JP2002221599A - Electron beam irradiation system, and x-ray irradiation system - Google Patents
Electron beam irradiation system, and x-ray irradiation systemInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線照射システ
ム及びＸ線照射システムに関し、特に、被照射体の密度
分布を測定する手段を備えた電子線照射システム及びＸ
線照射システムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam irradiation system and an X-ray irradiation system, and more particularly, to an electron beam irradiation system provided with a means for measuring a density distribution of an object to be irradiated and an X-ray irradiation system.
The present invention relates to a radiation system.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図５は、山瀬豊により、「電子線照射サ
ービス事業の将来展望」（第２３回日本アイソトープ・
放射線総合会議論文集、Ａ３０４、１９９８年）に発表
された従来構造の電子線照射装置の概略図である。図５
に示すように、電子線照射装置１００は、電子線発生部
１と電子線輸送部２と電子線照射部３とを含み、支持部
４により支えられている。電子線発生部１は電子加速器
からなり、電子線発生部１で発生した電子は、ビームダ
クトからなる電子線輸送部２を通って電子線照射部３に
導かれる。電子線発生部１、電子線輸送部２及び電子線
照射部３の内部は、高真空状態に維持されている。電子
線照射部３には電磁石が設けられ、磁界を制御すること
により電子線６の方向を変化させ、電子線照射部３から
照射される電子線６をスキャンする。電子線照射部３の
底面には窓部５が設けられており、窓部５を通って、電
子線６が被照射体７に照射される。被照射体７は、コン
ベア等の搬送手段８に載せられて、矢印１４の方向に移
動する。被照射体７は、例えば、医療用具や食品等であ
り、これらの被照射体７の上に電子線６をスキャンさせ
ることにより、被照射体７の殺菌が可能となる。2. Description of the Related Art Fig. 5 shows the future prospects of the electron beam irradiation service business by Yutaka Yamase (23rd Japan Isotope
FIG. 1 is a schematic view of an electron beam irradiation apparatus having a conventional structure, which is disclosed in the General Meeting of the Radiation Congress, A304, 1998). FIG.
As shown in (1), the electron beam irradiation apparatus 100 includes an electron beam generator 1, an electron beam transporter 2, and an electron beam emitter 3, and is supported by a support 4. The electron beam generator 1 is composed of an electron accelerator, and electrons generated by the electron beam generator 1 are guided to an electron beam irradiation unit 3 through an electron beam transport unit 2 formed of a beam duct. The insides of the electron beam generator 1, the electron beam transporter 2, and the electron beam irradiator 3 are maintained in a high vacuum state. The electron beam irradiation unit 3 is provided with an electromagnet, changes the direction of the electron beam 6 by controlling the magnetic field, and scans the electron beam 6 emitted from the electron beam irradiation unit 3. A window 5 is provided on the bottom surface of the electron beam irradiation unit 3, and an electron beam 6 is irradiated to the irradiation target 7 through the window 5. The irradiation target 7 is placed on a conveying means 8 such as a conveyor and moves in the direction of the arrow 14. The irradiation target 7 is, for example, a medical tool, food, or the like. By scanning the irradiation target 7 with the electron beam 6, the irradiation target 7 can be sterilized.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、例えば、箱に
詰められた医療用具や食品等が被照射体７の場合、医療
用具等は箱に均一に詰められておらず、箱内に空所が存
在したり、箱内で偏っていたりする。また、医療用具等
の厚みも均一ではない。このため、単に、箱全体に一様
に電子線をスキャンさせて、電子線を照射するだけで
は、電子線の照射が不充分な部分が発生し、医療器具等
の殺菌や滅菌が行なわれない部分が発生した。また、医
療器具等の無い空所部分にも、同じ量の電子線が照射さ
れるため、無駄な電子線照射が行なわれていた。そこ
で、本発明は、被照射体が均一に配置されていない場合
であっても、すべての被照射体に対して、少なくとも所
定の線量の電子線／Ｘ線の照射を可能とした電子線照射
システム及びＸ線照射システムを提供することを目的と
する。However, for example, when the medical tool or food packed in the box is the irradiation target 7, the medical tool or the like is not uniformly packed in the box, and the box is filled with empty space. Exists or is biased in the box. Further, the thickness of medical devices and the like is not uniform. Therefore, simply irradiating the entire box with an electron beam and irradiating the electron beam simply generates an insufficiently irradiated portion of the electron beam and does not sterilize or sterilize medical instruments or the like. Part occurred. In addition, since the same amount of electron beam is applied to a space where there is no medical instrument or the like, useless electron beam irradiation has been performed. Therefore, the present invention provides an electron beam irradiation system capable of irradiating at least a predetermined dose of an electron beam / X-ray to all objects to be irradiated even when the objects to be irradiated are not arranged uniformly. It is an object to provide a system and an X-ray irradiation system.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、電子線発生部
で発生した電子線を、電子線照射部から被照射体に照射
する電子線照射システムにおいて、該電子線照射システ
ムが、更に、該被照射体に該電子線を照射する前に、該
被照射体にＸ線を照射するＸ線照射装置と、該被照射体
を透過した該Ｘ線を測定するＸ線測定装置と、該Ｘ線測
定装置で測定した該Ｘ線の測定値から、該被照射体の密
度分布を求める計算手段と、該密度分布を用いて、該被
照射体に照射する電子線を制御する制御手段とを含み、
該制御手段が、少なくとも所定の線量の該電子線が該被
照射体の全体に渡って照射されるように該電子線を制御
する手段であることを特徴とする電子線照射システムで
ある。かかる電子線照射システムでは、被照射体の全体
に渡って、所定の線量の電子線が照射されるため、被照
射体の殺菌や滅菌を完全に行うことができる。According to the present invention, there is provided an electron beam irradiation system for irradiating an object to be irradiated with an electron beam generated by an electron beam generator from an electron beam irradiation unit. An X-ray irradiator that irradiates the object with X-rays before irradiating the object with the electron beam; an X-ray measuring device that measures the X-rays transmitted through the object; Calculating means for obtaining a density distribution of the object from the measured value of the X-rays measured by an X-ray measuring device; andcontrol means for controlling an electron beam to be applied to the object using the density distribution. Including
The electron beam irradiation system is characterized in that the control means is a means for controlling the electron beam so that at least a predetermined dose of the electron beam is irradiated over the entire irradiation target. In such an electron beam irradiation system, a predetermined dose of an electron beam is irradiated over the entire irradiated object, so that the irradiated object can be completely sterilized or sterilized.
【０００５】また、本発明は、上記電子線発生部と上記
電子線照射部との間に電流測定装置が設けられ、該電流
測定装置により、上記被照射体に照射される上記電子線
のビーム電流量が測定されることを特徴とする電子線照
射システムである。電流測定装置を設けることにより、
被照射体に実際に照射される電子線の量を知ることが可
能となる。According to the present invention, a current measuring device is provided between the electron beam generating unit and the electron beam irradiating unit, and the current measuring device irradiates the object with the beam of the electron beam. An electron beam irradiation system characterized in that a current amount is measured. By providing a current measuring device,
It is possible to know the amount of the electron beam actually irradiated on the irradiation target.
【０００６】上記Ｘ線照射装置は、該Ｘ線照射装置内で
発生させた電子線を上記Ｘ線に変換するＸ線管からなる
ものでも良い。[0006] The X-ray irradiator may comprise an X-ray tube for converting an electron beam generated in the X-ray irradiator into the X-ray.
【０００７】上記電子線発生部と上記電子線照射部との
間に、上記電子線を少なくとも２方向に分ける電子線振
分け装置が設けられ、該分けられた電子線が上記Ｘ線照
射装置に入射し、該Ｘ線照射装置内で上記Ｘ線に変換さ
れるものでも良い。一の電子線発生部から発生する電子
線を分けてＸ線に変換することにより、システムの小型
化、低コスト化が可能となる。また、Ｘ線管を用いる場
合に比べて、高エネルギのＸ線を発生させることができ
る。An electron beam distribution device for dividing the electron beam in at least two directions is provided between the electron beam generation unit and the electron beam irradiation unit, and the divided electron beam enters the X-ray irradiation device. Alternatively, the light may be converted into the X-rays in the X-ray irradiation device. By dividing the electron beam generated from one electron beam generating unit and converting it into X-rays, it is possible to reduce the size and cost of the system. Further, it is possible to generate high-energy X-rays as compared with the case where an X-ray tube is used.
【０００８】また、本発明は、更に、上記被照射体の上
記密度分布のデータと、上記制御手段で上記電子線を制
御する制御データとを用いて、該被照射体に照射される
該電子線の線量分布を計算する手段を含むものであって
も良い。かかる手段により、被照射体に照射される電子
線の設定量の分布を知ることができる。[0008] The present invention further provides the above-mentioned electron irradiation of the object using the density distribution data of the object and control data for controlling the electron beam by the control means. It may include means for calculating the dose distribution of the line. By such means, it is possible to know the distribution of the set amount of the electron beam irradiated to the irradiation object.
【０００９】上記被照射体が、複数の、略同一の個別密
度分布を有する物体の配列を含む箱体である場合に、上
記計算手段が、該個別密度分布と、該被照射体に上記Ｘ
線を照射して測定した該被照射体の上記密度分布とか
ら、該物質の配列を予測する手段を含み、上記制御手段
が、該個別密度分布のデータと該配列のデータとを用い
て、該被照射体に照射する電子線を制御する制御手段で
あることが好ましい。When the object to be irradiated is a box containing a plurality of arrays of objects having substantially the same individual density distribution, the calculating means calculates the individual density distribution and the X
From the density distribution of the irradiated object measured by irradiating a line, from the means, including means for predicting the arrangement of the substance, the control means, using the data of the individual density distribution and the data of the arrangement, Preferably, the control means is a control means for controlling the electron beam irradiated to the irradiation object.
【００１０】上記制御手段は、上記電子線の電子線電
流、電子線エネルギ、スキャンパターン、スキャン幅、
スキャン範囲、スキャン速度からなる組から選択される
少なくとも１つのパラメータを制御する手段であること
が好ましい。The control means includes an electron beam current of the electron beam, an electron beam energy, a scan pattern, a scan width,
It is preferable that the control unit controls at least one parameter selected from a set including a scan range and a scan speed.
【００１１】更に、上記被照射体の上記密度分布のデー
タと、上記電流測定装置で測定した上記電子線のビーム
電流量のデータとを用いて、該被照射体に照射される該
電子線の線量分布を計算する手段を含むことが好まし
い。かかる手段により、被照射体に照射された電子線の
線量の分布を知ることができる。Further, using the data of the density distribution of the object to be irradiated and the data of the beam current of the electron beam measured by the current measuring device, the electron beam irradiated to the object to be irradiated is used. Preferably, means for calculating the dose distribution is included. By such means, the distribution of the dose of the electron beam irradiated on the irradiation object can be known.
【００１２】また、本発明は、上記Ｘ線が上記被照射体
に照射される方向に対して略垂直な軸の回りで、該被照
射体を回転させながら、該被照射体に該Ｘ線を照射する
ことを特徴とする電子線照射システムでもある。これに
より、被照射体の３次元の密度分布を求めることがで
き、被照射体に照射される電子線の制御をより高精度で
行うことができる。[0012] The present invention also relates to a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: rotating the object to be irradiated with the X-ray around an axis substantially perpendicular to the direction in which the object is irradiated with the X-ray; The electron beam irradiation system is characterized by irradiating the electron beam. Thereby, the three-dimensional density distribution of the irradiation target can be obtained, and the control of the electron beam applied to the irradiation target can be performed with higher accuracy.
【００１３】また、本発明は、電子線発生部で発生した
電子線を、Ｘ線変換部でＸ線に変換して被照射体に照射
するＸ線照射システムにおいて、該Ｘ線照射システム
が、更に、該被照射体に照射用Ｘ線を照射する前に、該
被照射体に測定用Ｘ線を照射するＸ線照射装置と、該被
照射体を透過した該測定用Ｘ線を測定するＸ線測定装置
と、該Ｘ線測定装置で測定した該測定用Ｘ線の測定値か
ら、該被照射体の密度分布を求める計算手段と、該密度
分布を用いて、該被照射体に照射する照射用Ｘ線を制御
する制御手段とを含み、該制御手段が、少なくとも所定
の線量の該照射用Ｘ線が該被照射体の全体に渡って照射
されるように該照射用Ｘ線を制御する手段であることを
特徴とするＸ線照射システムでもある。かかるＸ線照射
システムでは、被照射体の全体に渡って、所定の線量の
Ｘ線が照射されるため、被照射体の殺菌や滅菌を完全に
行うことができる。The present invention also provides an X-ray irradiating system for converting an electron beam generated by an electron beam generating unit into X-rays by an X-ray converting unit and irradiating the X-ray with an object to be irradiated. Further, before irradiating the irradiation object with the irradiation X-ray, an X-ray irradiator for irradiating the irradiation object with the measurement X-ray and measuring the measurement X-ray transmitted through the irradiation object are measured. An X-ray measuring device; calculating means for calculating a density distribution of the irradiation target from the measurement value of the measurement X-rays measured by the X-ray measurement device; and irradiating the irradiation target with the density distribution. Control means for controlling irradiation X-rays to be irradiated, the control means controlling the irradiation X-rays so that at least a predetermined dose of the irradiation X-rays is irradiated over the entirety of the irradiation target. The X-ray irradiation system is a means for controlling. In such an X-ray irradiation system, a predetermined dose of X-rays is irradiated over the entire irradiation target, so that the irradiation target can be completely sterilized or sterilized.
【００１４】また、本発明は、上記電子線発生部と上記
Ｘ線変換部との間に電流測定装置が設けられ、該電流測
定装置により、上記照射用Ｘ線に変換される上記電子線
のビーム電流量が測定されることを特徴とするＸ線照射
システムでもある。電流測定装置を設けることにより、
Ｘ線に変換されて被照射体に照射される電子線の量を知
ることが可能となる。Further, according to the present invention, a current measuring device is provided between the electron beam generating unit and the X-ray converting unit, and the current measuring device converts the electron beam to the irradiation X-ray. The X-ray irradiation system is characterized in that a beam current amount is measured. By providing a current measuring device,
It is possible to know the amount of the electron beam that is converted into X-rays and irradiates the irradiation target.
【００１５】上記Ｘ線照射装置が、該Ｘ線照射装置内で
発生させた電子線を上記測定用Ｘ線に変換するＸ線管か
らなるものでも良い。[0015] The X-ray irradiator may comprise an X-ray tube for converting an electron beam generated in the X-ray irradiator into the X-ray for measurement.
【００１６】上記電子線発生部と上記Ｘ線変換部との間
に、上記電子線を少なくとも２方向に分ける電子線振分
け装置が設けられ、該分けられた電子線が上記Ｘ線照射
装置に入射し、該Ｘ線照射装置内で上記測定用Ｘ線に変
換されるものでも良い。一の電子線発生部から発生する
電子線を分けてＸ線に変換することにより、システムの
小型化、低コスト化が可能となる。また、Ｘ線管を用い
る場合に比べて、高エネルギのＸ線を発生させることが
できる。An electron beam distribution device for dividing the electron beam in at least two directions is provided between the electron beam generation unit and the X-ray conversion unit, and the divided electron beam enters the X-ray irradiation device. Alternatively, the light may be converted into the measurement X-rays in the X-ray irradiation device. By dividing the electron beam generated from one electron beam generating unit and converting it into X-rays, it is possible to reduce the size and cost of the system. Further, it is possible to generate high-energy X-rays as compared with the case where an X-ray tube is used.
【００１７】また、本発明は、更に、上記被照射体の上
記密度分布のデータと、上記制御手段で上記照射用Ｘ線
を制御する制御データとを用いて、該被照射体に照射さ
れる該照射用Ｘ線の線量分布を計算する手段を含まれる
ものでも良い。かかる手段により、被照射体に照射され
る照射用Ｘ線の設定量の分布を知ることができる。Further, in the present invention, the object to be irradiated is irradiated with the data of the density distribution of the object to be irradiated and control data for controlling the X-ray for irradiation by the control means. Means for calculating the dose distribution of the irradiation X-rays may be included. By such means, it is possible to know the distribution of the set amount of irradiation X-rays to be irradiated on the irradiation object.
【００１８】上記被照射体が、複数の、略同一の個別密
度分布を有する物体の配列を含む箱体である場合に、上
記計算手段が、該個別密度分布と、該被照射体に上記測
定用Ｘ線を照射して測定した該被照射体の上記密度分布
とから、該物質の配列を予測する手段を含み、上記制御
手段が、該個別密度分布のデータと該配列のデータとを
用いて、該被照射体に照射する上記照射用Ｘ線を制御す
る制御手段であることが好ましい。In the case where the object to be irradiated is a box including an array of a plurality of objects having substantially the same individual density distribution, the calculating means calculates the individual density distribution and the measured value in the object to be irradiated. Means for predicting the arrangement of the substance from the density distribution of the irradiated object measured by irradiating X-rays for use, wherein the control means uses the data of the individual density distribution and the data of the arrangement. Preferably, the control means is a control means for controlling the irradiation X-rays to irradiate the irradiation object.
【００１９】上記制御手段は、上記照射用Ｘ線に変換さ
れる電子線の電子線電流、電子線エネルギ、スキャンパ
ターン、スキャン幅、スキャン範囲、スキャンス速度か
らなる組から選択される少なくとも１つのパラメータを
制御する手段であることが好ましい。The control means includes at least one selected from the group consisting of an electron beam current, an electron beam energy, a scan pattern, a scan width, a scan range, and a scan speed of the electron beam to be converted into the irradiation X-ray. Preferably, it is a means for controlling parameters.
【００２０】更に、上記被照射体の上記密度分布のデー
タと、上記電流測定装置で測定した上記電子線のビーム
電流量のデータとを用いて、該被照射体に照射される上
記照射用Ｘ線の線量分布を計算する手段を含むことが好
ましい。かかる手段により、被照射体に照射された照射
用Ｘ線の線量の分布を知ることができる。Further, using the data of the density distribution of the object to be irradiated and the data of the beam current amount of the electron beam measured by the current measuring device, the irradiation X-ray irradiated to the object to be irradiated is used. Preferably, means for calculating the dose distribution of the line is included. By such means, it is possible to know the distribution of the dose of the irradiation X-rays applied to the irradiation object.
【００２１】また、本発明は、上記測定用Ｘ線が上記被
照射体に照射される方向に対して略垂直な軸の回りで、
該被照射体を回転させながら、該被照射体に該測定用Ｘ
線を照射することを特徴とするＸ線照射システムでもあ
る。これにより、被照射体の３次元の密度分布を求める
ことができ、被照射体に照射されるＸ線の制御をより高
精度で行うことができる。Further, according to the present invention, the measurement X-rays may be radiated around an axis substantially perpendicular to a direction in which the object is irradiated with the X-rays.
While rotating the object, the object X
An X-ray irradiation system characterized by irradiating a line. Thereby, the three-dimensional density distribution of the irradiation target can be obtained, and the control of the X-rays applied to the irradiation target can be performed with higher accuracy.
【００２２】[0022]
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１は、全体が５
１で示される、本発明の実施の形態１にかかる電子線照
射システムの概略図である。図１中、図５と同一符号
は、同一又は相当箇所を示す。電子線照射システム５１
は、図４に示す従来の電子線照射装置１００と同様に、
電子線発生部１、電子線輸送部２及び電子線照射部３を
含む。電子線照射部３は支持部４により支えられてい
る。電子線発生部１は電子加速器からなり、電子線発生
部１で発生した電子は、ビームダクトからなる電子線輸
送部２を通って電子線照射部３に導かれる。電子線発生
部１、電子線輸送部２及び電子線照射部３の内部は高真
空状態に維持されている。電子線照射部３には、電磁石
が設けられており、磁界を制御することにより電子線６
の方向を変化させ、電子線照射部３から照射される電子
線６をスキャンする。また、電子線照射部３の底面には
窓部５が設けられており、窓部５を通って、電子線６が
被照射体７に照射される。被照射体７は、コンベア等の
搬送手段８に載せられて移動し、矢印１４の方向に搬送
される。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a schematic diagram of an electron beam irradiation system according to the first embodiment of the present invention, which is indicated by reference numeral 1. 1, the same reference numerals as those in FIG. 5 indicate the same or corresponding parts. Electron beam irradiation system 51
Is similar to the conventional electron beam irradiation apparatus 100 shown in FIG.
An electron beam generator 1, an electron beam transporter 2, and an electron beam irradiator 3 are included. The electron beam irradiation unit 3 is supported by a support unit 4. The electron beam generator 1 is composed of an electron accelerator, and electrons generated by the electron beam generator 1 are guided to an electron beam irradiation unit 3 through an electron beam transport unit 2 formed of a beam duct. The insides of the electron beam generating unit 1, the electron beam transporting unit 2, and the electron beam irradiating unit 3 are maintained in a high vacuum state. The electron beam irradiator 3 is provided with an electromagnet, and controls the magnetic field to control the electron beam 6.
Is changed, and the electron beam 6 emitted from the electron beam irradiation unit 3 is scanned. In addition, a window 5 is provided on the bottom surface of the electron beam irradiation unit 3, and an electron beam 6 is applied to the irradiation target 7 through the window 5. The irradiation target 7 is placed on a transfer means 8 such as a conveyor and moves, and is transferred in the direction of the arrow 14.
【００２３】電子線照射システム５１は、更に、Ｘ線管
等からなるＸ線発生装置９を含む。Ｘ線発生装置９で発
生したＸ線（測定用Ｘ線）１０は、被照射体７に電子線
６が照射されて被照射体７の殺菌等が行なわれる前に、
被照射体７に照射される。被照射体７を透過したＸ線１
０の量は、Ｘ線測定装置１１で測定される。The electron beam irradiation system 51 further includes an X-ray generator 9 composed of an X-ray tube or the like. X-rays (measurement X-rays) 10 generated by the X-ray generator 9 are irradiated before the irradiation of the irradiation target 7 with the electron beam 6 to sterilize the irradiation target 7 or the like.
The irradiation target 7 is irradiated. X-ray 1 transmitted through irradiation target 7
The amount of 0 is measured by the X-ray measurement device 11.
【００２４】Ｘ線測定装置１０で測定された測定データ
は、記憶解析装置１２に送られる。記憶解析装置１２で
は、送られてきた測定データを記憶するとともに、測定
データを解析して、被照射体７の密度分布が求められ
る。記憶解析装置１２は、例えばコンピュータからな
る。記憶解析装置１２の解析結果は、制御装置１３に送
られる。制御装置１３は、かかる解析結果に基づいて、
被照射体７の滅菌時等に被照射体７に照射される電子線
６の強度、スキャン速度等を制御する。制御装置１３
は、例えばコンピュータからなる。記憶解析装置１２と
制御装置１３とは、１台のコンピュータから構成されて
も構わない。The measurement data measured by the X-ray measurement device 10 is sent to the storage analysis device 12. The storage analyzer 12 stores the transmitted measurement data and analyzes the measurement data to determine the density distribution of the irradiation target 7. The storage analysis device 12 includes, for example, a computer. The analysis result of the storage analysis device 12 is sent to the control device 13. The control device 13 determines, based on the analysis result,
The intensity of the electron beam 6 applied to the irradiation target 7 during the sterilization of the irradiation target 7 and the scanning speed are controlled. Control device 13
Comprises, for example, a computer. The storage analysis device 12 and the control device 13 may be configured by one computer.
【００２５】電子線を用いた、具体的な殺菌又は滅菌工
程として、例えば、被照射体７が、箱に詰められた複数
の医療器具である場合を考える。Ｘ線発生装置９で発生
したＸ線１０は、まず、被照射体７に照射される。Ｘ線
１０は、被照射体７の上でスキャンされ、被照射体７を
透過したＸ線１０がＸ線測定装置１１で測定される。か
かる測定結果は、記憶解析装置１３に送られて解析さ
れ、箱に詰められた医療器具の密度分布、即ち、配置や
厚みのばらつきが求められる。次に、かかる医療器具の
配置のばらつきや厚みのばらつきに基づいて、被照射体
７の殺菌又は滅菌のために箱の上でスキャンされる電子
線６が、制御装置１３により制御される。具体的には、
箱内が空所の部分では、電子線６のスキャン速度を速く
し及び／又は電子線６の強度を小さくする。一方、箱内
で、特に、医療器具の厚みが厚い部分では、電子線６の
スキャン速度を遅くし及び／又は電子線６の強度を大き
くする。これにより、箱内に詰められた複数の医療器具
に対して、一定量以上の電子線６を照射でき、全ての医
療器具を完全に殺菌又は滅菌することができる。As a specific sterilization or sterilization step using an electron beam, for example, consider a case where the irradiation target 7 is a plurality of medical instruments packed in a box. The X-rays 10 generated by the X-ray generator 9 are first applied to the irradiation target 7. The X-ray 10 is scanned on the irradiation target 7, and the X-ray 10 transmitted through the irradiation target 7 is measured by the X-ray measurement device 11. The measurement result is sent to the storage analyzer 13 and analyzed, and the density distribution of the medical instruments packed in the box, that is, the variation in the arrangement and the thickness is obtained. Next, the control device 13 controls the electron beam 6 scanned on the box for sterilization or sterilization of the irradiation target 7 based on the variation in the arrangement and the thickness of the medical device. In particular,
In the empty space in the box, the scanning speed of the electron beam 6 is increased and / or the intensity of the electron beam 6 is reduced. On the other hand, the scanning speed of the electron beam 6 is reduced and / or the intensity of the electron beam 6 is increased in a box, particularly in a portion where the thickness of the medical device is large. As a result, the plurality of medical instruments packed in the box can be irradiated with a certain amount or more of the electron beam 6, and all the medical instruments can be completely sterilized or sterilized.
【００２６】なお、電子線６を制御する場合には、電子
線６のスキャン速度や電子線強度の他に、例えば、電子
線電流、電子線エネルギ、スキャンパターン、スキャン
幅、スキャン範囲、スキャンスピード変調などを制御し
ても構わない。スキャンパターン、スキャン幅等の制御
は、電子線照射部３に取り付けられた電磁石（図示せ
ず）を用いて行うことができる。また、電子線電流等
は、電子線発生部１を制御することにより行うことがで
きる。更に、電子線エネルギの制御は、金属ホイル（図
示せず）等からなるエネルギ減衰装置（図示せず）を窓
部５の下方に設けて行なうことができ、又は、電子線発
生部１を用いて行なうこともできる。When controlling the electron beam 6, in addition to the scanning speed and the electron beam intensity of the electron beam 6, for example, an electron beam current, an electron beam energy, a scan pattern, a scan width, a scan range, and a scan speed are used. Modulation and the like may be controlled. Control of the scan pattern, scan width, and the like can be performed using an electromagnet (not shown) attached to the electron beam irradiation unit 3. Further, the electron beam current or the like can be performed by controlling the electron beam generator 1. Further, the electron beam energy can be controlled by providing an energy attenuator (not shown) made of a metal foil (not shown) or the like below the window 5 or by using the electron beam generator 1. You can also do it.
【００２７】尚、被照射体７を通過したＸ線１０が、邪
魔されずＸ線測定装置１１に到達できるように、搬送手
段８には、ローラを設けない透過位置２５が設られてい
る。透過位置２５の幅（矢印１４方向の間隔）は、例え
ば、数ｃｍ以上であることが好ましい。The transport means 8 is provided with a transmission position 25 without a roller so that the X-rays 10 passing through the irradiation target 7 can reach the X-ray measuring device 11 without being obstructed. The width of the transmission position 25 (interval in the direction of the arrow 14) is preferably, for example, several cm or more.
【００２８】本実施の形態にかかる電子線照射装置５１
では、被照射体７の密度分布を予め測定して、その測定
結果に基づいて被照射体７に電子線６を照射するため、
被照射体７全体に、所定の線量以上の電子線６を照射す
ることができる。このため、例えば被照射体７が医療器
具の場合には、医療器具を完全に、むらなく殺菌又は滅
菌することができる。また、必要な部分に集中的に電子
線６を照射することができ、無駄な電子線６の照射を減
らし、電子線６の利用効率を向上させることができる。An electron beam irradiation device 51 according to the present embodiment
In order to measure the density distribution of the irradiation target 7 in advance and irradiate the irradiation target 7 with the electron beam 6 based on the measurement result,
The entire irradiation target 7 can be irradiated with the electron beam 6 at a predetermined dose or more. Therefore, for example, when the irradiation target 7 is a medical device, the medical device can be completely and uniformly sterilized or sterilized. In addition, it is possible to irradiate the electron beam 6 intensively to a necessary portion, and it is possible to reduce unnecessary irradiation of the electron beam 6 and improve the use efficiency of the electron beam 6.
【００２９】また、本実施の形態では、被照射体７の密
度分布の測定結果に基づいて、被照射体７の殺菌等に使
用される電子線の強度やスキャン速度が制御されるた
め、かかる照射データと密度分布のデータから、被照射
体７に照射された電子線やＸ線の線量の分布を知ること
ができる。In the present embodiment, the intensity and scanning speed of the electron beam used for sterilizing the irradiation target 7 are controlled based on the measurement result of the density distribution of the irradiation target 7. From the irradiation data and the data of the density distribution, the distribution of the dose of the electron beam or the X-ray applied to the irradiation target 7 can be known.
【００３０】また、本実施の形態では、被照射体７の上
方からのみＸ線１０を照射して、密度測定を行ったが、
例えば、互いに直交する２方向や３方向からＸ線を照射
して、密度分布測定を行っても構わない。かかる測定を
行うことにより、密度分布をより高精度で測定すること
ができる。特に、被照射体７が、例えば、箱に詰められ
た、複数の同一形状のビンや注射器のような場合、予め
単体のビンや注射器の形状や密度分布（個別密度分布）
を測定しておくことにより、被照射体７にＸ線を照射し
て得られた密度分布から、箱内にビン等がどのように詰
められているかを予想することができる。即ち、箱内の
どの位置にビン等が配置されているか、また、いくつ重
ねられているか等を予想することができる。In the present embodiment, the density is measured by irradiating the X-ray 10 only from above the irradiated object 7.
For example, density distribution measurement may be performed by irradiating X-rays from two directions or three directions orthogonal to each other. By performing such a measurement, the density distribution can be measured with higher accuracy. In particular, when the irradiation target 7 is, for example, a plurality of bottles or syringes of the same shape packed in a box, the shape and density distribution (individual density distribution) of a single bottle or syringe are previously determined.
Can be estimated from the density distribution obtained by irradiating the irradiation target 7 with X-rays, how the bottles and the like are packed in the box. That is, it is possible to predict at which position in the box the bins and the like are arranged, how many are stacked, and the like.
【００３１】実施の形態２．図２は、全体が５２で示さ
れる、本発明の実施の形態２にかかる電子線照射システ
ムの概略図である。図２中、図１と同一符号は、同一又
は相当箇所を示す。図２の電子線照射システム５２で
は、電子線輸送部２の途中に、電流測定装置２７が設け
られている。電流測定装置２７では、電子線発生部１か
ら電子線輸送部２を通って電子線照射部３に送られる電
子線のビーム電流量を測定する。測定結果は、制御装置
１３に送られる。Embodiment 2 FIG. 2 is a schematic diagram of an electron beam irradiation system, generally indicated by 52, according to a second embodiment of the present invention. 2, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts. In the electron beam irradiation system 52 of FIG. 2, the current measuring device 27 is provided in the middle of the electron beam transport unit 2. The current measuring device 27 measures the beam current amount of the electron beam sent from the electron beam generator 1 to the electron beam irradiator 3 through the electron beam transporter 2. The measurement result is sent to the control device 13.
【００３２】本実施の形態にかかる電子線照射システム
５２では、実施の形態１と同様に、被照射体７にＸ線１
０を照射して予め測定した、被照射体７の密度分布に基
づいて被照射体７に電子線６が照射される。この場合、
電流測定装置２７で電子線６のビーム電流量を測定しな
がら、被照射体７に電子線６を照射することにより、制
御装置１３からの制御信号に従って、正確に電子線６が
照射されているか否かをモニタしながら電子線６を照射
することができる。従って、電子線発生部１で発生する
電子線の量が変動した場合には、電流測定装置２７の測
定値に基づいて、制御装置１３が、電子線発生部１で発
生する電子線の量を増減させ、被照射体７に照射される
電子線６の量を修正する。In the electron beam irradiation system 52 according to the present embodiment, similarly to the first embodiment, an X-ray
The irradiation target 7 is irradiated with the electron beam 6 based on the density distribution of the irradiation target 7 which is measured in advance by irradiating 0. in this case,
By irradiating the irradiation target 7 with the electron beam 6 while measuring the beam current amount of the electron beam 6 with the current measuring device 27, whether the electron beam 6 is correctly irradiated according to the control signal from the control device 13 The electron beam 6 can be irradiated while monitoring whether or not the electron beam 6 is detected. Therefore, when the amount of the electron beam generated by the electron beam generator 1 fluctuates, the controller 13 reduces the amount of the electron beam generated by the electron beam generator 1 based on the measurement value of the current measuring device 27. By increasing or decreasing, the amount of the electron beam 6 irradiated to the irradiation target 7 is corrected.
【００３３】また、被照射体７に実際に照射された電子
線６のビーム電流量が、電流測定装置２７で測定でき
る。このため、予め測定された被照射体７の密度分布と
照会することにより、被照射体７に実際に照射された電
子線６の線量及びその分布、線量の均一性等を知ること
ができる。The beam current amount of the electron beam 6 actually irradiated on the irradiation target 7 can be measured by the current measuring device 27. For this reason, by referring to the density distribution of the irradiation target 7 measured in advance, it is possible to know the dose of the electron beam 6 actually applied to the irradiation target 7, the distribution thereof, the uniformity of the dose, and the like.
【００３４】実施の形態３．図３は、全体が５３で示さ
れる、本発明の実施の形態２にかかる電子線照射システ
ムの概略図である。図３中、図１と同一符号は、同一又
は相当箇所を示す。図３の電子線照射システム５３で
は、電子線輸送部２の途中に、電子線振分け装置１５が
設けられている。電子線振分け装置１５は、電子線輸送
部２中を、電子線発生部１から電子線照射部３に送られ
る電子線を２つの方向に分ける。電子線振分け装置１５
は、例えば、電磁石からなる。電子線振分け装置１５で
分けられた電子線の一方は、従来どおり電子線照射部３
に送られて、被照射体７の滅菌等に使用される。他方の
電子線は、真空ダクト１６を通って偏向装置１７に送ら
れる。偏向装置１７は、例えば電磁石を用いて、入射し
た電子線（図示せず）を所定の方向に偏向させる。偏向
された電子線は、スキャン装置１８を通って、スキャン
ホーン１９に入る。スキャン装置１８は、電磁石（図示
せず）を備え、内部を通過する電子線をスキャンする。
電子線振分け装置１５、真空ダクト１６、偏向装置１
７、スキャン装置及びスキャンホーン１９の内部は、真
空となっている。電子線（図示せず）は、スキャンホー
ン１９の下部に設けられたＸ線変換窓２０を通って大気
中に出る。この時、電子線がＸ線変換窓２０に衝突し、
Ｘ線１０を発生させる。Embodiment 3 FIG. 3 is a schematic diagram of the electron beam irradiation system according to the second embodiment of the present invention, which is indicated by 53 in its entirety. 3, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts. In the electron beam irradiation system 53 of FIG. 3, an electron beam sorting device 15 is provided in the middle of the electron beam transport unit 2. The electron beam distribution device 15 divides the electron beam sent from the electron beam generator 1 to the electron beam irradiation unit 3 in the electron beam transport unit 2 in two directions. Electron beam sorting device 15
Comprises, for example, an electromagnet. One of the electron beams separated by the electron beam sorting device 15 is, as in the related art, an electron beam irradiator 3.
To be used for sterilization of the irradiation target 7 and the like. The other electron beam is sent to the deflection device 17 through the vacuum duct 16. The deflecting device 17 deflects an incident electron beam (not shown) in a predetermined direction using, for example, an electromagnet. The deflected electron beam enters the scan horn 19 through the scanning device 18. The scanning device 18 includes an electromagnet (not shown), and scans an electron beam passing therethrough.
Electron beam sorting device 15, vacuum duct 16, deflection device 1
7. The inside of the scanning device and the scanning horn 19 is evacuated. The electron beam (not shown) passes through an X-ray conversion window 20 provided below the scan horn 19 and exits to the atmosphere. At this time, the electron beam collides with the X-ray conversion window 20,
X-rays 10 are generated.
【００３５】Ｘ線１０は、上記実施の形態１と同様に、
コンベア等の搬送手段８によって運ばれる被照射体７に
照射され、透過したＸ線がＸ線測定装置１１で測定され
る。測定結果は、記憶解析装置１２に送られて解析さ
れ、被照射体７の密度分布が求められる。更に、かかる
密度分布に基づいて制御装置１３が電子線発生部１、電
子線照射部３を制御し、被照射体７の殺菌等に用いられ
る電子線６の強度等が制御される。The X-ray 10 is emitted as in the first embodiment.
The X-rays radiated on the irradiated object 7 carried by the conveying means 8 such as a conveyor and transmitted therethrough are measured by the X-ray measuring device 11. The measurement result is sent to the storage analysis device 12 and analyzed, and the density distribution of the irradiation target 7 is obtained. Further, the control device 13 controls the electron beam generating unit 1 and the electron beam irradiating unit 3 based on the density distribution, and controls the intensity of the electron beam 6 used for sterilizing the irradiation target 7 and the like.
【００３６】本実施の形態にかかる電子線照射装置５３
では、被照射体７の密度分布を予め測定して、その測定
結果に基づいて被照射体７に電子線６を照射するため、
被照射体７全体に対して、所定の線量以上の電子線６を
照射することができる。特に、１の電子線発生部１を用
いて、殺菌等に用いる照射用電子線６と、密度分布を測
定するための測定用Ｘ線１０とを供給できるため、密度
分布測定用のＸ線源を別途設ける場合に比べて、電子線
照射システムが安価となる。また、別途、Ｘ線源を設け
て、密度分布を測定する場合に比べて、強度の高いＸ線
を得ることができる。具体的には、測定用Ｘ線のエネル
ギを５ＭｅＶ以上とすることも可能である。このため、
被照射体７の厚みが厚い場合でも、正確に密度分布が測
定できる。なお、電子線振分け装置１５は、上述のよう
に、電子線を常に２方向に分けるものでも構わないし、
２方向に交互に偏向するものでも構わない。The electron beam irradiation device 53 according to this embodiment
In order to measure the density distribution of the irradiation target 7 in advance and irradiate the irradiation target 7 with the electron beam 6 based on the measurement result,
The entire irradiation target 7 can be irradiated with the electron beam 6 at a predetermined dose or more. In particular, since the irradiation electron beam 6 used for sterilization and the like and the measurement X-ray 10 for measuring the density distribution can be supplied by using one electron beam generator 1, the X-ray source for measuring the density distribution is used. , The electron beam irradiation system is less expensive than the case where a separate is provided. Further, X-rays having higher intensity can be obtained as compared with the case where an X-ray source is separately provided and the density distribution is measured. Specifically, the energy of the measurement X-rays can be set to 5 MeV or more. For this reason,
Even when the thickness of the irradiation target 7 is large, the density distribution can be accurately measured. As described above, the electron beam sorting device 15 may always split the electron beam in two directions.
The light may be alternately deflected in two directions.
【００３７】また、被照射体７に対して、２方向や３方
向からＸ線を照射して、密度分布測定を行っても構わな
い。かかる測定を行うことにより、密度分布をより高精
度で測定することができる。また、被照射体７への電子
線の線量分布を知ることもできる。The object 7 may be irradiated with X-rays in two or three directions to measure the density distribution. By performing such a measurement, the density distribution can be measured with higher accuracy. In addition, the dose distribution of the electron beam to the irradiation target 7 can be known.
【００３８】実施の形態４．図４は、全体が５４で示さ
れる、本発明の実施の形態４にかかる電子線照射システ
ムの概略図である。図４中、図３と同一符号は、同一又
は相当箇所を示す。電子線照射システム５４では、上記
実施の形態３にかかる電子線照射システム５３と同様
に、電子線発生部１で発生した電子線が、電子線振分け
装置１５で２方向に分けられる。一方の電子線６は、被
照射体７に照射されて、被照射体７の滅菌等に使用され
る。他方の電子線は、Ｘ線変換窓２０を通ってＸ線１０
に変換された後、被照射体７に照射されて、被照射体７
の密度分布が測定される。Embodiment 4 FIG. FIG. 4 is a schematic diagram of an electron beam irradiation system, generally designated by 54, according to a fourth embodiment of the present invention. 4, the same reference numerals as those in FIG. 3 indicate the same or corresponding parts. In the electron beam irradiation system 54, similarly to the electron beam irradiation system 53 according to the third embodiment, the electron beam generated by the electron beam generator 1 is divided into two directions by the electron beam distribution device 15. One of the electron beams 6 is irradiated to the irradiation target 7 and used for sterilization of the irradiation target 7 and the like. The other electron beam passes through the X-ray conversion window 20 and the X-ray 10
After being converted to the irradiation target 7,
Is measured.
【００３９】本実施の形態にかかる電子線照射システム
５４では、実施の形態３のように、被照射体７の密度分
布の測定が、被照射体７を搬送手段８上に載置して行う
のではなく、支持具２２に固定されて行なわれる。支持
具２２は、回転軸２１により、モータ等からなる回転駆
動装置２３に取りつけられている。これにより、回転軸
２１の回りで、支持具２２に固定された被照射体７を回
転させることができる。また、回転駆動装置２３は、リ
ニア駆動装置２４の上に固定されている。リニア制御装
置は、テーブル、ボールねじ、モータ、制御装置等から
構成されている。リニア駆動装置２４は、矢印２６の方
向に移動するため、被照射体７も矢印２６の方向に移動
できる。In the electron beam irradiation system 54 according to the present embodiment, as in the third embodiment, the measurement of the density distribution of the irradiation target 7 is performed by placing the irradiation target 7 on the transport means 8. Instead, the fixing is performed on the support 22. The support 22 is attached to a rotation driving device 23 composed of a motor or the like by a rotation shaft 21. Thus, the irradiation target 7 fixed to the support 22 can be rotated around the rotation shaft 21. Further, the rotary driving device 23 is fixed on the linear driving device 24. The linear control device includes a table, a ball screw, a motor, a control device, and the like. Since the linear drive device 24 moves in the direction of the arrow 26, the irradiation target 7 can also move in the direction of the arrow 26.
【００４０】本実施の形態では、被照射体７は、回転軸
２１の回りで回転し、かつ矢印２６の方向に移動しなが
ら、Ｘ線１０が照射される。Ｘ線１０は、紙面に垂直な
方向にスキャンされる。被照射体７を透過したＸ線は、
Ｘ線測定装置１１で測定された後、記憶解析装置１２に
送られて、記憶、解析される。これにより、被照射体７
の密度分布が測定される。被照射体は７、リニア駆動装
置２４を移動させることにより、搬送手段８の上に載せ
られ、矢印１４の方向に運ばれて、電子線６が照射され
る。In the present embodiment, the object 7 is irradiated with the X-rays 10 while rotating about the rotation axis 21 and moving in the direction of the arrow 26. The X-ray 10 is scanned in a direction perpendicular to the plane of the paper. The X-ray transmitted through the irradiation target 7 is
After being measured by the X-ray measurement device 11, it is sent to the storage analysis device 12, where it is stored and analyzed. Thereby, the irradiation target 7
Is measured. The object to be irradiated is placed on the transporting means 8 by moving the linear drive device 7 and the linear driving device 24, is carried in the direction of the arrow 14, and is irradiated with the electron beam 6.
【００４１】実施の形態３と同様に、制御装置１３は、
被照射体７の密度分布の測定結果を元に、電子線６の強
度等を変化させながらスキャンさせる。これにより、被
照射体７全体に、所定量以上の電子線６を照射すること
ができる。As in the third embodiment, the control device 13
Scanning is performed while changing the intensity and the like of the electron beam 6 based on the measurement result of the density distribution of the irradiation target 7. As a result, the entire irradiation target 7 can be irradiated with the electron beam 6 in a predetermined amount or more.
【００４２】このように、本実施の形態４にかかる電子
線照射システム５４では、被照射体７を回転軸２１の回
りで回転させながら被照射体７の密度分布が測定される
ため、３次元の密度分布を求めることができる。このた
め、被照射体７に照射される電子線６の制御をより高精
度で行うことができ、被照射体７の滅菌等をより完全に
行うことができる。As described above, in the electron beam irradiation system 54 according to the fourth embodiment, the density distribution of the irradiation target 7 is measured while rotating the irradiation target 7 around the rotation axis 21. Can be obtained. For this reason, control of the electron beam 6 irradiated to the irradiation target 7 can be performed with higher accuracy, and sterilization of the irradiation target 7 can be performed more completely.
【００４３】なお、本実施の形態では、密度分布測定用
のＸ線を、被照射体７の上方から照射するようにした
が、他の方向、例えば側面方向から入射するようにして
もかまわない。In the present embodiment, the X-rays for density distribution measurement are emitted from above the irradiated object 7, but may be incident from another direction, for example, from the side. .
【００４４】また、本実施の形態では、別途、Ｘ線源を
設ける場合に比較して、エネルギの大きなＸ線１０を照
射することができる。このため、かかるＸ線を用いて、
厚みの厚い被照射体７の非破壊検査等を行うこともでき
る。更には、被照射体７が重合体分子からなる場合に
は、Ｘ線を照射することにより架橋反応を起させること
も可能である。Further, in the present embodiment, it is possible to irradiate the X-rays 10 having a large energy as compared with the case where an X-ray source is separately provided. Therefore, using such X-rays,
A non-destructive inspection or the like of the thick irradiation target 7 can also be performed. Further, when the irradiation target 7 is made of a polymer molecule, it is possible to cause a cross-linking reaction by irradiating X-rays.
【００４５】なお、本実施の形態１〜４では、電子線の
照射装置について述べたが、窓部５をＸ線変換窓に取り
替えることにより、電子線を窓部５でＸ線に変換し、被
照射体７にＸ線（図示せず）を照射して、滅菌や殺菌を
行うことも可能である。In the first to fourth embodiments, the electron beam irradiation device has been described. However, by replacing the window 5 with an X-ray conversion window, the electron beam is converted into X-rays by the window 5, It is also possible to irradiate the irradiation target 7 with X-rays (not shown) to perform sterilization or sterilization.
【００４６】[0046]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
にかかる電子線照射システム及びＸ線照射装システムで
は、被照射体の全体に渡って所定の線量以上の電子線、
Ｘ線を照射でき、被照射体の殺菌等を完全に行うことが
できる。As is apparent from the above description, in the electron beam irradiation system and the X-ray irradiation system according to the present invention, an electron beam having a predetermined dose or more over the entire irradiated object is obtained.
X-rays can be irradiated, and sterilization and the like of the irradiation target can be completely performed.
【００４７】また、必要な領域のみのに電子線、Ｘ線を
照射することにより、電子線、Ｘ線の利用効率を向上で
きる。Further, by irradiating only a necessary area with an electron beam or X-ray, the utilization efficiency of the electron beam or X-ray can be improved.
【００４８】また、被照射体に照射された電子線、Ｘ線
の線量の値を知ることができ、照射された線量の分布等
をチェックすることができる。Further, the value of the dose of the electron beam or X-ray applied to the irradiation object can be known, and the distribution of the applied dose can be checked.
【図１】 本発明の実施の形態１にかかるＸ線照射シス
テムの概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of an X-ray irradiation system according to a first embodiment of the present invention.
【図２】 本発明の実施の形態２にかかるＸ線照射シス
テムの概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of an X-ray irradiation system according to a second embodiment of the present invention.
【図３】 本発明の実施の形態３にかかるＸ線照射シス
テムの概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram of an X-ray irradiation system according to a third embodiment of the present invention.
【図４】 本発明の実施の形態４にかかるＸ線照射シス
テムの概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram of an X-ray irradiation system according to a fourth embodiment of the present invention.
【図５】 従来のＸ線照射システムの概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram of a conventional X-ray irradiation system.
１ 電子線発生部、２ 電子線輸送部、３ 電子線照射
部、４ 支持部、５窓部、６ 電子線、７ 被照射体、
８ 搬送手段、９ Ｘ線発生装置、１０ Ｘ線、１１
Ｘ線計測装置、１２ 記憶解析装置、１３ 制御装置、
１５ 電子線振分け装置、１６ ビームダクト、１７
偏向装置、１８ スキャン装置、１９スキャンホーン、
２０ Ｘ線変換窓、２１ 回転軸、２２ 支持具、２３
回転駆動装置、２４ リニア駆動装置、２５ 透過位
置、２７ 電流測定装置。1 electron beam generating section, 2 electron beam transporting section, 3 electron beam irradiating section, 4 support section, 5 window section, 6 electron beam, 7 irradiated object,
8 transport means, 9 X-ray generator, 10 X-ray, 11
X-ray measurement device, 12 memory analysis device, 13 control device,
15 Electron beam sorting device, 16 Beam duct, 17
Deflection device, 18 scan device, 19 scan horn,
Reference Signs List 20 X-ray conversion window, 21 rotation axis, 22 support, 23
Rotary drive, 24 linear drive, 25 transmission position, 27 current measuring device.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ２１Ｋ 5/02 Ｇ２１Ｋ 5/02 Ｘ 5/10 5/10 Ｃ ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) G21K 5/02 G21K 5/02 X 5/10 5/10 C
Claims (18)
線照射部から被照射体に照射する電子線照射システムに
おいて、該電子線照射システムが、更に、 該被照射体に該電子線を照射する前に、該被照射体にＸ
線を照射するＸ線照射装置と、 該被照射体を透過した該Ｘ線を測定するＸ線測定装置
と、 該Ｘ線測定装置で測定した該Ｘ線の測定値から、該被照
射体の密度分布を求める計算手段と、 該密度分布を用いて、該被照射体に照射する電子線を制
御する制御手段とを含み、 該制御手段が、少なくとも所定の線量の該電子線が該被
照射体の全体に渡って照射されるように該電子線を制御
する手段であることを特徴とする電子線照射システム。1. An electron beam irradiation system for irradiating an object to be irradiated with an electron beam generated by an electron beam generator from an electron beam irradiator, the electron beam irradiation system further comprising: Before irradiation with X,
An X-ray irradiating device for irradiating the X-ray, an X-ray measuring device for measuring the X-ray transmitted through the irradiated object, and a measurement value of the X-ray measured by the X-ray measuring device. Calculating means for calculating a density distribution; and controlling means for controlling an electron beam to be irradiated on the irradiation object by using the density distribution, wherein the control means controls the irradiation of the electron beam of at least a predetermined dose. An electron beam irradiation system, which is means for controlling the electron beam so as to irradiate the whole body.
の間に電流測定装置が設けられ、該電流測定装置によ
り、上記被照射体に照射される上記電子線のビーム電流
量が測定されることを特徴とする請求項１に記載の電子
線照射システム。2. A current measuring device is provided between the electron beam generating unit and the electron beam irradiating unit, and the current measuring device measures a beam current amount of the electron beam irradiating the object to be irradiated. The electron beam irradiation system according to claim 1, wherein:
で発生させた電子線を上記Ｘ線に変換するＸ線管からな
ることを特徴とする請求項１に記載の電子線照射システ
ム。3. An electron beam irradiation apparatus according to claim 1, wherein said X-ray irradiation apparatus comprises an X-ray tube for converting an electron beam generated in said X-ray irradiation apparatus into said X-ray. system.
の間に、上記電子線を少なくとも２方向に分ける電子線
振分け装置が設けられ、該分けられた電子線が上記Ｘ線
照射装置に入射し、該Ｘ線照射装置内で上記Ｘ線に変換
されることを特徴とする請求項１に記載の電子線照射シ
ステム。4. An electron beam distribution device for dividing the electron beam in at least two directions is provided between the electron beam generation unit and the electron beam irradiation unit, and the divided electron beam is transmitted to the X-ray irradiation device. 2. The electron beam irradiation system according to claim 1, wherein the X-ray is converted into the X-rays in the X-ray irradiation device. 3.
ータと、上記制御手段で上記電子線を制御する制御デー
タとを用いて、該被照射体に照射される該電子線の線量
分布を計算する手段を含むことを特徴とする請求項１に
記載の電子線照射システム。5. A dose distribution of the electron beam irradiated to the irradiation object using the data of the density distribution of the irradiation object and control data for controlling the electron beam by the control means. The electron beam irradiation system according to claim 1, further comprising a unit for calculating the following.
密度分布を有する物体の配列を含む箱体である場合に、 上記計算手段が、該個別密度分布と、該被照射体に上記
Ｘ線を照射して測定した該被照射体の上記密度分布とか
ら、該物質の配列を予測する手段を含み、 上記制御手段が、該個別密度分布のデータと該配列のデ
ータとを用いて、該被照射体に照射する電子線を制御す
る制御手段であることを特徴とする請求項１に記載の電
子線照射システム。6. When the object to be irradiated is a box including an array of a plurality of objects having substantially the same individual density distribution, the calculating means includes: Means for predicting the arrangement of the substance from the density distribution of the irradiation target measured by irradiating the X-rays, wherein the control means uses the data of the individual density distribution and the data of the arrangement. 2. The electron beam irradiation system according to claim 1, wherein the control unit is a control unit that controls an electron beam applied to the object to be irradiated.
流、電子線エネルギ、スキャンパターン、スキャン幅、
スキャン範囲、スキャン速度からなる組から選択される
少なくとも１つのパラメータを制御する手段であること
を特徴とする請求項１に記載の電子線照射システム。7. The control means according to claim 1, wherein said control means controls an electron beam current, an electron beam energy, a scan pattern, a scan width,
2. The electron beam irradiation system according to claim 1, wherein the electron beam irradiation system is means for controlling at least one parameter selected from a set consisting of a scan range and a scan speed.
ータと、上記電流測定装置で測定した上記電子線のビー
ム電流量のデータとを用いて、該被照射体に照射される
該電子線の線量分布を計算する手段を含むことを特徴と
する請求項２に記載の電子線照射システム。8. The method according to claim 1, further comprising using the data of the density distribution of the irradiation target and the data of the beam current of the electron beam measured by the current measurement device to irradiate the irradiation target with the electron. 3. The electron beam irradiation system according to claim 2, further comprising means for calculating a dose distribution of the beam.
向に対して略垂直な軸の回りで、該被照射体を回転させ
ながら、該被照射体に該Ｘ線を照射することを特徴とす
る請求項１〜８のいずれかに記載の電子線照射システ
ム。9. irradiating the object with the X-rays while rotating the object about an axis substantially perpendicular to the direction in which the object is irradiated with the X-rays. The electron beam irradiation system according to any one of claims 1 to 8, wherein
線変換部でＸ線に変換して被照射体に照射するＸ線照射
システムにおいて、該Ｘ線照射システムが、更に、 該被照射体に照射用Ｘ線を照射する前に、測定用Ｘ線を
該被照射体に照射するＸ線照射装置と、 該被照射体を透過した該測定用Ｘ線を測定するＸ線測定
装置と、 該Ｘ線測定装置で測定した該測定用Ｘ線の測定値から、
該被照射体の密度分布を求める計算手段と、 該密度分布を用いて、該被照射体に照射する照射用Ｘ線
を制御する制御手段とを含み、 該制御手段が、少なくとも所定の線量の該照射用Ｘ線が
該被照射体の全体に渡って照射されるように該照射用Ｘ
線を制御する手段であることを特徴とするＸ線照射シス
テム。10. An electron beam generated by an electron beam generator,
In an X-ray irradiation system for converting an X-ray into an X-ray by a X-ray conversion unit and irradiating the X-ray to an object to be irradiated, the X-ray irradiation system further comprises: An X-ray irradiator for irradiating the object to be irradiated with an X-ray, an X-ray measuring apparatus for measuring the X-ray for measurement transmitted through the object to be irradiated, and a measurement of the X-ray for measurement measured by the X-ray measuring apparatus From the value,
Calculating means for calculating a density distribution of the irradiation object; and controlling means for controlling irradiation X-rays to irradiate the irradiation object by using the density distribution, wherein the control means has at least a predetermined dose. The irradiation X-ray is irradiated so that the irradiation X-ray is irradiated over the entire irradiation target.
An X-ray irradiation system, which is a means for controlling a line.
の間に電流測定装置が設けられ、該電流測定装置によ
り、上記照射用Ｘ線に変換される上記電子線のビーム電
流量が測定されることを特徴とする請求項１０に記載の
Ｘ線照射システム。11. A current measuring device is provided between the electron beam generating unit and the X-ray converting unit, and the current measuring device reduces a beam current amount of the electron beam converted into the irradiation X-ray. The X-ray irradiation system according to claim 10, wherein the measurement is performed.
内で発生させた電子線を上記測定用Ｘ線に変換するＸ線
管からなることを特徴とする請求項１０に記載のＸ線照
射システム。12. The X-ray tube according to claim 10, wherein the X-ray irradiator comprises an X-ray tube for converting an electron beam generated in the X-ray irradiator into the X-ray for measurement. Ray irradiation system.
の間に、上記電子線を少なくとも２方向に分ける電子線
振分け装置が設けられ、該分けられた電子線が上記Ｘ線
照射装置に入射し、該Ｘ線照射装置内で上記測定用Ｘ線
に変換されることを特徴とする請求項１０に記載のＸ線
照射システム。13. An X-ray irradiator for dividing the electron beam in at least two directions between the electron beam generator and the X-ray converter, wherein the divided electron beam is irradiated by the X-ray irradiator. 11. The X-ray irradiation system according to claim 10, wherein the X-ray is converted into the measurement X-rays in the X-ray irradiation device.
データと、上記制御手段で上記照射用Ｘ線を制御する制
御データとを用いて、該被照射体に照射される該照射用
Ｘ線の線量分布を計算する手段を含むことを特徴とする
請求項１０に記載のＸ線照射システム。14. The irradiation X-ray irradiating the irradiation object using the density distribution data of the irradiation object and control data for controlling the irradiation X-ray by the control means. The X-ray irradiation system according to claim 10, further comprising means for calculating a dose distribution of the radiation.
別密度分布を有する物体の配列を含む箱体である場合
に、 上記計算手段が、該個別密度分布と、該被照射体に上記
測定用Ｘ線を照射して測定した該被照射体の上記密度分
布とから、該物質の配列を予測する手段を含み、 上記制御手段が、該個別密度分布のデータと該配列のデ
ータとを用いて、該被照射体に照射する上記照射用Ｘ線
を制御する制御手段であることを特徴とする請求項１０
に記載のＸ線照射システム。15. When the object to be irradiated is a box body including an array of a plurality of objects having substantially the same individual density distribution, the calculating means includes: From the density distribution of the irradiated object measured by irradiating the measurement X-rays, including means for predicting the arrangement of the substance, wherein the control means, the data of the individual density distribution and the data of the arrangement 11. A control means for controlling the irradiation X-rays irradiating the object to be irradiated by using the control unit.
3. The X-ray irradiation system according to claim 1.
換される電子線の電子線電流、電子線エネルギ、スキャ
ンパターン、スキャン幅、スキャン範囲、スキャンス速
度からなる組から選択される少なくとも１つのパラメー
タを制御する手段であることを特徴とする請求項１０に
記載のＸ線照射システム。16. The apparatus according to claim 16, wherein the control means selects at least one selected from the group consisting of an electron beam current, an electron beam energy, a scan pattern, a scan width, a scan range, and a scan speed of the electron beam to be converted into the irradiation X-ray. The X-ray irradiation system according to claim 10, wherein the X-ray irradiation system is means for controlling one parameter.
データと、上記電流測定装置で測定した上記電子線のビ
ーム電流量のデータとを用いて、該被照射体に照射され
る上記照射用Ｘ線の線量分布を計算する手段を含むこと
を特徴とする請求項１１に記載のＸ線照射システム。17. An irradiation method for irradiating the object using the data of the density distribution of the object and the data of the beam current of the electron beam measured by the current measuring device. The X-ray irradiation system according to claim 11, further comprising means for calculating an X-ray dose distribution for use.
される方向に対して略垂直な軸の回りで、該被照射体を
回転させながら、該被照射体に該測定用Ｘ線を照射する
ことを特徴とする請求項１０〜１７のいずれかに記載の
Ｘ線照射システム。18. The X-ray for measurement is applied to the object to be irradiated while rotating the object to be irradiated around an axis substantially perpendicular to the direction in which the X-ray for measurement is irradiated to the object to be irradiated. The X-ray irradiation system according to any one of claims 10 to 17, wherein the irradiation is performed.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001018455A JP2002221599A (en) | 2001-01-26 | 2001-01-26 | Electron beam irradiation system, and x-ray irradiation system |
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| JP2001018455A JP2002221599A (en) | 2001-01-26 | 2001-01-26 | Electron beam irradiation system, and x-ray irradiation system |
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|---|---|
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| JP2001018455A Pending JP2002221599A (en) | 2001-01-26 | 2001-01-26 | Electron beam irradiation system, and x-ray irradiation system |
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|---|---|
| JP (1) | JP2002221599A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006292682A (en) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Mitsubishi Electric Corp | Cad/cam apparatus and electron beam irradiation apparatus |
| JP2009532092A (en) * | 2006-03-31 | 2009-09-10 | シーレイト リミテッド ライアビリティー カンパニー | Method and system for inspection disinfection device |
| CN102079401A (en) * | 2009-10-29 | 2011-06-01 | 涩谷工业株式会社 | Electron beam sterilizer |
| CN109961869A (en) * | 2019-03-28 | 2019-07-02 | 中广核达胜加速器技术有限公司 | A kind of irradiance method and system of processing of optimization |
-
2001
- 2001-01-26 JP JP2001018455A patent/JP2002221599A/en active Pending
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| CN109961869A (en) * | 2019-03-28 | 2019-07-02 | 中广核达胜加速器技术有限公司 | A kind of irradiance method and system of processing of optimization |
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