JP2002239443A - Spin coater - Google Patents
Spin coaterInfo
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- JP2002239443A JP2002239443A JP2001038315A JP2001038315A JP2002239443A JP 2002239443 A JP2002239443 A JP 2002239443A JP 2001038315 A JP2001038315 A JP 2001038315A JP 2001038315 A JP2001038315 A JP 2001038315A JP 2002239443 A JP2002239443 A JP 2002239443A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体、液
晶、あるいはＤＶＤ等における基板に薄膜を形成するた
めの薄膜形成装置の技術分野に属し、特に、薄膜が形成
される基板を回転させてコーティング液を遠心力で拡げ
ることにより、基板上に薄膜を形成するスピンコーター
の技術分野に属する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of a thin film forming apparatus for forming a thin film on a substrate of, for example, a semiconductor, a liquid crystal, a DVD, or the like. It belongs to the technical field of a spin coater that forms a thin film on a substrate by spreading a liquid by centrifugal force.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば半導体、液晶、あるいはＤＶＤ等
における基板に薄膜を形成する方法の１つとしてスピン
コーティング法があり、このスピンコーティング法では
薄膜形成装置として、基板上に薄膜のコーティング液を
滴下した後、この基板を回転させてコーティング液を遠
心力で拡げることにより、基板上に薄膜を形成するスピ
ンコーターが用いられている。2. Description of the Related Art One of the methods for forming a thin film on a substrate of a semiconductor, a liquid crystal, a DVD or the like is a spin coating method. After that, a spin coater is used to form a thin film on the substrate by rotating the substrate and spreading the coating liquid by centrifugal force.
【０００３】図３は、このような従来のスピンコーター
の一例を模式的に示す図である。図中、１はスピンコー
ター、２は薄膜が形成される、シリコンウェハ、ガラス
基板、あるいは基板ディスク等の基板、３は上面に基板
２を支持しかつ回転させるスピンテーブル（本発明の支
持テーブルに相当）、４はスピンテーブル３を回転す
る、サーボモータからなるスピンモータ（Ｍ）（本発明
の駆動手段に相当）、５はスピンモータ４の回転軸に連
結されたスピンテーブル３の回転軸３ａを回転可能に支
持する軸受、６はスピンテーブル３を収容するスピンカ
ップ（本発明の容器に相当）、７は真空発生手段、８は
スピンカップ６内の空気やミストが流動して外部に排出
させる排気ダクト（本発明の排出通路に相当）、９はフ
ァン、１０はマノメータ等の流量制御装置である。FIG. 3 is a diagram schematically showing an example of such a conventional spin coater. In the figure, 1 is a spin coater, 2 is a substrate such as a silicon wafer, a glass substrate, or a substrate disk on which a thin film is formed. 3 is a spin table for supporting and rotating the substrate 2 on the upper surface (a support table of the present invention). 4 is a spin motor (M) composed of a servo motor for rotating the spin table 3 (corresponding to the driving means of the present invention). 5 is a rotating shaft 3a of the spin table 3 connected to a rotating shaft of the spin motor 4. , A spin cup (corresponding to the container of the present invention) for accommodating the spin table 3, a vacuum generating means 7, and an air or mist inside the spin cup 6 flowing to be discharged to the outside. An exhaust duct (corresponding to the exhaust passage of the present invention), 9 is a fan, and 10 is a flow control device such as a manometer.
【０００４】この従来のスピンコーター１においては、
基板２に薄膜を形成するにあたり、この基板２が真空発
生手段７からの真空によってスピンテーブル３上に吸着
保持される。次いで、図示しないコーティング液供給手
段によって、基板２の中心を含む所定領域上に所定量の
コーティング液Ｒが滴下される。次に、スピンモータ４
を駆動してスピンテーブル３および基板２を一体的に所
定回転数（一般的には、約８０００ｒｐｍ位）で回転さ
せると、基板２上に滴下されたコーティング液が遠心力
で基板２上に拡がる。コーティング液が基板２の全面に
拡がったら、スピンモータ４を停止してスピンテーブル
３および基板２の回転を止めることにより、基板２の表
面にコーティング液の薄膜が形成される。[0004] In this conventional spin coater 1,
In forming a thin film on the substrate 2, the substrate 2 is suction-held on the spin table 3 by the vacuum from the vacuum generating means 7. Next, a predetermined amount of the coating liquid R is dropped onto a predetermined area including the center of the substrate 2 by a coating liquid supply unit (not shown). Next, the spin motor 4
Is driven to rotate the spin table 3 and the substrate 2 integrally at a predetermined rotation speed (generally, about 8000 rpm), the coating liquid dropped on the substrate 2 spreads on the substrate 2 by centrifugal force. . When the coating liquid has spread over the entire surface of the substrate 2, the spin motor 4 is stopped to stop the rotation of the spin table 3 and the substrate 2, whereby a thin film of the coating liquid is formed on the surface of the substrate 2.
【０００５】このスピンコーティング法による薄膜形成
では、薄膜の厚み（膜厚）のコントロールは遠心力のコ
ントロール、つまりスピンモータ４の回転数制御により
行われている。すなわち、コーティング液の粘度（粘
性）に基づいてスピンモータ４の回転数の設定を種々変
えることにより、種々の所望の膜厚を得ている。この薄
膜形成処理を行うために要する時間は、基板の大きさや
基板の種類等によって多少異なるが、平均的に約３０秒
程度である。また、従来スピンコーターを利用して基板
２等の洗浄も行われているとともに、更に、洗浄−リン
ス−乾燥の洗浄プロセスも行われている。In the thin film formation by the spin coating method, the thickness (thickness) of the thin film is controlled by controlling the centrifugal force, that is, by controlling the rotation speed of the spin motor 4. That is, various desired film thicknesses are obtained by variously changing the setting of the rotation speed of the spin motor 4 based on the viscosity (viscosity) of the coating liquid. The time required to perform this thin film formation processing varies slightly depending on the size of the substrate, the type of the substrate, and the like, but is on average about 30 seconds. In addition, conventionally, the substrate 2 and the like are cleaned using a spin coater, and a cleaning process of cleaning, rinsing, and drying is also performed.
【０００６】ところで、スピンテーブル３はスピンカッ
プ６内に収容されていて、遠心力で拡がるコーティング
液Ｒが外部に漏れないようにされているが、このスピン
カップ６内においてスピンテーブル３の上方は大きな空
間となっているとともに、スピンカップ６の上部が大き
く開口している。一方、基板２を回転させて遠心力を発
生させると、同時に風が発生するようになり、この風は
基板２の大きさが大きくなるほど、あるいは基板２の回
転数（つまりスピンテーブル３の回転数よびモータＭ４
の回転数）回転数が大きくなる。このように風が発生す
ると、この風により同図に矢印で示すように空気が上方
からスピンカップ６内にどんどん流入するようになる。
そして、スピンカップ６内に流入した空気は基板２上の
コーティング液に接触するために、コーティング液Ｒが
部分的に乾燥して基板２上に部分的に拡がり難くなり、
均一な膜厚の薄膜が形成されなくなってしまう。The spin table 3 is housed in a spin cup 6 so that the coating liquid R spreading by centrifugal force does not leak to the outside. The space is large, and the upper part of the spin cup 6 is largely open. On the other hand, when the substrate 2 is rotated to generate centrifugal force, wind is generated at the same time. This wind is generated as the size of the substrate 2 increases or the rotation speed of the substrate 2 (that is, the rotation speed of the spin table 3). And motor M4
Rotation speed) The rotation speed increases. When the wind is generated in this manner, the wind causes the air to flow into the spin cup 6 from above as shown by arrows in FIG.
Since the air flowing into the spin cup 6 comes into contact with the coating liquid on the substrate 2, the coating liquid R is partially dried and hardly spread on the substrate 2,
A thin film having a uniform thickness will not be formed.
【０００７】そこで、従来はファン９により、スピンカ
ップ６内に流入した空気を排気ダクト８を介して外部に
強制排気することで、流入する空気が基板２上のコーテ
ィング液に極力触れないように風の流れを基板２外周の
外方に導くようにしている。このファン９による強制排
気では、基板２上から落下した余剰のコーティング液も
空気の排気とともにドレンされるようになっている。ま
た、洗浄時には洗浄液が同様にファン９によってドレン
される。このとき、流量制御装置１０によって空気の排
気量およびコーティング液Ｒや洗浄液のドレン量が基板
２の回転数制御と独立してコントロールされるようにな
っている。Therefore, conventionally, the air flowing into the spin cup 6 is forcibly exhausted to the outside through the exhaust duct 8 by the fan 9 so that the flowing air does not touch the coating liquid on the substrate 2 as much as possible. The wind flow is directed to the outside of the outer periphery of the substrate 2. In the forced evacuation by the fan 9, the surplus coating liquid dropped from the substrate 2 is drained together with the air exhaust. At the time of cleaning, the cleaning liquid is similarly drained by the fan 9. At this time, the amount of air exhausted and the amount of drainage of the coating liquid R and the cleaning liquid are controlled by the flow rate control device 10 independently of the rotation speed control of the substrate 2.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現在製
造されている基板２の大きさは、例えばシリコンウェハ
ーの直径が例えば３００φ（ｍｍ）位等、またガラス基
板の寸法が例えば縦横６５０□（ｍｍ）×厚み０.７ｍ
ｍ位等でというように多種多様に設定されている。この
ため、基板２の外周端部の周速は基板２の大きさによっ
て大きく変動するようになる。特に、基板２が大型にな
ると、基板２のスピンが高速回転になって、基板２の周
速の変動がますます大きくなってしまう。しかも、前述
のように薄膜形成処理に要する時間は平均、約３０秒程
度ではあるが、基板２の大きさが多種多様に設定される
ことから、薄膜を形成するために必要なスピン時間も種
々様々となる。However, the size of the substrate 2 currently manufactured is, for example, a silicon wafer having a diameter of, for example, about 300 φ (mm), and a glass substrate having, for example, a length and width of 650 □ (mm). X thickness 0.7m
There are various settings, such as at the m-th place. For this reason, the peripheral speed at the outer peripheral end of the substrate 2 greatly varies depending on the size of the substrate 2. In particular, when the size of the substrate 2 increases, the spin of the substrate 2 rotates at a high speed, and the fluctuation of the peripheral speed of the substrate 2 further increases. Further, as described above, the time required for the thin film forming process is about 30 seconds on average, but since the size of the substrate 2 is variously set, the spin time required for forming the thin film is also various. It will be various.
【０００９】このように、基板２のサイズが多種多様で
あったり、基板のスピンが高速回転であったり、基板２
の周速の変動が大きかったり、あるいは薄膜を形成する
ために必要なスピン時間が種々様々であると、前述のよ
うに基板２の回転制御と排気およびドレンのコントロー
ルとが独立して行われるため、基板２の回転制御に対し
て排気やドレンのコントロールが微妙になって難しくな
り、これらのコントロールが不安定になる。As described above, the size of the substrate 2 varies, the spin of the substrate rotates at a high speed,
If the peripheral speed fluctuates greatly, or if the spin time required to form a thin film is various, the control of the rotation of the substrate 2 and the control of the exhaust and drain are performed independently as described above. In addition, the control of the exhaust and the drain becomes delicate and difficult to control the rotation of the substrate 2, and these controls become unstable.
【００１０】また、図４に示すように、スピンカップ６
内からファン９までの距離が比較的長いことおよび配管
形状の急変部等により配管抵抗が大きいので、流量制御
装置１０による空気の排気量を最大にしかつファン９の
回転数を大きくしても、排気ダクト８を通して排気され
る空気量やドレンされるコーティング液あるいは洗浄液
等のミストの量が制限されるようになる。特に、基板２
の高速回転の場合は、排気ダクト８を通してこれらの排
出量は更に制限される。そして、この従来のスピンコー
ター１では、ファン９によってスピンカップ６内の空気
やミストを、長い排気ダクト８を通して吸引するように
なっていることから、排気ダクト８を通した空気の排気
やミストのドレンが効果的に行われ難くなり、排気効率
およびドレン効率が悪いものとなっている。[0010] As shown in FIG.
Since the distance from the inside to the fan 9 is relatively long and the pipe resistance is large due to the sudden change in the pipe shape, etc., even if the exhaust amount of air by the flow control device 10 is maximized and the rotation speed of the fan 9 is increased, The amount of air exhausted through the exhaust duct 8 and the amount of mist such as a coating liquid or a cleaning liquid drained are limited. In particular, substrate 2
In the case of the high-speed rotation, the discharge amount through the exhaust duct 8 is further restricted. In the conventional spin coater 1, the air and mist in the spin cup 6 are sucked through the long exhaust duct 8 by the fan 9, so that the air and the mist are exhausted through the exhaust duct 8. Drainage is difficult to be performed effectively, resulting in poor exhaust efficiency and drain efficiency.
【００１１】更に、排気効率およびドレン効率が悪いこ
とから、排気ダクト８の方へ送られるスピンカップ６内
の空気量やミスト量が排気ダクト８へを通して排気され
る空気量やドレンされるミスト量より多くなるので、図
４に示すようにスピンカップ６内に空気およびミストが
滞留するとともに、これにより、スピンカップ６内が増
圧されて高圧となる場合がある。特に、基板２が高速回
転される場合は、スピンカップ６内がより増圧され易く
なって高圧になってしまう。このため、スピンカップ６
の内壁に当たったミストが逆流して基板２上に再付着し
てしまい、均一の膜厚が得られなくなったり、高圧によ
りスピンカップ６内のミストが図４に矢印で示すように
逆流してスピンカップ６の上方開口部から外部に噴出し
たりしてしまう場合があった。Further, since the exhaust efficiency and drain efficiency are poor, the amount of air and mist in the spin cup 6 sent to the exhaust duct 8 is reduced by the amount of air exhausted through the exhaust duct 8 and the amount of mist drained. As shown in FIG. 4, air and mist stay in the spin cup 6, and the pressure inside the spin cup 6 may be increased to a high pressure. In particular, when the substrate 2 is rotated at a high speed, the pressure inside the spin cup 6 is more likely to be increased, resulting in a high pressure. Therefore, spin cup 6
The mist that hits the inner wall of the spin cup 6 flows back and adheres again to the substrate 2, and a uniform film thickness cannot be obtained, or the mist in the spin cup 6 flows back as indicated by an arrow in FIG. In some cases, the liquid was ejected from the upper opening of the spin cup 6 to the outside.
【００１２】このように、空気の排気およびミストのド
レンのコントロールが不安定で、これらの排気効率およ
びドレン効率が悪いと、基板２上に形成される薄膜がこ
の薄膜形成時に発生する風の影響を受ける、つまり、こ
の風によってスピンカップ６内に流入する空気の、基板
２の薄膜形成部分に当たる量が多くなってしまうので、
形成される薄膜の膜厚をより一層均一にすることは難し
い。As described above, the control of the exhaust of air and the drain of the mist are unstable, and if the exhaust efficiency and the drain efficiency are poor, the thin film formed on the substrate 2 is affected by the wind generated at the time of forming the thin film. In other words, the amount of air flowing into the spin cup 6 that hits the thin film forming portion of the substrate 2 increases due to this wind.
It is difficult to make the thickness of the formed thin film even more uniform.
【００１３】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、その目的は、少なくとも基板上面領域
の空気やミストの排出を安定にかつ確実にコントロール
して効率良く行うことができるようにすることにより、
薄膜の膜厚をより一層均一にすることのできるスピンコ
ーターを提供することである。The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to efficiently and stably and at least control the discharge of air and mist from the upper surface region of a substrate. By doing so
An object of the present invention is to provide a spin coater that can make the thickness of a thin film even more uniform.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、請求項１の発明は、容器内に収容されてコーティン
グ液が塗布される基板を上面に支持する支持テーブル
と、この支持テーブルを回転する駆動手段と、前記支持
テーブルより下方に設けられて容器内の空気およびミス
トの少なくとも１つを前記容器の外部に排出させる排出
通路とを少なくとも備えているスピンコーターにおい
て、前記容器内に設けられ、前記支持テーブルと同期し
て回転することで前記支持テーブルより下方に向く空気
流を発生させる羽根を備えていることを特徴としてい
る。According to a first aspect of the present invention, there is provided a support table for supporting a substrate, which is accommodated in a container and to which a coating liquid is applied, on an upper surface, and comprising: A spin coater having at least a rotating drive means and a discharge passage provided below the support table to discharge at least one of air and mist in the container to the outside of the container; And a blade for generating an airflow directed downward from the support table by rotating in synchronization with the support table.
【００１５】また、請求項２の発明は、前記羽根が、前
記支持テーブルの外周より外方に配置されていることを
特徴としている。更に、請求項３の発明は、前記羽根が
前記支持テーブルの外周に一体に設けられていることを
特徴としている。Further, the invention according to claim 2 is characterized in that the blades are arranged outside the outer periphery of the support table. Further, the invention according to claim 3 is characterized in that the blade is provided integrally on the outer periphery of the support table.
【００１６】更に、請求項４の発明は、前記羽根が前記
支持テーブルとは別体に形成されているとともに、この
支持テーブルより下方にかつ前記支持テーブルと同軸に
設けられていることを特徴としている。更に、請求項５
の発明は、前記羽根を前記支持テーブルの回転数より低
速で回転する減速機構が設けられていることを特徴とし
ている。更に、請求項６の発明は、前記減速機構は遊星
歯車機構により構成されていることを特徴としている。Further, the invention according to claim 4 is characterized in that the blades are formed separately from the support table, and are provided below the support table and coaxially with the support table. I have. Further, claim 5
The present invention is characterized in that a speed reduction mechanism for rotating the blade at a lower speed than the rotation speed of the support table is provided. Further, the invention of claim 6 is characterized in that the speed reduction mechanism is constituted by a planetary gear mechanism.
【００１７】[0017]
【作用】このように構成された本発明のスピンコーター
においては、駆動手段によって支持テーブルが回転され
ると、従来と同様に容器内に風が発生し、容器の上方開
口部から空気が容器内に流入する。このとき、容器内に
設けられた羽根が支持テーブルの回転と同期して回転
し、この羽根の回転により支持テーブルの外周より外方
においてこの支持テーブルより下方に向く空気流が生じ
る。すると、この空気流によって容器内に流入する空気
は支持テーブル外周の外方に効果的に導かれるようにな
り、支持テーブル上の基板の方へ流動する空気は従来に
比べてはるかに低減する。In the spin coater according to the present invention having the above-described structure, when the support table is rotated by the driving means, wind is generated in the container as in the conventional case, and air flows from the upper opening of the container into the container. Flows into. At this time, the blades provided in the container rotate in synchronization with the rotation of the support table, and the rotation of the blades generates an airflow directed outward from the outer periphery of the support table and below the support table. Then, the air flowing into the container is effectively guided to the outside of the outer periphery of the support table by this air flow, and the air flowing toward the substrate on the support table is much reduced as compared with the related art.
【００１８】これにより、容器内に流入する空気の、基
板上のコーティング液に当たる量が低減するので、基板
上に薄膜を形成しつつあるコーティング液がこの空気に
よってほとんど影響されなくなり、形成される薄膜はそ
の膜厚がより一層均一になる。特に、羽根が基板および
支持テーブルと同期回転することにより、薄膜を形成す
る際に基板の種々のサイズや種々の形状に応じて設定さ
れた基板の回転数条件に対応して羽根が回転するように
なるので、発生する空気流も基板の回転数条件に対応し
たものとなる。したがって、羽根による強制的な空気流
が、薄膜を形成する基板の回転数、つまり基板の種類や
薄膜の厚み等に応じて簡単に制御されるようになる。こ
れによっても、より一層均一な膜厚の薄膜が形成される
ようになる。羽根によって強制的に排気通路の入口に流
動してきた空気やミストは排気通路内に流入し、排気通
路を通って容器の外部に排出される。This reduces the amount of air flowing into the container that hits the coating liquid on the substrate, so that the coating liquid that is forming a thin film on the substrate is hardly affected by the air, and the formed thin film is thin. Has a more uniform film thickness. In particular, the blades rotate synchronously with the substrate and the support table so that when forming a thin film, the blades rotate according to the substrate rotation speed conditions set according to various sizes and various shapes of the substrate. Therefore, the generated airflow also corresponds to the rotation speed condition of the substrate. Therefore, the forced air flow by the blades can be easily controlled according to the rotation speed of the substrate on which the thin film is formed, that is, the type of the substrate, the thickness of the thin film, and the like. This also allows a thin film having a more uniform thickness to be formed. Air or mist forcedly flowing to the inlet of the exhaust passage by the blades flows into the exhaust passage, and is discharged to the outside of the container through the exhaust passage.
【００１９】ところで、この羽根による空気の支持テー
ブルより下方への強制的流動により、容器内の羽根より
上流側、つまり支持テーブルの上面および基板がある容
器内の領域が高圧になることはない。これにより、従来
のように基板上から流出した余剰分のコーティング液の
ミストが逆流して上方へ流動しなくなるので、基板に付
着することがほとんどなくなって形成された薄膜の膜厚
の均一度がより一層向上するとともに、容器の上方開口
部から外部に噴出することもより確実に抑制されるよう
になる。By the way, due to the forced flow of air downward from the support table by the blades, a high pressure does not occur in the region upstream of the blades in the container, that is, in the region where the upper surface of the support table and the substrate are located. As a result, the mist of the surplus coating liquid flowing out from the substrate does not flow upward due to backflow as in the conventional case, so that the uniformity of the film thickness of the formed thin film hardly adheres to the substrate. In addition to the further improvement, it is possible to more reliably suppress the ejection from the upper opening of the container to the outside.
【００２０】特に、請求項２の発明では、羽根が支持テ
ーブルの外周より外方に配置されるので、容器の上方開
口部から容器内に流入した空気が支持テーブル外周の外
方により一層効果的に導かれるようになり、支持テーブ
ル上の基板の方へ流動する空気が抑制される。これによ
り、コーティング液への空気による影響が更に低減す
る。In particular, according to the second aspect of the present invention, since the blades are arranged outside the outer periphery of the support table, the air flowing into the container from the upper opening of the container is more effective outside the outer periphery of the support table. And the air flowing toward the substrate on the support table is suppressed. Thereby, the influence of air on the coating liquid is further reduced.
【００２１】また、請求項３の発明では、羽根が支持テ
ーブルの外周に一体に設けられるので、構成が簡単にな
るとともに、その分部品点数が低減する。更に、請求項
４の発明では、羽根が支持テーブルとは別体に形成され
るので、羽根の回転数が支持テーブルの回転数と独立し
て制御可能となる。更に、請求項５の発明では、減速機
構により羽根が支持テーブルの回転数より低速で回転す
る。これにより、羽根が支持テーブル外周の外方に設け
られて慣性モーメントが大きくなっても、羽根の回転数
制御が簡単になる。According to the third aspect of the present invention, since the blades are provided integrally on the outer periphery of the support table, the structure is simplified and the number of parts is reduced accordingly. Furthermore, in the invention of claim 4, since the blade is formed separately from the support table, the rotation speed of the blade can be controlled independently of the rotation speed of the support table. Further, according to the fifth aspect of the present invention, the blade is rotated at a lower speed than the rotation speed of the support table by the speed reduction mechanism. Thus, even if the blades are provided outside the outer periphery of the support table and the moment of inertia increases, the rotation speed control of the blades is simplified.
【００２２】更に、請求項６の発明では、減速機構が遊
星歯車機構により構成されるので、この減速機構は支持
テーブル外周の外方に設けられる羽根の内側に配置可能
となるので、装置がコンパクトに形成されるようにな
る。特に、遊星歯車機構が樹脂で形成された場合、装置
は軽量コンパクトに形成されるとともに、騒音の発生が
防止される。Further, according to the invention of claim 6, since the speed reduction mechanism is constituted by a planetary gear mechanism, the speed reduction mechanism can be arranged inside a blade provided outside the outer periphery of the support table, so that the apparatus is compact. Is formed. In particular, when the planetary gear mechanism is formed of resin, the device is formed to be lightweight and compact, and the generation of noise is prevented.
【００２３】[0023]
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて、本発明の実
施の形態について説明する。図１は、本発明に係るスピ
ンコーターの実施の形態の一例を模式的に示す図であ
る。なお、前述の図３に示す従来のスピンコーターと同
じ構成要素には同じ符号を付すことにより、その詳細な
説明は省略する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram schematically illustrating an example of an embodiment of a spin coater according to the present invention. The same components as those of the conventional spin coater shown in FIG. 3 described above are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.
【００２４】図１に示すように、この例のスピンコータ
ー１は、容器６内でスピンテーブル３と軸受５との間の
回転軸３ａに、樹脂製のサンギヤ１１がこの回転軸３ａ
と一体回転可能に取り付けられている。このサンギヤ１
１には所定数（図示例では２個）の樹脂製のプラネタリ
ギヤ１２が周方向に等間隔を置いて噛合しており、これ
らのサンギヤ１１はスピンカップ６に自転のみ可能に設
けられている。更に、各プラネタリギヤ１２に、リング
状の樹脂製のインタ−ナルギヤ１３が噛合しており、こ
のインタ−ナルギヤ１３は回転軸３ａに同軸に配置され
ているとともに、軸受等によりスピンカップ６に回転可
能に支持されかつスピンテーブル３にこのスピンテーブ
ル３と相対回転可能に支持されている。なお、インター
ナルギヤ１３は必ずしもスピンテーブル３に支持される
必要はなく、例えばスピンカップ６のみに回転可能に支
持するようにすることもできる。As shown in FIG. 1, in the spin coater 1 of this embodiment, a sun gear 11 made of resin is provided on a rotating shaft 3a between a spin table 3 and a bearing 5 in a container 6, and a rotating shaft 3a.
It is attached so that it can rotate together with it. This sun gear 1
A predetermined number (two in the illustrated example) of resin-made planetary gears 12 mesh with each other at equal intervals in the circumferential direction, and these sun gears 11 are provided on the spin cup 6 so that they can only rotate. Further, a ring-shaped resin internal gear 13 meshes with each planetary gear 12, and this internal gear 13 is arranged coaxially with the rotating shaft 3a, and is rotatable with the spin cup 6 by a bearing or the like. And supported by the spin table 3 so as to be rotatable relative to the spin table 3. The internal gear 13 does not necessarily need to be supported by the spin table 3, but may be rotatably supported only by the spin cup 6, for example.
【００２５】インターナルギヤ１３の外周にはリング状
の樹脂製の羽根１４が一体に設けられ、この羽根１４と
一体回転可能にされている。その場合、羽根１４はスピ
ンカップ６内で、スピンテーブル３外周の外方に位置し
て設けられているとともに、羽根１４の外周縁とスピン
カップ６の内壁との間の隙間が、羽根１４とスピンカッ
プ６の内壁とが干渉しない程度に可及的に小さく設定さ
れている。A ring-shaped resin blade 14 is provided integrally on the outer periphery of the internal gear 13, and is rotatable integrally with the blade 14. In this case, the blades 14 are provided inside the spin cup 6 outside the outer periphery of the spin table 3, and a gap between the outer peripheral edge of the blades 14 and the inner wall of the spin cup 6 is formed with the blades 14. It is set as small as possible so as not to interfere with the inner wall of the spin cup 6.
【００２６】また、羽根１４の形状は、基板２および支
持テーブル２の図示のスピン方向の回転に対して逆方向
に回転するとき、この羽根１４より上方、つまり基板２
およびスピンテーブル３側のスピカップ６内の空気がこ
の羽根１４より下方、つまり排気ダクト８側に流れる空
気流が生じるような形状に設定されている。この例のス
ピンコーター１の他の構成は、前述の図３に示す従来例
と同じである。The shape of the blade 14 is higher than the blade 14 when the substrate 2 and the support table 2 are rotated in a direction opposite to the rotation of the spin direction shown in FIG.
The shape is set such that the air in the spin cup 6 on the side of the spin table 3 generates an airflow flowing below the blades 14, that is, toward the exhaust duct 8. The other configuration of the spin coater 1 of this example is the same as the conventional example shown in FIG.
【００２７】このように構成されたこの例のスピンコー
ター１においては、前述の従来例と同様に、薄膜形成に
あたって基板２上に滴下されたコーティング液Ｒを遠心
力で拡げるために、スピンモータ４の駆動により回転軸
３ａを介してスピンテーブル３および基板２を図示のス
ピン方向に所定回転数で回転させる。このとき、回転軸
３ａと一体のサンギヤ１１が同スピン方向にかつ同回転
数で回転する。このサンギヤ１１の回転で、各プラネタ
リギヤ１２がともにスピン方向と逆方向に自転するとと
もに、インターナルギヤ１３および羽根１４が一体に、
スピンテーブル３および基板２の回転と同期して回転す
る。その場合、インターナルギヤ１３および羽根１４
は、サンギヤ１１の回転数（つまり、スピンテーブル３
および基板２の回転数）より減速されて同逆方向に回転
する。したがって、この例では、サンギヤ１１、プラネ
タリギヤ１２およびインターナルギヤ１３からなる遊星
歯車機構により、本発明の減速機構が構成されている。In the spin coater 1 of this embodiment having the above-described structure, the spin motor 4 is used to spread the coating liquid R dropped on the substrate 2 by centrifugal force when forming a thin film, similarly to the above-mentioned conventional example. Drives the spin table 3 and the substrate 2 at a predetermined number of revolutions in the illustrated spin direction via the rotation shaft 3a. At this time, the sun gear 11 integrated with the rotating shaft 3a rotates in the same spin direction and at the same rotational speed. By the rotation of the sun gear 11, each of the planetary gears 12 rotates in the direction opposite to the spin direction, and the internal gear 13 and the blades 14 are integrally formed.
It rotates in synchronization with the rotation of the spin table 3 and the substrate 2. In that case, the internal gear 13 and the blade 14
Is the rotation speed of the sun gear 11 (that is, the spin table 3
And the number of rotations of the substrate 2) and rotates in the opposite direction. Therefore, in this example, the planetary gear mechanism including the sun gear 11, the planetary gear 12, and the internal gear 13 constitutes the reduction mechanism of the present invention.
【００２８】この羽根１４の回転により、スピンカップ
６内の羽根１４より上方領域Ａ内の空気が下に向かって
羽根１４より下方に流れる空気流が発生する。このと
き、スピンテーブル３および基板２の回転で、従来と同
様にスピンカップ６内に風が発生し、スピンカップ６の
上方開口部から空気が図示の矢印のようにスピンカップ
６内に流入する。スピンカップ６内に流入した空気は、
羽根１４の回転で生じた空気流によって図１に矢印で示
すようにスピンテーブル３外周の外方に効果的に導かれ
るようになる。これにより、スピンテーブル３上の基板
２の方へ流動する空気は従来に比べてはるかに低減す
る。The rotation of the blade 14 generates an air flow in which the air in the region A above the blade 14 in the spin cup 6 flows downward and below the blade 14. At this time, the rotation of the spin table 3 and the substrate 2 generates wind in the spin cup 6 as in the related art, and air flows into the spin cup 6 from the upper opening of the spin cup 6 as shown by the arrow in the drawing. . The air flowing into the spin cup 6 is
The air flow generated by the rotation of the blade 14 effectively guides the spin table 3 to the outside of the outer periphery of the spin table 3 as indicated by an arrow in FIG. As a result, the amount of air flowing toward the substrate 2 on the spin table 3 is significantly reduced as compared with the related art.
【００２９】これにより、スピンカップ６内に流入する
空気の、基板２上のコーティング液Ｒに当たる量が低減
するようになる。したがって、基板２上に薄膜を形成し
つつあるコーティング液Ｒがこの空気によってほとんど
影響されなくなり、形成される薄膜はその膜厚がより一
層均一になる。As a result, the amount of air flowing into the spin cup 6 hitting the coating liquid R on the substrate 2 is reduced. Therefore, the coating liquid R that is forming a thin film on the substrate 2 is hardly affected by the air, and the formed thin film has a more uniform thickness.
【００３０】特に、羽根１４がスピンテーブル３の外周
より外方に配置されるので、スピンカップ６内に流入し
た空気がスピンテーブル３外周の外方により一層効果的
に導かれるようになり、スピンテーブル３上の基板２の
方へ流動する空気が抑制される。これにより、コーティ
ング液への空気による影響が更に低減する。In particular, since the blades 14 are arranged outside the outer periphery of the spin table 3, the air flowing into the spin cup 6 is more effectively guided outside the outer periphery of the spin table 3, and the spin The air flowing toward the substrate 2 on the table 3 is suppressed. Thereby, the influence of air on the coating liquid is further reduced.
【００３１】このとき、羽根１４が基板２およびスピン
テーブル３と同期回転することにより、薄膜を形成する
際に基板２の種々のサイズや種々の形状に応じて設定さ
れた基板２の回転数条件に対応して羽根１４が回転する
ようになるので、発生する空気流も基板２の回転数条件
に対応したものとなる。したがって、羽根１４による強
制的な空気流が、薄膜を形成する基板の回転数、つまり
基板の種類や薄膜の厚み等に応じて簡単に制御されるよ
うになる。これによっても、より一層均一な膜厚の薄膜
が形成されるようになる。羽根１４によって強制的に排
気ダクト８の入口に流動してきた空気やミストは従来と
同様にファン９によって吸引されて排気ダクト８内に流
入し、この排気ダクト８を通って排出される。At this time, the blades 14 rotate synchronously with the substrate 2 and the spin table 3, so that when forming a thin film, the number of rotations of the substrate 2 is set according to various sizes and various shapes of the substrate 2. , The blades 14 are rotated in accordance with the condition (2), so that the generated air flow also corresponds to the condition of the number of rotations of the substrate 2. Therefore, the forced air flow by the blades 14 can be easily controlled according to the rotation speed of the substrate on which the thin film is formed, that is, the type of the substrate, the thickness of the thin film, and the like. This also allows a thin film having a more uniform thickness to be formed. The air or mist forced to flow to the inlet of the exhaust duct 8 by the blades 14 is sucked by the fan 9 and flows into the exhaust duct 8 as in the related art, and is discharged through the exhaust duct 8.
【００３２】ところで、この羽根１４による空気のスピ
ンテーブル３より下方への強制的流動により、スピンカ
ップ６内の羽根より上流側Ａ、つまりスピンテーブル３
および基板２がある側のスピンカップ６内の領域が高圧
になることはない。これにより、従来のように基板２上
から流出した余剰分のコーティング液Ｒのミストが逆流
して上方へ流動しなくなる。したがって、ミストが基板
２に付着することがほとんどなくなって形成された薄膜
の膜厚の均一度がより一層向上するとともに、スピンカ
ップ６の上方開口部から外部に噴出することもより確実
に抑制されるようになる。By the way, the forced flow of the air downward from the spin table 3 by the blades 14 causes the air in the spin cup 6 on the upstream side A of the blades, that is, the spin table 3.
Also, the region in the spin cup 6 on the side where the substrate 2 is located does not become high in pressure. As a result, the excess mist of the coating liquid R flowing out from the substrate 2 does not flow upward due to the backflow as in the related art. Accordingly, the uniformity of the film thickness of the thin film formed since the mist hardly adheres to the substrate 2 is further improved, and the ejection to the outside from the upper opening of the spin cup 6 is more reliably suppressed. Become so.
【００３３】また、羽根１４がスピンテーブル３とは別
体に形成されているので、羽根１４の回転数がスピンテ
ーブル３の回転数と独立して制御可能となる。更に、サ
ンギヤ１１、プラネタリギヤ１２およびインターナルギ
ヤ１３からなる遊星歯車機構により、羽根１４が減速さ
れてスピンテーブル３の回転数より低速で回転する。こ
れにより、羽根１４がスピンテーブル３外周の外方に設
けられて慣性モーメントが大きくなっても、羽根１４の
回転数制御が簡単になる。しかも、遊星歯車機構がリン
グ状の羽根１４の内側に配置されているので、スピンコ
ーター１がコンパクトに形成されるようになる。特に、
遊星歯車機構の各ギヤ１１,１２,１３が樹脂で形成され
ているので、スピンコーター１が軽量コンパクトに形成
されるとともに、騒音の発生が防止される。Further, since the blades 14 are formed separately from the spin table 3, the rotation speed of the blades 14 can be controlled independently of the rotation speed of the spin table 3. Further, the blades 14 are decelerated by the planetary gear mechanism including the sun gear 11, the planetary gear 12, and the internal gear 13, and rotate at a speed lower than the rotation speed of the spin table 3. Accordingly, even if the blades 14 are provided outside the outer periphery of the spin table 3 and the moment of inertia increases, the rotation speed control of the blades 14 is simplified. In addition, since the planetary gear mechanism is disposed inside the ring-shaped blade 14, the spin coater 1 is formed compact. In particular,
Since the gears 11, 12, and 13 of the planetary gear mechanism are formed of resin, the spin coater 1 is formed to be lightweight and compact, and the generation of noise is prevented.
【００３４】なお、羽根１４の回転で上方から下方へ向
かう空気流が発生するが、この空気流で、スピンカップ
６内の、羽根１４より下方の排気ダクト８側の領域Ｂの
圧力が上昇する場合が考えられるが、前述のように１枚
の基板２に対する薄膜形成処理に要する時間が、平均、
約３０秒程度で比較的短いので、この薄膜形成処理中に
この領域Ｂの圧力が従来のように高圧なることはない。
仮に、領域Ｂの圧力がある程度高圧になったとしても、
羽根１４によって空気が強制的に上方から流動するの
で、羽根１４より上方の領域Ａの圧力が高くなって、コ
ーティング液Ｒの余剰分のミストが基板２に付着した
り、スピンカップ６の上方開口部から噴出したりするこ
とは大幅に抑制される。The rotation of the blades 14 generates an air flow from above to below. This air flow increases the pressure in the region B of the spin cup 6 below the blades 14 on the side of the exhaust duct 8. Although the case may be considered, as described above, the time required for the thin film forming process for one substrate 2 is an average,
Since it is relatively short in about 30 seconds, the pressure in the region B does not increase during the thin film forming process as in the related art.
Even if the pressure in the region B becomes high to some extent,
Since the air is forced to flow from above by the blades 14, the pressure in the region A above the blades 14 increases, and the excess mist of the coating liquid R adheres to the substrate 2 or the upper opening of the spin cup 6. Spouting from the part is greatly suppressed.
【００３５】ところで、スピンコーター１による薄膜形
成処理が所定期間が行われると、スピカップ６の内壁や
羽根１４に、コーティング液Ｒの余剰分のミストが付
着、滞留するようになる。そこで、従来と同様に、スピ
ンテーブル３の上に洗浄用基板をセットし、上方から洗
浄液を洗浄用基板の上面に流下させながら、スピンテー
ブル３および洗浄用基板を回転させる。これにより、洗
浄用基板の上面に流下した洗浄液が遠心力で周囲に飛散
するので、飛散した洗浄液によってスピカップ６の内壁
や羽根１４が洗浄され、これらに付着、滞留したミスト
がより効果的に除去されるようになる。この例のスピン
コーター１の他の作動および他の作用効果は、前述の従
来例と同じである。By the way, when the thin film forming process by the spin coater 1 is performed for a predetermined period, an excess mist of the coating liquid R adheres to and stays on the inner wall of the spin cup 6 and the blades 14. Therefore, as in the prior art, the cleaning substrate is set on the spin table 3 and the spin table 3 and the cleaning substrate are rotated while the cleaning liquid is allowed to flow from above to the upper surface of the cleaning substrate. As a result, the cleaning liquid flowing down to the upper surface of the cleaning substrate is scattered around by a centrifugal force, so that the scattered cleaning liquid cleans the inner wall and the blades 14 of the spic cup 6, and the mist adhering and staying on these is more effectively removed. Will be done. Other operations and other effects of the spin coater 1 of this example are the same as those of the above-described conventional example.
【００３６】図２は、本発明の実施の形態の他の例を模
式的に示す図である。なお、前述の図１に示す例と同じ
構成要素には同じ符号を付すことにより、その詳細な説
明は省略する。前述の図１に示す例では、スピンテーブ
ル３と羽根１４とが別体に形成されているが、この例の
スピンコーター１では、図２に示すように羽根１４はス
ピンテーブル３の外周にこのスピンテーブル３と一体に
形成されている。また、この例では、図１に示す例にお
ける遊星歯車機構からなる減速機構が設けられていな
い。したがって、羽根１４は図１に示す例と異なりスピ
ンテーブル３と同回転数で同方向に一体回転するように
なる。なお、羽根１４がスピンテーブル３と同方向に一
体回転しても、図１に示す例と同様に羽根１４の上方か
ら下方へ流動するようになっていることは言うまでもな
い。FIG. 2 is a diagram schematically showing another example of the embodiment of the present invention. The same components as those in the example shown in FIG. 1 described above are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In the example shown in FIG. 1 described above, the spin table 3 and the blades 14 are formed separately, but in the spin coater 1 of this example, the blades 14 are attached to the outer periphery of the spin table 3 as shown in FIG. It is formed integrally with the spin table 3. Further, in this example, the speed reduction mechanism including the planetary gear mechanism in the example shown in FIG. 1 is not provided. Therefore, unlike the example shown in FIG. 1, the blades 14 rotate integrally with the spin table 3 in the same direction at the same rotation speed. Needless to say, even if the blades 14 rotate integrally with the spin table 3 in the same direction, the blades 14 flow downward from above the blades 14 as in the example shown in FIG.
【００３７】更に、羽根１４がスピンテーブル３の外周
に一体に設けられているので、部品点数が削減されて簡
単な構造となるとともに、その分、組み立てが容易にな
る。この例のスピンコーター１の他の構成、他の作動お
よび他の作用効果は、前述の図１に示す例と同じであ
る。Further, since the blades 14 are provided integrally on the outer periphery of the spin table 3, the number of parts is reduced, the structure becomes simple, and the assembling becomes easy accordingly. Other configurations, other operations and other effects of the spin coater 1 of this example are the same as those of the example shown in FIG.
【００３８】一方、洗浄時における洗浄液のミストも、
前述の余剰コーティング液のミストの場合と同様に効率
よくドレンされ、前述の余剰コーティング液のミストの
場合と同様の作用効果が得られる。On the other hand, the mist of the cleaning liquid at the time of cleaning also
The drain is efficiently drained as in the case of the mist of the excess coating liquid, and the same operation and effect as in the case of the mist of the excess coating liquid are obtained.
【００３９】なお、前述の例の遊星歯車機構におけるサ
ンギヤ１１、プラネタリギヤ１２およびインターナルギ
ヤ１３、および羽根１４はいずれも樹脂製以外に、他の
材料を用いることもできる。その場合、他の材料として
は、軽金属材料等の比較的軽量な材料を用いることが望
ましい。また、遊星歯車機構による減速機構に代えて他
の減速機構を設けることもできる。The sun gear 11, the planetary gear 12, the internal gear 13, and the blades 14 in the planetary gear mechanism of the above-described example may be made of other materials besides resin. In that case, it is desirable to use a relatively lightweight material such as a light metal material as the other material. In addition, another reduction mechanism may be provided in place of the reduction mechanism using the planetary gear mechanism.
【００４０】また、この例のスピンコーター１には、前
述の従来例のファン９および流量制御装置１０を設けて
いるが、本発明のスピンコーター１では、これらのファ
ン９および流量制御装置１０を省略することもできる。The spin coater 1 of this embodiment is provided with the fan 9 and the flow control device 10 of the above-described conventional example. In the spin coater 1 of the present invention, the fan 9 and the flow control device 10 are used. It can be omitted.
【００４１】[0041]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のスピンコーターによれば、羽根を支持テーブルの回転
と同期して回転させ、この羽根の回転により支持テーブ
ルの外周より外方においてこの支持テーブルより下方に
向く空気流を生じさせているので、この空気流によって
容器内に流入する空気を支持テーブル外周の外方に効果
的に導くことができるようになる。したがって、支持テ
ーブル上の基板の方へ流動する空気を従来に比べてはる
かに低減でき、容器内に流入する空気の、基板上のコー
ティング液に当たる量を低減できる。これにより、基板
上に薄膜を形成しつつあるコーティング液がこの空気に
よって影響されるのを抑制でき、形成される薄膜の膜厚
をより一層均一にできる。As is apparent from the above description, according to the spin coater of the present invention, the blades are rotated in synchronization with the rotation of the support table, and the rotation of the blades causes the blades to rotate outside the outer periphery of the support table. Since the air flow directed downward from the support table is generated, the air flow can effectively guide the air flowing into the container to the outside of the outer periphery of the support table. Therefore, the amount of air flowing toward the substrate on the support table can be significantly reduced as compared with the related art, and the amount of air flowing into the container and hitting the coating liquid on the substrate can be reduced. Accordingly, the coating liquid that is forming a thin film on the substrate can be prevented from being affected by the air, and the thickness of the formed thin film can be made more uniform.
【００４２】特に、羽根を支持テーブルと同期回転する
ことにより、薄膜を形成する際に、基板の種々のサイズ
や種々の形状に応じて設定された基板の回転数条件に対
応して羽根を回転できるようになるので、発生する空気
流も基板の回転数条件に対応させることができる。した
がって、羽根による強制的な空気流を、薄膜を形成する
基板の回転数、つまり基板の種類や薄膜の厚み等に応じ
て簡単に制御できるようになる。これによっても、より
一層均一な膜厚の薄膜を形成できるようになる。In particular, by rotating the blades synchronously with the support table, when forming a thin film, the blades are rotated in accordance with the conditions of the number of rotations of the substrate set according to various sizes and shapes of the substrate. Therefore, the generated air flow can also correspond to the rotation speed condition of the substrate. Therefore, the forced air flow by the blades can be easily controlled according to the rotation speed of the substrate on which the thin film is formed, that is, the type of the substrate, the thickness of the thin film, and the like. This also makes it possible to form a thin film having a more uniform thickness.
【００４３】また、羽根によるこの空気の強制的流動に
より、支持テーブルおよび基板がある容器内の領域の圧
力が高圧になることがないので、従来のように基板上か
ら流出した余剰分のコーティング液のミストが逆流して
上方へ流動するのを抑制できる。したがって、この余剰
分のコーティング液のミストの基板への付着が抑制さ
れ、薄膜の膜厚の均一度をより一層向上できるととも
に、容器の上方開口部から外部に噴出することもより確
実に抑制できるようになる。Further, since the pressure of the support table and the region in the container where the substrate is located does not become high due to the forced flow of the air by the blades, the excess coating liquid flowing out of the substrate as in the conventional case is not used. Mist can be prevented from flowing backward and flowing upward. Therefore, the adhesion of the mist of the excess coating liquid to the substrate is suppressed, the uniformity of the film thickness of the thin film can be further improved, and the ejection to the outside from the upper opening of the container can be more reliably suppressed. Become like
【００４４】特に、請求項２の発明よれば、羽根を支持
テーブルの外周より外方に配置しているので、容器の上
方開口部から容器内に流入した空気を支持テーブル外周
の外方により一層効果的に導くことができるようにな
り、支持テーブル上の基板の方へ流動する空気を抑制で
きる。これにより、コーティング液への空気による影響
を更に低減できる。In particular, according to the second aspect of the present invention, since the blades are arranged outside the outer periphery of the support table, the air that has flowed into the container from the upper opening of the container can be further increased outside the outer periphery of the support table. The air can be effectively guided, and the air flowing toward the substrate on the support table can be suppressed. Thereby, the influence of the air on the coating liquid can be further reduced.
【００４５】また、請求項３の発明によれば、羽根を支
持テーブルの外周に一体に設けているので、構成を簡単
にできるとともに、その分部品点数を低減できる。更
に、請求項４の発明によれば、羽根を支持テーブルとは
別体に形成しているので、羽根の回転数を支持テーブル
の回転数と独立して制御できるようになる。更に、請求
項５の発明によれば、減速機構により羽根の回転数を支
持テーブルの回転数より減速しているので、羽根を支持
テーブル外周の外方に設けて慣性モーメントが大きくな
っても、羽根の回転数制御を簡単にできる。According to the third aspect of the present invention, since the blades are provided integrally on the outer periphery of the support table, the structure can be simplified and the number of parts can be reduced accordingly. Further, according to the fourth aspect of the present invention, since the blades are formed separately from the support table, the rotation speed of the blades can be controlled independently of the rotation speed of the support table. Furthermore, according to the invention of claim 5, since the speed of rotation of the blades is reduced by the speed reduction mechanism from the speed of rotation of the support table, even if the blades are provided outside the outer periphery of the support table to increase the moment of inertia, The rotation speed of the blade can be easily controlled.
【００４６】更に、請求項６の発明によれば、減速機構
を遊星歯車機構により構成しているので、この減速機構
を羽根の内側に配置できるようになる。したがって、ス
ピンコーターをコンパクトに形成できる。特に、遊星歯
車機構を樹脂で形成した場合、スピンコーターを軽量コ
ンパクトに形成できるとともに、騒音の発生を防止でき
る。Furthermore, according to the invention of claim 6, since the speed reduction mechanism is constituted by a planetary gear mechanism, this speed reduction mechanism can be arranged inside the blade. Therefore, the spin coater can be formed compact. In particular, when the planetary gear mechanism is formed of resin, the spin coater can be formed to be lightweight and compact, and noise can be prevented from being generated.
【図１】 本発明に係るスピンコーターの実施の形態の
一例を模式的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing an example of an embodiment of a spin coater according to the present invention.
【図２】 本発明の実施の形態の他の例を模式的に示す
図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing another example of the embodiment of the present invention.
【図３】 従来のスピンコーターの一例を模式的に示す
図である。FIG. 3 is a diagram schematically illustrating an example of a conventional spin coater.
【図４】 図３に示す従来のスピンコーターの問題点を
説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a problem of the conventional spin coater shown in FIG.
１…スピンコーター、２…基板、３…スピンテーブル、
３ａ…回転軸、４…スピンモータ、５…軸受、６…スピ
ンカップ、８…排気ダクト、１１…サンギヤ、１２…プ
ラネタリギヤ、１３…インターナルギヤ、１４…羽根1. Spin coater, 2. Substrate, 3. Spin table,
3a: rotating shaft, 4: spin motor, 5: bearing, 6: spin cup, 8: exhaust duct, 11: sun gear, 12: planetary gear, 13: internal gear, 14: blade
Claims (6)
布される基板を上面に支持する支持テーブルと、この支
持テーブルを回転する駆動手段と、前記支持テーブルよ
り下方に設けられて容器内の空気およびミストの少なく
とも１つを前記容器の外部に排出させる排出通路とを少
なくとも備えているスピンコーターにおいて、 前記容器内に設けられ、前記支持テーブルと同期して回
転することで前記支持テーブルより下方に向く空気流を
発生させる羽根を備えていることを特徴とするスピンコ
ーター。1. A support table for supporting a substrate, which is accommodated in a container and to which a coating liquid is applied, on an upper surface, a driving means for rotating the support table, and air inside the container provided below the support table. And a discharge passage for discharging at least one of the mist to the outside of the container. The spin coater is provided in the container, and is rotated below the support table in synchronization with the support table. A spin coater comprising a blade for generating a directed air flow.
り外方に配置されていることを特徴とする請求項１記載
のスピンコーター。2. The spin coater according to claim 1, wherein the blade is disposed outside an outer periphery of the support table.
体に設けられていることを特徴とする請求項１または２
記載のスピンコーター。3. The blade according to claim 1, wherein the blade is provided integrally on an outer periphery of the support table.
The described spin coater.
形成されているとともに、この支持テーブルより下方に
かつ前記支持テーブルと同軸に設けられていることを特
徴とする請求項１または２記載のスピンコーター。4. The apparatus according to claim 1, wherein the blade is formed separately from the support table, and is provided below the support table and coaxially with the support table. Spin coater.
り低速で回転する減速機構が設けられていることを特徴
とする請求項４記載のスピンコーター。5. The spin coater according to claim 4, further comprising a speed reduction mechanism for rotating said blade at a speed lower than the rotation speed of said support table.
されていることを特徴とする請求項５記載のスピンコー
ター。6. The spin coater according to claim 5, wherein said speed reduction mechanism is constituted by a planetary gear mechanism.
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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