JP2002174602A - Method and device for detecting defect of gray tone mask - Google Patents
Method and device for detecting defect of gray tone maskInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、グレートーンマス
クの欠陥検査方法及び欠陥検査装置等に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method and an apparatus for inspecting a defect of a gray-tone mask.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、大型ＬＣＤ用マスクの分野におい
て、グレートーンマスクを用いてマスク枚数を削減する
試みがなされている（月刊ＦＰＤ Intelligence，1999
年5月）。ここで、グレートーンマスクは、図４（１）
に示すように、透明基板上に、遮光部１と、透過部２
と、グレートーン部３とを有する。グレートーン部３
は、例えば、グレートーンマスクを使用する大型ＬＣＤ
用露光機の解像限界以下の遮光パターン３ａを形成した
領域であって、この領域を透過する光の透過量を低減し
この領域による照射量を低減してフォトレジストの膜厚
を選択的に変えることを目的として形成される。３ｂは
グレートーン部３における露光機の解像限界以下の微細
透過部である。遮光部１と遮光パターン３ａはともにク
ロムやクロム化合物等の同じ材料からなる同じ厚さの膜
から通常形成されている。透過部２と微細透過部３ｂは
ともに、透明基板上において遮光膜等が形成されていな
い透明基板の部分である。グレートーンマスクを使用す
る大型ＬＣＤ用露光機の解像限界は、ステッパ方式の露
光機で約３μｍ、ミラープロジェクション方式の露光機
で約４μｍである。このため、例えば、図４（１）でグ
レートーン部３における透過部３ｂのスペース幅を３μ
ｍ未満、露光機の解像限界以下の遮光パターン３ａのラ
イン幅を３μｍ未満とする。上記大型ＬＣＤ用露光機で
露光した場合、グレートーン部３を通過した露光光は全
体として露光量が足りなくなるため、このグレートーン
部３を介して露光したポジ型フォトレジストは膜厚が薄
くなるだけで基板上に残る。つまり、レジストは露光量
の違いによって通常の遮光部１に対応する部分とグレー
トーン部３に対応する部分で現像液に対する溶解性に差
ができるため、現像後のレジスト形状は、図４（２）に
示すように、通常の遮光部１に対応する部分１’が例え
ば約１．３μｍ、グレートーン部３に対応する部分３’
が例えば約０．３μｍ、透過部２に対応する部分はレジ
ストのない部分２’となる。そして、レジストのない部
分２’で被加工基板の第１のエッチングを行い、グレー
トーン部３に対応する薄い部分３’のレジストをアッシ
ング等によって除去しこの部分で第２のエッチングを行
うことによって、１枚のマスクで従来のマスク２枚分の
工程を行い、マスク枚数を削減する。2. Description of the Related Art In recent years, in the field of masks for large LCDs, attempts have been made to reduce the number of masks by using gray-tone masks (Monthly FPD Intelligence, 1999).
May). Here, the gray-tone mask is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, a light shielding portion 1 and a transmission portion 2 are formed on a transparent substrate.
And a gray tone portion 3. Gray tone part 3
Is a large LCD using a gray-tone mask, for example.
Area where the light-shielding pattern 3a below the resolution limit of the exposure machine is formed, the amount of light transmitted through this area is reduced, the amount of irradiation in this area is reduced, and the photoresist film thickness is selectively changed. Formed for the purpose of changing. Reference numeral 3b denotes a fine transmission portion of the gray tone portion 3 which is smaller than the resolution limit of the exposure machine. Both the light-shielding portion 1 and the light-shielding pattern 3a are usually formed from films of the same thickness made of the same material such as chromium or a chromium compound. Both the transmitting portion 2 and the fine transmitting portion 3b are portions of the transparent substrate where no light-shielding film or the like is formed on the transparent substrate. The resolution limit of a large LCD exposure machine using a gray-tone mask is about 3 μm for a stepper type exposure machine and about 4 μm for a mirror projection type exposure machine. Therefore, for example, in FIG. 4A, the space width of the transmission portion 3b in the gray tone portion 3 is set to 3 μm.
m, and the line width of the light-shielding pattern 3a that is less than the resolution limit of the exposure device is less than 3 μm. When the exposure is performed by the above-described large-sized LCD exposure machine, the exposure light passing through the gray tone portion 3 has a short exposure amount as a whole, so that the positive photoresist exposed through the gray tone portion 3 has a small film thickness. Just remain on the substrate. In other words, the resist has a difference in solubility in the developing solution between the portion corresponding to the normal light shielding portion 1 and the portion corresponding to the gray tone portion 3 due to the difference in the exposure amount. As shown in ()), a portion 1 ′ corresponding to a normal light shielding portion 1 is, for example, about 1.3 μm, and a portion 3 ′ corresponding to a gray tone portion 3.
For example, the portion corresponding to the transmission part 2 is about 0.3 μm, and the part corresponding to the transmission part 2 is a part 2 ′ without resist. Then, the substrate to be processed is subjected to the first etching in the portion 2 'having no resist, the resist in the thin portion 3' corresponding to the gray tone portion 3 is removed by ashing or the like, and the second etching is performed in this portion. (1) The process for two conventional masks is performed with one mask to reduce the number of masks.
【０００３】遮光部及び透過部のみからなる従来のマス
クの検査方法について説明する。図７（１）は、遮光部
１に白欠陥４（ピンホール）、透過部２に黒欠陥５（ス
ポット）が発生した状態を示し、矢印は比較検査装置の
一方のレンズ（以下、上レンズという）の走査の様子を
示す。図７（２）は、上記レンズの走査線に沿って得ら
れる透過量信号７を示す。透過量信号７は、例えば各レ
ンズユニット内に配置されたＣＣＤラインセンサによっ
て検出する。透過量信号７のレベルは、遮光部１でＢ、
透過部２でＷであり、遮光部１の透過率を０％、透過部
２の透過率を１００％、にそれぞれ設定する。透過量信
号７は、パターンのエッジ（遮光部と透過部との境界）
で生じるパターンエッジライン信号（パターン形状信
号）で基本的に構成され、欠陥が発生した場合は、遮光
部１に発生した白欠陥信号４’、透過部２に発生した黒
欠陥信号５’が現れる。図７（３）は、図７（１）と同
じパターンであって欠陥が発生していない場合に、他方
のレンズ（以下、下レンズという）で得られる透過量信
号７’を示す。図７（４）は、各レンズで得られた透過
量信号を引き算（差分）して求めた差信号８である。よ
り具体的には、図７（２）の透過量信号７から図７
（３）の透過量信号７’を引き算して求めた差信号であ
る。差信号８では、各レンズの透過量信号からパターン
エッジライン信号が除かれ、欠陥信号４’、５’のみが
抽出される。図７（５）は、欠陥信号のみを抽出した差
信号８において、遮光部１及び透過部２の欠陥を抽出す
るのに必要な閾値を設定し、プラス側の閾値９ａで白欠
陥が、マイナス側の閾値９ｂで黒欠陥がそれぞれ検出さ
れた状態を示す。閾値は低くすれば検出感度が上がる
が、疑似欠陥を拾はないレベルに設定する必要がある。
どちらのレンズにどのような欠陥が発生したかを見極め
るためには、例えば、上レンズの回路では下レンズの信
号と比較し（上レンズの信号から下レンズの信号を引き
算し）、上レンズの遮光部１に白欠陥が発生した場合は
プラス側、上レンズの透過部２に黒欠陥が発生した場合
はマイナス側に欠陥信号が出ることによって、上レンズ
の白欠陥、黒欠陥を検出する（上記図７（２）〜
（５））。同様に、例えば、下レンズの回路では上レン
ズの信号と比較し（下レンズの信号から上レンズの信号
を引き算し）、下レンズの遮光部１に白欠陥が発生した
場合はプラス側、下レンズの透過部２に黒欠陥が発生し
た場合はマイナス側に欠陥信号が出ることによって、下
レンズの白欠陥、黒欠陥を検出する。A conventional mask inspection method including only a light shielding portion and a transmission portion will be described. FIG. 7A shows a state in which a white defect 4 (pinhole) has occurred in the light-shielding portion 1 and a black defect 5 (spot) has occurred in the transmission portion 2, and an arrow indicates one of the lenses (hereinafter, upper lens) of the comparative inspection apparatus. ) Is shown. FIG. 7B shows a transmission amount signal 7 obtained along the scanning line of the lens. The transmission amount signal 7 is detected by, for example, a CCD line sensor disposed in each lens unit. The level of the transmission amount signal 7 is B,
It is W in the transmission part 2, and the transmittance of the light shielding part 1 is set to 0%, and the transmittance of the transmission part 2 is set to 100%. The transmission amount signal 7 is the edge of the pattern (the boundary between the light shielding part and the transmission part)
When a defect occurs, a white defect signal 4 'generated in the light-shielding portion 1 and a black defect signal 5' generated in the transmitting portion 2 appear. . FIG. 7 (3) shows a transmission amount signal 7 'obtained by the other lens (hereinafter, referred to as a lower lens) when the pattern is the same as that of FIG. 7 (1) and no defect occurs. FIG. 7D shows a difference signal 8 obtained by subtracting (difference) the transmission amount signal obtained by each lens. More specifically, the transmission amount signal 7 shown in FIG.
This is a difference signal obtained by subtracting the transmission amount signal 7 'of (3). In the difference signal 8, the pattern edge line signal is removed from the transmission signal of each lens, and only the defect signals 4 'and 5' are extracted. FIG. 7 (5) shows that, in the difference signal 8 in which only the defect signal is extracted, a threshold value necessary for extracting a defect in the light shielding portion 1 and the transmission portion 2 is set. 6 shows a state in which a black defect is detected at the threshold value 9b on the side. If the threshold is lowered, the detection sensitivity is increased, but it is necessary to set the threshold to a level at which a pseudo defect is not picked up.
In order to determine what kind of defect has occurred in which lens, for example, the circuit of the upper lens compares the signal of the lower lens with the signal of the lower lens (subtracts the signal of the lower lens from the signal of the upper lens). A white defect and a black defect of the upper lens are detected by outputting a defect signal to the plus side when a white defect occurs in the light-shielding portion 1 and to a minus side when a black defect occurs in the transmission portion 2 of the upper lens ( FIG. 7 (2)-
(5)). Similarly, for example, in the circuit of the lower lens, the signal of the upper lens is compared with the signal of the upper lens (the signal of the upper lens is subtracted from the signal of the lower lens). When a black defect occurs in the transmission portion 2 of the lens, a white defect and a black defect of the lower lens are detected by outputting a defect signal on the minus side.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の比較検
査装置は、遮光部及び透過部のみからなる従来のマスク
を検査するための装置であるため、グレートーン部を有
するグレートーンマスクを検査することができない。詳
しくは、上述したように遮光部及び透過部の欠陥を抽出
するのに必要な閾値に合わせた場合、グレートーン部の
欠陥信号は、グレートーン部を構成するパターンが微細
であり通常欠陥自体が微小であるため弱く、閾値が高す
ぎて、グレートーン部の欠陥を抽出できない。仮に、グ
レートーン部の欠陥を抽出するのに必要な閾値に合わせ
た場合、遮光部及び透過部の疑似欠陥を拾ってしまうた
め遮光部及び透過部の欠陥を抽出できないばかりか、こ
れらの疑似欠陥とグレートーン部の欠陥とを区別でき
ず、したがってグレートーン部の欠陥を検査できない。
さらに、従来装置では、欠陥抽出閾値をプラス側・マイ
ナス側に各一ラインづつしか設定できない。Since the above-described conventional inspection apparatus is an apparatus for inspecting a conventional mask having only a light-shielding part and a transmission part, it inspects a gray-tone mask having a gray-tone part. Can not do. Specifically, as described above, when the threshold value necessary for extracting the defects of the light-shielding portion and the transmission portion is adjusted, the defect signal of the gray-tone portion is such that the pattern constituting the gray-tone portion is fine and the defect itself usually has no defect. Since it is minute, it is weak and the threshold value is too high, so that a defect in the gray tone portion cannot be extracted. If the threshold value required for extracting the defect in the gray-tone portion is set, a pseudo defect in the light-shielding portion and the transmission portion is picked up. Cannot be distinguished from the defect in the gray tone portion, and therefore, the defect in the gray tone portion cannot be inspected.
Further, in the conventional apparatus, the defect extraction threshold can be set only for each line on the plus side and the minus side.
【０００５】本発明は、グレートーン部を有するグレー
トーンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置の提供を
目的とする。An object of the present invention is to provide a defect inspection method and a defect inspection apparatus for a gray-tone mask having a gray-tone portion.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は以下の構成を有
する。The present invention has the following arrangement.
【０００７】（構成１） 遮光部と、透過部と、透過量
を調整した領域であってこの領域を透過する光の透過量
を低減してフォトレジストの膜厚を選択的に変えること
を目的とするグレートーン部とを有するグレートーンマ
スクの欠陥検査方法であって、遮光部及び透過部が形成
されている領域とグレートーン部が形成されている領域
とを識別し、それぞれの領域に適した欠陥検査手段を用
いてそれぞれの領域を検査することを特徴とするグレー
トーンマスクの欠陥検査方法。(Structure 1) A light-shielding portion, a transmitting portion, and a region in which the amount of transmission is adjusted. The object is to reduce the amount of light transmitted through this region and selectively change the thickness of the photoresist. A gray-tone mask defect inspection method having a gray-tone portion to identify a region where a light-shielding portion and a transmission portion are formed and a region where a gray-tone portion is formed, and A defect inspection method for a gray-tone mask, wherein each of the regions is inspected using a defect inspection means.
【０００８】（構成２） 前記グレートーン部が、グレ
ートーンマスクを使用する露光機の解像限界以下の遮光
パターンを形成した領域であることを特徴とする構成１
に記載の欠陥検査方法。(Structure 2) Structure 1 is characterized in that the gray-tone portion is a region where a light-shielding pattern less than the resolution limit of an exposure device using a gray-tone mask is formed.
3. The defect inspection method according to 1.
【０００９】（構成３） 遮光部と、透過部と、透過量
を調整した領域であってこの領域を透過する光の透過量
を低減してフォトレジストの膜厚を選択的に変えること
を目的とするグレートーン部とを有するグレートーンマ
スクの欠陥検査方法であって、マスク内に形成された同
一パターンを相互に比較することによって欠陥を検出す
る比較検査手法を用い、パターンの相違に応じて現れる
情報の閾値として、通常の遮光部及び透過部の欠陥抽出
閾値に加え、グレートーン部専用の欠陥抽出閾値を新た
に設け、かつ、遮光部及び透過部と、グレートーン部と
のいずれの領域を検査しているのかを識別し、遮光部又
は透過部を検査している場合は遮光部・透過部用欠陥抽
出閾値を用いて通常欠陥の検査を行い、グレートーン部
を検査している場合はグレートーン部専用の欠陥抽出閾
値を用いてグレートーン部の欠陥検査を行うことを特徴
とする欠陥検査方法。(Structure 3) A light-shielding portion, a transmitting portion, and a region in which the amount of transmission is adjusted. The object is to reduce the amount of light transmitted through this region and selectively change the thickness of the photoresist. A gray-tone mask defect inspection method having a gray-tone portion and a comparison inspection method of detecting a defect by comparing the same pattern formed in the mask with each other, and according to the pattern difference. As a threshold for the information to appear, a defect extraction threshold dedicated to the gray-tone part is newly provided in addition to the defect extraction threshold of the normal light-shielding part and the transmission part, and any area of the light-shielding part and the transmission part and the gray-tone part is provided. In the case of inspecting a light-shielding part or a transmissive part, performing a normal defect inspection using the light-shielding part / transmissive part defect extraction threshold and inspecting a gray-tone part A defect inspection method for performing a defect inspection of a graytone portion using a defect extraction threshold dedicated to the graytone portion.
【００１０】（構成４） 前記グレートーン部は、グレ
ートーンマスクを使用する露光機の解像限界以下の遮光
パターンを形成した領域であって、該グレートーン部に
特有のベース信号レベルを超えるレベルに欠陥抽出閾値
を設定することを特徴とする構成３に記載の欠陥検査方
法。(Structure 4) The gray tone portion is a region where a light-shielding pattern less than the resolution limit of an exposure machine using a gray tone mask is formed, and has a level exceeding a base signal level specific to the gray tone portion. 3. The defect inspection method according to configuration 3, wherein a defect extraction threshold value is set in the defect inspection threshold value.
【００１１】（構成５） 前記グレートーン部は、膜を
透過する光の透過量を制御しうる半透過膜を形成した領
域であって、該グレートーン部の許容透過量を超えるレ
ベルに欠陥抽出閾値を設定することを特徴とする構成３
に記載の欠陥検査方法。(Structure 5) The gray tone portion is a region where a semi-transmissive film capable of controlling the amount of light transmitted through the film is formed, and a defect is extracted to a level exceeding the permissible transmission amount of the gray tone portion. Configuration 3 characterized by setting a threshold
3. The defect inspection method according to 1.
【００１２】（構成６） 遮光部と、透過部と、透過量
を調整した領域であってこの領域を透過する光の透過量
を低減してフォトレジストの膜厚を選択的に変えること
を目的とするグレートーン部とを有するグレートーンマ
スクの欠陥検査装置であって、マスク内に形成された同
一パターン部分を平行光源及び受光レンズによってそれ
ぞれ走査し、透過量信号をそれぞれ検出する手段と、透
過量信号同士を相互に比較して差信号を得る手段と、遮
光部・透過部とグレートーン部とのいずれの領域を検査
いているのかを識別する手段と、遮光部・透過部を検査
していると判断した場合は、遮光部・透過部用欠陥抽出
閾値を用い、前記差信号が遮光部・透過部用欠陥抽出閾
値を超えた場合欠陥と判定する手段と、グレートーン部
を検査していると判断した場合は、グレートーン部専用
欠陥抽出閾値を用い、前記差信号がグレートーン部専用
欠陥抽出閾値を超えた場合欠陥と判定する手段と、を有
することを特徴とする欠陥検査装置。(Structure 6) A light-shielding portion, a transmitting portion, and a region in which the amount of transmission is adjusted. The object is to reduce the amount of light transmitted through this region and selectively change the thickness of the photoresist. A gray-tone mask defect inspecting apparatus, wherein the same pattern portions formed in the mask are respectively scanned by a parallel light source and a light receiving lens, and a transmission amount signal is detected, and a transmission amount signal is detected. A means for comparing the quantity signals with each other to obtain a difference signal; a means for identifying which area of the light-shielding part / transmission part and the gray-tone part is being inspected; and a means for inspecting the light-shielding part / transmission part. If it is determined that there is a defect detection threshold for the light-shielding part / transmission part, the means for determining a defect when the difference signal exceeds the defect extraction threshold for the light-shielding part / transmission part, and inspecting the gray tone part If it is Means for determining a defect when the difference signal exceeds the gray-tone part-specific defect extraction threshold using a gray-tone part-specific defect extraction threshold when the defect is detected.
【００１３】（構成７） グレートーンマスクが表示装
置製造用マスクであることを特徴とする構成１〜５のい
ずれかに記載の欠陥検査方法。(Structure 7) The defect inspection method according to any one of structures 1 to 5, wherein the gray tone mask is a mask for manufacturing a display device.
【００１４】[0014]
【作用】構成１及び構成２によれば、遮光部及び透過部
が形成されている領域とグレートーン部が形成されてい
る領域とを識別し、それぞれの領域に適した欠陥検査手
段を用いてそれぞれの領域を検査することによって、遮
光部及び透過部とグレートーン部とを別々に検査するこ
とができるため、それぞれの領域の欠陥を高精度に検出
することが可能であり、グレートーン部を含むマスク全
体を高精度に検査することが可能である。ここで、それ
ぞれの領域に適した欠陥検査手段とは、同種の検査方法
（例えば、比較検査手法）を用いて、欠陥検出のための
基準（閾値）をそれぞれの領域に適した基準としたもの
や、それぞれの領域に適した別の検査方法を用いるもの
も含まれる。また、それぞれの領域に適した欠陥検査手
段を用いてそれぞれの領域を検査する際は、一方の領域
の検査の際に他方の領域を検査対象から除いた上で行う
ことが、検査精度を高める上で望ましい。その場合、一
方の領域の検査と他方の領域の検査とを順次行っても良
いが、同時に行うようにすることによって、検査時間を
短縮することができる。本発明の方法は、特にグレート
ーン部が、グレートーンマスクを使用する露光機の解像
限界以下の遮光パターンを形成した領域である場合は、
遮光部及び透過部とグレートーン部の欠陥を同じ欠陥検
査手段（例えば、比較検査手法において同じ欠陥検出閾
値を用いた場合）を用いた場合に、疑似欠陥が生じてし
まい両方の領域の欠陥を高精度に検出することが極めて
困難であるため、非常に有効である。According to the constitutions 1 and 2, the region where the light-shielding portion and the transmitting portion are formed and the region where the gray-tone portion is formed are identified, and the defect inspection means suitable for each region is used. By inspecting each area, it is possible to inspect the light-shielding part, the transmission part, and the gray-tone part separately, so it is possible to detect defects in each area with high accuracy, and to detect the gray-tone part. It is possible to inspect the entire mask including the mask with high accuracy. Here, the defect inspection means suitable for each region means that the reference (threshold) for defect detection is a reference suitable for each region using the same type of inspection method (for example, a comparative inspection method). And those using different inspection methods suitable for each area. In addition, when inspecting each area using the defect inspection means suitable for each area, it is preferable to perform inspection after inspecting one area after removing the other area from the inspection target, thereby improving inspection accuracy. Desirable above. In that case, the inspection of one area and the inspection of the other area may be performed sequentially, but by performing them at the same time, the inspection time can be reduced. The method of the present invention is particularly effective when the gray-tone portion is a region where a light-shielding pattern that is equal to or less than the resolution limit of an exposure machine using a gray-tone mask is formed.
When the same defect inspection means (for example, when the same defect detection threshold is used in the comparative inspection method) is used to detect defects in the light-shielding portion, the transmission portion, and the gray-tone portion, a pseudo defect occurs and defects in both regions are removed. Since it is extremely difficult to detect with high accuracy, it is very effective.
【００１５】構成３によれば、通常の遮光部及び透過部
の欠陥抽出閾値に加え、グレートーン部専用の欠陥抽出
閾値を新たに設け、かつ、現在検査（走査）を行ってい
る箇所が、遮光部及び透過部であるか、グレートーン部
であるかを透過率等によって判定し、いずれの閾値を用
いて欠陥判定するか振り分けることで、遮光部と透過部
とグレートーン部とを有するグレートーンマスクについ
て一括検査を実現できる。したがって、グレートーン部
を含めたマスク全体の欠陥検査保証が可能となる。According to the configuration 3, in addition to the defect extraction thresholds of the normal light-shielding portion and the transmission portion, a defect extraction threshold dedicated to the gray-tone portion is newly provided, and the portion where the inspection (scanning) is currently performed is A light-shielding part, a transparent part, and a gray-tone part are determined by determining whether the part is a light-shielding part, a transmitting part, or a gray-tone part by transmittance or the like, and determining which threshold is used to determine whether a defect is present. A batch inspection of the tone mask can be realized. Therefore, the defect inspection of the entire mask including the gray tone portion can be guaranteed.
【００１６】構成４によれば、グレートーン部が、グレ
ートーンマスクを使用する露光機の解像限界以下の遮光
パターンを形成した領域である場合に、このグレートー
ン部に特有のベース信号レベルを超えるレベルに欠陥抽
出閾値を設定することによって、グレートーン部に特有
のベース信号レベルの影響を排除できる。また、グレー
トーン部の許容透過量を超えるレベルに欠陥抽出閾値を
設定することによって、グレートーン部の透過量保証が
可能となる。According to the fourth aspect, when the gray tone portion is a region where a light-shielding pattern less than the resolution limit of an exposure device using a gray tone mask is formed, a base signal level unique to the gray tone portion is set. By setting the defect extraction threshold to a level higher than that, the influence of the base signal level peculiar to the gray tone portion can be eliminated. In addition, by setting the defect extraction threshold to a level exceeding the allowable transmission amount of the gray tone portion, it is possible to guarantee the transmission amount of the gray tone portion.
【００１７】構成５によれば、グレートーン部が、膜を
透過する光の透過量を制御しうる半透過膜を形成した領
域である場合に、このグレートーン部の許容透過量を超
えるレベルに欠陥抽出閾値を設定することによって、グ
レートーン部の透過量保証が可能となる。また、ピンホ
ール等の検出が可能となる。According to the fifth aspect, when the gray-tone portion is a region where a semi-transmissive film capable of controlling the amount of light transmitted through the film is formed, the gray-tone portion has a level exceeding the allowable transmission amount of the gray-tone portion. By setting the defect extraction threshold, the transmission amount of the gray tone portion can be guaranteed. In addition, pinholes and the like can be detected.
【００１８】構成６によれば、遮光部・透過部とグレー
トーン部とのいずれの領域を検査いているのかを識別す
る手段と、この判断結果に応じて、遮光部・透過部用欠
陥抽出閾値とグレートーン部専用欠陥抽出閾値のうちの
いずれの閾値を用いて欠陥判定するか振り分ける手段を
有することで、遮光部と透過部とグレートーン部とを有
するグレートーンマスクについて一括検査できる自動検
査装置を実現できる。According to the sixth aspect, a means for identifying which area of the light-shielding / transmitting portion and the gray-tone portion is being inspected, and a defect extraction threshold for the light-shielding / transmitting portion in accordance with the determination result Automatic inspection apparatus that can collectively inspect a gray-tone mask having a light-shielding portion, a transmission portion, and a gray-tone portion by having means for determining which of the threshold and the defect extraction threshold dedicated to the gray-tone portion is used to determine the defect. Can be realized.
【００１９】構成７によれば、通常の半導体用グレート
ーンマスクはサイズが小さいのである程度手間や時間が
かかっても顕微鏡等による目視検査等でグレートーン部
の検査を行うことが可能であるが、例えばＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）製造用グレートーンマスクのようなＬＣ
Ｄ製造用グレートーンマスクやＰＤＰ等の他の表示装置
製造用グレートーンマスク場合、サイズが大きくその分
欠陥箇所も多いのでこのような検査方法では工程負担が
極めて大きく実際上このような検査は困難であり、した
がって、本発明の欠陥検査方法はＬＣＤ用グレートーン
マスクを実用化する上で必要不可欠である。According to the structure 7, since the normal semiconductor gray-tone mask is small in size, it is possible to inspect the gray-tone portion by a visual inspection using a microscope or the like even if it takes some trouble and time. LC such as gray-tone mask for TFT (thin film transistor) production
In the case of a gray-tone mask for manufacturing D or a gray-tone mask for manufacturing other display devices such as a PDP, the size of the gray-tone mask is large and the number of defective portions is large. Therefore, the defect inspection method of the present invention is indispensable for putting the gray tone mask for LCD to practical use.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】以下、グレートーン部を有するグ
レートーンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置につ
いて具体的に説明する。図１（１）は、遮光部１に白欠
陥４（ピンホール）、透過部２に黒欠陥５（スポッ
ト）、グレートーン部３に白欠陥６（パターン欠落）が
発生した状態を示し、矢印は比較検査装置の一方のレン
ズ（上レンズ）の走査の様子を示す。図１（２）は、上
記走査線に沿って得られる透過量信号７を示す。透過量
信号の７レベルは、遮光部１でＢ、透過部２でＷ、グレ
ートーン部３でＧであり、遮光部１の透過率を０％、透
過部２の透過率を１００％、にそれぞれ設定する。透過
量信号７は、パターンのエッジ（遮光部、透過部、グレ
ートーン部の各境界）で生じるパターンエッジライン信
号（パターン形状信号）で基本的に構成され、欠陥が発
生した場合は、遮光部１に発生した白欠陥信号４’、透
過部２に発生した黒欠陥信号５’、グレートーン部３に
発生した白欠陥信号６’等が現れる。図１（３）は、図
１（１）と同じパターンであって欠陥が発生していない
場合に、他方のレンズ（下レンズ）で得られる透過量信
号７’を示す。なお、グレートーン部３は微細Ｌ＆Ｓパ
ターンであるため、この微細パターンに対応して図５に
示すようにグレートーン部に特有のベース信号レベル
６’’（ノイズバンド）を生じる。図１（４）は、各レ
ンズで得られた透過量信号を引き算（差分）して求めた
差信号である。より具体的には、図１（２）の透過量信
号７から図１（３）の透過量信号７’を引き算して求め
た差信号８である。差信号８では、各レンズの透過量信
号からパターンエッジライン信号が除かれ、欠陥信号
４’、５’、６’のみが抽出される。図１（５）は、欠
陥信号のみを抽出した差信号８において、遮光部１及び
透過部２の欠陥を抽出するのに必要な閾値（プラス側９
ａ、マイナス側９ｂ）、及びグレートーン部３の欠陥を
抽出するのに必要な閾値（プラス側１０ａ、マイナス側
１０ｂ）、をそれぞれを設定した状態を示す。このよう
に単に閾値を分けて設定しただけではグレートーンマス
クの検査はできない。これは、上述したようにグレート
ーン部３の欠陥を抽出するのに必要な閾値では、遮光部
・透過部の疑似欠陥を拾ってしまうためである。本発明
では、現在検査（走査）を行っている箇所が、遮光部１
及び透過部２であるか、グレートーン部３であるかを透
過率等によって判定し、遮光部・透過部用欠陥抽出閾値
とグレートーン部専用欠陥抽出閾値のうちのいずれのい
ずれの閾値を用いて欠陥判定するか振り分けることで、
遮光部と透過部とグレートーン部とを有するグレートー
ンマスクについて一括検査が可能となる。また、グレー
トーン部のみを有するグレートーンマスクについても閾
値の変更なしに検査することができ、遮光部及び透過部
のみからなる通常のマスクと遮光部と透過部とグレート
ーン部とを有するグレートーンマスクとが混在している
場合であっても検査できる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a method and an apparatus for inspecting a defect of a gray-tone mask having a gray-tone portion will be described in detail. FIG. 1A shows a state in which a white defect 4 (pinhole) has occurred in the light-shielding portion 1, a black defect 5 (spot) has occurred in the transmission portion 2, and a white defect 6 (missing pattern) has occurred in the gray-tone portion 3. Shows the scanning state of one lens (upper lens) of the comparative inspection apparatus. FIG. 1B shows a transmission amount signal 7 obtained along the scanning line. The seven levels of the transmission amount signal are B in the light-shielding portion 1, W in the light-transmitting portion 2, and G in the gray-tone portion 3. The transmittance of the light-shielding portion 1 is 0%, and the transmittance of the light-transmitting portion 2 is 100%. Set each. The transmission amount signal 7 is basically constituted by a pattern edge line signal (pattern shape signal) generated at the edge of the pattern (each boundary between the light-shielding portion, the transmission portion, and the gray-tone portion). 1, a white defect signal 4 'generated in the transmissive portion 2, a white defect signal 6' generated in the gray tone portion 3, and the like appear. FIG. 1 (3) shows a transmission amount signal 7 'obtained by the other lens (lower lens) when the pattern is the same as that of FIG. 1 (1) and no defect occurs. Since the gray tone portion 3 is a fine L & S pattern, a base signal level 6 ″ (noise band) peculiar to the gray tone portion is generated as shown in FIG. 5 corresponding to the fine pattern. FIG. 1D is a difference signal obtained by subtracting (difference) the transmission amount signal obtained by each lens. More specifically, the difference signal 8 is obtained by subtracting the transmission amount signal 7 ′ in FIG. 1 (3) from the transmission amount signal 7 in FIG. 1 (2). In the difference signal 8, the pattern edge line signal is removed from the transmission signal of each lens, and only the defect signals 4 ', 5', and 6 'are extracted. FIG. 1 (5) shows a threshold value (positive side 9) necessary for extracting a defect of the light shielding unit 1 and the transmission unit 2 in the difference signal 8 in which only the defect signal is extracted.
a, the minus side 9b) and the threshold values (the plus side 10a, the minus side 10b) necessary to extract the defect of the gray tone portion 3 are shown. In this way, the gray-tone mask cannot be inspected simply by setting the threshold separately. This is because, as described above, the threshold necessary for extracting the defect of the gray-tone portion 3 picks up a pseudo defect of the light-shielding portion / transmitting portion. In the present invention, the location where the inspection (scanning) is currently performed is the light shielding portion 1.
And the transmissive part 2 or the gray-tone part 3 is determined based on the transmittance or the like. By determining or sorting defects
Batch inspection of a gray-tone mask having a light-shielding portion, a transmission portion, and a gray-tone portion can be performed. In addition, a gray-tone mask having only a gray-tone portion can be inspected without changing the threshold value, and a normal mask including only a light-shielding portion and a transmission portion, and a gray-tone having a light-shielding portion, a transmission portion, and a gray-tone portion. The inspection can be performed even when the mask and the mask are mixed.
【００２１】本発明においては、上記グレートーン部
が、グレートーンマスクを使用する露光機の解像限界以
下の遮光パターンを形成した領域である場合には、図２
に示すグレートーン部に特有のベース信号レベル６’’
を超えるレベルに欠陥抽出閾値（プラス側１０ａ、マイ
ナス側１０ｂ）を設定する。これにより、グレートーン
部に特有のベース信号レベルの影響を排除できる。この
場合、欠陥抽出閾値はベース信号レベル６’’の中心値
を基準に設けることが好ましい。また、グレートーン部
の許容透過量を超えるレベルに欠陥抽出閾値を設定する
ことによって、グレートーン部の透過量保証が可能とな
る。上記グレートーン部が、膜を透過する光の透過量を
制御しうる半透過膜を形成した領域である場合にあって
は、グレートーン部の許容透過量を超えるレベルに欠陥
抽出閾値を設定する。これにより、グレートーン部の透
過量保証が可能となる。また、ピンホールやハーフ欠陥
の検出が可能となる。In the present invention, when the gray-tone portion is a region where a light-shielding pattern smaller than the resolution limit of an exposure machine using a gray-tone mask is formed, the gray-scale portion is shown in FIG.
Base signal level 6 '' peculiar to gray tone part shown in
The defect extraction thresholds (positive side 10a, negative side 10b) are set to a level exceeding. Thereby, the influence of the base signal level peculiar to the gray tone portion can be eliminated. In this case, it is preferable that the defect extraction threshold is set based on the center value of the base signal level 6 ″. In addition, by setting the defect extraction threshold to a level exceeding the allowable transmission amount of the gray tone portion, it is possible to guarantee the transmission amount of the gray tone portion. In the case where the gray tone portion is a region where a semi-transmissive film capable of controlling the transmission amount of light transmitted through the film is formed, the defect extraction threshold is set to a level exceeding the allowable transmission amount of the gray tone portion. . This makes it possible to guarantee the transmission amount of the gray tone portion. Also, pinholes and half defects can be detected.
【００２２】次に、本発明の比較検査装置について説明
する。本発明の比較検査装置は、マスク内に形成された
同一パターン部分を平行光源及び受光レンズによってそ
れぞれ走査し、透過量信号をそれぞれ検出する手段を有
する。具体的には、例えば、マスクの一側に設けられた
平行光源（レンズに対応するスポット光源又はマスク全
面照射光源）と、マスクの他側に設けられた２本のレン
ズと、マスクとレンズとを相対的に移動させマスクの全
領域を走査する手段（通常はマスクステージ移動手段）
とを有し、これらによって、マスク内に形成された同一
パターン部分をそれぞれ走査し、透過光をレンズで受光
する。また、例えば、各レンズユニット内に配置された
ＣＣＤラインセンサによって、透過量信号をそれぞれ検
出する。マスク内に形成された同一パターン部分に各レ
ンズを位置合わせする機構を有する。透過量信号同士を
相互に比較する手段は、具体的には、透過量信号を相互
に引き算（差分）して差信号を得る回路（差分回路）で
ある。遮光部・透過部とグレートーン部とのいずれの領
域を検査いているのかを識別する手段は、例えば、上記
透過量信号に基づいて、いずれかのレンズにおける透過
量信号のレベルが、遮光部レベル（透過率０％）、透過
部レベル（透過率１００％）、グレートーンレベル（透
過率５０％前後）にあれば、それぞれの領域を検査して
いると判定する回路である。この回路は、検査領域に応
じて例えば閾値振り分け用のトリガ信号を出す。なお、
どちらか一方のレンズにおける透過量信号のレベルから
領域を判定してもよいが、そのレンズで欠陥部分を受光
している場合、判断の誤りを生じることを考慮すると、
両方のレンズからの情報に基づいて領域を判定すること
が好ましい。Next, a comparative inspection apparatus according to the present invention will be described. The comparative inspection apparatus of the present invention has means for scanning the same pattern portion formed in the mask with a parallel light source and a light receiving lens, respectively, and detecting a transmission amount signal. Specifically, for example, a parallel light source (a spot light source corresponding to a lens or a light source for irradiating the entire surface of the mask) provided on one side of the mask, two lenses provided on the other side of the mask, a mask and a lens For relatively moving the mask and scanning the entire area of the mask (usually a mask stage moving means)
With these, the same pattern portions formed in the mask are respectively scanned, and the transmitted light is received by the lens. Further, for example, a transmission amount signal is detected by a CCD line sensor disposed in each lens unit. A mechanism is provided for aligning each lens with the same pattern formed in the mask. The means for comparing the transmission amount signals with each other is, specifically, a circuit (difference circuit) for subtracting (difference) the transmission amount signals from each other to obtain a difference signal. The means for identifying which area of the light-shielding part / transmission part and the gray-tone part is being inspected is, for example, based on the above-mentioned transmission amount signal, the level of the transmission amount signal in one of the lenses is changed to the light-shielding part level. (Transmittance: 0%), transmissive part level (transmissivity: 100%), and gray tone level (transmissivity: around 50%). This circuit determines that each area is inspected. This circuit outputs, for example, a trigger signal for threshold distribution according to the inspection area. In addition,
The area may be determined from the level of the transmission amount signal in one of the lenses, but when a defective portion is received by that lens, considering that a determination error occurs,
Preferably, the area is determined based on information from both lenses.
【００２３】振り分けについて図３を用いて説明する。
いずれかのレンズにおける透過率信号のレベルが、遮光
部レベル、透過部レベル、又はグレートーンレベルにあ
れば、それぞれの領域を検査していると判定する。この
際、検査領域に応じて例えば閾値振り分け用のトリガ信
号を出す。差信号は、トリガ信号によってグレートーン
欠陥抽出閾値を有する欠陥検出回路又は通常欠陥抽出閾
値を有する欠陥検出回路に振り分けられ、振り分けられ
た欠陥検出回路によって欠陥判定される。通常欠陥抽出
閾値を有する欠陥検出回路では、差信号が遮光部・透過
部用欠陥抽出閾値を超えた場合、通常欠陥と判定する。
グレートーン欠陥抽出閾値を有する欠陥検出回路では、
差信号がグレートーン部専用欠陥抽出閾値を超えた場
合、グレートーン欠陥と判定する。各欠陥検出回路で
は、各閾値を任意の値に設定可能である。また、欠陥の
自動検査が可能である。なお、差信号を両回路に送り、
トリガ信号によって各欠陥検出回路のＯＮ，ＯＦＦを行
う方式であっても良い。The distribution will be described with reference to FIG.
If the level of the transmittance signal in any of the lenses is at the light-shielding portion level, the transmitting portion level, or the gray tone level, it is determined that the respective areas are inspected. At this time, for example, a trigger signal for threshold distribution is issued according to the inspection area. The difference signal is distributed to a defect detection circuit having a gray-tone defect extraction threshold or a defect detection circuit having a normal defect extraction threshold by a trigger signal, and a defect is determined by the distributed defect detection circuit. In the defect detection circuit having the normal defect extraction threshold, when the difference signal exceeds the defect extraction threshold for the light-shielding portion / transmission portion, it is determined that the defect is a normal defect.
In a defect detection circuit having a graytone defect extraction threshold,
If the difference signal exceeds the gray-tone portion-specific defect extraction threshold, it is determined to be a gray-tone defect. In each defect detection circuit, each threshold can be set to an arbitrary value. In addition, automatic inspection for defects is possible. The difference signal is sent to both circuits,
A method in which each of the defect detection circuits is turned on and off by a trigger signal may be used.
【００２４】どちらのレンズにどのような欠陥が発生し
たかを見極めるためには、例えば、上レンズの回路では
下レンズの信号と比較し（上レンズの信号から下レンズ
の信号を引き算し）、上レンズの遮光部１又はグレート
ーン部３に白欠陥が発生した場合はプラス側、上レンズ
の透過部２又はグレートーン部３に黒欠陥が発生した場
合はマイナス側に欠陥信号が出ることによって、上レン
ズの白欠陥、黒欠陥を検出する（上記図１（２）〜
（５））。同様に、例えば、下レンズの回路では上レン
ズの信号と比較し（下レンズの信号から上レンズの信号
を引き算し）、下レンズの遮光部１又はグレートーン部
３に白欠陥が発生した場合はプラス側、下レンズの透過
部２又はグレートーン部３に黒欠陥が発生した場合はマ
イナス側に欠陥信号が出ることによって、下レンズの白
欠陥、黒欠陥を検出する。In order to determine which defect has occurred in which lens, for example, in the circuit of the upper lens, the signal of the lower lens is compared with the signal of the lower lens (the signal of the lower lens is subtracted from the signal of the upper lens). When a white defect occurs in the light-shielding portion 1 or the gray-tone portion 3 of the upper lens, a defect signal is output to the plus side when a white defect occurs in the transmission portion 2 or the gray-tone portion 3 of the upper lens. Detect white defect and black defect of the upper lens (FIG. 1 (2)-
(5)). Similarly, for example, in the circuit of the lower lens, the signal of the upper lens is compared with the signal of the upper lens (the signal of the upper lens is subtracted from the signal of the lower lens), and a white defect occurs in the light-shielding portion 1 or the gray-tone portion 3 of the lower lens. When a black defect occurs in the transmission portion 2 or the gray-tone portion 3 of the lower lens, a defect signal is output to the minus side to detect a white defect and a black defect of the lower lens.
【００２５】なお、本発明は上述した実施の形態等に限
定されるものではない。例えば、図５に示すようにグレ
ートーン部３における遮光パターン３ａが点線タイプの
場合や、図６に示すようにグレートーン部３が半透過膜
１１で構成されている場合であっても、本発明の適用が
可能である。また、１本のレンズから得られるパターン
信号とパターンの設計データ等とを比較するタイプの装
置についても適用可能である。さらに、マスクを縦置き
で検査するタイプやマスクを横置きで検査するタイプの
いずれも可能である。さらに、遮光部・透過部とグレー
トーン部とのいずれの領域を検査いているのかを識別す
る手段は、反射光（反射率信号）によっても可能であ
る。The present invention is not limited to the above-described embodiments and the like. For example, even when the light-shielding pattern 3a in the gray-tone portion 3 is a dotted line type as shown in FIG. 5, or when the gray-tone portion 3 is formed of the semi-transmissive film 11 as shown in FIG. The invention can be applied. Further, the present invention is also applicable to an apparatus of a type that compares a pattern signal obtained from one lens with design data of the pattern. Further, a type in which a mask is inspected vertically and a type in which a mask is inspected horizontally are both possible. Further, means for identifying which of the light-shielding portion / transmitting portion and the gray-tone portion is being inspected can also be performed by reflected light (reflectance signal).
【００２６】[0026]
【発明の効果】以上説明したように本発明のグレートー
ンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置によれば、遮
光部と透過部とグレートーン部とを有するグレートーン
マスクについて高精度に一括検査を実現できる。したが
って、グレートーン部を含めたマスク全体の欠陥検査保
証が可能となる。特に、本発明の検査方法は、ＬＣＤ等
表示装置製造用グレートーンマスクを実用化する上で必
要不可欠である。As described above, according to the method and apparatus for inspecting a defect of a gray-tone mask of the present invention, a batch inspection of a gray-tone mask having a light-shielding portion, a transmission portion and a gray-tone portion can be performed with high accuracy. realizable. Therefore, the defect inspection of the entire mask including the gray tone portion can be guaranteed. In particular, the inspection method of the present invention is indispensable for putting a gray-tone mask for manufacturing a display device such as an LCD into practical use.
【図１】本発明の一実施の形態にかかる欠陥検査方法を
説明するための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining a defect inspection method according to an embodiment of the present invention.
【図２】グレートーン部に特有のベース信号レベルを説
明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a base signal level unique to a gray tone portion.
【図３】いずれの閾値を用いて欠陥判定するか振り分け
を行う手順等を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a procedure or the like of performing a defect determination using any of the thresholds or sorting.
【図４】グレートーンマスクを説明するための図であ
り、（１）は部分平面図、（２）は部分断面図である。4A and 4B are diagrams for explaining a gray-tone mask, wherein FIG. 4A is a partial plan view, and FIG. 4B is a partial cross-sectional view.
【図５】グレートーン部の他の態様を説明するための部
分平面図である。FIG. 5 is a partial plan view for explaining another mode of the gray tone portion.
【図６】グレートーン部のさらに他の態様を説明するた
めの部分平面図である。FIG. 6 is a partial plan view for explaining still another mode of the gray tone portion.
【図７】従来の欠陥検査方法を説明するための図であ
る。FIG. 7 is a view for explaining a conventional defect inspection method.
１ 遮光部 ２ 透過部 ３ グレートーン部 ３ａ 遮光パターン ３ｂ 透過部 ４ 白欠陥 ４’ 欠陥信号 ５ 黒欠陥 ５’ 欠陥信号 ６ 白欠陥 ６’ 欠陥信号 ７ 透過量信号 ８ 差信号 ９ａ 遮光部・透過部用欠陥抽出閾値（プラス側） ９ｂ 遮光部・透過部用欠陥抽出閾値（マイナス
側） １０ａ グレートーン部専用欠陥抽出閾値（プラス
側） １０ｂ グレートーン部専用欠陥抽出閾値（マイナ
ス側） １１ 半透過膜DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light-shielding part 2 Transmission part 3 Gray-tone part 3a Light-shielding pattern 3b Transmission part 4 White defect 4 'Defect signal 5 Black defect 5' Defect signal 6 White defect 6 'Defect signal 7 Transmission amount signal 8 Difference signal 9a Light-shielding part / transmission part Defect extraction threshold for use (plus side) 9b Defect extraction threshold for light-shielding part / transmission part (minus side) 10a Defect extraction threshold exclusively for gray tone part (plus side) 10b Defect extraction threshold exclusively for gray tone part (minus side) 11 Semi-transparent film
Claims (7)
領域であってこの領域を透過する光の透過量を低減して
フォトレジストの膜厚を選択的に変えることを目的とす
るグレートーン部とを有するグレートーンマスクの欠陥
検査方法であって、 遮光部及び透過部が形成されている領域とグレートーン
部が形成されている領域とを識別し、それぞれの領域に
適した欠陥検査手段を用いてそれぞれの領域を検査する
ことを特徴とするグレートーンマスクの欠陥検査方法。An object of the present invention is to selectively change the thickness of a photoresist by reducing the amount of light transmitted through this region, which is a light-shielding portion, a transmitting portion, and a transmission amount adjusted. What is claimed is: 1. A defect inspection method for a gray-tone mask having a gray-tone portion, wherein a region in which a light-shielding portion and a transmission portion are formed is distinguished from a region in which a gray-tone portion is formed. A defect inspection method for a gray-tone mask, wherein each area is inspected using an inspection means.
スクを使用する露光機の解像限界以下の遮光パターンを
形成した領域であることを特徴とする請求項１に記載の
欠陥検査方法。2. The defect inspection method according to claim 1, wherein the gray-tone portion is a region where a light-shielding pattern smaller than a resolution limit of an exposure device using a gray-tone mask is formed.
領域であってこの領域を透過する光の透過量を低減して
フォトレジストの膜厚を選択的に変えることを目的とす
るグレートーン部とを有するグレートーンマスクの欠陥
検査方法であって、 マスク内に形成された同一パターンを相互に比較するこ
とによって欠陥を検出する比較検査手法を用い、 パターンの相違に応じて現れる情報の閾値として、通常
の遮光部及び透過部の欠陥抽出閾値に加え、グレートー
ン部専用の欠陥抽出閾値を新たに設け、かつ、 遮光部及び透過部と、グレートーン部とのいずれの領域
を検査しているのかを識別し、遮光部又は透過部を検査
している場合は遮光部・透過部用欠陥抽出閾値を用いて
通常欠陥の検査を行い、グレートーン部を検査している
場合はグレートーン部専用の欠陥抽出閾値を用いてグレ
ートーン部の欠陥検査を行うことを特徴とする欠陥検査
方法。3. A light-shielding portion, a light-transmitting portion, and a region in which the amount of light transmission is adjusted. The object is to selectively change the thickness of the photoresist by reducing the amount of light transmitted through this region. A defect inspection method for a gray-tone mask having a gray-tone portion, comprising: a comparison inspection method for detecting a defect by comparing the same pattern formed in the mask with each other; In addition to the normal threshold for extracting light from the light-shielding part and the transparent part, a new defect extraction threshold dedicated to the gray-tone part is newly provided, and any area of the light-shielding part, the transparent part, and the gray-tone part is inspected. If a light-shielding part or a transparent part is inspected, a normal defect inspection is performed using the light-shielding part / transmitting part defect extraction threshold, and if a gray-tone part is inspected, A defect inspection method for performing a defect inspection of a gray tone portion using a defect extraction threshold dedicated to the tone portion.
スクを使用する露光機の解像限界以下の遮光パターンを
形成した領域であって、該グレートーン部に特有のベー
ス信号レベルを超えるレベルに前記欠陥抽出閾値を設定
することを特徴とする請求項３に記載の欠陥検査方法。4. The gray-tone portion is a region where a light-shielding pattern less than a resolution limit of an exposure device using a gray-tone mask is formed, and has a level exceeding a base signal level specific to the gray-tone portion. The defect inspection method according to claim 3, wherein a defect extraction threshold is set.
の透過量を制御しうる半透過膜を形成した領域であっ
て、該グレートーン部の許容透過量を超えるレベルに前
記欠陥抽出閾値を設定することを特徴とする請求項３に
記載の欠陥検査方法。5. The gray tone portion is a region where a semi-transmissive film capable of controlling an amount of light transmitted through the film is formed, and the defect extraction threshold is set to a level exceeding an allowable transmission amount of the gray tone portion. The defect inspection method according to claim 3, wherein
領域であってこの領域を透過する光の透過量を低減して
フォトレジストの膜厚を選択的に変えることを目的とす
るグレートーン部とを有するグレートーンマスクの欠陥
検査装置であって、 マスク内に形成された同一パターン部分を平行光源及び
受光レンズによってそれぞれ走査し、透過量信号をそれ
ぞれ検出する手段と、透過量信号同士を相互に比較して
差信号を得る手段と、 遮光部・透過部とグレートーン部とのいずれの領域を検
査いているのかを識別する手段と、 遮光部・透過部を検査していると判断した場合は、遮光
部・透過部用欠陥抽出閾値を用い、前記差信号が遮光部
・透過部用欠陥抽出閾値を超えた場合欠陥と判定する手
段と、 グレートーン部を検査していると判断した場合は、グレ
ートーン部専用欠陥抽出閾値を用い、前記差信号がグレ
ートーン部専用欠陥抽出閾値を超えた場合欠陥と判定す
る手段と、 を有することを特徴とする欠陥検査装置。6. A light-shielding portion, a light-transmitting portion, and a region in which the amount of light transmission is adjusted. The object is to selectively change the thickness of the photoresist by reducing the amount of light transmitted through this region. A defect inspection apparatus for a gray-tone mask having a gray-tone portion, wherein the same pattern portion formed in the mask is scanned by a parallel light source and a light-receiving lens, respectively, and a transmission amount signal is detected; A means for comparing each other to obtain a difference signal; a means for identifying which area of the light-shielding / transmitting part and the gray-tone part is being inspected; and a means for inspecting the light-shielding part / transmitting part. If it is determined, using the defect extraction threshold for the light-shielding part / transmission part, means for judging a defect when the difference signal exceeds the defect extraction threshold for the light-shielding part / transmission part, and that the gray tone part is inspected It was judged If uses a gray tone portion only defect extraction threshold value, the defect inspection apparatus characterized by having a defect and means for determining if said difference signal exceeds a gray-tone portion only defect extraction threshold.
スクであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに
記載の欠陥検査方法。7. The defect inspection method according to claim 1, wherein the gray-tone mask is a mask for manufacturing a display device.
Priority Applications (5)
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|---|---|---|---|
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| KR10-2001-0061016A KR100503274B1 (en) | 2000-09-29 | 2001-09-29 | Defect test method and apparatus for gray-tone mask |
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Applications Claiming Priority (3)
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