JP2002172321A - 多相混合を行って同時に分配しうる2つの連続床の間に配置される流体の注入装置 - Google Patents
多相混合を行って同時に分配しうる2つの連続床の間に配置される流体の注入装置Info
- Publication number
- JP2002172321A JP2002172321A JP2001247506A JP2001247506A JP2002172321A JP 2002172321 A JP2002172321 A JP 2002172321A JP 2001247506 A JP2001247506 A JP 2001247506A JP 2001247506 A JP2001247506 A JP 2001247506A JP 2002172321 A JP2002172321 A JP 2002172321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluid
- bed
- gas
- duct
- reactor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/008—Liquid distribution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/30—Injector mixers
- B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
- B01F25/314—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit
- B01F25/3142—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit the conduit having a plurality of openings in the axial direction or in the circumferential direction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/232—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles
- B01F23/2322—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles using columns, e.g. multi-staged columns
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/30—Injector mixers
- B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
- B01F25/314—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit
- B01F25/3142—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit the conduit having a plurality of openings in the axial direction or in the circumferential direction
- B01F25/31422—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit the conduit having a plurality of openings in the axial direction or in the circumferential direction with a plurality of perforations in the axial direction only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/30—Injector mixers
- B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
- B01F25/314—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit
- B01F25/3143—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit characterised by the specific design of the injector
- B01F25/31434—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit characterised by the specific design of the injector being a bundle of similar tubes, each of them having feedings on the circumferential wall, e.g. as mixer for a reactor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/0242—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid flow within the bed being predominantly vertical
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/0278—Feeding reactive fluids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
- B01J8/0446—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
- B01J8/0492—Feeding reactive fluids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
- B01J2208/00823—Mixing elements
- B01J2208/00831—Stationary elements
- B01J2208/0084—Stationary elements inside the bed, e.g. baffles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
- B01J2208/00823—Mixing elements
- B01J2208/00831—Stationary elements
- B01J2208/00849—Stationary elements outside the bed, e.g. baffles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00002—Chemical plants
- B01J2219/00004—Scale aspects
- B01J2219/00006—Large-scale industrial plants
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S585/00—Chemistry of hydrocarbon compounds
- Y10S585/919—Apparatus considerations
- Y10S585/921—Apparatus considerations using recited apparatus structure
- Y10S585/922—Reactor fluid manipulating device
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S585/00—Chemistry of hydrocarbon compounds
- Y10S585/919—Apparatus considerations
- Y10S585/921—Apparatus considerations using recited apparatus structure
- Y10S585/922—Reactor fluid manipulating device
- Y10S585/923—At reactor inlet
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87571—Multiple inlet with single outlet
- Y10T137/87652—With means to promote mixing or combining of plural fluids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多相混合を行って同時に分配しうる2つの連
続床の間に配置される流体の注入装置を提供する。 【解決手段】 第2流体と、上部粒状床からの流体また
は流体混合物との間で多相混合を行いかつ分配しうる2
つの連続粒状床203,205の間に配置される第2流
体注入装置は、第2流体注入室201を備える。第2流
体は、前記装置に注入される。ダクト204によって、
前記第2流体と、上部粒状床203からの流体または流
体混合物の少なくとも一部との接触、並びに前記接触に
より生じる混合物の下部粒状床205への同時分配(オ
リフィス208での)が可能になる。
続床の間に配置される流体の注入装置を提供する。 【解決手段】 第2流体と、上部粒状床からの流体また
は流体混合物との間で多相混合を行いかつ分配しうる2
つの連続粒状床203,205の間に配置される第2流
体注入装置は、第2流体注入室201を備える。第2流
体は、前記装置に注入される。ダクト204によって、
前記第2流体と、上部粒状床203からの流体または流
体混合物の少なくとも一部との接触、並びに前記接触に
より生じる混合物の下部粒状床205への同時分配(オ
リフィス208での)が可能になる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、いくつかの流体間
の混合と、前記混合物の分配との最適化を可能にする、
連続する2つの粒状床(粒状ベッド)の間に配置される
第2流体の注入装置に関する。この混合は、一般に一方
では、上部粒状床から来る液相およびガス相と、他方で
は、一般に主としてガスでありかつ通常水素を少なくと
も一部含む注入相との間で行われる。さらに本発明の枠
から逸脱しないで、注入される流体は、液相であっても
よい。そのような注入システム、混合システムおよび分
配システムは、一般に固定床反応器と一体化され、この
反応器内で、流体の流れは、前記単数または複数の粒状
固体床を通過する下降並流である。
の混合と、前記混合物の分配との最適化を可能にする、
連続する2つの粒状床(粒状ベッド)の間に配置される
第2流体の注入装置に関する。この混合は、一般に一方
では、上部粒状床から来る液相およびガス相と、他方で
は、一般に主としてガスでありかつ通常水素を少なくと
も一部含む注入相との間で行われる。さらに本発明の枠
から逸脱しないで、注入される流体は、液相であっても
よい。そのような注入システム、混合システムおよび分
配システムは、一般に固定床反応器と一体化され、この
反応器内で、流体の流れは、前記単数または複数の粒状
固体床を通過する下降並流である。
【0002】本明細書において、注入、混合および分配
システムと、装置との両者が等しく論じられる。
システムと、装置との両者が等しく論じられる。
【0003】特に本発明は、次のいずれの場合において
も適用される: ・ガス相が、液相に比して大きな割合を占める場合、す
なわちガスおよび液体の容積比が、多くの場合3:1よ
り大きく、通常400:1より小さい場合(3<ガス容
積/液体容積<400)、
も適用される: ・ガス相が、液相に比して大きな割合を占める場合、す
なわちガスおよび液体の容積比が、多くの場合3:1よ
り大きく、通常400:1より小さい場合(3<ガス容
積/液体容積<400)、
【0004】・ガス相が、液相に比して小さな割合であ
る場合、すなわちガスおよび液体の容積比が、多くの場
合0.1:1より大きく、通常1:1より小さい場合
(0.1<ガス容積/液体容積<1)、
る場合、すなわちガスおよび液体の容積比が、多くの場
合0.1:1より大きく、通常1:1より小さい場合
(0.1<ガス容積/液体容積<1)、
【0005】・反応が、強度に発熱性でありかつガス/
液体混合物を冷却するための追加的流体、多くの場合ガ
スの反応器内への導入を必要とする場合、並びに
液体混合物を冷却するための追加的流体、多くの場合ガ
スの反応器内への導入を必要とする場合、並びに
【0006】・反応が、液相において通常ガス状(例え
ば水素H2)である化合物を溶解するための密な接触を
必要とする場合。
ば水素H2)である化合物を溶解するための密な接触を
必要とする場合。
【0007】本発明は、例えば水素化クラッキング、水
素化処理、水素化脱硫、水素化脱窒、C2〜C5留分の
選択的または全体的水素化、水蒸気クラッキングガソリ
ンの選択的水素化、脂肪族および/またはナフテン系留
分中の芳香族化合物の水素化、並びに芳香族留分中のオ
レフィンの水素化反応を行うために使用されるもののよ
うなガス/液体急冷システムまたは段階的(staged)注
入システムに特に適用される。
素化処理、水素化脱硫、水素化脱窒、C2〜C5留分の
選択的または全体的水素化、水蒸気クラッキングガソリ
ンの選択的水素化、脂肪族および/またはナフテン系留
分中の芳香族化合物の水素化、並びに芳香族留分中のオ
レフィンの水素化反応を行うために使用されるもののよ
うなガス/液体急冷システムまたは段階的(staged)注
入システムに特に適用される。
【0008】本発明は、例えば部分または全体酸化反
応、アミノ化反応、アセチルオキシデーション反応、ア
ンモキシデーション反応およびハロゲン化、特に塩素化
反応のようなガス相と液相との良好な混合を必要とする
他の反応を行うためにも適用される。
応、アミノ化反応、アセチルオキシデーション反応、ア
ンモキシデーション反応およびハロゲン化、特に塩素化
反応のようなガス相と液相との良好な混合を必要とする
他の反応を行うためにも適用される。
【0009】
【従来の技術】(例えば硫黄30ppmまたはそれ以下
を含む生成物を得るために)高転換率を生じるための水
素化脱硫、水素化脱窒および水素化クラッキング反応の
特殊な分野において、ガスおよび液体の容積比は、一般
に約3:1〜約400:1、通常は約10:1〜約20
0:1であるので、ガスおよび液体両者の分配が、優れ
ていなければならず、主として液体の分配が優れていな
ければならない。急冷を使用する場合には、導入された
ガス間の非常に優れた接触が、プロセス流体を冷却させ
る。
を含む生成物を得るために)高転換率を生じるための水
素化脱硫、水素化脱窒および水素化クラッキング反応の
特殊な分野において、ガスおよび液体の容積比は、一般
に約3:1〜約400:1、通常は約10:1〜約20
0:1であるので、ガスおよび液体両者の分配が、優れ
ていなければならず、主として液体の分配が優れていな
ければならない。急冷を使用する場合には、導入された
ガス間の非常に優れた接触が、プロセス流体を冷却させ
る。
【0010】分配すべき流体が、いくつかの触媒床を通
過する場合、一般に提案される解決策は、ガス/液体混
合物によって通過される2つの連続する触媒床の間にガ
ス仕込原料の段階的注入システムを用いることにある。
過する場合、一般に提案される解決策は、ガス/液体混
合物によって通過される2つの連続する触媒床の間にガ
ス仕込原料の段階的注入システムを用いることにある。
【0011】米国特許US−A−3353924、US
−A−3855068、US−A−3824080およ
びUS−A−5567396には、例えば2つの床間で
の段階的ガス注入システムが記載されている。該システ
ムにおいて、第2ガス注入、第2ガス/一次的流れの混
合、および混合物の分配は、非干渉(decoupled)であ
り、連続的に行われる。これに対して、本出願に記載さ
れている装置においては、2つの流体の注入、混合およ
び分配の各機能は、同じシステムにおいて同時に行われ
る。
−A−3855068、US−A−3824080およ
びUS−A−5567396には、例えば2つの床間で
の段階的ガス注入システムが記載されている。該システ
ムにおいて、第2ガス注入、第2ガス/一次的流れの混
合、および混合物の分配は、非干渉(decoupled)であ
り、連続的に行われる。これに対して、本出願に記載さ
れている装置においては、2つの流体の注入、混合およ
び分配の各機能は、同じシステムにおいて同時に行われ
る。
【0012】従って、本発明による装置に関連する利点
のうちの1つは、これら3操作に必要な容積の実質的な
縮小である。その結果、注入、混合および分配の各装置
における容積の取得は、通常触媒活性を有する粒状固体
床のために反応器内で使用できる容積の増加を可能にす
る利点を有する。
のうちの1つは、これら3操作に必要な容積の実質的な
縮小である。その結果、注入、混合および分配の各装置
における容積の取得は、通常触媒活性を有する粒状固体
床のために反応器内で使用できる容積の増加を可能にす
る利点を有する。
【0013】米国特許US−A−4235847には、
別の概念に従って2つの第2注入段階(一方がガスであ
り、一方が液体である)が可能であるシステムが記載さ
れている。床の出口において、ガス/液体の流れは、バ
ッフルのシステムを経て分離される。液体は、反応器の
直径よりも小さい直径のプレートで収集される。ガス
は、収集された液体容積中に該プレートの下で注入され
る。従って、ガス/液体(ミスト形態)混合物は、管の
頂部で回収され、該管を通過して床に注入される。その
システムは、単一のプレートでガス/液体混合と混合物
の分配との機能を一体化させるが、バッフルのシステム
のため分配がプレートの直径よりも小さい直径に制限さ
れる大きな不都合を有する。さらに混合物は、ダクトの
単一レベルで回収される。このプレートによって、液体
流量に関するフレキシビリティ(適応性)問題が提起さ
れる。最後に、熱交換が、先ずガスからガスに向けて行
われて、次いで生じたガスから液体に向けて行われる。
従って、展開された同一界面範囲について、第2ガス
(冷却)が液体と直接接触される場合に関して、ガス/
液体熱移送における効率の損失がある。
別の概念に従って2つの第2注入段階(一方がガスであ
り、一方が液体である)が可能であるシステムが記載さ
れている。床の出口において、ガス/液体の流れは、バ
ッフルのシステムを経て分離される。液体は、反応器の
直径よりも小さい直径のプレートで収集される。ガス
は、収集された液体容積中に該プレートの下で注入され
る。従って、ガス/液体(ミスト形態)混合物は、管の
頂部で回収され、該管を通過して床に注入される。その
システムは、単一のプレートでガス/液体混合と混合物
の分配との機能を一体化させるが、バッフルのシステム
のため分配がプレートの直径よりも小さい直径に制限さ
れる大きな不都合を有する。さらに混合物は、ダクトの
単一レベルで回収される。このプレートによって、液体
流量に関するフレキシビリティ(適応性)問題が提起さ
れる。最後に、熱交換が、先ずガスからガスに向けて行
われて、次いで生じたガスから液体に向けて行われる。
従って、展開された同一界面範囲について、第2ガス
(冷却)が液体と直接接触される場合に関して、ガス/
液体熱移送における効率の損失がある。
【0014】
【発明の構成】より正確には、本発明は、第2流体と、
上部粒状床から来る流体または流体混合物との間の多相
混合物を生成しかつ分配するために2つの連続的粒状床
の間に配置される該第2流体の注入装置に関する。該装
置は、第2流体の注入室(前記第2流体は、前記装置に
注入される)、並びに前記第2流体と、上部粒状床から
来る流体または流体混合物の少なくとも一部とを接触さ
せるための手段、および前記接触により生じた混合物を
下部粒状床へ同時に分配するための手段を備える。
上部粒状床から来る流体または流体混合物との間の多相
混合物を生成しかつ分配するために2つの連続的粒状床
の間に配置される該第2流体の注入装置に関する。該装
置は、第2流体の注入室(前記第2流体は、前記装置に
注入される)、並びに前記第2流体と、上部粒状床から
来る流体または流体混合物の少なくとも一部とを接触さ
せるための手段、および前記接触により生じた混合物を
下部粒状床へ同時に分配するための手段を備える。
【0015】特に、前記第2流体は、水素を少なくとも
一部含むガス相であってもよい。
一部含むガス相であってもよい。
【0016】本発明の実施の第1形態において、前記接
触および分配手段は、上部粒状床(203)から来る流
体または流体混合物のガスフラクションを通すためのダ
クト(206)である。ダクト(206)は、前記室を
流体密状に通過し、その高さは、一般に、液体レベルが
到達する最高の深さ(高さ)よりも高い。さらにダクト
は、有利には、その上部に、上部粒状床から来る流体ま
たは流体混合物の液体部分が前記ダクトを通って流れる
のを妨げるプレートを具備する。
触および分配手段は、上部粒状床(203)から来る流
体または流体混合物のガスフラクションを通すためのダ
クト(206)である。ダクト(206)は、前記室を
流体密状に通過し、その高さは、一般に、液体レベルが
到達する最高の深さ(高さ)よりも高い。さらにダクト
は、有利には、その上部に、上部粒状床から来る流体ま
たは流体混合物の液体部分が前記ダクトを通って流れる
のを妨げるプレートを具備する。
【0017】さらに2つの型のダクト(204)(20
6)は、有利には前記室の下方に距離htだけ延長され
る。
6)は、有利には前記室の下方に距離htだけ延長され
る。
【0018】本発明の別の実施形態では、前記接触およ
び分配手段は、 ・第2流体を、前記室の上部部分に通過させることがで
きるダクト(222)であって、前記部分は、通常プレ
ート状形態であり、また ・流体密状に室を通過する管またはミキシング流路(2
24)であって、それらの上部には、第2流体と、上部
粒状床から来る流体または流体混合物の少なくとも一部
との混合物の通過用開口部(オリフィス)が設けられて
いる。
び分配手段は、 ・第2流体を、前記室の上部部分に通過させることがで
きるダクト(222)であって、前記部分は、通常プレ
ート状形態であり、また ・流体密状に室を通過する管またはミキシング流路(2
24)であって、それらの上部には、第2流体と、上部
粒状床から来る流体または流体混合物の少なくとも一部
との混合物の通過用開口部(オリフィス)が設けられて
いる。
【0019】ミキシング流路は、その場合さらに有利に
は室の下方に距離htだけ延長される。
は室の下方に距離htだけ延長される。
【0020】本発明は、下記: ・少なくとも1つの上部粒状固体床と、 ・第2流体と、前記床から来る流体または流体混合物と
の混合および分配を行うための、前記上部床の下流に配
置される、本発明による少なくとも1つの装置と、 ・前記装置の下流に配置される少なくとも1つの粒状固
体床と、 ・前記装置の室への第2流体注入のための少なくとも1
つの分離注入管路であって、前記注入が、好ましくは、
反応器の軸に対して実質上垂直に行われる分離注入管路
とを含む固定床反応器にも関する。
の混合および分配を行うための、前記上部床の下流に配
置される、本発明による少なくとも1つの装置と、 ・前記装置の下流に配置される少なくとも1つの粒状固
体床と、 ・前記装置の室への第2流体注入のための少なくとも1
つの分離注入管路であって、前記注入が、好ましくは、
反応器の軸に対して実質上垂直に行われる分離注入管路
とを含む固定床反応器にも関する。
【0021】この反応器において、液相およびガス相
は、通常前記単数または複数粒状固体床を通る下降並流
で流通する。
は、通常前記単数または複数粒状固体床を通る下降並流
で流通する。
【0022】好ましくは、前記粒状固体床は、触媒活性
を有する少なくとも1つの粒状固体を含む。
を有する少なくとも1つの粒状固体を含む。
【0023】より詳しくは本明細書に記載されている装
置および/または反応器は、水素化脱硫方法、選択的水
素化方法あるいは水素化脱窒方法において使用されてよ
い。
置および/または反応器は、水素化脱硫方法、選択的水
素化方法あるいは水素化脱窒方法において使用されてよ
い。
【0024】
【発明の実施の形態】本発明の別の利点および特徴は、
実施形態の例として以下に記載される説明から、より明
らかになる。
実施形態の例として以下に記載される説明から、より明
らかになる。
【0025】図1および図2では、本発明による装置を
組み込みうる反応器の実施形態の2例が図示される。
組み込みうる反応器の実施形態の2例が図示される。
【0026】図3および図4では、例えば図1および図
2において表される反応器のうちの1つの反応器に配置
されてもよい2つの連続的触媒床間において稼動する段
階的注入装置または急冷装置の本発明による実施形態の
2例を示す。
2において表される反応器のうちの1つの反応器に配置
されてもよい2つの連続的触媒床間において稼動する段
階的注入装置または急冷装置の本発明による実施形態の
2例を示す。
【0027】本発明による反応器の実施形態によれば、
内部分配手段(100)は、下降流で液体流単独または
液体/ガス並流で稼動する固定床反応器の頂部に配置さ
れている。反応器が液体/ガス流で機能する場合、液体
仕込原料およびガス仕込原料は、第1床の上流において
反応器の頂部に配置された内部分配手段に個別に注入さ
れる。反応器に注入されるガスのフラクションは、本発
明の注入、混合および分配システムを経て2つの連続床
の間の中間レベルで反応器に注入される。本発明の内部
分配手段を示す第1フローチャートは、図1に示され
る。反応器の頂部の上流に、ドラムが、液相とガス相と
の間の物質交換を最適化するために分配システムと組み
合わせて追加されてもよい(図2)。このドラムは、反
応器の外部にある。この実施形態において、液体仕込原
料およびガス仕込原料は、このドラム内においてバブリ
ングによって接触させられ、ついで反応器に個別に注入
されるようにドラムから個別に出る。
内部分配手段(100)は、下降流で液体流単独または
液体/ガス並流で稼動する固定床反応器の頂部に配置さ
れている。反応器が液体/ガス流で機能する場合、液体
仕込原料およびガス仕込原料は、第1床の上流において
反応器の頂部に配置された内部分配手段に個別に注入さ
れる。反応器に注入されるガスのフラクションは、本発
明の注入、混合および分配システムを経て2つの連続床
の間の中間レベルで反応器に注入される。本発明の内部
分配手段を示す第1フローチャートは、図1に示され
る。反応器の頂部の上流に、ドラムが、液相とガス相と
の間の物質交換を最適化するために分配システムと組み
合わせて追加されてもよい(図2)。このドラムは、反
応器の外部にある。この実施形態において、液体仕込原
料およびガス仕込原料は、このドラム内においてバブリ
ングによって接触させられ、ついで反応器に個別に注入
されるようにドラムから個別に出る。
【0028】より正確には、図1に図示される反応器
(60)は、下降並流で稼動する積み重ねられた2床を
有する固定床反応器である。
(60)は、下降並流で稼動する積み重ねられた2床を
有する固定床反応器である。
【0029】液体仕込原料(1)は、管路(3)を通っ
て内部分配手段(100)において反応器頂部近辺に注
入される。この内部分配手段は、当業者に公知のあらゆ
る混合装置および/または分配装置から選ばれてよい。
有利には、反応器の頂部における分配システムは、本出
願と同日に本出願人によって出願された特許出願に記載
されている装置のような装置である。
て内部分配手段(100)において反応器頂部近辺に注
入される。この内部分配手段は、当業者に公知のあらゆ
る混合装置および/または分配装置から選ばれてよい。
有利には、反応器の頂部における分配システムは、本出
願と同日に本出願人によって出願された特許出願に記載
されている装置のような装置である。
【0030】ガス仕込原料(2)は、反応器(60)の
上流において2つのレベルに注入される。すなわち管路
(7)を経る反応器の頂部と、管路(9)を経て、2つ
の連続する床の間に配置された内部分配手段(200)
または(220)を経る反応器の中間レベルとである。
内部分配手段(100)および管路(3)内の圧力が上
昇する場合、(差圧センサーによって制御される調節弁
からなる)圧力補償システム(14)によって、液体流
量の一部を管路(2)および反応器の頂部に排出させる
ことが可能になる。管路(7)および管路(9)に注入
されるガス流量の分配は、調節弁(10)および(1
1)を用いて制御される。管路(7)を経て反応器(6
0)に注入されるガス流量は、通常、反応器(60)に
注入されるガスの全体モル流量の30〜70モル%であ
る。管路(9)において、この流量は、反応器(60)
に注入されるガスの全体モル流量の30〜70モル%で
ある。反応後、生成物は管路(15)を経て回収され
る。
上流において2つのレベルに注入される。すなわち管路
(7)を経る反応器の頂部と、管路(9)を経て、2つ
の連続する床の間に配置された内部分配手段(200)
または(220)を経る反応器の中間レベルとである。
内部分配手段(100)および管路(3)内の圧力が上
昇する場合、(差圧センサーによって制御される調節弁
からなる)圧力補償システム(14)によって、液体流
量の一部を管路(2)および反応器の頂部に排出させる
ことが可能になる。管路(7)および管路(9)に注入
されるガス流量の分配は、調節弁(10)および(1
1)を用いて制御される。管路(7)を経て反応器(6
0)に注入されるガス流量は、通常、反応器(60)に
注入されるガスの全体モル流量の30〜70モル%であ
る。管路(9)において、この流量は、反応器(60)
に注入されるガスの全体モル流量の30〜70モル%で
ある。反応後、生成物は管路(15)を経て回収され
る。
【0031】図2に示される反応器(60)は、下降並
流で稼動する積み重ねられた2床を有する固定床反応器
である。
流で稼動する積み重ねられた2床を有する固定床反応器
である。
【0032】液体仕込原料(1)は、反応器の頂部に注
入される。ガス仕込原料(2)は、反応器(60)の上
流において2つのレベルに注入される。すなわち管路
(7)を経る反応器の頂部と、管路(9)を経て、2つ
の連続する床の間に配置された内部分配手段(200)
または(220)を経る反応器の中間レベルとである。
反応器の上流におけるガス仕込原料と液体仕込原料との
間の物質交換を最適化するために、頂部に注入されるガ
ス仕込原料のフラクションは、管路(8)および緩衝ド
ラム(50)を通って注入される。管路(7)(8)お
よび(9)に注入されるガス流量の分配は、調節弁(1
0)および(11)を用いて制御される。管路(7)を
経て反応器(60)に注入されるガス流量は、反応器
(60)に注入される全体ガスモル流量の0〜70モル
%である。管路(8)を経て反応器(60)に注入され
るガス流量は、通常、反応器(60)に注入される全体
ガスモル流量の0〜70モル%である。管路(9)を経
て注入されるガス流量は、反応器(60)に注入される
全体ガスモル流量の30〜50モル%である。緩衝ドラ
ム(50)の出口における残留ガスは、管路(12)お
よび管路(7)を通過して反応器に入る。反応器の入口
において、液体仕込原料は、反応器の頂部に配置される
内部分配手段(100)に管路(3)を通って直接注入
されてもよいし、あるいは該仕込原料は、管路(13)
を通って内部分配手段(100)に再合流する前に、管
路(4)を通って緩衝ドラム(50)に注入されてもよ
い。管路(4)を経て反応器に注入される液体仕込原料
フラクションの流量は、反応器に注入される全体液体流
量の1〜99重量%である。管路(3)を経て反応器に
注入される液体仕込原料フラクションの流量は、反応器
に注入される全体液体流量の99〜1重量%である。管
路(3)および管路(4)に注入される液体流量の分配
は、調節弁(5)を用いて制御される。反応後、生成物
は管路(15)を経て回収される。
入される。ガス仕込原料(2)は、反応器(60)の上
流において2つのレベルに注入される。すなわち管路
(7)を経る反応器の頂部と、管路(9)を経て、2つ
の連続する床の間に配置された内部分配手段(200)
または(220)を経る反応器の中間レベルとである。
反応器の上流におけるガス仕込原料と液体仕込原料との
間の物質交換を最適化するために、頂部に注入されるガ
ス仕込原料のフラクションは、管路(8)および緩衝ド
ラム(50)を通って注入される。管路(7)(8)お
よび(9)に注入されるガス流量の分配は、調節弁(1
0)および(11)を用いて制御される。管路(7)を
経て反応器(60)に注入されるガス流量は、反応器
(60)に注入される全体ガスモル流量の0〜70モル
%である。管路(8)を経て反応器(60)に注入され
るガス流量は、通常、反応器(60)に注入される全体
ガスモル流量の0〜70モル%である。管路(9)を経
て注入されるガス流量は、反応器(60)に注入される
全体ガスモル流量の30〜50モル%である。緩衝ドラ
ム(50)の出口における残留ガスは、管路(12)お
よび管路(7)を通過して反応器に入る。反応器の入口
において、液体仕込原料は、反応器の頂部に配置される
内部分配手段(100)に管路(3)を通って直接注入
されてもよいし、あるいは該仕込原料は、管路(13)
を通って内部分配手段(100)に再合流する前に、管
路(4)を通って緩衝ドラム(50)に注入されてもよ
い。管路(4)を経て反応器に注入される液体仕込原料
フラクションの流量は、反応器に注入される全体液体流
量の1〜99重量%である。管路(3)を経て反応器に
注入される液体仕込原料フラクションの流量は、反応器
に注入される全体液体流量の99〜1重量%である。管
路(3)および管路(4)に注入される液体流量の分配
は、調節弁(5)を用いて制御される。反応後、生成物
は管路(15)を経て回収される。
【0033】2つの床の間の中間レベルへのガス仕込原
料の段階的注入について、本発明の2つの実施形態が、
限定されない例として提案される。例として、これらに
よって、例えば液体単独またはガス/液体混合物の下降
流で稼動する固定床反応器の中間レベルにガス相を注入
することが可能になる。このシステムは、選択的水素化
反応器またはガスオイル仕込水素化脱硫反応器への水素
の段階的注入に適用されてもよい。この目的は、また、
主な流れの温度よりも低い温度でのガス仕込原料を、反
応器に注入することによって、熱移送を行うことであ
る。従って、ガス仕込原料は、有利には急冷ガスとして
作用する。本発明において提案される段階的注入システ
ムの特徴点は、注入されたガスおよび主要流の混合機能
と、下部床の上流で生じた混合物の分配機能とを同時に
一体化することである。
料の段階的注入について、本発明の2つの実施形態が、
限定されない例として提案される。例として、これらに
よって、例えば液体単独またはガス/液体混合物の下降
流で稼動する固定床反応器の中間レベルにガス相を注入
することが可能になる。このシステムは、選択的水素化
反応器またはガスオイル仕込水素化脱硫反応器への水素
の段階的注入に適用されてもよい。この目的は、また、
主な流れの温度よりも低い温度でのガス仕込原料を、反
応器に注入することによって、熱移送を行うことであ
る。従って、ガス仕込原料は、有利には急冷ガスとして
作用する。本発明において提案される段階的注入システ
ムの特徴点は、注入されたガスおよび主要流の混合機能
と、下部床の上流で生じた混合物の分配機能とを同時に
一体化することである。
【0034】図3および図4は、そのような段階的注入
システムの異なる2つの実施形態の図式である。
システムの異なる2つの実施形態の図式である。
【0035】図3では、上部床(203)から回収され
る液体/ガス混合相を通常含む流体は、下部床(20
5)に注入される前にガス注入室(201)を通過する
ダクト(204)を通って流れる。これらのダクト(2
04)は、各ダクトの両側に配置される開口部を経てガ
ス注入室(201)に通じる。
る液体/ガス混合相を通常含む流体は、下部床(20
5)に注入される前にガス注入室(201)を通過する
ダクト(204)を通って流れる。これらのダクト(2
04)は、各ダクトの両側に配置される開口部を経てガ
ス注入室(201)に通じる。
【0036】従って、注入されるガスは、各注入ダクト
内で混合されることになる。ガス注入室は、側方入口
(202)からガスを供給される。室(201)内のガ
ス圧力は、上方の液体レベル(200)による静水圧
(静液圧)と、孔(208)を通過するガスの圧力低下
とによって高められる反応器内圧に少なくとも等しい。
内で混合されることになる。ガス注入室は、側方入口
(202)からガスを供給される。室(201)内のガ
ス圧力は、上方の液体レベル(200)による静水圧
(静液圧)と、孔(208)を通過するガスの圧力低下
とによって高められる反応器内圧に少なくとも等しい。
【0037】上部床(203)から来る残留ガスは、ガ
ス注入室(201)を流体密状に通過するダクト(20
6)を通って排出される。
ス注入室(201)を流体密状に通過するダクト(20
6)を通って排出される。
【0038】図3に記載されている、第1段階的ガス注
入システム(200)において、その原理は、上部床
(203)から来るガス/液体混合物を、液体レベルが
重力によって自然に確定される室(201)の上部壁上
で回収することにある。液体は、ガス注入室(201)
を通過するダクト(204)を通って流れる。この室
は、少なくとも1つの箇所で反応器の側壁を通る導管
(202)を経てガスを供給される。従って、ガスは、
この室(201)からダクト(204)の壁に分布され
る開口部(208)を通って液体流に注入される。従っ
て、ガス/液体混合は、下部床への混合物の注入箇所に
相当するダクトの内部で行われる。このようにして、混
合機能および分配機能は、同時に行われる。従って、こ
れらダクトは有利には、注入されるガスと液体流とを接
触させるために側壁に開口部(208)を備える。ダク
トまたはミキシング流路は、好ましくは軸の全長にわた
って実質上一定な直径を有する。これらダクトの直径
は、当業者に公知のあらゆる技術または方法を用いて計
算されて、該ダクトが液体で満たされないようにする。
この直径は、一般に5〜50mmである。開口部の直径
は有利にはダクトの直径の30%未満であって、ダクト
(204)を通る液体についての主な圧力低下よりも1
0倍以上の、これら孔を通る液体についての圧力低下を
生じるようにする。これら孔の数および直径は、103
Paを越える、好ましくは5×103Paを越えるガス
について圧力低下を生じるように計算される。ダクト1
本当たりの孔の数は通常2〜6であり、その直径は好ま
しくは0.5〜15mmである。これら孔のレベル間で
の高さの差は、少なくとも30mmである。ガス注入室
の深さは、一般に100〜300mmである。この深さ
は、ガス/液体物質交換について特に衝撃を有する。1
平方メートル当たりダクト(204)の密度は、触媒床
の頂部でガス/液体注入箇所の分配を確保するために少
なくとも通常80ダクト/m2である。この密度は、一
般に100〜700ダクト/m2、好ましくは150〜
500ダクト/m2である。最後に、ダクト(204)
は、液体部分が室の下部外表面に沿って広がるのを避け
るように、かつ混合物注入箇所と触媒床への入口との間
の空間を縮小させるために、有利にはガス注入室(20
1)の下方に距離htだけ延長される。距離htは通常
10〜50mmである。液体/ガス混合物が床内に注入
される前に、両者の分離を避けるためにダクト(20
4)の下端部と床の高さとの間の距離は、0〜50mm
(0は除外)、好ましくは0〜20mm(0は除外)で
ある。
入システム(200)において、その原理は、上部床
(203)から来るガス/液体混合物を、液体レベルが
重力によって自然に確定される室(201)の上部壁上
で回収することにある。液体は、ガス注入室(201)
を通過するダクト(204)を通って流れる。この室
は、少なくとも1つの箇所で反応器の側壁を通る導管
(202)を経てガスを供給される。従って、ガスは、
この室(201)からダクト(204)の壁に分布され
る開口部(208)を通って液体流に注入される。従っ
て、ガス/液体混合は、下部床への混合物の注入箇所に
相当するダクトの内部で行われる。このようにして、混
合機能および分配機能は、同時に行われる。従って、こ
れらダクトは有利には、注入されるガスと液体流とを接
触させるために側壁に開口部(208)を備える。ダク
トまたはミキシング流路は、好ましくは軸の全長にわた
って実質上一定な直径を有する。これらダクトの直径
は、当業者に公知のあらゆる技術または方法を用いて計
算されて、該ダクトが液体で満たされないようにする。
この直径は、一般に5〜50mmである。開口部の直径
は有利にはダクトの直径の30%未満であって、ダクト
(204)を通る液体についての主な圧力低下よりも1
0倍以上の、これら孔を通る液体についての圧力低下を
生じるようにする。これら孔の数および直径は、103
Paを越える、好ましくは5×103Paを越えるガス
について圧力低下を生じるように計算される。ダクト1
本当たりの孔の数は通常2〜6であり、その直径は好ま
しくは0.5〜15mmである。これら孔のレベル間で
の高さの差は、少なくとも30mmである。ガス注入室
の深さは、一般に100〜300mmである。この深さ
は、ガス/液体物質交換について特に衝撃を有する。1
平方メートル当たりダクト(204)の密度は、触媒床
の頂部でガス/液体注入箇所の分配を確保するために少
なくとも通常80ダクト/m2である。この密度は、一
般に100〜700ダクト/m2、好ましくは150〜
500ダクト/m2である。最後に、ダクト(204)
は、液体部分が室の下部外表面に沿って広がるのを避け
るように、かつ混合物注入箇所と触媒床への入口との間
の空間を縮小させるために、有利にはガス注入室(20
1)の下方に距離htだけ延長される。距離htは通常
10〜50mmである。液体/ガス混合物が床内に注入
される前に、両者の分離を避けるためにダクト(20
4)の下端部と床の高さとの間の距離は、0〜50mm
(0は除外)、好ましくは0〜20mm(0は除外)で
ある。
【0039】液体深さの最大値よりも大きい、室(20
1)の上部壁に対する高さを有する一連の第2ダクト
(206)は、第2床の上流に開口する前に液密状にガ
ス注入室を通過する。これらのダクトは、第1床から来
る残留ガスを回収して、それを第2床の方向に注入す
る。これらダクトの上端は、ダクト(206)の直径の
約2倍の直径を有しかつ通常はダクト(206)の高さ
の半分に等しい高さ(ダクトの上端部に関して)に配置
される円形状プレート(207)が覆われる。これらダ
クトの直径は、5〜50mmである。原則として、固定
床反応器へのガスの段階的注入の場合には、反応器の頂
部に注入されるガスの量は、処理すべき分子の化学量論
に対して過剰ではない。従って、床(203)から来る
出口に存在するガス量は、注入すべき量に対して少な
い。故に、これらダクトの密度は、穿孔されたダクト
(204)の密度の少なくとも1/2である。これらダ
クトは、ガス注入室の下方に同じ量htだけ延長され
て、流体全体を下部床内に同じレベルで注入する。
1)の上部壁に対する高さを有する一連の第2ダクト
(206)は、第2床の上流に開口する前に液密状にガ
ス注入室を通過する。これらのダクトは、第1床から来
る残留ガスを回収して、それを第2床の方向に注入す
る。これらダクトの上端は、ダクト(206)の直径の
約2倍の直径を有しかつ通常はダクト(206)の高さ
の半分に等しい高さ(ダクトの上端部に関して)に配置
される円形状プレート(207)が覆われる。これらダ
クトの直径は、5〜50mmである。原則として、固定
床反応器へのガスの段階的注入の場合には、反応器の頂
部に注入されるガスの量は、処理すべき分子の化学量論
に対して過剰ではない。従って、床(203)から来る
出口に存在するガス量は、注入すべき量に対して少な
い。故に、これらダクトの密度は、穿孔されたダクト
(204)の密度の少なくとも1/2である。これらダ
クトは、ガス注入室の下方に同じ量htだけ延長され
て、流体全体を下部床内に同じレベルで注入する。
【0040】本発明の別の実施形態によれば、図4に記
載される混合機の操作原理は、液体レベルが重力によっ
て自然に確定される、ガス注入室(221)の上部壁
(220)によって形成されるプレート上で、上部床
(223)から来るガス/液体混合物を回収することか
らなる。ガスは、注入室(221)に注入される。次い
で該ガスは、プレートによって保持される液体容積中に
ダクト(222)を通って注入される。
載される混合機の操作原理は、液体レベルが重力によっ
て自然に確定される、ガス注入室(221)の上部壁
(220)によって形成されるプレート上で、上部床
(223)から来るガス/液体混合物を回収することか
らなる。ガスは、注入室(221)に注入される。次い
で該ガスは、プレートによって保持される液体容積中に
ダクト(222)を通って注入される。
【0041】従って、プレート上に確定されるガス/液
体混合物は、液中に浸漬される上部部分に開口部を備え
かつ室(221)を流体密状に通過する管またはミキシ
ング流路(224)を通って下部床(225)に注入さ
れる。
体混合物は、液中に浸漬される上部部分に開口部を備え
かつ室(221)を流体密状に通過する管またはミキシ
ング流路(224)を通って下部床(225)に注入さ
れる。
【0042】最後にミキシング流路(224)は、液体
が室の下部外表面に沿って広がるのを避けるように、か
つ混合物注入箇所と触媒床への入口との間の空間を縮小
させるために、有利にはガス注入室(221)の下方に
距離htだけ延長される。
が室の下部外表面に沿って広がるのを避けるように、か
つ混合物注入箇所と触媒床への入口との間の空間を縮小
させるために、有利にはガス注入室(221)の下方に
距離htだけ延長される。
【0043】従って、図4に記載されている、第2段階
的ガス注入システムにおいて、その原理は、上部床(2
23)から来るガス/液体混合物を、液体レベルが重力
によって自然に確定される、ガス注入室(221)の上
部壁(220)上の室で回収することからなる。ガス
は、注入室(221)およびダクト(222)を通っ
て、プレートによって保持される液体容積中に注入され
る。注入室(221)は、少なくとも1つ箇所において
反応器の壁を通って側方導管によってガスを供給され
る。従って、このシステムにおいて、当初注入されるガ
スは、気泡流れ形態で液体と接触される。次いで注入さ
れるガス/液体混合物は、ミキシング流路(224)内
で上流床から来る残留ガスと接触される。室(221)
内でのガス圧力は、その上部壁(220)の上の液体レ
ベルによる静水圧(静液圧)と、注入用ダクト(22
2)を通過するガスの圧力低下とによって高められる反
応器内の圧力に少なくとも等しい。従って、ミキシング
機能は、2工程で達成される。さらに最終ガス/液体混
合は、下部床への注入箇所のレベル、すなわちミキシン
グ流路(224)のレベルで行われる。故に、混合機能
および分配機能もまた同時に行われる。
的ガス注入システムにおいて、その原理は、上部床(2
23)から来るガス/液体混合物を、液体レベルが重力
によって自然に確定される、ガス注入室(221)の上
部壁(220)上の室で回収することからなる。ガス
は、注入室(221)およびダクト(222)を通っ
て、プレートによって保持される液体容積中に注入され
る。注入室(221)は、少なくとも1つ箇所において
反応器の壁を通って側方導管によってガスを供給され
る。従って、このシステムにおいて、当初注入されるガ
スは、気泡流れ形態で液体と接触される。次いで注入さ
れるガス/液体混合物は、ミキシング流路(224)内
で上流床から来る残留ガスと接触される。室(221)
内でのガス圧力は、その上部壁(220)の上の液体レ
ベルによる静水圧(静液圧)と、注入用ダクト(22
2)を通過するガスの圧力低下とによって高められる反
応器内の圧力に少なくとも等しい。従って、ミキシング
機能は、2工程で達成される。さらに最終ガス/液体混
合は、下部床への注入箇所のレベル、すなわちミキシン
グ流路(224)のレベルで行われる。故に、混合機能
および分配機能もまた同時に行われる。
【0044】ガスの注入ダクト(222)の直径は、装
置停止の際に上部壁(220)上の室への液体の流れを
避けるために、一般に1〜50mmであり、その最小の
高さは、50mmである。これらのダクトは、有利には
ダクトの直径の1〜2倍の直径と、ダクトの高さにほぼ
等しい高さとを有するキャップで覆われており、一方で
は、ダクトの頂部とキャップとの間の空間は、ダクトの
直径の1/4に少なくとも等しい。従って、上部壁で形
成されるプレートの上に確定されるガス/液体混合物
は、液中に浸漬される上部部分に開口部を備えかつ上部
壁(220)上の室を流体密状に通過する管またはミキ
シング流路(224)を通って下部床(225)に注入
される。これらの管の直径は、当業者に公知のあらゆる
技術または方法を用いて計算されて、これらのダクト
が、液体で満たされないようにする。この直径は、5〜
50mmである。開口部の直径は、大きくとも管の直径
の75%未満であり、3〜35mmである。これら孔を
通る開口部の総面積は、流路の通路の横断面に少なくと
も等しい。孔の数は、2以上、一般に2〜20である。
好ましくは、これらの孔は、ミキシング流路の側壁に2
つのレベル間の最小距離30mmの間隔で均一に分配さ
れる。流路の下部開口部と、室(221)の上部プレー
トとの間の距離は、ガス注入ダクト(222)の高さよ
りも短い。最後に、ミキシング流路(224)は、有利
には分配プレートの下部外表面に沿った液体の優先的な
通過を避けるために、かつ混合物注入箇所と床への入口
との間の空間を縮小させるために、有利にはガス注入室
(221)の下方に距離ht(226)だけ延長され
る。距離htは、10〜50mmである。次いで床への
液体/ガス混合物の注入前における両者の分離を避ける
ために、管(224)の下端部と床の頂部との間の距離
は通常0〜50mm(0は除外)、好ましくは0〜20
mm(0は除外)である。
置停止の際に上部壁(220)上の室への液体の流れを
避けるために、一般に1〜50mmであり、その最小の
高さは、50mmである。これらのダクトは、有利には
ダクトの直径の1〜2倍の直径と、ダクトの高さにほぼ
等しい高さとを有するキャップで覆われており、一方で
は、ダクトの頂部とキャップとの間の空間は、ダクトの
直径の1/4に少なくとも等しい。従って、上部壁で形
成されるプレートの上に確定されるガス/液体混合物
は、液中に浸漬される上部部分に開口部を備えかつ上部
壁(220)上の室を流体密状に通過する管またはミキ
シング流路(224)を通って下部床(225)に注入
される。これらの管の直径は、当業者に公知のあらゆる
技術または方法を用いて計算されて、これらのダクト
が、液体で満たされないようにする。この直径は、5〜
50mmである。開口部の直径は、大きくとも管の直径
の75%未満であり、3〜35mmである。これら孔を
通る開口部の総面積は、流路の通路の横断面に少なくと
も等しい。孔の数は、2以上、一般に2〜20である。
好ましくは、これらの孔は、ミキシング流路の側壁に2
つのレベル間の最小距離30mmの間隔で均一に分配さ
れる。流路の下部開口部と、室(221)の上部プレー
トとの間の距離は、ガス注入ダクト(222)の高さよ
りも短い。最後に、ミキシング流路(224)は、有利
には分配プレートの下部外表面に沿った液体の優先的な
通過を避けるために、かつ混合物注入箇所と床への入口
との間の空間を縮小させるために、有利にはガス注入室
(221)の下方に距離ht(226)だけ延長され
る。距離htは、10〜50mmである。次いで床への
液体/ガス混合物の注入前における両者の分離を避ける
ために、管(224)の下端部と床の頂部との間の距離
は通常0〜50mm(0は除外)、好ましくは0〜20
mm(0は除外)である。
【0045】1平方メートル当たり管(224)の密度
は、触媒床の頂部でガス/液体注入箇所の分配を確保す
るために、少なくとも80管/m2である。この密度
は、一般に100〜700管/m2、好ましくは150
〜500管/m2である。ダクト(222)の密度は、
管またはミキシング流路(224)の密度の0.3〜1
倍である。従って、有利には本発明によれば、注入され
る冷却ガスは、触媒反応を急冷するように作用できる。
は、触媒床の頂部でガス/液体注入箇所の分配を確保す
るために、少なくとも80管/m2である。この密度
は、一般に100〜700管/m2、好ましくは150
〜500管/m2である。ダクト(222)の密度は、
管またはミキシング流路(224)の密度の0.3〜1
倍である。従って、有利には本発明によれば、注入され
る冷却ガスは、触媒反応を急冷するように作用できる。
【図1】本発明による装置を組み込みうる反応器の実施
形態を示すフローシートである。
形態を示すフローシートである。
【図2】本発明による装置を組み込みうる反応器の実施
形態を示すフローシートである。
形態を示すフローシートである。
【図3】図1および図2に示される反応器のうちの1つ
に配置されてもよい2つの連続的触媒床間において稼動
する段階的注入装置または急冷装置の本発明による実施
形態を示す概略図である。
に配置されてもよい2つの連続的触媒床間において稼動
する段階的注入装置または急冷装置の本発明による実施
形態を示す概略図である。
【図4】図1および図2に示される反応器のうちの1つ
に配置されてもよい2つの連続的触媒床間において稼動
する段階的注入装置または急冷装置の本発明による実施
形態を示す概略図である。
に配置されてもよい2つの連続的触媒床間において稼動
する段階的注入装置または急冷装置の本発明による実施
形態を示す概略図である。
(203)(223):上部粒状床 (205)(225):下部粒状床 (201)(221):第2流体注入室 (204)(206)(222):ダクト (224):ミキシング流路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 5/10 C07C 5/10 C10G 45/02 C10G 45/02 45/32 45/32 (72)発明者 ヴァンサン クパール フランス国 ヴォー アン ヴラン リュ ア ベロ 5 (72)発明者 ベルトラン ファーンジェ フランス国 ヴィエンヌ リュ ヴィメー ヌ 32−2 Fターム(参考) 4G070 BB06 CA06 CA16 CA18 CB05 CB07 CB30 4H006 AA02 AA04 AA05 AC11 AC13 BD21 BE20
Claims (11)
- 【請求項1】 第2流体と、上部粒状床から来る流体ま
たは流体混合物との間の多相混合物を生成しかつ分配す
るために2つの連続的粒状床の間に配置される該第2流
体の注入装置において、該装置が第2流体注入室を備
え、前記第2流体が前記装置に注入され、さらに該装置
が、前記第2流体と、上部粒状床から来る流体または流
体混合物の少なくとも一部とを接触させるための手段、
および前記接触により生じた混合物を下部粒状床へ同時
に分配するための手段とを備えることを特徴とする、注
入装置。 - 【請求項2】 前記第2流体が、水素を少なくとも一部
含むガス相である、請求項1記載の装置。 - 【請求項3】 前記接触および分配手段が、前記注入室
を通る軸の長さに沿って配され実質上一定の直径を有し
かつ側壁に開口部を穿孔されたダクト(204)であ
る、請求項1または2記載の装置。 - 【請求項4】 上部粒状床により生じかつ該室を流体密
状に通過する流体または流体混合物のガス・フラクショ
ンを通過させるためのダクト(206)を備える装置で
あって、該ダクトの高さは、液体が到達する最大高さよ
りも高く、該ダクトの上部は、上部粒状床から来る流体
または流体混合物の液体部分が前記ダクトを通って流れ
るのを妨げるプレートを備える、請求項1〜3のうちの
いずれか1項記載の装置。 - 【請求項5】 前記接触および分配手段が、 ・前記室の上方に配置された帯域への第2流体の通過を
可能にするダクト(222)、並びに ・前記室を流体密状に通る軸の長さに沿って配され実質
上一定の直径を有する管またはミキシング流路(22
4)であり、その上部は、第2流体と、上部粒状床によ
り生じる流体または流体混合物の少なくとも一部との通
過および混合のための開口部を備える、請求項1または
2記載の装置。 - 【請求項6】 接触および分配手段が、前記室の下方に
距離htだけ延長されることを特徴とする、請求項1〜
5のうちのいずれか1項記載の装置。 - 【請求項7】 ダクト、管またはミキシング流路の下端
部と、下部粒状床の上面との間の距離が、0〜50mm
(0は除外)であり、ダクト(204)(224)の密
度が1平方メートル当たり80を越える、請求項1〜6
のうちのいずれか1項記載の装置。 - 【請求項8】 ・少なくとも1つの上部粒状固体床と、 ・第2流体と、前記床から来る流体または流体混合物と
の混合および分配を行うための、前記上部床の下流に配
置される請求項1〜7のうちのいずれか1項記載の少な
くとも1つの装置と、 ・前記装置の下流に配置される少なくとも1つの粒状固
体床と、 ・前記装置の室への第2流体注入のための少なくとも1
つの分離注入管路であって、前記注入が、好ましくは、
反応器の軸に対して実質上垂直に行われる分離注入管路
とを備えることを特徴とする、固定床反応器。 - 【請求項9】 液相およびガス相が、前記単数または複
数の粒状固体床を通過して下降並流で流通する、請求項
8記載の反応器。 - 【請求項10】 前記単数または複数の粒状固体床が、
少なくとも1つの触媒粒状固体を含むことを特徴とす
る、請求項8または9記載の反応器。 - 【請求項11】 水素化脱硫方法、選択的水素化方法ま
たは水素化脱窒方法における請求項1〜10のうちのい
ずれか1項に記載される装置および/または反応器の使
用法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0010694A FR2813024B1 (fr) | 2000-08-17 | 2000-08-17 | Dispositif d'injection d'un fluide place entre deux lits successifs permettant de realiser et de distribuer simultanement un melange polyphasique |
FR0010694 | 2000-08-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002172321A true JP2002172321A (ja) | 2002-06-18 |
Family
ID=8853572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001247506A Pending JP2002172321A (ja) | 2000-08-17 | 2001-08-17 | 多相混合を行って同時に分配しうる2つの連続床の間に配置される流体の注入装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6824675B2 (ja) |
EP (1) | EP1180393B1 (ja) |
JP (1) | JP2002172321A (ja) |
DE (1) | DE60137890D1 (ja) |
ES (1) | ES2322231T3 (ja) |
FR (1) | FR2813024B1 (ja) |
SA (1) | SA01220551B1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004130301A (ja) * | 2002-07-16 | 2004-04-30 | Inst Fr Petrole | 粒状床の上流に配置される濃い流体と軽い流体との混合および分配装置、ならびに下降流における該装置の使用 |
JP2004231656A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Inst Fr Petrole | 水素選択膜を有する触媒反応器を使用する選択的水素添加方法 |
JP2004307504A (ja) * | 2003-04-02 | 2004-11-04 | Inst Fr Petrole | 粒状床に供給される気相および液相の改良された混合および分配装置 |
JP2011098339A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-19 | Petroleo Brasileiro Sa | 固定触媒床上の混合投入物を冷却し、分配するためのデバイス |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7550123B2 (en) * | 2000-03-03 | 2009-06-23 | Steen Research, Llc | Method and apparatus for use of reacted hydrogen peroxide compounds in industrial process waters |
FR2818559B1 (fr) * | 2000-12-21 | 2003-10-24 | Inst Francais Du Petrole | Dispositif permettant de realiser une injection separee et une distribution homogene de deux fluides |
US7108838B2 (en) * | 2003-10-30 | 2006-09-19 | Conocophillips Company | Feed mixer for a partial oxidation reactor |
FR2875148B1 (fr) * | 2004-09-10 | 2007-06-29 | Inst Francais Du Petrole | Installation et methode de melange et de distribution d'une phase liquide et d'une phase gazeuse |
US7416571B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-08-26 | Conocophillips Company | Compact mixer for the mixing of gaseous hydrocarbon and gaseous oxidants |
FR2883200B1 (fr) * | 2005-03-17 | 2007-05-11 | Inst Francais Du Petrole | Dispositif pour le melange et la repartition d'un gaz et d' un liquide en amont d'un lit granulaire |
ITMI20052002A1 (it) * | 2005-10-21 | 2007-04-22 | Eni Spa | Dispositivo per miscelare fluidi inserito o combinato ad un reattore |
US8010292B2 (en) * | 2006-09-28 | 2011-08-30 | Fisher-Rosemount Systems, Inc. | Method and system for detecting abnormal operation in a hydrocracker |
ITMI20070627A1 (it) * | 2007-03-29 | 2008-09-30 | Polimeri Europa Spa | Dispositivo miscelatore a bassa perdita di carico e suo impiego nella miscelazione di due gas-vapori |
FR2933311B1 (fr) * | 2008-07-03 | 2012-02-03 | Inst Francais Du Petrole | Plateaux de colonnes de contact gaz-liquide a ecoulement co-courant a haut barrage de liquide |
FR2948296A1 (fr) * | 2009-07-21 | 2011-01-28 | Inst Francais Du Petrole | Dispositif de melange de gaz et de distribution du melange resultant a l'entree d'un reacteur catalytique |
DE102010029441A1 (de) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Rtm 2000 Ag | Vorrichtung zur Verteilung von Flüssigkeit auf eine angeschlossene Kolonnenpackung |
US9365781B2 (en) | 2012-05-25 | 2016-06-14 | E I Du Pont De Nemours And Company | Process for direct hydrogen injection in liquid full hydroprocessing reactors |
CN104759229B (zh) * | 2014-12-31 | 2017-06-30 | 宁波艾迪特设备科技有限公司 | 一种用于饮料制作的自增压气液混合装置 |
CN105664805A (zh) * | 2016-01-15 | 2016-06-15 | 中航黎明锦西化工机械(集团)有限责任公司 | 滴流床反应器分布器 |
CN108721931A (zh) * | 2018-06-12 | 2018-11-02 | 帕提古丽·奥布力 | 一种制备丁苯胶乳的连续精馏装置 |
FR3102070B1 (fr) | 2019-10-17 | 2021-09-24 | Commissariat Energie Atomique | Réacteur échangeur à tubes et calandre permettant l’injection étagée d’un réactif |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60193227U (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-23 | 三菱重工業株式会社 | 固定床用液分散器 |
JPS63296838A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-02 | ユ−オ−ピ− インコ−ポレイテツド | 垂直流れ流体−固体接触用混合装置 |
JPH09164302A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-06-24 | Inst Fr Petrole | 幾つかの流体の配分、混合、注入および/または抜取りを可能にする装置(dme) |
JPH09225289A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-02 | Inst Fr Petrole | 触媒床を通過する多相混合物を分配するための装置 |
WO2000013781A1 (fr) * | 1998-09-02 | 2000-03-16 | Institut Français Du Petrole | Systeme distributeur-collecteur de fluides et son procede |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE687952C (de) * | 1932-05-14 | 1940-02-09 | Chemical Conversion Company | Vorrichtung zur Verteilung eines Reaktions-, Regenerations- oder Reinigungsstromes in einer mit einer Kontaktmasse gefuellten Kammer |
US2385200A (en) * | 1942-06-25 | 1945-09-18 | Hooker Electrochemical Co | Methods and apparatus for reacting gases with liquids |
US3946104A (en) * | 1973-01-13 | 1976-03-23 | Friedrich Uhde Gmbh | Method of producing an homogeneous gas mixture |
GB8910372D0 (en) * | 1989-05-05 | 1989-06-21 | Framo Dev Ltd | Multiphase process mixing and measuring system |
GB9000528D0 (en) * | 1990-01-10 | 1990-03-14 | Shell Int Research | Fixed bed reactor |
NO300117B1 (no) * | 1994-12-22 | 1997-04-14 | Norske Stats Oljeselskap | Reaktor for dehydrogenering av hydrokarboner med selektiv oksidasjon av hydrogen |
US6017022A (en) * | 1995-10-12 | 2000-01-25 | The Dow Chemical Company | Shear mixing apparatus and use thereof |
FR2740054B1 (fr) * | 1995-10-20 | 1997-12-19 | Inst Francais Du Petrole | Chambre de melange munie d'orifices d'injection et/ou de soutirage pour optimiser la fonction de melange |
US5885534A (en) * | 1996-03-18 | 1999-03-23 | Chevron U.S.A. Inc. | Gas pocket distributor for hydroprocessing a hydrocarbon feed stream |
US6620389B1 (en) * | 2000-06-21 | 2003-09-16 | Utc Fuel Cells, Llc | Fuel gas reformer assemblage |
FR2813023B1 (fr) * | 2000-08-17 | 2003-10-24 | Inst Francais Du Petrole | Dispositif de distribution permettant de realiser un melange polyphasique et reacteur associe |
-
2000
- 2000-08-17 FR FR0010694A patent/FR2813024B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-08-07 ES ES01402129T patent/ES2322231T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-07 DE DE60137890T patent/DE60137890D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-07 EP EP01402129A patent/EP1180393B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-16 US US09/930,201 patent/US6824675B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-17 JP JP2001247506A patent/JP2002172321A/ja active Pending
- 2001-11-26 SA SA01220551A patent/SA01220551B1/ar unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60193227U (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-23 | 三菱重工業株式会社 | 固定床用液分散器 |
JPS63296838A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-02 | ユ−オ−ピ− インコ−ポレイテツド | 垂直流れ流体−固体接触用混合装置 |
JPH09164302A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-06-24 | Inst Fr Petrole | 幾つかの流体の配分、混合、注入および/または抜取りを可能にする装置(dme) |
JPH09225289A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-02 | Inst Fr Petrole | 触媒床を通過する多相混合物を分配するための装置 |
WO2000013781A1 (fr) * | 1998-09-02 | 2000-03-16 | Institut Français Du Petrole | Systeme distributeur-collecteur de fluides et son procede |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004130301A (ja) * | 2002-07-16 | 2004-04-30 | Inst Fr Petrole | 粒状床の上流に配置される濃い流体と軽い流体との混合および分配装置、ならびに下降流における該装置の使用 |
KR101015929B1 (ko) | 2002-07-16 | 2011-02-23 | 아이에프피 에너지스 누벨 | 입자층 상류에 배치된 고밀도 유체와 저밀도 유체의 혼합 및 분배 장치 |
JP4697572B2 (ja) * | 2002-07-16 | 2011-06-08 | イエフペ エネルジ ヌヴェル | 粒状床の上流に配置される濃い流体と軽い流体との混合および分配装置、ならびに下降流における該装置の使用 |
JP2004231656A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Inst Fr Petrole | 水素選択膜を有する触媒反応器を使用する選択的水素添加方法 |
JP2004307504A (ja) * | 2003-04-02 | 2004-11-04 | Inst Fr Petrole | 粒状床に供給される気相および液相の改良された混合および分配装置 |
JP4702660B2 (ja) * | 2003-04-02 | 2011-06-15 | イエフペ エネルジ ヌヴェル | 粒状床に供給される気相および液相の改良された混合および分配装置 |
JP2011098339A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-19 | Petroleo Brasileiro Sa | 固定触媒床上の混合投入物を冷却し、分配するためのデバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2322231T3 (es) | 2009-06-18 |
US6824675B2 (en) | 2004-11-30 |
FR2813024B1 (fr) | 2004-02-13 |
EP1180393B1 (fr) | 2009-03-11 |
DE60137890D1 (de) | 2009-04-23 |
US20020021991A1 (en) | 2002-02-21 |
FR2813024A1 (fr) | 2002-02-22 |
EP1180393A3 (fr) | 2002-03-06 |
EP1180393A2 (fr) | 2002-02-20 |
SA01220551B1 (ar) | 2006-09-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002172321A (ja) | 多相混合を行って同時に分配しうる2つの連続床の間に配置される流体の注入装置 | |
EP2767333B1 (en) | Mixing device with tangential inlets for two-phase concurrent vessels | |
JP3774253B2 (ja) | 複合ベッド下降流反応器用分布装置 | |
US5232283A (en) | Apparatus for mixing concurrently, downwardly flowing fluids | |
JP3365636B2 (ja) | 多床下降流触媒反応器のための分配器組立体 | |
JP5336025B2 (ja) | 多孔性噴流擾乱要素を備えた多相混合物の粒状固体床上への分配装置 | |
JP5270056B2 (ja) | 少なくとも1つの気相および少なくとも1つの液相の接触、物質分配ならびに熱および/または物質交換のための多機能サブアセンブリー | |
US7238329B2 (en) | Device for injecting a fluid located between two successive beds to simultaneously produce and distribute a polyphase mixture | |
US7052654B2 (en) | Multiphase mixing device with staged gas introduction | |
JP2004524138A (ja) | 複数床下方流反応器 | |
WO2006044265A2 (en) | Fluid distribution apparatus for downflow multibed poly-phase catalytic reactor | |
KR20120017078A (ko) | 하향 유동 반응기를 위한 혼합 장치 | |
JP2004337853A (ja) | 回転流を誘導するための改良クエンチ注入を有する多相混合装置 | |
JPH09225290A (ja) | 触媒床を通過する多相混合物を分配するための板 | |
US20040134836A1 (en) | Mixing device for two-phase concurrent vessels | |
CN111065452B (zh) | 用于在下流式容器中进行流体接触的方法和设备 | |
JP2010024451A (ja) | 粒状床と粒状床中を流れる本質的に液体の相および本質的に気体の相とを含む処理または水素化処理反応器 | |
EP1562697A1 (en) | Mixing device for two-phase concurrent vessels | |
US5772970A (en) | Reaction column | |
EP3658267B1 (en) | Methods for fluid contacting in a downflow vessel | |
EP1386658B1 (en) | Jet mixing of process fluids in fixed bed reactor | |
CA1288374C (en) | Apparatus for mixing dispersed flows prior to their entry into a catalyst bed | |
KR940000861B1 (ko) | 액체, 기체 또는 그 혼합물의 촉매 전환방법 및 이를 실시하기 위한 장치 | |
CN111344056B (zh) | 用于在下流式容器中进行流体接触的方法和设备 | |
JPH09169983A (ja) | 炭化水素装入物の噴射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080814 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110704 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111004 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120313 |