JP2002161335A - シャドウマスク用素材、その製造方法、その素材からなるシャドウマスク及びそのシャドウマスクを用いた受像管 - Google Patents
シャドウマスク用素材、その製造方法、その素材からなるシャドウマスク及びそのシャドウマスクを用いた受像管Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コイル内で均一で優れた磁気特性、即ち、保
磁力Ｈｃが９０Ａ／ｍ以下の特性を有するシャドウマス
クを得ることができるシャドウマスク用素材、その製造
方法、該素材を用いたシャドウマスク及びそのシャドウ
マスクを組み込んだ受像管を提供する。 【解決手段】 成分が、Ｃ≦０．００３０重量％、Ｓｉ
≦０．０３重量％、Ｍｎ：０．１〜０．５重量％、Ｐ≦
０．０２重量％、Ｓ≦０．０２重量％、Ａｌ：０．０１
〜０．０７重量％、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：０．
５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦｅお
よび不可避的不純物からなり、熱延工程の仕上げ温度を
Ａｒ3点の０〜３０℃以下、巻き取り温度を高温側の６
５０〜７００℃とし、さらに、最終圧延（２次冷間圧
延）を３０〜４５％以下とすることによって、上記課題
を達成するシャドウマスク用素材を得る。
磁力Ｈｃが９０Ａ／ｍ以下の特性を有するシャドウマス
クを得ることができるシャドウマスク用素材、その製造
方法、該素材を用いたシャドウマスク及びそのシャドウ
マスクを組み込んだ受像管を提供する。 【解決手段】 成分が、Ｃ≦０．００３０重量％、Ｓｉ
≦０．０３重量％、Ｍｎ：０．１〜０．５重量％、Ｐ≦
０．０２重量％、Ｓ≦０．０２重量％、Ａｌ：０．０１
〜０．０７重量％、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：０．
５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦｅお
よび不可避的不純物からなり、熱延工程の仕上げ温度を
Ａｒ3点の０〜３０℃以下、巻き取り温度を高温側の６
５０〜７００℃とし、さらに、最終圧延（２次冷間圧
延）を３０〜４５％以下とすることによって、上記課題
を達成するシャドウマスク用素材を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラー受像管に用い
られるシャドウマスク用素材、その製造方法、その素材
を用いたシャドウマスク及びそのシャドウマスクを組み
込んだ受像管に関するものである。
られるシャドウマスク用素材、その製造方法、その素材
を用いたシャドウマスク及びそのシャドウマスクを組み
込んだ受像管に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】シャドウマスク用の素材である冷延鋼板
は、従来下記の製造工程にて製造されてきた。すなわち
鉄鋼メーカーにて製造された低炭素鋼を、仕上げ温度を
Ａｒ3変態点以上で仕上げ熱延を行い、その後に、酸
洗、冷間圧延し、所定の板厚としたのち、脱脂後箱型焼
鈍炉にて湿水雰囲気で脱炭焼鈍を施され、その後、必要
に応じて２次冷間圧延を５０％以上の圧延率により、最
終製品の厚みとしてきた。
は、従来下記の製造工程にて製造されてきた。すなわち
鉄鋼メーカーにて製造された低炭素鋼を、仕上げ温度を
Ａｒ3変態点以上で仕上げ熱延を行い、その後に、酸
洗、冷間圧延し、所定の板厚としたのち、脱脂後箱型焼
鈍炉にて湿水雰囲気で脱炭焼鈍を施され、その後、必要
に応じて２次冷間圧延を５０％以上の圧延率により、最
終製品の厚みとしてきた。
【０００３】この製造方法で製造された冷延鋼板は、エ
ッチングメーカーにてフォトエッチング後、プレスメー
カーにて軟質化のための焼鈍を行った後，所定の形状に
プレスし，その後，赤錆発生の防止，輻射率の低減のた
め，酸化雰囲気にて，表層に黒化膜と称する酸化膜を生
成させる焼鈍を行う。ここで求められる重要な特性の一
つに軟磁気特性がある。ＴＶブラウン管内のシャドウマ
スクは、インナーシールドと共に地磁気などの環境中の
外磁場（以下、環境磁場という）から電子ビームの直進
性を保護するため、シャドウマスク自身が容易に環境磁
場に磁化される必要があると共に、ＴＶの方向を変えた
場合の環境磁場に応じて、シャドウマスクも同じ方向に
磁化されるため、消磁性が優れていることが望ましい。
これらの要求される軟磁気特性を満たすには、シャドウ
マスク材は、保磁力（以下、単にＨｃとする）の値が小
さいこと望ましい。
ッチングメーカーにてフォトエッチング後、プレスメー
カーにて軟質化のための焼鈍を行った後，所定の形状に
プレスし，その後，赤錆発生の防止，輻射率の低減のた
め，酸化雰囲気にて，表層に黒化膜と称する酸化膜を生
成させる焼鈍を行う。ここで求められる重要な特性の一
つに軟磁気特性がある。ＴＶブラウン管内のシャドウマ
スクは、インナーシールドと共に地磁気などの環境中の
外磁場（以下、環境磁場という）から電子ビームの直進
性を保護するため、シャドウマスク自身が容易に環境磁
場に磁化される必要があると共に、ＴＶの方向を変えた
場合の環境磁場に応じて、シャドウマスクも同じ方向に
磁化されるため、消磁性が優れていることが望ましい。
これらの要求される軟磁気特性を満たすには、シャドウ
マスク材は、保磁力（以下、単にＨｃとする）の値が小
さいこと望ましい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】シャドウマスク材の保
磁力を小さくするには、結晶粒が粗大であることが望ま
しいが、従来のシャドウマスク材では結晶粒の粗大化に
限界があり、焼鈍温度にもよるが、Ｈｃ＝１０３〜１３
５Ａ／ｍ程度であり、上記要求を満足に満たすまでに至
っていない。そこで、本発明は、従来のシャドウマスク
材よりも軟磁気特性に優れ、特にＨｃが特段に低くシャ
ウマスクに要求される軟磁気特性を満たす超軟磁気特性
を有するシャドウマスク用素材とその製造方法、並びに
シャドウマスクと受像管を提供することを目的とするも
のである。
磁力を小さくするには、結晶粒が粗大であることが望ま
しいが、従来のシャドウマスク材では結晶粒の粗大化に
限界があり、焼鈍温度にもよるが、Ｈｃ＝１０３〜１３
５Ａ／ｍ程度であり、上記要求を満足に満たすまでに至
っていない。そこで、本発明は、従来のシャドウマスク
材よりも軟磁気特性に優れ、特にＨｃが特段に低くシャ
ウマスクに要求される軟磁気特性を満たす超軟磁気特性
を有するシャドウマスク用素材とその製造方法、並びに
シャドウマスクと受像管を提供することを目的とするも
のである。
【０００５】
【課題解決のための手段】上記課題を解決する本発明の
シャドウマスク用素材は、成分が、Ｎ≦０．００３０重
量％、Ｂ：０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されてお
り、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなり、保磁力
が９０Ａ／ｍ以下のシャドウマスクを得ることができる
ものであることを特徴とするものである。
シャドウマスク用素材は、成分が、Ｎ≦０．００３０重
量％、Ｂ：０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されてお
り、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなり、保磁力
が９０Ａ／ｍ以下のシャドウマスクを得ることができる
ものであることを特徴とするものである。
【０００６】本発明のシャドウマスク用素材は、より好
ましくは成分が、Ｃ≦０．００３０重量％、Ｓｉ≦０．
０３重量％、Ｍｎ：０．１〜０．５重量％、Ｐ≦０．０
２重量％、Ｓ≦０．０２重量％、Ａｌ：０．０１〜０．
０７重量％、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：０．５≦Ｂ
/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦｅおよび不
可避的不純物からなり、保磁力が９０Ａ／ｍ以下のシャ
ドウマスクを得ることができるものであることを特徴と
するものである。
ましくは成分が、Ｃ≦０．００３０重量％、Ｓｉ≦０．
０３重量％、Ｍｎ：０．１〜０．５重量％、Ｐ≦０．０
２重量％、Ｓ≦０．０２重量％、Ａｌ：０．０１〜０．
０７重量％、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：０．５≦Ｂ
/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦｅおよび不
可避的不純物からなり、保磁力が９０Ａ／ｍ以下のシャ
ドウマスクを得ることができるものであることを特徴と
するものである。
【０００７】そして、本発明のシャドウマスク用素材の
製造方法は、成分が、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：
０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦ
ｅおよび不可避的不純物からなる鋼片を、熱間仕上げ圧
延をＡｒ3点の０〜３０℃以下にし、巻き取り温度を５
４０〜７００℃で巻き取り、酸洗後、冷間圧延し、その
後連続焼鈍工程にて、残存Ｃ量を０．００１５重量％以
下にすることを特徴とするものである。
製造方法は、成分が、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：
０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦ
ｅおよび不可避的不純物からなる鋼片を、熱間仕上げ圧
延をＡｒ3点の０〜３０℃以下にし、巻き取り温度を５
４０〜７００℃で巻き取り、酸洗後、冷間圧延し、その
後連続焼鈍工程にて、残存Ｃ量を０．００１５重量％以
下にすることを特徴とするものである。
【０００８】さらに、上記課題を解決する本発明のシャ
ドウマスク用素材の他の製造方法は、成分が、Ｃ≦０．
００３０重量％、Ｓｉ≦０．０３重量％、Ｍｎ：０．１
〜０．５重量％、Ｐ≦０．０２重量％、Ｓ≦０．０２重
量％、Ａｌ：０．０１〜０．０７重量％、Ｎ≦０．００
３０重量％、Ｂ：０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有され
ており、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる鋼片
を、熱間仕上げ圧延をＡｒ3点の０〜３０℃以下にし、
巻き取り温度を５４０〜７００℃で巻き取り、酸洗後、
冷間圧延し、その後連続焼鈍工程にて、残存Ｃ量を０．
００１５重量％以下にし、２次圧延率で、圧下率を３０
〜４５％にすることを特徴とするものである。
ドウマスク用素材の他の製造方法は、成分が、Ｃ≦０．
００３０重量％、Ｓｉ≦０．０３重量％、Ｍｎ：０．１
〜０．５重量％、Ｐ≦０．０２重量％、Ｓ≦０．０２重
量％、Ａｌ：０．０１〜０．０７重量％、Ｎ≦０．００
３０重量％、Ｂ：０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有され
ており、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる鋼片
を、熱間仕上げ圧延をＡｒ3点の０〜３０℃以下にし、
巻き取り温度を５４０〜７００℃で巻き取り、酸洗後、
冷間圧延し、その後連続焼鈍工程にて、残存Ｃ量を０．
００１５重量％以下にし、２次圧延率で、圧下率を３０
〜４５％にすることを特徴とするものである。
【０００９】本発明のシャドウマスクは、前記シャドウ
マスク素材を用いたことを特徴とし、保磁力が９０Ａ／
ｍ以下で、厚さが０．０５〜０．２５ｍｍの範囲内の極
薄シャドウマスクであり、且つ本発明の受像管は、前記
シャドウマスクを組み込んだことを特徴とするものであ
る。
マスク素材を用いたことを特徴とし、保磁力が９０Ａ／
ｍ以下で、厚さが０．０５〜０．２５ｍｍの範囲内の極
薄シャドウマスクであり、且つ本発明の受像管は、前記
シャドウマスクを組み込んだことを特徴とするものであ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態に係るシャドウ
マスク用素材となる熱延鋼板は、Ｎ≦０．００３重量
％、Ｂ：０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、
残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる鋼片からな
り、保磁力が９０Ａ／ｍ以下であることが望ましい。上
記成分の数値限定理由はそれぞれ次の通りである。 窒素Ｎ：Ｎ≦０．００３０重量％ 鋼中のＮは、Ａｌとで窒化物をつくり、固溶Ｎを減少さ
せ、時効性効果を低減するので少ない方が望ましい。ま
た、シャドウマスク素材としてのプレス成形性を確保す
るためには、Ｎを極力少なくする必要があるため上限を
０．００３０重量％とすることが望ましい。より好まし
くは０．００２０重量％以下である。 ホウ素Ｂ：０．５≦Ｂ/Ｎ≦２、より好ましくは０．８
≦Ｂ/Ｎ≦１．２ 鋼中のＢは、薄鋼板の結晶粒を粗大化させるのでシャド
ウマスク素材としての磁気特性に優れた効果を奏する。
特に近年用いられている０．０８ｍｍ〜０．２５ｍｍ程
度の板厚である極薄シャドウマスクでは添加の効果が著
しい。また、鋼中のＢは、固溶Ｎを固定させるために有
効な元素であるので添加することが望ましい。一方、過
剰なＢの添加は結晶粒を微細化させ、磁気特性を害する
ので一定範囲の範囲であることが望ましい。そのような
観点で、ＢはＮとの関係で０．５≦Ｂ/Ｎ≦２、より好
ましくは０．８≦Ｂ/Ｎ≦１．２を満たすようにＢの量
を選択するのが良い。 保磁力Ｈｃ：Ｈｃ≦９０Ａ／ｍ 従来のシャドウマスクの保磁力１０３〜１３５Ａ／ｍよ
りも優れた消磁性を有するシャドウマスクを得るには、
シャドウマスク用素材の保磁力Ｈｃが９０Ａ／ｍ以下で
あることが望ましい。
マスク用素材となる熱延鋼板は、Ｎ≦０．００３重量
％、Ｂ：０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、
残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる鋼片からな
り、保磁力が９０Ａ／ｍ以下であることが望ましい。上
記成分の数値限定理由はそれぞれ次の通りである。 窒素Ｎ：Ｎ≦０．００３０重量％ 鋼中のＮは、Ａｌとで窒化物をつくり、固溶Ｎを減少さ
せ、時効性効果を低減するので少ない方が望ましい。ま
た、シャドウマスク素材としてのプレス成形性を確保す
るためには、Ｎを極力少なくする必要があるため上限を
０．００３０重量％とすることが望ましい。より好まし
くは０．００２０重量％以下である。 ホウ素Ｂ：０．５≦Ｂ/Ｎ≦２、より好ましくは０．８
≦Ｂ/Ｎ≦１．２ 鋼中のＢは、薄鋼板の結晶粒を粗大化させるのでシャド
ウマスク素材としての磁気特性に優れた効果を奏する。
特に近年用いられている０．０８ｍｍ〜０．２５ｍｍ程
度の板厚である極薄シャドウマスクでは添加の効果が著
しい。また、鋼中のＢは、固溶Ｎを固定させるために有
効な元素であるので添加することが望ましい。一方、過
剰なＢの添加は結晶粒を微細化させ、磁気特性を害する
ので一定範囲の範囲であることが望ましい。そのような
観点で、ＢはＮとの関係で０．５≦Ｂ/Ｎ≦２、より好
ましくは０．８≦Ｂ/Ｎ≦１．２を満たすようにＢの量
を選択するのが良い。 保磁力Ｈｃ：Ｈｃ≦９０Ａ／ｍ 従来のシャドウマスクの保磁力１０３〜１３５Ａ／ｍよ
りも優れた消磁性を有するシャドウマスクを得るには、
シャドウマスク用素材の保磁力Ｈｃが９０Ａ／ｍ以下で
あることが望ましい。
【００１１】さらに本発明において、熱延鋼板の素材で
ある鋼片成分として次のものを採用することが、近年用
いられている板厚が０．０８ｍｍ〜０．２５ｍｍ程度の
いわゆる極薄シャドウマスク用の素材として好ましい。
すなわち、Ｃ≦０．００３０重量％、Ｓｉ≦０．０３重
量％、Ｍｎ：０．１〜０．５重量％、Ｐ≦０．０２重量
％、Ｓ≦０．０２重量％、Ａｌ：０．０１〜０．０７重
量％、とすることである。以下にその規制理由を成分ご
とに述べる。
ある鋼片成分として次のものを採用することが、近年用
いられている板厚が０．０８ｍｍ〜０．２５ｍｍ程度の
いわゆる極薄シャドウマスク用の素材として好ましい。
すなわち、Ｃ≦０．００３０重量％、Ｓｉ≦０．０３重
量％、Ｍｎ：０．１〜０．５重量％、Ｐ≦０．０２重量
％、Ｓ≦０．０２重量％、Ａｌ：０．０１〜０．０７重
量％、とすることである。以下にその規制理由を成分ご
とに述べる。
【００１２】炭素Ｃ：Ｃ≦０．００３０重量％ 熱延鋼板中のＣ量は、脱炭を行う連続焼鈍工程に大きく
影響し、０．００３０重量％を超えると、連続焼鈍工程
での脱炭が十分になされず、シャドウマスク素材に含有
させる残存Ｃ量を０．００１５重量％以下、望ましくは
０．０００８重量％以下とするには、焼鈍温度のアッ
プ、焼鈍時間の増加が必要となり、生産コスト上昇と生
産性低下となる。そのため、上限を０．００３０重量％
とすることが望ましい。望ましくは０．００２５重量
％、さらに望ましくは、０．００２０重量％以下であ
る。 珪素Ｓｉ：Ｓｉ≦０．０３重量％ シャドウマスク素材中のＳｉは、受像管製造の際の黒化
処理工程において黒化を阻害する元素であり、少ないほ
うが好ましいが、Ａｌキルド鋼としては不可避的に含有
される元素であり、上限を０．０３重量％とすることが
好ましい。望ましくは０．０２５重量％、さらに好まし
くは０．０２重量％以下である。 マンガンＭｎ：０．１〜０．５重量％ 熱延鋼板中のＭｎは、不純物であるＳによる熱延中の赤
熱脆性を防止するために必要な成分である。従って、本
発明が対象とする極薄シャドウマスク素材は、冷間圧延
時に割れを生じやすいので積極的にＭｎを所定量添加す
ることが好ましい。この効果は０．１重量％以上の添加
が好ましいが、好ましくは０．２５重量％以上である。
一方、０．６％を超えると成形性を劣化させることか
ら、０．５重量％とすることが好ましいが，好ましくは
０．４０重量％さらに好ましくは０．３５重量％以下で
ある。 リンＰ：≦０．０２重量％ シャドウマスク素材中のＰは、結晶粒を微細化するため
磁気特性が悪くなり、少ないほうが好ましい。特に本発
明の極薄シャドウマスク素材はこの効果が著しく０．０
２％重量％以下が好ましい。 硫黄Ｓ：≦０．０２重量％ 熱延鋼板中のＳは、不可避的に含有される元素であり、
熱延中の赤熱脆性を生じる不純物成分であり、極力少な
いことが望ましい。本発明の極薄シャドウマスク素材は
冷間圧延時に割れを生じやすいので積極的に排除するこ
とが好ましい。この効果は０．０２重量％以下にするの
が好ましいが、好ましくは０．０１重量％以下である。 アルミニウムＡｌ：０．０１〜０．０７重量％ 熱延鋼板中のＡｌは、製鋼に際し、脱酸剤として鋼浴中
に添加され、スラグとして除かれるが、添加量が少ない
と安定した脱酸効果が得られない。そこで，この効果は
０．０１重量％以上添加するのが好まく，より好ましく
は０．０２重量％以上である。一方、０．０７重量％を
超えて添加しても効果が小さい。また，本発明では結晶
粒の粗大化を目的としており，Ａｌの過剰な添加による
結晶粒の微細化は好ましくなく、０．０７重量％以下と
することが望まく、より好ましくは０．０４重量％以下
である。 残部：残部はＦｅ及び不可避的不純物 Ｆｅ及びエッチング性、プレス成形性を損なわない程度
に不可避的に含有される元素は規制しない。
影響し、０．００３０重量％を超えると、連続焼鈍工程
での脱炭が十分になされず、シャドウマスク素材に含有
させる残存Ｃ量を０．００１５重量％以下、望ましくは
０．０００８重量％以下とするには、焼鈍温度のアッ
プ、焼鈍時間の増加が必要となり、生産コスト上昇と生
産性低下となる。そのため、上限を０．００３０重量％
とすることが望ましい。望ましくは０．００２５重量
％、さらに望ましくは、０．００２０重量％以下であ
る。 珪素Ｓｉ：Ｓｉ≦０．０３重量％ シャドウマスク素材中のＳｉは、受像管製造の際の黒化
処理工程において黒化を阻害する元素であり、少ないほ
うが好ましいが、Ａｌキルド鋼としては不可避的に含有
される元素であり、上限を０．０３重量％とすることが
好ましい。望ましくは０．０２５重量％、さらに好まし
くは０．０２重量％以下である。 マンガンＭｎ：０．１〜０．５重量％ 熱延鋼板中のＭｎは、不純物であるＳによる熱延中の赤
熱脆性を防止するために必要な成分である。従って、本
発明が対象とする極薄シャドウマスク素材は、冷間圧延
時に割れを生じやすいので積極的にＭｎを所定量添加す
ることが好ましい。この効果は０．１重量％以上の添加
が好ましいが、好ましくは０．２５重量％以上である。
一方、０．６％を超えると成形性を劣化させることか
ら、０．５重量％とすることが好ましいが，好ましくは
０．４０重量％さらに好ましくは０．３５重量％以下で
ある。 リンＰ：≦０．０２重量％ シャドウマスク素材中のＰは、結晶粒を微細化するため
磁気特性が悪くなり、少ないほうが好ましい。特に本発
明の極薄シャドウマスク素材はこの効果が著しく０．０
２％重量％以下が好ましい。 硫黄Ｓ：≦０．０２重量％ 熱延鋼板中のＳは、不可避的に含有される元素であり、
熱延中の赤熱脆性を生じる不純物成分であり、極力少な
いことが望ましい。本発明の極薄シャドウマスク素材は
冷間圧延時に割れを生じやすいので積極的に排除するこ
とが好ましい。この効果は０．０２重量％以下にするの
が好ましいが、好ましくは０．０１重量％以下である。 アルミニウムＡｌ：０．０１〜０．０７重量％ 熱延鋼板中のＡｌは、製鋼に際し、脱酸剤として鋼浴中
に添加され、スラグとして除かれるが、添加量が少ない
と安定した脱酸効果が得られない。そこで，この効果は
０．０１重量％以上添加するのが好まく，より好ましく
は０．０２重量％以上である。一方、０．０７重量％を
超えて添加しても効果が小さい。また，本発明では結晶
粒の粗大化を目的としており，Ａｌの過剰な添加による
結晶粒の微細化は好ましくなく、０．０７重量％以下と
することが望まく、より好ましくは０．０４重量％以下
である。 残部：残部はＦｅ及び不可避的不純物 Ｆｅ及びエッチング性、プレス成形性を損なわない程度
に不可避的に含有される元素は規制しない。
【００１３】次に、本発明の極薄シャドウマスク素材の
製造方法について説明する。スラブ加熱温度条件は、１
１００℃より低いと熱間圧延性が悪化し、熱間圧延温度
を確保する観点からも１１００℃より高くすることが望
ましい。一方、スラブ加熱温度が高すぎるとスラブ時の
ＡｌＮが完全に溶解し、熱延板で、微細な結晶粒となる
ため、磁気特性を劣化させる。すなわち、Ｈｃが大きく
なる。したがって、スラブ加熱温度は１２５０℃を超え
ないことが望ましい。
製造方法について説明する。スラブ加熱温度条件は、１
１００℃より低いと熱間圧延性が悪化し、熱間圧延温度
を確保する観点からも１１００℃より高くすることが望
ましい。一方、スラブ加熱温度が高すぎるとスラブ時の
ＡｌＮが完全に溶解し、熱延板で、微細な結晶粒となる
ため、磁気特性を劣化させる。すなわち、Ｈｃが大きく
なる。したがって、スラブ加熱温度は１２５０℃を超え
ないことが望ましい。
【００１４】熱間圧延仕上げ温度は、Ａｒ3点以上にす
ると、仕上げ圧延後にγ→α変態が生じるため、微細な
結晶粒となり、磁気特性を劣化させる。すなわち、Ｈｃ
が大きくなる。したがって、仕上げ圧延前にγ→α変態
を終了させ、仕上げ圧延から、巻き取るまでは、γ→α
変態を生じさせないようにする。したがって、熱延仕上
げ温度は、Ａｒ3点の０〜３０℃以下、望ましくは、１
０〜２０℃低い温度で行う。巻取温度は、熱延時のコイ
ル幅方向および長手方向の品質安定性を考慮して、５４
０〜７００℃とすることが望ましいが、熱延板の結晶粒
を大きくするために６５０〜７００℃にすることがさら
に望ましい。巻き取り温度の上限は磁気特性からは規制
しないが、酸洗工程での脱スケール性から、７００℃と
する。下限はＨｃの点から５４０℃以上とする。
ると、仕上げ圧延後にγ→α変態が生じるため、微細な
結晶粒となり、磁気特性を劣化させる。すなわち、Ｈｃ
が大きくなる。したがって、仕上げ圧延前にγ→α変態
を終了させ、仕上げ圧延から、巻き取るまでは、γ→α
変態を生じさせないようにする。したがって、熱延仕上
げ温度は、Ａｒ3点の０〜３０℃以下、望ましくは、１
０〜２０℃低い温度で行う。巻取温度は、熱延時のコイ
ル幅方向および長手方向の品質安定性を考慮して、５４
０〜７００℃とすることが望ましいが、熱延板の結晶粒
を大きくするために６５０〜７００℃にすることがさら
に望ましい。巻き取り温度の上限は磁気特性からは規制
しないが、酸洗工程での脱スケール性から、７００℃と
する。下限はＨｃの点から５４０℃以上とする。
【００１５】（酸洗、１、２次冷間圧延工程）酸洗、１
次冷間圧延は通常行われる条件でよい。本発明の極薄シ
ャドウマスク素材の脱炭焼鈍を効率良く行うには、１次
冷間圧延後の板厚を、０．６ｍｍ以下とすることが望ま
しいが、ここでは、Ｈｃを小さくするため、２次圧延率
を３０〜４５％にする。２次圧延率の下限は、磁気特性
からは、特に制限しないが、製品原板の機械特性が、ユ
ーザーとの制約である５００ＭＰａ以上の抗張力にする
ため、３０％以上とする。そこで、１次圧延後の厚みは
製品厚み０．０８〜０．２５ｍｍを考慮すると、０．４
２ｍｍ以下、望ましくは、０．３８ｍｍ以下となる。
次冷間圧延は通常行われる条件でよい。本発明の極薄シ
ャドウマスク素材の脱炭焼鈍を効率良く行うには、１次
冷間圧延後の板厚を、０．６ｍｍ以下とすることが望ま
しいが、ここでは、Ｈｃを小さくするため、２次圧延率
を３０〜４５％にする。２次圧延率の下限は、磁気特性
からは、特に制限しないが、製品原板の機械特性が、ユ
ーザーとの制約である５００ＭＰａ以上の抗張力にする
ため、３０％以上とする。そこで、１次圧延後の厚みは
製品厚み０．０８〜０．２５ｍｍを考慮すると、０．４
２ｍｍ以下、望ましくは、０．３８ｍｍ以下となる。
【００１６】（連続焼鈍工程）連続焼鈍工程は、脱炭焼
鈍を行う本発明において重要な工程であり、板温度７５
０℃以上、均熱時間６０秒以上、焼鈍雰囲気を水素ガス
０〜７５重量％、残りは窒素ガスで、露点を−３０〜７
０℃で連続焼鈍を行うことが望ましい。
鈍を行う本発明において重要な工程であり、板温度７５
０℃以上、均熱時間６０秒以上、焼鈍雰囲気を水素ガス
０〜７５重量％、残りは窒素ガスで、露点を−３０〜７
０℃で連続焼鈍を行うことが望ましい。
【００１７】（焼鈍温度）焼鈍温度は、脱炭の効率と磁
気特性を左右するものであり、７５０℃未満では、脱炭
に長時間を要し、生産性が低下するばかりでなく、焼鈍
後の再結晶組織にムラがあり、均一な磁気特性を得るこ
とができない。したがって、焼鈍温度を７５０℃以上と
することが好ましい。さらに望ましくは８００℃以上と
することが好ましい。上限は装置の耐久性の点から８５
０℃とする。
気特性を左右するものであり、７５０℃未満では、脱炭
に長時間を要し、生産性が低下するばかりでなく、焼鈍
後の再結晶組織にムラがあり、均一な磁気特性を得るこ
とができない。したがって、焼鈍温度を７５０℃以上と
することが好ましい。さらに望ましくは８００℃以上と
することが好ましい。上限は装置の耐久性の点から８５
０℃とする。
【００１８】（焼鈍時間）焼鈍時間は６０秒以上とする
ことが好ましい。６０秒未満では、極薄シャドウマスク
素材としての脱炭が不充分であり、目標とするＣ量を
０．００１５％以下とすることが困難である。上限は特
に限定する必要はないが、生産性と粗大粒防止の観点か
ら１８０秒以下が望ましい。
ことが好ましい。６０秒未満では、極薄シャドウマスク
素材としての脱炭が不充分であり、目標とするＣ量を
０．００１５％以下とすることが困難である。上限は特
に限定する必要はないが、生産性と粗大粒防止の観点か
ら１８０秒以下が望ましい。
【００１９】（連続焼鈍雰囲気中の水素濃度及び露点）
連続焼鈍雰囲気の水素濃度を７０％以下に保持すれば、
極薄シャドウマスク素材のＣ量を０．００１５％以下と
することができる。水素濃度が７０％を超えても脱炭時
間に差は無く、かえってコストアップとなるので、上限
を７０％とすることが好ましい。露点は、−３５〜７０
℃の範囲であれば、極薄シャドウマスク素材のＣ量を
０．００１５％以下とすることができる。
連続焼鈍雰囲気の水素濃度を７０％以下に保持すれば、
極薄シャドウマスク素材のＣ量を０．００１５％以下と
することができる。水素濃度が７０％を超えても脱炭時
間に差は無く、かえってコストアップとなるので、上限
を７０％とすることが好ましい。露点は、−３５〜７０
℃の範囲であれば、極薄シャドウマスク素材のＣ量を
０．００１５％以下とすることができる。
【００２０】（焼鈍後の２次冷間圧延工程）焼鈍後の２
次冷間圧延工程の圧延率は、Ｈｃが９０Ａ／ｍ以下にす
るためには、３０〜４５％にすることが重要である。３
０％未満では、機械的性質の１つである抗張力が５００
ＭＰａ未満となり強度不足となり、４５％を超えると上
記Ｈｃが不満足となる。
次冷間圧延工程の圧延率は、Ｈｃが９０Ａ／ｍ以下にす
るためには、３０〜４５％にすることが重要である。３
０％未満では、機械的性質の１つである抗張力が５００
ＭＰａ未満となり強度不足となり、４５％を超えると上
記Ｈｃが不満足となる。
【００２１】
【実施例】以下、実施例にて本発明をさらに詳細に説明
する。表１の実施例１〜実施例５にそれぞれ示す化学成
分をもつ鋼片を、表２に示す条件で熱間圧延にて２．３
ｍｍの熱延鋼板とし、酸洗後、冷間圧延し板厚が０．３
ｍｍの冷延板とした。その後表２に示す条件で連続焼鈍
工程にて、焼鈍温度８００℃にて脱炭焼鈍を施して、実
施例１〜５のシャドウマスク素材を得た。同様に、比較
例として、表１の比較例１〜６の化学成分を有する鋼片
を、表２に示すそれぞれの熱延条件および焼鈍条件で熱
延及び焼鈍して比較例１〜６を得た。さらに、さらにそ
れぞれを冷間圧延により板厚０．２５ｍｍの極薄シャド
ウマスク素材を製造した。
する。表１の実施例１〜実施例５にそれぞれ示す化学成
分をもつ鋼片を、表２に示す条件で熱間圧延にて２．３
ｍｍの熱延鋼板とし、酸洗後、冷間圧延し板厚が０．３
ｍｍの冷延板とした。その後表２に示す条件で連続焼鈍
工程にて、焼鈍温度８００℃にて脱炭焼鈍を施して、実
施例１〜５のシャドウマスク素材を得た。同様に、比較
例として、表１の比較例１〜６の化学成分を有する鋼片
を、表２に示すそれぞれの熱延条件および焼鈍条件で熱
延及び焼鈍して比較例１〜６を得た。さらに、さらにそ
れぞれを冷間圧延により板厚０．２５ｍｍの極薄シャド
ウマスク素材を製造した。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】
【００２４】上記のようにして得られた実施例及び比較
例のそれぞれのシャドウマスク素材について、機械的特
性と磁気特性を測定し、それぞれを評価した。その結果
を表３に示す。機械的特性は、ＪＩＳ５号試験片で抗張
力（Tensile strengthで略してＴ．Ｓで表す）を評価
し、表３では、５００ＭＰａ以上を○で、５００ＭＰａ
未満を×で表した。次に、得られたシャドウマスク素材
の磁気特性の評価は、得られたシャドウマスク素材を新
たに焼鈍して磁気特性の重要パラメータであるＨｃを次
のように測定して磁気特性を評価した。焼鈍条件は鋼板
を水素ガス５．５重量％、残りが窒素ガス雰囲気中で、
露点１０℃の条件化において７２５℃、８３０℃の２水
準で１０分間行い、四極エプスタイン法にてＨｃを求め
た。表３では、磁気特性Ｈｃが９０Ａ／ｍ未満を○で、
９０Ａ／ｍ以上を×で表した。脱スケール性は常温、３
０重量％Ｈ2ＳＯ4溶液で、３０秒浸漬して、スケールが
あるかないかを目視で判定した。スケールがある場合を
×、スケールがない場合を○で表した。
例のそれぞれのシャドウマスク素材について、機械的特
性と磁気特性を測定し、それぞれを評価した。その結果
を表３に示す。機械的特性は、ＪＩＳ５号試験片で抗張
力（Tensile strengthで略してＴ．Ｓで表す）を評価
し、表３では、５００ＭＰａ以上を○で、５００ＭＰａ
未満を×で表した。次に、得られたシャドウマスク素材
の磁気特性の評価は、得られたシャドウマスク素材を新
たに焼鈍して磁気特性の重要パラメータであるＨｃを次
のように測定して磁気特性を評価した。焼鈍条件は鋼板
を水素ガス５．５重量％、残りが窒素ガス雰囲気中で、
露点１０℃の条件化において７２５℃、８３０℃の２水
準で１０分間行い、四極エプスタイン法にてＨｃを求め
た。表３では、磁気特性Ｈｃが９０Ａ／ｍ未満を○で、
９０Ａ／ｍ以上を×で表した。脱スケール性は常温、３
０重量％Ｈ2ＳＯ4溶液で、３０秒浸漬して、スケールが
あるかないかを目視で判定した。スケールがある場合を
×、スケールがない場合を○で表した。
【００２５】
【表３】
【００２６】表３の結果から明らかなように、実施例１
〜５は全て磁気特性としての保磁力Ｈｃが、７２５，８
３０℃のいずれの温度条件においても９０Ａ／ｍ以下で
あり、良好な磁気特性を有するシャドウマスク素材が得
られていることが確認された。また、前焼鈍温度が７２
５℃から、８３０℃と高くなる程、２次再結晶、すなわ
ち、粒成長が生じるため、製品の結晶粒が大きくなり、
磁気特性（Ｈｃ）が向上していることが分かる。そし
て、機械的特性、及び脱スケール性にも優れていること
が確認された。これに対し、比較例の場合は、比較例４
及び比較例６を除いてＨｃが９０Ａ／ｍ以上であり、所
望する超軟磁気特性が得られていない。本発明の実施例
１，２が比較例１、２よりも磁気特性が良好なのは仕上
げ圧延温度の影響であり、比較例３よりも磁気特性が良
好なのは、巻き取り温度の影響である。また、比較例４
の磁気特性は良好だが、製品の機械特性が５００ＭＰａ
以下と低く、ユーザーのハンドリング性を害する。さら
に、本発明の実施例１，２が比較例５より、磁気特性
（Ｈｃ）が良好なのは、２次圧延率の影響である。ま
た、比較例６は特性は良好だが、巻き取り温度が高く、
脱スケール性が悪く、工業的生産には向かない。
〜５は全て磁気特性としての保磁力Ｈｃが、７２５，８
３０℃のいずれの温度条件においても９０Ａ／ｍ以下で
あり、良好な磁気特性を有するシャドウマスク素材が得
られていることが確認された。また、前焼鈍温度が７２
５℃から、８３０℃と高くなる程、２次再結晶、すなわ
ち、粒成長が生じるため、製品の結晶粒が大きくなり、
磁気特性（Ｈｃ）が向上していることが分かる。そし
て、機械的特性、及び脱スケール性にも優れていること
が確認された。これに対し、比較例の場合は、比較例４
及び比較例６を除いてＨｃが９０Ａ／ｍ以上であり、所
望する超軟磁気特性が得られていない。本発明の実施例
１，２が比較例１、２よりも磁気特性が良好なのは仕上
げ圧延温度の影響であり、比較例３よりも磁気特性が良
好なのは、巻き取り温度の影響である。また、比較例４
の磁気特性は良好だが、製品の機械特性が５００ＭＰａ
以下と低く、ユーザーのハンドリング性を害する。さら
に、本発明の実施例１，２が比較例５より、磁気特性
（Ｈｃ）が良好なのは、２次圧延率の影響である。ま
た、比較例６は特性は良好だが、巻き取り温度が高く、
脱スケール性が悪く、工業的生産には向かない。
【００２７】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、従来の
シャドウマスク材よりも軟磁気特性に優れ、特に保磁力
Ｈｃが特段に低くシャドウマスクに要求される軟磁気特
性を満たし、且つ機械的特性（抗張力）に優れた超軟磁
気特性を有する極薄シャドウマスクを得ることができる
シャドウマスク素材及び該素材から得られたシャドウマ
スクと受像管を得ることができる。
シャドウマスク材よりも軟磁気特性に優れ、特に保磁力
Ｈｃが特段に低くシャドウマスクに要求される軟磁気特
性を満たし、且つ機械的特性（抗張力）に優れた超軟磁
気特性を有する極薄シャドウマスクを得ることができる
シャドウマスク素材及び該素材から得られたシャドウマ
スクと受像管を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青木 晋一 山口県下松市東豊井1302番地 東洋鋼鈑株 式会社下松工場内 Ｆターム(参考） 4K037 EA01 EA02 EA04 EA15 EA18 EA23 EA25 EA27 EB01 FC04 FC08 FE01 FE02 FE03 FG03 FH01 FH05 FM01 JA06 5C027 HH02 HH03 5C031 EE05 EH04 EH08
Claims (6)
- 【請求項１】 成分が、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：
０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦ
ｅおよび不可避的不純物からなり、保磁力が９０Ａ／ｍ
以下となるシャドウマスクを得ることができることを特
徴とするシャドウマスク用素材。 - 【請求項２】 成分が、Ｃ≦０．００３０重量％、Ｓｉ
≦０．０３重量％、Ｍｎ：０．１〜０．５重量％、Ｐ≦
０．０２重量％、Ｓ≦０．０２重量％、Ａｌ：０．０１
〜０．０７重量％、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：０．
５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦｅお
よび不可避的不純物からなり、保磁力が９０Ａ／ｍ以下
となるシャドウマスクを得ることができることを特徴と
するシャドウマスク用素材。 - 【請求項３】 成分が、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：
０．５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦ
ｅおよび不可避的不純物からなる鋼片を、熱間仕上げ圧
延をＡｒ3点の０〜３０℃以下にし、巻き取り温度を５
４０〜７００℃で巻き取り、酸洗後、冷間圧延し、その
後連続焼鈍工程にて、残存Ｃ量を０．００１５重量％以
下にすることを特徴とするシャドウマスク用素材の製造
方法。 - 【請求項４】 成分が、Ｃ≦０．００３０重量％、Ｓｉ
≦０．０３重量％、Ｍｎ：０．１〜０．５重量％、Ｐ≦
０．０２重量％、Ｓ≦０．０２重量％、Ａｌ：０．０１
〜０．０７重量％、Ｎ≦０．００３０重量％、Ｂ：０．
５≦Ｂ/Ｎ≦２の関係で含有されており、残部がＦｅお
よび不可避的不純物からなる鋼片を、熱間仕上げ圧延を
Ａｒ3点の０〜３０℃以下にし、巻き取り温度を５４０
〜７００℃で巻き取り、酸洗後、冷間圧延し、その後連
続焼鈍工程にて、残存Ｃ量を０．００１５重量％以下に
し、２次圧延率で、圧下率を３０〜４５％にすることを
特徴とするシャドウマスク用素材の製造方法。 - 【請求項５】 請求項１又は２の素材を用いた保磁力が
９０Ａ／ｍ以下で、厚さが０．０５〜０．２５ｍｍの範
囲内にあることを特徴とするシャドウマスク。 - 【請求項６】 請求項５のシャドウマスクを組み込んだ
受像管。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000354284A JP2002161335A (ja) | 2000-11-21 | 2000-11-21 | シャドウマスク用素材、その製造方法、その素材からなるシャドウマスク及びそのシャドウマスクを用いた受像管 |
| US10/432,379 US7026751B2 (en) | 2000-11-21 | 2001-11-14 | Material for shadow mask, method for production thereof, shadow mask comprising the material and picture tube using the shadow mask |
| CNB018192424A CN1200129C (zh) | 2000-11-21 | 2001-11-14 | 荫罩材料及其制备方法、包含该材料的荫罩以及使用所述荫罩的显像管 |
| AU2002215214A AU2002215214A1 (en) | 2000-11-21 | 2001-11-14 | Material for shadow mask, method for production thereof, shadow mask comprising the material and picture tube using the shadow mask |
| KR10-2003-7006825A KR20040010563A (ko) | 2000-11-21 | 2001-11-14 | 섀도우 마스크용 소재, 그 제조방법, 그 소재로이루어지는 섀도우 마스크 및 그 섀도우 마스크를 사용한수상관 |
| EP01983803A EP1338666A4 (en) | 2000-11-21 | 2001-11-14 | METHOD FOR A PERFORATED MASK, CORRESPONDING MANUFACTURING METHOD, PERFORATED MASK COMPRISING MATERIALS AND IMAGE TUBE USING THE PERFORATED MASK |
| PCT/JP2001/009964 WO2002042509A1 (fr) | 2000-11-21 | 2001-11-14 | Procede destine a un masque perfore, procede de fabrication correspondant, masque perfore comprenant des materiaux et tube d'images utilisant le masque perfore |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000354284A JP2002161335A (ja) | 2000-11-21 | 2000-11-21 | シャドウマスク用素材、その製造方法、その素材からなるシャドウマスク及びそのシャドウマスクを用いた受像管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002161335A true JP2002161335A (ja) | 2002-06-04 |
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ID=18826903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000354284A Withdrawn JP2002161335A (ja) | 2000-11-21 | 2000-11-21 | シャドウマスク用素材、その製造方法、その素材からなるシャドウマスク及びそのシャドウマスクを用いた受像管 |
Country Status (7)
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|---|---|
| US (1) | US7026751B2 (ja) |
| EP (1) | EP1338666A4 (ja) |
| JP (1) | JP2002161335A (ja) |
| KR (1) | KR20040010563A (ja) |
| CN (1) | CN1200129C (ja) |
| AU (1) | AU2002215214A1 (ja) |
| WO (1) | WO2002042509A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7246364B2 (en) * | 2002-10-15 | 2007-07-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical pickup device |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10146301C1 (de) * | 2001-09-19 | 2002-07-18 | Krupp Vdm Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Metallbandes aus einer Eisen-Nickel-Legierung für gespannte Schattenmasken |
| KR20060109104A (ko) * | 2005-04-15 | 2006-10-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 음극선관용 새도우 마스크 |
| CN102719731B (zh) | 2012-06-28 | 2016-03-02 | 宝山钢铁股份有限公司 | 二次冷轧荫罩带钢及其制造方法 |
| CN103510012A (zh) * | 2012-06-28 | 2014-01-15 | 宝山钢铁股份有限公司 | 薄规格二次冷轧荫罩带钢的制造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55138027A (en) * | 1979-04-12 | 1980-10-28 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | Manufacture of cold-rolled steel sheet for shadow mask |
| JPS6191332A (ja) * | 1984-10-08 | 1986-05-09 | Nippon Steel Corp | 磁気シ−ルド性と黒化処理性のすぐれたシヤドウマスク用鋼板の製造方法 |
| JPH1150149A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-02-23 | Sumitomo Metal Ind Ltd | シャドウマスクフレーム用冷延鋼板の製造方法 |
| JP3463549B2 (ja) * | 1997-12-16 | 2003-11-05 | 住友金属工業株式会社 | シャドウマスクフレ−ム用冷延鋼板の製造方法 |
| JP3627840B2 (ja) * | 1998-05-08 | 2005-03-09 | Ｊｆｅスチール株式会社 | Ｔｖマスクフレーム用鋼板 |
-
2000
- 2000-11-21 JP JP2000354284A patent/JP2002161335A/ja not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-11-14 CN CNB018192424A patent/CN1200129C/zh not_active Expired - Fee Related
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