JP2002245108A - Device for editing master pattern of semiconductor integrated circuit - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate editing selection work of a master pattern in a semiconductor integrated circuit. SOLUTION: A graphic displayed on the screen of a display device is selected by coordinates designation, a tree structure showing hierarchies, a graphic type included in a corresponding hierarchy and a layer type are graphically displayed with respect to a graphic existing on the coordinates selected by the coordinates designation, and a graphic to be selected is designated from the displayed data and so that a hierarchical cell to which the designated graphic belongs and the designated graphic can be edited.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、ＬＳＩ設計における
マスクパターンの作成・編集を行う半導体集積回路のマ
スクパターン編集装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask pattern editing apparatus for a semiconductor integrated circuit for creating and editing a mask pattern in LSI design.

【０００２】[0002]

【従来の技術】半導体製造プロセスの複雑化と微細化に
伴い、マスクパターンを構成するレイヤ数が増加し、ま
た個々の図形も小さくなってきている。2. Description of the Related Art Along with the complexity and miniaturization of a semiconductor manufacturing process, the number of layers constituting a mask pattern is increasing, and individual figures are becoming smaller.

【０００３】このため、マスクパターン編集装置を用い
て、マスクパターンを編集する場合には、編集対象とす
る図形の重なりが増加して編集対象を容易に選択するこ
とができにくくなっている。For this reason, when editing a mask pattern using a mask pattern editing apparatus, the overlap of figures to be edited increases, making it difficult to easily select an editing object.

【０００４】一方、階層状の複数のレイヤを画面に有す
るレイアウト編集装置が特開平７−２９６０２４号公報
に開示されている。この公報に開示された技術は、コン
ピュータ上で絵や写真の製作や編集を行うレイアウト編
集装置に関し、選択を行う領域以外の図形を半透明化し
て表示し、選択対象を分かり易く表示する方法と、図形
に対して図形よりも小さいアイコンを重ならないように
表示し、これを選択することで、アイコンに対する図形
が選択できるようにしたものである。On the other hand, a layout editing apparatus having a plurality of hierarchical layers on a screen is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-296024. The technology disclosed in this publication relates to a layout editing apparatus that produces and edits pictures and photographs on a computer, a method for displaying a figure other than an area to be selected in a semi-transparent manner, and displaying a selection target in an easily understandable manner. An icon smaller than the graphic is displayed so as not to overlap the graphic, and by selecting this, a graphic corresponding to the icon can be selected.

【０００５】半導体製造プロセスにおけるマスクパター
ンは、個々の図形だけでは意味のある形をなさず、ま
た、小さな図形で構成されることが多い。このことが、
上記した単なる絵や写真との編集とは大いに異なる。し
かも、階層の木構造等を考慮せずに、図形だけを選択
し、編集すれば、製造プロセスなどに影響を及ぼし、半
導体装置のレイアウト自体がおかしくなるなどの問題が
ある。このため、上記のように、図形のみを選択し、編
集するものを半導体集積回路におけるマスクパターン編
集装置に適用することはできない。[0005] A mask pattern in a semiconductor manufacturing process does not form a meaningful shape only with individual figures, and is often composed of small figures. This is
It is very different from the above-mentioned editing with pictures and photographs. In addition, if only a figure is selected and edited without considering a hierarchical tree structure or the like, there is a problem that the manufacturing process is affected and the layout itself of the semiconductor device becomes strange. For this reason, as described above, a device for selecting and editing only a figure cannot be applied to a mask pattern editing apparatus in a semiconductor integrated circuit.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記した
従来の問題点を解決するためになされたものにして、半
導体集積回路におけるマスクパターンの編集選択作業を
容易にすることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to facilitate the operation of editing and selecting a mask pattern in a semiconductor integrated circuit.

【０００７】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明は、階層構造と
複数のレイヤを扱うことができる半導体集積回路のマス
クパターン編集装置において、表示装置の画面上に表示
される図形を選択する手段と、座標指定により選択され
た座標に存在する図形について、階層を示す木構造と該
当する階層に含まれる図形の種別、レイヤ種別をグラフ
ィカルに表示する表示手段と、前記表示されたデータか
ら選択すべき図形を指定する手段と、前記指定された図
形が属する階層セルおよび指定された図形を編集可能状
態にする手段と、を備えたことを特徴とする。According to the present invention, there is provided a mask pattern editing apparatus for a semiconductor integrated circuit capable of handling a hierarchical structure and a plurality of layers, a means for selecting a figure to be displayed on a screen of a display device, Display means for graphically displaying a tree structure indicating a hierarchy, a type of a figure included in the corresponding hierarchy, and a layer type, for a graphic present at coordinates selected by the coordinate designation, and a graphic to be selected from the displayed data And means for setting the hierarchical cell to which the specified graphic belongs and the specified graphic in an editable state.

【０００８】上記構成によれば、階層を示す木構造（レ
ベルと階層セル名）と該当する階層に含まれる図形の種
別、レイヤ種別をグラフィカル（矩形、ポリゴン、テキ
スト種別等であり、図形種別に応じたマークをその図形
に設定されている色やハッチパターンを用いて表示）に
表示することで、選択すべき図形を容易に判断でき、マ
スクパターンの編集選択作業が容易に行える。According to the above structure, the tree structure (level and hierarchical cell name) indicating the hierarchy and the type of graphic and the layer type included in the corresponding hierarchy are graphical (rectangular, polygon, text type, etc.). By displaying the corresponding mark on the display using the color or hatch pattern set for the figure, the figure to be selected can be easily determined, and the editing and selecting operation of the mask pattern can be easily performed.

【０００９】さらに、この発明は、表示する選択条件を
設定する手段を備え、前記表示手段に、予め設定されて
いる選択条件に基づき選択可能であるもののみを表示す
るように構成するとよい。The present invention may further comprise means for setting a selection condition to be displayed, and the display means may be configured to display only those which can be selected based on a preset selection condition.

【００１０】上記のように構成することで、レイヤ、図
形種別、階層などの選択条件を満たすものだけを表示で
きるので、より選択すべき図形の選択作業が容易にな
る。[0010] With the above-described configuration, only those satisfying the selection conditions such as the layer, the graphic type, and the hierarchy can be displayed.

【００１１】[0011]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につき
図面を参照して説明する。図１は、この発明が適用され
るマスクパターン編集装置の全体構成を示すブロック図
である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of a mask pattern editing apparatus to which the present invention is applied.

【００１２】図１において、１は、ＣＰＵなどを備えた
処理装置であり、後述した処理動作に従いマスクパター
ンの編集処理を行うものである。２は、入力装置として
のキーボードであり、編集操作のためのコマンド等を入
力する。３は、マウスなどのポインティングデバイスで
あり、編集操作のコマンド入力や表示に際してＧＵＩ
（Graphical user interface）で指示を行う場合に使用
する。このポインティングデバイスはマウスに限らず、
タブレットやトラックボール等の他のポインティングデ
バイスを用いることができる。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a processing device having a CPU and the like, which performs a mask pattern editing process in accordance with a processing operation described later. Reference numeral 2 denotes a keyboard as an input device for inputting commands and the like for editing operations. Reference numeral 3 denotes a pointing device such as a mouse, which is used for inputting and displaying commands for editing operations,
(Graphical user interface). This pointing device is not limited to a mouse,
Other pointing devices such as tablets and trackballs can be used.

【００１３】４は、ハードディスク等で構成された記憶
装置であり、マスクパターンデータ等を格納する。５
は、ＣＲＴ、液晶ディスプレイなどの表示装置であり、
マスクパターンを表示する。また、図示はしていない
が、このマスクパターン編集装置はプリンタ等の出力装
置を備える。Reference numeral 4 denotes a storage device constituted by a hard disk or the like, which stores mask pattern data and the like. 5
Is a display device such as a CRT or a liquid crystal display,
Display the mask pattern. Although not shown, the mask pattern editing apparatus includes an output device such as a printer.

【００１４】上記したマスクパターン編集装置は、階層
構造と複数のレイヤを扱うことができるように構成さ
れ、記憶装置４にマスクパターンデータが格納されてい
る。表示装置５に、記憶装置４から読み出されたマスク
パターンデータに基づき、処理装置１が表示装置５に所
定のマスクパターンの図形を表示する。編集作業を行う
には、ポインティングデバイス３を用いて、表示装置５
に表示されている図形を座標指定により選択する。そし
て、このマスクパターン編集装置においては、処理装置
１は、指定された座標に存在する図形について、表示装
置５に階層を示す木構造（レベルと階層セル名）と該当
する階層に含まれる図形の種別、レイヤ種別をグラフィ
カルに表示させるように構成している。この表示は、例
えば、矩形、ポリゴン、テキスト種別等であり、図形種
別に応じたマークをその図形に設定されている色やハッ
チパターンを用いて表示する。The above-described mask pattern editing apparatus is configured so as to be able to handle a hierarchical structure and a plurality of layers, and the storage device 4 stores mask pattern data. Based on the mask pattern data read from the storage device 4 on the display device 5, the processing device 1 displays a graphic of a predetermined mask pattern on the display device 5. In order to perform editing work, the pointing device 3 is used to
Is selected by designating the coordinates. In the mask pattern editing device, the processing device 1 determines, for the graphic present at the designated coordinates, the tree structure (level and hierarchical cell name) indicating the hierarchy on the display device 5 and the graphic included in the corresponding hierarchy. The type and layer type are configured to be displayed graphically. This display is, for example, a rectangle, a polygon, a text type, or the like, and a mark corresponding to the graphic type is displayed using a color or a hatch pattern set for the graphic.

【００１５】また、この表示の際は、処理装置１は、レ
イヤ、図形種別、階層など予め設定されている選択条件
を考慮して選択可能であるものを表示装置５で表示する
ように制御するようにも構成できる。At the time of this display, the processing device 1 controls the display device 5 to display selectable items in consideration of preset selection conditions such as layers, graphic types, and hierarchies. It can be configured as follows.

【００１６】表示されたデータから選択すべき図形が、
ポインティングデバイス３や入力装置２より指定される
ことで、この指定された図形が属する階層セルおよび指
定された図形が編集可能状態にされ、マスクパターンの
編集を行うことができる。A figure to be selected from the displayed data is
By being designated by the pointing device 3 or the input device 2, the hierarchical cell to which the designated figure belongs and the designated figure are made editable, and the mask pattern can be edited.

【００１７】次に、この発明の動作を図２のフローチャ
ートに従い説明する。ここでは、マスクパターン編集装
置について、マスクパターンの編集を行う際に、修正を
行う図形を指定する場合の処理フローについて説明す
る。Next, the operation of the present invention will be described with reference to the flowchart of FIG. Here, a description will be given of a processing flow in the case of specifying a figure to be corrected when editing a mask pattern in the mask pattern editing apparatus.

【００１８】図形の修正は、編集の対象となる図形を指
定してから、実際の編集作業（例えば、削除や移動、複
写等）を行う作業動作となる。Modifying a figure is a work operation in which a figure to be edited is specified and then actual editing work (for example, deletion, movement, copying, etc.) is performed.

【００１９】まず、ステップＳ１では、編集操作の対象
となる図形を選択する。これは、ポインティングデバイ
ス３あるいはキーボードなどの入力装置２からの座標入
力で図形の座標を指定する作業であり、操作者が実行す
るものである。First, at step S1, a figure to be edited is selected. This is a task of designating the coordinates of the graphic by inputting coordinates from the input device 2 such as the pointing device 3 or the keyboard, and is executed by the operator.

【００２０】続いて、ステップＳ２では、指定された座
標に存在する選択対象となる図形リストを作成する。指
定された座標に存在する図形を得るためには、指定座標
のあらかじめ指定されている選択範囲内の図形の辺から
の距離や図形内に指定座標が含まれている等の条件を考
慮して行うが、これは通常のマスクパターン編集装置に
含まれる既存記述である。Then, in step S2, a list of figures to be selected existing at the designated coordinates is created. In order to obtain a figure that exists at the specified coordinates, the conditions such as the distance of the specified coordinates from the side of the figure within the previously specified selection range and the fact that the specified coordinates are included in the figure are considered. This is an existing description included in a normal mask pattern editing apparatus.

【００２１】図形リストには、図形の種別（セル、幅付
線分、矩形、円、楕円、円弧、テキスト等の種別）、レ
イヤ種別、座標データが格納される。実際には、これら
のデータは通常の図形データベースに保持しているた
め、この保持されているポインタ（タグ）を格納するこ
とでも対応できる。この場合はポインタを介した間接参
照となる。さらに、加えて図形リストには、図形が属す
る階層レベル、セル情報も格納される。The figure list stores the figure types (types such as cells, line segments with a width, rectangles, circles, ellipses, arcs, and texts), layer types, and coordinate data. Actually, since these data are stored in a normal graphic database, it is also possible to store the stored pointers (tags). In this case, indirect reference is made via a pointer. In addition, the figure list also stores the hierarchy level to which the figure belongs and cell information.

【００２２】ステップＳ３では、ステップＳ２で得られ
た図形数が複数か否か判断し、ステップＳ２にて得られ
た図形が一つである場合は、必然的にこの後の選択操作
は不要となるため、ステップＳ７に進み、対称図形を編
集可能な状態にする。In step S3, it is determined whether or not the number of figures obtained in step S2 is plural. If the number of figures obtained in step S2 is one, it is inevitable that the subsequent selection operation is unnecessary. Therefore, the process proceeds to step S7, and the symmetrical figure is made editable.

【００２３】また、ステップＳ２で得られた図形数が複
数である場合は、この発明の特徴的な処理である、ステ
ップＳ４以降の処理に移る。If there are a plurality of figures obtained in step S2, the process proceeds to step S4 and subsequent steps, which is a characteristic process of the present invention.

【００２４】ステップＳ４では、図形リストを図形の属
性により分類する。ここで、図形の属性とは、ステップ
Ｓ２での図形の種別、レイヤ種別、階層レベルのことで
ある。In step S4, the graphic list is classified according to the attributes of the graphic. Here, the attributes of the figure refer to the figure type, layer type, and hierarchy level in step S2.

【００２５】ステップＳ５では、ステップＳ４で得られ
た分類にしたがって表示装置５にリストを表示する。リ
スト表示では、階層構造を考慮し、図形種別に応じたマ
ークをその図形に設定されている色やハッチパターンを
用いてグラフィカルに表示する。In step S5, a list is displayed on the display device 5 according to the classification obtained in step S4. In the list display, in consideration of the hierarchical structure, a mark corresponding to a figure type is graphically displayed using a color or a hatch pattern set for the figure.

【００２６】また、この場合にあらかじめ設定されてい
る選択条件を”満たす/満たさない”の区別をつけて表
示を行う。この表示区別は、色を変える、あるいは満た
さないものは薄くかすれたように表示をすることで行え
ばよい。また、選択条件を満たさないものは、表示を行
わないようにしても良い。In this case, the display is made with a distinction of “satisfied / not satisfied” with the preset selection condition. This display distinction may be made by changing the color or displaying a color that is not satisfied by fading slightly. In addition, those that do not satisfy the selection condition may not be displayed.

【００２７】次に、ステップＳ６に進む。ステップＳ６
では、ステップＳ５で表示されたリストで操作者が編集
対象としたい図形をリストから選択する操作である。こ
の場合、複数の指定を可能とし、かつ、ステップＳ５で
の選択条件を満たさないものについては選択できないも
のとしている。Next, the process proceeds to step S6. Step S6
In this example, the operator selects a graphic to be edited from the list displayed in step S5. In this case, it is assumed that a plurality of designations can be made, and those that do not satisfy the selection conditions in step S5 cannot be selected.

【００２８】続いて、ステップＳ７では、ステップＳ６
で選択された対象の図形を編集可能状態とする。編集可
能状態であることを操作者に示すには、ハイライト表示
や点滅、ハンドル表示等の表示方法があるがこれについ
ては通常の表示技術を用いればよい。ただし、ステップ
Ｓ３の結果対象が一つで、選択条件を満たさない場合
は、編集可能状態にならない。Subsequently, in step S7, step S6
The target figure selected in is set to an editable state. There are display methods such as highlight display, blinking, and steering wheel display to indicate to the operator that the editing is possible. For this, a normal display technique may be used. However, if there is only one target as a result of step S3 and the selection condition is not satisfied, the edit target is not set.

【００２９】以上の動作により、マスクパターン編集時
の選択操作において、編集対象となる図形指定を容易に
することができる。選択対象となった図形の実際の編集
操作については既存のマスクパターン編集装置での動作
に従って行われる。With the above operation, it is possible to easily specify a graphic to be edited in a selection operation when editing a mask pattern. The actual editing operation of the selected figure is performed according to the operation of the existing mask pattern editing apparatus.

【００３０】次に、具体的実施例につき図３ないし図９
を参照して説明する。Next, a specific embodiment will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG.

【００３１】図３に編集する図形を選択する際の例とな
る図形を示す。これらは、図４に示される５つの図形が
重なったものである。例えば、図４では、配線１０、注
入領域２０、フィールド領域３０、ポリシリコン４０、
属性の５種類が示されている。例えば、配線１０は幅付
線分、注入領域２０は矩形、フィールド領域３０多角
形、ポリシリコン４０は矩形で表示される。FIG. 3 shows a figure as an example when a figure to be edited is selected. These are obtained by overlapping the five figures shown in FIG. For example, in FIG. 4, the wiring 10, the implantation region 20, the field region 30, the polysilicon 40,
Five types of attributes are shown. For example, the wiring 10 is displayed as a line segment with a width, the injection region 20 is displayed as a rectangle, the field region 30 is displayed as a polygon, and the polysilicon 40 is displayed as a rectangle.

【００３２】図４に基づいて個々の図形についてさらに
説明する。これらの図形は"ＴＯＰ"という最上位階層の
セルに含まれる図形とする。ここでは最上位階層を０レ
ベルとして、階層が深くなると順に１づつ増加するもの
とする。The individual figures will be further described with reference to FIG. These figures are figures included in the cell of the highest hierarchy called "TOP". Here, it is assumed that the highest hierarchy is 0 level, and the hierarchy increases by 1 as the hierarchy becomes deeper.

【００３３】表１は図４での上の図形から順に示し、図
形種別、属するセル、階層レベル、レイヤ種別を示して
いる。Table 1 shows the graphic type, the cell to which it belongs, the hierarchy level, and the layer type in order from the upper figure in FIG.

【００３４】[0034]

【表１】 [Table 1]

【００３５】尚、実際のマスクパターン編集装置では、
カラー表示が常識となっている。しかし、ここでは白黒
表示の例として示す。In an actual mask pattern editing apparatus,
Color display is common sense. However, here, an example of monochrome display is shown.

【００３６】図３において、図の中央部分を編集操作の
対象となる図形として座標指定した場合(ステップＳ１)
について説明する。In FIG. 3, when the coordinates of the center of the figure are designated as a figure to be edited (step S1)
Will be described.

【００３７】選択条件の一つとして、指定された座標の
指定された範囲内の図形および座標が図形に含まれるも
のとすると、この場合は、図４に示す５つの図形全てが
対象となる。As one of the selection conditions, if the figure includes a figure and coordinates within the specified range of the specified coordinates, in this case, all five figures shown in FIG. 4 are targeted.

【００３８】この個々の図形について、図形リストを作
成する(ステップＳ２)。図形情報としては先に示したも
のと同じ情報に加えて、座標データが格納されることと
なるが、上記した動作の説明で示した通り、座標データ
のみが間接参照になる場合や、このリストの各項目毎に
各々がデータベース中の図形情報を示すポインタの間接
参照になる構成もとることができる。A figure list is created for each of these figures (step S2). As the graphic information, in addition to the same information as described above, coordinate data will be stored. However, as described in the above description of the operation, only the coordinate data is indirectly referenced, May be indirectly referenced for each item of the pointer indicating graphic information in the database.

【００３９】この例では、複数の図形が対象となってい
るため、ステップＳ３の処理では、次にステップＳ４の
処理に移る。In this example, since a plurality of figures are targeted, the process of step S3 proceeds to the process of step S4.

【００４０】ステップＳ４では、図形リストを図形の属
性により分類する処理であるが、これには画一的な方法
で行うのではなく、あらかじめ指定された方法で表示で
きるものとする。In step S4, the graphic list is classified according to the attributes of the graphic. This processing is not performed by a uniform method but can be displayed by a method designated in advance.

【００４１】この例としては、階層の上から順、レイヤ
種別の小さいもの順、図形種別ごとにまとめるといった
ものがある。As an example of this, there is an order from the top of the hierarchy, the order of the smallest layer type, and the grouping by graphic type.

【００４２】次に、リスト表示を行う(ステップＳ５)。
この例を図５に示す。Next, a list is displayed (step S5).
This example is shown in FIG.

【００４３】図５では、６行の表示となっており、一行
目は表示種別・順序の表示である。２行目以降が実際の
選択可能な図形についての情報表示となる。In FIG. 5, six lines are displayed, and the first line shows the display type and order. The second and subsequent lines are information displays for the actual selectable figures.

【００４４】この例では、左から図形の属する階層レベ
ル、図形の属するセル、図形種別、レイヤ種別の表示と
なっている。In this example, the hierarchy level to which the figure belongs, the cell to which the figure belongs, the figure type, and the layer type are displayed from the left.

【００４５】各表示を区切るための例としてここではハ
イフン"−"を使用している。図形種別は、図６のマーク
のグラフィック表示説明に示すようになっている。As an example for separating each display, a hyphen "-" is used here. The graphic type is as shown in the graphic display description of the mark in FIG.

【００４６】実際の表示では、図形のレイヤ種別にした
がった色、およびハッチパターンを用いて表示すること
により、図形種別が分かりやすくなるように表示を行え
ばよい。In the actual display, the display may be performed so that the graphic type can be easily understood by displaying the color and the hatch pattern according to the layer type of the graphic.

【００４７】テキストについては、そのテキスト文字列
の表示も行っている。各行は図形の属する階層レベルに
応じて段付けを行って表示している。As for text, the text character string is also displayed. Each row is displayed in a stepped manner according to the hierarchical level to which the figure belongs.

【００４８】図７には、図５での表示の応用として、あ
らかじめ設定されている選択条件を”満たす/満たさな
い”の区別を網掛けで表示している。この例では、２行
目の幅付線分が条件を満たさない図形であることを示し
ている。FIG. 7 shows, as an application of the display in FIG. 5, the distinction of “satisfied / not satisfied” with the preset selection condition is shaded. This example shows that the line segment with width in the second row is a figure that does not satisfy the condition.

【００４９】図８では、リスト表示だけではなく、選択
のための座標入力位置の近傍にリストを表示したもので
ある。In FIG. 8, a list is displayed not only in the list but also in the vicinity of a coordinate input position for selection.

【００５０】このように、表示することで、選択のため
の視線移動を減して操作性を向上させている。As described above, by displaying, the movement of the line of sight for selection is reduced, and the operability is improved.

【００５１】操作者は、図８のような表示にしたがっ
て、編集対象としたい図形をリストから選択する(ステ
ップＳ６)。The operator selects a graphic to be edited from the list according to the display as shown in FIG. 8 (step S6).

【００５２】この後、リストから選択された図形を編集
可能状態とするとともに、操作者に編集可能状態である
こと示すために、ハイライト表示や点滅、ハンドル表示
等の表示を行う (ステップＳ７)。Thereafter, the figure selected from the list is made editable, and highlighting, blinking, handle display, and the like are displayed to indicate to the operator that the figure is editable (step S7). .

【００５３】この例を図９に示す。この例では、図５の
選択リストの２行目（図中Ｓで示す）が選択された例で
ある。FIG. 9 shows this example. In this example, the second line (indicated by S in the figure) of the selection list in FIG. 5 is selected.

【００５４】[0054]

【発明の効果】以上説明したように、この発明において
は、個々の図形だけでは意味のある形をなさず、又小さ
な図形で構成されることが多いマスクパターンに対する
選択手段であることを考慮し、階層の木構造や選択条件
も考慮して対象図形種別等をグラフィカルに表示するこ
とで、半導体集積回路におけるマスクパターンの編集選
択作業を容易にすることができる。As described above, in the present invention, it is considered that individual figures alone do not form a meaningful shape and are selection means for a mask pattern which is often constituted by small figures. By graphically displaying the target graphic type and the like in consideration of the hierarchical tree structure and the selection conditions, the editing and selecting operation of the mask pattern in the semiconductor integrated circuit can be facilitated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】この発明が適用されるマスクパターン編集装置
の全体構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a mask pattern editing apparatus to which the present invention is applied.

【図２】この発明の処理動作を示すフローチャートであ
る。FIG. 2 is a flowchart showing a processing operation of the present invention.

【図３】この発明を用いて重なった図形を選択する例を
示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of selecting overlapping graphics using the present invention.

【図４】図３の図形を構成する個々の図形を示す模式図
である。FIG. 4 is a schematic diagram showing individual figures constituting the figure of FIG. 3;

【図５】選択リストの表示例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a display example of a selection list.

【図６】マークのグラフィック表示を説明する図であ
る。FIG. 6 is a diagram illustrating a graphic display of a mark.

【図７】選択リストの表示例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a display example of a selection list.

【図８】選択リストの表示装置の画面上への表示例を示
す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a display example of a selection list on a screen of a display device.

【図９】実際に選択されて編集可能状態になった例を示
す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating an example in which an image is actually selected and becomes editable.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 処理装置 ２ 入力装置 ３ ポインティングデバイス ４ 記憶装置 ５ 表示装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Processing device 2 Input device 3 Pointing device 4 Storage device 5 Display device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｐ Ｆターム(参考） 2H095 BB01 5B046 AA08 BA05 BA06 GA01 GA04 GA06 HA05 HA09 KA08 5B050 AA04 BA07 BA13 BA18 CA07 EA12 FA02 FA03 FA05 FA13 FA17 5E501 AC09 AC15 AC34 BA03 BA05 CB02 CB09 EA13 EB05 FA14 FA22 FB28 FB29 FB30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. ⁷ Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/027 H01L 21/30 502P F-term (Reference) 2H095 BB01 5B046 AA08 BA05 BA06 GA01 GA04 GA06 HA05 HA09 KA08 5B050 AA04 BA07 BA13 BA18 CA07 EA12 FA02 FA03 FA05 FA13 FA17 5E501 AC09 AC15 AC34 BA03 BA05 CB02 CB09 EA13 EB05 FA14 FA22 FB28 FB29 FB30

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 階層構造と複数のレイヤを扱うことがで
きる半導体集積回路のマスクパターン編集装置におい
て、表示装置の画面上に表示される図形を選択する手段
と、座標指定により選択された座標に存在する図形につ
いて、階層を示す木構造と該当する階層に含まれる図形
の種別、レイヤ種別をグラフィカルに表示する表示手段
と、前記表示されたデータから選択すべき図形を指定す
る手段と、前記指定された図形が属する階層セルおよび
指定された図形を編集可能状態にする手段と、を備えた
ことを特徴とする半導体集積回路のマスクパターン編集
装置。1. A mask pattern editing apparatus for a semiconductor integrated circuit capable of handling a hierarchical structure and a plurality of layers, a means for selecting a figure to be displayed on a screen of a display device, and Display means for graphically displaying, for an existing graphic, a tree structure indicating a hierarchy and types of graphics and layer types included in the relevant hierarchy; means for specifying a graphic to be selected from the displayed data; Means for setting a hierarchical cell to which the selected graphic belongs and a specified graphic in an editable state, comprising: a mask pattern editing device for a semiconductor integrated circuit. 【請求項２】 表示する選択条件を設定する手段を備
え、前記表示手段に、予め設定されている選択条件に基
づき選択可能であるものを表示することを特徴とする請
求項１に記載の半導体集積回路のマスクパターン編集装
置。2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising means for setting a selection condition to be displayed, wherein the display means displays an item which can be selected based on a preset selection condition. An integrated circuit mask pattern editing device.