JP2002177753A - High-efficiency agitating/cleaning device - Google Patents
High-efficiency agitating/cleaning deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、高効率攪拌洗浄装
置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-efficiency stirring and cleaning apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】電子機能材料、例えばカラーブラウン管
の蛍光膜形成に用いられる蛍光体は、表面に不純物が付
着していたり、内部に不純物イオンが含有されたり、し
ている。このような蛍光体をそのまま使用して蛍光膜を
形成すると、蛍光膜の品位を著しく低下させる。このた
め、前記蛍光体を水に分散させて蛍光体スラリーを調製
し、これを攪拌して蛍光体の水との接触増大することに
より洗浄することが行われている。2. Description of the Related Art An electronic functional material, for example, a phosphor used for forming a fluorescent film of a color cathode-ray tube has impurities attached to its surface or contains impurity ions inside. When a phosphor film is formed using such a phosphor as it is, the quality of the phosphor film is significantly reduced. For this reason, the phosphor is dispersed in water to prepare a phosphor slurry, which is stirred to wash the phosphor by increasing the contact of the phosphor with water.
【０００３】ところで、前記蛍光体の洗浄には従来より
図４、図５に示す構造の攪拌洗浄装置が用いられてい
る。[0003] By the way, conventionally, a stirring and cleaning apparatus having a structure shown in FIGS. 4 and 5 has been used for cleaning the phosphor.
【０００４】すなわち、図４の円筒形の洗浄槽３１は架
台３２に支持されている。前記洗浄槽３１は、上端が開
放され、かつ中央付近から下端に向かってテーパ状に絞
られた形状を有する。洗浄後の被洗浄スラリー（電子機
能材料、例えば蛍光体が水に分散された蛍光体スラリ
ー）を排出するための配管３３は、前記洗浄槽３１の下
端に接続されている。この配管３３には、バルブ３４が
介装されている。図示しない被洗浄スラリーの供給管
は、前記洗浄槽の側壁上部に接続されている。[0004] That is, the cylindrical cleaning tank 31 shown in FIG. The cleaning tank 31 has a shape in which an upper end is open and which is narrowed in a tapered shape from near the center to the lower end. A pipe 33 for discharging the washed slurry after washing (an electronically functional material, for example, a phosphor slurry in which a phosphor is dispersed in water) is connected to a lower end of the washing tank 31. A valve 34 is interposed in the pipe 33. A supply pipe for the slurry to be cleaned (not shown) is connected to an upper portion of the side wall of the cleaning tank.
【０００５】支持板３５は、前記洗浄槽３１の上端に固
定されている。回転機構３６は、前記支持板３５上に設
置されている。この回転機構３６は、前記支持板３５上
に図示しないねじにより固定されたケーシング３７と、
このケーシング３７に内蔵された減速機３８と、この減
速機３８上に設けられ、図示しない駆動軸が前記減速機
３８に結合されたモータ３９とから構成されている。回
転軸４０は、上端が前記減速機３８に結合され、かつ下
端が前記支持板３５を貫通して前記洗浄槽３１内に挿入
されている。攪拌羽根４１は、前記回転軸４０の下端に
取り付けられている。２枚の細長状の邪魔板４２ａ，４
２ｂは、前記洗浄槽３１の内壁面にその長手方向が上下
方向に延びるように互いに対向して取り付けられてい
る。[0005] A support plate 35 is fixed to the upper end of the cleaning tank 31. The rotation mechanism 36 is installed on the support plate 35. The rotation mechanism 36 includes a casing 37 fixed on the support plate 35 by screws (not shown),
It comprises a speed reducer 38 built in the casing 37 and a motor 39 provided on the speed reducer 38 and having a drive shaft (not shown) coupled to the speed reducer 38. The rotating shaft 40 has an upper end coupled to the speed reducer 38 and a lower end penetrating the support plate 35 and inserted into the cleaning tank 31. The stirring blade 41 is attached to a lower end of the rotating shaft 40. Two elongated baffle plates 42a, 42
2b are attached to the inner wall surface of the cleaning tank 31 so that the longitudinal direction thereof extends vertically.
【０００６】前述した図４、図５に示す攪拌洗浄装置の
動作を以下に説明する。The operation of the stirring and washing apparatus shown in FIGS. 4 and 5 will be described below.
【０００７】まず、図示しない供給管から被洗浄スラリ
ー４３を洗浄槽３１内に所望量（例えば洗浄槽３１の上
端開口部より少し下方のレベルになる量）供給する。回
転機構３６のモータ３９を回転し、減速機３８に結合さ
れた回転軸４０を回転させ、その下端の攪拌羽根４１を
回転させる。このような攪拌羽根４１の回転により、前
記洗浄槽３１内の被洗浄スラリー４３に水平方向の渦流
が発生すると共に、図４の一点鎖線に示すように前記２
枚の邪魔板４２ａ，４２ｂにより洗浄槽３１の内壁面近
傍から中心に向かい、更にその箇所から下方に向かう流
れ（縦方向の流れ）が生じる。このため、前記被洗浄ス
ラリー中の電子機能材料（例えば蛍光体）の攪拌効率が
高まり、水との接触チャンスが増大することにより表面
の不純物等の除去がなされる。First, a desired amount of the slurry 43 to be cleaned (for example, an amount slightly lower than the upper opening of the cleaning tank 31) is supplied into the cleaning tank 31 from a supply pipe (not shown). By rotating the motor 39 of the rotating mechanism 36, the rotating shaft 40 connected to the speed reducer 38 is rotated, and the stirring blade 41 at the lower end thereof is rotated. Such rotation of the stirring blade 41 generates a horizontal vortex in the slurry 43 to be cleaned in the cleaning tank 31 and, as shown by a dashed line in FIG.
The baffle plates 42a and 42b generate a flow (vertical flow) from the vicinity of the inner wall surface of the cleaning tank 31 toward the center and further downward from that location. For this reason, the stirring efficiency of the electronic functional material (for example, phosphor) in the slurry to be cleaned is increased, and the chance of contact with water is increased, thereby removing impurities and the like on the surface.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、２枚の
邪魔板４２ａ，４２ｂを洗浄槽３１内に配置して被洗浄
スラリーの流れを変更させる構造の場合、図５および図
６に示すように邪魔板４２ａ，４２ｂ付近に乱流が発生
すると共に、邪魔板４２ａ，４２ｂの付け根付近に溜ま
りが生じるため、被洗浄スラリー中の蛍光体のような電
子機能材料が前記乱流により邪魔板４２ａ，４２ｂに衝
突して破損する。電子機能材料の破損は、その使用製品
の品位を低下させるばかりか、洗浄歩留まりの低下を招
く。However, in the case of a structure in which two baffle plates 42a and 42b are arranged in the cleaning tank 31 to change the flow of the slurry to be cleaned, as shown in FIGS. Since turbulence occurs near the plates 42a and 42b and accumulation occurs near the bases of the baffle plates 42a and 42b, electronic functional materials such as phosphors in the slurry to be cleaned are disturbed by the baffle plates 42a and 42b. Collision and damage. Damage to the electronic functional material not only lowers the quality of the product used, but also lowers the cleaning yield.
【０００９】本発明は、被洗浄スラリー中の電子機能材
料に対してソフトな条件で効率よく攪拌、洗浄を実施す
ることが可能な高効率攪拌洗浄装置を提供するものであ
る。An object of the present invention is to provide a high-efficiency stirring and cleaning apparatus capable of efficiently performing stirring and cleaning of electronic functional materials in a slurry to be cleaned under soft conditions.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明に係る高効率攪拌
洗浄装置は、電子機能材料が水に分散された被洗浄スラ
リーが収容される洗浄槽と、前記洗浄槽内に配置され、
前記被洗浄スラリーを攪拌するための攪拌羽根と、前記
洗浄槽内に前記攪拌羽根の上方に位置するとともにその
洗浄槽内側面から離れた箇所に位置するように配置され
たバッフルと、前記バッフルを昇降させるための昇降手
段と、を具備し、前記バッフルは、前記攪拌羽根による
被洗浄スラリーの流れ方向に対して幅方向の面を下向き
に傾斜した少なくとも２枚以上のパドルがその長手方向
を水平方向に延出して取り付けられていることを特徴と
するものである。According to the present invention, there is provided a high-efficiency stirring / cleaning apparatus, comprising: a cleaning tank for storing a slurry to be cleaned in which an electronic functional material is dispersed in water;
A stirring blade for stirring the slurry to be cleaned, a baffle positioned above the stirring blade in the cleaning tank and arranged at a position away from the inner surface of the cleaning tank, and a baffle; Elevating means for elevating and lowering, wherein the baffle has at least two or more paddles whose width direction surfaces are inclined downward with respect to the flow direction of the slurry to be washed by the stirring blade, and the longitudinal direction of which is horizontal. It is characterized by being mounted so as to extend in the direction.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照して詳
細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【００１２】図１は、本発明の高効率攪拌洗浄装置を示
す断面図、図２は図１の要部横断面図、図３は図１の複
数枚のパドルを有するバッフルの構造を示す斜視図であ
る。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a high-efficiency stirring and cleaning apparatus of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part of FIG. 1, and FIG. 3 is a perspective view showing the structure of a baffle having a plurality of paddles of FIG. FIG.
【００１３】図１の円筒形の洗浄槽１は、架台２に支持
されている。前記洗浄槽１は、上端が開放され、かつ中
央付近から下端に向かってテーパ状に絞られた形状を有
する。洗浄後の被洗浄スラリー（電子機能材料、例えば
蛍光体が水に分散された蛍光体スラリー）を排出するた
めの配管３は、前記洗浄槽１の下端に接続されている。
この配管３には、バルブ４が介装されている。図示しな
い被洗浄スラリーの供給管は、前記洗浄槽の側壁上部に
接続されている。The cylindrical cleaning tank 1 shown in FIG. 1 is supported on a gantry 2. The cleaning tank 1 has a shape in which an upper end is opened and narrowed in a tapered shape from near the center to the lower end. A pipe 3 for discharging a slurry to be washed after washing (an electronic functional material, for example, a phosphor slurry in which a phosphor is dispersed in water) is connected to a lower end of the washing tank 1.
A valve 4 is interposed in the pipe 3. A supply pipe for the slurry to be cleaned (not shown) is connected to an upper portion of the side wall of the cleaning tank.
【００１４】支持板５は、前記洗浄槽１の上端に固定さ
れている。回転機構６は、前記支持板５上に設置されて
いる。この回転機構６は、前記支持板５上に図示しない
ねじにより固定されたケーシング７と、このケーシング
７に内蔵された減速機８と、この減速機８上に設けら
れ、図示しない駆動軸が前記減速機８に結合されたモー
タ９とから構成されている。回転軸１０は、上端が前記
減速機８に結合され、かつ下端が前記支持板５を貫通し
て前記洗浄槽１内に挿入されている。複数枚、例えば４
つの羽根を有する攪拌羽根１１は、前記回転軸１０の下
端に取り付けられている。The support plate 5 is fixed to the upper end of the washing tank 1. The rotation mechanism 6 is installed on the support plate 5. The rotation mechanism 6 includes a casing 7 fixed on the support plate 5 by screws (not shown), a speed reducer 8 built in the casing 7, and a drive shaft (not shown) provided on the speed reducer 8. And a motor 9 coupled to the speed reducer 8. The rotating shaft 10 has an upper end connected to the speed reducer 8 and a lower end inserted through the support plate 5 into the cleaning tank 1. Multiple sheets, for example, 4
The stirring blade 11 having two blades is attached to the lower end of the rotating shaft 10.
【００１５】２枚以上、例えば４枚のパドル１２が水平
方向に放射状に取り付けられたバッフル１３は、前記攪
拌羽根１１の上方に位置する前記洗浄槽１内に配置さ
れ、かつ中心に前記回転軸１０が貫通されている。この
バッフル１３の各パドル１２は、図３に示すように被洗
浄スラリーに流れ方向（図中の矢印の方向）に対して幅
方向の面を下向きに傾斜している。A baffle 13 to which two or more, for example, four paddles 12 are radially mounted in a horizontal direction is disposed in the washing tank 1 located above the stirring blade 11, and the rotating shaft is provided at the center. 10 are penetrated. As shown in FIG. 3, each paddle 12 of the baffle 13 has its widthwise surface inclined downward with respect to the flow direction of the slurry to be cleaned (the direction of the arrow in the figure).
【００１６】なお、前記バッフル１３の各パドル１２は
被洗浄スラリーに流れ方向に対して幅方向の面を下向き
に０°を超え、９０°以下の角度で傾斜されていること
が好ましい。これらパドル１２の傾斜角度が前記範囲を
逸脱すると前記攪拌羽根１１で攪拌することにより発生
した被洗浄スラリーの水平方向への流れを垂直方向に効
率よく変えることが困難になる。また、前記各パドル１
２の長さは、前記攪拌羽根１１の回転による円形軌跡の
半径より長くすることが好ましい。It is preferable that each paddle 12 of the baffle 13 is inclined at an angle of more than 0 ° and 90 ° or less downward in the width direction with respect to the flow direction of the slurry to be washed. If the inclination angle of these paddles 12 deviates from the above range, it becomes difficult to efficiently change the horizontal flow of the slurry to be cleaned generated by stirring with the stirring blades 11 in the vertical direction. Each paddle 1
It is preferable that the length of 2 is longer than the radius of the circular locus due to the rotation of the stirring blade 11.
【００１７】前記バッフル１３は、昇降機構１４により
昇降される。この昇降機構１４は、２段階に屈曲された
形状をなし、前記バッフル１３のパドル１２上面に下端
が取り付け、垂直方向の立ち上がり部が前記支持板５を
貫通して上方に延出された第１支持部材１５を有する。
この第１支持部材１５は、前記支持板５を貫通する立ち
上がり部の外面に後述するピニオンと噛合するラック部
１６が形成されている。第２支持部材１７は、２段階に
屈曲された形状をなし、前記第１支持部材１５が取り付
けられる前記バッフル１３のパドル１２と対向するパド
ル１２上面に下端が取り付けら、垂直方向の立ち上がり
部が前記支持板５を貫通して上方に延出されている。正
逆方向に回転される駆動軸（図示せず）を有する昇降用
モータ１８は、前記支持板５上に設置されている。この
モータ１８の駆動軸には、前記第１支持部材１５のラッ
ク部１６に噛合するピニオン１９が軸着されている。前
記第２支持部材１７の上下動作をガイドするためのガイ
ド部材２０は、前記支持板５上に設けられている。この
ような構成の昇降機構１４において、そのモータ１８を
駆動してその駆動軸に連結されたピニオン１９を例えば
時計回り方向に回転させると、このピニオン１９と噛合
するラック部１６を有する第１支持部材１５が下降し、
この第１支持部材１５およびガイド部材２０でガイドさ
れる第２支持部材１７の下端に取着された前記複数のパ
ドル１２を有するバッフル１３が下降する。一方、前記
昇降機構１４のモータ１８を駆動してその駆動軸に連結
されたピニオン１９を例えば反時計回り方向に回転させ
ると、このピニオン１９と噛合するラック部１６を有す
る第１支持部材１５が上昇し、この第１支持部材１５お
よびガイド部材２０でガイドされる第２支持部材１７の
下端に取着された前記複数のパドル１２を有するバッフ
ル１３が上昇する。The baffle 13 is raised and lowered by a lifting mechanism 14. This elevating mechanism 14 has a shape bent in two stages, a lower end of which is attached to the upper surface of the paddle 12 of the baffle 13, and a vertical rising portion extends upward through the support plate 5. It has a support member 15.
The first support member 15 has a rack portion 16 formed on an outer surface of a rising portion penetrating the support plate 5 so as to mesh with a pinion described later. The second support member 17 has a shape bent in two stages, and a lower end is attached to an upper surface of the paddle 12 facing the paddle 12 of the baffle 13 to which the first support member 15 is attached, and a vertical rising portion is provided. The support plate 5 extends upward through the support plate 5. An elevating motor 18 having a drive shaft (not shown) rotated in forward and reverse directions is installed on the support plate 5. A pinion 19 that meshes with the rack 16 of the first support member 15 is mounted on the drive shaft of the motor 18. A guide member 20 for guiding the vertical movement of the second support member 17 is provided on the support plate 5. In the elevating mechanism 14 having such a configuration, when the motor 18 is driven to rotate the pinion 19 connected to the drive shaft, for example, clockwise, the first support having the rack 16 meshing with the pinion 19 is provided. The member 15 descends,
The baffle 13 having the plurality of paddles 12 attached to the lower ends of the first support member 15 and the second support member 17 guided by the guide member 20 is lowered. On the other hand, when the motor 18 of the elevating mechanism 14 is driven to rotate the pinion 19 connected to the drive shaft thereof in, for example, a counterclockwise direction, the first support member 15 having the rack 16 meshing with the pinion 19 is rotated. The baffle 13 having the plurality of paddles 12 attached to the lower end of the second support member 17 guided by the first support member 15 and the guide member 20 rises.
【００１８】次に、前述した高効率攪拌洗浄装置の作用
を説明する。Next, the operation of the above-described high-efficiency stirring and washing apparatus will be described.
【００１９】まず、図示しない供給管から被洗浄スラリ
ーを洗浄槽１内に所望量（例えば洗浄槽１の上端開口部
より少し下方のレベルになる量）供給する。回転機構６
のモータ９を回転し、減速機８に結合された回転軸１０
を回転させ、その下端の攪拌羽根１１を回転させる。こ
のような攪拌羽根１１の回転により、前記洗浄槽１内の
被洗浄スラリー２１に水平方向の渦流が発生する。この
時、前記洗浄槽１の上方に図３に示すように被洗浄スラ
リーの流れ方向（図中の矢印の方向）に対して幅方向の
面を下向きに傾斜した例えば４つのパドル１２を有する
バッフル１３が配置されているため、図１の一点鎖線に
示すように前記攪拌羽根１１による被洗浄スラリー２１
の水平方向の流れが前記４つのパドル１２により洗浄槽
１の中心から下方に向かう流れ（縦方向の流れ）に変化
される。このため、従来のように洗浄槽の内壁面に配置
した邪魔板に被洗浄スラリーが衝突することなく、ソフ
トな攪拌状態で前記被洗浄スラリー２１中の電子機能材
料（例えば蛍光体）の攪拌効率を高めることができる。
その結果、前記電子機能材料が破損することなく、その
電子機能材料と水との接触チャンスを増大させることが
できるため、表面の不純物等を除去して高効率の攪拌洗
浄を行なうことができる。First, a desired amount of slurry to be washed (for example, an amount that is slightly lower than the upper end opening of the washing tank 1) is supplied into the washing tank 1 from a supply pipe (not shown). Rotation mechanism 6
The motor 9 rotates, and the rotating shaft 10 connected to the speed reducer 8
Is rotated, and the stirring blade 11 at the lower end is rotated. Such rotation of the stirring blade 11 generates a horizontal vortex in the slurry 21 to be cleaned in the cleaning tank 1. At this time, a baffle having, for example, four paddles 12 whose upper surface in the width direction is inclined downward with respect to the flow direction of the slurry to be cleaned (the direction of the arrow in the figure) above the cleaning tank 1 as shown in FIG. 1, the slurry 21 to be cleaned by the stirring blades 11 as shown by the one-dot chain line in FIG.
Is changed by the four paddles 12 into a flow (longitudinal flow) directed downward from the center of the cleaning tank 1. Accordingly, the stirring efficiency of the electronically functional material (for example, phosphor) in the slurry 21 to be washed is kept in a soft stirring state without the slurry to be washed colliding with the baffle plate arranged on the inner wall surface of the washing tank as in the prior art. Can be increased.
As a result, the chance of contact between the electronically functional material and water can be increased without damaging the electronically functional material, so that impurities and the like on the surface can be removed and highly efficient agitation cleaning can be performed.
【００２０】また、昇降機構１４により前記複数のパド
ル１２を有するバッフル１３を昇降させることができる
ため、前記バッフル１３を前記被洗浄スラリーの濃度、
容量および前記攪拌羽根１１にする被洗浄スラリーの攪
拌速度等に対応して前記洗浄槽１に位置設定でき、被洗
浄スラリーを高効率の攪拌洗浄を実行できる。Further, since the baffle 13 having the plurality of paddles 12 can be moved up and down by the elevating mechanism 14, the baffle 13 is moved up and down with the concentration of the slurry to be cleaned.
The position can be set in the washing tank 1 in accordance with the capacity and the stirring speed of the slurry to be washed to be used as the stirring blades 11, and the washing of the slurry to be washed can be performed with high efficiency.
【００２１】さらに、前記バッフル１３の各パドル１２
の長さを前記攪拌羽根１１の回転による円形軌跡の半径
より長くすれば、前記攪拌羽根１１による被洗浄スラリ
ー２１の水平方向の流れをより効率よく洗浄槽１の中心
から下方に向かう流れ（縦方向の流れ）に変化させるこ
とができるため、被洗浄スラリーを一層効率よく攪拌洗
浄することができる。Further, each paddle 12 of the baffle 13
Is longer than the radius of the circular trajectory caused by the rotation of the stirring blade 11, the horizontal flow of the slurry 21 to be washed by the stirring blade 11 is more efficiently directed downward from the center of the washing tank 1 (vertically). Direction), the slurry to be cleaned can be stirred and cleaned more efficiently.
【００２２】[0022]
【実施例】以下、好ましい実施例を詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments will be described below in detail.
【００２３】（実施例１）図３に示すように被洗浄スラ
リーに流れ方向（図中の矢印の方向）に対して幅方向の
面を下向きに４５°の角度で傾斜させ、かつ攪拌羽根１
１の回転による円形軌跡の半径より長い４枚のパドル１
２を有するバッフル１３を洗浄槽１内に組み込みで図１
および図２に示す高効率攪拌洗浄装置を組み立てた。(Example 1) As shown in FIG. 3, the width direction of the slurry to be cleaned was inclined downward at an angle of 45 ° with respect to the flow direction (the direction of the arrow in the figure).
Four paddles 1 longer than the radius of the circular locus due to one rotation
A baffle 13 having a baffle 2 is incorporated in the washing tank 1 and FIG.
And the high-efficiency stirring and washing apparatus shown in FIG. 2 was assembled.
【００２４】この装置の洗浄槽１内に蛍光体が水に分散
された被洗浄スラリーを水位が前記バッフル１３の位置
より上方になるように供給し、モータ９を回転させて攪
拌羽根１１を回転させて前記被洗浄スラリー中の蛍光体
を洗浄した。The slurry to be washed in which the phosphor is dispersed in water is supplied into the washing tank 1 of this apparatus so that the water level is higher than the position of the baffle 13, and the motor 9 is rotated to rotate the stirring blade 11. Thus, the phosphor in the slurry to be washed was washed.
【００２５】その結果、蛍光体が破損することなくその
表面の不純物や内部の残留イオンの除去して高効率の攪
拌洗浄を行なうことができた。As a result, it was possible to remove impurities on the surface and residual ions inside the phosphor without damaging the phosphor, thereby performing highly efficient stirring and cleaning.
【００２６】[0026]
【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る高効率
攪拌洗浄装置よれば、被洗浄スラリー中の蛍光体等の電
子機能材料に対してソフトな条件で効率よく攪拌、洗浄
を実施することができ、ひいては洗浄歩留まりの向上、
の電子機能材料の使用製品の性能向上を図ることができ
る等顕著な効果を奏する。As described above in detail, according to the high-efficiency stirring and cleaning apparatus of the present invention, an electronic functional material such as a phosphor in a slurry to be cleaned is efficiently stirred and cleaned under soft conditions. That can improve cleaning yield,
It has a remarkable effect such as improvement of the performance of a product using the electronic functional material.
【図１】本発明に係る高効率攪拌洗浄装置を示す断面
図。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a high-efficiency stirring and cleaning apparatus according to the present invention.
【図２】図１の要部横断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part of FIG.
【図３】図１の複数枚のパドルを有するバッフルの構造
を示す斜視図。FIG. 3 is a perspective view showing a structure of a baffle having a plurality of paddles shown in FIG. 1;
【図４】従来の攪拌洗浄装置を示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a conventional stirring and cleaning device.
【図５】図４の要部断面図、FIG. 5 is a sectional view of a main part of FIG. 4,
【図６】図４の従来の攪拌洗浄装置の問題点を説明する
ための斜視図。FIG. 6 is a perspective view for explaining a problem of the conventional stirring and washing apparatus of FIG. 4;
１…洗浄槽、 ６…回転機構、 １１…攪拌羽根、 １２…パドル、 １３…バッフル、 １４…昇降機構、 ２１…被洗浄スラリー。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cleaning tank, 6 ... Rotating mechanism, 11 ... Stirring blade, 12 ... Paddle, 13 ... Baffle, 14 ... Elevating mechanism, 21 ... Slurry to be washed.
Claims (3)
ラリーが収容される洗浄槽と、 前記洗浄槽内に配置され、前記被洗浄スラリーを攪拌す
るための攪拌羽根と、 前記洗浄槽内に前記攪拌羽根の上方に位置するとともに
その洗浄槽内側面から離れた箇所に位置するように配置
されたバッフルと、 前記バッフルを昇降させるための昇降手段と、を具備
し、 前記バッフルは、前記攪拌羽根による被洗浄スラリーの
流れ方向に対して幅方向の面を下向きに傾斜した少なく
とも２枚以上のパドルがその長手方向を水平方向に延出
して取り付けられていることを特徴とする高効率攪拌洗
浄装置。1. A cleaning tank for storing a slurry to be cleaned in which an electronically functional material is dispersed in water; a stirring blade disposed in the cleaning tank for stirring the slurry to be cleaned; A baffle located above the stirring blade and located at a position distant from the inner surface of the washing tank, and lifting means for lifting and lowering the baffle, the baffle comprises: Highly efficient stirring characterized in that at least two or more paddles whose horizontal surfaces are inclined downward with respect to the flow direction of the slurry to be washed by the stirring blades are attached so that their longitudinal directions extend in the horizontal direction. Cleaning equipment.
スラリーの流れ方向に対して幅方向の面を下向きに０°
を超え、９０°以下の角度で傾斜されていることを特徴
とする請求項１記載の高効率攪拌洗浄装置。2. The paddle of the baffle has a surface in the width direction which is 0 ° downward with respect to the flow direction of the slurry to be cleaned.
2. The high-efficiency stirring and washing apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is inclined at an angle exceeding 90 ° and 90 ° or less.
攪拌羽根の回転による円形軌跡の半径より長いことを特
徴とする請求項１または２記載の高効率攪拌洗浄装置。3. The high-efficiency stirring and washing apparatus according to claim 1, wherein a length of each paddle of the baffle is longer than a radius of a circular locus due to rotation of the stirring blade.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000383623A JP2002177753A (en) | 2000-12-18 | 2000-12-18 | High-efficiency agitating/cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000383623A JP2002177753A (en) | 2000-12-18 | 2000-12-18 | High-efficiency agitating/cleaning device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002177753A true JP2002177753A (en) | 2002-06-25 |
Family
ID=18851246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000383623A Pending JP2002177753A (en) | 2000-12-18 | 2000-12-18 | High-efficiency agitating/cleaning device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002177753A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005211822A (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Furukawa:Kk | Waste liquid treatment system |
| JP2007136432A (en) * | 2005-11-22 | 2007-06-07 | Toagosei Co Ltd | Mixer and mixing method using the same |
| CN105818269A (en) * | 2016-05-18 | 2016-08-03 | 蒙德荣 | Gypsum slurry stirring machine |
| CN111589404A (en) * | 2020-06-16 | 2020-08-28 | 福建省龙德新能源股份有限公司 | Agitating unit for chemical production of steerable reaction temperature homogeneity |
-
2000
- 2000-12-18 JP JP2000383623A patent/JP2002177753A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2005211822A (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Furukawa:Kk | Waste liquid treatment system |
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| CN111589404A (en) * | 2020-06-16 | 2020-08-28 | 福建省龙德新能源股份有限公司 | Agitating unit for chemical production of steerable reaction temperature homogeneity |
| CN111589404B (en) * | 2020-06-16 | 2022-04-26 | 福建省龙德新能源有限公司 | Agitating unit for chemical production of steerable reaction temperature homogeneity |
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