JP2002232042A - 軸励起式ガスレーザ装置及び注入同期式ガスレーザ装置 - Google Patents
軸励起式ガスレーザ装置及び注入同期式ガスレーザ装置Info
- Publication number
- JP2002232042A JP2002232042A JP2001020986A JP2001020986A JP2002232042A JP 2002232042 A JP2002232042 A JP 2002232042A JP 2001020986 A JP2001020986 A JP 2001020986A JP 2001020986 A JP2001020986 A JP 2001020986A JP 2002232042 A JP2002232042 A JP 2002232042A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser device
- laser
- discharge
- gas
- discharge tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
電離を行なうことが可能な軸励起式ガスレーザ装置を提
供する。 【解決手段】 レーザガスを封入する放電管(12)と、放
電管(12)を挟んで長手方向に対向して配置された放電電
極(4,5)とを備えた軸励起式ガスレーザ装置において、
予備電離用電源(13)の高電圧側(HV)に接続された高圧側
予備電離電極(10A)と、接地側(GND)に接続された接地側
予備電離電極(10B)とを放電管(12)の外周部に、長手方
向に交互に隣接させ、かつ電気的に互いに絶縁して配置
したことを特徴とする軸励起式ガスレーザ装置。
Description
ザ装置、及び軸励起式ガスレーザ装置から出射したレー
ザ光をシード光として増幅する注入同期式ガスレーザ装
置に関する。
起こして、レーザ媒質であるレーザガスを励起するフッ
素レーザ装置が知られており、例えば「甲南大学紀要
理学編第47巻 第1号 縦型放電励起フッ素原子レー
ザー」に示されている。図8は、上記紀要に開示された
フッ素レーザ装置101の構成断面図を表しており、以
下図8に基づいて従来技術を説明する。図8においてフ
ッ素レーザ装置101は、フッ素を含んだレーザガスを
封入し、内部で主放電を起こしてレーザ光111を発振
する中空円筒状のセラミック製放電管112を備えてい
る。
ード104が、両端部にはリング状のカソード105,
105がそれぞれ付設されている。カソード105,1
05の外側には、リアミラー108及びフロントミラー
106が設置されている。アノード104及びカソード
105,105は、パルス状に高電圧を印加する高圧電
源113の接地側GND及び高圧側HVに、図示しない
主放電回路を介してそれぞれ接続されている。放電管1
12の外周部には、銅箔製の予備電離電極110が巻か
れている。この予備電離電極110に、高圧電源113
から高電圧パルスを印加することによって予備放電11
5を起こし、放電管112内のレーザガスを予備電離す
る。そして、アノード104−カソード105間に高電
圧を印加することにより、図示しない主放電を行なっ
て、フロントミラー106よりレーザ光111を出射さ
せる。
主に放電管112の内壁を伝わって主放電を起こすこと
により、放電電極104,105間の絶縁破壊電圧が低
い時点から放電が起きる。さらには、放電電極104,
105の間隔を従来の横励起方式よりも大きくできるの
で、レーザガスの圧力が低くとも安定に主放電を起こす
ことが可能である。これにより、レーザガスの圧力によ
る波長広がりが小さくなり、スペクトル幅の狭いレーザ
光を得ることが可能となる。また、レーザ光111の断
面積に比してリアミラー108−フロントミラー106
間の距離である共振器長が長いため、平行度が高いレー
ザ光111を得ることが可能である。即ち、このような
レーザ光111を加工に用いると、良好な加工が可能と
なる。
来技術には、次に述べるような問題がある。即ち、従来
技術の構成によれば、図8に示すように、予備放電11
5は、予備電離電極110の両端部とアノード104及
びカソード105,105との間でのみ起きる。そのた
め、放電管112の長手方向中央部では予備放電115
が行なわれず、その近傍のレーザガスが予備電離されな
い。予備電離が均一に行なわれないレーザガスに対して
主放電を行なうと、主放電が不安定となり、主放電注入
できる電力が変動する。その結果、レーザ光111の出
力が変動したり、高い出力が得られなかったりするとい
う問題がある。
ものであり、放電管の長手方向全域にわたって均一な予
備電離を行なうことが可能な軸励起式ガスレーザ装置を
提供することを目的としている。
的を達成するために、本発明は、レーザガスを封入する
放電管と、放電管を挟んで長手方向に対向して配置され
た放電電極とを備えた軸励起式ガスレーザ装置におい
て、予備電離用電源の高電圧側に接続された高圧側予備
電離電極と、接地側に接続された接地側予備電離電極と
を放電管の外周部に、長手方向に交互に隣接させ、かつ
電気的に互いに絶縁して配置している。
隣接して配置した予備電離電極間において、予備放電が
行なわれる。従って、例えばこのような予備電離電極を
長手方向に複数個並べるようにすれば、放電管内部の長
手方向全域にわたって予備電離電極間で予備放電が起
き、放電管内のレーザ媒質がくまなく予備電離される。
その結果、放電空間内の電子密度が均一に上昇するた
め、主放電が放電管内部の長手方向全域にわたって安定
に起き、レーザ光の出力が高くなって、しかも出力安定
性が良くなる。
放電管の外周部を螺旋状に取り巻くコイル状予備電離電
極を備えてもよい。
る電流により、コイル状予備電離電極の内部に長手方向
の磁界が発生し、その向きが交互に高速で入れ替わる。
そのエネルギーによって、放電空間内のレーザガスが電
離され、放電空間内に遊離電子が供給されて予備電離が
行なわれる。磁界の発生は、放電管の内部全域にわたっ
て起きるので、放電管の内部全域が略均一に予備電離さ
れる。その結果、主放電が放電管内部の長手方向全域に
わたって安定に起きるため、レーザ光の出力が高くな
り、しかも安定する。
励起式ガスレーザ装置から出射するレーザ光は、レーザ
ガスの圧力による波長広がりが小さいため、基本的にス
ペクトル幅が狭い。これをシード光として増幅すること
により、注入同期式ガスレーザ装置から、スペクトル幅
の狭い増幅レーザ光を得ることが可能である。即ち、こ
のような増幅レーザ光をレーザ加工の光源として用いる
ことにより、高精度で微細な加工が可能となる。また、
軸励起式ガスレーザ装置から出射するレーザ光は平行度
が高く、横モードの次数が低い。このようなレーザ光
は、加工に適した形状に整形が容易であり、加工機用の
光源として優れている。特に、これらの軸励起式ガスレ
ーザ装置は、フッ素レーザ装置において特に有効であ
る。フッ素レーザ装置は、リソグラフィ等の加工に用い
る場合に、繰り返し周波数の増加が求められており、軸
励起式にすることにより、繰り返し周波数の増加が容易
となる。
に係る実施形態を詳細に説明する。まず、第1実施形態
を説明する。図1は、第1実施形態に係るフッ素レーザ
装置1の構成を示す断面図である。
部で放電を起こしてレーザ媒質であるレーザガスを励起
し、レーザ光11を発振する放電管12,12を備えて
いる。放電管12,12の外周部には、環状のフィン2
5が、所定間隔で一体に形成されている。尚、以下の説
明では、放電管12の長手方向(図1中左右方向)を、
単に長手方向と言う。放電管12,12の内部には、レ
ーザガスとして、ヘリウム(He)、又はネオン(N
e)、又はこれらの混合ガスと、フッ素(F2)とが封
入されている。放電管12,12の材質は、例えばアル
ミナセラミックス等の、フッ素に対する耐腐食性と絶縁
性とをともに備えた材質が好適である。また、サファイ
アは、ヘリウムに対する気密性が、アルミナセラミック
ス等よりもさらに優れている。
グ状のカソード5が配置され、カソード5と放電管1
2,12との間は、Oリング22,22によって封止さ
れている。また、放電管12,12のカソード5と反対
側端部には、リング状のアノード4,4が、Oリング2
2,22を介してそれぞれ固定されている。アノード
4,4の長手方向両外側には、図示しない支持部材を介
して、レーザ光11を全反射するリアミラー8と、レー
ザ光11の一部を部分反射して他を出射するフロントミ
ラー6とがそれぞれ固定されている。カソード5,5と
ミラー6,8との間は、それぞれOリング22,22に
よって封止されている。
部には、それぞれ小孔23,23が設けられ、ガス循環
配管24,24がそれぞれ接続されている。ガス循環配
管24には、レーザガスを駆動するポンプ19と、レー
ザガス中に混入した塵などの不純物を除去するフィルタ
26と、放電によってレーザガス内に発生した熱を除去
する熱交換器3と、レーザガスを溜めておくガスチャン
バ27とが接続されている。ガスチャンバ27には、レ
ーザガスボンベ28が接続されており、必要に応じてレ
ーザガスを供給できるようになっている。フッ素レーザ
装置1を運転する際には、ポンプ19を駆動してレーザ
ガスを例えば矢印58の向きに流し、放電管12内のレ
ーザガスを常に新鮮なものと入れ替える。
ケル合金等の金属からなっている。アノード4及びカソ
ード5は、パルス状に高電圧を印加する高圧電源13の
接地側GND及び高圧側HVに、放電回路30を介して
それぞれ接続されている。放電管12の外周部には、フ
ィン25間に、例えば銅等の金属からなるリング状の予
備電離電極10A,10Bが、メタライズによって固定
されている。予備電離電極10A,10Bは、放電回路
30を介して高圧電源13の高圧側HVに接続された高
圧側予備電離電極10Aと、高圧電源13の接地側GN
Dに接続された接地側予備電離電極10Bとが、交互に
配設されている。
電回路30の作用によって、高圧電源13から予備電離
電極10A,10B間に、パルス状の高電圧が印加され
る。これにより、隣接する高圧側予備電離電極10Aと
接地側予備電離電極10Bとの間に、放電管12の内壁
に沿って、グロー状の予備放電15が生じる。その結
果、放電管12の長手方向全域にわたって放電空間14
のレーザガスが電離され、放電空間14内にある一定量
以上の遊離電子が供給される。これを、予備電離と言
う。そして、予備放電15の直後に、高圧電源13から
放電電極4,5間にパルス状の高電圧が印加される。こ
れにより、アノード4とカソード5との間で、放電管1
2の内壁に沿って図示しない主放電が行なわれ、放電空
間14のレーザガスが励起されてレーザ光11が発振す
る。
ば、放電管12の外周部にフィン25を設け、フィン2
5とフィン25との間に、高圧側予備電離電極10Aと
接地側予備電離電極10Bとを交互に配置している。こ
れらの間に高電圧を印加することにより、隣接する高圧
側予備電離電極10Aと接地側予備電離電極10Bとの
間に、それぞれ予備放電15が起きる。これにより、長
手方向全域にわたって予備放電15が起きるため、レー
ザガスが長手方向全域にわたって予備電離される。従っ
て、主放電が安定に行なわれ、レーザ光11の出力が高
出力で安定する。また、放電管12の内壁全体に沿って
レーザ光11の光軸を中心として対称に予備電離が行な
われるので、光軸を中心として対称な断面形状及び強度
分布のレーザ光11を得ることができる。またこのと
き、放電管12の外周部には、高圧側予備電離電極10
Aと接地側予備電離電極10Bとの間を遮るフィン25
が設けられている。そのため、高圧側予備電離電極10
Aと接地側予備電離電極10Bとの間が絶縁され、放電
管12の外側で放電が起きるのが防止される。従って、
予備放電15が常に放電管12の内壁に沿って行なわ
れ、レーザガスを効率良く予備電離することができる。
10A,10Bを放電回路30を介して高圧電源13に
接続し、高圧電源13が予備電離用電源を兼ねるように
説明したが、これに限られるものではない。例えば、図
2に示すように予備電離用電源21を別途設け、予備電
離用電源21と高圧電源13との間で同期信号線43を
伝送する同期信号によって同期を取って、予備放電と主
放電を適切なタイミングで起こすようにしてもよい。ま
た、図1に示したような放電回路30の場合には、放電
管12の長手方向略中央部で起きる予備放電のタイミン
グと、放電管12の端部で起きる予備放電のタイミング
とがずれることがある。これを防止するために、コンデ
ンサC3と高圧側予備電離電極10Aとの間にさまざま
な容量のコイルを介挿し、予備放電のタイミングを合わ
せるようにしてもよい。さらには、図1では放電管12
を直列に2本並べるように説明したが、これに限られる
ものではない。即ち、図2に示したように放電管12を
1本とし、アノード4とカソード5との近傍端部にそれ
ぞれ小孔23を設け、ガス循環配管24,24を接続す
るようにしてもよく、或いは3本以上並べてもよい。さ
らには、放電管12を直列に並べるのではなく、図3に
示すように並列に複数本並べてもよい。この場合、第1
の放電管12Aの後部には、リアミラー8が、第3の放
電管12Cの前部にはフロントミラー6が、それぞれ固
定されている。また、第1の放電管12Aの前部、第2
の放電管12Bの前後部、及び第3の放電管12Cの後
部には、レーザ光11を透過するウィンドウ7が固定さ
れている。レーザ光11は、ミラー44によってS字型
に反射され、フロントミラー6から出射する。尚、図3
においては、説明を簡略化するため、高圧電源13、放
電回路30、及びガス循環配管24は省略している。
4に、第2実施形態に係るフッ素レーザ装置の構成図、
図5にその断面図を示す。尚、図1で示したガス循環配
管24、及びこれに接続されたポンプ19等の機器は省
略する。また、本実施形態では放電管12を1本として
説明するが、図1に示したフッ素レーザ装置1のよう
に、2本の放電管12,12を直列に配してもよい。
は、中空円筒形の放電管12を備えている。放電管12
の両端部にはフランジ37,37が一体に設けられ、フ
ランジ37,37の外側には、リング状のカソード5及
びアノード4がそれぞれ固定されている。カソード5及
びアノード4の外側には、それぞれリアミラー8及びフ
ロントミラー6が固定されている。放電管12の外周部
には、例えば銅箔等の金属が螺旋状にメタライズされ、
コイル状予備電離電極38を形成している。コイル状予
備電離電極38の両端部は、インピーダンス整合回路3
9を介して、高周波電源40に接続されている。尚、イ
ンピーダンス整合回路39としては、例えばT型やπ型
等の回路を用いるとよい。高周波電源40と、カソード
5−アノード4間に高電圧を印加して主放電を起こす高
圧電源13とは、同期回路41を介して接続されてい
る。
周波電源40から、コイル状予備電離電極38の両端部
に高周波電流を印加する。これにより、コイル状予備電
離電極38の内部の放電空間14に、長手方向の磁界4
2が発生する。電流が高周波で極性を変えるため、磁界
42の向きは、矢印42A,42Bで示したように、図
4中左右に交互に高速で入れ替わる。この磁界42A,
42Bの動くエネルギーによって、放電空間14内のレ
ーザガスが電離され、放電空間14内に遊離電子が供給
されて予備電離が行なわれる。
3は、放電電極4,5間にパルス状の高電圧を印加す
る。これにより、アノード4とカソード5との間で放電
管12の内壁を介して図示しない主放電が行なわれ、放
電空間14のレーザガスが励起されてレーザ光11が発
振する。予備電離と主放電とのタイミングは、同期回路
41によって同期が取られ、予備電離が終了した後の所
定時間経過後に、主放電が行なわれる。これにより、放
電電極4,5間に注入されたエネルギーが、効率良く主
放電に用いられる。
ば、予備電離電極38を放電管12の外周部に螺旋状に
形成し、このコイル状予備電離電極38に高周波電流を
印加している。これにより、コイル状予備電離電極38
の内部で交互の方向に磁界42A,42Bが発生し、予
備電離が行なわれる。その結果、レーザガスが、コイル
状予備電離電極38の内部の放電空間14全体にわたっ
て予備電離される。従って、主放電が放電空間14全体
にわたって均一に起きるので、放電空間14全域のレー
ザガスが励起される。即ち、放電空間14に大きなエネ
ルギーの主放電を投入することが可能となるので、レー
ザ光11の出力が高くなり、かつ安定する。また、第2
実施形態では、予備電離が放電管12の内壁に沿った予
備放電10ではなく、磁界42A,42Bによって起こ
されるので、レーザガスが放電空間14の直径方向全域
にわたって予備電離される。従って、レーザ光11の強
度分布が中央部で弱くなったり中抜けを起こしたりする
ことがない。
の、他の実施例を図6に示す。図6において、放電管1
2の外周部には、例えば銅箔等の金属が螺旋状にメタラ
イズされ、コイル状予備電離電極38を形成している。
コイル状予備電離電極38の一端部には、ギャップスイ
ッチ16を介して高圧電源13の高圧側HVが接続され
ている。また、コイル状予備電離電極38の他端部は、
高圧電源13の接地側GNDに接続されている。ギャッ
プスイッチ16が閉じられると、コイル状予備電離電極
38にパルス状の高圧電流が流れる。パルス状の高圧電
流は高周波であるため、これによってコイル状予備電離
電極38の内部の放電空間14に、長手方向の磁界42
が発生する。このとき、コイル状予備電離電極38とコ
ンデンサCpとがLC回路を構成するため、磁界42の
向きは、矢印42A,42Bで示したように、図4中左
右に交互に高速で入れ替わる。この磁界42A,42B
の動くエネルギーによって、放電空間14内のレーザガ
スが電離され、放電空間14内に遊離電子が供給されて
予備電離が行なわれる。これによれば、別途高周波電源
を用意する必要がなく、簡単な構成で予備電離を好適に
行なうことが可能である。
いて、第3実施形態に係る注入同期式フッ素レーザ装置
34は、第1第2実施形態に係るフッ素レーザ装置1
と、フッ素レーザ装置1から出射したレーザ光11をシ
ード光として増幅する増幅器33とを備えている。増幅
器33は、レーザガスを封入するレーザチャンバ2と、
レーザチャンバ2の両端部に光軸に対してブリュースタ
ー角をなして設けられたウィンドウ7,9と、ウィンド
ウ9の長手方向後方(図7中左方)外側に設けられて略
中央に導入孔29を有する有孔凹面鏡32と、前方外側
に設けられた凸面鏡31とを有している。
電極35,36が設置され、図示しない高圧電源により
高電圧を印加可能となっている。レーザチャンバ2内に
は図示しないファンが配設されており、チャンバ2内の
レーザガスを循環させて主電極35,36間に導いてい
る。図7において、フッ素レーザ装置1から発振したレ
ーザ光11は、有孔凹面鏡32の導入孔29からウィン
ドウ9を透過してレーザチャンバ2に入射し、凸面鏡3
1と有孔凹面鏡32との間で反射され、数回往復する。
このとき、レーザチャンバ2内では、レーザ光11の発
振にタイミングを合わせて高圧電源から主電極35,3
6間に高電圧が印加され、増幅放電が起きる。この増幅
放電により、レーザ光11は、増幅器33内を往復する
間に波長及びスペクトル幅を保ったままパルス出力を増
幅される。そして、凸面鏡31の周囲から、断面がドー
ナツ状の増幅レーザ光20として取り出される。
ば、軸励起方式のフッ素レーザ装置1をシードレーザ装
置として利用し、フッ素レーザ装置1から発振したレー
ザ光11をシード光として、増幅器33で増幅してい
る。従来技術の項で説明したように、軸励起方式のフッ
素レーザ装置1からはスペクトル幅が狭いレーザ光11
が出射される。このレーザ光11をシード光として増幅
しているので、スペクトル幅が狭い増幅レーザ光20を
得ることが可能である。また、軸励起方式のフッ素レー
ザ装置1から出射する平行度が高いレーザ光11をシー
ド光として増幅しているので、増幅器33から出射する
増幅レーザ光20も平行度が高くなる。このように、平
行度が高いレーザ光11をエタロンやグレーティング等
によって狭帯域化すると、よりスペクトル幅の狭いレー
ザ光11を得ることができる。従って、これをシード光
として増幅することにより、よりスペクトル幅が狭い増
幅レーザ光20を得ることが可能である。また、平行度
の高い増幅レーザ光11は、集光が容易であり、加工に
適している。
レーザ装置1は、放電空間14を均一に予備電離されて
おり、主放電が安定に起きるので、出力が高出力で、か
つ安定になっている。従って、このようなレーザ光11
を増幅することにより、高出力で安定な増幅レーザ光2
0を得ることができる。
して対称なレーザ光11を増幅しているため、増幅レー
ザ光20の断面形状及び強度分布も同様となる。従っ
て、このような構成の注入同期式フッ素レーザ装置34
を、例えば露光機等のレーザ加工機の光源として用いた
場合に、増幅レーザ光20の方向性の不均一に基づく加
工の不具合が少ない。さらに、増幅レーザ光20が対称
であることから、加工に適したように整形することが容
易であり、その際にレーザ光11の一部が捨てられるこ
とも少なく、効率が良い。
と増幅器33とを直列に並べるように記載したが、フッ
素レーザ装置1と増幅器33とを並列に並べ、反射ミラ
ーによってレーザ光11を反射させて増幅器33に入射
させるようにしてもよい。このようにすることにより、
注入同期式フッ素レーザ装置34が、コンパクトな構成
となる。また、上記第1〜第3実施形態の説明において
は、フッ素を含むレーザガスをレーザ媒質としたフッ素
レーザ装置を用いて説明したが、これに限られるもので
はない。例えば、KrFエキシマレーザ装置やArFエ
キシマレーザ装置等のエキシマレーザ装置に対しても応
用可能である。さらに、その他のガスレーザ装置に対し
ても同様である。
示す断面図。
図。
施例を示す構成図。
置の構成図。
換器、4:アノード、5:カソード、6:フロントミラ
ー、7:ウィンドウ、8:リアミラー、9:ウィンド
ウ、10:予備電離電極、11:レーザ光、12:放電
管、13:高圧電源、14:放電空間、15:予備放
電、16:ギャップスイッチ、19:ポンプ、20:増
幅レーザ光、21:予備電離電源、22:Oリング、2
3:小孔、24:ガス循環配管、25:フィン、26:
フィルタ、27:ガスチャンバ、28:レーザガスボン
ベ、29:導入孔、30:放電回路、31:凸面鏡、3
2:有孔凹面鏡、33:増幅器、34:注入同期式フッ
素レーザ装置、35:主電極、36:主電極、37:フ
ランジ、38:コイル状予備電離電極、39:インピー
ダンス整合回路、40:高周波電源、41:同期回路、
42:磁界、43:同期信号線、44:ミラー。
Claims (5)
- 【請求項1】 レーザガスを封入する放電管(12)と、 放電管(12)を挟んで長手方向に対向して配置された放電
電極(4,5)とを備えた軸励起式ガスレーザ装置におい
て、 予備電離用電源(13)の高電圧側(HV)に接続された高圧側
予備電離電極(10A)と、 接地側(GND)に接続された接地側予備電離電極(10B)とを
放電管(12)の外周部に、長手方向に交互に隣接させ、か
つ電気的に互いに絶縁して配置したことを特徴とする軸
励起式ガスレーザ装置。 - 【請求項2】 レーザガスを封入する放電管(12)と、 放電管(12)を挟んで長手方向に対向して配置された放電
電極(4,5)とを備えた軸励起式ガスレーザ装置におい
て、 放電管(12)の外周部を螺旋状に取り巻くコイル状予備電
離電極(38)を備えたことを特徴とする軸励起式ガスレー
ザ装置。 - 【請求項3】 シード光(11)を発振するシードレーザ装
置(1)と、 シード光(11)を増幅して増幅レーザ光(20)を出射する増
幅器(33)とを備えた注入同期式ガスレーザ装置におい
て、 前記シードレーザ装置(1)が、請求項1又は2のいずれ
かに記載のガスレーザ装置(1)であることを特徴とする
注入同期式ガスレーザ装置。 - 【請求項4】 請求項1又は2記載のガスレーザ装置に
おいて、 フッ素を含むレーザガスをレーザ媒質とすることを特徴
とするガスレーザ装置。 - 【請求項5】 請求項3記載の注入同期式ガスレーザ装
置において、 シードレーザ装置(1)及び増幅器(33)が、フッ素を含む
レーザガスをレーザ媒質とすることを特徴とする注入同
期式ガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001020986A JP4312395B2 (ja) | 2001-01-30 | 2001-01-30 | 軸励起式ガスレーザ装置及び注入同期式ガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001020986A JP4312395B2 (ja) | 2001-01-30 | 2001-01-30 | 軸励起式ガスレーザ装置及び注入同期式ガスレーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002232042A true JP2002232042A (ja) | 2002-08-16 |
JP4312395B2 JP4312395B2 (ja) | 2009-08-12 |
Family
ID=18886611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001020986A Expired - Fee Related JP4312395B2 (ja) | 2001-01-30 | 2001-01-30 | 軸励起式ガスレーザ装置及び注入同期式ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4312395B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100347915C (zh) * | 2005-12-19 | 2007-11-07 | 石景林 | 大功率高气压大体积稳定均匀放电的电极结构 |
-
2001
- 2001-01-30 JP JP2001020986A patent/JP4312395B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100347915C (zh) * | 2005-12-19 | 2007-11-07 | 石景林 | 大功率高气压大体积稳定均匀放电的电极结构 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4312395B2 (ja) | 2009-08-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001168432A (ja) | 紫外線を放出するガスレーザ装置 | |
JP4312395B2 (ja) | 軸励起式ガスレーザ装置及び注入同期式ガスレーザ装置 | |
US4788686A (en) | Gas-laser arrangement | |
US6167065A (en) | Compact discharge pumped soft x-ray laser | |
US10582603B2 (en) | Optical resonators that utilize plasma confinement of a laser gain media | |
JP4326172B2 (ja) | 低圧軸方向励起方式f2レーザ装置 | |
JP2002076489A (ja) | フッ素レーザ装置及びこれを用いた露光装置 | |
US7099365B2 (en) | Oscillation method and device of fluorine molecular laser | |
JP4845094B2 (ja) | 放電励起式パルス発振ガスレーザ装置 | |
US20080019411A1 (en) | Compact sealed-off excimer laser | |
RU2812411C1 (ru) | Аксиально-потоковый газовый лазер с комбинационным возбуждением | |
JP5454842B2 (ja) | 高繰返し高出力エキシマレーザー装置 | |
RU2557327C2 (ru) | Газоразрядный эксимерный лазер (варианты) | |
Behrouzinia et al. | Dependence of the amplifying parameters on buffer gases in copper-vapor lasers | |
JP2874350B2 (ja) | エキシマレーザー装置 | |
JP3159528B2 (ja) | 放電励起エキシマレーザ装置 | |
Kocik et al. | Generation of the infrared laser oscillations in the He-Cu sputtered systems excited by RF discharge | |
JP2980707B2 (ja) | ガスレーザ発振装置 | |
Lima | Investigation of operational parameters on copper bromide laser output power: Physics | |
JP2004273816A (ja) | ガスレーザ装置 | |
JP2003249703A (ja) | 放電励起ガスレーザ装置 | |
JP2871218B2 (ja) | 気体レーザーのマイクロ波励起方法及びその装置 | |
JPS61269387A (ja) | レ−ザ発振器の電極構造 | |
Petrov et al. | Ultraviolet lasing on Au/sup+/lines in an He-Au pulsed longitudinal nanosecond discharge | |
Guo et al. | Compact sealed-off TEA CO2 laser |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070220 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20081022 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20081022 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090303 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090512 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090513 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120522 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4312395 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130522 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130522 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140522 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |