前記補正量に基づき前記各所定位置で前記マ
スクを前記軸に対して所定角度に設定するよう前記補正
手段の駆動を制御する制御手段とを具えたものである。
これによれば、マスクホルダにマスクが保持される前
に、補正手段が各所定位置で軸に対する露光チャックの
変位に応じた露光対象基板とマスクとの位置ずれを補正
するので、該各所定位置でマスクを軸に対して所定角度
に設定することができる。これによって、パターンを露
光対象基板の所定の露光領域からはみ出ることなく該露
光領域内に転写することが可能となり、よって、露光対
象基板に対するパターンの配列精度を向上でき、露光処
理を高精度に行えるようになる。

【００１２】また、マスクホルダに保持されたパターン
形成用のマスクよりも大きな露光対象基板を露光チャッ
クに保持し、該露光チャックを該マスクに対して所定の
軸によって所定方向にステップ移動することにより、該
露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて所定位
置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれ
ぞれ露光処理を行う露光装置において、前記マスクが前
記マスクホルダに保持された状態で、前記マスクホルダ
の位置補正を行う補正手段と、前記マスクが前記マスク
ホルダに保持された状態で、前記マスクと前記露光チャ
ックとにそれぞれ設けられた位置合わせ用のマークを前
記各所定位置で検出し、該マークの位置に応じた検出信
号を出力する検出手段と、前記検出信号に基づき前記各
所定位置における前記露光チャックに対する前記マスク
の位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて該各所定位置
で前記マスクを前記軸に対して所定角度に設定するため
の補正量を算出する演算手段と、前記補正量に基づき前
記各所定位置で前記マスクホルダを前記軸に対して所定
角度に設定するよう前記補正手段の駆動を制御する制御
手段とを具えたものである。これによれば、マスクがマ
スクホルダに保持された状態で、補正手段が各所定位置
で軸に対する露光チャックの変位に応じた露光対象基板
とマスクとの位置ずれを補正するので、該各所定位置で
マスクをマスクホルダによって軸に対して所定角度に設
定することができる。これによって、パターンを露光対
象基板の所定の露光領域からはみ出ることなく該露光領
域内に転写することが可能となり、よって、露光対象基
板に対するパターンの配列精度を向上でき、露光処理を
高精度に行えるようになる。

【００１３】また、マスクホルダに保持されたパターン
形成用のマスクよりも大きな露光対象基板を搬入して露
光チャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対し
て所定の軸によって所定方向にステップ移動することに
より、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分け
て所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位
置でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、前記露
光チャックを所定の方向に移動して、前記マスクに対す
る前記露光対象基板の位置合わせを行うテーブルと、前
記露光チャック上に搬入される前記露光対象基板の位置
を検出し、検出信号を出力する検出手段と、前記検出信
号に基づき前記軸に対する前記露光対象基板の位置ずれ
を求め、該位置ずれに基づいて前記露光チャックを前記
軸に対して所定角度に設定するための補正量を算出する
演算手段と、前記補正量に基づき前記露光チャックが前
記露光対象基板を保持する前に該露光チャックを前記軸
に対して所定角度に位置決めするよう前記テーブルの駆
動を制御する制御手段とを具えたものである。これによ
れば、露光対象基板が露光チャック上に搬入される前
に、テーブルが軸に対する露光対象基板の変位に応じた
位置ずれを補正するので、露光対象基板を軸に対して位
置ずれを生じることなく露光チャックに保持することが
できる。これによって、露光チャックに対する露光対象
基板の面付け精度を向上でき、露光処理を高精度に行え
るようになる。

【００１４】また、本発明に係る露光装置における基板
位置決め方法は、マスクホルダに保持されたパターン形
成用のマスクよりも大きな露光対象基板を搬入して露光
チャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対して
所定の軸によって所定方向にステップ移動することによ
り、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて
所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置
でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、前記露光
チャックを所定の方向に移動して前記マスクに対する前
記露光対象基板の位置合わせを行うテーブルを用いて、
前記露光対象基板を前記露光チャックに保持する前に、
該露光対象基板を前記軸に対して位置決めする基板位置
決め方法であって、前記露光チャック上に搬入される前
記露光対象基板の位置を検出し、検出信号を出力する工
程と、前記検出信号に基づき前記軸に対する前記露光対
象基板の位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて前記露
光チャックを前記軸に対して所定角度に設定するための
補正量を算出する工程と、前記補正量に基づき前記露光
チャックを前記軸に対して所定角度に位置決めするよう
前記テーブルの駆動を制御する工程とを具えたものであ
る。これによれば、露光対象基板が露光チャック上に搬
入される前に、テーブルによって軸に対する露光対象基
板の変位に応じた位置ずれを補正することができるの
で、露光対象基板を軸に対して位置ずれを生じることな
く露光チャックに保持することができる。これによっ
て、露光チャックに対する露光対象基板の面付け精度を
向上でき、露光処理を高精度に行えるようになる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に従って説明する。図１は、本発明に係る露光装置
の一実施例を示す概略構成図である。図１では、アライ
メントステージユニット１について示し、他のユニット
（ローダユニット、基板搬入ユニット、基板搬出ユニッ
ト及びアンローダユニット）については、図示を省略し
ている。

【００１６】図１において、露光装置は、フォトマスク
Ａよりも大きなガラス基板Ｂを該フォトマスクＡに対し
て複数回に分けて所定位置に順次位置決めし、位置決め
された各所定位置でそれぞれ露光処理を行うステップ方
式の露光装置に適用される。アライメントステージユニ
ット１は、例えば、図３に示されるような縦長長方形状
に形成されてなるフォトマスクＡを吸着保持するマスク
ホルダ２の真下に露光チャック３を有する。この露光チ
ャック３上には、例えば、図４に示されるような横長長
方形状に形成されてなるガラス基板Ｂがステップテーブ
ル走行軸４の一端側（図示例では、ステップテーブル走
行軸４の左端側）から基板搬入ユニットの搬入アーム１
０によって搬入される。ガラス基板Ｂは、所定の位置で
露光チャック３によって吸着保持され、その露光チャッ
ク３がステップテーブル走行軸４によって図１に示され
る矢印Ｘ方向にステップ移動されることにより、図５及
び図６に示されるように、フォトマスクＡに対して複数
回（図示例では、２回）に分けて所定位置に順次位置決
めされ、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理
が行われる。

【００１７】露光装置では、露光処理の前に、先ず、ア
ライメントステージ６によって露光チャック３に対する
ガラス基板Ｂの搬送位置ずれを補正するプリアライメン
トが行われ、次に、チルティングＺステージ５によって
フォトマスクＡとガラス基板Ｂ間のプロキシミティギャ
ップを適切なギャップ値に設定するプロキシミティギャ
ップ制御が行われ、最後に、アライメントステージ６に
よってフォトマスクＡとガラス基板Ｂとを高精度に位置
合わせするアライメントが行われる。

【００１８】しかし、露光処理工程においては、露光チ
ャック３をステップテーブル走行軸４によってステップ
移動するので、ステップテーブル走行軸４の搬送精度に
起因して、露光チャック３がステップテーブル走行軸４
に沿って真っ直ぐにステップ移動されない場合、露光チ
ャック３と共にガラス基板Ｂがステップテーブル走行軸
４に対して変位し、これによって、該ステップテーブル
走行軸４の軸方向である図３に示されるＸ方向或いは該
Ｘ方向と直角をなすＹ方向にガラス基板Ｂがずれたり、
該ステップテーブル走行軸４に対してガラス基板ＢがＸ
方向とＹ方向とが交わる交点回りのθ方向に斜めに傾い
たりして、ガラス基板ＢがフォトマスクＡに対して位置
ずれを生じるが、その位置ずれを補正することができれ
ば、ガラス基板Ｂに対するマスクパターンの配列精度を
向上できる。そこで、本例では、図５及び図６に示され
る各露光位置において、フォトマスクＡがマスクホルダ
２に吸着保持される前に、フォトマスクＡの位置ずれを
マスク補正機構８によって補正することにより、フォト
マスクＡをステップテーブル走行軸４に対して平行、か
つ、直角となる所定角度に設定するようにした。

【００１９】また、ガラス基板Ｂの搬入工程において
は、ガラス基板Ｂを搬入アーム１1 によってステップテ
ーブル走行軸４の一端側から露光チャック３上に搬入す
るので、搬入アーム１０の搬送精度などに起因して、ガ
ラス基板Ｂがステップテーブル走行軸４に対して変位
し、該ステップテーブル走行軸４の軸方向である図４に
示されるＸ方向或いは該Ｘ方向と直角をなすＹ方向にガ
ラス基板Ｂがずれたり、該ステップテーブル走行軸４に
対してガラス基板ＢがＸ方向とＹ方向とが交わる交点回
りのθ方向に斜めに傾いたりした場合、ガラス基板Ｂが
ステップテーブル走行軸４に対して位置ずれを生じる
が、その位置ずれを補正することができれば、露光チャ
ック３に対するガラス基板Ｂの面付け精度を向上でき
る。そこで、本例では、ガラス基板Ｂが露光チャック３
に吸着保持される前に、ガラス基板Ｂの位置ずれをアラ
イメントステージ６によって補正することにより、ガラ
ス基板Ｂをステップテーブル走行軸４に対して平行、か
つ、直角となる所定角度に位置決めするようにした。

【００２０】本例に示す露光装置において、ステップテ
ーブル走行軸４は、ガラス基板Ａを保持した露光チャッ
ク３をそのままＸ方向にステップ移動するものであり、
光学式のリニアスケールを用いたクローズドループ制御
にて図２に示される制御部１２により位置決めされる。

【００２１】チルティングＺステージ５は、露光チャッ
ク３をフォトマスクＡに対して平行に昇降動する粗動ス
テージと、ガラス基板Ｂをチルティングしてプロキシミ
ティギャップの制御を行う３点接触型のチルト駆動機構
などを有して構成される。プロキシミティギャップ制御
を行う場合、４個のギャップ検出センサ（図示せず）で
フォトマスクＡとガラス基板Ｂ間のギャップ量を検出
し、その検出結果から図２に示される演算部１３によっ
て演算されるギャップ量に応じて制御部１２がチルト駆
動機構を駆動することにより、フォトマスクＡとガラス
基板Ｂとの間に所定のプロキシミティギャップを設定す
る。

【００２２】アライメントステージ６は、図４に示され
るように、露光チャック３によって吸着保持されてなる
ガラス基板Ｂの中心を例えば原点Ｏとして、Ｘ方向及び
その逆方向の−Ｘ方向に移動するＸ軸テーブル６ａと、
Ｙ方向及びその逆方向の−Ｙ方向に移動するＹ軸テーブ
ル６ｂと、θ方向に移動するθ軸テーブル６ｃなどによ
り構成される。プリアライメントを行う場合、ガラス基
板Ｂが露光チャック３に保持された状態で、そのガラス
基板Ｂのエッジをエッジ検出センサ（図示せず）により
非接触で検出し、その検出結果から演算部１３によって
演算されるずれ量に基づいて制御部１２がＸ軸テーブル
６ａ、Ｙ軸テーブル６ｂ、θ軸テーブル６ｃを適宜駆動
することにより、露光チャック３に対するガラス基板Ｂ
の搬送位置ずれを補正する。また、アライメントを行う
場合、ガラス基板Ｂが露光チャック３に保持された状態
で、フォトマスクＡとガラス基板Ｂの双方に設けられて
いるアライメントマークをＣＣＤセンサ（図示せず）を
用いて検出し、その検出結果から演算部１３によって演
算されるずれ量に基づいて制御部１２がＸ軸テーブル６
ａ、Ｙ軸テーブル６ｂ、θ軸テーブル６ｃを適宜駆動す
ることにより、フォトマスクＡに対してガラス基板Ｂを
高精度に位置合わせする。

【００２３】露光チャック３の外周周囲には、図４に示
されるように、ガラス基板Ｂの搬入工程において、ガラ
ス基板Ｂのエッジを光学的に検出する複数（図示例で
は、３つ）のエッジ検出センサ７ａ〜７ｃが設けられ
る。エッジ検出センサ７ａ〜７ｃのうち、エッジ検出セ
ンサ７ａ及び７ｂは、ガラス基板ＢがＸ方向で露光チャ
ック３に吸着保持されるべき位置に所定の間隔Ｌ１をお
いて配置されてなり、ガラス基板ＢにおけるＸ方向側の
エッジＢ１の異なる２箇所を検出する。エッジ検出セン
サ７ｃは、ガラス基板ＢがＹ方向で露光チャック３に吸
着保持されるべき位置に配置されてなり、ガラス基板Ｂ
におけるＹ方向側のエッジＢ２の１箇所を検出する。各
エッジ検出センサ７ａ〜７ｃは、ガラス基板Ｂのエッジ
Ｂ１及びＢ２を検出すると、そのエッジＢ１及びＢ２の
位置に応じたエッジ位置検出信号を図２に示される入出
力回路１１に送出する。

【００２４】マスク補正機構８は、図４に示されるよう
に、フォトマスクＡの外周周囲に設けられた複数（図示
例では、３つ）のマスク位置補正機構８ａ〜８ｃにより
構成される。マスク位置補正機構８ａ〜８ｃは、それぞ
れリニアモータ８ａ１〜８ｃ１及びプッシャー８ａ１１
〜８ｃ１１などを有して構成される。マスク位置補正機
構８ａ〜８ｃのうち、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂ
は、リニアモータ８ａ１及び８ｂ１が先端部でフォトマ
スクＡにおけるＸ方向側の端面Ａ１に接触し、プッシャ
ー８ａ１１及び８ｂ１１が先端部で該端面Ａ１と反対側
の端面Ａ２に接触している。マスク位置補正機構８ｃ
は、リニアモータ８ｃ１が先端部でフォトマスクＡにお
けるＹ方向側の端面Ａ３に接触し、プッシャー８ｃ１１
が先端部で該端面Ａ３と反対側の端面Ａ４に接触してい
る。マスク位置補正機構８ａ及び８ｂにおいて、プッシ
ャー８ａ１１及び８ｂ１１は、例えば、コイルばねなど
から構成されてなり、先端部でフォトマスクＡを対応す
る反対側のリニアモータ８ａ１及び８ｂ１に常時付勢す
る。リニアモータ８ａ１及び８ｂ１は、制御部１２によ
って同時に或いは個別に駆動されて、Ｘ方向若しくは−
Ｘ方向に同時に或いは個別に進退動されることにより、
フォトマスクＡをＸ方向、−Ｘ方向若しくはθ方向に移
動する。マスク位置補正機構８ｃにおいて、プッシャー
８ｃ１１は、例えば、コイルばねなどから構成されてな
り、先端部でフォトマスクＡを対応する反対側のリニア
モータ８ｃ１に常時付勢する。リニアモータ８ｃ１は、
制御部１２によって駆動されてＹ方向若しくは−Ｙ方向
に進退動されることにより、フォトマスクＡをＹ方向若
しくは−Ｙ方向に移動する。なお、本例では、マスク位
置補正機構８ａ〜８ｃにおいて、リニアモータ８ａ１〜
８ｃ１を用いているが、このリニアモータ８ａ１〜８ｃ
１に代えて流体圧シリンダを用い、該流体圧シリンダに
よってフォトマスクＡをＸ方向、−Ｘ方向、θ方向、Ｙ
方向若しくは−Ｙ方向に移動するように構成してもよ
い。

【００２５】図５（ａ）に示されるように、露光チャッ
ク３及びフォトマスクＡには、それぞれ位置合わせ用の
任意形状のマーク３ａ〜３ｆ（図示例では、×形状のマ
ーク）及びＡａ〜Ａｆ（図示例では、＋形状のマーク）
が所定の位置に設けられる。マーク３ａ〜３ｆ及びＡａ
〜Ａｆは、図５及び図６に示される各露光位置におい
て、マスク位置補正機構８ａ〜８ｃと対応する位置に設
けられる。例えば、マーク３ａ〜３ｃ及びＡａ〜Ａｃ
は、図５に示される露光位置において、マスク位置補正
機構８ａ〜８ｃと対応する位置に設けられる。マーク３
ａ〜３ｃ及びＡａ〜Ａｃのうち、マーク３ａ及び３ｂ
は、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂと対応するよう露
光チャック３におけるＸ方向側の端部の異なる２箇所に
設けられてなるマーク付設部３１ａ及び３１ｂに設けら
れ、マーク３ｃは、マスク位置補正機構８ｃと対応する
よう露光チャック３におけるＹ方向側の端部の１箇所に
設けられてなるマーク付設部３１ｃに設けられる。ま
た、マークＡａ及びＡｂは、マスク位置補正機構８ａ及
び８ｂと対応するようフォトマスクＡにおけるＸ方向側
の端部の異なる２箇所に設けられてなるマーク付設部Ａ
５ａ及びＡ５ｂに設けられ、マークＡｃは、マスク位置
補正機構８ｃと対応するようフォトマスクＡにおけるＹ
方向側の端部の１箇所に設けられてなるマーク付設部Ａ
５ｃに設けられる。一方、マーク３ｄ〜３ｆ及びＡｄ〜
Ａｆは、図６に示される露光位置において、マスク位置
補正機構８ａ〜８ｃと対応する位置に設けられる。例え
ば、マーク３ｄ〜３ｆ及びＡｄ〜Ａｆのうち、マーク３
ｄ及び３ｅは、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂと対応
するよう露光チャック３における−Ｘ方向側の端部の異
なる２箇所に設けられてなるマーク付設部３１ｄ及び３
１ｅに設けられ、マーク３ｆは、マスク位置補正機構８
ｃと対応するよう露光チャック３における−Ｙ方向側の
端部の１箇所に設けられてなるマーク付設部３１ｆに設
けられる。また、マークＡｄ及びＡｅは、マスク位置補
正機構８ａ及び８ｂと対応するようフォトマスクＡにお
ける−Ｘ方向側の端部の異なる２箇所に設けられてなる
マーク付設部Ａ５ｄ及びＡ５ｅに設けられ、マークＡｆ
は、マスク位置補正機構８ｃと対応するようフォトマス
クＡにおける−Ｙ方向側の端部の１箇所に設けられてな
るマーク付設部Ａ５ｆに設けられる。

【００２６】フォトマスクＡの上方には、図５（ａ）に
示されるように、上記マーク３ａ〜３ｆ及びＡａ〜Ａｆ
に対応して複数（図示例では、６つ）のマーク検出セン
サ９ａ〜９ｆが設けられる。マーク検出センサ９ａ〜９
ｆは、例えばＣＣＤセンサなどにより構成される。マー
ク検出センサ９ａ〜９ｆのうち、マーク検出センサ９ａ
〜９ｃが上記マーク３ａ〜３ｃ及びＡａ〜Ａｃに対応
し、マーク検出センサ９ｄ〜９ｆが上記マーク３ｄ〜３
ｆ及びＡｄ〜Ａｆに対応している。マーク検出センサ９
ａ〜９ｃのうち、マーク検出センサ９ａ及び９ｂは、露
光チャック３及びフォトマスクＡのＸ方向側のマーク３
ａ及びＡａと３ｂ及びＡｂとを検出するよう所定の間隔
Ｌ２をおいて配置されてなり、図５に示される露光位置
において、マーク検出センサ９ａがマークＡａ及び３ａ
を検出し、マーク検出センサ９ｂがマークＡｂ及び３ｂ
を検出する。マーク検出センサ９ｃは、同図に示される
露光位置において、露光チャック３及びフォトマスクＡ
のＹ方向側のマーク３ｃ及びＡｃを検出する。また、マ
ーク検出センサ９ｄ〜９ｆのうち、マーク検出センサ９
ｄ及び９ｅは、露光チャック３及びフォトマスクＡの−
Ｘ方向側のマーク３ｄ及びＡｄと３ｅ及びＡｅとを検出
するよう所定の間隔Ｌ３をおいて配置されてなり、図６
に示される露光位置において、マーク検出センサ９ｄが
マークＡｄ及び３ｄを検出し、マーク検出センサ９ｅが
マークＡｅ及び３ｅを検出する。マーク検出センサ９ｆ
は、同図に示される露光位置において、露光チャック３
及びフォトマスクＡの−Ｙ方向側のマーク３ｆ及びＡｆ
を検出する。このように、各マーク検出センサ９ａ〜９
ｆは、図５及び図６に示される各露光位置において、マ
ーク３ａ〜３ｆ及びＡａ〜Ａｆをそれぞれ検出し、その
マーク３ａ〜３ｆ及びＡａ〜Ａｆの位置に応じたマーク
位置検出信号を図２に示される入出力回路１１に送出す
る。なお、本例では、露光チャック３にマーク３ａ〜３
ｆを設けているが、ガラス基板Ｂの所定の位置にマーク
を設けて、マーク検出センサ９ａ〜９ｆによりフォトマ
スクＡのマークＡａ〜Ａｆ及びガラス基板Ｂのマークを
それぞれ検出し、そのマークの位置に応じたマーク位置
検出信号を入出力回路１１に送出するように構成しても
よい。

【００２７】図２において、入出力回路１１は、エッジ
位置検出信号及びマーク位置検出信号のＡ／Ｄ変換器や
アライメントステージ６及びマスク補正機構８の駆動制
御に必要な回路などを含んで構成される。ＲＯＭ及びＲ
ＡＭを含んで構成されるメモリ部１４には、露光装置の
シーケンス動作やアライメントステージ６の駆動制御及
びガラス基板ＡやフォトマスクＢの位置補正などに必要
とされる各種基準データ（設定データ）が記憶されてい
る。制御部１２は、ＭＰＵなどから構成されてなり、メ
モリ部１４に記憶されているプログラムを実行して、露
光装置のシーケンス動作やアライメントステージ６の駆
動制御処理及び位置補正処理などの各種処理を行う。演
算部１３は、制御部１２からの指令信号に従ってエッジ
検出センサ７ａ〜７ｃやマーク検出センサ９ａ〜９ｃか
ら得られる検出データの演算処理を行う。

【００２８】図７に示すフロー図に従って、本例に示さ
れる露光装置におけるガラス基板Ｂの位置決めのための
位置ずれ補正処理を説明する。ステップＳ１では、エッ
ジ検出センサ７ａ〜７ｃからエッジ位置検出信号を入力
する。

【００２９】ステップＳ２では、エッジ検出センサ７ａ
〜７ｃからのエッジ位置検出信号に基づき演算部１２で
ステップテーブル走行軸４に対するガラス基板Ｂの位置
ずれ量を求める。例えば、エッジ検出センサ７ａ及び７
ｂから得られるいずれか１つのエッジ位置検出信号と、
ガラス基板ＡにおけるＸ方向側のエッジＢ１の基準位置
データ（エッジＢ１がステップテーブル走行軸４に対し
て直角となる場合の基準位置データ）とを用いて所定の
演算処理を行うことにより、図３において一点鎖線で示
されるガラス基板ＢのＸ方向のずれ量Δｘを求める。ま
た、そのずれ量Δｘと、両エッジ検出センサ７ａ及び７
ｂ間の距離Ｌ１とを用いて所定の演算を行うことによ
り、ガラス基板Ｂのθ方向の傾きずれ量Δθを求める。
また、エッジ検出センサ７ｃから得られるエッジ位置検
出信号と、ガラス基板ＡにおけるＹ方向側のエッジＢ２
の基準位置データ（エッジＢ２がステップテーブル走行
軸４に対して平行となる場合の基準位置データ）とを用
いて所定の演算処理を行うことにより、ガラス基板Ｂの
Ｙ方向のずれ量Δｙを求める。

【００３０】ステップＳ３では、ステップＳ２で求めた
位置ずれ量に基づいて演算部１２でガラス基板Ｂの位置
を補正するための補正量を算出する。例えば、ずれ量Δ
ｘの補正量として、該ずれ量Δｘを相殺する補正量−Δ
ｘを算出する。また、傾きずれ量Δθの補正量として、
該ずれ量Δθを相殺する補正量−Δθを算出する。ま
た、ずれ量Δｙの補正量として、該ずれ量ΔＹを相殺す
る補正量−ΔＹを算出する。

【００３１】ステップＳ４では、ステップＳ３で算出し
た補正量に基づき制御部１２がアライメントステージ６
を駆動して、Ｘ軸テーブル６ａ、Ｙ軸テーブル６ｂ、θ
軸テーブル６ｃを適宜移動することにより、ステップテ
ーブル走行軸４に対するガラス基板Ｂの位置ずれを補正
する。例えば、Ｘ軸テーブル６ａを駆動して補正量−Δ
ｘ分だけ移動する。また、θ軸テーブル６ｃを駆動して
補正量−Δθ分だけ移動する。また、Ｙ軸テーブル６ｂ
を駆動して補正量−Δｙだけ移動する。これによって、
ガラス基板ＢのＸ方向側のエッジＢ１がステップテーブ
ル走行軸４に対して直角となり、ガラス基板ＢのＹ方向
側のエッジＢ２がステップテーブル走行軸４に対して平
行となる。

【００３２】このように、ガラス基板Ｂの搬入工程にお
いて、ガラス基板Ｂが露光チャック３に保持される前
に、各テーブル６ａ〜６ｃをガラス基板Ｂの位置ずれに
応じて所定の方向に補正量分だけ移動するので、ステッ
プステージ走行軸４に対するガラス基板Ｂの位置ずれが
補正され、これにより、図４において一点鎖線にて示さ
れるように、ガラス基板Ｂをステップテーブル走行軸４
に対して平行、かつ、直角となる所定角度に位置決めす
ることができる。これによって、ガラス基板Ｂがその所
定角度のまま露光チャック３に吸着保持されることとな
る。

【００３３】次に、図８に示すフロー図に従って、本例
に示される露光装置におけるフォトマスクＡの位置補正
処理について説明する。ステップＳ１１では、図９
（ａ）に示す１回目の露光位置において、マーク検出セ
ンサ９ａ〜９ｃからマーク３ａ〜３ｃ及びＡａ〜Ａｃの
マーク位置検出信号を入力する。

【００３４】ステップＳ１２では、マーク検出センサ９
ａ〜９ｃからのマーク位置検出信号に基づき演算部１３
で露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量を求
める。例えば、マーク検出センサ９ａ及び９ｂにおい
て、いずれか１つのマーク検出センサ９ａ又は９ｂから
得られる露光チャック３のマーク位置検出信号と、フォ
トマスクＡのマーク位置検出信号とを用いて所定の演算
処理を行うことにより、図３に示されるように、露光チ
ャック３とフォトマスクＡとのＸ方向のずれ量Δｘを求
める。また、そのずれ量Δｘと、図５（ａ）に示される
マーク検出センサ９ａ及び９ｂ間の距離Ｌ２とを用いて
所定の演算を行うことにより、露光チャック３とフォト
マスクＡとのθ方向の傾きずれ量Δθを求める。また、
マーク検出センサ９ｃから得られる露光チャック３のマ
ーク位置検出信号と、フォトマスクＡのマーク位置検出
信号とを用いて所定の演算処理を行うことにより、露光
チャック３とフォトマスクＡとのＹ方向のずれ量Δｙを
求める。

【００３５】ステップＳ１３では、ステップＳ１２で求
めた露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量に
基づいて演算部１３がフォトマスクＡの位置を補正する
ための補正量を算出する。例えば、ずれ量Δｘの補正量
として、該ずれ量Δｘを相殺する補正量−Δｘを算出す
る。また、傾きずれ量Δθの補正量として、該ずれ量Δ
θを相殺する補正量−Δθを算出する。また、ずれ量Δ
ｙの補正量として、該ずれ量Δｙを相殺する補正量−Δ
ｙを算出する。

【００３６】ステップＳ１４では、ステップＳ１３で算
出した補正量に基づき制御部１２がマスク補正機構８の
マスク位置補正機構８ａ〜８ｃにおけるリニアモータ８
ａ１〜８ｃ１を適宜駆動して、露光チャック３とフォト
マスクＡとの位置ずれを補正する。例えば、マスク位置
補正機構８ａ及び８ｂのリニアモータ８ａ１及び８ｂ１
を同時に或いは個別に駆動してフォトマスクＡを補正量
−Δｘ及び−Δθに応じた分だけ移動させる。また、マ
スク位置補正機構８ｃのリニアモータ８ｃ１を補正量−
Δｙに応じた分だけ移動させる。これによって、フォト
マスクＡのＸ方向側の端面Ａ２及び−Ｘ方向側の端面Ａ
１がステップテーブル走行軸４に対して直角となり、フ
ォトマスクＡのＹ方向側の端面Ａ３及び−Ｙ方向側の端
面Ａ４がステップテーブル走行軸４に対して平行とな
る。

【００３７】このように、図５に示される１回目の露光
位置において、各マスク位置補正機構８ａ〜８ｃのリニ
アモータ８ａ１〜８ｃ１を駆動して、露光チャック３と
フォトマスクＡとの位置ずれ量に応じた補正量分だけフ
ォトマスクＡを所定の方向に移動するので、露光チャッ
ク３とフォトマスクＡとの位置ずれが補正される。これ
によって、図３において一点鎖線にて示されるように、
フォトマスクＡがステップテーブル走行軸４に対して平
行、かつ、直角となる所定角度に設定される。これによ
り、フォトマスクＡがその所定角度のままマスクホルダ
２に吸着保持されるので、図５（ｂ）及び図９に示され
るように、パターンをガラス基板Ｂの露光領域ＢＡ１か
らはみ出ることなく該露光領域ＢＡ１内に転写すること
できる。

【００３８】ステップＳ１５では、図６に示す２回目の
露光位置において、マーク検出センサ９ｄ〜９ｆからマ
ーク３ｄ〜３ｆ及びＡｅ〜Ａｆのマーク位置検出信号を
入力する。

【００３９】ステップＳ１６では、マーク検出センサ９
ｄ〜９ｆからのマーク位置検出信号に基づき演算部１３
で露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量を求
める。例えば、２回目の露光位置において、１回目の露
光位置における露光チャック３とフォトマスクＡとの位
置ずれ量が同じであるとすると、マーク検出センサ９ｄ
及び９ｅにおいて、いずれか１つのマーク検出センサ９
ｄ又は９ｅから得られる露光チャック３のマーク位置検
出信号と、フォトマスクＡのマーク位置検出信号とを用
いて所定の演算処理を行うことにより、図３に示される
ように、露光チャック３とフォトマスクＡとのＸ方向の
ずれ量Δｘを求める。また、そのずれ量Δｘと、図５
（ａ）に示されるマーク検出センサ９ｄ及び９ｅ間の距
離Ｌ３とを用いて所定の演算を行うことにより、露光チ
ャック３とフォトマスクＡとのθ方向の傾きずれ量Δθ
を求める。また、マーク検出センサ９ｆから得られる露
光チャック３のマーク位置検出信号と、フォトマスクＡ
のマーク位置検出信号とを用いて所定の演算処理を行う
ことにより、露光チャック３とフォトマスクＡとのＹ方
向のずれ量Δｙを求める。

【００４０】ステップＳ１７では、ステップＳ１６で求
めた露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量に
基づいて演算部１３がフォトマスクＡの位置を補正する
ための補正量を算出する。例えば、ずれ量Δｘの補正量
として、該ずれ量Δｘを相殺する補正量−Δｘを算出す
る。また、傾きずれ量Δθの補正量として、該傾きずれ
量Δθを相殺する補正量−Δθを算出する。また、ずれ
量Δｙの補正量として、該ずれ量Δｙを相殺する補正量
−Δｙを算出する。

【００４１】ステップＳ１８では、ステップＳ１７で算
出した補正量に基づき制御部１２がマスク補正機構８の
マスク位置補正機構８ａ〜８ｃにおけるリニアモータ８
ａ１〜８ｃ１を適宜駆動して、露光チャック３とフォト
マスクＡとの位置ずれを補正する。例えば、マスク位置
補正機構８ａ及び８ｂのリニアモータ８ａ１及び８ｂ１
を同時に或いは個別に駆動してフォトマスクＡを補正量
−Δｘ及び−Δθに応じた分だけ移動させる。また、マ
スク位置補正機構８ｃのリニアモータ８ｃ１を補正量−
Δｙに応じた分だけ移動させる。これによって、フォト
マスクＡのＸ方向側の端面Ａ２及び−Ｘ方向側の端面Ａ
１がステップテーブル走行軸４に対して直角となり、フ
ォトマスクＡのＹ方向側の端面Ａ３及び−Ｙ方向側の端
面Ａ４がステップテーブル走行軸４に対して平行とな
る。

【００４２】このように、図６に示される２回目の露光
位置において、各マスク位置補正機構８ａ〜８ｃのリニ
アモータ８ａ１〜８ｃ１を駆動して、露光チャック３と
フォトマスクＡとの位置ずれ量に応じた補正量分だけフ
ォトマスクＡを所定の方向に駆動するので、露光チャッ
ク３とフォトマスクＡとの位置ずれが補正される。これ
によって、図３において一点鎖線にて示されるように、
フォトマスクＡをステップテーブル走行軸４に対して平
行、かつ、直角となる所定角度に設定することができ
る。これによって、フォトマスクＡがその所定角度のま
まマスクホルダ２に吸着保持されるので、図６（ｂ）及
び図９に示されるように、パターンをガラス基板Ｂの露
光領域ＢＡ２からはみ出ることなく該露光領域ＢＡ２内
に転写することできる。

【００４３】このように、１回目及び２回目の各露光位
置において、ガラス基板Ｂの露光領域ＢＡ１及びＢＡ２
内にマスクパターンが収まるようにフォトマスクＡの位
置が補正されるので、ガラス基板Ｂに対するマスクパタ
ーンの配列精度を向上できて、フォトマスクＡよりも大
きなガラス基板Ｂに対する露光処理を高精度に行えるよ
うになる。

【００４４】本例に示される露光装置において、露光チ
ャック３とマスクホルダ２との位置ずれを補正するた
め、マスク機構８に代えて、アライメントステージ６と
同じように、Ｘ軸テーブル、Ｙ軸テーブル及びθ軸テー
ブルなどにより構成されるマスク補正機構（図示せず）
をマスクホルダ２に設けてもよい。その場合、マスクホ
ルダ２にフォトマスクＡが吸着保持された状態で、前記
マスク補正機構を制御部１２によって駆動制御すること
により、露光チャック３とマスクホルダ２との位置ずれ
が補正される。これにより、フォトマスクＡをステップ
テーブル走行軸４に対して平行、かつ、直角となる所定
角度に設定することができる。しかし、マスクホルダ２
に前記マスク補正機構を設けた場合、装置の大型化は免
れないので、前述したマスク機構８を用いて露光チャッ
ク３とマスクホルダ２との位置ずれを補正する構成とす
れば、装置の小型化を図れるという点で有利である。

【００４５】なお、本例に示される露光装置において
は、図９に示されるように、１回目の露光でフォトマス
クＡのパターンをガラス基板Ｂの右側半分に転写し、２
回目の露光でフォトマスクＡのパターンをガラス基板Ｂ
の左半分に転写するが、ステップ露光におけるステップ
数や露光位置は上記のものに限られるものではない。

【００４６】

【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、マスクホルダにマスクが保持される前に、補正手段
によって各所定位置で軸に対する露光チャックの変位に
応じた露光対象基板とマスクとの位置ずれを補正するよ
うにしたので、該各所定位置でマスクを軸に対して所定
角度に設定することができ、これによって、パターンを
露光対象基板の所定の露光領域からはみ出ることなく該
露光領域内に転写することが可能となり、よって、露光
対象基板に対するパターンの配列精度を向上でき、露光
処理を高精度に行えるという優れた効果を奏する。

【００４７】また、マスクがマスクホルダに保持された
状態で、補正手段によって各所定位置で軸に対する露光
チャックの変位に応じた露光対象基板とマスクとの位置
ずれを補正するようにしたので、該各所定位置でマスク
をマスクホルダによって軸に対して所定角度に設定する
ことができ、これによって、パターンを露光対象基板の
所定の露光領域からはみ出ることなく該露光領域内に転
写することが可能となり、よって、露光対象基板に対す
るパターンの配列精度を向上でき、露光処理を高精度に
行えるという優れた効果を奏する。

【００４８】また、露光対象基板が露光チャック上に搬
入される前に、テーブルによって軸に対する露光対象基
板の変位に応じた位置ずれを補正するようにしたので、
露光対象基板を軸に対して位置ずれを生じることなく露
光チャックに保持することができ、これによって、露光
チャックに対する露光対象基板の面付け精度を向上で
き、露光処理を高精度に行えるという優れた効果を奏す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本実施の形態に係る露光装置の一実施例を示
す概略構成図。

【図２】 本例の露光装置の制御ブロック図。

【図３】 マスク補正機構によるフォトマスクの位置ず
れ補正の説明図。

【図４】 ガラス基板の位置決めのためのアライメント
テーブルによる位置ずれ補正の説明図。

【図５】 ガラス基板に１回目の露光処理を行う場合の
説明図であり、（ａ）はガラス基板及びフォトマスクの
配置態様を示す平面図、（ｂ）は（ａ）の側面図。

【図６】 ガラス基板に２回目の露光処理を行う場合の
説明図であり、（ａ）はガラス基板及びフォトマスクの
配置態様を示す平面図、（ｂ）は（ａ）の側面図。

【図７】 ガラス基板の位置決めのための位置ずれ補正
処理を示すフロー図。

【図８】 フォトマスクの位置補正処理を示すフロー
図。

【図９】 本例の露光装置によるステップ露光処理の説
明図。

【符号の説明】

１ アライメントステージユニット ２ マスクホルダ ３ 露光チャック ３ａ〜３ｆ 位置合わせ用のマーク ４ ステップテーブル走行軸 ６ アライメントステージ ６ａ Ｘ軸テーブル ６ｂ Ｙ軸テーブル ６ｃ θ軸テーブル ７ａ〜７ｃ エッジ検出センサ ８ マスク補正機構 ８ａ〜８ｃ マスク位置補正機構 ９ａ〜９ｆ マーク検出センサ １０ 搬入アーム １２ 制御部 １３ 演算部 Ａ フォトマスク Ａａ〜Ａｆ 位置合わせ用のマーク Ｂ ガラス基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H097 GA45 KA03 KA13 KA16 KA28 LA12 5F046 BA02 CC01 CC02 CC04 CC05 CC08 CC09 CC10 CD01 CD04 EB01 EB02 ED01 FA10 FC04 FC05 FC08

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスクホルダに保持されたパターン形成
   用のマスクよりも大きな露光対象基板を露光チャックに
   保持し、該露光チャックを該マスクに対して所定の軸に
   よって所定方向にステップ移動することにより、該露光
   対象基板を該マスクに対して複数回に分けて所定位置に
   順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ
   露光処理を行う露光装置において、 前記マスクホルダに前記マスクが保持される前に、前記
   マスクの位置補正を行う補正手段と、 前記マスクホルダに前記マスクが保持される前に、前記
   マスクと前記露光チャックとにそれぞれ設けられた位置
   合わせ用のマークを前記各所定位置で検出し、該マーク
   の位置に応じた検出信号を出力する検出手段と、 前記検出信号に基づき前記各所定位置における前記露光
   チャックに対する前記マスクの位置ずれを求め、該位置
   ずれに基づいて該各所定位置で前記マスクを前記軸に対
   して所定角度に設定するための補正量を算出する演算手
   段と、 前記補正量に基づき前記各所定位置で前記マスクを前記
   軸に対して所定角度に設定するよう前記補正手段の駆動
   を制御する制御手段とを具えた露光装置。
2. 【請求項２】 前記補正手段は、前記軸の軸方向におい
   て、前記マスクに少なくとも２箇所で接して該マスクの
   位置補正を行う第１及び第２の位置補正機構と、前記軸
   の軸方向と該軸方向と直角をなす直角方向において、前
   記マスクに少なくとも１箇所で接して該マスクの位置補
   正を行う第３の位置補正機構とを具えることを特徴とす
   る請求項１に記載の露光装置。
3. 【請求項３】 マスクホルダに保持されたパターン形成
   用のマスクよりも大きな露光対象基板を露光チャックに
   保持し、該露光チャックを該マスクに対して所定の軸に
   よって所定方向にステップ移動することにより、該露光
   対象基板を該マスクに対して複数回に分けて所定位置に
   順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ
   露光処理を行う露光装置において、 前記マスクが前記マスクホルダに保持された状態で、前
   記マスクホルダの位置補正を行う補正手段と、 前記マスクが前記マスクホルダに保持された状態で、前
   記マスクと前記露光チャックとにそれぞれ設けられた位
   置合わせ用のマークを前記各所定位置で検出し、該マー
   クの位置に応じた検出信号を出力する検出手段と、 前記検出信号に基づき前記各所定位置における前記露光
   チャックに対する前記マスクの位置ずれを求め、該位置
   ずれに基づいて該各所定位置で前記マスクを前記軸に対
   して所定角度に設定するための補正量を算出する演算手
   段と、 前記補正量に基づき前記各所定位置で前記マスクホルダ
   を前記軸に対して所定角度に設定するよう前記補正手段
   の駆動を制御する制御手段とを具えた露光装置。
4. 【請求項４】 前記補正手段は、前記軸の軸方向に前記
   マスクホルダの位置補正を行う第１の位置補正テーブル
   と、前記軸と直角をなす直角方向に前記マスクホルダの
   位置補正を行う第２の位置補正テーブルと、前記軸の軸
   方向と前記直角方向とが交わる交点回り方向に前記マス
   クホルダの位置補正を行う第３の位置補正テーブルとを
   具えることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. 【請求項５】 マスクホルダに保持されたパターン形成
   用のマスクよりも大きな露光対象基板を搬入して露光チ
   ャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対して所
   定の軸によって所定方向にステップ移動することによ
   り、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて
   所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置
   でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、 前記露光チャックを所定の方向に移動して、前記マスク
   に対する前記露光対象基板の位置合わせを行うテーブル
   と、 前記露光チャック上に搬入される前記露光対象基板の位
   置を検出し、検出信号を出力する検出手段と、 前記検出信号に基づき前記軸に対する前記露光対象基板
   の位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて前記露光チャ
   ックを前記軸に対して所定角度に設定するための補正量
   を算出する演算手段と、 前記補正量に基づき前記露光チャックが前記露光対象基
   板を保持する前に該露光チャックを前記軸に対して所定
   角度に位置決めするよう前記テーブルの駆動を制御する
   制御手段とを具えた露光装置。
6. 【請求項６】 前記テーブルは、前記軸の軸方向に移動
   して、前記マスクに対する前記露光対象基板の位置合わ
   せを行う第１のテーブルと、前記軸と直角をなす直角方
   向に移動して、前記マスクに対する前記露光対象基板の
   位置合わせを行う第２のテーブルと、前記軸の軸方向と
   前記直角方向とが交わる交点回り方向に移動して、前記
   マスクに対する前記露光対象基板の位置合わせを行う第
   ３のテーブルとを具えることを特徴とする請求項５に記
   載の露光装置。
7. 【請求項７】 マスクホルダに保持されたパターン形成
   用のマスクよりも大きな露光対象基板を搬入して露光チ
   ャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対して所
   定の軸によって所定方向にステップ移動することによ
   り、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて
   所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置
   でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、前記露光
   チャックを所定の方向に移動して前記マスクに対する前
   記露光対象基板の位置合わせを行うテーブルを用いて、
   前記露光対象基板を前記露光チャックに保持する前に、
   該露光対象基板を前記軸に対して位置決めする基板位置
   決め方法であって、 前記露光チャック上に搬入される前記露光対象基板の位
   置を検出し、検出信号を出力する工程と、 前記検出信号に基づき前記軸に対する前記露光対象基板
   の位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて前記露光チャ
   ックを前記軸に対して所定角度に設定するための補正量
   を算出する工程と、 前記補正量に基づき前記露光チャックを前記軸に対して
   所定角度に位置決めするよう前記テーブルの駆動を制御
   する工程とを具えた露光装置における基板位置決め方
   法。