JP2002243624A - Particle diameter distribution measuring instrument - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、分散している粒子
に光を照射することによって生じる回折現象もしくは散
乱現象を利用して、試料粒子の粒径分布を測定するレー
ザ回折／散乱式粒径分布測定装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser diffraction / scattering type particle size measuring method for measuring the particle size distribution of sample particles by utilizing a diffraction phenomenon or a scattering phenomenon caused by irradiating dispersed particles with light. The present invention relates to a distribution measuring device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、粒子による光の回折もしくは
散乱現象を利用した粒径分布測定装置では、回折光もし
くは散乱光の強度分布、つまり回折角もしくは散乱角と
光強度との関係を測定し、これにフランホーファ回折も
しくはミー拡散の理論に基づく演算処理を施すことによ
って、試料粒子の粒径分布が算出される。2. Description of the Related Art Conventionally, a particle size distribution measuring apparatus utilizing the diffraction or scattering phenomenon of light by particles measures the intensity distribution of diffracted light or scattered light, that is, the relationship between the diffraction angle or scattering angle and the light intensity. The particle size distribution of the sample particles is calculated by performing an arithmetic process based on the theory of Franhofer diffraction or Mie diffusion.
【０００３】図６はこの種の粒径分布測定装置の従来例
を示す斜視図である。図６において、フローセル１は媒
体中に分散する試料粒子が流される透明容器であり、こ
のフローセル１に対してレーザ光学系２から平行レーザ
光Ｌが照射される。また、これとは別に、上記フローセ
ル１には、単一波長光学系３から単一波長光Ｍが照射さ
れる。FIG. 6 is a perspective view showing a conventional example of this type of particle size distribution measuring device. In FIG. 6, a flow cell 1 is a transparent container through which sample particles dispersed in a medium flow, and a parallel laser beam L is applied to the flow cell 1 from a laser optical system 2. Apart from this, the single-wavelength optical system 3 irradiates the single-wavelength light M to the flow cell 1.
【０００４】上記フローセル１内の試料粒子によって回
折もしくは散乱するレーザ光Ｌは、レンズ４を介してリ
ング状検出器（リングディテクタ）５で受光され、その
散乱光強度の測定値の分布（散乱光強度パターン）から
比較的に粒子径の大きい試料粒子についての粒径分布が
得られる。The laser beam L diffracted or scattered by the sample particles in the flow cell 1 is received by a ring-shaped detector (ring detector) 5 via a lens 4, and the distribution of the measured value of the scattered light intensity (scattered light) From the intensity pattern), a particle size distribution for sample particles having a relatively large particle size can be obtained.
【０００５】また、同じく試料粒子によって回折もしく
は散乱する単一波長光Ｍは、上記フローセル１に対して
互いに異なる散乱角位置に配置した複数の検出器（フォ
トセンサ）６ａ，６ｂ…で受光され、その測定光強度の
分布から比較的に粒子径の小さい試料粒子についての粒
径分布が求められる。The single-wavelength light M which is also diffracted or scattered by the sample particles is received by a plurality of detectors (photosensors) 6a, 6b,. From the distribution of the measured light intensity, the particle size distribution of the sample particles having a relatively small particle size is obtained.
【０００６】７はレーザダイオード、８はコリメータレ
ンズ、９は光源ランプ、１０は球面ミラー、１１はスリ
ット、１２は集光レンズ、１３は干渉フィルタ、１４は
測光スリットである。Reference numeral 7 denotes a laser diode, 8 denotes a collimator lens, 9 denotes a light source lamp, 10 denotes a spherical mirror, 11 denotes a slit, 12 denotes a condenser lens, 13 denotes an interference filter, and 14 denotes a photometric slit.
【０００７】上記構成の粒径分布測定装置では、レーザ
光学系２によるレーザ光Ｌと、単一波長光学系３による
単一波長光Ｍとを同じフローセル１に照射し、フローセ
ル１内の試料粒子によって回折ないし散乱するレーザ光
Ｌはリングディテクタ５で受光し、その光強度分布を測
定すると同時に、試料粒子によって回折ないし散乱する
単一波長光Ｍは複数の検出器６ａ，６ｂ…で受光し、そ
の光強度を測定する。したがって、レーザ光Ｌによる測
定では比較的に粒子径の大きい粒径分布が測定され、単
一波長光Ｍによる測定では比較的に粒子径の小さい粒径
分布が測定されることになり、装置全体として小さい粒
子径から大きい粒子径にまたがる粒径分布を測定でき
る。In the particle size distribution measuring apparatus having the above configuration, the same flow cell 1 is irradiated with the laser light L from the laser optical system 2 and the single wavelength light M from the single wavelength optical system 3, and the sample particles in the flow cell 1 The laser beam L diffracted or scattered by the sampler is received by the ring detector 5 and its light intensity distribution is measured. At the same time, the single wavelength light M diffracted or scattered by the sample particles is received by the plurality of detectors 6a, 6b,. The light intensity is measured. Therefore, in the measurement using the laser beam L, a particle size distribution having a relatively large particle size is measured, and in the measurement using the single wavelength light M, a particle size distribution having a relatively small particle size is measured. The particle size distribution can be measured from a small particle size to a large particle size.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記構成の
粒径分布測定装置は、その測定原理上サンプル粒子の濃
度が濃い場合に、正確な測定を行うことができないとい
う問題点があった。すなわち、サンプルに多数の試料粒
子が存在する場合、各検出器５，６ａ，６ｂ，…によっ
て実際に検出される散乱光強度パターンには、一度粒子
から散乱した光が他の粒子により散乱／反射／吸収され
ることで減衰することや、散乱光が別の粒子でさらに散
乱する多重散乱による影響があり、理論式からの誤差が
含まれている。そして、この減衰および多重散乱による
散乱光強度パターンの誤差は粒子径が小さいほど、ま
た、高濃度になるほど大きくなる。However, the particle size distribution measuring device having the above structure has a problem that accurate measurement cannot be performed when the concentration of sample particles is high due to the principle of measurement. That is, when a large number of sample particles are present in the sample, the scattered light intensity pattern actually detected by each of the detectors 5, 6a, 6b,... / Attenuation due to absorption and the effect of multiple scattering in which the scattered light is further scattered by another particle, which includes errors from the theoretical formula. The error of the scattered light intensity pattern due to the attenuation and the multiple scattering increases as the particle diameter decreases and as the concentration increases.
【０００９】従来から、一般的にレーザ回折／散乱式の
粒径分布測定装置では、入射光がセルを透過する光（直
進光）を検出し、この直進光の割合（透過率）によりす
べての散乱光強度の測定値を補正するが、この散乱光強
度の補正は対応する散乱角度に関係なく一意的に行われ
るので、前記減衰や多重散乱による影響を補正するには
至っていなかった。したがって、減衰および多重散乱に
よる誤差の含まれる散乱光強度パターンを用いて粒径分
布演算を行なうことにより、粒径分布の測定結果に測定
誤差を生み出す要因となっていた。Conventionally, in general, a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring apparatus detects light (straight light) through which incident light passes through a cell, and determines all the light by the ratio (transmittance) of this straight light. The measured value of the scattered light intensity is corrected, but since the correction of the scattered light intensity is uniquely performed irrespective of the corresponding scattering angle, the effects of the attenuation and the multiple scattering have not been corrected. Therefore, by performing the particle size distribution calculation using the scattered light intensity pattern including the error due to the attenuation and the multiple scattering, a measurement error is caused in the measurement result of the particle size distribution.
【００１０】一方、散乱光強度パターンに含まれる測定
誤差の影響を除去するために、粒径分布の解析演算の段
階で多重散乱の含まれる散乱光強度パターンの理論値と
比較し、繰り返し演算することにより多重散乱の影響を
加味した粒径分布の解析演算を行なうことが考えられ
る。しかしながら、このような方法で多重散乱の影響を
除去しようとすると、粒径分布を求めるための解析演算
が複雑になることは避けられず、これによって高度な処
理能力を必要とする演算処理部を設ける必要や、複雑な
ソフトウェアを開発する必要が生じ、現実的ではなかっ
た。On the other hand, in order to remove the influence of the measurement error contained in the scattered light intensity pattern, it is compared with the theoretical value of the scattered light intensity pattern containing the multiple scattering at the stage of the analysis calculation of the particle size distribution, and the calculation is repeated. Accordingly, it is conceivable to perform an analysis calculation of the particle size distribution in consideration of the influence of multiple scattering. However, in order to eliminate the influence of multiple scattering by such a method, it is inevitable that the analysis calculation for obtaining the particle size distribution becomes complicated, and this requires a calculation processing unit that requires a high processing capability. It was necessary to provide and develop complex software, which was not practical.
【００１１】そこで、本出願人は特許第２８７６２５３
号に示すように、試料容器を透過するレーザ光の光強度
を測定して、その透過率に応じた量だけリング状ディテ
クタおよびフォトセンサ群の測定値データを各散乱角ご
とに補正する補正手段を設けた粒径分布測定装置を提案
している。しかしながら、この装置では、多重散乱によ
って生じた測定誤差の影響を逓減できるものの、散乱光
の吸収や反射などによって生じる減衰の影響を補正して
いなかった。つまり、多重散乱による影響は減衰による
影響と異なる状態で現れるので、この粒径分布測定装置
では多重散乱による影響を取り除いても減衰による測定
値データの誤差を取り除くことはできなかった。Therefore, the applicant of the present invention has a patent No. 2876253.
Correction means for measuring the light intensity of the laser light transmitted through the sample container and correcting the measured value data of the ring-shaped detector and the photosensor group for each scattering angle by an amount corresponding to the transmittance. We have proposed a particle size distribution measuring device provided with. However, in this apparatus, although the influence of the measurement error caused by the multiple scattering can be gradually reduced, the influence of the attenuation caused by the absorption or reflection of the scattered light is not corrected. In other words, since the influence of multiple scattering appears in a different state from the influence of attenuation, this particle size distribution measuring apparatus could not remove the error of measured value data due to attenuation even if the influence of multiple scattering was removed.
【００１２】本発明は、上述の事柄を考慮に入れてなさ
れたものであって、散乱光強度パターンの誤差要因とな
っている散乱光の減衰による影響を除去して、粒径分布
の測定精度を向上できる粒径分布測定装置を提供するこ
とを目的とする。The present invention has been made in consideration of the above-described circumstances, and removes the influence of attenuation of scattered light, which is an error factor of a scattered light intensity pattern, to reduce the measurement accuracy of the particle size distribution. It is an object of the present invention to provide a particle size distribution measuring device capable of improving the particle size distribution.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、第１発明の粒径分布測定装置は、測定対象となる粒
子を分散した状態で収容するセルと、このセルに対して
光を照射する光源と、光が前記粒子に当たって回折もし
くは散乱する各散乱角度ごとの散乱光強度をそれぞれ測
定する検出器と、各散乱角度に対応する散乱光強度の測
定値を用いて前記粒子の粒径分布を求める演算処理部と
を有する粒径分布測定装置において、前記光源の光軸上
の検出器による光強度の測定値から求められる、セルを
直進する透過光の減衰量を用いて、各散乱角度に対応す
る散乱光強度をそれぞれ補正することにより散乱光強度
の減衰による影響を補正する測定値補正手段を有するこ
とを特徴としている。In order to achieve the above object, a particle size distribution measuring apparatus according to a first aspect of the present invention includes a cell for accommodating particles to be measured in a dispersed state, and irradiating the cell with light. A light source, a detector that measures the scattered light intensity at each scattering angle at which light is diffracted or scattered upon the particles, and a particle size distribution of the particles using a measured value of the scattered light intensity corresponding to each scattering angle. In the particle size distribution measuring device having an arithmetic processing unit for calculating the scattering angle, using the attenuation of the transmitted light traveling straight through the cell, obtained from the measured value of the light intensity by the detector on the optical axis of the light source, The present invention is characterized in that it has a measurement value correcting means for correcting the influence of the attenuation of the scattered light intensity by correcting the scattered light intensity corresponding to the above.
【００１４】すなわち、光源の光軸上の検出器による光
強度の測定値を用いて、セルを透過（直進）する際の減
衰量を求め、測定対象試料（サンプル）の濃度に関する
情報を得ることができる。また、サンプルの濃度が分か
れば、検出器によって測定された散乱光強度パターンに
減衰による影響がどの程度生じているのかを判断するこ
とができる。そして、減衰による影響の度合いが分かれ
ば、各散乱角度に対応する散乱光強度をそれぞれ補正す
ることにより、散乱光強度パターンを減衰による影響を
取り除いた状態に補正することができる。That is, by using the measured value of the light intensity by the detector on the optical axis of the light source, the amount of attenuation when transmitting (straight) through the cell is obtained, and information on the concentration of the sample to be measured (sample) is obtained. Can be. Further, if the concentration of the sample is known, it is possible to judge how much the influence of attenuation has occurred on the scattered light intensity pattern measured by the detector. Then, if the degree of the influence of the attenuation is known, the scattered light intensity pattern corresponding to each scattering angle is corrected, whereby the scattered light intensity pattern can be corrected to a state in which the influence of the attenuation is removed.
【００１５】つまり、粒径分布の演算に用いる散乱光強
度パターンとして、検出器によって測定された散乱光強
度パターンをそのまま用いるのではなく、誤差を軽減す
る補正後の散乱光強度パターンを用いることにより、試
料粒子の粒子径が小さく高濃度であっても、粒径分布を
精度よく測定することができる。とりわけ、各散乱角度
に対応する散乱光強度をそれぞれ補正するので、補正強
度を各散乱角度に対応する検出チャンネルごとに設定で
き、それぞれの検出チャンネルに適した補正を施すこと
ができる。That is, instead of using the scattered light intensity pattern measured by the detector as it is as the scattered light intensity pattern used for the calculation of the particle size distribution, the corrected scattered light intensity pattern for reducing errors is used. Even if the sample particles have a small particle size and a high concentration, the particle size distribution can be accurately measured. In particular, since the scattered light intensity corresponding to each scattering angle is respectively corrected, the correction intensity can be set for each detection channel corresponding to each scattering angle, and correction appropriate for each detection channel can be performed.
【００１６】前記測定値補正手段が前記透過光の減衰量
を用いて、各散乱角度に対応する散乱光強度をそれぞれ
補正して、多重散乱による影響を補正する機能を有する
場合には、検出器によって測定された散乱光強度パター
ンから減衰による影響のみならず多重散乱による影響も
取り除くことができ、補正後の散乱光強度パターンを用
いて粒径分布を求めることにより、より正確な分析を行
うことができる。In the case where the measured value correcting means has a function of correcting the scattered light intensity corresponding to each scattering angle by using the attenuation of the transmitted light to correct the influence of multiple scattering, In addition to the effects of attenuation, the effects of multiple scattering can be removed from the scattered light intensity pattern measured by the method, and a more accurate analysis can be performed by determining the particle size distribution using the corrected scattered light intensity pattern. Can be.
【００１７】第２発明の粒径分布測定装置は、測定対象
となる粒子を分散した状態で収容するセルと、このセル
に対して光を照射する光源と、光が前記粒子に当たって
回折もしくは散乱する各散乱角度ごとの散乱光強度をそ
れぞれ測定する検出器と、演算処理部と、この演算処理
部によって実行されて各散乱角度に対応する散乱光強度
の測定値を用いて前記粒子の粒径分布を求める演算プロ
グラムを記録した記録媒体とを有する粒径分布測定装置
において、前記演算プログラムが前記光源の光軸上の検
出器による光強度の測定値からセルを直進する透過光の
減衰量を求め、この透過光の減衰量を用いて各散乱角度
に対応する散乱光強度をそれぞれ補正演算することによ
り散乱光強度の減衰による影響を補正するものであるこ
とを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided a particle size distribution measuring apparatus in which a cell for accommodating particles to be measured is dispersed, a light source for irradiating the cell with light, and the light impinges on the particles to diffract or scatter. A detector for measuring the scattered light intensity for each scattering angle, an arithmetic processing unit, and a particle size distribution of the particles using a measured value of the scattered light intensity corresponding to each scattering angle executed by the arithmetic processing unit And a recording medium having recorded thereon an arithmetic program for determining the amount of transmitted light that travels straight through the cell from the measured value of the light intensity by the detector on the optical axis of the light source. By using the attenuation amount of the transmitted light, the scattered light intensity corresponding to each scattering angle is corrected and calculated to correct the influence of the scattered light intensity attenuation. .
【００１８】言い換えるなら、前記演算プログラムは、
透過光の減衰量を用いて、検出器によって検出された散
乱光強度を補正し、他の粒子による減衰の影響を受けな
い散乱光強度パターンに近づけるために補正演算を行う
ことにより、検出器によって検出された散乱光強度に代
えて補正演算によって求めた散乱光強度パターンを用い
て、粒径分布を求める演算を行う。すなわち、この演算
プログラムを実行することにより、減衰の影響を受ける
ことのない正確な粒径分布を求めることができる。さら
に、この補正演算の方法や演算式およびその式中に用い
られる係数を各チャンネルごとに任意に設定すること
で、それぞれの検出チャンネルに対して適した補正を施
すことができる。In other words, the arithmetic program is:
By using the amount of attenuation of the transmitted light to correct the scattered light intensity detected by the detector and performing a correction operation to approach a scattered light intensity pattern that is not affected by attenuation by other particles, An operation for obtaining the particle size distribution is performed using the scattered light intensity pattern obtained by the correction operation instead of the detected scattered light intensity. That is, by executing this arithmetic program, an accurate particle size distribution that is not affected by attenuation can be obtained. Furthermore, by appropriately setting the method of the correction calculation, the calculation formula, and the coefficients used in the formula for each channel, it is possible to perform a correction suitable for each detection channel.
【００１９】前記演算プログラムが前記透過光の減衰量
を用いて、各散乱角度に対応する散乱光強度の測定値を
それぞれ補正演算して、多重散乱による影響を補正する
機能を有する場合には、検出器によって測定された散乱
光強度パターンから減衰による影響のみならず多重散乱
による影響も取り除くことができ、補正後の散乱光強度
パターンを用いて粒径分布を求めることにより、より正
確な分析を行うことができる。In the case where the arithmetic program has a function of correcting the influence of multiple scattering by correcting and calculating the measured value of the scattered light intensity corresponding to each scattering angle using the attenuation of the transmitted light, The effect of multiple scattering as well as the effect of attenuation can be removed from the scattered light intensity pattern measured by the detector, and a more accurate analysis can be performed by obtaining the particle size distribution using the corrected scattered light intensity pattern. It can be carried out.
【００２０】[0020]
【実施例】図１は本発明による粒径分布測定装置の測定
光学系を示す図である。図１において、２０は溶媒中に
試料粒子が分散して存在するサンプルを収容した透明容
器からなる試料セル（セル）、２１はこの試料セル２０
に平行レーザ光Ｌを照射する光学系の一例であるレーザ
光照射手段、２２はレーザ光Ｌよりも短い波長の単一波
長光Ｍを上記試料セル２０に照射するための光学系の一
例である単一波長照射手段である。FIG. 1 is a view showing a measuring optical system of a particle size distribution measuring apparatus according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 20 denotes a sample cell (cell) formed of a transparent container containing a sample in which sample particles are dispersed in a solvent, and reference numeral 21 denotes a sample cell 20.
The laser beam irradiating means 22 is an example of an optical system for irradiating the sample cell 20 with a single-wavelength light M having a shorter wavelength than the laser beam L. This is a single wavelength irradiation means.
【００２１】２３は前記レーザ光照射手段２１からのレ
ーザ光Ｌが試料セル２０を透過したときに回折もしくは
散乱することによって生じる各散乱角ごとのレーザ光を
それぞれ受光する光検出器の一例であるリングディテク
タ、２４は回折も散乱もせずに試料セル２０を透過する
レーザ光Ｌの直進光を受光する透過光用フォトセンサ
（光検出器）である。一方、２５は前記単一波長照射手
段２２からの単一波長光Ｍが試料セル２０を透過したと
きに回折もしくは散乱することによって生じる各散乱角
ごとのレーザ光をそれぞれ受光する光検出器の一例であ
るフォトセンサ群、２６は回折も散乱もせずに試料セル
２０を透過する単一波長光Ｍの直進光を受光する光検出
器である。また、２７は各検出器２３〜２６による測定
値の出力を増幅する増幅器、２８は各測定値を選択的に
入力するマルチプレクサである。Reference numeral 23 denotes an example of a photodetector which receives laser light at each scattering angle caused by diffraction or scattering when the laser light L from the laser light irradiation means 21 passes through the sample cell 20. The ring detector 24 is a transmitted light photosensor (photodetector) that receives straight-ahead light of the laser light L that passes through the sample cell 20 without diffracting or scattering. On the other hand, reference numeral 25 denotes an example of a photodetector that receives laser light at each scattering angle generated by the diffraction or scattering of the single-wavelength light M from the single-wavelength irradiation means 22 when transmitted through the sample cell 20. A photosensor group 26 is a photodetector that receives straight-wavelength light of the single wavelength light M that passes through the sample cell 20 without diffracting or scattering. Reference numeral 27 denotes an amplifier for amplifying the output of the measured value from each of the detectors 23 to 26, and reference numeral 28 denotes a multiplexer for selectively inputting each measured value.
【００２２】上記レーザ光照射手段２１は、例えば、平
行レーザ光Ｌを出力するレーザ光源２９と、そのレーザ
光Ｌの光束を拡大するビームエキスパンダ３０などによ
って構成されている。そして、前記試料セル２０を透過
したレーザ光照射手段２２の光軸上には、試料粒子によ
って回折もしくは散乱するレーザ光Ｌ、および回折も散
乱もせずそのまま試料セル２０を直進したレーザ光Ｌ
（透過光）を、リングディテクタ２３および検出器２４
上に集光する集光レンズ３１が配置されている。なお、
本明細書においては検出器２４にリングディテクタ２３
と別の符号を付しているが、検出器２４をリングディテ
クタ２３と同じ受光面に形成してもよいことはいうまで
もない。The laser beam irradiating means 21 comprises, for example, a laser light source 29 for outputting a parallel laser beam L, a beam expander 30 for expanding the luminous flux of the laser beam L, and the like. The laser beam L diffracted or scattered by the sample particles and the laser beam L that travels straight through the sample cell 20 without being diffracted or scattered are placed on the optical axis of the laser beam irradiation means 22 that has passed through the sample cell 20.
(Transmitted light) to the ring detector 23 and the detector 24
A condenser lens 31 that condenses light is disposed on the upper side. In addition,
In this specification, the detector 24 is connected to the ring detector 23.
However, it goes without saying that the detector 24 may be formed on the same light receiving surface as the ring detector 23.
【００２３】図２は、上記リングディテクタ２３の構成
を示す斜視図である。このリングディテクタ２３は、試
料粒子の粒子径に応じてそれぞれの角度に回折もしくは
散乱するレーザ光Ｌを検出するための複数の散乱光用検
出器（フォトセンサ）２３ａ，２３ｂ…を、レーザ光照
射手段２１の光軸を中心としてリング状に区分けして配
置することによって構成されている。また、その中心位
置には前記透過光用フォトセンサ２４が配置されてい
る。これらのリングディテクタ２３の各フォトセンサ２
３ａ，２３ｂ…，２４は、前記増幅器２７…を介して前
記マルチプレクサ２８に接続されている。FIG. 2 is a perspective view showing the structure of the ring detector 23. The ring detector 23 irradiates a plurality of scattered light detectors (photo sensors) 23a, 23b,... For detecting laser light L diffracted or scattered at respective angles according to the particle diameter of the sample particles with laser light. It is constituted by being arranged in a ring shape around the optical axis of the means 21. The transmitted light photosensor 24 is arranged at the center position. Each photo sensor 2 of these ring detectors 23
, 24 are connected to the multiplexer 28 via the amplifiers 27.
【００２４】そして、上述したレーザ光照射手段２１、
集光レンズ３１およびリングディテクタ２３，２４は、
比較的に粒子径の大きい試料粒子による回折光もしくは
散乱光を受光する大径粒子検出用光学系３２を構成す
る。Then, the above-mentioned laser beam irradiation means 21,
The condenser lens 31 and the ring detectors 23 and 24
A large-diameter particle detection optical system 32 that receives light diffracted or scattered by sample particles having a relatively large particle diameter is configured.
【００２５】一方、単一波長光照射手段２２は、ランプ
光源３３、球面ミラー３４、アパーチャ３５，３６、コ
リメータレンズ３７、干渉フィルタ３８などによって構
成されている。On the other hand, the single-wavelength light irradiation means 22 includes a lamp light source 33, a spherical mirror 34, apertures 35 and 36, a collimator lens 37, an interference filter 38 and the like.
【００２６】上記球面ミラー３４は、ランプ光源３３か
ら後方に照射される光を、ランプ光源３３の前方に配置
されたアパーチャ３５に集光させるための鏡であり、そ
のアパーチャ３５はランプ光源３３からの光を十分小さ
い光束に絞るためのものである。上記アパーチャ３５の
前方に配置されたコリメータレンズ３７は、アパーチャ
３５で光束を絞られたランプ光を平行光線にするための
レンズであり、そのコリメータレンズ３７の前方に配置
される干渉フィルタ３８は、上記平行光線から所定の単
一波長光Ｍのみを取り出すためのフィルタである。The spherical mirror 34 is a mirror for condensing the light emitted from the lamp light source 33 backward to an aperture 35 disposed in front of the lamp light source 33. This is for narrowing the light to a sufficiently small light flux. The collimator lens 37 disposed in front of the aperture 35 is a lens for converting the lamp light whose beam has been condensed by the aperture 35 into a parallel light beam, and the interference filter 38 disposed in front of the collimator lens 37 includes: This is a filter for extracting only a predetermined single-wavelength light M from the parallel light.
【００２７】図３は、上記干渉フィルタ３８の構成を示
す平面図である。この干渉フィルタ３８は、それぞれ透
過させる波長を異にする複数の例えば１／４波長板３８
ａ，３８ｂ…を縦に配列して構成されており、干渉フィ
ルタ３８の位置を上下に変化させることによって、取り
出す単一波長光Ｍの波長を複数段に亙って切り換えられ
るようになっている。FIG. 3 is a plan view showing the structure of the interference filter 38. The interference filter 38 includes a plurality of, for example, quarter-wave plates 38 that transmit different wavelengths.
are arranged vertically, and the wavelength of the single-wavelength light M to be extracted can be switched over a plurality of stages by changing the position of the interference filter 38 up and down. .
【００２８】また、上記干渉フィルタ３８を透過したレ
ーザ光Ｍはその光路中に配置されたアパーチャ３６によ
って、干渉フィルタ３８からの単一波長光Ｍの光束を絞
り込まれる。そして、このアパーチャ３６を経た単一波
長光Ｍが前記試料セル２０におけるレーザ光Ｌの照射位
置とは別の位置に照射される。The laser beam M transmitted through the interference filter 38 is narrowed down to a single-wavelength light beam M from the interference filter 38 by an aperture 36 disposed in the optical path. Then, the single-wavelength light M passing through the aperture 36 is irradiated to a position different from the irradiation position of the laser light L on the sample cell 20.
【００２９】前記試料セル２０の周囲に配置されたフォ
トセンサ群２５は、試料セル２０内の試料粒子によって
回折もしくは散乱する単一波長光Ｍの散乱光を、各散乱
角ごとに個別に検出する複数のフォトセンサ２５ａ，２
５ｂ…からなり、各フォトセンサ２５ａ，２５ｂ…はそ
れぞれの散乱角位置に分けて配置されている。The photosensor group 25 arranged around the sample cell 20 individually detects the scattered light of the single wavelength light M diffracted or scattered by the sample particles in the sample cell 20 for each scattering angle. Plurality of photo sensors 25a, 2
, And each of the photosensors 25a, 25b,... Is arranged separately at each scattering angle position.
【００３０】特に、ここでは試料セル２０の後方、つま
り単一波長光照射手段２２を配置した側だけでなく、試
料セル２０の前方の側にもフォトセンサ２５ａ，２５ｂ
…を配置して、２０の前方に散乱する単一波長光Ｍにつ
いてもその光強度を測定するように構成している。In particular, here, the photosensors 25a and 25b are provided not only on the rear side of the sample cell 20, that is, on the side where the single-wavelength light irradiation means 22 is disposed, but also on the front side of the sample cell 20.
Are arranged to measure the light intensity of the single-wavelength light M scattered in front of 20.
【００３１】すなわち、各フォトセンサ２５ａ，２５ｂ
…では、それぞれ対応する集光レンズ３９ａ，３９ｂ…
で集光した回折光もしくは散乱光が受光される。そし
て、これらのフォトセンサ２５ａ，２５ｂ…はそれぞれ
対応する増幅器２７…を介して前記マルチプレクサ２８
に接続されている。That is, each photo sensor 25a, 25b
, Then the corresponding condenser lenses 39a, 39b ...
The diffracted light or the scattered light condensed at is received. The photo sensors 25a, 25b are connected to the multiplexer 28 via the corresponding amplifiers 27, respectively.
It is connected to the.
【００３２】上述した単一波長光照射手段２２、フォト
センサ群２５および集光レンズ３９ａ，３９ｂ…は、比
較的に粒子径の小さい試料粒子による回折光もしくは散
乱光を受光する小径粒子検出用光学系４０を構成する。The single-wavelength light irradiating means 22, the photosensor group 25, and the condenser lenses 39a, 39b... Are small-diameter particle detecting optics for receiving light diffracted or scattered by sample particles having a relatively small particle diameter. The system 40 is constituted.
【００３３】上記マルチプレクサ２８は、上述したリン
グディテクタ２３の各検出器２３ａ，２３ｂ…，２４や
他の検出器２５ａ，２５ｂ…，２６で検出される光強度
の測定値データ（アナログデータ）ＧL (0) ，ＧL (1)
，…、ＧM (0) ，ＧM (1) ，…を任意に切り換える回
路であり、４１は切り換えられたアナログデータＧ
L (0) ，ＧL (1) ，…、ＧM (0) ，ＧM (1) ，…をデジ
タルデータに変換するＡ／Ｄ変換器、４２はデジタルデ
ータに変換された測定値データを用いて粒径分布を求め
る演算を行なう演算処理部である。The multiplexer 28 is used to measure light intensity measured value data (analog data) G L detected by each of the detectors 23a, 23b... 24 of the ring detector 23 and the other detectors 25a, 25b. (0), G L (1)
, ..., G M (0) , G M (1), a circuit for switching ... the arbitrary analog data G 41 was switched
L (0), G L ( 1), ..., G M (0), G M (1), A / D converter for converting the ... into digital data, 42 measured value data converted into digital data It is an arithmetic processing unit that performs an arithmetic operation to obtain a particle size distribution using the arithmetic processing unit.
【００３４】上記演算処理部４１は、例えば、コンピュ
ータなどによって構成される。その演算機能は、フラウ
ンホーファ回折もしくはミー散乱理論に基づいて粒径分
布を求めるものであるが、本発明は、粒径分布の演算に
使用する測定値データＧL (0) ，ＧL (1) ，…、Ｇ
M (0) ，ＧM (1) ，…を粒径分布の演算に先立って補正
する補正処理の機能を付加している。The arithmetic processing section 41 is constituted by, for example, a computer. The calculation function is for obtaining the particle size distribution based on the Fraunhofer diffraction or Mie scattering theory. In the present invention, the measured value data G L (0) and G L (1) used for the calculation of the particle size distribution are used. ,…, G
A function of a correction process for correcting M (0), G M (1),... Prior to the calculation of the particle size distribution is added.
【００３５】すなわち、この場合の補正処理とは、回折
光もしくは散乱光を各検出器２３ａ，２３ｂ…，２５
ａ，２５ｂ…が受光するときに、透過光用の検出器２
４，２６で受光される透過光の測定値データＧL (0) ，
ＧM (0) に基づいて、検出器２３ａ，２３ｂ…，２５
ａ，２５ｂ…による測定値データＧL (1) ，ＧL (2) ，
…、ＧM (1) ，ＧM (2) ，…を補正するものである。That is, the correction processing in this case is to convert the diffracted light or the scattered light into each of the detectors 23a, 23b.
a, 25b... receive light, a detector 2 for transmitted light
The measured value data G L (0) of the transmitted light received at 4, 26,
Based on G M (0), detectors 23a, 23b.
a, 25b... measured value data G L (1), G L (2),
, G M (1), G M (2),.
【００３６】また、レーザ光Ｌの回折光もしくは散乱光
を受光するフォトセンサ２３ａ，２３ｂ…の測定値デー
タＧL (1) ，ＧL (2) ，…については透過光用フォトセ
ンサ２４の検出する透過光測定値データＧL (0) に基づ
いて補正し、単一波長光Ｍの回折光もしくは散乱光を受
光するフォトセンサ２５ａ，２５ｂ…の測定値データＧ
M (1) ，ＧM (2) ，…については透過光用フォトセンサ
２６の検出する透過光測定データＧM (0) に基づき、そ
れぞれ補正することにより、補正の精度を可及的に向上
している。The measured value data G L (1), G L (2),... Of the photo sensors 23a, 23b,... Which receive the diffracted light or the scattered light of the laser light L are detected by the transmitted light photo sensor 24. Are corrected based on the transmitted light measurement data G L (0), and the measurement data G of the photosensors 25a, 25b,.
M (1), based on the G M (2), the transmitted light measurement data G M (0) to be detected in the transmitted light photo sensor 26 for ..., by correcting each of improving the accuracy of correction as much as possible are doing.
【００３７】図４は前記演算処理部４２によって実行さ
れる補正処理の内容を概念的に説明する図である。図４
において、ｄは試料セル２０の厚みであり、この試料セ
ル２０に対して強度Ｇinのレーザ光Ｌが入射した場合
に、直進光を測定するように配置された検出器２４にお
いて測定したレーザ光Ｌの強度がＧout であったとす
る。この場合の直進光の透過率をαとすると、試料セル
２０を距離ｄ透過した場合の透過率（減衰量の逆数）α
は以下の式（１）によって求めることができる。 α＝Ｇout ／Ｇin … 式（１）FIG. 4 is a diagram conceptually illustrating the contents of the correction processing executed by the arithmetic processing section 42. FIG.
In the formula, d is the thickness of the sample cell 20, and when the laser light L having the intensity Gin is incident on the sample cell 20, the laser light L measured by the detector 24 arranged to measure the straight light is shown. Is Gout. Assuming that the transmittance of the straight light in this case is α, the transmittance (the reciprocal of the attenuation) α when transmitted through the sample cell 20 at the distance d.
Can be obtained by the following equation (1). α = Gout / Gin Equation (1)
【００３８】そして、例えば検出器２３ａ，２３ｂがそ
れぞれ散乱角度６０°，４５°の位置に配置されている
とすると、検出器２３ａ，２３ｂによって測定される散
乱光Ｌｓａ，Ｌｓｂは直進するレーザ光Ｌに比べてそれ
ぞれ２倍、１．４１倍の距離の間、試料セル２０内の試
料を透過する。したがって、散乱光Ｌｓａ，Ｌｓｂの透
過率αa ，αb を直進光の透過率αで表すと、以下の式
（２），（３）に示すようになる。 αa ＝α2 … 式（２） αb ＝α1.41 … 式（３）Assuming that the detectors 23a and 23b are arranged at scattering angles of 60 ° and 45 °, respectively, the scattered light Lsa and Lsb measured by the detectors 23a and 23b are converted into the laser light L that travels straight. The sample in the sample cell 20 is transmitted for a distance of twice and 1.41 times as compared with the case of. Therefore, when the transmittances α a and α b of the scattered lights Lsa and Lsb are represented by the transmittance α of the straight light, the following equations (2) and (3) are obtained. α a = α 2 Equation (2) α b = α 1.41 Equation (3)
【００３９】つまり、直進光の透過率α（減衰量の逆
数）を測定することにより、各散乱角度に配置された検
出器２３ａ，２３ｂによって測定される散乱光強度の減
衰量をそれぞれ求めることができる。例えば、上述の角
度に配置された検出器２３ａ，２３ｂによって検出され
る散乱光強度の散乱光強度データＧL (1) ，ＧL (2) か
ら、次の式（４），（５）に示すように、減衰の影響を
受けていない補正散乱光強度データＧL '(1)，ＧL '(2)
を求めることができる。 ＧL '(1)＝ＧL (1) ×（１／α）2 … 式（４） ＧL '(2)＝ＧL (2) ×（１／α）1.41 … 式（５）That is, by measuring the transmittance α (reciprocal of the amount of attenuation) of the straight traveling light, it is possible to obtain the amount of attenuation of the scattered light intensity measured by the detectors 23a and 23b arranged at each scattering angle. it can. For example, from the scattered light intensity data G L (1) and G L (2) of the scattered light intensity detected by the detectors 23a and 23b arranged at the above-described angles, the following expressions (4) and (5) are obtained. As shown, the corrected scattered light intensity data G L '(1) and G L ' (2) which are not affected by attenuation.
Can be requested. GL ′ (1) = GL (1) × (1 / α) 2 Equation (4) GL ′ (2) = GL (2) × (1 / α) 1.41 Equation (5)
【００４０】前記式（４），（５）から明らかなよう
に、減衰の影響を受けていない補正散乱光強度データＧ
L '(1)，ＧL '(2)は、各検出器２３ａ，２３ｂによって
測定される散乱光強度データＧL (1) ，ＧL (2) に、直
進光の減衰量（１／α）の巾乗によって得られた補正量
を各散乱光強度データＧL (1) ，ＧL (2) に乗算するこ
とによって求められることが分かる。As is apparent from the equations (4) and (5), the corrected scattered light intensity data G not affected by attenuation is obtained.
L ′ (1) and GL ′ (2) are calculated by adding scattered light intensity data GL (1) and GL (2) measured by the detectors 23a and 23b, ) Is obtained by multiplying each of the scattered light intensity data G L (1) and G L (2) by the correction amount obtained by the power of ()).
【００４１】したがって、上述の補正処理を実施するた
めの演算は、図１に示す各検出器２３ａ，２３ｂ，…毎
に定められるパラメータＡｌ（ｉ）によって以下の式
（６）に示すように表すことができると考えられる。 ＧL '(i)＝ＧL (i) ×（ＤL ／１００）Al(i) … 式（６） 但し、ＤL は直進光ＧL (0) の減衰量（１／α）を１０
０分率にした値〔％〕を示している。Therefore, the calculation for performing the above-described correction processing is represented by the following equation (6) using the parameter Al (i) determined for each of the detectors 23a, 23b,... Shown in FIG. It is thought that it is possible. G L ′ (i) = G L (i) × (D L / 100) Al (i) Equation (6) where D L is the attenuation (1 / α) of the straight light G L (0) by 10
The values [%] are shown as percentages.
【００４２】なお、上記説明は図４に示すようなレーザ
光Ｌの散乱光Ｌｓａ，Ｌｓｂを例にして説明したもので
あるから、前記式（６）は各検出器２３ａ，２３ｂ…に
よって測定された散乱光強度ＧL (i) の補正を行なう式
を示している。それで、これと同様に、単一波長光Ｍ側
の各検出器２５ａ，２５ｂ，…側において測定された散
乱光強度ＧM (i) の場合も、以下の式（７）に示すよう
に、補正された散乱光強度ＧM '(i)を求めることができ
る。 ＧM '(i)＝ＧM (i) ×（ＤM ／１００）Am(i) … 式（７） 但し、ＤM は直進光ＧM (0) の減衰量（１／α）を１０
０分率にした値〔％〕、Ａｍ（ｉ）は各検出器２５ａ，
２５ｂ，…毎に定められるパラメータである。Since the above description has been made using the scattered light Lsa and Lsb of the laser light L as shown in FIG. 4 as an example, the expression (6) is measured by the detectors 23a, 23b. The equation for correcting the scattered light intensity G L (i) is shown. Therefore, similarly, in the case of the scattered light intensity G M (i) measured on each detector 25a, 25b,... Side on the single wavelength light M side, as shown in the following equation (7), The corrected scattered light intensity G M '(i) can be obtained. G M '(i) = G M (i) × (D M / 100) Am (i) Equation (7) where D M is the attenuation amount (1 / α) of the straight light G M (0) is 10
The value [%] converted to 0 fraction, Am (i) is the value of each detector 25a,
25b,... Are parameters determined for each.
【００４３】同様に、多重散乱による影響も考慮に入れ
て補正項を加えると、減衰および多重散乱による影響を
除去した散乱光強度ＧL '(i)，ＧM '(i)は、以下の式
（８），（９）に示すようになる。 ＧL '(i)＝ＧL (i) ×(DL /100) Al(i) ×(SL /100) Bl(i) … 式（８） ＧM '(i)＝ＧM (i) ×(DM /100) Am(i) ×(SM /100) Bm(i) … 式（９） 但し、ＳL ，ＳM は例えば多重散乱の発生率を１００分
率にした値〔％〕（なお、この値を前記減衰量ＤM ，Ｄ
L と同じにしてもよい）、Ｂｌ（ｉ），Ｂｍ（ｉ）は各
検出器２３ａ，２３ｂ，…，２５ａ，２５ｂ，…毎に定
められる多重散乱の補正用パラメータである。Similarly, when a correction term is added in consideration of the influence of multiple scattering, the scattered light intensities G L '(i) and G M ' (i) from which attenuation and influence of multiple scattering have been removed are as follows. Expressions (8) and (9) are obtained. G L '(i) = G L (i) × (D L / 100) Al (i) × (S L / 100) Bl (i) Equation (8) G M ′ (i) = G M (i ) × (D M / 100) Am (i) × (S M / 100) Bm (i) ... (9) where, S L, the value S M is that the incidence of multiple scattering in the 100 parts per example [ %] (This value is referred to as the attenuation amount D M , D
L may be the same as), Bl (i), Bm (i) each detector 23a, 23b, ..., 25a, 25b, a correction parameter of the multiple scattering defined ... for each.
【００４４】なお、前述の式（６）〜（９）は、減衰お
よび多重散乱による影響を簡易的に補正することができ
る補正式の一例を示すものである。したがって、上述の
式（６），（７）または式（８），（９）を用いること
により各検出器２３ａ，２３ｂ，…，２５ａ，２５ｂ，
…によって求められる散乱光強度データＧL (i) ，Ｇ M
(i) を容易に各検出チャンネル毎に補正して、減衰の影
響、または減衰と多重散乱の影響を取り除いた本来の散
乱光強度データＧL '(i)，ＧM '(i)とすることができ
る。しかしながら、本発明はこれらの式（６）〜（９）
の内容を限定するものではない。The above equations (6) to (9) are equivalent to the attenuation and
And the effect of multiple scattering can be easily corrected.
5 shows an example of the correction formula. Therefore,
Use Equations (6) and (7) or Equations (8) and (9)
, 25a, 25b,.
Scattered light intensity data G obtained by ...L(i), G M
(i) is easily corrected for each detection channel to
Sound, or the original scatter that eliminates the effects of attenuation and multiple scattering.
Light intensity data GL'(i), GM'(i) can be
You. However, the present invention relates to these formulas (6) to (9)
Is not limited.
【００４５】すなわち、散乱光強度ＧL (i) ，ＧM (i)
の補正を下記の式（１０）〜（１１）に示すような多項
式によって補正することが可能である。 ＧL '(i)＝ＧL (i) ×｛Ald(i)×ＤL ＋Bld(i)×ＤL 2 ＋Cld(i)×ＤL 3 …｝ ×｛Als(i)×ＳL ＋Bls(i)×ＳL 2 ＋Cls(i)×ＳL 3 …｝ … 式(10) ＧM '(i)＝ＧM (i) ×｛Amd(i)×ＤM ＋Bmd(i)×ＤM 2 ＋Cmd(i)×ＤM 3 …｝ ×｛Ams(i)×ＳM ＋Bms(i)×ＳM 2 ＋Cms(i)×ＳM 3 …｝ … 式(11) 但し、ＤL ，ＤM 、ＳL ，ＳM は検出器２４，２６の測
定値から試料毎に求められる減衰による影響、および多
重散乱による影響の大きさ、Ald(i)，Bld(i)，…、Als
(i)，Bls(i)，…は各検出器２３ａ，２３ｂ，…に対応
して設定される減衰量、または多重散乱の影響を補正す
るためのパラメータ、Amd(i)，Bmd(i)，…、Ams(i)，Bm
s(i)，…は各検出器２５ａ，２５ｂ，…に対応して設定
される減衰量、または多重散乱の影響を補正するための
パラメータである。That is, the scattered light intensities G L (i) and G M (i)
Can be corrected by a polynomial as shown in the following equations (10) to (11). G L '(i) = G L (i) × ｛Ald (i) × D L + Bld (i) × D L 2 + Cld (i) × D L 3 ...｝ × ｛Als (i) × S L + Bls ( i) × S L 2 + Cls (i) × S L 3 ...｝ Equation (10) G M '(i) = G M (i) × ｛Amd (i) × D M + Bmd (i) × D M 2 + Cmd (i) × D M 3 ...｝ × ｛Ams (i) × S M + Bms (i) × S M 2 + Cms (i) × S M 3 ...｝ Equation (11) where D L , D M , S L and S M are the magnitude of the influence of the attenuation obtained for each sample from the measurement values of the detectors 24 and 26 and the magnitude of the influence of the multiple scattering, Ald (i), Bld (i),.
(i), Bls (i),... are attenuation amounts set corresponding to the detectors 23a, 23b,... or parameters for correcting the influence of multiple scattering, Amd (i), Bmd (i). , ..., Ams (i), Bm
s (i),... are attenuation amounts set corresponding to the detectors 25a, 25b,... or parameters for correcting the influence of multiple scattering.
【００４６】なお、上記式（１０），（１１）におい
て、多項式の次数は補正が正確に行われるのであれば少
ないほうが演算処理部４２に加わる負担を小さくするこ
とができる。例えば３次式にすると、前記パラメータは
各検出器２３ａ，２３ｂ，…，２５ａ，２５ｂ，…に対
してそれぞれ６個の値（減衰および多重散乱の補正項に
それぞれ３個の値）を設定すればよい。一方、次数を４
次以上に増やすことによって、各検出チャンネル毎によ
り正確な補正を行うことが可能となる。In the above equations (10) and (11), if the degree of the polynomial is corrected correctly, the smaller the degree, the less the load on the arithmetic processing unit 42 can be reduced. If, for example, a cubic expression is used, the parameter is set to six values (three values for the attenuation and multiple scattering correction terms) for each of the detectors 23a, 23b,..., 25a, 25b,. I just need. On the other hand, if the order is 4
By increasing the number more than the next, more accurate correction can be performed for each detection channel.
【００４７】そして、補正された散乱光強度パターンＧ
L '(i)，ＧM '(i)は、散乱光強度パターンと粒径分布の
関係を表わす式（１２），（１３）に代入されて、測定
試料に含まれる粒子の粒径分布ｆ（ｊ）が求められる。 ＧL '(i)＝ΣＫL （ｉ，ｊ）ｆ（ｊ） … 式（１２） ＧM '(i)＝ΣＫM （ｉ，ｊ）ｆ（ｊ） … 式（１３） 但し、ＧL '(i)、ＧM '(i)は、ｉ番目の検出器２３ａ，
２３ｂ，…、２５ａ，２５ｂ，…で検出された散乱光強
度の補正値、ｆ（ｊ）は番号ｊの粒子径範囲の頻度分布
である。Then, the corrected scattered light intensity pattern G
L ′ (i) and G M ′ (i) are substituted into equations (12) and (13) representing the relationship between the scattered light intensity pattern and the particle size distribution, and the particle size distribution f of the particles contained in the measurement sample is obtained. (J) is required. G L '(i) = ΣK L (i, j) f (j) ... Equation (12) G M' (i ) = ΣK M (i, j) f (j) ... (13) However, G L '(i), G M ' (i) are the i-th detector 23a,
The correction value of the scattered light intensity detected at 23b,..., 25a, 25b,..., F (j) is the frequency distribution of the particle diameter range of number j.
【００４８】前記式（１２），（１３）に示すように、
本発明では粒径分布を解析するための演算式において、
補正後の散乱光強度パターンＧL '(i)，ＧM '(i)を用い
る。すなわち、溶媒中には多数の粒子が存在するため、
実際に検出される散乱光強度パターンは、粒子から散乱
した光が、別の粒子でさらに散乱する（多重散乱）こと
と、散乱光が、他の粒子により散乱／反射／吸収される
ことで減衰することによる影響を受けるが、本発明のよ
うに測定した散乱光強度パターンから粒径分布を求める
データ処理の過程に、透過光の減衰量を用いて各検出チ
ャンネルごとに多重散乱や減衰の補正処理を加えること
により、これらの影響を受けない状態の散乱光強度パタ
ーンへと戻すことができる。As shown in the above equations (12) and (13),
In the present invention, in the arithmetic expression for analyzing the particle size distribution,
The corrected scattered light intensity patterns G L '(i) and G M ' (i) are used. That is, since there are many particles in the solvent,
The scattered light intensity pattern actually detected is that light scattered from a particle is further scattered by another particle (multiple scattering) and that the scattered light is attenuated by being scattered / reflected / absorbed by another particle. In the process of data processing for obtaining the particle size distribution from the scattered light intensity pattern measured as in the present invention, multiple scattering and attenuation are corrected for each detection channel using the attenuation of transmitted light. By performing the processing, it is possible to return to the scattered light intensity pattern that is not affected by these.
【００４９】この手法は、粒径分布の解析の段階で、前
記式（１２），（１３）に代わる、減衰や多重散乱の影
響を考慮に入れたような複雑な演算式を用いて解析を行
なう場合に比べて演算処理が極めて容易となり、それだ
け、演算にかかる時間を短くすることができる。また、
演算処理部４２に対する負担が少ないので、この演算処
理部４２に高度な演算処理能力は必要ではなく、その構
成を簡素にすることができるので、それだけ、製造コス
トを抑えることができる。In this method, the analysis is performed by using a complicated arithmetic expression that takes into account the effects of attenuation and multiple scattering in place of the expressions (12) and (13) at the stage of analyzing the particle size distribution. The calculation processing becomes extremely easy as compared with the case of performing the calculation, and the time required for the calculation can be shortened accordingly. Also,
Since the load on the arithmetic processing unit 42 is small, the arithmetic processing unit 42 does not need to have high arithmetic processing capability, and its configuration can be simplified, so that the manufacturing cost can be reduced accordingly.
【００５０】なお、上述の散乱光強度パターンの補正
は、各散乱角度に対応する散乱光強度をそれぞれ補正す
ることにより散乱光強度の減衰による影響を補正する回
路などのハードウェアを用いた測定値補正手段Ｒによっ
て行ってもよい。このハードウェアによる測定値補正手
段Ｒとしては、その部品定数を選択して信号強度処理を
行なうために形成されたアナログ回路のみならず、ＰＡ
Ｌ，ＰＬＤなどのデジタル回路と組み合わせたハイブリ
ッド回路によって、より正確な補正を行うようにしても
よい。The above-described scattered light intensity pattern correction is performed by correcting the scattered light intensity corresponding to each scattering angle to correct the effect of attenuation of the scattered light intensity by using a measured value using a hardware such as a circuit. The correction may be performed by the correction unit R. As the measured value correcting means R by hardware, not only an analog circuit formed for performing signal strength processing by selecting its component constant, but also a PA
More accurate correction may be performed by a hybrid circuit combined with a digital circuit such as L or PLD.
【００５１】また、デジタル回路による測定値補正手段
Ｒを設ける場合やハイブリッド回路を形成する場合には
ＲＡＭやＲＯＭなどのメモリデバイスや、フロッピー
（登録商標）ディスクやハードディスクのような記録媒
体にデータファイルとして書き込んだ式、定数、テーブ
ルなどの何れかまたはそれらの組み合わせによる情報や
演算プログラムＰによって補正を行ってもよい。When the measured value correcting means R using a digital circuit is provided or when a hybrid circuit is formed, a data file is stored in a memory device such as a RAM or a ROM or a recording medium such as a floppy (registered trademark) disk or a hard disk. The correction may be performed by information or arithmetic program P based on any one of the expressions, constants, tables, and the like written as "?".
【００５２】加えて、散乱光強度の補正法をデータファ
イルや演算プログラムＰなどの情報として記憶する場合
には、これらの情報をＬＡＮ，シリアル，その他の通信
手段によって、別のコンピュータより送り込むことがで
きる構成にすることも考えられる。In addition, when the method of correcting the scattered light intensity is stored as information such as a data file or an operation program P, such information can be sent from another computer by LAN, serial, or other communication means. It is also conceivable to make the configuration possible.
【００５３】すなわち、図１に示すように、前記演算処
理部４２によって実行されて、各散乱角度に対応する散
乱光強度の測定値を用いて前記粒子の粒径分布を求める
演算プログラムＰに、透過光の減衰量を用いて各散乱角
度に対応する散乱光強度をそれぞれ補正演算することに
より散乱光強度の減衰による影響を補正する機能を持た
せた測定値補正プログラムＰ1 と補正後の散乱光強度を
用いて粒径分布を求める粒径分布解析プログラムＰ2 を
組み込むことも可能である。That is, as shown in FIG. 1, an arithmetic program P executed by the arithmetic processing section 42 to obtain the particle size distribution of the particles using the measured values of the scattered light intensity corresponding to each scattering angle includes: A measurement value correction program P 1 having a function of correcting the influence of the scattered light intensity attenuation by correcting and calculating the scattered light intensity corresponding to each scattering angle using the attenuation amount of the transmitted light, and the scattered light after correction. it is also possible to incorporate the particle size distribution analysis program P 2 to determine the particle size distribution by using the light intensity.
【００５４】そして、上述のような散乱光強度の補正機
能を演算プログラムＰの一つの機能として提供する場合
は、この演算プログラムＰをＣＤ−ＲＯＭやフロッピー
ディスクのような記録媒体を用いて、従来の粒径分布測
定装置にインストールすることにより実現可能であり、
粒径分布測定装置のハードウェアの仕様を変更すること
なく実施することができる。When the function of correcting the scattered light intensity as described above is provided as one of the functions of the calculation program P, the calculation program P is conventionally provided by using a recording medium such as a CD-ROM or a floppy disk. It can be realized by installing in the particle size distribution measuring device of
It can be carried out without changing the hardware specifications of the particle size distribution measuring device.
【００５５】図５は、上記演算処理部４２において実行
される演算プログラムＰの動作を概略的に示すフローチ
ャートである。図５のフローチャートを図１と参照しな
がら、上記粒径分布測定装置による粒径分布の測定手順
について説明する。なお、本発明は以下に示す測定手順
を限定するものではない。FIG. 5 is a flowchart schematically showing the operation of the arithmetic program P executed in the arithmetic processing section 42. The procedure for measuring the particle size distribution by the particle size distribution measuring device will be described with reference to the flowchart of FIG. 5 and FIG. Note that the present invention does not limit the measurement procedure described below.
【００５６】図５に示すように、本発明の粒径分布測定
装置は、実質的な粒径分布の算出処理を行うのに先立
ち、上記試料セル２０に試料粒子を含まない試料液（以
下、必要に応じてブランク試料液と呼ぶ）を収容した状
態のもとで、透過光用フォトセンサ２４，２６によって
測定される各透過光のデータ〔すなわち前記式（１）に
おける入射光強度Ｇin〕が予め記憶される（ステップＳ
1 ）。As shown in FIG. 5, the particle size distribution measuring apparatus of the present invention comprises a sample liquid containing no sample particles (hereinafter, referred to as a sample liquid) in the sample cell 20 prior to performing a substantial particle size distribution calculation process. (Referred to as a blank sample liquid if necessary), the data of each transmitted light measured by the transmitted light photosensors 24 and 26 (that is, the incident light intensity Gin in the above formula (1)) is It is stored in advance (step S
1 ).
【００５７】なお、そのデータのうち、単一波長光Ｍの
透過光データＧM (0) については、干渉フィルタ３８に
よって切り換えられる各波長の単一波長光ごとに別々に
測定され記憶される。Of the data, the transmitted light data G M (0) of the single wavelength light M is separately measured and stored for each single wavelength light switched by the interference filter 38.
【００５８】次に行われる実質的な粒径分布の算出処理
では、試料セル２０中の試料粒子を含む試料液を透過し
てきた単一透過光Ｍを受光する透過光用フォトセンサ２
６、およびレーザ光Ｌを受光する透過光用フォトセンサ
２４によって測定される各透過光データＧM (0),Ｇ
L (0) 〔前記式（１）における出射光強度Ｇout 〕と、
先に記憶されていたブランク試料液に対する各透過光デ
ータとの比〔前記式（１）における透過率α〕が求めら
れる（ステップＳ2 ）。In the subsequent calculation process of the substantial particle size distribution, the transmitted light photosensor 2 for receiving the single transmitted light M transmitted through the sample liquid containing the sample particles in the sample cell 20 is used.
6, and each transmitted light data G M (0), G measured by the transmitted light photosensor 24 that receives the laser light L.
L (0) [Emission light intensity Gout in the above formula (1)];
The ratio [transmittance α in the above formula (1)] with each transmitted light data with respect to the blank sample liquid stored previously is obtained (step S 2 ).
【００５９】すなわち、透過光用フォトセンサ２６の測
定する透過光データＧM (0) と、これに対応するブラン
ク試料液の場合の透過光データとの比から単一波長光Ｍ
の透過率αM が算出され、同様に透過光用フォトセンサ
２４の測定する透過光データＧL (0) と、これに対応す
るブランク試料液の場合の透過光データとの比からレー
ザ光Ｌの透過率αL が算出される。そして、これらの透
過率αM ，αL の逆数がそれぞれの減衰量ＤM ，ＤL と
なる。That is, based on the ratio between the transmitted light data G M (0) measured by the transmitted light photosensor 26 and the corresponding transmitted light data for the blank sample liquid, the single wavelength light M
The transmittance alpha M is calculated, as well as the transmitted light photo sensor 24 measuring transmitted light data G L (0), the laser beam L from the ratio of the transmitted light data of a blank sample solution corresponding thereto transmittance alpha L is calculated for. The reciprocals of these transmittances α M and α L are the attenuation amounts D M and D L , respectively.
【００６０】次に、リングディテクタ２３のフォトセン
サ２３ａ，２３ｂ…による測定データＧL (1),ＧL (2),
…は、上記透過光用フォトセンサ２４の測定データから
求められた減衰量ＤL に応じた量だけ増大補正され、同
様にフォトセンサ２５ａ，２５ｂ…による測定データＧ
M (1),ＧM (2),…は、上記透過光用フォトセンサ２６の
測定データから求められた減衰量ＤM に応じた量だけ増
大補正される（ステップＳ3 ）。Next, measurement data G L (1), G L (2),
Are increased and corrected by an amount corresponding to the attenuation D L obtained from the measurement data of the transmitted light photosensor 24, and similarly, the measurement data G by the photosensors 25a, 25b,.
M (1), G M (2),... Are corrected to increase by an amount corresponding to the attenuation D M obtained from the measurement data of the transmitted light photosensor 26 (step S 3 ).
【００６１】すなわち、上記ステップＳ1 〜Ｓ3 による
処理が測定値補正プログラムＰ1 の動作によるものであ
る。なお、本例では説明を簡略化するために多重散乱に
よる影響を補正する点についての記載を省略するが、前
述の式（８），（９）を用いて演算することにより、多
重散乱による影響も無くすことができる。That is, the processing in steps S 1 to S 3 is based on the operation of the measurement value correction program P 1 . Note that, in this example, the description of correcting the influence of multiple scattering is omitted for simplification of the description. However, by using the above-described equations (8) and (9), the influence of multiple scattering is calculated. Can also be eliminated.
【００６２】しかる後に、粒径分布解析プログラムＰ2
が、上記の如く補正した各光強度の測定データに基づ
き、試料粒子の粒径分布が求める（ステップＳ4 ）。そ
の算出手順は、フラウンホーファ回折もしくはミー散乱
理論に基づき行われる。Thereafter, the particle size distribution analysis program P 2
However, the particle size distribution of the sample particles is obtained based on the measurement data of each light intensity corrected as described above (step S 4 ). The calculation procedure is performed based on the Fraunhofer diffraction or Mie scattering theory.
【００６３】[0063]
【発明の効果】本発明は、上述した構成よりなり、光源
の光軸上の検出器による光強度の測定値を用いて、セル
を透過（直進）する際の減衰量を求め、この直進光の減
衰量を基に検出器によって測定された各散乱角度の散乱
光強度パターンに生じている減衰量を補正によって取り
除くことができる。そして、粒径分布の演算に用いる散
乱光強度パターンとして、補正後の散乱光強度パターン
を用いることにより、試料粒子の粒子径が小さく高濃度
であっても、粒径分布を精度よく測定することができ
る。According to the present invention, the amount of attenuation when passing through a cell (straight) is obtained by using the measured value of the light intensity by the detector on the optical axis of the light source. Of the scattered light intensity pattern at each scattering angle measured by the detector on the basis of the amount of attenuation of the light, the amount of attenuation can be removed by correction. By using the corrected scattered light intensity pattern as the scattered light intensity pattern used for the calculation of the particle size distribution, the particle size distribution can be accurately measured even when the sample particles have a small particle size and a high concentration. Can be.
【図１】本発明の粒径分布測定装置の構成を概略的に示
す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a particle size distribution measuring device of the present invention.
【図２】前記粒径分布測定装置の部分拡大図である。FIG. 2 is a partially enlarged view of the particle size distribution measuring device.
【図３】前記粒径分布測定装置の別の部分の拡大図であ
る。FIG. 3 is an enlarged view of another part of the particle size distribution measuring device.
【図４】本発明の粒径分布測定装置における補正方法を
説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a correction method in the particle size distribution measuring device of the present invention.
【図５】前記粒径分布測定装置の測定動作を説明するフ
ローチャートである。FIG. 5 is a flowchart illustrating a measuring operation of the particle size distribution measuring device.
【図６】従来の粒径分布測定装置の構成を示す斜視図で
ある。FIG. 6 is a perspective view showing a configuration of a conventional particle size distribution measuring device.
２０…セル、２１，２２…光源、２３〜２６…検出器、
４２…演算処理部、ｆ（ｊ）…粒径分布、ＧM ，ＧL …
減衰量、ＧM (1),ＧM (2),…, ＧL (1),ＧL (2),…散乱
光強度（測定値）、ＧM '(1), ＧM '(2), …, ＧL '
(1), ＧL '(2), …補正後の散乱光強度（測定値）、Ｐ
…演算プログラム、Ｐ1 …測定値補正プログラム、Ｐ2
…粒径分布解析プログラム、Ｒ…測定値補正手段。20 cells, 21, 22 light sources, 23 to 26 detectors,
42 ... operation processing section, f (j) ... size distribution, G M, G L ...
Attenuation, G M (1), G M (2), ..., G L (1), G L (2), ... Scattered light intensity (measured value), G M '(1), G M ' (2 ),…, G L '
(1), G L '(2),… corrected scattered light intensity (measured value), P
… Calculation program, P 1 … Measurement value correction program, P 2
... A particle size distribution analysis program, R: Measured value correction means.
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 AA26 BB07 CC00 FF42 FF48 GG04 HH02 JJ05 JJ18 LL09 LL19 LL22 LL36 QQ03 QQ17 2G057 AA01 AA02 AB01 AB04 AB06 AB07 AC01 BA01 BB01 2G059 AA03 AA05 BB06 BB09 CC19 EE01 EE02 EE11 GG01 GG03 GG10 JJ03 JJ11 JJ14 JJ20 KK03 KK04 MM01 MM09 MM10 MM14 Continuation of the front page F term (reference) 2F065 AA26 BB07 CC00 FF42 FF48 GG04 HH02 JJ05 JJ18 LL09 LL19 LL22 LL36 QQ03 QQ17 2G057 AA01 AA02 AB01 AB04 AB06 AB07 AC01 BA01 BB01 2G059 AA03 BB01 JJ01 BB06 JJ20 KK03 KK04 MM01 MM09 MM10 MM14
Claims (4)
容するセルと、このセルに対して光を照射する光源と、
光が前記粒子に当たって回折もしくは散乱する各散乱角
度ごとの散乱光強度をそれぞれ測定する検出器と、各散
乱角度に対応する散乱光強度の測定値を用いて前記粒子
の粒径分布を求める演算処理部とを有する粒径分布測定
装置において、前記光源の光軸上の検出器による光強度
の測定値から求められる、セルを直進する透過光の減衰
量を用いて、各散乱角度に対応する散乱光強度をそれぞ
れ補正することにより散乱光強度の減衰による影響を補
正する測定値補正手段を有することを特徴とする粒径分
布測定装置。1. A cell for accommodating particles to be measured in a dispersed state, a light source for irradiating the cell with light,
A detector for measuring the scattered light intensity at each scattering angle at which light collides or diffracts and scatters the particles, and an arithmetic processing for obtaining the particle size distribution of the particles using the measured value of the scattered light intensity corresponding to each scattering angle In the particle size distribution measuring apparatus having a portion, the scattering corresponding to each scattering angle, using the attenuation of the transmitted light traveling straight through the cell, obtained from the measured value of the light intensity by the detector on the optical axis of the light source A particle size distribution measuring device, comprising: a measured value correcting means for correcting the influence of attenuation of scattered light intensity by correcting each light intensity.
量を用いて、各散乱角度に対応する散乱光強度をそれぞ
れ補正して、多重散乱による影響を補正する機能を有す
る請求項１に記載の粒径分布測定装置。2. The apparatus according to claim 1, wherein said measurement value correction means has a function of correcting the influence of multiple scattering by correcting the scattered light intensity corresponding to each scattering angle using the attenuation amount of the transmitted light. The particle size distribution measuring device described in the above.
容するセルと、このセルに対して光を照射する光源と、
光が前記粒子に当たって回折もしくは散乱する各散乱角
度ごとの散乱光強度をそれぞれ測定する検出器と、演算
処理部と、この演算処理部によって実行されて各散乱角
度に対応する散乱光強度の測定値を用いて前記粒子の粒
径分布を求める演算プログラムを記録した記録媒体とを
有する粒径分布測定装置において、前記演算プログラム
が前記光源の光軸上の検出器による光強度の測定値から
セルを直進する透過光の減衰量を求め、この透過光の減
衰量を用いて各散乱角度に対応する散乱光強度をそれぞ
れ補正演算することにより散乱光強度の減衰による影響
を補正するものであることを特徴とする粒径分布測定装
置。3. A cell for accommodating particles to be measured in a dispersed state, a light source for irradiating the cell with light,
A detector for measuring the scattered light intensity at each scattering angle at which light collides or diffracts or scatters the particles, an arithmetic processing unit, and a measured value of the scattered light intensity corresponding to each scattering angle executed by the arithmetic processing unit And a recording medium having recorded thereon a calculation program for calculating the particle size distribution of the particles, wherein the calculation program calculates a cell from a measured value of light intensity by a detector on the optical axis of the light source. The effect of the attenuation of the scattered light intensity is calculated by calculating the attenuation of the transmitted light traveling straight and calculating the scattered light intensity corresponding to each scattering angle using this attenuation amount of the transmitted light. Characteristic particle size distribution measurement device.
量を用いて、各散乱角度に対応する散乱光強度の測定値
をそれぞれ補正演算して、多重散乱による影響を補正す
る機能を有する請求項３に記載の粒径分布測定装置。4. The arithmetic program has a function of correcting the influence of multiple scattering by correcting the measured value of the scattered light intensity corresponding to each scattering angle using the attenuation of the transmitted light. 4. The particle size distribution measuring device according to 3.
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|---|---|
| JP (1) | JP4132692B2 (en) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004294294A (en) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Daicel Chem Ind Ltd | Device for calculating thickness of wall film of microcapsule |
| JP2008187935A (en) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Microorganism counter and chip for inspection |
| JP2011069839A (en) * | 2010-12-21 | 2011-04-07 | Kowa Co | Method and device for measuring agglutination reaction |
| WO2014097724A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | ソニー株式会社 | Particle detection device and particle detection method |
| JP2016026301A (en) * | 2004-03-06 | 2016-02-12 | トレイナー， マイケルＴＲＡＩＮＥＲ， Ｍｉｃｈａｅｌ | Method and apparatus for determining size and shape of particles |
| EP3367358A3 (en) * | 2007-11-15 | 2018-12-19 | Garrett Thermal Systems Limited | Particle detection |
| CN109791103A (en) * | 2016-09-22 | 2019-05-21 | Imec 非营利协会 | Detection of particles is carried out using thin lens |
| JP2020190508A (en) * | 2019-05-23 | 2020-11-26 | 株式会社堀場製作所 | Particle size distribution measuring device, particle size distribution measurement method, and program for particle size distribution measuring device |
| WO2022066309A1 (en) * | 2020-09-25 | 2022-03-31 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for detection of particle size in a fluid |
| WO2023276269A1 (en) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | ソニーグループ株式会社 | Biological sample analysis device |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103900995B (en) * | 2014-04-14 | 2016-05-04 | 广东中烟工业有限责任公司 | A kind of detection method of acetate silk and application thereof |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6114543A (en) * | 1984-06-30 | 1986-01-22 | Toshiba Corp | Particle size maesuring instrument |
| JPH02143140A (en) * | 1988-11-24 | 1990-06-01 | Motoji Jinbo | Method for measuring grain size |
| JPH04172232A (en) * | 1990-11-03 | 1992-06-19 | Horiba Ltd | Particle-size-distribution measuring apparatus |
| JPH07136248A (en) * | 1993-06-18 | 1995-05-30 | Hotsukei Kogyo:Kk | Blood concentration detecting sensor |
-
2001
- 2001-02-20 JP JP2001043303A patent/JP4132692B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6114543A (en) * | 1984-06-30 | 1986-01-22 | Toshiba Corp | Particle size maesuring instrument |
| JPH02143140A (en) * | 1988-11-24 | 1990-06-01 | Motoji Jinbo | Method for measuring grain size |
| JPH04172232A (en) * | 1990-11-03 | 1992-06-19 | Horiba Ltd | Particle-size-distribution measuring apparatus |
| JPH07136248A (en) * | 1993-06-18 | 1995-05-30 | Hotsukei Kogyo:Kk | Blood concentration detecting sensor |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004294294A (en) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Daicel Chem Ind Ltd | Device for calculating thickness of wall film of microcapsule |
| JP2016026301A (en) * | 2004-03-06 | 2016-02-12 | トレイナー， マイケルＴＲＡＩＮＥＲ， Ｍｉｃｈａｅｌ | Method and apparatus for determining size and shape of particles |
| JP2008187935A (en) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Microorganism counter and chip for inspection |
| CN109255924A (en) * | 2007-11-15 | 2019-01-22 | 爱克斯崔里斯科技有限公司 | particle detection |
| EP3367358A3 (en) * | 2007-11-15 | 2018-12-19 | Garrett Thermal Systems Limited | Particle detection |
| US10429289B2 (en) | 2007-11-15 | 2019-10-01 | Garrett Thermal Systems Limited | Particle detection |
| JP2011069839A (en) * | 2010-12-21 | 2011-04-07 | Kowa Co | Method and device for measuring agglutination reaction |
| WO2014097724A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | ソニー株式会社 | Particle detection device and particle detection method |
| JPWO2014097724A1 (en) * | 2012-12-21 | 2017-01-12 | ソニー株式会社 | Particle detection apparatus and particle detection method |
| US9638622B2 (en) | 2012-12-21 | 2017-05-02 | Sony Corporation | Particle detection apparatus and particle detection method |
| CN109791103A (en) * | 2016-09-22 | 2019-05-21 | Imec 非营利协会 | Detection of particles is carried out using thin lens |
| JP2020190508A (en) * | 2019-05-23 | 2020-11-26 | 株式会社堀場製作所 | Particle size distribution measuring device, particle size distribution measurement method, and program for particle size distribution measuring device |
| JP7288345B2 (en) | 2019-05-23 | 2023-06-07 | 株式会社堀場製作所 | Particle size distribution measuring device, particle size distribution measuring method, and particle size distribution measuring device program |
| WO2022066309A1 (en) * | 2020-09-25 | 2022-03-31 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for detection of particle size in a fluid |
| US11353389B2 (en) | 2020-09-25 | 2022-06-07 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for detection of particle size in a fluid |
| WO2023276269A1 (en) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | ソニーグループ株式会社 | Biological sample analysis device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4132692B2 (en) | 2008-08-13 |
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