JP2002265967A - X線管浸漬用絶縁油およびx線管装置 - Google Patents
X線管浸漬用絶縁油およびx線管装置Info
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- JP2002265967A JP2002265967A JP2001388136A JP2001388136A JP2002265967A JP 2002265967 A JP2002265967 A JP 2002265967A JP 2001388136 A JP2001388136 A JP 2001388136A JP 2001388136 A JP2001388136 A JP 2001388136A JP 2002265967 A JP2002265967 A JP 2002265967A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 搭載装置の故障等によるX線管装置への過入
力時の安全性をキープしながら、管容器の小型軽量化設
計を可能とし、より高い熱負荷で使用できるX線管装置
およびそれに用いる絶縁油を提供する。 【解決手段】 下記(A)〜(D)の中から選ばれる少
なくとも1種を含有するX線管浸漬用絶縁油。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物 (C)下記一般式(2)で表される化合物 (D)下記一般式(3)で表される化合物 【化22】
力時の安全性をキープしながら、管容器の小型軽量化設
計を可能とし、より高い熱負荷で使用できるX線管装置
およびそれに用いる絶縁油を提供する。 【解決手段】 下記(A)〜(D)の中から選ばれる少
なくとも1種を含有するX線管浸漬用絶縁油。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物 (C)下記一般式(2)で表される化合物 (D)下記一般式(3)で表される化合物 【化22】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はX線管浸漬用絶縁油
およびX線管装置に関する。
およびX線管装置に関する。
【0002】
【従来の技術】X線管装置は、一定の時間装置を稼動し
た後、一定の時間以上装置を休止するように設計されて
いる。しかしながら、装置の故障によって一定の時間以
上装置が稼動してしまったり、十分な休止時間を経たず
装置が稼動してしまう場合がある(以下、これらの状態
を過入力という。)。X線管装置は、その場合でも管容
器が破損する危険性を低減させるためのいくつもの安全
対策が講じられている。第1の安全対策は、X線管容器
の表面にサーモスイッチを取り付け、X線管装置への過
入力時に管容器が所定の温度を超えた場合にX線管装置
への入力を遮断する対策である。或いは、サーモスイッ
チの代りに絶縁油の圧力を感知する圧力スイッチを設け
て、同様の対策を講じている例もある。更に第1の安全
対策がうまく機能しない場合を想定して、次のような第
2の安全対策が講じられている場合もある。第1の安全
対策がうまく機能しない場合にはX線管の真空外囲器が
熱によって破壊する可能性がある。その場合には、内部
が真空であるX線管内に流入した絶縁油が高温の陽極タ
ーゲットと接触する。従来から用いられているX線管浸
漬用の絶縁油は、精製鉱油を基油とするものであるが、
このような絶縁油は高温下で一部分解してガス化するた
め、管容器内部圧力が上昇して管容器を破損させる恐れ
がある。それを防ぐため、管容器内部の圧力が所定の圧
力以上になった場合に動作して絶縁油を排出する安全弁
が設けられている例もある。管容器を設計するに当たっ
ては、X線管装置を搭載する装置の故障によって過入力
された場合でも、管容器が破損しないように十分な耐圧
設計を行う必要がある。
た後、一定の時間以上装置を休止するように設計されて
いる。しかしながら、装置の故障によって一定の時間以
上装置が稼動してしまったり、十分な休止時間を経たず
装置が稼動してしまう場合がある(以下、これらの状態
を過入力という。)。X線管装置は、その場合でも管容
器が破損する危険性を低減させるためのいくつもの安全
対策が講じられている。第1の安全対策は、X線管容器
の表面にサーモスイッチを取り付け、X線管装置への過
入力時に管容器が所定の温度を超えた場合にX線管装置
への入力を遮断する対策である。或いは、サーモスイッ
チの代りに絶縁油の圧力を感知する圧力スイッチを設け
て、同様の対策を講じている例もある。更に第1の安全
対策がうまく機能しない場合を想定して、次のような第
2の安全対策が講じられている場合もある。第1の安全
対策がうまく機能しない場合にはX線管の真空外囲器が
熱によって破壊する可能性がある。その場合には、内部
が真空であるX線管内に流入した絶縁油が高温の陽極タ
ーゲットと接触する。従来から用いられているX線管浸
漬用の絶縁油は、精製鉱油を基油とするものであるが、
このような絶縁油は高温下で一部分解してガス化するた
め、管容器内部圧力が上昇して管容器を破損させる恐れ
がある。それを防ぐため、管容器内部の圧力が所定の圧
力以上になった場合に動作して絶縁油を排出する安全弁
が設けられている例もある。管容器を設計するに当たっ
ては、X線管装置を搭載する装置の故障によって過入力
された場合でも、管容器が破損しないように十分な耐圧
設計を行う必要がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した耐圧
設計はX線管をより小型軽量にする、ひいては搭載装置
をより小型軽量にするという経済化設計を実施する上で
の大きな障害となっている。また、X線曝射を頻繁に繰
り返して使用した場合には、陽極ターゲットの温度がよ
り高くなるため、搭載装置の故障によって過入力されて
破壊された場合の管容器内部圧力上昇値はより高くな
る。したがって、管容器を変更することなく、X線曝射
を従来よりも頻繁に繰り返して使用することは出来なか
った。本発明は、上記従来の不都合を解消するもので、
高温における分解率が低くガス化度合いが低いため、X
線管を浸漬するのに好適な絶縁油を提供することを目的
とする。また本発明は、X線管装置を搭載する装置の故
障等によるX線管装置への過入力時の安全性をキープし
ながら、管容器の小型軽量化設計を可能としコンパクト
なX線管装置を提供することを目的とする。さらに本発
明は、搭載装置の故障等によるX線管装置の過入力時の
安全性をキープしながら、より高い熱負荷で使用できる
X線管装置を提供することを目的とする。
設計はX線管をより小型軽量にする、ひいては搭載装置
をより小型軽量にするという経済化設計を実施する上で
の大きな障害となっている。また、X線曝射を頻繁に繰
り返して使用した場合には、陽極ターゲットの温度がよ
り高くなるため、搭載装置の故障によって過入力されて
破壊された場合の管容器内部圧力上昇値はより高くな
る。したがって、管容器を変更することなく、X線曝射
を従来よりも頻繁に繰り返して使用することは出来なか
った。本発明は、上記従来の不都合を解消するもので、
高温における分解率が低くガス化度合いが低いため、X
線管を浸漬するのに好適な絶縁油を提供することを目的
とする。また本発明は、X線管装置を搭載する装置の故
障等によるX線管装置への過入力時の安全性をキープし
ながら、管容器の小型軽量化設計を可能としコンパクト
なX線管装置を提供することを目的とする。さらに本発
明は、搭載装置の故障等によるX線管装置の過入力時の
安全性をキープしながら、より高い熱負荷で使用できる
X線管装置を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
した結果、X線管を浸漬するための特定の絶縁油を用い
ることにより前記目的を達成できることを見いだした。
すなわち、本発明は、下記(A)〜(D)の中から選ば
れる少なくとも1種を含有するX線管浸漬用絶縁油を提
供するものである。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物
した結果、X線管を浸漬するための特定の絶縁油を用い
ることにより前記目的を達成できることを見いだした。
すなわち、本発明は、下記(A)〜(D)の中から選ば
れる少なくとも1種を含有するX線管浸漬用絶縁油を提
供するものである。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物
【化10】 (一般式(1)において、R1は炭素数1〜8のアルキ
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物
【化11】 (一般式(2)において、R6、R7、R8およびR9は各
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物
【化12】 (一般式(3)において、R10、R11、R12およびR13
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。)
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。)
【0005】また本発明は、X線管と、X線管を収容す
る管容器と、管容器内に封入した絶縁油を有するX線管
装置において、前記絶縁油は下記(A)〜(D)の中か
ら選ばれる少なくとも1種を含有するものであるX線管
装置を提供するものである。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物
る管容器と、管容器内に封入した絶縁油を有するX線管
装置において、前記絶縁油は下記(A)〜(D)の中か
ら選ばれる少なくとも1種を含有するものであるX線管
装置を提供するものである。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物
【化13】 (一般式(1)において、R1は炭素数1〜8のアルキ
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物
【化14】 (一般式(2)において、R6、R7、R8およびR9は各
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物
【化15】 (一般式(3)において、R10、R11、R12およびR13
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。)
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。)
【0006】さらに本発明は、X線管と、X線管を収容
する管容器と、管容器内に封入した絶縁油と、管容器と
連通し絶縁油を循環させるポンプおよび絶縁油の熱を外
部へ放出させる熱交換器を有するオイルクーラーユニッ
トとを備えたX線管装置において、前記絶縁油は下記
(A)〜(D)の中から選ばれる少なくとも1種を含有
するものであるX線管装置を提供するものである。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物
する管容器と、管容器内に封入した絶縁油と、管容器と
連通し絶縁油を循環させるポンプおよび絶縁油の熱を外
部へ放出させる熱交換器を有するオイルクーラーユニッ
トとを備えたX線管装置において、前記絶縁油は下記
(A)〜(D)の中から選ばれる少なくとも1種を含有
するものであるX線管装置を提供するものである。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物
【化16】 (一般式(1)において、R1は炭素数1〜8のアルキ
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物
【化17】 (一般式(2)において、R6、R7、R8およびR9は各
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物
【化18】 (一般式(3)において、R10、R11、R12およびR13
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。)
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。)
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明について具体的に説
明する。図1には、本発明のX線管装置の例としてCT
スキャナ用X線管装置を示す。このCTスキャナ用X線
管装置は、X線管11と、これを内部に収容する管容器
15と、この管容器15内に封入された絶縁油14と、
管容器15とは別に設けられたオイルクーラー17と、
管容器15およびオイルクーラー17を接続して絶縁油
14を循環するホース16とを備えている。X線管11
は、真空外囲器の内部に配置された陰極構体12、およ
びX線を放出する回転陽極ターゲット13を備えてい
る。また、オイルクーラー17は、絶縁油循環用のポン
プ18、および熱交換器19を備えている。陽極ターゲ
ット13から放出されたX線ビームは、X線管のX線放
射窓20および管容器15のX線透過窓15aを通って
矢印Yのように外部に放射される。
明する。図1には、本発明のX線管装置の例としてCT
スキャナ用X線管装置を示す。このCTスキャナ用X線
管装置は、X線管11と、これを内部に収容する管容器
15と、この管容器15内に封入された絶縁油14と、
管容器15とは別に設けられたオイルクーラー17と、
管容器15およびオイルクーラー17を接続して絶縁油
14を循環するホース16とを備えている。X線管11
は、真空外囲器の内部に配置された陰極構体12、およ
びX線を放出する回転陽極ターゲット13を備えてい
る。また、オイルクーラー17は、絶縁油循環用のポン
プ18、および熱交換器19を備えている。陽極ターゲ
ット13から放出されたX線ビームは、X線管のX線放
射窓20および管容器15のX線透過窓15aを通って
矢印Yのように外部に放射される。
【0008】絶縁油14は、下記(A)〜(D)の中か
ら選ばれる少なくとも1種を含有するものである。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物
ら選ばれる少なくとも1種を含有するものである。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物
【化19】 (一般式(1)において、R1は炭素数1〜8のアルキ
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物
【化20】 (一般式(2)において、R6、R7、R8およびR9は各
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物
【化21】 (一般式(3)において、R10、R11、R12およびR13
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。)
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。)
【0009】本発明における(A)アルキルベンゼンと
しては、アルキル基の炭素数について特に限定はない
が、炭素数1〜40のアルキル基を1〜4個有し、かつ
アルキル基の合計炭素数が1〜40であるものが好まし
く、炭素数1〜30のアルキル基を1〜4個有し、かつ
アルキル基の合計炭素数が3〜30であるものがより好
ましい。炭素数1〜40のアルキル基としては、具体的
には例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基、直鎖状または分枝状のブチル基、直鎖状
または分枝状のペンチル基、直鎖状または分枝状のヘキ
シル基、直鎖状または分枝状のヘプチル基、直鎖状また
は分枝状のオクチル基、直鎖状または分枝状のノニル
基、直鎖状または分枝状のデシル基、直鎖状または分枝
状のウンデシル基、直鎖状または分枝状のドデシル基、
直鎖状または分枝状のトリデシル基、直鎖状または分枝
状のテトラデシル基、直鎖状または分枝状のペンタデシ
ル基、直鎖状または分枝状のヘキサデシル基、直鎖状ま
たは分枝状のヘプタデシル基、直鎖状または分枝状のオ
クタデシル基、直鎖状または分枝状のノナデシル基、直
鎖状または分枝状のイコシル基、直鎖状または分枝状の
ヘンイコシル基、直鎖状または分枝状のドコシル基、直
鎖状または分枝状のトリコシル基、直鎖状または分枝状
のテトラコシル基、直鎖状または分枝状のペンタコシル
基、直鎖状または分枝状のヘキサコシル基、直鎖状また
は分枝状のヘプタコシル基、直鎖状または分枝状のオク
タコシル基、直鎖状または分枝状のノナコシル基、直鎖
状または分枝状のトリアコンチル基、直鎖状または分枝
状のヘントリアコンチル基、直鎖状または分枝状のドト
リアコンチル基、直鎖状または分枝状のトリトリアコン
チル基、直鎖状または分枝状のテトラトリアコンチル
基、直鎖状または分枝状のペンタトリアコンチル基、直
鎖状または分枝状のヘキサトリアコンチル基、直鎖状ま
たは分枝状のヘプタトリアコンチル基、直鎖状または分
枝状のオクタトリアコンチル基、直鎖状または分枝状の
ノナトリアコンチル基、直鎖状または分枝状のテトラコ
ンチル基(すべての異性体を含む)などが挙げられる。
これらのアルキル基としては直鎖状であっても、分枝状
であっても良いが、高温下のガス化の点から度合いの点
から直鎖状アルキルベンゼンが好ましい。なお、アルキ
ルベンゼンとしては、単一の構造の化合物だけでなく、
2種以上の混合物であっても良い。
しては、アルキル基の炭素数について特に限定はない
が、炭素数1〜40のアルキル基を1〜4個有し、かつ
アルキル基の合計炭素数が1〜40であるものが好まし
く、炭素数1〜30のアルキル基を1〜4個有し、かつ
アルキル基の合計炭素数が3〜30であるものがより好
ましい。炭素数1〜40のアルキル基としては、具体的
には例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基、直鎖状または分枝状のブチル基、直鎖状
または分枝状のペンチル基、直鎖状または分枝状のヘキ
シル基、直鎖状または分枝状のヘプチル基、直鎖状また
は分枝状のオクチル基、直鎖状または分枝状のノニル
基、直鎖状または分枝状のデシル基、直鎖状または分枝
状のウンデシル基、直鎖状または分枝状のドデシル基、
直鎖状または分枝状のトリデシル基、直鎖状または分枝
状のテトラデシル基、直鎖状または分枝状のペンタデシ
ル基、直鎖状または分枝状のヘキサデシル基、直鎖状ま
たは分枝状のヘプタデシル基、直鎖状または分枝状のオ
クタデシル基、直鎖状または分枝状のノナデシル基、直
鎖状または分枝状のイコシル基、直鎖状または分枝状の
ヘンイコシル基、直鎖状または分枝状のドコシル基、直
鎖状または分枝状のトリコシル基、直鎖状または分枝状
のテトラコシル基、直鎖状または分枝状のペンタコシル
基、直鎖状または分枝状のヘキサコシル基、直鎖状また
は分枝状のヘプタコシル基、直鎖状または分枝状のオク
タコシル基、直鎖状または分枝状のノナコシル基、直鎖
状または分枝状のトリアコンチル基、直鎖状または分枝
状のヘントリアコンチル基、直鎖状または分枝状のドト
リアコンチル基、直鎖状または分枝状のトリトリアコン
チル基、直鎖状または分枝状のテトラトリアコンチル
基、直鎖状または分枝状のペンタトリアコンチル基、直
鎖状または分枝状のヘキサトリアコンチル基、直鎖状ま
たは分枝状のヘプタトリアコンチル基、直鎖状または分
枝状のオクタトリアコンチル基、直鎖状または分枝状の
ノナトリアコンチル基、直鎖状または分枝状のテトラコ
ンチル基(すべての異性体を含む)などが挙げられる。
これらのアルキル基としては直鎖状であっても、分枝状
であっても良いが、高温下のガス化の点から度合いの点
から直鎖状アルキルベンゼンが好ましい。なお、アルキ
ルベンゼンとしては、単一の構造の化合物だけでなく、
2種以上の混合物であっても良い。
【0010】上記アルキルベンゼンの製造方法は任意で
あり、何ら限定されるものでないが、一般的には芳香族
化合物にアルキル化剤を触媒の存在下に接触させること
により製造できる。原料となる芳香族化合物としては、
具体的には例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エ
チルベンゼン、メチルエチルベンゼン、ジエチルベンゼ
ン、およびこれらの混合物などが用いられる。アルキル
化剤としては、具体的には例えば、エチレン、プロピレ
ン、ブテン、イソブチレンなどの低級モノオレフィン
(好ましくはプロピレン)の重合によって得られる炭素
数6〜40の直鎖状または分枝状のオレフィン;ワック
ス、重質油、石油留分、ポリエチレン、ポリプロピレン
などの熱分解によって得られる炭素数6〜40の直鎖状
または分枝状のオレフィン;灯油、軽油などの石油留分
からn−パラフィンを分離し、これを触媒によりオレフ
ィン化することによって得られる炭素数9〜40の直鎖
状オレフィン;およびこれらの混合物などが使用でき
る。またアルキル化の際に使用するアルキル化触媒とし
ては、塩化アルミニウム、塩化亜鉛などのフリーデルク
ラフツ型触媒;硫酸、リン酸、ケイタングステン酸、フ
ッ化水素酸、活性白土などの酸性触媒;など、公知の触
媒が用いられる。
あり、何ら限定されるものでないが、一般的には芳香族
化合物にアルキル化剤を触媒の存在下に接触させること
により製造できる。原料となる芳香族化合物としては、
具体的には例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エ
チルベンゼン、メチルエチルベンゼン、ジエチルベンゼ
ン、およびこれらの混合物などが用いられる。アルキル
化剤としては、具体的には例えば、エチレン、プロピレ
ン、ブテン、イソブチレンなどの低級モノオレフィン
(好ましくはプロピレン)の重合によって得られる炭素
数6〜40の直鎖状または分枝状のオレフィン;ワック
ス、重質油、石油留分、ポリエチレン、ポリプロピレン
などの熱分解によって得られる炭素数6〜40の直鎖状
または分枝状のオレフィン;灯油、軽油などの石油留分
からn−パラフィンを分離し、これを触媒によりオレフ
ィン化することによって得られる炭素数9〜40の直鎖
状オレフィン;およびこれらの混合物などが使用でき
る。またアルキル化の際に使用するアルキル化触媒とし
ては、塩化アルミニウム、塩化亜鉛などのフリーデルク
ラフツ型触媒;硫酸、リン酸、ケイタングステン酸、フ
ッ化水素酸、活性白土などの酸性触媒;など、公知の触
媒が用いられる。
【0011】上記した(A)アルキルベンゼンを単独で
用いる際の含有量については、特に制限はないが、高温
でのガス化度合いの点から、絶縁油全量基準で5容量%
以上であることが好ましく、10容量%以上であること
がより好ましく、20容量%以上であることがさらに好
ましく、30容量%以上であることが一層好ましく、4
0容量%以上であることがより一層好ましく、50容量
%以上であることがさらにより一層好ましく、60容量
%以上であることが最も好ましい。
用いる際の含有量については、特に制限はないが、高温
でのガス化度合いの点から、絶縁油全量基準で5容量%
以上であることが好ましく、10容量%以上であること
がより好ましく、20容量%以上であることがさらに好
ましく、30容量%以上であることが一層好ましく、4
0容量%以上であることがより一層好ましく、50容量
%以上であることがさらにより一層好ましく、60容量
%以上であることが最も好ましい。
【0012】なお、(A)の中でも、直鎖状のアルキル
ベンゼンの方が高温でのガス化度合いがより低く、分枝
状のアルキルベンゼンを単独で用いる際の含有量は、そ
の高温でのガス化度合いをより低いレベルとするため
に、30容量%以上であることが望まれる。
ベンゼンの方が高温でのガス化度合いがより低く、分枝
状のアルキルベンゼンを単独で用いる際の含有量は、そ
の高温でのガス化度合いをより低いレベルとするため
に、30容量%以上であることが望まれる。
【0013】本発明における(B)一般式(1)で表さ
れる化合物において、R1は炭素数1〜8のアルキレン
基またはアルケニレン基を示す。この中でも、炭素数1
〜6のアルキレン基およびアルケニレン基が好ましく、
特に好ましいものとしては、メチレン基、メチルメチレ
ン基(エチリデン基)、エチレン基、エチルメチレン基
(プロピリデン基)、ジメチルメチレン基(イソプロピ
リデン基)、メチルエチレン基(プロピレン基)、トリ
メチレン基等の炭素数1〜3のアルキレン基;ビニリデ
ン基、エテニレン基(ビニレン基)、プロペニレン基、
メチレンエチレン基、メチルエテニレン基、1−プロペ
ニリデン基、2−プロペニリデン基等の炭素数2〜3の
アルケニレン基;炭素数4〜6のアルキレン基のうち、
1−メチルトリメチレン基、1−エチルトリメチレン
基、1,1−ジメチルトリメチレン基、1,2−ジメチ
ルトリメチレン基、1,3−ジメチルトリメチレン基、
1−エチル−3−メチルトリメチレン基、1−エチル−
2−メチルトリメチレン基、1,1,2−トリメチルト
リメチレン基、1,1,3−トリメチルトリメチレン
基;および炭素数4〜6のアルケニレン基のうち、3−
メチルプロペニレン基、1−メチル−3−メチレントリ
メチレン基、3−エチルプロペニレン基、1,3−ジメ
チルプロペニレン基、2,3−ジメチルプロペニレン
基、3,3−ジメチルプロペニレン基、1,1−ジメチ
ル−3−メチレントリメチレン基、1−エチル−3−メ
チレントリメチレン基、3−エチル−1−メチルプロペ
ニレン基、3−エチル−2−メチルプロペニレン基、
1,3,3−トリメチルプロペニレン基、2,3,3−
トリメチルプロペニレン基;等が挙げられる。
れる化合物において、R1は炭素数1〜8のアルキレン
基またはアルケニレン基を示す。この中でも、炭素数1
〜6のアルキレン基およびアルケニレン基が好ましく、
特に好ましいものとしては、メチレン基、メチルメチレ
ン基(エチリデン基)、エチレン基、エチルメチレン基
(プロピリデン基)、ジメチルメチレン基(イソプロピ
リデン基)、メチルエチレン基(プロピレン基)、トリ
メチレン基等の炭素数1〜3のアルキレン基;ビニリデ
ン基、エテニレン基(ビニレン基)、プロペニレン基、
メチレンエチレン基、メチルエテニレン基、1−プロペ
ニリデン基、2−プロペニリデン基等の炭素数2〜3の
アルケニレン基;炭素数4〜6のアルキレン基のうち、
1−メチルトリメチレン基、1−エチルトリメチレン
基、1,1−ジメチルトリメチレン基、1,2−ジメチ
ルトリメチレン基、1,3−ジメチルトリメチレン基、
1−エチル−3−メチルトリメチレン基、1−エチル−
2−メチルトリメチレン基、1,1,2−トリメチルト
リメチレン基、1,1,3−トリメチルトリメチレン
基;および炭素数4〜6のアルケニレン基のうち、3−
メチルプロペニレン基、1−メチル−3−メチレントリ
メチレン基、3−エチルプロペニレン基、1,3−ジメ
チルプロペニレン基、2,3−ジメチルプロペニレン
基、3,3−ジメチルプロペニレン基、1,1−ジメチ
ル−3−メチレントリメチレン基、1−エチル−3−メ
チレントリメチレン基、3−エチル−1−メチルプロペ
ニレン基、3−エチル−2−メチルプロペニレン基、
1,3,3−トリメチルプロペニレン基、2,3,3−
トリメチルプロペニレン基;等が挙げられる。
【0014】また、一般式(1)のR2、R3、R4およ
びR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ水
素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示している。
ここでいう炭素数1〜4のアルキル基としては、具体的
には例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソ
ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる。一般
式(1)で表される化合物のR1、R2、R3、R4および
R5の合計炭素数は1〜8であり、好ましくは1〜6で
ある。一般式(1)で表される化合物の中でも、R1、
R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が1〜6であり、
R2、R3、R4およびR5がそれぞれ水素原子、メチル
基、エチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基の中
から選ばれた基であり、かつそのうち少なくとも2つ以
上は水素原子となっているものが好ましい。最も好まし
いものとしては、 R1が炭素数1〜3のアルキレン基もしくはアルケ
ニレン基であり、R1、R2、R3、R4およびR5の合計
炭素数が1〜6であり、R2、R3、R4およびR5がそれ
ぞれ水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、
およびsec−ブチル基の中から選ばれた基であり、か
つそのうち少なくとも2つ以上は水素原子となっている
もの、または R1が炭素数4〜6のアルキレン基もしくはアルケ
ニレン基で、かつR2、R3、R4およびR5がすべて水素
原子のもの、 が挙げられる。
びR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ水
素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示している。
ここでいう炭素数1〜4のアルキル基としては、具体的
には例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソ
ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる。一般
式(1)で表される化合物のR1、R2、R3、R4および
R5の合計炭素数は1〜8であり、好ましくは1〜6で
ある。一般式(1)で表される化合物の中でも、R1、
R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が1〜6であり、
R2、R3、R4およびR5がそれぞれ水素原子、メチル
基、エチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基の中
から選ばれた基であり、かつそのうち少なくとも2つ以
上は水素原子となっているものが好ましい。最も好まし
いものとしては、 R1が炭素数1〜3のアルキレン基もしくはアルケ
ニレン基であり、R1、R2、R3、R4およびR5の合計
炭素数が1〜6であり、R2、R3、R4およびR5がそれ
ぞれ水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、
およびsec−ブチル基の中から選ばれた基であり、か
つそのうち少なくとも2つ以上は水素原子となっている
もの、または R1が炭素数4〜6のアルキレン基もしくはアルケ
ニレン基で、かつR2、R3、R4およびR5がすべて水素
原子のもの、 が挙げられる。
【0015】一般式(1)で表される化合物として最も
好ましいものとしては、具体的には例えば、ジフェニル
メタン、フェニルトリルメタン、フェニルキシリルメタ
ン、ジトリルメタン、(エチルフェニル)フェニルメタ
ン、(エチルフェニル)トリルメタン、(エチルメチル
フェニル)フェニルメタン、(ジエチルフェニル)フェ
ニルメタン、ビス(エチルフェニル)メタン、フェニル
(イソプロピルフェニル)メタン、(イソプロピルフェ
ニル)トリルメタン、(メチルイソプロピルフェニル)
フェニルメタン、(エチルイソプロピルフェニル)フェ
ニルメタン、(エチルフェニル)(イソプロピルフェニ
ル)メタン、(sec−ブチルフェニル)フェニルメタ
ン、(sec−ブチルメチルフェニル)フェニルメタ
ン、(sec−ブチルフェニル)トリルメタン等のメチ
レン基を持つ化合物;
好ましいものとしては、具体的には例えば、ジフェニル
メタン、フェニルトリルメタン、フェニルキシリルメタ
ン、ジトリルメタン、(エチルフェニル)フェニルメタ
ン、(エチルフェニル)トリルメタン、(エチルメチル
フェニル)フェニルメタン、(ジエチルフェニル)フェ
ニルメタン、ビス(エチルフェニル)メタン、フェニル
(イソプロピルフェニル)メタン、(イソプロピルフェ
ニル)トリルメタン、(メチルイソプロピルフェニル)
フェニルメタン、(エチルイソプロピルフェニル)フェ
ニルメタン、(エチルフェニル)(イソプロピルフェニ
ル)メタン、(sec−ブチルフェニル)フェニルメタ
ン、(sec−ブチルメチルフェニル)フェニルメタ
ン、(sec−ブチルフェニル)トリルメタン等のメチ
レン基を持つ化合物;
【0016】1,1−ジフェニルエタン、1−フェニル
−1−トリルエタン、1−フェニル−1−キシリルエタ
ン、1,1−ジトリルエタン、1−(エチルフェニル)
−1−フェニルエタン、1−(エチルフェニル)−1−
トリルエタン、1−(エチルメチルフェニル)−1−フ
ェニルエタン、1−(ジエチルフェニル)−1−フェニ
ルエタン、1,1−ビス(エチルフェニル)エタン、1
−フェニル−1−(イソプロピルフェニル)エタン、1
−(イソプロピルフェニル)−1−トリルエタン、1−
(メチルイソプロピルフェニル)−1−フェニルエタ
ン、1−(sec−ブチルフェニル)−1−フェニルエ
タン等のメチルメチレン基(エチリデン基)を持つ化合
物;
−1−トリルエタン、1−フェニル−1−キシリルエタ
ン、1,1−ジトリルエタン、1−(エチルフェニル)
−1−フェニルエタン、1−(エチルフェニル)−1−
トリルエタン、1−(エチルメチルフェニル)−1−フ
ェニルエタン、1−(ジエチルフェニル)−1−フェニ
ルエタン、1,1−ビス(エチルフェニル)エタン、1
−フェニル−1−(イソプロピルフェニル)エタン、1
−(イソプロピルフェニル)−1−トリルエタン、1−
(メチルイソプロピルフェニル)−1−フェニルエタ
ン、1−(sec−ブチルフェニル)−1−フェニルエ
タン等のメチルメチレン基(エチリデン基)を持つ化合
物;
【0017】1,2−ジフェニルエタン、1−フェニル
−2−トリルエタン、1−フェニル−2−キシリルエタ
ン、1,2−ジトリルエタン、1−(エチルフェニル)
−2−フェニルエタン、1−(エチルフェニル)−2−
トリルエタン、1−(エチルメチルフェニル)−2−フ
ェニルエタン、1−(ジエチルフェニル)−2−フェニ
ルエタン、1,2−ビス(エチルフェニル)エタン、1
−フェニル−2−(イソプロピルフェニル)エタン、1
−(イソプロピルフェニル)−2−トリルエタン、1−
(メチルイソプロピルフェニル)−2−フェニルエタ
ン、1−(sec−ブチルフェニル)−2−フェニルエ
タン等のエチレン基を持つ化合物;
−2−トリルエタン、1−フェニル−2−キシリルエタ
ン、1,2−ジトリルエタン、1−(エチルフェニル)
−2−フェニルエタン、1−(エチルフェニル)−2−
トリルエタン、1−(エチルメチルフェニル)−2−フ
ェニルエタン、1−(ジエチルフェニル)−2−フェニ
ルエタン、1,2−ビス(エチルフェニル)エタン、1
−フェニル−2−(イソプロピルフェニル)エタン、1
−(イソプロピルフェニル)−2−トリルエタン、1−
(メチルイソプロピルフェニル)−2−フェニルエタ
ン、1−(sec−ブチルフェニル)−2−フェニルエ
タン等のエチレン基を持つ化合物;
【0018】1,1−ジフェニルプロパン、1−フェニ
ル−1−トリルプロパン、1−フェニル−1−キシリル
プロパン、1,1−ジトリルプロパン、1−(エチルフ
ェニル)−1−フェニルプロパン、1−(エチルフェニ
ル)−1−トリルプロパン、1−(エチルメチルフェニ
ル)−1−フェニルプロパン、1−フェニル−1−(イ
ソプロピルフェニル)プロパン等のエチルメチレン基
(プロピリデン基)を持つ化合物;
ル−1−トリルプロパン、1−フェニル−1−キシリル
プロパン、1,1−ジトリルプロパン、1−(エチルフ
ェニル)−1−フェニルプロパン、1−(エチルフェニ
ル)−1−トリルプロパン、1−(エチルメチルフェニ
ル)−1−フェニルプロパン、1−フェニル−1−(イ
ソプロピルフェニル)プロパン等のエチルメチレン基
(プロピリデン基)を持つ化合物;
【0019】2,2−ジフェニルプロパン、2−フェニ
ル−2−トリルプロパン、2−フェニル−2−キシリル
プロパン、2,2−ジトリルプロパン、2−(エチルフ
ェニル)−2−フェニルプロパン、2−(エチルフェニ
ル)−2−トリルプロパン、2−(エチルメチルフェニ
ル)−2−フェニルプロパン、2−フェニル−2−(イ
ソプロピルフェニル)プロパン等のジメチルメチレン基
(イソプロピリデン基)を持つ化合物;
ル−2−トリルプロパン、2−フェニル−2−キシリル
プロパン、2,2−ジトリルプロパン、2−(エチルフ
ェニル)−2−フェニルプロパン、2−(エチルフェニ
ル)−2−トリルプロパン、2−(エチルメチルフェニ
ル)−2−フェニルプロパン、2−フェニル−2−(イ
ソプロピルフェニル)プロパン等のジメチルメチレン基
(イソプロピリデン基)を持つ化合物;
【0020】1,3−ジフェニルブタン等の炭素数4の
アルケニレン基を持つ化合物;
アルケニレン基を持つ化合物;
【0021】1,3−ジフェニルペンタン、2,4−ジ
フェニルペンタン、2−メチル−1,3−ジフェニルブ
タン、3−メチル−1,3−ジフェニルブタン等の炭素
数5のアルキレン基を持つ化合物;
フェニルペンタン、2−メチル−1,3−ジフェニルブ
タン、3−メチル−1,3−ジフェニルブタン等の炭素
数5のアルキレン基を持つ化合物;
【0022】2,4−ジフェニルヘキサン、2−メチル
−1,3−ジフェニルペンタン、2−メチル−2,4−
ジフェニルペンタン、2,3−ジメチル−1,3−ジフ
ェニルブタン等の炭素数6のアルキレン基を持つ化合
物;
−1,3−ジフェニルペンタン、2−メチル−2,4−
ジフェニルペンタン、2,3−ジメチル−1,3−ジフ
ェニルブタン等の炭素数6のアルキレン基を持つ化合
物;
【0023】1,1−ジフェニルエテン、1−フェニル
−1−トリルエテン、1−フェニル−1−キシリルエテ
ン、1,1−ジトリルエテン、1−(エチルフェニル)
−1−フェニルエテン、1−(エチルフェニル)−1−
トリルエテン、1−(エチルメチルフェニル)−1−フ
ェニルエテン、1−(ジエチルフェニル)−1−フェニ
ルエテン、1,1−ビス(エチルフェニル)エテン、1
−フェニル−1−(イソプロピルフェニル)エテン、1
−(イソプロピルフェニル)−1−トリルエテン、1−
(メチルイソプロピルフェニル)−1−フェニルエテ
ン、1−(sec−ブチルフェニル)−1−フェニルエ
テン等のビニリデン基を持つ化合物;
−1−トリルエテン、1−フェニル−1−キシリルエテ
ン、1,1−ジトリルエテン、1−(エチルフェニル)
−1−フェニルエテン、1−(エチルフェニル)−1−
トリルエテン、1−(エチルメチルフェニル)−1−フ
ェニルエテン、1−(ジエチルフェニル)−1−フェニ
ルエテン、1,1−ビス(エチルフェニル)エテン、1
−フェニル−1−(イソプロピルフェニル)エテン、1
−(イソプロピルフェニル)−1−トリルエテン、1−
(メチルイソプロピルフェニル)−1−フェニルエテ
ン、1−(sec−ブチルフェニル)−1−フェニルエ
テン等のビニリデン基を持つ化合物;
【0024】1,2−ジフェニルエテン、1−フェニル
−2−トリルエテン、1−フェニル−2−キシリルエテ
ン、1,2−ジトリルエテン、1−(エチルフェニル)
−2−フェニルエテン、1−(エチルフェニル)−2−
トリルエテン、1−(エチルメチルフェニル)−2−フ
ェニルエテン、1−(ジエチルフェニル)−2−フェニ
ルエテン、1,2−ビス(エチルフェニル)エテン、1
−フェニル−2−(イソプロピルフェニル)エテン、1
−(イソプロピルフェニル)−2−トリルエテン、1−
(メチルイソプロピルフェニル)−2−フェニルエテ
ン、1−(sec−ブチルフェニル)−2−フェニルエ
テン等のエテニレン基(ビニレン基)を持つ化合物;
−2−トリルエテン、1−フェニル−2−キシリルエテ
ン、1,2−ジトリルエテン、1−(エチルフェニル)
−2−フェニルエテン、1−(エチルフェニル)−2−
トリルエテン、1−(エチルメチルフェニル)−2−フ
ェニルエテン、1−(ジエチルフェニル)−2−フェニ
ルエテン、1,2−ビス(エチルフェニル)エテン、1
−フェニル−2−(イソプロピルフェニル)エテン、1
−(イソプロピルフェニル)−2−トリルエテン、1−
(メチルイソプロピルフェニル)−2−フェニルエテ
ン、1−(sec−ブチルフェニル)−2−フェニルエ
テン等のエテニレン基(ビニレン基)を持つ化合物;
【0025】1,2−ジフェニルプロペン、1−フェニ
ル−2−トリルプロペン、1−フェニル−2−キシリル
プロペン、1,2−ジトリルプロペン、1−(エチルフ
ェニル)−2−フェニルプロペン、1−(エチルフェニ
ル)−2−トリルプロペン、1−(エチルメチルフェニ
ル)−2−フェニルプロペン、1−フェニル−2−(イ
ソプロピルフェニル)プロペン、2−フェニル−1−ト
リルプロペン、2−フェニル−1−キシリルプロペン、
2−(エチルフェニル)−1−フェニルプロペン、2−
(エチルフェニル)−1−トリルプロペン、2−(エチ
ルメチルフェニル)−1−フェニルプロペン、2−フェ
ニル−1−(イソプロピルフェニル)プロペン等のメチ
ルエテニレン基を持つ化合物;
ル−2−トリルプロペン、1−フェニル−2−キシリル
プロペン、1,2−ジトリルプロペン、1−(エチルフ
ェニル)−2−フェニルプロペン、1−(エチルフェニ
ル)−2−トリルプロペン、1−(エチルメチルフェニ
ル)−2−フェニルプロペン、1−フェニル−2−(イ
ソプロピルフェニル)プロペン、2−フェニル−1−ト
リルプロペン、2−フェニル−1−キシリルプロペン、
2−(エチルフェニル)−1−フェニルプロペン、2−
(エチルフェニル)−1−トリルプロペン、2−(エチ
ルメチルフェニル)−1−フェニルプロペン、2−フェ
ニル−1−(イソプロピルフェニル)プロペン等のメチ
ルエテニレン基を持つ化合物;
【0026】1,3−ジフェニルプロペン、1−フェニ
ル−3−トリルプロペン、1−フェニル−3−キシリル
プロペン、1,3−ジトリルプロペン、1−(エチルフ
ェニル)−3−フェニルプロペン、1−(エチルフェニ
ル)−3−トリルプロペン、1−(エチルメチルフェニ
ル)−3−フェニルプロペン、1−フェニル−3−(イ
ソプロピルフェニル)プロペン、3−フェニル−1−ト
リルプロペン、3−フェニル−1−キシリルプロペン、
3−(エチルフェニル)−1−フェニルプロペン、3−
(エチルフェニル)−1−トリルプロペン、3−(エチ
ルメチルフェニル)−1−フェニルプロペン、3−フェ
ニル−1−(イソプロピルフェニル)プロペン等のプロ
ペニレン基を持つ化合物;
ル−3−トリルプロペン、1−フェニル−3−キシリル
プロペン、1,3−ジトリルプロペン、1−(エチルフ
ェニル)−3−フェニルプロペン、1−(エチルフェニ
ル)−3−トリルプロペン、1−(エチルメチルフェニ
ル)−3−フェニルプロペン、1−フェニル−3−(イ
ソプロピルフェニル)プロペン、3−フェニル−1−ト
リルプロペン、3−フェニル−1−キシリルプロペン、
3−(エチルフェニル)−1−フェニルプロペン、3−
(エチルフェニル)−1−トリルプロペン、3−(エチ
ルメチルフェニル)−1−フェニルプロペン、3−フェ
ニル−1−(イソプロピルフェニル)プロペン等のプロ
ペニレン基を持つ化合物;
【0027】2,3−ジフェニルプロペン、2−フェニ
ル−3−トリルプロペン、2−フェニル−3−キシリル
プロペン、2,3−ジトリルプロペン、2−(エチルフ
ェニル)−3−フェニルプロペン、2−(エチルフェニ
ル)−3−トリルプロペン、2−(エチルメチルフェニ
ル)−3−フェニルプロペン、2−フェニル−3−(イ
ソプロピルフェニル)プロペン、3−フェニル−2−ト
リルプロペン、3−フェニル−2−キシリルプロペン、
3−(エチルフェニル)−2−フェニルプロペン、3−
(エチルフェニル)−2−トリルプロペン、3−(エチ
ルメチルフェニル)−2−フェニルプロペン、3−フェ
ニル−2−(イソプロピルフェニル)プロペン等のメチ
レンエチレン基を持つ化合物;
ル−3−トリルプロペン、2−フェニル−3−キシリル
プロペン、2,3−ジトリルプロペン、2−(エチルフ
ェニル)−3−フェニルプロペン、2−(エチルフェニ
ル)−3−トリルプロペン、2−(エチルメチルフェニ
ル)−3−フェニルプロペン、2−フェニル−3−(イ
ソプロピルフェニル)プロペン、3−フェニル−2−ト
リルプロペン、3−フェニル−2−キシリルプロペン、
3−(エチルフェニル)−2−フェニルプロペン、3−
(エチルフェニル)−2−トリルプロペン、3−(エチ
ルメチルフェニル)−2−フェニルプロペン、3−フェ
ニル−2−(イソプロピルフェニル)プロペン等のメチ
レンエチレン基を持つ化合物;
【0028】1,3−ジフェニルブテン等の炭素数4の
アルケニレン基を持つ化合物;
アルケニレン基を持つ化合物;
【0029】1,3−ジフェニルペンテン、2,4−ジ
フェニルペンテン、2,4−ジフェニル−2−ペンテ
ン、2−メチル−1,3−ジフェニルブテン、3−メチ
ル−1,3−ジフェニルブテン等の炭素数5のアルケニ
レン基を持つ化合物;
フェニルペンテン、2,4−ジフェニル−2−ペンテ
ン、2−メチル−1,3−ジフェニルブテン、3−メチ
ル−1,3−ジフェニルブテン等の炭素数5のアルケニ
レン基を持つ化合物;
【0030】2,4−ジフェニルヘキセン、2,4−ジ
フェニル−2−ヘキセン、2−メチル−1,3−ジフェ
ニルペンテン、4−メチル−2,4−ジフェニルペンテ
ン、4−メチル−2,4−ジフェニル−2−ペンテン、
2,3−ジメチル−1,3−ジフェニルブテン等の炭素
数6のアルケニレン基を持つ化合物;等である。
フェニル−2−ヘキセン、2−メチル−1,3−ジフェ
ニルペンテン、4−メチル−2,4−ジフェニルペンテ
ン、4−メチル−2,4−ジフェニル−2−ペンテン、
2,3−ジメチル−1,3−ジフェニルブテン等の炭素
数6のアルケニレン基を持つ化合物;等である。
【0031】一般式(1)で表される化合物の製造方法
は任意であり、種々の公知の方法で製造できるが、その
いくつかの例を次に示す。一般式(1)で表される化合
物は、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチ
レン、エチルスチレン等のスチレン類を、酸触媒の存在
下でアルキルベンゼンへ付加することによって得られ
る。酸触媒としては、硫酸、リン酸等の鉱酸、酸性白
土、活性白土等の固体酸性物質およびハロゲン化金属で
あるフリーデルクラフツ触媒等が使用できる。
は任意であり、種々の公知の方法で製造できるが、その
いくつかの例を次に示す。一般式(1)で表される化合
物は、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチ
レン、エチルスチレン等のスチレン類を、酸触媒の存在
下でアルキルベンゼンへ付加することによって得られ
る。酸触媒としては、硫酸、リン酸等の鉱酸、酸性白
土、活性白土等の固体酸性物質およびハロゲン化金属で
あるフリーデルクラフツ触媒等が使用できる。
【0032】また、適当な酸触媒の存在下、上記スチレ
ン類の重合反応によっても製造される。この際、単一の
スチレン化合物を用いてもよく、2種以上のスチレン化
合物を用いて共重合させても良い。酸触媒としては、硫
酸、リン酸等の鉱酸、酸性白土、活性白土等の固体酸性
物質およびハロゲン化金属であるフリーデルクラフツ触
媒等が使用できる。普通、この方法で得られる化合物は
2個のベンゼン環がアルケニレン基によって結合された
化合物であるが、本発明ではこのまま用いてもよく、ま
た適当な触媒の存在下でアルケニレン基の水素化処理を
行い、アルケニレン基をアルキレン基に変換させた化合
物を用いても良い。
ン類の重合反応によっても製造される。この際、単一の
スチレン化合物を用いてもよく、2種以上のスチレン化
合物を用いて共重合させても良い。酸触媒としては、硫
酸、リン酸等の鉱酸、酸性白土、活性白土等の固体酸性
物質およびハロゲン化金属であるフリーデルクラフツ触
媒等が使用できる。普通、この方法で得られる化合物は
2個のベンゼン環がアルケニレン基によって結合された
化合物であるが、本発明ではこのまま用いてもよく、ま
た適当な触媒の存在下でアルケニレン基の水素化処理を
行い、アルケニレン基をアルキレン基に変換させた化合
物を用いても良い。
【0033】また、芳香族化合物のアルキル化に関して
は、塩化物のフリーデルクラフツ反応がよく知られてい
るが、一般式(1)で表される化合物はこの方法によっ
ても製造される。例えば、側鎖アルキル基が塩素化され
たアルキルベンゼンを、ハロゲン化金属などの適当なフ
リーデルクラフツ触媒の存在下で、ベンゼンまたはアル
キルベンゼンと反応させることによって得られる。ま
た、ジハロゲン化アルカンとベンゼンまたはアルキルベ
ンゼンとを、ハロゲン化金属などの適当なフリーデルク
ラフツ触媒の存在下で、カップリングする方法も挙げら
れる。
は、塩化物のフリーデルクラフツ反応がよく知られてい
るが、一般式(1)で表される化合物はこの方法によっ
ても製造される。例えば、側鎖アルキル基が塩素化され
たアルキルベンゼンを、ハロゲン化金属などの適当なフ
リーデルクラフツ触媒の存在下で、ベンゼンまたはアル
キルベンゼンと反応させることによって得られる。ま
た、ジハロゲン化アルカンとベンゼンまたはアルキルベ
ンゼンとを、ハロゲン化金属などの適当なフリーデルク
ラフツ触媒の存在下で、カップリングする方法も挙げら
れる。
【0034】また、一般式(1)で表される化合物は、
R1〜R4で表されるアルキル基を有するアルキルベンゼ
ンを用いて上記の方法等で製造されてもよいし、上記の
方法等で製造された炭化水素化合物に該アルキル基を種
々の方法で付加させても製造される。なお、一般式
(1)で表される化合物としては、単一の構造の化合物
だけでなく、一般式(1)を満たすものであれば、異な
る構造を有する化合物の混合物であっても良い。
R1〜R4で表されるアルキル基を有するアルキルベンゼ
ンを用いて上記の方法等で製造されてもよいし、上記の
方法等で製造された炭化水素化合物に該アルキル基を種
々の方法で付加させても製造される。なお、一般式
(1)で表される化合物としては、単一の構造の化合物
だけでなく、一般式(1)を満たすものであれば、異な
る構造を有する化合物の混合物であっても良い。
【0035】上記した(B)一般式(1)で表される化
合物を単独で用いる際の含有量については、特に制限は
ないが、高温でのガス化度合いの点から、絶縁油全量基
準で5容量%以上であることが好ましく、10容量%以
上であることがより好ましく、20容量%以上であるこ
とがさらに好ましく、30容量%以上であることが一層
好ましく、40容量%以上であることがより一層好まし
く、50容量%以上であることがさらにより一層好まし
く、60容量%以上であることが最も好ましい。
合物を単独で用いる際の含有量については、特に制限は
ないが、高温でのガス化度合いの点から、絶縁油全量基
準で5容量%以上であることが好ましく、10容量%以
上であることがより好ましく、20容量%以上であるこ
とがさらに好ましく、30容量%以上であることが一層
好ましく、40容量%以上であることがより一層好まし
く、50容量%以上であることがさらにより一層好まし
く、60容量%以上であることが最も好ましい。
【0036】本発明における(C)一般式(2)で表さ
れる化合物において、R6、R7、R 8およびR9は各々同
一でも異なっていても良く、それぞれ水素原子または炭
素数1〜10、好ましくは1〜8の炭化水素基を示して
いる。ここでいう炭化水素基としては、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、アルカリール基、アラルキル
基等が挙げられる。
れる化合物において、R6、R7、R 8およびR9は各々同
一でも異なっていても良く、それぞれ水素原子または炭
素数1〜10、好ましくは1〜8の炭化水素基を示して
いる。ここでいう炭化水素基としては、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、アルカリール基、アラルキル
基等が挙げられる。
【0037】一般式(2)のR6、R7、R8およびR9が
示す炭化水素基として好ましいものとしては、具体的に
は例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、直鎖状または分岐状のブチル基、直鎖状ま
たは分岐状のペンチル基、直鎖状または分岐状のヘキシ
ル基、直鎖状または分岐状のヘプチル基、直鎖状または
分岐状のオクチル基等の炭素数1〜8のアルキル基;エ
テニル基(ビニル基)、1−プロペニル基、2−プロペ
ニル基(アリル基)、1−メチルエテニル基(イソプロ
ペニル基)、直鎖状または分岐状のブテニル基、直鎖状
または分岐状のペンテニル基、直鎖状または分岐状のヘ
キセニル基、直鎖状または分岐状のヘプテニル基、直鎖
状または分岐状のオクテニル基等の炭素数2〜8のアル
ケニル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、エチル
フェニル基、ビニルフェニル基等の炭素数6〜8のアリ
ール基またはアルカリール基;ベンジル基、1−フェニ
ルエチル基、1−フェニルエチル基(フェネチル基)等
の炭素数7〜8のアラルキル基;などが挙げられる。さ
らにこの中でも、炭素数1〜8のアルキル基および炭素
数2〜8のアルケニル基が特に好ましく、最も好ましく
は、これらのうち分岐状のものである。
示す炭化水素基として好ましいものとしては、具体的に
は例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、直鎖状または分岐状のブチル基、直鎖状ま
たは分岐状のペンチル基、直鎖状または分岐状のヘキシ
ル基、直鎖状または分岐状のヘプチル基、直鎖状または
分岐状のオクチル基等の炭素数1〜8のアルキル基;エ
テニル基(ビニル基)、1−プロペニル基、2−プロペ
ニル基(アリル基)、1−メチルエテニル基(イソプロ
ペニル基)、直鎖状または分岐状のブテニル基、直鎖状
または分岐状のペンテニル基、直鎖状または分岐状のヘ
キセニル基、直鎖状または分岐状のヘプテニル基、直鎖
状または分岐状のオクテニル基等の炭素数2〜8のアル
ケニル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、エチル
フェニル基、ビニルフェニル基等の炭素数6〜8のアリ
ール基またはアルカリール基;ベンジル基、1−フェニ
ルエチル基、1−フェニルエチル基(フェネチル基)等
の炭素数7〜8のアラルキル基;などが挙げられる。さ
らにこの中でも、炭素数1〜8のアルキル基および炭素
数2〜8のアルケニル基が特に好ましく、最も好ましく
は、これらのうち分岐状のものである。
【0038】一般式(2)のR6、R7、R8およびR9の
合計炭素数は1〜10であるが、好ましくは1〜8であ
る。この範囲内であれば、R6、R7、R8およびR9は各
々同一でも異なっていてもよい。すなわち、一般式
(2)で表される化合物としては、R6、R7、R8およ
びR9がすべて炭化水素基であるものでもよく、または
R6、R7、R8およびR9のうち少なくとも1つが炭化水
素基であり他は水素原子であるものでもよい。この中で
も、R6、R7、R8およびR9のうち1〜3個が炭化水素
基で他は水素原子であり、かつその合計炭素数が3〜8
のものが好ましい。R6、R7、R8およびR9のうち2つ
が炭化水素基である場合、その組み合わせは任意であ
り、R6およびR8が炭化水素基であるような、同じ縮合
環(ベンゼン環)に2つの炭化水素基が結合しているも
のでもよく、また、R6およびR7が炭化水素基であるよ
うな、異なる縮合環(ベンゼン環)にそれぞれ1つずつ
の炭化水素基が結合しているものでもよい。
合計炭素数は1〜10であるが、好ましくは1〜8であ
る。この範囲内であれば、R6、R7、R8およびR9は各
々同一でも異なっていてもよい。すなわち、一般式
(2)で表される化合物としては、R6、R7、R8およ
びR9がすべて炭化水素基であるものでもよく、または
R6、R7、R8およびR9のうち少なくとも1つが炭化水
素基であり他は水素原子であるものでもよい。この中で
も、R6、R7、R8およびR9のうち1〜3個が炭化水素
基で他は水素原子であり、かつその合計炭素数が3〜8
のものが好ましい。R6、R7、R8およびR9のうち2つ
が炭化水素基である場合、その組み合わせは任意であ
り、R6およびR8が炭化水素基であるような、同じ縮合
環(ベンゼン環)に2つの炭化水素基が結合しているも
のでもよく、また、R6およびR7が炭化水素基であるよ
うな、異なる縮合環(ベンゼン環)にそれぞれ1つずつ
の炭化水素基が結合しているものでもよい。
【0039】一般式(2)で表される化合物として好ま
しいものとしては、具体的には例えば、(n−プロピ
ル)ナフタレン、イソプロピルナフタレン、(n−ブチ
ル)ナフタレン、イソブチルナフタレン、(sec−ブ
チル)ナフタレン、(tert−ブチル)ナフタレン、
(sec−ペンチル)ナフタレン、(1−エチルプロピ
ル)ナフタレン、(tert−ペンチル)ナフタレン、
(1−メチルペンチル)ナフタレン、(1−エチルブチ
ル)ナフタレン、(1,1−ジメチルブチル)ナフタレ
ン、(1−エチル−1−メチルプロピル)ナフタレン、
(1−メチルヘキシル)ナフタレン、(1−エチルペン
チル)ナフタレン、(1−プロピルブチル)ナフタレ
ン、(1,1−ジメチルペンチル)ナフタレン、(1−
エチル−1−メチルブチル)ナフタレン、(1,1−ジ
エチルプロピル)ナフタレン、(1−メチルヘプチル)
ナフタレン、(1−エチルヘキシル)ナフタレン、(1
−プロピルペンチル)ナフタレン、(1,1−ジメチル
ヘキシル)ナフタレン、(1−エチル−1−メチルペン
チル)ナフタレン、(1−メチル−1−プロピルブチ
ル)ナフタレン、(1,1−ジエチルブチル)ナフタレ
ン、エチルメチルナフタレン、ジエチルナフタレン、メ
チル(n−プロピル)ナフタレン、メチルイソプロピル
ナフタレン、ジ(n−プロピル)ナフタレン、ジイソプ
ロピルナフタレン、(n−ブチル)メチルナフタレン、
イソブチルメチルナフタレン、(sec−ブチル)メチ
ルナフタレン、(tert−ブチル)メチルナフタレ
ン、ジ(n−ブチル)ナフタレン、ジイソブチルナフタ
レン、ジ(sec−ブチル)ナフタレン、ジ(tert
−ブチル)ナフタレン、トリメチルナフタレン、トリエ
チルナフタレン、エチルジメチルナフタレン、ジエチル
メチルナフタレン、ジメチル(n−プロピル)ナフタレ
ン、ジメチルイソプロピルナフタレン、メチルジ(n−
プロピル)ナフタレン、メチルジイソプロピルナフタレ
ン、(n−ブチル)ジメチルナフタレン、イソブチルジ
メチルナフタレン、(sec−ブチル)ジメチルナフタ
レン、(tert−ブチル)ジメチルナフタレン、フェ
ニルナフタレン、トリルナフタレン、キシリルナフタレ
ン、(エチルフェニル)ナフタレン、(ビニルフェニ
ル)ナフタレン、ベンジルナフタレン、フェネチルナフ
タレン、(1−フェニルエチル)ナフタレン、等が挙げ
られる。上記具体例においては、置換基の結合位置が異
なる全ての異性体を包含する。なお、一般式(2)で表
される化合物としては、単一の構造の化合物だけでな
く、一般式(2)を満たすものであれば、異なる構造を
有する化合物の混合物であっても良い。
しいものとしては、具体的には例えば、(n−プロピ
ル)ナフタレン、イソプロピルナフタレン、(n−ブチ
ル)ナフタレン、イソブチルナフタレン、(sec−ブ
チル)ナフタレン、(tert−ブチル)ナフタレン、
(sec−ペンチル)ナフタレン、(1−エチルプロピ
ル)ナフタレン、(tert−ペンチル)ナフタレン、
(1−メチルペンチル)ナフタレン、(1−エチルブチ
ル)ナフタレン、(1,1−ジメチルブチル)ナフタレ
ン、(1−エチル−1−メチルプロピル)ナフタレン、
(1−メチルヘキシル)ナフタレン、(1−エチルペン
チル)ナフタレン、(1−プロピルブチル)ナフタレ
ン、(1,1−ジメチルペンチル)ナフタレン、(1−
エチル−1−メチルブチル)ナフタレン、(1,1−ジ
エチルプロピル)ナフタレン、(1−メチルヘプチル)
ナフタレン、(1−エチルヘキシル)ナフタレン、(1
−プロピルペンチル)ナフタレン、(1,1−ジメチル
ヘキシル)ナフタレン、(1−エチル−1−メチルペン
チル)ナフタレン、(1−メチル−1−プロピルブチ
ル)ナフタレン、(1,1−ジエチルブチル)ナフタレ
ン、エチルメチルナフタレン、ジエチルナフタレン、メ
チル(n−プロピル)ナフタレン、メチルイソプロピル
ナフタレン、ジ(n−プロピル)ナフタレン、ジイソプ
ロピルナフタレン、(n−ブチル)メチルナフタレン、
イソブチルメチルナフタレン、(sec−ブチル)メチ
ルナフタレン、(tert−ブチル)メチルナフタレ
ン、ジ(n−ブチル)ナフタレン、ジイソブチルナフタ
レン、ジ(sec−ブチル)ナフタレン、ジ(tert
−ブチル)ナフタレン、トリメチルナフタレン、トリエ
チルナフタレン、エチルジメチルナフタレン、ジエチル
メチルナフタレン、ジメチル(n−プロピル)ナフタレ
ン、ジメチルイソプロピルナフタレン、メチルジ(n−
プロピル)ナフタレン、メチルジイソプロピルナフタレ
ン、(n−ブチル)ジメチルナフタレン、イソブチルジ
メチルナフタレン、(sec−ブチル)ジメチルナフタ
レン、(tert−ブチル)ジメチルナフタレン、フェ
ニルナフタレン、トリルナフタレン、キシリルナフタレ
ン、(エチルフェニル)ナフタレン、(ビニルフェニ
ル)ナフタレン、ベンジルナフタレン、フェネチルナフ
タレン、(1−フェニルエチル)ナフタレン、等が挙げ
られる。上記具体例においては、置換基の結合位置が異
なる全ての異性体を包含する。なお、一般式(2)で表
される化合物としては、単一の構造の化合物だけでな
く、一般式(2)を満たすものであれば、異なる構造を
有する化合物の混合物であっても良い。
【0040】一般式(2)で表される化合物の製造方法
は任意であり、種々の公知の方法で製造できる。この例
としては例えば、炭素数1〜10の炭化水素のハロゲン
化物や、炭素数2〜10のオレフィン類または炭素数8
〜10のスチレン類を硫酸、リン酸、ケイタングステン
酸、フッ化水素酸等の鉱酸、酸性白土、活性白土等の固
体酸性物質および塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のハロ
ゲン化金属であるフリーデルクラフツ触媒等の酸触媒の
存在下、ナフタレンへ付加する方法等が挙げられる。
は任意であり、種々の公知の方法で製造できる。この例
としては例えば、炭素数1〜10の炭化水素のハロゲン
化物や、炭素数2〜10のオレフィン類または炭素数8
〜10のスチレン類を硫酸、リン酸、ケイタングステン
酸、フッ化水素酸等の鉱酸、酸性白土、活性白土等の固
体酸性物質および塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のハロ
ゲン化金属であるフリーデルクラフツ触媒等の酸触媒の
存在下、ナフタレンへ付加する方法等が挙げられる。
【0041】上記した(C)一般式(2)で表される化
合物を単独で用いる際の含有量については、特に制限は
ないが、高温でのガス化度合いの点から、絶縁油全量基
準で5容量%以上であることが好ましく、10容量%以
上であることがより好ましく、20容量%以上であるこ
とがさらに好ましく、30容量%以上であることが一層
好ましく、40容量%以上であることがより一層好まし
く、50容量%以上であることがさらにより一層好まし
く、60容量%以上であることが最も好ましい。
合物を単独で用いる際の含有量については、特に制限は
ないが、高温でのガス化度合いの点から、絶縁油全量基
準で5容量%以上であることが好ましく、10容量%以
上であることがより好ましく、20容量%以上であるこ
とがさらに好ましく、30容量%以上であることが一層
好ましく、40容量%以上であることがより一層好まし
く、50容量%以上であることがさらにより一層好まし
く、60容量%以上であることが最も好ましい。
【0042】本発明における(D)一般式(3)で表さ
れる化合物において、R10、R11、R12およびR13は各
々同一でも異なっていても良く、それぞれ水素原子また
は炭素数1〜10、好ましくは1〜8の炭化水素基を示
している。ここでいう炭化水素基としては、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アルカリール基、アラ
ルキル基等が挙げられる。一般式(3)のR10、R11、
R12およびR13が示す炭化水素基として好ましいものと
しては、具体的には例えば、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、直鎖状または分岐状のブ
チル基、直鎖状または分岐状のペンチル基、直鎖状また
は分岐状のヘキシル基、直鎖状または分岐状のヘプチル
基、直鎖状または分岐状のオクチル基等の炭素数1〜8
のアルキル基;エテニル基(ビニル基)、1−プロペニ
ル基、2−プロペニル基(アリル基)、1−メチルエテ
ニル基(イソプロペニル基)、直鎖状または分岐状のブ
テニル基、直鎖状または分岐状のペンテニル基、直鎖状
または分岐状のヘキセニル基、直鎖状または分岐状のヘ
プテニル基、直鎖状または分岐状のオクテニル基等の炭
素数2〜8のアルケニル基;フェニル基、トリル基、キ
シリル基、エチルフェニル基、ビニルフェニル基等の炭
素数6〜8のアリール基またはアルカリール基;ベンジ
ル基、1−フェニルエチル基、1−フェニルエチル基
(フェネチル基)等の炭素数7〜8のアラルキル基;な
どが挙げられる。さらにこの中でも、炭素数1〜8のア
ルキル基および炭素数2〜8のアルケニル基が特に好ま
しく、最も好ましくは、これらのうち分岐状のものであ
る。
れる化合物において、R10、R11、R12およびR13は各
々同一でも異なっていても良く、それぞれ水素原子また
は炭素数1〜10、好ましくは1〜8の炭化水素基を示
している。ここでいう炭化水素基としては、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アルカリール基、アラ
ルキル基等が挙げられる。一般式(3)のR10、R11、
R12およびR13が示す炭化水素基として好ましいものと
しては、具体的には例えば、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、直鎖状または分岐状のブ
チル基、直鎖状または分岐状のペンチル基、直鎖状また
は分岐状のヘキシル基、直鎖状または分岐状のヘプチル
基、直鎖状または分岐状のオクチル基等の炭素数1〜8
のアルキル基;エテニル基(ビニル基)、1−プロペニ
ル基、2−プロペニル基(アリル基)、1−メチルエテ
ニル基(イソプロペニル基)、直鎖状または分岐状のブ
テニル基、直鎖状または分岐状のペンテニル基、直鎖状
または分岐状のヘキセニル基、直鎖状または分岐状のヘ
プテニル基、直鎖状または分岐状のオクテニル基等の炭
素数2〜8のアルケニル基;フェニル基、トリル基、キ
シリル基、エチルフェニル基、ビニルフェニル基等の炭
素数6〜8のアリール基またはアルカリール基;ベンジ
ル基、1−フェニルエチル基、1−フェニルエチル基
(フェネチル基)等の炭素数7〜8のアラルキル基;な
どが挙げられる。さらにこの中でも、炭素数1〜8のア
ルキル基および炭素数2〜8のアルケニル基が特に好ま
しく、最も好ましくは、これらのうち分岐状のものであ
る。
【0043】一般式(3)のR10、R11、R12およびR
13の合計炭素数は1〜10であるが、好ましくは1〜8
である。この範囲内であれば、R10、R11、R12および
R13は各々同一でも異なっていてもよい。すなわち、一
般式(3)の化合物としては、R10、R11、R12および
R13がすべて炭化水素基であるものでもよく、またはR
10、R11、R12およびR13のうち少なくとも1つが炭化
水素基であり他は水素原子であるものでもよい。この中
でも、R10、R11、R12およびR13のうち1〜3個が炭
化水素基で他は水素原子であり、かつその合計炭素数が
3〜8のものが好ましい。R10、R11、R12およびR13
のうち2つが炭化水素基である場合、その組み合わせは
任意であり、R10およびR12が炭化水素基であるよう
な、同一のベンゼン環に2つの炭化水素基が結合してい
るものでもよく、また、R10およびR11が炭化水素基で
あるような、異なるベンゼン環にそれぞれ1つずつの炭
化水素基が結合しているものでもよい。
13の合計炭素数は1〜10であるが、好ましくは1〜8
である。この範囲内であれば、R10、R11、R12および
R13は各々同一でも異なっていてもよい。すなわち、一
般式(3)の化合物としては、R10、R11、R12および
R13がすべて炭化水素基であるものでもよく、またはR
10、R11、R12およびR13のうち少なくとも1つが炭化
水素基であり他は水素原子であるものでもよい。この中
でも、R10、R11、R12およびR13のうち1〜3個が炭
化水素基で他は水素原子であり、かつその合計炭素数が
3〜8のものが好ましい。R10、R11、R12およびR13
のうち2つが炭化水素基である場合、その組み合わせは
任意であり、R10およびR12が炭化水素基であるよう
な、同一のベンゼン環に2つの炭化水素基が結合してい
るものでもよく、また、R10およびR11が炭化水素基で
あるような、異なるベンゼン環にそれぞれ1つずつの炭
化水素基が結合しているものでもよい。
【0044】一般式(3)で表される化合物として好ま
しいものとしては、具体的には例えば、(n−プロピ
ル)ビフェニル、イソプロピルビフェニル、(n−ブチ
ル)ビフェニル、イソブチルビフェニル、(sec−ブ
チル)ビフェニル、(tert−ブチル)ビフェニル、
(sec−ペンチル)ビフェニル、(1−エチルプロピ
ル)ビフェニル、(tert−ペンチル)ビフェニル、
(1−メチルペンチル)ビフェニル、(1−エチルブチ
ル)ビフェニル、(1,1−ジメチルブチル)ビフェニ
ル、(1−エチル−1−メチルプロピル)ビフェニル、
(1−メチルヘキシル)ビフェニル、(1−エチルペン
チル)ビフェニル、(1−プロピルブチル)ビフェニ
ル、(1,1−ジメチルペンチル)ビフェニル、(1−
エチル−1−メチルブチル)ビフェニル、(1,1−ジ
エチルプロピル)ビフェニル、(1−メチルヘプチル)
ビフェニル、(1−エチルヘキシル)ビフェニル、(1
−プロピルペンチル)ビフェニル、(1,1−ジメチル
ヘキシル)ビフェニル、(1−エチル−1−メチルペン
チル)ビフェニル、(1−メチル−1−プロピルブチ
ル)ビフェニル、(1,1−ジエチルブチル)ビフェニ
ル、エチルメチルビフェニル、ジエチルビフェニル、メ
チル(n−プロピル)ビフェニル、メチルイソプロピル
ビフェニル、ジ(n−プロピル)ビフェニル、ジイソプ
ロピルビフェニル、(n−ブチル)メチルビフェニル、
イソブチルメチルビフェニル、(sec−ブチル)メチ
ルビフェニル、(tert−ブチル)メチルビフェニ
ル、ジ(n−ブチル)ビフェニル、ジイソブチルビフェ
ニル、ジ(sec−ブチル)ビフェニル、ジ(tert
−ブチル)ビフェニル、トリメチルビフェニル、トリエ
チルビフェニル、エチルジメチルビフェニル、ジエチル
メチルビフェニル、ジメチル(n−プロピル)ビフェニ
ル、ジメチルイソプロピルビフェニル、メチルジ(n−
プロピル)ビフェニル、メチルジイソプロピルビフェニ
ル、(n−ブチル)ジメチルビフェニル、イソブチルジ
メチルビフェニル、(sec−ブチル)ジメチルビフェ
ニル、(tert−ブチル)ジメチルビフェニル、フェ
ニルビフェニル、トリルビフェニル、キシリルビフェニ
ル、(エチルフェニル)ビフェニル、(ビニルフェニ
ル)ビフェニル、ベンジルビフェニル、フェネチルビフ
ェニル、(1−フェニルエチル)ビフェニル、等が挙げ
られる。上記具体例においては、置換基の結合位置が異
なる全ての異性体を包含する。なお、一般式(3)で表
される化合物としては、単一の構造の化合物だけでな
く、一般式(3)を満たすものであれば、異なる構造を
有する化合物の混合物であっても良い。
しいものとしては、具体的には例えば、(n−プロピ
ル)ビフェニル、イソプロピルビフェニル、(n−ブチ
ル)ビフェニル、イソブチルビフェニル、(sec−ブ
チル)ビフェニル、(tert−ブチル)ビフェニル、
(sec−ペンチル)ビフェニル、(1−エチルプロピ
ル)ビフェニル、(tert−ペンチル)ビフェニル、
(1−メチルペンチル)ビフェニル、(1−エチルブチ
ル)ビフェニル、(1,1−ジメチルブチル)ビフェニ
ル、(1−エチル−1−メチルプロピル)ビフェニル、
(1−メチルヘキシル)ビフェニル、(1−エチルペン
チル)ビフェニル、(1−プロピルブチル)ビフェニ
ル、(1,1−ジメチルペンチル)ビフェニル、(1−
エチル−1−メチルブチル)ビフェニル、(1,1−ジ
エチルプロピル)ビフェニル、(1−メチルヘプチル)
ビフェニル、(1−エチルヘキシル)ビフェニル、(1
−プロピルペンチル)ビフェニル、(1,1−ジメチル
ヘキシル)ビフェニル、(1−エチル−1−メチルペン
チル)ビフェニル、(1−メチル−1−プロピルブチ
ル)ビフェニル、(1,1−ジエチルブチル)ビフェニ
ル、エチルメチルビフェニル、ジエチルビフェニル、メ
チル(n−プロピル)ビフェニル、メチルイソプロピル
ビフェニル、ジ(n−プロピル)ビフェニル、ジイソプ
ロピルビフェニル、(n−ブチル)メチルビフェニル、
イソブチルメチルビフェニル、(sec−ブチル)メチ
ルビフェニル、(tert−ブチル)メチルビフェニ
ル、ジ(n−ブチル)ビフェニル、ジイソブチルビフェ
ニル、ジ(sec−ブチル)ビフェニル、ジ(tert
−ブチル)ビフェニル、トリメチルビフェニル、トリエ
チルビフェニル、エチルジメチルビフェニル、ジエチル
メチルビフェニル、ジメチル(n−プロピル)ビフェニ
ル、ジメチルイソプロピルビフェニル、メチルジ(n−
プロピル)ビフェニル、メチルジイソプロピルビフェニ
ル、(n−ブチル)ジメチルビフェニル、イソブチルジ
メチルビフェニル、(sec−ブチル)ジメチルビフェ
ニル、(tert−ブチル)ジメチルビフェニル、フェ
ニルビフェニル、トリルビフェニル、キシリルビフェニ
ル、(エチルフェニル)ビフェニル、(ビニルフェニ
ル)ビフェニル、ベンジルビフェニル、フェネチルビフ
ェニル、(1−フェニルエチル)ビフェニル、等が挙げ
られる。上記具体例においては、置換基の結合位置が異
なる全ての異性体を包含する。なお、一般式(3)で表
される化合物としては、単一の構造の化合物だけでな
く、一般式(3)を満たすものであれば、異なる構造を
有する化合物の混合物であっても良い。
【0045】一般式(3)で表される化合物の製造方法
は任意であり、種々の公知の方法で製造できる。例え
ば、炭素数1〜10の炭化水素のハロゲン化物や、炭素
数2〜10のオレフィン類または炭素数8〜10のスチ
レン類を硫酸、リン酸、ケイタングステン酸、フッ化水
素酸等の鉱酸、酸性白土、活性白土等の固体酸性物質お
よび塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のハロゲン化金属で
あるフリーデルクラフツ触媒等の酸触媒の存在下、ビフ
ェニルへ付加する方法等が挙げられる。
は任意であり、種々の公知の方法で製造できる。例え
ば、炭素数1〜10の炭化水素のハロゲン化物や、炭素
数2〜10のオレフィン類または炭素数8〜10のスチ
レン類を硫酸、リン酸、ケイタングステン酸、フッ化水
素酸等の鉱酸、酸性白土、活性白土等の固体酸性物質お
よび塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のハロゲン化金属で
あるフリーデルクラフツ触媒等の酸触媒の存在下、ビフ
ェニルへ付加する方法等が挙げられる。
【0046】上記した(D)一般式(3)で表される化
合物を単独で用いる際の含有量については、特に制限は
ないが、高温でのガス化度合いの点から、絶縁油全量基
準で5容量%以上であることが好ましく、10容量%以
上であることがより好ましく、20容量%以上であるこ
とがさらに好ましく、30容量%以上であることが一層
好ましく、40容量%以上であることがより一層好まし
く、50容量%以上であることがさらにより一層好まし
く、60容量%以上であることが最も好ましい。
合物を単独で用いる際の含有量については、特に制限は
ないが、高温でのガス化度合いの点から、絶縁油全量基
準で5容量%以上であることが好ましく、10容量%以
上であることがより好ましく、20容量%以上であるこ
とがさらに好ましく、30容量%以上であることが一層
好ましく、40容量%以上であることがより一層好まし
く、50容量%以上であることがさらにより一層好まし
く、60容量%以上であることが最も好ましい。
【0047】上記した中でも、高温でのガス化度合いの
点から、(A)のうち直鎖状のアルキルベンゼンおよび
(B)が好ましく、(B)がより好ましい。一方、高温
でのガス化度合いと管容器内に装着される部材(プラス
チック、ゴム等)に対する影響の両者をバランス良く満
たす点からは、(A)のうち直鎖状のアルキルベンゼン
がより好ましい。
点から、(A)のうち直鎖状のアルキルベンゼンおよび
(B)が好ましく、(B)がより好ましい。一方、高温
でのガス化度合いと管容器内に装着される部材(プラス
チック、ゴム等)に対する影響の両者をバランス良く満
たす点からは、(A)のうち直鎖状のアルキルベンゼン
がより好ましい。
【0048】なお、本発明に係る絶縁油において、上記
した(A)〜(D)の化合物を併用して用いる際の含有
量についても、特に制限はないが、高温でのガス化度合
いの点から、(A)〜(D)の化合物の合計量として絶
縁油全量基準で5容量%以上であることが好ましく、1
0容量%以上であることがより好ましく、20容量%以
上であることがさらに好ましく、30容量%以上である
ことが一層好ましく、40容量%以上であることがより
一層好ましく、50容量%以上であることがさらにより
一層好ましく、60容量%以上であることが最も好まし
い。
した(A)〜(D)の化合物を併用して用いる際の含有
量についても、特に制限はないが、高温でのガス化度合
いの点から、(A)〜(D)の化合物の合計量として絶
縁油全量基準で5容量%以上であることが好ましく、1
0容量%以上であることがより好ましく、20容量%以
上であることがさらに好ましく、30容量%以上である
ことが一層好ましく、40容量%以上であることがより
一層好ましく、50容量%以上であることがさらにより
一層好ましく、60容量%以上であることが最も好まし
い。
【0049】また、(A)〜(D)の化合物の中でも、
(A)の直鎖状アルキルベンゼンと(B)の化合物が高
温でのガス化度合いがより低く、これらを用いない場合
には、その高温でのガス化度合いをより低いレベルとす
るために合計量が30容量%以上であることが望まれ
る。さらに、高温でのガス化度合いの点から、下記式を
満たすことが好ましい。 V1+V2×0.17≧5(容量%) V1:(A)の直鎖状アルキルベンゼンおよび(B)の
化合物の合計量(容量%) V2:(A)の分枝状アルキルベンゼン、(C)および
(D)の化合物の合計量(容量%) なお、上記式において「V1+V2×0.17」は5容
量%以上であるが、10容量%以上であることが好まし
く、20容量%以上であることがより好ましく、30容
量%以上であることがさらに好ましく、40容量%以上
であることが一層好ましく、50容量%以上であること
がより一層好ましく、60容量%以上であることが最も
好ましい。
(A)の直鎖状アルキルベンゼンと(B)の化合物が高
温でのガス化度合いがより低く、これらを用いない場合
には、その高温でのガス化度合いをより低いレベルとす
るために合計量が30容量%以上であることが望まれ
る。さらに、高温でのガス化度合いの点から、下記式を
満たすことが好ましい。 V1+V2×0.17≧5(容量%) V1:(A)の直鎖状アルキルベンゼンおよび(B)の
化合物の合計量(容量%) V2:(A)の分枝状アルキルベンゼン、(C)および
(D)の化合物の合計量(容量%) なお、上記式において「V1+V2×0.17」は5容
量%以上であるが、10容量%以上であることが好まし
く、20容量%以上であることがより好ましく、30容
量%以上であることがさらに好ましく、40容量%以上
であることが一層好ましく、50容量%以上であること
がより一層好ましく、60容量%以上であることが最も
好ましい。
【0050】本発明に係る絶縁油は、上記した(A)〜
(D)の化合物の中から選ばれる少なくとも1種を含有
するものである。すなわち、本発明に係る絶縁油は、
(A)〜(D)の絶縁油だけで構成させていても良く、
また(A)〜(D)以外の他の絶縁油基油との混合物で
あっても良い。他の絶縁油基油としては、具体的には例
えば、原油を常圧蒸留及び滅圧蒸留して得られた潤滑油
留分を、溶剤脱れき、溶剤抽出、水素化分解、溶剤脱ろ
う、接触脱ろう、水素化精製、硫酸洗浄、白土処理等の
精製処理を適宜組み合わせて精製したパラフィン系、ナ
フテン系等の鉱油系絶縁油基油、ポリα−オレフィン
(例えば、ポリブテン、1−オクテンオリゴマー、1−
デセンオリゴマー等)、ジエステル(例えば、ジトリデ
シルグルタレート、ジ2−エチルヘキシルアジペート、
ジイソデシルアジペート、ジトリデシルアジペート、ジ
3−エチルヘキシルセバケート等)、ポリオールエステ
ル(例えば、トリメチロールプロパンカプリレート、ト
リメチロールプロパンペラルゴネート、ペンタエリスリ
トール2−エチルヘキサノエート、ペンタエリスリトー
ルペラルゴネート等)、ポリオキシアルキレングリコー
ル、ポリフェニルエーテル、シリコーン油、パーフルオ
ロアルキルエーテル等の合成系絶縁油基油、またはこれ
らの2種以上の混合物等が挙げられる。
(D)の化合物の中から選ばれる少なくとも1種を含有
するものである。すなわち、本発明に係る絶縁油は、
(A)〜(D)の絶縁油だけで構成させていても良く、
また(A)〜(D)以外の他の絶縁油基油との混合物で
あっても良い。他の絶縁油基油としては、具体的には例
えば、原油を常圧蒸留及び滅圧蒸留して得られた潤滑油
留分を、溶剤脱れき、溶剤抽出、水素化分解、溶剤脱ろ
う、接触脱ろう、水素化精製、硫酸洗浄、白土処理等の
精製処理を適宜組み合わせて精製したパラフィン系、ナ
フテン系等の鉱油系絶縁油基油、ポリα−オレフィン
(例えば、ポリブテン、1−オクテンオリゴマー、1−
デセンオリゴマー等)、ジエステル(例えば、ジトリデ
シルグルタレート、ジ2−エチルヘキシルアジペート、
ジイソデシルアジペート、ジトリデシルアジペート、ジ
3−エチルヘキシルセバケート等)、ポリオールエステ
ル(例えば、トリメチロールプロパンカプリレート、ト
リメチロールプロパンペラルゴネート、ペンタエリスリ
トール2−エチルヘキサノエート、ペンタエリスリトー
ルペラルゴネート等)、ポリオキシアルキレングリコー
ル、ポリフェニルエーテル、シリコーン油、パーフルオ
ロアルキルエーテル等の合成系絶縁油基油、またはこれ
らの2種以上の混合物等が挙げられる。
【0051】また、本発明の絶縁油としては、さらにそ
の優れた性能を高めるために、絶縁油用として公知の添
加剤を配合することも可能性である。具体的には例え
ば、ベンゾトリアゾール等の流動帯電防止剤、2,6−
ジターシャリーブチル−4−メチルフェノール(DBP
C)や2,6−ジターシャリーブチルフェノール等のフ
ェノール系酸化防止剤、フェニルナフチルアミン等のア
ミン系酸化防止剤、塩素化パラフィンとナフタリンの縮
合物、ポリメタクリレート、オレフィン重合物(エチレ
ン−プロピレンコポリマー、アルキル化ポリスチレン等
を含む)等の流動点降下剤等が挙げられる。これらの各
添加剤の含有量については何ら制限はないが、絶縁油全
量基準で通常5質量%以下であることが好ましく、1質
量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以下
(合計量)であることが最も好ましい。
の優れた性能を高めるために、絶縁油用として公知の添
加剤を配合することも可能性である。具体的には例え
ば、ベンゾトリアゾール等の流動帯電防止剤、2,6−
ジターシャリーブチル−4−メチルフェノール(DBP
C)や2,6−ジターシャリーブチルフェノール等のフ
ェノール系酸化防止剤、フェニルナフチルアミン等のア
ミン系酸化防止剤、塩素化パラフィンとナフタリンの縮
合物、ポリメタクリレート、オレフィン重合物(エチレ
ン−プロピレンコポリマー、アルキル化ポリスチレン等
を含む)等の流動点降下剤等が挙げられる。これらの各
添加剤の含有量については何ら制限はないが、絶縁油全
量基準で通常5質量%以下であることが好ましく、1質
量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以下
(合計量)であることが最も好ましい。
【0052】本発明の絶縁油の動粘度は、特に制限はな
いが、通常40℃で1mm2/s以上であることが好ま
しく、2mm2/s以上であることがより好ましい。ま
た、冷却性の点から40℃で30mm2/s以下である
ことが好ましく、20mm2/s以下であることがより
好ましく、10mm2/s以下であることがさらにより
好ましい。本発明の絶縁油の流動点は、特に制限はない
が、寒冷地対応の点から−30℃以下であることが好ま
しく、−35℃以下であることがより好ましい。本発明
の絶縁油の引火点(密閉式)は、特に制限はないが、取
扱性の点から130℃以上であることが好ましく、13
5℃以上であることがより好ましい。本発明の絶縁油の
全酸価は、特に制限はないが、腐食性の点から0.02
mgKOH/g以下であることが好ましく、0.01m
gKOH/g以下であることがより好ましい。本発明の
絶縁油の絶縁破壊電圧は、特に制限はないが、電気絶縁
性の点から30kV以上であることが好ましく、40k
V以上であることがより好ましい。本発明の絶縁油の誘
電正接(80℃、50Hz)は、特に制限はないが、誘
電損失の点から0.1%以下であることが好ましく、
0.05%以下であることがより好ましい。本発明の絶
縁油の体積抵抗率(80℃)は、特に制限はないが、電
気絶縁性の点から0.5TΩm以上であることが好まし
く、1TΩm以上であることがより好ましい。上記各性
状は、全てJIS C 2101により得られた値を示
す。
いが、通常40℃で1mm2/s以上であることが好ま
しく、2mm2/s以上であることがより好ましい。ま
た、冷却性の点から40℃で30mm2/s以下である
ことが好ましく、20mm2/s以下であることがより
好ましく、10mm2/s以下であることがさらにより
好ましい。本発明の絶縁油の流動点は、特に制限はない
が、寒冷地対応の点から−30℃以下であることが好ま
しく、−35℃以下であることがより好ましい。本発明
の絶縁油の引火点(密閉式)は、特に制限はないが、取
扱性の点から130℃以上であることが好ましく、13
5℃以上であることがより好ましい。本発明の絶縁油の
全酸価は、特に制限はないが、腐食性の点から0.02
mgKOH/g以下であることが好ましく、0.01m
gKOH/g以下であることがより好ましい。本発明の
絶縁油の絶縁破壊電圧は、特に制限はないが、電気絶縁
性の点から30kV以上であることが好ましく、40k
V以上であることがより好ましい。本発明の絶縁油の誘
電正接(80℃、50Hz)は、特に制限はないが、誘
電損失の点から0.1%以下であることが好ましく、
0.05%以下であることがより好ましい。本発明の絶
縁油の体積抵抗率(80℃)は、特に制限はないが、電
気絶縁性の点から0.5TΩm以上であることが好まし
く、1TΩm以上であることがより好ましい。上記各性
状は、全てJIS C 2101により得られた値を示
す。
【0053】
【実施例】実施例と比較例により、本発明の内容を更に
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限
定されるものではない。
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限
定されるものではない。
【0054】実施例および比較例の試料油として以下の
ものを用いた。 試料油1:直鎖状アルキルベンゼン 試料油2:フェニルキシリルエタン 試料油3:分岐状アルキルベンゼン 試料油4:精製鉱油 各試料油を単独で、および混合して実施例、比較例の絶
縁油とした。各絶縁油の性状を表1に示す。
ものを用いた。 試料油1:直鎖状アルキルベンゼン 試料油2:フェニルキシリルエタン 試料油3:分岐状アルキルベンゼン 試料油4:精製鉱油 各試料油を単独で、および混合して実施例、比較例の絶
縁油とした。各絶縁油の性状を表1に示す。
【0055】また、各絶縁油について、以下の方法によ
り高温ガス化試験を行った。高温ガス化試験 各絶縁油を、熱分解装置(PYROPROBE2000
(CDS INSTRUMENT))により800℃で
熱分解させ、発生したガスをガスクロマトグラフィーに
より分析した。なお、検出はFID法により行った。ガ
スクロマトグラフィーによる分析は、分解せずに残った
各絶縁油に起因するピークと、分解して生成した軽質成
分に起因するピークを測定し、軽質成分に起因するピー
クの割合を分解率とした。結果を表1に示す。
り高温ガス化試験を行った。高温ガス化試験 各絶縁油を、熱分解装置(PYROPROBE2000
(CDS INSTRUMENT))により800℃で
熱分解させ、発生したガスをガスクロマトグラフィーに
より分析した。なお、検出はFID法により行った。ガ
スクロマトグラフィーによる分析は、分解せずに残った
各絶縁油に起因するピークと、分解して生成した軽質成
分に起因するピークを測定し、軽質成分に起因するピー
クの割合を分解率とした。結果を表1に示す。
【0056】
【表1】
【0057】
【発明の効果】以上の結果から明らかなように、本発明
の絶縁油は高温における分解率が低くガス化度合いが低
いため、X線管を浸漬するための絶縁油として好適であ
る。このためX線管を本発明の絶縁油に浸漬し、且つ所
望によりこの絶縁油を循環させるように構成したX線管
装置は、X線管装置への過入力時の安全性をキープしな
がら、管容器の小型軽量化設計が可能となり、また、よ
り高い熱負荷で使用できる。
の絶縁油は高温における分解率が低くガス化度合いが低
いため、X線管を浸漬するための絶縁油として好適であ
る。このためX線管を本発明の絶縁油に浸漬し、且つ所
望によりこの絶縁油を循環させるように構成したX線管
装置は、X線管装置への過入力時の安全性をキープしな
がら、管容器の小型軽量化設計が可能となり、また、よ
り高い熱負荷で使用できる。
【図1】本発明のX線管装置の例としてのCTスキャナ
用X線管装置を示す。
用X線管装置を示す。
【符号の説明】 11 X線管 12 陰極構体 13 回転陽極ターゲット 14 絶縁油 15 管容器 15a X線透過窓 16 ホース 17 オイルクーラー 18 絶縁油循環用のポンプ 19 熱交換器 20 X線放射窓 21 安全弁
フロントページの続き (72)発明者 山本 豊 神奈川県横浜市中区千鳥町8番地 日石三 菱株式会社内 (72)発明者 川手 秀樹 神奈川県横浜市中区千鳥町8番地 日石三 菱株式会社内 Fターム(参考) 4H104 BA04A LA04 PA12
Claims (3)
- 【請求項1】 下記(A)〜(D)の中から選ばれる少
なくとも1種を含有するX線管浸漬用絶縁油。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物 【化1】 (一般式(1)において、R1は炭素数1〜8のアルキ
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物 【化2】 (一般式(2)において、R6、R7、R8およびR9は各
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物 【化3】 (一般式(3)において、R10、R11、R12およびR13
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。) - 【請求項2】 X線管と、X線管を収容する管容器と、
管容器内に封入した絶縁油を有するX線管装置におい
て、前記絶縁油は下記(A)〜(D)の中から選ばれる
少なくとも1種を含有するものであることを特徴とする
X線管装置。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物 【化4】 (一般式(1)において、R1は炭素数1〜8のアルキ
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物 【化5】 (一般式(2)において、R6、R7、R8およびR9は各
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物 【化6】 (一般式(3)において、R10、R11、R12およびR13
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。) - 【請求項3】 X線管と、X線管を収容する管容器と、
管容器内に封入した絶縁油と、管容器と連通し絶縁油を
循環させるポンプおよび絶縁油の熱を外部へ放出させる
熱交換器を有するオイルクーラーユニットとを備えたX
線管装置において、前記絶縁油は下記(A)〜(D)の
中から選ばれる少なくとも1種を含有するものであるこ
とを特徴とするX線管装置。 (A)アルキルベンゼン (B)下記一般式(1)で表される化合物 【化7】 (一般式(1)において、R1は炭素数1〜8のアルキ
レン基またはアルケニレン基を示し、R2、R3、R4お
よびR5は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ
別個に水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示
し、かつR1、R2、R3、R4およびR5の合計炭素数が
1〜8である。) (C)下記一般式(2)で表される化合物 【化8】 (一般式(2)において、R6、R7、R8およびR9は各
々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水素原
子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R6、R7、R8及びR9の合計炭素数が1〜10であ
る。) (D)下記一般式(3)で表される化合物 【化9】 (一般式(3)において、R10、R11、R12およびR13
は各々同一でも異なっていても良く、それぞれ別個に水
素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を示し、かつ
R10、R11、R12及びR13の合計炭素数が1〜10であ
る。)
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JP2000386443 | 2000-12-20 | ||
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013020792A (ja) * | 2011-07-11 | 2013-01-31 | Canon Inc | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
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-
2001
- 2001-12-20 JP JP2001388136A patent/JP2002265967A/ja active Pending
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