JP2002241794A - Cleaning liquid composition for optical part - Google Patents
Cleaning liquid composition for optical partInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光学部品に付着したワ
ックス、ピッチ、接着剤などを洗浄するために用いられ
る洗浄液組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning liquid composition used for cleaning wax, pitch, adhesive and the like attached to an optical component.
【０００２】[0002]
【従来の技術】レンズなどの光学部品の製造において
は、研磨のためにワックスやピッチが、また、仮止めの
ためなどにワックス、ピッチや接着剤が用いられてい
る。そのため、光学部品表面に付着したワックス、ピッ
チ、接着剤を除去するために、洗浄工程が必要となる。
従来、このような洗浄には、トリフロロトリクロロエタ
ンなどのフロン系溶剤あるいは１，１，１−トリクロロ
エタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの塩素
系溶剤が洗浄剤として使用されてきた。しかし、トリフ
ロロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエタン
はオゾン層を破壊する物質として、１９９５年末にその
製造が禁止された。また、トリクロロエチレンや塩化メ
チレンは毒性が強く、放出された場合に大気汚染・水質
汚染を引き起こすため、その法規制が厳しい。2. Description of the Related Art In the manufacture of optical components such as lenses, wax and pitch are used for polishing, and wax, pitch and adhesive are used for temporary fixing. Therefore, a cleaning step is required to remove the wax, pitch, and adhesive attached to the optical component surface.
Conventionally, for such cleaning, a chlorofluorocarbon-based solvent such as 1,1,1-trichloroethane, trichloroethylene, or methylene chloride has been used as a cleaning agent. However, the production of trifluorotrichloroethane and 1,1,1-trichloroethane was banned at the end of 1995 as substances that destroy the ozone layer. In addition, trichlorethylene and methylene chloride are highly toxic, and when released, cause air and water pollution.
【０００３】また、界面活性剤や無機アルカリを添加し
た水系洗浄剤、リン酸塩類等の水溶液系洗浄剤の利用も
検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大
きなスペースを必要するため経済性の面から好ましくな
い。炭化水素系洗浄剤も検討されているが、ワックス、
ピッチに対しての洗浄力はあるものの、それ以外の汚
れ、例えば接着剤に対する洗浄力が十分でない。[0003] Further, the use of an aqueous detergent containing a surfactant or an inorganic alkali or an aqueous detergent such as phosphates has been considered, but the washing power is poor and a large space is required for wastewater treatment equipment. Therefore, it is not preferable in terms of economy. Hydrocarbon cleaning agents are also being studied, but wax,
Although it has a detergency against the pitch, it has insufficient detergency against other stains such as an adhesive.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
課題を解決するもので、ワックス、ピッチ、接着剤など
が付着した光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境に
与える影響が少なく、取り扱い上の規制も少なく、光学
部品へのダメージもなく、かつ、十分な洗浄性を有する
洗浄液組成物を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and is a cleaning liquid for cleaning an optical component to which wax, pitch, adhesive, etc. are adhered. An object of the present invention is to provide a cleaning liquid composition which has few restrictions on handling, does not damage optical components, and has sufficient cleaning properties.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、(Ａ)ラクタムからな
る成分Ａを３０〜７０重量％と、（Ｂ）次の化２に示す
エーテル化合物あるいは炭素数８〜１４の炭化水素、も
しくはこれらの混合物からなる成分Ｂを７０〜３０重量
％とを含有する光学部品用洗浄液組成物が光学部品の洗
浄に適していることを見出した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that (A) 30 to 70% by weight of component A consisting of lactam, and (B) It has been found that a cleaning liquid composition for optical parts containing 70 to 30% by weight of the component B consisting of an ether compound, a hydrocarbon having 8 to 14 carbon atoms, or a mixture thereof, is suitable for cleaning optical parts. Was.
【化２】Ｒ１−Ｏ−（Ｒ２−Ｏ）ｎ−Ｒ３ ここで、Ｒ１は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ２は炭素
数２〜６のアルキレン基、Ｒ３は炭素数１〜３のアルキ
ル基、アルキルカルボキシル基または水素、ｎは１〜４
である。## STR2 ## R1-O- (R2-O)n-R3 Where R1Is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R2Is carbon
An alkylene group of the formulas 2 to 6, R3Is alk having 1 to 3 carbon atoms
Group, alkylcarboxyl group or hydrogen, n is 1-4
It is.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】[成分Ａ] 成分Ａを構成するラク
タムは、環式化合物であって、その環内に−ＣＯＮＲ’
−なる原子団（ここで、Ｒ’は水素またはアルキル基で
ある）を含む化合物である。種々のラクタムのうち、炭
素数が３〜８のもの、特にはγ−ラクタムの誘導体であ
るＮ−アルキルピロリジノンを用いることが好ましい。
入手の容易さからＮ−アルキルピロリジノンはＮ−置換
のアルキル基がメチル基、エチル基であるＮ−メチルピ
ロリジノン、Ｎ−エチルピロリジノンおよびこれらの混
合物からなることが特に好ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [Component A] The lactam constituting Component A is a cyclic compound, and has -CONR 'in its ring.
Wherein R ′ is hydrogen or an alkyl group. Among various lactams, one having 3 to 8 carbon atoms, particularly N-alkylpyrrolidinone, which is a derivative of γ-lactam, is preferably used.
It is particularly preferable that the N-alkylpyrrolidinone is composed of N-methylpyrrolidinone in which the N-substituted alkyl group is a methyl group or an ethyl group, N-ethylpyrrolidinone, and a mixture thereof.
【０００７】洗浄液組成物に占める成分Ａの割合は、３
０〜７０重量％、好ましくは４０〜７０重量％である。
成分Ａが３０重量％未満では接着剤に対する溶解力が低
下し、７０重量％を超えるとピッチ、ワックスに対する
洗浄力が低下するため洗浄液として望ましくない。The ratio of the component A in the cleaning liquid composition is 3
It is 0 to 70% by weight, preferably 40 to 70% by weight.
If the component A is less than 30% by weight, the dissolving power for the adhesive is reduced. If the component A is more than 70% by weight, the detergency for pitch and wax is reduced, which is not desirable as a cleaning liquid.
【０００８】[成分Ｂ] 成分Ｂは、次の化３に示すエー
テル化合物、あるいは炭素数８〜１４の炭化水素、もし
くはこれらの混合物からなる成分である。[Component B] Component B is an ether compound represented by the following chemical formula 3, a hydrocarbon having 8 to 14 carbon atoms, or a mixture thereof.
【化３】Ｒ１−Ｏ−（Ｒ２−Ｏ）ｎ−Ｒ３ ここで、Ｒ１は炭素数１〜３のアルキル基又は水素、Ｒ
２は炭素数２〜６のアルキレン基、Ｒ３は炭素数１〜３
のアルキル基、アルキルカルボキシル基または水素、ｎ
は１〜４である。Embedded image R1-O- (R2-O)n-R3 Where R1Is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or hydrogen, R
2Is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, R3Has 1 to 3 carbon atoms
An alkyl group, an alkylcarboxyl group or hydrogen of n
Is 1-4.
【０００９】このようなエーテル化合物しては、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、ブチレングリコールモノ
メチルエーテル、ブチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコール
ジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエー
テル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリ
プロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジブチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリプ
ロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ブ
チレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジブ
チレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチ
レングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエ
チレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ト
リエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルア
セテート、トリプロピレングリコールモノプロピルエー
テルアセテート、ブチレングリコールモノプロピルエー
テルアセテート、ジブチレングリコールモノプロピルエ
ーテルアセテートが挙げられる。入手の容易性、引火点
の高さから、トリエチレングリコールジメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルの一種で
ある３-メチル-３−メトキシブチルアルコール、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテートの一種で
ある３-メチル-３−メトキシブチルアセテートが好適で
ある。Such ether compounds include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, butylene glycol monomethyl ether, Butylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, tripropylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl -Ter acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, tripropylene glycol monomethyl ether acetate, butylene glycol monomethyl ether acetate, dibutylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol Monoethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, tripropylene glycol monoethyl ether acetate, butylene glycol monoethyl ether Acetate, dibutylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monopropyl ether acetate, diethylene glycol monopropyl ether acetate, triethylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, dipropylene glycol monopropyl ether acetate, tripropylene glycol mono Propyl ether acetate, butylene glycol monopropyl ether acetate, dibutylene glycol monopropyl ether acetate. Due to the availability and the high flash point, trimethyl glycol dimethyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl alcohol, a kind of propylene glycol monomethyl ether, and 3-methyl-3-, a kind of propylene glycol monomethyl ether acetate, are used. Methoxybutyl acetate is preferred.
【００１０】炭素数８〜１４の炭化水素としては、脂肪
族炭化水素、脂環族炭化水素を用いることができる。脂
肪族炭化水素の具体例としては、直鎖および分岐鎖の、
オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ト
リデカン、テトラデカンなどが挙げられ、引火点の高
さ、沸点の低さから、特に炭素数８〜１４、好ましくは
９〜１２の脂肪族炭化水素が好適である。脂環族炭化水
素の具体例としてはメチルシクロヘキサン、エチルシク
ロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンまたはプロピルシ
クロヘキサンなどのアルキルシクロヘキサン、デカリ
ン、メチルデカリン、エチルデカリン、ジメチルデカリ
ンまたはプロピルデカリンなどのデカリン類が挙げられ
る。As hydrocarbons having 8 to 14 carbon atoms, aliphatic hydrocarbons and alicyclic hydrocarbons can be used. Specific examples of the aliphatic hydrocarbon include straight-chain and branched-chain,
Octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, and the like are included. From the viewpoint of a high flash point and a low boiling point, aliphatic hydrocarbons having 8 to 14, preferably 9 to 12 carbon atoms are particularly suitable. is there. Specific examples of the alicyclic hydrocarbon include alkylcyclohexane such as methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane and propylcyclohexane, and decalins such as decalin, methyldecalin, ethyldecalin, dimethyldecalin and propyldecalin.
【００１１】洗浄液組成物に占める成分Ｂの割合は、３
０〜７０重量％、好ましくは３０〜６０重量％である。
上述のエーテル化合物の配合量は、５０重量％以下、特
には１５〜４０重量％が好ましく、５０重量％を超える
と接着剤に対する洗浄力が低下する。成分Ｂとして、炭
素数８〜１４の炭化水素を５〜４５重量％含有すること
が好ましい。特に、成分Ｂとして、上述のエーテル化合
物と炭化水素の両者を含有することが好ましい。The proportion of the component B in the cleaning liquid composition is 3
It is 0 to 70% by weight, preferably 30 to 60% by weight.
The compounding amount of the above ether compound is preferably 50% by weight or less, particularly preferably 15 to 40% by weight, and if it exceeds 50% by weight, the detergency for the adhesive decreases. Component B preferably contains 5 to 45% by weight of a hydrocarbon having 8 to 14 carbon atoms. In particular, it is preferable to contain both the above-mentioned ether compound and hydrocarbon as Component B.
【００１２】本発明の洗浄液組成物には、本発明の目的
を損なわない範囲で有機溶剤や水を配合したり、界面活
性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤、無機微粒子
等の慣用の添加剤を含めることができる。界面活性剤と
しては非イオン性界面活性剤が好ましく、例えば高級ア
ルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノー
ルエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイ
ド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加
物、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、シ
ョ糖脂肪酸エステル、シリコン系、フッ素系等いずれの
ものも使用できる。なお、成分Ａおよび成分Ｂ以外の成
分の洗浄液組成物に占める割合は、１０重量％以下、特
には５重量％以下であることが好ましい。The cleaning liquid composition of the present invention may contain an organic solvent or water as long as the object of the present invention is not impaired, or may contain a surfactant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a rust inhibitor, inorganic fine particles and the like. Conventional additives may be included. As the surfactant, a nonionic surfactant is preferable. For example, higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, Any of sugar fatty acid ester, silicon type, fluorine type and the like can be used. The proportion of the components other than the components A and B in the cleaning liquid composition is preferably 10% by weight or less, particularly preferably 5% by weight or less.
【００１３】また、紫外線吸収剤及び酸化防止剤として
は、洗浄液の長期保存等における安定性の向上に役立
ち、紫外線吸収剤としては例えばベンゾトリアゾール
系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系等を使用で
き、酸化防止剤としては例えばフェノール系、アミン
系、硫黄系、リン系等、本発明の洗浄液組成物に溶解す
るものはいずれも使用できる。フェノール系酸化防止剤
を、１００〜１０００重量ｐｐｍ添加することが特に好
ましい。The UV absorber and antioxidant are useful for improving the stability of the cleaning solution during long-term storage and the like. As the UV absorber, for example, benzotriazole, benzophenone, hindered amine and the like can be used. As the agent, any agent that dissolves in the cleaning liquid composition of the present invention, such as a phenol-based, amine-based, sulfur-based, and phosphorus-based agent, can be used. It is particularly preferable to add a phenolic antioxidant in an amount of 100 to 1000 ppm by weight.
【００１４】本発明の洗浄液組成物を洗浄対象物である
光学部品に接触させることで洗浄することができるが、
光学部品と洗浄液組成物とを接触させる方法自体は特に
制限はなく、公知のいずれの方法も使用できる。例え
ば、洗浄液組成物を含浸したスポンジ等による拭き取
り、洗浄液組成物への浸漬及び／又はスプレー等により
実施することが好ましい。浸漬による洗浄においては、
洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音波又
はエアバブリング等を組み合わせることが更に好まし
い。この場合、超音波の使用条件は、例えば発振周波数
２０〜１００ｋＨｚ、発振出力１０〜２００Ｗ／ｌが好
ましい。エアバブリングでは、微細な気泡を、好ましく
は空気：洗浄液の体積比１：１〜５：１程度で通気する
ことにより、洗浄液組成物に不溶性の汚れを気泡と共に
上昇させ、不溶性の汚れをも分離することができる。ス
プレーによる洗浄において、その圧力は、例えば０．５
〜１０ｋｇ／ｃｍ２ Ｇが好ましい。いずれの場合も洗
浄時間は、好ましくは１５秒間〜２時間、特に好ましく
は３０秒間〜２０分間である。上記範囲未満では洗浄が
不十分で、付着した汚れを十分に除去し得ず、一方、上
記範囲を超えても洗浄効果は格別向上しない。洗浄温度
は、好ましくは２０〜１２０℃である。上記洗浄におい
て、より高温で処理することにより洗浄効果を著しく上
昇させることができる。上記範囲未満では、洗浄が不十
分となり易い。The cleaning liquid composition of the present invention can be cleaned by bringing the cleaning liquid composition into contact with an optical component to be cleaned.
The method of bringing the optical component into contact with the cleaning liquid composition itself is not particularly limited, and any known method can be used. For example, wiping with a sponge or the like impregnated with the cleaning liquid composition, immersion in the cleaning liquid composition and / or spraying is preferably performed. In cleaning by immersion,
In order to enhance the cleaning effect, it is more preferable to simultaneously combine stirring, rocking, ultrasonic waves, or air bubbling. In this case, the use conditions of the ultrasonic wave are preferably, for example, an oscillation frequency of 20 to 100 kHz and an oscillation output of 10 to 200 W / l. In the air bubbling, fine bubbles are preferably aerated at a volume ratio of air: cleaning liquid of about 1: 1 to 5: 1 to raise insoluble dirt in the cleaning liquid composition together with air bubbles and separate insoluble dirt. can do. In cleaning by spraying, the pressure is, for example, 0.5
-10 kg / cm 2 G is preferred. In each case, the washing time is preferably from 15 seconds to 2 hours, particularly preferably from 30 seconds to 20 minutes. If the amount is less than the above range, the cleaning is insufficient and the adhered dirt cannot be sufficiently removed. On the other hand, if the amount exceeds the above range, the cleaning effect is not particularly improved. The washing temperature is preferably from 20 to 120C. In the above-mentioned washing, the treatment at a higher temperature can significantly increase the washing effect. If it is less than the above range, the cleaning tends to be insufficient.
【００１５】本発明の洗浄液組成物は、光学部品に付着
したワックス、ピッチ、接着剤などを洗浄するために用
いられる。このような光学部品としてはめがね、顕微
鏡、望遠鏡、カメラまたは電子機器の光学ピックアップ
用などのレンズ、その筐体があげられる。これらの製造
工程において、部品表面の研磨、保護、固定などの目的
でワックス、ピッチを用いることがあり、同時にシアノ
アクリレート系の接着剤を使用することがある。The cleaning liquid composition of the present invention is used for cleaning wax, pitch, adhesive and the like adhering to optical parts. Such optical components include glasses, microscopes, telescopes, lenses for optical pickups of cameras or electronic devices, and housings thereof. In these manufacturing steps, wax and pitch may be used for the purpose of polishing, protecting and fixing the surface of the component, and at the same time, a cyanoacrylate-based adhesive may be used.
【００１６】汚染物となるワックス、ピッチ、接着剤を
具体的に例示すれば、研磨用あるいは張付用ピッチとし
てのストレートアスファルト系、ブローンアスファルト
系、ウッド系等のピッチが挙げられる。また、ワックス
は金属、ガラス等の仮止め接着剤として使用されている
天然樹脂、石油系ワックス、合成系ワックス等が挙げら
れる。接着剤としてはメチル−α−シアノアクリレー
ト、エチル−α−シアノアクリレートなどに代表される
アルキルシアノアクリレートをモノマーとする接着剤で
あるシアノアクリレート系瞬間接着剤が広範に用いられ
ている。Specific examples of waxes, pitches and adhesives serving as contaminants include straight asphalt-based, blown asphalt-based and wood-based pitches as polishing or sticking pitches. Examples of the wax include a natural resin, a petroleum wax, and a synthetic wax used as a temporary fixing adhesive for metal, glass, and the like. As an adhesive, a cyanoacrylate-based instant adhesive, which is an adhesive containing an alkyl cyanoacrylate represented by methyl-α-cyanoacrylate, ethyl-α-cyanoacrylate, or the like as a monomer, is widely used.
【００１７】[0017]
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により更に詳
細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定され
るものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
【００１８】実施例として用いた洗浄液（実施例１〜
９）の配合量を表１、２に、比較例として用いた洗浄液
（比較例１〜７）の配合量を表３、４に示す。表中、Ｎ
ＭＰはＮ−メチルピロリジノンを、ＴＥＧＤＭＥはトリ
エチレングリコールジメチルエーテルを、ＭＭＢは３−
メチル−３−メトキシブチルアルコールを、ＭＭＢＡは
３−メチル−３−メトキシブチルアセテートを示す。配
合した洗浄液の洗浄力を以下の方法で評価した。The cleaning solution used as an example (Examples 1 to 3)
Tables 1 and 2 show the amounts of 9), and Tables 3 and 4 show the amounts of the cleaning liquids (Comparative Examples 1 to 7) used as comparative examples. In the table, N
MP is N-methylpyrrolidinone, TEGDME is triethylene glycol dimethyl ether, MMB is 3-
Methyl-3-methoxybutyl alcohol and MMBA indicate 3-methyl-3-methoxybutyl acetate. The cleaning power of the compounded cleaning liquid was evaluated by the following method.
【００１９】[0019]
【表１】 [Table 1]
【００２０】[0020]
【表２】 [Table 2]
【００２１】[0021]
【表３】 [Table 3]
【００２２】[0022]
【表４】 [Table 4]
【００２３】[接着剤に対する洗浄テスト] シアノアク
リレート系瞬間接着剤であるLoctite412（日本ロックタ
イト製）をガラスプレートに滴下し、さらにカバーガラ
ス（２２ｍｍ角、厚さ０．２ｍｍ）を掛けて２５℃の室
温において硬化させて張り合わせた。これを被検液（洗
浄液）に浸せきし、５０℃で超音波照射下に３０分間洗
浄を行い、剥離、溶解の状態を観察した。洗浄後にカバ
ーガラスが剥離したものを○、剥離しなかったものを×
として評価し、表１、２、３、４に併せて示した。[Cleaning Test for Adhesive] Loctite 412 (manufactured by Nippon Loctite), which is a cyanoacrylate instant adhesive, was dropped on a glass plate, and further covered with a cover glass (22 mm square, 0.2 mm thick) at 25 ° C. Cured at room temperature and laminated. This was immersed in a test solution (washing solution), washed at 50 ° C. for 30 minutes under ultrasonic irradiation, and the state of peeling and dissolution was observed. If the cover glass was peeled off after cleaning, it was ○.
And the results are shown in Tables 1, 2, 3, and 4.
【００２４】[ピッチに対する洗浄テスト] ピッチ（九
重電気（株）製、Ｋ級３号）を溶解した３０％濃度トル
エン溶液に光学ガラスを浸し、室温で乾燥することで、
均一なピッチを付着させたものを洗浄対象物として用い
た。この洗浄対象物を洗浄液が充填された洗浄槽におい
て液温３０℃で超音波照射下に１分間洗浄を行った。洗
浄槽から取りだした洗浄対象物を、１０分間立てて静置
後、温風乾燥機で洗浄液を蒸散除去し乾燥した。洗浄後
に、肉眼によりピッチの痕跡が全く認められないものを
〇、痕跡のあるものを×として評価し、表１、２、３、
４に併せて示した。[Pitch Cleaning Test] An optical glass was immersed in a 30% strength toluene solution in which pitch (Kuju Electric Co., Ltd., K class No. 3) was dissolved, and dried at room temperature.
The object to which a uniform pitch was attached was used as an object to be cleaned. The object to be cleaned was cleaned in a cleaning tank filled with the cleaning liquid at a liquid temperature of 30 ° C. under ultrasonic irradiation for 1 minute. After the object to be washed taken out of the washing tank was allowed to stand for 10 minutes and allowed to stand, the washing liquid was evaporated off with a warm air drier and dried. After washing, a mark in which no trace of the pitch was recognized by the naked eye was evaluated as Δ, and a mark with a trace was evaluated as x.
4 is also shown.
【００２５】［ワックスに対する洗浄テスト］ 天然樹
脂、石油アスファルト、天然ワックスを成分とするリセ
スワックス（九重電気（株）製、Ｎｏ．６）０．３ｇを
光学ガラス上に置き、８０℃に加熱し、１５分放置して
溶融塗布し、その後室温まで放冷したものものを洗浄対
象物として用いた。この洗浄対象物を洗浄液が充填され
た洗浄槽において液温３０℃で超音波照射下に１分間洗
浄を行った。洗浄槽から取りだした洗浄対象物を、１０
分間立てて静置後、温風乾燥機で洗浄液を蒸散除去し乾
燥した。１分間の洗浄により肉眼によりワックスの痕跡
が全く認められないものを〇、痕跡のあるものを×とし
て評価し、表１、２、３、４に併せて示した。[Washing Test for Wax] 0.3 g of recess wax (No. 6 manufactured by Kuju Electric Co., Ltd.) containing natural resin, petroleum asphalt and natural wax as components is placed on an optical glass and heated to 80 ° C. The coating was left for 15 minutes, melt-coated, and then allowed to cool to room temperature, and used as an object to be cleaned. The object to be cleaned was cleaned in a cleaning tank filled with the cleaning liquid at a liquid temperature of 30 ° C. under ultrasonic irradiation for 1 minute. The object to be washed taken out of the washing tank is
After standing for a minute, the washing liquid was evaporated off with a hot air drier and dried. When no trace of wax was observed by the naked eye after washing for 1 minute, it was evaluated as Δ, and when there was a trace, it was evaluated as X. The results are shown in Tables 1, 2, 3, and 4.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 3/00 Ｚ 3/00 Ｇ０２Ｃ 13/00 Ｇ０２Ｃ 13/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ Ｆターム(参考） 2H006 DA07 DA09 2K009 BB02 BB06 DD12 EE00 4H003 BA12 DA16 DB03 ED03 ED29 ED31 FA01 FA03 FA21 FA45──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 1/10 G02B 3/00 Z 3/00 G02C 13/00 G02C 13/00 G02B 1/10 Z F term (Reference) 2H006 DA07 DA09 2K009 BB02 BB06 DD12 EE00 4H003 BA12 DA16 DB03 ED03 ED29 ED31 FA01 FA03 FA21 FA45
Claims (4)
０重量％と、（Ｂ）次の化１に示すエーテル化合物ある
いは炭素数８〜１４の炭化水素、もしくはこれらの混合
物からなる成分Ｂを７０〜３０重量％とを含有する光学
部品用洗浄液組成物。 【化１】Ｒ１−Ｏ−（Ｒ２−Ｏ）ｎ−Ｒ３ ここで、Ｒ１は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ２は炭素
数２〜６のアルキレン基、Ｒ３は炭素数１〜３のアルキ
ル基、アルキルカルボキシル基または水素、ｎは１〜４
である。(1) A component (A) comprising a lactam is contained in an amount of 30 to 7
0% by weight and (B) an ether compound represented by the following chemical formula 1.
Or a hydrocarbon having 8 to 14 carbon atoms, or a mixture thereof
Containing 70 to 30% by weight of component B composed of
Cleaning fluid composition for parts. ## STR1 ## R1-O- (R2-O)n-R3 Where R1Is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R2Is carbon
An alkylene group of the formulas 2 to 6, R3Is alk having 1 to 3 carbon atoms
Group, alkylcarboxyl group or hydrogen, n is 1-4
It is.
−アルキルピロリジノンであり、そのアルキル基がメチ
ル基またはエチル基である化合物、もしくはこれらの混
合物である請求項１記載の光学部品用洗浄液組成物。2. The lactam as component A of claim 1, wherein the lactam is N
The cleaning liquid composition for an optical component according to claim 1, wherein the cleaning liquid composition is an alkylpyrrolidinone, wherein the alkyl group is a methyl group or an ethyl group, or a mixture thereof.
コールジメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブ
チルアセテート、炭素数８〜１４の脂肪族炭化水素もし
くはこれらの混合物である請求項１または２記載の光学
部品用洗浄液組成物。3. The component B according to claim 1, wherein the component B is triethylene glycol dimethyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, an aliphatic hydrocarbon having 8 to 14 carbon atoms, or a mixture thereof. Cleaning composition for optical parts.
ックスまたはピッチにより汚染されている光学部品を洗
浄するための請求項１〜３記載の光学部品用洗浄液組成
物。4. The cleaning composition for optical parts according to claim 1, which is for cleaning optical parts contaminated with a cyanoacrylate adhesive and wax or pitch.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001041091A JP2002241794A (en) | 2001-02-19 | 2001-02-19 | Cleaning liquid composition for optical part |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2002241794A true JP2002241794A (en) | 2002-08-28 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001041091A Pending JP2002241794A (en) | 2001-02-19 | 2001-02-19 | Cleaning liquid composition for optical part |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2002241794A (en) |
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