JP2002243907A - Antireflection film and image display - Google Patents
Antireflection film and image displayInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は反射防止フィルム並
びにそれを用いた偏光板及び表示装置（特に液晶表示装
置）に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate and a display device (particularly, a liquid crystal display device) using the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】反射防止フィルムは一般に、陰極管表示
装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置に
おいて、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り
込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率
を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。
このような反射防止フィルムは、高屈折率層の上に適切
な膜厚の低屈折率層を形成することにより作製できる。
低屈折率素材としては反射防止性能の観点から可能な限
り屈折率の低い素材が望まれ、同時にディスプレイの最
表面に用いられるため高い耐擦傷性が要求される。また
生産性の観点からは、ウエット塗布が可能な素材が好ま
しい。2. Description of the Related Art Antireflection films are generally used for cathode ray tube displays (CRT), plasma display panels (PD).
P) and image display devices such as liquid crystal display devices (LCD), in order to reduce the reflectance by using the principle of optical interference in order to prevent the reduction of contrast and the reflection of images due to reflection of external light. Placed on the outermost surface of
Such an antireflection film can be produced by forming a low-refractive-index layer having an appropriate thickness on a high-refractive-index layer.
As the low refractive index material, a material having the lowest possible refractive index is desired from the viewpoint of antireflection performance, and at the same time, high scratch resistance is required because it is used on the outermost surface of the display. From the viewpoint of productivity, a material that can be wet-coated is preferable.
【０００３】これらの要求に対して従来よりいわゆるゾ
ルゲル反応を利用したポリシロキサン皮膜の形成が広く
検討されてきた。例えば特公平６−９８７０３号、特開
昭６３−２１６０１号、特開２０００−１２１８０３号
公報等には含フッ素アルコキシシラン化合物の加水分解
部分縮合物を含有する組成物をプラスチック基材表面に
塗布して反射光を低減化させる技術が開示されている。
これらの技術では、十分に乾燥を行い硬化させることに
よって屈折率が低く強度に優れた皮膜を形成できるが、
乾燥硬化に時間が掛かり生産性に問題があった。To meet these requirements, formation of a polysiloxane film utilizing a so-called sol-gel reaction has been widely studied. For example, JP-B-6-98703, JP-A-63-21601, JP-A-2000-121803, etc. disclose coating a composition containing a hydrolyzed partial condensate of a fluorine-containing alkoxysilane compound on the surface of a plastic substrate. There is disclosed a technique for reducing reflected light.
In these technologies, a film with low refractive index and excellent strength can be formed by sufficiently drying and curing.
Drying and curing took time and there was a problem in productivity.
【０００４】重合可能なエチレン性不飽和基を有するビ
ニルモノマーの重合と重合性ビニル基を有するオルガノ
シランのゾルゲル反応を同時に行うことによって反射防
止膜低屈折率層を形成する技術としては特開２０００−
２７５４０３に記載されている。A technique for simultaneously forming a polymerizable vinyl monomer having an ethylenically unsaturated group and a sol-gel reaction of an organosilane having a polymerizable vinyl group to form an antireflection film having a low refractive index layer is disclosed in JP-A-2000-2000. −
275403.
【０００５】また従来のゾルゲル反応では硬化収縮とい
う本質的な問題がある。反射防止膜低屈折率層（10程度
の薄膜（１００ｎｍ前後）では硬化収縮によるクラック
等が問題になることは少ないが基材への密着性低下の原
因となり、さらには硬化に時間が掛かる要因になってい
ることが考えられる。In the conventional sol-gel reaction, there is an essential problem of curing shrinkage. In the case of a low refractive index layer (about 10 nm (about 100 nm)) of an antireflection film, cracks due to curing shrinkage rarely cause a problem, but cause a decrease in adhesion to a base material and cause a time-consuming curing. It is thought that it has become.
【０００６】ゾルゲル反応によって形成されるシロキサ
ン皮膜における別の問題として、アルカリ耐性に乏しい
という点が挙げられる。反射防止膜においては偏向板上
への貼りつけ工程においてしばしば問題になっている。
また、含フッ素有機ポリマーとの複合によって良化する
が、必ずしもシリカマトリックスと均一なハイブリッド
を形成できるものではなく、シリカマトリックスとの相
互作用等を考慮した工夫が必要であった。Another problem with the siloxane film formed by the sol-gel reaction is that it has poor alkali resistance. In an antireflection film, it is often a problem in a process of attaching the film to a deflection plate.
In addition, although improved by the combination with the fluorine-containing organic polymer, a uniform hybrid with the silica matrix cannot always be formed, and a device that takes into consideration the interaction with the silica matrix and the like is required.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、支持
体上にウエット塗布により生産性よく、強度および基材
への密着性に優れる低屈折率のポリシロキサン皮膜を形
成されてなる、廉価で十分な反射防止性能および耐擦傷
性を有する反射防止フィルムを提供することにあり、さ
らにアルカリ処理耐性に優れる反射防止フィルムを提供
することにある。また、その反射防止フィルムを配置し
た表示装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a low-refractive-index polysiloxane film having good productivity, excellent strength and excellent adhesion to a substrate by wet coating on a support. It is another object of the present invention to provide an antireflection film having sufficient antireflection performance and abrasion resistance, and to provide an antireflection film having excellent alkali treatment resistance. Another object of the present invention is to provide a display device on which the antireflection film is arranged.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、以下の
（１）〜（７）項に示す手段によって達成された。 （１）支持体上に下記一般式（１）で表わされるアルコ
キシシランまたはその加水分解部分縮合物を含有する塗
布液組成物を塗設し、硬化させて形成された低屈折率層
を有することを特徴とする反射防止フィルム。 一般式（１）The object of the present invention has been attained by the following means (1) to (7). (1) A low-refractive-index layer formed by coating and curing a coating liquid composition containing an alkoxysilane represented by the following general formula (1) or a partially condensed hydrolyzate thereof on a support. An anti-reflection film characterized by the following. General formula (1)
【０００９】[0009]
【化４】 Embedded image
【００１０】式中、Ｒ１はアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基及びアルキニル基からなる群より選択される
少なくとも１種を表わし、Ｒ２は重合可能なエチレン性
不飽和基を有する置換基によって置換されたアルキル基
を表わし、ｘは１〜４の整数を表わす。 （２）前記一般式（１）におけるＲ２がフッ素原子を置
換基として有することを特徴とする（１）項に記載の反
射防止フィルム。 （３）前記塗布液組成物が、下記一般式（２）で表わさ
れる少なくとも１種のオルガノシランの加水分解部分縮
合物を含有することを特徴とする（１）または（２）項
に記載の反射防止フィルム。 一般式（２）In the formula, R 1 represents at least one selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group and an alkynyl group, and R 2 is substituted by a substituent having a polymerizable ethylenically unsaturated group. And x represents an integer of 1 to 4. (2) The antireflection film according to (1), wherein R 2 in the general formula (1) has a fluorine atom as a substituent. (3) The coating composition according to (1) or (2), wherein the coating liquid composition contains at least one hydrolyzed partial condensate of an organosilane represented by the following general formula (2). Anti-reflection film. General formula (2)
【００１１】[0011]
【化５】 Embedded image
【００１２】式中、Ｒ３はアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基及びアルキニル基からなる群より選択される
少なくとも１種を表わし、Ｒ４は重合可能なエチレン性
不飽和基を含有しないアルコキシ基もしくはアシルオキ
シ基またはハロゲン原子を表わし、ｙは１〜４の整数を
表わす。 （４）前記一般式（２）で表わされるオルガノシランの
少なくとも１種がパーフルオロアルキル基を置換基とし
て有することを特徴とする（３）項に記載の反射防止フ
ィルム。 （５）前記塗布液組成物が、前記一般式（１）または
（２）で表わされる化合物以外に、少なくとも１つの重
合可能なエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物の
少なくとも１種を含有することを特徴とする（１）〜
（４）のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。 （６）支持体上に、前記一般式（１）で表わされるアル
コキシシランまたはその加水分解部分縮合物を含有する
塗布液組成物を塗設し、硬化させて低屈折率層を形成す
ることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 （７）（１）〜（５）のいずれか１項に記載の反射防止
フィルムを配置したことを特徴とする表示装置。In the formula, R 3 represents at least one selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group and an alkynyl group, and R 4 represents an alkoxy group containing no polymerizable ethylenically unsaturated group or Represents an acyloxy group or a halogen atom, and y represents an integer of 1 to 4. (4) The antireflection film according to the item (3), wherein at least one of the organosilanes represented by the general formula (2) has a perfluoroalkyl group as a substituent. (5) The coating liquid composition contains, in addition to the compound represented by the general formula (1) or (2), at least one fluorine-containing compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group. It is characterized by (1)-
The antireflection film according to any one of (4) and (4). (6) Forming a low refractive index layer by coating a coating solution composition containing the alkoxysilane represented by the general formula (1) or a partially condensed hydrolyzate thereof on a support and curing the composition. A method for producing an antireflection film, which is characterized by the following. (7) A display device comprising the anti-reflection film according to any one of (1) to (5).
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】本発明で用いられる一般式（１）
で表わされる化合物について説明する。一般式（１）
中、 Ｒ１はアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０の
置換または無置換のアルキル基、例えばメチル基、エチ
ル基、γ―アクリロイルオキシプロピル基、γ―グリシ
ドキシプロピル基、γ―アミノプロピル基、3,3,3-トリ
フルオロプロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2-テト
ラヒドロオクチル基等）、アリール基（好ましくは炭素
数６〜２０の置換または無置換のアリール基、たとえば
フェニル基、ｐ―クロロフェニル基等）、アルケニル基
（好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基、例えば、
ビニル基、アリル基、プレニル基等）、アルキニル基
（好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基、例えば、
エチニル、プロパルギル基）より選ばれる置換基を表
し、好ましくはアルキル基であり特に好ましくは含フッ
素アルキル基である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The general formula (1) used in the present invention
The compound represented by is described. General formula (1)
Wherein R 1 is an alkyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a γ-acryloyloxypropyl group, a γ-glycidoxypropyl group, a γ-aminopropyl Group, 3,3,3-trifluoropropyl group, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl group and the like, aryl group (preferably substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, For example, a phenyl group, a p-chlorophenyl group and the like, an alkenyl group (preferably an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, for example,
A vinyl group, an allyl group, a prenyl group, etc.), an alkynyl group (preferably an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, for example,
Ethynyl, propargyl group), preferably an alkyl group, particularly preferably a fluorinated alkyl group.
【００１４】Ｒ２は重合可能なエチレン性不飽和基を有
する置換基によって置換されたアルキル基を表わす。重
合可能なエチレン性不飽和基を有する置換基として、−
Ｌ−Ｒ５で表わされる基が好ましい。ここで、Ｌは、フ
ッ素原子で置換されていてもよい、直鎖又は分岐アルキ
レン基であり、Ｒ５は、下記式：R 2 represents an alkyl group substituted by a substituent having a polymerizable ethylenically unsaturated group. As a substituent having a polymerizable ethylenically unsaturated group,-
The group represented by LR 5 is preferred. Here, L is a linear or branched alkylene group which may be substituted with a fluorine atom, and R 5 has the following formula:
【００１５】[0015]
【化６】 Embedded image
【００１６】（式中Ｒ６は水素原子またはメチルを表わ
す）のいずれかを表わす。Ｒ２として、具体的には、ア
クリロイル基、メタクリロイル基またはスチリル基を有
する置換基によって置換された炭素数１〜２０のアルキ
ル基（例えば、２−アクリロイルオキシエチル基、３−
アクリロイルオキシプロピル基、２−メタクリロイルオ
キシエチル基、２−アクリロイルアミノエチル基、２−
メタクリロイルアミノエチル基、２−スチリルオキシエ
チル基、４−アクリロイルオキシ−２，２，３，３−テ
トラフルオロブチル基、４−メタクリロイルオキシ−
２，２，３，３−テトラフルオロブチル基、５−アクリ
ロイルオキシ−２,２，３，３，４，４−ヘキサフルオ
ロペンチル基等）が好ましく、特に好ましくは、アクリ
ロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイ
ルアミノ基、メタクリロイルアミノ基から選ばれる基に
よって置換されたアルキル基である。さらに該アルキル
基がフッ素原子を置換基として有することが特に好まし
い。(Wherein R 6 represents a hydrogen atom or methyl). As R 2 , specifically, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms substituted by a substituent having an acryloyl group, a methacryloyl group or a styryl group (for example, a 2-acryloyloxyethyl group, 3-
Acryloyloxypropyl group, 2-methacryloyloxyethyl group, 2-acryloylaminoethyl group, 2-
Methacryloylaminoethyl group, 2-styryloxyethyl group, 4-acryloyloxy-2,2,3,3-tetrafluorobutyl group, 4-methacryloyloxy-
2,2,3,3-tetrafluorobutyl group, 5-acryloyloxy-2,2,3,3,4,4-hexafluoropentyl group and the like), particularly preferably acryloyloxy group and methacryloyloxy group. , An acryloylamino group or an methacryloylamino group. It is particularly preferred that the alkyl group has a fluorine atom as a substituent.
【００１７】ｘは１〜４の整数を表わし、好ましくは３
または４であり、特に好ましくは４の場合である。X represents an integer of 1 to 4, preferably 3
Or 4, particularly preferably 4.
【００１８】以下に本発明に用いられる一般式（１）で
表わされる化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに
限定されるものではない。Hereinafter, specific examples of the compound represented by the general formula (1) used in the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.
【００１９】[0019]
【化７】 Embedded image
【００２０】[0020]
【化８】 Embedded image
【００２１】[0021]
【化９】 Embedded image
【００２２】[0022]
【化１０】 Embedded image
【００２３】[0023]
【化１１】 Embedded image
【００２４】[0024]
【化１２】 Embedded image
【００２５】[0025]
【化１３】 Embedded image
【００２６】これらの化合物は、Macromolecules,24,54
81-5483(1991)に記載されている手法に順じて、アミン
存在下、クロロシランと重合性基含有アルコールを反応
させる方法、あるいはテトラメトキシシラン等のアルコ
キシシランと重合性基含有アルコールを共存させてアル
コール交換を行う方法等によって合成できる。また、本
発明に用いられる化合物は特開平５−８６３０８号、同
１０−２４５２４７号等に記載されている。一般式
（１）で表わされるアルコキシシランを含有する塗布液
組成物においては、シロキサン結合によって形成される
無機架橋重合体と、エチレン性不飽和基の重合によって
形成される有機の架橋重合体とが相互に貫入した構造を
形成すると考えられる。These compounds are described in Macromolecules, 24, 54
According to the method described in 81-5483 (1991), a method of reacting chlorosilane with a polymerizable group-containing alcohol in the presence of an amine, or coexisting an alkoxysilane such as tetramethoxysilane and a polymerizable group-containing alcohol. Can be synthesized by a method of exchanging alcohol. The compounds used in the present invention are described in JP-A-5-86308 and JP-A-10-245247. In a coating liquid composition containing an alkoxysilane represented by the general formula (1), an inorganic crosslinked polymer formed by siloxane bonds and an organic crosslinked polymer formed by polymerization of an ethylenically unsaturated group are used. It is thought to form an interpenetrating structure.
【００２７】本発明の反射防止フィルムにおける低屈折
率層塗布液組成物には、一般式（１）で表わされる化合
物またはその加水分解部分縮合物を必須成分として含有
するが、屈折率、あるいは膜強度を調節する目的で前記
一般式（２）で表わされるオルガノシランの加水分解部
分縮合物を含有させても良い。The coating composition for a low refractive index layer in the antireflection film of the present invention contains, as an essential component, a compound represented by the general formula (1) or a partially condensed product thereof by hydrolysis. For the purpose of adjusting the strength, a hydrolyzed partial condensate of the organosilane represented by the general formula (2) may be contained.
【００２８】一般式（２）において、 Ｒ３はアルキル
基（好ましくは炭素数１〜２０の置換または無置換のア
ルキル基、例えばメチル基、エチル基、γ―グリシドキ
シプロピル基、γ―アミノプロピル基、3,3,3-トリフル
オロプロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2,-テトラ
ヒドロオクチル基等）、アリール基（好ましくは炭素数
６〜２０の置換または無置換のアリール基、たとえばフ
ェニル基、ｐ―クロロフェニル基等）、アルケニル基
（好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基、例えば、
ビニル基、アリル基、プレニル基等）、アルキニル基
（好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基、例えば、
エチニル、プロパルギル基等）より選ばれる置換基を表
わし、好ましくはアルキル基、またはアルケニル基であ
る。In the general formula (2), R 3 represents an alkyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a γ-glycidoxypropyl group, a γ-amino Propyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl group, etc., aryl group (preferably substituted or unsubstituted aryl having 6 to 20 carbon atoms) Groups such as phenyl group and p-chlorophenyl group), alkenyl group (preferably alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, for example,
A vinyl group, an allyl group, a prenyl group, etc.), an alkynyl group (preferably an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, for example,
Ethynyl, propargyl group, etc.), preferably an alkyl group or an alkenyl group.
【００２９】一般式（２）において、Ｒ４は重合可能な
エチレン性不飽和基を含有しないアルコキシ基（好まし
くは炭素数1〜10の１級のアルコキシ基、例えばメトキ
シ基、エトキシ基、ｎ―プロポキシ基、n-ブトキシ基
等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０のア
シルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオ
キシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ベンゾイルオ
キシ基等）、またはハロゲン原子（例えばＦ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、Ｉ等）を表わし、好ましくはアルコキシ基である。
一般式（２）において、ｙは１〜４の整数を表わし、好
ましくは２〜４の整数である。[0029] In the general formula (2), R 4 is an alkoxy group (preferably containing no polymerizable ethylenically unsaturated group primary alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, n- A propoxy group, an n-butoxy group, etc.), an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, such as a formyloxy group, an acetyloxy group, a trifluoroacetyloxy group, a benzoyloxy group, etc.), or a halogen atom ( For example, F, Cl, B
r, I, etc.), and is preferably an alkoxy group.
In the general formula (2), y represents an integer of 1 to 4, and preferably an integer of 2 to 4.
【００３０】一般式（２）で表わされるオルガノシラン
の具体例としては、ｙ＝４としては、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシ
ラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、など、ｙ＝３とし
ては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ＣＦ３Ｃ
Ｈ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ ２）５Ｃ
Ｈ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルト
リエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−トリメトキシシリルプロピルイソシアネー
ト、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン等、ｙ＝２として
は、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルトリエトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メ
タクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等、ｙ＝
１としては、トリメチルメトキシシラン等が挙げられる
が、本発明はこれらに限定されるものではない。An organosilane represented by the general formula (2)
As a specific example, when y = 4, tetramethoxysi
Orchid, tetraethoxysilane, tetraisopropoxy
Orchid, tetra-n-butoxysilane, etc., y = 3
Methyltrimethoxysilane, methyltriethoxy
Silane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxy
Sisilane, vinyltriethoxysilane, phenyltrime
Toxisilane, phenyltriethoxysilane, CF3C
H2CH2Si (OCH3)3, CF3(CF 2)5C
H2CH2Si (OCH3)3, Γ-glycidoxypro
Piltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyl
Liethoxysilane, γ-aminopropyl trimethoxy
Orchid, γ-trimethoxysilylpropyl isocyanate
G, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-act
Ryloxypropyltrimethoxysilane, etc., as y = 2
Is dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxy
Orchid, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysila
Γ-aminopropylmethyltriethoxysilane, γ
-Mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-meth
Y = tacryloxypropylmethyldimethoxysilane
Examples of 1 include trimethylmethoxysilane and the like.
However, the present invention is not limited to these.
【００３１】上記一般式（２）で表わされる化合物は単
独で用いても良いし、複数を組み合わせて用いても良
い。好ましくはテトラアルコキシシラン単独または、テ
トラアルコキシシランにトリアルコキシシランもしくは
ジアルコキシシランを混合したものを使用する形態であ
る。一般式（２）で表わされる化合物の少なくとも１種
がパーフルオロアルキル基を置換基として有することが
好ましく、特に塗膜の屈折率を下げるためには、パーフ
ルオロアルキル基を置換基として有するトリアルコキシ
シラン、またはジアルコキシシランを使用することが好
ましい。The compounds represented by the above general formula (2) may be used alone or in combination of two or more. Preferably, tetraalkoxysilane alone or a mixture of tetraalkoxysilane and trialkoxysilane or dialkoxysilane is used. It is preferable that at least one of the compounds represented by the general formula (2) has a perfluoroalkyl group as a substituent. In particular, in order to lower the refractive index of the coating film, trialkoxy having a perfluoroalkyl group as a substituent is preferred. It is preferred to use silane or dialkoxysilane.
【００３２】一般式（１）で表わされる化合物及び一般
式（２）で表わされるオルガノシランの加水分解縮合反
応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができる。溶媒
としては有機溶媒が好ましく、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ブタノール、トルエン、キシレン、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサンなどを挙げることができる。The hydrolysis-condensation reaction of the compound represented by the general formula (1) and the organosilane represented by the general formula (2) can be carried out without a solvent or in a solvent. As the solvent, an organic solvent is preferable, and examples thereof include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, toluene, xylene, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane.
【００３３】該加水分解縮合反応は触媒存在下で行われ
ることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸な
どの無機酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン
酸、トルエンスルホン酸などの有機酸類、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基類、
トリエチルアミン、ピリジン、テトラメチルエチレンジ
アミンなどの有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニ
ウム、テトラブトキシジルコニウム、などの金属アルコ
キシド類、前記金属アルコキシド類と、アセト酢酸エチ
ル、アセチルアセトンなどの金属キレート化合物類、フ
ッ化ナトリウム、フッ化カリウム等のフッ素化物などが
挙げられる。The hydrolysis-condensation reaction is preferably performed in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid, organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid, and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and ammonia;
Triethylamine, pyridine, organic bases such as tetramethylethylenediamine, triisopropoxyaluminum, metal alkoxides such as tetrabutoxyzirconium, the metal alkoxides, ethyl acetoacetate, metal chelate compounds such as acetylacetone, sodium fluoride, And fluorinated compounds such as potassium fluoride.
【００３４】加水分解縮合反応は通常アルコキシ基１モ
ルに対して０．３〜２．０モル、好ましくは０．５〜
１．０モルの水を添加し、上記溶媒および触媒の存在
下、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
触媒の添加量はアルコキシ基に対して０．０１〜１０モ
ル％、好ましくは０．１〜５モル％である。反応条件は
オルガノシランの反応性により適宜調節されることが好
ましい。The hydrolysis-condensation reaction is usually performed in an amount of 0.3 to 2.0 mol, preferably 0.5 to 2.0 mol, per 1 mol of the alkoxy group.
The reaction is carried out by adding 1.0 mol of water and stirring at 25 to 100 ° C. in the presence of the solvent and the catalyst.
The amount of the catalyst to be added is 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the alkoxy group. The reaction conditions are preferably adjusted as appropriate depending on the reactivity of the organosilane.
【００３５】一方、カルボン酸等の有機酸を用いた場合
には、アルコキシシランとの反応により生成するアルコ
ールあるいは溶媒として添加するアルコールとの縮合反
応（エステル化反応）によって系中で水を生成するため
別途水を添加しなくても加水分解反応を行うことができ
る。On the other hand, when an organic acid such as a carboxylic acid is used, water is generated in the system by a condensation reaction (esterification reaction) with an alcohol formed by a reaction with an alkoxysilane or an alcohol added as a solvent. Therefore, the hydrolysis reaction can be performed without adding water separately.
【００３６】本発明に用いられる低屈折率層塗布液にお
いて、上記一般式（２）で表わされるアルコキシシラン
の加水分解部分縮合物を添加する場合の添加量として
は、一般式（２）で表わされる化合物が完全に脱水縮合
したと仮定した場合の固形分質量で換算して、一般式
（１）のアルコキシシランに対して、0.05〜10倍の範囲
であることが好ましく、0.1〜10倍の範囲であることが
より好ましく、0.1〜5倍の範囲であることがさらに好ま
しく、0.5〜５倍の範囲であることが特に好ましい。In the low refractive index layer coating solution used in the present invention, the amount of addition of the hydrolyzed partial condensate of the alkoxysilane represented by the general formula (2) is represented by the general formula (2). In terms of the mass of the solid content assuming that the compound to be completely dehydrated and condensed, the content is preferably 0.05 to 10 times, more preferably 0.1 to 10 times, relative to the alkoxysilane of the general formula (1). It is more preferably in the range, more preferably in the range of 0.1 to 5 times, and particularly preferably in the range of 0.5 to 5 times.
【００３７】本発明の反射防止フィルムにおいては、低
屈折率層の屈折率を下げる目的およびアルカリ処理耐性
を付与する観点から、低屈折率層塗布液組成物に前記一
般式（１）または一般式（２）で示される化合物以外に
少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有す
る含フッ素化合物を添加することが好ましい。In the antireflection film of the present invention, from the viewpoint of lowering the refractive index of the low refractive index layer and imparting alkali treatment resistance, the coating composition of the low refractive index layer may have the above general formula (1) or the general formula (1). It is preferable to add a fluorine-containing compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group other than the compound represented by (2).
【００３８】該含フッ素化合物において重合可能なエチ
レン性不飽和基としては一般式（１）におけるＲ２の説
明で挙げたものがそのまま当てはまる。屈折率および反
応性の観点から好ましい化合物としては、含フッ素アク
リレート化合物およびメタクリレート化合物であり、特
に好ましくは多官能の含フッ素アクリレートおよびメタ
クリレート化合物である。As the polymerizable ethylenically unsaturated group in the fluorine-containing compound, those described in the description of R 2 in the general formula (1) apply as they are. Preferred compounds from the viewpoints of refractive index and reactivity are fluorine-containing acrylate compounds and methacrylate compounds, and particularly preferred are polyfunctional fluorine-containing acrylate and methacrylate compounds.
【００３９】これらの含フッ素化合物の好ましい形態は
下記一般式（３）および（４）で表わされる。 一般式（３）Preferred forms of these fluorine-containing compounds are represented by the following general formulas (3) and (4). General formula (3)
【００４０】[0040]
【化１４】 Embedded image
【００４１】一般式（３）において、Ｒ５は水素原子、
炭素数１ないし３のアルキル基またはハロゲン原子を表
す。Ｒｆは完全または部分フッ素化されたアルキル基、
アルケニル基、ヘテロ環またはアリール基を表す。 Ｒ
６およびＲ７はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、
アルケニル基、ヘテロ環、アリール基または上記Ｒｆで
定義される基を表す。 Ｒ５、 Ｒ６、 Ｒ７およびＲｆ
はそれぞれフッ素原子以外の置換基を有していても良
い。また、 Ｒ６、 Ｒ７およびＲｆの任意の２つ以上の
基が互いに結合して環構造を形成しても良い。 一般式（４）In the general formula (3), R 5 is a hydrogen atom,
Represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom. Rf is a completely or partially fluorinated alkyl group,
Represents an alkenyl group, a heterocyclic ring or an aryl group. R
6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group,
Represents an alkenyl group, a heterocyclic ring, an aryl group or a group defined by Rf. R 5 , R 6 , R 7 and Rf
May each have a substituent other than a fluorine atom. Further, any two or more groups of R 6 , R 7 and Rf may be bonded to each other to form a ring structure. General formula (4)
【００４２】[0042]
【化１５】 Embedded image
【００４３】一般式（４）において、Ｒ８は水素原子、
炭素数１ないし３のアルキル基またはハロゲン原子を表
わし、ｎは２ないし８の整数を表わし、Ａは完全または
部分フッ素化されたｎ価の有機基を表わす。これらの化
合物は例えば、特開平８−４８９３５号、同１０−１８
２５５８号、同１０−１８２５８５号、同１０−１８２
７４５号、同１０−２７９５２９号、同１０−２７９５
３０号、同１０−２７９５３１号、同１１−１６３３
号、同１１−２７０２号、同１１−２１１９０１号、同
１１―６０６３７号、同１１−３５２３０６号等に種々
の例が記載されており、これらも利用することができ
る。In the general formula (4), R 8 is a hydrogen atom,
Represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom, n represents an integer of 2 to 8, and A represents a fully or partially fluorinated n-valent organic group. These compounds are described, for example, in JP-A-8-48935 and 10-18.
No. 2558, No. 10-182585, No. 10-182
No. 745, No. 10-279529, No. 10-2795
No. 30, No. 10-279531, No. 11-1633
Nos. 11, 11-702, 11-211901, 11-60637, 11-352306, etc., various examples are described, and these can also be used.
【００４４】本発明に有用な重合可能なエチレン性不飽
和基を有する含フッ素化合物の具体例を以下に例示する
が本発明はこれらに限定されるものではない。Specific examples of the fluorine-containing compound having a polymerizable ethylenically unsaturated group useful in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【００４５】[0045]
【化１６】 Embedded image
【００４６】[0046]
【化１７】 Embedded image
【００４７】[0047]
【化１８】 Embedded image
【００４８】[0048]
【化１９】 Embedded image
【００４９】本発明において上記含フッ素化合物の添加
量は一般式（１）で表される化合物に対して、質量にし
て０．０５〜２０倍の範囲であることが好ましく、特に
好ましくは０．１〜５倍の範囲である。In the present invention, the amount of the fluorine-containing compound to be added is preferably in the range of 0.05 to 20 times, more preferably 0.1 to 10 times, the mass of the compound represented by the general formula (1). The range is 1 to 5 times.
【００５０】本発明に用いられる低屈折率層塗布液に
は、エチレン性不飽和基の重合を促進するためにラジカ
ル重合開始剤が添加される。ラジカル重合開始剤として
は熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光
の作用によりラジカルを発生するもののいずれの形態も
可能である。A radical polymerization initiator is added to the low refractive index layer coating solution used in the present invention in order to promote the polymerization of ethylenically unsaturated groups. As the radical polymerization initiator, any of those which generate radicals by the action of heat and those which generate radicals by the action of light are possible.
【００５１】熱の作用によりラジカル重合を開始する化
合物としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及
びジアゾ化合物等を用いることができる。具体的には、
有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲン
ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸
化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロ
ぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫
酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として
２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス
−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサン
ジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼ
ン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることが
できる。As the compound that initiates radical polymerization by the action of heat, an organic or inorganic peroxide, an organic azo or diazo compound, or the like can be used. In particular,
Benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, ammonium persulfate, potassium persulfate as inorganic peroxides Azo compounds such as 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, and diazo compounds such as diazoaminobenzene and p-nitrobenzenediazonium. Can be mentioned.
【００５２】光の作用によりラジカル重合を開始する化
合物の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベン
ゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、ア
ントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸
化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフ
ィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホ
ニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−
ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノ
ン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４
−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよ
び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モル
フォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン
類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、
ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾ
インイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン
類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾ
フェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−
クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド
類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルフォスフィンオキシドが含まれる。これらの光ラジ
カル重合開始剤と併用して増感色素も好ましく用いるこ
とができる。Examples of compounds that initiate radical polymerization by the action of light include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, There are 3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-
Diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenylketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-4
-Methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate,
Includes benzoin toluenesulfonic acid ester, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-
Chlorobenzophenone is included. Examples of the phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. Sensitizing dyes can also be preferably used in combination with these photoradical polymerization initiators.
【００５３】前記した熱または光の作用によってラジカ
ル重合を開始する化合物の添加量としては、炭素―炭素
二重結合の重合が開始する量であれば良いが、一般的に
は低屈折率層塗布液全固形分に対して０．１〜１５％が
好ましく、より好ましくは０．５〜５％である。The amount of the compound which initiates radical polymerization by the action of heat or light as described above may be any amount as long as the polymerization of carbon-carbon double bonds is initiated, but generally, the amount of addition is low. It is preferably 0.1 to 15%, more preferably 0.5 to 5%, based on the total solid content of the liquid.
【００５４】一方本発明に用いられる低屈折率層塗布液
にはゾルゲル反応を加速するために、一般式（２）のオ
ルガノシランのゾルゲル反応における硬化触媒として前
記したものあるいは、光の作用によって酸あるいは塩基
等の硬化促進剤発生する化合物を添加しても良い。光の
作用により酸を発生する化合物としては、例えば有機エ
レクトロニクス材料研究会（ぶんしん出版）編「イメー
ジング用有機材料」ｐ１８７〜１９８、特開平１０−２
８２６４４号等に種々の例が記載されておりこれら公知
の化合物を使用することができる。具体的には、ＲSO３
−（Ｒはアルキル基、アリール基を表す）、AsF6 −、Sb
F6 −、PF6 −、BF４ −等をカウンターイオンとするジア
ゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨード
ニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニ
ウム塩等の各種オニウム塩、トリハロメチル基が置換し
たオキサジアゾール誘導体やS−トリアジン誘導体等の
有機ハロゲン化物、有機酸のｏ−ニトロベンジルエステ
ル、ベンゾインエステル、イミノエステル、ジスルホン
化合物等が挙げられ、好ましくは、オニウム塩類、特に
好ましくはスルホニウム塩、ヨードニウム塩類である。
光の作用で塩基を発生する化合物も公知のものを使用す
ることができ、具体的にはニトロベンジルカルバメート
類、ジニトロベンジルカルバメート類等を挙げることが
できる。On the other hand, in order to accelerate the sol-gel reaction, the coating solution for the low refractive index layer used in the present invention may be any of those described above as a curing catalyst in the sol-gel reaction of the organosilane of the general formula (2) or an acid by the action of light. Alternatively, a compound that generates a curing accelerator such as a base may be added. Compounds that generate an acid by the action of light include, for example, “Organic Materials for Imaging”, edited by the Society of Organic Electronics Materials (Bunshin Publishing), pages 187 to 198, and JP-A No. 10-2.
Various examples are described in 82644 and the like, and these known compounds can be used. Specifically, RSO 3
- (R represents an alkyl group, an aryl group), AsF 6 -, Sb
Various onium salts such as diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like, and oxa substituted with a trihalomethyl group having F 6 − , PF 6 − , BF 4 − and the like as counter ions. Organic halides such as diazole derivatives and S-triazine derivatives, o-nitrobenzyl esters of organic acids, benzoin esters, imino esters, disulfone compounds and the like, preferably, onium salts, particularly preferably sulfonium salts, iodonium salts It is.
Known compounds can also be used as the compound that generates a base by the action of light, and specific examples thereof include nitrobenzyl carbamates and dinitrobenzyl carbamates.
【００５５】本発明では特に光の作用により酸を発生す
る化合物を用いることが好ましく、光の作用によって酸
を発生すると同時にラジカルを発生する化合物を添加す
ることが特に好ましい。このような化合物としてはスル
ホン酸ベンゾインエステル等を挙げることができる。こ
れらの光の作用により、酸あるいは塩基を発生する化合
物と併用して増感色素も好ましく用いることができる。
本発明に用いられる光の作用によってゾルゲル反応を促
進する化合物の添加量としては、低屈折率層塗布液全固
形分に対して０．１〜１５％が好ましく、より好ましく
は０．５〜５％である。In the present invention, it is particularly preferable to use a compound which generates an acid by the action of light, and it is particularly preferable to add a compound which generates a radical at the same time as generating an acid by the action of light. Examples of such a compound include sulfonic acid benzoin ester. A sensitizing dye can also be preferably used in combination with a compound that generates an acid or a base by the action of light.
The addition amount of the compound for promoting the sol-gel reaction by the action of light used in the present invention is preferably 0.1 to 15%, more preferably 0.5 to 5%, based on the total solid content of the coating solution for the low refractive index layer. %.
【００５６】さらに硬化を促進する目的で、低屈折率層
塗布液に、脱水剤を使用しても良い。脱水剤としては、
例えば、カルボン酸オルトエステル（オルト蟻酸メチ
ル、オルト蟻酸エチル、オルト酢酸メチル等）、あるい
は酸無水物（無水酢酸等）を挙げることができる。For the purpose of further promoting the curing, a dehydrating agent may be used in the coating solution for the low refractive index layer. As a dehydrating agent,
For example, carboxylic acid orthoester (methyl orthoformate, ethyl orthoformate, methyl orthoacetate, etc.) or acid anhydride (acetic anhydride, etc.) can be mentioned.
【００５７】本発明に用いられる低屈折率塗布液にはさ
らに膜強度あるいは塗布性の改良のためにコロイダルシ
リカを添加しても良い。このようなコロイダルシリカと
しては、粒子径は５〜５０ｎｍのものが用いられるが、
好ましくは、５〜３０ｎｍのものであり、特に好ましく
は、粒子径８〜２０ｎｍのものである。このようなコロ
イダルシリカは、例えばI.M.Thomas著,Appl.Opt.25,148
1(1986)等に記載の手法に順じて、テトラアルコキシシ
ランを原料としてアンモニア水等の触媒を用いて加水分
解・重縮合することにより調整することができる。また
市販のものでは、日産化学工業(株)製スノーテックスＩ
ＰＡ−ＳＴ、同ＭＩＢＫ−ＳＴ、日本エアロジル（株）
製ＡＥＲＯＳＩＬ３００、同ＡＥＲＯＳＩＬ１３０、
同ＡＥＲＯＳＩＬ５０（いずれも商品名）等を利用する
こともできる。Colloidal silica may be further added to the low refractive index coating solution used in the present invention in order to improve film strength or coatability. As such colloidal silica, those having a particle diameter of 5 to 50 nm are used,
Preferably, the particle size is 5 to 30 nm, and particularly preferably, the particle size is 8 to 20 nm. Such colloidal silica is described, for example, by IM Thomas, Appl. Opt.
1 (1986) and the like, and can be adjusted by hydrolysis and polycondensation using tetraalkoxysilane as a raw material and using a catalyst such as aqueous ammonia. In the case of a commercially available product, Snowtex I manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
PA-ST, MIBK-ST, Nippon Aerosil Co., Ltd.
AEROSIL300, AEROSIL130,
AEROSIL 50 (all of which are trade names) can be used.
【００５８】コロイダルシリカの添加量は、塗膜硬化後
の全固形分の５〜９５質量％の範囲であり、好ましくは
１０〜７０質量％、特に好ましくは、２０〜６０質量％
の場合である。コロイダルシリカは、一般式（１）で表
される化合物の加水分解／脱水縮合過程（ゾル形成過
程）から添加してもよく、あるいはゾル形成後に塗布液
に直接混合しても良い。The amount of colloidal silica added is in the range of 5 to 95% by mass, preferably 10 to 70% by mass, and particularly preferably 20 to 60% by mass of the total solids after curing of the coating film.
Is the case. Colloidal silica may be added from the hydrolysis / dehydration / condensation step (sol formation step) of the compound represented by the general formula (1), or may be directly mixed with the coating solution after the sol is formed.
【００５９】その他本発明における低屈折率層塗布液に
は各種シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レ
ベリング剤などの添加剤を必要に応じて適宜添加しても
良い。In addition, additives such as various silane coupling agents, surfactants, thickeners and leveling agents may be appropriately added to the low refractive index layer coating solution in the present invention as needed.
【００６０】本発明における低屈折率層塗布液は上記組
成物を適当な溶媒に溶解または分散して作製される。溶
媒としては、上記組成物が沈殿を生じることなく、均一
に溶解または分散されるものであれば特に制限はなく２
種類以上の溶媒を併用することもできる。好ましい例と
しては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン等）、エステル類（酢酸エチル、
酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、
１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エ
チレングリコール等）、芳香族炭化水素類（トルエン、
キシレン等）、水などを挙げることができる。塗布液中
の一般式（１）で表わされる化合物の濃度としては、特
に制限するものではないが、０．１〜５０質量％が好ま
しく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質
量％が特に好ましい。The coating solution for the low refractive index layer in the present invention is prepared by dissolving or dispersing the above composition in an appropriate solvent. The solvent is not particularly limited as long as the composition can be uniformly dissolved or dispersed without causing precipitation.
More than one type of solvent may be used in combination. Preferred examples include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.) and esters (ethyl acetate,
Butyl acetate), ethers (tetrahydrofuran,
1,4-dioxane, etc.), alcohols (methanol,
Ethanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene,
Xylene, etc.), water and the like. The concentration of the compound represented by the general formula (1) in the coating liquid is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and 1 to 20% by mass. % By weight is particularly preferred.
【００６１】本発明の反射防止フィルムは、前記低屈折
率層塗布液組成物を、支持体上に塗布後硬化することに
よって作製される。塗布方法としてはディップコート
法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラ
ーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法
やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９
４号明細書）等が挙げられる。この際、支持体上の他の
層（高屈折率層、中屈折率層等）と同時に塗布してもよ
い。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９
１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３
５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティ
ング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載があ
る。The antireflection film of the present invention is produced by applying the coating composition for a low refractive index layer on a support and then curing the composition. The coating method includes dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, and extrusion coating (US Pat. No. 268129).
No. 4 specification). At this time, it may be applied simultaneously with other layers (high refractive index layer, middle refractive index layer, etc.) on the support. For the method of simultaneous coating, see US Pat.
No. 1, No. 2941898, No. 3508947, No. 3
No. 526528, and in Yuji Harazaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).
【００６２】低屈折率層の硬化は、常温での乾燥、ある
いは３０〜２００℃程度の温度で１分〜１００時間程度
加熱することにより行われる。低屈折率層が光の作用に
より硬化促進剤を放出する化合物を含有する際には、高
圧水銀ランプ等を用いて、硬化促進剤あるいは増感色素
の吸収波長に対応する光を照射することにより硬化が行
われる。この際光照射後に３０〜２００℃程度の温度で
１分〜１０時間程度の加熱を行っても良い。The curing of the low refractive index layer is performed by drying at room temperature or by heating at a temperature of about 30 to 200 ° C. for about 1 minute to 100 hours. When the low-refractive-index layer contains a compound that releases a curing accelerator by the action of light, it is irradiated with light corresponding to the absorption wavelength of the curing accelerator or the sensitizing dye using a high-pressure mercury lamp or the like. Curing takes place. At this time, after light irradiation, heating may be performed at a temperature of about 30 to 200 ° C. for about 1 minute to 10 hours.
【００６３】本発明の反射防止フィルムは、上記の方法
で組成物を塗設して形成された低屈折率層(1) が、それ
よりも高い屈折率を有する高屈折率層(2) の上に形成さ
れ、２層以上の層より構成されることが好ましい。低屈
折率層の屈折率は１．４５以下が好ましく、特に１．４
０以下が好ましい。高屈折率層の屈折率は１．５７以上
が好ましく、１．５７〜２．５がより好ましく、１．６
５〜２．５が特に好ましい。また、これらの層が支持
体、好ましくは透明フィルム上に塗設されていることが
好ましい。In the antireflection film of the present invention, the low refractive index layer (1) formed by applying the composition by the above method is different from the high refractive index layer (2) having a higher refractive index. It is preferable that it is formed on the upper surface and is composed of two or more layers. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less, particularly 1.4.
0 or less is preferable. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.57 or more, more preferably 1.57 to 2.5, and 1.6.
5-2.5 is particularly preferred. Further, it is preferable that these layers are provided on a support, preferably a transparent film.
【００６４】本発明の反射防止フィルムでは、上記の方
法で組成物を塗設して形成された低屈折率層(1) が、そ
れよりも高い屈折率を有する高屈折率層(2) の上に形成
され、高屈折率層(2) に隣接し、低屈折率層(1) の反対
側に層(1)と層(2)の中間の屈折率を示す中屈折率層(3)
が、さらに中屈折率層と支持体（好ましくは透明フィル
ム）の間に層(4)（支持体下塗り等） が形成された４層
より構成される形態が特に好ましい。低屈折率層(1)に
隣接する高屈折率層(2)の屈折率として１．７以上が好
ましく、１．７〜２．５がより好ましく、１．７５〜
２．５が特に好ましい。In the antireflection film of the present invention, the low refractive index layer (1) formed by applying the composition by the above method is different from the high refractive index layer (2) having a higher refractive index. A medium refractive index layer (3) formed on top and adjacent to the high refractive index layer (2) and having an intermediate refractive index between the layers (1) and (2) on the opposite side of the low refractive index layer (1)
However, a mode in which the layer (4) (support undercoating or the like) is further formed between the middle refractive index layer and the support (preferably a transparent film) is particularly preferable. The refractive index of the high refractive index layer (2) adjacent to the low refractive index layer (1) is preferably 1.7 or more, more preferably 1.7 to 2.5, and more preferably 1.75 to
2.5 is particularly preferred.
【００６５】それぞれの層の膜厚は、層(1) が５０〜２
００nm、層(2) が５０〜２００nm、層(3) が５０〜２０
０nm、層(4) が１μｍ〜１００μｍが好ましく、更に好
ましくは層(1) が６０〜１５０nm、層(2) が５０〜１５
０nm、層(3) が６０〜１５０nm、層(4) が５〜２０μ
ｍ、特に好ましくは層(1) が６０〜１２０nm、層(2) が
５０〜１００nm、層(3) が６０〜１２０nm、層(4) が５
〜１０μｍである。層(4) は屈折率が１．６０以下であ
ることが好ましく、層(3) は層(2) と層(4) の中間の屈
折率が好ましい。The thickness of each layer is 50 to 2 for layer (1).
00 nm, layer (2) 50-200 nm, layer (3) 50-20
0 nm, the layer (4) preferably has a thickness of 1 μm to 100 μm, and more preferably the layer (1) has a thickness of 60 to 150 nm and the layer (2) has a thickness of 50 to 15 μm.
0 nm, layer (3) 60-150 nm, layer (4) 5-20 μm
m, particularly preferably 60 to 120 nm for layer (1), 50 to 100 nm for layer (2), 60 to 120 nm for layer (3), and 5 for layer (4).
〜１０10 μm. The layer (4) preferably has a refractive index of 1.60 or less, and the layer (3) preferably has an intermediate refractive index between the layers (2) and (4).
【００６６】本発明の反射防止フィルムの代表例を図１
に示す。高屈折率層１２が透明フィルム（支持体）１３
上に形成され、さらに低屈折率層１１が高屈折率層１２
上に形成されている。反射防止フィルムを構成する層数
の増加は、通常反射防止フィルムが適用可能な光の波長
範囲を拡大する。これは、金属化合物を用いる従来の多
層膜の形成原理に基づくものである。FIG. 1 shows a typical example of the antireflection film of the present invention.
Shown in High refractive index layer 12 is transparent film (support) 13
Formed on the lower refractive index layer 11
Is formed on. Increasing the number of layers constituting the anti-reflection film generally expands the wavelength range of light to which the anti-reflection film can be applied. This is based on the conventional principle of forming a multilayer film using a metal compound.
【００６７】上記二層を有する反射防止フィルムでは、
高屈折率層１２及び低屈折率層１１がそれぞれ下記の条
件(1) 及び(2) を一般に満足する。 mλ／４×０．７＜ｎ1 ｄ1 ＜ mλ／４×１．３ (1) nλ／４×０．７＜ｎ2 ｄ2 ＜ nλ／４×１．３ (2) 上記式に於て、ｍは正の整数（一般に、１、２又は３）
を表し、ｎ1 は高屈折率層の屈折率を表し、ｄ1 は高屈
折率層の層厚（nm）を表し、ｎは正の奇数（一般に、
１）を表し、ｎ2 は低屈折率層の屈折率を表し、そして
ｄ2 は低屈折率層の層厚（nm）を表す。高屈折率層の屈
折率ｎ1 は、一般に透明フィルムより少なくとも０．０
５高く、そして、低屈折率層の屈折率ｎ2 は、一般に高
屈折率層の屈折率より少なくとも０．１低くかつ透明フ
ィルムより少なくとも０．０５低い。更に、高屈折率層
の屈折率ｎ1 は、一般に１．５７〜２．５の範囲にあ
る。上記条件(1) 及び(2) は、従来から良く知られた条
件であり、例えば、特開昭５９−５０４０１号公報に記
載されている。In the above-described antireflection film having two layers,
The high refractive index layer 12 and the low refractive index layer 11 generally satisfy the following conditions (1) and (2), respectively. mλ / 4 × 0.7 <n 1 d 1 <mλ / 4 × 1.3 (1) nλ / 4 × 0.7 <n 2 d 2 <nλ / 4 × 1.3 (2) at the above-mentioned formula And m is a positive integer (generally 1, 2, or 3)
Where n 1 represents the refractive index of the high refractive index layer, d 1 represents the layer thickness (nm) of the high refractive index layer, and n is a positive odd number (generally,
1), n 2 represents the refractive index of the low refractive index layer, and d 2 represents the layer thickness (nm) of the low refractive index layer. The refractive index n 1 of the high refractive index layer is generally at least 0.0
5 and the refractive index n 2 of the low refractive index layer is generally at least 0.1 lower than the refractive index of the high refractive index layer and at least 0.05 lower than the transparent film. Furthermore, the refractive index n 1 of the high refractive index layer is generally in the range of 1.57 to 2.5. The above conditions (1) and (2) are conventionally well-known conditions, and are described, for example, in JP-A-59-50401.
【００６８】本発明の反射防止フィルムの他の代表例を
図２に示す。下塗層２4と中屈折率層２３が透明フィル
ム（支持体）２５上に形成され、高屈折率層２２が中屈
折層２３上に形成され、さらに低屈折率層２１が高屈折
率層２２上に形成されている。中屈折層率２３の屈折率
は、高屈折率層２２と下塗層２４との間の値を有する。
図２の反射防止フィルムは、図１の反射防止フィルムに
比較して、更に適用可能な光の波長領域が拡がってい
る。FIG. 2 shows another typical example of the antireflection film of the present invention. An undercoat layer 24 and a middle refractive index layer 23 are formed on a transparent film (support) 25, a high refractive index layer 22 is formed on the middle refractive layer 23, and a low refractive index layer 21 is formed on the high refractive index layer 22. Is formed on. The refractive index of the medium refractive index 23 has a value between the high refractive index layer 22 and the undercoat layer 24.
The anti-reflection film of FIG. 2 has a wider applicable wavelength range of light than the anti-reflection film of FIG.
【００６９】三層を有する反射防止フィルムの場合、
中、高及び低屈折率層がそれぞれ下記の条件(3) 〜(5)
を一般に満足する。 ｈλ／４×０．７＜ｎ3 ｄ3 ＜ｈλ／４×１．３ (3) ｋλ／４×０．７＜ｎ4 ｄ4 ＜ｋλ／４×１．３ (4) ｊλ／４×０．７＜ｎ5 ｄ5 ＜ｊλ／４×１．３ (5) 上記式に於て、ｈは正の整数（一般に、１、２又は３）
を表し、ｎ3 は中屈折率層の屈折率を表し、ｄ3 は中屈
折率層の層厚（nm）を表し、ｋは正の整数（一般に、
１、２又は３）を表し、ｎ4 は高屈折率層の屈折率を表
し、ｄ4 は高屈折率層の層厚（nm）を表し、ｊは正の奇
数（一般に、１）を表し、ｎ5 は低屈折率層の屈折率を
表し、そしてｄ5 は低屈折率層の層厚（nm）を表す。中
屈折率層の屈折率ｎ3 は、一般に１．５〜１．７の範囲
にあり、高屈折率層の屈折率ｎ4 は、一般に１．７〜
２．２の範囲にある。In the case of an antireflection film having three layers,
The medium, high and low refractive index layers have the following conditions (3) to (5), respectively.
Is generally satisfied. hλ / 4 × 0.7 <n 3 d 3 <hλ / 4 × 1.3 (3) kλ / 4 × 0.7 <n 4 d 4 <kλ / 4 × 1.3 (4) jλ / 4 × 0.7 <n 5 d 5 <jλ / 4 × 1.3 (5) In the above formula, h is a positive integer (generally 1, 2, or 3)
And n 3 represents the refractive index of the medium refractive index layer, d 3 represents the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer, and k is a positive integer (generally,
1, 2 or 3), n 4 represents the refractive index of the high refractive index layer, d 4 represents the layer thickness (nm) of the high refractive index layer, and j represents a positive odd number (generally, 1). , N 5 represent the refractive index of the low refractive index layer, and d 5 represents the layer thickness (nm) of the low refractive index layer. Refractive index n 3 of the intermediate refractive index layer is generally in the range of 1.5 to 1.7, the refractive index n 4 of the high refractive index layer is generally 1.7 to
It is in the range of 2.2.
【００７０】本発明の反射防止フィルムは、一般に、支
持体とその上に設けられた低屈折率層からなる。支持体
は通常、透明フィルムである。透明フィルムを形成する
材料としては、セルロース誘導体（例、ジアセチルセル
ロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオ
ニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピ
オニルセルロース及びニトロセルロース）、ポリアミ
ド、ポリカーボネート（例、米国特許第３，０２３，１
０１号に記載のもの）、ポリエステル（ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェ
ノキシエタン−４，４′−ジカルボキシレート及び特公
昭４８−４０４１４号公報に記載のポリエステル）、ポ
リスチレン、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリ
プロピレン及びポリメチルペンテン）、ポリメチルメタ
クリレート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリス
ルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、
ポリエーテルイミド及びポリオキシエチレンを挙げるこ
とができる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネー
ト及びポリエチレンテレフタレートが好ましい。透明フ
ィルムの屈折率は１．４０〜１．６０が好ましい。The antireflection film of the present invention generally comprises a support and a low refractive index layer provided thereon. The support is usually a transparent film. Materials for forming the transparent film include cellulose derivatives (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, and nitrocellulose), polyamides, polycarbonates (eg, US Pat. 023,1
No. 01), polyesters (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate) And polyesters described in JP-B-48-40414), polystyrene, polyolefins (eg, polyethylene, polypropylene and polymethylpentene), polymethylmethacrylate, syndiotactic polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone,
Mention may be made of polyetherimide and polyoxyethylene. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The refractive index of the transparent film is preferably from 1.40 to 1.60.
【００７１】本発明の反射防止フィルムが、多層膜であ
る場合、一般に、低屈折率層は、低屈折率層より高い屈
折率を有する少なくとも一層の層（即ち、前記の高屈折
率層、中屈折率層）と共に用いられる。上記低屈折率層
より高い屈折率を有する層を形成するための有機材料と
しては、熱可塑性樹脂（例、ポリスチレン、ポリスチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳
香環、複素環、脂環式環状基を有するポリマー、または
フッ素以外のハロゲン基を有するポリマー）；熱硬化性
樹脂組成物（例、メラミン樹脂、フェノール樹脂、また
はエポキシ樹脂などを硬化剤とする樹脂組成物）；ウレ
タン形成性組成物（例、脂環式または芳香族イソシアネ
ートおよびポリオールの組み合わせ）；およびラジカル
重合性組成物（上記の化合物（ポリマー等）に二重結合
を導入することにより、ラジカル硬化を可能にした変性
樹脂またはプレポリマーを含む組成物）などを挙げるこ
とができる。高い皮膜形成性を有する材料が好ましい。
上記より高い屈折率を有する層は、有機材料中に分散し
た無機系微粒子も使用することができる。上記に使用さ
れる有機材料としては、一般に無機系微粒子が高屈折率
を有するため有機材料単独で用いられる場合よりも低屈
折率のものも用いることができる。そのような材料とし
て、上記に述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニ
ル系共重合体、ポリエステル、アルキド樹脂、繊維素系
重合体、ウレタン樹脂およびこれらを硬化せしめる各種
の硬化剤、硬化性官能基を有する組成物など、透明性が
あり無機系微粒子を安定に分散せしめる各種の有機材料
を挙げることができる。When the antireflection film of the present invention is a multilayer film, the low refractive index layer generally has at least one layer having a higher refractive index than the low refractive index layer (that is, the high refractive index layer, (Refractive index layer). As an organic material for forming a layer having a higher refractive index than the low refractive index layer, a thermoplastic resin (eg, polystyrene, polystyrene copolymer, polycarbonate, an aromatic ring other than polystyrene, a heterocyclic ring, an alicyclic ring) A group-containing polymer or a polymer having a halogen group other than fluorine); a thermosetting resin composition (eg, a resin composition using a melamine resin, a phenol resin, or an epoxy resin as a curing agent); a urethane-forming composition (Eg, a combination of an alicyclic or aromatic isocyanate and a polyol); and a radically polymerizable composition (a modified resin or prepolymer capable of radical curing by introducing a double bond into the above compound (eg, polymer)). A composition containing a polymer). Materials having high film forming properties are preferred.
For the layer having a higher refractive index than the above, inorganic fine particles dispersed in an organic material can also be used. As the organic material used in the above, an inorganic fine particle generally has a high refractive index, so that a material having a lower refractive index than that when the organic material is used alone can also be used. Such materials include, in addition to the organic materials described above, vinyl-based copolymers including acrylics, polyesters, alkyd resins, cellulose-based polymers, urethane resins and various curing agents for curing these, curable Examples of various organic materials that are transparent and can stably disperse inorganic fine particles, such as a composition having a functional group, can be given.
【００７２】さらに有機置換されたケイ素系化合物をこ
れに含めることができる。これらのケイ素系化合物は下
記一般式で表される化合物、あるいはその加水分解生成
物である。 Ｒａ ｍＲｂ n ＳｉＺ(4-m-n) （ここでＲａ及びＲｂは、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミ
ノ、メルカプト、メタクリロイルまたはシアノで置換さ
れた炭化水素基を表し、Ｚは、アルコキシル基、アルコ
キシアルコキシル基、ハロゲン原子及びアシルオキシ基
からなる群より選ばれる加水分解可能な基を表し、ｍ＋
ｎが１または２である条件下で、ｍ及びｎはそれぞれ
０、１または２である。）Further, an organically substituted silicon-based compound is
Can be included in this. These silicon compounds are
A compound represented by the general formula or its hydrolysis
Things. Ra mRb nSiZ(4-mn) (Where RaAnd RbRepresents an alkyl group and an alk
Nyl group, allyl group, or halogen, epoxy,
Substituted with amino, mercapto, methacryloyl or cyano
Z represents an alkoxyl group, an alcohol
Xyalkoxyl group, halogen atom and acyloxy group
Represents a hydrolyzable group selected from the group consisting of
Under the condition that n is 1 or 2, m and n are each
0, 1 or 2. )
【００７３】これらに分散される無機系微粒子の好まし
い無機化合物としては、アルミニウム、チタニウム、ジ
ルコニウム、アンチモンなどの金属元素の酸化物を挙げ
ることができる。これらの化合物は、微粒子状で、即ち
粉末または水および／またはその他の溶媒中へのコロイ
ド状分散体として、市販されている。これらをさらに上
記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合分散して
使用する。Preferred inorganic compounds of the inorganic fine particles dispersed therein include oxides of metal elements such as aluminum, titanium, zirconium and antimony. These compounds are commercially available in particulate form, ie, as a powder or as a colloidal dispersion in water and / or other solvents. These are further mixed and dispersed in the above organic material or organosilicon compound for use.
【００７４】上記より高い屈折率を有する層を形成する
材料として、被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自
身が液状である無機系材料（例、各種元素のアルコキシ
ド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
（例、キレート化合物）、無機ポリマー）を挙げること
ができる。これらの好適な例としては、チタンテトラエ
トキシド、チタンテトラ−ｉ−プロポキシド、チタンテ
トラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシ
ド、チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテトラ−
tert−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アル
ミニウムトリ−ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリブ
トキシド、アンチモントリエトキシド、アンチモントリ
ブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニ
ウムテトラ−ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−
ｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシ
ド、ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド及びジルコ
ニウムテトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコレー
ト化合物；ジイソプロポキシチタニウムビス（アセチル
アセトネート）、ジブトキシチタニウムビス（アセチル
アセトネート）、ジエトキシチタニウムビス（アセチル
アセトネート）、ビス（アセチルアセトンジルコニウ
ム）、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウ
ムジ−ｎ−ブトキシドモノエチルアセトアセテート、ア
ルミニウムジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセトアセ
テート及びトリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモノエチ
ルアセトアセテートなどのキレート化合物；さらには炭
素ジルコニルアンモニウムあるいはジルコニウムを主成
分とする無機ポリマーなどを挙げることができる。上記
に述べた他に、屈折率が比較的低いが上記の化合物と併
用できるものとしてとくに各種のアルキルシリケート類
もしくはその加水分解物、微粒子状シリカとくにコロイ
ド状に分散したシリカゲルも使用することができる。As a material for forming a layer having a higher refractive index as described above, an inorganic material which is film-forming and can be dispersed in a solvent or is itself liquid (eg, alkoxides of various elements, salts of organic acids, Coordination compounds (eg, chelate compounds) bonded to a coordination compound, inorganic polymers) can be mentioned. Preferred examples of these include titanium tetraethoxide, titanium tetra-i-propoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra-sec-butoxide, titanium tetra-oxide.
tert-butoxide, aluminum triethoxide, aluminum tri-i-propoxide, aluminum tributoxide, antimony triethoxide, antimony tributoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-i-propoxide, zirconium tetra-
metal alcoholate compounds such as n-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, zirconium tetra-sec-butoxide and zirconium tetra-tert-butoxide; diisopropoxy titanium bis (acetylacetonate), dibutoxy titanium bis (acetylacetate) ), Diethoxytitanium bis (acetylacetonate), bis (acetylacetone zirconium), aluminum acetylacetonate, aluminum di-n-butoxide monoethylacetoacetate, aluminum di-i-propoxide monomethylacetoacetate and tri-n- Chelate compounds such as butoxide zirconium monoethyl acetoacetate; and inorganic polymers containing zirconyl ammonium or zirconium as a main component Etc. can be mentioned. In addition to those described above, various alkyl silicates or hydrolysates thereof, particularly fine particles of silica, particularly silica gel dispersed in a colloidal form can be used as those having a relatively low refractive index but which can be used in combination with the above compounds. .
【００７５】本発明の反射防止フィルムでは、表面にア
ンチグレア機能（即ち、入射光を表面で散乱させて膜周
囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能）を有するよ
うに処理することが好ましい。例えば、このような機能
を有する反射防止フィルムは、透明フィルムの表面に微
細な凹凸を形成し、そしてその表面に反射防止膜（例、
低屈折率層等）を形成することにより得られる。上記微
細な凹凸の形成は、従来公知のいずれの方法でも良い
が、例えば無機又は有機の微粒子を含む層を透明フィル
ム表面に形成することにより行なわれる。５０nm〜２μ
m の粒径を有する微粒子を低屈折率層形成塗布液に、
０．１〜５０質量％の量で導入し、反射防止フィルムの
最上層に凹凸を形成しても良い。低屈折率層および高屈
折率層の２層で構成される反射防止フィルムにおいて
は、高屈折率層に樹脂または無機化合物の粒子を添加す
ることが好ましく、例えば、シリカ粒子やＴｉＯ２粒
子、架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹
脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、などが好ましく用
いられる。この場合平均粒径は１．０〜１０．０μｍが
好ましく、１．５〜７．０μｍがより好ましい。また、
粒子の形状としては、真球、不定形、のいずれも使用で
きる。異なる２種以上の粒子を併用して用いてもよい。
粒子の塗布量は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ ｍ
２、より好ましくは３０〜１００ｍｇ／ｍ２である。ま
た、高屈折率層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径のシ
リカ粒子が、該シリカ粒子全体の４０〜１００％を占め
ることが好ましい。粒度分布はコールターカウンター法
や遠心沈降法等により測定できるが、分布は粒子数分布
に換算して考える。高屈折率層の膜厚は１〜１０μｍが
好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。上記のごと
くアンチグレア機能を有する（即ち、アンチグレア処理
された）反射防止フィルムでは、一般に３〜３０％のヘ
イズ値を有する。In the antireflection film of the present invention, it is preferable to treat the surface so as to have an antiglare function (ie, a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface). . For example, an antireflection film having such a function forms fine irregularities on the surface of a transparent film, and forms an antireflection film (eg,
Low refractive index layer). The formation of the fine unevenness may be performed by any conventionally known method, for example, by forming a layer containing inorganic or organic fine particles on the surface of the transparent film. 50nm ~ 2μ
m in the low refractive index layer forming coating solution,
It may be introduced in an amount of 0.1 to 50% by mass to form irregularities on the uppermost layer of the antireflection film. In an antireflection film composed of two layers, a low refractive index layer and a high refractive index layer, it is preferable to add resin or inorganic compound particles to the high refractive index layer, for example, silica particles, TiO 2 particles, Acrylic particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, benzoguanamine resin particles, and the like are preferably used. In this case, the average particle size is preferably from 1.0 to 10.0 μm, more preferably from 1.5 to 7.0 μm. Also,
As the shape of the particles, any of a true sphere and an irregular shape can be used. Two or more different particles may be used in combination.
The coating amount of the particles is preferably 10 to 1000 mg / m
2 , more preferably 30 to 100 mg / m 2 . Further, it is preferable that silica particles having a particle diameter larger than half of the film thickness of the high refractive index layer occupy 40 to 100% of the whole silica particles. The particle size distribution can be measured by a Coulter counter method, a centrifugal sedimentation method, or the like, and the distribution is converted into a particle number distribution. The thickness of the high refractive index layer is preferably from 1 to 10 μm, more preferably from 1.2 to 6 μm. As described above, an antireflection film having an antiglare function (ie, an antiglare treatment) generally has a haze value of 3 to 30%.
【００７６】本発明の反射防止フィルム（アンチグレア
機能を有する反射防止フィルムが好ましい）は、液晶表
示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、
エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰
極管表示装置（ＣＲＴ）等の表示装置（好ましくは画像
表示装置）に組み込むことができる。このような反射防
止フィルムを有する表示装置は、入射光の反射が防止さ
れ、視認性が格段に向上する。本発明の反射防止フィル
ムを備えた液晶表示装置（ＬＣＤ）としては、例えば、
透明電極を有する一対の基板とその間に封入されたネマ
チック液晶からなる液晶セル、及び液晶セルの両側に配
置された偏光板からなり、少なくとも一方の偏光板の表
面に本発明の反射防止フィルムを備えている形態を挙げ
ることができる。The anti-reflection film of the present invention (preferably an anti-reflection film having an anti-glare function) can be used for a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP),
It can be incorporated in a display device (preferably an image display device) such as an electroluminescence display (ELD) and a cathode ray tube display (CRT). In a display device having such an antireflection film, reflection of incident light is prevented, and visibility is remarkably improved. As a liquid crystal display (LCD) provided with the antireflection film of the present invention, for example,
A liquid crystal cell composed of a pair of substrates having transparent electrodes and a nematic liquid crystal sealed therebetween, and a polarizing plate disposed on both sides of the liquid crystal cell, the surface of at least one of the polarizing plates including the antireflection film of the present invention. Can be mentioned.
【００７７】本発明においては、中間層としてハードコ
ート層、防湿防止層、帯電防止層等を、透明フィルム上
に設けることもできる。ハードコート層としては、アク
リル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー及び／又は
オリゴマー及びモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）の他
に、シリカ系の材料も使用することができる。In the present invention, a hard coat layer, an anti-moisture layer, an anti-static layer and the like may be provided on the transparent film as an intermediate layer. As the hard coat layer, in addition to acrylic-based, urethane-based, and epoxy-based polymers and / or oligomers and monomers (eg, an ultraviolet curable resin), a silica-based material can also be used.
【００７８】[0078]
【実施例】以下に実施例に基づき本発明についてさらに
詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.
【００７９】＜低屈折率層塗布液の調製＞ 比較ゾル液１の調製（特開平９−２０８８９８号公報記
載の処方） シュウ酸２．４ｇをエタノール１５ｇに溶解した溶液
に、テトラエトキシシランの２．３５ｇとトリデカフル
オロ−１,１，２，２−テトラヒドロオクチル−１−ト
リエトキシシランの１．５５ｇを加え、５時間加熱還流
することによりゾル液１を得た。 比較ゾル液２の調製 撹拌機、還流冷却器を備えた反応器に、テトラエトキシ
シラン１００ｇ、トリフルオロプロピルトリメトキシシ
ラン１００ｇ、および３−アクリロイルオキシプロピル
トリメトキシシラン５０ｇ、エタノール４０ｇを加え混
合した後、イオン交換水３０ｇを加え、６０℃で３時間
反応させた後、室温まで冷却し、比較ゾル液２を得た。<Preparation of Coating Solution for Low Refractive Index Layer> Preparation of Comparative Sol Solution 1 (Prescription described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-208898) A solution prepared by dissolving 2.4 g of oxalic acid in 15 g of ethanol was mixed with 2 g of tetraethoxysilane. .35 g and 1.55 g of tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl-1-triethoxysilane were added, and the mixture was heated under reflux for 5 hours to obtain a sol liquid 1. Preparation of Comparative Sol 2 In a reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 100 g of tetraethoxysilane, 100 g of trifluoropropyltrimethoxysilane, 50 g of 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and 40 g of ethanol were added and mixed. After adding 30 g of ion-exchanged water and reacting at 60 ° C. for 3 hours, the mixture was cooled to room temperature to obtain Comparative Sol 2.
【００８０】下記表１に示す各成分をエタノールおよび
メチルエチルケトンの混合溶媒に溶解することにより、
本発明に規定する低屈折率素材塗布液および比較用低屈
折率素材塗布液を作製した。表１中の各成分の添加量は
固形分の質量部を表わし、ＡＰＳは過硫酸アンモニウム
を表わし、ＴＭＥＤＡはテトラメチルエチレンジアミン
を表わす。By dissolving each component shown in Table 1 below in a mixed solvent of ethanol and methyl ethyl ketone,
A low refractive index material coating liquid and a comparative low refractive index material coating liquid specified in the present invention were prepared. The amount of each component added in Table 1 represents parts by mass of the solid content, APS represents ammonium persulfate, and TMEDA represents tetramethylethylenediamine.
【００８１】[0081]
【化２０】 Embedded image
【００８２】[0082]
【表１】 [Table 1]
【００８３】＜第一層（ハードコート層）用塗布液の調
製＞ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、商品名、日本化薬（株）製）１２５ｇおよびウレ
タンアクリレートオリゴマー（ＵＶ−６３００Ｂ、商品
名、日本合成化学工業（株）製）１２５ｇを、４３９ｇ
の工業用変性エタノールに溶解した。得られた溶液に、
光重合開始剤（イルガキュア９０７、商品名、チバ−ガ
イギー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュア−Ｄ
ＥＴＸ、商品名、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇ
のメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。混合物
を撹拌した後、１ミクロンメッシュのフィルターでろ過
してハードコート層の塗布液を調製した。<Preparation of Coating Solution for First Layer (Hard Coat Layer)> A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DP
439 g of 125 g of HA, trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. and 125 g of urethane acrylate oligomer (UV-6300B, trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
Was dissolved in denatured ethanol for industrial use. In the resulting solution,
7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, trade name, manufactured by Ciba-Geigy) and a photosensitizer (Kayacure-D)
49 g of 5.0 g of ETX (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Was dissolved in methyl ethyl ketone. After stirring the mixture, the mixture was filtered through a 1-micron mesh filter to prepare a coating solution for the hard coat layer.
【００８４】＜二酸化チタン分散物の調製＞二酸化チタ
ン（一次粒子質量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率２．７
０）３０質量部、アニオン性ジアクリレートモノマー
（ＰＭ２１、商品名、日本化薬（株）製）４．５質量
部、カチオン性メタクリレートモノマー（ＤＭＡＥＡ、
商品名、興人（株）製）０．３質量部およびメチルエチ
ルケトン６５．２質量部を、サンドグラインダーにより
分散し、二酸化チタン分散物を調製した。<Preparation of Titanium Dioxide Dispersion> Titanium dioxide (primary particle mass average particle diameter: 50 nm, refractive index 2.7)
0) 30 parts by mass, 4.5 parts by mass of an anionic diacrylate monomer (PM21, trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), a cationic methacrylate monomer (DMAEA,
0.3 parts by mass (trade name, manufactured by Kojin Co., Ltd.) and 65.2 parts by mass of methyl ethyl ketone were dispersed by a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion.
【００８５】＜第二層（中屈折率層）塗布液の調製＞シ
クロヘキサノン１５１．９ｇおよびメチルエチルケトン
３７．０ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バ−ガイギー社製）０．１４ｇおよび光増感剤（カヤキ
ュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４ｇを溶解
した。さらに、二酸化チタン分散物６．１ｇおよびジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）２．４ｇを加え、室温で３０分間撹拌
した後、１ミクロンのメッシュのフィルターでろ過し
て、中屈折率層用塗布液を調製した。<Preparation of Coating Solution for Second Layer (Medium Refractive Index Layer)> To 151.9 g of cyclohexanone and 37.0 g of methyl ethyl ketone, 0.14 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba-Geigy) and photosensitization 0.04 g of an agent (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved. Further, 6.1 g of a titanium dioxide dispersion and 2.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then 1 micron in size. To obtain a coating solution for a medium refractive index layer.
【００８６】＜第三層（高屈折率層）塗布液の調製＞シ
クロヘキサノン１５２．８ｇおよびメチルエチルケトン
３７．２ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バ−ガイギー社製）０．０６ｇおよび光増感剤（カヤキ
ュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを溶解
した。さらに、二酸化チタン分散物１３．１３ｇおよび
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）０．７６ｇを加え、室温で３０
分間撹拌した後、１ミクロンのメッシュのフィルターで
ろ過して、高屈折率層用塗布液を調製した。<Preparation of Coating Solution for Third Layer (High Refractive Index Layer)> To 152.8 g of cyclohexanone and 37.2 g of methyl ethyl ketone, 0.06 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba-Geigy) and photosensitization 0.02 g of an agent (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved. Further, 13.13 g of a titanium dioxide dispersion and a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPH)
A, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
After stirring for 1 minute, the mixture was filtered through a 1-micron mesh filter to prepare a coating solution for a high refractive index layer.
【００８７】＜反射防止フィルムの作成＞８０ミクロン
の厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−Ｔ
Ｄ８０Ｕ、商品名、富士写真フイルム（株）製）に、ゼ
ラチン下塗り層を設け、ゼラチン下塗り層の上に、上記
のハードコート層の塗布液を、バーコータを用いて塗布
し、１２０℃で乾燥した。次に窒素雰囲気下紫外線を照
射して、塗布層を硬化させ、厚さ７．５ミクロンのハー
ドコート層を形成した。続いて、上記中屈折率層用の塗
布液をハードコート層の上にバーコータを用いて塗布
し、１２０℃で乾燥した後、窒素雰囲気下紫外線を照射
して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率：１．７
２、厚さ：０．０８１ミクロン）を形成した。続いて、
中屈折率層の上に上記高屈折率層用塗布液をバーコータ
を用いて塗布し、１２０℃で乾燥した後、紫外線を照射
して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９
２、厚さ：０．０５３ミクロン）を形成した。さらに、
上記表１に示した低屈折率層用塗布液（本発明規定塗布
液Ｎｏ．１〜８および比較用塗布液Ｎｏ．９、１０）を
それぞれ、高屈折率層上にバーコータを用いて厚さ８５
nmとなる様に塗布し、窒素雰囲気下紫外線を照射した
後、１２０℃で3時間乾燥して、低屈折率層を形成し
た。<Preparation of Antireflection Film> A triacetyl cellulose film (TAC-T) having a thickness of 80 μm was used.
D80U (trade name, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was provided with a gelatin undercoat layer, and the above-mentioned hard coat layer coating solution was applied on the gelatin undercoat layer using a bar coater, and dried at 120 ° C. . Next, ultraviolet rays were irradiated in a nitrogen atmosphere to cure the coating layer, thereby forming a hard coat layer having a thickness of 7.5 μm. Subsequently, the coating liquid for the above-mentioned medium refractive index layer is applied on the hard coat layer using a bar coater, dried at 120 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen atmosphere to cure the coating layer. Layer (refractive index: 1.7
2, thickness: 0.081 microns). continue,
The coating solution for a high refractive index layer is applied on the middle refractive index layer by using a bar coater, dried at 120 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, thereby obtaining a high refractive index layer (refractive index: 1). .9
2, thickness: 0.053 microns). further,
Each of the coating liquids for the low refractive index layer shown in Table 1 above (the coating liquids Nos. 1 to 8 of the present invention and the coating liquids Nos. 9 and 10 for comparison) was coated on the high refractive index layer by using a bar coater. 85
It was applied so as to have a thickness of nm, was irradiated with ultraviolet rays in a nitrogen atmosphere, and was then dried at 120 ° C. for 3 hours to form a low refractive index layer.
【００８８】＜塗設フィルムの性能評価＞こうして得ら
れた第１〜４層を塗設したフィルム（本発明実施例１〜
８、比較例１、２）について、下記性能評価を実施し
た。<Evaluation of Performance of Coated Film> A film coated with the first to fourth layers thus obtained (Examples 1 to 4 of the present invention)
8, the following performance evaluations were performed for Comparative Examples 1 and 2).
【００８９】（１）平均反射率 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの鏡面
平均反射率を用いた。(1) Average reflectance: 380-7 using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation)
The spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 80 nm. The mirror average reflectance of 450 to 650 nm was used for the results.
【００９０】（２）鉛筆硬度評価 反射防止フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時
間調湿した後、ＪＩＳＫ ５４００に記載の鉛筆硬度評
価を行った。(2) Evaluation of Pencil Hardness After the antireflection film was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH, a pencil hardness evaluation described in JISK 5400 was performed.
【００９１】（３）耐傷性試験 膜表面をスチールウール＃００００を用いて、２００ｇ
の荷重下で３０回擦った後に、傷のつくレベルを確認し
た。判定は次の基準に従った。 全くつかない ：○ 細かい傷がつく：△ 傷が著しい ：×(3) Scratch resistance test The surface of the film was measured using steel wool # 0000 to a thickness of 200 g.
After rubbing under a load of 30 times, the level of scratching was confirmed. The judgment was based on the following criteria. Not at all: ○ Fine scratches: △ Scratch is severe: ×
【００９２】（４）密着性評価 碁盤目―セロテープ（登録商標）剥離試験をＪＩＳ Ｋ
５４００に準拠して行った。(4) Evaluation of Adhesion Crosscut-Cellotape (registered trademark) peel test was conducted according to JIS K
Performed according to 5400.
【００９３】（５）アルカリ処理耐性評価 ５５℃に加熱した１．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液に１
分間浸漬した後、水洗、乾燥し、アルカリ処理前後での
低屈折率層の膜厚変化を調べた。判定は次の基準に従っ
た。 膜厚変化５％未満 ： ○ 膜厚変化５％〜２０％ ： △ 膜厚変化２０％を越える： × 得られた結果を表２に示す。(5) Evaluation of resistance to alkali treatment A 1N aqueous solution of 1.5 N sodium hydroxide heated to 55 ° C.
After immersion for a minute, the film was washed with water, dried, and the change in the thickness of the low refractive index layer before and after the alkali treatment was examined. The judgment was based on the following criteria. Less than 5% change in film thickness: ○ 5% to 20% change in film thickness: Δ More than 20% change in film thickness: × The results obtained are shown in Table 2.
【００９４】[0094]
【表２】 [Table 2]
【００９５】実施例１〜８から明らかなように、本発明
の反射防止フィルムは広い波長領域で、非常に低い表面
反射率を有し、かつ十分に強靱な膜強度を有し、さらに
基材への密着性及びアルカリ処理耐性に極めて優れるこ
とがわかる。一方、比較例では反射率は低いが、膜強度
および基盤への密着性が不十分でありアルカリ処理耐性
にも劣ることが分かる。As is apparent from Examples 1 to 8, the antireflection film of the present invention has a very low surface reflectance in a wide wavelength range, has a sufficiently strong film strength, and It can be seen that the adhesiveness to alkali and the resistance to alkali treatment are extremely excellent. On the other hand, in the comparative example, although the reflectance is low, it can be seen that the film strength and the adhesion to the substrate are insufficient and the alkali treatment resistance is poor.
【００９６】＜反射防止フィルムを設置した表示装置の
作成＞上記で作成した実施例１〜８、比較例１、２の反
射防止フィルムを日本電気株式会社より入手したパーソ
ナルコンピューターＰＣ９８２１ＮＳ／３４０Ｗ（商品
名）の液晶ディスプレイ表面に貼り付け、表面装置サン
プルを作成し、その表面反射による風景映り込み程度を
目視にて評価した。本発明の実施例１〜７の反射防止フ
ィルムを設置した表示装置は周囲の風景映り込みが殆ど
なく、快適な視認性を示しかつ充分な表面強度を有する
ものであったのに対し、比較例のフィルムを設置した表
示装置は周囲の映り込みはある程度低減できるものの表
面強度にも劣るものであった。<Preparation of Display Device Having Antireflection Film Installed> The antireflection films of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 prepared above were obtained from a personal computer PC9821NS / 340W (trade name) obtained from NEC Corporation. ) Was attached to the surface of the liquid crystal display to prepare a surface device sample, and the degree of reflection of the scenery due to the surface reflection was visually evaluated. The display devices provided with the anti-reflection films of Examples 1 to 7 of the present invention showed little visibility of surrounding scenery, showed comfortable visibility and had sufficient surface strength, whereas Comparative Examples Although the display device provided with the film described above can reduce the reflection of the surroundings to some extent, it is also inferior in surface strength.
【００９７】[0097]
【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、反射防止
性能が高く、耐傷性、基材への密着性、アルカリ処理耐
性にも優れ、低コストで製造することができる。この反
射防止フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置は、外
光の映り込みが十分に防止されているうえ、耐傷性も高
いという優れた性質を有する。The antireflection film of the present invention has a high antireflection performance, is excellent in scratch resistance, adhesion to a substrate, and alkali treatment resistance, and can be manufactured at low cost. The polarizing plate and the liquid crystal display device using this antireflection film have excellent properties that reflection of external light is sufficiently prevented and scratch resistance is high.
【図１】本発明の反射防止フィルムの一例の概略構成図
である。FIG. 1 is a schematic structural view of an example of the antireflection film of the present invention.
【図２】本発明の反射防止フィルムにおいて、中屈折率
層を有する一例の概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an example having a medium refractive index layer in the antireflection film of the present invention.
１１ 低屈折率層 １２ 高屈折率層 １３ 透明フィルム（支持体） ２１ 低屈折率層 ２２ 高屈折率層 ２３ 中屈折率層 ２４ 下塗層 ２５ 透明フィルム（支持体） DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Low refractive index layer 12 High refractive index layer 13 Transparent film (support) 21 Low refractive index layer 22 High refractive index layer 23 Medium refractive index layer 24 Undercoat layer 25 Transparent film (support)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H091 FA08X FA08Z FA37X FA37Y FA37Z LA02 LA12 LA16 2K009 AA05 AA06 AA15 BB28 CC03 CC24 CC26 CC42 DD02 DD05 4F100 AA21H AH06B AJ08 AK14B AK21B AK25 AK51 AK52B AL01B AL05B AT00A BA02 EH46 EH461 EH462 EH463 EJ08 EJ081 EJ082 EJ083 EJ54 EJ541 EJ542 EJ543 EJ86 EJ861 EJ862 EJ863 GB41 JN06 JN10 JN18B 5C058 AA06 BA08 DA01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (Reference) 2H091 FA08X FA08Z FA37X FA37Y FA37Z LA02 LA12 LA16 2K009 AA05 AA06 AA15 BB28 CC03 CC24 CC26 CC42 DD02 DD05 4F100 AA21H AH06B AJ08 AK14B AK21B AK25 E46HB E46H46B EJ081 EJ082 EJ083 EJ54 EJ541 EJ542 EJ543 EJ86 EJ861 EJ862 EJ863 GB41 JN06 JN10 JN18B 5C058 AA06 BA08 DA01
Claims (7)
るアルコキシシランまたはその加水分解部分縮合物を含
有する塗布液組成物を塗設し、硬化させて形成された低
屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルム。 一般式（１） 【化１】 式中、Ｒ１はアルキル基、アリール基、アルケニル基及
びアルキニル基からなる群より選択される少なくとも１
種を表わし、Ｒ２は重合可能なエチレン性不飽和基を有
する置換基によって置換されたアルキル基を表わし、ｘ
は１〜４の整数を表わす。1. A low refractive index layer formed by coating a coating solution composition containing an alkoxysilane represented by the following general formula (1) or a hydrolyzed partial condensate thereof on a support and curing the coating solution. An anti-reflection film characterized by having. General formula (1) In the formula, R 1 is at least one selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group and an alkynyl group.
R 2 represents an alkyl group substituted by a substituent having a polymerizable ethylenically unsaturated group;
Represents an integer of 1 to 4.
原子を置換基として有することを特徴とする請求項１に
記載の反射防止フィルム。2. The antireflection film according to claim 1, wherein R 2 in the general formula (1) has a fluorine atom as a substituent.
で表わされる少なくとも１種のオルガノシランの加水分
解部分縮合物を含有することを特徴とする請求項１また
は２に記載の反射防止フィルム。 一般式（２） 【化２】 式中、Ｒ３はアルキル基、アリール基、アルケニル基及
びアルキニル基からなる群より選択される少なくとも１
種を表わし、Ｒ４は重合可能なエチレン性不飽和基を含
有しないアルコキシ基もしくはアシルオキシ基またはハ
ロゲン原子を表わし、ｙは１〜４の整数を表わす。3. The composition according to claim 1, wherein the coating composition has the following general formula (2):
The antireflection film according to claim 1, further comprising a hydrolyzed partial condensate of at least one organosilane represented by the following formula: General formula (2) In the formula, R 3 is at least one selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group and an alkynyl group.
R 4 represents an alkoxy group or an acyloxy group containing no polymerizable ethylenically unsaturated group or a halogen atom, and y represents an integer of 1 to 4.
シランの少なくとも１種がパーフルオロアルキル基を置
換基として有することを特徴とする請求項３に記載の反
射防止フィルム。4. The antireflection film according to claim 3, wherein at least one of the organosilanes represented by the general formula (2) has a perfluoroalkyl group as a substituent.
または（２）で表わされる化合物以外に、少なくとも１
つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する含フッ素化
合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする請求
項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。5. The composition according to claim 1, wherein the coating liquid composition has the general formula (1)
Or at least one compound other than the compound represented by (2)
The antireflection film according to any one of claims 1 to 4, comprising at least one fluorine-containing compound having two polymerizable ethylenically unsaturated groups.
るアルコキシシランまたはその加水分解部分縮合物を含
有する塗布液組成物を塗設し、硬化させて低屈折率層を
形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方
法。 一般式（１） 【化３】 式中、Ｒ１はアルキル基、アリール基、アルケニル基及
びアルキニル基からなる群より選択される少なくとも１
種を表わし、Ｒ２は重合可能なエチレン性不飽和基を有
する置換基によって置換されたアルキル基を表わし、ｘ
は１〜４の整数を表わす。6. A low-refractive-index layer is formed by coating a coating composition containing an alkoxysilane represented by the following general formula (1) or a hydrolyzed partial condensate thereof on a support and curing the coating composition. A method for producing an antireflection film, comprising: General formula (1) In the formula, R 1 is at least one selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.
R 2 represents an alkyl group substituted by a substituent having a polymerizable ethylenically unsaturated group;
Represents an integer of 1 to 4.
射防止フィルムを配置したことを特徴とする表示装置。7. A display device comprising the anti-reflection film according to claim 1.
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