JP2002270394A - Soft x-ray ionizer having ion balance control function - Google Patents

Soft x-ray ionizer having ion balance control function

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JP2002270394A
JP2002270394A JP2001069832A JP2001069832A JP2002270394A JP 2002270394 A JP2002270394 A JP 2002270394A JP 2001069832 A JP2001069832 A JP 2001069832A JP 2001069832 A JP2001069832 A JP 2001069832A JP 2002270394 A JP2002270394 A JP 2002270394A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a soft X-ray ionizer having an ion balance control function controllable to a desired ion balance. SOLUTION: The soft X-ray ionizer having an ion balance control function consists of soft X-ray irradiation equipment 1 and an electrode 2 for bias impression, which is arranged between the soft X-ray irradiation equipment 1 and a destaticized substance 5, in a soft X-ray irradiation domain, and is constituted so that plus ions or minus ions may be attracted by impressing bias voltage to the electrode 2 for bias impression.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、軟X線を照射して
イオン化生成したプラスイオンおよびマイナスイオンが
所望のイオンバランスとなるように制御できる機能を有
するイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザに関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a soft X-ray ionizer having an ion balance control function having a function of controlling positive ions and negative ions ionized by irradiation with soft X-rays so as to have a desired ion balance. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体等の電子デバイス(以下、単に電
子デバイスという)の製造プロセスにおいて、この電子
デバイスに静電気が発生すると、電子デバイスが高電圧
静電気により静電破壊されるという障害、または、気体
中に浮遊する微粒子が電子デバイスの半導体回路に吸引
付着して半導体回路の短絡を引き起こすという障害(以
下、これらを単に静電気障害という)が起こる。このよ
うな静電気障害が、電子デバイスの製造歩留りを低下さ
せる大きな原因となっている。
2. Description of the Related Art In a process of manufacturing an electronic device such as a semiconductor (hereinafter, simply referred to as an electronic device), when static electricity is generated in the electronic device, the electronic device is damaged by high-voltage static electricity or a gas. An obstacle occurs in which fine particles suspended therein attract and adhere to a semiconductor circuit of an electronic device to cause a short circuit of the semiconductor circuit (hereinafter, these are simply referred to as electrostatic damage). Such electrostatic damage is a major cause of lowering the production yield of electronic devices.

【0003】この問題は、電子デバイスに帯電する静電
気を除電することにより解決される。除電には従来から
コロナ放電型イオナイザが広く用いられている。コロナ
放電型イオナイザは、プラスイオンまたはマイナスイオ
ンを製造中の電子デバイスに吹き付けて異極同士を結合
させることで除電し、静電気障害の発生を未然に防止す
るというものである。
[0003] This problem is solved by eliminating static electricity charged in the electronic device. Conventionally, a corona discharge type ionizer has been widely used for static elimination. The corona discharge ionizer eliminates static electricity by spraying positive ions or negative ions onto an electronic device being manufactured to combine different polarities, thereby preventing the occurrence of static electricity.

【0004】しかし、コロナ放電型イオナイザは、エミ
ッタと呼ばれる放電電極に高電圧を印加してイオンを生
成するが、エミッタ自体が自己発塵するため、コロナ放
電型イオナイザ自体がコンタミネーション(被除電物の
汚染を引き起こすような異物)を発生させるという問題
がある。
[0004] However, the corona discharge type ionizer generates ions by applying a high voltage to a discharge electrode called an emitter. However, the emitter itself generates dust, so that the corona discharge type ionizer itself becomes a contaminant (to be removed). (Foreign matter that causes contamination of the surface).

【0005】現在開発中のギガビットレベルのULSI
(Ultra Large Scale Integration)メモリは、半導体
回路の配線ピッチが0.15μmレベルという超微細加
工を駆使して製造され、酸化膜の厚さは 10nm程度
になっている。シリコンウェハ上の酸化膜形成プロセス
において、原子レベルのコンタミネーションがシリコン
ウェハに付着しただけで、酸化膜の静電耐圧は著しく低
下する。したがって、イオナイザはコンタミネーション
を発生させないことが望ましい。
A gigabit-level ULSI currently under development
(Ultra Large Scale Integration) memories are manufactured by making full use of ultrafine processing in which the wiring pitch of semiconductor circuits is on the order of 0.15 μm, and the thickness of the oxide film is about 10 nm. In the process of forming an oxide film on a silicon wafer, only the contamination at the atomic level adheres to the silicon wafer, and the electrostatic breakdown voltage of the oxide film is significantly reduced. Therefore, it is desirable that the ionizer does not cause contamination.

【0006】この問題を解決するためにコンタミネーシ
ョンフリーを実現する軟X線を用いるイオナイザの採用
が検討されている。軟X線式イオナイザの原理は、波長
が長いため透過力の弱いX線(軟X線)を空気又は非反
応性ガスに照射し、これらの気体分子から電子を放出さ
せてイオン化し、プラスイオンとマイナスイオンとを均
等量発生させるというものである。コンタミネーション
フリーであることに加えて、一つの気体分子からプラス
イオンとマイナスイオンが生成されるため、プラスイオ
ンおよびマイナスイオンは等しい数で生成され、正負の
イオン濃度が常に等しくイオンバランスが良いという利
点がある。
[0006] In order to solve this problem, the use of an ionizer using soft X-rays for realizing contamination free is being studied. The principle of the soft X-ray ionizer is that the X-rays (soft X-rays), which have a long wavelength and low permeability, are radiated to air or non-reactive gas, and electrons are emitted from these gas molecules to ionize them. And negative ions are generated in equal amounts. In addition to being contamination-free, plus and minus ions are generated from one gas molecule, so plus and minus ions are generated in equal numbers, with positive and negative ion concentrations always equal and good ion balance. There are advantages.

【0007】しかしながら、このような軟X線式イオナ
イザも万能でなく、以下に説明するような問題点があっ
た。例えば、軟X線式イオナイザが設置される電子デバ
イスの製造工場において、製造ラインを流れる電子デバ
イスなどの被除電物(以下、単に被除電物という。)
は、正電荷あるいは負電荷の何れか一方に帯電するとい
う傾向が知られている。この傾向は製造装置や製造ライ
ン等の機械に起因するものである。ここでは、説明の具
体化のため、製造ライン上を流れる多数の被除電物には
負電荷が多く帯電しているものとして説明する。
However, such a soft X-ray ionizer is not versatile and has the following problems. For example, in a manufacturing plant of an electronic device in which a soft X-ray ionizer is installed, an object to be neutralized such as an electronic device flowing through a production line (hereinafter, simply referred to as an object to be neutralized).
Is known to tend to be charged either positively or negatively. This tendency is caused by a machine such as a manufacturing apparatus or a manufacturing line. Here, for the sake of specific description, it is assumed that a large number of negative charges are charged in a large number of objects to be removed flowing on the production line.

【0008】軟X線式イオナイザによりイオンバランス
が等しい雰囲気下に、負電荷が帯電している被除電物が
搬入されてきた場合、被除電物上の負電荷と空中のプラ
スイオンとが結合して除電されるが、先に説明したよう
に被除電物の多くに負電荷が帯電しているため、多数の
被除電物の搬入が続くとプラスイオンの濃度が低い状態
となり、除電効果が低くなるという問題があった。
When an object having a negative charge is carried into the atmosphere having the same ion balance by a soft X-ray ionizer, the negative charge on the object and positive ions in the air combine with each other. As described above, since many of the objects to be neutralized are negatively charged as described above, if a large number of objects to be neutralized continue to be transported, the concentration of positive ions will be in a low state, and the neutralization effect will be low. There was a problem of becoming.

【0009】このように、従来ではプラスイオンとマイ
ナスイオンとが等量となるようにイオンバランスを調節
することが善とされていたが、実際には製造ラインの実
状に応じてプラスイオン又はマイナスイオンの何れかの
濃度を増加させるようにイオンバランスを調整できるこ
とが好ましいことが判明した。そこで、軟X線式イオナ
イザでもイオンバランスが制御できるようにするため、
鋭意研究開発が進められている。
As described above, conventionally, it has been good to adjust the ion balance so that the positive ions and the negative ions are equal in amount. However, in practice, the positive ions or the negative ions are adjusted according to the actual conditions of the production line. It has been found that it is preferable to be able to adjust the ion balance so as to increase the concentration of any of the ions. In order to control the ion balance even with a soft X-ray ionizer,
Eager research and development is underway.

【0010】続いて、このようなイオンバランスが制御
できる軟X線式イオナイザの従来技術について概略説明
する。図16は、従来技術によるイオンバランス制御機
能付軟X線式イオナイザ(以下、従来技術の説明中で単
に軟X線式イオナイザという)の原理図である。
Next, a conventional technique of a soft X-ray ionizer capable of controlling the ion balance will be described. FIG. 16 is a principle diagram of a conventional soft X-ray ionizer with an ion balance control function (hereinafter simply referred to as a soft X-ray ionizer).

【0011】図16で示す軟X線式イオナイザは、軟X
線を照射する軟X線照射装置100、および、電界を発
生させる極板200a,200bを備えている。この軟
X線式イオナイザは、図示しない遮蔽カバーが設けられ
ており、外界へ軟X線が漏れないように配慮されてい
る。この軟X線式イオナイザ中には被除電物300が図
示しない製造ラインにより搬入される。説明のため、被
除電物300に負電荷が帯電しているものとする。
The soft X-ray ionizer shown in FIG.
The apparatus includes a soft X-ray irradiator 100 for irradiating a line, and electrode plates 200a and 200b for generating an electric field. This soft X-ray ionizer is provided with a shielding cover (not shown) so that the soft X-ray does not leak to the outside. An object 300 to be neutralized is carried into the soft X-ray ionizer by a manufacturing line (not shown). For the sake of explanation, it is assumed that the charge removal target 300 is charged with a negative charge.

【0012】続いて、軟X線式イオナイザ動作原理につ
いて説明する。軟X線照射装置100が、軟X線を照射
すると軟X線照射領域にある空気あるいは非反応性ガス
に含まれる気体分子はイオン化し、プラスイオンとマイ
ナスイオンとを生成する。この場合、一つの気体分子を
イオン化しているため、プラスイオンとマイナスイオン
とは等量である。
Next, the principle of operation of the soft X-ray ionizer will be described. When the soft X-ray irradiator 100 irradiates soft X-rays, gas molecules contained in the air or the non-reactive gas in the soft X-ray irradiation region are ionized to generate positive ions and negative ions. In this case, since one gas molecule is ionized, the positive ion and the negative ion are equivalent.

【0013】極板200aに正電圧が印加され、また、
極板200bは接地されているため、極板200aと極
板200bとの間には電界(図16中の矢印Aが電界の
方向である)が生じている。そして、マイナスイオン
は、電界から受ける力により、極板200aへ移動した
後に吸引されるため、プラスイオンが多くなるようにイ
オンバランスが制御される。このプラスイオンが被除電
物300に帯電する負電荷と結合するため、被除電物3
00は除電される。従来技術の軟X線式イオナイザの動
作原理はこのようなものであった。
A positive voltage is applied to the electrode plate 200a.
Since the electrode plate 200b is grounded, an electric field (an arrow A in FIG. 16 indicates the direction of the electric field) is generated between the electrode plate 200a and the electrode plate 200b. Then, the negative ions are attracted after moving to the electrode plate 200a by the force received from the electric field, so that the ion balance is controlled so that the positive ions increase. Since the positive ions combine with the negative charges charged on the object 300, the object 3
00 is neutralized. The operating principle of the prior art soft X-ray ionizer was as described above.

【0014】さらに、このような動作原理に基づくイオ
ンバランス制御機能付き軟X線式イオナイザの従来技術
が、例えば、特開2000−21596号または特開2
000−208293号においても開示されている。
Further, a conventional soft X-ray ionizer having an ion balance control function based on such an operation principle is disclosed in, for example, JP-A-2000-21596 or JP-A-2000-21596.
000-208293.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザは、
その動作原理に反して所望の効果が得られないという問
題があった。図16で示すように、軟X線照射領域で生
成するプラスイオンおよびマイナスイオンのうち、極板
200aの近傍にあるマイナスイオンは吸収されるが、
極板200aから離れた位置にあるマイナスイオンは動
作原理に反して吸収されず、このため被除電物300の
近傍にあるマイナスイオンは吸収されないという問題が
あった。
However, the soft X-ray ionizer with the ion balance control function of the prior art is
There is a problem that a desired effect cannot be obtained contrary to the operation principle. As shown in FIG. 16, of the positive ions and the negative ions generated in the soft X-ray irradiation region, the negative ions near the electrode plate 200a are absorbed,
Negative ions located away from the electrode plate 200a are not absorbed contrary to the operation principle, and therefore, there is a problem that the negative ions near the object 300 are not absorbed.

【0016】このため、被除電物300の近傍ではイオ
ンバランスを制御できず、プラスイオンの濃度が低い状
態となり、除電効果が高められないという問題が依然解
消されなかった。さらに、イオンバランスが効率的に制
御できないため、被除電物300の除電時間の高速化制
御が困難であり、製造工程の短縮化が求められる実際の
製造ラインに投入できなかった。
For this reason, the problem that the ion balance cannot be controlled in the vicinity of the object 300 to be neutralized, the concentration of the positive ions is low, and the static elimination effect cannot be improved has not been solved. Furthermore, since the ion balance cannot be efficiently controlled, it is difficult to control the charge elimination time of the object to be neutralized 300 at a high speed, and it has not been possible to put it into an actual production line that requires a shortened production process.

【0017】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであり、その目的は、所望のイオンバランス
となるような制御機能を有するイオンバランス制御機能
付軟X線式イオナイザを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide a soft X-ray ionizer with an ion balance control function having a control function for achieving a desired ion balance. It is in.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1に係る発明のイオンバランス制御機能付軟
X線式イオナイザは、被除電物の除電に好適となるよう
に、軟X線を用いてイオン化生成したプラスイオンまた
はマイナスイオンのイオンバランスを制御する機能を有
するイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザにお
いて、軟X線を照射する軟X線照射装置と、軟X線照射
装置が照射する軟X線照射領域内であって軟X線照射装
置と被除電物との間に配置されるバイアス印加用電極
と、を備え、バイアス印加用電極にバイアス電圧を印加
してプラスイオンまたはマイナスイオンを吸引させるこ
とを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to the first aspect of the present invention provides a soft X-ray ionizer so as to be suitable for neutralizing an object to be neutralized. A soft X-ray irradiator for irradiating soft X-rays in a soft X-ray ionizer with an ion balance control function having a function of controlling the ion balance of a positive ion or a negative ion ionized by using a soft X-ray And a bias applying electrode disposed between the soft X-ray irradiating apparatus and the object to be neutralized within the soft X-ray irradiating region irradiated with a bias voltage. Alternatively, it is characterized in that negative ions are sucked.

【0019】バイアス印加用電極は、イオン化濃度が高
い軟X線照射領域中に配置されているため、プラスイオ
ンまたはマイナスイオンがバイアス印加用電極へ効率的
に吸引されてイオンバランスの制御を確実に行う。
Since the bias application electrode is disposed in the soft X-ray irradiation region having a high ionization concentration, positive ions or negative ions are efficiently attracted to the bias application electrode, and the ion balance is reliably controlled. Do.

【0020】また、請求項2に係る発明のイオンバラン
ス制御機能付軟X線式イオナイザは、請求項1に記載の
イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザにおい
て、バイアス印加用電極は前記被除電物の近傍に配置さ
れ、バイアス印加用電極にバイアス電圧を印加して被除
電物の近傍のプラスイオンまたはマイナスイオンを優先
的に吸引させることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to the first aspect of the present invention. The method is characterized in that a bias voltage is applied to a bias applying electrode disposed near an object to preferentially attract positive ions or negative ions near the object to be neutralized.

【0021】バイアス印加用電極を被除電物の近傍に配
置し、イオン化濃度が高い軟X線照射領域中であって、
特に、被除電物の近傍において、プラスイオンまたはマ
イナスイオンをバイアス印加用電極へ効率的に吸引して
イオンバランスを制御し、被除電物の除電をより確実に
行う。
An electrode for bias application is arranged in the vicinity of the object to be neutralized, and in a soft X-ray irradiation region having a high ionization concentration,
In particular, in the vicinity of the object to be neutralized, positive ions or negative ions are efficiently attracted to the bias application electrode to control the ion balance, thereby more reliably removing the object to be neutralized.

【0022】また、請求項3に係る発明のイオンバラン
ス制御機能付軟X線式イオナイザは、請求項1または請
求項2に記載のイオンバランス制御機能付軟X線式イオ
ナイザにおいて、バイアス印加用電極は開口部を有する
ことを特徴とする。
A soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to a third aspect of the present invention is the soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to the first or second aspect. Is characterized by having an opening.

【0023】電極が開口部を有しているため、平板状の
電極を用いたとしても、軟X線が開口部を通過して被除
電物周辺まで到達し、被除電物近傍においてもイオン化
を行うため、被除電物近傍においてイオン化が行われな
いという事態を防止するとともに電極の表面積を増加さ
せてイオンの吸収能力を高めることができるようにな
る。
Since the electrode has an opening, even if a flat electrode is used, soft X-rays pass through the opening and reach the periphery of the object to be neutralized. Therefore, it is possible to prevent a situation in which ionization is not performed in the vicinity of the object to be neutralized, and to increase the surface area of the electrode to increase the ion absorption capacity.

【0024】また、請求項4に係る発明のイオンバラン
ス制御機能付軟X線式イオナイザは、請求項3に記載の
イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザにおい
て、バイアス印加用電極はリング状形状を含むことを特
徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to the third aspect of the present invention, wherein the bias applying electrode has a ring shape. It is characterized by including.

【0025】また、請求項5に係る発明のイオンバラン
ス制御機能付軟X線式イオナイザは、請求項3に記載の
イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザにおい
て、バイアス印加用電極は網状形状を含むことを特徴と
する。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to the third aspect of the present invention, wherein the bias applying electrode has a net shape. It is characterized by including.

【0026】開口部を有するバイアス印加用電極として
特に好適であると発明者の実験作業により知見された電
極形状は、リング状電極と網状電極が少なくとも軟X線
照射領域に配置されるような形状である。なお、含むと
は、例えば支持部材などは別形状でも良いということで
ある。
The electrode shape found by the inventor's experiments to be particularly suitable as a bias application electrode having an opening has a shape such that the ring-shaped electrode and the mesh electrode are arranged at least in the soft X-ray irradiation region. It is. Note that including means that, for example, the support member or the like may have another shape.

【0027】また、請求項6に係る発明のイオンバラン
ス制御機能付軟X線式イオナイザは、請求項1〜請求項
5の何れか1項に記載のイオンバランス制御機能付軟X
線式イオナイザにおいて、軟X線照射領域から被除電物
へ向けて送風する送風手段を備えることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to any one of the first to fifth aspects.
The linear ionizer is characterized in that it is provided with blowing means for blowing air from the soft X-ray irradiation area toward the object to be neutralized.

【0028】被除電物へ向かう風によりプラスイオンお
よびマイナスイオンが加速された状態で、まずバイアス
印加用電極へ吹き付けられる。そして、バイアス印加用
電極がプラスに印加されているならマイナスイオンが、
また、バイアス印加用電極マイナスに印加されているな
らばプラスイオンがそれぞれ吸引され、所望のイオンバ
ランスにした後に被除電物へ吹き付けることとなり、除
電効率を更に高めることができる。また、除電時間の短
縮化にも寄与する。
In a state where the positive ions and the negative ions are accelerated by the wind toward the object to be neutralized, the positive ions and the negative ions are first blown to the bias application electrode. Then, if the bias application electrode is positively applied, negative ions are
In addition, if the bias is applied to the negative electrode for bias application, positive ions are each attracted, and after being adjusted to a desired ion balance, are sprayed on the object to be neutralized, so that the static elimination efficiency can be further improved. Also, it contributes to shortening of the static elimination time.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、本発明の請求項1に係る第
1実施形態であるイオンバランス制御機能付軟X線式イ
オナイザについて図面を参照しつつ説明する。図1は第
1実施形態の概略構成図である。図1で示すように、本
実施形態のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイ
ザ10は、軟X線照射装置1、バイアス印加用電極2、
遮蔽カバー3、グランド電極4を備え、被除電物5を除
電する装置である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of the first embodiment. As shown in FIG. 1, a soft X-ray ionizer 10 having an ion balance control function according to the present embodiment includes a soft X-ray irradiation device 1, a bias application electrode 2,
This is a device that includes a shielding cover 3 and a ground electrode 4 and that neutralizes an object 5 to be neutralized.

【0030】軟X線照射装置1は、軟X線を照射する機
能を有している。軟X線照射装置1による軟X線照射領
域は、図1で示すような範囲である。バイアス印加用電
極2は、たとえば、この軟X線照射領域内であって、軟
X線照射装置1と被除電物5との間に配置される。本実
施形態のバイアス印加用電極2は針状の電極としてい
る。なお針状に限定される趣旨でななく、コ字状あるい
はヨ字状というように各種の形状が可能である。また、
矢印B方向へ向けて広がる平板状の電極として表面積を
広げることも可能である。このバイアス印加用電極2に
は本実施形態では正電圧が印加されるものとして説明す
る。
The soft X-ray irradiator 1 has a function of irradiating soft X-rays. The soft X-ray irradiation area by the soft X-ray irradiation device 1 is a range as shown in FIG. The bias application electrode 2 is arranged, for example, in the soft X-ray irradiation area and between the soft X-ray irradiation device 1 and the object 5 to be neutralized. The bias application electrode 2 of the present embodiment is a needle-like electrode. The shape is not limited to the needle shape, but may be various shapes such as a U-shape or a Y-shape. Also,
It is also possible to increase the surface area as a plate-like electrode extending in the direction of arrow B. In this embodiment, a description will be given assuming that a positive voltage is applied to the bias application electrode 2.

【0031】遮蔽カバー3は、軟X線照射装置1および
バイアス印加用電極2を覆い、軟X線を遮蔽カバー外へ
透過させないように設けられている。この遮蔽カバー3
内は空気または非反応性ガス(例えば、アルゴンガス
等)が充填されているものとする。グランド電極4は、
接地によりグランド電位としている。グランド電極4と
バイアス印加用電極2との間に、図1中の矢印Bの方向
に向かう電界を発生させている。なお、グランド電極4
は、遮蔽カバー3と一体にして共通の構造としても良
い。被除電物5は、本実施形態では負電荷が帯電した状
態で図示しない搬送ライン上を搬送されて来るものとす
る。
The shielding cover 3 is provided so as to cover the soft X-ray irradiating device 1 and the bias applying electrode 2 so as not to transmit the soft X-rays outside the shielding cover. This shielding cover 3
It is assumed that the inside is filled with air or a non-reactive gas (for example, argon gas or the like). The ground electrode 4
The ground potential is set to the ground potential. An electric field is generated between the ground electrode 4 and the bias application electrode 2 in the direction of arrow B in FIG. The ground electrode 4
May be integrated with the shielding cover 3 to have a common structure. In the present embodiment, the charge removal target 5 is transported on a transport line (not shown) in a state where negative charges are charged.

【0032】続いて動作原理について説明する。軟X線
照射装置1は空気または非反応性ガスへ軟X線を照射す
る。そして、空気または非反応性ガスの気体分子はイオ
ン化され、プラスイオンとマイナスイオンとが生成され
る。このうち、マイナスイオンは、電界から受ける力に
よりバイアス印加用電極2へ吸引されるため、プラスイ
オンの濃度が高くなる。これらプラスイオンは被除電物
に帯電する負電荷と結合して除電が完了する。なお、当
然ながらバイアス印加用電極2に負電圧を印加するとき
は、プラスイオンが吸引され、マイナスイオンの濃度が
高くなる。このように、印加電圧を制御することで所望
のイオンバランスとなるように制御できる。
Next, the operation principle will be described. The soft X-ray irradiator 1 irradiates air or a non-reactive gas with soft X-rays. Then, gas molecules of the air or the non-reactive gas are ionized, and positive ions and negative ions are generated. Of these, the negative ions are attracted to the bias application electrode 2 by the force received from the electric field, so that the concentration of the positive ions increases. These positive ions combine with the negative charges charged on the object to be neutralized to complete the neutralization. When a negative voltage is applied to the bias application electrode 2, positive ions are attracted and the concentration of negative ions increases. As described above, by controlling the applied voltage, it can be controlled so as to obtain a desired ion balance.

【0033】以上説明したように、本実施形態では、濃
度が高い軟X線照射領域中にバイアス印加用電極2が配
置されているため、プラスイオンまたはマイナスイオン
がバイアス印加用電極2へ効率的に吸引されてイオンバ
ランスの制御を確実に行うことができるようになる。
As described above, in this embodiment, since the bias application electrode 2 is disposed in the soft X-ray irradiation region having a high concentration, the positive ions or the negative ions are efficiently supplied to the bias application electrode 2. Thus, the ion balance can be reliably controlled.

【0034】続いて、本発明の請求項2に係る第2実施
形態であるイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイ
ザについて図面を参照しつつ説明する。図2は第2実施
形態の概略構成図である。図2で示すように、本実施形
態のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ20
は、軟X線照射装置1、バイアス印加用電極2、遮蔽カ
バー3、グランド電極4を備え、被除電物5を除電する
装置である点は第1実施形態と同様であるが、特にバイ
アス印加用電極2を被除電物5の近傍に配置している点
を特徴としている。軟X線照射装置1、バイアス印加用
電極2、遮蔽カバー3、グランド電極4、被除電物5の
機能および動作原理については第1実施形態の説明と同
様であり、その説明を省略する。
Next, a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the second embodiment. As shown in FIG. 2, the soft X-ray ionizer 20 with the ion balance control function of the present embodiment
Is similar to the first embodiment in that it is provided with a soft X-ray irradiator 1, a bias application electrode 2, a shielding cover 3, and a ground electrode 4, and is a device for removing charges from an object 5 to be removed. It is characterized in that the electrode for use 2 is arranged near the object to be neutralized 5. The functions and operating principles of the soft X-ray irradiator 1, the bias application electrode 2, the shielding cover 3, the ground electrode 4, and the object to be neutralized 5 are the same as those described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0035】本実施形態では、イオン濃度が高い軟X線
照射領域中であって、さらに被除電物5の近傍にバイア
ス印加用電極2を配置することで、被除電物5の近傍の
プラスイオンまたはマイナスイオンをバイアス印加用電
極2へ効率的に吸引し、特にイオンバランスの制御時に
被除電物5の近傍領域でプラスイオンまたはマイナスイ
オンのイオン濃度を高めることができるため、除電効果
をより高めることができるという利点がある。
In the present embodiment, the bias application electrode 2 is arranged in the soft X-ray irradiation area where the ion concentration is high and further in the vicinity of the object 5, so that the positive ions in the vicinity of the object 5 are removed. Alternatively, the negative ions can be efficiently attracted to the bias application electrode 2, and the ion concentration of the positive ions or the negative ions can be increased particularly in the region near the object to be neutralized 5 when controlling the ion balance, so that the static elimination effect is further enhanced. There is an advantage that can be.

【0036】続いて、本発明の請求項3,請求項4に係
る第3実施形態であるイオンバランス制御機能付軟X線
式イオナイザについて図面を参照しつつ説明する。図3
は第3実施形態の概略構成図である。図3で示すよう
に、本実施形態のイオンバランス制御機能付軟X線式イ
オナイザ30は、軟X線照射装置1、バイアス印加用電
極2、遮蔽カバー3、グランド電極4を備え、被除電物
5を除電する装置である点は第1実施形態と同様である
が、特にバイアス印加用電極2の形状を変化させている
ことを特徴としている。なお、軟X線照射装置1、遮蔽
カバー3、グランド電極4、被除電物5の機能および動
作原理については第1実施形態の説明と同様であり、そ
の説明を省略する。
Next, a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG.
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a third embodiment. As shown in FIG. 3, the soft X-ray ionizer 30 with an ion balance control function of the present embodiment includes a soft X-ray irradiator 1, a bias applying electrode 2, a shielding cover 3, and a ground electrode 4, and a charge removal target. 5 is the same as the first embodiment in that it is a device for removing static electricity, but is characterized in that the shape of the bias application electrode 2 is changed. The functions and operating principles of the soft X-ray irradiation device 1, the shielding cover 3, the ground electrode 4, and the object to be neutralized 5 are the same as those described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0037】本実施形態では、バイアス印加用電極2は
開口部を有するようにし、特にリング状の電極を含んで
いる点が特徴である。バイアス印加用電極2に開口部を
持たせる理由としては、仮に開口部がない平面状の電極
が被除電物5を覆うように配置されたとすると、電極が
覆う箇所については軟X線が到達せずにイオン化されな
いこととなる。しかしながら、開口部があれば、仮に平
面上の電極を用いても被除電物周辺まで軟X線が到達し
て被除電物5の近傍においてもイオン化を行うこととな
るため、被除電物5の近傍においてイオン化が行われな
いという事態を防止する。また、図示しないが平板状で
表面積が大きい電極としてイオンの吸収能力をさらに高
めることもできるようになる。
The present embodiment is characterized in that the bias application electrode 2 has an opening and particularly includes a ring-shaped electrode. The reason why the bias application electrode 2 is provided with an opening is that if a planar electrode having no opening is arranged so as to cover the object to be neutralized 5, soft X-rays reach the portion covered by the electrode. Without being ionized. However, if there is an opening, even if an electrode on a flat surface is used, the soft X-rays reach the periphery of the object to be neutralized and ionize even in the vicinity of the object to be neutralized 5. This prevents a situation in which ionization is not performed in the vicinity. In addition, although not shown, an electrode having a plate-like shape and a large surface area can further increase the ion absorption capacity.

【0038】なお、本実施形態では1個のリング状の電
極を含み、棒状の部材で支持するバイアス印加用電極2
としている。しかしながらこのような形状のバイアス印
加用電極2に限定するものではない。たとえば、リング
状の電極を1個に限定せず、上下方向に多段に配置する
ようにしてもよい。また、円形リングに限定せず、例え
ば、楕円形状のリングにするなど、各種の形状を採用す
ることができる。さらに第2実施形態のように、リング
状のバイアス印加用電極2を被除電物5の近傍に配置し
ても良い。
In this embodiment, the bias application electrode 2 includes one ring-shaped electrode and is supported by a rod-shaped member.
And However, the present invention is not limited to the bias application electrode 2 having such a shape. For example, the number of ring-shaped electrodes is not limited to one, but may be arranged in multiple stages in the vertical direction. The shape is not limited to a circular ring, and various shapes such as an elliptical ring can be adopted. Further, as in the second embodiment, the ring-shaped bias application electrode 2 may be arranged near the object to be neutralized 5.

【0039】続いて、本発明の請求項3,請求項5に係
る第4実施形態であるイオンバランス制御機能付軟X線
式イオナイザについて図面を参照しつつ説明する。図4
は第4実施形態の概略構成図である。図4で示すよう
に、本実施形態のイオンバランス制御機能付軟X線式イ
オナイザ40は、軟X線照射装置1、バイアス印加用電
極2、遮蔽カバー3、グランド電極4を備え、被除電物
5を除電する装置である点は第1実施形態と同様である
が、特にバイアス印加用電極2の形状を変化させている
事を特徴としている。なお、軟X線照射装置1、遮蔽カ
バー3、グランド電極4、被除電物5の機能および動作
原理については第1実施形態の説明と同様であり、その
説明を省略する。
Next, a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG.
FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a fourth embodiment. As shown in FIG. 4, a soft X-ray ionizer 40 having an ion balance control function according to the present embodiment includes a soft X-ray irradiator 1, a bias applying electrode 2, a shielding cover 3, and a ground electrode 4, and a charge removal target. 5 is similar to the first embodiment in that it is a device for removing static electricity, but is characterized in that the shape of the bias application electrode 2 is changed. The functions and operating principles of the soft X-ray irradiation device 1, the shielding cover 3, the ground electrode 4, and the object to be neutralized 5 are the same as those described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0040】本実施形態では、バイアス印加用電極2は
開口を有するようにし、特に網状の電極を含んでいる点
が特徴である。バイアス印加用電極2に開口部を持たせ
る理由としては、第3実施形態における説明と同様であ
るが、特に網状にすると、気体中に接触する接触面の面
積がさらに大きくなり、イオンの吸収能力をさらに高め
ることができるようになる。
The present embodiment is characterized in that the bias application electrode 2 has an opening, and particularly includes a mesh electrode. The reason why the opening for the bias application electrode 2 is provided is the same as that described in the third embodiment. However, if the electrode is formed in a mesh shape, the area of the contact surface in contact with the gas is further increased, and the ion absorption capacity is increased. Can be further enhanced.

【0041】なお、本実施形態では1個の網状の電極を
含み、棒状の部材で支持するバイアス印加用電極2とし
ている。しかしながらこのような形状のバイアス印加用
電極2に限定するものではない。たとえば、網状の電極
を1個に限定せず、上下方向に多段に配置するようにし
てもよい。また、棒状の支持部を除去し、全面網状の電
極としてもよい。さらに第2実施形態のように網状のバ
イアス印加用電極2を被除電物5の近傍に配置しても良
い。
In this embodiment, the bias application electrode 2 includes one mesh electrode and is supported by a rod-shaped member. However, the present invention is not limited to the bias application electrode 2 having such a shape. For example, the number of reticulated electrodes is not limited to one, but may be arranged in multiple stages in the vertical direction. Alternatively, the rod-shaped support portion may be removed to form a net-like electrode. Further, as in the second embodiment, the mesh-like bias application electrode 2 may be arranged near the object 5 to be neutralized.

【0042】なお、図4に示すような網状のバイアス印
加用電極2において、角形開口部の開口面積が大きすぎ
るとイオンの吸収効率が悪くなり、また、開口面積が小
さすぎると軟X線の透過量が減少するため、開口面積の
決定は実験により決定されるが、1cm四方角の開口と
すると特に望ましいことが判明した。このようなバイア
ス印加用電極2とすれば、イオン吸収能力を高めること
ができ、さらにイオンバランス制御の速度を高めること
ができる。
In the reticulated bias applying electrode 2 as shown in FIG. 4, if the opening area of the rectangular opening is too large, the ion absorption efficiency is deteriorated. Since the amount of transmission is reduced, the area of the opening is determined by an experiment, but it has been found that it is particularly preferable to use a 1 cm square opening. With such a bias application electrode 2, the ion absorption capacity can be increased, and the speed of ion balance control can be increased.

【0043】続いて、本発明の請求項6に係る第5実施
形態であるイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイ
ザについて図面を参照しつつ説明する。図5は第5実施
形態の概略構成図である。図5で示すように、本実施形
態のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ50
は、軟X線照射装置1、バイアス印加用電極2、遮蔽カ
バー3、グランド電極4を備え、被除電物5を除電する
装置である点は第1実施形態と同様であるが、特に送風
手段6を追加している点を特徴としている。なお、軟X
線照射装置1、バイアス印加用電極2、遮蔽カバー3、
グランド電極4、被除電物5の機能および動作原理につ
いては第1実施形態の説明と同様であり、その説明を省
略する。
Next, a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of the fifth embodiment. As shown in FIG. 5, a soft X-ray ionizer 50 with an ion balance control function according to the present embodiment.
Is similar to the first embodiment in that it is provided with a soft X-ray irradiator 1, a bias applying electrode 2, a shielding cover 3, and a ground electrode 4, and is a device for removing charges from an object 5 to be removed. 6 is added. Note that soft X
Line irradiation device 1, bias application electrode 2, shielding cover 3,
The functions and operating principles of the ground electrode 4 and the object to be neutralized 5 are the same as those described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0044】本実施形態では、送風手段6が図5の矢印
Cの方向へ向けて送風しており、プラスイオンとマイナ
スイオンとをバイアス印加用電極2へ吹き付けてプラス
イオン又はマイナスイオンの吸引を増進させ、イオン濃
度を高めてから被除電物5に吹き付けるようにすること
が特徴である。風により再結合が起こる前に多量のプラ
スイオン又はマイナスイオンを被除電物に吹き付けるた
め、除電効率が高められる。
In this embodiment, the blowing means 6 blows air in the direction of arrow C in FIG. 5, and blows positive ions and negative ions to the bias application electrode 2 to attract positive ions or negative ions. It is characterized in that it is promoted to increase the ion concentration before spraying the charge to be removed 5. Since a large amount of positive ions or negative ions are blown to the object to be neutralized before the recombination occurs due to the wind, the static elimination efficiency is improved.

【0045】なお、本実施形態では1個の針状のバイア
ス印加用電極2としているが、1個に限定せず、例え
ば、上下方向に多段に配置するようにしてもよい。ま
た、針状に限定せず、例えば、コ字状またはヨ字状にす
るなど、各種の形状を採用することができる。さらに第
2実施形態のように針状のバイアス印加用電極2を被除
電物5の近傍に配置しても良い。
In the present embodiment, one needle-shaped bias application electrode 2 is used, but the number is not limited to one and may be, for example, arranged in multiple stages in the vertical direction. Further, the shape is not limited to the needle shape, and various shapes such as a U-shape or a Y-shape can be adopted. Further, as in the second embodiment, the needle-shaped bias application electrode 2 may be arranged near the object to be neutralized 5.

【0046】続いて、本発明の請求項6に係る第6実施
形態であるイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイ
ザについて図面を参照しつつ説明する。図6は第6実施
形態の概略構成図である。図6で示すように、本実施形
態のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ60
は、軟X線照射装置1、バイアス印加用電極2、遮蔽カ
バー3、グランド電極4、送風手段6を備え、被除電物
5を除電する装置である点は第5実施形態と同様である
が、特にバイアス印加用電極2の形状を変化させている
事を特徴としている。なお、軟X線照射装置1、遮蔽カ
バー3、グランド電極4、被除電物5、送風手段6の機
能および動作原理については第5実施形態の説明と同様
であり、その説明を省略する。
Next, a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of the sixth embodiment. As shown in FIG. 6, a soft X-ray ionizer 60 having an ion balance control function according to the present embodiment is provided.
Is similar to the fifth embodiment in that it is a device that includes a soft X-ray irradiator 1, a bias applying electrode 2, a shielding cover 3, a ground electrode 4, and a blower 6, and removes electricity from an object 5 to be removed. In particular, the feature is that the shape of the bias application electrode 2 is changed. The functions and operating principles of the soft X-ray irradiator 1, the shielding cover 3, the ground electrode 4, the object to be neutralized 5, and the blowing means 6 are the same as those described in the fifth embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0047】本実施形態では、送風手段6により風が吹
き付けられる場合にバイアス印加用電極2の開口部で風
を通過させるため、特にリング状に形成している点が特
徴である。送風手段6によりプラスイオンとマイナスイ
オンとを含む風を開口部を有するバイアス印加用電極2
へ吹き付けてプラスイオン又はマイナスイオンの吸引を
増進させ、イオン濃度を高めた後に被除電物5に吹き付
けるようにすることが特徴である。風によりプラスイオ
ン又はマイナスイオンの再結合が起こる前に多量のプラ
スイオン又はマイナスイオンを被除電物に吹き付けるこ
とができ、除電効率が高められる。
The present embodiment is characterized in that it is formed in a ring shape in particular in order to allow the air to pass through the opening of the bias application electrode 2 when the air is blown by the air blowing means 6. Bias applying electrode 2 having an opening for blowing air containing positive ions and negative ions by blowing means 6
It is characterized in that the suction of the positive ions or the negative ions is promoted by increasing the ion concentration, the ion concentration is increased, and then the target ions 5 are sprayed. A large amount of positive ions or negative ions can be blown to the object to be neutralized before the recombination of the positive ions or negative ions due to the wind, thereby increasing the static elimination efficiency.

【0048】なお、本実施形態では1個のリング状の電
極を含み、棒状の部材で支持するバイアス印加用電極2
としている。しかしながらこのような形状のバイアス印
加用電極2に限定するものではない。たとえば、リング
状の電極を1個に限定せず、上下方向に多段に配置する
ようにしてもよい。また、円形リングに限定せず、例え
ば、楕円形状のリングにするなど、各種の形状を採用す
ることができる。さらに第2実施形態のようにリング状
のバイアス印加用電極2を被除電物5の近傍に配置して
も良い。
In this embodiment, the bias application electrode 2 includes one ring-shaped electrode and is supported by a rod-shaped member.
And However, the present invention is not limited to the bias application electrode 2 having such a shape. For example, the number of ring-shaped electrodes is not limited to one, but may be arranged in multiple stages in the vertical direction. The shape is not limited to a circular ring, and various shapes such as an elliptical ring can be adopted. Further, as in the second embodiment, the ring-shaped bias application electrode 2 may be arranged near the object 5 to be neutralized.

【0049】続いて、本発明の請求項6に係る第7実施
形態であるイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイ
ザについて図面を参照しつつ説明する。図7は第7実施
形態の概略構成図である。図7で示すように、本実施形
態のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ70
は、軟X線照射装置1、バイアス印加用電極2、遮蔽カ
バー3、グランド電極4、送風手段6を備え、被除電物
5を除電する装置である点は第5実施形態と同様である
が、特にバイアス印加用電極2の形状を変化させている
事を特徴としている。なお、軟X線照射装置1、遮蔽カ
バー3、グランド電極4、被除電物5、送風手段6の機
能および動作原理については第5実施形態の説明と同様
であり、その説明を省略する。
Next, a soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of the seventh embodiment. As shown in FIG. 7, the soft X-ray ionizer 70 with the ion balance control function of the present embodiment is provided.
Is similar to the fifth embodiment in that it is a device that includes a soft X-ray irradiator 1, a bias applying electrode 2, a shielding cover 3, a ground electrode 4, and a blower 6, and removes electricity from an object 5 to be removed. In particular, the feature is that the shape of the bias application electrode 2 is changed. Note that the functions and operating principles of the soft X-ray irradiator 1, the shielding cover 3, the ground electrode 4, the object to be neutralized 5, and the blowing means 6 are the same as in the description of the fifth embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0050】本実施形態では、送風手段6により風が吹
き付けられる場合にバイアス印加用電極2の開口部を風
が通過するようにするため、特に網状に形成している点
が特徴である。送風手段6によりプラスイオンとマイナ
スイオンとを含む風を網状のバイアス印加用電極2へ吹
き付けてプラスイオン又はマイナスイオンの吸引を増進
させ、イオン濃度を高めた状態とした後に被除電物5に
吹き付けることが特徴である。風によりプラスイオン又
はマイナスイオンの再結合が起こる前に多量のプラスイ
オン又はマイナスイオンを被除電物に吹き付けることが
でき、除電効率が高められる。
The present embodiment is characterized in that it is formed in a net shape in order to allow the wind to pass through the opening of the bias applying electrode 2 when the wind is blown by the blower 6. The air containing the positive ions and the negative ions is blown by the blowing means 6 to the reticulated bias applying electrode 2 to increase the suction of the positive ions or the negative ions, and the air is blown to the object to be removed 5 after the ion concentration is increased. It is characteristic. A large amount of positive ions or negative ions can be blown to the object to be neutralized before the recombination of the positive ions or negative ions due to the wind, thereby increasing the static elimination efficiency.

【0051】なお、本実施形態では1個の網状の電極を
含み、棒状の部材で支持するバイアス印加用電極2とし
ている。しかしながらこのような形状のバイアス印加用
電極2に限定するものではない。たとえば、網状の電極
を1個に限定せず、上下方向に多段に配置するようにし
てもよい。また、棒状の支持部を除去し、全面網状の電
極としてもよい。さらに第2実施形態のように網状のバ
イアス印加用電極2を被除電物5の近傍に配置しても良
い。
In this embodiment, the bias application electrode 2 includes one net-like electrode and is supported by a rod-like member. However, the present invention is not limited to the bias application electrode 2 having such a shape. For example, the number of reticulated electrodes is not limited to one, but may be arranged in multiple stages in the vertical direction. Alternatively, the rod-shaped support portion may be removed to form a net-like electrode. Further, as in the second embodiment, the mesh-like bias application electrode 2 may be arranged near the object 5 to be neutralized.

【0052】なお、図7に示すような網状のバイアス印
加用電極2において、角形開口部の開口面積が大きすぎ
るとイオンの吸収能力が低くなり、また、開口面積が小
さすぎると軟X線の透過量が減少するため、開口面積の
決定は実験により決定されるが、1cm四方角の開口と
すると特に望ましいことが判明した。このようなバイア
ス印加用電極2とすれば、イオン吸収能力を高めること
ができ、さらにイオンバランス制御の速度を高めること
ができる。
In the reticulated bias applying electrode 2 as shown in FIG. 7, if the opening area of the rectangular opening is too large, the ion absorbing capacity is reduced, and if the opening area is too small, soft X-rays are not absorbed. Since the amount of transmission is reduced, the area of the opening is determined by an experiment, but it has been found that it is particularly preferable to use a 1 cm square opening. With such a bias application electrode 2, the ion absorption capacity can be increased, and the speed of ion balance control can be increased.

【0053】[0053]

【実施例】続いて、本発明をより具体的に構成し、具体
的な数値を以てその効果を検証するための実施例である
イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザについて
説明する。図8は、本実施例の概略構成図である。本実
施例は、先に説明した第7実施形態を具体的に検証する
ために組み立てたものである。
Next, a soft X-ray ionizer with an ion balance control function will be described which is an embodiment for more specifically constructing the present invention and verifying its effects with specific numerical values. FIG. 8 is a schematic configuration diagram of the present embodiment. This example is assembled to specifically verify the seventh embodiment described above.

【0054】このイオンバランス制御機能付軟X線式イ
オナイザは、X線を遮へいするための塩化ビニル壁(第
7実施形態の遮蔽カバー3に相当)、接地されたステン
レスステージ(第7実施形態のグランド電極4に相
当)、送風用ファン(第7実施形態の送風手段6に相
当)、軟X線発生装置(第7実施形態の軟X線照射装置
1に相当)、コントロールグリッド(第7実施形態の金
網状のバイアス印加用電極2に相当)で構成されてい
る。静電モニタ(第7実施形態の被除電物5に相当)で
は、このイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ
における除電時間を測定する。
This soft X-ray ionizer with an ion balance control function is composed of a vinyl chloride wall (corresponding to the shielding cover 3 of the seventh embodiment) for shielding X-rays and a grounded stainless steel stage (the seventh embodiment). A blower fan (corresponding to the blowing means 6 of the seventh embodiment), a soft X-ray generator (corresponding to the soft X-ray irradiator 1 of the seventh embodiment), a control grid (corresponding to the seventh embodiment) (Corresponding to a wire mesh-shaped bias applying electrode 2 in the form). An electrostatic monitor (corresponding to the object to be neutralized 5 of the seventh embodiment) measures the neutralization time of the soft X-ray ionizer with the ion balance control function.

【0055】静電モニタは、ステンレスステージ上に設
置される。静電モニタの上方には軟X線発生装置の軟X
線照射口下方が位置している。この軟X線照射口から静
電モニタまではd=1000mmの間隔がある。この
静電モニタは、150mm×150mmの金属プレート
と静電電位計とで構成され、金属プレートは +500
0Vまたは−5000V の電圧を印加して電荷を蓄電
できる構造になっている。
The electrostatic monitor is set on a stainless steel stage. Above the electrostatic monitor, the soft X-ray generator soft X
The lower part of the beam irradiation port is located. There is an interval of d p = 1000 mm from the soft X-ray irradiation port to the electrostatic monitor. This electrostatic monitor is composed of a 150 mm × 150 mm metal plate and an electrostatic potentiometer.
The structure is such that charges can be stored by applying a voltage of 0 V or -5000 V.

【0056】軟X線照射口と同一平面を基準面(0m
m)とし、同一平面から下方 L =150mmの位置
にコントロールグリッドを設置した。このコントロール
グリッドに印加する電圧Vは、+5000Vから−5
000Vの間の任意の値を設定できるようになされてい
る。また、イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイ
ザの送風用ファンによる送風はその送風速度V が0
m/sまたは1m/sの何れかが選択できるようにし
た。このような動作条件下で、イオンバランス制御機能
付軟X線式イオナイザの除電時間を測定する。
The same plane as the soft X-ray irradiator is used as the reference plane (0 m
m) and then was placed control grid from the same plane at the position of the lower L G = 150 mm. Voltage V c applied to the control grid, -5 to + 5000 V
Any value between 000 V can be set. Further, supplying air by the air supply fan in a soft X-ray ionizer with ion balance control function is its blowing velocity V F 0
m / s or 1 m / s can be selected. Under such operating conditions, the neutralization time of the soft X-ray ionizer with the ion balance control function is measured.

【0057】上記に示す測定を行うにあたり、−500
0Vが印加されて金属プレートに帯電した負電荷と空中
のプラスイオンとが結合して−500Vになるまでの時
間を正の除電時間te+ とし、また、+5000Vが
印加されて金属プレートに帯電した正電荷と空中のマイ
ナスイオンとが結合して+500Vになるまでの時間を
負の除電時間te− とした。前述の測定方法によりイ
オンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ内の風速V
を0m/sまたは1m/sとした場合のプレート電位
と時間 t との関係を求めた。これらの結果を図
9から図12に示す。
In performing the above measurement, -500
0V is applied to the time until the positive ions of the negative charge and the air charged to the metal plate becomes -500V coupled to a positive discharge time t e +, also, + 5000 V is charged is applied to the metal plate The time required for the positive charge to combine with the negative ions in the air to reach +500 V was defined as a negative charge removal time te- . Wind velocity V in soft X-ray ionizer with ion balance control function
The relationship between the plate potential VP and the time t when F was set to 0 m / s or 1 m / s was obtained. These results are shown in the figure.
9 to 12 are shown.

【0058】まず、風がない場合の正の除電時間の測定
について説明する。図9は風速V=0m/sとし、負
電荷を蓄電した金属プレートを除電するときのプレート
電位V と時間 t との関係を示す特性図である。図9
のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザでは風
速V =0m/sで除電を行い、時間が経過するにつ
れ、−5000Vが印加された金属プレートのプレート
電位Vがどのように変化するかを計測し、さらにコン
トロールグリッドに印加する電圧Vをパラメータとし
てどのような傾向が現れるかを探るものである。
First, the measurement of the positive static elimination time when there is no wind will be described. Figure 9 is a wind velocity V F = 0m / s, is a characteristic diagram showing the relationship between the plate potential V P and time t when neutralizes metal plates power storage negative charge. FIG.
Or in ion balance control function with soft X-ray ionizer performs discharged by wind speed V F = 0m / s, as time passes, the plate potential V P of the metal plate -5000V is applied how changes It was measured, in which further explore what tendency appears a voltage V C applied to the control grid as a parameter.

【0059】プレート電位Vと時間tとの関係を示
す図9において、時間tが経過するにつれて、軟X線が
生成したプラスイオンが、金属プレートを除電する様子
がわかる。さらに、コントロールグリッドにV = 0V
を印加した場合の正の除電時間te+ は 7.9 秒で
あり、また、コントロールグリッドにV=+5000
Vを印加した場合正の除電時間te+ は 2.7秒であ
る。また、V = −2000Vから−5000Vの範囲
の電圧を印加した場合は、正の除電時間te+ が60
秒以上かかるため測定することは不可能であった。
[0059] In Figure 9 showing the relationship between the plate potential V P and time t, as time t elapses, positive ions of soft X-rays are generated, it can be seen that neutralizes metal plate. In addition, V c = 0V on the control grid
Is positive discharge time t e + is 7.9 seconds, and V c = + 5000 is displayed on the control grid.
When V is applied, the positive charge removal time t e + is 2.7 seconds. Also, the case of applying a voltage in the range of -5000V from V c = -2000 V, a positive discharge time t e + 60
It took more than a second to measure.

【0060】続いて、風がある場合の正の除電時間の測
定について説明する。図10は風速V=1m/sと
し、負電荷を蓄電した金属プレートを除電するときのプ
レート電位V と時間 t との関係を示す特性図であ
る。図10のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナ
イザでは、風速V =1m/sとし、時間が経過する
につれ、−5000Vが印加されたプレート電位V
どのように変化するかを計測し、さらにコントロールグ
リッドに印加する電圧Vをパラメータとしてどのよう
な傾向が現れるかを探るものである。
Subsequently, the measurement of the positive static elimination time in the presence of wind is performed.
The setting will be described. FIG. 10 shows the wind speed VF= 1m / s
When removing the metal plate that has stored the negative charge.
Rate potential VP FIG. 6 is a characteristic diagram showing a relationship between
You. Soft X-ray ionizer with ion balance control function of Fig. 10
In Isa, the wind speed VF = 1m / s and time passes
, The plate potential V to which -5000 V is applied PBut
Measure how it changes and further control
Voltage V applied to lidCHow as the parameter
To find out what kind of tendency appears.

【0061】プレート電位Vと時間tとの関係を示
す図10において、時間tが経過するにつれて、軟X線
が生成したプラスイオンが、金属プレートを除電する様
子がわかる。さらに、コントロールグリッドにV = 0
Vを印加した場合の正の除電時間t e+ は5.4秒で
あり、また、コントロールグリッドにV=+5000
Vを印加した場合正の除電時間te+ は 2.5秒であ
る。また、V = −4000Vから−5000Vの範囲
の電圧を印加した場合は、正の除電時間te+ が60
秒以上かかるため測定することは不可能であった。
Plate potential VPShows the relationship between
In FIG. 10, as time t elapses, soft X-ray
The positive ions generated by the ionizer remove the electricity from the metal plate
I know the child. In addition, Vc = 0
Positive neutralization time t when V is applied e + Is 5.4 seconds
Yes, and V on the control gridc= + 5000
Positive neutralization time t when V is appliede + Is 2.5 seconds
You. Also, Vc = Range from -4000V to -5000V
Is applied, the positive static elimination time te + Is 60
It took more than a second to measure.

【0062】これら図9および図10の実験結果を考察
すると、風がある場合に正の除電時間が短縮されること
からも明らかなように、本発明の送風手段6は正の除電
時間の短縮化に効果があるということができる。
Considering the experimental results of FIG. 9 and FIG. 10, as is clear from the fact that the positive static electricity elimination time is reduced in the presence of wind, the blowing means 6 of the present invention reduces the positive static electricity elimination time. It can be said that there is an effect on conversion.

【0063】続いて、風がない場合の負の除電時間を測
定について説明する。図11は風速V=0m/sと
し、正電荷を蓄電した金属プレートを除電するときのプ
レート電位V と時間 t との関係を示す特性図であ
る。図11のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナ
イザでは、風速V =0m/sであり、時間が経過す
るにつれて、+5000Vが印加されたプレート電位V
がどのように変化するかを計測し、さらにコントロー
ルグリッドに印加する電圧Vをパラメータとしてどの
ような傾向が現れるかを探るものである。
Next, measurement of the negative static elimination time when there is no wind will be described. FIG. 11 is a characteristic diagram showing the relationship between the plate potential VP and the time t when the metal plate storing the positive charges is discharged with the wind speed V F = 0 m / s. In the soft X-ray ionizer with the ion balance control function shown in FIG. 11, the wind speed V F = 0 m / s, and as time passes, the plate potential V to which +5000 V is applied is applied.
Measuring whether P is how to change, in which explores what trends appear as parameters the voltage V C applied to further control grid.

【0064】プレート電位Vと時間tとの関係を示
す図11において、時間tが経過するにつれて、軟X線
が生成したマイナスイオンが、金属プレートを除電する
様子がわかる。さらに、コントロールグリッドにV =
0Vを印加した場合の負の除電時間te− は 6.5
秒であり、また、コントロールグリッドにV=−50
00Vを印加した場合正の除電時間te−は 2.3秒
である。また、V = +1000V から+5000V
の範囲の電圧を印加した場合は、負の除電時間te−
が60秒以上かかるため測定することは不可能であっ
た。
[0064] In FIG. 11 showing the relationship between the plate potential V P and time t, as time t elapses, negative ions soft X-ray is generated, it can be seen that neutralizes metal plate. In addition, V c =
Negative discharge time t e- 6.5 in a case of applying a 0V
Second and V c = −50 in the control grid.
When 00V is applied, the positive static elimination time t e− is 2.3 seconds. Also, V c = + 1000 V to +5000 V
Is applied, the negative static elimination time t e−
It took 60 seconds or more to measure.

【0065】続いて、風がある場合の負の除電時間を測
定について説明する。図12は風速V=1m/sと
し、正電荷を蓄電した金属プレートを除電するときのプ
レート電位V と時間 t との関係を示す特性図であ
る。図12のイオンバランス制御機能付軟X線式イオナ
イザでは、風速V =1m/sであり、時間が経過す
るにつれて、+5000Vが印加されたプレート電位V
がどのように変化するかを計測し、さらにコントロー
ルグリッドに印加する電圧Vをパラメータとしてどの
ような傾向が現れるかを探るものである。
Next, measurement of the negative static elimination time in the presence of wind will be described. Figure 12 is a wind speed V F = 1m / s, a characteristic diagram showing the relationship between the plate potential V P and time t when neutralizes metal plates storing electric positive charge. In the soft X-ray ionizer with the ion balance control function shown in FIG. 12, the wind speed V F = 1 m / s, and as time passes, the plate potential V to which +5000 V is applied is increased.
Measuring whether P is how to change, in which explores what trends appear as parameters the voltage V C applied to further control grid.

【0066】プレート電位Vと時間tとの関係を示
す図12において、時間tが経過するにつれて、軟X線
が生成したマイナスイオンが、金属プレートを除電する
様子がわかる。さらに、コントロールグリッドにV =
0Vを印加した場合の負の除電時間 t e− は4.1
秒であり、また、コントロールグリッドにV=−50
00Vを印加した場合負の除電時間te− は 2.1秒
である。また、V = +2000V から+5000V
の範囲の電圧を印加した場合は、負の除電時間te−
が60秒以上かかるため測定することは不可能であっ
た。
Plate potential VPShows the relationship between
In FIG. 12, as time t elapses, soft X-ray
Negative ions generated by the gas remove static electricity from the metal plate
You can see the situation. In addition, Vc =
Negative static elimination time t when 0V is applied t e- Is 4.1
Seconds and V in the control gridc= -50
Negative static elimination time t when 00V is appliede- Is 2.1 seconds
It is. Also, Vc = + 2000V to + 5000V
Is applied, a negative charge removal time te- 
It takes 60 seconds or more to measure
Was.

【0067】これら図11および図12の実験結果を考
察すると、風がある場合に負の除電時間が短縮されるこ
とからも明らかなように、本発明で送風手段6は負の除
電時間の短縮化に効果があるということができる。
Considering the experimental results of FIG. 11 and FIG. 12, it is clear from the fact that the negative static elimination time is reduced in the presence of wind. It can be said that there is an effect on conversion.

【0068】続いて、図9〜図12の特性に基づいて、
イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ内の風速
を0m/sまたは 1m/sとした場合のグリッド
電圧Vと除電時間t との関係を特性図としてまと
める。図 13は、 印加電圧V と正の除電時間t
e+ との関係を示す特性図、図14は印加電圧V
負の除電時間te− との関係を示す特性図である。
Subsequently, based on the characteristics shown in FIGS.
It summarized the relationship between grid voltage V c and discharge time t e when the wind speed V F of the ion balance control function with soft X-ray type in ionizer was 0 m / s or 1 m / s as a characteristic diagram. 13 is applied voltage V c and a positive discharge time t
characteristic diagram showing the relationship between e +, FIG. 14 is a characteristic diagram showing the relationship between the e- applied voltage V c and negative static elimination time t.

【0069】図13において、コントロールグリッドに
電圧を印加することにより、正の除電時間を制御できる
ことがわかる。また、送風することにより正の除電時間
を短縮できることがわかる。同様に、図14において
も、コントロールグリッドに電圧を印加することによ
り、負の除電時間を制御できることがわかる。また、送
風することにより負の除電時間を短縮できることがわか
る。
FIG. 13 shows that the positive charge elimination time can be controlled by applying a voltage to the control grid. Further, it can be seen that the positive static elimination time can be reduced by blowing air. Similarly, also in FIG. 14, it can be seen that the negative charge removal time can be controlled by applying a voltage to the control grid. In addition, it can be seen that the negative static elimination time can be reduced by blowing air.

【0070】続いて、コントロールグリッドの電圧、送
風の有無により除電時間を制御できる理由について考察
する。イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザに
よる除電の原理を図15に示す。図15は、除電原理を
説明する説明図である。軟X線によりイオン化されたプ
ラスイオンとマイナスイオンは、図15中でも示すよう
に(1)一方が静電モニタ(被除電物)の金属プレート
に吸収される場合(イオンn )、(2)両者が再結
合して消滅する場合(イオンn)、(3)一方がコ
ントロールグリッドに吸収される場合(イオンn)に
分類できる。
Next, the reason why the static elimination time can be controlled by the voltage of the control grid and the presence or absence of air blowing will be considered. FIG. 15 shows the principle of static elimination by a soft X-ray ionizer with an ion balance control function. FIG. 15 is an explanatory diagram illustrating the principle of static elimination. As shown in FIG. 15, (1) when one of the positive ions and the negative ions ionized by the soft X-ray is absorbed by the metal plate of the electrostatic monitor (the object to be neutralized) (ion n E ), (2) It can be classified into a case where both recombine and disappear (ion n R ) and a case where (3) one is absorbed by the control grid (ion n c ).

【0071】コントロールグリッドに印加する電圧によ
り、除電時間を制御できた理由は、次のように考えられ
る。金属プレートが正に帯電している場合、コントロー
ルグリッドに負の電圧を印加することにより、コントロ
ールグリッド近傍で生成されたプラスイオンはグリッド
に吸収される。したがって、システム内はプラスイオン
濃度よりマイナスイオン濃度が高くなり、除電時間を制
御することが可能となる。すなわち、コントロールグリ
ッドに印加する電圧によりコントロールグリッドで吸収
されるイオンn の濃度を制御することができるため
に除電時間を制御することが可能となる。
The reason why the static elimination time can be controlled by the voltage applied to the control grid is considered as follows. When the metal plate is positively charged, by applying a negative voltage to the control grid, positive ions generated near the control grid are absorbed by the grid. Therefore, the negative ion concentration becomes higher than the positive ion concentration in the system, and the charge elimination time can be controlled. That is, it is possible to control the discharge time in order to be able to control the concentration of ions n c is absorbed by the control grid by the voltage applied to the control grid.

【0072】また、送風することにより除電時間が短縮
できた理由は、次のように考えられる。送風しない場合
には、再結合により高濃度のイオンn が消滅する場
合が多くなるが、送風することによって、これらのイオ
ンは短時間で静電モニタの金属プレートに到達する。こ
のために、金属プレートに到達するイオン濃度が高くな
り、除電時間が短縮される。すなわち、送風によって、
再結合するイオン量が減少するため、除電時間が短縮さ
れたと考えられる。
The reason why the static elimination time can be shortened by blowing air is considered as follows. If not blown, which becomes large when a high concentration of ions n R by recombination disappears, by blowing, these ions reach the metal plate of the electrostatic monitor in a short time. For this reason, the ion concentration reaching the metal plate is increased, and the charge elimination time is shortened. That is, by blowing
It is considered that the charge elimination time was shortened because the amount of ions that recombine was reduced.

【0073】[0073]

【発明の効果】以上、本発明によれば、所望のイオンバ
ランスとなるような制御機能を有するイオンバランス制
御機能付軟X線式イオナイザを提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a soft X-ray ionizer with an ion balance control function having a control function for achieving a desired ion balance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施形態の概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3実施形態の概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4実施形態の概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第5実施形態の概略構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a fifth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第6実施形態の概略構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a sixth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第7実施形態の概略構成図である。FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a seventh embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施例の概略構成図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram of an embodiment of the present invention.

【図9】風速V=0m/sとし、負電荷を蓄電した金
属プレートを除電するときのプレート電位V と時間
t との関係を示す特性図である。
FIG. 9 shows plate potential VP and time when a metal plate storing negative charges is neutralized with wind speed V F = 0 m / s.
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship with t.

【図10】風速V=1m/sとし、負電荷を蓄電した
金属プレートを除電するときのプレート電位V と時
間 t との関係を示す特性図である。
[Figure 10] and wind speed V F = 1m / s, a characteristic diagram showing the relationship between the plate potential V P and time t when neutralizes metal plates power storage negative charge.

【図11】風速V=0m/sとし、正電荷を蓄電した
金属プレートをプレート電位Vを除電するときの時間
t との関係を示す特性図である。
[Figure 11] and wind speed V F = 0m / s, the time when the metal plate with electric storage a positive charge to neutralize the plate potential V P
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship with t.

【図12】風速V=1m/sとし、正電荷を蓄電した
金属プレートを除電するときのプレート電位V と時
間 t との関係を示す特性図である。
[Figure 12] and wind speed V F = 1m / s, a characteristic diagram showing the relationship between the plate potential V P and time t when neutralizes metal plates storing electric positive charge.

【図13】印加電圧V と除電時間te+ との関係を
示す特性図である。
13 is a characteristic diagram showing a relationship between the applied voltage V c and discharge time t e +.

【図14】印加電圧V と除電時間te− との関係を
示す特性図である。
14 is a characteristic diagram showing a relationship between the applied voltage V c and discharge time t e-.

【図15】除電原理を説明する説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram illustrating the principle of static elimination.

【図16】従来の技術によるイオンバランス制御機能付
軟X線式イオナイザの原理図である。
FIG. 16 is a principle diagram of a conventional soft X-ray ionizer with an ion balance control function.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、20、30、40 イオンバランス制御機能付
軟X線式イオナイザ 50、60、70 イオンバランス制御機能付
軟X線式イオナイザ 1 軟X線照射装置 2 バイアス印加用電極 3 遮蔽カバー 4 グランド電極 5 被除電物 6 送風手段
10, 20, 30, 40 Soft X-ray ionizer with ion balance control function 50, 60, 70 Soft X-ray ionizer with ion balance control function 1 Soft X-ray irradiator 2 Bias application electrode 3 Shielding cover 4 Ground electrode 5 Object to be neutralized 6 Blowing means

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被除電物の除電に好適となるように、軟X
線を用いてイオン化生成したプラスイオンまたはマイナ
スイオンのイオンバランスを制御する機能を有するイオ
ンバランス制御機能付軟X線式イオナイザにおいて、 軟X線を照射する軟X線照射装置と、 軟X線照射装置が照射する軟X線照射領域内であって軟
X線照射装置と被除電物との間に配置されるバイアス印
加用電極と、 を備え、 バイアス印加用電極にバイアス電圧を印加してプラスイ
オンまたはマイナスイオンを吸引させることを特徴とす
るイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ。
A soft X so as to be suitable for neutralizing an object to be neutralized.
A soft X-ray irradiator for irradiating soft X-rays, and a soft X-ray irradiator for irradiating soft X-rays in a soft X-ray ionizer with an ion balance control function having a function of controlling the ion balance of positive ions or negative ions generated by ionization using X-rays And a bias applying electrode disposed between the soft X-ray irradiating device and the object to be neutralized within the soft X-ray irradiating region irradiated by the device, wherein a bias voltage is applied to the bias applying electrode to increase the bias voltage. A soft X-ray ionizer with an ion balance control function, characterized in that ions or negative ions are attracted.
【請求項2】請求項1に記載のイオンバランス制御機能
付軟X線式イオナイザにおいて、 バイアス印加用電極は前記被除電物の近傍に配置され、 バイアス印加用電極にバイアス電圧を印加して被除電物
の近傍のプラスイオンまたはマイナスイオンを優先的に
吸引させることを特徴とするイオンバランス制御機能付
軟X線式イオナイザ。
2. The soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to claim 1, wherein a bias applying electrode is arranged near the object to be neutralized, and a bias voltage is applied to the bias applying electrode to apply the bias voltage to the bias applying electrode. A soft X-ray ionizer with an ion balance control function, which preferentially attracts positive ions or negative ions in the vicinity of an object to be neutralized.
【請求項3】請求項1または請求項2に記載のイオンバ
ランス制御機能付軟X線式イオナイザにおいて、 バイアス印加用電極は開口部を有することを特徴とする
イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ。
3. The soft X-ray ionizer with ion balance control function according to claim 1, wherein the bias applying electrode has an opening. Ionizer.
【請求項4】請求項3に記載のイオンバランス制御機能
付軟X線式イオナイザにおいて、 バイアス印加用電極はリング状形状を含むことを特徴と
するイオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ。
4. The soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to claim 3, wherein the bias application electrode has a ring shape.
【請求項5】請求項3に記載のイオンバランス制御機能
付軟X線式イオナイザにおいて、 バイアス印加用電極は網状形状を含むことを特徴とする
イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザ。
5. The soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to claim 3, wherein the bias applying electrode has a mesh shape.
【請求項6】請求項1〜請求項5の何れか1項に記載の
イオンバランス制御機能付軟X線式イオナイザにおい
て、 軟X線照射領域から被除電物へ向けて送風する送風手段
を、 備えることを特徴とするイオンバランス制御機能付軟X
線式イオナイザ。
6. A soft X-ray ionizer with an ion balance control function according to any one of claims 1 to 5, wherein a blowing means for blowing air from the soft X-ray irradiation region to the object to be neutralized is provided. Soft X with ion balance control function characterized by comprising
Wire ionizer.
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