JP2002228582A - ガス検出装置 - Google Patents
ガス検出装置Info
- Publication number
- JP2002228582A JP2002228582A JP2001021941A JP2001021941A JP2002228582A JP 2002228582 A JP2002228582 A JP 2002228582A JP 2001021941 A JP2001021941 A JP 2001021941A JP 2001021941 A JP2001021941 A JP 2001021941A JP 2002228582 A JP2002228582 A JP 2002228582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- concave mirror
- gas
- semiconductor laser
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
- Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 小型軽量化が図れ、容易に携帯できること。
【解決手段】 光源部5の半導体レーザモジュール5a
のレーザ光は、光ファイバ5bを介し小型のファイバコ
リメータ5cから光軸Aを有し被測定ガスに向けて出射
される。筐体2内部に設けられる凹面鏡6は、被測定ガ
ス通過後、反射体9で散乱した反射光を集光位置P上の
受光器7に集光させる。被測定ガスの吸収スペクトルに
基づき受光器7の検出出力によりガスの有無を検出でき
る。凹面鏡6は小型軽量で焦点距離が短く筐体2を小型
軽量化できる。凹面鏡6前方には小型なファイバコリメ
ータ5cを設けたので反射光の受光レベルの低減を防止
でき、安定してガス検出できる。
のレーザ光は、光ファイバ5bを介し小型のファイバコ
リメータ5cから光軸Aを有し被測定ガスに向けて出射
される。筐体2内部に設けられる凹面鏡6は、被測定ガ
ス通過後、反射体9で散乱した反射光を集光位置P上の
受光器7に集光させる。被測定ガスの吸収スペクトルに
基づき受光器7の検出出力によりガスの有無を検出でき
る。凹面鏡6は小型軽量で焦点距離が短く筐体2を小型
軽量化できる。凹面鏡6前方には小型なファイバコリメ
ータ5cを設けたので反射光の受光レベルの低減を防止
でき、安定してガス検出できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガスの光吸収特性
を利用して光学的に都市ガス、化学プラント等のガス漏
洩を検出するガス検出装置に係り、特に、携帯型として
小型軽量化を図ったガス検出装置に関する。
を利用して光学的に都市ガス、化学プラント等のガス漏
洩を検出するガス検出装置に係り、特に、携帯型として
小型軽量化を図ったガス検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】メタン、二酸化炭素、アセチレン、アン
モニア等の気体には、分子の回転や構成原子間の振動等
に応じて特定波長の光を吸収する吸収帯があることは既
に知られている。例えば、メタンの場合には、1.65
μm、3.3μm、7.7μm帯等に吸収帯を有してい
る。図9は、1.65μmにおけるメタンの吸収スペク
トルを示す図である。
モニア等の気体には、分子の回転や構成原子間の振動等
に応じて特定波長の光を吸収する吸収帯があることは既
に知られている。例えば、メタンの場合には、1.65
μm、3.3μm、7.7μm帯等に吸収帯を有してい
る。図9は、1.65μmにおけるメタンの吸収スペク
トルを示す図である。
【0003】ガス検出装置は、このようなガスの光吸収
特性を利用して、ガスの発生箇所に対し遠隔から光を当
てて光学的にガスの存在を検出する。例えば、都市ガ
ス、化学プラント等のガス漏洩を検出することができ
る。
特性を利用して、ガスの発生箇所に対し遠隔から光を当
てて光学的にガスの存在を検出する。例えば、都市ガ
ス、化学プラント等のガス漏洩を検出することができ
る。
【0004】ガス検出装置は、ガス漏洩時や、点検時に
現場に搬入できるよう、小型携帯化が求められている。
図10は、従来のガス検出装置を示す側断面図である
(特開平7−103887号公報)。図示のガス検出装
置50は、筐体51の前面に集光レンズ52が設けら
れ、集光レンズ52の中央にLDモジュールからなる光
源部53が設けられている。光源部53から被測定ガス
の有る空間中に所定波長のレーザ光を照射し、壁等によ
る反射光を集光レンズ52で集光して、筐体51内部の
受光器54で検出する。被測定ガスは、LDの所定波長
で光を吸収するため、受光器54はこの所定波長部分で
受光レベルが減衰する。図示しない処理部は、受光器5
4の検出状態に基づき、被測定ガスの有無を検出する。
現場に搬入できるよう、小型携帯化が求められている。
図10は、従来のガス検出装置を示す側断面図である
(特開平7−103887号公報)。図示のガス検出装
置50は、筐体51の前面に集光レンズ52が設けら
れ、集光レンズ52の中央にLDモジュールからなる光
源部53が設けられている。光源部53から被測定ガス
の有る空間中に所定波長のレーザ光を照射し、壁等によ
る反射光を集光レンズ52で集光して、筐体51内部の
受光器54で検出する。被測定ガスは、LDの所定波長
で光を吸収するため、受光器54はこの所定波長部分で
受光レベルが減衰する。図示しない処理部は、受光器5
4の検出状態に基づき、被測定ガスの有無を検出する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ガス検出装置50は、集光レンズ52が大型であるため
(直径12cm、厚さ3cm、重量1kg以上)、装置
全体が重量化して搬送を容易に行うことができず携帯に
不向きであった。同時に集光レンズ52が大型であるた
め、光軸ズレ等を防ぎ保持する筐体51にも剛性強度が
必要となり、筐体51自体の重量も重くなった。また、
光軸の中央に所定大きさ(直径4cm)の光源部53が
設けられるため、集光レンズ52の有効面積が小さくな
り、集光効率が低下した。この光源部53の配置の為に
集光レンズ52がより大型となる。
ガス検出装置50は、集光レンズ52が大型であるため
(直径12cm、厚さ3cm、重量1kg以上)、装置
全体が重量化して搬送を容易に行うことができず携帯に
不向きであった。同時に集光レンズ52が大型であるた
め、光軸ズレ等を防ぎ保持する筐体51にも剛性強度が
必要となり、筐体51自体の重量も重くなった。また、
光軸の中央に所定大きさ(直径4cm)の光源部53が
設けられるため、集光レンズ52の有効面積が小さくな
り、集光効率が低下した。この光源部53の配置の為に
集光レンズ52がより大型となる。
【0006】また、ガス検出装置50は直近から50m
程度離れた箇所までの距離(測定距離)の範囲にて被測
定ガスを検出する構成であるが、集光レンズ52は焦点
距離が所定長さ必要であり集光レンズ52〜受光器54
までの間の長さが長くなって、筐体51が大型化し重量
化した。筐体50の小型化の為に集光レンズ52を短焦
点のものにすると集光レンズ52は厚くなり重量化す
る。一方、長焦点のものにすると筐体51の長さが大き
くなり重量化する。
程度離れた箇所までの距離(測定距離)の範囲にて被測
定ガスを検出する構成であるが、集光レンズ52は焦点
距離が所定長さ必要であり集光レンズ52〜受光器54
までの間の長さが長くなって、筐体51が大型化し重量
化した。筐体50の小型化の為に集光レンズ52を短焦
点のものにすると集光レンズ52は厚くなり重量化す
る。一方、長焦点のものにすると筐体51の長さが大き
くなり重量化する。
【0007】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、小型軽量化が図れ、容易に携帯できるガス検
出装置を提供することを目的としている。
のであり、小型軽量化が図れ、容易に携帯できるガス検
出装置を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のガス検出装置は、被測定ガスに向けてレー
ザ光を出射する光源部(5)と、前記光源部から出射さ
れ前記被測定ガス通過後の反射体(9)による反射光を
集光する凹面鏡(6,16)と、前記凹面鏡による反射
光の集光位置に配置され該反射光を検出する受光器
(7)と、を備えたことを特徴とする。
め、本発明のガス検出装置は、被測定ガスに向けてレー
ザ光を出射する光源部(5)と、前記光源部から出射さ
れ前記被測定ガス通過後の反射体(9)による反射光を
集光する凹面鏡(6,16)と、前記凹面鏡による反射
光の集光位置に配置され該反射光を検出する受光器
(7)と、を備えたことを特徴とする。
【0009】また、前記光源部(5)は、前記凹面鏡
(6)に入射される反射光の通過位置の範囲外に設けら
れ、レーザ光を出射する半導体光モジュール(5a)
と、前記凹面鏡の前方位置に設けられ、前記半導体レー
ザモジュールから出射された光を該凹面鏡の中心に位置
する光軸(A)に沿って前記被測定ガスに向け出射する
ファイバコリメータ(5c)と、前記半導体レーザモジ
ュールから出射された光を前記ファイバコリメータに導
出する光ファイバ(5b)とを備えてなる。
(6)に入射される反射光の通過位置の範囲外に設けら
れ、レーザ光を出射する半導体光モジュール(5a)
と、前記凹面鏡の前方位置に設けられ、前記半導体レー
ザモジュールから出射された光を該凹面鏡の中心に位置
する光軸(A)に沿って前記被測定ガスに向け出射する
ファイバコリメータ(5c)と、前記半導体レーザモジ
ュールから出射された光を前記ファイバコリメータに導
出する光ファイバ(5b)とを備えてなる。
【0010】また、前記光源部(5)は、前記凹面鏡
(16)の中央位置の背部に設けられ、レーザ光を出射
する半導体レーザモジュール(5a)で構成され、前記
凹面鏡の中心位置には、前記レーザ光を通過させる開口
部(16b)を開口形成してもよい。
(16)の中央位置の背部に設けられ、レーザ光を出射
する半導体レーザモジュール(5a)で構成され、前記
凹面鏡の中心位置には、前記レーザ光を通過させる開口
部(16b)を開口形成してもよい。
【0011】また、前記凹面鏡(6,16)と前記受光
器(7)の相対位置を移動調整自在な移動手段(11,
21)を備え、前記凹面鏡で集光された前記反射光の集
光位置(P)に前記受光器が位置するように、前記移動
手段により前記反射体(9)までの測定距離に応じて前
記相対位置を移動調整可能に構成してもよい。
器(7)の相対位置を移動調整自在な移動手段(11,
21)を備え、前記凹面鏡で集光された前記反射光の集
光位置(P)に前記受光器が位置するように、前記移動
手段により前記反射体(9)までの測定距離に応じて前
記相対位置を移動調整可能に構成してもよい。
【0012】上記構成によれば、光源部5から出射され
たレーザ光は被測定ガスを介し反射体9で散乱され、反
射光として凹面鏡6に入射される。凹面鏡6は反射光を
受光器7の受光面に集光する。受光器7が受光する光量
の違いにより被測定ガスの有無を検出することができ
る。レーザ光を出射する光源部5は、ファイバコリメー
タ5cのみを凹面鏡6の前方に配置する構成として反射
光の低減を最小にできる。また、凹面鏡16の背部に光
源部5の半導体レーザモジュール5aを配置し出射光を
凹面鏡16の中央の開口部16cから直接出射させるこ
ともできる。装置の測定範囲の変化に応じて凹面鏡6が
集光する反射光の集光位置が変化するが、移動手段11
は凹面鏡6と受光器7を相対的に移動させ測定距離に対
応した集光位置に受光器7の受光面を位置させる。
たレーザ光は被測定ガスを介し反射体9で散乱され、反
射光として凹面鏡6に入射される。凹面鏡6は反射光を
受光器7の受光面に集光する。受光器7が受光する光量
の違いにより被測定ガスの有無を検出することができ
る。レーザ光を出射する光源部5は、ファイバコリメー
タ5cのみを凹面鏡6の前方に配置する構成として反射
光の低減を最小にできる。また、凹面鏡16の背部に光
源部5の半導体レーザモジュール5aを配置し出射光を
凹面鏡16の中央の開口部16cから直接出射させるこ
ともできる。装置の測定範囲の変化に応じて凹面鏡6が
集光する反射光の集光位置が変化するが、移動手段11
は凹面鏡6と受光器7を相対的に移動させ測定距離に対
応した集光位置に受光器7の受光面を位置させる。
【0013】
【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1は本発明に
よるガス検出装置の第1実施の形態を示す側断面図であ
る。図1に示すガス検出装置1は、筐体2内部に光源部
5、凹面鏡6、受光器7を備えて概略構成されている。
筐体2は、上部に携帯用としての把手2aが設けられ、
持ち運び自在である。
よるガス検出装置の第1実施の形態を示す側断面図であ
る。図1に示すガス検出装置1は、筐体2内部に光源部
5、凹面鏡6、受光器7を備えて概略構成されている。
筐体2は、上部に携帯用としての把手2aが設けられ、
持ち運び自在である。
【0014】光源部5は、被測定ガス特有の吸収スペク
トルに合致した波長のレーザ光を発生する。光源部5を
構成する半導体レーザモジュール5aには、被測定ガス
がメタンの場合、吸収波長1.65μmをカバーする波
長のレーザ光を出射する半導体レーザ(LD)及びその
発光駆動手段、温度制御手段等を備えてなる。
トルに合致した波長のレーザ光を発生する。光源部5を
構成する半導体レーザモジュール5aには、被測定ガス
がメタンの場合、吸収波長1.65μmをカバーする波
長のレーザ光を出射する半導体レーザ(LD)及びその
発光駆動手段、温度制御手段等を備えてなる。
【0015】この半導体レーザモジュール5aには、L
Dから出射された光を導出する光ファイバ5bが接続さ
れている。光ファイバ5bは、レーザ光をファイバコリ
メータ5cまで導出させ、ファイバコリメータ5cから
装置外部に向けて出射させる。このファイバコリメータ
5cは、筐体2の前面において複数角度方向、例えば1
20度毎に等間隔に張られた3本の各線状の支持棒(不
図示)によって支持されている。なお、半導体レーザモ
ジュール5aの出射側には半導体レーザ側への反射光の
戻りを防止する光アイソレータ等が設けられる。
Dから出射された光を導出する光ファイバ5bが接続さ
れている。光ファイバ5bは、レーザ光をファイバコリ
メータ5cまで導出させ、ファイバコリメータ5cから
装置外部に向けて出射させる。このファイバコリメータ
5cは、筐体2の前面において複数角度方向、例えば1
20度毎に等間隔に張られた3本の各線状の支持棒(不
図示)によって支持されている。なお、半導体レーザモ
ジュール5aの出射側には半導体レーザ側への反射光の
戻りを防止する光アイソレータ等が設けられる。
【0016】凹面鏡6は、筐体2内部に光源部5(ファ
イバコリメータ5c)が出射するレーザ光の光軸Aに中
心を一致して設けられる。図示の凹面鏡6は、断面が放
物面状に形成されたものである。凹面鏡6は、プラスチ
ック、アルミ、ガラス等からなり、反射面6aにアルミ
や金を蒸着させ、あるいはメッキ処理したものが用いら
れる。この反射面6aは、直径D、焦点距離Fの設定に
対応した特定の放物面形状を有し、入射される反射光を
集光する。
イバコリメータ5c)が出射するレーザ光の光軸Aに中
心を一致して設けられる。図示の凹面鏡6は、断面が放
物面状に形成されたものである。凹面鏡6は、プラスチ
ック、アルミ、ガラス等からなり、反射面6aにアルミ
や金を蒸着させ、あるいはメッキ処理したものが用いら
れる。この反射面6aは、直径D、焦点距離Fの設定に
対応した特定の放物面形状を有し、入射される反射光を
集光する。
【0017】即ち、ファイバコリメータ5cの出射光
は、被測定ガスが存在する空間近傍の壁や天井、地面、
草、雪等の反射体9により散乱され、凹面鏡6への反射
光は集光位置Pに集光される。なお、一般にレーザ光
は、反射体9で散乱しても反射光にある程度の指向性を
有している。このため、凹面鏡6で反射光をできるだけ
集光させるには、この凹面鏡6の中心位置をファイバコ
リメータ5cが出射するレーザ光の光軸Aに一致して設
けることが望ましい。
は、被測定ガスが存在する空間近傍の壁や天井、地面、
草、雪等の反射体9により散乱され、凹面鏡6への反射
光は集光位置Pに集光される。なお、一般にレーザ光
は、反射体9で散乱しても反射光にある程度の指向性を
有している。このため、凹面鏡6で反射光をできるだけ
集光させるには、この凹面鏡6の中心位置をファイバコ
リメータ5cが出射するレーザ光の光軸Aに一致して設
けることが望ましい。
【0018】この反射光の集光位置Pには受光器7が設
けられる。受光器7は受光面が凹面鏡6の中心方向に向
き配置され、凹面鏡6が集光した反射光を受光する。こ
の受光器7は、支持部材8によって筐体2内部に支持さ
れている。また受光器7の検出信号は、この支持部材8
内部を通って筐体2外部に導出される。上記の光源部
5、受光器7は、筐体2に設けられた図示しないコネク
タを介して外部の処理装置に導出される。この処理装置
は、光源部5を駆動制御し、受光器7の検出信号に基づ
き、測定対象の空間(場所)における被測定ガスの有無
を判断処理する。
けられる。受光器7は受光面が凹面鏡6の中心方向に向
き配置され、凹面鏡6が集光した反射光を受光する。こ
の受光器7は、支持部材8によって筐体2内部に支持さ
れている。また受光器7の検出信号は、この支持部材8
内部を通って筐体2外部に導出される。上記の光源部
5、受光器7は、筐体2に設けられた図示しないコネク
タを介して外部の処理装置に導出される。この処理装置
は、光源部5を駆動制御し、受光器7の検出信号に基づ
き、測定対象の空間(場所)における被測定ガスの有無
を判断処理する。
【0019】上記構成によるガス検出を説明する。ガス
漏れ点検時や漏洩報告時には、このガス検出装置1をガ
スが漏洩している現場近くで所定距離離れた箇所まで携
帯する。この後、装置を動作させて光源部5のファイバ
コリメータ5cから測定用のレーザ光を漏洩箇所に向け
て出射させる。レーザ光は光軸Aでビーム状に出射さ
れ、被測定ガスの有る空間を通過して近傍の壁等反射体
9で反射される。この際、ガス検出装置1は、ガスの漏
洩箇所から所定距離(2〜50m程度)離れた遠隔箇所
に設置して測定作業が行えるようになっている。
漏れ点検時や漏洩報告時には、このガス検出装置1をガ
スが漏洩している現場近くで所定距離離れた箇所まで携
帯する。この後、装置を動作させて光源部5のファイバ
コリメータ5cから測定用のレーザ光を漏洩箇所に向け
て出射させる。レーザ光は光軸Aでビーム状に出射さ
れ、被測定ガスの有る空間を通過して近傍の壁等反射体
9で反射される。この際、ガス検出装置1は、ガスの漏
洩箇所から所定距離(2〜50m程度)離れた遠隔箇所
に設置して測定作業が行えるようになっている。
【0020】反射光は、凹面鏡6に入射され、凹面鏡6
はこの反射光を集光位置Pに配置した受光器7に集光さ
せる。被測定ガスの雰囲気が存在していると、このガス
は所定波長のレーザ光を吸収するため、受光器7で検出
される受光レベルは、この所定波長部分が減衰する。外
部の処理装置は、受光器7で検出された受光レベルのう
ち、上記吸収される波長での受光レベルが相対的に減衰
していればガスが存在していると判断し、ガスが検出さ
れたことをメータ表示や警報音等で報知出力する。
はこの反射光を集光位置Pに配置した受光器7に集光さ
せる。被測定ガスの雰囲気が存在していると、このガス
は所定波長のレーザ光を吸収するため、受光器7で検出
される受光レベルは、この所定波長部分が減衰する。外
部の処理装置は、受光器7で検出された受光レベルのう
ち、上記吸収される波長での受光レベルが相対的に減衰
していればガスが存在していると判断し、ガスが検出さ
れたことをメータ表示や警報音等で報知出力する。
【0021】上記構成のガス検出装置は、凹面鏡6を用
いて反射光を集光させる構成であるため、小型軽量化を
図ることができる。例えば、従来技術で説明した集光レ
ンズ52と同様の有効面積とするには、凹面鏡6は直径
Dが従来比半分の6cmで良く小型化できる。また、凹
面鏡6は薄厚に形成できるため、例えばプラスチック製
とした場合、重量が50gと軽量化できる。これにより
筐体2の小型軽量化が図れるようになる。
いて反射光を集光させる構成であるため、小型軽量化を
図ることができる。例えば、従来技術で説明した集光レ
ンズ52と同様の有効面積とするには、凹面鏡6は直径
Dが従来比半分の6cmで良く小型化できる。また、凹
面鏡6は薄厚に形成できるため、例えばプラスチック製
とした場合、重量が50gと軽量化できる。これにより
筐体2の小型軽量化が図れるようになる。
【0022】凹面鏡6は、集光レンズ52に比して焦点
距離Fを短くすることができ、例えば、放物面ミラーで
構成した場合には、直径D=10cm、測定距離範囲2
〜50mとした場合、焦点距離F=50mmとすること
ができる。これにより、筐体2を小型化でき、特に、光
軸A方向の長さを短くすることができるようになる。こ
の際、凹面鏡6自体が軽量であり、且つ、焦点距離が短
くできるため、筐体2自体も凹面鏡6の位置を固定保持
できる程度の剛性で形成できるようになり、例えば筐体
2をプラスチックで製造することも可能となり、装置全
体の軽量化が図れるようになる。
距離Fを短くすることができ、例えば、放物面ミラーで
構成した場合には、直径D=10cm、測定距離範囲2
〜50mとした場合、焦点距離F=50mmとすること
ができる。これにより、筐体2を小型化でき、特に、光
軸A方向の長さを短くすることができるようになる。こ
の際、凹面鏡6自体が軽量であり、且つ、焦点距離が短
くできるため、筐体2自体も凹面鏡6の位置を固定保持
できる程度の剛性で形成できるようになり、例えば筐体
2をプラスチックで製造することも可能となり、装置全
体の軽量化が図れるようになる。
【0023】ガス検出装置1を小型軽量化できることに
より、装置の搬送を容易に行え、また、ガスの雰囲気に
向けてレーザ光を照射させるための操作を簡単に行える
ようになる。特に、都市ガスに用いられているメタンガ
スは、空気より軽いためガス漏れがあると天井に溜まり
やすい。ガス検出装置1が小型軽量化できることによ
り、この天井に向ける操作を簡単に行えるようになる。
より、装置の搬送を容易に行え、また、ガスの雰囲気に
向けてレーザ光を照射させるための操作を簡単に行える
ようになる。特に、都市ガスに用いられているメタンガ
スは、空気より軽いためガス漏れがあると天井に溜まり
やすい。ガス検出装置1が小型軽量化できることによ
り、この天井に向ける操作を簡単に行えるようになる。
【0024】ところで、上記のファイバコリメータ5
c、受光器7は、それぞれ凹面鏡6の前方に位置するた
め、凹面鏡6に入射する反射光を所定量減衰させること
になる。本発明では、各種部品を内蔵して所定の大きさ
が必要な半導体レーザモジュール5aを反射光の通過す
る領域から外れた位置に配置し、反射光の通過する領域
には光を出射する小型なファイバコリメータ5cだけを
設けた構成であるため、反射光の減衰を極力抑えること
ができる。現在、ファイバコリメータ5cは直径5mm
以下、受光器7も直径10mm以下の大きさで形成でき
る。
c、受光器7は、それぞれ凹面鏡6の前方に位置するた
め、凹面鏡6に入射する反射光を所定量減衰させること
になる。本発明では、各種部品を内蔵して所定の大きさ
が必要な半導体レーザモジュール5aを反射光の通過す
る領域から外れた位置に配置し、反射光の通過する領域
には光を出射する小型なファイバコリメータ5cだけを
設けた構成であるため、反射光の減衰を極力抑えること
ができる。現在、ファイバコリメータ5cは直径5mm
以下、受光器7も直径10mm以下の大きさで形成でき
る。
【0025】(第2実施形態)次に、図2は、上記凹面
鏡6の集光特性を示す図である。図示の例の凹面鏡6
は、上記同様に反射面6aが直径D、焦点距離Fの設定
に対応した特定の放物面形状を有する。このような凹面
鏡6は、図示のように測定距離別に集光位置Pが異な
る。図3は上記凹面鏡6の測定距離−集光位置の関係を
示す図である。図示のように、集光位置Pは、測定距
離、即ちガス検出装置1に対する反射体9の位置が遠い
ほど焦点距離Fの位置に近づく。逆に、測定距離が近い
ほど、光軸Aに沿って焦点距離Fの位置から遠ざかる特
性を有する。上記ガス検出装置1における測定距離範囲
2m〜50mにおいて、2mでは焦点距離Fに対する集
光位置Pのズレ量Δは11.3mm、50mではズレ量
Δが0.7mmとなる。
鏡6の集光特性を示す図である。図示の例の凹面鏡6
は、上記同様に反射面6aが直径D、焦点距離Fの設定
に対応した特定の放物面形状を有する。このような凹面
鏡6は、図示のように測定距離別に集光位置Pが異な
る。図3は上記凹面鏡6の測定距離−集光位置の関係を
示す図である。図示のように、集光位置Pは、測定距
離、即ちガス検出装置1に対する反射体9の位置が遠い
ほど焦点距離Fの位置に近づく。逆に、測定距離が近い
ほど、光軸Aに沿って焦点距離Fの位置から遠ざかる特
性を有する。上記ガス検出装置1における測定距離範囲
2m〜50mにおいて、2mでは焦点距離Fに対する集
光位置Pのズレ量Δは11.3mm、50mではズレ量
Δが0.7mmとなる。
【0026】第2実施形態では、この集光位置Pのずれ
量を補正して、受光器7での受光量を増大させる構成と
したものである。図4は、第2実施形態のガス検出装置
10を示す側断面図である。図示のように、受光器7を
光軸A方向に移動させる移動手段11を設ける。移動手
段11は、受光器7が取り付けられた支持部材8を光軸
Aに沿って移動させる操作レバー12で構成される。支
持部材8は、把手2a部分まで延出される。把手2aは
光軸A方向に沿って形成されており、把手2a内部に案
内溝2bを設け操作レバー12を光軸A方向に沿って移
動自在に設ける。把手2a内部に操作レバー12を設け
ることにより、ガス検知装置1を持ちながら操作レバー
12を操作することができる。
量を補正して、受光器7での受光量を増大させる構成と
したものである。図4は、第2実施形態のガス検出装置
10を示す側断面図である。図示のように、受光器7を
光軸A方向に移動させる移動手段11を設ける。移動手
段11は、受光器7が取り付けられた支持部材8を光軸
Aに沿って移動させる操作レバー12で構成される。支
持部材8は、把手2a部分まで延出される。把手2aは
光軸A方向に沿って形成されており、把手2a内部に案
内溝2bを設け操作レバー12を光軸A方向に沿って移
動自在に設ける。把手2a内部に操作レバー12を設け
ることにより、ガス検知装置1を持ちながら操作レバー
12を操作することができる。
【0027】操作レバー12を操作することにより、受
光器7の受光面を測定距離に対応した集光位置に移動さ
せることができるようになる。具体的には、ガス検出操
作時に、受光レベルが最も高くなるよう操作レバー12
を操作する。この際、ガスの吸収特性によって所定波長
の受光レベルは減衰するが、該吸収波長の両側部の波長
の受光レベルは変化しないから、半導体レーザモジュー
ル5aが出射するレーザ光の波長を可変させ、この両側
部の受光レベルが最も高くなる位置で操作レバー12を
停止させれば、受光器7をこのときの測定距離に対応し
た集光位置に位置させたこととなる。また、被測定ガス
の濃度に変動がなく、受光レベルが安定していれば、こ
れに限らず、前記所定波長で最大の受光レベルが得られ
るよう操作レバー12を移動操作させても良い。レーザ
光の波長の変更は、半導体レーザモジュール5aに設け
られたペルチェ素子等の温度制御手段を制御して半導体
レーザの温度を変化させることにより行える。
光器7の受光面を測定距離に対応した集光位置に移動さ
せることができるようになる。具体的には、ガス検出操
作時に、受光レベルが最も高くなるよう操作レバー12
を操作する。この際、ガスの吸収特性によって所定波長
の受光レベルは減衰するが、該吸収波長の両側部の波長
の受光レベルは変化しないから、半導体レーザモジュー
ル5aが出射するレーザ光の波長を可変させ、この両側
部の受光レベルが最も高くなる位置で操作レバー12を
停止させれば、受光器7をこのときの測定距離に対応し
た集光位置に位置させたこととなる。また、被測定ガス
の濃度に変動がなく、受光レベルが安定していれば、こ
れに限らず、前記所定波長で最大の受光レベルが得られ
るよう操作レバー12を移動操作させても良い。レーザ
光の波長の変更は、半導体レーザモジュール5aに設け
られたペルチェ素子等の温度制御手段を制御して半導体
レーザの温度を変化させることにより行える。
【0028】上記構成の移動手段11は、受光器7を光
軸A方向に移動させる構成としたが、逆に受光器7を筐
体2に固定し、移動手段11により凹面鏡6を光軸Aに
沿って移動させる構成としても良く、凹面鏡6と受光器
7を相対的に光軸A方向に沿って移動させれば同様の作
用効果を得ることができる。また、上記構成の如く手動
操作するに限らず、移動手段11をアクチエータで構成
し、処理装置により移動手段11を電気的に移動制御さ
せる構成にもできる。この場合においても、処理装置
は、移動手段11を移動させながら受光器7から出力さ
れる受光レベルの最大値を検出した位置で停止させる構
成とすればよい。
軸A方向に移動させる構成としたが、逆に受光器7を筐
体2に固定し、移動手段11により凹面鏡6を光軸Aに
沿って移動させる構成としても良く、凹面鏡6と受光器
7を相対的に光軸A方向に沿って移動させれば同様の作
用効果を得ることができる。また、上記構成の如く手動
操作するに限らず、移動手段11をアクチエータで構成
し、処理装置により移動手段11を電気的に移動制御さ
せる構成にもできる。この場合においても、処理装置
は、移動手段11を移動させながら受光器7から出力さ
れる受光レベルの最大値を検出した位置で停止させる構
成とすればよい。
【0029】(第3実施形態)次に、図5は、他の形状
の凹面鏡の集光特性を示す図である。図5(a)記載の
凹面鏡16は、反射面16aが直径D、焦点距離Fの設
定に対応した特定の放物面の上半分形状を有する。簡単
には第1、第2実施形態で説明した凹面鏡6を2分割し
た形状である。
の凹面鏡の集光特性を示す図である。図5(a)記載の
凹面鏡16は、反射面16aが直径D、焦点距離Fの設
定に対応した特定の放物面の上半分形状を有する。簡単
には第1、第2実施形態で説明した凹面鏡6を2分割し
た形状である。
【0030】上記凹面鏡16を用いた場合においても、
光源部5は上記同様に半導体レーザモジュール5、光フ
ァイバ5b、ファイバコリメータ5cを備えて構成でき
る。ファイバコリメータ5cは凹面鏡6を2分割した中
央位置(図5に記載の凹面鏡16においては下端位置)
に配置し、同様に光軸Aでレーザ光を出射させて、集光
位置Pに配置された受光器7で反射光を受光しガス検出
を行うことができる。この実施形態においても、移動手
段11を設け凹面鏡16あるいは受光器7を相対的に光
軸A方向に移動させる構成とすれば、集光位置Pをズレ
量Δの範囲で移動させることができ、測定距離に対応し
た集光位置に受光器7を位置させることができる。
光源部5は上記同様に半導体レーザモジュール5、光フ
ァイバ5b、ファイバコリメータ5cを備えて構成でき
る。ファイバコリメータ5cは凹面鏡6を2分割した中
央位置(図5に記載の凹面鏡16においては下端位置)
に配置し、同様に光軸Aでレーザ光を出射させて、集光
位置Pに配置された受光器7で反射光を受光しガス検出
を行うことができる。この実施形態においても、移動手
段11を設け凹面鏡16あるいは受光器7を相対的に光
軸A方向に移動させる構成とすれば、集光位置Pをズレ
量Δの範囲で移動させることができ、測定距離に対応し
た集光位置に受光器7を位置させることができる。
【0031】(第4実施形態)図5(b)は、図5
(a)同様の凹面鏡16を用い、レーザ光の出射位置を
変更した場合の集光特性を示す図である。図示しない光
源部5から出射されるレーザ光は、凹面鏡16の中央位
置から出射させることが望ましい。上述したように、レ
ーザ光は、反射体9で散乱しても反射光にある程度の指
向性を有している。このため、図示の光軸A1は、凹面
鏡16の中央位置から出射させるよう構成したものであ
る。このように放物面の片側で構成された凹面鏡16に
対し出射するレーザ光の光軸A1を光軸Aに対し所定距
離離れた位置とした場合、反射光の集光位置Pは図示の
ように、焦点位置Fから斜め方向に変位した位置とな
る。
(a)同様の凹面鏡16を用い、レーザ光の出射位置を
変更した場合の集光特性を示す図である。図示しない光
源部5から出射されるレーザ光は、凹面鏡16の中央位
置から出射させることが望ましい。上述したように、レ
ーザ光は、反射体9で散乱しても反射光にある程度の指
向性を有している。このため、図示の光軸A1は、凹面
鏡16の中央位置から出射させるよう構成したものであ
る。このように放物面の片側で構成された凹面鏡16に
対し出射するレーザ光の光軸A1を光軸Aに対し所定距
離離れた位置とした場合、反射光の集光位置Pは図示の
ように、焦点位置Fから斜め方向に変位した位置とな
る。
【0032】図6は、図5(b)記載のように光軸A1
とした場合の凹面鏡16の測定距離−集光位置の関係を
示す図である。図示のように、集光位置Pは、測定距
離、即ちガス検出装置に対する反射体の位置が遠いほど
焦点距離Fの位置に近づく。逆に、測定距離が近いほ
ど、光軸A1に対しY軸上で−Y方向、Z軸(光軸A方
向)に+Z方向で斜めに焦点距離Fの位置から遠ざかる
特性を有する。上記ガス検出装置における測定距離範囲
2m〜50mにおいて、2mでは焦点距離Fに対する集
光位置Pのズレ量Δは、ΔYが−0.69mm、ΔZが
1.36mmであり、50mでのズレ量ΔはΔYが−
0.02mm、ΔZが0.04mmとなる。
とした場合の凹面鏡16の測定距離−集光位置の関係を
示す図である。図示のように、集光位置Pは、測定距
離、即ちガス検出装置に対する反射体の位置が遠いほど
焦点距離Fの位置に近づく。逆に、測定距離が近いほ
ど、光軸A1に対しY軸上で−Y方向、Z軸(光軸A方
向)に+Z方向で斜めに焦点距離Fの位置から遠ざかる
特性を有する。上記ガス検出装置における測定距離範囲
2m〜50mにおいて、2mでは焦点距離Fに対する集
光位置Pのズレ量Δは、ΔYが−0.69mm、ΔZが
1.36mmであり、50mでのズレ量ΔはΔYが−
0.02mm、ΔZが0.04mmとなる。
【0033】図5(b)記載のように光軸A1を凹面鏡
16の中心位置に配置した場合におけるズレ量Δは最大
でもΔZが1.36mmとなり、第1実施形態のものに
比してズレ量Δが小さくなる。このため、受光器7は焦
点位置F部分に固定配置させて使用することもできるよ
うになる。
16の中心位置に配置した場合におけるズレ量Δは最大
でもΔZが1.36mmとなり、第1実施形態のものに
比してズレ量Δが小さくなる。このため、受光器7は焦
点位置F部分に固定配置させて使用することもできるよ
うになる。
【0034】図7は、ズレ量ΔY、ΔZの関係を示す図
である。ΔY、ΔZのズレ量は、各測定距離に対して比
例関係となり、図示のようにズレ量はほぼ一直線上に位
置する。したがって、集光位置Pは焦点位置Fの方向に
対し斜めの方向に移動するため、凹面鏡16と受光器7
を相対的にこの斜め方向に移動させることにより、集光
位置Pを受光器7の受光面上に位置できるようになる。
である。ΔY、ΔZのズレ量は、各測定距離に対して比
例関係となり、図示のようにズレ量はほぼ一直線上に位
置する。したがって、集光位置Pは焦点位置Fの方向に
対し斜めの方向に移動するため、凹面鏡16と受光器7
を相対的にこの斜め方向に移動させることにより、集光
位置Pを受光器7の受光面上に位置できるようになる。
【0035】図8は、第4実施形態におけるガス検出装
置20を示す側断面図である。図示のように、光源部5
は、半導体レーザモジュール5aのみで構成され、この
半導体レーザモジュール5aから直接、レーザ光を出射
させる。この半導体レーザモジュール5aは、凹面鏡1
6の中央位置背部に設け、凹面鏡16の中央位置に開口
された開口部16bを介してレーザ光を光軸A1で出射
させる。半導体レーザモジュール5aには、ビーム状に
絞る集光レンズが設けられる。
置20を示す側断面図である。図示のように、光源部5
は、半導体レーザモジュール5aのみで構成され、この
半導体レーザモジュール5aから直接、レーザ光を出射
させる。この半導体レーザモジュール5aは、凹面鏡1
6の中央位置背部に設け、凹面鏡16の中央位置に開口
された開口部16bを介してレーザ光を光軸A1で出射
させる。半導体レーザモジュール5aには、ビーム状に
絞る集光レンズが設けられる。
【0036】また、移動手段21は、受光器7をズレ量
Δ(ΔY,ΔZ)に対応した方向に移動させる。同図に
示す凹面鏡16は、図5(b)の構成のものを上下逆に
配置させてある。移動手段21は、受光器7を上記ズレ
量(ΔY、ΔZ)が組み合わせられた斜め方向Xに沿っ
て移動させる。この移動手段21は、受光器7を保持し
この斜め方向Xに移動させる固定及び可動のレール部材
22と、スライド側のレール22aに連結され筐体2の
把手2a部分まで延出された支持部材8と、把手2a内
の案内溝2bを移動自在な操作レバー12によって構成
される。レール22aには支持部材8が挿通される溝2
3が鉛直形成されている。図示のように、この実施形態
の構成によれば、受光器7を反射光の通過領域から外し
た位置に配置することができ、反射光の受光レベルの低
減を防止できる。
Δ(ΔY,ΔZ)に対応した方向に移動させる。同図に
示す凹面鏡16は、図5(b)の構成のものを上下逆に
配置させてある。移動手段21は、受光器7を上記ズレ
量(ΔY、ΔZ)が組み合わせられた斜め方向Xに沿っ
て移動させる。この移動手段21は、受光器7を保持し
この斜め方向Xに移動させる固定及び可動のレール部材
22と、スライド側のレール22aに連結され筐体2の
把手2a部分まで延出された支持部材8と、把手2a内
の案内溝2bを移動自在な操作レバー12によって構成
される。レール22aには支持部材8が挿通される溝2
3が鉛直形成されている。図示のように、この実施形態
の構成によれば、受光器7を反射光の通過領域から外し
た位置に配置することができ、反射光の受光レベルの低
減を防止できる。
【0037】これにより、把手2a内部の操作レバー1
2を光軸A1方向に沿って移動操作することにより、受
光器7をズレ量(ΔY、ΔZ)が組み合わせられた斜め
方向Xに沿って移動でき、各測定距離の集光位置Pに受
光器7を位置させることができる。この際、ガス検知装
置1を持ちながら操作レバー12を操作できる。
2を光軸A1方向に沿って移動操作することにより、受
光器7をズレ量(ΔY、ΔZ)が組み合わせられた斜め
方向Xに沿って移動でき、各測定距離の集光位置Pに受
光器7を位置させることができる。この際、ガス検知装
置1を持ちながら操作レバー12を操作できる。
【0038】操作レバー12を操作することにより、受
光器7の受光面を測定距離に対応した集光位置Pに移動
させることができるようになる。具体的には、前記実施
形態同様にガス検出操作時に、受光レベルが最も高くな
るよう操作レバー12を操作すればよい。
光器7の受光面を測定距離に対応した集光位置Pに移動
させることができるようになる。具体的には、前記実施
形態同様にガス検出操作時に、受光レベルが最も高くな
るよう操作レバー12を操作すればよい。
【0039】上記構成の移動手段21は、受光器7を斜
め方向Xに移動させる構成としたが、逆に受光器7を筐
体2に固定し、移動手段11により凹面鏡16を斜め方
向Xに沿って移動させる構成としても良く、この場合で
も同様の作用効果を得ることができる。凹面鏡16を移
動させる構成の場合、厳密には光軸の関係上、凹面鏡1
6と光源部5を一体化し、これらを一体的に移動させる
ことが望ましい。また、上記構成の如く手動操作するに
限らず、移動手段21をアクチエータで構成し、処理装
置により移動手段21を電気的に移動制御させる構成に
もできる。この場合においても、処理装置は、移動手段
21を移動させながら受光器7から出力される受光レベ
ルの最大値を検出した位置で停止させる構成とすればよ
い。
め方向Xに移動させる構成としたが、逆に受光器7を筐
体2に固定し、移動手段11により凹面鏡16を斜め方
向Xに沿って移動させる構成としても良く、この場合で
も同様の作用効果を得ることができる。凹面鏡16を移
動させる構成の場合、厳密には光軸の関係上、凹面鏡1
6と光源部5を一体化し、これらを一体的に移動させる
ことが望ましい。また、上記構成の如く手動操作するに
限らず、移動手段21をアクチエータで構成し、処理装
置により移動手段21を電気的に移動制御させる構成に
もできる。この場合においても、処理装置は、移動手段
21を移動させながら受光器7から出力される受光レベ
ルの最大値を検出した位置で停止させる構成とすればよ
い。
【0040】また、上記の各実施形態で説明した凹面鏡
は、反射面が放物面を有するものを例に説明したが、反
射面の形状はこれに限らない。凹面鏡の反射面としては
他に、楕円面、軸外楕円面、球面、軸外放物面の各種形
状がある。これらいずれの凹面鏡に対しても理論上の焦
点位置に受光器7を配置して反射光を集光してガス検出
する構成にできる。また、本発明のガス検出装置は、測
定距離が所定範囲を有し、理論上の焦点距離Fに対して
測定距離別に異なる集光位置Pを有するため、受光器あ
るいは凹面鏡を相対的に移動させる構成とすれば、測定
距離が異なっても反射光の集光位置を受光器の受光面に
位置させることができるようになる。この移動方向は、
上記各種凹面鏡別に必要な設定項目に基づき得ることが
できる。
は、反射面が放物面を有するものを例に説明したが、反
射面の形状はこれに限らない。凹面鏡の反射面としては
他に、楕円面、軸外楕円面、球面、軸外放物面の各種形
状がある。これらいずれの凹面鏡に対しても理論上の焦
点位置に受光器7を配置して反射光を集光してガス検出
する構成にできる。また、本発明のガス検出装置は、測
定距離が所定範囲を有し、理論上の焦点距離Fに対して
測定距離別に異なる集光位置Pを有するため、受光器あ
るいは凹面鏡を相対的に移動させる構成とすれば、測定
距離が異なっても反射光の集光位置を受光器の受光面に
位置させることができるようになる。この移動方向は、
上記各種凹面鏡別に必要な設定項目に基づき得ることが
できる。
【0041】ところで、上述したガス検出装置では、半
導体レーザの発振波長を被測定ガスの吸収スペクトルに
適合させれば、上記メタンの他に二酸化炭素ガス、アセ
チレンガス等の種々のガス検出にも応用できる。
導体レーザの発振波長を被測定ガスの吸収スペクトルに
適合させれば、上記メタンの他に二酸化炭素ガス、アセ
チレンガス等の種々のガス検出にも応用できる。
【0042】
【発明の効果】本発明のガス検出装置によれば、被測定
ガスを通過後の反射光を凹面鏡で集光する構成であるた
め、凹面鏡により焦点距離を短くでき、また製造も容易
で小型軽量化が図れる。これにより装置全体の小型化と
軽量化を図ることができ、低コストで携帯しやすいガス
検出装置を得ることができる。光源部のレーザ光は、凹
面鏡の前方に配置した小型のファイバコリメータを介し
て、あるいは凹面鏡の背部に配置した半導体レーザモジ
ュールから凹面鏡の開口部を介して被測定ガスに出射す
る構成により、凹面鏡で受ける反射光の受光レベルの低
減を防止できる。また、移動手段を用いて測定距離の変
化に合わせて凹面鏡と受光器を相対的に移動可能に構成
することにより、測定距離が異なっても常に凹面鏡の集
光位置上に受光器の受光面を位置でき常に最適な受光レ
ベルを得て安定したガス検出が行えるようになる。
ガスを通過後の反射光を凹面鏡で集光する構成であるた
め、凹面鏡により焦点距離を短くでき、また製造も容易
で小型軽量化が図れる。これにより装置全体の小型化と
軽量化を図ることができ、低コストで携帯しやすいガス
検出装置を得ることができる。光源部のレーザ光は、凹
面鏡の前方に配置した小型のファイバコリメータを介し
て、あるいは凹面鏡の背部に配置した半導体レーザモジ
ュールから凹面鏡の開口部を介して被測定ガスに出射す
る構成により、凹面鏡で受ける反射光の受光レベルの低
減を防止できる。また、移動手段を用いて測定距離の変
化に合わせて凹面鏡と受光器を相対的に移動可能に構成
することにより、測定距離が異なっても常に凹面鏡の集
光位置上に受光器の受光面を位置でき常に最適な受光レ
ベルを得て安定したガス検出が行えるようになる。
【図1】本発明によるガス検出装置の第1実施形態を示
す側断面図。
す側断面図。
【図2】第1実施形態における放物面を有する凹面鏡の
集光特性を示す図。
集光特性を示す図。
【図3】凹面鏡の測定距離−集光位置の関係を示す図。
【図4】第2実施形態のガス検出装置を示す側断面図。
【図5】放物面の半部からなる凹面鏡の集光特性を示す
図。
図。
【図6】図5の凹面鏡の中央に光軸を設けた場合の測定
距離−集光位置の関係を示す図。
距離−集光位置の関係を示す図。
【図7】図5の凹面鏡のズレ量ΔY、ΔZの関係を示す
図。
図。
【図8】図5の凹面鏡を用いた第4実施形態のガス検出
装置を示す側断面図。
装置を示す側断面図。
【図9】ガスの吸収スペクトルを示す図。
【図10】従来のガス検出装置を示す側断面図。
1,10,20…ガス検出装置、2…筐体、2a…把
手、5…光源部、5a…半導体レーザモジュール、5b
…光ファイバ、5c…ファイバコリメータ、6…凹面
鏡、6a…反射面、7…受光器、8…支持部材、9…反
射体、11,21…移動手段、12…操作レバー、22
…レール部材、A,A1…出射光の光軸。
手、5…光源部、5a…半導体レーザモジュール、5b
…光ファイバ、5c…ファイバコリメータ、6…凹面
鏡、6a…反射面、7…受光器、8…支持部材、9…反
射体、11,21…移動手段、12…操作レバー、22
…レール部材、A,A1…出射光の光軸。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚本 威 東京都港区南麻布五丁目10番27号 アンリ ツ株式会社内 Fターム(参考) 2G059 AA05 BB01 CC12 EE01 EE02 GG01 HH01 HH06 JJ13 JJ14 JJ17 KK01 LL01 PP04 5F088 BA01 BA16 BB06 EA09 JA20 5F089 BB02 BC11 BC17 BC25 BC30 CA03 GA10
Claims (4)
- 【請求項1】 被測定ガスに向けてレーザ光を出射する
光源部(5)と、 前記光源部から出射され前記被測定ガス通過後の反射体
(9)による反射光を集光する凹面鏡(6,16)と、 前記凹面鏡による反射光の集光位置に配置され該反射光
を検出する受光器(7)と、を備えたことを特徴とする
ガス検出装置。 - 【請求項2】 前記光源部(5)は、前記凹面鏡(6)
に入射される反射光の通過位置の範囲外に設けられ、レ
ーザ光を出射する半導体レーザモジュール(5a)と、 前記凹面鏡の前方位置に設けられ、前記半導体レーザモ
ジュールから出射された光を該凹面鏡の中心に位置する
光軸(A)に沿って前記被測定ガスに向け出射するファ
イバコリメータ(5c)と、 前記半導体レーザモジュールから出射された光を前記フ
ァイバコリメータに導出する光ファイバ(5b)とを備
えてなる請求項1記載のガス検出装置。 - 【請求項3】 前記光源部(5)は、前記凹面鏡(1
6)の中央位置の背部に設けられ、レーザ光を出射する
半導体レーザモジュール(5a)で構成され、 前記凹面鏡の中心位置には、前記レーザ光を通過させる
開口部(16b)が開口形成された請求項1記載のガス
検出装置。 - 【請求項4】 前記凹面鏡(6,16)と前記受光器
(7)の相対位置を移動調整自在な移動手段(11,2
1)を備え、 前記凹面鏡で集光された前記反射光の集光位置(P)に
前記受光器が位置するように、前記移動手段により前記
反射体(9)までの測定距離に応じて前記相対位置を移
動調整可能に構成した請求項1〜3のいずれかに記載の
ガス検出装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001021941A JP2002228582A (ja) | 2001-01-30 | 2001-01-30 | ガス検出装置 |
PCT/JP2002/000688 WO2002061402A1 (fr) | 2001-01-30 | 2002-01-30 | Detecteur de gaz du type a diffraction spectrale a absorption laser, et procede de detection de gaz par diffraction spectrale a absorption laser |
US10/239,960 US6876450B2 (en) | 2001-01-30 | 2002-01-30 | Laser absorption spectral diffraction type gas detector and method for gas detection using laser absorption spectral diffraction |
EP02710382A EP1286154A4 (en) | 2001-01-30 | 2002-01-30 | GAS DETECTOR OF LASER ABSORPTION SPECTRUM BINDING TYPE AND METHOD FOR GAS DETECTION BY USING LASER ABSORPTION SPECTRUM BENDING |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001021941A JP2002228582A (ja) | 2001-01-30 | 2001-01-30 | ガス検出装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002228582A true JP2002228582A (ja) | 2002-08-14 |
Family
ID=18887419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001021941A Pending JP2002228582A (ja) | 2001-01-30 | 2001-01-30 | ガス検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002228582A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009042965A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Shikoku Electric Power Co Inc | 車載型漏洩ガス検知システムおよび方法 |
CN100590419C (zh) * | 2006-10-17 | 2010-02-17 | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 | 新型结点式瓦斯浓度实时监测方法及传感器 |
CN101980003A (zh) * | 2010-10-14 | 2011-02-23 | 天津市先石光学技术有限公司 | 一种开放式长光程的宽光谱气体测量*** |
JP2013036807A (ja) * | 2011-08-05 | 2013-02-21 | Dkk Toa Corp | 濁度計 |
JP2015216231A (ja) * | 2014-05-09 | 2015-12-03 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 受発光装置 |
KR102235245B1 (ko) * | 2019-10-14 | 2021-04-05 | 한국표준과학연구원 | 오염 입자 측정용 광 조사 장치 및 이를 이용한 오염 입자 측정 장치 |
KR20210066991A (ko) * | 2019-11-28 | 2021-06-08 | 한국전자기술연구원 | 화학 작용제 탐지 장치 |
CN113406035A (zh) * | 2021-05-31 | 2021-09-17 | 浙江焜腾红外科技有限公司 | 一种voc气体排放用的成像传感器结构 |
CN113418887A (zh) * | 2021-05-31 | 2021-09-21 | 浙江焜腾红外科技有限公司 | 一种voc气体排放用的成像光学*** |
-
2001
- 2001-01-30 JP JP2001021941A patent/JP2002228582A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100590419C (zh) * | 2006-10-17 | 2010-02-17 | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 | 新型结点式瓦斯浓度实时监测方法及传感器 |
JP2009042965A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Shikoku Electric Power Co Inc | 車載型漏洩ガス検知システムおよび方法 |
CN101980003A (zh) * | 2010-10-14 | 2011-02-23 | 天津市先石光学技术有限公司 | 一种开放式长光程的宽光谱气体测量*** |
JP2013036807A (ja) * | 2011-08-05 | 2013-02-21 | Dkk Toa Corp | 濁度計 |
JP2015216231A (ja) * | 2014-05-09 | 2015-12-03 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 受発光装置 |
KR102235245B1 (ko) * | 2019-10-14 | 2021-04-05 | 한국표준과학연구원 | 오염 입자 측정용 광 조사 장치 및 이를 이용한 오염 입자 측정 장치 |
KR20210066991A (ko) * | 2019-11-28 | 2021-06-08 | 한국전자기술연구원 | 화학 작용제 탐지 장치 |
KR102270901B1 (ko) * | 2019-11-28 | 2021-07-01 | 한국전자기술연구원 | 화학 작용제 탐지 장치 |
CN113406035A (zh) * | 2021-05-31 | 2021-09-17 | 浙江焜腾红外科技有限公司 | 一种voc气体排放用的成像传感器结构 |
CN113418887A (zh) * | 2021-05-31 | 2021-09-21 | 浙江焜腾红外科技有限公司 | 一种voc气体排放用的成像光学*** |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102532406B1 (ko) | 가스 모니터 | |
US6876450B2 (en) | Laser absorption spectral diffraction type gas detector and method for gas detection using laser absorption spectral diffraction | |
KR101979404B1 (ko) | 거리 측정 센서 조립체 및 그를 갖는 전자기기 | |
US10895499B2 (en) | Spectrometer | |
US7034304B2 (en) | Chamber for gas detector | |
KR102482997B1 (ko) | 가스 모니터 | |
KR101990447B1 (ko) | 근거리 원거리 겸용 라이다 센서 | |
JP4702200B2 (ja) | 受光器及び当該受光器を備えたレーダ装置 | |
KR20100107164A (ko) | 거리 측정 장치 | |
EP3557229B1 (en) | Gas analyzer | |
JP2002228582A (ja) | ガス検出装置 | |
US11060970B2 (en) | Gas concentration measuring device | |
JP5609580B2 (ja) | レーザガス分析計 | |
JP4766697B2 (ja) | 小型ガス検知装置 | |
JP2002228578A (ja) | ガス検出装置及び該装置の焦点合わせ方法 | |
KR100976338B1 (ko) | 광섬유를 이용한 양방향 광모듈 및 이를 이용한 레이저거리 측정장치 | |
KR20180097493A (ko) | 가스 농도 측정 장치 | |
KR102426648B1 (ko) | 집적형 광음향 가스 센서 및 이의 제조방법 | |
CN210604361U (zh) | 气体组分浓度的检测装置及检测设备 | |
CN114486790A (zh) | 气体检测装置 | |
CN109470638B (zh) | ***体检测装置 | |
KR102133917B1 (ko) | 블랙박스 일체형 라이다 | |
CN110361352A (zh) | 具有双通道的气体浓度检测装置、检测方法及报警装置 | |
CN221224570U (zh) | 一种红外平行光束自适应反射的气体传感器 | |
WO2023062987A1 (ja) | 鏡筒付きレンズおよび光源装置 |