JP2002260899A - プラズマ処理装置用電源システム - Google Patents
プラズマ処理装置用電源システムInfo
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Abstract
が容易で整合時間が短縮され、かつプラズマが均一にな
り、生成する膜厚の均一性及び再現性の向上を図ること
ができるプラズマ処理装置用電源システムを提供する。 【解決手段】 一端が給電端であり他端が接地電位であ
るU字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、
VHF帯域のプラズマ発生用電源の出力を、1つの電源
から分配器を用いて複数のU字型電極の給電端に分配し
て供給する。分配された出力をアイソレーターを介して
供給すれば、整合器等で負荷プラズマとのインピーダン
ス整合を省略することができ、また、移相器等により位
相を制御することもできる。
Description
では、プラズマCVD法等のプラズマ処理プロセスが広
く応用されている。本発明はこのようなプラズマ処理プ
ロセスに適したプラズマ処理装置用電源システムに関す
る。
バイスの大面積化、かつ高集積化の傾向にあり、それに
用いられるプラズマ源として、低圧力下で高密度・大□
径のプラズマ発生技術が要求されている。
に利用されるアモルファスシリコン薄膜を形成するプラ
ズマCVD装置では、大面積のプラズマ放電を実現する
ために、本発明者らは先に真空容器内に複数のU字型電
極を設ける方式を提案した(特願2000一05658
4)。このプラズマCVD装置は、真空容器内に配置さ
れた誘導結合型の電極を備える内部電極方式のプラズマ
処理装置であって、電極は線状導体をその中央部で折り
返して形成されたU字型の形態を有し、その電極の折り
返して形成された部分に半波長の定在波が立つようにこ
の電極の端部に高周波を供給して電極の周囲に放電を作
り、プラズマを生成するように構成されている。
数は、当該U字型電極の長さとの関係で決められてを
り、均一なプラズマを生成するために、従来から利用さ
れていた通常の高周波(例えば13.56MHz)より
も高い60MHz以上のVHF帯の高周波が採用されて
いる。
システムとしては、図5に示すように、プラズマ生成室
7に備えた複数のU字型電極の給電端6のそれぞれに高
周波電源1の出力を供給するために、通常は電極の個数
と同数の、高周波電源1及び整合器3の組み合わせを配
置している。
電源供給システムでは、高周波電源及び整合器のセット
が、使用する電極の数だけ必要となるため、コスト的
に非常に高価である。沢山の高周波電源と整合器のセ
ットを配置するため広いスペースが必要である。特に整
合器については、通常給電端の出来るだけ近くに配置す
るのが望ましいので,プラズマ生成室の周囲の構成が複
雑になる。装置の運転上、制御が複雑になる。装置
のメインテナンスが大変である、等の問題がある。
端の近傍に配置できないので、各高周波電源から給電端
までの距離が独立した構成となり、各U字型電極に印加
される高周波の電圧位相がバラバラとなるため、プラ
ズマの安定性、均一性が悪くなる。形成された薄膜の
膜厚の分布が悪くなる、などの問題も生ずる。
る煩雑な手間を要せず、取り扱いが容易で整合時間が短
縮され、かつプラズマが均一になり、生成する膜厚の均
一性及び再現性の向上を図ることができるプラズマ処理
装置用の電源システムを提供することを目的とする。
た複数のU字型電極を設ける方式のプラズマ処理装置に
好適な電源システムを提供することを目的とする。
めの本発明は、一端が給電端であり他端が接地電位であ
るU字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、
VHF帯域のプラズマ発生用電源の出力を、1つの電源
から分配器を用いて前記複数の電極の給電端に分配して
供給することを特徴とするプラズマ処理装置用の電源シ
ステムである。
源システムにおいては、VHF帯高周波電源の出力を分
配器で複数に分配した後、整合器等で負荷プラズマとの
インピーダンス整合を行なう代わりに、アイソレーター
を介して直接プラズマ生成室の複数の電極の給電端に結
合することができる。
ラズマ発生用電源の出力のうち、一つの電極に供給され
る出力の位相を基準として、他の電極に供給される出力
の位相をそれぞれ調整可能にすることができる。すなわ
ち、プラズマ生成室内の電極にかかる電圧の位相を、プ
ラズマ発生の状況あるいは形成された膜厚分布等を監視
しながら、最適の状態になるように、任意に可変設定す
ることができる。
電端であり他端が接地電位であるU字型電極を複数備え
たプラズマ処理装置において、VHF帯域のプラズマ発
生用電源の出力を、1つの電源から分配器を用いて前記
複数の電極に分配して供給し、その分配されたプラズマ
発生用電源の出力を、それぞれアイソレーターを介して
前記複数の電極の給電端に直結し、さらに、例えば分配
器と各アイソレーターとの間に移相器を挿入し、分配さ
れたプラズマ発生用電源の出力のうち、一つの電極に供
給される出力の位相を基準として、他の電極に供給され
る出力の位相をそれぞれ調整可能にしたことを特徴とす
るプラズマ処理装置用の電源システムを提供する。
理装置用の電源システムの実施の形態について図面を用
いて説明する。図1は、1つの高周波電源の出力を、分
配器を用いて5つのU字型電極に分配した本発明による
電源システムの系統図の1例である。図1において、1
は高周波電源である。本図示例では電極の形状により最
適な周波数を見つけるため、周波数は可変方式とし85
MHz±10MHzとした。出力は3KWである。
生した高周波出力をプラズマ生成室7内の複数の電極
(出力端子)6に均等に分配するシステムである。図示
例は5個の電極に分配する例を示したが、さらに多く、
例えば16個の電極に分配する実施例などもある。本発
明では、コスト的な事を考慮し、同軸管の1/4波長整
合法による分配器を採用した。3は整合器で、図5に示
した方式の複数の電源を備えた電源システムで用いる場
合の整合器と同じものである。
る機能としては、分配比率の偏差が少ないこと、挿
入損失が少ないこと、出力間の干渉が少ない(出力端
子間のアイソレーションが大きい)こと、入力端子の
VSWR特性が良いこと、および形状が小さいこと、
などである。
岐、ハイブリッド分配器、ならびにWilkinson
型分配器などがある。最も簡単な方法としては抵抗器だ
けを用いた分配器がある。これは設計が容易で広帯域化
でき、大きさも抵抗体の大きさ程度でまとまるという利
点はあるが、上記のおよびの特性を満足しないとい
う欠点がある。すなわち、挿入損失が大きく、また出力
端子間のアイソレーションがとれない、さらに抵抗器の
周波数特性がVHF帯では良好でないなどの問題点があ
るために実際のVHF帯の高周波回路ではあまり使用さ
れない。
器)がよく用いられる。これは出力端子間のアイソレー
ションがとれることが特長である。ハイブリッド回路に
は出力の位相差が90°の方向性結合器や出力が同相の
ラットレースなどがある。これらを構成する構造として
UHF帯では分布定数線路(1/4波長などの)が、ま
たVHF帯ではフェライトのトロイダルコアなどが使用
されている。分配器の方式として2分配器を多段接続す
る方法もあるが、形状が大きくなるのが難点である。
い場合に適した分配方式であるが、出力端子間のアイソ
レーションをとるために分岐線路間にアイソレーション
用抵抗が必要になる。本発明で使用する方式はWilk
inson型ではなくT分岐方式である。T分岐方式は
出力端子をいきなり等分配するので構造が簡単である
が、出力端子間のアイソレーションはとれない。しか
し、負荷側にアイソレータやサーキュレータがある場合
は出力端子間のアイソレーションがとれるのでT分岐を
使用するには都合が良いからである。
1/4波長線路を用いた分配器の例を示したもので、8
は分配器の入力端子、9が1/4波長線路、10は分配
器の出力端子である(出力端子が5つの場合を例示)。
負荷インピーダンスをR1とし、1/4波長線路9の特
性インピーダンスをWとすれば、その入力インピーダン
スはR1/W2 で表される。つまり1/4波長線路は
インピーダンス反転作用がある。
ピーダンスをRg、負荷インピーダンスをR1とすれ
ば、1/4波長線路の特性インピーダンスWは√(Rg
・R1/N)と選べばよい。実際には多段の場合はこの
1/4波長線路の特性インピーダンスWの実現し易さの
関係でその入力側にさらに1/4波長線路を設けること
もある。
合は、その特性インピーダンスWはその同軸管の内導体
の外径と外導体の内径との比率で決まる、いわば機械的
寸法で決まるので、整合をとるための調整等は不要にな
り非常に簡単である。通常の場合のように使用周波数が
1周波数でよいならこの伝送線路の1/4波長の段数は
1段でよいが、周波数が85±10MHzと帯域が広い
場合は、周波数特性を改善するために1/4波長線路を
2段にして整合をとっている。
として、図1の分配器によって5つに分配された高周波
電源の出力を、それぞれアイソレーター4を介して直接
プラズマ生成室の電極の給電端へ供給した場合の系統図
である。アイソレーター4を図1の整合器3の代わりに
使用すれば、負荷プラズマの変動により高周波電源の出
力が影響を受けてプラズマ処理の動作が不安定になると
いう問題を防止することができるので、整合器を省略し
て整合をとる手間が省かれ、時間短縮が図られる。ま
た、整合器内における電力損失がないから、電源出力が
効率的に電極に供給されることになる。
の1例として、図3に示した電源システムにおいて、分
配器2とアイソレーター4の間にさらに移相器5を追加
挿入した電源システム系統図である。図4の電源システ
ムでは、分配されたプラズマ発生用電源の出力の中、一
つの電極に供給される出力の位相を基準として、他の電
極に供給される出力の位相を移相器5を用いてそれぞれ
調整することができ、プラズマの発生が均一になるの
で、処理される膜厚の均一性及び再現性を向上させるこ
とができる。
プラズマ処理装置用の電源システムにおいて、VHF帯
高周波電源の出力を一つの電源から分配器を用いて複数
に分配することにより、沢山の電源を配置した従来の方
式に比べて必要コストが少なくなると共に、取り扱いが
容易になった。
介して直接電極に高周波電源の出力を供給する電源シス
テムを採れば、整合をとる煩雑な手間がなくなり、整合
がとれるまでに要した時間に関係なくプラズマ処理がで
きるので、時間が短縮され、さらに整合器内での電力損
失分がないので、高周波電源の出力が効率良くプラズマ
内に供給されるようになる。
器等を挿入する電源システムを採れば、各電極に供給さ
れる高周波の位相を制御できるようにしたことにより、
プラズマの発生が均一になり、プラズマ処理される膜厚
の均一性及び再現性を向上させることが可能となる。
複数のU字型電極を設ける方式のプラズマ処理装置に適
用することにより極めて顕著な効果を奏するものであ
る。
の1例を示す系統図
電した場合の例
系統図
16)
に利用されるアモルファスシリコン薄膜を形成するプラ
ズマCVD装置では、大面積のプラズマ放電を実現する
ために、真空容器内に複数のU字型電極を設ける方式が
提案されている。このプラズマCVD装置は、真空容器
内に配置された誘導結合型の電極を備える内部電極方式
のプラズマ処理装置であって、電極は線状導体をその中
央部で折り返して形成されたU字型の形態を有し、その
電極の折り返して形成された部分に半波長の定在波が立
つようにこの電極の端部に高周波を供給して電極の周囲
に放電を作り、プラズマを生成するように構成されてい
る。
のプラズマ処理装置に好適な電源システムを提供するこ
とを目的とする。
のプラズマ処理装置に適用することにより極めて顕著な
効果を奏するものである。
Claims (3)
- 【請求項1】 一端が給電端であり他端が接地電位であ
るU字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、
VHF帯域のプラズマ発生用電源の出力を、1つの電源
から分配器を用いて前記複数の電極の給電端に分配して
供給することを特徴とするプラズマ処理装置用電源シス
テム。 - 【請求項2】 分配されたプラズマ発生用電源の出力
を、それぞれアイソレーターを介して前記複数の電極の
給電端に直結したことを特徴とする請求項1記載のプラ
ズマ処理装置用電源システム。 - 【請求項3】 分配されたプラズマ発生用電源の出力の
うち、一つの電極に供給される出力の位相を基準とし
て、他の電極に供給される出力の位相をそれぞれ調整可
能にしたことを特徴とする請求項2記載のプラズマ処理
装置用電源システム。
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