JP2002230837A - Blue laser disk (r) having hard coating layer and method of manufacturing for the same - Google Patents
Blue laser disk (r) having hard coating layer and method of manufacturing for the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスクのレーザ
ー光入射面に、耐磨耗性および透明性などに優れたハー
ドコート層を有する青色レーザーディスクおよびその製
造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a blue laser disk having a hard coat layer having excellent abrasion resistance and transparency on a laser beam incident surface of the disk and a method of manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】大量のデータを高密度で記録可能な光記
録媒体において、より高密度にデータを記録するために
は、レーザー光スポットのサイズをより小さくする必要
がある。このサイズを小さくする方法としては、レーザ
ー光波長（λ）を短くする方法、またはレンズの開口数
（ＮＡ）を大きくする方法の２通りの方法が考えられ
る。現在用いられている光記録媒体用の半導体レーザー
光の波長は、主に７８０〜６８０ｎｍであるが、さらに
短波長の６５０ｎｍの橙色レーザー光、および、より短
波長の緑または青色レーザー光を用いる検討がなされて
いる。特に、青色レーザー光を用いる方式としては光源
の波長を４００ｎｍ程度、ＮＡを０．６以上として、よ
り大きな記録密度を得ることが提案されている。2. Description of the Related Art In an optical recording medium capable of recording a large amount of data at a high density, it is necessary to reduce the size of a laser beam spot in order to record data at a higher density. As a method of reducing the size, there are two methods, a method of shortening the wavelength (λ) of the laser beam and a method of increasing the numerical aperture (NA) of the lens. The wavelength of the semiconductor laser light currently used for optical recording media is mainly 780 to 680 nm, but a study using an orange laser light of a shorter wavelength of 650 nm and a green or blue laser light of a shorter wavelength. Has been made. In particular, as a method using blue laser light, it has been proposed to obtain a larger recording density by setting the wavelength of the light source to about 400 nm and the NA to 0.6 or more.
【０００３】しかし、光源の短波長化や対物レンズの高
ＮＡ化に伴ない、光記録媒体のレーザー光入射面が光軸
に対して直角より傾くチルトの許容量が小さくなり、ま
た、光ディスクの厚みムラの許容量も小さくなるため、
上記許容量を少しでも稼ぐためにレーザー光入射面のカ
バー層の厚さを薄くする必要がある。従来の光記録媒体
のカバー層の厚さは、コンパクトディスク（ＣＤ）で
１．２ｍｍ、デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）
で０．６ｍｍであり、ディスク基盤自体がカバー層とし
ての役割を果たしていた。しかし、短波長のレーザー光
を用いる光記録媒体では、カバー層の厚さを０．１ｍｍ
程度にする必要があるため、従来のようにディスク基盤
自体をカバー層とすることができず、ディスク基盤の反
射膜、記録膜などの積層膜を形成した面にカバー層が形
成される。However, as the wavelength of the light source becomes shorter and the NA of the objective lens becomes higher, the allowable amount of tilting of the laser beam incident surface of the optical recording medium from a right angle to the optical axis becomes smaller. Since the allowable amount of thickness unevenness is also small,
It is necessary to reduce the thickness of the cover layer on the laser beam incident surface in order to gain the above-mentioned allowable amount even a little. The thickness of the cover layer of a conventional optical recording medium is 1.2 mm for a compact disc (CD) and a digital versatile disc (DVD).
Was 0.6 mm, and the disc substrate itself served as a cover layer. However, in an optical recording medium using a short-wavelength laser beam, the thickness of the cover layer is 0.1 mm.
Therefore, the disk substrate itself cannot be used as the cover layer as in the conventional case, and the cover layer is formed on the surface of the disk substrate on which the laminated film such as the reflective film and the recording film is formed.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】短波長のレーザー光を
用いた場合、光記録媒体のレーザー光入射面にわずかで
も傷や塵埃の付着があると、記録・再生を行なう際にエ
ラーを生じやすくなること、および光記録装置の光ヘッ
ドと光記録媒体のレーザー光入射面との間隔が０．１〜
０．２ｍｍ程度に接近し、場合によっては光ヘッドが光
記録媒体に接触する可能性も出てくることなどから、レ
ーザー光入射面のカバー層の表面にはより一層の耐磨耗
性が求められるようになってきた。When a short wavelength laser beam is used, if there is even a slight scratch or dust adhering to the laser beam incident surface of the optical recording medium, an error is likely to occur during recording / reproduction. And the distance between the optical head of the optical recording device and the laser light incident surface of the optical recording medium is 0.1 to
Since the optical head approaches 0.2 mm and the optical head may come into contact with the optical recording medium in some cases, it is required that the surface of the cover layer on the laser light incident surface be more wear-resistant. It has come to be.
【０００５】本発明の目的は、ディスクのレーザー光入
射面に、耐磨耗性および透明性に優れ、かつディスク基
盤との密着性に優れたハードコート層を有する青色レー
ザーディスクおよびその製造方法を提供することにあ
る。An object of the present invention is to provide a blue laser disk having a hard coat layer having excellent wear resistance and transparency and excellent adhesion to a disk substrate on a laser beam incident surface of the disk, and a method of manufacturing the same. To provide.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の一つは、ディスク基盤上に、反射膜、記録
膜および誘電体膜を有する積層膜が形成され、かつ、前
記積層膜側をレーザー光入射面とする青色レーザーディ
スクにおいて、前記積層膜の表面に活性エネルギ線硬化
性の重合性官能基を１個以上有する化合物を含む被覆組
成物（Ａ）の硬化物からなる内層と、活性エネルギ線硬
化性の重合性官能基を３個以上有する化合物を含む被覆
組成物（Ｂ）の硬化物からなる外層とからなるハードコ
ート層が設けられていることを特徴とする青色レーザー
ディスクである。According to one aspect of the present invention, a laminated film having a reflective film, a recording film, and a dielectric film is formed on a disk substrate. An inner layer made of a cured product of a coating composition (A) containing a compound having one or more active energy ray-curable polymerizable functional groups on the surface of the laminated film in a blue laser disk having a laser beam incident surface on the side thereof; A hard coat layer comprising an outer layer made of a cured product of a coating composition (B) containing a compound having three or more active energy ray-curable polymerizable functional groups. It is.
【０００７】また、本発明のもう一つは、ディスク基盤
上に、反射膜、記録膜および誘電体膜を有する積層膜が
形成され、かつ、前記積層膜側をレーザー光入射面とす
る青色レーザーディスクの製造方法において、前記積層
膜の表面に活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個
以上有する化合物を含む被覆組成物（Ａ）の未硬化物
層、部分硬化物層または硬化物層を形成し、この表面に
活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３個以上有する
化合物を含む被覆組成物（Ｂ）の未硬化物層または部分
硬化物層を形成し、被覆組成物（Ａ）の層が硬化物層で
ある場合は被覆組成物（Ｂ）の層を硬化させ、被覆組成
物（Ａ）の層が未硬化物層または部分硬化物層である場
合は被覆組成物（Ａ）および被覆組成物（Ｂ）の層を任
意の順でまたは同時に硬化させることを特徴とする青色
レーザーディスクの製造方法である。Another aspect of the present invention is a blue laser in which a laminated film having a reflective film, a recording film, and a dielectric film is formed on a disk substrate, and the laminated film side has a laser beam incident surface. In the method for producing a disc, an uncured material layer, a partially cured material layer, or a cured material layer of a coating composition (A) containing a compound having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group on the surface of the laminated film To form an uncured material layer or a partially cured material layer of the coating composition (B) containing a compound having three or more active energy ray-curable polymerizable functional groups on the surface of the coating composition (A). ) Is a cured product layer, the coating composition (B) is cured, and if the coating composition (A) is an uncured or partially cured product layer, the coating composition (A) is cured. ) And coating composition (B) in any order or simultaneously A method for producing a blue laser disk, wherein curing.
【０００８】本発明によれば、青色レーザーディスクの
レーザー光入射面となる積層膜側の表面に、カバー層兼
プライマー層として活性エネルギ線硬化性の重合性官能
基を１個以上有する化合物を含む被覆組成物（Ａ）の硬
化物からなる内層を形成し、その内層の表面に活性エネ
ルギ線硬化性の重合性官能基を３個以上有する化合物を
含む被覆組成物（Ｂ）の硬化物からなる外層を形成する
ことにより、耐磨耗性および透明性に優れ、かつ基盤と
の密着性に優れたハードコート層を有する青色レーザー
ディスクを提供できる。According to the present invention, a compound having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group as a cover layer and a primer layer is contained on the surface of the blue laser disk on the side of the laminated film which becomes the laser beam incident surface. An inner layer made of a cured product of the coating composition (A) is formed, and a cured product of the coating composition (B) containing a compound having three or more active energy ray-curable polymerizable functional groups on the surface of the inner layer is formed. By forming the outer layer, it is possible to provide a blue laser disk having a hard coat layer which is excellent in abrasion resistance and transparency and excellent in adhesion to a substrate.
【０００９】上記ハードコート層は、架橋密度の高い外
層が相対的に柔らかいディスク基盤に直接積層されるの
ではなく、耐磨耗性がある程度高くて硬い内層に積層さ
れているため、ハードコート層に対して加えられた外力
による外層の変位が小さくなることで傷がつきにくくな
り、通常のハードコート被膜が有する表面特性以上の表
面特性が得られると考えられる。Since the hard coat layer is not directly laminated on a relatively soft disk substrate with an outer layer having a high crosslinking density but is laminated on a hard inner layer having abrasion resistance to some extent, the hard coat layer is hardened. It is considered that the displacement of the outer layer due to the external force applied becomes smaller, so that the outer layer is less likely to be scratched, and surface characteristics higher than those of a normal hard coat film can be obtained.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】本発明でいう青色レーザーディス
クとは、波長８００〜３８０ｎｍのレーザー光を用いる
ディスク形状の光記録媒体を意味する。この青色レーザ
ーディスクは、片面に案内溝を有するディスク基盤と、
その案内溝を有する面に形成された、反射膜、記録膜、
誘電体膜などで構成される積層膜とを有している。そし
て、この積層膜を形成した面が、レーザー光入射面とさ
れる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The blue laser disk referred to in the present invention means a disk-shaped optical recording medium using a laser beam having a wavelength of 800 to 380 nm. This blue laser disc has a disc base having a guide groove on one side,
A reflection film, a recording film, formed on a surface having the guide groove;
And a laminated film composed of a dielectric film or the like. The surface on which the laminated film is formed is a laser light incident surface.
【００１１】本発明の青色レーザーディスクは、ディス
ク基盤のレーザー光入射面となる上記積層膜の表面に活
性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化
合物を含む被覆組成物（Ａ）の硬化物からなる内層が形
成され、この内層の表面に形成された活性エネルギ線硬
化性の重合性官能基を３個以上有する化合物を含む被覆
組成物（Ｂ）の硬化物からなる外層が形成されて、これ
ら内層および外層によってハードコート層が構成されて
いる。すなわち、上記ハードコート層の内層は、レーザ
ー光入射面に形成されるカバー層とプライマー層を兼ね
ており、外層と高い密着性を有するとともに積層膜とも
高い密着性を有している。[0011] The blue laser disk of the present invention is a coating composition (A) containing a compound having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group on the surface of the above-mentioned laminated film to be a laser beam incident surface of the disk substrate. Of the coating composition (B) containing a compound having three or more active energy ray-curable polymerizable functional groups formed on the surface of the inner layer is formed. The hard coat layer is constituted by the inner layer and the outer layer. That is, the inner layer of the hard coat layer also serves as a cover layer and a primer layer formed on the laser beam incident surface, has high adhesion to the outer layer, and has high adhesion to the laminated film.
【００１２】次に、上記それぞれの層について更に詳し
く説明する。まず、内層を形成する被覆組成物（Ａ）に
ついて説明する。なお、以下の説明において、アクリロ
イル基およびメタクリロイル基を総称して（メタ）アク
リロイル基といい、（メタ）アクリロイルオキシ基、
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリレートなどの表現
も同様とする。Next, each of the above layers will be described in more detail. First, the coating composition (A) for forming the inner layer will be described. In the following description, an acryloyl group and a methacryloyl group are collectively referred to as a (meth) acryloyl group, and a (meth) acryloyloxy group,
The same applies to expressions such as (meth) acrylic acid and (meth) acrylate.
【００１３】被覆組成物（Ａ）に含まれる活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合物（以
下、活性エネルギ線硬化性成分という）のうち、活性エ
ネルギ線によって重合しうる重合性官能基を１個有する
化合物（以下、単に単官能性化合物という）としては、
（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、特
にアクリロイル基を有する化合物が好ましい。また、そ
の他に水酸基、エポキシ基などの官能基を有していても
よい。上記単官能性化合物としては、たとえば以下のも
のが挙げられる。[0013] Among the compounds having one or more active energy ray-curable polymerizable functional groups contained in the coating composition (A) (hereinafter, referred to as active energy ray-curable components), those polymerizable by active energy rays. As a compound having one functional functional group (hereinafter, simply referred to as a monofunctional compound),
A compound having a (meth) acryloyl group is preferable, and a compound having an acryloyl group is particularly preferable. In addition, it may have a functional group such as a hydroxyl group and an epoxy group. Examples of the monofunctional compound include the following.
【００１４】アルキル（メタ）アクリレート（アルキル
基の炭素数は１〜１３）、アリル（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル
（メタ）アクリレート、ブタンジオール（メタ）アクリ
レート、ブトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）
アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリ
レート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）
アクリレート、２−シアノエチル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペ
ンタニル（メタ）アクリレート、２，３−ジブロモプロ
ピル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル
（メタ）アクリレート、Alkyl (meth) acrylate (alkyl group has 1 to 13 carbon atoms), allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, butanediol (meth) acrylate, butoxytriethylene glycol Things (meta)
Acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth)
Acrylate, 2-cyanoethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, 2,3-dibromopropyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl ( Meth) acrylates,
【００１５】Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）ア
クリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）ア
クリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリ
レート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グ
リセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）
アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシ
プロピルトリメチルアンモニウムクロリド、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メ
タ）アクリレート、３−（メタ）アクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、２−メトキシエチル（メ
タ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリ
コール（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカト
リエン（メタ）アクリレート、N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2 (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, Ethylhexyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, glycidyl (meth)
Acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyltrimethylammonium chloride, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate , 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene Glycol (meth) acrylate, methoxylated cyclodecatriene (meth) acrylate,
【００１６】モルホリン（メタ）アクリレート、ノニル
フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メ
タ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）ア
クリレート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、
フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アク
リレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、
ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、スル
ホン酸ソーダエトキシ（メタ）アクリレート、テトラフ
ルオロプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフ
ルフリル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル
（メタ）アクリレート、ビニルアセテート、Ｎ−ビニル
カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホ
ルムアミド、モルホリノ（メタ）アクリレート、２−モ
ルホリノエチル（メタ）アクリレート。Morpholine (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, phenoxyhydroxypropyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate,
Phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate,
Polypropylene glycol (meth) acrylate, sodium sulfonic acid (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, vinyl acetate, N-vinylcaprolactam, N- Vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, morpholino (meth) acrylate, 2-morpholinoethyl (meth) acrylate.
【００１７】また、活性エネルギ線硬化性の重合性官能
基を２個以上有する化合物（以下、単に多官能性化合物
（Ｉ）という）としては、たとえば特開平１１−２４０
１０３号公報の段落番号００１６〜００２０、００２３
〜００４７に記載された化合物が挙げられる。好ましい
多官能性化合物（Ｉ）としては、（メタ）アクリロイル
基から選ばれる１種以上の重合性官能基を２個以上（２
〜５０個が好ましく、より好ましくは３〜３０個）有す
る化合物が挙げられる。その中でも（メタ）アクリロイ
ルオキシ基を２個以上有する化合物、すなわち多価アル
コールなどの２個以上の水酸基を有する化合物と（メ
タ）アクリル酸とのポリエステルが好ましい。また、上
記重合性官能基以外に種々の官能基や結合を有する化合
物であってもよい。特に、ウレタン結合を有する（メ
タ）アクリロイル基含有化合物（以下、アクリルウレタ
ンという）と、ウレタン結合を有しない（メタ）アクリ
ル酸エステル化合物が好ましい。Examples of the compound having two or more active energy ray-curable polymerizable functional groups (hereinafter, simply referred to as polyfunctional compound (I)) include, for example, JP-A-11-240.
No. 103, paragraphs 0016 to 0020, 0023
To 0047. Preferred polyfunctional compounds (I) include two or more (2) polymerizable functional groups selected from (meth) acryloyl groups.
(Preferably 50 to 50, more preferably 3 to 30). Among them, a compound having two or more (meth) acryloyloxy groups, that is, a polyester of a compound having two or more hydroxyl groups such as a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid is preferable. Further, compounds having various functional groups and bonds other than the above-mentioned polymerizable functional groups may be used. In particular, a (meth) acryloyl group-containing compound having a urethane bond (hereinafter, referred to as acrylic urethane) and a (meth) acrylate compound having no urethane bond are preferable.
【００１８】上記アクリルウレタンとしては、ペンタエ
リスリトールやその多量体であるポリペンタエリスリト
ールとポリイソシアネートとヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートの反応生成物であるアクリルウレタン
であり、かつ活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を２
個以上（より好ましくは４〜２０個）有する多官能性化
合物、または、ペンタエリスリトールやポリペンタエリ
スリトールの水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートと、
ポリイソシアネートとの反応生成物であるアクリルウレ
タンであり、かつ活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を２個以上（より好ましくは４〜２０個）有する多官能
性化合物が挙げられる。The acryl urethane is acrylerytane, which is a reaction product of pentaerythritol or its polymer, polypentaerythritol, polyisocyanate and hydroxyalkyl (meth) acrylate, and is an active energy ray-curable polymerizable polymer. 2 functional groups
Or more (more preferably 4 to 20) polyfunctional compounds, or hydroxyl-containing poly (meth) acrylates of pentaerythritol or polypentaerythritol,
A polyfunctional compound which is an acrylic urethane which is a reaction product with polyisocyanate and has two or more (more preferably 4 to 20) active energy ray-curable polymerizable functional groups is exemplified.
【００１９】また、ウレタン結合を有しない（メタ）ア
クリル酸エステル化合物としては、ペンタエリスリトー
ル系ポリ（メタ）アクリレートまたはイソシアヌレート
系ポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ペン
タエリスリトール系ポリ（メタ）アクリレートとは、ペ
ンタエリスリトールやポリペンタエリスリトールと（メ
タ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性エネ
ルギ線硬化性の重合性官能基を４〜２０個有する。）を
いう。また、イソシアヌレート系ポリ（メタ）アクリレ
ートとは、トリス（ヒドロキシアルキル）イソシアヌレ
ート、またはトリス（ヒドロキシアルキル）イソシアヌ
レートの１モルに、１〜６モルのカプロラクトンやアル
キレンオキシドを付加して得られる化合物と、（メタ）
アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を２〜３個有する。）をいう。Examples of the (meth) acrylate compound having no urethane bond include pentaerythritol poly (meth) acrylate and isocyanurate poly (meth) acrylate. The pentaerythritol-based poly (meth) acrylate is pentaerythritol or a polyester of polypentaerythritol and (meth) acrylic acid (preferably having 4 to 20 active energy ray-curable polymerizable functional groups). Say. The isocyanurate-based poly (meth) acrylate is a compound obtained by adding 1 to 6 mol of caprolactone or alkylene oxide to 1 mol of tris (hydroxyalkyl) isocyanurate or tris (hydroxyalkyl) isocyanurate. And (meta)
A polyester with acrylic acid (preferably having two or three active energy ray-curable polymerizable functional groups).
【００２０】本発明においては、上記の好ましい多官能
性化合物と、他の活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を２個以上有する多官能性化合物（特に多価アルコール
のポリ（メタ）アクリレート）とを併用してもよい。In the present invention, the above-mentioned preferred polyfunctional compound and another polyfunctional compound having two or more active energy ray-curable polymerizable functional groups (particularly poly (meth) acrylate of polyhydric alcohol) May be used in combination.
【００２１】被覆組成物（Ａ）に含まれる活性エネルギ
線硬化性成分において、上記単官能性化合物または上記
多官能性化合物（Ｉ）の割合は特に制限されない。The proportion of the monofunctional compound or the polyfunctional compound (I) in the active energy ray-curable component contained in the coating composition (A) is not particularly limited.
【００２２】被覆組成物（Ａ）には、上記の基本的成分
以外に下記の溶剤や種々の機能性配合剤を含むことがで
きる。The coating composition (A) may contain the following solvents and various functional additives in addition to the above basic components.
【００２３】溶剤としては、多官能性化合物を硬化性成
分とする被覆組成物に通常使用される溶剤を使用でき、
たとえば炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ケトン
類、エーテル類、エステル類などが挙げられる。なお、
ディスク基盤となる樹脂の種類に応じて適切な溶剤を用
いることが好ましく、耐溶剤性の低い樹脂をディスク基
盤に用いる場合には、低級アルコール類、セロソルブ
類、エステル類、またはそれらの混合物などが好まし
い。具体的には、特開平１１−２６８１９６号公報の段
落番号００７４に記載された溶剤が挙げられる。本発明
においては、エステル類、セロソルブ類、低級アルコー
ル類が特に好ましい。As the solvent, a solvent usually used for a coating composition containing a polyfunctional compound as a curable component can be used.
For example, hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ketones, ethers, esters and the like can be mentioned. In addition,
It is preferable to use an appropriate solvent according to the type of resin used as the disc base.When a resin having low solvent resistance is used for the disc base, lower alcohols, cellosolves, esters, or a mixture thereof are used. preferable. Specifically, a solvent described in paragraph No. 0074 of JP-A-11-268196 can be used. In the present invention, esters, cellosolves and lower alcohols are particularly preferred.
【００２４】溶剤の量は、必要とする組成物の粘度、目
的とする硬化物層の厚さ、乾燥条件などにより適宜変更
できる。本発明において、溶剤は、被覆組成物（Ａ）中
の活性エネルギ線硬化性成分に対して質量で１００倍以
下、好ましくは０〜５倍用いるのが好ましい。The amount of the solvent can be appropriately changed depending on the required viscosity of the composition, the desired thickness of the cured product layer, drying conditions, and the like. In the present invention, the solvent is used in an amount of 100 times or less, preferably 0 to 5 times by mass, of the active energy ray-curable component in the coating composition (A).
【００２５】また、被覆組成物（Ａ）は、活性エネルギ
線硬化性成分を効率よく硬化させるために、光重合開始
剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、公知
のものを使用でき、特に入手容易な市販のものが好まし
い。Further, the coating composition (A) preferably contains a photopolymerization initiator in order to efficiently cure the active energy ray-curable component. As the photopolymerization initiator, known ones can be used, and particularly, commercially available ones that are easily available are preferable.
【００２６】光重合開始剤としては、アリールケトン系
光重合開始剤（たとえば、アセトフェノン類、ベンゾフ
ェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル
類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジ
メチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−ア
シロキシムエステル類など）、含硫黄系光重合開始剤
（たとえば、スルフィド類、チオキサントン類など）、
アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ジアシルホ
スフィンオキシド系光重合開始剤、その他の光重合開始
剤が挙げられる。具体的には、特開平１１−２６８１９
６号公報の段落番号００６３〜００６５に記載された化
合物が挙げられる。本発明においては、アシルホスフィ
ンオキシド系光重合開始剤が特に好ましい。光重合開始
剤は、複数の種類を併用してもよく、アミン類などの光
増感剤と組み合わせて使用してもよい。Examples of the photopolymerization initiator include arylketone photopolymerization initiators (for example, acetophenones, benzophenones, alkylaminobenzophenones, benzyls, benzoins, benzoin ethers, benzyldimethyl ketals, benzoyl benzoates, α-acyloxime esters, etc.), sulfur-containing photopolymerization initiators (eg, sulfides, thioxanthones, etc.),
Examples include acylphosphine oxide-based photopolymerization initiators, diacylphosphine oxide-based photopolymerization initiators, and other photopolymerization initiators. Specifically, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-26819
Compounds described in Paragraph Nos. 0063 to 0065 of JP-A No. 6 are enumerated. In the present invention, an acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator is particularly preferred. A plurality of photopolymerization initiators may be used in combination, or may be used in combination with a photosensitizer such as an amine.
【００２７】被覆組成物（Ａ）における光重合開始剤の
使用量は、活性エネルギ線硬化性成分１００質量部に対
して０．０１〜２０質量部が好ましく、特に０．１〜１
５質量部が好ましい。The amount of the photopolymerization initiator used in the coating composition (A) is preferably from 0.01 to 20 parts by mass, more preferably from 0.1 to 1 part by mass, per 100 parts by mass of the active energy ray-curable component.
5 parts by weight are preferred.
【００２８】上記光重合開始剤以外の機能性配合剤とし
ては、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、熱重合防
止剤、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔
料（有機着色顔料、無機顔料）、帯電防止剤、硬化触媒
からなる群から選ばれる１種以上が挙げられる。Functional compounding agents other than the above-mentioned photopolymerization initiators include ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, defoamers, thickeners, antisettling agents, pigments (Organic color pigments, inorganic pigments), one or more selected from the group consisting of antistatic agents and curing catalysts.
【００２９】紫外線吸収剤としては、合成樹脂用紫外線
吸収剤として使用されているベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸
系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤な
どが好ましい。具体的には、特開平１１−２６８１９６
号公報の段落番号００７８に記載された化合物が挙げら
れる。本発明においては、２−｛２−ヒドロキシ−５−
（２−アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾト
リアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキ
シプロピル−３−（３−ベンゾトリアゾール−４−ヒド
ロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネートなど
分子内に光重合性の官能基を有するものが特に好まし
い。As the ultraviolet absorber, benzotriazole-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, salicylic acid-based ultraviolet absorbers, phenyltriazine-based ultraviolet absorbers and the like, which are used as synthetic resin ultraviolet absorbers, are preferred. Specifically, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 11-268196
And the compounds described in paragraph No. 0078 of the publication. In the present invention, 2- {2-hydroxy-5-
(2-acryloyloxyethyl) phenyl} benzotriazole, 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl-3- (3-benzotriazole-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) propionate, etc. Those having a functional group are particularly preferred.
【００３０】光安定剤としては、合成樹脂用光安定剤と
して使用されているヒンダードアミン系光安定剤が好ま
しい。具体的には、特開平１１−２６８１９６号公報の
段落番号００８０に記載された化合物が挙げられる。本
発明においては、Ｎ−メチル−４−メタクリロイルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどの分
子内に重合性官能基を有するものが特に好ましい。As the light stabilizer, a hindered amine light stabilizer used as a light stabilizer for a synthetic resin is preferable. Specifically, the compounds described in paragraph No. 0080 of JP-A-11-268196 can be mentioned. In the present invention, those having a polymerizable functional group in the molecule such as N-methyl-4-methacryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine are particularly preferable.
【００３１】酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾールなどのヒンダードフェノール系酸
化防止剤、トリフェニルホスファイトなどのリン系酸化
防止剤などが挙げられる。レベリング剤としては、シリ
コーン樹脂系レベリング剤、アクリル樹脂系レベリング
剤などが挙げられる。Examples of the antioxidant include hindered phenolic antioxidants such as 2,6-di-t-butyl-p-cresol and phosphorus-based antioxidants such as triphenylphosphite. Examples of the leveling agent include a silicone resin-based leveling agent and an acrylic resin-based leveling agent.
【００３２】消泡剤としては、ポリジメチルシロキサン
などのシリコーン樹脂系消泡剤などが挙げられる。増粘
剤としては、ポリメチルメタクリレート系ポリマー、水
添ひまし油系化合物、脂肪酸アミド系化合物などが挙げ
られる。Examples of the antifoaming agent include silicone resin antifoaming agents such as polydimethylsiloxane. Examples of the thickener include polymethyl methacrylate-based polymers, hydrogenated castor oil-based compounds, and fatty acid amide-based compounds.
【００３３】有機着色顔料としては、縮合多環系有機顔
料、フタロシアニン系有機顔料などが挙げられる。無機
顔料としては、二酸化チタン、酸化コバルト、モリブデ
ンレッド、チタンブラックなどが挙げられる。Examples of the organic coloring pigment include condensed polycyclic organic pigments and phthalocyanine organic pigments. Examples of the inorganic pigment include titanium dioxide, cobalt oxide, molybdenum red, and titanium black.
【００３４】帯電防止剤としては、ノニオン系帯電防止
剤、カチオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤など
が挙げられる。硬化触媒としては、酸、アルカリまたは
塩類などから選ばれる硬化触媒が挙げられる。Examples of the antistatic agent include a nonionic antistatic agent, a cationic antistatic agent, and an anionic antistatic agent. Examples of the curing catalyst include curing catalysts selected from acids, alkalis, and salts.
【００３５】被覆組成物（Ａ）の硬化物からなる内層の
厚さは８０〜１２０μｍが好ましく、特に９５〜１０５
μｍが好ましい。The thickness of the inner layer made of the cured product of the coating composition (A) is preferably 80 to 120 μm, particularly preferably 95 to 105 μm.
μm is preferred.
【００３６】次に、外層を形成する被覆組成物（Ｂ）に
ついて説明する。被覆組成物（Ｂ）に含まれる活性エネ
ルギ線硬化性の重合性官能基を３個以上有する化合物
（以下、多官能性化合物（ＩＩ）という）としては、上
記被覆組成物（Ａ）で用いられる多官能性化合物（Ｉ）
のうち、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３個以
上有するものが挙げられる。Next, the coating composition (B) for forming the outer layer will be described. The compound having three or more active energy ray-curable polymerizable functional groups contained in the coating composition (B) (hereinafter, referred to as a polyfunctional compound (II)) is used in the coating composition (A). Polyfunctional compound (I)
Among them, those having three or more active energy ray-curable polymerizable functional groups are exemplified.
【００３７】すなわち、好ましい多官能性化合物（Ｉ
Ｉ）としては、（メタ）アクリロイル基から選ばれる１
種以上の重合性官能基を３個以上有する化合物が挙げら
れる。その中でも（メタ）アクリロイルオキシ基を３個
以上有する化合物、すなわち多価アルコールなどの３個
以上の水酸基を有する化合物と（メタ）アクリル酸との
ポリエステルが好ましい。特に、アクリルウレタンと、
ウレタン結合を有しない（メタ）アクリル酸エステル化
合物が好ましい。That is, the preferred polyfunctional compound (I
As I), 1 selected from (meth) acryloyl groups
Compounds having three or more kinds of polymerizable functional groups are mentioned. Among them, a polyester having (meth) acrylic acid and a compound having three or more (meth) acryloyloxy groups, that is, a compound having three or more hydroxyl groups such as a polyhydric alcohol is preferable. In particular, acrylic urethane,
A (meth) acrylate compound having no urethane bond is preferred.
【００３８】上記アクリルウレタンとしては、ペンタエ
リスリトールやその多量体であるポリペンタエリスリト
ールとポリイソシアネートとヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートの反応生成物であるアクリルウレタン
であり、かつ活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３
個以上有する多官能性化合物、または、ペンタエリスリ
トールやポリペンタエリスリトールの水酸基含有ポリ
（メタ）アクリレートと、ポリイソシアネートとの反応
生成物であるアクリルウレタンであり、かつ活性エネル
ギ線硬化性の重合性官能基を３個以上有する多官能性化
合物が挙げられる。The acryl urethane is acrylerytane which is a reaction product of pentaerythritol or its polymer, polypentaerythritol, polyisocyanate and hydroxyalkyl (meth) acrylate, and is an active energy ray-curable polymerizable polymer. 3 functional groups
Or a polyfunctional compound having at least one pentaerythritol or acrylic urethane which is a reaction product of a hydroxyl group-containing poly (meth) acrylate of polypentaerythritol and polyisocyanate, and an active energy ray-curable polymerizable functional group. Examples include a polyfunctional compound having three or more groups.
【００３９】また、ウレタン結合を有しない（メタ）ア
クリル酸エステル化合物としては、ペンタエリスリトー
ル系ポリ（メタ）アクリレートまたはイソシアヌレート
系ポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ペン
タエリスリトール系ポリ（メタ）アクリレートとは、ペ
ンタエリスリトールやポリペンタエリスリトールと（メ
タ）アクリル酸とのポリエステルをいう。また、イソシ
アヌレート系ポリ（メタ）アクリレートとは、トリス
（ヒドロキシアルキル）イソシアヌレート、またはトリ
ス（ヒドロキシアルキル）イソシアヌレート１モルに、
１〜６モルのカプロラクトンやアルキレンオキシドを付
加して得られる付加物と、（メタ）アクリル酸とのポリ
エステル（活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３個
以上有する）をいう。Examples of the (meth) acrylate compound having no urethane bond include pentaerythritol poly (meth) acrylate and isocyanurate poly (meth) acrylate. The pentaerythritol-based poly (meth) acrylate refers to pentaerythritol or a polyester of polypentaerythritol and (meth) acrylic acid. Further, isocyanurate-based poly (meth) acrylate refers to tris (hydroxyalkyl) isocyanurate or 1 mol of tris (hydroxyalkyl) isocyanurate.
A polyester (having three or more active energy ray-curable polymerizable functional groups) with (meth) acrylic acid and an adduct obtained by adding 1 to 6 mol of caprolactone or alkylene oxide.
【００４０】本発明においては、上記の好ましい多官能
性化合物と、他の活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を３個以上有する多官能性化合物（特に多価アルコール
のポリ（メタ）アクリレート）とを併用してもよい。In the present invention, the above-mentioned preferred polyfunctional compound and another polyfunctional compound having at least three active energy ray-curable polymerizable functional groups (particularly poly (meth) acrylate of polyhydric alcohol) May be used in combination.
【００４１】また、被覆組成物（Ｂ）は、平均粒径２０
０ｎｍ以下のコロイド状シリカを含むことが好ましい。
コロイド状シリカの平均粒径は１〜１００ｎｍがより好
ましく、特に１〜５０ｎｍが好ましい。コロイド状シリ
カを含むことにより、硬化物の硬度をさらに上げること
ができる。The coating composition (B) has an average particle size of 20%.
It preferably contains colloidal silica of 0 nm or less.
The average particle size of the colloidal silica is more preferably 1 to 100 nm, particularly preferably 1 to 50 nm. By containing colloidal silica, the hardness of the cured product can be further increased.
【００４２】さらに、上記コロイド状シリカが、加水分
解性ケイ素基を有する化合物により表面修飾されたもの
（以下、単に修飾コロイド状シリカという）であること
が好ましい。修飾コロイド状シリカを用いることによ
り、被覆組成物（Ｂ）中のコロイド状シリカの分散安定
性を向上させることができ、コロイド状シリカと多官能
性化合物（ＩＩ）との密着性向上を図ることができる。Further, it is preferable that the above-mentioned colloidal silica is surface-modified with a compound having a hydrolyzable silicon group (hereinafter, simply referred to as modified colloidal silica). By using the modified colloidal silica, the dispersion stability of the colloidal silica in the coating composition (B) can be improved, and the adhesion between the colloidal silica and the polyfunctional compound (II) can be improved. Can be.
【００４３】上記修飾コロイド状シリカは、たとえば特
開平１１−２４０１０３号公報の段落番号００５３〜０
０７８に記載された方法により得ることができる。すな
わち、未修飾のコロイド状シリカに、加水分解性ケイ素
基または水酸基が結合したケイ素基を有する化合物（以
下、これらを修飾剤という）を接触させて、加水分解す
ることにより得ることができる。この場合、修飾剤の加
水分解物はコロイド状シリカの微粒子表面に化学的にま
たは物理的に結合し、その表面を修飾すると考えられ
る。特にコロイド状シリカ表面には通常シラノール基が
存在することから、このシラノール基が修飾剤の加水分
解で生成するシラノール基と縮合して修飾剤の加水分解
残基が結合した表面が生成すると考えられる。また、加
水分解物自身の縮合反応が進んだものが表面に結合する
場合もあると考えられる。本発明においては、修飾剤を
ある程度加水分解した後にコロイド状シリカ分散液に添
加して修飾してもよい。なお、修飾によってコロイド状
シリカ微粒子の平均粒径は実質的に変化しないか多少大
きくなると考えられるが、得られる修飾コロイド状シリ
カの平均粒径は上記範囲であると考えられる。The above modified colloidal silica is described, for example, in paragraphs 0053 to 0 of JP-A-11-240103.
No. 078. That is, it can be obtained by bringing unmodified colloidal silica into contact with a compound having a hydrolyzable silicon group or a silicon group to which a hydroxyl group is bonded (hereinafter, these are referred to as modifying agents) and hydrolyzing. In this case, it is considered that the hydrolyzate of the modifier chemically or physically binds to the surface of the fine particles of colloidal silica to modify the surface. In particular, since silanol groups are usually present on the surface of colloidal silica, it is considered that the silanol groups condense with silanol groups generated by hydrolysis of the modifier to form a surface to which the hydrolysis residues of the modifier are bonded. . It is also considered that the hydrolyzate itself that has undergone a condensation reaction may bind to the surface. In the present invention, the modifier may be hydrolyzed to some extent and then added to the colloidal silica dispersion for modification. It is considered that the average particle size of the colloidal silica fine particles is not substantially changed or slightly increased by the modification, but the average particle size of the obtained modified colloidal silica is considered to be in the above range.
【００４４】修飾剤としては、たとえば特開平１１−２
４０１０３号公報の段落番号００５８〜００７０に記載
された化合物が挙げられる。具体的には、（メタ）アク
リロイルオキシ基含有シラン類、アミノ基含有シラン
類、メルカプト基含有シラン類、エポキシ基含有シラン
類、イソシアネート基含有シラン類などが挙げられる。As the modifier, for example, JP-A-11-2
No. 40103, paragraphs 0058 to 0070. Specific examples include (meth) acryloyloxy group-containing silanes, amino group-containing silanes, mercapto group-containing silanes, epoxy group-containing silanes, and isocyanate group-containing silanes.
【００４５】被覆組成物（Ｂ）におけるコロイド状シリ
カの量は、多官能性化合物（ＩＩ）１００質量部に対し
て、５〜３００質量部が好ましく、５０〜２５０質量部
が特に好ましい。コロイド状シリカの量が上記範囲より
少ないと充分な表面硬度を有する硬化物が得られにく
く、上記範囲より多いと硬化物に曇り（ヘーズ）が発生
しやすく、また、靱性低下などの問題を生じやすくな
る。The amount of colloidal silica in the coating composition (B) is preferably from 5 to 300 parts by weight, particularly preferably from 50 to 250 parts by weight, per 100 parts by weight of the polyfunctional compound (II). If the amount of the colloidal silica is less than the above range, it is difficult to obtain a cured product having a sufficient surface hardness, and if the amount is more than the above range, cloudiness (haze) tends to occur in the cured product, and problems such as a decrease in toughness occur. It will be easier.
【００４６】被覆組成物（Ｂ）は、上記の基本的成分の
ほかに、下記の溶剤や種々の機能性配合剤を含むことが
できる。The coating composition (B) can contain the following solvents and various functional additives in addition to the above basic components.
【００４７】溶剤としては、炭化水素類、ハロゲン化炭
化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類を使用で
きる。具体的には、特開平１１−２４０１０３号公報段
落番号０１０６に記載された溶媒が挙げられる。As the solvent, hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters and ketones can be used. Specifically, a solvent described in paragraph No. 0106 of JP-A No. 11-240103 is exemplified.
【００４８】また、上記コロイド状シリカや修飾コロイ
ド状シリカの分散媒として用いられる、低級アルコール
類、セロソルブ類なども用いることができる。具体的に
は、特開平１１−２４０１０３号公報の段落番号００５
５に記載された溶媒が挙げられる。Further, lower alcohols, cellosolves, and the like, which are used as a dispersion medium of the above-mentioned colloidal silica or modified colloidal silica, can also be used. Specifically, paragraph No. 005 of JP-A-11-240103 is disclosed.
5 are mentioned.
【００４９】本発明においては、製造の容易さなどの理
由から、上記コロイド状シリカや修飾コロイド状シリカ
の分散媒と同一のものを用いることが好ましく、具体的
にはキシレン、ジブチルエーテルが好ましい。なお、溶
剤は蒸発速度を調節するために、複数の種類の溶剤を混
合して用いてもよい。In the present invention, it is preferable to use the same colloidal silica or modified colloidal silica dispersion medium for reasons such as ease of production, and specifically, xylene and dibutyl ether. Note that the solvent may be used by mixing a plurality of types of solvents in order to adjust the evaporation rate.
【００５０】溶剤の使用量は、採用される塗工方法およ
び多官能性化合物（ＩＩ）の構造や平均分子量などによ
って異なるが、固形分濃度で０．５〜８０質量％となる
ように調製することが好ましい。The amount of the solvent to be used varies depending on the coating method to be employed and the structure and average molecular weight of the polyfunctional compound (II), but is adjusted so as to be 0.5 to 80% by mass in solid content. Is preferred.
【００５１】機能性配合剤としては、上記の被覆組成物
（Ａ）で説明した機能性配合剤のほか、スリッピング
剤、指紋除去性賦与剤などが好ましく挙げられる。As the functional compounding agent, in addition to the functional compounding agent described in the above-mentioned coating composition (A), a slipping agent, a fingerprint removing agent and the like are preferably exemplified.
【００５２】被覆組成物（Ｂ）の硬化物からなる外層の
厚さは０．０５〜１０μｍが好ましく、特に０．１〜３
μｍが好ましい。外層の厚さが１０μｍ超では、耐磨耗
性などの表面特性の向上がそれ以上期待できないうえ、
層が脆くなり、ディスクのわずかな変形によっても外層
にクラックなどが生じやすくなる。また、０．０５μｍ
未満では、この外層の耐磨耗性が充分発現できないおそ
れがある。The thickness of the outer layer made of the cured product of the coating composition (B) is preferably 0.05 to 10 μm, particularly 0.1 to 3 μm.
μm is preferred. When the thickness of the outer layer is more than 10 μm, improvement of surface properties such as abrasion resistance cannot be expected any more.
The layer becomes brittle, and cracks and the like easily occur in the outer layer even with slight deformation of the disk. Also, 0.05μm
If it is less than 3, the abrasion resistance of the outer layer may not be sufficiently exhibited.
【００５３】次に、ディスク基盤について説明する。デ
ィスク基盤としては、ポリカーボネート、ポリメチルメ
タクリレート、アモルファスポリオレフィンなどの透明
樹脂またはガラスに直接案内溝を形成した基盤、上記樹
脂またはガラスにフォトポリマー法により案内溝を形成
した基盤などが好ましく挙げられる。Next, the disk base will be described. Preferred examples of the disk substrate include a substrate in which guide grooves are directly formed in a transparent resin or glass such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, and amorphous polyolefin, and a substrate in which guide grooves are formed in the resin or glass by a photopolymer method.
【００５４】また、ディスク基盤の案内溝の表面には、
下記の反射膜、記録膜、誘電体膜などからなる積層膜が
形成される。Also, on the surface of the guide groove of the disc base,
A laminated film including the following reflective film, recording film, dielectric film, and the like is formed.
【００５５】反射膜の材質は、たとえば、Ａｌ、Ａｕ、
Ａｇ、Ｃｕなどの金属、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒなどの
合金が好ましく挙げられる。The material of the reflection film is, for example, Al, Au,
Preferred examples include metals such as Ag and Cu, and alloys such as Al-Ti and Al-Cr.
【００５６】記録膜の材質は、記録方式により異なる
が、たとえば、追記型光記録媒体ではＴｅ、Ｓｎ、Ｓｅ
などのカルコゲナイト系合金、相変化型光記録媒体では
ＴｅＯｘ、ＩｎＳｅ、ＳｎＳｂなどのカルコゲナイト系
合金、光磁気ディスクではＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅ
Ｃｏなどの遷移金属と希土類金属との合金（単層または
２層以上の交換結合膜）が好ましく挙げられる。The material of the recording film differs depending on the recording method. For example, in the case of a write-once optical recording medium, Te, Sn, and Se are used.
And chalcogenite alloys such as TeOx, InSe and SnSb for phase-change optical recording media, and TbFeCo and NdDyFe for magneto-optical disks.
An alloy of a transition metal such as Co and a rare earth metal (single-layer or two or more exchange-coupling films) is preferable.
【００５７】誘電体膜の材質としては、たとえば、Ｓｉ
3Ｎ4、ＳｉＯ2、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、
ＡｌＴｉＮ、Ｔａ2Ｏ5、ＺｎＳなどが好ましく挙げられ
る。As the material of the dielectric film, for example, Si
3 N 4, SiO 2, AlSiON , AlSiN, AlN,
AlTiN, Ta 2 O 5 , ZnS and the like are preferable.
【００５８】図１には、本発明の一実施形態である青色
レーザーディスクの断面の模式図が示されている。この
青色レーザーディスク７は、ディスク基盤１の案内溝２
を有する面に、反射膜、記録膜、誘電体膜などからなる
積層膜３が形成され、該積層膜３の表面にカバー層とプ
ライマー層を兼ねた被覆組成物（Ａ）の硬化物からなる
内層４と被覆組成物（Ｂ）の硬化物からなる外層５とか
らなるハードコート層６が形成されている。FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross section of a blue laser disk according to an embodiment of the present invention. The blue laser disk 7 is provided in the guide groove 2 of the disk base 1.
Is formed on a surface having a reflective film, a recording film, a dielectric film, and the like, and the surface of the laminated film 3 is formed of a cured product of the coating composition (A) which also serves as a cover layer and a primer layer. A hard coat layer 6 composed of an inner layer 4 and an outer layer 5 made of a cured product of the coating composition (B) is formed.
【００５９】次に、本発明の青色レーザーディスクの製
造方法について説明する。ディスク基盤の案内溝を有す
る面に、常法により誘電体膜、記録膜、反射膜などから
なる積層膜を形成する。誘電体膜、記録膜および反射膜
は、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理
蒸着法またはプラズマＣＶＤなどの化学蒸着法により形
成できる。Next, a method for manufacturing the blue laser disk of the present invention will be described. A laminated film including a dielectric film, a recording film, a reflective film, and the like is formed on the surface of the disk substrate having the guide groove by a conventional method. The dielectric film, the recording film, and the reflection film can be formed by a physical vapor deposition method such as sputtering or ion plating or a chemical vapor deposition method such as plasma CVD.
【００６０】こうして形成した積層膜の表面に、下記の
方法により被覆組成物（Ａ）および（Ｂ）を塗工し、硬
化してハードコート層を形成する。被覆組成物（Ａ）お
よび（Ｂ）を塗工する方法としては、特に制限されず、
公知の方法を採用できる。たとえば、ディップ法、フロ
ートコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコ
ート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナ
イフコート法、スピンコート法、スリットコート法、マ
イクログラビアコート法などの方法を採用できる。ま
た、たとえば被覆組成物（Ａ）をグラビアコートした
後、被覆組成物（Ｂ）をスピンコートまたはスプレーコ
ートするといように複数の塗工方法を組み合わせること
もできる。本発明においては、生産性や表面外観の点か
らスピンコート法が好ましく採用される。The coating compositions (A) and (B) are applied to the surface of the thus formed laminated film by the following method and cured to form a hard coat layer. The method for applying the coating compositions (A) and (B) is not particularly limited,
A known method can be adopted. For example, dip coating, float coating, spray coating, bar coating, gravure coating, roll coating, blade coating, air knife coating, spin coating, slit coating, micro gravure coating, etc. it can. Also, a plurality of coating methods can be combined, for example, after the coating composition (A) is gravure coated, and then the coating composition (B) is spin-coated or spray-coated. In the present invention, the spin coating method is preferably employed in terms of productivity and surface appearance.
【００６１】被覆組成物（Ａ）および（Ｂ）を硬化させ
る活性エネルギ線としては、特に限定されず、紫外線、
電子線やその他の活性エネルギ線を使用できる。本発明
においては、紫外線が好ましい。紫外線源としては、キ
セノンランプ、パルスキセノンランプ、低圧水銀灯、高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カー
ボンアーク灯、タングステンランプなどを使用できる。The active energy ray for curing the coating compositions (A) and (B) is not particularly limited.
Electron beams and other active energy beams can be used. In the present invention, ultraviolet rays are preferred. As the ultraviolet light source, a xenon lamp, a pulse xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, a tungsten lamp, and the like can be used.
【００６２】また、被覆組成物（Ａ）の硬化と、被覆組
成物（Ｂ）の塗工〜硬化のタイミングとしては、以下の
（１）〜（３）のタイミングが挙げられる。The timing of the curing of the coating composition (A) and the timing of coating and curing of the coating composition (B) include the following timings (1) to (3).
【００６３】（１）被覆組成物（Ａ）を塗工した後、充
分な量の活性エネルギ線を照射して充分に被覆組成物
（Ａ）の硬化を終了させた後、その表面に被覆組成物
（Ｂ）の層を形成する。(1) After coating the coating composition (A), the coating composition (A) is irradiated with a sufficient amount of active energy rays to sufficiently cure the coating composition (A), and then the surface of the coating composition (A) is coated. A layer of the object (B) is formed.
【００６４】（２）被覆組成物（Ａ）を塗工して被覆組
成物（Ａ）の未硬化物層を形成した後、その未硬化物層
の表面に被覆組成物（Ｂ）を塗工して被覆組成物（Ｂ）
の未硬化物層を形成し、その後に充分な量の活性エネル
ギ線を照射して被覆組成物（Ａ）、（Ｂ）の硬化を終了
させる。(2) After coating the coating composition (A) to form an uncured layer of the coating composition (A), the coating composition (B) is coated on the surface of the uncured layer. Coating composition (B)
To form an uncured material layer, and thereafter irradiating a sufficient amount of active energy rays to complete the curing of the coating compositions (A) and (B).
【００６５】（３）被覆組成物（Ａ）を塗工した後、指
触乾燥状態になり、かつ完全硬化に至らないまでの量の
活性エネルギ線（通常、約５００ｍＪ／ｃｍ2までの照
射量）を照射して被覆組成物（Ａ）の部分硬化物層を形
成した後、その部分硬化物層の表面に被覆組成物（Ｂ）
を塗工して被覆組成物（Ｂ）の未硬化物層を形成し、そ
の後、完全硬化させるに充分な量の活性エネルギ線を照
射して被覆組成物（Ａ）、（Ｂ）の硬化を終了させる。(3) After application of the coating composition (A), the active energy ray is applied in an amount until it becomes dry to the touch and does not reach complete curing (usually an irradiation dose of about 500 mJ / cm 2 ). ) To form a partially cured product layer of the coating composition (A), and then coat the coating composition (B) on the surface of the partially cured product layer.
To form an uncured material layer of the coating composition (B), and thereafter, irradiating an active energy ray in an amount sufficient for complete curing to cure the coating compositions (A) and (B). Terminate.
【００６６】本発明においては、上記（２）または
（３）のタイミングで行なうことが好ましい。このタイ
ミングで硬化を行なうことにより、２つの硬化物層の層
間密着力を上げることができる。また、被覆組成物
（Ｂ）の方が被覆組成物（Ａ）に比べて活性エネルギ線
硬化性の重合性官能基１個あたりの分子量が小さく、硬
化収縮も大きい傾向にあるので、被覆組成物（Ｂ）の硬
化収縮にある程度追随しながら下層の被覆組成物（Ａ）
を硬化することができ、ディスクとしての応力が小さく
なるため好ましい。なお、被覆組成物が溶剤を含有して
いる場合は、塗工後、乾燥して溶剤を除去してから硬化
させることが好ましい。In the present invention, it is preferable to carry out at the above timing (2) or (3). By performing the curing at this timing, the interlayer adhesion between the two cured product layers can be increased. Further, the coating composition (B) tends to have a smaller molecular weight per active energy ray-curable polymerizable functional group and a larger curing shrinkage than the coating composition (A). The lower layer coating composition (A) while somewhat following the curing shrinkage of (B).
Can be cured, and the stress as a disk is reduced. In the case where the coating composition contains a solvent, it is preferable that the coating composition is dried after drying to remove the solvent, and then cured.
【００６７】上記のようにして得られる青色レーザーデ
ィスクは、単板で用いてもよく、２枚以上を貼り合わせ
て用いてもよい。そして、必要に応じてハブを付け、カ
ートリッジへ組み込めばよい。The blue laser disk obtained as described above may be used as a single plate, or two or more blue laser disks may be used together. Then, a hub may be attached as necessary, and the hub may be incorporated into the cartridge.
【００６８】[0068]
【実施例】以下、本発明を合成例（合成例１〜１１）、
実施例（例１〜７）、比較例（例８）に基づき説明する
が、本発明はこれらに限定されない。各例においては、
ディスク基盤として、光記録媒体用ポリカーボネート基
盤（直径１２ｃｍ、厚さ１．２ｍｍ）の片面（案内溝を
有する面）に、積層膜（Ａｌからなる反射膜層、ＳｉＮ
からなる第１誘電体層、ＴｂＦｅＣｏからなる光磁気記
録層、ＳｉＮからなる第２誘電体層）をスパッタ法によ
り成膜したものを用いた。Hereinafter, the present invention will be described with reference to Synthesis Examples (Synthesis Examples 1 to 11),
Examples will be described based on Examples (Examples 1 to 7) and Comparative Examples (Example 8), but the present invention is not limited to these. In each example,
As a disk substrate, a laminated film (a reflective film layer made of Al, SiN) was formed on one surface (a surface having a guide groove) of a polycarbonate substrate for an optical recording medium (diameter 12 cm, thickness 1.2 mm).
(A first dielectric layer made of, a magneto-optical recording layer made of TbFeCo, and a second dielectric layer made of SiN) were formed by sputtering.
【００６９】また、各例で得られたサンプルについての
各種物性の測定および評価は以下に示す方法で行い、そ
の結果を表１に示した（初期曇価、耐磨耗性および初期
黄色度の測定用サンプルは、反射膜の形成を省いたディ
スク基盤を用いて作製した。）。なお、参考として通常
の板ガラスについての結果も併せて表１に示した。The measurements and evaluations of the various physical properties of the samples obtained in each example were carried out by the following methods, and the results are shown in Table 1 (initial haze, abrasion resistance and initial yellowness). The measurement sample was prepared using a disk substrate from which the reflective film was not formed.) Table 1 also shows the results of ordinary sheet glass for reference.
【００７０】［初期曇価、耐磨耗性］ＪＩＳ−Ｒ３２１
２における耐磨耗試験法により、２つのＣＳ−１０Ｆ磨
耗輪にそれぞれ５００ｇの重りを組み合わせ５００回転
させたときの曇価（ヘーズ）をヘーズメータにて測定し
た。曇価の測定は磨耗サイクル軌道の４カ所で行い、平
均値を算出した。初期曇価は耐磨耗試験前の曇価の値
（％）を、耐磨耗性は（耐磨耗試験後曇価）−（耐磨耗
試験前曇価）の値（％）を示す。[Initial haze value, abrasion resistance] JIS-R321
According to the abrasion resistance test method in No. 2, a haze was measured using a haze meter when 500 g of weight was combined with each of two CS-10F abrasion wheels and rotated 500 times. The haze value was measured at four points of the wear cycle orbit, and the average value was calculated. The initial haze value indicates the value (%) of the haze value before the abrasion resistance test, and the abrasion resistance indicates the value (%) of (haze value after the abrasion resistance test)-(haze value before the abrasion resistance test). .
【００７１】［初期黄色度］スガ試験機社製カラーメー
タにより、サンプルの２点の黄色度（ＹＩ）の値を測定
し、その平均値を求めた。[Initial Yellowness] The yellowness (YI) values of two points of the sample were measured with a color meter manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and the average value was determined.
【００７２】［密着性］サンプルを剃刀の刃で１ｍｍ間
隔で縦横それぞれ１１本の切れ目を付け、１００個の碁
盤目を作り、市販のセロハンテープをよく密着させた
後、９０度手前方向に急激にはがした際の、ハードコー
ト層が剥離せずに残存した碁盤目の数（ｍ）をｍ／１０
０で表す。[Adhesion] The sample was cut with eleven slits in the vertical and horizontal directions at intervals of 1 mm with a razor blade to make 100 grids, and a commercially available cellophane tape was closely adhered to the sample. The number (m) of grids remaining without peeling of the hard coat layer when peeled off was m / 10
Expressed as 0.
【００７３】［合成例１］エチルセロソルブ分散型コロ
イド状シリカ（シリカ含量３０質量％、平均粒径１１ｎ
ｍ）１００質量部に、３−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン５質量部と、０．１モル／Ｌの塩酸３．０質
量部を加え、１００℃にて６時間加熱・撹拌した後、室
温下で１２時間熟成して、メルカプトシラン修飾コロイ
ド状シリカ分散液を得た。[Synthesis Example 1] Ethyl cellosolve-dispersed colloidal silica (silica content 30% by mass, average particle size 11n)
m) 5 parts by mass of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3.0 parts by mass of 0.1 mol / L hydrochloric acid were added to 100 parts by mass, and the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 6 hours and then at room temperature. The mixture was aged for 12 hours to obtain a mercaptosilane-modified colloidal silica dispersion.
【００７４】［合成例２］３−メルカプトプロピルトリ
メトキシシランの代わりに、３−アクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシランを用いた以外は、合成例１と
同様にして、アクリルシラン修飾コロイド状シリカ分散
液を得た。Synthesis Example 2 An acrylic silane-modified colloidal silica dispersion was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane was used instead of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane. Obtained.
【００７５】［合成例３］３−メルカプトプロピルトリ
メトキシシランの代わりに、Ｎ−フェニル−３−アミノ
プロピルトリメトキシシランを用いた以外は、合成例１
と同様にして、アミノシラン修飾コロイド状シリカ分散
液を得た。[Synthesis Example 3] Synthesis Example 1 except that N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane was used instead of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.
In the same manner as in the above, an aminosilane-modified colloidal silica dispersion was obtained.
【００７６】［合成例４］３−メルカプトプロピルトリ
メトキシシランの代わりに、３−グリシドキシプロピル
トリメトキシシランを用いた以外は、合成例１と同様に
して、エポキシシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得
た。Synthesis Example 4 Epoxysilane-modified colloidal silica dispersion in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane was used instead of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane. I got
【００７７】［合成例５］撹拌機を装着した５００ｍＬ
の４つ口フラスコに、Ｎ−ビニルピロリドン５０ｇ、ブ
チルアクリレート５０ｇ、２官能ウレタンアクリレート
（新中村化学社製、商品名「ＵＡ５２０１」）１００
ｇ、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキシド５．０ｇを加え、常温で１時間撹拌し
て、塗工液１を得た。[Synthesis Example 5] 500 mL equipped with a stirrer
N-vinylpyrrolidone 50 g, butyl acrylate 50 g, bifunctional urethane acrylate (trade name “UA5201”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 100
g and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (5.0 g) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour to obtain Coating Liquid 1.
【００７８】［合成例６］撹拌機を装着した５００ｍＬ
の４つ口フラスコに、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート１００ｇ、２−メチル−１−｛４−（メチル
チオ）フェニル｝−２−モルホリノプロパン−１−オン
１．５ｇ、およびレベリング剤（ビック・ケミー社製、
商品名「ＢＹＫ３０６」）２００ｍｇを、２００ｇの酢
酸ブチルに溶解させ、さらに常温で１時間撹拌して、塗
工液２を得た。[Synthesis Example 6] 500 mL equipped with a stirrer
100 g of dipentaerythritol hexaacrylate, 1.5 g of 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropan-1-one, and a leveling agent (manufactured by BYK Chemie Co., Ltd.) ,
200 mg of trade name “BYK306”) was dissolved in 200 g of butyl acetate, and further stirred at room temperature for 1 hour to obtain a coating liquid 2.
【００７９】［合成例７］撹拌機を装着した１００ｍＬ
の４つ口フラスコに、３０．０ｇの上記メルカプトシラ
ン修飾コロイド状シリカ分散液と、２８．５ｇの上記塗
工液２を加え、室温で１５分撹拌して、塗工液３を得
た。[Synthesis Example 7] 100 mL equipped with a stirrer
Was added to the four-necked flask, and 28.5 g of the coating liquid 2 was added thereto, followed by stirring at room temperature for 15 minutes to obtain a coating liquid 3.
【００８０】［合成例８］合成例７において、メルカプ
トシラン修飾コロイド状シリカ分散液の代わりに、上記
アクリルシラン修飾コロイド状シリカ分散液を用いた以
外は合成例７と同様にして、塗工液４を得た。[Synthesis Example 8] A coating solution was prepared in the same manner as in Synthesis Example 7 except that the above acrylsilane-modified colloidal silica dispersion was used instead of the mercaptosilane-modified colloidal silica dispersion. 4 was obtained.
【００８１】［合成例９］合成例７において、メルカプ
トシラン修飾コロイド状シリカ分散液の代わりに、上記
アミノシラン修飾コロイド状シリカ分散液を用いた以外
は合成例７と同様にして、塗工液５を得た。[Synthesis Example 9] A coating solution 5 was prepared in the same manner as in Synthesis Example 7 except that the above aminosilane-modified colloidal silica dispersion was used instead of the mercaptosilane-modified colloidal silica dispersion. I got
【００８２】［合成例１０］合成例７において、メルカ
プトシラン修飾コロイド状シリカ分散液の代わりに、上
記エポキシシラン修飾コロイド状シリカ分散液を用いた
以外は合成例７と同様にして、塗工液６を得た。[Synthesis Example 10] A coating solution was prepared in the same manner as in Synthesis Example 7 except that the above-mentioned epoxysilane-modified colloidal silica dispersion was used instead of the mercaptosilane-modified colloidal silica dispersion. 6 was obtained.
【００８３】［合成例１１］撹拌機を装着した５００ｍ
Ｌの４つ口フラスコに、２官能ウレタンアクリレート
（新中村化学社製、商品名「ＵＡ５２０１」）１００
ｇ、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝
−２−モルホリノプロパン−１−オン１．５ｇ、および
レベリング剤（ビック・ケミー社製、商品名「ＢＹＫ３
０６」）２００ｍｇを、２００ｇの酢酸ブチルに溶解さ
せ、さらに常温で１時間撹拌して、塗工液７を得た。[Synthesis Example 11] 500 m equipped with a stirrer
100 L bifunctional urethane acrylate (trade name “UA5201”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
g, 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl}
1.5 g of 2-morpholinopropan-1-one and a leveling agent (trade name “BYK3” manufactured by BYK Chemie KK)
06 ") 200 mg was dissolved in 200 g of butyl acetate, and further stirred at room temperature for 1 hour to obtain Coating Liquid 7.
【００８４】［例１］ディスク基盤の積層膜の表面にス
ピンコート法により、塗工液１を塗工（厚さ１００μ
ｍ）して、これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて３
００ｍＪ／ｃｍ 2（波長３００〜３９０ｎｍ領域の紫外
線積算エネルギ量、以下同じ）の紫外線を照射し、膜厚
１００μｍの部分硬化物層を形成した。[Example 1] The surface of the laminated film on the disk
Apply coating liquid 1 by pin coating method (thickness 100μ)
m), and then, in an air atmosphere, using a high pressure mercury lamp for 3 hours.
00mJ / cm Two(Ultraviolet in the wavelength range of 300 to 390 nm
(Accumulated line energy, the same applies hereafter)
A 100 μm partially cured product layer was formed.
【００８５】次に、この表面にさらに塗工液２をスピン
コート法により塗工（ウェット厚さ３μｍ）して、８０
℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持して溶剤を除去
した後、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１５００ｍ
Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射し、膜厚１．０μｍの硬化物
層を形成した。こうしてディスク基盤のレーザー光入射
面に総膜厚１０１．０μｍのハードコート層を形成した
サンプルを得た。Next, this surface was further coated with a coating liquid 2 by a spin coating method (wet thickness 3 μm).
C. in a hot air circulating oven at 10 ° C. for 10 minutes to remove the solvent.
Irradiation with ultraviolet rays of J / cm 2 was performed to form a cured product layer having a thickness of 1.0 μm. Thus, a sample was obtained in which a hard coat layer having a total film thickness of 101.0 μm was formed on the laser beam incident surface of the disk substrate.
【００８６】［例２］例１において、塗工液１を塗工し
た後の工程を以下のように変更した以外は、例１と同様
にしてサンプルを得た。[Example 2] A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the process after applying the coating liquid 1 was changed as follows.
【００８７】すなわち、ディスク基盤の積層膜の表面に
塗工液１を塗工した後、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用
いて１５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、膜厚１０
０μｍの硬化物層を形成した。そして、この表面に塗工
液２をスピンコート法により塗工（ウェット厚さ３μ
ｍ）して、８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持
して溶剤を除去した後、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用
いて１５００ｍＪ／ｃｍ 2の紫外線を照射して、膜厚
１．０μｍの硬化物層を形成した。こうしてディスク基
盤のレーザー光入射面に総膜厚１０１．０μｍのハード
コート層を形成したサンプルを得た。That is, on the surface of the laminated film of the disk base,
After applying the coating liquid 1, use a high pressure mercury lamp in air atmosphere.
1500mJ / cmTwoIrradiation of ultraviolet rays, film thickness 10
A cured product layer of 0 μm was formed. And coat this surface
Liquid 2 is applied by spin coating (wet thickness 3μ)
m) and hold in a hot air circulating oven at 80 ° C for 10 minutes
After removing the solvent, use a high-pressure mercury lamp in an air atmosphere.
1500mJ / cm TwoIrradiation of ultraviolet light, the film thickness
A cured product layer of 1.0 μm was formed. Thus the disk base
Hard disk with a total film thickness of 101.0 μm on the laser beam incident surface of the board
A sample on which a coat layer was formed was obtained.
【００８８】［例３］例１において、塗工液１を塗工し
た後の工程を以下のように変更した以外は、例１と同様
にしてサンプルを得た。[Example 3] A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the process after applying the coating liquid 1 was changed as follows.
【００８９】すなわち、塗工液１を塗工した後、紫外線
を照射せずに、膜厚１００μｍの未硬化物層を形成し
た。そして、この表面に塗工液２をスピンコート法によ
り塗工（ウェット厚さ３μｍ）して、８０℃の熱風循環
オーブン中で１０分間保持して溶剤を除去した後、空気
雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１５００ｍＪ／ｃｍ2の
紫外線を照射し、膜厚１．０μｍの硬化物層を形成し
た。こうしてディスク基盤のレーザー光入射面に総膜厚
１０１．０μｍのハードコート層を形成したサンプルを
得た。That is, after the coating liquid 1 was applied, an uncured material layer having a thickness of 100 μm was formed without irradiating ultraviolet rays. Then, a coating solution 2 is applied to this surface by a spin coating method (wet thickness: 3 μm), and is kept in a hot air circulating oven at 80 ° C. for 10 minutes to remove the solvent. Was irradiated with ultraviolet rays of 1500 mJ / cm 2 to form a cured product layer having a thickness of 1.0 μm. Thus, a sample was obtained in which a hard coat layer having a total film thickness of 101.0 μm was formed on the laser beam incident surface of the disk substrate.
【００９０】［例４］例１において、塗工液２の代わり
に塗工液３を用いた以外は例１と同様にしてサンプルを
得た。[Example 4] A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that coating liquid 3 was used instead of coating liquid 2.
【００９１】［例５］例１において、塗工液２の代わり
に塗工液４を用いた以外は例１と同様にしてサンプルを
得た。[Example 5] A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that coating liquid 4 was used instead of coating liquid 2.
【００９２】［例６］例１において、塗工液２の代わり
に塗工液５を用いた以外は例１と同様にしてサンプルを
得た。[Example 6] A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that coating liquid 5 was used instead of coating liquid 2.
【００９３】［例７］例１において、塗工液２の代わり
に塗工液６を用いた以外は例１と同様にしてサンプルを
得た。[Example 7] A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that coating liquid 6 was used instead of coating liquid 2.
【００９４】［例８］例１において、塗工液２の代わり
に塗工液７を用いた以外は例１と同様にしてサンプルを
得た。[Example 8] A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that coating liquid 7 was used instead of coating liquid 2.
【００９５】[0095]
【表１】 [Table 1]
【００９６】[0096]
【発明の効果】本発明によれば、ディスクのレーザー光
入射面に高い耐磨耗性および透明性を有し、かつディス
ク基盤との密着性に優れたハードコート層を有する青色
レーザーディスクおよびその製造方法を提供できる。According to the present invention, a blue laser disk having a hard coat layer having high abrasion resistance and transparency on a laser beam incident surface of a disk and having excellent adhesion to a disk substrate, and a blue laser disk having the same are provided. A manufacturing method can be provided.
【図１】 本発明の一実施例である青色レーザーディス
クの断面を表す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a cross section of a blue laser disk according to an embodiment of the present invention.
１．ディスク基盤 ２．案内溝 ３．積層膜 ４．内層 ５．外層 ６．ハードコート層 ７．青色レーザーディスク 1. 1. Disk base Guide groove 3. 3. Laminated film Inner layer 5. Outer layer 6. Hard coat layer 7. Blue laser disc
Claims (6)
び誘電体膜を有する積層膜が形成され、かつ、前記積層
膜側をレーザー光入射面とする青色レーザーディスクに
おいて、前記積層膜の表面に活性エネルギ線硬化性の重
合性官能基を１個以上有する化合物を含む被覆組成物
（Ａ）の硬化物からなる内層と、活性エネルギ線硬化性
の重合性官能基を３個以上有する化合物を含む被覆組成
物（Ｂ）の硬化物からなる外層とからなるハードコート
層が設けられていることを特徴とする青色レーザーディ
スク。1. A blue laser disk in which a laminated film having a reflective film, a recording film, and a dielectric film is formed on a disk substrate, and the laminated film side has a laser beam incident surface. And an inner layer comprising a cured product of the coating composition (A) containing a compound having one or more active energy ray-curable polymerizable functional groups, and a compound having three or more active energy ray-curable polymerizable functional groups. A blue laser disk comprising a hard coat layer comprising an outer layer made of a cured product of the coating composition (B).
０ｎｍ以下のコロイド状シリカを含む、請求項１に記載
の青色レーザーディスク。2. The coating composition (B) having an average particle size of 20
The blue laser disc according to claim 1, comprising colloidal silica of 0 nm or less.
イ素基を有する化合物により表面修飾されている、請求
項２に記載の青色レーザーディスク。3. The blue laser disk according to claim 2, wherein said colloidal silica is surface-modified with a compound having a hydrolyzable silicon group.
が８０〜１２０μｍである、請求項１〜３のいずれか一
つに記載の青色レーザーディスク。4. The blue laser disk according to claim 1, wherein a thickness of the cured product layer of the coating composition (A) is 80 to 120 μm.
が０．０５〜１０μｍである、請求項１〜４のいずれか
一つに記載の青色レーザーディスク。5. The blue laser disk according to claim 1, wherein the thickness of the cured product layer of the coating composition (B) is 0.05 to 10 μm.
び誘電体膜を有する積層膜が形成され、かつ、前記積層
膜側をレーザー光入射面とする青色レーザーディスクの
製造方法において、前記積層膜の表面に活性エネルギ線
硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合物を含む被
覆組成物（Ａ）の未硬化物層、部分硬化物層または硬化
物層を形成し、この表面に活性エネルギ線硬化性の重合
性官能基を３個以上有する化合物を含む被覆組成物
（Ｂ）の未硬化物層または部分硬化物層を形成し、被覆
組成物（Ａ）の層が硬化物層である場合は被覆組成物
（Ｂ）の層を硬化させ、被覆組成物（Ａ）の層が未硬化
物層または部分硬化物層である場合は被覆組成物（Ａ）
および被覆組成物（Ｂ）の層を任意の順でまたは同時に
硬化させることを特徴とする青色レーザーディスクの製
造方法。6. A method for manufacturing a blue laser disk, wherein a laminated film having a reflective film, a recording film, and a dielectric film is formed on a disk substrate, and wherein the laminated film side has a laser beam incident surface. An uncured material layer, a partially cured material layer, or a cured material layer of the coating composition (A) containing a compound having one or more active energy ray-curable polymerizable functional groups is formed on the surface of the film, and the active surface is formed on the surface. An uncured layer or a partially cured layer of the coating composition (B) containing a compound having three or more energy-ray-curable polymerizable functional groups is formed, and the layer of the coating composition (A) is a cured layer. In some cases, the layer of the coating composition (B) is cured, and when the layer of the coating composition (A) is an uncured layer or a partially cured layer, the coating composition (A)
And curing the layers of the coating composition (B) in any order or simultaneously.
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