JP2002267511A - Flow measuring instrument and substrate treating device using the same - Google Patents

Flow measuring instrument and substrate treating device using the same

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JP2002267511A
JP2002267511A JP2001065132A JP2001065132A JP2002267511A JP 2002267511 A JP2002267511 A JP 2002267511A JP 2001065132 A JP2001065132 A JP 2001065132A JP 2001065132 A JP2001065132 A JP 2001065132A JP 2002267511 A JP2002267511 A JP 2002267511A
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JP
Japan
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float
flow rate
vertical position
fluid
processing
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JP2001065132A
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Japanese (ja)
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Akio Tsuchiya
昭夫 土屋
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flow measuring instrument capable of detecting whether or not the flow of a fluid to be measured is within an arbitrarily predetermined flow range. SOLUTION: A tapered tube 1 has an upper end hermetically closed by an upper lid 2 and a lower end hermetically closed by a lower lid 3. A float 8 is provided in the tapered tube 1. An upper mechanical stopper 6 is provided vertically movably through the upper lid 2 while a lower mechanical stopper 7 is provided vertically movably through the lower lid 3. A first optical sensor 9 is provided close to the tapered tube 1 at a vertical position slightly lower than the lower end 6a of the stopper 6 while a second optical sensor 10 is provided close to the tapered tube 1 at a vertical position slightly higher than the upper end 7a of the stopper 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、気体や液体の流量
を計測する流量計測器具、およびそれを用いた基板処理
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flow rate measuring instrument for measuring a flow rate of a gas or a liquid, and a substrate processing apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置の製造工程に
おいては、たとえば、半導体ウェハや液晶表示装置用ガ
ラス基板のような被処理基板に処理液を供給して、被処
理基板表面の洗浄やエッチングなどを施す工程が含まれ
る。また、半導体ウェハに窒素ガスを吹きつける工程の
ように、気体を用いて処理を行う工程が含まれる場合も
ある。これらの処理において、処理液や窒素ガスのよう
な処理流体の流量を所定の範囲に保つことは、適正な処
理を行うために重要である。
2. Description of the Related Art In a manufacturing process of a semiconductor device or a liquid crystal display device, for example, a processing liquid is supplied to a substrate to be processed such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display device, and the surface of the substrate to be processed is cleaned or etched. And the like. In some cases, a step of performing processing using a gas, such as a step of blowing a nitrogen gas onto a semiconductor wafer, may be included. In these processes, it is important to maintain a flow rate of a processing fluid such as a processing liquid or a nitrogen gas in a predetermined range in order to perform a proper processing.

【0003】このため、基板処理装置には、処理流体の
流量を計測するための流量計測器具が備えられている。
簡易に流体の流量を知ることができる比較的安価な流量
計測器具として、フロート式流量計が広く用いられてい
る。フロート式流量計は、上方に向かって拡開したテー
パ管の内部にフロートを設けた構造を有している。この
テーパ管の中に下方から上方へフロートを押し上げるよ
うに流体を流し、フロートに働く重力と抗力とのバラン
スにより決まるフロートの上下位置より、その流体の流
量が求められる。テーパ管には、流量を示す目盛りが付
してあり、フロートの上下位置に対応する目盛りを、目
視により読みとることにより、流体の流量を知ることが
できる。
For this reason, the substrate processing apparatus is provided with a flow rate measuring instrument for measuring the flow rate of the processing fluid.
Float type flow meters are widely used as relatively inexpensive flow rate measuring instruments that can easily determine the flow rate of a fluid. The float-type flow meter has a structure in which a float is provided inside a tapered pipe that expands upward. A fluid flows through the tapered tube so as to push the float upward from below, and the flow rate of the fluid is determined from the vertical position of the float determined by the balance between gravity acting on the float and drag. The taper tube is provided with a scale indicating the flow rate, and the flow rate of the fluid can be known by visually reading the scale corresponding to the vertical position of the float.

【0004】フロートは、テーパ管内部で、その下端か
ら上端に至る領域の大部分を自由に移動できるようにな
っている。フロートの最大可動範囲の下端および上端
が、そのフロートで計測可能な流量範囲の下限値および
上限値にほぼ対応している。通常、計測可能な流量範囲
の下限値はゼロとなっている。すなわち、フロートがそ
の最大可動範囲の下端にあるとき、流体の流量はゼロで
ある。さらに、付加的な機能として、流量の値が所定の
値(範囲)にあることを、自動的に検知する機能を備え
たフロート式流量計も存在する。流量の値が、所定の値
にあることを検知するために、たとえば、光学センサに
よってフロートの上下位置が検知される。光学センサ
は、対向する発光素子と受光素子とを備えており、この
発光素子と受光素子とがテーパ管を挟むように、テーパ
管に近接して付設されている。発光素子が発する光がフ
ロートに遮られずに受光素子に到達するか否かを検知す
ることにより、光学センサが設けられた上下位置にフロ
ートがあるか否かを知ることができる。
[0004] The float can freely move in a large part of the region from the lower end to the upper end inside the tapered tube. The lower end and the upper end of the maximum movable range of the float substantially correspond to the lower limit value and the upper limit value of the flow rate range that can be measured by the float. Normally, the lower limit of the measurable flow rate range is zero. That is, when the float is at the lower end of its maximum range of motion, the flow rate of the fluid is zero. Further, as an additional function, there is a float type flow meter having a function of automatically detecting that the value of the flow rate is within a predetermined value (range). In order to detect that the value of the flow rate is at a predetermined value, for example, the vertical position of the float is detected by an optical sensor. The optical sensor includes an opposing light emitting element and a light receiving element, and the light emitting element and the light receiving element are provided close to the tapered tube so as to sandwich the tapered tube. By detecting whether or not the light emitted from the light emitting element reaches the light receiving element without being blocked by the float, it is possible to know whether or not there is a float at the upper and lower positions where the optical sensor is provided.

【0005】フロートは上下方向に長さを持っているの
で、その下端から上端に至る範囲で光学センサにより検
出される。すなわち、光学センサにより検知されるフロ
ートの上下位置は、ある幅を持ったものであり、光学セ
ンサがフロートを検知しているときの流量も幅を持った
ものである。フロートが移動可能な範囲の上端、すなわ
ち、テーパ管の上端近傍に光学センサを設けることによ
り、流体の流量が、フロート式流量計が計測可能な流量
範囲の上限以上であることを検知できる。また、フロー
トが移動可能な範囲の下端、すなわち、テーパ管の下端
近傍に光学センサを設けることにより、流体の流量が、
フロート式流量計が計測可能な流量範囲の下限以下(通
常ゼロ)であることを検知できる。
Since the float has a length in the vertical direction, it is detected by the optical sensor in a range from the lower end to the upper end. That is, the vertical position of the float detected by the optical sensor has a certain width, and the flow rate when the optical sensor is detecting the float also has a certain width. By providing the optical sensor near the upper end of the range in which the float can move, that is, near the upper end of the tapered tube, it is possible to detect that the flow rate of the fluid is equal to or more than the upper limit of the flow rate range that can be measured by the float type flow meter. Further, by providing an optical sensor near the lower end of the range in which the float can move, that is, near the lower end of the tapered tube, the flow rate of the fluid is reduced.
It is possible to detect that the flow rate is equal to or less than the lower limit (usually zero) of the flow rate range that can be measured by the float flow meter.

【0006】フロートの最大可動範囲の下端と上端との
間の中間部に光学センサを設けると、流体の流量が、光
学センサの上下位置に対応する所定の流量範囲内の値か
否かを検知できる。
When an optical sensor is provided at an intermediate portion between the lower end and the upper end of the maximum movable range of the float, it is detected whether the flow rate of the fluid is within a predetermined flow rate range corresponding to the vertical position of the optical sensor. it can.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
フロート式流量計においては、センサにより検知される
流量の上限値は、テーパ管の仕様によって決定される計
測可能な流量範囲の上限値に限られていた。なぜなら、
フロートが移動可能な範囲の上端より低い上下位置にセ
ンサを設けると、流体の流量が上記流量範囲の上限値を
超えてさらに大きくなった場合、フロートはセンサが設
けられた上下位置より高い位置に外れ、フロートの上下
位置を検出できなくなってしまうからである。すなわ
ち、センサが設けられた上下位置にフロートがない場
合、流量が所望の流量範囲より多いのか少ないのかを識
別することができない。同様に、センサにより検知され
る流量の下限値は、テーパ管の仕様によって決定される
計測可能な流量範囲の下限値(多くの場合ゼロ)近傍に
限られていた。
However, in such a float type flow meter, the upper limit of the flow rate detected by the sensor is limited to the upper limit value of the measurable flow rate range determined by the specifications of the tapered pipe. Had been. Because
If the sensor is provided at the upper and lower positions lower than the upper end of the movable range of the float, when the flow rate of the fluid exceeds the upper limit of the flow rate range and further increases, the float is moved to a position higher than the upper and lower positions at which the sensor is provided. This is because the upper and lower positions of the float cannot be detected. That is, if there is no float at the upper and lower positions where the sensors are provided, it is not possible to identify whether the flow rate is higher or lower than the desired flow rate range. Similarly, the lower limit of the flow rate detected by the sensor has been limited to around the lower limit (often zero) of the measurable flow rate range determined by the specifications of the tapered tube.

【0008】また、センサが1つである場合は、計測可
能な流量範囲の上限値のみ、または下限値のみしか検知
することができなかった。さらに、フロートの最大可動
範囲の下端および上端以外の中間部にセンサを設ける
と、検知できる流量範囲は、フロートの上下長さに相当
する流量範囲に限られており、任意に範囲を設定するこ
とが不可能であった。そこで、この発明の目的は、テー
パ管の仕様に制限されることなく、計測する流体の流量
が予め定められた上限値以上であること、および予め定
められた下限値以下であることを検知することができる
流量計測器具を提供することである。
When only one sensor is provided, only the upper limit or only the lower limit of the measurable flow rate range can be detected. Furthermore, if a sensor is provided at an intermediate portion other than the lower end and the upper end of the maximum movable range of the float, the detectable flow rate range is limited to the flow rate range corresponding to the vertical length of the float, and the range can be set arbitrarily. Was impossible. Therefore, an object of the present invention is to detect that the flow rate of a fluid to be measured is equal to or higher than a predetermined upper limit and is equal to or lower than a predetermined lower limit without being limited to the specification of the tapered tube. It is to provide a flow measuring instrument that can perform the measurement.

【0009】この発明の他の目的は、計測する流体の流
量が予め定められた任意の流量範囲にあるか否かを検知
することができる流量計測器具を提供することである。
この発明のさらに他の目的は、テーパ管の仕様に制限さ
れることなく、処理流体の流量が予め定められた上限値
以上であること、および予め定められた下限値以下であ
ることを検知することができる流量計測器具を備えた基
板処理装置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a flow rate measuring instrument capable of detecting whether or not the flow rate of a fluid to be measured is within a predetermined flow rate range.
Still another object of the present invention is to detect that the flow rate of the processing fluid is equal to or higher than a predetermined upper limit and is equal to or lower than a predetermined lower limit without being limited by the specification of the tapered tube. It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus provided with a flow measuring instrument capable of performing the above-described steps.

【0010】この発明のさらに他の目的は、処理流体の
流量が予め定められた任意の流量範囲にあるか否かを検
知することができる流量計測器具を備えた基板処理装置
を提供することである。
[0010] Still another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus provided with a flow rate measuring instrument capable of detecting whether or not the flow rate of a processing fluid is within a predetermined flow rate range. is there.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
課題を解決するための請求項1記載の発明は、テーパ管
(1)内部のフロート(8)の上下位置によって、テー
パ管内部を流れる流体の流量を計測する流量計測器具
(26)であって、上記テーパ管に近接して設けられ、
上記フロートが第1の上下位置にあることを検出する第
1センサ(9)と、上記テーパ管に近接して設けられ、
上記フロートが上記第1の上下位置よりも低い第2の上
下位置にあることを検出する第2センサ(10)と、上
記フロートが上記第1の上下位置よりも上に移動できな
いように、上記フロートの上下位置を規制する第1規制
部材(6)と、上記フロートが上記第2の上下位置より
も下に移動できないように、上記フロートの上下位置を
規制する第2規制部材(7)と、を備えたことを特徴と
する流量計測器具である。
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention According to the first aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, the flow inside the tapered tube (1) is caused by the vertical position of the float (8) inside the tapered tube (1). A flow measuring instrument (26) for measuring a flow rate of a fluid, which is provided near the tapered pipe,
A first sensor (9) for detecting that the float is at a first vertical position, and a first sensor (9) provided near the tapered pipe;
A second sensor for detecting that the float is at a second vertical position lower than the first vertical position; and a second sensor for detecting that the float cannot move above the first vertical position. A first regulating member (6) for regulating the vertical position of the float, and a second regulating member (7) for regulating the vertical position of the float so that the float cannot move below the second vertical position. And a flow rate measuring instrument comprising:

【0012】なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態
における対応構成要素の符号等を表す。以下この項にお
いて同じ。この発明に係る流量計測器具が計測する流体
は、気体であってもよく、液体であってもよい。この発
明によれば、流体の流量が、フロートの第1の上下位置
に対応する流量以上であった場合でも、第1規制部材に
より、フロートは第1の上下位置よりも上に移動できな
いように規制される。したがって、流量がフロートの第
1の上下位置に対応する流量以上であった場合、フロー
トは必ず第1センサにより検出される。また、流体の流
量が、フロートの第2の上下位置に対応する流量以下で
あった場合でも、第2規制部材により、フロートは第2
の上下位置よりも下に移動できないように規制される。
したがって、流量がフロートの第2の上下位置に対応す
る流量以下であった場合、フロートは必ず第2センサに
より検出される。
Note that the alphanumeric characters in parentheses indicate the signs and the like of the corresponding components in the embodiments described later. The same applies hereinafter in this section. The fluid measured by the flow measuring instrument according to the present invention may be a gas or a liquid. According to the present invention, even when the flow rate of the fluid is equal to or higher than the flow rate corresponding to the first vertical position of the float, the first regulating member prevents the float from moving above the first vertical position. Be regulated. Therefore, when the flow rate is equal to or more than the flow rate corresponding to the first vertical position of the float, the float is always detected by the first sensor. Further, even when the flow rate of the fluid is equal to or less than the flow rate corresponding to the second vertical position of the float, the float is set to the second level by the second regulating member.
Is restricted so as not to be able to move below the vertical position.
Therefore, when the flow rate is equal to or less than the flow rate corresponding to the second vertical position of the float, the float is always detected by the second sensor.

【0013】第1の上下位置および第2の上下位置に対
応する流量は、テーパ管の仕様により決まる計測可能な
流量範囲の上限および下限に限定されず、その計測可能
な流量範囲内で任意に設定することができる。すなわ
ち、第1の上下位置はテーパ管の上端近傍に限定され
ず、それより低い位置とすることができる。同様に、第
2の上下位置はテーパ管の下端近傍に限定されず、それ
より高い位置とすることができる。
The flow rates corresponding to the first vertical position and the second vertical position are not limited to the upper and lower limits of the measurable flow rate range determined by the specifications of the tapered tube, but may be arbitrarily set within the measurable flow rate range. Can be set. That is, the first vertical position is not limited to the vicinity of the upper end of the tapered tube, but may be a lower position. Similarly, the second vertical position is not limited to the vicinity of the lower end of the tapered tube, but may be higher.

【0014】すなわち、このような流量計測器具は、計
測する流体の流量が予め定められた上限値以上になった
こと、および予め定められた下限値以下になったことを
検知することができる。換言すれば、流量が下限値と上
限値との間の所定範囲内であるか否かを検知することが
できる。すなわち、フロートが第1センサにも第2セン
サにも検出されないとき、フロートは必ず第1センサと
第2センサとの間に存在する。したがって、この流量計
測器具は、流量が第1の上下位置に対応する流量と第2
の上下位置に対応する上下位置との間にあるか否かを検
知することができる。
That is, such a flow rate measuring instrument can detect that the flow rate of the fluid to be measured has become equal to or higher than a predetermined upper limit value and has become equal to or lower than a predetermined lower limit value. In other words, it is possible to detect whether the flow rate is within a predetermined range between the lower limit and the upper limit. That is, when the float is not detected by either the first sensor or the second sensor, the float always exists between the first sensor and the second sensor. Therefore, the flow measuring instrument has a flow rate corresponding to the first vertical position and the second flow rate.
Can be detected between the vertical position corresponding to the vertical position and the vertical position.

【0015】請求項2記載の発明は、上記第1規制部材
および上記第2規制部材のうち少なくとも一方が、上記
フロートの移動を規制する上下位置を変更可能であるこ
とを特徴とする請求項1記載の流量計測器具である。こ
の発明の構成によれば、第1規制部材が規制するフロー
トの上下位置を調整することにより、検知する流量の上
限値を変更することができる。同様に、第2規制部材が
規制するフロートの上下位置を調整することにより、検
知する流量の下限値を変更することができる。したがっ
て、このような流体計測器具は、検知しようとする流量
の上限値または下限値が変わっても汎用的に使用するこ
とができる。
According to a second aspect of the present invention, at least one of the first regulating member and the second regulating member is capable of changing a vertical position for regulating movement of the float. It is a flow measurement instrument of the description. According to the configuration of the present invention, the upper limit value of the detected flow rate can be changed by adjusting the vertical position of the float regulated by the first regulating member. Similarly, by adjusting the vertical position of the float regulated by the second regulating member, the lower limit value of the detected flow rate can be changed. Therefore, such a fluid measuring instrument can be generally used even if the upper or lower limit of the flow rate to be detected changes.

【0016】請求項3記載の発明は、処理流体を用いて
被処理基板(S)を処理するための処理部(21)と、
この処理部に対して上記処理流体を供給する処理流体供
給路(24)に介装された請求項1または2記載の流量
計測器具(26)と、を備えたことを特徴とする基板処
理装置である。このような基板処理装置は、半導体ウェ
ハに窒素ガスなどの不活性ガス、またはふっ酸蒸気など
の処理蒸気を供給する工程や、基板に処理液を供給して
基板の処理を行う工程に用いるものであってもよい。す
なわち、処理流体は、不活性ガスや処理蒸気などの気体
であってもよく、純水や所定濃度の薬液などの液体であ
ってもよい。これらの場合、基板処理装置に備えられた
流量計測器具により、処理流体の流量を知ることができ
る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a processing section (21) for processing a substrate to be processed (S) using a processing fluid;
3. A substrate processing apparatus, comprising: a flow rate measuring instrument (26) according to claim 1 interposed in a processing fluid supply path (24) for supplying the processing fluid to the processing section. It is. Such a substrate processing apparatus is used in a process of supplying an inert gas such as nitrogen gas or a processing vapor such as hydrofluoric acid vapor to a semiconductor wafer, or a process of supplying a processing liquid to a substrate and processing the substrate. It may be. That is, the processing fluid may be a gas such as an inert gas or a processing vapor, or may be a liquid such as pure water or a chemical solution having a predetermined concentration. In these cases, the flow rate of the processing fluid can be known by the flow rate measuring instrument provided in the substrate processing apparatus.

【0017】また、この流量計測器具により、処理流体
の流量は、予め定められた上限値以上になったこと、お
よび予め定められた下限値以下になったことを検知する
ことができる。これにより、処理流体の流量が、基板の
処理を行うために最低限必要な流量を下回ったり、必要
以上に多くなったりしたことを知ることができる。した
がって、処理流体の流量不足による基板処理の不良や、
無駄に消費する処理流体を低減することができる。第1
センサまたは第2センサがフロートを検出したとき、警
報を鳴らす構成としてもよい。
Further, the flow rate measuring instrument can detect that the flow rate of the processing fluid has become equal to or higher than a predetermined upper limit value and has become equal to or lower than a predetermined lower limit value. This makes it possible to know that the flow rate of the processing fluid has dropped below the minimum flow rate required for processing the substrate or has increased more than necessary. Therefore, substrate processing failure due to insufficient flow rate of the processing fluid,
Unnecessary consumption of the processing fluid can be reduced. First
When the sensor or the second sensor detects the float, an alarm may be sounded.

【0018】また、第1規制部材や第2規制部材が、第
1の上下位置や第2の上下位置を変更可能な構成とすれ
ば、検知する流量の上限値および下限値を変更すること
ができる。
If the first regulating member and the second regulating member are configured to be able to change the first vertical position and the second vertical position, it is possible to change the upper and lower limits of the detected flow rate. it can.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下では、添付図面を参照して、
本発明の実施の形態について詳細に説明する。図1は、
本発明に係る流量計測器具であるフロート式流量計の構
造を示す図解的な断面図である。テーパ管1は、ガラス
や樹脂などからなる透明な材質で構成されており、上方
に向かって拡開している。テーパ管1の側面には、流量
を示す目盛り(図示せず)が付してある。テーパ管1
は、その上端が上蓋2により密閉されており、その下端
が下蓋3により密閉されている。テーパ管1の側面の上
端近傍には、流体導出管4が設けられており、テーパ管
1の側面の下端近傍には、流体導入管5が設けられてい
る。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
An embodiment of the present invention will be described in detail. FIG.
It is an illustrative sectional view showing the structure of the float type flow meter which is the flow measuring instrument concerning the present invention. The tapered tube 1 is made of a transparent material such as glass or resin, and expands upward. A scale (not shown) indicating the flow rate is provided on a side surface of the tapered tube 1. Taper tube 1
Is closed at its upper end by an upper lid 2 and at its lower end by a lower lid 3. A fluid outlet pipe 4 is provided near the upper end of the side surface of the tapered tube 1, and a fluid introduction tube 5 is provided near the lower end of the side surface of the tapered tube 1.

【0020】上蓋2は、円柱状の螺合部材2Aおよび円
板状のシール部材2Bを備えている。螺合部材2Aおよ
びシール部材2Bの中央部を貫通するように上部メカス
トッパ6が付設されている。上部メカストッパ6は、シ
ール部材2Bを貫通するピン部6A、ピン部6Aの上端
に接続され螺合部材2Aと螺合するネジ部6B、および
ネジ部6Bの上端に設けられた円板状のハンドル部6C
を含んでいる。ピン部6Aは、ネジ部6Bより大きな直
径を有している。ピン部6Aの上端にはネジ穴が設けら
れており、このネジ穴によりピン部6Aとネジ部6Bと
は螺合している。ネジ部6Bには、ピン部6Aの上端を
押さえるようにロックナット11が外嵌しており、ピン
部6Aとネジ部6Bとの螺合を固定している。
The upper lid 2 includes a cylindrical screw member 2A and a disk-shaped seal member 2B. An upper mechanical stopper 6 is provided so as to penetrate the center of the screw member 2A and the seal member 2B. The upper mechanical stopper 6 includes a pin 6A penetrating the seal member 2B, a screw 6B connected to the upper end of the pin 6A and screwing with the screwing member 2A, and a disk-shaped handle provided at the upper end of the screw 6B. Part 6C
Contains. The pin 6A has a larger diameter than the screw 6B. A screw hole is provided at the upper end of the pin 6A, and the pin 6A and the screw 6B are screwed together by the screw hole. A lock nut 11 is externally fitted to the screw portion 6B so as to press the upper end of the pin portion 6A, and the screwing between the pin portion 6A and the screw portion 6B is fixed.

【0021】ピン部6Aの下端(上部メカストッパ6の
下端)6aは、シール部2Bの下端2bより低い位置に
ある。ピン部6Aがシール部材2Bを貫通する部分の上
部および下部には、Oリング12が介装されている。シ
ール部材2BとOリング12とは密接しており、Oリン
グ12とピン部6Aとは摺動可能に密接している。ネジ
部6Bと螺合部材2Aとは、螺合部材2Aの上部でのみ
螺合しており、螺合部材2A内で螺合部の下には断面が
台形のピン部移動空間14が設けられている。ネジ部6
Bには、螺合部材2Aの上端を押さえるようにロックナ
ット13が外嵌しており、ネジ部6Bと螺合部材2Aと
の螺合を固定している。
The lower end 6a of the pin 6A (the lower end of the upper mechanical stopper 6) is located lower than the lower end 2b of the seal 2B. An O-ring 12 is interposed at an upper portion and a lower portion of a portion where the pin portion 6A penetrates the seal member 2B. The seal member 2B and the O-ring 12 are in close contact, and the O-ring 12 and the pin 6A are in close contact with each other so as to be slidable. The screw portion 6B and the screwing member 2A are screwed only at the upper portion of the screwing member 2A, and a pin portion moving space 14 having a trapezoidal cross section is provided below the screwing portion in the screwing member 2A. ing. Screw part 6
A lock nut 13 is externally fitted to B so as to press the upper end of the screwing member 2A, and the screwing between the screw portion 6B and the screwing member 2A is fixed.

【0022】下蓋3は、円柱状の螺合部材3Aおよび円
板状のシール部材3Bを備えている。螺合部材3Aおよ
びシール部材3Bの中央部を貫通するように下部メカス
トッパ7が付設されている。下部メカストッパ7は、シ
ール部材3Bを貫通するピン部7A、ピン部7Aの下端
に接続され螺合部材3Aと螺合するネジ部7B、および
ネジ部7Bの下端に設けられた円板状のハンドル部7C
を含んでいる。ピン部7Aは、ネジ部7Bより大きな直
径を有している。ピン部7Aの下端にはネジ穴が設けら
れており、このネジ穴によりピン部7Aとネジ部7Bと
は螺合している。ネジ部7Bには、ピン部7Aの下端を
押さえるようにロックナット15が外嵌しており、ピン
部7Aとネジ部7Bとの螺合を固定している。
The lower lid 3 includes a cylindrical screw member 3A and a disk-shaped seal member 3B. A lower mechanical stopper 7 is provided so as to penetrate the central portions of the screw member 3A and the seal member 3B. The lower mechanical stopper 7 includes a pin portion 7A penetrating the seal member 3B, a screw portion 7B connected to the lower end of the pin portion 7A and screwed with the screw member 3A, and a disk-shaped handle provided at the lower end of the screw portion 7B. Part 7C
Contains. The pin portion 7A has a larger diameter than the screw portion 7B. A screw hole is provided at the lower end of the pin portion 7A, and the pin portion 7A and the screw portion 7B are screwed together by the screw hole. A lock nut 15 is externally fitted to the screw portion 7B so as to press the lower end of the pin portion 7A, and the screwing between the pin portion 7A and the screw portion 7B is fixed.

【0023】ピン部7Aの上端(下部メカストッパ7の
上端)7aは、シール部3Bの上端3bより高い位置に
ある。ピン部7Aがシール部材3Bを貫通する部分の上
部および下部には、Oリング16が介装されている。シ
ール部材3BとOリング16とは密接しており、Oリン
グ16とピン部7Aは摺動可能に密接している。ネジ部
7Bと螺合部材3Aとは、螺合部材3Aの下部でのみ螺
合しており、螺合部材3A内で螺合部の上には断面が逆
台形のピン部移動空間17が設けられている。ネジ部7
Bには、螺合部材3Aの下端を押さえるようにロックナ
ット18が外嵌しており、ネジ部7Bと螺合部材3Aと
の螺合を固定している。
The upper end 7a of the pin 7A (the upper end of the lower mechanical stopper 7) is located higher than the upper end 3b of the seal 3B. An O-ring 16 is interposed at an upper portion and a lower portion of a portion where the pin portion 7A penetrates the seal member 3B. The seal member 3B and the O-ring 16 are in close contact, and the O-ring 16 and the pin portion 7A are in close contact with each other in a slidable manner. The screw portion 7B and the screwing member 3A are screwed only at the lower portion of the screwing member 3A, and a pin portion moving space 17 having an inverted trapezoidal cross section is provided above the screwing portion in the screwing member 3A. Have been. Screw part 7
A lock nut 18 is externally fitted to B so as to press the lower end of the screwing member 3A, and the screwing between the screw portion 7B and the screwing member 3A is fixed.

【0024】テーパ管1の内部には、球状のフロート8
が備えられている。フロート8は、テーパ管1の外部か
ら視認することができ、上部メカストッパ6の下端6a
と下部メカストッパ7の上端7aとの間を自在に移動可
能である。テーパ管1の内壁とピン部6A,7Aとの隙
間の間隔は、フロート8の直径より小さいため、フロー
ト8は、上部メカストッパ6の下端6aより上、および
下部メカストッパ7の上端7aより下には、移動できな
いように規制される。
A spherical float 8 is provided inside the tapered tube 1.
Is provided. The float 8 can be visually recognized from the outside of the tapered tube 1, and the lower end 6 a of the upper mechanical stopper 6
And the upper mechanical stopper 7 is freely movable between the upper end 7a of the lower mechanical stopper 7. Since the gap between the inner wall of the tapered tube 1 and the pin portions 6A and 7A is smaller than the diameter of the float 8, the float 8 is located above the lower end 6a of the upper mechanical stopper 6 and below the upper end 7a of the lower mechanical stopper 7. , So that they cannot move.

【0025】テーパ管1の外側で上部メカストッパ6の
下端6aよりわずかに低い上下位置には、第1光学セン
サ9が、テーパ管1に近接して設けられている。第1光
学センサ9は、発光素子9Aと受光素子9Bとを含んで
おり、発光素子9Aと受光素子9Bとは、テーパ管1を
はさんで対向している。発光素子9Aは、テーパ管1に
対して透過性を有する光を発することができる。テーパ
管1の外側で下部メカストッパ7の上端7aよりわずか
に高い上下位置には、第2光学センサ10が、テーパ管
1に近接して設けられている。第2光学センサ10は、
発光素子10Aと受光素子10Bとを含んでおり、発光
素子10Aと受光素子10Bとは、テーパ管1をはさん
で対向している。発光素子10Aは、テーパ管1に対し
て透過性を有する光を発することができる。
A first optical sensor 9 is provided near the tapered tube 1 at an upper and lower position slightly lower than the lower end 6 a of the upper mechanical stopper 6 outside the tapered tube 1. The first optical sensor 9 includes a light emitting element 9A and a light receiving element 9B, and the light emitting element 9A and the light receiving element 9B are opposed to each other with the tapered tube 1 interposed therebetween. The light emitting element 9A can emit light having transparency to the tapered tube 1. A second optical sensor 10 is provided near the tapered tube 1 at an upper and lower position slightly higher than the upper end 7 a of the lower mechanical stopper 7 outside the tapered tube 1. The second optical sensor 10 includes:
The light emitting device includes a light emitting element 10A and a light receiving element 10B, and the light emitting element 10A and the light receiving element 10B are opposed to each other with the tapered tube 1 interposed therebetween. The light emitting element 10A can emit light having transparency to the tapered tube 1.

【0026】第1光学センサ9および第2光学センサ1
0の上下位置は、所定の調節機構(図示せず)によって
所望の上下位置に変更可能である。流量を計測する流体
は、流体導入管5から導入され、流体導出管4より導出
される。すなわち、流体は、テーパ管1の下方から上方
へと向かって流れる。流体は気体であってもよく、液体
であってもよい。流体の流れがないとき、フロート8に
与えられる力は重力のみであり、フロート8は下部メカ
ストッパ7の上端7aに当接した状態となる。このと
き、フロート8は、発光素子10Aと受光素子10Bと
の間に存在しており、発光素子10Aから発せられた光
は、フロート8に遮られて受光素子10Bに到達しな
い。これにより、第2光学センサ10は、フロート8を
検出することができる。
First optical sensor 9 and second optical sensor 1
The vertical position of 0 can be changed to a desired vertical position by a predetermined adjusting mechanism (not shown). The fluid whose flow rate is to be measured is introduced from the fluid introduction pipe 5 and is derived from the fluid discharge pipe 4. That is, the fluid flows upward from below the tapered tube 1. The fluid may be a gas or a liquid. When there is no fluid flow, the force applied to the float 8 is only gravity, and the float 8 comes into contact with the upper end 7 a of the lower mechanical stopper 7. At this time, the float 8 exists between the light emitting element 10A and the light receiving element 10B, and the light emitted from the light emitting element 10A is blocked by the float 8 and does not reach the light receiving element 10B. Thereby, the second optical sensor 10 can detect the float 8.

【0027】流体に流れがあるとき、フロート8には、
重力および抗力が与えられる。抗力は、上向きに流れる
流体によりフロート8に与えられる力であり、上向きに
作用する。重力の大きさは、フロート8の質量のみで決
まる。一方、抗力の大きさは、流体の流量およびテーパ
管1内の上下位置により変化する。同じ上下位置では、
流体の流量が大きくなるほど、抗力は大きくなる。ま
た、テーパ管1内の上下位置が低くなるほど、流体はフ
ロート8を避けて流れにくくなるので、同じ流量に対す
る抗力は大きくなる。フロート8は、与えられる重力と
抗力とがバランスするとき上下位置が一定になる。以上
のことより、フロート8は、流量が小さいときは低い上
下位置でバランスしようとし、流量が大きいときは高い
上下位置でバランスしようとする。
When there is a flow in the fluid, the float 8
Gravity and drag are provided. The drag is a force applied to the float 8 by the fluid flowing upward, and acts upward. The magnitude of gravity is determined only by the mass of the float 8. On the other hand, the magnitude of the drag changes depending on the flow rate of the fluid and the vertical position in the tapered tube 1. At the same vertical position,
The drag increases as the flow rate of the fluid increases. In addition, the lower the vertical position in the tapered tube 1 is, the more difficult it is for the fluid to flow around the float 8, so that the drag for the same flow rate increases. The float 8 has a constant vertical position when the applied gravity and drag are balanced. From the above, the float 8 attempts to balance at a low vertical position when the flow rate is low, and attempts to balance at a high vertical position when the flow rate is high.

【0028】ところが、下部メカストッパ7が存在する
ために、流量が下部メカストッパ7の上端7aの位置に
対応する流量(下限値)より小さい場合、フロート8
は、下部メカストッパ7の上端7aより下に移動するこ
とはできない。このような場合、フロート8は、下部メ
カストッパ7の上端7aに当接した状態となる。このと
きも、フロート8は、第2光学センサ10により検出さ
れる。同様に、上部メカストッパ6が存在するために、
流量が上部メカストッパ6の下端6aに対応する流量
(上限値)より大きい場合、フロート8は、上部メカス
トッパ6の下端6aより高い上下位置に移動することが
できない。このような場合、フロート8は、上部メカス
トッパ6の下端6aに当接した状態となる。このとき、
フロート8は、第1光学センサ9により検出される。
However, if the flow rate is lower than the flow rate (lower limit value) corresponding to the position of the upper end 7a of the lower mechanical stopper 7 due to the presence of the lower mechanical stopper 7, the float 8
Cannot move below the upper end 7a of the lower mechanical stopper 7. In such a case, the float 8 comes into contact with the upper end 7a of the lower mechanical stopper 7. Also at this time, the float 8 is detected by the second optical sensor 10. Similarly, since the upper mechanical stopper 6 exists,
When the flow rate is larger than the flow rate (upper limit value) corresponding to the lower end 6 a of the upper mechanical stopper 6, the float 8 cannot move to a vertical position higher than the lower end 6 a of the upper mechanical stopper 6. In such a case, the float 8 comes into contact with the lower end 6 a of the upper mechanical stopper 6. At this time,
The float 8 is detected by the first optical sensor 9.

【0029】流量が上限値と下限値との間であるとき、
フロート8の上下位置は、フロート8に与えられる重力
と抗力とがバランスする位置となる。フロート8の上下
位置に対応するテーパ管1の目盛りを読みとることによ
り、流量を知ることができる。フロート8がこのような
上下位置にあるとき、フロート8は、第1光学センサ9
にも、第2光学センサ10にも検出されない。図2は、
流体の流量と第1光学センサおよび第2光学センサの状
態との関係を示す図解図である。
When the flow rate is between the upper limit and the lower limit,
The vertical position of the float 8 is a position where the gravity given to the float 8 and the drag are balanced. By reading the scale of the tapered tube 1 corresponding to the vertical position of the float 8, the flow rate can be known. When the float 8 is in such a vertical position, the float 8 is
In addition, neither is detected by the second optical sensor 10. FIG.
FIG. 4 is an illustrative view showing a relationship between a flow rate of a fluid and states of a first optical sensor and a second optical sensor;

【0030】流体の流量が下限値以下のときは、第2光
学センサ10が遮光状態で、かつ、第1光学センサ9が
受光状態となる。流量が上限値以上のときは、第1光学
センサ9が遮光状態で、かつ、第2光学センサが受光状
態となる。流量が、下限値と上限値との間にあるとき
は、第1光学センサ9と第2光学センサ10とがともに
受光状態となる。したがって、このようなフロート式流
量計は、流量が下限値以下の場合、流量が上限値以上で
ある場合、および流量が下限値と上限値との間である場
合を確実に識別することができる。
When the flow rate of the fluid is equal to or less than the lower limit, the second optical sensor 10 is in the light shielding state and the first optical sensor 9 is in the light receiving state. When the flow rate is equal to or more than the upper limit, the first optical sensor 9 is in the light blocking state and the second optical sensor is in the light receiving state. When the flow rate is between the lower limit and the upper limit, both the first optical sensor 9 and the second optical sensor 10 are in the light receiving state. Therefore, such a float type flow meter can reliably identify when the flow rate is equal to or less than the lower limit value, when the flow rate is equal to or greater than the upper limit value, and when the flow rate is between the lower limit value and the upper limit value. .

【0031】この下限値および上限値は、テーパ管1の
仕様により決定される計測可能な流量範囲の下限値およ
び上限値に限定されるものではない。たとえば、テーパ
管1の仕様が0〜3.0L/minの流量範囲を計測可
能なものであるとする。0L/minに相当する上下位
置は、シール部3Bの上端3b近傍である。3.0L/
minに相当する上下位置は、シール部2Bの下端2b
の近傍である。この場合でも、下部メカストッパ7の上
端7aおよび上部メカストッパ6の下端6aの上下位置
を適当に設定することにより、流量が1.0L/min
以下であることおよび2.0L/min以上であること
を検知することができる。すなわち、フロート8が第1
光学センサ9または第2光学センサ10により検出され
る状態を検知すれば、流量が所定の範囲(1.0〜2.
0L/min)外にあることを検知することができる。
The lower limit and the upper limit are not limited to the lower limit and the upper limit of the measurable flow rate range determined by the specifications of the tapered tube 1. For example, it is assumed that the specification of the tapered tube 1 can measure a flow rate range of 0 to 3.0 L / min. The vertical position corresponding to 0 L / min is near the upper end 3b of the seal portion 3B. 3.0L /
The vertical position corresponding to “min” is the lower end 2b of the seal portion 2B.
Is near. Even in this case, the flow rate is set to 1.0 L / min by appropriately setting the upper and lower positions of the upper end 7a of the lower mechanical stopper 7 and the lower end 6a of the upper mechanical stopper 6.
Or less and 2.0 L / min or more can be detected. That is, the float 8 is the first
If the state detected by the optical sensor 9 or the second optical sensor 10 is detected, the flow rate is within a predetermined range (1.0 to 2..
0 L / min) can be detected.

【0032】換言すれば、このフロート式流量計は、流
体の流量が所定の範囲、たとえば、1.0〜2.0L/
minの範囲内にあることを検知することができる。す
なわち、フロート8が第1光学センサ9にも第2光学セ
ンサ10にも検出されない状態を検知すれば、流量が所
定の範囲内にあることを検知することができる。この流
量範囲は、テーパ管1の仕様上の限界内で任意に定める
ことができる。さらに、上部メカストッパ6は、ロック
ナット13を緩め、ハンドル部6Cを回すことにより上
下する。この際、ピン部6Aは、ピン部移動空間14内
を自由に上下動可能である。これにより、上部メカスト
ッパ6の下端6aの上下位置が変わる。第1光学センサ
9の上下位置は、上部メカストッパ6の下端6aの上下
位置にあわせて移動させることができる。また、ピン部
6Aは、Oリング12によりシール部材2Bとの間の密
閉性を保ちつつ上下動可能であるので、流量の測定値に
影響を与えない。
In other words, the float type flow meter has a flow rate of fluid in a predetermined range, for example, 1.0 to 2.0 L /
min can be detected. That is, if the state where the float 8 is not detected by the first optical sensor 9 or the second optical sensor 10 is detected, it can be detected that the flow rate is within the predetermined range. This flow rate range can be arbitrarily determined within the limits on the specifications of the tapered tube 1. Further, the upper mechanical stopper 6 moves up and down by loosening the lock nut 13 and turning the handle 6C. At this time, the pin 6A can freely move up and down in the pin moving space 14. Thus, the vertical position of the lower end 6a of the upper mechanical stopper 6 changes. The vertical position of the first optical sensor 9 can be moved in accordance with the vertical position of the lower end 6a of the upper mechanical stopper 6. Further, since the pin portion 6A can be moved up and down while maintaining the airtightness between the pin portion 6A and the seal member 2B, the measured value of the flow rate is not affected.

【0033】以上のことより、このフロート式流量計
は、検知する流量の上限値を変更することができる。同
様に、下部メカストッパ7は、ハンドル部7Cを回すこ
とにより上下する。これにより、下部メカストッパ7の
上端7aの上下位置は変わるので、下限値を変更するこ
とができる。たとえば、下限値を1.0L/min、上
限値を2.0L/minとして使用していた場合でも、
必要により下限値を1.1L/min、上限値を2.1
L/minに変更することが可能である。したがって、
このようなフロート式流量計は、検知したい流量の上限
値または下限値が変わっても汎用的に使用することがで
きる。
As described above, the float type flow meter can change the upper limit of the detected flow rate. Similarly, the lower mechanical stopper 7 moves up and down by turning the handle 7C. As a result, the vertical position of the upper end 7a of the lower mechanical stopper 7 changes, so that the lower limit value can be changed. For example, even if the lower limit is 1.0 L / min and the upper limit is 2.0 L / min,
If necessary, the lower limit is 1.1 L / min and the upper limit is 2.1
It is possible to change to L / min. Therefore,
Such a float type flow meter can be used for general purposes even if the upper or lower limit of the flow rate to be detected changes.

【0034】流体導入管5または流体導出管4などに、
流量を調整するためのバルブ(たとえば、ニードルバル
ブ)が設けられていてもよい。フロート8の形状は、球
以外、たとえば、上方に円板部を有し下方に尖端部を有
する柱状などであってもよい。フロート8が所定の上下
位置にあることを検出するためのセンサは、たとえば、
磁力を利用するものであってもよい。すなわち、フロー
トが磁石であり、センサはこの磁石の磁力に反応するも
のであってもよい。
In the fluid introduction pipe 5 or the fluid discharge pipe 4, etc.
A valve (for example, a needle valve) for adjusting the flow rate may be provided. The shape of the float 8 may be a column other than a sphere, for example, a column having an upper disk portion and a lower point. A sensor for detecting that the float 8 is at a predetermined vertical position is, for example,
Magnetic force may be used. That is, the float may be a magnet, and the sensor may respond to the magnetic force of the magnet.

【0035】図3は、本発明の一実施形態に係る基板処
理装置の構成を示す図解図である。この基板処理装置
は、半導体ウェハや液晶表示装置用ガラス基板のような
各種の被処理基板の表面に、エッチング液等の薬液や純
水などの処理液を供給して処理を施すためのものであ
る。処理時には、処理部21において、処理対象の基板
Sをスピンチャック22によって保持し、スピンチャッ
ク22を回転駆動して基板Sを回転させるとともに、こ
の回転状態の基板Sに向けてノズルNから処理液を供給
することによって、基板Sの処理を達成する。図3の例
では、1つのノズルNのみが示されているが、このノズ
ルNとは別のノズル(図示せず)が設けられ、純水およ
び別の種類の処理液(たとえば所定濃度の薬液)が、独
立に基板Sに向けて供給できるようになっているのが通
常である。
FIG. 3 is an illustrative view showing a configuration of a substrate processing apparatus according to one embodiment of the present invention. This substrate processing apparatus is for supplying a processing solution such as a chemical solution such as an etching solution or pure water to a surface of various kinds of substrates to be processed such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display device. is there. At the time of processing, in the processing unit 21, the substrate S to be processed is held by the spin chuck 22, the spin chuck 22 is rotationally driven to rotate the substrate S, and the processing liquid is supplied from the nozzle N toward the substrate S in the rotating state. To achieve processing of the substrate S. Although only one nozzle N is shown in the example of FIG. 3, another nozzle (not shown) different from the nozzle N is provided, and pure water and another type of processing liquid (for example, a chemical liquid having a predetermined concentration) are provided. ) Can usually be supplied to the substrate S independently.

【0036】ノズルNに供給すべき処理液は、処理液槽
23に貯留されている。そして、処理液槽23からノズ
ルNに至る処理液供給配管24が設けられている。処理
液供給配管24には、処理液を処理液槽23より汲み出
してノズルNへと圧送するためのポンプ25、処理液の
流量を計測するためのフロート式流量計26、およびノ
ズルNから基板Sへの処理液の供給を開始/停止させる
ための開閉可能な供給バルブ27が介装されている。フ
ロート式流量計26は、図1に示す構造を有しており、
さらに、処理液の流量を調整するためのニードルバルブ
を備えている。
The processing liquid to be supplied to the nozzle N is stored in a processing liquid tank 23. Further, a processing liquid supply pipe 24 extending from the processing liquid tank 23 to the nozzle N is provided. The processing liquid supply pipe 24 has a pump 25 for pumping the processing liquid from the processing liquid tank 23 and sending it to the nozzle N under pressure, a float type flow meter 26 for measuring the flow rate of the processing liquid, and the substrate S from the nozzle N. An openable and closable supply valve 27 for starting / stopping the supply of the processing liquid to the apparatus is provided. The float type flow meter 26 has a structure shown in FIG.
Further, a needle valve for adjusting the flow rate of the processing liquid is provided.

【0037】基板Sの処理時には、処理液は、適正な流
量範囲で基板Sに供給される。このとき、第1光学セン
サ9の上下位置に対応する流量が、適正な流量範囲の上
限値になるように調整し、第2光学センサ10の上下位
置に対応する流量が、適正な流量範囲の下限値になるよ
うに調整する。すると、このフロート式流量計26は、
処理液の流量が適正範囲を外れたことを検知することが
できる。流量が適正範囲を外れたことを検知したことに
基づき、警報を鳴らす構成としてもよい。これにより、
作業者は、常にフロート式流量計26により流量を監視
する必要はなく、警報を聞くことができる範囲内で他の
作業をすることができる。警報により、処理液の流量が
適正な流量範囲を外れたことを知ったとき、作業者は、
すぐに適切な処置、たとえば、フロート式流量計26に
備えられたニードルバルブを調整することにより処理液
の流量を調整したり、供給バルブ27を閉成することに
より処理液の供給を停止させて処理の中断をしたりする
ことができる。これにより、作業者が気づかない間に、
処理液の流量が適正な流量範囲より小さくなり、基板の
処理が充分に行われなかったり、流量が適正な流量範囲
より大きくなり、処理液を無駄に消費したりすることを
少なくすることができる。
At the time of processing the substrate S, the processing liquid is supplied to the substrate S in an appropriate flow rate range. At this time, the flow rate corresponding to the vertical position of the first optical sensor 9 is adjusted so as to be the upper limit value of the appropriate flow rate range, and the flow rate corresponding to the vertical position of the second optical sensor 10 is adjusted to the appropriate flow rate range. Adjust to the lower limit. Then, the float type flow meter 26
It is possible to detect that the flow rate of the processing liquid is out of the appropriate range. An alarm may be sounded based on detecting that the flow rate has deviated from the appropriate range. This allows
The worker does not need to constantly monitor the flow rate with the float type flow meter 26, and can perform other work within a range where the alarm can be heard. When the operator learns from the alarm that the flow rate of the processing solution is out of the appropriate flow rate range,
Immediately, the flow rate of the processing liquid is adjusted by adjusting a needle valve provided in the float type flow meter 26 or the supply of the processing liquid is stopped by closing the supply valve 27. Or interrupt the processing. As a result, while workers do not notice
The flow rate of the processing liquid becomes smaller than the appropriate flow rate range, and the processing of the substrate is not performed sufficiently, or the flow rate becomes larger than the appropriate flow rate range, so that the waste of the processing liquid can be reduced. .

【0038】工程の変更などにより、処理液の適正な流
量範囲が変更になった場合など、フロート式流量計26
のハンドル部6C,7Cを回して、検知する流量範囲の
上限値および下限値を変更することも可能である。基板
処理装置は、半導体ウェハに窒素ガスなどの不活性ガ
ス、またはふっ酸蒸気などの処理蒸気を供給する工程を
行うためのものであってもよい。すなわち、基板処理装
置は不活性ガス配管や処理蒸気配管を備えたものであ
り、不活性ガス配管や処理蒸気配管の途中に図1に示す
フロート式流量計が設けられた構成であってもよい。そ
の他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の
設計変更を施すことが可能である。
When the appropriate flow rate range of the processing solution is changed due to a change in the process or the like, the float type flow meter 26 is used.
It is also possible to change the upper and lower limits of the flow rate range to be detected by turning the handle portions 6C and 7C. The substrate processing apparatus may be for performing a step of supplying an inert gas such as a nitrogen gas or a processing vapor such as a hydrofluoric acid vapor to the semiconductor wafer. That is, the substrate processing apparatus is provided with an inert gas pipe or a processing steam pipe, and may have a configuration in which the float type flow meter shown in FIG. 1 is provided in the middle of the inert gas pipe or the processing steam pipe. . In addition, various design changes can be made within the scope of the matters described in the claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る流量計測器具である
フロート式流量計の構造を示す図解的な断面図である。
FIG. 1 is an illustrative sectional view showing the structure of a float type flow meter which is a flow measuring instrument according to an embodiment of the present invention.

【図2】流体の流量と第1光学センサおよび第2光学セ
ンサの状態との関係を示す図解図である。
FIG. 2 is an illustrative view showing a relationship between a flow rate of a fluid and states of a first optical sensor and a second optical sensor;

【図3】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成
を示す図解図である。
FIG. 3 is an illustrative view showing a configuration of a substrate processing apparatus according to one embodiment of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 テーパ管 6 上部メカストッパ 7 下部メカストッパ 8 フロート 9 第1光学センサ 10 第2光学センサ 21 処理部 25 フロート式流量計 Reference Signs List 1 taper pipe 6 upper mechanical stopper 7 lower mechanical stopper 8 float 9 first optical sensor 10 second optical sensor 21 processing unit 25 float type flow meter

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】テーパ管内部のフロートの上下位置によっ
て、テーパ管内部を流れる流体の流量を計測する流量計
測器具であって、 上記テーパ管に近接して設けられ、上記フロートが第1
の上下位置にあることを検出する第1センサと、 上記テーパ管に近接して設けられ、上記フロートが上記
第1の上下位置よりも低い第2の上下位置にあることを
検出する第2センサと、 上記フロートが上記第1の上下位置よりも上に移動でき
ないように、上記フロートの上下位置を規制する第1規
制部材と、 上記フロートが上記第2の上下位置よりも下に移動でき
ないように、上記フロートの上下位置を規制する第2規
制部材と、を備えたことを特徴とする流量計測器具。
1. A flow measuring instrument for measuring a flow rate of a fluid flowing inside a tapered pipe according to a vertical position of a float inside the tapered pipe, wherein the flow measuring instrument is provided in close proximity to the tapered pipe, and the first float is provided.
A first sensor for detecting that the float is at the upper and lower positions, and a second sensor provided near the tapered pipe and detecting that the float is at a second upper and lower position lower than the first upper and lower positions. And a first regulating member for regulating the vertical position of the float so that the float cannot move above the first vertical position; and preventing the float from moving below the second vertical position. A second regulating member for regulating the vertical position of the float.
【請求項2】上記第1規制部材および上記第2規制部材
のうち少なくとも一方が、上記フロートの移動を規制す
る上下位置を変更可能であることを特徴とする請求項1
記載の流量計測器具。
2. The apparatus according to claim 1, wherein at least one of said first regulating member and said second regulating member is capable of changing a vertical position for regulating movement of said float.
The flow meter described.
【請求項3】処理流体を用いて被処理基板を処理するた
めの処理部と、 この処理部に対して上記処理流体を供給する処理流体供
給路に介装された請求項1または2記載の流量計測器具
と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
3. A processing unit for processing a substrate to be processed using a processing fluid, and a processing fluid supply passage for supplying the processing fluid to the processing unit. A substrate processing apparatus, comprising: a flow measuring instrument.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010078331A (en) * 2008-09-24 2010-04-08 Riken Keiki Co Ltd Float-type gas flowmeter and gas detector equipped with the same
JP2014069116A (en) * 2012-09-28 2014-04-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Adjustment method of coating liquid flow rate, and coating apparatus
KR101531414B1 (en) * 2013-10-15 2015-06-25 (주)대성테크 Flow Sensor For Flowmeter

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