JP2002166142A - Filter cartridge and filtration method - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fine filtration filter cartridge with excellent chemical resistance and filtration stability, wherein the filter cartridge is reusable as a member of injection molding of filters by regenerating a used filter to a pellet and to provide a filtration method using the same. SOLUTION: In a fine filtration filter cartridge of which all the members are composed of a polysulfone, the fine filtration filter cartridge is characterized by having the MRF value of the pellet being between 2 and 4.9, when the filter cartridge is regenerated into a pellet. A method for washing a wafer for a semiconductor integrated circuit comprises starting a filtration without conducting the hydrophilization pretreatment of the filtration cartridge by an alcohol.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は微孔性ろ過膜を使用
したカートリッジフィルターに関する。更に詳しくは、
本発明は、耐薬品性に優れ環境適性のある親水性微孔性
精密ろ過膜を使用したカートリッジフィルターに関す
る。The present invention relates to a cartridge filter using a microporous filtration membrane. More specifically,
The present invention relates to a cartridge filter using a hydrophilic microporous microfiltration membrane having excellent chemical resistance and environmental suitability.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年半導体の製造においては、有機溶
剤、酸、アルカリ及び酸化剤といった薬液に対する耐性
が強く溶出物の少ないろ過用フィルターが求められるよ
うになっている。現在このような薬液のろ過には、ポリ
テトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を素材とする微孔
性精密ろ過膜を使用し、その他のフィルター構成部材に
はパーフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）を用いたろ過
用フィルターが使用されている。しかるにこのオール弗
素フィルターカートリッジにおいては、ＰＴＦＥ製ろ過
膜が疎水性が極めて強く、ろ過の始めにイソプロパノー
ルなどのアルコールで湿潤しておいても、僅かの気泡の
混入でエアーロックをおこしてろ過不能となり、ろ過安
定性に欠けるという問題点がある。また湿潤処理後薬液
ろ過開始にあたって、アルコールと薬液との混合液が大
量に廃棄物となってしまう。更に使用済みフィルターカ
ートリッジはＰＴＦＥとＰＦＡの異種材料を熱溶着で一
体化しているため、溶融してペレットに再生することが
できない。また焼却処理を行うと有毒ガスを発生するな
どの問題点があるため、オール弗素フィルター廃棄処理
は埋立てしか方法がないという、環境上の大きな問題が
ある。しかし、上記構成要素の全てがポリスルホンでで
きているフィルターカートリッジにおいては、まだ次の
ような問題がある。即ち、ポリスルホンには分子量の異
なる多種のグレードがあり、フィルターカートリッジ構
成要素毎に使用する分子量グレードが異なっている。分
子量グレードの相違によって溶融時の流動性が大きく変
化し、再生ペレットの再使用に障害を生じることが分か
った。2. Description of the Related Art In recent years, in the production of semiconductors, there has been a demand for a filter for filtration which has high resistance to chemicals such as organic solvents, acids, alkalis and oxidizing agents and has a small amount of eluted substances. At present, microporous microfiltration membranes made of polytetrafluoroethylene (PTFE) are used for filtering such chemicals, and perfluoroalkoxy resin (PFA) is used for other filter components. Filters are used. However, in this all-fluorine filter cartridge, the filtration membrane made of PTFE is extremely hydrophobic, and even if it is moistened with alcohol such as isopropanol at the beginning of the filtration, it becomes air-locked due to the inclusion of a slight amount of air bubbles, making it impossible to filter. However, there is a problem that filtration stability is lacking. Further, at the start of the filtration of the chemical solution after the wet treatment, a large amount of the mixed solution of the alcohol and the chemical solution becomes waste. Further, since the used filter cartridge is formed by integrating different materials of PTFE and PFA by heat welding, it cannot be melted and regenerated into pellets. In addition, since there is a problem that toxic gas is generated when incineration is performed, there is a major environmental problem that the all-fluorine filter disposal process has no alternative but landfill. However, a filter cartridge in which all of the above components are made of polysulfone still has the following problems. That is, there are various grades of polysulfone having different molecular weights, and the molecular weight grade used for each filter cartridge component is different. It was found that the flowability at the time of melting greatly changed due to the difference in the molecular weight grade, and it was difficult to reuse the regenerated pellets.

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来の状況に鑑み、優れた耐薬品性、ろ過安定性及び廃
液の減少の特長は勿論のこと、使用済フィルターをペレ
ットに再生してフィルターの射出成型部材として再使用
可能な精密ろ過フィルターカートリッジと、その製造方
法を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned conventional circumstances, it is an object of the present invention to regenerate used filters into pellets, as well as excellent chemical resistance, filtration stability and reduction of waste liquid. To provide a microfiltration filter cartridge that can be reused as an injection molded member of a filter, and a method of manufacturing the same.

【０００４】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は下記（１）〜
（４）により達成された。 （１） フィルターカートリッジを構成する微孔性ろ過
膜、膜サポート、コアー、外周カバー及びエンドプレー
トのすべての部材がポリスルホンで構成される精密ろ過
フィルターカートリッジにおいて、該フィルターカート
リッジをペレットに再生した時そのペレットのＭＦＲ値
が２から４．９の間にあることを特徴とする精密ろ過フ
ィルターカートリッジ。 （２） 該部材の少なくとも一つが熱溶融成型され、前
記熱溶融成型部材がアニール処理されていることを特徴
とする上記（１）記載の精密ろ過フィルターカートリッ
ジ。 （３） カートリッジ組立て後、稀酸洗浄と５０℃以上
１００℃以下の熱超純水洗浄を行うことを特徴とする上
記（１）または（２）記載の精密ろ過フィルターカート
リッジ。 （４） 半導体集積回路製造のウエハー洗浄工程におい
て上記（１）、（２）または（３）記載の精密ろ過フィ
ルターカートリッジを用い且つアルコールによる予備親
水化処理を行うことなく、洗浄薬液のろ過を開始するこ
とを特徴とする半導体集積回路用ウエハー洗浄液のろ過
方法。The present invention provides the following (1) to
Achieved by (4). (1) In a microfiltration filter cartridge in which all members of a microporous filtration membrane, a membrane support, a core, an outer peripheral cover and an end plate constituting a filter cartridge are made of polysulfone, when the filter cartridge is regenerated into pellets, A microfiltration filter cartridge, wherein the MFR value of the pellet is between 2 and 4.9. (2) The microfiltration filter cartridge according to (1), wherein at least one of the members is hot-melt molded, and the hot-melt molded member is annealed. (3) The microfiltration filter cartridge according to the above (1) or (2), wherein after the cartridge is assembled, dilute acid washing and hot ultrapure water washing at 50 ° C to 100 ° C are performed. (4) In the wafer cleaning step of manufacturing a semiconductor integrated circuit, the filtration of the cleaning solution is started using the microfiltration filter cartridge described in (1), (2) or (3) above and without performing the pre-hydrophilization treatment with alcohol. A method of filtering a wafer cleaning liquid for a semiconductor integrated circuit.

【０００５】[0005]

【発明の実施の形態】一般に、フィルターカートリッジ
にはろ過膜とろ過膜を保護する膜サポートをプリーツ状
に折り束ねた構造のプリーツカートリッジと、複数個の
平板型ろ過ユニットを積層してなる平板積層カートリッ
ジが知られている。プリーツカートリッジの構造につい
てはその例がたとえば特開平４−２３５７２２号や同１
０−６６８４２号などに開示されている。平板積層カー
トリッジの構造についてはたとえば特開昭６３−８０８
１５号、特開昭５６−１２９０１６号及び同５８−９８
１１１号などに開示されている。本発明の目的にはこの
どちらタイプのフィルターカートリッジも使用可能であ
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In general, a filter cartridge has a pleated cartridge having a structure in which a filtration membrane and a membrane support for protecting the filtration membrane are folded in a pleated shape, and a plurality of flat plate filtration units. Cartridges are known. Examples of the structure of the pleated cartridge are described in, for example, JP-A-4-235722 and
No. 0-66842 and the like. Regarding the structure of the flat plate laminated cartridge, see, for example, JP-A-63-808.
No. 15, JP-A-56-129016 and JP-A-58-98.
No. 111 and the like. Either type of filter cartridge can be used for the purposes of the present invention.

【０００６】以下に、プリーツカートリッジを例にして
その構造を詳しく説明する。図１は一般的なプリーツ型
精密ろ過膜カートリッジフィルターの全体構造を示す展
開図である。精密ろ過膜３は２枚の膜サポート２、４に
よってサンドイッチされた状態でひだ折りされ、集液口
を多数有するコアー５の廻りに巻き付けられている。そ
の外側には外周カバー１があり、精密ろ過膜を保護して
いる。円筒の両端にはエンドプレート６ａ、６ｂによ
り、精密ろ過膜がシールされている。エンドプレートは
ガスケット７を介してフィルターハウジング（図示な
し）のシール部と接する。一つのエンドプレート部にＯ
−リングが設けられ、Ｏ−リングを介してフィルターハ
ウジングと接するタイプのものもある。ガスケットある
いはＯ−リングは、フィルター廃却の際に容易に脱着で
きる。ろ過された液体はコアーの集液口から集められ、
流体出口８から排出される。液体出口が円筒の両端に設
けられたタイプのものと、液体出口が片方のみに設けら
れ片端はふさがれているタイプのものがある。The structure of the pleated cartridge will be described below in detail. FIG. 1 is a developed view showing the entire structure of a general pleated microfiltration membrane filter. The microfiltration membrane 3 is folded while being sandwiched by two membrane supports 2 and 4 and wound around a core 5 having a large number of liquid collection ports. An outer peripheral cover 1 is provided on the outside to protect the microfiltration membrane. Microfiltration membranes are sealed at both ends of the cylinder by end plates 6a and 6b. The end plate is in contact with a seal portion of a filter housing (not shown) via a gasket 7. O on one end plate
There is also a type in which a ring is provided and contacts the filter housing via an O-ring. The gasket or O-ring can be easily removed when the filter is discarded. The filtered liquid is collected from the collecting port of the core,
It is discharged from the fluid outlet 8. There are a type in which the liquid outlet is provided at both ends of the cylinder, and a type in which the liquid outlet is provided in only one side and one end is blocked.

【０００７】本発明ではガスケット及びＯ−リングを除
く全部材に、一般的にポリスルホンと呼ばれている化学
式１に示す化学構造のポリマーを使用する。ポリスルホ
ンは耐熱性が高く且つ耐薬品性に優れていることは従来
から知られていた。しかし半導体製造で使用される熱濃
硫酸や濃燐酸の如き酸化性の特に強烈な熱酸には耐え
ず、それ故に半導体製造工程では従来オール弗素フィル
ターが使用されてきた。本発明者はポリスルホンが熱塩
酸、熱アンモニア、弗酸及び熱イソプロパノールの如き
半導体集積回路用ウエハーの洗浄薬品のろ過に耐えるこ
とを発見し、本発明に至った。ポリスルホンはユーデル
ポリスルホンの名称でアモコ社より発売されている。[0007] In the present invention, a polymer having a chemical structure represented by Chemical Formula 1 generally called polysulfone is used for all members except for a gasket and an O-ring. It has been known that polysulfone has high heat resistance and excellent chemical resistance. However, it does not withstand oxidizing particularly strong thermal acids such as hot concentrated sulfuric acid and concentrated phosphoric acid used in semiconductor manufacturing, and therefore, all-fluorine filters have been conventionally used in semiconductor manufacturing processes. The present inventors have found that polysulfone resists the filtration of cleaning chemicals for semiconductor integrated circuit wafers such as hot hydrochloric acid, hot ammonia, hydrofluoric acid, and hot isopropanol, which led to the present invention. Polysulfone is sold by Amoco under the name Udel Polysulfone.

【０００８】[0008]

【化１】 Embedded image

【０００９】ユーデルポリスルホンには平均分子量の違
いによって２種のグレードがある。各グレードはその平
均的なＭＦＲ値によってＰ−１７００（ＭＦＲ値５から
９）、Ｐ−３５００（ＭＦＲ値２から４．９）の品番が
つけられている。 ＭＦＲ値はアメリカ材料試験協会
（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｔｅｓ
ｔｉｎｇ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）が定める標準
試験法ＡＳＴＭ Ｄ １２３８よって測定される。ポリ
スルホンメルトの流動性を表し、熱溶融成型する時のグ
レード選択の基準になる値である。分子量とは１対１の
対応は必ずしもないが、一般的にはＭＦＲ値が大きい程
分子量が小さく、メルトの流動性は高くなって熱成型の
生産性がよくなる。ＭＦＲ値が小さいと分子量が大き
く、メルトの流動性は低いが強度的には強靭になる。ポ
リスルホンのＭＦＲ測定は、３４３℃、０．３Ｍｐａの
圧力条件下で、１０分間にシリンダーから押し出される
メルトの質量をグラム単位で表した値である。Udel polysulfone has two grades depending on the difference in average molecular weight. Each grade is given a product number of P-1700 (MFR value 5 to 9) and P-3500 (MFR value 2 to 4.9) according to its average MFR value. MFR values are based on the American Society for Testing
It is measured according to the standard test method ASTM D 1238 as defined by Ting and Materials. It indicates the fluidity of polysulfone melt and is a value that serves as a criterion for selecting a grade when performing hot melt molding. Although there is not always a one-to-one correspondence with the molecular weight, generally, the higher the MFR value, the lower the molecular weight, the higher the fluidity of the melt, and the higher the productivity of thermoforming. If the MFR value is small, the molecular weight is large, and the fluidity of the melt is low, but the strength is tough. The MFR measurement of polysulfone is a value expressing the mass of the melt extruded from the cylinder in 10 minutes at 343 ° C. and a pressure of 0.3 Mpa in grams.

【００１０】精密ろ過膜３には通常は高分子量の従って
２から４．９の低ＭＦＲのポリスルホンを使用する。高
ＭＦＲのポリスルホンは微孔性ろ過膜製造に際して、指
型と呼ばれる粗大孔が形成しやすくなり、従って孔径の
制御が難しい。ひどい場合はピンホールを発生してろ過
に使用できなくなる。使用するポリスルホンのＭＦＲ値
は小さいほどよいとされているが、中程度のＭＦＲ値の
ものでも、製膜溶液にする時に粘性の大きな溶剤を選択
して使用したり、粘度が大きくなる添加剤を選択して組
み合わせることにより、指型の発生しない微孔性ろ過膜
を作成することは不可能ではない。ポリスルホンを材料
とする親水性の微孔性精密ろ過膜の製法は、特開昭５６
−１５４０５１号、特開昭５６−８６９４１号、特開昭
５６−１２６４０号、特開昭６２−２７００６号、特開
昭６２−２５８７０７号、特開昭６３−１４１６１０号
などに詳しく記載されている。For the microfiltration membrane 3, a polysulfone having a high MFR and therefore a low MFR of 2 to 4.9 is usually used. Polysulfone having a high MFR tends to form finger-shaped coarse pores when producing a microporous filtration membrane, and thus it is difficult to control the pore diameter. In severe cases, pinholes are generated and cannot be used for filtration. It is said that the smaller the MFR value of the polysulfone used, the better. It is not impossible to create a microporous filtration membrane free of finger shape by selecting and combining. A method for producing a hydrophilic microporous microfiltration membrane made of polysulfone is disclosed in
JP-A-154051, JP-A-56-86941, JP-A-56-12640, JP-A-62-27006, JP-A-62-258707, JP-A-63-141610 and the like. .

【００１１】ろ過膜の孔径は通常０．０２μｍから５μ
ｍであるが、半導体製造用途では０．０２μｍから０．
４５μｍのものが好ましく使用され、特に高集積ＩＣ製
造においては表示孔径０．０２μｍから０．２μｍのも
のが好ましい。このような膜の特性はＡＳＴＭ Ｆ３１
６の方法で測定した水バブルポイント値で表すと０．３
ＭＰａ以上となり、エタノールバブルポイントでは０．
１から１ＭＰａと表せる。特に好ましくはエタノールバ
ブルポイントで０．３から０．７ＭＰａである。膜はみ
かけの体積に対する孔の割合が多い方がろ過抵抗が少な
くて好ましい。一方あまり孔が多いと膜強度が低下して
壊れやすくなる。従って従来は好ましいろ過膜の空隙率
は４０％から９０％であり、特に好ましいのは５７％か
ら８５％とされてきた。また膜厚さは、厚すぎるとカー
トリッジに組込める膜面積が減少し、一方薄いと膜強度
が低下するため、好ましい膜厚さは８０μｍから１６０
μｍとされてきた。本発明においても従来の好ましい範
囲の中で使用するが、使用済フィルターをペレットに再
生使用するためには、ＭＦＲ値２未満の超低ＭＦＲ値の
ポリスルホン使用量は少ないほど好ましい。従って超低
ＭＦＲポリスルホン仕様の場合は、空隙率は７５から９
０％が好ましく、好ましい厚さは８０から１２０μｍで
ある。The pore size of the filtration membrane is usually from 0.02 μm to 5 μm.
m for semiconductor manufacturing applications.
Those having a diameter of 45 μm are preferably used, and those having a display hole diameter of 0.02 μm to 0.2 μm are particularly preferable in the production of highly integrated ICs. ASTM F31
The water bubble point value measured by the method of Example 6 is 0.3
MPa or more at the ethanol bubble point.
It can be expressed as 1 to 1 MPa. Particularly preferably, it is 0.3 to 0.7 MPa at the ethanol bubble point. The larger the ratio of pores to the apparent volume of the membrane is, the smaller the filtration resistance is. On the other hand, if there are too many holes, the film strength is reduced and the film is easily broken. Accordingly, conventionally, the porosity of the preferable filtration membrane has been set to 40% to 90%, and particularly preferable is set to 57% to 85%. If the film thickness is too large, the film area that can be incorporated into the cartridge decreases, while if it is too thin, the film strength decreases.
μm. In the present invention, it is used within the conventional preferable range. However, in order to recycle the used filter into pellets, the use amount of polysulfone having an ultra-low MFR value of less than 2 is preferably smaller. Therefore, in the case of the ultra-low MFR polysulfone specification, the porosity is 75 to 9
0% is preferred and the preferred thickness is 80 to 120 μm.

【００１２】精密ろ過膜３は膜サポート２、４の間に挟
んで、通常公知の方法でひだ折り加工される。膜サポー
ト２、４としては不織布、織布、ネットなどが使用され
る。膜サポートの役割は、ろ過圧変動に対してろ過膜を
補強する役割と同時に、ひだの奥に液を導入する役割も
担っている。従って適度な通液性とろ過膜よりも十分に
高い物理強度を有している必要がある。このような機能
を有するシート材料であれば何でも使用可能である。本
発明で使用可能な膜サポートとしては上記一般的な機能
の他に耐熱性と耐薬品性が兼ね備わりかつ比較的安価な
材料である必要がある。従って使用可能な素材は限定さ
れる。また本発明の目的の一つである使用済フィルター
カートリッジをペレットに再生して再利用するために、
サポート材の材料はポリスルホンであることが不可欠で
ある。膜サポートの厚さはスクリューマイクロメーター
で測定した時５０から６００μｍであることが好まし
い。不織布や織布では目付けが３０ｇ／ｍ² から１００
ｇ／ｍ² であることが従来は好ましいとされてきた。薄
すぎると強度が不足し、厚すぎるとカートリッジに収容
可能なろ過膜の必要面積を確保できないためである。本
発明においても従来の好ましい範囲の中で使用するが、
使用済フィルターをペレットに再生使用するためには、
特に好ましい範囲は厚さで８０から１８０μｍ 、目付
けで３０から５０ｇ／ｍ² である。The microfiltration membrane 3 is sandwiched between the membrane supports 2 and 4 and is usually folded by a known method. As the membrane supports 2 and 4, a nonwoven fabric, a woven fabric, a net, or the like is used. The role of the membrane support is to reinforce the filtration membrane against fluctuations in filtration pressure, and at the same time to play a role of introducing liquid into the fold. Therefore, it is necessary to have appropriate liquid permeability and sufficiently high physical strength as compared with the filtration membrane. Any sheet material having such a function can be used. The membrane support usable in the present invention needs to be a relatively inexpensive material that has both heat resistance and chemical resistance in addition to the above general functions. Therefore, usable materials are limited. Also, in order to recycle the used filter cartridge which is one of the objects of the present invention into pellets,
It is essential that the support material is polysulfone. The thickness of the membrane support is preferably from 50 to 600 μm as measured with a screw micrometer. For non-woven or woven fabric, the basis weight is 30 g / m ² to 100
g / m ² has heretofore been preferred. If the thickness is too small, the strength is insufficient, and if the thickness is too large, the required area of the filtration membrane that can be accommodated in the cartridge cannot be secured. Also used in the present invention within the conventional preferred range,
In order to recycle used filters into pellets,
Particularly preferred ranges are 80 to 180 μm in thickness and 30 to 50 g / m ² in basis weight.

【００１３】ネットは直径５０μｍから３００μｍのモ
ノフィラメントを紡糸し、これを編むことによってでき
る。ネットに使用するモノフィラメントは不織布用糸に
くらべて太くて強いので、比較的容易に紡糸できる。糸
径は細い方が出来あがりのネットが薄くなり、プリーツ
加工しやすい。一方細いと紡糸が難しくなり，また出来
あがったネットの強度も低下する。従って従来好ましい
フィラメント径は６０から２００μｍであり、本発明で
は特に６０から１００μｍである。目の開きは、開きす
ぎるとネットが小さな力で変形しやすくなるので、プリ
ーツが難しくなる。一方目が狭いと液体の透過性が悪く
なり、できたフィルターカートリッジの流量が少なくな
る。従って目の開きは５０から３００メッシュが従来か
ら好ましいとされ、本発明では５０から１２０メッシュ
が軽くなるので特に好ましい。不織布やネットの製造に
は一般的に低粘度で流動性の高いポリマーが使用され
る。その最大の理由は生産性に優れるためである。本発
明のサポート材に不織布やネットを使用する時は、敢え
て生産性を犠牲にしてＭＦＲ値が４．９以下の低流動性
ポリスルホンを使用することが好ましい。The net is formed by spinning a monofilament having a diameter of 50 μm to 300 μm and knitting it. The monofilament used for the net is thicker and stronger than the non-woven yarn, so that it can be spun relatively easily. The smaller the yarn diameter, the thinner the finished net and the easier it is to pleate. On the other hand, if it is thin, spinning becomes difficult, and the strength of the finished net also decreases. Accordingly, the conventionally preferred filament diameter is from 60 to 200 μm, and in the present invention, it is particularly from 60 to 100 μm. If the eyes are too wide, pleats will be difficult because the net will be easily deformed with a small force if the eyes are too wide. On the other hand, if the eyes are narrow, the permeability of the liquid deteriorates, and the flow rate of the formed filter cartridge decreases. Therefore, it is conventionally considered that the mesh size is preferably 50 to 300 mesh, and in the present invention, 50 to 120 mesh is particularly preferable because the mesh size is reduced. Generally, a polymer having low viscosity and high fluidity is used for producing a nonwoven fabric or a net. The biggest reason is that it is excellent in productivity. When a nonwoven fabric or a net is used for the support material of the present invention, it is preferable to use a low-fluidity polysulfone having an MFR value of 4.9 or less at the expense of productivity.

【００１４】ひだ折り加工されたろ材は両端部をそろえ
るためにカッターナイフ等で両端部の不揃いを切り落と
し、円筒状に丸めてその合わせ目のひだをヒートシール
あるいは接着剤を用いて液密にシールする。接着シール
は精密ろ過膜と膜サポート計６層を合わせて行うことも
あれば、サポート２あるいは４を除外してろ過膜同士が
直接重なるように接着シールすることもある。ひだの合
わせ目に熱可塑性シートを挟んでヒートシールしてもよ
い。ここで使用する接着剤や熱可塑性シートにもポリス
ルホンを使用する。接着剤は、例えばポリスルホン１０
部を塩化メチレン３０部、ジエチレングリコール２０部
の混合溶液に溶解し、ジエチレングリコール１４０部を
徐々に添加混合する。溶剤は接着後加熱揮発させてフィ
ルターカートリッジ中に残さない。The fold-folded filter medium is trimmed at both ends with a cutter knife or the like in order to align both ends, then rounded into a cylindrical shape, and the seams at the joint are heat-sealed or liquid-tightly sealed with an adhesive. I do. The adhesive seal may be performed by combining the microfiltration membrane and the membrane support in a total of 6 layers, or may be adhesively sealed so that the filter membranes directly overlap each other except for the support 2 or 4. Heat sealing may be performed with a thermoplastic sheet interposed between the folds. Polysulfone is also used for the adhesive and the thermoplastic sheet used here. The adhesive is, for example, polysulfone 10
Was dissolved in a mixed solution of 30 parts of methylene chloride and 20 parts of diethylene glycol, and 140 parts of diethylene glycol was gradually added and mixed. The solvent is heated and volatilized after bonding and does not remain in the filter cartridge.

【００１５】このようにしてできた円筒状ろ材の内側に
コアー５を挿入し、外周カバー１をかぶせたものをプリ
ーツ体という。エンドプレート６にプリーツ体の両端部
を液密に接着シールするエンドシール工程は熱溶融によ
る方法と、溶剤接着による方法とに大きく分けられる。
熱溶融法ではエンドプレートのシール面のみを熱板に接
触させたりあるいは赤外線ヒーターを照射して表面だけ
を加熱溶解し、プリーツ体の片端面をプレートの溶解面
に押し付けて接着シールする。溶剤接着法の場合は溶剤
の選定が重要である。通常はろ過膜を溶解しないあるい
はろ過膜に対する溶解性が低く、且つエンドプレートに
対しては溶解性のある溶剤を選ぶ。溶剤は単独化学種で
あってもよく混合溶剤であってもよい。２種以上の溶剤
を混合する時は、少なくとも沸点の高い方の溶剤はろ過
膜に対して溶解性を有しないものを選択する。溶剤接着
剤にポリスルホンを１％から７％程度溶解させておくと
なおよい。A pleated body in which the core 5 is inserted inside the cylindrical filter medium thus formed and the outer peripheral cover 1 is covered. The end sealing step in which both ends of the pleated body are liquid-tightly sealed to the end plate 6 is roughly classified into a method based on heat melting and a method based on solvent bonding.
In the hot melting method, only the sealing surface of the end plate is brought into contact with a hot plate, or only the surface is heated and melted by irradiating an infrared heater, and one end surface of the pleated body is pressed against the melting surface of the plate to perform adhesive sealing. In the case of the solvent bonding method, it is important to select a solvent. Usually, a solvent that does not dissolve the filtration membrane or has low solubility in the filtration membrane and is soluble in the end plate is selected. The solvent may be a single chemical species or a mixed solvent. When two or more solvents are mixed, at least the solvent having the higher boiling point does not have solubility in the filtration membrane. It is more preferable to dissolve about 1% to 7% of polysulfone in the solvent adhesive.

【００１６】コアー５、外周カバー１及びエンドプレー
ト６に使用する材料も耐熱性と耐薬品性を備えている必
要があり、かつペレットに再生できる材料でなければな
らない。従ってポリスルホンを用いる。すべての材料を
ポリスルホンで統一すると耐薬品性の幅が広くなりかつ
接着シール性がよくなる点でも好ましい。エンドプレー
トは生産性の観点から主に射出成型したものが使用され
る。一般的に、射出成型には生産性の観点から流動性の
高い高ＭＦＲ値のポリスルホンが好ましく使用される。
本発明の場合は敢えてＭＦＲ値が２から４．９と低ＭＦ
Ｒ値のポリスルホンを用いる。ガスケット及びＯ−リン
グを除くフィルターカートリッジ全体に占めるコアー、
外周カバー、及びエンドプレートを合わせた質量割合は
８０％以上が好ましい。コアー、外周カバー、及びエン
ドプレートに使用するポリスルホンのグレードをろ過膜
に使用するものと同じグレードあるいは近いグレードに
することにより、使用済フィルターカートリッジから再
生したペレットのＭＦＲ値は比較的容易に２から４．９
の範囲にすることができ、再びコアー、外周カバー、及
びエンドプレートの成型に使用することが可能になる。
サポート材にＭＦＲ値が４．９以上のポリスルホンを使
用する場合は、フィルターカートリッジの質量に占める
サポート材質量を１５％以下にしなければならない。好
ましくは１２％以下に抑える。The materials used for the core 5, the outer peripheral cover 1 and the end plate 6 must also have heat resistance and chemical resistance and must be recyclable into pellets. Therefore, polysulfone is used. It is preferable that all the materials are made of polysulfone, since the range of chemical resistance is widened and the adhesive sealing property is improved. The end plate used is mainly injection molded from the viewpoint of productivity. Generally, polysulfone having high MFR and high fluidity is preferably used for injection molding from the viewpoint of productivity.
In the case of the present invention, the MFR value is dared to be 2 to 4.9, which is low.
R-value polysulfone is used. Core occupying the whole filter cartridge except gasket and O-ring,
The total mass ratio of the outer peripheral cover and the end plate is preferably 80% or more. By making the grade of the polysulfone used for the core, outer cover and end plate the same as or similar to the grade used for the filtration membrane, the MFR value of the pellet regenerated from the used filter cartridge can be relatively easily reduced from 2 4.9
And can be used again for molding the core, the outer peripheral cover, and the end plate.
When a polysulfone having an MFR value of 4.9 or more is used for the support material, the mass of the support material in the mass of the filter cartridge must be 15% or less. Preferably, it is suppressed to 12% or less.

【００１７】熱溶融成型でつくられたエンドプレートは
熱溶融成型時の残留歪のために、有機溶剤との接触で微
小なクラックを生じやすい。特に溶剤接着剤を用いて溶
着シールを行う時は激しいクラックを生じることもあ
る。時には熱溶融シールを行っても小さなクラックを生
じることがある。従って好ましくは溶着シール前にエン
ドプレートの熱歪をアニール処理によって除去する必要
がある。溶剤接着剤を用いてシールする場合はシール前
にアニール処理を行わないと必ず微小クラックが発生す
るので、シール前アニールは必須である。エンドプレー
トの残留歪が比較的少なく且つ熱溶融シールを採用する
場合は、溶着シール前にアニール処理せずともクラック
の発生は少ない。しかし熱溶融シールの場合は、エンド
プレートに吸着している水が熱で発泡し、エンドプレー
トの表面及び内部に小さな泡が多数生じる。ひどい場合
はろ過膜とエンドプレートとの間に隙間を生じ、ろ過時
粒子漏れを引き起こす原因になる。フィルターカートリ
ッジ製造工程中にアニール処理を全く行わないと、高温
のイソプロパノールろ過を行うときにエンドプレートに
微小クラックを生じ、このクラックから液が漏れる。以
下アニールの条件について述べる。アニール温度は１２
０℃から１８０℃の温度が好ましい。１５０℃から１７
０℃の間が特に好ましい。処理時間はアニール温度によ
り異なり２時間以上が必要であるが、４時間以上が好ま
しい。１５０℃でアニールする時は５時間以上行うと完
璧であり特に好ましい。エンドプレート以外の熱溶融成
型部材もエンドプレートと同様のアニール処理すること
は必須ではないが、好ましいことは言うまでもない。An end plate made by hot-melt molding is liable to cause minute cracks upon contact with an organic solvent due to residual strain during hot-melt molding. In particular, severe cracking may occur when welding and sealing are performed using a solvent adhesive. Occasionally, even when hot-melt sealing is performed, small cracks may occur. Therefore, it is preferable to remove the thermal strain of the end plate by annealing before the welding seal. In the case of sealing using a solvent adhesive, annealing before sealing is indispensable because microcracks always occur unless annealing treatment is performed before sealing. When the end plate has a relatively small residual strain and employs a hot-melt seal, the occurrence of cracks is small even without annealing before the welding seal. However, in the case of a hot-melt seal, water adsorbed on the end plate foams due to heat, and many small bubbles are generated on the surface and inside of the end plate. In a severe case, a gap is formed between the filtration membrane and the end plate, which may cause particle leakage during filtration. If no annealing treatment is performed during the filter cartridge manufacturing process, microcracks are generated on the end plate during high-temperature isopropanol filtration, and the liquid leaks from these cracks. The annealing conditions will be described below. Annealing temperature is 12
Temperatures from 0 ° C to 180 ° C are preferred. 150 ° C to 17
Particularly preferred is between 0 ° C. The processing time varies depending on the annealing temperature and requires at least 2 hours, but preferably at least 4 hours. Annealing at 150 ° C. is more preferably performed for 5 hours or more, which is particularly preferable. It is not essential to perform the same annealing treatment on the hot-melt molded member other than the end plate as with the end plate, but it goes without saying that it is preferable.

【００１８】このようにしてできたフィルターカートリ
ッジは、ポリスルホン系ポリマーが不純物として有して
いるナトリウムやカルシウムなどの微量の金属イオンや
有機物、フィルターカートリッジ組立て工程で付着した
金属微粉や有機物汚染を完璧に除去するために、洗浄処
理しなければならない。本発明者らは鋭意検討の結果安
価で効率的且つ効果の高い金属イオン及び有機物汚染の
洗浄方法を発見した。以下詳細にその方法を述べる。最
初に行う希酸浸漬は複数のフィルターカートリッジを網
籠に入れ、籠ごと希酸で満たされた液中に浸漬し、振動
を与えながら約２時間以上最大約１０時間まで処理す
る。振動はフィルターカートリッジの完全性を損なわな
い程度であればどんな方法でもよいが、液を攪拌するこ
とによる方法、籠を上下あるいは水平方向に動かす方
法、超音波振動を付与する方法、いったん籠を液面より
も上に上昇して液切りした後再び液に浸漬する方法など
がある。強い超音波を１０分以上付与するとフィルター
の完全性が損なわれるので、超音波の強度は十分に検討
をした上で決めなければならない。処理時間や振動の方
法・程度はフィルターカートリッジの汚れの程度によっ
て変わるのは言うまでもない。洗浄効果を測定して必要
十分な条件を選ばねばならない。The filter cartridge thus produced is capable of completely removing trace amounts of metal ions and organic substances such as sodium and calcium which the polysulfone-based polymer has as impurities, and fine metal powder and organic substances adhering in the filter cartridge assembly process. To remove it, a cleaning treatment must be performed. As a result of intensive studies, the present inventors have found an inexpensive, efficient and effective method for cleaning metal ion and organic contaminants. The method will be described in detail below. In the dilute acid immersion performed first, a plurality of filter cartridges are placed in a net basket, and the baskets are immersed in a liquid filled with dilute acid, and the vibration is applied for about 2 hours or more and up to about 10 hours. Vibration may be any method as long as the integrity of the filter cartridge is not impaired.However, a method of stirring the liquid, a method of moving the basket up and down or horizontally, a method of applying ultrasonic vibration, and a method of once applying the liquid to the basket. There is a method of ascending above the surface, draining the liquid, and then immersing the liquid again. If strong ultrasonic waves are applied for 10 minutes or more, the integrity of the filter is impaired. Therefore, the intensity of the ultrasonic waves must be determined after careful examination. It goes without saying that the processing time and the method and degree of vibration vary depending on the degree of contamination of the filter cartridge. The necessary and sufficient conditions must be selected by measuring the cleaning effect.

【００１９】使用する酸で好ましいのは、塩酸、臭酸の
如きハロゲン化水素類、酢酸、蓚酸の如き有機カルボン
酸類、硝酸及び硫酸である。超純水洗浄やその後の乾燥
でフィルターに残りにくいハロゲン化水素類が好まし
く、その中でも一般的な塩酸が特に好ましく使用され
る。酸の濃度は０．１（ｍｏｌ／Ｌ）から５（ｍｏｌ／
Ｌ）までの希薄な酸が好ましく使用される。酸濃度が希
薄すぎると洗浄能力が劣り、濃すぎると後工程の超純水
リンス洗浄の負担が不必要に大きくなって非効率であ
る。特に０．５（ｍｏｌ／Ｌ）から２（ｍｏｌ／Ｌ）ま
での濃度の酸が好ましく使用される。液温は高い方が効
果的であるが、一方装置の腐食がおこりやすく却って装
置の腐食に伴う汚染がフィルターカートリッジに付着す
る危険もある。また高温ではハロゲン化水素ガスの発生
も起こりやすく、環境管理も難しくなる。従って液温は
２０℃から４０℃の範囲が好ましい。フィルターカート
リッジの汚染が甚だしい場合は、途中で希酸液を新鮮な
液に入れ替えることが好ましい。所定時間の酸洗浄が終
了すると籠ごとフィルターを液面上に引き上げ、数分間
放置することにより液切りを行う。引き続いて籠ごと超
純水槽中にフィルターカートリッジを浸漬し、振動を付
与する。付与する振動は前工程と同じである。超純水の
水温も前工程と同じが好ましい。５分から２０分間超純
水中に浸漬した後、フィルターを籠ごと引き上げ、槽中
の超純水を新規の超純水に入れ替えて再びフィルターを
超純水中に浸漬する。このような超純水浸漬を２回から
４回繰り返す。リンスにより酸濃度が低下して装置腐食
の心配がなくなるので、最後にフィルターを浸漬する超
純水の温度は４０℃以上８０℃以下の高温にすることが
好ましい。Preferred acids to be used are hydrogen halides such as hydrochloric acid and bromic acid, organic carboxylic acids such as acetic acid and oxalic acid, nitric acid and sulfuric acid. Hydrogen halides that hardly remain on the filter after washing with ultrapure water and subsequent drying are preferable, and among them, general hydrochloric acid is particularly preferably used. The concentration of the acid is from 0.1 (mol / L) to 5 (mol / L).
Dilute acids up to L) are preferably used. If the acid concentration is too low, the cleaning ability is inferior. Particularly, an acid having a concentration of 0.5 (mol / L) to 2 (mol / L) is preferably used. The higher the liquid temperature, the more effective, but on the other hand, there is a danger that the corrosion of the device is likely to occur and the contamination accompanying the corrosion of the device will adhere to the filter cartridge. At a high temperature, hydrogen halide gas is easily generated, and environmental management becomes difficult. Therefore, the liquid temperature is preferably in the range of 20 ° C to 40 ° C. When the filter cartridge is extremely contaminated, it is preferable to replace the dilute acid solution with a fresh solution on the way. When the acid washing for a predetermined time is completed, the filter together with the basket is pulled up on the liquid surface and left for a few minutes to drain the liquid. Subsequently, the filter cartridge is immersed in the ultrapure water tank together with the basket, and vibration is applied. The vibration to be applied is the same as in the previous step. The temperature of ultrapure water is preferably the same as in the previous step. After being immersed in ultrapure water for 5 to 20 minutes, the filter is lifted together with the basket, the ultrapure water in the tank is replaced with new ultrapure water, and the filter is immersed again in ultrapure water. Such immersion in ultrapure water is repeated two to four times. Since the acid concentration is reduced by the rinsing and there is no fear of apparatus corrosion, the temperature of ultrapure water in which the filter is finally immersed is preferably set to a high temperature of 40 ° C. or more and 80 ° C. or less.

【００２０】次いでフィルターカートリッジをろ過器ハ
ウジングに一本づつセットし、超純水を通水ろ過しなが
ら洗浄を続ける。フィルターカートリッジの液排出口は
上部方向を向いていると、洗浄水がフィルターカートリ
ッジの上部も下部もどこをとってもほぼ同じ流量で透過
するので好ましい。フィルターカートリッジを透過した
超純水の比抵抗値が原水と同じ理論超純水レベルに到達
するまで通水を続ける。ここで洗浄を効率的にするため
に、通水初期は熱水超純水を用いる。１０インチフィル
ターカートリッジ一本当たりの通水流量は毎分２リット
ルから１０リットルが好ましい。毎分１０リットル以上
の流量で通水しても洗浄効果は変わらず、熱水超純水の
コストが高くつくだけで非効率である。熱水の温度は５
０℃以上、水温が高ければ高いほど洗浄効果が高い。し
かし１００℃を超えると沸騰の制御が難しく、好ましく
ない。８５℃前後の温度が最も扱いやすく且つ効果的で
ある。通常熱水通水を３０分から６０分間行い、冷水超
純水に切り替えて流量毎分５リットルから１０リットル
で、ろ液の比抵抗値が理論超純水レベルになるまで通水
を続ける。通常１０分から３０分の通水で終了可能にな
る。Next, the filter cartridges are set one by one in the filter housing, and the washing is continued while filtering the ultrapure water with water. It is preferable that the liquid outlet of the filter cartridge is directed upward, since the washing water permeates at almost the same flow rate regardless of the upper and lower portions of the filter cartridge. Water flow is continued until the specific resistance value of the ultrapure water that has passed through the filter cartridge reaches the same theoretical ultrapure water level as the raw water. Here, in order to make the washing more efficient, hot water ultrapure water is used in the initial stage of water passage. The flow rate of water per 10-inch filter cartridge is preferably 2 to 10 liters per minute. Even if water is passed at a flow rate of 10 liters or more per minute, the cleaning effect does not change, and the cost is high and the cost of hot ultrapure water is high. Hot water temperature is 5
The cleaning effect is higher as the water temperature is higher than 0 ° C. or higher. However, when the temperature exceeds 100 ° C., it is difficult to control boiling, which is not preferable. A temperature of around 85 ° C. is the easiest and most effective. Normally, hot water flow is performed for 30 to 60 minutes, and the flow is switched to cold water ultrapure water at a flow rate of 5 to 10 liters per minute until the specific resistance of the filtrate reaches the theoretical ultrapure water level. Normally, it can be completed by passing water for 10 to 30 minutes.

【００２１】このように作られたフィルターカートリッ
ジは半導体製造工場のクリーンな環境下で洗浄装置に組
み込まれたフィルターハウジングに装着する。薬液をポ
ンプでゆっくりとろ過ハウジングに送りながら、フィル
ターハウジング一次側の空気を抜き、空気抜き口から薬
液が漏れ始めたら空気抜き口を閉じ、薬液のろ過を始め
る。最初暫くはろ過した薬液を薬液供給タンクに戻して
循環ろ過する。こうして間違って混入したごみをフィル
ターで捕集し、系内をきれいにする。その後は普通にウ
エハの洗浄作業を行う。薬液を通液するに先立って、超
純水を暫く通液して系内を洗浄することもある。この場
合は薬液をろ過始める時初流の０．５リットルないし２
リットルを廃液する必要がある。好ましくは前者のよう
に最初から薬液を通液する。長期間にわたってろ過を継
続する時は、長い間にフィルターハウジング一次側に空
気がたまることがある。この時は空気抜き口を少し開け
て空気を除去する。ポリスルホンフィルターの場合は、
少々空気がたまっても、ＰＴＦＥフィルターのようにた
まった空気でろ過膜が疎水化されて洗浄薬液をろ過でき
なくなることはない。従って使用途中にアルコールで再
濡らし作業をすることがないので、余計な廃液が生じる
ことはない。The filter cartridge thus manufactured is mounted on a filter housing incorporated in a cleaning device in a clean environment of a semiconductor manufacturing plant. While slowly pumping the chemical solution to the filtration housing, bleed the air on the primary side of the filter housing. If the chemical solution begins to leak from the air vent, close the air vent and start filtering the chemical solution. First, the filtered chemical is returned to the chemical supply tank for a while and circulated and filtered. In this way, the garbage mixed by mistake is collected by a filter and the inside of the system is cleaned. Thereafter, the wafer is cleaned normally. Before the chemical solution is passed, ultrapure water may be passed for a while to wash the inside of the system. In this case, the initial flow of 0.5 liter or 2
Liters need to be drained. Preferably, the drug solution is passed from the beginning like the former. When filtering is continued for a long time, air may accumulate on the primary side of the filter housing for a long time. At this time, open the air vent slightly to remove air. For a polysulfone filter,
Even if the air accumulates a little, it does not prevent the filtration membrane from being hydrophobicized by the air accumulated as in the PTFE filter so that the cleaning solution cannot be filtered. Therefore, there is no need to perform rewetting work with alcohol during use, so that no unnecessary waste liquid is generated.

【００２２】フィルターの定期交換を行う時は、フィル
ターハウジングを含む洗浄装置系内のすべての薬液を液
抜き口から抜いた後、超純水を通水してフィルターカー
トリッジ内に残る洗浄液残査を洗い出す。そしてクリー
ンな環境下でフィルターカートリッジをハウジングから
取り出す。取り出したフィルターカートリッジは水きり
をした後回収し集め、Ｏ−リング及びガスケットを脱着
し、乾燥した後溶融してペレットに再生する。燃料とし
て再使用することもできる。When the filter is to be replaced regularly, all the chemicals in the cleaning system including the filter housing are drained from the liquid drain port, and then ultrapure water is passed through to remove the cleaning liquid residue remaining in the filter cartridge. Wash out. Then, the filter cartridge is taken out of the housing in a clean environment. The removed filter cartridge is drained, collected and collected, an O-ring and a gasket are detached, dried, melted, and regenerated into pellets. It can be reused as fuel.

【００２３】[0023]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を詳しく説明す
るが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。 実施例１ ポリスルホン（アモコ社製：ＭＦＲ値２．５）１４部、
ポリビニルピロリドン（和光純薬販売Ｋ−３０）２４
部、Ｎメチル２ピロリドン６２部および水１．５部より
なる製膜溶液を調整する。これを平膜状に流延し、露点
２０℃の空気に８秒間接触させた後、４℃の水中に浸漬
して微孔性ろ過膜を作成した。できた膜のエタノールバ
ブルポイントは３５０ｋＰａ、膜厚さは１２０μｍ、空
隙率は８１％であった。この膜をフィラメント径１００
μｍ、６０メッシュのネット２枚にはさんでプリーツ状
に折った。折目の間隔は１２ｍｍ、膜幅は２３０ｍｍ
で、２００山で切り取り、両端を重ねてヒートシールし
て、中空円筒状にした。この中空部にコアーを、外側に
外周カバーをかぶせてプリーツ体を形成した。ネットに
使用したポリスルホンはアモコ社製、ＭＦＲ値３．５で
ある。エンドプレートの表面に赤外線ヒーターを照射
し、エンドプレートの表面を約３５０℃に熱して溶か
し、これに十分に予熱したプリーツ体の端部を押しつけ
て接着シールする。プリーツ体の反対側も同様にエンド
プレートを溶着シールして、フィルターカートリッジを
完成する。外周カバー、コアー及びエンドプレートはア
モコ社製、ＭＦＲ値３．５を使って射出成型で作り、溶
着シール直前にエンドプレートとプリーツ体は１５０℃
で５時間アニール処理した。完全性を測定した後、でき
たフィルターカートリッジを５％塩酸中に４時間浸漬
し、次いで超純水中に浸漬し、更にフィルターハウジン
グに装填して８０℃の熱水を２０分間通水し、超純水を
通水して塩酸を除去する。水きりの後クリーオーブンで
６５℃１２時間乾燥する。このようにしてできたフィル
ターカートリッジを溶融して再生ペレットを作成し、そ
のＭＦＲ値を測定すると３．５で、コアーや外周カバー
などの射出成型部材の原料として再利用可能であった。
使用した膜の質量は３１ｇ、ネットの質量は５４ｇ、そ
のほかの成型部材を合わせた質量は２８６ｇであった。EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 14 parts of polysulfone (manufactured by Amoco: MFR value 2.5)
Polyvinylpyrrolidone (W-30 Pure Chemicals Sales K-30) 24
, A film-forming solution consisting of 62 parts of N-methyl-2-pyrrolidone and 1.5 parts of water is prepared. This was cast into a flat membrane, contacted with air at a dew point of 20 ° C. for 8 seconds, and then immersed in water at 4 ° C. to form a microporous filtration membrane. The ethanol bubble point of the resulting film was 350 kPa, the film thickness was 120 μm, and the porosity was 81%. This film is treated with a filament diameter of 100
The sheet was folded into a pleated shape by sandwiching it between two μm, 60 mesh nets. The interval between the folds is 12 mm and the film width is 230 mm
Then, it was cut at 200 peaks, and both ends were overlapped and heat sealed to form a hollow cylindrical shape. A pleat was formed by covering the core with the hollow portion and the outer peripheral cover on the outside. The polysulfone used for the net has an MFR value of 3.5 manufactured by Amoco. The surface of the end plate is irradiated with an infrared heater, the surface of the end plate is heated to about 350 ° C. to melt, and the end of the pleated body which is sufficiently preheated is pressed against the end plate to seal it. The opposite side of the pleated body is similarly sealed by welding the end plate to complete the filter cartridge. Peripheral cover, core and end plate are made by injection molding using MFR 3.5, manufactured by Amoco Co., and the end plate and pleated body are 150 ° C just before welding seal.
For 5 hours. After measuring the integrity, the resulting filter cartridge was immersed in 5% hydrochloric acid for 4 hours, then immersed in ultrapure water, further loaded in the filter housing, and passed through hot water of 80 ° C. for 20 minutes. The hydrochloric acid is removed by passing ultrapure water. After draining, dry in a creep oven at 65 ° C for 12 hours. The thus-formed filter cartridge was melted to produce regenerated pellets, and the MFR value was measured. As a result, the pellet was 3.5 and could be reused as a raw material for injection-molded members such as a core and an outer peripheral cover.
The weight of the membrane used was 31 g, the weight of the net was 54 g, and the total weight of the other molded members was 286 g.

【００２４】[0024]

【発明の効果】本発明の精密ろ過フィルターカートリッ
ジは、半導体製造工程のウエハ洗浄薬液ろ過に使用する
とき、初期廃液はほとんど発生せず、使用中にエンドプ
レートにクラックを発生せず、かつ使用済みのフィルタ
ーカートリッジはペレットに再生して再利用ができる。When the microfiltration filter cartridge of the present invention is used for chemical cleaning of wafer cleaning in a semiconductor manufacturing process, almost no initial waste liquid is generated, no cracks are generated in the end plate during use, and the used filter cartridge is used. The filter cartridge can be regenerated into pellets and reused.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】 一般的なプリーツ型フィルターカートリッジ
の構造を表す展開図。FIG. 1 is a development view showing a structure of a general pleated filter cartridge.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１．外周カバー ２．膜サポート ３．精密ろ過膜 ４．膜サポート ５．コアー ６ａ、６ｂ．エンドプレート ７．ガスケット ８．液体出口 1. Peripheral cover 2. 2. Membrane support Microfiltration membrane 4. 4. Membrane support Core 6a, 6b. End plate 7. Gasket 8. Liquid outlet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D006 GA07 HA74 HA91 HA93 HA95 JA02C JA03C JA19C JA25C JA27C JA70Z JB01 JB06 JB07 KA01 KA81 KB30 KC16 KD11 KD12 KD30 KE16R KE30R MA03 MA22 MB09 MB11 MB18 MC62X NA04 NA10 NA17 NA18 PA01 PB20 PC01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 4D006 GA07 HA74 HA91 HA93 HA95 JA02C JA03C JA19C JA25C JA27C JA70Z JB01 JB06 JB07 KA01 KA81 KB30 KC16 KD11 KD12 KD30 KE16R KE30R MA03 MA22 MB09 MB11 MB18 NA62 PC01

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 フィルターカートリッジを構成する微孔
性ろ過膜、膜サポート、コアー、外周カバー及びエンド
プレートのすべての部材がポリスルホンで構成される精
密ろ過フィルターカートリッジにおいて、該フィルター
カートリッジをペレットに再生した時、そのペレットの
ＭＦＲ値が２から４．９の間にあることを特徴とする精
密ろ過フィルターカートリッジ。1. A microfiltration filter cartridge in which all members of a microporous filtration membrane, a membrane support, a core, an outer peripheral cover and an end plate constituting a filter cartridge are made of polysulfone, and the filter cartridge is regenerated into pellets. A microfiltration filter cartridge wherein the pellet has an MFR value between 2 and 4.9. 【請求項２】 該部材の少なくとも一つが熱溶融成型さ
れ、前記熱溶融成型部材がアニール処理されていること
を特徴とする請求項１記載の精密ろ過フィルターカート
リッジ。2. The microfiltration filter cartridge according to claim 1, wherein at least one of said members is hot-melt molded, and said hot-melt molded member is annealed. 【請求項３】 カートリッジ組立て後、稀酸洗浄と５０
℃以上１００℃以下の熱超純水洗浄を行うことを特徴と
する、請求項１または２記載の精密ろ過フィルターカー
トリッジ。3. After assembling the cartridge, dilute acid cleaning and 50
The microfiltration filter cartridge according to claim 1, wherein washing with hot ultrapure water at a temperature of not lower than 100 ° C. and not higher than 100 ° C. 【請求項４】 半導体集積回路製造のウエハー洗浄工程
において、請求項１、２または３記載の精密ろ過フィル
ターカートリッジを用い且つアルコールによる予備親水
化処理を行うことなく、洗浄薬液のろ過を開始すること
を特徴とする半導体集積回路用ウエハー洗浄液のろ過方
法。4. In a wafer cleaning step of manufacturing a semiconductor integrated circuit, filtration of a cleaning solution is started using the microfiltration filter cartridge according to claim 1, 2 or 3 without performing preliminary hydrophilic treatment with alcohol. A method for filtering a wafer cleaning liquid for a semiconductor integrated circuit, comprising: